インクジェット用インクおよびインクから得られた硬化膜
【課題】金属エッチング液耐性、剥離液に対する剥離性、またはめっき液耐性を有するインクジェット用インクが求められている。
【解決手段】一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）と、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）とを含むインクジェット用インク。
（式（ａ）中、ｍとｎはそれぞれ独立して０〜３の整数であり、Ｒ１はそれぞれ独立して水素または炭素数１〜３のアルキルであり、Ｒ２はそれぞれ独立して分岐構造を有していてもよい炭素数１〜１３のアルキレンであり、Ｒ３は単結合または分岐構造を有していてもよい炭素数１〜１３のアルキレンである。）
【解決手段】一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）と、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）とを含むインクジェット用インク。
（式（ａ）中、ｍとｎはそれぞれ独立して０〜３の整数であり、Ｒ１はそれぞれ独立して水素または炭素数１〜３のアルキルであり、Ｒ２はそれぞれ独立して分岐構造を有していてもよい炭素数１〜１３のアルキレンであり、Ｒ３は単結合または分岐構造を有していてもよい炭素数１〜１３のアルキレンである。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示素子、ＥＬ表示素子、プリント配線基板等を製造するために用いられるインクジェット用インクに関する。さらに本発明は、該インクジェット用インクにより得られる硬化膜（パターン化された硬化膜を含む）、硬化膜形成方法、および、硬化膜が形成された電子回路基板、電子部品、表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィ法に比べて、インクジェット法によるパターン形成は工程が簡単になる上に、材料使用量の削減も期待できるので、電子機器に使用されるプリント配線板等の製造に用いることが提案されている（たとえば、特開２００３−３０２６４２号公報（特許文献１）、特開２００５−６８２８０号公報（特許文献２）、特開２００８−５０６０１号公報（特許文献３）、特開平９−１８３９２９号公報（特許文献４）、特開２００７−２３１２３１号公報（特許文献５）を参照）。
【０００３】
近年、電子機器の小型化が進み、軽量かつフレキシブルなプリント配線板を用いた電子回路基板が多く用いられている。このような電子回路基板は、たとえば、エッチングレジストにより、所定の回路パターンをなす金属配線部を形成し、その後にめっきレジストによるめっきパターン作製、および金属層表面を保護する保護膜であるカバーレイをコーティングする工程を経て作製されている。
【０００４】
レジストによるめっきパターン作製および金属層表面を保護する保護膜であるカバーレイをコーティングする工程をインクジェット法により実施する際、インクジェット用インクの保存安定性が要求され、安定したインク吐出性が要求される。また、インクジェット用インクにより形成された硬化膜は各インク用途により、さまざまな性能が要求される。
たとえば、エッチングレジスト用として形成されたインクジェット用インクの硬化膜については、金属エッチング液に対する耐性が要求され、剥離液に対する剥離性が要求される。たとえば、めっきレジスト用として形成されたインクジェット用インクの硬化膜については、めっき液に対する耐性が要求され、剥離液に対する剥離性が要求される。たとえば、カバーレイ用として形成されたインクジェット用インクの硬化膜については、めっき液に対する耐性が要求され、はんだ耐熱性が要求される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】ＷＯ２００４−０９９２７２号パンフレット
【特許文献２】特開２００５−６８２８０号公報
【特許文献３】特開２００８−５０６０１号公報
【特許文献４】特開平９−１８３９２９号公報
【特許文献５】特開２００７−２３１２３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、従来のインクジェット用インクの硬化膜は、上記性能のいずれかひとつ、または複数の性能が不十分であった。
【０００７】
上記の状況の下、たとえばインクの保存安定性に優れたインクジェット用インクが求められている。また、たとえば、安定した吐出が可能なインクジェット用インクが求められている。そしてインクジェット用インクを硬化膜としたときに、たとえばエッチングレジスト用では金属エッチング液に対する耐性や剥離液に対する剥離性を有し、また、たとえばめっきレジスト用ではめっき液に対する耐性や剥離液に対する剥離性を有し、また、たとえばカバーレイ用ではめっき液に対する耐性やはんだ耐熱性を有するインクジェット用インクが求められている。また、信頼性の高いフレキシブル配線板が求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者等は、インクジェット用インクに所定の構造を有する化合物（Ａ）を用いると上記課題に有効に対処することができることを見出し、この知見に基づいて、化合物（Ａ）と、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）とを含むインクジェット用インクに関する本発明を完成した。本発明は以下のようなインクジェット用インク、インクジェット用インクから得られた硬化膜およびその形成方法等を提供する。
【０００９】
［１］ 一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）と、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）とを含むインクジェット用インク。
【化１】
（式（ａ）中、ｍとｎはそれぞれ独立して０〜３の整数であり、Ｒ１はそれぞれ独立して水素または炭素数１〜３のアルキルであり、Ｒ２はそれぞれ独立して分岐構造を有していてもよい炭素数１〜１３のアルキレンであり、Ｒ３は単結合または分岐構造を有していてもよい炭素数１〜１３のアルキレンである。）
［２］ 一般式（ａ）において、ｍとｎはそれぞれ独立して１〜２の整数であり、Ｒ１はそれぞれ独立して水素またはメチルであり、Ｒ２はそれぞれ独立して分岐構造を有していてもよい炭素数２〜３のアルキレンであり、Ｒ３は単結合または炭素数２〜５のアルキレンである、［１］に記載のインクジェット用インク。
［３］ ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）が、一般式（ｂ）で表される化合物である、［１］または［２］に記載のインクジェット用インク。
【化２】
（一般式（ｂ）中、Ｒ４は水素または炭素数１〜３のアルキルであり、Ｒ５は炭素数２〜１２の有機基であり、ｓは１〜３０の整数である。）
［４］ ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）が、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる１以上である、［１］または［２］に記載のインクジェット用インク。
［５］ 光重合開始剤（Ｃ）が、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、１，２−オクタンジオン，１−[４−（フェニルチオ）フェニル]−，２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）から選ばれた少なくとも１つの化合物である、［１］〜［４］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
［６］ カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）が一般式（ｄ−１）又は（ｄ−２）で表される化合物である、［１］〜［５］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【化３】
（一般式（ｄ−１）中、Ｒ６は水素または炭素数１〜３のアルキルであり、Ｒ７は炭素数２〜１２の有機基であり、Ｒ８は炭素数２〜１２の有機基であり、ｐは１〜３０の整数である。）
【化４】
（一般式（ｄ−２）中、Ｒ９は水素または炭素数１〜３のアルキルであり、Ｒ１０は炭素数２〜１２の有機基であり、ｑは１〜３０の整数であり、ｒは１〜３の整数である。）
［７］ インクジェット用インク中に、一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）が１〜９０重量％、ラジカル重合性モノマー（Ｂ）が１〜８０重量％、光重合開始剤（Ｃ）が０．２〜２０重量％およびカルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）が１〜６０重量％含まれる、［１］〜［６］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
［８］ さらに、多官能のラジカル重合性モノマー（Ｇ）を含む［１］〜［７］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
［９］ さらに、熱反応性樹脂（Ｅ）および難燃剤（Ｆ）からなる群から選ばれる少なくとも１つを含む、［１］〜［８］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
また、［１］〜［８］のいずれかに記載のインクジェット用インクは、エッチングレジストまたはめっきレジストの用途、または、カバーレイの用途のインクジェット用インクであることが好ましい。
［１０］ インクジェット法によって［１］〜［８］のいずれかに記載のインクジェット用インクを塗布し、塗布されたインクに光を照射することによって硬化膜を形成する、硬化膜形成方法。
［１１］ インクジェット法によって［１］〜［８］のいずれかに記載のインクジェット用インクを塗布し、塗布されたインクへの光照射および加熱を同時、または、光照射の後に加熱を行うことによって硬化膜を形成する、硬化膜形成方法。
［１２］ ［１０］または［１１］に記載された方法で得られた硬化膜。
［１３］ 所定のパターンで形成されている、［１２］に記載の硬化膜。
［１４］ 基板上に［１２］または［１３］に記載された硬化膜が形成された電子回路基板。
［１５］ ［１４］に記載された電子回路基板を有する電子部品。
［１６］ ［１４］に記載された電子回路基板または［１５］に記載された電子部品を有する表示素子。
【００１０】
なお、本明細書中、アクリレートとメタクリレートの両者を示すために「（メタ）アクリレート」のように表記することがある。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の好ましい態様に係るインクジェット用インクは、たとえば、インクの保存安定性に優れ、安定した吐出が可能となる。また、このインクジェット用インクから得られる硬化膜は、たとえば、金属エッチング液、アルカリ性水溶液またはめっき液に対する耐性や剥離液に対する剥離性を有している。たとえば、このインクジェット用インクから得られる硬化膜は、めっき液に対する耐性や剥離液に対する剥離性を有している。たとえば、インクジェット用インクから得られる硬化膜は、めっき液に対する耐性やはんだ耐熱性を有している。
さらに、本発明の好ましい態様に係るインクジェット用インクを用いることにより、電子回路基板の製造における保護膜の形成にかかる手間や時間を短縮でき、消耗品も削減できる。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
１．本発明のインクジェット用インク
本発明のインクジェット用インクは、一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）と、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）とを含むインクジェット用インクである。
本発明のインクジェット用インクは、無色であっても有色であってもよい。
【００１３】
また、本発明のインクジェット用インクは、一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）と、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）の他に、任意に、熱反応性樹脂（Ｅ）、難燃剤（Ｆ）等を含むことができる。また、所望により、多官能のラジカル重合性モノマー、反応性希釈剤、溶媒、添加剤、重合禁止剤、着色剤等をさらに含むことができる。なお、「熱反応性」とは、例えば、熱により架橋反応を起こす性質を意味するが、これに限定されるわけではない。
【００１４】
１．１ 一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）
本発明のインクジェット用インクで用いられる一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）の具体例は、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、アルコキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、アルコキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート等である。
【００１５】
これらの中でも、ジプロピレングリコールジアクリレート（一般式（ａ）においてｍ、ｎがいずれも１であり、Ｒ１は水素であり、Ｒ２はイソプロピレンであり、Ｒ３は単結合である化合物）、または、トリプロピレングリコールジアクリレート（一般式（ａ）においてｍ、ｎがそれぞれ１、２、またはｍ、ｎがそれぞれ２、１であり、Ｒ１は水素であり、Ｒ２はイソプロピレンであり、Ｒ３は単結合である化合物）、または、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート（ｍ、ｎがいずれも２であり、Ｒ１は水素であり、Ｒ２はイソプロピレンであり、Ｒ３は２，２−ジメチルプロピレンである化合物）が好ましい。
【００１６】
ジプロピレングリコールジアクリレートはサートマー社のＳＲ５０８として市販されており、トリプロピレングリコールジアクリレートはサートマー社のＳＲ３０６Ｈとして市販されており、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートはサートマー社のＳＲ３００９として市販されている。
【００１７】
一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）は、式（ａ）で表される化合物群から選ばれる１種の化合物であっても、これらの混合物であってもよい。
インクジェット用インク中に一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）が１〜９０重量％含まれると、インクジェット時、ノズルからの吐出安定性が良好になるので好ましく、１〜８０重量％含まれるとより好ましく、１〜７０重量％含まれるとさらに好ましい。
【００１８】
１．２ ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）
本発明のインクジェット用インクで用いられるヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）は、単官能のラジカル重合性化合物であって、ヒドロキシを有するものであれば特に限定されない。「ラジカル重合性」とは、光が当たることで発生したフリーラジカルにより重合を開始する性質である。
【００１９】
ラジカル重合性モノマー（Ｂ）がラジカル重合性を有するための官能基として、アクリル、メタクリル、アクリルアミド、またはメタクリルアミド等の官能基が挙げられる。
【００２０】
ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）は、上述するようにラジカル重合性モノマーがヒドロキシを有するものである。
【００２１】
単官能とは、官能性を有する基を一つ有する性質を意味する。単官能のラジカル重合性の基としては、たとえば、炭素間二重結合（但し、芳香族を構成する炭素間二重結合を除く）、炭素間三重結合等が挙げられる。
本発明のインクジェット用インクを光硬化性インクジェット用インクに用いた場合に、ノズルからの吐出安定性の観点から、１つのラジカル重合性炭素間二重結合を有する重合性モノマーが好ましく、具体的には、単官能は炭素間二重結合であることが特に好ましい。
【００２２】
単官能のラジカル重合性モノマーの具体例としては、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、ｐ−ビニルフェニル−３−エチルオキセタ−３−イルメチルエーテル、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−トリフロロメチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、４−トリフロロメチル−２−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、（３−エチル−３−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、ビニルトルエン、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、５−テトラヒドロフルフリルオキシカルボニルペンチル（メタ）アクリレート、ラウリルアルコールのエチレンオキシド付加物の（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、マレイン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、シクロヘキセン−３，４−ジカルボン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルホリン、Ｎ−フェニルマレイミド、またはＮ−シクロヘキシルマレイミド等が挙げられる。
したがって、本発明のインクジェット用インクで用いられるヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）は、これらのラジカル重合性モノマーを構成する１以上の水素が水酸基に置換されたモノマーが挙げられる。
【００２３】
ラジカル重合性モノマー（Ｂ）に含まれるヒドロキシの数は、複数個であってもよいが、好ましくは１〜３個、より好ましくは１〜２個、さらに好ましくは１個である。
ラジカル重合性モノマー（Ｂ）に含まれるヒドロキシは、インクジェット用インク中に含まれる他の成分との相溶性を高める効果を有する。
【００２４】
本発明のインクジェット用インクで用いられるヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）の具体例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、または１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
本発明のインクジェット用インクで用いられるヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）は、これらの中でも、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、または１，４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレートが好ましい。
【００２５】
また、本発明のインクジェット用インクで用いられるヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）は、上記一般式（ｂ）で表される化合物であることが好ましい。
【００２６】
一般式（ｂ）中、ｓは１〜３０の整数であり、好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜３、さらに好ましくは１である。
また、一般式（ｂ）中、Ｒ４はそれぞれ独立して水素または炭素数１〜３のアルキルであり、具体的には、水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピルが挙げられ、好ましくは水素またはメチルである。一般式（ｂ）中、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数２〜１２の有機基である。
【００２７】
Ｒ５は有機基であり、特に炭素数２〜２０の２価の炭化水素基が好ましい。
「炭素数２〜２０の２価の炭化水素基」の炭化水素基は、飽和若しくは不飽和の非環式であってもよいし、飽和若しくは不飽和の環式であってもよい。炭素数２〜２０の炭化水素基が非環式の場合には、直鎖状でもよいし、枝分かれでもよい。「炭素数２〜２０の２価の炭化水素基」には、炭素数２〜２０のアルキレン、炭素数２〜２０のアルケニレン、炭素数２〜２０のアルキニレン、炭素数４〜２０のアルキルジエニレン、炭素数６〜１８のアリーレン、炭素数７〜２０のアルキルアリーレン、炭素数７〜２０のアリールアルキレン、炭素数４〜２０のシクロアルキレン、炭素数４〜２０のシクロアルケニレンなどが含まれる。
【００２８】
これらの炭素数２〜２０の２価の炭化水素基の中でも、Ｒ５は炭素数２〜２０の直鎖アルキレン、炭素数２〜２０の分岐鎖アルキレン、炭素数２〜２０の環構造を有するアルキレンまたは置換基を有してもよい芳香族基が好ましい。
【００２９】
本明細書において、「炭素数２〜２０のアルキレン」は、炭素数２〜１０のアルキレンであることが好ましい。直鎖アルキレンまたは分岐鎖アルキレンの例としては、メチレン、エチレン、プロピレン、イソプロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、ドデカニレン等を挙げることができる。環構造のアルキレンの例としては、下記式（２）で表される基、シクロプロピレン、シクロブチレン、シクロペンチレン、シクロヘキシレン等を挙げることができる。
【化５】
本明細書において、「置換基を有してもよい芳香族基」としては、水素が炭素数１〜５のアルキルまたはハロゲンで置換されてもよいベンゼン環またはナフタレン環等の芳香環由来の芳香族基を挙げることができる。
【００３０】
これらの中でも、Ｒ５は直鎖アルキレンまたは分岐鎖アルキレンとしては、エチレン、プロピレン、ブチレンが好ましく、環構造のアルキレンとしては上記式（２）で表される基が好ましい。
【００３１】
インクジェット用インク中に含まれるラジカル重合性モノマー（Ｂ）は、上述した化合物から選ばれる１種の化合物であってもよく、またこれらの２種以上の混合物であってもよい。
【００３２】
ラジカル重合性モノマー（Ｂ）は１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
ラジカル重合性モノマー（Ｂ）は、インクジェット用インク中に１〜７０重量％含まれると、光硬化性インクジェット用インクとした場合、インクジェットノズルからの吐出が安定するので好ましく、３〜６０重量％含まれるとより好ましく、５〜５０重量％含まれるとさらに好ましい。
【００３３】
１．３ 光重合開始剤（Ｃ）
本発明のインクジェット用インクで用いられる光重合開始剤（Ｃ）は、紫外線あるいは可視光線などの照射によりラジカルを発生することのできる化合物であれば特に限定されない。
光重合開始剤（Ｃ）の具体例としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、キサントン、チオキサントン、イソプロピルキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−エチルアントラキノン、アセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−４’−イソプロピルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、イソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、カンファーキノン、ベンズアントロン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４，４’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４，４’−トリ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’−ジ（メトキシカルボニル）−４，４’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４’−ジ（メトキシカルボニル）−４，３’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４，４’−ジ（メトキシカルボニル）−３，３’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、１，２−オクタンジオン，１−[４−（フェニルチオ）フェニル]−，２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）、２−（４’−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３’，４’−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’，４’−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４’−ペンチルオキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−［ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）］−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（４’−メトキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズチアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、３−（２−メチル−２−ジメチルアミノプロピオニル）カルバゾール、３，６−ビス（２−メチル−２−モルホリノプロピオニル）−９−ｎ−ドデシルカルバゾール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２,６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド等を挙げることができる。
【００３４】
これらの中でも、インクジェット用インク中に含まれる他の成分との相溶性が高く、得られるインクジェット用インクが少ない紫外線の照射量で硬化するという観点から、光重合開始剤（Ｃ）として、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド（チバジャパン（株）製のＩＲＧＡＣＵＲＥ ８１９（商品名））または２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド（チバジャパン（株）製のＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ（商品名））、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバジャパン（株）製のＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４（商品名））等を用いることが好ましい。
【００３５】
光重合開始剤（Ｃ）は１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
光重合開始剤（Ｃ）は、インクジェット用インク中に０．２〜２０重量％含まれると、インクジェット用インクとしたとき、紫外線に対して高感度となるので好ましく、１〜２０重量％であるとより好ましく、２〜１５重量％であるとさらに好ましい。
【００３６】
１．４ カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）
カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）は、ラジカル重合性化合物であって、カルボキシまたはリンを有していれば特に限定されない。
【００３７】
ラジカル重合性モノマー（Ｄ）がカルボキシを有する場合、インクジェットインクから得た硬化膜のアルカリ性水溶液に対する剥離性を向上する効果を有する。また、ラジカル重合性モノマー（Ｄ）がリンを有する場合、インクジェットインクから得た硬化膜と金属基板との密着性を向上させる効果を有する。
【００３８】
（１）カルボキシを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）
カルボキシを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）の好ましい例としては、カルボキシと１つのラジカル重合性炭素間二重結合を有する重合性モノマー、カルボキシと２つのラジカル重合性炭素間二重結合を有する重合性モノマー、またはカルボキシと３つ以上のラジカル重合性炭素間二重結合を有する重合性モノマーを挙げることができる。
【００３９】
カルボキシと１つのラジカル重合性炭素間二重結合を有する重合性モノマーの具体例としては、（メタ）アクリル酸、α−クロルアクリル酸、クロトン酸、ケイ皮酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、マレイン酸、フマル酸、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノアクリレート、またはフタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヘキサヒドロフタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００４０】
カルボキシと２つのラジカル重合性炭素間二重結合を有する重合性モノマーの具体例としては、脂肪酸変性ペンタエリスリトールジアクリレート等を挙げることができる。
【００４１】
カルボキシと３つ以上のラジカル重合性炭素間二重結合を有する重合性モノマーの具体例としては、コハク酸変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、またはコハク酸変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００４２】
これらの中でも、光硬化性インクジェット用インクに応用した場合に、ノズルからの吐出安定性や、インクジェット用インクから得た硬化膜のアルカリ性水溶液に対する剥離性の観点から、カルボキシを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）としては、カルボキシと１つのラジカル重合性炭素間二重結合を有する重合性モノマーが好ましく、特に、フタル酸モノヒドロキシエチルアクリレート、またはフタル酸モノヒドロキシエチルメタクリレート（新中村化学工業（株）製のＣＢ−１（商品名））を用いることが好ましい。
【００４３】
また、カルボキシを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）は、上記一般式（ｄ−１）で表される化合物であることが好ましい。
一般式（ｄ−１）中、ｐは１〜３０の整数であり、好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜３、さらに好ましくは１である。また、一般式（ｄ−１）中、Ｒ６は水素または炭素数１〜３のアルキルであり、具体的には、水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピルが挙げられ、好ましくは水素またはメチルである。一般式（ｄ−１）中、Ｒ７は炭素数２〜１２の２価の有機基であり、Ｒ８は炭素数２〜１２の２価の有機基である。
Ｒ７は、炭素数２〜１２の２価の炭化水素基が好ましい。これらの炭素数２〜１２の２価の炭化水素基の中でも、Ｒ７は炭素数２〜１２の直鎖アルキレン、炭素数２〜１２の分岐鎖アルキレン、炭素数２〜１２の環構造を有するアルキレンまたは置換基を有してもよい芳香族基が好ましい。
Ｒ８は、炭素数２〜１２の２価の炭化水素基が好ましい。これらの炭素数２〜１２の２価の炭化水素基の中でも、Ｒ８は炭素数２〜１２の直鎖アルキレン、炭素数２〜１２の分岐鎖アルキレン、炭素数２〜１２の環構造を有するアルキレンまたは置換基を有してもよい芳香族基が好ましい。
【００４４】
カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）として上記一般式（ｄ−１）で表される化合物を用いた本発明のインクジェット用インクおよび当該インクを用いて得られた硬化膜は、レジスト用途に用いられると好ましい。
【００４５】
（２）リンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）
リンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）の好ましい例としては、リンと１つのラジカル重合性炭素間二重結合を有する重合性モノマー、リンと２つのラジカル重合性炭素間二重結合を有する重合性モノマー、またはリンと３つ以上のラジカル重合性炭素間二重結合を有する重合性モノマーを挙げることができる。
【００４６】
リンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）は、上記一般式（ｄ−２）で表される化合物であることが好ましい。
一般式（ｄ−２）中、ｑは１〜３０の整数であり、好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜３、さらに好ましくは１である。ｒは１〜３の整数であり、より好ましくは１または２、さらに好ましくは２である。また、一般式（ｄ−２）中、Ｒ９はそれぞれ独立して水素または炭素数１〜３のアルキルであり、具体的には、水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピルが挙げられ、好ましくは水素またはメチルである。Ｒ１０は炭素数２〜１２の２価の炭化水素基が好ましい。これらの炭素数２〜１２の２価の炭化水素基の中でも、Ｒ１０は炭素数２〜１２の直鎖アルキレン、炭素数２〜１２の分岐鎖アルキレン、炭素数２〜１２の環構造を有するアルキレンまたは置換基を有してもよい芳香族基が好ましい。
【００４７】
これらの中でも、光硬化性インクジェット用インクに応用した場合に、ノズルからの吐出安定性や、インクジェット用インクから得た硬化膜と金属基板との密着性の観点から、リンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）としては、リンと１つまたは２つのラジカル重合性炭素間二重結合を有する重合性モノマーが好ましく、特に、２−メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート（共栄社化学（株）製のライトエステルＰ−１Ｍ、ライトエステルＰ−２Ｍ（商品名））が好ましい。
【００４８】
インクジェット用インク中に含まれるカルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）は、上述した化合物から選ばれる１種の化合物であってもよく、またこれらの２種以上の混合物であってもよい。
インクジェット用インク中のカルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）の好ましい含有量は、１〜８０重量％である。この範囲にあれば、インクジェット用インクから得られる硬化膜のめっき液耐性が良好であるので好ましい、また、ラジカル重合性モノマー（Ｄ）の含有量が１〜７０重量％であるとより好ましく、１〜６０重量％であるとさらに好ましい。
【００４９】
カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）として上記一般式（ｄ−２）で表される化合物を用いた本発明のインクジェット用インクおよび当該インクを用いて得られた硬化膜は、カバーレイ用途に用いられると好ましい。
【００５０】
１．５ 熱反応性樹脂（Ｅ）
熱反応性樹脂（Ｅ）の「熱反応性」とは、例えば、熱により架橋反応を起こす性質を意味するが、これに限定されるわけではない。
【００５１】
熱反応性樹脂（Ｅ）の例としては、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、「熱反応性官能基を有するラジカル重合性モノマーの重合体（例えばフェノール樹脂）」、または「熱反応性官能基を有するラジカル重合性モノマーと他のラジカル重合性モノマーとの共重合体」等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性、耐薬品性の観点からメラミン樹脂を用いるのが好ましく、硬化膜のアルカリ性水溶液に対する剥離性、耐酸性水溶液の観点から「熱反応性官能基を有するラジカル重合性モノマーの重合体（例えばフェノール樹脂）」を用いることが好ましい。
【００５２】
メラミン樹脂の具体例としては、メラミン、メチロールメラミン、エーテル化メチロールメラミン、ベンゾグアナミン、メチロールベンゾグアナミン、エーテル化メチロールベンゾグアナミン、およびそれらの縮合物を挙げることができる。これらの中でも、耐薬品性が良好であることから、エーテル化メチロールメラミンが好ましく、さらに下記式（ｅ−１）で表される化合物およびその縮合物の混合物は、三和ケミカル（株）製のニカラックＭＷ−３０（商品名）として市販されている。
【化６】
【００５３】
「熱反応性官能基を有するラジカル重合性モノマーの重合体」の具体例としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルフェノール等のフェノール樹脂、ポリ（グリシジル（メタ）アクリレート）、ポリ（３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート）、ポリ（メチルグリシジル（メタ）アクリレート）、ポリ（３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン）、ポリ（３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン）、ポリ（３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン）、ポリ（３−エチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン）、ポリ（ｐ−ビニルフェニル−３−エチルオキセタ−３−イルメチルエーテル）、ポリ（２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン）、ポリ（２−トリフロロメチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン）、ポリ（４−トリフロロメチル−２−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン）、ポリ（メタ）アクリル酸等をあげることができる。中でも、硬化膜のアルカリ性水溶液に対する剥離性を向上することからポリビニルフェノール等のフェノール樹脂が好ましく、丸善石油化学（株）製のマルカリンカーＭ Ｓ−２Ｐ（商品名）として市販されている。
【００５４】
インクジェット用インク中に含まれる熱反応性樹脂（Ｅ）は、上述した化合物から選ばれる１種の化合物であってもよく、またこれらの２種以上の混合物であってもよい。
熱反応性樹脂（Ｅ）は、インクジェット用インク中に０．１〜３０重量％含まれると、得られるインクの硬化膜の耐薬品性が高くなるために好ましく、０．５〜２５重量％含まれるとより好ましく、１〜２０重量％含まれるとさらに好ましい。
【００５５】
１．６ 難燃剤（Ｆ）
インクジェット用インクに難燃性を付与するために難燃剤（Ｆ）を含んでもよい。この難燃剤（Ｆ）としてはリン系化合物が環境へ与える影響が少ないので好ましい。
【００５６】
リン系化合物の難燃剤（Ｆ）の具体例としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルフェニルホスフェート、２−エチルヘキシルジフェニルホスフェート、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０オキシド、１０−（２，５−ジヒドロキシフェニル）−１０Ｈ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキシド、下記一般式（ｆ−１）で表される縮合９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０オキシド等があげられる。
【化７】
【００５７】
これらの中でも、インクジェット用インクから得られる硬化膜を高温状態にさらした場合でも難燃剤のブリードアウトが減少するという観点から、難燃剤（Ｆ）として、縮合９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０オキシド（昭和高分子（株）製のＨＦＡ−３００３（商品名））等を用いることが好ましい。
【００５８】
難燃剤（Ｆ）は、上述した化合物から選ばれる１種の化合物であってもよく、またこれらの２種以上の混合物であってもよい。
難燃剤（Ｆ）は、インクジェット用インク中に１０〜５０重量％含まれると、インクジェット用インクから得られる硬化膜が高い難燃性（ＵＬ燃焼試験法Ｖ−０規格相当）を示すので好ましい。
【００５９】
１．７ その他の成分
インクジェット用インクは、保存安定性や、光に対する感度、形成される膜の耐久性、形成される膜の膜面均一性、形成される膜の硬化密度、インクの吐出特性、インクの塗布性等を向上させるために、多官能のラジカル重合性モノマー、反応性希釈剤、溶媒、重合禁止剤、界面活性剤、着色剤、帯電防止剤等を含むことができる。これらの成分は１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
なお、インクジェット用インク中の水分量は特に限定されないが、１０，０００ｐｐｍ以下が好ましく、５，０００ｐｐｍ以下がさらに好ましい。これらの水分量であると、インクジェット用インクの粘度変化が少なく保存安定性に優れるので好ましい。
【００６０】
１．７．１ 多官能のラジカル重合性モノマー（Ｇ）
インクジェット用インクは光感度、および硬化膜の架橋密度を高めるために多官能のラジカル重合性モノマー（Ｇ）を含んでもよい。
【００６１】
多官能のラジカル重合性モノマー（Ｇ）の具体例としては、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、またはジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ型エチレンオキシド変性ジアクリレート、ビスフェノールＡ型エチレンオキシド変性ジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリス［（メタ）アクリロキシエチル］イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス［（メタ）アクリロキシエチル］イソシアヌレート、ノボラックエポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート、レゾルシノールエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００６２】
これらの中でも、ビスフェノールＦエチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート（東亜合成（株）製のＭ２０８（商品名））、ビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート（日本ユピカ（株）製のネオポール ８４７７（商品名））から選ばれる１つ以上を含有していると、硬化膜の耐薬品性が高くなるので、より好ましい。
【００６３】
多官能のラジカル重合性モノマー（Ｇ）は１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
多官能のラジカル重合性モノマー（Ｇ）は、インクジェットインク中に５〜７０重量％含まれると、インクジェット用インクとした場合に光に対して高感度となり、また硬化膜のめっき液耐性が高くなるため好ましく、５〜６５％重量％であるとより好ましく、１０〜６５重量％であるとさらに好ましい。
【００６４】
１．７．２ 反応性希釈剤（Ｈ）
インクジェット用インクはインクの粘度調整や硬化膜の架橋度を制御するために反応性希釈剤（Ｈ）を含んでもよい。溶媒の代わりにまたは溶媒の一部を置き換えて反応性希釈剤（Ｈ）を使用すると、インクの固形分濃度が高くなるため、厚膜を形成させることが可能である。反応性希釈剤（Ｈ）は、一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）、カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）とは異なる化合物を示す。
【００６５】
反応性希釈剤（Ｈ）の具体例としては、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレ―ト、イソデシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、２−（２−エトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００６６】
これらの中でも、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレートは少量用いることで、インクジェット用インクの粘度を大きく下げることができるので好ましい。
【００６７】
反応性希釈剤（Ｈ）は１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
反応性希釈剤（Ｈ）は、インクジェット用インク中に５〜６０重量％含まれると、光硬化性インクジェット用インクとした場合、Ｅ型粘度計で測定した２５℃における粘度が２〜５００ｍＰａ・ｓの範囲になるので好ましく、より好ましくは５〜５０重量％である。
【００６８】
１．７．３ 溶媒（Ｉ）
インクジェット用インクはインクの吐出特性を向上させるために溶媒（Ｉ）を含んでもよい。この溶媒としては沸点が１００℃以上の溶媒が好ましい。室温でのインクジェット用インクの粘度が３０ｍＰａ・ｓ以上である場合には、ジェッティング温度を高くすることが好ましいが、この場合には含まれる溶媒の沸点は２００℃以上であることが好ましい。
【００６９】
沸点が１００℃以上である溶媒の具体例としては、酢酸ブチル、プロピオン酸ブチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、トルエン、キシレン、アニソール、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルイミダゾリジノン等が挙げられる。これらの溶媒中の水分量は、インクジェット用インク中の水分量が前述の範囲になるように調整されていることが望ましい。
【００７０】
これらの溶媒の中でも、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等を用いると、インクの吐出が安定するので好ましい。
【００７１】
溶媒（Ｉ）は１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
溶媒（Ｉ）は、インクジェット用インク中に０〜５０重量％含まれると、光硬化性インクジェット用インクとした場合の吐出が安定するので好ましく、より好ましくは０〜２０重量％である。
【００７２】
さらに、インクジェット用インクの塗布性にインクの表面張力が大きく影響するため、インクの表面張力を好ましくは２０〜４５ｍＮ／ｍ、より好ましくは２７〜４２ｍＮ／ｍ、さらに好ましくは３０〜４０ｍＮ／ｍに調整する。表面張力が２０〜４５ｍＮ／ｍの範囲であればインク吐出口におけるインクメニスカスが安定になり、インクの吐出は良好となる。
表面張力を２０〜４５ｍＮ／ｍの範囲に調整するには、溶媒選定が重要である。表面張力が２０〜４５ｍＮ／ｍの範囲にある１種の溶媒を用いてもよいが、表面張力の大きな溶媒（例えば、γ−ブチロラクトン：４３ｍＮ／ｍ）および表面張力の小さな溶媒（例えば、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル：２４ｍＮ／ｍ、あるいはエチレングリコールモノブチルエーテル：３２ｍＮ／ｍ）を混合して用いると溶媒組成で表面張力を微調整できるので好ましい。
【００７３】
１．７．４ 重合禁止剤（Ｊ）
インクジェット用インクは、保存安定性を向上させるために重合禁止剤を含んでもよい。重合禁止剤の具体例としては、４−メトキシフェノール、ヒドロキノン、フェノチアジン等を挙げることができる。これらの中でも、ジェッティング時にインクジェットヘッドを加熱した場合のインクの粘度変化を最小にする観点から、重合禁止剤としてフェノチアジンを用いることが好ましい。
【００７４】
重合禁止剤（Ｊ）は１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
重合禁止剤（Ｊ）は、インクジェット用インクの保存安定性と光に対する高感度性とを両立させるという観点から、インクジェット用インク中に０．０１〜１重量％含まれることが好ましい。
【００７５】
１．７．５ 界面活性剤（Ｋ）
インクジェット用インクは、インクジェット用インクから得られた膜面の均一性を向上させるために界面活性剤を含んでもよい。界面活性剤としては、シリコン系界面活性剤、アクリル系界面活性剤、およびフッ素系界面活性剤等が用いられる。具体的には、Ｂｙｋ−３００、Ｂｙｋ−３０６、Ｂｙｋ−３３５、Ｂｙｋ−３１０、Ｂｙｋ−３４１、Ｂｙｋ−３４４、またはＢｙｋ−３７０（それぞれ商品名：ビック・ケミー（株）製）等のシリコン系界面活性剤；Ｂｙｋ−３５４、Ｂｙｋ−３５８、またはＢｙｋ−３６１（それぞれ商品名：ビック・ケミー（株）製）等のアクリル系界面活性剤；ＤＦＸ−１８、フタージェント２５０、またはフタージェント２５１（それぞれ商品名：ネオス（株）製）、メガファックＦ−４１０、メガファックＦ−４４３、メガファックＦ−４４５、メガファックＦ−４７０、メガファックＦ−４７９、メガファックＦ−４８３、メガファックＦ−４８９（それぞれ商品名：大日本インキ（株）製）等のフッ素系界面活性剤を挙げることができる。
【００７６】
界面活性剤（Ｋ）は１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
界面活性剤（Ｋ）は、熱硬化性組成物中に０．０１重量％以上であると硬化膜の膜面均一性が向上するので好ましく、他特性とのバランスを考慮すると０．０１〜１重量％であることが好ましい。
【００７７】
１．７．６ 着色剤（Ｌ）
インクジェット用インクは、着色剤を含んでいてもよく、この場合、例えば、得られる硬化膜の状態を検査する際に基板との識別を容易にすることができる。着色剤は、インクジェット用インク中に０．０１〜１０重量％程度、好ましくは０．１〜５重量％程度含んでもよい。インク原料の相溶性の観点から、着色剤は染料であることが好ましい。
【００７８】
１．７．７ 帯電防止剤（Ｍ）
帯電防止剤は、特に限定されるものではなく、公知の帯電防止剤を用いることができる。具体的には、酸化錫、酸化錫・酸化アンチモン複合酸化物、酸化錫・酸化インジウム複合酸化物等の金属酸化物や四級アンモニウム塩等が挙げられる。帯電防止剤は、帯電を防止するために使用するものであり、インクジェット用インク１００重量部に対し０．０１〜１重量部添加して用いられることが好ましい。
【００７９】
１．８ インクジェット用インクの調製方法
本発明のインクジェット用インクは、インクを構成する各成分を混合することによって製造される。具体的には、本発明のインクジェット用インクは、一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）および、任意に含まれる成分（熱反応性樹脂（Ｅ）、難燃剤（Ｆ）、多官能のラジカル重合性モノマー（Ｇ）等）を混合して製造される。
なお、混合する順番は特に限定されない。
【００８０】
特に本発明のインクジェットインク組成においては、インクジェット用インク中に一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）を１〜９０重量％と、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）を１〜７０重量％と、光重合開始剤（Ｃ）を０．２〜２０重量％と、カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）を５〜７０重量％含む。さらに、一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）を１〜７０重量％と、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）を５〜５０重量％と、光重合開始剤（Ｃ）を２〜１５重量％と、カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）を１０〜６５重量％含むように構成することが好ましい。
【００８１】
エッチングレジストまたはめっきレジスト等の用途の本発明のインクジェット用インクであって、成分（Ａ）〜（Ｄ）からなるインクジェット用インクでは、一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）としてジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１つを用い、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）として２−ヒドロキシエチル（メタ）クリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）クリレートおよび４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１つを用い、光重合開始剤（Ｃ）として２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１からなる群から選ばれる少なくとも１つを用い、カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）としてフタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを用いることが好ましい。
当該組成のインクジェット用インクでは、インクの粘度や硬化膜としたときの架橋密度、アルカリ水溶液に対する剥離性の観点から、各成分の含有量は、インクジェット用インク中に化合物（Ａ）が１〜２０重量％であり、重合性モノマー（Ｂ）が５〜５０重量％であり、光重合開始剤（Ｃ）が５〜１５重量％であり、カルボキシを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）が２０〜８０重量％であると好ましい。
【００８２】
エッチングレジストまたはめっきレジスト等の用途の本発明のインクジェット用インクであって、成分（Ａ）〜（Ｄ）および成分（Ｇ）からなるインクジェット用インクでは、一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）としてジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１つを用い、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）として２−ヒドロキシエチル（メタ）クリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）クリレートおよび４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１つを用い、光重合開始剤（Ｃ）として２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１からなる群から選ばれる少なくとも１つを用い、カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）としてフタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを用い、多官能のラジカル重合性モノマー（Ｇ）としてビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレートを用いることが好ましい。
当該組成のインクジェット用インクでは、インクの粘度や硬化膜としたときの架橋密度、めっき液に対する耐性、エッチング液に対する耐性、アルカリ水溶液に対する剥離性の観点から、各成分の含有量は、インクジェット用インク中に化合物（Ａ）が１〜２０重量％であり、重合性モノマー（Ｂ）が５〜５０重量％であり、光重合開始剤（Ｃ）が５〜１５重量％であり、カルボキシを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）が５〜３０重量％であり、重合性モノマー（Ｇ）が１０〜５０重量％であると好ましい。
【００８３】
カバーレイ等の用途の本発明のインクジェット用インクであって、成分（Ａ）〜（Ｄ）からなるインクジェット用インクでは、一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）としてジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１つを用い、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）として２−ヒドロキシエチル（メタ）クリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）クリレートおよび４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１つを用い、光重合開始剤（Ｃ）として２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１からなる群から選ばれる少なくとも１つを用い、カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）として２−（メタ）アクリロイロキシエチルアシッドホスフェートを用いることが好ましい。
当該組成のインクジェット用インクでは、インクの粘度や硬化膜としたときの架橋密度、金属基板に対する密着性の観点から、各成分の含有量は、インクジェット用インク中に化合物（Ａ）が３０〜９０重量％であり、重合性モノマー（Ｂ）が５〜３０重量％であり、光重合開始剤（Ｃ）が５〜１５重量％であり、リンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）が１〜１０重量％であると好ましい。
【００８４】
本発明のインクジェット用インクにおいて、カバーレイ等の用途で使用する場合で、成分（Ａ）〜（Ｄ）および成分（Ｇ）からなるとき、一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）としてジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１つを用い、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）として２−ヒドロキシエチル（メタ）クリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）クリレートおよび４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１つを用い、光重合開始剤（Ｃ）として２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１からなる群から選ばれる少なくとも１つを用い、カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）として２−（メタ）アクリロイロキシエチルアシッドホスフェートを用い、多官能のラジカル重合性モノマー（Ｇ）としてビスフェノールＦエチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレートを用いることが好ましい。
当該組成のインクジェット用インクでは、インクの粘度や硬化膜としたときの架橋密度、金属基板に対する密着性、めっき液に対する耐性、はんだ耐熱性の観点から、各成分の含有量は、インクジェット用インク中に化合物（Ａ）が５〜１５重量％であり、重合性モノマー（Ｂ）が５〜４０重量％であり、光重合開始剤（Ｃ）が２〜１５重量％であり、リンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）が１〜１０重量％であり、重合性モノマー（Ｇ）が３０〜７０重量％であると好ましい。
【００８５】
本発明のインクジェット用インクは、必要な成分を混合して得られた溶液を、ろ過することにより調製するのが好ましい。ろ過には、例えばフッ素樹脂製のメンブレンフィルター等が用いられる。
【００８６】
１．９ インクジェット用インクの粘度
インクジェット用インクは、Ｅ型粘度計で測定した２５℃における粘度が２〜５００ｍＰａ・ｓであるとインクジェットのヘッドからの塗布特性（ジェッティング精度等）が良好となるので好ましい。２５℃におけるインクジェット用インクの粘度は、より好ましくは３〜３００ｍＰａ・ｓ、さらに好ましくは５〜２００ｍＰａ・ｓである。
２５℃における粘度が３０ｍＰａ・ｓを超える場合は、インクジェットヘッドを加熱して吐出時の粘度を下げると、より安定した吐出が可能になる。インクジェットヘッドを加熱してジェッティングを行う場合は、加熱温度（好ましくは４０〜１２０℃）におけるインクジェット用インクの粘度は３〜３０ｍＰａ・ｓが好ましく、５〜２５ｍＰａ・ｓであればさらに好ましく、７〜２０ｍＰａ・ｓが特に好ましい。
【００８７】
１．１０ インクジェット用インクの保存
インクジェット用インクは、−２０〜２０℃で保存すると粘度変化が小さく、保存安定性が良好である。
【００８８】
２．インクジェット方法によるインクジェット用インクの塗布
本発明のインクジェット用インクは、公知のインクジェット塗布方法を用いて塗布することができる。インクジェット塗布方法としては、例えば、インクに力学的エネルギーを作用させてインクをヘッドから吐出（塗布）させる方法（いわゆるピエゾ方式）、および、インクに熱エネルギーを作用させてインクを塗布させる塗布方法（いわゆるバブルジェット（登録商標）方式）等がある。
インクジェット塗布方法を用いることにより、インクジェット用インクを予め定められたパターン状に塗布することができる。これによって、必要な箇所だけにインクを塗布でき、フォトリソグラフィ法に比べて、コストの削減となる。
【００８９】
本発明のインクジェット用インクを用いて塗布を行うのに好ましい塗布ユニットは、例えば、これらのインクを収容するインク収容部と、塗布ヘッドとを備えた塗布ユニットが挙げられる。塗布ユニットとしては、例えば、塗布信号に対応した熱エネルギーをインクに作用させ、前記エネルギーによりインク液滴を発生させる塗布ユニットが挙げられる。
塗布ヘッドとしては、例えば、金属および／または金属酸化物を含有する発熱部接液面を有するものである。前記金属および／または金属酸化物の具体例は、例えば、Ｔａ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ａｌ等の金属、および、これらの金属の酸化物等が挙げられる。
【００９０】
本発明のインクジェット用インクを用いて塗布を行うのに好ましい塗布装置としては、例えば、インクが収容されるインク収容部を有する塗布ヘッドの室内のインクに、塗布信号に対応したエネルギーを与え、前記エネルギーによりインク液滴を発生させる装置が挙げられる。
【００９１】
インクジェット塗布装置は、塗布ヘッドとインク収容部とが分離されているものに限らず、それらが分離不能に一体になったものを用いるものでもよい。また、インク収容部は塗布ヘッドに対し分離可能または分離不能に一体化されてキャリッジに搭載されるもののほか、装置の固定部位に設けられて、インク供給部材、例えばチューブを介して塗布ヘッドにインクを供給する形態のものでもよい。
【００９２】
また、インクジェットの吐出（塗布）温度は１０〜１２０℃が好ましく、塗布温度におけるインクジェット用インクの粘度は、３〜３０ｍＰａ・ｓであることが好ましい。
【００９３】
３．硬化膜の形成
本発明の硬化膜は、公知のインクジェット塗布方法を用いて上記インクジェット用インクを基板の表面に吐出した後に、インクに紫外線や可視光線等の光を照射して得られる。光が照射された部分のインクはラジカル重合性モノマー、例えば（メタ）アクリルモノマーの重合により三次元化架橋体となって硬化し、インクの広がりを効果的に抑えられる。したがって、上記インクジェット用インクを用いると、高精細なパターンの描画が可能になる。インクジェット用インクの組成に依存するが、照射する光として紫外線を用いた場合には、照射する紫外線の量は、ウシオ電機（株）製の受光器ＵＶＤ−４０５ＰＤを取り付けた積算光量計ＵＩＴ−２０１で測定して、１０〜１，０００ｍＪ／ｃｍ２程度が好ましく、１０〜８００ｍＪ／ｃｍ２程度がより好ましく、２０〜５００ｍＪ／ｃｍ２程度がさらに好ましい。また、照射する紫外線の波長は、２００〜４５０ｎｍが好ましく、２２０〜４３０ｎｍがより好ましく、２５０〜４００ｎｍがさらに好ましい。
また、必要に応じて、光の照射により硬化した上記硬化膜をさらに加熱・焼成してもよく、特に、１２０〜２５０℃で１０〜６０分間加熱することが好ましく、１５０〜２４０℃で１０〜６０分間加熱することがより好ましく、１８０〜２３０℃で１０〜６０分間加熱することがさらに好ましい。
【００９４】
本発明で使用する基板は、上記インクジェット用インクが塗布される対象となり得るものであれば特に限定されず、その形状は平板状に限られず、曲面状であってもよい。
【００９５】
また、基板の材質は特に限定されないが、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂、ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリイミド等のプラスチックフィルム、セロハン、アセテート、金属箔、ポリイミドと金属箔の積層フィルム、目止め効果があるグラシン紙、パーチメント紙、あるいはポリエチレン、クレーバインダー、ポリビニルアルコール、でんぷん、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）等で目止め処理した紙、ガラス等を挙げることができる。
【００９６】
これらの基板を構成する物質には、本発明の効果に悪影響を及ぼさない範囲において、さらに、顔料、染料、酸化防止剤、劣化防止剤、充填剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤および／または電磁波防止剤等の添加剤を含んでもよい。また、基板の表面の一部には、基板と異なる材質が形成されていてもよい。
【００９７】
基板の用途も特に限定されないが、本発明のインクジェット用インクから得られる硬化膜は耐エッチング液性、めっき液耐性、アルカリ水溶液に対する剥離性、耐熱性に優れているため、基板表面に金属製の回路を有する電子回路基板等の製造にもちいられることが好ましい。回路を形成する金属は、特に限定されるものではないが、金、銀、銅、アルミまたはＩＴＯが好ましい。
【００９８】
基板の厚さは、特に限定されないが、通常、１０μｍ〜２ｍｍ程度であり、使用する目的により適宜調整されるが、１５〜５００μｍが好ましく、２０〜２００μｍがさらに好ましい。
【００９９】
基板における硬化膜を形成する面には、必要により撥水処理、コロナ処理、プラズマ処理、ブラスト処理等の易接着処理を施したり、表面に易接着層やカラーフィルター用保護膜を設けたりしてもよい。
【０１００】
また、インクジェット用インクを、特定の場所にだけ塗布することによって、所定のパターンの硬化膜を形成することができ、硬化膜の形成のためのコストの削減を図ることができる。特に電子回路基板では、金属配線パターン形成やめっきパターン形成、金属配線保護膜（カバーレイ）形成において、吐出性、保存安定性に優れた本発明のインクジェット用インクを、所定の回路部分にだけ塗布することができるので、効率的に各目的に応じた硬化膜を形成できる。
【実施例】
【０１０１】
以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。なお、以下において特に断りのない限り、「部」は重量部を意味するものとする。
【０１０２】
実施例および比較例に使用した各成分は以下のとおりである。
一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）
Ａ１：ジプロピレングリコールジアクリレート
（商品名「ＳＲ５０８」、サートマー社製）
Ａ２：トリプロピレングリコールジアクリレート
（商品名「ＳＲ３０６Ｈ」、サートマー社製）
Ａ３：プロポキシ化ネオペンチルグリコールジアクリレート
（商品名「ＳＲ９００３」、サートマー社製）
ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）
Ｂ１：２−ヒドロキシエチルメタクリレート
（東京化成工業（株）製）
Ｂ２： ４−ヒドロキシブチルアクリレート
（商品名「４ＨＢＡ」、日本化成（株）製）
光重合開始剤（Ｃ）
Ｃ１：２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド
（商品名「ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ」、チバジャパン（株）製）
カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）
Ｄ１：フタル酸モノヒドロキシエチルメタクリレート
（商品名「ＣＢ−１」、新中村化学工業（株）製）
Ｄ２：２−メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート
（商品名「ライトエステルＰ−２Ｍ」、共栄社化学（株）製）
熱反応性樹脂（Ｅ）
Ｅ１：ポリビニルフェノール
（商品名「マルカリンカーＭ Ｓ−２Ｐ」、丸善石油化学（株）製）
Ｅ２：上記式（ｅ−１）で表される化合物およびその縮合物の混合物
（商品名「ニカラックＭＷ−３０」、三和ケミカル（株）製）
難燃剤（Ｆ）
Ｆ１：縮合9,10-ジヒドロ-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10オキシド
（上記式（ｆ−１）の化合物。商品名「ＨＦＡ−３００３」、昭和高分子（株）製）
多官能のラジカル重合性モノマー（Ｇ）
Ｇ１：ビスフェノールＦエポキシアクリレート
（商品名「ネオポール８４７７」、日本ユピカ（株）製）
Ｇ２：ビスフェノールＦエチレンオキシド変性ジアクリレート
（商品名「Ｍ−２０８」、東亜合成（株）製）
反応性希釈剤（Ｈ）
Ｈ１：シクロへキシルメタクリレート
（商品名「ライトエステルＣＨ」、共栄社化学（株）製）
Ｈ２：テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート
（商品名「ＳＲ２０３」、サートマー社製）
【０１０３】
実施例および比較例で作成した硬化膜の評価方法は以下のとおりである。
（１）インクの粘度・保管による粘度の変化
各インクジェット用インクの２５℃での粘度をＥ型粘度計（東機産業（株）製 ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ ＴＶ−２２）で測定した。結果を表２に示す。
また、各インクジェット用インクの一部（１０ｇ）を３０ｍＬのサンプル瓶に入れ、密栓をして、１００℃で５時間保管した。そして、保管前のインクの粘度に対する保管後のインクの粘度の変化率を調べた。インクの粘度はいずれも保管後に増加しており、変化率が１０％未満である場合を「○」、１０％以上である場合を「×」とした。
【０１０４】
（２）ジェッティング特性の評価
各インクジェット用インクをインクジェットカートリッジに注入し、これをインクジェット装置（ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ社製のＤＭＰ−２８００）に装着し、１０ｐｌ用のヘッドを用いて、吐出電圧（ピエゾ電圧）１６Ｖ、ヘッド温度７０℃、駆動周波数５ｋＨｚの条件下で吐出の様子を観察した。ジェッティング時の液柱が垂直方向に吐出され、サテライトは発生しなかった場合を「○」、液柱が隣の液柱と接触する、またはサテライトが発生した場合を「×」とした。
【０１０５】
（３）エッチングレジスト用またはめっきレジスト用硬化膜の評価のための試験基板の作成と硬化膜の評価
各インクジェット用インクをインクジェットカートリッジに注入し、これをインクジェット装置（ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ社製のＤＭＰ−２８００）に装着し、以下の基板作製条件で、基板上にインクジェットプリンタにより各インクジェット用インクを塗布（描画）し、次いでＵＶ硬化させて硬化膜が形成された試験基板を作製した。このようにして作製された試験基板を用いて、以下の（３．１）〜（３．３）に示す、硬化膜のエッチング液に対する耐性、アルカリ性水溶液（剥離液）に対する剥離性およびめっき液に対する耐性を調べた。
基板作製条件
基 板 ：銅箔をポリイミド上に積層した基板（厚さ３５μｍ）
［（東洋紡績（株）製）バイロフレックス（商品名）］
硬化膜の膜厚：３０μｍ
吐出条件 ：上記（２）と同様の吐出条件
ＵＶ露光量 ：２５０ｍＪ／ｃｍ２
【０１０６】
（３．１）硬化膜のエッチング液に対する耐性の評価
硬化膜のエッチング液に対する耐性を評価するために、作製した試験基板を５０℃の１３％ＦｅＣｌ３水溶液に１５分浸漬させた後に水洗を行い、硬化膜の表面状態を目視にて判定した。剥離や変色が生じなかった場合を「○」、剥離や変色が生じた場合を「×」とした。
【０１０７】
（３．２）硬化膜のアルカリ性水溶液（剥離液）に対する剥離性の評価
硬化膜のアルカリ性水溶液（剥離液）に対する剥離性を評価するために、作製した試験基板を５０℃の８％ＮａＯＨ水溶液に１分浸漬させた後に水洗を行い、硬化膜の剥離状態を目視にて判定した。完全に溶解もしくは剥離した場合を「○」、溶解もしくは剥離しなかった場合を「×」とした。
【０１０８】
（３．３）硬化膜のめっき液に対する耐性の評価
硬化膜のめっき液に対する耐性を評価するために、作製した試験基板を６０℃の無電解ニッケルめっき液（商品名：ニムデンＮＰＲ−４、Ｎｉ濃度４．５ｇ／Ｌ、上村工業（株）製）に２０分浸漬させて水洗を行い、続いて６０℃の金ストライクめっき液（商品名：アシドストライク、日本高純度化学（株）製）に１０分浸漬させて水洗を行い、続いて１００℃の無電解金めっき液（商品名：ゴブライトＴＡＭ−５５、Ａｕ濃度１ｇ／Ｌ、上村工業（株）製）に３０分浸漬させて水洗することでめっき皮膜を形成した。この工程中においてめっき液の硬化膜内部への浸入や剥離が生じなかった場合を「○」、めっき液の硬化膜内部への浸入や剥離が生じた場合を「×」とした。
（４）カバーレイ用硬化膜の評価のための試験基板の作成と硬化膜の評価
各インクジェット用インクをインクジェットカートリッジに注入し、これをインクジェット装置（ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ社製のＤＭＰ−２８００）に装着し、以下の基板作製条件で、基板上にインクジェットプリンタにより各インクジェット用インクを塗布（描画）し、次いでＵＶ硬化および熱硬化させて硬化膜が形成された試験基板を作製した。このようにして作製された試験基板を用いて、以下の（４．１）〜（４．３）に示す、硬化膜の銅基板に対する密着性、硬化膜のめっき液に対する耐性およびはんだ耐熱性を調べた。
基板作製条件
基 板 ：銅箔をポリイミド上に積層した基板（厚さ３５μｍ）
［（東洋紡績（株）製）バイロフレックス（商品名）］
硬化膜の膜厚：３０μｍ
吐出条件 ：上記（２）と同様の吐出条件
ＵＶ露光量 ：４０ｍＪ／ｃｍ２
熱硬化条件 ：１９０℃×３０分
【０１０９】
（４．１）硬化膜の銅基板に対する密着性の評価
硬化膜の銅との密着性を評価するために、碁盤目法（ＪＩＳ Ｋ ５４００（１９９０））を用いて、剥離が生じたか否かを調べた。当該試験は、温度２５℃、湿度６５％の条件下で行った。剥離が生じなかった場合を「○」、剥離が生じた場合を「×」とした。
【０１１０】
（４．２）硬化膜のめっき液に対する耐性の評価
硬化膜のめっき液に対する耐性を評価するために、作製した試験基板を３０℃のパラジウム水溶液（商品名：ＫＡＴ−４５０、Ｐｄ濃度１２ｍｇ／Ｌ、上村工業（株）製）に１分浸漬して水洗した後に、８０℃の無電解ニッケルめっき液（商品名：ニムデンＮＰＲ−４、Ｎｉ濃度４．５ｇ／Ｌ、上村工業（株）製）中に３０分浸漬させて水洗を行い、続いて８０℃の無電解金めっき液（商品名：ゴブライトＴＡＭ−５５、Ａｕ濃度１ｇ／Ｌ、上村工業（株）製）中に１０分浸漬させて水洗することでめっき皮膜を形成した。この工程中においてめっき液の硬化膜内部への浸入や硬化膜の剥離が生じなかった場合を「○」、めっき液の硬化膜内部への浸入や硬化膜の剥離が生じた場合を「×」とした。
【０１１１】
（４．３）硬化膜のはんだ耐熱性の評価
硬化膜のはんだ耐熱性を評価するために、試験基板の硬化膜表面にロジン系フラックス（商品名：ＮＳ−８２９、（株）日本スペリア社製）を塗布して、２６０℃のはんだ浴中に３０秒浸漬させ、剥離や膨れが生じたか否かを調べた。剥離と膨れが全く生じなかった場合を「○」、剥離または膨れが僅かでも生じた場合を「×」とした。
【０１１２】
［実施例１および比較例１］
実施例１はエッチングレジスト用またはめっきレジスト用として用いることに適した硬化膜を形成する本発明にかかるインクジェット用インクである。表１に記載された割合（重量部）で配合し、混合・溶解してフッ素樹脂製メンブレンフィルター（０．２μｍ）で濾過し、各インクジェット用インクを調製した。
なお、比較例１は、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）を含まない例である。
【０１１３】
【表１】
【０１１４】
また、実施例１および比較例１のインクジェット用インクには、重合禁止剤（Ｉ）として０．０５重量部のフェノチアジン（重合禁止剤（Ｉ）を除くインクジェット用インクの合計量を１００重量部とする）を添加した。
【０１１５】
得られたインクジェット用インクの粘度および保管による粘度の変化、ジェッティング特性および硬化膜のアルカリ性水溶液（剥離液）に対する剥離性を、前述の方法により測定・評価した。結果を表２に示す。
【０１１６】
【表２】
【０１１７】
［実施例２および比較例２，３］
実施例２はカバーレイ用として用いることに適した硬化膜を形成する本発明にかかるインクジェット用インクである。表３に記載された割合（重量部）で配合し、混合・溶解してフッ素樹脂製メンブレンフィルター（０．２μｍ）で濾過し、各インクジェット用インクを調製した。
なお、比較例２は、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）を含まない例であり、比較例３は、（Ａ）成分を含んでいてもカルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）成分を含まない例である。
【０１１８】
【表３】
【０１１９】
また、実施例２および比較例２と３のインクジェット用インクには、重合禁止剤（Ｉ）として０．０５重量部のフェノチアジン（重合禁止剤（Ｉ）を除くインクジェット用インクの合計量を１００重量部とする）を添加した。
【０１２０】
得られたインクジェット用インクの粘度および保管による粘度の変化および硬化膜のアルカリ性水溶液（剥離液）に対する剥離性を、前述の方法により測定・評価した。また、得られたインクジェット用インクのジェッティング特性を、ヘッド温度を５０度にした以外は前述で記載した（２）と同一の方法で評価した。これらの結果を表４に示す。
【表４】
【０１２１】
［実施例３および比較例４］
実施例３はエッチングレジスト用またはめっきレジスト用として用いることに適した硬化膜を形成する本発明にかかるインクジェット用インクである。表５に記載された割合（重量部）で配合し、混合・溶解してフッ素樹脂製メンブレンフィルター（０．２μｍ）で濾過し、各インクジェット用インクを調製した。
なお、比較例４は、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）を含まない例である。
【０１２２】
【表５】
【０１２３】
また、実施例３および比較例４のインクジェット用インクには、重合禁止剤（Ｉ）として０．０５重量部のフェノチアジン（重合禁止剤（Ｉ）を除くインクジェット用インクの合計量を１００重量部とする）を添加した。
【０１２４】
得られたインクジェット用インクの粘度および保管による粘度の変化、ジェッティング特性、硬化膜のエッチング液に対する耐性、アルカリ性水溶液（剥離液）に対する剥離性およびめっき液に対する耐性を、前述の方法により測定・評価した。これらの結果を表６に示す。
【０１２５】
【表６】
【０１２６】
［実施例４および比較例５，６］
実施例４はカバーレイ用として用いることに適した硬化膜を形成する本発明にかかるインクジェット用インクである。表７に記載された割合（重量部）で配合し、混合・溶解してフッ素樹脂製メンブレンフィルター（０．２μｍ）で濾過し、各インクジェット用インクを調製した。
なお、比較例５は、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）を含まない例であり、比較例６は、（Ａ）成分を含んでいてもカルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）成分を含まない例である。
【０１２７】
【表７】
【０１２８】
また、実施例４および比較例５と６のインクジェット用インクには、重合禁止剤（Ｉ）として０．０５重量部のフェノチアジン（重合禁止剤（Ｉ）を除くインクジェット用インクの合計量を１００重量部とする）を添加した。
【０１２９】
得られたインクジェット用インクの粘度および保管による粘度の変化、ジェッティング特性、硬化膜の銅基板に対する密着性、硬化膜のめっき液に対する耐性およびはんだ耐熱性を、前述の方法により測定・評価した。これらの結果を表８に示す。
【表８】
【０１３０】
［実施例５〜１０および比較例７〜１２］
実施例５〜１０はエッチングレジスト用またはめっきレジスト用として用いることに適した硬化膜を形成する本発明にかかるインクジェット用インクである。表９に記載された割合（重量部）で配合し、混合・溶解してフッ素樹脂製メンブレンフィルター（０．２μｍ）で濾過し、各インクジェット用インクを調製した。
なお、比較例７〜９は、一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）成分を含まない例であり、比較例１０〜１２は、（Ａ）成分を含んでいてもカルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）成分を含まない例である。
【０１３１】
【表９】
【０１３２】
また、実施例５〜１０および比較例７〜１２のインクジェット用インクには、重合禁止剤（Ｉ）として０．０５重量部のフェノチアジン（重合禁止剤（Ｉ）を除くインクジェット用インクの合計量を１００重量部とする）を添加した。
得られたインクジェット用インクについて、比較例１０〜１２のジェッティング特性の評価においてヘッド温度を４５℃にして評価を行ったこと以外は、インクの粘度および保管による粘度の変化、ジェッティング特性、硬化膜のエッチング液に対する耐性、アルカリ性水溶液（剥離液）に対する剥離性およびめっき液に対する耐性を、前述の方法により測定・評価した。これらの結果を表１０に示す。
【０１３３】
【表１０】
【０１３４】
［実施例１１〜１６および比較例１３〜１８］
実施例１１〜１６はカバーレイ用として用いることに適した硬化膜を形成する本発明にかかるインクジェット用インクである。表１１に記載された割合（重量部）で配合し、混合・溶解してフッ素樹脂製メンブレンフィルター（０．２μｍ）で濾過し、各インクジェット用インクを調製した。
なお、比較例１３〜１５は、一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）成分を含まない例であり、比較例１６〜１８は、（Ａ）成分を含んでいてもカルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）成分を含まない例である。
【０１３５】
【表１１】
【０１３６】
また、実施例１１〜１６および比較例１３〜１８のインクジェット用インクには、重合禁止剤（Ｉ）として０．０５重量部のフェノチアジン（重合禁止剤（Ｉ）を除くインクジェット用インクの合計量を１００重量部とする）を添加した。
得られたインクジェット用インクの粘度および保管による粘度の変化、ジェッティング特性、硬化膜の銅基板に対する密着性、硬化膜のめっき液に対する耐性および硬化膜のはんだ耐熱性を、前述の方法により測定・評価した。結果を表１２に示す。
【表１２】
【産業上の利用可能性】
【０１３７】
本発明は、たとえば、電子回路基板に使用される保護膜あるいは絶縁膜、あるいは金属パターン配線形成用レジスト、あるいはめっきパターン形成用レジストに使用することができる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示素子、ＥＬ表示素子、プリント配線基板等を製造するために用いられるインクジェット用インクに関する。さらに本発明は、該インクジェット用インクにより得られる硬化膜（パターン化された硬化膜を含む）、硬化膜形成方法、および、硬化膜が形成された電子回路基板、電子部品、表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィ法に比べて、インクジェット法によるパターン形成は工程が簡単になる上に、材料使用量の削減も期待できるので、電子機器に使用されるプリント配線板等の製造に用いることが提案されている（たとえば、特開２００３−３０２６４２号公報（特許文献１）、特開２００５−６８２８０号公報（特許文献２）、特開２００８−５０６０１号公報（特許文献３）、特開平９−１８３９２９号公報（特許文献４）、特開２００７−２３１２３１号公報（特許文献５）を参照）。
【０００３】
近年、電子機器の小型化が進み、軽量かつフレキシブルなプリント配線板を用いた電子回路基板が多く用いられている。このような電子回路基板は、たとえば、エッチングレジストにより、所定の回路パターンをなす金属配線部を形成し、その後にめっきレジストによるめっきパターン作製、および金属層表面を保護する保護膜であるカバーレイをコーティングする工程を経て作製されている。
【０００４】
レジストによるめっきパターン作製および金属層表面を保護する保護膜であるカバーレイをコーティングする工程をインクジェット法により実施する際、インクジェット用インクの保存安定性が要求され、安定したインク吐出性が要求される。また、インクジェット用インクにより形成された硬化膜は各インク用途により、さまざまな性能が要求される。
たとえば、エッチングレジスト用として形成されたインクジェット用インクの硬化膜については、金属エッチング液に対する耐性が要求され、剥離液に対する剥離性が要求される。たとえば、めっきレジスト用として形成されたインクジェット用インクの硬化膜については、めっき液に対する耐性が要求され、剥離液に対する剥離性が要求される。たとえば、カバーレイ用として形成されたインクジェット用インクの硬化膜については、めっき液に対する耐性が要求され、はんだ耐熱性が要求される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】ＷＯ２００４−０９９２７２号パンフレット
【特許文献２】特開２００５−６８２８０号公報
【特許文献３】特開２００８−５０６０１号公報
【特許文献４】特開平９−１８３９２９号公報
【特許文献５】特開２００７−２３１２３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、従来のインクジェット用インクの硬化膜は、上記性能のいずれかひとつ、または複数の性能が不十分であった。
【０００７】
上記の状況の下、たとえばインクの保存安定性に優れたインクジェット用インクが求められている。また、たとえば、安定した吐出が可能なインクジェット用インクが求められている。そしてインクジェット用インクを硬化膜としたときに、たとえばエッチングレジスト用では金属エッチング液に対する耐性や剥離液に対する剥離性を有し、また、たとえばめっきレジスト用ではめっき液に対する耐性や剥離液に対する剥離性を有し、また、たとえばカバーレイ用ではめっき液に対する耐性やはんだ耐熱性を有するインクジェット用インクが求められている。また、信頼性の高いフレキシブル配線板が求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者等は、インクジェット用インクに所定の構造を有する化合物（Ａ）を用いると上記課題に有効に対処することができることを見出し、この知見に基づいて、化合物（Ａ）と、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）とを含むインクジェット用インクに関する本発明を完成した。本発明は以下のようなインクジェット用インク、インクジェット用インクから得られた硬化膜およびその形成方法等を提供する。
【０００９】
［１］ 一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）と、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）とを含むインクジェット用インク。
【化１】
（式（ａ）中、ｍとｎはそれぞれ独立して０〜３の整数であり、Ｒ１はそれぞれ独立して水素または炭素数１〜３のアルキルであり、Ｒ２はそれぞれ独立して分岐構造を有していてもよい炭素数１〜１３のアルキレンであり、Ｒ３は単結合または分岐構造を有していてもよい炭素数１〜１３のアルキレンである。）
［２］ 一般式（ａ）において、ｍとｎはそれぞれ独立して１〜２の整数であり、Ｒ１はそれぞれ独立して水素またはメチルであり、Ｒ２はそれぞれ独立して分岐構造を有していてもよい炭素数２〜３のアルキレンであり、Ｒ３は単結合または炭素数２〜５のアルキレンである、［１］に記載のインクジェット用インク。
［３］ ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）が、一般式（ｂ）で表される化合物である、［１］または［２］に記載のインクジェット用インク。
【化２】
（一般式（ｂ）中、Ｒ４は水素または炭素数１〜３のアルキルであり、Ｒ５は炭素数２〜１２の有機基であり、ｓは１〜３０の整数である。）
［４］ ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）が、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる１以上である、［１］または［２］に記載のインクジェット用インク。
［５］ 光重合開始剤（Ｃ）が、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、１，２−オクタンジオン，１−[４−（フェニルチオ）フェニル]−，２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）から選ばれた少なくとも１つの化合物である、［１］〜［４］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
［６］ カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）が一般式（ｄ−１）又は（ｄ−２）で表される化合物である、［１］〜［５］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【化３】
（一般式（ｄ−１）中、Ｒ６は水素または炭素数１〜３のアルキルであり、Ｒ７は炭素数２〜１２の有機基であり、Ｒ８は炭素数２〜１２の有機基であり、ｐは１〜３０の整数である。）
【化４】
（一般式（ｄ−２）中、Ｒ９は水素または炭素数１〜３のアルキルであり、Ｒ１０は炭素数２〜１２の有機基であり、ｑは１〜３０の整数であり、ｒは１〜３の整数である。）
［７］ インクジェット用インク中に、一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）が１〜９０重量％、ラジカル重合性モノマー（Ｂ）が１〜８０重量％、光重合開始剤（Ｃ）が０．２〜２０重量％およびカルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）が１〜６０重量％含まれる、［１］〜［６］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
［８］ さらに、多官能のラジカル重合性モノマー（Ｇ）を含む［１］〜［７］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
［９］ さらに、熱反応性樹脂（Ｅ）および難燃剤（Ｆ）からなる群から選ばれる少なくとも１つを含む、［１］〜［８］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
また、［１］〜［８］のいずれかに記載のインクジェット用インクは、エッチングレジストまたはめっきレジストの用途、または、カバーレイの用途のインクジェット用インクであることが好ましい。
［１０］ インクジェット法によって［１］〜［８］のいずれかに記載のインクジェット用インクを塗布し、塗布されたインクに光を照射することによって硬化膜を形成する、硬化膜形成方法。
［１１］ インクジェット法によって［１］〜［８］のいずれかに記載のインクジェット用インクを塗布し、塗布されたインクへの光照射および加熱を同時、または、光照射の後に加熱を行うことによって硬化膜を形成する、硬化膜形成方法。
［１２］ ［１０］または［１１］に記載された方法で得られた硬化膜。
［１３］ 所定のパターンで形成されている、［１２］に記載の硬化膜。
［１４］ 基板上に［１２］または［１３］に記載された硬化膜が形成された電子回路基板。
［１５］ ［１４］に記載された電子回路基板を有する電子部品。
［１６］ ［１４］に記載された電子回路基板または［１５］に記載された電子部品を有する表示素子。
【００１０】
なお、本明細書中、アクリレートとメタクリレートの両者を示すために「（メタ）アクリレート」のように表記することがある。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の好ましい態様に係るインクジェット用インクは、たとえば、インクの保存安定性に優れ、安定した吐出が可能となる。また、このインクジェット用インクから得られる硬化膜は、たとえば、金属エッチング液、アルカリ性水溶液またはめっき液に対する耐性や剥離液に対する剥離性を有している。たとえば、このインクジェット用インクから得られる硬化膜は、めっき液に対する耐性や剥離液に対する剥離性を有している。たとえば、インクジェット用インクから得られる硬化膜は、めっき液に対する耐性やはんだ耐熱性を有している。
さらに、本発明の好ましい態様に係るインクジェット用インクを用いることにより、電子回路基板の製造における保護膜の形成にかかる手間や時間を短縮でき、消耗品も削減できる。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
１．本発明のインクジェット用インク
本発明のインクジェット用インクは、一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）と、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）とを含むインクジェット用インクである。
本発明のインクジェット用インクは、無色であっても有色であってもよい。
【００１３】
また、本発明のインクジェット用インクは、一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）と、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）の他に、任意に、熱反応性樹脂（Ｅ）、難燃剤（Ｆ）等を含むことができる。また、所望により、多官能のラジカル重合性モノマー、反応性希釈剤、溶媒、添加剤、重合禁止剤、着色剤等をさらに含むことができる。なお、「熱反応性」とは、例えば、熱により架橋反応を起こす性質を意味するが、これに限定されるわけではない。
【００１４】
１．１ 一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）
本発明のインクジェット用インクで用いられる一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）の具体例は、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、アルコキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、アルコキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート等である。
【００１５】
これらの中でも、ジプロピレングリコールジアクリレート（一般式（ａ）においてｍ、ｎがいずれも１であり、Ｒ１は水素であり、Ｒ２はイソプロピレンであり、Ｒ３は単結合である化合物）、または、トリプロピレングリコールジアクリレート（一般式（ａ）においてｍ、ｎがそれぞれ１、２、またはｍ、ｎがそれぞれ２、１であり、Ｒ１は水素であり、Ｒ２はイソプロピレンであり、Ｒ３は単結合である化合物）、または、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート（ｍ、ｎがいずれも２であり、Ｒ１は水素であり、Ｒ２はイソプロピレンであり、Ｒ３は２，２−ジメチルプロピレンである化合物）が好ましい。
【００１６】
ジプロピレングリコールジアクリレートはサートマー社のＳＲ５０８として市販されており、トリプロピレングリコールジアクリレートはサートマー社のＳＲ３０６Ｈとして市販されており、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートはサートマー社のＳＲ３００９として市販されている。
【００１７】
一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）は、式（ａ）で表される化合物群から選ばれる１種の化合物であっても、これらの混合物であってもよい。
インクジェット用インク中に一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）が１〜９０重量％含まれると、インクジェット時、ノズルからの吐出安定性が良好になるので好ましく、１〜８０重量％含まれるとより好ましく、１〜７０重量％含まれるとさらに好ましい。
【００１８】
１．２ ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）
本発明のインクジェット用インクで用いられるヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）は、単官能のラジカル重合性化合物であって、ヒドロキシを有するものであれば特に限定されない。「ラジカル重合性」とは、光が当たることで発生したフリーラジカルにより重合を開始する性質である。
【００１９】
ラジカル重合性モノマー（Ｂ）がラジカル重合性を有するための官能基として、アクリル、メタクリル、アクリルアミド、またはメタクリルアミド等の官能基が挙げられる。
【００２０】
ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）は、上述するようにラジカル重合性モノマーがヒドロキシを有するものである。
【００２１】
単官能とは、官能性を有する基を一つ有する性質を意味する。単官能のラジカル重合性の基としては、たとえば、炭素間二重結合（但し、芳香族を構成する炭素間二重結合を除く）、炭素間三重結合等が挙げられる。
本発明のインクジェット用インクを光硬化性インクジェット用インクに用いた場合に、ノズルからの吐出安定性の観点から、１つのラジカル重合性炭素間二重結合を有する重合性モノマーが好ましく、具体的には、単官能は炭素間二重結合であることが特に好ましい。
【００２２】
単官能のラジカル重合性モノマーの具体例としては、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、ｐ−ビニルフェニル−３−エチルオキセタ−３−イルメチルエーテル、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−トリフロロメチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、４−トリフロロメチル−２−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、（３−エチル−３−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、ビニルトルエン、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、５−テトラヒドロフルフリルオキシカルボニルペンチル（メタ）アクリレート、ラウリルアルコールのエチレンオキシド付加物の（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、マレイン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、シクロヘキセン−３，４−ジカルボン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルホリン、Ｎ−フェニルマレイミド、またはＮ−シクロヘキシルマレイミド等が挙げられる。
したがって、本発明のインクジェット用インクで用いられるヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）は、これらのラジカル重合性モノマーを構成する１以上の水素が水酸基に置換されたモノマーが挙げられる。
【００２３】
ラジカル重合性モノマー（Ｂ）に含まれるヒドロキシの数は、複数個であってもよいが、好ましくは１〜３個、より好ましくは１〜２個、さらに好ましくは１個である。
ラジカル重合性モノマー（Ｂ）に含まれるヒドロキシは、インクジェット用インク中に含まれる他の成分との相溶性を高める効果を有する。
【００２４】
本発明のインクジェット用インクで用いられるヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）の具体例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、または１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
本発明のインクジェット用インクで用いられるヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）は、これらの中でも、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、または１，４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレートが好ましい。
【００２５】
また、本発明のインクジェット用インクで用いられるヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）は、上記一般式（ｂ）で表される化合物であることが好ましい。
【００２６】
一般式（ｂ）中、ｓは１〜３０の整数であり、好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜３、さらに好ましくは１である。
また、一般式（ｂ）中、Ｒ４はそれぞれ独立して水素または炭素数１〜３のアルキルであり、具体的には、水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピルが挙げられ、好ましくは水素またはメチルである。一般式（ｂ）中、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数２〜１２の有機基である。
【００２７】
Ｒ５は有機基であり、特に炭素数２〜２０の２価の炭化水素基が好ましい。
「炭素数２〜２０の２価の炭化水素基」の炭化水素基は、飽和若しくは不飽和の非環式であってもよいし、飽和若しくは不飽和の環式であってもよい。炭素数２〜２０の炭化水素基が非環式の場合には、直鎖状でもよいし、枝分かれでもよい。「炭素数２〜２０の２価の炭化水素基」には、炭素数２〜２０のアルキレン、炭素数２〜２０のアルケニレン、炭素数２〜２０のアルキニレン、炭素数４〜２０のアルキルジエニレン、炭素数６〜１８のアリーレン、炭素数７〜２０のアルキルアリーレン、炭素数７〜２０のアリールアルキレン、炭素数４〜２０のシクロアルキレン、炭素数４〜２０のシクロアルケニレンなどが含まれる。
【００２８】
これらの炭素数２〜２０の２価の炭化水素基の中でも、Ｒ５は炭素数２〜２０の直鎖アルキレン、炭素数２〜２０の分岐鎖アルキレン、炭素数２〜２０の環構造を有するアルキレンまたは置換基を有してもよい芳香族基が好ましい。
【００２９】
本明細書において、「炭素数２〜２０のアルキレン」は、炭素数２〜１０のアルキレンであることが好ましい。直鎖アルキレンまたは分岐鎖アルキレンの例としては、メチレン、エチレン、プロピレン、イソプロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、ドデカニレン等を挙げることができる。環構造のアルキレンの例としては、下記式（２）で表される基、シクロプロピレン、シクロブチレン、シクロペンチレン、シクロヘキシレン等を挙げることができる。
【化５】
本明細書において、「置換基を有してもよい芳香族基」としては、水素が炭素数１〜５のアルキルまたはハロゲンで置換されてもよいベンゼン環またはナフタレン環等の芳香環由来の芳香族基を挙げることができる。
【００３０】
これらの中でも、Ｒ５は直鎖アルキレンまたは分岐鎖アルキレンとしては、エチレン、プロピレン、ブチレンが好ましく、環構造のアルキレンとしては上記式（２）で表される基が好ましい。
【００３１】
インクジェット用インク中に含まれるラジカル重合性モノマー（Ｂ）は、上述した化合物から選ばれる１種の化合物であってもよく、またこれらの２種以上の混合物であってもよい。
【００３２】
ラジカル重合性モノマー（Ｂ）は１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
ラジカル重合性モノマー（Ｂ）は、インクジェット用インク中に１〜７０重量％含まれると、光硬化性インクジェット用インクとした場合、インクジェットノズルからの吐出が安定するので好ましく、３〜６０重量％含まれるとより好ましく、５〜５０重量％含まれるとさらに好ましい。
【００３３】
１．３ 光重合開始剤（Ｃ）
本発明のインクジェット用インクで用いられる光重合開始剤（Ｃ）は、紫外線あるいは可視光線などの照射によりラジカルを発生することのできる化合物であれば特に限定されない。
光重合開始剤（Ｃ）の具体例としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、キサントン、チオキサントン、イソプロピルキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−エチルアントラキノン、アセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−４’−イソプロピルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、イソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、カンファーキノン、ベンズアントロン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４，４’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４，４’−トリ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’−ジ（メトキシカルボニル）−４，４’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４’−ジ（メトキシカルボニル）−４，３’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４，４’−ジ（メトキシカルボニル）−３，３’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、１，２−オクタンジオン，１−[４−（フェニルチオ）フェニル]−，２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）、２−（４’−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３’，４’−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’，４’−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４’−ペンチルオキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−［ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）］−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（４’−メトキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズチアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、３−（２−メチル−２−ジメチルアミノプロピオニル）カルバゾール、３，６−ビス（２−メチル−２−モルホリノプロピオニル）−９−ｎ−ドデシルカルバゾール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２,６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド等を挙げることができる。
【００３４】
これらの中でも、インクジェット用インク中に含まれる他の成分との相溶性が高く、得られるインクジェット用インクが少ない紫外線の照射量で硬化するという観点から、光重合開始剤（Ｃ）として、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド（チバジャパン（株）製のＩＲＧＡＣＵＲＥ ８１９（商品名））または２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド（チバジャパン（株）製のＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ（商品名））、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバジャパン（株）製のＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４（商品名））等を用いることが好ましい。
【００３５】
光重合開始剤（Ｃ）は１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
光重合開始剤（Ｃ）は、インクジェット用インク中に０．２〜２０重量％含まれると、インクジェット用インクとしたとき、紫外線に対して高感度となるので好ましく、１〜２０重量％であるとより好ましく、２〜１５重量％であるとさらに好ましい。
【００３６】
１．４ カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）
カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）は、ラジカル重合性化合物であって、カルボキシまたはリンを有していれば特に限定されない。
【００３７】
ラジカル重合性モノマー（Ｄ）がカルボキシを有する場合、インクジェットインクから得た硬化膜のアルカリ性水溶液に対する剥離性を向上する効果を有する。また、ラジカル重合性モノマー（Ｄ）がリンを有する場合、インクジェットインクから得た硬化膜と金属基板との密着性を向上させる効果を有する。
【００３８】
（１）カルボキシを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）
カルボキシを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）の好ましい例としては、カルボキシと１つのラジカル重合性炭素間二重結合を有する重合性モノマー、カルボキシと２つのラジカル重合性炭素間二重結合を有する重合性モノマー、またはカルボキシと３つ以上のラジカル重合性炭素間二重結合を有する重合性モノマーを挙げることができる。
【００３９】
カルボキシと１つのラジカル重合性炭素間二重結合を有する重合性モノマーの具体例としては、（メタ）アクリル酸、α−クロルアクリル酸、クロトン酸、ケイ皮酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、マレイン酸、フマル酸、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノアクリレート、またはフタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヘキサヒドロフタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００４０】
カルボキシと２つのラジカル重合性炭素間二重結合を有する重合性モノマーの具体例としては、脂肪酸変性ペンタエリスリトールジアクリレート等を挙げることができる。
【００４１】
カルボキシと３つ以上のラジカル重合性炭素間二重結合を有する重合性モノマーの具体例としては、コハク酸変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、またはコハク酸変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００４２】
これらの中でも、光硬化性インクジェット用インクに応用した場合に、ノズルからの吐出安定性や、インクジェット用インクから得た硬化膜のアルカリ性水溶液に対する剥離性の観点から、カルボキシを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）としては、カルボキシと１つのラジカル重合性炭素間二重結合を有する重合性モノマーが好ましく、特に、フタル酸モノヒドロキシエチルアクリレート、またはフタル酸モノヒドロキシエチルメタクリレート（新中村化学工業（株）製のＣＢ−１（商品名））を用いることが好ましい。
【００４３】
また、カルボキシを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）は、上記一般式（ｄ−１）で表される化合物であることが好ましい。
一般式（ｄ−１）中、ｐは１〜３０の整数であり、好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜３、さらに好ましくは１である。また、一般式（ｄ−１）中、Ｒ６は水素または炭素数１〜３のアルキルであり、具体的には、水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピルが挙げられ、好ましくは水素またはメチルである。一般式（ｄ−１）中、Ｒ７は炭素数２〜１２の２価の有機基であり、Ｒ８は炭素数２〜１２の２価の有機基である。
Ｒ７は、炭素数２〜１２の２価の炭化水素基が好ましい。これらの炭素数２〜１２の２価の炭化水素基の中でも、Ｒ７は炭素数２〜１２の直鎖アルキレン、炭素数２〜１２の分岐鎖アルキレン、炭素数２〜１２の環構造を有するアルキレンまたは置換基を有してもよい芳香族基が好ましい。
Ｒ８は、炭素数２〜１２の２価の炭化水素基が好ましい。これらの炭素数２〜１２の２価の炭化水素基の中でも、Ｒ８は炭素数２〜１２の直鎖アルキレン、炭素数２〜１２の分岐鎖アルキレン、炭素数２〜１２の環構造を有するアルキレンまたは置換基を有してもよい芳香族基が好ましい。
【００４４】
カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）として上記一般式（ｄ−１）で表される化合物を用いた本発明のインクジェット用インクおよび当該インクを用いて得られた硬化膜は、レジスト用途に用いられると好ましい。
【００４５】
（２）リンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）
リンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）の好ましい例としては、リンと１つのラジカル重合性炭素間二重結合を有する重合性モノマー、リンと２つのラジカル重合性炭素間二重結合を有する重合性モノマー、またはリンと３つ以上のラジカル重合性炭素間二重結合を有する重合性モノマーを挙げることができる。
【００４６】
リンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）は、上記一般式（ｄ−２）で表される化合物であることが好ましい。
一般式（ｄ−２）中、ｑは１〜３０の整数であり、好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜３、さらに好ましくは１である。ｒは１〜３の整数であり、より好ましくは１または２、さらに好ましくは２である。また、一般式（ｄ−２）中、Ｒ９はそれぞれ独立して水素または炭素数１〜３のアルキルであり、具体的には、水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピルが挙げられ、好ましくは水素またはメチルである。Ｒ１０は炭素数２〜１２の２価の炭化水素基が好ましい。これらの炭素数２〜１２の２価の炭化水素基の中でも、Ｒ１０は炭素数２〜１２の直鎖アルキレン、炭素数２〜１２の分岐鎖アルキレン、炭素数２〜１２の環構造を有するアルキレンまたは置換基を有してもよい芳香族基が好ましい。
【００４７】
これらの中でも、光硬化性インクジェット用インクに応用した場合に、ノズルからの吐出安定性や、インクジェット用インクから得た硬化膜と金属基板との密着性の観点から、リンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）としては、リンと１つまたは２つのラジカル重合性炭素間二重結合を有する重合性モノマーが好ましく、特に、２−メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート（共栄社化学（株）製のライトエステルＰ−１Ｍ、ライトエステルＰ−２Ｍ（商品名））が好ましい。
【００４８】
インクジェット用インク中に含まれるカルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）は、上述した化合物から選ばれる１種の化合物であってもよく、またこれらの２種以上の混合物であってもよい。
インクジェット用インク中のカルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）の好ましい含有量は、１〜８０重量％である。この範囲にあれば、インクジェット用インクから得られる硬化膜のめっき液耐性が良好であるので好ましい、また、ラジカル重合性モノマー（Ｄ）の含有量が１〜７０重量％であるとより好ましく、１〜６０重量％であるとさらに好ましい。
【００４９】
カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）として上記一般式（ｄ−２）で表される化合物を用いた本発明のインクジェット用インクおよび当該インクを用いて得られた硬化膜は、カバーレイ用途に用いられると好ましい。
【００５０】
１．５ 熱反応性樹脂（Ｅ）
熱反応性樹脂（Ｅ）の「熱反応性」とは、例えば、熱により架橋反応を起こす性質を意味するが、これに限定されるわけではない。
【００５１】
熱反応性樹脂（Ｅ）の例としては、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、「熱反応性官能基を有するラジカル重合性モノマーの重合体（例えばフェノール樹脂）」、または「熱反応性官能基を有するラジカル重合性モノマーと他のラジカル重合性モノマーとの共重合体」等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性、耐薬品性の観点からメラミン樹脂を用いるのが好ましく、硬化膜のアルカリ性水溶液に対する剥離性、耐酸性水溶液の観点から「熱反応性官能基を有するラジカル重合性モノマーの重合体（例えばフェノール樹脂）」を用いることが好ましい。
【００５２】
メラミン樹脂の具体例としては、メラミン、メチロールメラミン、エーテル化メチロールメラミン、ベンゾグアナミン、メチロールベンゾグアナミン、エーテル化メチロールベンゾグアナミン、およびそれらの縮合物を挙げることができる。これらの中でも、耐薬品性が良好であることから、エーテル化メチロールメラミンが好ましく、さらに下記式（ｅ−１）で表される化合物およびその縮合物の混合物は、三和ケミカル（株）製のニカラックＭＷ−３０（商品名）として市販されている。
【化６】
【００５３】
「熱反応性官能基を有するラジカル重合性モノマーの重合体」の具体例としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルフェノール等のフェノール樹脂、ポリ（グリシジル（メタ）アクリレート）、ポリ（３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート）、ポリ（メチルグリシジル（メタ）アクリレート）、ポリ（３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン）、ポリ（３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン）、ポリ（３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン）、ポリ（３−エチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン）、ポリ（ｐ−ビニルフェニル−３−エチルオキセタ−３−イルメチルエーテル）、ポリ（２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン）、ポリ（２−トリフロロメチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン）、ポリ（４−トリフロロメチル−２−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン）、ポリ（メタ）アクリル酸等をあげることができる。中でも、硬化膜のアルカリ性水溶液に対する剥離性を向上することからポリビニルフェノール等のフェノール樹脂が好ましく、丸善石油化学（株）製のマルカリンカーＭ Ｓ−２Ｐ（商品名）として市販されている。
【００５４】
インクジェット用インク中に含まれる熱反応性樹脂（Ｅ）は、上述した化合物から選ばれる１種の化合物であってもよく、またこれらの２種以上の混合物であってもよい。
熱反応性樹脂（Ｅ）は、インクジェット用インク中に０．１〜３０重量％含まれると、得られるインクの硬化膜の耐薬品性が高くなるために好ましく、０．５〜２５重量％含まれるとより好ましく、１〜２０重量％含まれるとさらに好ましい。
【００５５】
１．６ 難燃剤（Ｆ）
インクジェット用インクに難燃性を付与するために難燃剤（Ｆ）を含んでもよい。この難燃剤（Ｆ）としてはリン系化合物が環境へ与える影響が少ないので好ましい。
【００５６】
リン系化合物の難燃剤（Ｆ）の具体例としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルフェニルホスフェート、２−エチルヘキシルジフェニルホスフェート、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０オキシド、１０−（２，５−ジヒドロキシフェニル）−１０Ｈ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキシド、下記一般式（ｆ−１）で表される縮合９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０オキシド等があげられる。
【化７】
【００５７】
これらの中でも、インクジェット用インクから得られる硬化膜を高温状態にさらした場合でも難燃剤のブリードアウトが減少するという観点から、難燃剤（Ｆ）として、縮合９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０オキシド（昭和高分子（株）製のＨＦＡ−３００３（商品名））等を用いることが好ましい。
【００５８】
難燃剤（Ｆ）は、上述した化合物から選ばれる１種の化合物であってもよく、またこれらの２種以上の混合物であってもよい。
難燃剤（Ｆ）は、インクジェット用インク中に１０〜５０重量％含まれると、インクジェット用インクから得られる硬化膜が高い難燃性（ＵＬ燃焼試験法Ｖ−０規格相当）を示すので好ましい。
【００５９】
１．７ その他の成分
インクジェット用インクは、保存安定性や、光に対する感度、形成される膜の耐久性、形成される膜の膜面均一性、形成される膜の硬化密度、インクの吐出特性、インクの塗布性等を向上させるために、多官能のラジカル重合性モノマー、反応性希釈剤、溶媒、重合禁止剤、界面活性剤、着色剤、帯電防止剤等を含むことができる。これらの成分は１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
なお、インクジェット用インク中の水分量は特に限定されないが、１０，０００ｐｐｍ以下が好ましく、５，０００ｐｐｍ以下がさらに好ましい。これらの水分量であると、インクジェット用インクの粘度変化が少なく保存安定性に優れるので好ましい。
【００６０】
１．７．１ 多官能のラジカル重合性モノマー（Ｇ）
インクジェット用インクは光感度、および硬化膜の架橋密度を高めるために多官能のラジカル重合性モノマー（Ｇ）を含んでもよい。
【００６１】
多官能のラジカル重合性モノマー（Ｇ）の具体例としては、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、またはジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ型エチレンオキシド変性ジアクリレート、ビスフェノールＡ型エチレンオキシド変性ジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリス［（メタ）アクリロキシエチル］イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス［（メタ）アクリロキシエチル］イソシアヌレート、ノボラックエポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート、レゾルシノールエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００６２】
これらの中でも、ビスフェノールＦエチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート（東亜合成（株）製のＭ２０８（商品名））、ビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート（日本ユピカ（株）製のネオポール ８４７７（商品名））から選ばれる１つ以上を含有していると、硬化膜の耐薬品性が高くなるので、より好ましい。
【００６３】
多官能のラジカル重合性モノマー（Ｇ）は１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
多官能のラジカル重合性モノマー（Ｇ）は、インクジェットインク中に５〜７０重量％含まれると、インクジェット用インクとした場合に光に対して高感度となり、また硬化膜のめっき液耐性が高くなるため好ましく、５〜６５％重量％であるとより好ましく、１０〜６５重量％であるとさらに好ましい。
【００６４】
１．７．２ 反応性希釈剤（Ｈ）
インクジェット用インクはインクの粘度調整や硬化膜の架橋度を制御するために反応性希釈剤（Ｈ）を含んでもよい。溶媒の代わりにまたは溶媒の一部を置き換えて反応性希釈剤（Ｈ）を使用すると、インクの固形分濃度が高くなるため、厚膜を形成させることが可能である。反応性希釈剤（Ｈ）は、一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）、カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）とは異なる化合物を示す。
【００６５】
反応性希釈剤（Ｈ）の具体例としては、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレ―ト、イソデシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、２−（２−エトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００６６】
これらの中でも、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレートは少量用いることで、インクジェット用インクの粘度を大きく下げることができるので好ましい。
【００６７】
反応性希釈剤（Ｈ）は１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
反応性希釈剤（Ｈ）は、インクジェット用インク中に５〜６０重量％含まれると、光硬化性インクジェット用インクとした場合、Ｅ型粘度計で測定した２５℃における粘度が２〜５００ｍＰａ・ｓの範囲になるので好ましく、より好ましくは５〜５０重量％である。
【００６８】
１．７．３ 溶媒（Ｉ）
インクジェット用インクはインクの吐出特性を向上させるために溶媒（Ｉ）を含んでもよい。この溶媒としては沸点が１００℃以上の溶媒が好ましい。室温でのインクジェット用インクの粘度が３０ｍＰａ・ｓ以上である場合には、ジェッティング温度を高くすることが好ましいが、この場合には含まれる溶媒の沸点は２００℃以上であることが好ましい。
【００６９】
沸点が１００℃以上である溶媒の具体例としては、酢酸ブチル、プロピオン酸ブチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、トルエン、キシレン、アニソール、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルイミダゾリジノン等が挙げられる。これらの溶媒中の水分量は、インクジェット用インク中の水分量が前述の範囲になるように調整されていることが望ましい。
【００７０】
これらの溶媒の中でも、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等を用いると、インクの吐出が安定するので好ましい。
【００７１】
溶媒（Ｉ）は１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
溶媒（Ｉ）は、インクジェット用インク中に０〜５０重量％含まれると、光硬化性インクジェット用インクとした場合の吐出が安定するので好ましく、より好ましくは０〜２０重量％である。
【００７２】
さらに、インクジェット用インクの塗布性にインクの表面張力が大きく影響するため、インクの表面張力を好ましくは２０〜４５ｍＮ／ｍ、より好ましくは２７〜４２ｍＮ／ｍ、さらに好ましくは３０〜４０ｍＮ／ｍに調整する。表面張力が２０〜４５ｍＮ／ｍの範囲であればインク吐出口におけるインクメニスカスが安定になり、インクの吐出は良好となる。
表面張力を２０〜４５ｍＮ／ｍの範囲に調整するには、溶媒選定が重要である。表面張力が２０〜４５ｍＮ／ｍの範囲にある１種の溶媒を用いてもよいが、表面張力の大きな溶媒（例えば、γ−ブチロラクトン：４３ｍＮ／ｍ）および表面張力の小さな溶媒（例えば、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル：２４ｍＮ／ｍ、あるいはエチレングリコールモノブチルエーテル：３２ｍＮ／ｍ）を混合して用いると溶媒組成で表面張力を微調整できるので好ましい。
【００７３】
１．７．４ 重合禁止剤（Ｊ）
インクジェット用インクは、保存安定性を向上させるために重合禁止剤を含んでもよい。重合禁止剤の具体例としては、４−メトキシフェノール、ヒドロキノン、フェノチアジン等を挙げることができる。これらの中でも、ジェッティング時にインクジェットヘッドを加熱した場合のインクの粘度変化を最小にする観点から、重合禁止剤としてフェノチアジンを用いることが好ましい。
【００７４】
重合禁止剤（Ｊ）は１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
重合禁止剤（Ｊ）は、インクジェット用インクの保存安定性と光に対する高感度性とを両立させるという観点から、インクジェット用インク中に０．０１〜１重量％含まれることが好ましい。
【００７５】
１．７．５ 界面活性剤（Ｋ）
インクジェット用インクは、インクジェット用インクから得られた膜面の均一性を向上させるために界面活性剤を含んでもよい。界面活性剤としては、シリコン系界面活性剤、アクリル系界面活性剤、およびフッ素系界面活性剤等が用いられる。具体的には、Ｂｙｋ−３００、Ｂｙｋ−３０６、Ｂｙｋ−３３５、Ｂｙｋ−３１０、Ｂｙｋ−３４１、Ｂｙｋ−３４４、またはＢｙｋ−３７０（それぞれ商品名：ビック・ケミー（株）製）等のシリコン系界面活性剤；Ｂｙｋ−３５４、Ｂｙｋ−３５８、またはＢｙｋ−３６１（それぞれ商品名：ビック・ケミー（株）製）等のアクリル系界面活性剤；ＤＦＸ−１８、フタージェント２５０、またはフタージェント２５１（それぞれ商品名：ネオス（株）製）、メガファックＦ−４１０、メガファックＦ−４４３、メガファックＦ−４４５、メガファックＦ−４７０、メガファックＦ−４７９、メガファックＦ−４８３、メガファックＦ−４８９（それぞれ商品名：大日本インキ（株）製）等のフッ素系界面活性剤を挙げることができる。
【００７６】
界面活性剤（Ｋ）は１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
界面活性剤（Ｋ）は、熱硬化性組成物中に０．０１重量％以上であると硬化膜の膜面均一性が向上するので好ましく、他特性とのバランスを考慮すると０．０１〜１重量％であることが好ましい。
【００７７】
１．７．６ 着色剤（Ｌ）
インクジェット用インクは、着色剤を含んでいてもよく、この場合、例えば、得られる硬化膜の状態を検査する際に基板との識別を容易にすることができる。着色剤は、インクジェット用インク中に０．０１〜１０重量％程度、好ましくは０．１〜５重量％程度含んでもよい。インク原料の相溶性の観点から、着色剤は染料であることが好ましい。
【００７８】
１．７．７ 帯電防止剤（Ｍ）
帯電防止剤は、特に限定されるものではなく、公知の帯電防止剤を用いることができる。具体的には、酸化錫、酸化錫・酸化アンチモン複合酸化物、酸化錫・酸化インジウム複合酸化物等の金属酸化物や四級アンモニウム塩等が挙げられる。帯電防止剤は、帯電を防止するために使用するものであり、インクジェット用インク１００重量部に対し０．０１〜１重量部添加して用いられることが好ましい。
【００７９】
１．８ インクジェット用インクの調製方法
本発明のインクジェット用インクは、インクを構成する各成分を混合することによって製造される。具体的には、本発明のインクジェット用インクは、一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）および、任意に含まれる成分（熱反応性樹脂（Ｅ）、難燃剤（Ｆ）、多官能のラジカル重合性モノマー（Ｇ）等）を混合して製造される。
なお、混合する順番は特に限定されない。
【００８０】
特に本発明のインクジェットインク組成においては、インクジェット用インク中に一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）を１〜９０重量％と、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）を１〜７０重量％と、光重合開始剤（Ｃ）を０．２〜２０重量％と、カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）を５〜７０重量％含む。さらに、一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）を１〜７０重量％と、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）を５〜５０重量％と、光重合開始剤（Ｃ）を２〜１５重量％と、カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）を１０〜６５重量％含むように構成することが好ましい。
【００８１】
エッチングレジストまたはめっきレジスト等の用途の本発明のインクジェット用インクであって、成分（Ａ）〜（Ｄ）からなるインクジェット用インクでは、一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）としてジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１つを用い、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）として２−ヒドロキシエチル（メタ）クリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）クリレートおよび４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１つを用い、光重合開始剤（Ｃ）として２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１からなる群から選ばれる少なくとも１つを用い、カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）としてフタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを用いることが好ましい。
当該組成のインクジェット用インクでは、インクの粘度や硬化膜としたときの架橋密度、アルカリ水溶液に対する剥離性の観点から、各成分の含有量は、インクジェット用インク中に化合物（Ａ）が１〜２０重量％であり、重合性モノマー（Ｂ）が５〜５０重量％であり、光重合開始剤（Ｃ）が５〜１５重量％であり、カルボキシを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）が２０〜８０重量％であると好ましい。
【００８２】
エッチングレジストまたはめっきレジスト等の用途の本発明のインクジェット用インクであって、成分（Ａ）〜（Ｄ）および成分（Ｇ）からなるインクジェット用インクでは、一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）としてジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１つを用い、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）として２−ヒドロキシエチル（メタ）クリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）クリレートおよび４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１つを用い、光重合開始剤（Ｃ）として２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１からなる群から選ばれる少なくとも１つを用い、カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）としてフタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを用い、多官能のラジカル重合性モノマー（Ｇ）としてビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレートを用いることが好ましい。
当該組成のインクジェット用インクでは、インクの粘度や硬化膜としたときの架橋密度、めっき液に対する耐性、エッチング液に対する耐性、アルカリ水溶液に対する剥離性の観点から、各成分の含有量は、インクジェット用インク中に化合物（Ａ）が１〜２０重量％であり、重合性モノマー（Ｂ）が５〜５０重量％であり、光重合開始剤（Ｃ）が５〜１５重量％であり、カルボキシを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）が５〜３０重量％であり、重合性モノマー（Ｇ）が１０〜５０重量％であると好ましい。
【００８３】
カバーレイ等の用途の本発明のインクジェット用インクであって、成分（Ａ）〜（Ｄ）からなるインクジェット用インクでは、一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）としてジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１つを用い、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）として２−ヒドロキシエチル（メタ）クリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）クリレートおよび４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１つを用い、光重合開始剤（Ｃ）として２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１からなる群から選ばれる少なくとも１つを用い、カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）として２−（メタ）アクリロイロキシエチルアシッドホスフェートを用いることが好ましい。
当該組成のインクジェット用インクでは、インクの粘度や硬化膜としたときの架橋密度、金属基板に対する密着性の観点から、各成分の含有量は、インクジェット用インク中に化合物（Ａ）が３０〜９０重量％であり、重合性モノマー（Ｂ）が５〜３０重量％であり、光重合開始剤（Ｃ）が５〜１５重量％であり、リンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）が１〜１０重量％であると好ましい。
【００８４】
本発明のインクジェット用インクにおいて、カバーレイ等の用途で使用する場合で、成分（Ａ）〜（Ｄ）および成分（Ｇ）からなるとき、一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）としてジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１つを用い、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）として２−ヒドロキシエチル（メタ）クリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）クリレートおよび４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１つを用い、光重合開始剤（Ｃ）として２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１からなる群から選ばれる少なくとも１つを用い、カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）として２−（メタ）アクリロイロキシエチルアシッドホスフェートを用い、多官能のラジカル重合性モノマー（Ｇ）としてビスフェノールＦエチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレートを用いることが好ましい。
当該組成のインクジェット用インクでは、インクの粘度や硬化膜としたときの架橋密度、金属基板に対する密着性、めっき液に対する耐性、はんだ耐熱性の観点から、各成分の含有量は、インクジェット用インク中に化合物（Ａ）が５〜１５重量％であり、重合性モノマー（Ｂ）が５〜４０重量％であり、光重合開始剤（Ｃ）が２〜１５重量％であり、リンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）が１〜１０重量％であり、重合性モノマー（Ｇ）が３０〜７０重量％であると好ましい。
【００８５】
本発明のインクジェット用インクは、必要な成分を混合して得られた溶液を、ろ過することにより調製するのが好ましい。ろ過には、例えばフッ素樹脂製のメンブレンフィルター等が用いられる。
【００８６】
１．９ インクジェット用インクの粘度
インクジェット用インクは、Ｅ型粘度計で測定した２５℃における粘度が２〜５００ｍＰａ・ｓであるとインクジェットのヘッドからの塗布特性（ジェッティング精度等）が良好となるので好ましい。２５℃におけるインクジェット用インクの粘度は、より好ましくは３〜３００ｍＰａ・ｓ、さらに好ましくは５〜２００ｍＰａ・ｓである。
２５℃における粘度が３０ｍＰａ・ｓを超える場合は、インクジェットヘッドを加熱して吐出時の粘度を下げると、より安定した吐出が可能になる。インクジェットヘッドを加熱してジェッティングを行う場合は、加熱温度（好ましくは４０〜１２０℃）におけるインクジェット用インクの粘度は３〜３０ｍＰａ・ｓが好ましく、５〜２５ｍＰａ・ｓであればさらに好ましく、７〜２０ｍＰａ・ｓが特に好ましい。
【００８７】
１．１０ インクジェット用インクの保存
インクジェット用インクは、−２０〜２０℃で保存すると粘度変化が小さく、保存安定性が良好である。
【００８８】
２．インクジェット方法によるインクジェット用インクの塗布
本発明のインクジェット用インクは、公知のインクジェット塗布方法を用いて塗布することができる。インクジェット塗布方法としては、例えば、インクに力学的エネルギーを作用させてインクをヘッドから吐出（塗布）させる方法（いわゆるピエゾ方式）、および、インクに熱エネルギーを作用させてインクを塗布させる塗布方法（いわゆるバブルジェット（登録商標）方式）等がある。
インクジェット塗布方法を用いることにより、インクジェット用インクを予め定められたパターン状に塗布することができる。これによって、必要な箇所だけにインクを塗布でき、フォトリソグラフィ法に比べて、コストの削減となる。
【００８９】
本発明のインクジェット用インクを用いて塗布を行うのに好ましい塗布ユニットは、例えば、これらのインクを収容するインク収容部と、塗布ヘッドとを備えた塗布ユニットが挙げられる。塗布ユニットとしては、例えば、塗布信号に対応した熱エネルギーをインクに作用させ、前記エネルギーによりインク液滴を発生させる塗布ユニットが挙げられる。
塗布ヘッドとしては、例えば、金属および／または金属酸化物を含有する発熱部接液面を有するものである。前記金属および／または金属酸化物の具体例は、例えば、Ｔａ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ａｌ等の金属、および、これらの金属の酸化物等が挙げられる。
【００９０】
本発明のインクジェット用インクを用いて塗布を行うのに好ましい塗布装置としては、例えば、インクが収容されるインク収容部を有する塗布ヘッドの室内のインクに、塗布信号に対応したエネルギーを与え、前記エネルギーによりインク液滴を発生させる装置が挙げられる。
【００９１】
インクジェット塗布装置は、塗布ヘッドとインク収容部とが分離されているものに限らず、それらが分離不能に一体になったものを用いるものでもよい。また、インク収容部は塗布ヘッドに対し分離可能または分離不能に一体化されてキャリッジに搭載されるもののほか、装置の固定部位に設けられて、インク供給部材、例えばチューブを介して塗布ヘッドにインクを供給する形態のものでもよい。
【００９２】
また、インクジェットの吐出（塗布）温度は１０〜１２０℃が好ましく、塗布温度におけるインクジェット用インクの粘度は、３〜３０ｍＰａ・ｓであることが好ましい。
【００９３】
３．硬化膜の形成
本発明の硬化膜は、公知のインクジェット塗布方法を用いて上記インクジェット用インクを基板の表面に吐出した後に、インクに紫外線や可視光線等の光を照射して得られる。光が照射された部分のインクはラジカル重合性モノマー、例えば（メタ）アクリルモノマーの重合により三次元化架橋体となって硬化し、インクの広がりを効果的に抑えられる。したがって、上記インクジェット用インクを用いると、高精細なパターンの描画が可能になる。インクジェット用インクの組成に依存するが、照射する光として紫外線を用いた場合には、照射する紫外線の量は、ウシオ電機（株）製の受光器ＵＶＤ−４０５ＰＤを取り付けた積算光量計ＵＩＴ−２０１で測定して、１０〜１，０００ｍＪ／ｃｍ２程度が好ましく、１０〜８００ｍＪ／ｃｍ２程度がより好ましく、２０〜５００ｍＪ／ｃｍ２程度がさらに好ましい。また、照射する紫外線の波長は、２００〜４５０ｎｍが好ましく、２２０〜４３０ｎｍがより好ましく、２５０〜４００ｎｍがさらに好ましい。
また、必要に応じて、光の照射により硬化した上記硬化膜をさらに加熱・焼成してもよく、特に、１２０〜２５０℃で１０〜６０分間加熱することが好ましく、１５０〜２４０℃で１０〜６０分間加熱することがより好ましく、１８０〜２３０℃で１０〜６０分間加熱することがさらに好ましい。
【００９４】
本発明で使用する基板は、上記インクジェット用インクが塗布される対象となり得るものであれば特に限定されず、その形状は平板状に限られず、曲面状であってもよい。
【００９５】
また、基板の材質は特に限定されないが、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂、ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリイミド等のプラスチックフィルム、セロハン、アセテート、金属箔、ポリイミドと金属箔の積層フィルム、目止め効果があるグラシン紙、パーチメント紙、あるいはポリエチレン、クレーバインダー、ポリビニルアルコール、でんぷん、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）等で目止め処理した紙、ガラス等を挙げることができる。
【００９６】
これらの基板を構成する物質には、本発明の効果に悪影響を及ぼさない範囲において、さらに、顔料、染料、酸化防止剤、劣化防止剤、充填剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤および／または電磁波防止剤等の添加剤を含んでもよい。また、基板の表面の一部には、基板と異なる材質が形成されていてもよい。
【００９７】
基板の用途も特に限定されないが、本発明のインクジェット用インクから得られる硬化膜は耐エッチング液性、めっき液耐性、アルカリ水溶液に対する剥離性、耐熱性に優れているため、基板表面に金属製の回路を有する電子回路基板等の製造にもちいられることが好ましい。回路を形成する金属は、特に限定されるものではないが、金、銀、銅、アルミまたはＩＴＯが好ましい。
【００９８】
基板の厚さは、特に限定されないが、通常、１０μｍ〜２ｍｍ程度であり、使用する目的により適宜調整されるが、１５〜５００μｍが好ましく、２０〜２００μｍがさらに好ましい。
【００９９】
基板における硬化膜を形成する面には、必要により撥水処理、コロナ処理、プラズマ処理、ブラスト処理等の易接着処理を施したり、表面に易接着層やカラーフィルター用保護膜を設けたりしてもよい。
【０１００】
また、インクジェット用インクを、特定の場所にだけ塗布することによって、所定のパターンの硬化膜を形成することができ、硬化膜の形成のためのコストの削減を図ることができる。特に電子回路基板では、金属配線パターン形成やめっきパターン形成、金属配線保護膜（カバーレイ）形成において、吐出性、保存安定性に優れた本発明のインクジェット用インクを、所定の回路部分にだけ塗布することができるので、効率的に各目的に応じた硬化膜を形成できる。
【実施例】
【０１０１】
以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。なお、以下において特に断りのない限り、「部」は重量部を意味するものとする。
【０１０２】
実施例および比較例に使用した各成分は以下のとおりである。
一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）
Ａ１：ジプロピレングリコールジアクリレート
（商品名「ＳＲ５０８」、サートマー社製）
Ａ２：トリプロピレングリコールジアクリレート
（商品名「ＳＲ３０６Ｈ」、サートマー社製）
Ａ３：プロポキシ化ネオペンチルグリコールジアクリレート
（商品名「ＳＲ９００３」、サートマー社製）
ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）
Ｂ１：２−ヒドロキシエチルメタクリレート
（東京化成工業（株）製）
Ｂ２： ４−ヒドロキシブチルアクリレート
（商品名「４ＨＢＡ」、日本化成（株）製）
光重合開始剤（Ｃ）
Ｃ１：２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド
（商品名「ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ」、チバジャパン（株）製）
カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）
Ｄ１：フタル酸モノヒドロキシエチルメタクリレート
（商品名「ＣＢ−１」、新中村化学工業（株）製）
Ｄ２：２−メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート
（商品名「ライトエステルＰ−２Ｍ」、共栄社化学（株）製）
熱反応性樹脂（Ｅ）
Ｅ１：ポリビニルフェノール
（商品名「マルカリンカーＭ Ｓ−２Ｐ」、丸善石油化学（株）製）
Ｅ２：上記式（ｅ−１）で表される化合物およびその縮合物の混合物
（商品名「ニカラックＭＷ−３０」、三和ケミカル（株）製）
難燃剤（Ｆ）
Ｆ１：縮合9,10-ジヒドロ-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10オキシド
（上記式（ｆ−１）の化合物。商品名「ＨＦＡ−３００３」、昭和高分子（株）製）
多官能のラジカル重合性モノマー（Ｇ）
Ｇ１：ビスフェノールＦエポキシアクリレート
（商品名「ネオポール８４７７」、日本ユピカ（株）製）
Ｇ２：ビスフェノールＦエチレンオキシド変性ジアクリレート
（商品名「Ｍ−２０８」、東亜合成（株）製）
反応性希釈剤（Ｈ）
Ｈ１：シクロへキシルメタクリレート
（商品名「ライトエステルＣＨ」、共栄社化学（株）製）
Ｈ２：テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート
（商品名「ＳＲ２０３」、サートマー社製）
【０１０３】
実施例および比較例で作成した硬化膜の評価方法は以下のとおりである。
（１）インクの粘度・保管による粘度の変化
各インクジェット用インクの２５℃での粘度をＥ型粘度計（東機産業（株）製 ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ ＴＶ−２２）で測定した。結果を表２に示す。
また、各インクジェット用インクの一部（１０ｇ）を３０ｍＬのサンプル瓶に入れ、密栓をして、１００℃で５時間保管した。そして、保管前のインクの粘度に対する保管後のインクの粘度の変化率を調べた。インクの粘度はいずれも保管後に増加しており、変化率が１０％未満である場合を「○」、１０％以上である場合を「×」とした。
【０１０４】
（２）ジェッティング特性の評価
各インクジェット用インクをインクジェットカートリッジに注入し、これをインクジェット装置（ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ社製のＤＭＰ−２８００）に装着し、１０ｐｌ用のヘッドを用いて、吐出電圧（ピエゾ電圧）１６Ｖ、ヘッド温度７０℃、駆動周波数５ｋＨｚの条件下で吐出の様子を観察した。ジェッティング時の液柱が垂直方向に吐出され、サテライトは発生しなかった場合を「○」、液柱が隣の液柱と接触する、またはサテライトが発生した場合を「×」とした。
【０１０５】
（３）エッチングレジスト用またはめっきレジスト用硬化膜の評価のための試験基板の作成と硬化膜の評価
各インクジェット用インクをインクジェットカートリッジに注入し、これをインクジェット装置（ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ社製のＤＭＰ−２８００）に装着し、以下の基板作製条件で、基板上にインクジェットプリンタにより各インクジェット用インクを塗布（描画）し、次いでＵＶ硬化させて硬化膜が形成された試験基板を作製した。このようにして作製された試験基板を用いて、以下の（３．１）〜（３．３）に示す、硬化膜のエッチング液に対する耐性、アルカリ性水溶液（剥離液）に対する剥離性およびめっき液に対する耐性を調べた。
基板作製条件
基 板 ：銅箔をポリイミド上に積層した基板（厚さ３５μｍ）
［（東洋紡績（株）製）バイロフレックス（商品名）］
硬化膜の膜厚：３０μｍ
吐出条件 ：上記（２）と同様の吐出条件
ＵＶ露光量 ：２５０ｍＪ／ｃｍ２
【０１０６】
（３．１）硬化膜のエッチング液に対する耐性の評価
硬化膜のエッチング液に対する耐性を評価するために、作製した試験基板を５０℃の１３％ＦｅＣｌ３水溶液に１５分浸漬させた後に水洗を行い、硬化膜の表面状態を目視にて判定した。剥離や変色が生じなかった場合を「○」、剥離や変色が生じた場合を「×」とした。
【０１０７】
（３．２）硬化膜のアルカリ性水溶液（剥離液）に対する剥離性の評価
硬化膜のアルカリ性水溶液（剥離液）に対する剥離性を評価するために、作製した試験基板を５０℃の８％ＮａＯＨ水溶液に１分浸漬させた後に水洗を行い、硬化膜の剥離状態を目視にて判定した。完全に溶解もしくは剥離した場合を「○」、溶解もしくは剥離しなかった場合を「×」とした。
【０１０８】
（３．３）硬化膜のめっき液に対する耐性の評価
硬化膜のめっき液に対する耐性を評価するために、作製した試験基板を６０℃の無電解ニッケルめっき液（商品名：ニムデンＮＰＲ−４、Ｎｉ濃度４．５ｇ／Ｌ、上村工業（株）製）に２０分浸漬させて水洗を行い、続いて６０℃の金ストライクめっき液（商品名：アシドストライク、日本高純度化学（株）製）に１０分浸漬させて水洗を行い、続いて１００℃の無電解金めっき液（商品名：ゴブライトＴＡＭ−５５、Ａｕ濃度１ｇ／Ｌ、上村工業（株）製）に３０分浸漬させて水洗することでめっき皮膜を形成した。この工程中においてめっき液の硬化膜内部への浸入や剥離が生じなかった場合を「○」、めっき液の硬化膜内部への浸入や剥離が生じた場合を「×」とした。
（４）カバーレイ用硬化膜の評価のための試験基板の作成と硬化膜の評価
各インクジェット用インクをインクジェットカートリッジに注入し、これをインクジェット装置（ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ社製のＤＭＰ−２８００）に装着し、以下の基板作製条件で、基板上にインクジェットプリンタにより各インクジェット用インクを塗布（描画）し、次いでＵＶ硬化および熱硬化させて硬化膜が形成された試験基板を作製した。このようにして作製された試験基板を用いて、以下の（４．１）〜（４．３）に示す、硬化膜の銅基板に対する密着性、硬化膜のめっき液に対する耐性およびはんだ耐熱性を調べた。
基板作製条件
基 板 ：銅箔をポリイミド上に積層した基板（厚さ３５μｍ）
［（東洋紡績（株）製）バイロフレックス（商品名）］
硬化膜の膜厚：３０μｍ
吐出条件 ：上記（２）と同様の吐出条件
ＵＶ露光量 ：４０ｍＪ／ｃｍ２
熱硬化条件 ：１９０℃×３０分
【０１０９】
（４．１）硬化膜の銅基板に対する密着性の評価
硬化膜の銅との密着性を評価するために、碁盤目法（ＪＩＳ Ｋ ５４００（１９９０））を用いて、剥離が生じたか否かを調べた。当該試験は、温度２５℃、湿度６５％の条件下で行った。剥離が生じなかった場合を「○」、剥離が生じた場合を「×」とした。
【０１１０】
（４．２）硬化膜のめっき液に対する耐性の評価
硬化膜のめっき液に対する耐性を評価するために、作製した試験基板を３０℃のパラジウム水溶液（商品名：ＫＡＴ−４５０、Ｐｄ濃度１２ｍｇ／Ｌ、上村工業（株）製）に１分浸漬して水洗した後に、８０℃の無電解ニッケルめっき液（商品名：ニムデンＮＰＲ−４、Ｎｉ濃度４．５ｇ／Ｌ、上村工業（株）製）中に３０分浸漬させて水洗を行い、続いて８０℃の無電解金めっき液（商品名：ゴブライトＴＡＭ−５５、Ａｕ濃度１ｇ／Ｌ、上村工業（株）製）中に１０分浸漬させて水洗することでめっき皮膜を形成した。この工程中においてめっき液の硬化膜内部への浸入や硬化膜の剥離が生じなかった場合を「○」、めっき液の硬化膜内部への浸入や硬化膜の剥離が生じた場合を「×」とした。
【０１１１】
（４．３）硬化膜のはんだ耐熱性の評価
硬化膜のはんだ耐熱性を評価するために、試験基板の硬化膜表面にロジン系フラックス（商品名：ＮＳ−８２９、（株）日本スペリア社製）を塗布して、２６０℃のはんだ浴中に３０秒浸漬させ、剥離や膨れが生じたか否かを調べた。剥離と膨れが全く生じなかった場合を「○」、剥離または膨れが僅かでも生じた場合を「×」とした。
【０１１２】
［実施例１および比較例１］
実施例１はエッチングレジスト用またはめっきレジスト用として用いることに適した硬化膜を形成する本発明にかかるインクジェット用インクである。表１に記載された割合（重量部）で配合し、混合・溶解してフッ素樹脂製メンブレンフィルター（０．２μｍ）で濾過し、各インクジェット用インクを調製した。
なお、比較例１は、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）を含まない例である。
【０１１３】
【表１】
【０１１４】
また、実施例１および比較例１のインクジェット用インクには、重合禁止剤（Ｉ）として０．０５重量部のフェノチアジン（重合禁止剤（Ｉ）を除くインクジェット用インクの合計量を１００重量部とする）を添加した。
【０１１５】
得られたインクジェット用インクの粘度および保管による粘度の変化、ジェッティング特性および硬化膜のアルカリ性水溶液（剥離液）に対する剥離性を、前述の方法により測定・評価した。結果を表２に示す。
【０１１６】
【表２】
【０１１７】
［実施例２および比較例２，３］
実施例２はカバーレイ用として用いることに適した硬化膜を形成する本発明にかかるインクジェット用インクである。表３に記載された割合（重量部）で配合し、混合・溶解してフッ素樹脂製メンブレンフィルター（０．２μｍ）で濾過し、各インクジェット用インクを調製した。
なお、比較例２は、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）を含まない例であり、比較例３は、（Ａ）成分を含んでいてもカルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）成分を含まない例である。
【０１１８】
【表３】
【０１１９】
また、実施例２および比較例２と３のインクジェット用インクには、重合禁止剤（Ｉ）として０．０５重量部のフェノチアジン（重合禁止剤（Ｉ）を除くインクジェット用インクの合計量を１００重量部とする）を添加した。
【０１２０】
得られたインクジェット用インクの粘度および保管による粘度の変化および硬化膜のアルカリ性水溶液（剥離液）に対する剥離性を、前述の方法により測定・評価した。また、得られたインクジェット用インクのジェッティング特性を、ヘッド温度を５０度にした以外は前述で記載した（２）と同一の方法で評価した。これらの結果を表４に示す。
【表４】
【０１２１】
［実施例３および比較例４］
実施例３はエッチングレジスト用またはめっきレジスト用として用いることに適した硬化膜を形成する本発明にかかるインクジェット用インクである。表５に記載された割合（重量部）で配合し、混合・溶解してフッ素樹脂製メンブレンフィルター（０．２μｍ）で濾過し、各インクジェット用インクを調製した。
なお、比較例４は、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）を含まない例である。
【０１２２】
【表５】
【０１２３】
また、実施例３および比較例４のインクジェット用インクには、重合禁止剤（Ｉ）として０．０５重量部のフェノチアジン（重合禁止剤（Ｉ）を除くインクジェット用インクの合計量を１００重量部とする）を添加した。
【０１２４】
得られたインクジェット用インクの粘度および保管による粘度の変化、ジェッティング特性、硬化膜のエッチング液に対する耐性、アルカリ性水溶液（剥離液）に対する剥離性およびめっき液に対する耐性を、前述の方法により測定・評価した。これらの結果を表６に示す。
【０１２５】
【表６】
【０１２６】
［実施例４および比較例５，６］
実施例４はカバーレイ用として用いることに適した硬化膜を形成する本発明にかかるインクジェット用インクである。表７に記載された割合（重量部）で配合し、混合・溶解してフッ素樹脂製メンブレンフィルター（０．２μｍ）で濾過し、各インクジェット用インクを調製した。
なお、比較例５は、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）を含まない例であり、比較例６は、（Ａ）成分を含んでいてもカルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）成分を含まない例である。
【０１２７】
【表７】
【０１２８】
また、実施例４および比較例５と６のインクジェット用インクには、重合禁止剤（Ｉ）として０．０５重量部のフェノチアジン（重合禁止剤（Ｉ）を除くインクジェット用インクの合計量を１００重量部とする）を添加した。
【０１２９】
得られたインクジェット用インクの粘度および保管による粘度の変化、ジェッティング特性、硬化膜の銅基板に対する密着性、硬化膜のめっき液に対する耐性およびはんだ耐熱性を、前述の方法により測定・評価した。これらの結果を表８に示す。
【表８】
【０１３０】
［実施例５〜１０および比較例７〜１２］
実施例５〜１０はエッチングレジスト用またはめっきレジスト用として用いることに適した硬化膜を形成する本発明にかかるインクジェット用インクである。表９に記載された割合（重量部）で配合し、混合・溶解してフッ素樹脂製メンブレンフィルター（０．２μｍ）で濾過し、各インクジェット用インクを調製した。
なお、比較例７〜９は、一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）成分を含まない例であり、比較例１０〜１２は、（Ａ）成分を含んでいてもカルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）成分を含まない例である。
【０１３１】
【表９】
【０１３２】
また、実施例５〜１０および比較例７〜１２のインクジェット用インクには、重合禁止剤（Ｉ）として０．０５重量部のフェノチアジン（重合禁止剤（Ｉ）を除くインクジェット用インクの合計量を１００重量部とする）を添加した。
得られたインクジェット用インクについて、比較例１０〜１２のジェッティング特性の評価においてヘッド温度を４５℃にして評価を行ったこと以外は、インクの粘度および保管による粘度の変化、ジェッティング特性、硬化膜のエッチング液に対する耐性、アルカリ性水溶液（剥離液）に対する剥離性およびめっき液に対する耐性を、前述の方法により測定・評価した。これらの結果を表１０に示す。
【０１３３】
【表１０】
【０１３４】
［実施例１１〜１６および比較例１３〜１８］
実施例１１〜１６はカバーレイ用として用いることに適した硬化膜を形成する本発明にかかるインクジェット用インクである。表１１に記載された割合（重量部）で配合し、混合・溶解してフッ素樹脂製メンブレンフィルター（０．２μｍ）で濾過し、各インクジェット用インクを調製した。
なお、比較例１３〜１５は、一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）成分を含まない例であり、比較例１６〜１８は、（Ａ）成分を含んでいてもカルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）成分を含まない例である。
【０１３５】
【表１１】
【０１３６】
また、実施例１１〜１６および比較例１３〜１８のインクジェット用インクには、重合禁止剤（Ｉ）として０．０５重量部のフェノチアジン（重合禁止剤（Ｉ）を除くインクジェット用インクの合計量を１００重量部とする）を添加した。
得られたインクジェット用インクの粘度および保管による粘度の変化、ジェッティング特性、硬化膜の銅基板に対する密着性、硬化膜のめっき液に対する耐性および硬化膜のはんだ耐熱性を、前述の方法により測定・評価した。結果を表１２に示す。
【表１２】
【産業上の利用可能性】
【０１３７】
本発明は、たとえば、電子回路基板に使用される保護膜あるいは絶縁膜、あるいは金属パターン配線形成用レジスト、あるいはめっきパターン形成用レジストに使用することができる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）と、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）とを含むインクジェット用インク。
【化８】
（式（ａ）中、ｍとｎはそれぞれ独立して０〜３の整数であり、Ｒ１はそれぞれ独立して水素または炭素数１〜３のアルキルであり、Ｒ２はそれぞれ独立して分岐構造を有していてもよい炭素数１〜１３のアルキレンであり、Ｒ３は単結合または分岐構造を有していてもよい炭素数１〜１３のアルキレンである。）
【請求項２】
一般式（ａ）において、ｍとｎはそれぞれ独立して１〜２の整数であり、Ｒ１はそれぞれ独立して水素またはメチルであり、Ｒ２はそれぞれ独立して分岐構造を有していてもよい炭素数２〜３のアルキレンであり、Ｒ３は単結合または炭素数２〜５のアルキレンである、請求項１に記載のインクジェット用インク。
【請求項３】
ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）が、一般式（ｂ）で表される化合物である、請求項１または２に記載のインクジェット用インク。
【化９】
（一般式（ｂ）中、Ｒ４は水素または炭素数１〜３のアルキルであり、Ｒ５は炭素数２〜１２の有機基であり、ｓは１〜３０の整数である。）
【請求項４】
ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）が、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる１以上である、請求項１または２に記載のインクジェット用インク。
【請求項５】
光重合開始剤（Ｃ）が、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、１，２−オクタンジオン，１−[４−（フェニルチオ）フェニル]−，２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）から選ばれた少なくとも１つの化合物である、請求項１〜４のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項６】
カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）が一般式（ｄ−１）又は（ｄ−２）で表される化合物である、請求項１〜５のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【化１０】
（一般式（ｄ−１）中、Ｒ６は水素または炭素数１〜３のアルキルであり、Ｒ７は炭素数２〜１２の有機基であり、Ｒ８は炭素数２〜１２の有機基であり、ｐは１〜３０の整数である。）
【化１１】
（一般式（ｄ−２）中、Ｒ９は水素または炭素数１〜３のアルキルであり、Ｒ１０は炭素数２〜１２の有機基であり、ｑは１〜３０の整数であり、ｒは１〜３の整数である。）
【請求項７】
インクジェット用インク中に、一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）が１〜９０重量％、ラジカル重合性モノマー（Ｂ）が１〜８０重量％、光重合開始剤（Ｃ）が０．２〜２０重量％およびカルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）が１〜６０重量％含まれる、請求項１〜６のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項８】
さらに、多官能のラジカル重合性モノマー（Ｇ）を含む請求項１〜７のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項９】
さらに、熱反応性樹脂（Ｅ）および難燃剤（Ｆ）からなる群から選ばれる少なくとも１つを含む、請求項１〜８のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項１０】
インクジェット法によって請求項１〜８のいずれかに記載のインクジェット用インクを塗布し、塗布されたインクに光を照射することによって硬化膜を形成する、硬化膜形成方法。
【請求項１１】
インクジェット法によって請求項１〜８のいずれかに記載のインクジェット用インクを塗布し、塗布されたインクへの光照射および加熱を同時、または、光照射の後に加熱を行うことによって硬化膜を形成する、硬化膜形成方法。
【請求項１２】
請求項１０または１１に記載された方法で得られた硬化膜。
【請求項１３】
所定のパターンで形成されている、請求項１２に記載の硬化膜。
【請求項１４】
基板上に請求項１２または１３に記載された硬化膜が形成された電子回路基板。
【請求項１５】
請求項１４に記載された電子回路基板を有する電子部品。
【請求項１６】
請求項１４に記載された電子回路基板または請求項１５に記載された電子部品を有する表示素子。
【請求項１】
一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）と、ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）とを含むインクジェット用インク。
【化８】
（式（ａ）中、ｍとｎはそれぞれ独立して０〜３の整数であり、Ｒ１はそれぞれ独立して水素または炭素数１〜３のアルキルであり、Ｒ２はそれぞれ独立して分岐構造を有していてもよい炭素数１〜１３のアルキレンであり、Ｒ３は単結合または分岐構造を有していてもよい炭素数１〜１３のアルキレンである。）
【請求項２】
一般式（ａ）において、ｍとｎはそれぞれ独立して１〜２の整数であり、Ｒ１はそれぞれ独立して水素またはメチルであり、Ｒ２はそれぞれ独立して分岐構造を有していてもよい炭素数２〜３のアルキレンであり、Ｒ３は単結合または炭素数２〜５のアルキレンである、請求項１に記載のインクジェット用インク。
【請求項３】
ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）が、一般式（ｂ）で表される化合物である、請求項１または２に記載のインクジェット用インク。
【化９】
（一般式（ｂ）中、Ｒ４は水素または炭素数１〜３のアルキルであり、Ｒ５は炭素数２〜１２の有機基であり、ｓは１〜３０の整数である。）
【請求項４】
ヒドロキシを有する単官能のラジカル重合性モノマー（Ｂ）が、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる１以上である、請求項１または２に記載のインクジェット用インク。
【請求項５】
光重合開始剤（Ｃ）が、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、１，２−オクタンジオン，１−[４−（フェニルチオ）フェニル]−，２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）から選ばれた少なくとも１つの化合物である、請求項１〜４のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項６】
カルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）が一般式（ｄ−１）又は（ｄ−２）で表される化合物である、請求項１〜５のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【化１０】
（一般式（ｄ−１）中、Ｒ６は水素または炭素数１〜３のアルキルであり、Ｒ７は炭素数２〜１２の有機基であり、Ｒ８は炭素数２〜１２の有機基であり、ｐは１〜３０の整数である。）
【化１１】
（一般式（ｄ−２）中、Ｒ９は水素または炭素数１〜３のアルキルであり、Ｒ１０は炭素数２〜１２の有機基であり、ｑは１〜３０の整数であり、ｒは１〜３の整数である。）
【請求項７】
インクジェット用インク中に、一般式（ａ）で表される化合物（Ａ）が１〜９０重量％、ラジカル重合性モノマー（Ｂ）が１〜８０重量％、光重合開始剤（Ｃ）が０．２〜２０重量％およびカルボキシまたはリンを有するラジカル重合性モノマー（Ｄ）が１〜６０重量％含まれる、請求項１〜６のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項８】
さらに、多官能のラジカル重合性モノマー（Ｇ）を含む請求項１〜７のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項９】
さらに、熱反応性樹脂（Ｅ）および難燃剤（Ｆ）からなる群から選ばれる少なくとも１つを含む、請求項１〜８のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項１０】
インクジェット法によって請求項１〜８のいずれかに記載のインクジェット用インクを塗布し、塗布されたインクに光を照射することによって硬化膜を形成する、硬化膜形成方法。
【請求項１１】
インクジェット法によって請求項１〜８のいずれかに記載のインクジェット用インクを塗布し、塗布されたインクへの光照射および加熱を同時、または、光照射の後に加熱を行うことによって硬化膜を形成する、硬化膜形成方法。
【請求項１２】
請求項１０または１１に記載された方法で得られた硬化膜。
【請求項１３】
所定のパターンで形成されている、請求項１２に記載の硬化膜。
【請求項１４】
基板上に請求項１２または１３に記載された硬化膜が形成された電子回路基板。
【請求項１５】
請求項１４に記載された電子回路基板を有する電子部品。
【請求項１６】
請求項１４に記載された電子回路基板または請求項１５に記載された電子部品を有する表示素子。
【公開番号】特開２０１０−２６５４３０（Ｐ２０１０−２６５４３０Ａ）
【公開日】平成２２年１１月２５日（２０１０．１１．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１２０１８７（Ｐ２００９−１２０１８７）
【出願日】平成２１年５月１８日（２００９．５．１８）
【出願人】（０００００２０７１）チッソ株式会社 (658)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１１月２５日（２０１０．１１．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年５月１８日（２００９．５．１８）
【出願人】（０００００２０７１）チッソ株式会社 (658)
【Ｆターム（参考）】
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