エレクトロクロミック素子およびその製造方法
【課題】基材の印刷面上に電極膜、イオン伝導透明膜、発色膜などが設けられてなり、発色性が均一なエレクトロクロミック素子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のエレクトロクロミック素子１０は、基材１１と、基材１１の一面１１ａの少なくとも一部に設けられた印刷層１２および印刷層１２を覆う受理層１３と、受理層１３上に順に積層された第一電極層１４、電解質層１５、発色層１６および第二電極層１７と、を備え、受理層１３は、アクリル樹脂水系ワックスからなり、受理層１３の厚みをｄ１、印刷層１２の厚みをｄ２とした場合、ｄ１＞ｄ２の関係を満たすことを特徴とする。
【解決手段】本発明のエレクトロクロミック素子１０は、基材１１と、基材１１の一面１１ａの少なくとも一部に設けられた印刷層１２および印刷層１２を覆う受理層１３と、受理層１３上に順に積層された第一電極層１４、電解質層１５、発色層１６および第二電極層１７と、を備え、受理層１３は、アクリル樹脂水系ワックスからなり、受理層１３の厚みをｄ１、印刷層１２の厚みをｄ２とした場合、ｄ１＞ｄ２の関係を満たすことを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エレクトロクロミック素子およびその製造方法に関し、さらに詳しくは、可撓性を向上したエレクトロクロミック素子およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
現在、表示素子としては、液晶表示素子（ＬＣＤ）、有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）などが広く用いられている。
これらの表示素子は、電圧を印加している間のみ色が変化し、文字や画像を表示することができるが、表示には、比較的高い電圧を必要とするため、消費電力が多く、用途によっては、作動用の電池（バッテリー）の交換を頻繁に行う必要があった。したがって、ＩＣカードなどのように、接着材などによって、ＩＣチップ、表示素子などの内装品が封止された構造のものでは、電池（バッテリー）を随時交換することが難しく、液晶表示素子や有機ＥＬ素子は不向きであった。
【０００３】
そこで、用途によっては、液晶表示素子や有機ＥＬ素子に替わる表示素子として、エレクトロクロミック素子（ＥＣ素子）が注目されている。このＥＣ素子は、作動に要する電圧が比較的低く、電子の移動を遮断して酸化還元状態を維持するだけで表示状態を静止できる（メモリー性）を有し、表示状態を維持するために電力が不要であるから、消費電力が少ないという利点がある。
【０００４】
このようなＥＣ素子としては、例えば、透明または有色電極膜、無機アモルファスまたは結晶化イオン伝導透明膜、発色イオンドープの無機アモルファス発色膜、透明電極膜を順次積層した構造をなすエレクトロクロミックフィルムが開示されている（例えば、特許文献１参照）。このＥＣ素子では、パルスレーザー堆積法（Ｐｕｌｓｅｄ Ｌａｓｅｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＰＬＤ法）を用いて、プラスチック基板、ガラス基板などの絶縁性基板上に、透明または有色電極膜、アモルファスまたは結晶化ＬｉＭｎ２Ｏ４イオン伝導透明膜からなる無機アモルファスまたは結晶化イオン伝導透明膜、ＬｉイオンドープのアモルファスＬｉｙＷＯ３−ｘ発色膜からなる発色イオンドープの無機アモルファス発色膜、および、透明電極膜を形成している。
【特許文献１】国際公開第２００５／１２４４４４号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来のＥＣ素子において、基板上に印刷を施して印刷層を形成した後、さらに、この印刷層の上に電極膜、イオン伝導透明膜、発色膜などを積層してＥＣ素子を製造すると、それぞれの膜を均一に形成することができない上に、形成された膜には、印刷層の凹凸に起因する歪みが生じて、ＥＣ素子には部分的に発色むらが生じて、発色性が不均一になるという問題があった。
【０００６】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、基材の印刷面上に電極膜、イオン伝導透明膜、発色膜などが設けられてなり、発色性が均一なエレクトロクロミック素子およびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明のエレクトロクロミック素子は、基材と、該基材の一面の少なくとも一部に設けられた印刷層および該印刷層を覆う受理層と、前記受理層上に順に積層された第一電極層、電解質層、発色層および第二電極層と、を備えたエレクトロクロミック素子であって、前記受理層は、アクリル樹脂水系ワックスからなり、前記受理層の厚みをｄ１、前記印刷層の厚みをｄ２とした場合、ｄ１＞ｄ２の関係を満たすことを特徴とする。
【０００８】
本発明のエレクトロクロミック素子の製造方法は、基材と、該基材の一面の少なくとも一部に設けられた印刷層および該印刷層を覆う受理層と、前記受理層上に順に積層された第一電極層、電解質層、発色層および第二電極層と、を備えたエレクトロクロミック素子の製造方法であって、前記基材の一方の面に印刷層を設ける工程と、前記受理層の厚みをｄ１、前記印刷層の厚みをｄ２とした場合、前記基材の一方の面に、ｄ１＞ｄ２の関係を満たすように、アクリル樹脂水系ワックスを塗布して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させて前記受理層を形成する工程と、パルスレーザー堆積法により、前記受理層上に、前記第一電極層、前記電解質層、前記発色層および前記第二電極層を順次形成する工程と、を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明のエレクトロクロミック素子によれば、基材と、該基材の一面の少なくとも一部に設けられた印刷層および該印刷層を覆う受理層と、前記受理層上に順に積層された第一電極層、電解質層、発色層および第二電極層と、を備えたエレクトロクロミック素子であって、前記受理層は、アクリル樹脂水系ワックスからなり、前記受理層の厚みをｄ１、前記印刷層の厚みをｄ２とした場合、ｄ１＞ｄ２の関係を満たすので、受理層上に、第一電極層、電解質層、発色層および第二電極層の各層がそれぞれ均一な厚みで設けられているから、各層には印刷層に起因する歪みが生じることなく、ＥＣ素子は発色むらが生じることなく、発色性が均一になる。また、受理層は透明性が高いので、印刷層の色を生かすことができるとともに、ＥＣ素子の発色を妨げることがない。
【００１０】
本発明のエレクトロクロミック素子の製造方法によれば、基材と、該基材の一面の少なくとも一部に設けられた印刷層および該印刷層を覆う受理層と、前記受理層上に順に積層された第一電極層、電解質層、発色層および第二電極層と、を備えたエレクトロクロミック素子の製造方法であって、前記基材の一方の面に印刷層を設ける工程と、前記受理層の厚みをｄ１、前記印刷層の厚みをｄ２とした場合、前記基材の一方の面に、ｄ１＞ｄ２の関係を満たすように、アクリル樹脂水系ワックスを塗布して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させて前記受理層を形成する工程と、パルスレーザー堆積法により、前記受理層上に、前記第一電極層、前記電解質層、前記発色層および前記第二電極層を順次形成する工程と、を有するので、真空状態やレーザー照射により、受理層が収縮するなどの劣化が生じることなく、ＰＬＤ法によって安定に、第一電極層、電解質層、発色層および第二電極層を形成することができる。また、受理層をなすアクリル樹脂水系ワックスは、常温、常圧において、印刷塗工可能であるから、ＥＣ素子の製造コストを低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明のエレクトロクロミック素子およびその製造方法の最良の形態について説明する。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
【００１２】
（エレクトロクロミック素子）
図１は、本発明のエレクトロクロミック素子の一実施形態を示す概略断面図である。
この実施形態のエレクトロクロミック素子（以下、「ＥＣ素子」と略すこともある。）１０は、基材１１と、この基材１１の一方の面１１ａに設けられた印刷層１２と、基材１１の一方の面１１ａにおいて、印刷層１２を覆うように設けられた受理層１３と、この受理層１３上に順に積層された第一電極層１４、電解質層１５、発色層１６および第二電極層１７（「第一電極層１４、電解質層１５、発色層１６および第二電極層１７」を総称して「積層体１８」と言う。）と、受理層１３上に積層体１８を被覆するように設けられた封止材１９とから概略構成されている。
【００１３】
基材１１としては、少なくともその表層部には、ガラス繊維、アルミナ繊維などの無機繊維からなる織布、不織布、マット、紙などまたはこれらを組み合わせたもの、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維などの有機繊維からなる織布、不織布、マット、紙などまたはこれらを組み合わせたものや、あるいはこれらに樹脂ワニスを含浸させて成形した複合基材や、ポリアミド系樹脂基材、ポリエステル系樹脂基材、ポリオレフィン系樹脂基材、ポリイミド系樹脂基材、エチレン−ビニルアルコール共重合体基材、ポリビニルアルコール系樹脂基材、ポリ塩化ビニル系樹脂基材、ポリ塩化ビニリデン系樹脂基材、ポリスチレン系樹脂基材、ポリカーボネート系樹脂基材、アクリロニトリルブタジエンスチレン共重合系樹脂基材、ポリエーテルスルホン系樹脂基材などのプラスチック基材や、あるいはこれらにマット処理、コロナ放電処理、プラズマ処理、紫外線照射処理、電子線照射処理、フレームプラズマ処理、オゾン処理、または各種易接着処理などの表面処理を施したものなどの公知のものから選択して用いられる。また、紙としては、上質紙、コート紙、アート紙、キャストコート紙、再生紙、含浸紙、無塵紙、耐水紙、蛍光紙、これらの紙基材上に導電性塗料などにより回路を形成した導電性の紙基材などが挙げられる。これらの中でも、ポリエチレンテレフタレートまたはポリイミドからなる電気絶縁性のフィルムまたはシートが好適に用いられる。
基材１１の色は、発色層１６による発色に応じて、適宜調整される。
【００１４】
印刷層１２は、公地の印刷用インキなどを用い、スクリーン印刷、グラビア印刷、インクジェット印刷、オフセット印刷、トナー印刷、転写などの印刷方法により、文字、記号、模様または画像などの各種印刷情報が形成された層である。
【００１５】
受理層１３をなす材料としては、硬化後の表面硬度が高く、真空中で収縮し難く、耐湿性に優れ（吸湿性が低い）、絶縁性が高く、かつ、可視光透過率が高い（透明性が高い）ものが用いられ、例えば、アクリル樹脂水系ワックスが挙げられ、具体的には、荒川塗料工業社製の水性コーティング用塗料、ユニークペーパーワニスＡ２２８などが挙げられる。
【００１６】
このＥＣ素子１０では、受理層１３の厚みをｄ１、印刷層１２の厚みをｄ２とした場合、ｄ１＞ｄ２の関係を満たしている。すなわち、基材１１の一方の面１１ａを基端とした場合、受理層１３の厚みをｄ１は印刷層１２の厚みｄ２よりも厚くなっており、印刷層１２は受理層１３によって完全に覆われている。
【００１７】
印刷層１２が、スクリーン印刷により形成された場合、その厚みは５μｍ〜２０μｍ程度である。また、印刷層１２が、グラビア印刷により形成された場合、その厚みは２μｍ〜４０μｍ程度である。また、印刷層１２が、インクジェット印刷により形成された場合、その厚みは０．３μｍ〜１μｍ程度である。また、印刷層１２が、オフセット印刷により形成された場合、その厚みは１μｍ〜２μｍ程度である。また、印刷層１２が、トナー印刷により形成された場合、トナー粒子の粒子径が５μｍ〜８μｍ程度であるから、その厚みは５μｍ〜８μｍ程度である。
【００１８】
したがって、受理層１３の厚みは、０．５μｍ以上、１０μｍ以下が好ましく、より好ましくは１μｍ以上、５μｍ以下である。
受理層１３の厚みが０．５μｍ以上、１０μｍ以下であることが好ましい理由は、この厚みが０．５μｍ未満では、受理層１３により、印刷層１２によって生じた基材１１の一方の面１１ａにおける凹凸を相殺することができず、受理層１３上に形成された積層体１８に歪みが生じて、ＥＣ素子１０の発色性が低下するからであり、一方、この厚みが１０μｍを超えると、印刷層１２の厚みに対して受理層１３の厚みが厚すぎて、効果に差が無くなるばかりでなく、受理層１３自体の透過率が低下し、第二電極層１７の最表面側からＥＣ素子１０の発色を視認し難くなるとともに、ＥＣ素子１０の可撓性が低下するからである。
【００１９】
第一電極層１４、第二電極層１７としては、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ：Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）などから構成される透明電極層が挙げられる。
【００２０】
電解質層１５としては、アモルファスまたは結晶化ＬｉＭｎ２Ｏ４、ＬｉＣｏＯ２、ＬｉＮｉＯ２、ＬｉＣｒＯｘなどの遷移金属ドープ酸化リチウムからなるイオン伝導透明層が挙げられる。
【００２１】
発色層１６としては、リチウム（Ｌｉ）イオンドープのアモルファスＬｉｙＷＯ３−ｘ、ナトリウム（Ｎａ）イオンドープのアモルファスＮａｘＷＯ３などからなる発色層が挙げられる。
【００２２】
封止材１９としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂に、硬化剤として、ポリチオール系硬化剤および／または第３級アミン系硬化剤を含有したものが挙げられる。
【００２３】
このＥＣ素子１０によれば、基材１１の一方の面１１ａにおいて、この面に設けられた、アクリル樹脂水系ワックスからなる受理層１３の厚みをｄ１、印刷層１２の厚みをｄ２とした場合、ｄ１＞ｄ２の関係を満たしているので、受理層１３上に、第一電極層１４、電解質層１５、発色層１６および第二電極層１７の各層がそれぞれ均一な厚みで設けられているから、各層には印刷層１２に起因する歪みが生じることなく、ＥＣ素子１０は発色むらが生じることなく、発色性が均一になる。また、受理層１３は透明性が高いので、印刷層１２の色を生かすことができるとともに、ＥＣ素子１０の発色を妨げることがない。さらに、受理層１３は封止材１９との密着性に優れている上に、積層体１８が受理層１３と封止材１９によって封止された構造をなしているので、このＥＣ素子１０は、酸素や水分によって劣化し難くなり、長寿命化することができる。
【００２４】
なお、この実施形態では、受理層１３が基材１１の一方の面１１ａの全面に設けられたＥＣ素子１０を例示したが、本発明のＥＣ素子はこれに限定されない。本発明のＥＣ素子にあっては、少なくとも基材の一方の面において、第一電極層、電解質層、発色層および第二電極層からなる積層体を設ける部分で、かつ、印刷層が設けられている部分に受理層が設けられていればよい。
また、この実施形態では、積層体１８が封止材１９により被覆されたＥＣ素子１０を例示したが、本発明のＥＣ素子はこれに限定されない。本発明のＥＣ素子にあっては、積層体が封止材により被覆されていなくてもよい。
【００２５】
（エレクトロクロミック素子の製造方法）
次に、図１を参照して、この実施形態のＥＣ素子の製造方法を説明する。
先ず、基材１１の一方の面１１ａに、スクリーン印刷、グラビア印刷、インクジェット印刷、オフセット印刷、トナー印刷、転写などの印刷方法により、印刷層１２を形成する。
次いで、基材１１の一方の面１１ａに、印刷層１２を覆うようにアクリル樹脂水系ワックスを塗布して塗膜を形成し、この塗膜を乾燥させて、所定の厚みの受理層１３を形成する。
次いで、ＰＬＤ法により、この基材１１に設けられた受理層１３上に、積層体１８を形成する。この積層体１８の各層の形成方法を、以下に示す。なお、積層体１８の各層は、真空室内で、常温にて形成される。
【００２６】
第一電極層１４を形成するには、受理層１３が設けられた基材１１を真空室内に配置して、この基材１１を常温に維持する。
次いで、受理層１３の最表面から所定の離間位置に、スズドープ酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズなどの第一電極層１４用ターゲットを配置し、真空室内の酸素雰囲気圧を４Ｐａ〜６Ｐａに保持する。
次いで、ターゲットにレーザー光を照射して、受理層１３上に、第一電極層１４を積層する。
【００２７】
電解質層１５を形成するには、第一電極層１４の最表面から所定の離間位置に、アモルファスまたは結晶化ＬｉＭｎ２Ｏ４、ＬｉＣｏＯ２、ＬｉＮｉＯ２、ＬｉＣｒＯｘなどの遷移金属ドープ酸化リチウムからなる電解質層１５用ターゲットを配置し、真空室内の酸素雰囲気圧を１９Ｐａ〜２１Ｐａに保持する。
次いで、ターゲットにレーザー光を照射して、第一電極層１４上に、電解質層１５を積層する。
【００２８】
発色層１６を形成するには、電解質層１５の最表面から所定の離間位置に、リチウムイオンドープのアモルファスＬｉｙＷＯ３−ｘ、ナトリウムイオンドープのアモルファスＮａｘＷＯ３などの発色層１６用ターゲットを配置し、真空室内の酸素雰囲気圧を６Ｐａ〜８Ｐａに保持する。
次いで、ターゲットにレーザー光を照射して、電解質層１５上に、発色層１６を積層する。
【００２９】
第二電極層１７を形成するには、発色層１６の最表面から所定の離間位置に、スズドープ酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズなどの第二電極層１７用ターゲットを配置し、真空室内の酸素雰囲気圧を４Ｐａ〜６Ｐａに保持する。
次いで、ターゲットにレーザー光を照射して、発色層１６上に、第二電極層１７を積層し、積層体１７を得る。
【００３０】
次いで、受理層１３上に、積層体１８を被覆するように、硬化剤を含有するビスフェノールＡ型エポキシ樹脂からなる封止材を塗布し、この封止材を加熱して硬化させ、受理層１３上で封止材１９により積層体１８が被覆されたＥＣ素子１０を得る。
【００３１】
この実施形態のＥＣ素子の製造方法によれば、基材１１の一方の面１１ａに、印刷層１２を形成した後、さらに、この印刷層１２を覆うように受理層１３を形成し、ＰＬＤ法により、この受理層１３上に、第一電極層１４、電解質層１５、発色層１６および第二電極層１７を順次形成するので、真空状態やレーザー照射により、受理層１３が収縮するなどの劣化が生じることなく、安定に、第一電極層１４、電解質層１５、発色層１６および第二電極層１７を形成することができる。
また、受理層１３をなすアクリル樹脂水系ワックス、および、封止材１８をなすビスフェノールＡ型エポキシ樹脂は、常温、常圧において、印刷塗工可能であるから、ＥＣ素子の製造コストを低減することができる。
【００３２】
（非接触型データ受送信体）
図２は、本発明のエレクトロクロミック素子を備えた非接触型データ受送信体の一実施形態を示す概略断面図である。
図２において、図１に示したエレクトロクロミック素子の構成要素と同じ構成要素には同一符号を付して、その説明を省略する。
この実施形態の非接触型データ受送信体２０は、ＥＣ素子１０と、ＩＣチップなどの電子部品２１と、スイッチ２２と、導電部（回路）２３と、基材１１と同様の材質からなる基材２４とから概略構成されている。
【００３３】
この非接触型データ受送信体２０では、ＥＣ素子１０の構成部材である基材１１が、カード大をなしており、その一方の面１１ａには、電子部品２１と、ＥＣ素子１０を作動させるためのスイッチ２２と、これらの部品を接続する導電部（回路）２３とが設けられている。
また、上記の部品が設けられた基材１１と基材２４とが、封止材１９を介して対向するように接合され、基材１１と基材２４との間に、封止材１９により被覆されたＥＣ素子１０、電子部品２１、スイッチ２２、導電部２３などが内装されている。
【００３４】
さらに、第二電極層１７の最表面は、基材２４をその厚み方向に貫通するように設けられた窓部２４ａと重なるように配置され、その最表面は封止材１９により封止されている。これにより、基材２４の外表面２４ｂ側から、ＥＣ素子１０を視認することができる。
【００３５】
この非接触型データ受送信体２０では、スイッチ２２を押すことにより、ＥＣ素子１０が作動し、このＥＣ素子１０の発色（表示）を基材２４の窓部２４ａを介して視認することができるようになっている。
【実施例】
【００３６】
以下、実施例および比較例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００３７】
「実施例１」
プラスチック基材（厚み１００μｍ）の一方の面に、インクジェット印刷法により、厚み０．５μｍの印刷層を形成した。
次いで、プラスチック基材の一方の面に、印刷層を覆うようにアクリル樹脂水系ワックスを塗布して塗膜を形成し、この塗膜を乾燥させて、厚み２μｍの受理層を形成した。
次いで、受理層が設けられたプラスチック基材を真空室内に配置して、このプラスチック基材を常温に維持し、ＰＬＤ法により、受理層上に、スズドープ酸化インジウムからなる厚み０．０５μｍの第一電極層を積層した。この時、真空室内の酸素雰囲気圧を４Ｐａ〜６Ｐａに保持した。
次いで、ＰＬＤ法により、第一電極層上に、アモルファスＬｉＭｎ２Ｏ４からなる厚み０．０５μｍの電解質層を積層した。この時、真空室内の酸素雰囲気圧を１９Ｐａ〜２１Ｐａに保持した。
次いで、ＰＬＤ法により、電解質層上に、リチウムイオンドープのアモルファスＬｉｙＷＯ３−ｘからなる厚み０．２５μｍの発色層を積層した。この時、真空室内の酸素雰囲気圧を６Ｐａ〜８Ｐａに保持した。
次いで、ＰＬＤ法により、発色層上に、スズドープ酸化インジウムからなる厚み０．０５μｍの第二電極層を積層した。この時、真空室内の酸素雰囲気圧を４Ｐａ〜６Ｐａに保持した。
次いで、受理層上に、第一電極層、電解質層、発色層および第二電極層からなる積層体を被覆するように、硬化剤としてポリチオール系硬化剤および第３級アミン系硬化剤を含有するビスフェノールＡ型エポキシ樹脂からなる封止材を塗布し、この封止材を加熱して硬化させて、図１に示す、実験例１のＥＣ素子を作製した。
【００３８】
「実施例２」
封止材を設けなかった以外は実施例１と同様にして、実施例２のＥＣ素子を作製した。
【００３９】
「比較例１」
受理層を設けなかった以外は実施例１と同様にして、比較例１のＥＣ素子を作製した。
【００４０】
「比較例２」
受理層および封止材を設けなかった以外は実施例１と同様にして、比較例２のＥＣ素子を作製した。
【００４１】
実施例１、２および比較例１、２のＥＣ素子について、以下に示す評価方法により、発色性、消色性およびメモリー性を評価した。
また、実施例１、２および比較例１、２のＥＣ素子を、温度２３℃、湿度５０％の環境に曝露し、曝露開始から所定時間経過後（表１参照）、以下に示す評価方法により、発色性、消色性およびメモリー性を評価した。
（１）発色性
ＥＣ素子に３Ｖの電圧を１秒間印加し、その時の発色むらの有無によってＥＣ素子の発色性を評価した。
ＥＣ素子の発色性を下記の４段階で評価した。
◎：発色むらなし
○：発色むら多少あり
△：発色むらかなりあり
×：発色しなかった
結果を表１に示す。
【００４２】
（２）消色性
上記の（１）に示すように電圧を印加して発色させたＥＣ素子に３Ｖの電圧を１秒間印加し、色の消え方のむらの有無によってＥＣ素子の消色性を評価した。
ＥＣ素子の消色性を下記の４段階で評価した。
◎：消色むらなし
○：消色むら多少あり
△：消色むらかなりあり
×：消色しなかった
結果を表１に示す。
【００４３】
（３）メモリー性
ＥＣ素子に３Ｖの電圧を１秒間印加して発色させ、電圧の印加を止めてから、その色が消えるまでの時間を測定してＥＣ素子のメモリーを評価した。
ＥＣ素子の発色性を下記の４段階で評価した。
◎：５分以上
○：１分〜５分
△：１分以下
×：変化しなかった
結果を表１に示す。
【００４４】
【表１】
【００４５】
表１の結果から、実施例１のＥＣ素子は、曝露開始から６０日後も、発色および消色にむらがなく、十分に機能することが確認された。
また、実施例２のＥＣ素子は、曝露開始から１４日後には劣化が始まり、２８日後には完全に劣化することが確認された。
一方、比較例１、２のＥＣ素子は、作製直後から発色性、メモリー性が十分得られず、曝露開始から７日後には劣化が始まり、１４日後には完全に劣化することが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明のエレクトロクロミック素子の一実施形態を示す概略断面図である。
【図２】本発明のエレクトロクロミック素子を備えた非接触型データ受送信体の一実施形態を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【００４７】
１０・・・エレクトロクロミック素子、１１・・・基材、１２・・・印刷層、１３・・・受理層、１４・・・第一電極層、１５・・・電解質層、１６・・・発色層、１７・・・第二電極層、１８・・・積層体、１９・・・封止材、２０・・・非接触型データ受送信体、２１・・・電子部品、２２・・・スイッチ、２３・・・導電部、２４・・・基材。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エレクトロクロミック素子およびその製造方法に関し、さらに詳しくは、可撓性を向上したエレクトロクロミック素子およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
現在、表示素子としては、液晶表示素子（ＬＣＤ）、有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）などが広く用いられている。
これらの表示素子は、電圧を印加している間のみ色が変化し、文字や画像を表示することができるが、表示には、比較的高い電圧を必要とするため、消費電力が多く、用途によっては、作動用の電池（バッテリー）の交換を頻繁に行う必要があった。したがって、ＩＣカードなどのように、接着材などによって、ＩＣチップ、表示素子などの内装品が封止された構造のものでは、電池（バッテリー）を随時交換することが難しく、液晶表示素子や有機ＥＬ素子は不向きであった。
【０００３】
そこで、用途によっては、液晶表示素子や有機ＥＬ素子に替わる表示素子として、エレクトロクロミック素子（ＥＣ素子）が注目されている。このＥＣ素子は、作動に要する電圧が比較的低く、電子の移動を遮断して酸化還元状態を維持するだけで表示状態を静止できる（メモリー性）を有し、表示状態を維持するために電力が不要であるから、消費電力が少ないという利点がある。
【０００４】
このようなＥＣ素子としては、例えば、透明または有色電極膜、無機アモルファスまたは結晶化イオン伝導透明膜、発色イオンドープの無機アモルファス発色膜、透明電極膜を順次積層した構造をなすエレクトロクロミックフィルムが開示されている（例えば、特許文献１参照）。このＥＣ素子では、パルスレーザー堆積法（Ｐｕｌｓｅｄ Ｌａｓｅｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＰＬＤ法）を用いて、プラスチック基板、ガラス基板などの絶縁性基板上に、透明または有色電極膜、アモルファスまたは結晶化ＬｉＭｎ２Ｏ４イオン伝導透明膜からなる無機アモルファスまたは結晶化イオン伝導透明膜、ＬｉイオンドープのアモルファスＬｉｙＷＯ３−ｘ発色膜からなる発色イオンドープの無機アモルファス発色膜、および、透明電極膜を形成している。
【特許文献１】国際公開第２００５／１２４４４４号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来のＥＣ素子において、基板上に印刷を施して印刷層を形成した後、さらに、この印刷層の上に電極膜、イオン伝導透明膜、発色膜などを積層してＥＣ素子を製造すると、それぞれの膜を均一に形成することができない上に、形成された膜には、印刷層の凹凸に起因する歪みが生じて、ＥＣ素子には部分的に発色むらが生じて、発色性が不均一になるという問題があった。
【０００６】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、基材の印刷面上に電極膜、イオン伝導透明膜、発色膜などが設けられてなり、発色性が均一なエレクトロクロミック素子およびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明のエレクトロクロミック素子は、基材と、該基材の一面の少なくとも一部に設けられた印刷層および該印刷層を覆う受理層と、前記受理層上に順に積層された第一電極層、電解質層、発色層および第二電極層と、を備えたエレクトロクロミック素子であって、前記受理層は、アクリル樹脂水系ワックスからなり、前記受理層の厚みをｄ１、前記印刷層の厚みをｄ２とした場合、ｄ１＞ｄ２の関係を満たすことを特徴とする。
【０００８】
本発明のエレクトロクロミック素子の製造方法は、基材と、該基材の一面の少なくとも一部に設けられた印刷層および該印刷層を覆う受理層と、前記受理層上に順に積層された第一電極層、電解質層、発色層および第二電極層と、を備えたエレクトロクロミック素子の製造方法であって、前記基材の一方の面に印刷層を設ける工程と、前記受理層の厚みをｄ１、前記印刷層の厚みをｄ２とした場合、前記基材の一方の面に、ｄ１＞ｄ２の関係を満たすように、アクリル樹脂水系ワックスを塗布して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させて前記受理層を形成する工程と、パルスレーザー堆積法により、前記受理層上に、前記第一電極層、前記電解質層、前記発色層および前記第二電極層を順次形成する工程と、を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明のエレクトロクロミック素子によれば、基材と、該基材の一面の少なくとも一部に設けられた印刷層および該印刷層を覆う受理層と、前記受理層上に順に積層された第一電極層、電解質層、発色層および第二電極層と、を備えたエレクトロクロミック素子であって、前記受理層は、アクリル樹脂水系ワックスからなり、前記受理層の厚みをｄ１、前記印刷層の厚みをｄ２とした場合、ｄ１＞ｄ２の関係を満たすので、受理層上に、第一電極層、電解質層、発色層および第二電極層の各層がそれぞれ均一な厚みで設けられているから、各層には印刷層に起因する歪みが生じることなく、ＥＣ素子は発色むらが生じることなく、発色性が均一になる。また、受理層は透明性が高いので、印刷層の色を生かすことができるとともに、ＥＣ素子の発色を妨げることがない。
【００１０】
本発明のエレクトロクロミック素子の製造方法によれば、基材と、該基材の一面の少なくとも一部に設けられた印刷層および該印刷層を覆う受理層と、前記受理層上に順に積層された第一電極層、電解質層、発色層および第二電極層と、を備えたエレクトロクロミック素子の製造方法であって、前記基材の一方の面に印刷層を設ける工程と、前記受理層の厚みをｄ１、前記印刷層の厚みをｄ２とした場合、前記基材の一方の面に、ｄ１＞ｄ２の関係を満たすように、アクリル樹脂水系ワックスを塗布して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させて前記受理層を形成する工程と、パルスレーザー堆積法により、前記受理層上に、前記第一電極層、前記電解質層、前記発色層および前記第二電極層を順次形成する工程と、を有するので、真空状態やレーザー照射により、受理層が収縮するなどの劣化が生じることなく、ＰＬＤ法によって安定に、第一電極層、電解質層、発色層および第二電極層を形成することができる。また、受理層をなすアクリル樹脂水系ワックスは、常温、常圧において、印刷塗工可能であるから、ＥＣ素子の製造コストを低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明のエレクトロクロミック素子およびその製造方法の最良の形態について説明する。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
【００１２】
（エレクトロクロミック素子）
図１は、本発明のエレクトロクロミック素子の一実施形態を示す概略断面図である。
この実施形態のエレクトロクロミック素子（以下、「ＥＣ素子」と略すこともある。）１０は、基材１１と、この基材１１の一方の面１１ａに設けられた印刷層１２と、基材１１の一方の面１１ａにおいて、印刷層１２を覆うように設けられた受理層１３と、この受理層１３上に順に積層された第一電極層１４、電解質層１５、発色層１６および第二電極層１７（「第一電極層１４、電解質層１５、発色層１６および第二電極層１７」を総称して「積層体１８」と言う。）と、受理層１３上に積層体１８を被覆するように設けられた封止材１９とから概略構成されている。
【００１３】
基材１１としては、少なくともその表層部には、ガラス繊維、アルミナ繊維などの無機繊維からなる織布、不織布、マット、紙などまたはこれらを組み合わせたもの、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維などの有機繊維からなる織布、不織布、マット、紙などまたはこれらを組み合わせたものや、あるいはこれらに樹脂ワニスを含浸させて成形した複合基材や、ポリアミド系樹脂基材、ポリエステル系樹脂基材、ポリオレフィン系樹脂基材、ポリイミド系樹脂基材、エチレン−ビニルアルコール共重合体基材、ポリビニルアルコール系樹脂基材、ポリ塩化ビニル系樹脂基材、ポリ塩化ビニリデン系樹脂基材、ポリスチレン系樹脂基材、ポリカーボネート系樹脂基材、アクリロニトリルブタジエンスチレン共重合系樹脂基材、ポリエーテルスルホン系樹脂基材などのプラスチック基材や、あるいはこれらにマット処理、コロナ放電処理、プラズマ処理、紫外線照射処理、電子線照射処理、フレームプラズマ処理、オゾン処理、または各種易接着処理などの表面処理を施したものなどの公知のものから選択して用いられる。また、紙としては、上質紙、コート紙、アート紙、キャストコート紙、再生紙、含浸紙、無塵紙、耐水紙、蛍光紙、これらの紙基材上に導電性塗料などにより回路を形成した導電性の紙基材などが挙げられる。これらの中でも、ポリエチレンテレフタレートまたはポリイミドからなる電気絶縁性のフィルムまたはシートが好適に用いられる。
基材１１の色は、発色層１６による発色に応じて、適宜調整される。
【００１４】
印刷層１２は、公地の印刷用インキなどを用い、スクリーン印刷、グラビア印刷、インクジェット印刷、オフセット印刷、トナー印刷、転写などの印刷方法により、文字、記号、模様または画像などの各種印刷情報が形成された層である。
【００１５】
受理層１３をなす材料としては、硬化後の表面硬度が高く、真空中で収縮し難く、耐湿性に優れ（吸湿性が低い）、絶縁性が高く、かつ、可視光透過率が高い（透明性が高い）ものが用いられ、例えば、アクリル樹脂水系ワックスが挙げられ、具体的には、荒川塗料工業社製の水性コーティング用塗料、ユニークペーパーワニスＡ２２８などが挙げられる。
【００１６】
このＥＣ素子１０では、受理層１３の厚みをｄ１、印刷層１２の厚みをｄ２とした場合、ｄ１＞ｄ２の関係を満たしている。すなわち、基材１１の一方の面１１ａを基端とした場合、受理層１３の厚みをｄ１は印刷層１２の厚みｄ２よりも厚くなっており、印刷層１２は受理層１３によって完全に覆われている。
【００１７】
印刷層１２が、スクリーン印刷により形成された場合、その厚みは５μｍ〜２０μｍ程度である。また、印刷層１２が、グラビア印刷により形成された場合、その厚みは２μｍ〜４０μｍ程度である。また、印刷層１２が、インクジェット印刷により形成された場合、その厚みは０．３μｍ〜１μｍ程度である。また、印刷層１２が、オフセット印刷により形成された場合、その厚みは１μｍ〜２μｍ程度である。また、印刷層１２が、トナー印刷により形成された場合、トナー粒子の粒子径が５μｍ〜８μｍ程度であるから、その厚みは５μｍ〜８μｍ程度である。
【００１８】
したがって、受理層１３の厚みは、０．５μｍ以上、１０μｍ以下が好ましく、より好ましくは１μｍ以上、５μｍ以下である。
受理層１３の厚みが０．５μｍ以上、１０μｍ以下であることが好ましい理由は、この厚みが０．５μｍ未満では、受理層１３により、印刷層１２によって生じた基材１１の一方の面１１ａにおける凹凸を相殺することができず、受理層１３上に形成された積層体１８に歪みが生じて、ＥＣ素子１０の発色性が低下するからであり、一方、この厚みが１０μｍを超えると、印刷層１２の厚みに対して受理層１３の厚みが厚すぎて、効果に差が無くなるばかりでなく、受理層１３自体の透過率が低下し、第二電極層１７の最表面側からＥＣ素子１０の発色を視認し難くなるとともに、ＥＣ素子１０の可撓性が低下するからである。
【００１９】
第一電極層１４、第二電極層１７としては、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ：Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）などから構成される透明電極層が挙げられる。
【００２０】
電解質層１５としては、アモルファスまたは結晶化ＬｉＭｎ２Ｏ４、ＬｉＣｏＯ２、ＬｉＮｉＯ２、ＬｉＣｒＯｘなどの遷移金属ドープ酸化リチウムからなるイオン伝導透明層が挙げられる。
【００２１】
発色層１６としては、リチウム（Ｌｉ）イオンドープのアモルファスＬｉｙＷＯ３−ｘ、ナトリウム（Ｎａ）イオンドープのアモルファスＮａｘＷＯ３などからなる発色層が挙げられる。
【００２２】
封止材１９としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂に、硬化剤として、ポリチオール系硬化剤および／または第３級アミン系硬化剤を含有したものが挙げられる。
【００２３】
このＥＣ素子１０によれば、基材１１の一方の面１１ａにおいて、この面に設けられた、アクリル樹脂水系ワックスからなる受理層１３の厚みをｄ１、印刷層１２の厚みをｄ２とした場合、ｄ１＞ｄ２の関係を満たしているので、受理層１３上に、第一電極層１４、電解質層１５、発色層１６および第二電極層１７の各層がそれぞれ均一な厚みで設けられているから、各層には印刷層１２に起因する歪みが生じることなく、ＥＣ素子１０は発色むらが生じることなく、発色性が均一になる。また、受理層１３は透明性が高いので、印刷層１２の色を生かすことができるとともに、ＥＣ素子１０の発色を妨げることがない。さらに、受理層１３は封止材１９との密着性に優れている上に、積層体１８が受理層１３と封止材１９によって封止された構造をなしているので、このＥＣ素子１０は、酸素や水分によって劣化し難くなり、長寿命化することができる。
【００２４】
なお、この実施形態では、受理層１３が基材１１の一方の面１１ａの全面に設けられたＥＣ素子１０を例示したが、本発明のＥＣ素子はこれに限定されない。本発明のＥＣ素子にあっては、少なくとも基材の一方の面において、第一電極層、電解質層、発色層および第二電極層からなる積層体を設ける部分で、かつ、印刷層が設けられている部分に受理層が設けられていればよい。
また、この実施形態では、積層体１８が封止材１９により被覆されたＥＣ素子１０を例示したが、本発明のＥＣ素子はこれに限定されない。本発明のＥＣ素子にあっては、積層体が封止材により被覆されていなくてもよい。
【００２５】
（エレクトロクロミック素子の製造方法）
次に、図１を参照して、この実施形態のＥＣ素子の製造方法を説明する。
先ず、基材１１の一方の面１１ａに、スクリーン印刷、グラビア印刷、インクジェット印刷、オフセット印刷、トナー印刷、転写などの印刷方法により、印刷層１２を形成する。
次いで、基材１１の一方の面１１ａに、印刷層１２を覆うようにアクリル樹脂水系ワックスを塗布して塗膜を形成し、この塗膜を乾燥させて、所定の厚みの受理層１３を形成する。
次いで、ＰＬＤ法により、この基材１１に設けられた受理層１３上に、積層体１８を形成する。この積層体１８の各層の形成方法を、以下に示す。なお、積層体１８の各層は、真空室内で、常温にて形成される。
【００２６】
第一電極層１４を形成するには、受理層１３が設けられた基材１１を真空室内に配置して、この基材１１を常温に維持する。
次いで、受理層１３の最表面から所定の離間位置に、スズドープ酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズなどの第一電極層１４用ターゲットを配置し、真空室内の酸素雰囲気圧を４Ｐａ〜６Ｐａに保持する。
次いで、ターゲットにレーザー光を照射して、受理層１３上に、第一電極層１４を積層する。
【００２７】
電解質層１５を形成するには、第一電極層１４の最表面から所定の離間位置に、アモルファスまたは結晶化ＬｉＭｎ２Ｏ４、ＬｉＣｏＯ２、ＬｉＮｉＯ２、ＬｉＣｒＯｘなどの遷移金属ドープ酸化リチウムからなる電解質層１５用ターゲットを配置し、真空室内の酸素雰囲気圧を１９Ｐａ〜２１Ｐａに保持する。
次いで、ターゲットにレーザー光を照射して、第一電極層１４上に、電解質層１５を積層する。
【００２８】
発色層１６を形成するには、電解質層１５の最表面から所定の離間位置に、リチウムイオンドープのアモルファスＬｉｙＷＯ３−ｘ、ナトリウムイオンドープのアモルファスＮａｘＷＯ３などの発色層１６用ターゲットを配置し、真空室内の酸素雰囲気圧を６Ｐａ〜８Ｐａに保持する。
次いで、ターゲットにレーザー光を照射して、電解質層１５上に、発色層１６を積層する。
【００２９】
第二電極層１７を形成するには、発色層１６の最表面から所定の離間位置に、スズドープ酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズなどの第二電極層１７用ターゲットを配置し、真空室内の酸素雰囲気圧を４Ｐａ〜６Ｐａに保持する。
次いで、ターゲットにレーザー光を照射して、発色層１６上に、第二電極層１７を積層し、積層体１７を得る。
【００３０】
次いで、受理層１３上に、積層体１８を被覆するように、硬化剤を含有するビスフェノールＡ型エポキシ樹脂からなる封止材を塗布し、この封止材を加熱して硬化させ、受理層１３上で封止材１９により積層体１８が被覆されたＥＣ素子１０を得る。
【００３１】
この実施形態のＥＣ素子の製造方法によれば、基材１１の一方の面１１ａに、印刷層１２を形成した後、さらに、この印刷層１２を覆うように受理層１３を形成し、ＰＬＤ法により、この受理層１３上に、第一電極層１４、電解質層１５、発色層１６および第二電極層１７を順次形成するので、真空状態やレーザー照射により、受理層１３が収縮するなどの劣化が生じることなく、安定に、第一電極層１４、電解質層１５、発色層１６および第二電極層１７を形成することができる。
また、受理層１３をなすアクリル樹脂水系ワックス、および、封止材１８をなすビスフェノールＡ型エポキシ樹脂は、常温、常圧において、印刷塗工可能であるから、ＥＣ素子の製造コストを低減することができる。
【００３２】
（非接触型データ受送信体）
図２は、本発明のエレクトロクロミック素子を備えた非接触型データ受送信体の一実施形態を示す概略断面図である。
図２において、図１に示したエレクトロクロミック素子の構成要素と同じ構成要素には同一符号を付して、その説明を省略する。
この実施形態の非接触型データ受送信体２０は、ＥＣ素子１０と、ＩＣチップなどの電子部品２１と、スイッチ２２と、導電部（回路）２３と、基材１１と同様の材質からなる基材２４とから概略構成されている。
【００３３】
この非接触型データ受送信体２０では、ＥＣ素子１０の構成部材である基材１１が、カード大をなしており、その一方の面１１ａには、電子部品２１と、ＥＣ素子１０を作動させるためのスイッチ２２と、これらの部品を接続する導電部（回路）２３とが設けられている。
また、上記の部品が設けられた基材１１と基材２４とが、封止材１９を介して対向するように接合され、基材１１と基材２４との間に、封止材１９により被覆されたＥＣ素子１０、電子部品２１、スイッチ２２、導電部２３などが内装されている。
【００３４】
さらに、第二電極層１７の最表面は、基材２４をその厚み方向に貫通するように設けられた窓部２４ａと重なるように配置され、その最表面は封止材１９により封止されている。これにより、基材２４の外表面２４ｂ側から、ＥＣ素子１０を視認することができる。
【００３５】
この非接触型データ受送信体２０では、スイッチ２２を押すことにより、ＥＣ素子１０が作動し、このＥＣ素子１０の発色（表示）を基材２４の窓部２４ａを介して視認することができるようになっている。
【実施例】
【００３６】
以下、実施例および比較例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００３７】
「実施例１」
プラスチック基材（厚み１００μｍ）の一方の面に、インクジェット印刷法により、厚み０．５μｍの印刷層を形成した。
次いで、プラスチック基材の一方の面に、印刷層を覆うようにアクリル樹脂水系ワックスを塗布して塗膜を形成し、この塗膜を乾燥させて、厚み２μｍの受理層を形成した。
次いで、受理層が設けられたプラスチック基材を真空室内に配置して、このプラスチック基材を常温に維持し、ＰＬＤ法により、受理層上に、スズドープ酸化インジウムからなる厚み０．０５μｍの第一電極層を積層した。この時、真空室内の酸素雰囲気圧を４Ｐａ〜６Ｐａに保持した。
次いで、ＰＬＤ法により、第一電極層上に、アモルファスＬｉＭｎ２Ｏ４からなる厚み０．０５μｍの電解質層を積層した。この時、真空室内の酸素雰囲気圧を１９Ｐａ〜２１Ｐａに保持した。
次いで、ＰＬＤ法により、電解質層上に、リチウムイオンドープのアモルファスＬｉｙＷＯ３−ｘからなる厚み０．２５μｍの発色層を積層した。この時、真空室内の酸素雰囲気圧を６Ｐａ〜８Ｐａに保持した。
次いで、ＰＬＤ法により、発色層上に、スズドープ酸化インジウムからなる厚み０．０５μｍの第二電極層を積層した。この時、真空室内の酸素雰囲気圧を４Ｐａ〜６Ｐａに保持した。
次いで、受理層上に、第一電極層、電解質層、発色層および第二電極層からなる積層体を被覆するように、硬化剤としてポリチオール系硬化剤および第３級アミン系硬化剤を含有するビスフェノールＡ型エポキシ樹脂からなる封止材を塗布し、この封止材を加熱して硬化させて、図１に示す、実験例１のＥＣ素子を作製した。
【００３８】
「実施例２」
封止材を設けなかった以外は実施例１と同様にして、実施例２のＥＣ素子を作製した。
【００３９】
「比較例１」
受理層を設けなかった以外は実施例１と同様にして、比較例１のＥＣ素子を作製した。
【００４０】
「比較例２」
受理層および封止材を設けなかった以外は実施例１と同様にして、比較例２のＥＣ素子を作製した。
【００４１】
実施例１、２および比較例１、２のＥＣ素子について、以下に示す評価方法により、発色性、消色性およびメモリー性を評価した。
また、実施例１、２および比較例１、２のＥＣ素子を、温度２３℃、湿度５０％の環境に曝露し、曝露開始から所定時間経過後（表１参照）、以下に示す評価方法により、発色性、消色性およびメモリー性を評価した。
（１）発色性
ＥＣ素子に３Ｖの電圧を１秒間印加し、その時の発色むらの有無によってＥＣ素子の発色性を評価した。
ＥＣ素子の発色性を下記の４段階で評価した。
◎：発色むらなし
○：発色むら多少あり
△：発色むらかなりあり
×：発色しなかった
結果を表１に示す。
【００４２】
（２）消色性
上記の（１）に示すように電圧を印加して発色させたＥＣ素子に３Ｖの電圧を１秒間印加し、色の消え方のむらの有無によってＥＣ素子の消色性を評価した。
ＥＣ素子の消色性を下記の４段階で評価した。
◎：消色むらなし
○：消色むら多少あり
△：消色むらかなりあり
×：消色しなかった
結果を表１に示す。
【００４３】
（３）メモリー性
ＥＣ素子に３Ｖの電圧を１秒間印加して発色させ、電圧の印加を止めてから、その色が消えるまでの時間を測定してＥＣ素子のメモリーを評価した。
ＥＣ素子の発色性を下記の４段階で評価した。
◎：５分以上
○：１分〜５分
△：１分以下
×：変化しなかった
結果を表１に示す。
【００４４】
【表１】
【００４５】
表１の結果から、実施例１のＥＣ素子は、曝露開始から６０日後も、発色および消色にむらがなく、十分に機能することが確認された。
また、実施例２のＥＣ素子は、曝露開始から１４日後には劣化が始まり、２８日後には完全に劣化することが確認された。
一方、比較例１、２のＥＣ素子は、作製直後から発色性、メモリー性が十分得られず、曝露開始から７日後には劣化が始まり、１４日後には完全に劣化することが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明のエレクトロクロミック素子の一実施形態を示す概略断面図である。
【図２】本発明のエレクトロクロミック素子を備えた非接触型データ受送信体の一実施形態を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【００４７】
１０・・・エレクトロクロミック素子、１１・・・基材、１２・・・印刷層、１３・・・受理層、１４・・・第一電極層、１５・・・電解質層、１６・・・発色層、１７・・・第二電極層、１８・・・積層体、１９・・・封止材、２０・・・非接触型データ受送信体、２１・・・電子部品、２２・・・スイッチ、２３・・・導電部、２４・・・基材。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、該基材の一面の少なくとも一部に設けられた印刷層および該印刷層を覆う受理層と、前記受理層上に順に積層された第一電極層、電解質層、発色層および第二電極層と、を備えたエレクトロクロミック素子であって、
前記受理層は、アクリル樹脂水系ワックスからなり、
前記受理層の厚みをｄ１、前記印刷層の厚みをｄ２とした場合、ｄ１＞ｄ２の関係を満たすことを特徴とするエレクトロクロミック素子。
【請求項２】
基材と、該基材の一面の少なくとも一部に設けられた印刷層および該印刷層を覆う受理層と、前記受理層上に順に積層された第一電極層、電解質層、発色層および第二電極層と、を備えたエレクトロクロミック素子の製造方法であって、
前記基材の一方の面に印刷層を設ける工程と、前記受理層の厚みをｄ１、前記印刷層の厚みをｄ２とした場合、前記基材の一方の面に、ｄ１＞ｄ２の関係を満たすように、アクリル樹脂水系ワックスを塗布して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させて前記受理層を形成する工程と、パルスレーザー堆積法により、前記受理層上に、前記第一電極層、前記電解質層、前記発色層および前記第二電極層を順次形成する工程と、を有することを特徴とするエレクトロクロミック素子の製造方法。
【請求項１】
基材と、該基材の一面の少なくとも一部に設けられた印刷層および該印刷層を覆う受理層と、前記受理層上に順に積層された第一電極層、電解質層、発色層および第二電極層と、を備えたエレクトロクロミック素子であって、
前記受理層は、アクリル樹脂水系ワックスからなり、
前記受理層の厚みをｄ１、前記印刷層の厚みをｄ２とした場合、ｄ１＞ｄ２の関係を満たすことを特徴とするエレクトロクロミック素子。
【請求項２】
基材と、該基材の一面の少なくとも一部に設けられた印刷層および該印刷層を覆う受理層と、前記受理層上に順に積層された第一電極層、電解質層、発色層および第二電極層と、を備えたエレクトロクロミック素子の製造方法であって、
前記基材の一方の面に印刷層を設ける工程と、前記受理層の厚みをｄ１、前記印刷層の厚みをｄ２とした場合、前記基材の一方の面に、ｄ１＞ｄ２の関係を満たすように、アクリル樹脂水系ワックスを塗布して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させて前記受理層を形成する工程と、パルスレーザー堆積法により、前記受理層上に、前記第一電極層、前記電解質層、前記発色層および前記第二電極層を順次形成する工程と、を有することを特徴とするエレクトロクロミック素子の製造方法。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２００９−１９８５８４（Ｐ２００９−１９８５８４Ａ）
【公開日】平成２１年９月３日（２００９．９．３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−３７６６９（Ｐ２００８−３７６６９）
【出願日】平成２０年２月１９日（２００８．２．１９）
【出願人】（０００１１０２１７）トッパン・フォームズ株式会社 (989)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年９月３日（２００９．９．３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年２月１９日（２００８．２．１９）
【出願人】（０００１１０２１７）トッパン・フォームズ株式会社 (989)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]