説明

国際特許分類[C23C8/28]の内容

国際特許分類[C23C8/28]の下位に属する分類

浸炭窒化 (235)

国際特許分類[C23C8/28]に分類される特許

31 - 39 / 39


【課題】 可視光応答型光触媒として機能し且つ光触媒活性が高く、殺菌・滅菌・消臭等の作用に優れるとともに、皮膜硬度が高く、また、耐久性(耐剥離性、耐摩耗性、耐薬品性、耐熱性、耐食性)、超親水性にも優れた炭素ドープ酸化チタン表層を備えた医家向け抗菌製品を提供する。
【解決手段】
基体の表面層の少なくとも一部がチタン等からなり、該表面層の表面の少なくとも一部に炭素がTi−C結合の状態でドープされた炭素ドープ酸化チタン表層が形成され、または、該表面層の表面の少なくとも一部に酸化チタン又はチタン合金化合物からなる微細柱が林立している層が露出し、該微細柱が炭素ドープされている。 (もっと読む)


【課題】 防黴、防苔性等、総合的な防汚性に優れ、メンテナンスフリーを実現し得る通信用機器乃至設備を提供する。
【解決手段】 炭素ドープされた酸化チタン又はチタン合金酸化物からなる多機能層を表面の少なくとも一部に設けた通信用のアンテナ100及び建屋101。 (もっと読む)


【課題】 高次元の耐久性、耐薬品性、耐磨耗性、耐腐食性、耐熱性等の性能に対する要望、実用性に耐え得る飛行体を提供する。
【解決手段】炭素ドープされた酸化チタン又はチタン合金酸化物からなる多機能層を表面の少なくとも一部に設けた多機能材からなる建造部材を用いて飛行体100を建造する。 (もっと読む)


【課題】 高次元の防汚性や防腐食性等、耐環境性能及び衛生維持、耐久性に対して実用性に耐え得る構造物からなる作業用機械を提供する。
【解決手段】炭素ドープされた酸化チタン又はチタン合金酸化物からなる多機能層を表面の少なくとも一部に設けた構造物を用いてトラクタとする。 (もっと読む)


【課題】 高次元の防汚性や防腐食性等、耐環境性能及び衛生維持、耐久性に対して実用性に耐え得る構造物からなる耐環境性機器を提供する。
【解決手段】炭素ドープされた酸化チタン又はチタン合金酸化物からなる多機能層を表面の少なくとも一部に設けた構造物を用いて天井走行リフト100とする。 (もっと読む)


【課題】 10-12Pa(H2)・m/sより低い真空部品からのガス放出率を達成することが可能な真空部品用材料の製造方法を提供すること。
【解決手段】 Cuと添加元素の合金の周囲を減圧する工程と、合金を昇温し、合金中から水素を排出するとともに、添加元素を合金の表面近傍に集めて析出する工程と、合金の温度を、水素を排出するため昇温した合金の温度以下で、室温以上の範囲に保ち、酸素単体、窒素単体、酸素+窒素の混合ガス、オゾン(O3)、酸素含有化合物、窒素含有化合物、或いは酸素窒素含有化合物に、又はこれらを組み合わせたものに、又はそれらのプラズマに合金を曝し、析出した添加元素と反応させて添加元素の酸化膜、窒化膜又は酸化窒化膜のうち何れか一を合金の表層に形成する工程とを有する。 (もっと読む)


金属部材の表面に窒化層、浸炭層あるいは浸炭窒化層を形成させるガス窒化法、ガス浸炭法などの拡散浸透処理を困難ならしめている高合金鋼部材の表面不動態化皮膜を、ガス熱処理で通常に扱われているガス類を用い、被処理金属および/または金属製炉材表面の触媒作用を利用して、炉内においてHCNガスを生成させ、不動態化している高合金鋼部材の表面を活性化させることにより、従来、ハロゲン化物による活性化処理で問題であった炉内堆積物、炉内壁面の損耗、さらには排ガスの無害化処理などの弊害を伴わない、拡散浸透処理の前段処理として有用な金属部材表面の活性化処理法を提供する。 (もっと読む)


炭素がTi−C結合の状態でドープされており、耐久性(高硬度、耐スクラッチ性、耐磨耗性、耐薬品性、耐熱性)に優れ且つ可視光応答型光触媒として機能する炭素ドープ酸化チタン層を有する多機能材を提供する。本発明の多機能材は、例えば、少なくとも表面層がチタン、チタン合金、チタン合金酸化物又は酸化チタンからなる基体の表面をその表面温度が900〜1500℃となるように炭化水素を主成分とするガスの燃焼ガス雰囲気中で、又は該基体の表面に炭化水素を主成分とするガスの燃焼炎を直接当ててその基体の表面温度が900〜1500℃となるように加熱処理することにより得られる。 (もっと読む)


耐久性(高硬度、耐スクラッチ性、耐磨耗性、耐薬品性、耐熱性)に優れ且つ可視光応答型光触媒として機能する炭素ドープ酸化チタン層を有する基体の製造方法を提供する。少なくとも表面層がチタン、チタン合金、チタン合金酸化物又は酸化チタンからなる基体の表面をその表面温度が900〜1500℃となるように炭化水素を主成分とするガスの燃焼ガス雰囲気中で、或いは炭化水素を主成分とするガス雰囲気中で加熱処理するか、又は該基体の表面に炭化水素を主成分とするガスの燃焼炎を直接当ててその基体の表面温度が900〜1500℃となるように加熱処理して炭素ドープ酸化チタン層を形成することにより炭素ドープ酸化チタン層を有する基体が得られる。 (もっと読む)


31 - 39 / 39