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国際特許分類[C23F1/16]の内容

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結晶膜のパターン形成方法を提供する。第1の原子を含む縮退格子を有する結晶膜が第1領域及び第2領域に設けられる。ドーパントが第1領域内の第1の原子を置換し、第1領域に非縮退結晶膜を形成する。第1領域及び第2領域はウェットエッチャントに晒され、ウェットエッチャントは第1領域の非縮退格子をエッチングせずに第2領域の縮退格子をエッチングする。

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