【課題】脂肪酸を含有する水溶性加工油を用いて加工が施された亜鉛系めっき鋼材、典型的には亜鉛系めっき鋼板から製造された電縫鋼管、を塗装する場合に見られる塗装後耐食性と塗膜密着性の劣化を防止する。
【解決手段】塗装前に、ｐＨ９.５〜１０.５のアルカリ性液による洗浄と水洗および／またはｐＨ６.０以下の酸性液による洗浄と水洗を実施して、亜鉛系めっき被膜の表層部を除去する処理を行う。この処理により、鋼材のめっき被膜のＳｉＯ₂基準板換算で６０ｎｍ深さまでの表層部に存在するＺｎ、ＣおよびＯが、［Ｏ／Ｚｎ積算平均原子比］≧１.１５×[Ｃ／Ｚｎ積算平均原子比]または［Ｏ／Ｚｎ積算平均原子比］≦０.４０×[Ｃ／Ｚｎ積算平均原子比]を満たす。 （もっと読む）

【課題】超硬材工具類又は金型類等の超硬材表面の硬質被膜を選択的に除去でき、かつ、超硬母材の劣化を最小限に抑制することが可能な超硬材における硬質被膜の除去方法を提供する
【解決手段】第４族元素、第５族元素及び第６族元素からなる群より選ばれた少なくとも１種の元素の炭化物を含有する超硬合金粒子が、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｃｕ及びＮｉからなる群より選ばれた少なくとも１種の元素あるいはこれらの元素を含有する合金からなるバインダー金属で焼結された超硬母材の表面を、第４族元素、第５族元素、第６族元素、第１３族元素及び第１４族元素（但し、炭素は除く。）からなる群より選ばれた少なくとも１種の元素の窒化物、炭化物、炭窒化物、酸化物又はホウ化物を含有する硬質被膜で被覆してなる超硬材における硬質被膜を除去する方法であって、前記超硬材を１００℃以上２５０℃以下の温度でアルカリ薬液に接触させる超硬材における硬質被膜の除去方法。 （もっと読む）

【課題】マグネシウム又はマグネシウム合金の外面に環境親和的で、且つ高い耐食性を付与できる化成皮膜層を形成する方法を提供する。
【解決手段】マグネシウム又はマグネシウム合金の外面に脱脂処理した後に水洗い処理する工程；前記マグネシウム又はマグネシウム合金の外面の酸化皮膜除去のためのエッチング処理後に水洗い処理する工程；前記マグネシウム又はマグネシウム合金の外面に発生したスマットを除去するためのデスマット処理後に水洗い処理する工程；前記マグネシウム又はマグネシウム合金の外面に化成皮膜形成処理した後に水洗い処理する工程；及び前記化成皮膜上に塗装処理する工程；を含む。 （もっと読む）

【課題】白金族の膜を加工性良く安価にエッチングできるエッチング方法及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】過マンガン酸塩を含む、ｐＨが１２．６〜１５．８の溶液で、白金族の膜をエッチングすることを特徴とするエッチング方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】設計図面通りに精度よく再現された大型の高精度のディスプレイ用マスクが得られるエッチング性とエッチング精度が優れたエッチング液およびディスプレイ用マスクの製造方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも硝酸第二セリウムアンモニウムを含有するエッチング剤と、界面活性剤とを水中に含有してなり、上記の界面活性剤が直鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩７０〜８０質量％と分岐鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩２０〜３０質量％との混合物であることを特徴とするディスプレイ用マスクエッチング液、および該エッチング液を使用してディスプレイ用マスク基板をエッチングすることを特徴とするディスプレイ用マスクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、貫通孔を良好な形状に形成することができると共に、貫通孔を形成する際のエッチングによりキャビティの側面が粗化されることを防止できる基板の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】キャビティ２２を形成する前にシリコン基板３１の面３１Ｂ側からシリコン基板３１を異方性エッチングして貫通孔２４を形成し、その後、貫通孔２４に露出された部分のシリコン基板３１の面及びシリコン基板３１の両面３１Ａ，３１Ｂに絶縁膜３５を形成し、その後、シリコン基板３１の面３１Ａに設けられた絶縁膜３５に開口部３５Ａを形成し、次いで、開口部３５Ａを有した絶縁膜３５をマスクとしてシリコン基板のエッチングを行い、少なくとも貫通孔２４の底面２４Ｂに設けられた部分の絶縁膜３５を露出するようにキャビティ２２を形成する。 （もっと読む）

【課題】シリコンウエハーがニッケルで汚染されるのを高度に抑制する高機能の苛性ソーダ水溶液を提供する。
【解決手段】アルカノールアミン類を含有させた苛性ソーダ水溶液をシリコンウエハーのエッチングに供することで、シリコンウエハーの金属汚染を大幅に抑制できる。 （もっと読む）

【課題】シリコンウエハーがニッケルで汚染されるのを高度に抑制する高機能のエッチング用苛性ソーダ水溶液を提供する。
【解決手段】フェノール類を含有させた苛性ソーダ水溶液をシリコンウエハーのエッチングに供することで、シリコンウエハーの金属汚染を大幅に抑制できる。フェノール類の苛性ソーダ水溶液中の好ましい含有量は特に限定されないが、０．０１重量％以上で５重量％以下が好ましい。 （もっと読む）

【課題】シリコンウエハーがニッケルで汚染されるのを高度に抑制する高機能の苛性ソーダ水溶液を提供する。
【解決手段】カルボン酸塩類を含有させた苛性ソーダ水溶液をシリコンウエハーのエッチングに供することで、シリコンウエハーの金属汚染を大幅に抑制できる。カルボン酸塩類の苛性ソーダ水溶液中の含有量は特に限定されないが、０．０１重量％以上で５重量％以下が好ましい。 （もっと読む）

【課題】銅を侵食（アタック）することなく、無電解めっきなどの触媒核として利用されたパラジウムのみを選択的に除去することができ、且つ使用安定性に優れたパラジウム除去液を提供する。
【解決手段】ａ）酸、ｂ）脂肪族または芳香族スルホン酸塩、または、スルホ基以外に硫黄原子を含まないスルホン酸以外の化合物、ｃ）亜硝酸イオン、ｄ）ハロゲンイオンを含み、ｂ）とｃ）のモル比が０．１：１〜１：１、酸の濃度が、Ｈ+濃度として０．００１質量％以上０．７質量％以下、亜硝酸イオンの濃度が０．０００１〜１０質量％の範囲、前記ハロゲンイオンの濃度が０．０３〜３０質量％の範囲、であるパラジウム除去液。 （もっと読む）