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国際特許分類[H01F41/22]の内容

国際特許分類[H01F41/22]に分類される特許

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【課題】磁気記録層が所定のパターンに加工された磁気記録媒体において、良好な記録再生特性を得る。
【解決手段】磁気記録媒体10は、垂直磁気記録層5、クロム、チタン、及びシリコンから選択される磁性失活元素を含むRu非磁性下地層2、及び非磁性基板1を含む積層に、磁性失活ガスを用いてガスイオン照射を行なうことにより形成される。ガスイオン照射を行なう前の垂直磁気記録層は、鉄及びコバルトのうち少なくとも1つ、及びプラチナを含有する。ガスイオン照射には、ヘリウム、水素、及びBからなる群から選択される少なくとも1種のガスと窒素ガスの混合ガス、あるいは単独の窒素ガスのいずれかを使用する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、イオン照射方式により製造した磁気記録媒体において、サーボ信号の出力を向上させることを課題とする。
【解決手段】基板の少なくとも一方の表面上に、磁気情報の記録再生を行うための磁気記録領域と、前記磁気記録領域を磁気的に分離するための非記録領域とが、基板の面内方向において規則的に配置された磁気記録層を有する磁気記録媒体であって、前記非記録領域は、透磁率が2H/m以上、100H/m以下であり、さらに前記非記録領域の表面は、前記磁気記録領域の表面に対して凹部を形成し、かつ、前記凹部の深さは0.5nm以上2.0nm以下であることを特徴とする磁気記録媒体。 (もっと読む)


【課題】TMRセンサの面積抵抗RAが1.0Ωμm2以下の領域で、MR比の劣化の少ないTMRヘッドを得る。
【解決手段】第2の強磁性層中のCo-Fe-Bを成膜する工程から絶縁障壁層MgOを成膜する工程にかけて、基板の温度を氷点下100℃に保つことにより、B濃度10at%以下でもアモルファス状態のCo-Fe-B合金膜を得ることができる。アモルファスCo-Fe-B合金層上に結晶性の良いMgOを形成することができる。また、MgO上の第3の強磁性層中のCo-Fe-Bを成膜する際にも基板を氷点下100℃に保持しながら形成することにより、B濃度6at%のアモルファス状のCo-Fe-Bを得ることができる。得られたTMRセンサ膜は低濃度のBを含むアモルファス状のCo-Fe-B合金膜を含むために、比較的低温(200℃)の熱処理でも大きなMR比が得られる。 (もっと読む)


【課題】比較的に低い温度で結晶格子の規則化を実現することができるホイスラー金属の製造方法を提供する。
【解決手段】ホイスラー金属の製造方法の一具体例は、ホイスラー金属の全ての構成元素を含有する積層体68を形成する工程と、積層体68に加熱処理を施す工程とを備える。積層体68の各層は、ホイスラー金属の構成元素から選択される少なくとも1以上の構成元素で形成される。 (もっと読む)


【課題】高スピン分極率かつ低磁気異方性を有することで、高磁界感度な磁気抵抗素子の磁化自由層または磁化固定層に適用可能なホイスラー合金材料、そのホイスラー合金材料を用いた磁気抵抗素子および磁気デバイスを提供する。
【解決手段】ホイスラー合金材料は、Co2(FexMn1-x)Si合金(x=0.1〜0.9)の組成比を有している。酸化マグネシウムまたはクロムから成る下地層を介して形成された後、熱処理プロセスを施して形成されている。 (もっと読む)


【課題】ほとんど保磁力あるいは飽和磁化が無い非磁性部を記録層に形成することができ、優れた磁気特性の記録媒体を容易に得ることができる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板11上にCrPt3からなる記録層13’を形成する工程と、記録層13’の表面にマスクパターン層15’を形成する工程と、マスクパターン層15’から露出した記録層13’の各部にイオンを照射する工程とを備えている。 (もっと読む)


【課題】 結晶粒の小さな微結晶金属薄膜を用いた磁気記録媒体及びその製造方法、並びに微結晶金属薄膜の形成方法を提供する。
【解決手段】ニッケル、鉄、コバルトを含む遷移金属から選択される少なくとも1種の金属とIV族元素とを含み、軟磁性体である多結晶薄膜からなる微結晶金属薄膜102を含む。 (もっと読む)


【課題】第三元素を添加しない場合でも飽和磁束密度Bsが24.5kG以上、異方性磁界Hkが15.5Oe以上の特性を実現することが可能な軟磁性薄膜の製造方法、軟磁性薄膜、磁気ヘッド、垂直磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性基板11上に非磁性下地膜12を製膜する下地膜製膜段階と、非磁性下地膜12上にFe−Co磁性膜13を製膜する磁性膜製膜段階とを含む軟磁性薄膜の製造方法であって、磁性膜製膜段階が、非磁性下地膜12上にアシストイオンビームIBaを照射しながらFe−Co磁性膜13を製膜するイオン照射製膜段階と、イオン照射製膜後のFe−Co磁性膜13に磁界を印加しながら熱処理する熱処理段階を含むことを特徴とするものである。 (もっと読む)


【課題】記録層の磁化容易軸の配向性を向上し、高記録密度化が可能な磁気記録媒体および磁気記憶装置を提供する。
【解決手段】基板11と、基板11上に、第1下地層12、第2下地層13、第3下地層14、第4下地層15、熱安定化層16、非磁性結合層17、記録層18等が順次形成され、基板表面にはテクスチャ11aが形成された構成からなる。第1下地層12はCrまたはCrMnからなり、第2下地層13はCrMnからなり、第2下地層13が第1下地層12よりもMn含有量が多く設定され、第3下地層14がCr−X1合金(X1=Mo,Ti,W,V,Ta,およびNbからなる群のうち、少なくとも一つ)からなる。 (もっと読む)


【課題】
フリー磁性層の磁歪の増大が低く、かつ抵抗変化率の高いトンネル型磁気検出素子を得る。
【解決手段】
トンネル型磁気検出素子を構成する積層体T1は、下から、固定磁性層4、絶縁障壁層5、及びフリー磁性層8の順に形成された部分を有する。前記フリー磁性層8の絶縁障壁層5側に形成されたエンハンス層6を、絶縁障壁層5側の第1エンハンス層6aと軟磁性層7側の第2エンハンス層6bとし、第1エンハンス層6aを形成するCoFe合金のFe含有量を、第2エンハンス層のCoFe合金のFe含有量より大きいものとする。これにより、フリー磁性層の磁歪の増大を抑え、抵抗変化率を高くすることができる。 (もっと読む)


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