【課題】大きな収差係数を有する軸対称レンズの球面収差を打ち消す球面収差補正レンズ系および球面収差ゼロの軸対称プローブ形成レンズを提供する。
【解決手段】荷電粒子光学レンズ系は、４段の四極子レンズと、３つの開口電極から構成される。八極子レンズ作用を誘起する開口電極は、1段目と2段の間、２段目と３段目の間および３段目と４段目の間に配置する。四極子レンズの励起制御は、XZ面で凹凸凹凸レンズ作用、YZ面で凸凹凸凹レンズ作用を発現するように作動させ、YZ面の荷電粒子軌道が２段目と３段目の四極子レンズの間で一度光軸に交差し、かつ、荷電粒子レンズ系が軸対称レンズ条件を満たすように最終段の四極子レンズの後方でXZ面とYZ面の荷電粒子軌道が軸と交差するように個々の四極子レンズレンズの励起強度を調整する。 （もっと読む）

【課題】
組立て精度がよく部品点数、調整箇所が少ない収差補正器とその応用装置を提供すること。
【解決手段】
複数の極子間をセラミック材を介してロウ付け一体化した極子組を複数個、位置決めブロックを使って光軸の周りに配置して多段多極子を形成する。 （もっと読む）

【課題】 アライメント精度、励起制御を緩和する補正レンズ系を提供する。
【解決手段】 本発明は、同一幾何学寸法を有する６段または８段の四極子レンズと３つの開口電極から構成される補正レンズまたは、６段または８段の十二極子レンズと３段以上の八極子レンズで構成される補正レンズにおいて、補正レンズの中心位置に対して幾何学的に対称な構造を有し、励起制御を極性が反対で、励起強度を等しくすることで、補正レンズ内でXZ面とYZ面でそれぞれ線状収束させると共に、補正レンズの中心位置付近で離軸距離が同程度となるように四極子レンズ励起強度を調整し、これらの位置近傍で開口収差係数を補正する。 （もっと読む）

【課題】 縦断面が長円形、円形、楕円形の粒子ビームを、縦断面が横方向に長い長円形状、楕円形状の粒子ビームとなるように整形して、偏向走査装置に入射させることができるようにする。
【解決手段】 イオンビーム発生源１１から引き出されたイオンビームを、質量分析磁石装置１３、質量分析スリット１５、偏向走査装置１７の順に通過させ、被処理物に照射させるビーム処理装置において、質量分析磁石装置と偏向走査装置との間であって質量分析磁石装置を通過したイオンビームが横方向に最も集束する位置に前記質量分析スリットを設け、該質量分析スリットの上流側及び下流側に、それぞれ第１の直流四極電磁石１４及び第２の直流四極電磁石１６を設けた。 （もっと読む）

【課題】本発明は、電子ビーム用の開孔が任意の長さの次元であり、且つ、無収差結像を形成するレンズ装置を開発することを課題とする。
【解決手段】円柱レンズに、磁場型レンズが組み合わされており、該磁場型レンズを用いて４極磁場が形成可能であり、レンズは、僅かな間隔又は間隔なしに相互に配設されており、レンズの光軸は、相互に平行であり、磁場型４極子レンズは、間隙状の開孔を有しており、該開孔は、円柱レンズの開孔に対して平行に配向されており、光軸を包囲する４極子レンズの集束面は、開孔の長手軸並びに当該４極子レンズの焦点はずれ面に平行に、長手軸に対して垂直に配向されており、円柱レンズの屈折力は、４極子レンズの屈折力の２倍の大きさに調整可能である。 （もっと読む）

【課題】陽電子ビームを陽電子ビーム源から利用場所にまで輸送してくるための磁気輸送磁場領域と、陽電子ビーム径が小さくなるように集束させる弱磁場又は非磁場領域とを近接させながら、直進性の良いビームを弱磁場または非磁場領域に引き出しビーム径を小さくする。
【解決手段】陽電子ビーム集束装置は、少なくとも、陽電子ビームの加速部を含む磁気輸送部と、前記磁気輸送部の磁場中から非磁場あるいは弱磁場中に陽電子ビームを引き出すための１つ以上の磁気輸送部の磁場とは逆方向の磁場を発生する引き出し用コイルとを有する。 （もっと読む）

【課題】製造コストを下げ製造プロセスを簡略化しても追加の構成要素を必要としないで均一性を改良した高電流イオンビーム発生のための新しいシステム構成を提供すること。
【解決手段】本発明は多様な操作様式を有するイオン注入装置を開示する。それはイオン源およびそこからリボン状イオンビームを引き出すための引き出し手段を有する。イオン注入装置は質量スリットを通って基板に描出するため特定の質量対電荷を有するイオンを選択するマグネット分析機を含む。多極レンズがビームの均一性と平行を制御するために提供される。本発明は、第二の経路がエネルギー濾過を、組み入れ減速システムを組み込んだ２経路ビームラインをさらに開示する。本発明は、注入の様式がターゲットの１次元走査から２次元走査に、また単純な経路から減速を有するＳ状経路に切り替えることができるイオン注入の方法を開示する。 （もっと読む）

荷電粒子ビームシステムは、楕円形断面を有する非線対称ビーム８を生成する、非線対称ダイオード２を含む。集束用エレメントは磁場を用いて非線対称ビーム８を集束および移送し、非線対称ビーム８は集束用エレメントのチャネルにほぼマッチングしている。
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