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国際特許分類[H01J9/14]の内容

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グリッド線製造用の機械

国際特許分類[H01J9/14]に分類される特許

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この発明は1.2Å以上1.5Å以下の軟X線を照射し周囲の雰囲気(N2,O2)のなかでイオン化して生成した+,−イオンを利用してLCD,PDPおよび半導体ウエハ等の表面に蓄積された。
静電気を電気的に緩和する静電気除去装置に関したものである。この発明により軟X線を利用した静電気除去装置は,窓の材質としてベリリウム(Be)薄膜にタングステン(W)を蒸着したものを使用するイオン生成管の軟X線管でエネルギーが高い1.2Å以上1.5Å以下の波長をもつ軟X線を発生して静電気除去対象物体の静電気を中和および弱化し,直接gas分子をイオン化して不活性ガス(N2,Ar)中でも静電気を除去するヘッド部(100),上記ヘッド部を包む,作業者が放射線に被爆しないように上記ヘッド部から軟X線の漏出を防止する軟X線保護部(200)および上記ヘッド部と上記軟X線保護部が電気的に連結して上記ヘッド部が軟X線を適正に発生させるようにイオン生成を制御するため上記軟X線管に軟X線管のフィラメント電圧と軟X線管のイオン生成を制御する為のターゲット電圧を供給する電源制御部(300)を包含して構成する。
この発明は可燃性粉体および塗料の取扱および製造工程から帯電した粉体の蓄積静電気を緩和して着火限界以下に静電気帯電電圧を低下させ静電気着火による火災,爆発事故を防止して産業災害を減少し,LCD,PDPおよび半導体製造工程から発生する静電気を緩和して静電気に寄るごみ付着,パターン破壊などを低下し生産収率向上する。
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本発明は、複雑なパッケージング工程を経ずに製造でき、さらに縮小されたウェルの直径と、さらに縮小されたカソードとアノードの間隔を有する一体型3極構造FEDを提供する。また、本発明は、陽極酸化法を含む一体型3極構造FED製造方法を提供する。本発明の一体型3極構造FEDは、アノード絶縁層を媒介体として前面パネルと背面パネルとが一体を形成する。
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【課題】長尺の金属基材の両面にフォトレジストを塗布し、乾燥チャンバーで乾燥してレジスト膜を形成するレジスト塗布工程において、金属基材の両面に形成されたレジスト膜の幅方向の感度を均一化して現像処理後のレジストパターン寸法のバラツキを抑えたシャドウマスクの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】金属基材の両面に塗布されたレジスト膜を温風と、遠赤外ヒーターとからなる乾燥チャンバーにて乾燥する際、前記乾燥チャンバーの遠赤外ヒーターと金属基材との間に遮蔽板を設けて、レジスト膜の幅方向の感度を均一化し、パターン露光、現像、エッチング、レジストパターン剥離処理してシャドウマスクを得る。 (もっと読む)


【課題】露光用マスクパターンの検査を実際に使用する電子ビーム露光装置を用いて高精度に行う電子ビーム露光用のマスク検査装置、マスク検査方法及び電子ビーム露光装置を提供すること。
【解決手段】電子ビームを発生する電子銃と、前記電子ビームを所定の断面形状に整形する露光用マスクと、前記露光用マスクによって整形された電子ビームを走査する走査手段と、前記走査手段により走査された電子ビームを透過する微小透過口を有する薄膜と、前記微小透過口よりも大きな開口を有し、前記薄膜の厚さより厚い基板とを含んで構成され、前記整形された電子ビームの一部を選択して透過する選択手段と、前記選択手段により透過した電子ビームを検出して電流信号を出力する検出手段とを備えたことを特徴とするマスク検査装置による。 (もっと読む)


【課題】 ターゲットの加工屑を回転体に混入させない。
【解決手段】 熱電子を放出するカソードとこの放出された熱電子を細く収束させる電極から構成される陰極1と、この陰極1との間の電界により前記熱電子を加速し、電子ビームを形成すると供に、この電子ビームの衝突により、その衝突部分からX線を発生する陽極2と、この陽極2を回転させる回転軸14と、陰極1、陽極2及び回転軸14とを真空気密して収容する外囲器3と、陽極2の電子ビーム衝突面の研磨加工を陽極部2と回転軸14の締結の前工程で加工可能とするために、陽極2と回転軸14の取り付けとそれらの取り付け位置の調整を行う調整ネジ34を備える。 (もっと読む)


【課題】表示品位の優れた表示装置および表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】表示装置は、隙間を置いて対向配置されているとともに周縁部同士が接合された前面基板および背面基板12と、背面基板の前面基板に対向する面上に設けられた複数の電子放出素子と、これら表示素子に駆動電圧を供給する複数の配線と、を備えている。配線を形成する際は背面基板12上に配線を形成した後、配線の表面を押圧して配線の表面を平坦化させて形成する。 (もっと読む)


【課題】
マルチ電子ビーム描画装置用偏向デバイスの製造方法において、偏向電極を備えた高アスペクト比の貫通孔を基板に高精度かつ高密度に成形できるようにすること。
【解決手段】
マルチ電子ビーム描画装置用デバイスの製造方法は、シリコン基板1に貫通孔2を複数形成した後、電子ビームを偏向するための偏向電極を貫通孔2の側壁に形成する。この製造方法は、シリコン基板1の一側からドライエッチングによりほぼ垂直な側壁を有する溝部11を形成し、シリコン基板1の他側からドライエッチングにより溝部と異なる径を有すると共にほぼ垂直な側壁を有する第2の孔部2aを溝部11に連通するように形成して溝部11で形成される第1の孔部2aと共にシリコン基板1を貫通するアスペクト比が4以上の貫通孔2を形成した後、貫通孔2の側壁に独立して対向する偏向電極を形成する方法である。 (もっと読む)


【課題】蛍光体層が発生した光を効率的に外部に放出でき、照度が向上する外部電極型蛍光ランプおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】蛍光体層14を形成した発光領域12および蛍光体層14を形成しないアパーチャ領域13を有し、放電媒体を封入した外囲器11と、この外囲器11の表面に設けられた外囲器内で放電を発生させる電極15a、15bと、外囲器11を構成する側壁面に、電極15a、15bの外側から粘着剤18で貼り付けた電極シート16とを具備し、蛍光体層14が発生した光を反射する反射材を粘着剤18に含浸させている。 (もっと読む)


【課題】長尺帯状の金属薄板に多面付けされたシャドウマスクを枚葉状に切断する際に、固定刃と移動刃で構成される断裁機を用いずにシャドウマスクを枚葉状に切断するシャドウマスクの製造方法を提供すること。
【解決手段】金属薄板1の上方に設けられたレーザー光源30を金属薄板の幅方向Yに移動させながら金属薄板にレーザー光を照射して切断すること。レーザー光源の移動を金属薄板の長尺帯状方向Xに行い、金属薄板の長尺帯状方向を切断すること。レーザー光源がYAG、又はCO2 レーザーであること。 (もっと読む)


【課題】 製品と、該製品の全周辺にトリミング線部とを設けて、製品と非製品部とを一体的に連結している枚葉の金属シート(エッチング加工部材)から、製品と非製品部とをトリミング線部にて分離するトリミング方法で、トリミング品質の面で問題がなく、エッチング加工ラインにも組み込むことができる、トリミング方法を提供する。同時に、そのようなトリミング方法を実施できるトリミング装置を提供する。
【解決手段】 非製品部の一箇所を、引っ張り、トリミング線部に沿い引き裂きを行うもので、トリミング線部の外側方向に、且つ、トリミング線部の引き裂き進行方向に対し、引っ張り点が、引き裂き点より後側にある位置関係を保持しながら、引っ張って、トリミング線部の引き裂きを行うことを特徴とするものである。 (もっと読む)


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