改良されたＸ線生成システムは、実質的に円柱形または球形処理装置に特に適している収束または発散放射パターンを生成する。１つの実施形態において、システムは、閉じたまたは凹面の内部壁の周りに、閉じたまたは凹面の外部壁を備える。電子エミッターは、外部壁の内部表面上に位置し、一方、目標フィルムは、内部壁の外部表面上に位置している。エミッターにおける抽出電圧により電子を抽出し、その電子は加速電圧により内部壁に向かって加速される。または、電子放射は熱イオン手段による。電子の、目標フィルムへの衝突はＸ線放射を引き起こし、そのかなりの部分は、内部壁を通してその内部に画定された空間に導かれる。１つの実施形態において、エミッターと目標フィルムの位置は逆転しており、収束パターン用の透過モードと、発散パターン用の透過モードではなく、反射モードを確立する。
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