【課題】箔厚の肉厚を長手方向に沿って均一に加工することが出来ると共に、座屈強度のバラツキを減少させ、安定した座屈性能を得ることが出来るアルミハニカムコアの製造方法及びその装置、アルミハニカムコアの箔厚制御方法を提供する。
【解決手段】アルミハニカムコアＷの製造装置は、エッチング溶液２に金網状のバケット３内に収容したアルミハニカムコアＷの先端側から基端側に向かって一定時間に連続的に浸漬させながらアルミハニカムコアＷの箔厚ｈを制御するエッチング溶液槽１と、エッチングされたアルミハニカムコアＷを水洗浄する洗浄処理槽４と、洗浄されたアルミハニカムコアＷを水等によりデップ処理するデップ処理槽５とを作業台６上に水平で直列に設置されている。エッチング溶液槽１と洗浄処理槽４とデップ処理槽５との間には、アルミハニカムコアＷを収容した前記バケット３を保持して移送する昇降、かつ移動可能な搬送装置７が設置され、この搬送装置７は、ガイドレール９に沿って昇降するバケット３を保持するクランプ手段１０が取付けられている。 （もっと読む）

【課題】アルミ箔の箔厚を任意箇所において調整して加工することが出来るアルミ箔の箔厚調整方法を提供する。
【解決手段】アルミ箔Ｗｘの箔厚調整方法において、例えば、アルミ箔Ｗｘの一定箇所の箔厚を厚くしてエッチング加工したい場合には、（ａ）に示すように、アルミ箔Ｗｘの表面に、予めエッチングに時間差を持たせて溶解するようなインクＱを塗布しておくことにより、（ｂ）に示すように、箔厚ｈがｈ２のように段階的に変化したアルミ箔Ｗｘ１や、一部の箔厚が厚くなったアルミ箔を製造することが出来る。 （もっと読む）

【課題】アルミニウムやその合金に対し極短時間で高いエッチング力を示し、比較的低いｐＨ領域でも高いエッチング力を維持し、アルミニウムイオンの許容量が高く、かつ発生するスラッジの量を低く抑えることができる洗浄剤の提供。
【解決手段】（Ａ）アルカリ金属の水酸化物、炭酸塩及びケイ酸塩から選ばれるアルカリ剤０．１〜４００ｇ／Ｌと、
（Ｂ）特定の分子量を有する、マレイン酸のホモポリマーもしくはコポリマー又はそのアルカリ金属塩から選ばれるマレイン酸系ポリマー０．１〜１００ｇ／Ｌと、
（Ｃ）ヒドロキシカルボン酸及びそのアルカリ金属塩から選ばれるキレート剤０．１〜１００ｇ／Ｌと、
（Ｄ）洗浄用界面活性剤０．１〜５０ｇ／Ｌとを
水に配合してなり、ｐＨ９〜１４であるアルミニウム又はその合金用洗浄剤。 （もっと読む）

本発明は工具または部品から硬質材料層系を除去するための方法および装置であり、除去方法を改善するために、クロムおよびアルミニウムを含有する少なくとも１つの層が基材に直接被着され、該基材は強力な酸化剤を含むアルカリ溶液を用いて膜除去される。
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【課題】 アルカリ系湿式異方性エッチングが不都合なく適用可能であり且つ性能の優れた半導体装置、及び該半導体装置を容易に得ることができるその製造方法を提供する。
【解決手段】 アルカリ系湿式異方性エッチングによりシリコン半導体基板に３次元構造が形成される半導体装置において、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる層（第一の層）上に導電性で且つアルカリ系湿式異方性エッチングに耐え得る材料からなる層（第二の層）を形成する。 （もっと読む）

【構成】表面に、圧延ロールの凹筋の転写により、平均高さＨ1 が０．１〜１０μｍ、平均ピッチＰ1 が１〜２０μｍの複数の平行状の凸筋10からなる第１凸筋群１と、該第１凸筋群１の各凸筋10と交差するとともに、平均高さＨ2 が０．１〜１０μｍ、平均ピッチＰ2 が１〜２０μｍの複数の平行状の凸筋20からなる第２凸筋群２とが形成されてなり、かつ前記第１凸筋群１と第２凸筋群２との交差角度αが１０〜１７０度である
【効果】エッチング処理時に、アルミニウム箔Ａの表面の凸筋10、20に沿って、エッチング核が形成されるものと推測され、この凸筋が所定状態に形成されているから、箔表面全体で深くて太いエッチングピットが均一分散状態に形成され、拡面率が増大し静電容量が増大する。 （もっと読む）