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国際特許分類[C08F34/00]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物 (38,630) | 複素環中に1個以上の炭素−炭素二重結合を含有し,側鎖に不飽和脂肪族基をもたない環式化合物の単独重合体または共重合体 (40)

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【課題】高い軟化温度を有するスルホン酸ポリマー、該スルホン酸ポリマーを有効成分とする固体高分子電解質を提供する。
【解決手段】下式(A)で表されるモノマー単位を含む重合体。ただし、Rはフッ素原子、炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基、炭素数2〜6の炭素−炭素結合間にエーテル性酸素原子を含むペルフルオロアルキル基、または−QSOFを示し、Qは炭素数1〜6のペルフルオロアルキレン基または炭素数2〜6の炭素−炭素結合間にエーテル性酸素原子を含むペルフルオロアルキレン基を示す。
【化1】
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本発明は、眼用レンズ(それに限定されない)のような装置の形成におけるモノマーとして有用な、重合性吸光アゾ染料を開示する。特に、1つまたはそれ以上の吸光染料がエチレン不飽和基を介して他の構造ポリマーに共有結合している眼内レンズ(IOL)を開示する。得られるIOLは、最終構造ポリマーマトリックスに有意量の遊離(非結合)アゾ染料分子を存在させることなく、吸光特性を有する。 (もっと読む)


【課題】レジスト下層膜材料であって、特に短波長での露光に対して、単独で又は反射防止効果のあるレジスト中間層膜と併せることで優れた反射防止効果を示し、すなわち最適なn値、k値を有し、かつ、ポリヒドロキシスチレン、クレゾールノボラックなどよりも基板エッチング時のエッチング耐性に優れ、多層レジストプロセス、例えば2層又は3層レジストプロセスでの使用に好適なレジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】 リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、下記一般式(1)で示される繰り返し単位を有する重合体を含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。
【化22】
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架橋された複素環式化合物、フッ素化ノルボルネン化合物、フッ素化アルケン、複素環式化合物、およびこれらの2またはそれ以上の組み合わせ、から誘導されるポリマーが提供される。このポリマーはフォトレジスト組成物を含む広範囲の用途に使用される。また、このポリマーに使用するためのモノマー化合物の製造方法も提供される。 (もっと読む)


【課題】感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式(1)で表される構造単位および/または一般式(1)で表される構造単位の前駆体よりなる化合物を成分(a)として含み、かつ、カルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、チオール基より選ばれる少なくとも1つの官能基を有することを特徴とする樹脂組成物。
【化1】




(一般式(1)において、nは1〜2の整数である。R〜RはH、F、CF、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基のいずれかを示し、同じでも異なっていてもよい。R、RはH、または炭素数1〜10のアルキル基のいずれか一つを示し、同じでも異なっていてもよい。Raは置換基を示す。) (もっと読む)


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