国際特許分類［G03F7/075］の内容
物理学 (1,541,580) | 写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ (245,998) | フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造，例．印刷用，半導体装置の製造法用；そのための材料；そのための原稿；そのために特に適合した装置 (42,984) | フォトメカニカル法，例．フォトリソグラフ法，による凹凸化またはパターン化された表面，例．印刷表面，の製造；そのための材料，例．フォトレジストからなるもの；そのため特に適合した装置 (38,375) | 感光材料 (22,284) | シリコン含有化合物 (806)
国際特許分類［G03F7/075］に分類される特許
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感光性樹脂組成物
【構成】 一般式（Ｉ）
【化１】
で示される構造単位を含むポリアミド酸１００重量部に対し、一般式（II）
【化２】
で示されるエポキシ基を有するシリコン化合物０．５〜３０重量部及び光照射により酸を発生する化合物０．５〜４０重量部を含有する感光性樹脂組成物。
【効果】 製造が容易で、ポジ型のパターン形成ができ、基板との密着性に優れる感光性樹脂組成物が提供された。
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感光性樹脂組成物
感光性樹脂組成物およびこれを使用したパターン形成方法
【構成】本発明は、シロキサンポリマーと塩基発生剤を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物に関する。
【効果】本発明の感光性樹脂組成物は、パターン精度および加工性に優れている。
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配線構造体及びその製造方法
【目的】１０〜２０μｍ以上の膜厚の絶縁・保護膜の形成が可能で、現象溶解性、解像度が優れ、信頼性の高い配線構造体及びその製造方法を提供する。
【構成】感光基を有するポリマ、増感剤、増感助剤とから成る感光性耐熱重合体組成物に対し、一般式（２）、（３）、（４）、（５）、（６）で表わされるアルカリ性化合物の水溶液によって現像する。（２）Ｒ5Ｒ6Ｒ7Ｒ8ＮＯＨ，（３）Ｒ9Ｒ10ＮＲ11ＯＨ，（４）Ｒ12Ｒ13Ｒ15Ｎ，（５）Ｍ1ＯＨ，（６）Ｍ1Ｍ2ＣＯ3（但し、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ15は水素、アルキル基、フェニル基、ベンジル基、から選択された基、Ｒ9、Ｒ10は水素、アルキル基、フェニル基、ベンジル基、−Ｒ11ＯＨから選択された基、Ｒ11は２価の有機基、Ｍ1はアルカリ金属、ＮＨ4、Ｍ2はアルカリ金属、ＮＨ4または水素である）
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感光性樹脂の製造方法
二層構造電子線レジスト用平坦化材料
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