特には極紫外線及び／又は軟Ｘ線放射を生成するガス放電源において、ガス入りチャンバは、２つの電極と、ガスを出し入れする筐体装置との間に配置され、電極は、対称軸を定義付ける放射出口開口部を有する。提案された改良点は、２つの電極間の隔壁の配置にある。該隔壁は、差動排気段階として働き、対称軸上に位置決めされた少なくとも１つの開口部を有する。
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プラズマ放射線源は、デブリの影響によって制限される光学素子の寿命が著しく長くなるように改良される。ガスカーテンを通して、真空室（１）中の源領域から進む放射線（５）が放射線（５）の平均的な伝搬方向の軸（Ｘ−Ｘ）に沿ってデブリ抑制のために所定の立体角で放射され、ガスカーテンは軸（Ｘ−Ｘ）上に配置される気体ジェット真空ポンプ（３）の推進ノズル（２）から放射状に向けられた超音速気体ジェット（７）として出る。ガスカーテンは、軸（Ｘ−Ｘ）に同軸に配置される環状の混合ノズル（８）に向けられ、ディフューザ（１０）によって真空室（１）の中から外に誘導される。これにより、最適の変換効率を有し、広範囲のデブリを含む源の配置構成を用いることが可能である。
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【課題】プラズマを生成するために使用される装置の電力を大きく増加させる必要なくよりよい経済的条件の下でおよそ１３．５ｎｍのスペクトル範囲でＥＵＶリソグラフィーへの使用を可能にする一方、装置を使用者の特定のニーズに合わせる高い柔軟性を提供する。
【解決手段】極紫外線（ＥＵＶ）又は軟Ｘ線放射を発生させる装置が、プラズマを生成するために１０^６Ｗ／ｃｍ^２を超える強度でターゲットにフォーカスされたレーザ放射を生成するためにレーザ源と、レーザ源で生成されたプラズマの経路の周りに位置した電極とを有する。電極は、レーザ生成プラズマ膨張時間の時定数より小さい固有の時定数を有する急放電をプラズマ中で生成するための手段と結合している。
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【課題】 ターゲット材から飛散した高速の微粒子によりＸ線光学素子が損傷を受けることなく、かつ、高繰返しでも連続して安定した高い平均出力のレーザプラズマＸ線を発生することができる。
【解決手段】 レーザプラズマを生成する主パルスレーザ光が主パルスレーザ発生装置１２１から集光照射点１１０に集光照射された際にターゲットから放出されたターゲット材１１２の破片微粒子を、蒸散用パルスレーザ発生装置１３１が生成する蒸散用パルスレーザ光の照射により加熱し、破片微粒子を蒸発・気化させている。蒸散用パルスレーザ光の照射は制御装置１２５により主パルスレーザ発生装置１２１と同期して時間的に調整されている。更に、破片微粒子が放出される領域を照明光源１４１が照射し、この照明を受けて検出器１４３が破片微粒子の発生を検出して制御装置１２５へ通知している。 （もっと読む）

【目的】簡単な構造のエネルギー発生装置を開発する事にある。
【構成】円盤状永久磁石を多数枚積層しその先端にポリシリコンを図１の如く被覆しその先端から出るＸ線等の電磁波に依って発電する事。 （もっと読む）