【課題】磁気ディスク媒体に形成する微細パターンの描画が高速、高精度に、かつ近接効果補正が簡易に行え、基板全体で一定のドーズ量で描画可能とする。
【解決手段】レジスト11が塗布された基板10上に、電子ビームEBを基板10の半径方向または半径方向と直交する方向に微小往復振動させるとともに、その振動方向と直交する方向に偏向してエレメントの形状を塗りつぶすように走査して、微細パターン12のエレメント13の形状を描画する際に、エレメント配置の疎密程度に応じ、密配置部のエレメント描画では、前記偏向速度を疎配置部の同一エレメント描画での偏向速度より速く設定してドーズ量を調整し、近接効果補正を行う。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスクにサーボマークを磁気転写するのに必要なマスタ基板の製造に要する時間やコストを低減する。
【解決手段】移動軌跡が円弧状の磁気ヘッド１９により記録再生が行われる磁気ディスク１２Ａ〜１２Ｃの製造に際して、磁気ディスク１２Ａ〜１２Ｃと密着するマスタ基板の面（磁気転写面）に、磁気ディスク１２Ａ〜１２Ｃの表面用のサーボマークを形成するためのＡｃｈサーボパターンと、裏面用のサーボマークを形成するためのＢｃｈサーボパターンとを、交差しないように設けることにより、マスタ基板を１枚用意するのみで、磁気ディスク１２Ａ〜１２Ｃの表裏面のいずれにも対応可能なサーボマークを磁気転写することができるようにする。 （もっと読む）

【課題】サーボセクタ間における磁気ヘッドの位置決め制御を精度よく実行する磁気ヘッドの位置決め制御方法及び磁気ヘッドの位置決め制御装置を提供する。
【解決手段】各々が所定数のサーボセクタに対応するｎ組のサーボパターン群を磁気ディスクに記録し、各サーボパターン群に対応するＲＲＯ電流補正テーブルを作成する。サーボパターンの転写品質が最も良いサーボパターン群をＳＰｏｐｔとして選択する。ＳＰｏｐｔに対応する、隣り合うサーボセクタ間にある、他のサーボセクタ群に対応するサーボセクタ（対象サーボセクタ）については、ＳＰｏｐｔに対応するＲＲＯ電流補正テーブル内の上記隣り合うサーボセクタの各々に対応するＲＲＯ電流補正量を用いて、対象サーボセクタに対応するＲＲＯ電流補正量を線形補間演算によって算出し、算出されたＲＲＯ電流補正量に基づいて磁気ヘッドの位置決め制御を実行する。 （もっと読む）

【課題】下地層に起因するノイズを効果的に低減でき、再生信号の出力値が上がり、波形幅のばらつきが小さくなり、良好な信号品質が得られる磁気転写方法等の提供。
【解決手段】初期磁化工程と、初期磁化クリーニング工程後の前記垂直磁気記録媒体に対し、磁気情報に対応した磁性層が形成された転写部と、該転写部に対して相対的に低い凹形状をなす非転写部とを有し、磁性層が垂直磁気異方性を有し、残留磁化Ｍｒが５００ｅｍｕ／ｃｃ以下であり、かつ飽和磁化Ｍｓが９００ｅｍｕ／ｃｃ以上である磁気転写用マスター担体を重ね合わせ、垂直磁気記録媒体に前記凹凸パターンを密着させる密着工程と、転写工程とを含み、初期磁化クーニング工程、転写後クリーニング工程、及び転写中クーニング工程のいずれかを含む磁気転写方法である。 （もっと読む）

【課題】再生信号の出力値が上がり、波形幅のばらつきが小さくなり、良好な信号品質が得られる磁気記録媒体への磁気転写方法等の提供。
【解決手段】垂直磁気記録媒体に磁気転写で磁気情報を記録する磁気記録媒体への磁気転写方法において、垂直磁気記録媒体へ磁気情報を転写する際に該垂直磁気記録媒体に接触させる磁気転写用マスター担体が、磁気情報に対応した磁性層が形成された転写部と、該転写部に対して相対的に低い凹形状をなす非転写部とを有し、磁性層が垂直磁気異方性を有し、残留磁化Ｍｒが５００ｅｍｕ／ｃｃ以下、かつ飽和磁化Ｍｓが９００ｅｍｕ／ｃｃ以上であり、垂直磁気記録媒体の垂直方向にＤＣ磁界を印加し初期磁化後、垂直磁気記録媒体と前記磁気転写用マスター担体とを密着させた状態で、初期磁化と逆方向の垂直ＤＣ磁界を１００ｎｓｅｃ〜１ｓｅｃの印加時間で印加する磁気記録媒体への磁気転写方法である。 （もっと読む）

【課題】被描画体上へ同心円状のパターンを精度よくかつ簡単な制御で描画する。
【解決手段】ロータリエンコーダ53を備えた回転ステージ41上に載置された被描画体上に電子ビームを照射し、該回転ステージ41を回転させつつ同心円状のパターンを描画する電子ビーム描画方法において、所定の同心円に沿ったパターンを描画後、特定のエンコーダパルスで電子ビームの照射をオフとし、電子ビームの照射をオフとした状態で、電子ビームの照射位置を半径方向にトラックピッチ分だけ偏向させた後、電子ビームの照射をオフとしてから回転ステージ41が１回転した際に生じる特定のエンコーダパルスで電子ビームの照射をオンとして所定の同心円に隣接する同心円に沿ったパターンの描画を開始し、該描画の開始から回転ステージが１回転した際に生じる特定のエンコーダパルスで電子ビームの照射をオフとする工程を繰り返して同心円状のパターンを描画する。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク媒体に形成する微細パターンを基板の全面に、周方向に高精度に、電子ビームの照射がオン・オフ制御でき、基板全体で一定の照射線量で高精度かつ高速に描画可能とする。
【解決手段】レジスト11が塗布された基板10上に電子ビームEBを走査して、微細パターン12のエレメント13の形状を描画する際に、描画データに基づき、基板10の所定回転位置でオン信号により電子ビームを照射し、その回転に追従して回転方向に描画し、オフ信号で描画を停止するオン・オフ制御で１周分を描画した後、ビーム照射位置を半径方向に移動させてオン・オフ制御による描画を繰り返すもので、基板10の回転速度を描画位置の半径に反比例して内周トラック描画で速く外周トラック描画で遅くなるように回転制御する。 （もっと読む）

【課題】磁気転写マスタ体の微細加工時における磁気パターンのＬ／Ｓ比を変えずに磁気転写波形の上下対称性を維持できる磁気転写マスタ体、磁気転写装置、この磁気転写装置を用いてつくられる磁気記録媒体、およびこの磁気記録媒体を用いた磁気記録装置を提供することを目的とする。
【解決手段】磁気転写マスタ体の基板の表面部に磁気パターンに対応した磁性体を保持するパターン凹部を設け、パターン凹部に第1の磁性体からなる磁性材料を配し、前記表面部において基板とパターン凹部に配された第1の磁性体の境界部分との少なくとも一部に第２の磁性体からなる磁性材料を配し、第1の磁性体の飽和磁化Ｍ_Ｓ１と第２の磁性体の飽和磁化Ｍ_Ｓ２との間にＭ_Ｓ１＞Ｍ_Ｓ２の関係を有し、かつ、第２の磁性体は基板の材質とは異なることを特徴とする磁気転写マスタ体を用いる。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク媒体に形成する微細パターンの２ビット信号長に対応する長エレメントを中央に隙間が生じることなく所定の描画長に、高精度かつ高速に描画可能とする。
【解決手段】レジスト11が塗布された基板10を一方向回転させつつ、電子ビームEBを基板10の半径方向Ｙと直交するＸ方向へ高速に往復振動させるとともにＸ−Ｙ偏向を行って描画する際に、長エレメント14の描画は、２ビット信号長2kTの中央位置を中心位置sとして、所定比率で短くなった描画長の範囲を塗りつぶすように走査し、最終的な磁気ディスク媒体における２ビット信号長2Tに対し、両側に所定幅の非描画部を残して描画する。 （もっと読む）

【課題】中心側から外側に向けて円弧状に設けられる複数のサーボ領域と該サーボ領域間のデータ領域からなるハードディスクパターンを電子ビーム走査により描画する際の、各領域の半径方向位置毎の周方向描画開始位置の精度を向上させる。
【解決手段】レジストが塗布された基板上に、回転ステージを回転させつつ、電子ビームを走査してハードディスクパターンを描画するに際して、各領域12Ａ，12Ｂ，12Ｃ…の半径方向位置毎に、回転角度に応じて生じるエンコーダパルスＡ₁，Ａ₂，Ａ₃…のうち、該各領域内の周方向描画開始位置が回転ステージの回転時に最も先に描画位置に位置する半径方向位置の回転方向前方で生じる所定のエンコーダパルスより後方、かつ半径方向位置毎の周方向描画開始位置より前方で生じる、半径方向位置毎に予め定められたエンコーダパルスを基準として、それぞれ予め定められた所定時間後に描画を開始する。 （もっと読む）