イソオキサゾリン化合物および製造法
【課題】
新規な３位に置換基を有する２−イソオキサゾリン化合物およびそれらの製造法を提供すること。
【解決手段】
３−ハロ−２−イソオキサゾリンおよび３−スルホニル−２−イソオキサゾリン化合物とそれらの製造法、並びに３−スルホニル−２−イソオキサゾリンからの３−アルケニルもしくはアルキニル−２−イソオキサゾリンの製造法。
新規な３位に置換基を有する２−イソオキサゾリン化合物およびそれらの製造法を提供すること。
【解決手段】
３−ハロ−２−イソオキサゾリンおよび３−スルホニル−２−イソオキサゾリン化合物とそれらの製造法、並びに３−スルホニル−２−イソオキサゾリンからの３−アルケニルもしくはアルキニル−２−イソオキサゾリンの製造法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、３位に置換基を有する２−イソオキサゾリン化合物及びそれらに関する製造法に関する。詳しくは、３−ハロ−２−イソオキサゾリンおよび３−スルホニル−２−イソオキサゾリン化合物とそれらの製造法、並びに３−スルホニル−２−イソオキサゾリンからの３−アルケニルもしくはアルキニル−２−イソオキサゾリンの製造法に関する。
【背景技術】
【０００２】
３−ハロ−２−イソオキサゾリン類の製造法は、相当するニトリルオキシドを経由する方法が一般的に知られている。例えば、非特許文献１によると５位に各種置換基を有する３−ハロ−２−イソオキサゾリンが合成されている。
また、特許文献１には、５位に置換基を有するハロ−イソオキサゾールの製造と共に５−フェニル−３−クロル−２−イソオキサゾリンの製造が記載されている。
しかし、上記の文献には本発明化合物である置換基を持たない３−ハロ−２−イソオキサゾリンの記載はない。
３−スルホニル−２−イソオキサゾリンは、３−ニトロ−２−イソオキサゾリンとベンゼンスルフィン酸ソーダとの反応で得られることが報告されている（非特許文献２）が、適用範囲が限られ、しかも反応収率は、２８％と低い。
また、３位にアルケニル基，アルキニル基等の不飽和基を有する２−イソオキサゾリンの製造法に関しては、従来、ニトロビニル体から、脱酸素剤としてフェニルイソシアナートを使用して発生させたニトリルオキシドとオレフィンとを反応させて得る方法（非特許文献３）が知られている。しかしながらオレフィン類を用いることにより、生成するニトリルオキシドが重合するため適用性が低く、３位の置換基が著しく限定される。
また、３−ニトロイソオキサゾリンと１−プロピンリチウムとの反応（非特許文献４）も知られているが、プロピンリチウムを用いる点で一般的ではない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】ＳＵ １７０７０１６（ＣＡ １１７ ９０２６８）
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】Ｋ．Ｈａｌｌｉｎｇ：Ｌｉｅｂｉｇｓ Ａｎｎ．Ｃｈｅｍ．１９８９ ９８５−９９０
【非特許文献２】Ｐ．Ａ．Ｗａｄｅ：Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４３，２０２０−２０２３（１９７８）
【非特許文献３】Ａ．Ｂａｒａｎｓｋｉ：Ｐｏｌｉｓｈ Ｊ．Ｃｈｅｍ．，５５，１１８９（１９８１）
【非特許文献４】Ｐ．Ａ．Ｗａｄｅ：Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，３０，５９６９（１９８９）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、新規な３位に置換基を有する２−イソオキサゾリン化合物およびそれらの製造法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
詳しくは、
１）一般式（１−１）
【０００７】
【化１】
【０００８】
〔式中、Ｒ１は、Ｃ１−６アルキル基，Ｃ２−６アルケニル基，Ｃ２−６アルキニル基，置換されてもよいアリール基（ただし、無置換フェニル基は除く。）または置換されてもよいＣ７−１６アラルキル基を表す。〕で表される化合物、
【０００９】
２）一般式（２）
【００１０】
【化２】
【００１１】
（式中、Ｘは、ハロゲン原子を表す。）で表される化合物と一般式（３）
ＲＳＯ２Ｚ （３）
（式中、Ｒは、Ｃ１−６アルキル基，Ｃ２−６アルケニル基，Ｃ２−６アルキニル基，置換されてもよいアリール基または置換されてもよいＣ７−１６アラルキル基を表し、Ｚは水素原子またはアルカリ金属原子を表す。）で表されるスルフィン酸もしくはそのアルカリ金属塩とを反応させることを特徴とする一般式（１）
【００１２】
【化３】
【００１３】
（式中、Ｒは、前記と同じ意味を表す。）で表される化合物の製造法、
【００１４】
３）一般式（２）
【００１５】
【化４】
【００１６】
（式中、Ｘは、ハロゲン原子を表す。）で表される化合物と一般式（４）
ＲＳＨ （４）
（式中、Ｒは、前記と同じ意味を表す。）で表されるチオール類とを反応させて一般式（５）
【００１７】
【化５】
【００１８】
（式中、Ｒは、前記と同じ意味を表す。）で表される化合物を得たのち、酸化することを特徴とする前記一般式（１）で表される化合物の製造法、
【００１９】
４）前記一般式（２）で表される３−ハロ−２−イソオキサゾリン、
５）次式
Ｘ−Ｃ≡Ｎ→Ｏ （式中、Ｘは、ハロゲン原子を表す。）
で表されるハロニトリルオキシドとエチレンを反応させることを特徴とする前記一般式（２）で表される３−ハロ−２−イソオキサゾリンの製造法、
６）３−イソオキサゾリドンにハロゲン化剤を反応させることを特徴とする前記一般式（２）で表される３−ハロ−２−イソオキサゾリンの製造法、および、
【００２０】
７）一般式（１−２）
【００２１】
【化６】
【００２２】
（式中、Ｒ２は、Ｃ１−６アルキル基または置換されてもよいアリール基を表す。）
で表される化合物と一般式（６）
Ｒ３Ｍｇ−Ｈａｌ （６）
（式中、Ｒ３は、Ｃ２−６アルケニル基またはＣ２−６アルキニル基を、Ｈａｌは、ハロゲン原子を表す。）とを反応させることを特徴とする一般式（７）
【００２３】
【化７】
【００２４】
（式中、Ｒ３は、前記と同じ意味を表す。）で表される化合物の製造法である。
【発明の効果】
【００２５】
本発明において、置換基を持たない３−ハロ−２−イソオキサゾリンを提供できる。
本発明では、本発明の３−ハロ−２−イソオキサゾリンとアルキルスルフィン酸、アリールスルフィン酸またはその塩との反応を行うか、チオールとの反応生成物であるスルフィドを酸化することにより容易に３−スルホニル−２−イソオキサゾリン化合物を得ることができる。
３−スルホニル−２−イソオキサゾリン化合物は、スルホニル基が容易に求核置換反応を受けることにより種々の有用な化合物に誘導することができる。
本発明では、３−スルホニル−２−イソオキサゾリン化合物を用いて、容易に３位に不飽和基を有する２−イソオキサゾリンを得ることができる。
イソオキサゾリン環は、還元によりアミノアルコール、また加水分解でヒドロキシケトンが生成するので、前駆体として極めて重要な化合物であり、生理活性発現骨格としても知られていて多くの例がある。
例えば、本発明で得られる化合物は、生理活性を有するアミノ糖合成の鍵中間体であることが知られている。（Ｐ．Ａ．Ｗａｄｅ：Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，６２，３６７１（１９９７））
また、イソオキサゾリンを置換基とする化合物は除草作用を有することが知られている。（ＷＯ９６／２６２０６号，ＷＯ９８／３１６８１号など）
更に、特開平１−２４９７９０号公報には殺虫・殺ダニ剤としての利用例も知られている。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
本発明において、ＲおよびＲ１は、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，イソブチル，ｓ−ブチル，ｔ−ブチルなどのＣ１−６アルキル基、エテニル，１−プロペニル，２−プロペニルなどのＣ２−６アルケニル基、エチニル，１−プロピニル，２−プロペニルなどのＣ２−６アルキニル基、（任意の位置が、フッ素，塩素，臭素，沃素などのハロゲン原子、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，ｔ−ブチルなどのＣ１−６アルキル基、メトキシ，エトキシ，プロポキシ，イソプロポキシ，ブトキシ，ｔ−ブトキシなどのＣ１−６アルコキシ基、クロロメチル，ジクロロメチル，トリクロロメチル，フルオロメチル，ジフルオロメチル，トリフルオロメチルなどのＣ１−６ハロアルキル基などで置換されてもよい）フェニル基、（任意の位置が、フッ素，塩素，臭素，沃素などのハロゲン原子、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，ｔ−ブチルなどのＣ１−６アルキル基、メトキシ，エトキシ，プロポキシ，イソプロポキシ，ブトキシ，ｔ−ブトキシなどのＣ１−６アルコキシ基、クロロメチル，ジクロロメチル，トリクロロメチル，フルオロメチル，ジフルオロメチル，トリフルオロメチルなどのＣ１−６ハロアルキル基などで置換されてもよい）１−ナフチル，２−ナフチルなどのナフチル基などの無置換フェニル基を除く置換されてもよいアリール基、（環部の任意の位置が、フッ素，塩素，臭素，沃素などのハロゲン原子、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，ｔ−ブチルなどのＣ１−６アルキル基、メトキシ，エトキシ、プロポキシ，イソプロポキシ，ブトキシ，ｔ−ブトキシなどのＣ１−６アルコキシ基、クロロメチル，ジクロロメチル，トリクロロメチル，フルオロメチル，ジフルオロメチル，トリフルオロメチルなどのＣ１−６ハロアルキル基などで置換されてもよい）ベンジル，フェネチル，１−ナフチルメチル，２−ナフチルメチルなどのＣ７−１６アラルキル基を表す。但し、Ｒ１は無置換フェニル基ではない。
【００２７】
Ｒ２は、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，イソブチル，ｓ−ブチル，ｔ−ブチルなどのＣ１−６アルキル基、（任意の位置に、フッ素，塩素，臭素，沃素などのハロゲン原子、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，ｔ−ブチルなどのＣ１−６アルキル基、メトキシ，エトキシ，プロポキシ，イソプロポキシ，ブトキシ，ｔ−ブトキシなどのＣ１−６アルコキシ基、クロロメチル，ジクロロメチル，トリクロロメチル，フルオロメチル，ジフルオロメチル，トリフルオロメチルなどのＣ１−６ハロアルキル基などで置換されてもよい）フェニル基、（任意の位置に、フッ素，塩素，臭素，沃素などのハロゲン原子、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，ｔ−ブチルなどのＣ１−６アルキル基、メトキシ，エトキシ，プロポキシ，イソプロポキシ，ブトキシ，ｔ−ブトキシなどのＣ１−６アルコキシ基、クロロメチル，ジクロロメチル，トリクロロメチル，フルオロメチル，ジフルオロメチル，トリフルオロメチルなどのＣ１−６ハロアルキル基などで置換されてもよい）ナフチル基などの置換されてもよいアリール基を表す。
【００２８】
Ｒ３は、エテニル，１−プロペニル，２−プロペニル，１−ブテニル，２−ブテニル，３−ブテニルなどのＣ２−６アルケニル基またはエチニル，１−プロピニル，２−プロピニル，１−ブチニル，２−ブチニル，３−ブチニルなどのＣ２−６アルキニル基を表す。
ＸおよびＨａｌは、塩素原子，臭素原子などのハロゲン原子を表す。
【００２９】
次に本発明の製造法について説明する。
（ａ）一般式（２）で表される３−ハロ−２−イソオキサゾリンの製造法
製造法ａ−１ ニトリルオキシド法
【００３０】
【化８】
【００３１】
（式中、Ｘは、前記と同じ意味を表す。）
このニトリルオキシド法は、一般的にはジハロホルムアルドキシムを塩基によりハロニトリルオキシドを発生させ、エチレンと反応を行い生成物を得るが、ハロゲンの種類により反応方法が異なる。即ち、クロルニトリルオキシドの場合は加圧下で行うことが望ましく、ブロムニトリルオキシドの場合は反応系中にエチレンを吹き込みながら、同時に塩基を添加する必要がある。この場合、塩基を添加した後にエチレンを吹き込むと、ブロムニトリルオキシドの２量体がメイン生成物となり、目的物の得量は低下する。ニトリルオキシドを発生させるときに使用する塩基は、炭酸水素カリウムが望ましく、反応溶媒には、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ），ジオキサン，ジメトキシエタンなどのエーテル系を用い、適量の水の存在も必要である。
ハロニトリルオキシドは、グリオキシル酸オキシムに、Ｎ−クロロスクシンイミド（ＮＣＳ），次亜塩素酸ｔ−ブチル，Ｎ−ブロムスクシンイミド（ＮＢＳ）などのハロゲン化剤をエーテル系溶媒中で反応させ、塩基の存在下に発生させるが、通常、取り出すことなく、そのまま次の反応に供する。
【００３２】
製造法ａ−２ ３−イソオキサゾリドンをハロゲン化する方法
【００３３】
【化９】
【００３４】
（式中、Ｘは、前記と同じ意味を表す。）
３−イソオキサゾリドンの塩素化剤として、五塩化リン，オキシ塩化リン、臭素化剤として三臭化リンなどを使用し、無溶媒で反応を行うこともできる。
溶媒を用いる場合は、ハロゲン化剤と反応しない溶媒、例えば、トルエン、クロルベンゼン等の芳香族系溶媒、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素などが望ましい。
【００３５】
（ｂ）一般式（１）で表される３−スルホニル−２−イソオキサゾリンの製造法
製造法ｂ−１
【００３６】
【化１０】
【００３７】
（式中、Ｘ，Ｚ，Ｒは、前記と同じ意味を表す。）
本製造法は、３−ハロ−２−イソオキサゾリン（２）のスルフィン酸類（３）による直接のスルホニル化であり、スルフィン酸との反応では、ハロゲン化水素の補足剤の存在下で行い、スルフィン酸塩の場合は直接反応できる。
反応溶媒は、メタノール，エタノール，プロパノールなどのアルコール類、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）などのエーテル類、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）などの極性溶媒が使用でき、またそれらの混合物でもよく、水との混合も可能である。
反応温度は、室温から溶媒の沸点の範囲で選択できる。
【００３８】
製造法ｂ−２
【００３９】
【化１１】
【００４０】
（式中、ＸおよびＲは、前記と同じ意味を表す。）
本製造法は、３−ハロ−２−イソオキサゾリン（２）にチオール類（４）を反応させてスルフィド（５）を合成し、その酸化によって得る方法である。
反応溶媒は、メタノール，エタノール，プロパノールなどのアルコール類、ＴＨＦなどのエーテル類、ＤＭＦなどの極性溶媒、酢酸などが使用でき、またそれらの混合物でもよく、水との混合も可能である。
酸化剤は、ｍ−クロロ過安息香酸のような有機過酸化物、過酸化水素のような無機過酸化物が使用できる。
反応温度は、室温から溶媒の沸点の範囲で選択できる。
【００４１】
（ｃ）一般式（７）で表される化合物の製造法
製造法ｃ
【００４２】
【化１２】
【００４３】
（式中、Ｒ２，Ｒ３，Ｈａｌは、前記と同じ意味を表す。）
本製造法は、３−スルホニル−２−イソオキサゾリン類（１−２）とグリニヤ試薬（６）との反応から一般式（７）で表される化合物を製造する。
反応溶媒は、ジエチルエーテル，テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）などのエーテル類、ベンゼン，トルエン，キシレンなどの芳香族炭化水素類、またはそれらの混合溶媒が用いられる。
反応温度は、室温あるいは必要があれば、反応溶媒の沸点まで加熱してもよい。
本発明において、反応終了後は、通常の後処理を行うことにより目的物を得ることができる。
本発明に係わる化合物の構造は、ＩＲ，ＮＭＲおよびＭＳなどから決定した。
【００４４】
［実施例］
次に、実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。
【実施例１】
【００４５】
３−クロロ−２−イソオキサゾリンの製造
【００４６】
【化１３】
【００４７】
グリオキシル酸オキシム２６．７ｇをジメトキシエタン３００ｍｌに溶解させた溶液に、室温でＮＣＳ８０．１ｇを加え、２０分間加熱還流した。その後、反応混合物を室温まで冷却して、炭酸水素カリウム１２０ｇと水６ｍｌとを加え、この溶液を１ｌガラスオートクレーブの容器に移し、エチレンを充填して、室温で２０時間攪拌した。不溶物を濾過し、濾液を氷水に注加して、ジエチルエーテルで抽出を行い、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して残った油状物を減圧蒸留することによって３−クロロ−２−イソオキサゾリン１７．７ｇを得た。
ｂ．ｐ．：７６℃／２７ｍｍＨｇ、ｎＤ２４．３：１．４６２８
【実施例２】
【００４８】
３−クロロ−２−イソオキサゾリンの製造
【００４９】
【化１４】
【００５０】
３−イソオキサゾリドン０．６ｇと五塩化リン１．４ｇの混合物を６０℃で１時間攪拌した。その後、反応混合物を室温まで冷却し、次いで氷水に注加して、ジエチルエーテルで抽出を行い、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して残った油状物を減圧蒸留することによって、３−クロロ−２−イソオキサゾリン０．３ｇを得た。実施例１の方法で得られた生成物と同一物であった。
【実施例３】
【００５１】
３−ブロム−２−イソオキサゾリンの製造
【００５２】
【化１５】
【００５３】
グリオキシル酸オキシム２６．７ｇをジメトキシエタン３００ｍｌに溶解させ、水を９０ｍｌ加え、冷却下Ｎ−ブロムコハク酸イミド１０６．８ｇを加え、室温で２０分間攪拌した後、エチレンガスを室温で吹き込みながら炭酸水素カリウム１２０ｇを３０分間で加え、この溶液を室温で４時間攪拌した。不溶物を濾過し、濾液を氷水に注加して、ジエチルエーテルで抽出を行い、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して残った油状物を減圧蒸留することによって、３−ブロム−２−イソオキサゾリン１３．４ｇを得た。
ｂ．ｐ．：１０１℃／３０ｍｍＨｇ、ｎＤ１８．９：１．５３５３
【実施例４】
【００５４】
３−（４−トルエンスルホニル）−２−イソオキサゾリンの製造
【００５５】
【化１６】
【００５６】
３−ブロモ−２−イソオキサゾリン１．０ｇと４−トルエンスルフィン酸ソーダ四水塩１．８ｇをＤＭＦ１０ｍｌに溶解させた後、１１０℃で１８時間攪拌した。その後、室温まで冷却し、反応液を氷水に注加して、酢酸エチルで抽出を行い、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して残った結晶をｎ−ヘキサンで洗浄することによって、３−（４−トルエンスルホニル）−２−イソオキサゾリン１．０２ｇを得た。
ｍ．ｐ．：７５−７６℃
【実施例５】
【００５７】
３−ベンゼンスルホニル−２−イソオキサゾリンの製造
【００５８】
【化１７】
【００５９】
３−ブロモ−２−イソオキサゾリン１０．０ｇとベンゼンスルフィン酸ソーダ一水塩２０．０ｇをＤＭＦ１０ｍｌ、水４０ｍｌに溶解させた後、２４時間加熱還流した。その後、室温まで冷却し、反応液を氷水に注加して、酢酸エチルで抽出を行い、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して残った結晶をｎ−ヘキサンで洗浄することによって、３−ベンゼンスルホニル−２−イソオキサゾリン８．４ｇを得た。
ｍ．ｐ．：９６−９７℃
【実施例６】
【００６０】
３−フェニルチオ−２−イソオキサゾリンの製造
【００６１】
【化１８】
【００６２】
メタノール７００ｍｌに金属ナトリウム４．２ｇを還流下に小量ずつ加えた。金属ナトリウムが消失したら、室温まで冷却し、チオフェノール２０．０ｇと３−クロロ−２−イソオキサゾリン１２．８ｇを加え、１８時間加熱還流した。その後、室温まで冷却し反応液を氷水に注加して、酢酸エチルで抽出を行い、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して残った油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによって、３−フェニルチオ−２−イソオキサゾリン１８．４ｇを得た。
ｎＤ２０．８：１．５９３５
３−ベンゼンスルホニル−２−イソオキサゾリンの製造
３−フェニルチオ−２−イソオキサゾリン１８．０ｇを酢酸２００ｍｌに溶解し室温で３０％過酸化水素水溶液３４．２ｇを滴下し、その後１時間加熱還流した。その後、室温まで冷却し、反応液を氷水に注加して、酢酸エチルで抽出を行い、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して残った結晶をｎ−ヘキサンで洗浄することによって、３−ベンゼンスルホニル−２−イソオキサゾリン８．４ｇを得た。
ｍ．ｐ．：９６−９７℃
【実施例７】
【００６３】
３−メチルチオ−２−イソオキサゾリンの製造
【００６４】
【化１９】
【００６５】
メタノール７０ｍｌに金属ナトリウム０．４２ｇを還流下に小量ずつ加えた。金属ナトリウムが消失したら、室温まで冷却し、メタンチオール１．４４ｇと３−クロロ−２−イソオキサゾリン１．９ｇを加え、１時間加熱還流した。その後、室温まで冷却し反応液を氷水に注加して、酢酸エチルで抽出を行い、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して残った油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによって、３−メチルチオ−２−イソオキサゾリン１．６１ｇを得た。これを反応に用いた。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）、δ（ｐｐｍ）：
４．３９（ｔ，２Ｈ），３．０５（ｔ，２Ｈ），２．５１（ｓ，３Ｈ）
３−メタンスルホニル−２−イソオキサゾリンの製造
３−メチルチオ−２−イソオキサゾリン１．６ｇを酢酸２０ｍｌに溶解し、室温で３０％過酸化水素水溶液５．０ｇを滴下し、その後１時間加熱還流した。その後室温まで冷却し、反応液を氷水に注加して、酢酸エチルで抽出を行い、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して残った油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによって、３−メタンスルホニル−２−イソオキサゾリン１．５ｇを得た。
ｎＤ２０．９：１．４７４６
【実施例８】
【００６６】
３−（１−プロピニル）−２−イソオキサゾリンの製造
【００６７】
【化２０】
【００６８】
３−ベンゼンスルホニル−２−イソオキサゾリン１０．０ｇを乾燥ＴＨＦ５０ｍｌに溶解し、室温で０．５Ｍの１−プロピンマグネシウムブロミドＴＨＦ溶液１９０ｍｌを滴下後、７時間加熱還流した。その後、室温まで冷却し、反応液を１Ｎ塩酸水溶液に注加して、酢酸エチルで抽出を行い、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して残った油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによって、３−（１−プロピニル）−２−イソオキサゾリン４．９ｇを得た。
ｂ．ｐ．：５５−５７℃／０．２ｍｍＨｇ
【実施例９】
【００６９】
３−（１−プロペニル）−２−イソオキサゾリンの製造
【００７０】
【化２１】
【００７１】
マグネシウム粉末０．４６ｇを乾燥ＴＨＦ１６ｍｌ、乾燥エチルエーテル８ｍｌに懸濁させ、還流下に、ｃｉｓ−１−プロペニルブロミド２．３ｇを滴下後、１時間加熱還流した。その後、室温まで冷却し、３−ベンゼンスルホニル−２−イソオキサゾリン１．０ｇを乾燥ＴＨＦ６ｍｌに溶解した溶液を冷却下に滴下後、１時間加熱還流した。その後、室温まで冷却し、反応液を１Ｎ塩酸水溶液に注加して、酢酸エチルで抽出を行い、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して残った油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによって、３−（１−プロペニル）−２−イソオキサゾリン０．４ｇを得た。この化合物は、ｃｉｓ：ｔｒａｎｓ＝１：１（ＮＭＲ）の混合物であった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δｐｐｍ）：
ｃｉｓ ６．１５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），５．９４（ｍ，１Ｈ），４．３６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），３．１７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），１．９５（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）
ｔｒａｎｓ ６．４２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．６Ｈｚ），６．０（ｍ，１Ｈ），４．３２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝９．５Ｈｚ），３．１３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝９．５Ｈｚ），１．８９（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）
【実施例１０】
【００７２】
３−（１−プロピニル）−２−イソオキサゾリンの製造
【００７３】
【化２２】
【００７４】
３−メタンスルホニル−２−イソオキサゾリン１．０ｇを乾燥ＴＨＦ５ｍｌに溶解し、室温で０．５Ｍ１−プロピンマグネシウムブロミドのＴＨＦ溶液２７ｍｌを滴下後、１時間加熱還流した。その後、室温まで冷却し、反応液を１Ｎ塩酸水溶液に注加して、酢酸エチルで抽出を行い、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して残った油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによって、３−（１−プロピニル）−２−イソオキサゾリン０．７ｇを得た。
ｂ．ｐ．：５５−５７℃／０．２ｍｍＨｇ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、３位に置換基を有する２−イソオキサゾリン化合物及びそれらに関する製造法に関する。詳しくは、３−ハロ−２−イソオキサゾリンおよび３−スルホニル−２−イソオキサゾリン化合物とそれらの製造法、並びに３−スルホニル−２−イソオキサゾリンからの３−アルケニルもしくはアルキニル−２−イソオキサゾリンの製造法に関する。
【背景技術】
【０００２】
３−ハロ−２−イソオキサゾリン類の製造法は、相当するニトリルオキシドを経由する方法が一般的に知られている。例えば、非特許文献１によると５位に各種置換基を有する３−ハロ−２−イソオキサゾリンが合成されている。
また、特許文献１には、５位に置換基を有するハロ−イソオキサゾールの製造と共に５−フェニル−３−クロル−２−イソオキサゾリンの製造が記載されている。
しかし、上記の文献には本発明化合物である置換基を持たない３−ハロ−２−イソオキサゾリンの記載はない。
３−スルホニル−２−イソオキサゾリンは、３−ニトロ−２−イソオキサゾリンとベンゼンスルフィン酸ソーダとの反応で得られることが報告されている（非特許文献２）が、適用範囲が限られ、しかも反応収率は、２８％と低い。
また、３位にアルケニル基，アルキニル基等の不飽和基を有する２−イソオキサゾリンの製造法に関しては、従来、ニトロビニル体から、脱酸素剤としてフェニルイソシアナートを使用して発生させたニトリルオキシドとオレフィンとを反応させて得る方法（非特許文献３）が知られている。しかしながらオレフィン類を用いることにより、生成するニトリルオキシドが重合するため適用性が低く、３位の置換基が著しく限定される。
また、３−ニトロイソオキサゾリンと１−プロピンリチウムとの反応（非特許文献４）も知られているが、プロピンリチウムを用いる点で一般的ではない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】ＳＵ １７０７０１６（ＣＡ １１７ ９０２６８）
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】Ｋ．Ｈａｌｌｉｎｇ：Ｌｉｅｂｉｇｓ Ａｎｎ．Ｃｈｅｍ．１９８９ ９８５−９９０
【非特許文献２】Ｐ．Ａ．Ｗａｄｅ：Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４３，２０２０−２０２３（１９７８）
【非特許文献３】Ａ．Ｂａｒａｎｓｋｉ：Ｐｏｌｉｓｈ Ｊ．Ｃｈｅｍ．，５５，１１８９（１９８１）
【非特許文献４】Ｐ．Ａ．Ｗａｄｅ：Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，３０，５９６９（１９８９）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、新規な３位に置換基を有する２−イソオキサゾリン化合物およびそれらの製造法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
詳しくは、
１）一般式（１−１）
【０００７】
【化１】
【０００８】
〔式中、Ｒ１は、Ｃ１−６アルキル基，Ｃ２−６アルケニル基，Ｃ２−６アルキニル基，置換されてもよいアリール基（ただし、無置換フェニル基は除く。）または置換されてもよいＣ７−１６アラルキル基を表す。〕で表される化合物、
【０００９】
２）一般式（２）
【００１０】
【化２】
【００１１】
（式中、Ｘは、ハロゲン原子を表す。）で表される化合物と一般式（３）
ＲＳＯ２Ｚ （３）
（式中、Ｒは、Ｃ１−６アルキル基，Ｃ２−６アルケニル基，Ｃ２−６アルキニル基，置換されてもよいアリール基または置換されてもよいＣ７−１６アラルキル基を表し、Ｚは水素原子またはアルカリ金属原子を表す。）で表されるスルフィン酸もしくはそのアルカリ金属塩とを反応させることを特徴とする一般式（１）
【００１２】
【化３】
【００１３】
（式中、Ｒは、前記と同じ意味を表す。）で表される化合物の製造法、
【００１４】
３）一般式（２）
【００１５】
【化４】
【００１６】
（式中、Ｘは、ハロゲン原子を表す。）で表される化合物と一般式（４）
ＲＳＨ （４）
（式中、Ｒは、前記と同じ意味を表す。）で表されるチオール類とを反応させて一般式（５）
【００１７】
【化５】
【００１８】
（式中、Ｒは、前記と同じ意味を表す。）で表される化合物を得たのち、酸化することを特徴とする前記一般式（１）で表される化合物の製造法、
【００１９】
４）前記一般式（２）で表される３−ハロ−２−イソオキサゾリン、
５）次式
Ｘ−Ｃ≡Ｎ→Ｏ （式中、Ｘは、ハロゲン原子を表す。）
で表されるハロニトリルオキシドとエチレンを反応させることを特徴とする前記一般式（２）で表される３−ハロ−２−イソオキサゾリンの製造法、
６）３−イソオキサゾリドンにハロゲン化剤を反応させることを特徴とする前記一般式（２）で表される３−ハロ−２−イソオキサゾリンの製造法、および、
【００２０】
７）一般式（１−２）
【００２１】
【化６】
【００２２】
（式中、Ｒ２は、Ｃ１−６アルキル基または置換されてもよいアリール基を表す。）
で表される化合物と一般式（６）
Ｒ３Ｍｇ−Ｈａｌ （６）
（式中、Ｒ３は、Ｃ２−６アルケニル基またはＣ２−６アルキニル基を、Ｈａｌは、ハロゲン原子を表す。）とを反応させることを特徴とする一般式（７）
【００２３】
【化７】
【００２４】
（式中、Ｒ３は、前記と同じ意味を表す。）で表される化合物の製造法である。
【発明の効果】
【００２５】
本発明において、置換基を持たない３−ハロ−２−イソオキサゾリンを提供できる。
本発明では、本発明の３−ハロ−２−イソオキサゾリンとアルキルスルフィン酸、アリールスルフィン酸またはその塩との反応を行うか、チオールとの反応生成物であるスルフィドを酸化することにより容易に３−スルホニル−２−イソオキサゾリン化合物を得ることができる。
３−スルホニル−２−イソオキサゾリン化合物は、スルホニル基が容易に求核置換反応を受けることにより種々の有用な化合物に誘導することができる。
本発明では、３−スルホニル−２−イソオキサゾリン化合物を用いて、容易に３位に不飽和基を有する２−イソオキサゾリンを得ることができる。
イソオキサゾリン環は、還元によりアミノアルコール、また加水分解でヒドロキシケトンが生成するので、前駆体として極めて重要な化合物であり、生理活性発現骨格としても知られていて多くの例がある。
例えば、本発明で得られる化合物は、生理活性を有するアミノ糖合成の鍵中間体であることが知られている。（Ｐ．Ａ．Ｗａｄｅ：Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，６２，３６７１（１９９７））
また、イソオキサゾリンを置換基とする化合物は除草作用を有することが知られている。（ＷＯ９６／２６２０６号，ＷＯ９８／３１６８１号など）
更に、特開平１−２４９７９０号公報には殺虫・殺ダニ剤としての利用例も知られている。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
本発明において、ＲおよびＲ１は、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，イソブチル，ｓ−ブチル，ｔ−ブチルなどのＣ１−６アルキル基、エテニル，１−プロペニル，２−プロペニルなどのＣ２−６アルケニル基、エチニル，１−プロピニル，２−プロペニルなどのＣ２−６アルキニル基、（任意の位置が、フッ素，塩素，臭素，沃素などのハロゲン原子、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，ｔ−ブチルなどのＣ１−６アルキル基、メトキシ，エトキシ，プロポキシ，イソプロポキシ，ブトキシ，ｔ−ブトキシなどのＣ１−６アルコキシ基、クロロメチル，ジクロロメチル，トリクロロメチル，フルオロメチル，ジフルオロメチル，トリフルオロメチルなどのＣ１−６ハロアルキル基などで置換されてもよい）フェニル基、（任意の位置が、フッ素，塩素，臭素，沃素などのハロゲン原子、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，ｔ−ブチルなどのＣ１−６アルキル基、メトキシ，エトキシ，プロポキシ，イソプロポキシ，ブトキシ，ｔ−ブトキシなどのＣ１−６アルコキシ基、クロロメチル，ジクロロメチル，トリクロロメチル，フルオロメチル，ジフルオロメチル，トリフルオロメチルなどのＣ１−６ハロアルキル基などで置換されてもよい）１−ナフチル，２−ナフチルなどのナフチル基などの無置換フェニル基を除く置換されてもよいアリール基、（環部の任意の位置が、フッ素，塩素，臭素，沃素などのハロゲン原子、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，ｔ−ブチルなどのＣ１−６アルキル基、メトキシ，エトキシ、プロポキシ，イソプロポキシ，ブトキシ，ｔ−ブトキシなどのＣ１−６アルコキシ基、クロロメチル，ジクロロメチル，トリクロロメチル，フルオロメチル，ジフルオロメチル，トリフルオロメチルなどのＣ１−６ハロアルキル基などで置換されてもよい）ベンジル，フェネチル，１−ナフチルメチル，２−ナフチルメチルなどのＣ７−１６アラルキル基を表す。但し、Ｒ１は無置換フェニル基ではない。
【００２７】
Ｒ２は、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，イソブチル，ｓ−ブチル，ｔ−ブチルなどのＣ１−６アルキル基、（任意の位置に、フッ素，塩素，臭素，沃素などのハロゲン原子、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，ｔ−ブチルなどのＣ１−６アルキル基、メトキシ，エトキシ，プロポキシ，イソプロポキシ，ブトキシ，ｔ−ブトキシなどのＣ１−６アルコキシ基、クロロメチル，ジクロロメチル，トリクロロメチル，フルオロメチル，ジフルオロメチル，トリフルオロメチルなどのＣ１−６ハロアルキル基などで置換されてもよい）フェニル基、（任意の位置に、フッ素，塩素，臭素，沃素などのハロゲン原子、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，ｔ−ブチルなどのＣ１−６アルキル基、メトキシ，エトキシ，プロポキシ，イソプロポキシ，ブトキシ，ｔ−ブトキシなどのＣ１−６アルコキシ基、クロロメチル，ジクロロメチル，トリクロロメチル，フルオロメチル，ジフルオロメチル，トリフルオロメチルなどのＣ１−６ハロアルキル基などで置換されてもよい）ナフチル基などの置換されてもよいアリール基を表す。
【００２８】
Ｒ３は、エテニル，１−プロペニル，２−プロペニル，１−ブテニル，２−ブテニル，３−ブテニルなどのＣ２−６アルケニル基またはエチニル，１−プロピニル，２−プロピニル，１−ブチニル，２−ブチニル，３−ブチニルなどのＣ２−６アルキニル基を表す。
ＸおよびＨａｌは、塩素原子，臭素原子などのハロゲン原子を表す。
【００２９】
次に本発明の製造法について説明する。
（ａ）一般式（２）で表される３−ハロ−２−イソオキサゾリンの製造法
製造法ａ−１ ニトリルオキシド法
【００３０】
【化８】
【００３１】
（式中、Ｘは、前記と同じ意味を表す。）
このニトリルオキシド法は、一般的にはジハロホルムアルドキシムを塩基によりハロニトリルオキシドを発生させ、エチレンと反応を行い生成物を得るが、ハロゲンの種類により反応方法が異なる。即ち、クロルニトリルオキシドの場合は加圧下で行うことが望ましく、ブロムニトリルオキシドの場合は反応系中にエチレンを吹き込みながら、同時に塩基を添加する必要がある。この場合、塩基を添加した後にエチレンを吹き込むと、ブロムニトリルオキシドの２量体がメイン生成物となり、目的物の得量は低下する。ニトリルオキシドを発生させるときに使用する塩基は、炭酸水素カリウムが望ましく、反応溶媒には、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ），ジオキサン，ジメトキシエタンなどのエーテル系を用い、適量の水の存在も必要である。
ハロニトリルオキシドは、グリオキシル酸オキシムに、Ｎ−クロロスクシンイミド（ＮＣＳ），次亜塩素酸ｔ−ブチル，Ｎ−ブロムスクシンイミド（ＮＢＳ）などのハロゲン化剤をエーテル系溶媒中で反応させ、塩基の存在下に発生させるが、通常、取り出すことなく、そのまま次の反応に供する。
【００３２】
製造法ａ−２ ３−イソオキサゾリドンをハロゲン化する方法
【００３３】
【化９】
【００３４】
（式中、Ｘは、前記と同じ意味を表す。）
３−イソオキサゾリドンの塩素化剤として、五塩化リン，オキシ塩化リン、臭素化剤として三臭化リンなどを使用し、無溶媒で反応を行うこともできる。
溶媒を用いる場合は、ハロゲン化剤と反応しない溶媒、例えば、トルエン、クロルベンゼン等の芳香族系溶媒、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素などが望ましい。
【００３５】
（ｂ）一般式（１）で表される３−スルホニル−２−イソオキサゾリンの製造法
製造法ｂ−１
【００３６】
【化１０】
【００３７】
（式中、Ｘ，Ｚ，Ｒは、前記と同じ意味を表す。）
本製造法は、３−ハロ−２−イソオキサゾリン（２）のスルフィン酸類（３）による直接のスルホニル化であり、スルフィン酸との反応では、ハロゲン化水素の補足剤の存在下で行い、スルフィン酸塩の場合は直接反応できる。
反応溶媒は、メタノール，エタノール，プロパノールなどのアルコール類、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）などのエーテル類、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）などの極性溶媒が使用でき、またそれらの混合物でもよく、水との混合も可能である。
反応温度は、室温から溶媒の沸点の範囲で選択できる。
【００３８】
製造法ｂ−２
【００３９】
【化１１】
【００４０】
（式中、ＸおよびＲは、前記と同じ意味を表す。）
本製造法は、３−ハロ−２−イソオキサゾリン（２）にチオール類（４）を反応させてスルフィド（５）を合成し、その酸化によって得る方法である。
反応溶媒は、メタノール，エタノール，プロパノールなどのアルコール類、ＴＨＦなどのエーテル類、ＤＭＦなどの極性溶媒、酢酸などが使用でき、またそれらの混合物でもよく、水との混合も可能である。
酸化剤は、ｍ−クロロ過安息香酸のような有機過酸化物、過酸化水素のような無機過酸化物が使用できる。
反応温度は、室温から溶媒の沸点の範囲で選択できる。
【００４１】
（ｃ）一般式（７）で表される化合物の製造法
製造法ｃ
【００４２】
【化１２】
【００４３】
（式中、Ｒ２，Ｒ３，Ｈａｌは、前記と同じ意味を表す。）
本製造法は、３−スルホニル−２−イソオキサゾリン類（１−２）とグリニヤ試薬（６）との反応から一般式（７）で表される化合物を製造する。
反応溶媒は、ジエチルエーテル，テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）などのエーテル類、ベンゼン，トルエン，キシレンなどの芳香族炭化水素類、またはそれらの混合溶媒が用いられる。
反応温度は、室温あるいは必要があれば、反応溶媒の沸点まで加熱してもよい。
本発明において、反応終了後は、通常の後処理を行うことにより目的物を得ることができる。
本発明に係わる化合物の構造は、ＩＲ，ＮＭＲおよびＭＳなどから決定した。
【００４４】
［実施例］
次に、実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。
【実施例１】
【００４５】
３−クロロ−２−イソオキサゾリンの製造
【００４６】
【化１３】
【００４７】
グリオキシル酸オキシム２６．７ｇをジメトキシエタン３００ｍｌに溶解させた溶液に、室温でＮＣＳ８０．１ｇを加え、２０分間加熱還流した。その後、反応混合物を室温まで冷却して、炭酸水素カリウム１２０ｇと水６ｍｌとを加え、この溶液を１ｌガラスオートクレーブの容器に移し、エチレンを充填して、室温で２０時間攪拌した。不溶物を濾過し、濾液を氷水に注加して、ジエチルエーテルで抽出を行い、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して残った油状物を減圧蒸留することによって３−クロロ−２−イソオキサゾリン１７．７ｇを得た。
ｂ．ｐ．：７６℃／２７ｍｍＨｇ、ｎＤ２４．３：１．４６２８
【実施例２】
【００４８】
３−クロロ−２−イソオキサゾリンの製造
【００４９】
【化１４】
【００５０】
３−イソオキサゾリドン０．６ｇと五塩化リン１．４ｇの混合物を６０℃で１時間攪拌した。その後、反応混合物を室温まで冷却し、次いで氷水に注加して、ジエチルエーテルで抽出を行い、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して残った油状物を減圧蒸留することによって、３−クロロ−２−イソオキサゾリン０．３ｇを得た。実施例１の方法で得られた生成物と同一物であった。
【実施例３】
【００５１】
３−ブロム−２−イソオキサゾリンの製造
【００５２】
【化１５】
【００５３】
グリオキシル酸オキシム２６．７ｇをジメトキシエタン３００ｍｌに溶解させ、水を９０ｍｌ加え、冷却下Ｎ−ブロムコハク酸イミド１０６．８ｇを加え、室温で２０分間攪拌した後、エチレンガスを室温で吹き込みながら炭酸水素カリウム１２０ｇを３０分間で加え、この溶液を室温で４時間攪拌した。不溶物を濾過し、濾液を氷水に注加して、ジエチルエーテルで抽出を行い、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して残った油状物を減圧蒸留することによって、３−ブロム−２−イソオキサゾリン１３．４ｇを得た。
ｂ．ｐ．：１０１℃／３０ｍｍＨｇ、ｎＤ１８．９：１．５３５３
【実施例４】
【００５４】
３−（４−トルエンスルホニル）−２−イソオキサゾリンの製造
【００５５】
【化１６】
【００５６】
３−ブロモ−２−イソオキサゾリン１．０ｇと４−トルエンスルフィン酸ソーダ四水塩１．８ｇをＤＭＦ１０ｍｌに溶解させた後、１１０℃で１８時間攪拌した。その後、室温まで冷却し、反応液を氷水に注加して、酢酸エチルで抽出を行い、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して残った結晶をｎ−ヘキサンで洗浄することによって、３−（４−トルエンスルホニル）−２−イソオキサゾリン１．０２ｇを得た。
ｍ．ｐ．：７５−７６℃
【実施例５】
【００５７】
３−ベンゼンスルホニル−２−イソオキサゾリンの製造
【００５８】
【化１７】
【００５９】
３−ブロモ−２−イソオキサゾリン１０．０ｇとベンゼンスルフィン酸ソーダ一水塩２０．０ｇをＤＭＦ１０ｍｌ、水４０ｍｌに溶解させた後、２４時間加熱還流した。その後、室温まで冷却し、反応液を氷水に注加して、酢酸エチルで抽出を行い、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して残った結晶をｎ−ヘキサンで洗浄することによって、３−ベンゼンスルホニル−２−イソオキサゾリン８．４ｇを得た。
ｍ．ｐ．：９６−９７℃
【実施例６】
【００６０】
３−フェニルチオ−２−イソオキサゾリンの製造
【００６１】
【化１８】
【００６２】
メタノール７００ｍｌに金属ナトリウム４．２ｇを還流下に小量ずつ加えた。金属ナトリウムが消失したら、室温まで冷却し、チオフェノール２０．０ｇと３−クロロ−２−イソオキサゾリン１２．８ｇを加え、１８時間加熱還流した。その後、室温まで冷却し反応液を氷水に注加して、酢酸エチルで抽出を行い、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して残った油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによって、３−フェニルチオ−２−イソオキサゾリン１８．４ｇを得た。
ｎＤ２０．８：１．５９３５
３−ベンゼンスルホニル−２−イソオキサゾリンの製造
３−フェニルチオ−２−イソオキサゾリン１８．０ｇを酢酸２００ｍｌに溶解し室温で３０％過酸化水素水溶液３４．２ｇを滴下し、その後１時間加熱還流した。その後、室温まで冷却し、反応液を氷水に注加して、酢酸エチルで抽出を行い、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して残った結晶をｎ−ヘキサンで洗浄することによって、３−ベンゼンスルホニル−２−イソオキサゾリン８．４ｇを得た。
ｍ．ｐ．：９６−９７℃
【実施例７】
【００６３】
３−メチルチオ−２−イソオキサゾリンの製造
【００６４】
【化１９】
【００６５】
メタノール７０ｍｌに金属ナトリウム０．４２ｇを還流下に小量ずつ加えた。金属ナトリウムが消失したら、室温まで冷却し、メタンチオール１．４４ｇと３−クロロ−２−イソオキサゾリン１．９ｇを加え、１時間加熱還流した。その後、室温まで冷却し反応液を氷水に注加して、酢酸エチルで抽出を行い、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して残った油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによって、３−メチルチオ−２−イソオキサゾリン１．６１ｇを得た。これを反応に用いた。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）、δ（ｐｐｍ）：
４．３９（ｔ，２Ｈ），３．０５（ｔ，２Ｈ），２．５１（ｓ，３Ｈ）
３−メタンスルホニル−２−イソオキサゾリンの製造
３−メチルチオ−２−イソオキサゾリン１．６ｇを酢酸２０ｍｌに溶解し、室温で３０％過酸化水素水溶液５．０ｇを滴下し、その後１時間加熱還流した。その後室温まで冷却し、反応液を氷水に注加して、酢酸エチルで抽出を行い、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して残った油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによって、３−メタンスルホニル−２−イソオキサゾリン１．５ｇを得た。
ｎＤ２０．９：１．４７４６
【実施例８】
【００６６】
３−（１−プロピニル）−２−イソオキサゾリンの製造
【００６７】
【化２０】
【００６８】
３−ベンゼンスルホニル−２−イソオキサゾリン１０．０ｇを乾燥ＴＨＦ５０ｍｌに溶解し、室温で０．５Ｍの１−プロピンマグネシウムブロミドＴＨＦ溶液１９０ｍｌを滴下後、７時間加熱還流した。その後、室温まで冷却し、反応液を１Ｎ塩酸水溶液に注加して、酢酸エチルで抽出を行い、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して残った油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによって、３−（１−プロピニル）−２−イソオキサゾリン４．９ｇを得た。
ｂ．ｐ．：５５−５７℃／０．２ｍｍＨｇ
【実施例９】
【００６９】
３−（１−プロペニル）−２−イソオキサゾリンの製造
【００７０】
【化２１】
【００７１】
マグネシウム粉末０．４６ｇを乾燥ＴＨＦ１６ｍｌ、乾燥エチルエーテル８ｍｌに懸濁させ、還流下に、ｃｉｓ−１−プロペニルブロミド２．３ｇを滴下後、１時間加熱還流した。その後、室温まで冷却し、３−ベンゼンスルホニル−２−イソオキサゾリン１．０ｇを乾燥ＴＨＦ６ｍｌに溶解した溶液を冷却下に滴下後、１時間加熱還流した。その後、室温まで冷却し、反応液を１Ｎ塩酸水溶液に注加して、酢酸エチルで抽出を行い、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して残った油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによって、３−（１−プロペニル）−２−イソオキサゾリン０．４ｇを得た。この化合物は、ｃｉｓ：ｔｒａｎｓ＝１：１（ＮＭＲ）の混合物であった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δｐｐｍ）：
ｃｉｓ ６．１５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），５．９４（ｍ，１Ｈ），４．３６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），３．１７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），１．９５（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）
ｔｒａｎｓ ６．４２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．６Ｈｚ），６．０（ｍ，１Ｈ），４．３２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝９．５Ｈｚ），３．１３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝９．５Ｈｚ），１．８９（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）
【実施例１０】
【００７２】
３−（１−プロピニル）−２−イソオキサゾリンの製造
【００７３】
【化２２】
【００７４】
３−メタンスルホニル−２−イソオキサゾリン１．０ｇを乾燥ＴＨＦ５ｍｌに溶解し、室温で０．５Ｍ１−プロピンマグネシウムブロミドのＴＨＦ溶液２７ｍｌを滴下後、１時間加熱還流した。その後、室温まで冷却し、反応液を１Ｎ塩酸水溶液に注加して、酢酸エチルで抽出を行い、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して残った油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによって、３−（１−プロピニル）−２−イソオキサゾリン０．７ｇを得た。
ｂ．ｐ．：５５−５７℃／０．２ｍｍＨｇ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（２）
【化１】
（式中、Ｘは、ハロゲン原子を表す。）で表される３−ハロ−２−イソオキサゾリン。
【請求項２】
次式
Ｘ−Ｃ≡Ｎ→Ｏ （式中、Ｘは、ハロゲン原子を表す。）
で表されるハロニトリルオキシドとエチレンを反応させることを特徴とする請求項１に記載された３−ハロ−２−イソオキサゾリンの製造法。
【請求項３】
３−イソオキサゾリドンにハロゲン化剤を反応させることを特徴とする請求項１に記載された３−ハロ−２−イソオキサゾリンの製造法。
【請求項１】
一般式（２）
【化１】
（式中、Ｘは、ハロゲン原子を表す。）で表される３−ハロ−２−イソオキサゾリン。
【請求項２】
次式
Ｘ−Ｃ≡Ｎ→Ｏ （式中、Ｘは、ハロゲン原子を表す。）
で表されるハロニトリルオキシドとエチレンを反応させることを特徴とする請求項１に記載された３−ハロ−２−イソオキサゾリンの製造法。
【請求項３】
３−イソオキサゾリドンにハロゲン化剤を反応させることを特徴とする請求項１に記載された３−ハロ−２−イソオキサゾリンの製造法。
【公開番号】特開２０１０−２０９１１５（Ｐ２０１０−２０９１１５Ａ）
【公開日】平成２２年９月２４日（２０１０．９．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１３７８７８（Ｐ２０１０−１３７８７８）
【出願日】平成２２年６月１７日（２０１０．６．１７）
【分割の表示】特願２０００−６００９９３（Ｐ２０００−６００９９３）の分割
【原出願日】平成１２年２月２４日（２０００．２．２４）
【出願人】（０００００４３０７）日本曹達株式会社 (434)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年９月２４日（２０１０．９．２４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年６月１７日（２０１０．６．１７）
【分割の表示】特願２０００−６００９９３（Ｐ２０００−６００９９３）の分割
【原出願日】平成１２年２月２４日（２０００．２．２４）
【出願人】（０００００４３０７）日本曹達株式会社 (434)
【Ｆターム（参考）】
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