アルキル錫化合物、その製造方法、および該化合物を含有する、導電性および赤外反射性のフッ素ド―プした酸化錫層をガラス、ガラスセラミックおよびほうろう表面に製造するための薬剤
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はアセテートおよびトリフルオロアセテート基を有する新規のアルキル錫化合物ならびにその製造方法に関する。さらに本発明は、該新規のアルキル錫化合物を含有する、導電性および赤外反射性の層をガラス、ガラスセラミックまたはほうろうの表面に形成するための薬剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】ガラス表面の導電性のフッ素をドープした酸化錫層がこのように被覆した表面の電気抵抗を低下しかつまた赤外反射性を高めることは公知である。この種の層を製造するためには、適切な錫化合物（ベース化合物）をフッ素を放出する化合物（ドーピング剤）と同時に４００〜８００℃に加熱したガラス表面と接触させる。該ベース錫化合物は密着した酸化錫層をガラス、ガラスセラミックまたはほうろう引きの表面に形成する。該ドーピング剤からのフッ素は導電性を向上させかつ高い赤外反射性をひき起す。
【０００３】適当な錫およびフッ素含有溶液の吹付が、フッ素をドープした酸化錫層を表面に塗布するためには製造技術的に特に簡単である。
【０００４】西ドイツ特許出願公開第２２４６１９３号明細書には、透明の、導電性酸化錫フィルムをガラス表面に製造する方法が記載されている。該方法では、トリフルオロ酢酸の有機錫塩のメチルエチルケトン中の溶液を使用する。その溶液の製造のためには、多くの費用のかかる工程が必要である。この方法により製造された錫カルボキシレートは、分子構造により特定されるが、余りに高いフッ素成分を持っている。しかし、フッ素の過剰のドーピングは赤外反射および導電性に明白な劣化をひき起す。
【０００５】西ドイツ特許出願公開第３９ １５ ２３２号明細書には、トリフルオロ酢酸とアルキル錫オキシドとの反応生成物の有機溶液を４００〜７００℃に加熱した表面に塗布することにより導電性、ＩＲ反射性のフッ素をドープした酸化錫層を製造する方法が記載されている。該方法は、溶剤として酢酸エチルエステルおよび／またはメチルエチルケトンを使用する。しかし、その生じた付加生成物は貯蔵性がない。当業者には公知であるような、光学的に欠陥のない、均一の層を生じる、極性の低級アルコール、例えばエタノールまたはイソプロパノールの、溶剤としての好ましい使用は、これらの化合物の場合には不可能である。
【０００６】ヨーロッパ特許公開第０ ３１８ ４８６号明細書には、クロロ錫アセテートトリフルオロアセテートが記載されている。これらの化合物は多工程の、費用のかかる方法で製造される。それによって製造される２００ｎｍ厚さの酸化錫層の機能値はＩＲ反射率７０％および電気面積抵抗４０Ω／□にある。しかし、この物質の主要欠点は塩素の存在である。熱分解の際はとりわけ塩化水素ガスが生成し、これが材質を腐食または損傷するかまたは健康危険を引き起すことがある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課題は、極性有機溶剤、有利には低分子脂肪族アルコールまたはケトンに溶け、付加的ドーピング剤なしにそれによってガラス、ガラスセラミックおよびほうろう表面に製造した酸化錫層の面積抵抗を減じＩＲ反射率を最大にする新種のアルキル錫化合物を開発することであった。該生成物は長期間安定でなければならない。該生成物は塩素不含でなければならない。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記課題は、意外にも本発明により一般式：ＳnＲ1aＲ2bＲ3c［式中、Ｒ1は１〜４個の炭素原子を有するアルキル基、Ｒ2はアセテート基、Ｒ3はトリフルオロアセテート基であり、かつａは１または２の値、ｂは１または２の値、ｃは１または２の値を持ち、但しその和ａ＋ｂ＋ｃ＝４である］で示される新規の錫化合物で解決される。
【０００９】Ｒ1は１〜４個の炭素原子を有するアルキル基、有利にはブチル基である。
【００１０】本発明による化合物の例は、Ｃ4Ｈ9−Ｓn（ＣＨ3ＣＯＯ）2ＣＦ3ＣＯＯ、（Ｃ4Ｈ9）2−Ｓn（ＣＨ3ＣＯＯ）ＣＦ3ＣＯＯ、（Ｃ3Ｈ7）−Ｓn（ＣＨ3ＣＯＯ）2ＣＦ3ＣＯＯである。
【００１１】有利であるのは、Ｓnに結合したアルキル基１個だけを有する化合物である。
【００１２】本発明のもう１つの対象は、本発明による化合物の製造方法であり、該方法は、常法でアルキル錫オキシドに無水酢酸および無水トリフルオロ酢酸を所望のモル比で冷却しながら、反応温度が９０℃を越えないように添加し、かつ反応体の添加終了後該反応を約８０〜９０°の温度で２〜６時間で間完了させることを特徴とする。
【００１３】さらに本発明は、導電性および赤外反射性のフッ素をドープした酸化錫層をガラス、ガラスセラミックおよび／またはほうろう表面に製造するための薬剤に関し、該薬剤は前記式：ＳnＲ1aＲ2bＲ3cの錫化合物または該化合物の混合物を極性有機溶剤に溶解して含有し、その際前記混合物は平均的一般式：ＳnＲ1xＲ2yＲ3zに相応し、該式中ｘは１〜２の数値、ｙは０．１〜２．９の数値およびｚは０．１〜２．９の数値でありかつその和はｘ＋ｙ＋ｚ＝４であることを特徴とする。
【００１４】有利には該薬剤は、ｘが１の数値、ｙが０．５〜２．０の数値およびｚが０．５〜２．０の数値でその和がｘ＋ｙ＋ｚ＝４である前記錫化合物の混合物を含有する。
【００１５】この場合、本発明によれば概念“混合物”とは、本発明による化合物の製造の際そのモル比に相応して新規の本発明による化合物の単に唯一の化学種だけでなく、本発明による新規の化合物の２種以上の混合物が本発明による薬剤に含有されているものと解すべきである。そうすれば、指数ｘ、ｙおよびｚはアルキル基、アセテート基およびトリフルオロアセテート基の平均値を示し、従って分数を採ることができる。
【００１６】本発明による化合物は、本発明による薬剤では極性有機溶剤に溶解している。その際該本発明による薬剤は、極性有機溶剤として１〜４個の炭素原子を有する脂肪族アルコールまたは２〜８個の炭素原子を有するケトンを含有する。特に有利な溶剤はエタノール、イソプロパノールおよびアセトンである。
【００１７】本発明による薬剤は、有利には１種以上の本発明による錫化合物（類）４０〜６０重量％および有機溶剤６０〜４０重量％を含有する。
【００１８】所望の導電性および赤外反射層を形成させるためには、本発明による薬剤を常法でスプレー噴霧法で圧縮空気を使用してスプレーガンで４００〜８００℃に加熱したガラス、ガラスセラミックまたはほうろう表面にスプレーする。熱分解によりこの表面上にフッ素をドープした酸化錫層が製造される。この被覆層の厚さは１００ｎｍと２μｍの間に変化させることができる。本発明による方法で製造された層は高い透明度で優れている。２．５〜１５μｍの波長領域での積分赤外反射率は８０％以上である。
【００１９】以下の例で本製造および適用法を詳細に説明する。
【００２０】
【実施例】
例 １ＫＰＧ撹拌機を装備した１ ｌ多口フラスコにジブチル錫オキシド２４８．９ｇを秤り取った。緩慢に撹拌しながら無水酢酸５１．１ｇおよび無水トリフルオロ酢酸１０５ｇを滴加した（ｘ＝２、ｙ＝１、ｚ＝１）。該反応は強い発熱性で、その際その反応温度が９０℃を越えないように注意すべきである。滴加終了後、後反応させるためになおさらに８０〜９０℃に４時間加温した。
【００２１】このようにして得られた、殆ど透明な生成物を若干の濾過助剤および活性炭と混ぜ合せ、ＡＦ−２０００フィルタープレートを介しフィルタープレスで濾過した。
【００２２】該透明な生成物を５０％のエタノール溶液として、前もって５分間約７００℃の炉温で加熱した平面ガラス板（１６０ｍｍ×１８０ｍｍ×６ｍｍ）に吹付けた。該被覆したガラス板は７ｍｌのスプレー量の際は次の値を示した。
【００２３】面積抵抗 １１Ω／□ＩＲ反射率 ８７％被覆厚 ７５０ｎｍ例 ２ＫＰＧ撹拌機を装備した２５０ｍｌ−多口フラスコにジブチル錫オキシド１４９．４ｇを秤り取った。緩慢に撹拌しながら、無水酢酸２１．５ｇおよび無水トリフルオロ酢酸８４．０ｇを滴加した（ｘ＝２、ｙ＝１．３、ｚ＝０．７）。この反応は激しい発熱性で、その際反応温度が９０℃を越えないよう注意すべきである。滴加終了後、後反応のためになおさらに８０〜９０℃に４時間加温した。こうして得られた、殆ど透明な生成物を若干の濾過助剤および活性炭と混ぜ合せ、ＡＦ−２０００フィルタープレートを介しフィルタープレスで濾過した。該透明の生成物を５０％のエタノール溶液として、前もって５分間約７００℃の炉温で加熱した平面ガラス板（１６０ｍｍ×１８０ｍｍ×６ｍｍ）に吹付けた。
【００２４】該被覆したガラス板は７ｍｌのスプレー量の際は以下の値を示した。
【００２５】面積抵抗 ２６Ω／□ＩＲ反射率 ７５％被覆厚 １１３０ｎｍ例 ３ＫＰＧ撹拌機を装備した２５０ｍｌ多口フラスコにジブチル錫オキシド１４９．４ｇを秤り取った。緩慢に撹拌しながら無水酢酸４０．８ｇおよび無水トリフルオロ酢酸４２．０ｇを滴加した（ｘ＝２、ｙ＝０．７、ｚ＝１．３）。この反応は激しい発熱性で、その際、反応温度が９０℃を越えないよう注意すべきである。滴加終了後、後反応のためになおさらに８０〜９０℃に４時間加温した。
【００２６】こうして得られた、殆ど透明の生成物を若干の濾過助剤および活性炭と混ぜ合せ、ＡＦ−２０００フィルタープレートを介してフィルタープレスで濾過した。
【００２７】該透明の生成物を５０％のエタノール溶液として、前もって５分間約７００℃の炉温で加熱した、平面ガラス（１６０ｍｍ×１８０ｍｍ×６ｍｍ）に吹き付けた。
【００２８】該被覆したガラス板は１０ｍｌのスプレー量の際は以下の値を示した。
【００２９】面積抵抗 ５３Ω／□ＩＲ反射率 ６０％被覆厚 １１００ｎｍ例 ４ＫＰＧ撹拌機を装備した２５０ｍｌ多口フラスコにモノブチル錫オキシド１０４．４ｇを秤り取った。緩慢に撹拌しながら無水酢酸４０．３ｇおよび無水トリフルオロ酢酸７８．８ｇを滴加した（ｘ＝１、ｙ＝１．５、ｚ＝１．５）。この反応は激しい発熱性で、その際、反応温度が９０℃を越えないよう注意すべきである。滴加終了後、後反応のためになおさらに８０〜９０℃に４時間加温した。
【００３０】こうして得られた、殆ど透明の生成物を若干の濾過助剤および活性炭と混ぜ合せ、ＡＦ−２０００フィルタープレートを介してフィルタープレスで濾過した。
【００３１】該透明の生成物を５０％のエタノール溶液として、前もって５分間約７００℃の炉温で加熱した平面ガラス（１６０ｍｍ×１８０ｍｍ×６ｍｍ）に吹き付けた。
【００３２】該被覆したガラス板は７ｍｌのスプレー量の際は以下の値を示した。
【００３３】面積抵抗 ７９Ω／□ＩＲ反射率 ５１％被覆厚 ８４０ｎｍ例 ５ＫＰＧ撹拌機を装備した２５０ｍｌ多口フラスコにモノブチル錫オキシド１０４．４ｇを秤り取った。緩慢な撹拌をしながら、無水酢酸２６．９ｇおよび無水トリフルオロ酢酸１０５．０ｇを滴加した（ｘ＝１、ｙ＝１、ｚ＝２）。この反応は激しい発熱性で、その際、反応温度が９０℃を越えないよう注意すべきである。滴加終了後、後反応のためになおさらに８０〜９０℃に４時間加温した。
【００３４】こうして得られた、殆ど透明の生成物を若干の濾過助剤および活性炭と混ぜ合せ、ＡＦ−２０００フィルタープレートを介してフィルタープレスで濾過した。
【００３５】該透明の生成物を５０％のイソプロパノール溶液として、前もって５分間約７００℃の濾温で加熱した平面ガラス板（１６０ｍｍ×１８０ｍｍ×６ｍ）に吹付けた。
【００３６】該被覆したガラス板は７ｍｌのスプレー量の際は以下の値を示した。
【００３７】面積抵抗 ７５Ω／□ＩＲ反射率 ５０％被覆厚 ８４０ｎｍ例 ６ＫＰＧ撹拌機を装備した２５０ｍｌ多口フラスコにモノブチル錫オキシド１０４．４ｇを秤り取った。緩慢な撹拌をしながら無水酢酸５３．７ｇおよび無水トリフルオロ酢酸５２．５ｇを滴加した（ｘ＝１、ｙ＝２、ｚ＝１）。本反応は激しい発熱性で、その際、反応温度が９０℃を越えないよう注意すべきである。滴加終了の後、後反応のためになおさらに８０〜９０℃に４時間加温度した。
【００３８】こうして得られた、殆ど透明の生成物を若干の濾過助剤および活性炭と混ぜ合せ、ＡＦ−２０００フィルタープレートを介してフィルタープレスで濾過した。
【００３９】該透明の生成物を７０％のアセトンの溶液として、前もって５分間約７００℃の濾温で加熱した平板ガラス板（１６０ｍｍ×１８０ｍｍ×６ｍｍ）に吹付けた。
【００４０】該被覆したガラス板は５ｍｌのスプレー量の際は以下の値を示した。
【００４１】面積抵抗 ８７Ω／□ＩＲ反射率 ４９％被覆厚 １１００ｎｍ
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はアセテートおよびトリフルオロアセテート基を有する新規のアルキル錫化合物ならびにその製造方法に関する。さらに本発明は、該新規のアルキル錫化合物を含有する、導電性および赤外反射性の層をガラス、ガラスセラミックまたはほうろうの表面に形成するための薬剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】ガラス表面の導電性のフッ素をドープした酸化錫層がこのように被覆した表面の電気抵抗を低下しかつまた赤外反射性を高めることは公知である。この種の層を製造するためには、適切な錫化合物（ベース化合物）をフッ素を放出する化合物（ドーピング剤）と同時に４００〜８００℃に加熱したガラス表面と接触させる。該ベース錫化合物は密着した酸化錫層をガラス、ガラスセラミックまたはほうろう引きの表面に形成する。該ドーピング剤からのフッ素は導電性を向上させかつ高い赤外反射性をひき起す。
【０００３】適当な錫およびフッ素含有溶液の吹付が、フッ素をドープした酸化錫層を表面に塗布するためには製造技術的に特に簡単である。
【０００４】西ドイツ特許出願公開第２２４６１９３号明細書には、透明の、導電性酸化錫フィルムをガラス表面に製造する方法が記載されている。該方法では、トリフルオロ酢酸の有機錫塩のメチルエチルケトン中の溶液を使用する。その溶液の製造のためには、多くの費用のかかる工程が必要である。この方法により製造された錫カルボキシレートは、分子構造により特定されるが、余りに高いフッ素成分を持っている。しかし、フッ素の過剰のドーピングは赤外反射および導電性に明白な劣化をひき起す。
【０００５】西ドイツ特許出願公開第３９ １５ ２３２号明細書には、トリフルオロ酢酸とアルキル錫オキシドとの反応生成物の有機溶液を４００〜７００℃に加熱した表面に塗布することにより導電性、ＩＲ反射性のフッ素をドープした酸化錫層を製造する方法が記載されている。該方法は、溶剤として酢酸エチルエステルおよび／またはメチルエチルケトンを使用する。しかし、その生じた付加生成物は貯蔵性がない。当業者には公知であるような、光学的に欠陥のない、均一の層を生じる、極性の低級アルコール、例えばエタノールまたはイソプロパノールの、溶剤としての好ましい使用は、これらの化合物の場合には不可能である。
【０００６】ヨーロッパ特許公開第０ ３１８ ４８６号明細書には、クロロ錫アセテートトリフルオロアセテートが記載されている。これらの化合物は多工程の、費用のかかる方法で製造される。それによって製造される２００ｎｍ厚さの酸化錫層の機能値はＩＲ反射率７０％および電気面積抵抗４０Ω／□にある。しかし、この物質の主要欠点は塩素の存在である。熱分解の際はとりわけ塩化水素ガスが生成し、これが材質を腐食または損傷するかまたは健康危険を引き起すことがある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課題は、極性有機溶剤、有利には低分子脂肪族アルコールまたはケトンに溶け、付加的ドーピング剤なしにそれによってガラス、ガラスセラミックおよびほうろう表面に製造した酸化錫層の面積抵抗を減じＩＲ反射率を最大にする新種のアルキル錫化合物を開発することであった。該生成物は長期間安定でなければならない。該生成物は塩素不含でなければならない。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記課題は、意外にも本発明により一般式：ＳnＲ1aＲ2bＲ3c［式中、Ｒ1は１〜４個の炭素原子を有するアルキル基、Ｒ2はアセテート基、Ｒ3はトリフルオロアセテート基であり、かつａは１または２の値、ｂは１または２の値、ｃは１または２の値を持ち、但しその和ａ＋ｂ＋ｃ＝４である］で示される新規の錫化合物で解決される。
【０００９】Ｒ1は１〜４個の炭素原子を有するアルキル基、有利にはブチル基である。
【００１０】本発明による化合物の例は、Ｃ4Ｈ9−Ｓn（ＣＨ3ＣＯＯ）2ＣＦ3ＣＯＯ、（Ｃ4Ｈ9）2−Ｓn（ＣＨ3ＣＯＯ）ＣＦ3ＣＯＯ、（Ｃ3Ｈ7）−Ｓn（ＣＨ3ＣＯＯ）2ＣＦ3ＣＯＯである。
【００１１】有利であるのは、Ｓnに結合したアルキル基１個だけを有する化合物である。
【００１２】本発明のもう１つの対象は、本発明による化合物の製造方法であり、該方法は、常法でアルキル錫オキシドに無水酢酸および無水トリフルオロ酢酸を所望のモル比で冷却しながら、反応温度が９０℃を越えないように添加し、かつ反応体の添加終了後該反応を約８０〜９０°の温度で２〜６時間で間完了させることを特徴とする。
【００１３】さらに本発明は、導電性および赤外反射性のフッ素をドープした酸化錫層をガラス、ガラスセラミックおよび／またはほうろう表面に製造するための薬剤に関し、該薬剤は前記式：ＳnＲ1aＲ2bＲ3cの錫化合物または該化合物の混合物を極性有機溶剤に溶解して含有し、その際前記混合物は平均的一般式：ＳnＲ1xＲ2yＲ3zに相応し、該式中ｘは１〜２の数値、ｙは０．１〜２．９の数値およびｚは０．１〜２．９の数値でありかつその和はｘ＋ｙ＋ｚ＝４であることを特徴とする。
【００１４】有利には該薬剤は、ｘが１の数値、ｙが０．５〜２．０の数値およびｚが０．５〜２．０の数値でその和がｘ＋ｙ＋ｚ＝４である前記錫化合物の混合物を含有する。
【００１５】この場合、本発明によれば概念“混合物”とは、本発明による化合物の製造の際そのモル比に相応して新規の本発明による化合物の単に唯一の化学種だけでなく、本発明による新規の化合物の２種以上の混合物が本発明による薬剤に含有されているものと解すべきである。そうすれば、指数ｘ、ｙおよびｚはアルキル基、アセテート基およびトリフルオロアセテート基の平均値を示し、従って分数を採ることができる。
【００１６】本発明による化合物は、本発明による薬剤では極性有機溶剤に溶解している。その際該本発明による薬剤は、極性有機溶剤として１〜４個の炭素原子を有する脂肪族アルコールまたは２〜８個の炭素原子を有するケトンを含有する。特に有利な溶剤はエタノール、イソプロパノールおよびアセトンである。
【００１７】本発明による薬剤は、有利には１種以上の本発明による錫化合物（類）４０〜６０重量％および有機溶剤６０〜４０重量％を含有する。
【００１８】所望の導電性および赤外反射層を形成させるためには、本発明による薬剤を常法でスプレー噴霧法で圧縮空気を使用してスプレーガンで４００〜８００℃に加熱したガラス、ガラスセラミックまたはほうろう表面にスプレーする。熱分解によりこの表面上にフッ素をドープした酸化錫層が製造される。この被覆層の厚さは１００ｎｍと２μｍの間に変化させることができる。本発明による方法で製造された層は高い透明度で優れている。２．５〜１５μｍの波長領域での積分赤外反射率は８０％以上である。
【００１９】以下の例で本製造および適用法を詳細に説明する。
【００２０】
【実施例】
例 １ＫＰＧ撹拌機を装備した１ ｌ多口フラスコにジブチル錫オキシド２４８．９ｇを秤り取った。緩慢に撹拌しながら無水酢酸５１．１ｇおよび無水トリフルオロ酢酸１０５ｇを滴加した（ｘ＝２、ｙ＝１、ｚ＝１）。該反応は強い発熱性で、その際その反応温度が９０℃を越えないように注意すべきである。滴加終了後、後反応させるためになおさらに８０〜９０℃に４時間加温した。
【００２１】このようにして得られた、殆ど透明な生成物を若干の濾過助剤および活性炭と混ぜ合せ、ＡＦ−２０００フィルタープレートを介しフィルタープレスで濾過した。
【００２２】該透明な生成物を５０％のエタノール溶液として、前もって５分間約７００℃の炉温で加熱した平面ガラス板（１６０ｍｍ×１８０ｍｍ×６ｍｍ）に吹付けた。該被覆したガラス板は７ｍｌのスプレー量の際は次の値を示した。
【００２３】面積抵抗 １１Ω／□ＩＲ反射率 ８７％被覆厚 ７５０ｎｍ例 ２ＫＰＧ撹拌機を装備した２５０ｍｌ−多口フラスコにジブチル錫オキシド１４９．４ｇを秤り取った。緩慢に撹拌しながら、無水酢酸２１．５ｇおよび無水トリフルオロ酢酸８４．０ｇを滴加した（ｘ＝２、ｙ＝１．３、ｚ＝０．７）。この反応は激しい発熱性で、その際反応温度が９０℃を越えないよう注意すべきである。滴加終了後、後反応のためになおさらに８０〜９０℃に４時間加温した。こうして得られた、殆ど透明な生成物を若干の濾過助剤および活性炭と混ぜ合せ、ＡＦ−２０００フィルタープレートを介しフィルタープレスで濾過した。該透明の生成物を５０％のエタノール溶液として、前もって５分間約７００℃の炉温で加熱した平面ガラス板（１６０ｍｍ×１８０ｍｍ×６ｍｍ）に吹付けた。
【００２４】該被覆したガラス板は７ｍｌのスプレー量の際は以下の値を示した。
【００２５】面積抵抗 ２６Ω／□ＩＲ反射率 ７５％被覆厚 １１３０ｎｍ例 ３ＫＰＧ撹拌機を装備した２５０ｍｌ多口フラスコにジブチル錫オキシド１４９．４ｇを秤り取った。緩慢に撹拌しながら無水酢酸４０．８ｇおよび無水トリフルオロ酢酸４２．０ｇを滴加した（ｘ＝２、ｙ＝０．７、ｚ＝１．３）。この反応は激しい発熱性で、その際、反応温度が９０℃を越えないよう注意すべきである。滴加終了後、後反応のためになおさらに８０〜９０℃に４時間加温した。
【００２６】こうして得られた、殆ど透明の生成物を若干の濾過助剤および活性炭と混ぜ合せ、ＡＦ−２０００フィルタープレートを介してフィルタープレスで濾過した。
【００２７】該透明の生成物を５０％のエタノール溶液として、前もって５分間約７００℃の炉温で加熱した、平面ガラス（１６０ｍｍ×１８０ｍｍ×６ｍｍ）に吹き付けた。
【００２８】該被覆したガラス板は１０ｍｌのスプレー量の際は以下の値を示した。
【００２９】面積抵抗 ５３Ω／□ＩＲ反射率 ６０％被覆厚 １１００ｎｍ例 ４ＫＰＧ撹拌機を装備した２５０ｍｌ多口フラスコにモノブチル錫オキシド１０４．４ｇを秤り取った。緩慢に撹拌しながら無水酢酸４０．３ｇおよび無水トリフルオロ酢酸７８．８ｇを滴加した（ｘ＝１、ｙ＝１．５、ｚ＝１．５）。この反応は激しい発熱性で、その際、反応温度が９０℃を越えないよう注意すべきである。滴加終了後、後反応のためになおさらに８０〜９０℃に４時間加温した。
【００３０】こうして得られた、殆ど透明の生成物を若干の濾過助剤および活性炭と混ぜ合せ、ＡＦ−２０００フィルタープレートを介してフィルタープレスで濾過した。
【００３１】該透明の生成物を５０％のエタノール溶液として、前もって５分間約７００℃の炉温で加熱した平面ガラス（１６０ｍｍ×１８０ｍｍ×６ｍｍ）に吹き付けた。
【００３２】該被覆したガラス板は７ｍｌのスプレー量の際は以下の値を示した。
【００３３】面積抵抗 ７９Ω／□ＩＲ反射率 ５１％被覆厚 ８４０ｎｍ例 ５ＫＰＧ撹拌機を装備した２５０ｍｌ多口フラスコにモノブチル錫オキシド１０４．４ｇを秤り取った。緩慢な撹拌をしながら、無水酢酸２６．９ｇおよび無水トリフルオロ酢酸１０５．０ｇを滴加した（ｘ＝１、ｙ＝１、ｚ＝２）。この反応は激しい発熱性で、その際、反応温度が９０℃を越えないよう注意すべきである。滴加終了後、後反応のためになおさらに８０〜９０℃に４時間加温した。
【００３４】こうして得られた、殆ど透明の生成物を若干の濾過助剤および活性炭と混ぜ合せ、ＡＦ−２０００フィルタープレートを介してフィルタープレスで濾過した。
【００３５】該透明の生成物を５０％のイソプロパノール溶液として、前もって５分間約７００℃の濾温で加熱した平面ガラス板（１６０ｍｍ×１８０ｍｍ×６ｍ）に吹付けた。
【００３６】該被覆したガラス板は７ｍｌのスプレー量の際は以下の値を示した。
【００３７】面積抵抗 ７５Ω／□ＩＲ反射率 ５０％被覆厚 ８４０ｎｍ例 ６ＫＰＧ撹拌機を装備した２５０ｍｌ多口フラスコにモノブチル錫オキシド１０４．４ｇを秤り取った。緩慢な撹拌をしながら無水酢酸５３．７ｇおよび無水トリフルオロ酢酸５２．５ｇを滴加した（ｘ＝１、ｙ＝２、ｚ＝１）。本反応は激しい発熱性で、その際、反応温度が９０℃を越えないよう注意すべきである。滴加終了の後、後反応のためになおさらに８０〜９０℃に４時間加温度した。
【００３８】こうして得られた、殆ど透明の生成物を若干の濾過助剤および活性炭と混ぜ合せ、ＡＦ−２０００フィルタープレートを介してフィルタープレスで濾過した。
【００３９】該透明の生成物を７０％のアセトンの溶液として、前もって５分間約７００℃の濾温で加熱した平板ガラス板（１６０ｍｍ×１８０ｍｍ×６ｍｍ）に吹付けた。
【００４０】該被覆したガラス板は５ｍｌのスプレー量の際は以下の値を示した。
【００４１】面積抵抗 ８７Ω／□ＩＲ反射率 ４９％被覆厚 １１００ｎｍ
【特許請求の範囲】
【請求項１】 一般式：ＳnＲ1aＲ2bＲ3c［式中、Ｒ1は１〜４個の炭素原子を有するアルキル基、Ｒ2はアセテート基、Ｒ3はトリフルオロアセテート基であり、かつａは１または２の値、ｂは１または２の値、ｃは１または２の値を持ち、但しその和ａ＋ｂ＋ｃ＝４である］で示されるアルキル錫化合物。
【請求項２】 請求項１記載のアルキル錫化合物またはその混合物の製造方法において、常法でアルキル錫オキシドに無水酢酸および無水トリフルオロ酢酸を所望のモル比で冷却しながら、反応温度が９０℃を越えないように添加し、かつ反応体の添加終了後該反応を約８０〜９０℃の温度で２〜６時間で完了させることを特徴とする、アルキル錫化合物の製造方法。
【請求項３】 前記式：ＳnＲ1aＲ2bＲ3cの錫化合物または該錫化合物の混合物を極性有機溶剤に溶解して含有し、その際前記混合物は一般式：ＳnＲ1xＲ2yＲ3zに相応し、該式中ｘは１〜２の数値、ｙは０．１〜２．９の数値をｚは０．１〜２．９の数値でありかつその和ｘ＋ｙ＋ｚ＝４であることを特徴とする、導電性および赤外反射性のフッ素ドープした酸化錫層をガラス、ガラスセラミックおよびほうろう表面に製造するための薬剤。
【請求項４】 ｘが１の数値、ｙが０．５〜２．０の数値、Ｚが０．５〜２．０の数値でありかつその和ｘ＋ｙ＋ｚ＝４である前記錫化合物の混合物を含有する請求項３記載の薬剤。
【請求項５】 極性有機溶剤として１〜４個の炭素原子を有する脂肪族アルコールまたは２〜８個の炭素原子を有するケトンを含有する請求項３または４記載の薬剤。
【請求項６】 前記錫化合物または該錫化合物の混合物４０〜６０重量％および有機溶剤６０〜４０重量％を含有する請求項３から５までのいずれか１項記載の薬剤。
【請求項１】 一般式：ＳnＲ1aＲ2bＲ3c［式中、Ｒ1は１〜４個の炭素原子を有するアルキル基、Ｒ2はアセテート基、Ｒ3はトリフルオロアセテート基であり、かつａは１または２の値、ｂは１または２の値、ｃは１または２の値を持ち、但しその和ａ＋ｂ＋ｃ＝４である］で示されるアルキル錫化合物。
【請求項２】 請求項１記載のアルキル錫化合物またはその混合物の製造方法において、常法でアルキル錫オキシドに無水酢酸および無水トリフルオロ酢酸を所望のモル比で冷却しながら、反応温度が９０℃を越えないように添加し、かつ反応体の添加終了後該反応を約８０〜９０℃の温度で２〜６時間で完了させることを特徴とする、アルキル錫化合物の製造方法。
【請求項３】 前記式：ＳnＲ1aＲ2bＲ3cの錫化合物または該錫化合物の混合物を極性有機溶剤に溶解して含有し、その際前記混合物は一般式：ＳnＲ1xＲ2yＲ3zに相応し、該式中ｘは１〜２の数値、ｙは０．１〜２．９の数値をｚは０．１〜２．９の数値でありかつその和ｘ＋ｙ＋ｚ＝４であることを特徴とする、導電性および赤外反射性のフッ素ドープした酸化錫層をガラス、ガラスセラミックおよびほうろう表面に製造するための薬剤。
【請求項４】 ｘが１の数値、ｙが０．５〜２．０の数値、Ｚが０．５〜２．０の数値でありかつその和ｘ＋ｙ＋ｚ＝４である前記錫化合物の混合物を含有する請求項３記載の薬剤。
【請求項５】 極性有機溶剤として１〜４個の炭素原子を有する脂肪族アルコールまたは２〜８個の炭素原子を有するケトンを含有する請求項３または４記載の薬剤。
【請求項６】 前記錫化合物または該錫化合物の混合物４０〜６０重量％および有機溶剤６０〜４０重量％を含有する請求項３から５までのいずれか１項記載の薬剤。
【特許番号】第２５２４０９６号
【登録日】平成８年（１９９６）５月３１日
【発行日】平成８年（１９９６）８月１４日
【国際特許分類】
【出願番号】特願平６−１７７０１５
【出願日】平成６年（１９９４）７月２８日
【公開番号】特開平７−７０１５４
【公開日】平成７年（１９９５）３月１４日
【出願人】（３９０００９３６８）テー ハー ゴルトシユミツト アクチエンゲゼルシヤフト (6)
【氏名又は名称原語表記】ＴＨ．ＧＯＬＤＳＣＨＭＩＤＴ ＡＧ
【参考文献】
【文献】特開昭４８−３８３１９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開昭６２−７０２４７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平２−５００９７４（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許５０４３１８６（ＵＳ，Ａ）
【文献】米国特許５０８５８０５（ＵＳ，Ａ）
【登録日】平成８年（１９９６）５月３１日
【発行日】平成８年（１９９６）８月１４日
【国際特許分類】
【出願日】平成６年（１９９４）７月２８日
【公開番号】特開平７−７０１５４
【公開日】平成７年（１９９５）３月１４日
【出願人】（３９０００９３６８）テー ハー ゴルトシユミツト アクチエンゲゼルシヤフト (6)
【氏名又は名称原語表記】ＴＨ．ＧＯＬＤＳＣＨＭＩＤＴ ＡＧ
【参考文献】
【文献】特開昭４８−３８３１９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開昭６２−７０２４７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平２−５００９７４（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許５０４３１８６（ＵＳ，Ａ）
【文献】米国特許５０８５８０５（ＵＳ，Ａ）
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