イソソルビド系ポリアミドおよびその製造方法
【課題】熱分解温度およびガラス転移温度が高く、且つ成形加工が可能なイソソルビド系ポリアミドを提供すること。
【解決手段】下記式（１）
（式（１）中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒは炭素数１〜１４の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、炭素数１〜１４の直鎖状もしくは分岐状のアルケニレン基、炭素数３〜６のシクロアルキレン基、または２価の芳香族含有基を表す。）で表される繰り返し単位を含有することを特徴とするイソソルビド系ポリアミド。
【解決手段】下記式（１）
（式（１）中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒは炭素数１〜１４の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、炭素数１〜１４の直鎖状もしくは分岐状のアルケニレン基、炭素数３〜６のシクロアルキレン基、または２価の芳香族含有基を表す。）で表される繰り返し単位を含有することを特徴とするイソソルビド系ポリアミド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、イソソルビド系ポリアミドおよびその製造方法に関し、より詳しくは、イソソルビド骨格またはその誘導体骨格を含有する繰り返し単位を有するポリアミドおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
代表的なポリアミドであるナイロン６６は、ヘキサメチレンジアミンとアジピン酸とを重縮合させることによって得られるものであり、融点が高く、耐熱性に優れたポリアミドとして知られている。
【０００３】
近年、環境負荷低減の観点から、ナイロン６６のような人工的に合成された原料から製造されるポリアミドに代わるものとして、植物由来の原料から製造されたポリアミドが提案されている。例えば、化学工業日報、２００９年８月１２日発行、第８面（非特許文献１）には、ひまし油を原料としたポリアミド１１が開示されている。このポリアミド１１は炭素成分が１００％植物由来であるという点で注目されているものの、貯蔵弾性率（１．０４ＧＰａ）や剛性に劣り、さらに、ガラス転移温度（３７℃）が低いため、高温での機械的強度に劣るといった問題があった。
【０００４】
また、Ａ．Ｃａｏｕｔｈａｒら（非特許文献２）には、４，４’−ジアシルクロリド−１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−フェニル−Ｄ−ソルビトールと４，４’−ジアミノジフェニルスルホンとをマイクロ波を照射して合成したイソソルビド系ポリアミドが開示されている。このイソソルビド系ポリアミドは熱分解温度が高く、熱分解されにくいものの、１００〜２５０℃の温度範囲にはガラス転移温度が検出されず、成形加工が困難であるという問題があった。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】化学工業日報、２００９年８月１２日発行、第８面
【非特許文献２】Ａ．Ｃａｏｕｔｈａｒら、Ｅｕｒｏｐｅａｎ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｊｏｕｒｎａｌ、２００７年、第４３巻、２２０−２３０頁
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、熱分解温度およびガラス転移温度が高く、且つ成形加工が可能なイソソルビド系ポリアミドおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、特定の構造を有するジアミンとイソソルビド系ジカルボン酸とを重合させることによって、熱分解温度およびガラス転移温度が高く、且つ成形加工が可能なイソソルビド系ポリアミドが得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
すなわち、本発明のイソソルビド系ポリアミドは、下記式（１）：
【０００９】
【化１】
【００１０】
（式（１）中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒは炭素数１〜１４の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、炭素数１〜１４の直鎖状もしくは分岐状のアルケニレン基、炭素数３〜６のシクロアルキレン基、または下記式（２）：
【００１１】
【化２】
【００１２】
（式（２）中、Ｚは炭素数１〜１４の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、ＮＨ基を表し、ａは０または１である。）
で表される２価の芳香族含有基を表す。）
で表される繰り返し単位を含有することを特徴とするものである。
【００１３】
また、本発明のイソソルビド系ポリアミドの製造方法は、下記式（３）：
【００１４】
【化３】
【００１５】
（式（３）中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。）
で表されるイソソルビド系ジカルボン酸と、
下記式（４）：
Ｈ２Ｎ−Ｒ−ＮＨ２ （４）
（式（４）中、Ｒは炭素数１〜１４の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、炭素数１〜１４の直鎖状もしくは分岐状のアルケニレン基、炭素数３〜６のシクロアルキレン基、または下記式（２）：
【００１６】
【化４】
【００１７】
（式（２）中、Ｚは炭素数１〜１４の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、ＮＨ基を表し、ａは０または１である。）
で表される２価の芳香族含有基を表す。）
で表されるジアミンとを亜リン酸トリフェニル類の存在下で反応させることを特徴とするものである。
【００１８】
このようなイソソルビド系ポリアミドの製造方法においては、前記イソソルビド系ジカルボン酸と前記ジアミンとを３級アミンおよび無機塩の存在下で反応させることが好ましい。
【００１９】
なお、本発明のイソソルビド系ポリアミドにおいて、成形可能な程度にガラス転移温度が高くなる理由は必ずしも定かではないが、本発明者らは以下のように推察する。すなわち、本発明のイソソルビド系ポリアミドは、イソソルビド骨格またはその誘導体骨格と２つのテレフタル酸骨格とを備えるとともに、前記式（４）で表されるジアミン由来の骨格を備えている。その結果、本発明のイソソルビド系ポリアミドにおいては、イソソルビド骨格またはその誘導体骨格および２つのテレフタル酸骨格の剛性によってガラス転移温度は高くなるものの、前記式（４）で表されるジアミン由来の骨格の靭性によってガラス転移温度の上昇が適度に抑制され、成形可能なものとなると推察される。
【００２０】
一方、ジアミン骨格がスルホニルジフェニルジアミン骨格になると十分な靭性が発現しないため、イソソルビド骨格またはその誘導体および２つのテレフタル酸骨格の剛性によって高くなったガラス転移温度はそのまま高く維持され、成形可能な程度まで抑制されないと推察される。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、熱分解温度およびガラス転移温度が高く、且つ成形加工が可能なイソソルビド系ポリアミドを得ることが可能となる。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明をその好適な実施形態に即して詳細に説明する。
【００２３】
先ず、本発明のイソソルビド系ポリアミドについて説明する。本発明のイソソルビド系ポリアミドは、下記式（１）：
【００２４】
【化５】
【００２５】
で表される繰り返し単位を含有するものである。
【００２６】
前記式（１）において、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜６（好ましくは炭素数１〜３）のアルキル基を表す。また、Ｒ１とＲ２、および／または、Ｒ３とＲ４は互いに結合してシクロアルキル基を形成していてもよい。このようなシクロアルキル基の炭素数としては３〜１２が好ましく、３〜６がより好ましい。
【００２７】
また、前記式（１）中のＲは炭素数１〜１４（好ましくは炭素数１〜１２）の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、炭素数１〜１４（好ましくは炭素数１〜１２）の直鎖状もしくは分岐状のアルケニレン基、炭素数３〜６のシクロアルキレン基、または下記式（２）：
【００２８】
【化６】
【００２９】
で表される２価の芳香族含有基を表す。前記式（２）において、Ｚは炭素数１〜１４（好ましくは炭素数１〜６）の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、ＮＨ基を表し、ａは０または１である。
【００３０】
本発明のイソソルビド系ポリアミドは、イソソルビド骨格またはその誘導体骨格および２つのテレフタル酸骨格を有するため、剛直な構造となり、熱分解温度、ガラス転移温度および貯蔵弾性率が高くなる。しかしながら、本発明のイソソルビド系ポリアミドには、前記式（４）で表されるジアミン由来の骨格も含まれるため、靭性も付与される。その結果、本発明のイソソルビド系ポリアミドにおいては、剛性と靭性がバランスよく発現するため、ガラス転移温度の上昇が適度に抑制され、成形加工が可能となる。
【００３１】
このような繰り返し単位のうち、Ｒ１〜Ｒ４が全て水素原子であるものが好ましい。また、分子量が増大するという観点からはＲが炭素数１〜１４（より好ましくは炭素数１〜１２）の直鎖状アルキレン基、および炭素数１〜１４（より好ましくは炭素数１〜１２）の直鎖状アルケニレン基であることが好ましく、ガラス転移温度がより高くなるという観点からはＲが前記式（２）で表される２価の芳香族含有基であることが好ましい。
【００３２】
本発明のイソソルビド系ポリアミドにおいては、前記式（１）で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位が含まれていてもよいが、熱分解温度、ガラス転移温度および貯蔵弾性率が高く、剛性に優れるという観点から、前記式（１）で表される繰り返し単位の含有率としては、全繰り返し単位１００モル％に対して９５モル％以上が好ましく、１００モル％が特に好ましい。
【００３３】
このようなイソソルビド系ポリアミドのガラス転移温度としては１００〜２５０℃が好ましく、１０５〜２４０℃がより好ましい。ガラス転移温度が前記下限未満になると高温での機械的強度が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると成形加工性が低下する傾向にある。また、本発明のイソソルビド系ポリアミドは耐熱性に優れており、その熱分解温度としては３００℃以上が好ましく、３１０℃以上がより好ましい。さらに、本発明のイソソルビド系ポリアミドにおいては、前記熱分解温度（Ｔｄ）と前記ガラス転移温度（Ｔｇ）との差（Ｔｄ−Ｔｇ）が８０〜２００℃であることが好ましく、１００〜２００℃であることがより好ましい。Ｔｄ−Ｔｇが前記下限未満になると成形時に分解するなど成形加工性が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えるとＴｇが低すぎるため、耐熱性が低下する傾向にある。
【００３４】
また、本発明のイソソルビド系ポリアミドにおいては、ゲルパーミエーションクロマトグラフィにより測定した標準ポリスチレン換算の数平均分子量は２５００以上であることが好ましい。また、４０℃における貯蔵弾性率としては２．５ＧＰａ以上であることが好ましい。
【００３５】
次に、本発明のイソソルビド系ポリアミドの製造方法について説明する。本発明のイソソルビド系ポリアミドは、下記式（３）：
【００３６】
【化７】
【００３７】
で表されるイソソルビド系ジカルボン酸と、下記式（４）：
Ｈ２Ｎ−Ｒ−ＮＨ２ （４）
で表されるジアミンとを亜リン酸トリフェニル類の存在下で反応させることによって製造することができる。
【００３８】
前記式（３）において、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜６（好ましくは炭素数１〜３）のアルキル基を表す。このようなイソソルビド系ジカルボン酸を用いることによって、本発明のイソソルビド系ポリアミドはイソソルビド骨格またはその誘導体骨格と２つのテレフタル酸骨格を有する剛直な構造となり、熱分解温度、ガラス転移温度および貯蔵弾性率が高くなる。このようなイソソルビド系ジカルボン酸は１種を単独で使用しても２種以上を併用してもよい。また、このようなイソソルビド系ジカルボン酸のうち、前記式（３）中のＲ１〜Ｒ４が全て水素原子であるもの、すなわち、４，４’−ジカルボキシ−１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−フェニル−Ｄ−ソルビトール、４，４’−ジカルボキシ−１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−フェニル−Ｄ−マンニトール、４，４’−ジカルボキシ−１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−フェニル−Ｌ−ソルビトールなどが好ましい。
【００３９】
本発明に用いられるイソソルビド系ジカルボン酸は、例えば、以下の方法により得ることができる。すなわち、先ず、下記式（５）：
【００４０】
【化８】
【００４１】
（前記式（５）中、Ｒ１〜Ｒ４は前記式（３）中のＲ１〜Ｒ４と同義である。）
で表されるイソソルビドおよびその誘導体からなる群から選択される少なくとも１種のイソソルビド系化合物とｐ−ハロゲン化ベンゾニトリルとを反応させて、下記式（６）：
【００４２】
【化９】
【００４３】
（前記式（６）中、Ｒ１〜Ｒ４は前記式（３）中のＲ１〜Ｒ４と同義である。）
で表されるイソソルビド系シアン化合物を調製する。この反応は溶媒中、触媒の存在下で実施することが好ましい。
【００４４】
前記イソソルビド系化合物としては、前記式（５）中のＲ１〜Ｒ４が全て水素原子であるもの、すなわち、１，４：３，６−ジアンヒドロ−Ｄ−ソルビトール（イソソルビド）、１，４：３，６−ジアンヒドロ−Ｄ−マンニトール（イソマンニド）、１，４：３，６−ジアンヒドロ−Ｌ−ソルビトール（イソイディド）が好ましい。また、イソソルビド系化合物は１種を単独で使用しても２種以上を併用してもよい。さらに、前記ｐ−ハロゲン化ベンゾニトリルとしては、ｐ−フルオロベンゾニトリル、ｐ−クロロベンゾニトリルなどが好ましい。また、ハロゲン化ベンゾニトリルは１種を単独で使用しても２種以上を併用してもよい。
【００４５】
前記溶媒としては特に制限はないが、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）などの極性溶媒が好ましい。また、前記触媒としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの無機塩触媒が好ましい。さらに、反応温度としては特に制限はないが、１２０〜１８０℃が好ましく、また、反応時間も特に制限はないが、６〜１８時間が好ましい。
【００４６】
このようにして得られるイソソルビド系シアン化合物としては、前記式（６）中のＲ１〜Ｒ４が全て水素原子であるもの、すなわち、１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−（４−シアノフェニル）−Ｄ−ソルビトール、１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−（４−シアノフェニル）−Ｄ−マンニトール、１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−（４−シアノフェニル）−Ｌ−ソルビトールなどが好ましい。
【００４７】
次に、前記式（６）で表されるイソソルビド系シアン化合物を強酸の存在下で加水分解することによってシアノ基がカルボキシル基に変換され、前記式（３）で表されるイソソルビド系ジカルボン酸が得られる。このような加水分解の条件としては特に制限はなく、ニトリルからカルボン酸を得る反応条件と同様の条件を適用することができる。また、前記強酸としては特に制限はないが、硫酸、塩酸などが好ましい。
【００４８】
また、本発明に用いられるジアミンは、下記式（４）：
Ｈ２Ｎ−Ｒ−ＮＨ２ （４）
で表されるものであって、前記式（４）中のＲは、炭素数１〜１４（好ましくは炭素数１〜１２）の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、炭素数１〜１４（好ましくは炭素数１〜１２）の直鎖状もしくは分岐状のアルケニレン基、炭素数３〜６のシクロアルキレン基、または下記式（２）：
【００４９】
【化１０】
【００５０】
で表される２価の芳香族含有基を表す。前記式（２）中、Ｚは炭素数１〜１４（好ましくは炭素数１〜６）の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、ＮＨ基を表し、ａは０または１である。
【００５１】
このようなジアミンを用いることによってイソソルビド系ポリアミドに靭性が付与される。これにより、本発明のイソソルビド系ポリアミドにおいては、剛性と靭性がバランスよく発現するため、イソソルビド骨格またはその誘導体骨格と２つのテレフタル酸骨格という剛直な構造によるガラス転移温度の上昇が適度に抑制され、成形加工が可能となる。
【００５２】
前記式（４）で表されるジアミンは１種を単独で使用しても２種以上を併用してもよい。また、このようなジアミンのうち、イソソルビド系ポリアミドの分子量が増大するという観点からは前記式（４）中のＲが炭素数１〜１４（より好ましくは炭素数１〜１２）の直鎖状アルキレン基または炭素数１〜１４（より好ましくは炭素数１〜１２）の直鎖状アルケニレン基であるジアミンが好ましく、イソソルビド系ポリアミドのガラス転移温度がより高くなるという観点からは前記式（４）中のＲが前記式（２）で表される２価の芳香族含有基であるジアミンが好ましい。
【００５３】
本発明に用いられる亜リン酸トリフェニル類としては、前記イソソルビド系ジカルボン酸と前記ジアミンとの重縮合反応を進行させるものであれば特に制限はないが、トリフェニルホスファイト、トリ−ｏ−トリルホスファイト、トリ−ｍ−トリルホスファイト、トリ−ｐ−トリルホスファイト、トリ−ｏ−クロロフェニルホスファイト、トリ−ｍ−クロロフェニルホスファイト、トリ−ｐ−クロロフェニルホスファイトなどが好ましい。このような亜リン酸トリフェニル類を用いることによって比較的低温で前記重縮合反応を進行させることが可能となる。また、亜リン酸トリフェニル類は１種を単独で使用しても２種以上を併用してもよい。
【００５４】
本発明のイソソルビド系ポリアミドの製造方法においては、このような亜リン酸トリフェニル類の存在下で前記イソソルビド系ジカルボン酸と前記ジアミンとを重縮合させる。イソソルビド系ジカルボン酸とジアミンとの混合比（モル比）としては、イソソルビド系ジカルボン酸：ジアミン＝１：１〜１：４が好ましく、１：１〜１：２がより好ましい。また、前記亜リン酸トリフェニル類の添加量としては、イソソルビド系ジカルボン酸１モルに対して０．５〜４モルが好ましく、１〜２モルがより好ましい。また、前記重縮合反応における反応温度としては８０〜１４０℃が好ましく、反応時間としては３〜８時間が好ましい。
【００５５】
このような重縮合反応は溶媒中で実施することが好ましい。前記溶媒としては、前記イソソルビド系ジカルボン酸および前記ジアミンを良好に溶解させ、且つイソソルビド系ポリアミドに対して良溶媒となるものであれば特に制限はないが、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル尿素などのアミド系溶媒、トルエン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）およびそれらと前記アミド系溶媒との混合溶媒などが挙げられる。
【００５６】
また、本発明のイソソルビド系ポリアミドの製造方法においては、前記重縮合反応を促進させるために、３級アミンおよび／または無機塩を添加することが好ましい。このような３級アミンとしては、ピリジン、イミダゾール、ピコリン、ルチジンなどが挙げられ、これらは１種を単独で使用しても２種以上を併用してもよい。また、３級アミンの添加量としてはイソソルビド系ジカルボン酸１モルに対して１〜４モルが好ましい。前記無機塩としては、塩化リチウム、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、塩化亜鉛などが挙げられ、これらは１種を単独で使用しても２種以上を併用してもよい。また、無機塩の添加量としてはイソソルビド系ジカルボン酸１モルに対して２〜１０モルが好ましい。
【００５７】
このようにして得られる本発明のイソソルビド系ポリアミドを含有する溶液を、イソソルビド系ポリアミドに対して貧溶媒となるもの（例えば、メタノールなどのアルコール類）に注入することによって沈殿が生成し、この沈殿を回収することによって本発明のイソソルビド系ポリアミドが得られる。
【実施例】
【００５８】
以下、実施例および比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、実施例および比較例で得られたポリアミドの物性は以下の方法により測定した。
【００５９】
＜１Ｈ−ＮＭＲ測定＞
核磁気共鳴分析装置（日本電子（株）製「ＬＡ−５００」）を用いて下記条件でポリアミドの１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定した。
（測定条件）
周波数：５００ＭＨｚ
内部標準物質：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）
溶媒：ジメチルスルホキシド−ｄ６（ＤＭＳＯ−ｄ６）
＜ＦＴ−ＩＲ測定＞
フーリエ変換赤外分光光度計（ニコレー社製「Ａｖａｔａｒ３６０」）を用いて、全反射法（ＡＴＲ法）によりＦＴ−ＩＲスペクトルを測定した。
【００６０】
＜分子量測定＞
得られたポリアミドを無水トリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）で処理してポリアミド誘導体を調製し、このポリアミド誘導体について、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ、昭和電工（株）製「Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ−１０１」）を用いて下記条件で数平均分子量（Ｍｎ）および重量平均分子量（Ｍｗ）を測定し、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）を求めた。
（測定条件）
カラム：昭和電工（株）製「Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ ＫＦ−８０Ｍ」２本および昭和電工（株）製「Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ ＫＦ−８０２」１本の直列接続
溶媒：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ、流量：１．０ｍｌ／分）
標準物質：標準ポリスチレン
＜ガラス転移温度測定＞
得られたポリアミド約５．０ｍｇを精秤し、示差走査熱分析装置（ＴＡインスツルメント社製「ＤＳＣ Ｑ１０００」）を用いて２５℃から３００℃まで昇温速度１０℃／分で熱分析を行ない、ガラス転移温度（Ｔｇ）を求めた。
【００６１】
＜熱分解温度測定＞
得られたポリアミド約７．０ｍｇを精秤し、熱量分析装置（理学電機（株）製「Ｔｈｅｒｍｏｐｌｕｓ ＴＧ８１２０」）を用いて３０℃から５００℃昇温速度１０℃／分で加熱時の質量変化を測定し、質量が５質量％減少したときの温度を熱分解温度（Ｔｄ）とした。
【００６２】
＜貯蔵弾性率測定＞
得られたポリアミドを２５０℃で溶融し、これをプレス成形により厚さ１．０ｍｍの平板に成形した。この平板から約５．０ｍｍ×約３０ｍｍの試験片（厚さ：１．０ｍｍ）を切り出して寸法を正確に測定した。その後、この試験片について、粘弾性スペクトルメーター（アイ・ティー計測制御（株）製「ＤＶＡ−２００」）を用いて昇温速度１０℃／分で貯蔵弾性率（Ｅ’）を測定した。
【００６３】
また、実施例および比較例で使用した４，４’−ジカルボキシ−１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−フェニル−Ｄ−ソルビトールは以下の方法により調製した。
【００６４】
（調製例１）
先ず、下記式：
【００６５】
【化１１】
【００６６】
で表される反応により１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−（４−シアノフェニル）−Ｄ−ソルビトール（式（III））を調製した。すなわち、フラスコにイソソルビド（式（Ｉ）、２１．９２ｇ、１５０．０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（４２．８５ｇ、３１０ｍｍｏｌ）およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ、１３０ｍｌ）を入れ、２０分攪拌した。次いで、この溶液に、ＤＭＦ（３０ｍｌ）に溶解した４−フルオロベンゾニトリル（式（II）、３７．５８ｇ、３１０．０ｍｍｏｌ）を滴下した後、１５０℃で１２時間還流した。得られた溶液を室温まで冷却した後、メタノール／水（＝１／１（質量比））混合溶媒に注いで沈殿を生成させた。この沈殿をろ過により回収した後、エタノール／酢酸エチル（＝３／１（質量比））混合溶媒中で再結晶を行ない、得られた結晶を８０℃で乾燥させて１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−（４−シアノフェニル）−Ｄ−ソルビトール（式（III）、３２．０ｇ、収率：６１％）を得た。
【００６７】
この１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−（４−シアノフェニル）−Ｄ−ソルビトールの構造を１Ｈ−ＮＭＲ測定およびＦＴ−ＩＲ測定により確認した。その結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ｐｐｍ）：δ４．０３−４．１７（ｍ，４Ｈ，イソソルビド）、４．６３−４．６４（ｍ，１Ｈ，イソソルビド）、４．８５−４．９０（ｍ，２Ｈ，イソソルビド）、５．０４−５．０６（ｍ，１Ｈ，イソソルビド）、６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．０３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．５９−７．６２（ｍ，４Ｈ，ＡｒＨ）。
ＦＴ−ＩＲ（ＡＴＲ，ｃｍ−１）：１２５０（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、１６００（Ｃ−Ｏ−Ｃ，イソソルビド）、２２２１（―Ｃ≡Ｎ―）。
【００６８】
（調製例２）
次に、下記式：
【００６９】
【化１２】
【００７０】
で表される反応により４，４’−ジカルボキシ−１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−フェニル−Ｄ−ソルビトール（式（IV））を調製した。すなわち、フラスコに水（５０ｍｌ）を入れ、これに硫酸（４０ｍｌ）を徐々に滴下した後、調製例１で得られた１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−（４−シアノフェニル）−Ｄ−ソルビトール（式（III）、８．８４ｇ、２５．３９ｍｍｏｌ）を添加して１５０℃で２時間還流した。得られた溶液を室温まで冷却した後、水に注いで沈殿を生成させた。この沈殿をろ過により回収した後、１ＮのＮａＯＨ水溶液、１ＮのＨＣｌ水溶液、アセトンで順次洗浄した後、得られた固形分を８０℃で乾燥させて４，４’−ジカルボキシ−１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−フェニル−Ｄ−ソルビトール（式（IV）、９．０ｇ、収率：９２％）を得た。
【００７１】
この４，４’−ジカルボキシ−１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−フェニル−Ｄ−ソルビトールの構造を１Ｈ−ＮＭＲ測定およびＦＴ−ＩＲ測定により確認した。その結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ｐｐｍ）：δ３．８０−３．９２（ｍ，２Ｈ，イソソルビド）、３．９９−４．１０（ｍ，２Ｈ，イソソルビド）、４．５７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９Ｈｚ，イソソルビド）、５．００−５．０２（ｍ，３Ｈ，イソソルビド）、７．０２−７．０８（ｍ，４Ｈ，ＡｒＨ）、７．８５−７．８８（ｍ，４Ｈ，ＡｒＨ）。
ＦＴ−ＩＲ（ＡＴＲ，ｃｍ−１）：１２５２（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、１６０２（Ｃ−Ｏ−Ｃ，イソソルビド）、１６７３（Ｃ＝Ｏ）。
【００７２】
（実施例１）
下記式：
【００７３】
【化１３】
【００７４】
で表される反応により前記式（VI）（Ｒ：ｎ−ブチレン基）で表される繰り返し単位を含有するイソソルビド系ポリアミドを調製した。すなわち、調製例２で得られた４，４’−ジカルボキシ−１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−フェニル−Ｄ−ソルビトール（式（IV）、５７９．３３ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）、１，４−ジアミノブタン（式（Ｖ）（Ｒ：ｎ−ブチレン基）、和光純薬工業（株）製、１３３．２３ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスファイト（（ＰｈＯ）３Ｐ、関東化学（株）製、２ｍＬ）、塩化カルシウム（和光純薬工業（株）製、３５０ｍｇ、３．５ｍｍｏｌ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ、和光純薬工業（株）製、８ｍＬ）およびピリジン（和光純薬工業（株）製、２ｍＬ）を、冷却装置を備えるガラス容器に入れた。このガラス容器内に窒素ガスを２０ｍｌ／分の流量で供給しながら、このガラス容器をオイルバスで加熱して１００〜１１０℃で６時間反応させた。得られた溶液を室温まで冷却した後、メタノールに注いで沈殿を生成させた。この沈殿をろ過により回収した後、水およびアセトンで順次洗浄した後、得られた固形分を８０℃で乾燥させて前記式（VI）（Ｒ：ｎ−ブチレン基）で表される繰り返し単位を含有するイソソルビド系ポリアミド（４９５ｍｇ、収率：７５％）を得た。
【００７５】
このイソソルビド系ポリアミドの構造を１Ｈ−ＮＭＲ測定およびＦＴ−ＩＲ測定により確認した。その結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ｐｐｍ）：δ１．５２−１．５４（ｍ，４Ｈ，ＣＨ２）、３．２６−３．２７（ｍ，４Ｈ，ＮＨ−ＣＨ２）、３．８９−４．０２（ｍ，４Ｈ，イソソルビド）、４．５７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，イソソルビド）、４．９９−５．０１（ｍ，３Ｈ，イソソルビド）、７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．０５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．７９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．８２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，ＡｒＨ）、８．３４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，ＮＨ）。
ＦＴ−ＩＲ（ＡＴＲ，ｃｍ−１）：１２４２（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、１６０４（Ｃ−Ｏ−Ｃ，イソソルビド）、１６２９（Ｃ＝Ｏ，アミド）、３３１４（ＮＨ，アミド）。
【００７６】
また、前記イソソルビド系ポリアミドのガラス転移温度（Ｔｇ）、熱分解温度（Ｔｄ）、数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、および多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）を前記方法により測定した。これらの結果を表１に示す。
【００７７】
（実施例２）
１，４−ジアミノブタンの代わりに１，６−ジアミノヘキサン（式（Ｖ）（Ｒ：ｎ−ヘキシレン基）、東京化成工業（株）製、１７４．５ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして前記式（VI）（Ｒ：ｎ−ヘキシレン基）で表される繰り返し単位を含有するイソソルビド系ポリアミド（５７０ｍｇ、収率：８１％）を得た。
【００７８】
このイソソルビド系ポリアミドの構造を１Ｈ−ＮＭＲ測定およびＦＴ−ＩＲ測定により確認した。その結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ｐｐｍ）：δ１．３０−１．３２（ｍ，４Ｈ，ＣＨ２）、１．５０−１．５１（ｍ，４Ｈ，ＣＨ２）、３．２２−３．２３（ｍ，４Ｈ，ＮＨ−ＣＨ２）、３．８９−４．０３（ｍ，４Ｈ，イソソルビド）、４．５７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，イソソルビド）、４．９９−５．０１（ｍ，３Ｈ，イソソルビド）、７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．０５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．７９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．８１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、８．３０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，ＮＨ）。
ＦＴ−ＩＲ（ＡＴＲ，ｃｍ−１）：１２４２（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、１６０４（Ｃ−Ｏ−Ｃ，イソソルビド）、１６２９（Ｃ＝Ｏ，アミド），３３１４（ＮＨ，アミド）。
【００７９】
また、前記イソソルビド系ポリアミドのガラス転移温度（Ｔｇ）、熱分解温度（Ｔｄ）、数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、および多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）を前記方法により測定した。これらの結果を表１に示す。
【００８０】
（実施例３）
１，４−ジアミノブタンの代わりに１，８−ジアミノオクタン（式（Ｖ）（Ｒ：ｎ−オクチレン基）、和光純薬工業（株）製、２２０．７２ｍｇ，１．５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして前記式（VI）（Ｒ：ｎ−オクチレン基）で表される繰り返し単位を含有するイソソルビド系ポリアミド（６１０ｍｇ、収率：８２％）を得た。
【００８１】
このイソソルビド系ポリアミドの構造を１Ｈ−ＮＭＲ測定およびＦＴ−ＩＲ測定により確認した。その結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ｐｐｍ）：δ１．２８−１．３０（ｍ，８Ｈ，ＣＨ２）、１．５０−１．５１（ｍ，４Ｈ，ＣＨ２）、３．２２−３．２３（ｍ，４Ｈ，ＮＨ−ＣＨ２）、３．８９−４．０２（ｍ，４Ｈ，イソソルビド）、４．５８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，イソソルビド）、４．９９−５．０１（ｍ，３Ｈ，イソソルビド）、７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．０５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．７９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．８２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、８．３１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，ＮＨ）。
ＦＴ−ＩＲ（ＡＴＲ，ｃｍ−１）：１２３９（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、１６０４（Ｃ−Ｏ−Ｃ，イソソルビド）、１６２９（Ｃ＝Ｏ，アミド）、３３２３（ＮＨ，アミド）。
【００８２】
また、前記イソソルビド系ポリアミドのガラス転移温度（Ｔｇ）、熱分解温度（Ｔｄ）、数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）、および４０℃での貯蔵弾性率（Ｅ’）を前記方法により測定した。これらの結果を表１に示す。
【００８３】
（実施例４）
１，４−ジアミノブタンの代わりに１，８−ジアミノノナン（式（Ｖ）（Ｒ：ｎ−ノニレン基）、Ａｃｒｏｓ社製、２４２．２ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして前記式（VI）（Ｒ：ｎ−ノニレン基）で表される繰り返し単位を含有するイソソルビド系ポリアミド（５５０ｍｇ、収率：７０％）を得た。
【００８４】
このイソソルビド系ポリアミドの構造を１Ｈ−ＮＭＲ測定およびＦＴ−ＩＲ測定により確認した。その結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ｐｐｍ）：δ１．２５−１．２８（ｍ，１０Ｈ，ＣＨ２）、１．４８−１．４９（ｍ，４Ｈ，ＣＨ２）、３．２０−３．２２（ｍ，４Ｈ，ＮＨ−ＣＨ２）、３．８９−４．０３（ｍ，４Ｈ，イソソルビド）、４．５６−４．５７（ｍ，１Ｈ，イソソルビド）、４．９９−５．０１（ｍ，３Ｈ，イソソルビド）、６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．０５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．７８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．８１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、８．３０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，ＮＨ）。
ＦＴ−ＩＲ（ＡＴＲ，ｃｍ−１）：１２４０（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、１６０４（Ｃ−Ｏ−Ｃ，イソソルビド）、１６２９（Ｃ＝Ｏ，アミド）、３３２３（ＮＨ，アミド）。
【００８５】
また、前記イソソルビド系ポリアミドのガラス転移温度（Ｔｇ）、熱分解温度（Ｔｄ）、数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、および多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）を前記方法により測定した。これらの結果を表１に示す。
【００８６】
（実施例５）
１，４−ジアミノブタンの代わりに１，１０−ジアミノデカン（式（Ｖ）（Ｒ：ｎ−デシレン基）、Ａｃｒｏｓ社製、２５９．２８ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして前記式（VI）（Ｒ：ｎ−デシレン基）で表される繰り返し単位を含有するイソソルビド系ポリアミド（６９０ｍｇ、収率：８８％）を得た。
【００８７】
このイソソルビド系ポリアミドの構造を１Ｈ−ＮＭＲ測定およびＦＴ−ＩＲ測定により確認した。その結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ｐｐｍ）：δ１．２５−１．２７（ｍ，１２Ｈ，ＣＨ２）、１．４８−１．４９（ｍ，４Ｈ，ＣＨ２）、３．２２−３．２３（ｍ，４Ｈ，ＮＨ−ＣＨ２）、３．８９−４．０１（ｍ，４Ｈ，イソソルビド）、４．５７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，イソソルビド）、４．９９−５．０１（ｍ，３Ｈ，イソソルビド）、７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．０５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．７８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．８１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、８．３０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，ＮＨ）。
ＦＴ−ＩＲ（ＡＴＲ，ｃｍ−１）：１２４２（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、１６０５（Ｃ−Ｏ−Ｃ，イソソルビド）、１６２９（Ｃ＝Ｏ，アミド）、３３２３（ＮＨ，アミド）。
【００８８】
また、前記イソソルビド系ポリアミドのガラス転移温度（Ｔｇ）、熱分解温度（Ｔｄ）、数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）、および４０℃での貯蔵弾性率（Ｅ’）を前記方法により測定した。これらの結果を表１に示す。
【００８９】
（実施例６）
１，４−ジアミノブタンの代わりに１，１１−ジアミノウンデカン（式（Ｖ）（Ｒ：ｎ−ウンデシレン基）、東京化成工業（株）製、２７９．５ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして前記式（VI）（Ｒ：ｎ−ウンデシレン基）で表される繰り返し単位を含有するイソソルビド系ポリアミド（５２０ｍｇ、収率：６３％）を得た。
【００９０】
このイソソルビド系ポリアミドの構造を１Ｈ−ＮＭＲ測定およびＦＴ−ＩＲ測定により確認した。その結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ｐｐｍ）：δ１．２４−１．２５（ｍ，１４Ｈ，ＣＨ２）、１．４７−１．４９（ｍ，４Ｈ，ＣＨ２）、３．２０−３．２２（ｍ，４Ｈ，ＮＨ−ＣＨ２）、３．８９−４．０３（ｍ，４Ｈ，イソソルビド）、１．４７−１．４９（ｍ，１Ｈ，イソソルビド）、４．９８−５．０２（ｍ，３Ｈ，イソソルビド）、７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．０５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．７８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．８１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、８．３０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，ＮＨ）。
ＦＴ−ＩＲ（ＡＴＲ，ｃｍ−１）：１２３９（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、１６０４（Ｃ−Ｏ−Ｃ，イソソルビド）、１６２９（Ｃ＝Ｏ，アミド）、３３２３（ＮＨ，アミド）。
【００９１】
また、前記イソソルビド系ポリアミドのガラス転移温度（Ｔｇ）、熱分解温度（Ｔｄ）、数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、および多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）を前記方法により測定した。これらの結果を表１に示す。
【００９２】
（実施例７）
１，４−ジアミノブタンの代わりに１，１２−ジアミノドデカン（式（Ｖ）（Ｒ：ｎ−ドデシレン基）、和光純薬工業（株）製、３０６．９ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして前記式（VI）（Ｒ：ｎ−ドデシレン基）で表される繰り返し単位を含有するイソソルビド系ポリアミド（７２０ｍｇ、収率：８７％）を得た。
【００９３】
このイソソルビド系ポリアミドの構造を１Ｈ−ＮＭＲ測定およびＦＴ−ＩＲ測定により確認した。その結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ｐｐｍ）：δ１．２４−１．２６（ｍ，１６Ｈ，ＣＨ２）、１．４８−１．４９（ｍ，４Ｈ，ＣＨ２）、３．２２−３．２３（ｍ，４Ｈ，ＮＨ−ＣＨ２）、３．８９−４．０２（ｍ，４Ｈ，イソソルビド）、４．５７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，イソソルビド）、４．９９−５．０１（ｍ，３Ｈ，イソソルビド）、７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．０５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．７８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．８１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、８．２９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，ＮＨ）。
ＦＴ−ＩＲ（ＡＴＲ，ｃｍ−１）：１２４１（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、１６０５（Ｃ−Ｏ−Ｃ，イソソルビド）、１６３０（Ｃ＝Ｏ，アミド）、３３２１（ＮＨ，アミド）。
【００９４】
また、前記イソソルビド系ポリアミドのガラス転移温度（Ｔｇ）、熱分解温度（Ｔｄ）、数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）、および４０℃での貯蔵弾性率（Ｅ’）を前記方法により測定した。これらの結果を表１に示す。
【００９５】
（実施例８）
１，４−ジアミノブタンの代わりに４，４’−ジアミノジフェニルメタン（式（Ｖ）（Ｒ：メチレンビス（ｐ−フェニレン）基）、東京化成工業（株）製、２９７．４ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして前記式（VI）（Ｒ：メチレンビス（ｐ−フェニレン）基）で表される繰り返し単位を含有するイソソルビド系ポリアミド（７９０ｍｇ、収率：９６％）を得た。
【００９６】
このイソソルビド系ポリアミドの構造を１Ｈ−ＮＭＲ測定およびＦＴ−ＩＲ測定により確認した。その結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ｐｐｍ）：δ３．８５−４．０１（ｍ，６Ｈ，ＣＨ２＋イソソルビド）、４．５７−４．５８（ｍ，１Ｈ，イソソルビド）、５．０１−５．０４（ｍ，３Ｈ，イソソルビド）、７．０４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．０９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．１５（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．６４（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．８８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．９２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、１０．０３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，ＮＨ）。
ＦＴ−ＩＲ（ＡＴＲ，ｃｍ−１）：１２３７（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、１６０２（Ｃ−Ｏ−Ｃ，イソソルビド）、１６３０（Ｃ＝Ｏ，アミド）、３３０６（ＮＨ，アミド）。
【００９７】
また、前記イソソルビド系ポリアミドのガラス転移温度（Ｔｇ）、熱分解温度（Ｔｄ）、数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、および多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）を前記方法により測定した。これらの結果を表１に示す。
【００９８】
（実施例９）
１，４−ジアミノブタンの代わりに４，４’−ジアミノジフェニルエーテル（式（Ｖ）（Ｒ：オキシビス（ｐ−フェニレン）基）、東京化成工業（株）製、３００．３６ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして前記式（VI）（Ｒ：オキシビス（ｐ−フェニレン）基）で表される繰り返し単位を含有するイソソルビド系ポリアミド（８００ｍｇ、収率：９６％）を得た。
【００９９】
このイソソルビド系ポリアミドの構造を１Ｈ−ＮＭＲ測定およびＦＴ−ＩＲ測定により確認した。その結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ｐｐｍ）：δ３．９０−４．０３（ｍ，４Ｈ，イソソルビド）、４．５８−４．５９（ｍ，１Ｈ，イソソルビド）、５．０３−５．０４（ｍ，３Ｈ，イソソルビド）、６．９６（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．１１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．７３（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．９０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．９３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、１０．１０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，ＮＨ）。
ＦＴ−ＩＲ（ＡＴＲ，ｃｍ−１）：１２１７、１２２９（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、１６０３（Ｃ−Ｏ−Ｃ，イソソルビド）、１６３０（Ｃ＝Ｏ，アミド）、３３０５（ＮＨ，アミド）。
【０１００】
また、前記イソソルビド系ポリアミドのガラス転移温度（Ｔｇ）、熱分解温度（Ｔｄ）、数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、および多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）を前記方法により測定した。これらの結果を表１に示す。
【０１０１】
（実施例１０）
１，４−ジアミノブタンの代わりに４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド（式（Ｖ）（Ｒ：チオビス（ｐ−フェニレン）基）、和光純薬工業（株）製、３２４．５ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして前記式（VI）（Ｒ：チオビス（ｐ−フェニレン）基）で表される繰り返し単位を含有するイソソルビド系ポリアミド（８１０ｍｇ、収率：９５％）を得た。
【０１０２】
このイソソルビド系ポリアミドの構造を１Ｈ−ＮＭＲ測定およびＦＴ−ＩＲ測定により確認した。その結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ｐｐｍ）：δ３．９１−４．０３（ｍ，４Ｈ，イソソルビド）、４．５８−４．５９（ｍ，１Ｈ，イソソルビド）、５．０３−５．０４（ｍ，３Ｈ，イソソルビド）、７．０６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．１１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．２８（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．７６（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．８９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．９２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、１０．１８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，ＮＨ）。
ＦＴ−ＩＲ（ＡＴＲ，ｃｍ−１）：１２３６（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、１６０３（Ｃ−Ｏ−Ｃ，イソソルビド）、１６３０（Ｃ＝Ｏ，アミド）、３３０５（ＮＨ，アミド）。
【０１０３】
また、前記イソソルビド系ポリアミドのガラス転移温度（Ｔｇ）、熱分解温度（Ｔｄ）、数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、および多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）を前記方法により測定した。これらの結果を表１に示す。
【０１０４】
（実施例１１）
１，４−ジアミノブタンの代わりにｐ−フェニレンジアミン（式（Ｖ）（Ｒ：フェニレン基）、シグマ社製、１６２．２ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして前記式（VI）（Ｒ：フェニレン基）で表される繰り返し単位を含有するイソソルビド系ポリアミド（６９０ｍｇ、収率：１００％）を得た。
【０１０５】
このイソソルビド系ポリアミドの構造を１Ｈ−ＮＭＲ測定およびＦＴ−ＩＲ測定により確認した。その結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ｐｐｍ）：δ３．９１−４．０５（ｍ，４Ｈ，イソソルビド）、４．５９−４．６０（ｍ，１Ｈ，イソソルビド）、５．０３−５．０４（ｍ，３Ｈ，イソソルビド）、７．０７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．０９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．７０（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．９０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．９６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、１０．０７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，ＮＨ）。
ＦＴ−ＩＲ（ＡＴＲ，ｃｍ−１）：１２４０（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、１６０４（Ｃ−Ｏ−Ｃ，イソソルビド）、１６４２（Ｃ＝Ｏ，アミド）、３３２５（ＮＨ，アミド）。
【０１０６】
また、前記イソソルビド系ポリアミドのガラス転移温度（Ｔｇ）、熱分解温度（Ｔｄ）、数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、および多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）を前記方法により測定した。これらの結果を表１に示す。
【０１０７】
（比較例１）
１，４−ジアミノブタンの代わりに４，４’−ジアミノジフェニルスルホン（式（Ｖ）（Ｒ：スルホニルビス（ｐ−フェニレン）基）、関東化学（株）製、３７２．５ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして前記式（VI）（Ｒ：スルホニルビス（ｐ−フェニレン）基）で表される繰り返し単位を含有するイソソルビド系ポリアミド（７６０ｍｇ、収率：８５％）を得た。
【０１０８】
このイソソルビド系ポリアミドの構造を１Ｈ−ＮＭＲ測定およびＦＴ−ＩＲ測定により確認した。その結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ｐｐｍ）：δ３．８８−３．９０（ｍ，４Ｈ，イソソルビド）、４．５７−４．５８（ｍ，１Ｈ，イソソルビド）、５．０３−５．０４（ｍ，３Ｈ，イソソルビド）、７．０６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．１２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．８７（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．８９（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．９１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．９７（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、１０．４６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，ＮＨ）。
ＦＴ−ＩＲ（ＡＴＲ，ｃｍ−１）：１２３７（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、１５８８（Ｃ−Ｏ−Ｃ，イソソルビド）、１６６５（Ｃ＝Ｏ，アミド）、３３４４（ＮＨ，アミド）。
【０１０９】
また、前記イソソルビド系ポリアミドのガラス転移温度（Ｔｇ）、熱分解温度（Ｔｄ）、数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、および多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）を前記方法により測定した。これらの結果を表１に示す。なお、前記測定条件においてはこのイソソルビド系ポリアミドのＴｇは検出されなかった。また、このイソソルビド系ポリアミドから貯蔵弾性率測定用試験片を作製することは困難であった。
【０１１０】
（比較例２）
１，４−ジアミノブタンの代わりに２，４−ジアミノ−６−メチル−１，３，５−トリアジン（和光純薬工業（株）製、１８７．７ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして合成を試みたが、イソソルビド系ポリアミドは得られなかった。
【０１１１】
（比較例３）
１，４−ジアミノブタンの代わりにジアミノマレオニトリル（和光純薬工業（株）製、１６２．１５ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして合成を試みたが、イソソルビド系ポリアミドは得られなかった。
【０１１２】
【表１】
【０１１３】
表１に示した結果から明らかなように、ジアミンとして、アルキレンジアミンを用いた場合（実施例１〜７）、特定のジフェニルジアミンを用いた場合（実施例８〜１１）およびフェニレンジアミンを用いた場合（実施例１２）においては、得られたイソソルビド系ポリアミドは、ガラス転移温度が１００〜２５０℃であり、成形しやすいものであり、また、熱分解温度が３００℃以上であり、熱分解しにくいものであることがわかった。
【０１１４】
一方、ジアミンとしてジアミノジフェニルスルホンを用いた場合（比較例１）においては、熱分解温度が３８０℃であり、熱分解しにくいイソソルビド系ポリアミドが得られたが、１００〜２５０℃の温度範囲にはガラス転移温度が検出されず、成形性に劣るものであることがわかった。
【産業上の利用可能性】
【０１１５】
以上説明したように、本発明によれば、熱分解温度およびガラス転移温度が高く、且つ成形加工が可能なイソソルビド系ポリアミドを得ることが可能となる。
【０１１６】
したがって、本発明のイソソルビド系ポリアミドは、耐熱性に優れているため、ラジエータカバー、エンジンカバー、タイミングベルトカバー、樹脂製インテークマンホールドといった高い耐熱性が要求される自動車部品に使用することができる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、イソソルビド系ポリアミドおよびその製造方法に関し、より詳しくは、イソソルビド骨格またはその誘導体骨格を含有する繰り返し単位を有するポリアミドおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
代表的なポリアミドであるナイロン６６は、ヘキサメチレンジアミンとアジピン酸とを重縮合させることによって得られるものであり、融点が高く、耐熱性に優れたポリアミドとして知られている。
【０００３】
近年、環境負荷低減の観点から、ナイロン６６のような人工的に合成された原料から製造されるポリアミドに代わるものとして、植物由来の原料から製造されたポリアミドが提案されている。例えば、化学工業日報、２００９年８月１２日発行、第８面（非特許文献１）には、ひまし油を原料としたポリアミド１１が開示されている。このポリアミド１１は炭素成分が１００％植物由来であるという点で注目されているものの、貯蔵弾性率（１．０４ＧＰａ）や剛性に劣り、さらに、ガラス転移温度（３７℃）が低いため、高温での機械的強度に劣るといった問題があった。
【０００４】
また、Ａ．Ｃａｏｕｔｈａｒら（非特許文献２）には、４，４’−ジアシルクロリド−１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−フェニル−Ｄ−ソルビトールと４，４’−ジアミノジフェニルスルホンとをマイクロ波を照射して合成したイソソルビド系ポリアミドが開示されている。このイソソルビド系ポリアミドは熱分解温度が高く、熱分解されにくいものの、１００〜２５０℃の温度範囲にはガラス転移温度が検出されず、成形加工が困難であるという問題があった。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】化学工業日報、２００９年８月１２日発行、第８面
【非特許文献２】Ａ．Ｃａｏｕｔｈａｒら、Ｅｕｒｏｐｅａｎ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｊｏｕｒｎａｌ、２００７年、第４３巻、２２０−２３０頁
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、熱分解温度およびガラス転移温度が高く、且つ成形加工が可能なイソソルビド系ポリアミドおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、特定の構造を有するジアミンとイソソルビド系ジカルボン酸とを重合させることによって、熱分解温度およびガラス転移温度が高く、且つ成形加工が可能なイソソルビド系ポリアミドが得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
すなわち、本発明のイソソルビド系ポリアミドは、下記式（１）：
【０００９】
【化１】
【００１０】
（式（１）中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒは炭素数１〜１４の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、炭素数１〜１４の直鎖状もしくは分岐状のアルケニレン基、炭素数３〜６のシクロアルキレン基、または下記式（２）：
【００１１】
【化２】
【００１２】
（式（２）中、Ｚは炭素数１〜１４の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、ＮＨ基を表し、ａは０または１である。）
で表される２価の芳香族含有基を表す。）
で表される繰り返し単位を含有することを特徴とするものである。
【００１３】
また、本発明のイソソルビド系ポリアミドの製造方法は、下記式（３）：
【００１４】
【化３】
【００１５】
（式（３）中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。）
で表されるイソソルビド系ジカルボン酸と、
下記式（４）：
Ｈ２Ｎ−Ｒ−ＮＨ２ （４）
（式（４）中、Ｒは炭素数１〜１４の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、炭素数１〜１４の直鎖状もしくは分岐状のアルケニレン基、炭素数３〜６のシクロアルキレン基、または下記式（２）：
【００１６】
【化４】
【００１７】
（式（２）中、Ｚは炭素数１〜１４の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、ＮＨ基を表し、ａは０または１である。）
で表される２価の芳香族含有基を表す。）
で表されるジアミンとを亜リン酸トリフェニル類の存在下で反応させることを特徴とするものである。
【００１８】
このようなイソソルビド系ポリアミドの製造方法においては、前記イソソルビド系ジカルボン酸と前記ジアミンとを３級アミンおよび無機塩の存在下で反応させることが好ましい。
【００１９】
なお、本発明のイソソルビド系ポリアミドにおいて、成形可能な程度にガラス転移温度が高くなる理由は必ずしも定かではないが、本発明者らは以下のように推察する。すなわち、本発明のイソソルビド系ポリアミドは、イソソルビド骨格またはその誘導体骨格と２つのテレフタル酸骨格とを備えるとともに、前記式（４）で表されるジアミン由来の骨格を備えている。その結果、本発明のイソソルビド系ポリアミドにおいては、イソソルビド骨格またはその誘導体骨格および２つのテレフタル酸骨格の剛性によってガラス転移温度は高くなるものの、前記式（４）で表されるジアミン由来の骨格の靭性によってガラス転移温度の上昇が適度に抑制され、成形可能なものとなると推察される。
【００２０】
一方、ジアミン骨格がスルホニルジフェニルジアミン骨格になると十分な靭性が発現しないため、イソソルビド骨格またはその誘導体および２つのテレフタル酸骨格の剛性によって高くなったガラス転移温度はそのまま高く維持され、成形可能な程度まで抑制されないと推察される。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、熱分解温度およびガラス転移温度が高く、且つ成形加工が可能なイソソルビド系ポリアミドを得ることが可能となる。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明をその好適な実施形態に即して詳細に説明する。
【００２３】
先ず、本発明のイソソルビド系ポリアミドについて説明する。本発明のイソソルビド系ポリアミドは、下記式（１）：
【００２４】
【化５】
【００２５】
で表される繰り返し単位を含有するものである。
【００２６】
前記式（１）において、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜６（好ましくは炭素数１〜３）のアルキル基を表す。また、Ｒ１とＲ２、および／または、Ｒ３とＲ４は互いに結合してシクロアルキル基を形成していてもよい。このようなシクロアルキル基の炭素数としては３〜１２が好ましく、３〜６がより好ましい。
【００２７】
また、前記式（１）中のＲは炭素数１〜１４（好ましくは炭素数１〜１２）の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、炭素数１〜１４（好ましくは炭素数１〜１２）の直鎖状もしくは分岐状のアルケニレン基、炭素数３〜６のシクロアルキレン基、または下記式（２）：
【００２８】
【化６】
【００２９】
で表される２価の芳香族含有基を表す。前記式（２）において、Ｚは炭素数１〜１４（好ましくは炭素数１〜６）の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、ＮＨ基を表し、ａは０または１である。
【００３０】
本発明のイソソルビド系ポリアミドは、イソソルビド骨格またはその誘導体骨格および２つのテレフタル酸骨格を有するため、剛直な構造となり、熱分解温度、ガラス転移温度および貯蔵弾性率が高くなる。しかしながら、本発明のイソソルビド系ポリアミドには、前記式（４）で表されるジアミン由来の骨格も含まれるため、靭性も付与される。その結果、本発明のイソソルビド系ポリアミドにおいては、剛性と靭性がバランスよく発現するため、ガラス転移温度の上昇が適度に抑制され、成形加工が可能となる。
【００３１】
このような繰り返し単位のうち、Ｒ１〜Ｒ４が全て水素原子であるものが好ましい。また、分子量が増大するという観点からはＲが炭素数１〜１４（より好ましくは炭素数１〜１２）の直鎖状アルキレン基、および炭素数１〜１４（より好ましくは炭素数１〜１２）の直鎖状アルケニレン基であることが好ましく、ガラス転移温度がより高くなるという観点からはＲが前記式（２）で表される２価の芳香族含有基であることが好ましい。
【００３２】
本発明のイソソルビド系ポリアミドにおいては、前記式（１）で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位が含まれていてもよいが、熱分解温度、ガラス転移温度および貯蔵弾性率が高く、剛性に優れるという観点から、前記式（１）で表される繰り返し単位の含有率としては、全繰り返し単位１００モル％に対して９５モル％以上が好ましく、１００モル％が特に好ましい。
【００３３】
このようなイソソルビド系ポリアミドのガラス転移温度としては１００〜２５０℃が好ましく、１０５〜２４０℃がより好ましい。ガラス転移温度が前記下限未満になると高温での機械的強度が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると成形加工性が低下する傾向にある。また、本発明のイソソルビド系ポリアミドは耐熱性に優れており、その熱分解温度としては３００℃以上が好ましく、３１０℃以上がより好ましい。さらに、本発明のイソソルビド系ポリアミドにおいては、前記熱分解温度（Ｔｄ）と前記ガラス転移温度（Ｔｇ）との差（Ｔｄ−Ｔｇ）が８０〜２００℃であることが好ましく、１００〜２００℃であることがより好ましい。Ｔｄ−Ｔｇが前記下限未満になると成形時に分解するなど成形加工性が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えるとＴｇが低すぎるため、耐熱性が低下する傾向にある。
【００３４】
また、本発明のイソソルビド系ポリアミドにおいては、ゲルパーミエーションクロマトグラフィにより測定した標準ポリスチレン換算の数平均分子量は２５００以上であることが好ましい。また、４０℃における貯蔵弾性率としては２．５ＧＰａ以上であることが好ましい。
【００３５】
次に、本発明のイソソルビド系ポリアミドの製造方法について説明する。本発明のイソソルビド系ポリアミドは、下記式（３）：
【００３６】
【化７】
【００３７】
で表されるイソソルビド系ジカルボン酸と、下記式（４）：
Ｈ２Ｎ−Ｒ−ＮＨ２ （４）
で表されるジアミンとを亜リン酸トリフェニル類の存在下で反応させることによって製造することができる。
【００３８】
前記式（３）において、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜６（好ましくは炭素数１〜３）のアルキル基を表す。このようなイソソルビド系ジカルボン酸を用いることによって、本発明のイソソルビド系ポリアミドはイソソルビド骨格またはその誘導体骨格と２つのテレフタル酸骨格を有する剛直な構造となり、熱分解温度、ガラス転移温度および貯蔵弾性率が高くなる。このようなイソソルビド系ジカルボン酸は１種を単独で使用しても２種以上を併用してもよい。また、このようなイソソルビド系ジカルボン酸のうち、前記式（３）中のＲ１〜Ｒ４が全て水素原子であるもの、すなわち、４，４’−ジカルボキシ−１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−フェニル−Ｄ−ソルビトール、４，４’−ジカルボキシ−１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−フェニル−Ｄ−マンニトール、４，４’−ジカルボキシ−１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−フェニル−Ｌ−ソルビトールなどが好ましい。
【００３９】
本発明に用いられるイソソルビド系ジカルボン酸は、例えば、以下の方法により得ることができる。すなわち、先ず、下記式（５）：
【００４０】
【化８】
【００４１】
（前記式（５）中、Ｒ１〜Ｒ４は前記式（３）中のＲ１〜Ｒ４と同義である。）
で表されるイソソルビドおよびその誘導体からなる群から選択される少なくとも１種のイソソルビド系化合物とｐ−ハロゲン化ベンゾニトリルとを反応させて、下記式（６）：
【００４２】
【化９】
【００４３】
（前記式（６）中、Ｒ１〜Ｒ４は前記式（３）中のＲ１〜Ｒ４と同義である。）
で表されるイソソルビド系シアン化合物を調製する。この反応は溶媒中、触媒の存在下で実施することが好ましい。
【００４４】
前記イソソルビド系化合物としては、前記式（５）中のＲ１〜Ｒ４が全て水素原子であるもの、すなわち、１，４：３，６−ジアンヒドロ−Ｄ−ソルビトール（イソソルビド）、１，４：３，６−ジアンヒドロ−Ｄ−マンニトール（イソマンニド）、１，４：３，６−ジアンヒドロ−Ｌ−ソルビトール（イソイディド）が好ましい。また、イソソルビド系化合物は１種を単独で使用しても２種以上を併用してもよい。さらに、前記ｐ−ハロゲン化ベンゾニトリルとしては、ｐ−フルオロベンゾニトリル、ｐ−クロロベンゾニトリルなどが好ましい。また、ハロゲン化ベンゾニトリルは１種を単独で使用しても２種以上を併用してもよい。
【００４５】
前記溶媒としては特に制限はないが、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）などの極性溶媒が好ましい。また、前記触媒としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの無機塩触媒が好ましい。さらに、反応温度としては特に制限はないが、１２０〜１８０℃が好ましく、また、反応時間も特に制限はないが、６〜１８時間が好ましい。
【００４６】
このようにして得られるイソソルビド系シアン化合物としては、前記式（６）中のＲ１〜Ｒ４が全て水素原子であるもの、すなわち、１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−（４−シアノフェニル）−Ｄ−ソルビトール、１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−（４−シアノフェニル）−Ｄ−マンニトール、１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−（４−シアノフェニル）−Ｌ−ソルビトールなどが好ましい。
【００４７】
次に、前記式（６）で表されるイソソルビド系シアン化合物を強酸の存在下で加水分解することによってシアノ基がカルボキシル基に変換され、前記式（３）で表されるイソソルビド系ジカルボン酸が得られる。このような加水分解の条件としては特に制限はなく、ニトリルからカルボン酸を得る反応条件と同様の条件を適用することができる。また、前記強酸としては特に制限はないが、硫酸、塩酸などが好ましい。
【００４８】
また、本発明に用いられるジアミンは、下記式（４）：
Ｈ２Ｎ−Ｒ−ＮＨ２ （４）
で表されるものであって、前記式（４）中のＲは、炭素数１〜１４（好ましくは炭素数１〜１２）の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、炭素数１〜１４（好ましくは炭素数１〜１２）の直鎖状もしくは分岐状のアルケニレン基、炭素数３〜６のシクロアルキレン基、または下記式（２）：
【００４９】
【化１０】
【００５０】
で表される２価の芳香族含有基を表す。前記式（２）中、Ｚは炭素数１〜１４（好ましくは炭素数１〜６）の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、ＮＨ基を表し、ａは０または１である。
【００５１】
このようなジアミンを用いることによってイソソルビド系ポリアミドに靭性が付与される。これにより、本発明のイソソルビド系ポリアミドにおいては、剛性と靭性がバランスよく発現するため、イソソルビド骨格またはその誘導体骨格と２つのテレフタル酸骨格という剛直な構造によるガラス転移温度の上昇が適度に抑制され、成形加工が可能となる。
【００５２】
前記式（４）で表されるジアミンは１種を単独で使用しても２種以上を併用してもよい。また、このようなジアミンのうち、イソソルビド系ポリアミドの分子量が増大するという観点からは前記式（４）中のＲが炭素数１〜１４（より好ましくは炭素数１〜１２）の直鎖状アルキレン基または炭素数１〜１４（より好ましくは炭素数１〜１２）の直鎖状アルケニレン基であるジアミンが好ましく、イソソルビド系ポリアミドのガラス転移温度がより高くなるという観点からは前記式（４）中のＲが前記式（２）で表される２価の芳香族含有基であるジアミンが好ましい。
【００５３】
本発明に用いられる亜リン酸トリフェニル類としては、前記イソソルビド系ジカルボン酸と前記ジアミンとの重縮合反応を進行させるものであれば特に制限はないが、トリフェニルホスファイト、トリ−ｏ−トリルホスファイト、トリ−ｍ−トリルホスファイト、トリ−ｐ−トリルホスファイト、トリ−ｏ−クロロフェニルホスファイト、トリ−ｍ−クロロフェニルホスファイト、トリ−ｐ−クロロフェニルホスファイトなどが好ましい。このような亜リン酸トリフェニル類を用いることによって比較的低温で前記重縮合反応を進行させることが可能となる。また、亜リン酸トリフェニル類は１種を単独で使用しても２種以上を併用してもよい。
【００５４】
本発明のイソソルビド系ポリアミドの製造方法においては、このような亜リン酸トリフェニル類の存在下で前記イソソルビド系ジカルボン酸と前記ジアミンとを重縮合させる。イソソルビド系ジカルボン酸とジアミンとの混合比（モル比）としては、イソソルビド系ジカルボン酸：ジアミン＝１：１〜１：４が好ましく、１：１〜１：２がより好ましい。また、前記亜リン酸トリフェニル類の添加量としては、イソソルビド系ジカルボン酸１モルに対して０．５〜４モルが好ましく、１〜２モルがより好ましい。また、前記重縮合反応における反応温度としては８０〜１４０℃が好ましく、反応時間としては３〜８時間が好ましい。
【００５５】
このような重縮合反応は溶媒中で実施することが好ましい。前記溶媒としては、前記イソソルビド系ジカルボン酸および前記ジアミンを良好に溶解させ、且つイソソルビド系ポリアミドに対して良溶媒となるものであれば特に制限はないが、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル尿素などのアミド系溶媒、トルエン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）およびそれらと前記アミド系溶媒との混合溶媒などが挙げられる。
【００５６】
また、本発明のイソソルビド系ポリアミドの製造方法においては、前記重縮合反応を促進させるために、３級アミンおよび／または無機塩を添加することが好ましい。このような３級アミンとしては、ピリジン、イミダゾール、ピコリン、ルチジンなどが挙げられ、これらは１種を単独で使用しても２種以上を併用してもよい。また、３級アミンの添加量としてはイソソルビド系ジカルボン酸１モルに対して１〜４モルが好ましい。前記無機塩としては、塩化リチウム、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、塩化亜鉛などが挙げられ、これらは１種を単独で使用しても２種以上を併用してもよい。また、無機塩の添加量としてはイソソルビド系ジカルボン酸１モルに対して２〜１０モルが好ましい。
【００５７】
このようにして得られる本発明のイソソルビド系ポリアミドを含有する溶液を、イソソルビド系ポリアミドに対して貧溶媒となるもの（例えば、メタノールなどのアルコール類）に注入することによって沈殿が生成し、この沈殿を回収することによって本発明のイソソルビド系ポリアミドが得られる。
【実施例】
【００５８】
以下、実施例および比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、実施例および比較例で得られたポリアミドの物性は以下の方法により測定した。
【００５９】
＜１Ｈ−ＮＭＲ測定＞
核磁気共鳴分析装置（日本電子（株）製「ＬＡ−５００」）を用いて下記条件でポリアミドの１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定した。
（測定条件）
周波数：５００ＭＨｚ
内部標準物質：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）
溶媒：ジメチルスルホキシド−ｄ６（ＤＭＳＯ−ｄ６）
＜ＦＴ−ＩＲ測定＞
フーリエ変換赤外分光光度計（ニコレー社製「Ａｖａｔａｒ３６０」）を用いて、全反射法（ＡＴＲ法）によりＦＴ−ＩＲスペクトルを測定した。
【００６０】
＜分子量測定＞
得られたポリアミドを無水トリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）で処理してポリアミド誘導体を調製し、このポリアミド誘導体について、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ、昭和電工（株）製「Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ−１０１」）を用いて下記条件で数平均分子量（Ｍｎ）および重量平均分子量（Ｍｗ）を測定し、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）を求めた。
（測定条件）
カラム：昭和電工（株）製「Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ ＫＦ−８０Ｍ」２本および昭和電工（株）製「Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ ＫＦ−８０２」１本の直列接続
溶媒：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ、流量：１．０ｍｌ／分）
標準物質：標準ポリスチレン
＜ガラス転移温度測定＞
得られたポリアミド約５．０ｍｇを精秤し、示差走査熱分析装置（ＴＡインスツルメント社製「ＤＳＣ Ｑ１０００」）を用いて２５℃から３００℃まで昇温速度１０℃／分で熱分析を行ない、ガラス転移温度（Ｔｇ）を求めた。
【００６１】
＜熱分解温度測定＞
得られたポリアミド約７．０ｍｇを精秤し、熱量分析装置（理学電機（株）製「Ｔｈｅｒｍｏｐｌｕｓ ＴＧ８１２０」）を用いて３０℃から５００℃昇温速度１０℃／分で加熱時の質量変化を測定し、質量が５質量％減少したときの温度を熱分解温度（Ｔｄ）とした。
【００６２】
＜貯蔵弾性率測定＞
得られたポリアミドを２５０℃で溶融し、これをプレス成形により厚さ１．０ｍｍの平板に成形した。この平板から約５．０ｍｍ×約３０ｍｍの試験片（厚さ：１．０ｍｍ）を切り出して寸法を正確に測定した。その後、この試験片について、粘弾性スペクトルメーター（アイ・ティー計測制御（株）製「ＤＶＡ−２００」）を用いて昇温速度１０℃／分で貯蔵弾性率（Ｅ’）を測定した。
【００６３】
また、実施例および比較例で使用した４，４’−ジカルボキシ−１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−フェニル−Ｄ−ソルビトールは以下の方法により調製した。
【００６４】
（調製例１）
先ず、下記式：
【００６５】
【化１１】
【００６６】
で表される反応により１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−（４−シアノフェニル）−Ｄ−ソルビトール（式（III））を調製した。すなわち、フラスコにイソソルビド（式（Ｉ）、２１．９２ｇ、１５０．０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（４２．８５ｇ、３１０ｍｍｏｌ）およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ、１３０ｍｌ）を入れ、２０分攪拌した。次いで、この溶液に、ＤＭＦ（３０ｍｌ）に溶解した４−フルオロベンゾニトリル（式（II）、３７．５８ｇ、３１０．０ｍｍｏｌ）を滴下した後、１５０℃で１２時間還流した。得られた溶液を室温まで冷却した後、メタノール／水（＝１／１（質量比））混合溶媒に注いで沈殿を生成させた。この沈殿をろ過により回収した後、エタノール／酢酸エチル（＝３／１（質量比））混合溶媒中で再結晶を行ない、得られた結晶を８０℃で乾燥させて１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−（４−シアノフェニル）−Ｄ−ソルビトール（式（III）、３２．０ｇ、収率：６１％）を得た。
【００６７】
この１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−（４−シアノフェニル）−Ｄ−ソルビトールの構造を１Ｈ−ＮＭＲ測定およびＦＴ−ＩＲ測定により確認した。その結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ｐｐｍ）：δ４．０３−４．１７（ｍ，４Ｈ，イソソルビド）、４．６３−４．６４（ｍ，１Ｈ，イソソルビド）、４．８５−４．９０（ｍ，２Ｈ，イソソルビド）、５．０４−５．０６（ｍ，１Ｈ，イソソルビド）、６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．０３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．５９−７．６２（ｍ，４Ｈ，ＡｒＨ）。
ＦＴ−ＩＲ（ＡＴＲ，ｃｍ−１）：１２５０（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、１６００（Ｃ−Ｏ−Ｃ，イソソルビド）、２２２１（―Ｃ≡Ｎ―）。
【００６８】
（調製例２）
次に、下記式：
【００６９】
【化１２】
【００７０】
で表される反応により４，４’−ジカルボキシ−１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−フェニル−Ｄ−ソルビトール（式（IV））を調製した。すなわち、フラスコに水（５０ｍｌ）を入れ、これに硫酸（４０ｍｌ）を徐々に滴下した後、調製例１で得られた１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−（４−シアノフェニル）−Ｄ−ソルビトール（式（III）、８．８４ｇ、２５．３９ｍｍｏｌ）を添加して１５０℃で２時間還流した。得られた溶液を室温まで冷却した後、水に注いで沈殿を生成させた。この沈殿をろ過により回収した後、１ＮのＮａＯＨ水溶液、１ＮのＨＣｌ水溶液、アセトンで順次洗浄した後、得られた固形分を８０℃で乾燥させて４，４’−ジカルボキシ−１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−フェニル−Ｄ−ソルビトール（式（IV）、９．０ｇ、収率：９２％）を得た。
【００７１】
この４，４’−ジカルボキシ−１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−フェニル−Ｄ−ソルビトールの構造を１Ｈ−ＮＭＲ測定およびＦＴ−ＩＲ測定により確認した。その結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ｐｐｍ）：δ３．８０−３．９２（ｍ，２Ｈ，イソソルビド）、３．９９−４．１０（ｍ，２Ｈ，イソソルビド）、４．５７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９Ｈｚ，イソソルビド）、５．００−５．０２（ｍ，３Ｈ，イソソルビド）、７．０２−７．０８（ｍ，４Ｈ，ＡｒＨ）、７．８５−７．８８（ｍ，４Ｈ，ＡｒＨ）。
ＦＴ−ＩＲ（ＡＴＲ，ｃｍ−１）：１２５２（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、１６０２（Ｃ−Ｏ−Ｃ，イソソルビド）、１６７３（Ｃ＝Ｏ）。
【００７２】
（実施例１）
下記式：
【００７３】
【化１３】
【００７４】
で表される反応により前記式（VI）（Ｒ：ｎ−ブチレン基）で表される繰り返し単位を含有するイソソルビド系ポリアミドを調製した。すなわち、調製例２で得られた４，４’−ジカルボキシ−１，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−フェニル−Ｄ−ソルビトール（式（IV）、５７９．３３ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）、１，４−ジアミノブタン（式（Ｖ）（Ｒ：ｎ−ブチレン基）、和光純薬工業（株）製、１３３．２３ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスファイト（（ＰｈＯ）３Ｐ、関東化学（株）製、２ｍＬ）、塩化カルシウム（和光純薬工業（株）製、３５０ｍｇ、３．５ｍｍｏｌ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ、和光純薬工業（株）製、８ｍＬ）およびピリジン（和光純薬工業（株）製、２ｍＬ）を、冷却装置を備えるガラス容器に入れた。このガラス容器内に窒素ガスを２０ｍｌ／分の流量で供給しながら、このガラス容器をオイルバスで加熱して１００〜１１０℃で６時間反応させた。得られた溶液を室温まで冷却した後、メタノールに注いで沈殿を生成させた。この沈殿をろ過により回収した後、水およびアセトンで順次洗浄した後、得られた固形分を８０℃で乾燥させて前記式（VI）（Ｒ：ｎ−ブチレン基）で表される繰り返し単位を含有するイソソルビド系ポリアミド（４９５ｍｇ、収率：７５％）を得た。
【００７５】
このイソソルビド系ポリアミドの構造を１Ｈ−ＮＭＲ測定およびＦＴ−ＩＲ測定により確認した。その結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ｐｐｍ）：δ１．５２−１．５４（ｍ，４Ｈ，ＣＨ２）、３．２６−３．２７（ｍ，４Ｈ，ＮＨ−ＣＨ２）、３．８９−４．０２（ｍ，４Ｈ，イソソルビド）、４．５７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，イソソルビド）、４．９９−５．０１（ｍ，３Ｈ，イソソルビド）、７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．０５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．７９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．８２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，ＡｒＨ）、８．３４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，ＮＨ）。
ＦＴ−ＩＲ（ＡＴＲ，ｃｍ−１）：１２４２（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、１６０４（Ｃ−Ｏ−Ｃ，イソソルビド）、１６２９（Ｃ＝Ｏ，アミド）、３３１４（ＮＨ，アミド）。
【００７６】
また、前記イソソルビド系ポリアミドのガラス転移温度（Ｔｇ）、熱分解温度（Ｔｄ）、数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、および多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）を前記方法により測定した。これらの結果を表１に示す。
【００７７】
（実施例２）
１，４−ジアミノブタンの代わりに１，６−ジアミノヘキサン（式（Ｖ）（Ｒ：ｎ−ヘキシレン基）、東京化成工業（株）製、１７４．５ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして前記式（VI）（Ｒ：ｎ−ヘキシレン基）で表される繰り返し単位を含有するイソソルビド系ポリアミド（５７０ｍｇ、収率：８１％）を得た。
【００７８】
このイソソルビド系ポリアミドの構造を１Ｈ−ＮＭＲ測定およびＦＴ−ＩＲ測定により確認した。その結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ｐｐｍ）：δ１．３０−１．３２（ｍ，４Ｈ，ＣＨ２）、１．５０−１．５１（ｍ，４Ｈ，ＣＨ２）、３．２２−３．２３（ｍ，４Ｈ，ＮＨ−ＣＨ２）、３．８９−４．０３（ｍ，４Ｈ，イソソルビド）、４．５７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，イソソルビド）、４．９９−５．０１（ｍ，３Ｈ，イソソルビド）、７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．０５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．７９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．８１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、８．３０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，ＮＨ）。
ＦＴ−ＩＲ（ＡＴＲ，ｃｍ−１）：１２４２（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、１６０４（Ｃ−Ｏ−Ｃ，イソソルビド）、１６２９（Ｃ＝Ｏ，アミド），３３１４（ＮＨ，アミド）。
【００７９】
また、前記イソソルビド系ポリアミドのガラス転移温度（Ｔｇ）、熱分解温度（Ｔｄ）、数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、および多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）を前記方法により測定した。これらの結果を表１に示す。
【００８０】
（実施例３）
１，４−ジアミノブタンの代わりに１，８−ジアミノオクタン（式（Ｖ）（Ｒ：ｎ−オクチレン基）、和光純薬工業（株）製、２２０．７２ｍｇ，１．５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして前記式（VI）（Ｒ：ｎ−オクチレン基）で表される繰り返し単位を含有するイソソルビド系ポリアミド（６１０ｍｇ、収率：８２％）を得た。
【００８１】
このイソソルビド系ポリアミドの構造を１Ｈ−ＮＭＲ測定およびＦＴ−ＩＲ測定により確認した。その結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ｐｐｍ）：δ１．２８−１．３０（ｍ，８Ｈ，ＣＨ２）、１．５０−１．５１（ｍ，４Ｈ，ＣＨ２）、３．２２−３．２３（ｍ，４Ｈ，ＮＨ−ＣＨ２）、３．８９−４．０２（ｍ，４Ｈ，イソソルビド）、４．５８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，イソソルビド）、４．９９−５．０１（ｍ，３Ｈ，イソソルビド）、７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．０５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．７９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．８２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、８．３１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，ＮＨ）。
ＦＴ−ＩＲ（ＡＴＲ，ｃｍ−１）：１２３９（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、１６０４（Ｃ−Ｏ−Ｃ，イソソルビド）、１６２９（Ｃ＝Ｏ，アミド）、３３２３（ＮＨ，アミド）。
【００８２】
また、前記イソソルビド系ポリアミドのガラス転移温度（Ｔｇ）、熱分解温度（Ｔｄ）、数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）、および４０℃での貯蔵弾性率（Ｅ’）を前記方法により測定した。これらの結果を表１に示す。
【００８３】
（実施例４）
１，４−ジアミノブタンの代わりに１，８−ジアミノノナン（式（Ｖ）（Ｒ：ｎ−ノニレン基）、Ａｃｒｏｓ社製、２４２．２ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして前記式（VI）（Ｒ：ｎ−ノニレン基）で表される繰り返し単位を含有するイソソルビド系ポリアミド（５５０ｍｇ、収率：７０％）を得た。
【００８４】
このイソソルビド系ポリアミドの構造を１Ｈ−ＮＭＲ測定およびＦＴ−ＩＲ測定により確認した。その結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ｐｐｍ）：δ１．２５−１．２８（ｍ，１０Ｈ，ＣＨ２）、１．４８−１．４９（ｍ，４Ｈ，ＣＨ２）、３．２０−３．２２（ｍ，４Ｈ，ＮＨ−ＣＨ２）、３．８９−４．０３（ｍ，４Ｈ，イソソルビド）、４．５６−４．５７（ｍ，１Ｈ，イソソルビド）、４．９９−５．０１（ｍ，３Ｈ，イソソルビド）、６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．０５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．７８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．８１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、８．３０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，ＮＨ）。
ＦＴ−ＩＲ（ＡＴＲ，ｃｍ−１）：１２４０（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、１６０４（Ｃ−Ｏ−Ｃ，イソソルビド）、１６２９（Ｃ＝Ｏ，アミド）、３３２３（ＮＨ，アミド）。
【００８５】
また、前記イソソルビド系ポリアミドのガラス転移温度（Ｔｇ）、熱分解温度（Ｔｄ）、数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、および多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）を前記方法により測定した。これらの結果を表１に示す。
【００８６】
（実施例５）
１，４−ジアミノブタンの代わりに１，１０−ジアミノデカン（式（Ｖ）（Ｒ：ｎ−デシレン基）、Ａｃｒｏｓ社製、２５９．２８ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして前記式（VI）（Ｒ：ｎ−デシレン基）で表される繰り返し単位を含有するイソソルビド系ポリアミド（６９０ｍｇ、収率：８８％）を得た。
【００８７】
このイソソルビド系ポリアミドの構造を１Ｈ−ＮＭＲ測定およびＦＴ−ＩＲ測定により確認した。その結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ｐｐｍ）：δ１．２５−１．２７（ｍ，１２Ｈ，ＣＨ２）、１．４８−１．４９（ｍ，４Ｈ，ＣＨ２）、３．２２−３．２３（ｍ，４Ｈ，ＮＨ−ＣＨ２）、３．８９−４．０１（ｍ，４Ｈ，イソソルビド）、４．５７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，イソソルビド）、４．９９−５．０１（ｍ，３Ｈ，イソソルビド）、７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．０５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．７８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．８１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、８．３０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，ＮＨ）。
ＦＴ−ＩＲ（ＡＴＲ，ｃｍ−１）：１２４２（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、１６０５（Ｃ−Ｏ−Ｃ，イソソルビド）、１６２９（Ｃ＝Ｏ，アミド）、３３２３（ＮＨ，アミド）。
【００８８】
また、前記イソソルビド系ポリアミドのガラス転移温度（Ｔｇ）、熱分解温度（Ｔｄ）、数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）、および４０℃での貯蔵弾性率（Ｅ’）を前記方法により測定した。これらの結果を表１に示す。
【００８９】
（実施例６）
１，４−ジアミノブタンの代わりに１，１１−ジアミノウンデカン（式（Ｖ）（Ｒ：ｎ−ウンデシレン基）、東京化成工業（株）製、２７９．５ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして前記式（VI）（Ｒ：ｎ−ウンデシレン基）で表される繰り返し単位を含有するイソソルビド系ポリアミド（５２０ｍｇ、収率：６３％）を得た。
【００９０】
このイソソルビド系ポリアミドの構造を１Ｈ−ＮＭＲ測定およびＦＴ−ＩＲ測定により確認した。その結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ｐｐｍ）：δ１．２４−１．２５（ｍ，１４Ｈ，ＣＨ２）、１．４７−１．４９（ｍ，４Ｈ，ＣＨ２）、３．２０−３．２２（ｍ，４Ｈ，ＮＨ−ＣＨ２）、３．８９−４．０３（ｍ，４Ｈ，イソソルビド）、１．４７−１．４９（ｍ，１Ｈ，イソソルビド）、４．９８−５．０２（ｍ，３Ｈ，イソソルビド）、７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．０５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．７８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．８１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、８．３０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，ＮＨ）。
ＦＴ−ＩＲ（ＡＴＲ，ｃｍ−１）：１２３９（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、１６０４（Ｃ−Ｏ−Ｃ，イソソルビド）、１６２９（Ｃ＝Ｏ，アミド）、３３２３（ＮＨ，アミド）。
【００９１】
また、前記イソソルビド系ポリアミドのガラス転移温度（Ｔｇ）、熱分解温度（Ｔｄ）、数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、および多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）を前記方法により測定した。これらの結果を表１に示す。
【００９２】
（実施例７）
１，４−ジアミノブタンの代わりに１，１２−ジアミノドデカン（式（Ｖ）（Ｒ：ｎ−ドデシレン基）、和光純薬工業（株）製、３０６．９ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして前記式（VI）（Ｒ：ｎ−ドデシレン基）で表される繰り返し単位を含有するイソソルビド系ポリアミド（７２０ｍｇ、収率：８７％）を得た。
【００９３】
このイソソルビド系ポリアミドの構造を１Ｈ−ＮＭＲ測定およびＦＴ−ＩＲ測定により確認した。その結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ｐｐｍ）：δ１．２４−１．２６（ｍ，１６Ｈ，ＣＨ２）、１．４８−１．４９（ｍ，４Ｈ，ＣＨ２）、３．２２−３．２３（ｍ，４Ｈ，ＮＨ−ＣＨ２）、３．８９−４．０２（ｍ，４Ｈ，イソソルビド）、４．５７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，イソソルビド）、４．９９−５．０１（ｍ，３Ｈ，イソソルビド）、７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．０５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．７８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．８１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、８．２９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，ＮＨ）。
ＦＴ−ＩＲ（ＡＴＲ，ｃｍ−１）：１２４１（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、１６０５（Ｃ−Ｏ−Ｃ，イソソルビド）、１６３０（Ｃ＝Ｏ，アミド）、３３２１（ＮＨ，アミド）。
【００９４】
また、前記イソソルビド系ポリアミドのガラス転移温度（Ｔｇ）、熱分解温度（Ｔｄ）、数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）、および４０℃での貯蔵弾性率（Ｅ’）を前記方法により測定した。これらの結果を表１に示す。
【００９５】
（実施例８）
１，４−ジアミノブタンの代わりに４，４’−ジアミノジフェニルメタン（式（Ｖ）（Ｒ：メチレンビス（ｐ−フェニレン）基）、東京化成工業（株）製、２９７．４ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして前記式（VI）（Ｒ：メチレンビス（ｐ−フェニレン）基）で表される繰り返し単位を含有するイソソルビド系ポリアミド（７９０ｍｇ、収率：９６％）を得た。
【００９６】
このイソソルビド系ポリアミドの構造を１Ｈ−ＮＭＲ測定およびＦＴ−ＩＲ測定により確認した。その結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ｐｐｍ）：δ３．８５−４．０１（ｍ，６Ｈ，ＣＨ２＋イソソルビド）、４．５７−４．５８（ｍ，１Ｈ，イソソルビド）、５．０１−５．０４（ｍ，３Ｈ，イソソルビド）、７．０４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．０９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．１５（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．６４（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．８８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．９２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、１０．０３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，ＮＨ）。
ＦＴ−ＩＲ（ＡＴＲ，ｃｍ−１）：１２３７（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、１６０２（Ｃ−Ｏ−Ｃ，イソソルビド）、１６３０（Ｃ＝Ｏ，アミド）、３３０６（ＮＨ，アミド）。
【００９７】
また、前記イソソルビド系ポリアミドのガラス転移温度（Ｔｇ）、熱分解温度（Ｔｄ）、数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、および多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）を前記方法により測定した。これらの結果を表１に示す。
【００９８】
（実施例９）
１，４−ジアミノブタンの代わりに４，４’−ジアミノジフェニルエーテル（式（Ｖ）（Ｒ：オキシビス（ｐ−フェニレン）基）、東京化成工業（株）製、３００．３６ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして前記式（VI）（Ｒ：オキシビス（ｐ−フェニレン）基）で表される繰り返し単位を含有するイソソルビド系ポリアミド（８００ｍｇ、収率：９６％）を得た。
【００９９】
このイソソルビド系ポリアミドの構造を１Ｈ−ＮＭＲ測定およびＦＴ−ＩＲ測定により確認した。その結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ｐｐｍ）：δ３．９０−４．０３（ｍ，４Ｈ，イソソルビド）、４．５８−４．５９（ｍ，１Ｈ，イソソルビド）、５．０３−５．０４（ｍ，３Ｈ，イソソルビド）、６．９６（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．１１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．７３（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．９０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．９３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、１０．１０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，ＮＨ）。
ＦＴ−ＩＲ（ＡＴＲ，ｃｍ−１）：１２１７、１２２９（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、１６０３（Ｃ−Ｏ−Ｃ，イソソルビド）、１６３０（Ｃ＝Ｏ，アミド）、３３０５（ＮＨ，アミド）。
【０１００】
また、前記イソソルビド系ポリアミドのガラス転移温度（Ｔｇ）、熱分解温度（Ｔｄ）、数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、および多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）を前記方法により測定した。これらの結果を表１に示す。
【０１０１】
（実施例１０）
１，４−ジアミノブタンの代わりに４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド（式（Ｖ）（Ｒ：チオビス（ｐ−フェニレン）基）、和光純薬工業（株）製、３２４．５ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして前記式（VI）（Ｒ：チオビス（ｐ−フェニレン）基）で表される繰り返し単位を含有するイソソルビド系ポリアミド（８１０ｍｇ、収率：９５％）を得た。
【０１０２】
このイソソルビド系ポリアミドの構造を１Ｈ−ＮＭＲ測定およびＦＴ−ＩＲ測定により確認した。その結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ｐｐｍ）：δ３．９１−４．０３（ｍ，４Ｈ，イソソルビド）、４．５８−４．５９（ｍ，１Ｈ，イソソルビド）、５．０３−５．０４（ｍ，３Ｈ，イソソルビド）、７．０６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．１１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．２８（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．７６（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．８９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．９２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、１０．１８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，ＮＨ）。
ＦＴ−ＩＲ（ＡＴＲ，ｃｍ−１）：１２３６（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、１６０３（Ｃ−Ｏ−Ｃ，イソソルビド）、１６３０（Ｃ＝Ｏ，アミド）、３３０５（ＮＨ，アミド）。
【０１０３】
また、前記イソソルビド系ポリアミドのガラス転移温度（Ｔｇ）、熱分解温度（Ｔｄ）、数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、および多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）を前記方法により測定した。これらの結果を表１に示す。
【０１０４】
（実施例１１）
１，４−ジアミノブタンの代わりにｐ−フェニレンジアミン（式（Ｖ）（Ｒ：フェニレン基）、シグマ社製、１６２．２ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして前記式（VI）（Ｒ：フェニレン基）で表される繰り返し単位を含有するイソソルビド系ポリアミド（６９０ｍｇ、収率：１００％）を得た。
【０１０５】
このイソソルビド系ポリアミドの構造を１Ｈ−ＮＭＲ測定およびＦＴ−ＩＲ測定により確認した。その結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ｐｐｍ）：δ３．９１−４．０５（ｍ，４Ｈ，イソソルビド）、４．５９−４．６０（ｍ，１Ｈ，イソソルビド）、５．０３−５．０４（ｍ，３Ｈ，イソソルビド）、７．０７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．０９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．７０（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．９０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．９６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ）、１０．０７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，ＮＨ）。
ＦＴ−ＩＲ（ＡＴＲ，ｃｍ−１）：１２４０（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、１６０４（Ｃ−Ｏ−Ｃ，イソソルビド）、１６４２（Ｃ＝Ｏ，アミド）、３３２５（ＮＨ，アミド）。
【０１０６】
また、前記イソソルビド系ポリアミドのガラス転移温度（Ｔｇ）、熱分解温度（Ｔｄ）、数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、および多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）を前記方法により測定した。これらの結果を表１に示す。
【０１０７】
（比較例１）
１，４−ジアミノブタンの代わりに４，４’−ジアミノジフェニルスルホン（式（Ｖ）（Ｒ：スルホニルビス（ｐ−フェニレン）基）、関東化学（株）製、３７２．５ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして前記式（VI）（Ｒ：スルホニルビス（ｐ−フェニレン）基）で表される繰り返し単位を含有するイソソルビド系ポリアミド（７６０ｍｇ、収率：８５％）を得た。
【０１０８】
このイソソルビド系ポリアミドの構造を１Ｈ−ＮＭＲ測定およびＦＴ−ＩＲ測定により確認した。その結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ｐｐｍ）：δ３．８８−３．９０（ｍ，４Ｈ，イソソルビド）、４．５７−４．５８（ｍ，１Ｈ，イソソルビド）、５．０３−５．０４（ｍ，３Ｈ，イソソルビド）、７．０６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．１２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．８７（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．８９（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．９１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、７．９７（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＡｒＨ）、１０．４６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，ＮＨ）。
ＦＴ−ＩＲ（ＡＴＲ，ｃｍ−１）：１２３７（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、１５８８（Ｃ−Ｏ−Ｃ，イソソルビド）、１６６５（Ｃ＝Ｏ，アミド）、３３４４（ＮＨ，アミド）。
【０１０９】
また、前記イソソルビド系ポリアミドのガラス転移温度（Ｔｇ）、熱分解温度（Ｔｄ）、数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、および多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）を前記方法により測定した。これらの結果を表１に示す。なお、前記測定条件においてはこのイソソルビド系ポリアミドのＴｇは検出されなかった。また、このイソソルビド系ポリアミドから貯蔵弾性率測定用試験片を作製することは困難であった。
【０１１０】
（比較例２）
１，４−ジアミノブタンの代わりに２，４−ジアミノ−６−メチル−１，３，５−トリアジン（和光純薬工業（株）製、１８７．７ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして合成を試みたが、イソソルビド系ポリアミドは得られなかった。
【０１１１】
（比較例３）
１，４−ジアミノブタンの代わりにジアミノマレオニトリル（和光純薬工業（株）製、１６２．１５ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして合成を試みたが、イソソルビド系ポリアミドは得られなかった。
【０１１２】
【表１】
【０１１３】
表１に示した結果から明らかなように、ジアミンとして、アルキレンジアミンを用いた場合（実施例１〜７）、特定のジフェニルジアミンを用いた場合（実施例８〜１１）およびフェニレンジアミンを用いた場合（実施例１２）においては、得られたイソソルビド系ポリアミドは、ガラス転移温度が１００〜２５０℃であり、成形しやすいものであり、また、熱分解温度が３００℃以上であり、熱分解しにくいものであることがわかった。
【０１１４】
一方、ジアミンとしてジアミノジフェニルスルホンを用いた場合（比較例１）においては、熱分解温度が３８０℃であり、熱分解しにくいイソソルビド系ポリアミドが得られたが、１００〜２５０℃の温度範囲にはガラス転移温度が検出されず、成形性に劣るものであることがわかった。
【産業上の利用可能性】
【０１１５】
以上説明したように、本発明によれば、熱分解温度およびガラス転移温度が高く、且つ成形加工が可能なイソソルビド系ポリアミドを得ることが可能となる。
【０１１６】
したがって、本発明のイソソルビド系ポリアミドは、耐熱性に優れているため、ラジエータカバー、エンジンカバー、タイミングベルトカバー、樹脂製インテークマンホールドといった高い耐熱性が要求される自動車部品に使用することができる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）：
【化１】
（式（１）中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒは炭素数１〜１４の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、炭素数１〜１４の直鎖状もしくは分岐状のアルケニレン基、炭素数３〜６のシクロアルキレン基、または下記式（２）：
【化２】
（式（２）中、Ｚは炭素数１〜１４の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、ＮＨ基を表し、ａは０または１である。）
で表される２価の芳香族含有基を表す。）
で表される繰り返し単位を含有することを特徴とするイソソルビド系ポリアミド。
【請求項２】
下記式（３）：
【化３】
（式（３）中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。）
で表されるイソソルビド系ジカルボン酸と、
下記式（４）：
Ｈ２Ｎ−Ｒ−ＮＨ２ （４）
（式（４）中、Ｒは炭素数１〜１４の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、炭素数１〜１４の直鎖状もしくは分岐状のアルケニレン基、炭素数３〜６のシクロアルキレン基、または下記式（２）：
【化４】
（式（２）中、Ｚは炭素数１〜１４の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、ＮＨ基を表し、ａは０または１である。）
で表される２価の芳香族含有基を表す。）
で表されるジアミンとを亜リン酸トリフェニル類の存在下で反応させることを特徴とするイソソルビド系ポリアミドの製造方法。
【請求項３】
前記イソソルビド系ジカルボン酸と前記ジアミンとを３級アミンおよび無機塩の存在下で反応させることを特徴とする請求項２に記載のイソソルビド系ポリアミドの製造方法。
【請求項１】
下記式（１）：
【化１】
（式（１）中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒは炭素数１〜１４の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、炭素数１〜１４の直鎖状もしくは分岐状のアルケニレン基、炭素数３〜６のシクロアルキレン基、または下記式（２）：
【化２】
（式（２）中、Ｚは炭素数１〜１４の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、ＮＨ基を表し、ａは０または１である。）
で表される２価の芳香族含有基を表す。）
で表される繰り返し単位を含有することを特徴とするイソソルビド系ポリアミド。
【請求項２】
下記式（３）：
【化３】
（式（３）中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。）
で表されるイソソルビド系ジカルボン酸と、
下記式（４）：
Ｈ２Ｎ−Ｒ−ＮＨ２ （４）
（式（４）中、Ｒは炭素数１〜１４の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、炭素数１〜１４の直鎖状もしくは分岐状のアルケニレン基、炭素数３〜６のシクロアルキレン基、または下記式（２）：
【化４】
（式（２）中、Ｚは炭素数１〜１４の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、ＮＨ基を表し、ａは０または１である。）
で表される２価の芳香族含有基を表す。）
で表されるジアミンとを亜リン酸トリフェニル類の存在下で反応させることを特徴とするイソソルビド系ポリアミドの製造方法。
【請求項３】
前記イソソルビド系ジカルボン酸と前記ジアミンとを３級アミンおよび無機塩の存在下で反応させることを特徴とする請求項２に記載のイソソルビド系ポリアミドの製造方法。
【公開番号】特開２０１１−１７８９７４（Ｐ２０１１−１７８９７４Ａ）
【公開日】平成２３年９月１５日（２０１１．９．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−４７５０１（Ｐ２０１０−４７５０１）
【出願日】平成２２年３月４日（２０１０．３．４）
【出願人】（０００００３６０９）株式会社豊田中央研究所 (4,200)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年９月１５日（２０１１．９．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年３月４日（２０１０．３．４）
【出願人】（０００００３６０９）株式会社豊田中央研究所 (4,200)
【Ｆターム（参考）】
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