インクジェット記録方法及びインクジェット記録装置
【課題】マスクの遮光性を確保するために透過ＯＤ値を高くする必要があるが、吐出するインク量を多くした場合、インクが記録媒体上に溢れ出してブリードが顕著になってしまう問題が発生する。
【解決手段】樹脂基板上にインクを吐出して硬化させてマスクの輪郭部の領域を形成する第１の形成工程と、第１の形成工程の後に、樹脂基板上にインクを吐出して硬化させてマスクの輪郭部で囲まれた領域を形成する第２の形成工程と、を含む。第２の形成工程において樹脂基板上の単位面積中に吐出するインク量は、第１の形成工程において樹脂基板上の単位面積中に吐出するインク量よりも多くする。
【解決手段】樹脂基板上にインクを吐出して硬化させてマスクの輪郭部の領域を形成する第１の形成工程と、第１の形成工程の後に、樹脂基板上にインクを吐出して硬化させてマスクの輪郭部で囲まれた領域を形成する第２の形成工程と、を含む。第２の形成工程において樹脂基板上の単位面積中に吐出するインク量は、第１の形成工程において樹脂基板上の単位面積中に吐出するインク量よりも多くする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インクジェット記録方法及びインクジェット記録装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、紫外線硬化型のインクを使用して記録媒体に所望のパターンを印刷し、印刷後のパターンに対して紫外線を照射してインクを硬化させるものが知られている。例えば、特許文献１では、印刷用版面の製造方法において、インクジェット記録装置を使用し、デジタル的に保存されたデータに従って、紫外線吸収性のインクの液滴を記録媒体上に吐出してネガパターンを印刷する工程が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−３３０１５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に開示されている印刷用版面の製造方法の場合、印刷したネガパターンの遮光性を確保するために透過ＯＤ値（透過光学濃度）を高くする必要がある。このために、単位面積中に吐出可能なインク量を多くする対応が考えられる。しかしながら、吐出するインク量を多くした場合、インクが記録媒体上に溢れ出し、その結果、画像の境界部分で色が滲んだりする、いわゆるブリードが顕著になり、満足できる画像が得られない問題が発生する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
【０００６】
［適用例１］透光性を有する媒体に対して、紫外線硬化型のインクを吐出して硬化させて遮光性のマスクを形成するインクジェット記録方法であって、前記インクを吐出して硬化させて前記マスクの輪郭部の領域を形成する第１の形成工程と、前記第１の形成工程の後に、前記インクを吐出して硬化させて前記マスクの輪郭部で囲まれた領域を形成する第２の形成工程と、を含み、前記第２の形成工程において前記媒体の単位面積中に吐出するインク量は、前記第１の形成工程において前記媒体の単位面積中に吐出するインク量よりも多いことを特徴とするインクジェット記録方法。
【０００７】
上記したインクジェット記録方法によれば、第１の形成工程においてインクを吐出して硬化させてマスクの輪郭部の領域を形成する。その後、第２の形成工程においてインクを吐出して硬化させてマスクの輪郭部で囲まれた領域を形成する。このとき、第２の形成工程において単位面積中に吐出するインク量は、第１の形成工程において単位面積中に吐出するインク量よりも多い。これにより、第１の形成工程においては、ブリードが生じない程度のインク量を用いて輪郭部を形成する。そして、第２の形成工程においては、インクが媒体上に溢れ出すのを輪郭部によって抑えられることから、第１の形成工程よりも多いインク量を用いて輪郭部で囲まれた領域を形成することができる。この結果、ブリードが抑制されて、且つ透過ＯＤ値が高い遮光性に優れたマスクを得ることができる。
【０００８】
［適用例２］前記媒体の単位面積中に吐出可能なインク量の上限値をインクデューティー制限値とした場合に、前記第２の形成工程におけるインクデューティー制限値は、前記第１の形成工程におけるインクデューティー制限値よりも大きいことを特徴とする上記インクジェット記録方法。
【０００９】
上記したインクジェット記録方法によれば、第２の形成工程におけるインクデューティー制限値は、第１の形成工程におけるインクデューティー制限値よりも大きい。これにより、第１の形成工程において吐出可能な最大インク量を用いて輪郭部を形成した後に、第２の形成工程において、第１の形成工程のときよりも更に多いインク量を用いて輪郭部で囲まれた領域を形成することができる。この結果、ブリードが抑制されて、且つ透過ＯＤ値が高い遮光性に優れたマスクを得ることができる。
【００１０】
［適用例３］透光性を有する媒体に対して、紫外線硬化型のインクを吐出して硬化させて遮光性のマスクを形成するインクジェット記録装置であって、前記インクを吐出して硬化させて前記マスクの輪郭部の領域を形成する第１の形成部と、前記第１の形成部において前記マスクの輪郭部を形成した後に、前記インクを吐出して硬化させて前記マスクの輪郭部で囲まれた領域を形成する第２の形成部と、を含み、前記第２の形成部において前記媒体の単位面積中に吐出するインク量は、前記第１の形成部において前記媒体の単位面積中に吐出するインク量よりも多いことを特徴とするインクジェット記録装置。
【００１１】
上記したインクジェット記録装置によれば、第１の形成部においてインクを吐出して硬化させてマスクの輪郭部の領域を形成する。その後、第２の形成部においてインクを吐出して硬化させてマスクの輪郭部で囲まれた領域を形成する。このとき、第２の形成部において単位面積中に吐出するインク量は、第１の形成部において単位面積中に吐出するインク量よりも多い。これにより、第１の形成部においては、ブリードが生じない程度のインク量を用いて輪郭部を形成する。そして、第２の形成部においては、インクが媒体上に溢れ出すのを輪郭部によって抑えられることから、第１の形成部よりも多いインク量を用いて輪郭部で囲まれた領域を形成することができる。この結果、ブリードが抑制されて、且つ透過ＯＤ値が高い遮光性に優れたマスクを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】インクジェット記録装置の概略構成を示す斜視図。
【図２】ヘッドユニットを下方から見た斜視図。
【図３】インクジェット記録装置の電気的構成を示すブロック図。
【図４】樹脂基板に遮光性のマスクを形成する手順を説明するフローチャート。
【図５】樹脂基板に遮光性のマスクを形成する手順を模式的に示す図。
【図６】樹脂基板に形成した遮光性のマスクの例を模式的に示す平面図。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本実施形態に係るインクジェット記録装置について、図面を参照して説明する。
【００１４】
＜インクジェット記録装置の概略構成＞
最初に、インクジェット記録装置の概略構成について説明する。
図１は、インクジェット記録装置の概略構成を示す斜視図である。同図に示すように、インクジェット記録装置１０には、直方体形状に形成された基台１１が備えられると共に、その基台１１の上面には、その長手方向（Ｘ矢印方向）に沿って延びる一対の案内溝１２が形成されている。その基台１１の上方には、当該基台１１に設けられたＸ軸モーターＭＸ（図３参照）の出力軸に駆動連結されるステージ１３が、案内溝１２に沿ってＸ矢印方向及び反Ｘ矢印方向に往復動する（Ｘ矢印方向に沿って走査される）ようになっている。そのステージ１３の上側には、透光性を有する媒体としての樹脂基板１を載置可能にする載置面１４が形成されると共に、載置された樹脂基板１を所定の位置に位置決め固定するようになっている。樹脂基板１の材質は、例えば、ガラス、ポリエステルフィルム、プラスチック等の透明又は半透明の光透過性の材料を用いて製造されている。
【００１５】
基台１１のＹ矢印方向両側には、門型に形成されたガイド部材１５が配設されると共に、そのガイド部材１５には、Ｙ矢印方向に延びる上下一対のガイドレール１６が形成されている。また、ガイド部材１５には、同ガイド部材１５に設けられたＹ軸モーターＭＹ（図３参照）の出力軸に駆動連結されるキャリッジ１７が、ガイドレール１６に沿って、Ｙ矢印方向及び反Ｙ矢印方向に往復動する（Ｙ矢印方向に沿って走査される）ようになっている。
【００１６】
キャリッジ１７の内部には、紫外線硬化型インクを導出可能に収容するインクタンク１８が配設されると共に、キャリッジ１７の下側に搭載されるヘッドユニット２０に対して、インクタンク１８に収容されている紫外線硬化型インクを導出させるようになっている。
【００１７】
図２は、ヘッドユニット２０を下方（ステージ１３側）から見た斜視図である。同図において、ヘッドユニット２０には、そのＹ矢印方向略中央位置に、Ｘ矢印方向に沿って延びる直方体形状に形成された液滴吐出ヘッド（以下単に、吐出ヘッドという。）２１が備えられている。吐出ヘッド２１の下側（図２において上側）には、ノズルプレート２２が備えられると共に、そのノズルプレート２２の下面（ノズル形成面２２ａ）には、Ｘ矢印方向に沿って等ピッチに配列形成される複数の貫通孔（ノズルＮ）が、樹脂基板１の法線方向（Ｚ矢印方向）に沿って貫通形成されている。そして、ノズルプレート２２の各ノズルＮから樹脂基板１の基板表面１ａに対して、インクタンク１８に収容されている紫外線硬化型インクを吐出するようになっている。
【００１８】
また、ヘッドユニット２０には、吐出ヘッド２１のＹ矢印方向両側に、一対のレーザーヘッド２５Ａ，２５Ｂが備えられている。レーザーヘッド２５Ａ，２５Ｂには、それぞれＸ矢印方向に沿って延びる略直方体形状のケース２６が備えられると共に、各ケース２６の反Ｚ矢印方向（樹脂基板１）側の側面には、各ケース２６の内部まで貫通する照射口２６Ａ，２６Ｂが、各ケース２６のＸ矢印方向の略全幅に渡って形成されている。
レーザーヘッド２５Ａ，２５Ｂの内部には、それぞれ半導体レーザー２７Ａ，２７Ｂ（図３参照）が配設されている。各半導体レーザー２７Ａ，２７Ｂは、各半導体レーザー２７Ａ，２７Ｂを駆動制御するための信号を受けて、紫外線硬化型インクの硬化反応を開始可能にする強度の紫外領域のレーザー光を出射するようになっている。
【００１９】
次に、インクジェット記録装置１０の電気的構成について説明する。
図３は、インクジェット記録装置１０の電気的構成を示すブロック図である。同図に示す制御装置３１には、図示しない、ＣＰＵ、ＲＡＭ、ＲＯＭ等が備えられて、ＲＯＭ等に格納された各種データ及び各種プログラムに従って、ステージ１３及びキャリッジ１７を走査させて、吐出ヘッド２１及び各レーザーヘッド２５Ａ，２５Ｂを駆動制御させる。
【００２０】
また、本実施形態では、制御装置３１のＲＯＭに、吐出ヘッド２１から、樹脂基板１に形成するマスクの輪郭部の領域へ吐出するための輪郭部ドットデータＤ１と、輪郭部で囲まれた輪郭内部の領域へ吐出するための輪郭内部ドットデータＤ２とが格納されている。制御装置３１は、吐出ヘッド２１から、樹脂基板１の基板表面１ａにおける単位面積中に吐出可能なインク量の上限値をインクデューティー制限値とした場合に、輪郭部ドットデータＤ１に基づいて吐出する際のインクデューティー制限値よりも、輪郭内部ドットデータＤ２に基づいて吐出する際のインクデューティー制限値の方が大きくなるように制御する。
【００２１】
制御装置３１には、入力装置３２、Ｘ軸モーター駆動回路３３、Ｙ軸モーター駆動回路３４、吐出ヘッド駆動回路３５及びレーザー駆動回路３６が接続されている。
入力装置３２は、図示しない、起動スイッチ、停止スイッチ等の操作スイッチを有して各種操作信号を制御装置３１に入力すると共に、樹脂基板１に形成するマスクに関する情報を、制御装置３１に入力するようになっている。
【００２２】
Ｘ軸モーター駆動回路３３は、制御装置３１からのＸ軸モーター駆動回路３３に対応する駆動制御信号に応答して、ステージ１３を往復移動させるＸ軸モーターＭＸを正転又は逆転させるようになっている。このＸ軸モーター駆動回路３３には、Ｘ軸モーター回転検出器ＭＥＸが接続されて、Ｘ軸モーター回転検出器ＭＥＸからの検出信号がＸ軸モーター駆動回路３３に入力されるようになっている。
【００２３】
Ｙ軸モーター駆動回路３４は、制御装置３１からのＹ軸モーター駆動回路３４に対応する駆動制御信号に応答して、キャリッジ１７を往復移動させるＹ軸モーターＭＹを正転又は逆転させるようになっている。このＹ軸モーター駆動回路３４には、位置検出手段を構成するＹ軸モーター回転検出器ＭＥＹが接続されて、Ｙ軸モーター回転検出器ＭＥＹからの検出信号がＹ軸モーター駆動回路３４に入力されるようになっている。
【００２４】
吐出ヘッド駆動回路３５には、吐出ヘッド２１が接続されると共に、制御装置３１から、所定のクロック信号に同期させた圧電素子駆動電圧が供給されるようになっている。そして、吐出ヘッド駆動回路３５は、制御装置３１からの吐出タイミング信号を受ける毎に、選択した圧電素子ＰＺに、圧電素子駆動電圧を供給するようになっている。
【００２５】
レーザー駆動回路３６には、各レーザーヘッド２５Ａ，２５Ｂが接続されると共に、制御装置３１からのレーザー出射開始信号を受けて、各半導体レーザー２７Ａ，２７Ｂに、レーザー駆動電圧を供給するようになっている。また、レーザー駆動回路３６は、制御装置３１からのレーザー出射停止信号を受けて、各半導体レーザー２７Ａ，２７Ｂに対するレーザー駆動電圧の供給を停止するようになっている。
【００２６】
次に、樹脂基板１に遮光性のマスクＭを形成する手順について説明する。
図４は、樹脂基板１に遮光性のマスクＭを形成する手順を説明するフローチャートである。図５（ａ）〜（ｄ）は、樹脂基板１に遮光性のマスクＭを形成する手順を模式的に示す図である。図６は、樹脂基板１に形成した遮光性のマスクＭの例を模式的に示す平面図である。図６では、光透過性の樹脂基板１の基板表面１ａ上に、文字「Ｆ」を示す遮光性のマスクＭが形成されている。このマスクＭは、文字「Ｆ」の輪郭部Ｍ１の領域と、輪郭部Ｍ１で囲まれた輪郭内部Ｍ２の領域とで構成される。なお、図５（ａ）〜（ｄ）は、図６のII−II線における断面を示している。
【００２７】
樹脂基板１に遮光性のマスクＭを形成する手順として、図４のフローチャートに示すように、先ず、ステップＳ１０において、樹脂基板１の基板表面１ａに対してインク滴を吐出して輪郭部Ｍ１を形成する。
【００２８】
ここでは、ヘッドユニット２０に備えられたノズル形成面２２ａの各ノズルＮから、紫外線硬化型インクの液滴Ｄを吐出して、基板表面１ａ上の輪郭部Ｍ１の領域に着弾させる（図５（ａ）参照）。そして、各ノズルＮから、紫外線硬化型インクの液滴Ｄの吐出を繰り返すことにより、基板表面１ａ上の輪郭部Ｍ１の領域に着弾した液滴Ｄが輪郭部Ｍ１を形成する（図５（ｂ）参照）。この輪郭部Ｍ１は、基板表面１ａ上において図６に示す文字「Ｆ」の輪郭部Ｍ１となる。
【００２９】
本実施形態では、ノズル形成面２２ａの各ノズルＮから、例えば、黒色インクやグレー色インク等の遮光性の液滴Ｄを吐出する。また、各ノズルＮからは、輪郭部Ｍ１の領域に吐出可能なインクデューティー制限値における最大インク量を吐出する。
【００３０】
次に、ステップＳ２０において、基板表面１ａ上に形成した輪郭部Ｍ１に対して、紫外線を照射して輪郭部Ｍ１のインクを硬化させる。ここでは、ヘッドユニット２０に備えられた一対のレーザーヘッド２５Ａ，２５Ｂのそれぞれから、基板表面１ａ上に紫外線を照射することによって輪郭部Ｍ１のインクを硬化させる。
【００３１】
次に、ステップＳ３０において、樹脂基板１の基板表面１ａに対してインク滴を吐出して輪郭内部Ｍ２を形成する。
【００３２】
ここでは、ヘッドユニット２０に備えられたノズル形成面２２ａの各ノズルＮから、紫外線硬化型インクの液滴Ｄを吐出して、基板表面１ａ上の輪郭内部Ｍ２の領域に着弾させる（図５（ｃ）参照）。そして、各ノズルＮから、紫外線硬化型インクの液滴Ｄの吐出を繰り返すことにより、基板表面１ａ上の輪郭内部Ｍ２の領域に着弾した液滴Ｄが輪郭内部Ｍ２を形成する（図５（ｄ）参照）。この輪郭内部Ｍ２は、基板表面１ａ上において図６に示す文字「Ｆ」の輪郭内部Ｍ２となる。
【００３３】
本実施形態では、ノズル形成面２２ａの各ノズルＮから、輪郭部Ｍ１のインクと同様に、例えば、黒色インクやグレー色インク等の遮光性の液滴Ｄを吐出する。このとき、各ノズルＮからは、輪郭内部Ｍ２の領域に吐出可能なインクデューティー制限値における最大インク量を吐出する。即ち、輪郭内部Ｍ２の領域において単位面積中に吐出するインク量は、輪郭部Ｍ１の領域において単位面積中に吐出するインク量よりも多いことになる。
【００３４】
次に、ステップＳ４０において、基板表面１ａ上に形成した輪郭内部Ｍ２に対して、紫外線を照射して輪郭内部Ｍ２のインクを硬化させる。ここでは、輪郭部Ｍ１のインクの硬化と同様に、ヘッドユニット２０に備えられた一対のレーザーヘッド２５Ａ，２５Ｂのそれぞれから、基板表面１ａ上に紫外線を照射することによって輪郭内部Ｍ２のインクを硬化させる。
【００３５】
なお、第１の形成工程は、上記ステップＳ１０〜ステップＳ２０に相当する。また、第２の形成工程は、上記ステップＳ３０〜ステップＳ４０に相当する。また、第１の形成部は、制御装置３１における上記ステップＳ１０〜ステップＳ２０の機能に相当する。また、第２の形成部は、制御装置３１における上記ステップＳ３０〜ステップＳ４０の機能に相当する。
【００３６】
上述したように、本実施形態に係るインクジェット記録装置は、最初に、樹脂基板１に対して、紫外線硬化型インクを吐出して硬化させることによって輪郭部Ｍ１を形成する。その後、輪郭部Ｍ１で囲まれた輪郭内部Ｍ２の領域に対して、紫外線硬化型インクを吐出して硬化させることによって輪郭内部Ｍ２を形成する。このとき、輪郭内部Ｍ２の領域が輪郭部Ｍ１で囲まれていることにより、インク量の多い紫外線硬化型インクを吐出した際に、インクが樹脂基板１上に溢れ出ることがなく、結果としてブリードを抑制することができる。これにより、透過ＯＤ値が高く遮光性に優れ、且つブリードを抑えたマスクＭを得ることができる。
【００３７】
（変形例）
上述した実施形態では、マスクＭを構成する輪郭部Ｍ１の領域に、黒色インクやグレー色インク等の遮光性の液滴Ｄを吐出して硬化させて輪郭部Ｍ１を形成した。しかし、輪郭部Ｍ１の領域に吐出するインクは遮光性の液滴Ｄに限られず、光透過性材料からなる液滴Ｄであっても良い。この光透過性材料からなる液滴Ｄを吐出して硬化させて輪郭部Ｍ１を形成することにより、マスクＭは、輪郭内部Ｍ２のみで遮光することになり、透過ＯＤ値を一律に高く保って遮光することができる。
【００３８】
上述した実施形態では、半導体レーザー２７Ａ，２７Ｂを光源に用いて紫外線硬化型インクを硬化させる構成とした。しかし、これに限られず、例えば、紫外線を出射する紫外線ランプや発光ダイオード等を光源として用いても良い。
【符号の説明】
【００３９】
１…樹脂基板、１ａ…基板表面、１０…インクジェット記録装置、１１…基台、１２…案内溝、１３…ステージ、１４…載置面、１５…ガイド部材、１６…ガイドレール、１７…キャリッジ、１８…インクタンク、２０…ヘッドユニット、２１…吐出ヘッド、２２…ノズルプレート、２２ａ…ノズル形成面、２５Ａ，２５Ｂ…レーザーヘッド、２６…ケース、２６Ａ，２６Ｂ…照射口、２７Ａ，２７Ｂ…半導体レーザー、３１…制御装置、３２…入力装置、３３…Ｘ軸モーター駆動回路、３４…Ｙ軸モーター駆動回路、３５…吐出ヘッド駆動回路、３６…レーザー駆動回路、Ｄ…液滴、Ｄ１…輪郭部ドットデータ、Ｄ２…輪郭内部ドットデータ、Ｍ…マスク、Ｍ１…輪郭部、Ｍ２…輪郭内部、ＭＸ…Ｘ軸モーター、ＭＥＸ…Ｘ軸モーター回転検出器、ＭＹ…Ｙ軸モーター、ＭＥＹ…Ｙ軸モーター回転検出器、ＰＺ…圧電素子。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インクジェット記録方法及びインクジェット記録装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、紫外線硬化型のインクを使用して記録媒体に所望のパターンを印刷し、印刷後のパターンに対して紫外線を照射してインクを硬化させるものが知られている。例えば、特許文献１では、印刷用版面の製造方法において、インクジェット記録装置を使用し、デジタル的に保存されたデータに従って、紫外線吸収性のインクの液滴を記録媒体上に吐出してネガパターンを印刷する工程が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−３３０１５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に開示されている印刷用版面の製造方法の場合、印刷したネガパターンの遮光性を確保するために透過ＯＤ値（透過光学濃度）を高くする必要がある。このために、単位面積中に吐出可能なインク量を多くする対応が考えられる。しかしながら、吐出するインク量を多くした場合、インクが記録媒体上に溢れ出し、その結果、画像の境界部分で色が滲んだりする、いわゆるブリードが顕著になり、満足できる画像が得られない問題が発生する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
【０００６】
［適用例１］透光性を有する媒体に対して、紫外線硬化型のインクを吐出して硬化させて遮光性のマスクを形成するインクジェット記録方法であって、前記インクを吐出して硬化させて前記マスクの輪郭部の領域を形成する第１の形成工程と、前記第１の形成工程の後に、前記インクを吐出して硬化させて前記マスクの輪郭部で囲まれた領域を形成する第２の形成工程と、を含み、前記第２の形成工程において前記媒体の単位面積中に吐出するインク量は、前記第１の形成工程において前記媒体の単位面積中に吐出するインク量よりも多いことを特徴とするインクジェット記録方法。
【０００７】
上記したインクジェット記録方法によれば、第１の形成工程においてインクを吐出して硬化させてマスクの輪郭部の領域を形成する。その後、第２の形成工程においてインクを吐出して硬化させてマスクの輪郭部で囲まれた領域を形成する。このとき、第２の形成工程において単位面積中に吐出するインク量は、第１の形成工程において単位面積中に吐出するインク量よりも多い。これにより、第１の形成工程においては、ブリードが生じない程度のインク量を用いて輪郭部を形成する。そして、第２の形成工程においては、インクが媒体上に溢れ出すのを輪郭部によって抑えられることから、第１の形成工程よりも多いインク量を用いて輪郭部で囲まれた領域を形成することができる。この結果、ブリードが抑制されて、且つ透過ＯＤ値が高い遮光性に優れたマスクを得ることができる。
【０００８】
［適用例２］前記媒体の単位面積中に吐出可能なインク量の上限値をインクデューティー制限値とした場合に、前記第２の形成工程におけるインクデューティー制限値は、前記第１の形成工程におけるインクデューティー制限値よりも大きいことを特徴とする上記インクジェット記録方法。
【０００９】
上記したインクジェット記録方法によれば、第２の形成工程におけるインクデューティー制限値は、第１の形成工程におけるインクデューティー制限値よりも大きい。これにより、第１の形成工程において吐出可能な最大インク量を用いて輪郭部を形成した後に、第２の形成工程において、第１の形成工程のときよりも更に多いインク量を用いて輪郭部で囲まれた領域を形成することができる。この結果、ブリードが抑制されて、且つ透過ＯＤ値が高い遮光性に優れたマスクを得ることができる。
【００１０】
［適用例３］透光性を有する媒体に対して、紫外線硬化型のインクを吐出して硬化させて遮光性のマスクを形成するインクジェット記録装置であって、前記インクを吐出して硬化させて前記マスクの輪郭部の領域を形成する第１の形成部と、前記第１の形成部において前記マスクの輪郭部を形成した後に、前記インクを吐出して硬化させて前記マスクの輪郭部で囲まれた領域を形成する第２の形成部と、を含み、前記第２の形成部において前記媒体の単位面積中に吐出するインク量は、前記第１の形成部において前記媒体の単位面積中に吐出するインク量よりも多いことを特徴とするインクジェット記録装置。
【００１１】
上記したインクジェット記録装置によれば、第１の形成部においてインクを吐出して硬化させてマスクの輪郭部の領域を形成する。その後、第２の形成部においてインクを吐出して硬化させてマスクの輪郭部で囲まれた領域を形成する。このとき、第２の形成部において単位面積中に吐出するインク量は、第１の形成部において単位面積中に吐出するインク量よりも多い。これにより、第１の形成部においては、ブリードが生じない程度のインク量を用いて輪郭部を形成する。そして、第２の形成部においては、インクが媒体上に溢れ出すのを輪郭部によって抑えられることから、第１の形成部よりも多いインク量を用いて輪郭部で囲まれた領域を形成することができる。この結果、ブリードが抑制されて、且つ透過ＯＤ値が高い遮光性に優れたマスクを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】インクジェット記録装置の概略構成を示す斜視図。
【図２】ヘッドユニットを下方から見た斜視図。
【図３】インクジェット記録装置の電気的構成を示すブロック図。
【図４】樹脂基板に遮光性のマスクを形成する手順を説明するフローチャート。
【図５】樹脂基板に遮光性のマスクを形成する手順を模式的に示す図。
【図６】樹脂基板に形成した遮光性のマスクの例を模式的に示す平面図。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本実施形態に係るインクジェット記録装置について、図面を参照して説明する。
【００１４】
＜インクジェット記録装置の概略構成＞
最初に、インクジェット記録装置の概略構成について説明する。
図１は、インクジェット記録装置の概略構成を示す斜視図である。同図に示すように、インクジェット記録装置１０には、直方体形状に形成された基台１１が備えられると共に、その基台１１の上面には、その長手方向（Ｘ矢印方向）に沿って延びる一対の案内溝１２が形成されている。その基台１１の上方には、当該基台１１に設けられたＸ軸モーターＭＸ（図３参照）の出力軸に駆動連結されるステージ１３が、案内溝１２に沿ってＸ矢印方向及び反Ｘ矢印方向に往復動する（Ｘ矢印方向に沿って走査される）ようになっている。そのステージ１３の上側には、透光性を有する媒体としての樹脂基板１を載置可能にする載置面１４が形成されると共に、載置された樹脂基板１を所定の位置に位置決め固定するようになっている。樹脂基板１の材質は、例えば、ガラス、ポリエステルフィルム、プラスチック等の透明又は半透明の光透過性の材料を用いて製造されている。
【００１５】
基台１１のＹ矢印方向両側には、門型に形成されたガイド部材１５が配設されると共に、そのガイド部材１５には、Ｙ矢印方向に延びる上下一対のガイドレール１６が形成されている。また、ガイド部材１５には、同ガイド部材１５に設けられたＹ軸モーターＭＹ（図３参照）の出力軸に駆動連結されるキャリッジ１７が、ガイドレール１６に沿って、Ｙ矢印方向及び反Ｙ矢印方向に往復動する（Ｙ矢印方向に沿って走査される）ようになっている。
【００１６】
キャリッジ１７の内部には、紫外線硬化型インクを導出可能に収容するインクタンク１８が配設されると共に、キャリッジ１７の下側に搭載されるヘッドユニット２０に対して、インクタンク１８に収容されている紫外線硬化型インクを導出させるようになっている。
【００１７】
図２は、ヘッドユニット２０を下方（ステージ１３側）から見た斜視図である。同図において、ヘッドユニット２０には、そのＹ矢印方向略中央位置に、Ｘ矢印方向に沿って延びる直方体形状に形成された液滴吐出ヘッド（以下単に、吐出ヘッドという。）２１が備えられている。吐出ヘッド２１の下側（図２において上側）には、ノズルプレート２２が備えられると共に、そのノズルプレート２２の下面（ノズル形成面２２ａ）には、Ｘ矢印方向に沿って等ピッチに配列形成される複数の貫通孔（ノズルＮ）が、樹脂基板１の法線方向（Ｚ矢印方向）に沿って貫通形成されている。そして、ノズルプレート２２の各ノズルＮから樹脂基板１の基板表面１ａに対して、インクタンク１８に収容されている紫外線硬化型インクを吐出するようになっている。
【００１８】
また、ヘッドユニット２０には、吐出ヘッド２１のＹ矢印方向両側に、一対のレーザーヘッド２５Ａ，２５Ｂが備えられている。レーザーヘッド２５Ａ，２５Ｂには、それぞれＸ矢印方向に沿って延びる略直方体形状のケース２６が備えられると共に、各ケース２６の反Ｚ矢印方向（樹脂基板１）側の側面には、各ケース２６の内部まで貫通する照射口２６Ａ，２６Ｂが、各ケース２６のＸ矢印方向の略全幅に渡って形成されている。
レーザーヘッド２５Ａ，２５Ｂの内部には、それぞれ半導体レーザー２７Ａ，２７Ｂ（図３参照）が配設されている。各半導体レーザー２７Ａ，２７Ｂは、各半導体レーザー２７Ａ，２７Ｂを駆動制御するための信号を受けて、紫外線硬化型インクの硬化反応を開始可能にする強度の紫外領域のレーザー光を出射するようになっている。
【００１９】
次に、インクジェット記録装置１０の電気的構成について説明する。
図３は、インクジェット記録装置１０の電気的構成を示すブロック図である。同図に示す制御装置３１には、図示しない、ＣＰＵ、ＲＡＭ、ＲＯＭ等が備えられて、ＲＯＭ等に格納された各種データ及び各種プログラムに従って、ステージ１３及びキャリッジ１７を走査させて、吐出ヘッド２１及び各レーザーヘッド２５Ａ，２５Ｂを駆動制御させる。
【００２０】
また、本実施形態では、制御装置３１のＲＯＭに、吐出ヘッド２１から、樹脂基板１に形成するマスクの輪郭部の領域へ吐出するための輪郭部ドットデータＤ１と、輪郭部で囲まれた輪郭内部の領域へ吐出するための輪郭内部ドットデータＤ２とが格納されている。制御装置３１は、吐出ヘッド２１から、樹脂基板１の基板表面１ａにおける単位面積中に吐出可能なインク量の上限値をインクデューティー制限値とした場合に、輪郭部ドットデータＤ１に基づいて吐出する際のインクデューティー制限値よりも、輪郭内部ドットデータＤ２に基づいて吐出する際のインクデューティー制限値の方が大きくなるように制御する。
【００２１】
制御装置３１には、入力装置３２、Ｘ軸モーター駆動回路３３、Ｙ軸モーター駆動回路３４、吐出ヘッド駆動回路３５及びレーザー駆動回路３６が接続されている。
入力装置３２は、図示しない、起動スイッチ、停止スイッチ等の操作スイッチを有して各種操作信号を制御装置３１に入力すると共に、樹脂基板１に形成するマスクに関する情報を、制御装置３１に入力するようになっている。
【００２２】
Ｘ軸モーター駆動回路３３は、制御装置３１からのＸ軸モーター駆動回路３３に対応する駆動制御信号に応答して、ステージ１３を往復移動させるＸ軸モーターＭＸを正転又は逆転させるようになっている。このＸ軸モーター駆動回路３３には、Ｘ軸モーター回転検出器ＭＥＸが接続されて、Ｘ軸モーター回転検出器ＭＥＸからの検出信号がＸ軸モーター駆動回路３３に入力されるようになっている。
【００２３】
Ｙ軸モーター駆動回路３４は、制御装置３１からのＹ軸モーター駆動回路３４に対応する駆動制御信号に応答して、キャリッジ１７を往復移動させるＹ軸モーターＭＹを正転又は逆転させるようになっている。このＹ軸モーター駆動回路３４には、位置検出手段を構成するＹ軸モーター回転検出器ＭＥＹが接続されて、Ｙ軸モーター回転検出器ＭＥＹからの検出信号がＹ軸モーター駆動回路３４に入力されるようになっている。
【００２４】
吐出ヘッド駆動回路３５には、吐出ヘッド２１が接続されると共に、制御装置３１から、所定のクロック信号に同期させた圧電素子駆動電圧が供給されるようになっている。そして、吐出ヘッド駆動回路３５は、制御装置３１からの吐出タイミング信号を受ける毎に、選択した圧電素子ＰＺに、圧電素子駆動電圧を供給するようになっている。
【００２５】
レーザー駆動回路３６には、各レーザーヘッド２５Ａ，２５Ｂが接続されると共に、制御装置３１からのレーザー出射開始信号を受けて、各半導体レーザー２７Ａ，２７Ｂに、レーザー駆動電圧を供給するようになっている。また、レーザー駆動回路３６は、制御装置３１からのレーザー出射停止信号を受けて、各半導体レーザー２７Ａ，２７Ｂに対するレーザー駆動電圧の供給を停止するようになっている。
【００２６】
次に、樹脂基板１に遮光性のマスクＭを形成する手順について説明する。
図４は、樹脂基板１に遮光性のマスクＭを形成する手順を説明するフローチャートである。図５（ａ）〜（ｄ）は、樹脂基板１に遮光性のマスクＭを形成する手順を模式的に示す図である。図６は、樹脂基板１に形成した遮光性のマスクＭの例を模式的に示す平面図である。図６では、光透過性の樹脂基板１の基板表面１ａ上に、文字「Ｆ」を示す遮光性のマスクＭが形成されている。このマスクＭは、文字「Ｆ」の輪郭部Ｍ１の領域と、輪郭部Ｍ１で囲まれた輪郭内部Ｍ２の領域とで構成される。なお、図５（ａ）〜（ｄ）は、図６のII−II線における断面を示している。
【００２７】
樹脂基板１に遮光性のマスクＭを形成する手順として、図４のフローチャートに示すように、先ず、ステップＳ１０において、樹脂基板１の基板表面１ａに対してインク滴を吐出して輪郭部Ｍ１を形成する。
【００２８】
ここでは、ヘッドユニット２０に備えられたノズル形成面２２ａの各ノズルＮから、紫外線硬化型インクの液滴Ｄを吐出して、基板表面１ａ上の輪郭部Ｍ１の領域に着弾させる（図５（ａ）参照）。そして、各ノズルＮから、紫外線硬化型インクの液滴Ｄの吐出を繰り返すことにより、基板表面１ａ上の輪郭部Ｍ１の領域に着弾した液滴Ｄが輪郭部Ｍ１を形成する（図５（ｂ）参照）。この輪郭部Ｍ１は、基板表面１ａ上において図６に示す文字「Ｆ」の輪郭部Ｍ１となる。
【００２９】
本実施形態では、ノズル形成面２２ａの各ノズルＮから、例えば、黒色インクやグレー色インク等の遮光性の液滴Ｄを吐出する。また、各ノズルＮからは、輪郭部Ｍ１の領域に吐出可能なインクデューティー制限値における最大インク量を吐出する。
【００３０】
次に、ステップＳ２０において、基板表面１ａ上に形成した輪郭部Ｍ１に対して、紫外線を照射して輪郭部Ｍ１のインクを硬化させる。ここでは、ヘッドユニット２０に備えられた一対のレーザーヘッド２５Ａ，２５Ｂのそれぞれから、基板表面１ａ上に紫外線を照射することによって輪郭部Ｍ１のインクを硬化させる。
【００３１】
次に、ステップＳ３０において、樹脂基板１の基板表面１ａに対してインク滴を吐出して輪郭内部Ｍ２を形成する。
【００３２】
ここでは、ヘッドユニット２０に備えられたノズル形成面２２ａの各ノズルＮから、紫外線硬化型インクの液滴Ｄを吐出して、基板表面１ａ上の輪郭内部Ｍ２の領域に着弾させる（図５（ｃ）参照）。そして、各ノズルＮから、紫外線硬化型インクの液滴Ｄの吐出を繰り返すことにより、基板表面１ａ上の輪郭内部Ｍ２の領域に着弾した液滴Ｄが輪郭内部Ｍ２を形成する（図５（ｄ）参照）。この輪郭内部Ｍ２は、基板表面１ａ上において図６に示す文字「Ｆ」の輪郭内部Ｍ２となる。
【００３３】
本実施形態では、ノズル形成面２２ａの各ノズルＮから、輪郭部Ｍ１のインクと同様に、例えば、黒色インクやグレー色インク等の遮光性の液滴Ｄを吐出する。このとき、各ノズルＮからは、輪郭内部Ｍ２の領域に吐出可能なインクデューティー制限値における最大インク量を吐出する。即ち、輪郭内部Ｍ２の領域において単位面積中に吐出するインク量は、輪郭部Ｍ１の領域において単位面積中に吐出するインク量よりも多いことになる。
【００３４】
次に、ステップＳ４０において、基板表面１ａ上に形成した輪郭内部Ｍ２に対して、紫外線を照射して輪郭内部Ｍ２のインクを硬化させる。ここでは、輪郭部Ｍ１のインクの硬化と同様に、ヘッドユニット２０に備えられた一対のレーザーヘッド２５Ａ，２５Ｂのそれぞれから、基板表面１ａ上に紫外線を照射することによって輪郭内部Ｍ２のインクを硬化させる。
【００３５】
なお、第１の形成工程は、上記ステップＳ１０〜ステップＳ２０に相当する。また、第２の形成工程は、上記ステップＳ３０〜ステップＳ４０に相当する。また、第１の形成部は、制御装置３１における上記ステップＳ１０〜ステップＳ２０の機能に相当する。また、第２の形成部は、制御装置３１における上記ステップＳ３０〜ステップＳ４０の機能に相当する。
【００３６】
上述したように、本実施形態に係るインクジェット記録装置は、最初に、樹脂基板１に対して、紫外線硬化型インクを吐出して硬化させることによって輪郭部Ｍ１を形成する。その後、輪郭部Ｍ１で囲まれた輪郭内部Ｍ２の領域に対して、紫外線硬化型インクを吐出して硬化させることによって輪郭内部Ｍ２を形成する。このとき、輪郭内部Ｍ２の領域が輪郭部Ｍ１で囲まれていることにより、インク量の多い紫外線硬化型インクを吐出した際に、インクが樹脂基板１上に溢れ出ることがなく、結果としてブリードを抑制することができる。これにより、透過ＯＤ値が高く遮光性に優れ、且つブリードを抑えたマスクＭを得ることができる。
【００３７】
（変形例）
上述した実施形態では、マスクＭを構成する輪郭部Ｍ１の領域に、黒色インクやグレー色インク等の遮光性の液滴Ｄを吐出して硬化させて輪郭部Ｍ１を形成した。しかし、輪郭部Ｍ１の領域に吐出するインクは遮光性の液滴Ｄに限られず、光透過性材料からなる液滴Ｄであっても良い。この光透過性材料からなる液滴Ｄを吐出して硬化させて輪郭部Ｍ１を形成することにより、マスクＭは、輪郭内部Ｍ２のみで遮光することになり、透過ＯＤ値を一律に高く保って遮光することができる。
【００３８】
上述した実施形態では、半導体レーザー２７Ａ，２７Ｂを光源に用いて紫外線硬化型インクを硬化させる構成とした。しかし、これに限られず、例えば、紫外線を出射する紫外線ランプや発光ダイオード等を光源として用いても良い。
【符号の説明】
【００３９】
１…樹脂基板、１ａ…基板表面、１０…インクジェット記録装置、１１…基台、１２…案内溝、１３…ステージ、１４…載置面、１５…ガイド部材、１６…ガイドレール、１７…キャリッジ、１８…インクタンク、２０…ヘッドユニット、２１…吐出ヘッド、２２…ノズルプレート、２２ａ…ノズル形成面、２５Ａ，２５Ｂ…レーザーヘッド、２６…ケース、２６Ａ，２６Ｂ…照射口、２７Ａ，２７Ｂ…半導体レーザー、３１…制御装置、３２…入力装置、３３…Ｘ軸モーター駆動回路、３４…Ｙ軸モーター駆動回路、３５…吐出ヘッド駆動回路、３６…レーザー駆動回路、Ｄ…液滴、Ｄ１…輪郭部ドットデータ、Ｄ２…輪郭内部ドットデータ、Ｍ…マスク、Ｍ１…輪郭部、Ｍ２…輪郭内部、ＭＸ…Ｘ軸モーター、ＭＥＸ…Ｘ軸モーター回転検出器、ＭＹ…Ｙ軸モーター、ＭＥＹ…Ｙ軸モーター回転検出器、ＰＺ…圧電素子。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性を有する媒体に対して、紫外線硬化型のインクを吐出して硬化させて遮光性のマスクを形成するインクジェット記録方法であって、
前記インクを吐出して硬化させて前記マスクの輪郭部の領域を形成する第１の形成工程と、
前記第１の形成工程の後に、前記インクを吐出して硬化させて前記マスクの輪郭部で囲まれた領域を形成する第２の形成工程と、を含み、
前記第２の形成工程において前記媒体の単位面積中に吐出するインク量は、前記第１の形成工程において前記媒体の単位面積中に吐出するインク量よりも多いことを特徴とするインクジェット記録方法。
【請求項２】
前記媒体の単位面積中に吐出可能なインク量の上限値をインクデューティー制限値とした場合に、前記第２の形成工程におけるインクデューティー制限値は、前記第１の形成工程におけるインクデューティー制限値よりも大きいことを特徴とする請求項１に記載のインクジェット記録方法。
【請求項３】
透光性を有する媒体に対して、紫外線硬化型のインクを吐出して硬化させて遮光性のマスクを形成するインクジェット記録装置であって、
前記インクを吐出して硬化させて前記マスクの輪郭部の領域を形成する第１の形成部と、
前記第１の形成部において前記マスクの輪郭部を形成した後に、前記インクを吐出して硬化させて前記マスクの輪郭部で囲まれた領域を形成する第２の形成部と、を含み、
前記第２の形成部において前記媒体の単位面積中に吐出するインク量は、前記第１の形成部において前記媒体の単位面積中に吐出するインク量よりも多いことを特徴とするインクジェット記録装置。
【請求項１】
透光性を有する媒体に対して、紫外線硬化型のインクを吐出して硬化させて遮光性のマスクを形成するインクジェット記録方法であって、
前記インクを吐出して硬化させて前記マスクの輪郭部の領域を形成する第１の形成工程と、
前記第１の形成工程の後に、前記インクを吐出して硬化させて前記マスクの輪郭部で囲まれた領域を形成する第２の形成工程と、を含み、
前記第２の形成工程において前記媒体の単位面積中に吐出するインク量は、前記第１の形成工程において前記媒体の単位面積中に吐出するインク量よりも多いことを特徴とするインクジェット記録方法。
【請求項２】
前記媒体の単位面積中に吐出可能なインク量の上限値をインクデューティー制限値とした場合に、前記第２の形成工程におけるインクデューティー制限値は、前記第１の形成工程におけるインクデューティー制限値よりも大きいことを特徴とする請求項１に記載のインクジェット記録方法。
【請求項３】
透光性を有する媒体に対して、紫外線硬化型のインクを吐出して硬化させて遮光性のマスクを形成するインクジェット記録装置であって、
前記インクを吐出して硬化させて前記マスクの輪郭部の領域を形成する第１の形成部と、
前記第１の形成部において前記マスクの輪郭部を形成した後に、前記インクを吐出して硬化させて前記マスクの輪郭部で囲まれた領域を形成する第２の形成部と、を含み、
前記第２の形成部において前記媒体の単位面積中に吐出するインク量は、前記第１の形成部において前記媒体の単位面積中に吐出するインク量よりも多いことを特徴とするインクジェット記録装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１２−１１１１３２（Ｐ２０１２−１１１１３２Ａ）
【公開日】平成２４年６月１４日（２０１２．６．１４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２６２１８３（Ｐ２０１０−２６２１８３）
【出願日】平成２２年１１月２５日（２０１０．１１．２５）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年６月１４日（２０１２．６．１４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１１月２５日（２０１０．１１．２５）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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