ジスチルベンポリカーボネート、それを用いた電子写真感光体、画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジ
【課題】耐摩耗性が高く、耐傷性が高く、且つ電気的特性が良好であるほか、特に架橋表面層の全層にわたり均一な硬化による膜の平滑性に優れ、クリアな架橋表面層の感光層を形成することにより、クリーニング特性が良好で、高耐久性を有し、かつ長期間にわたり高画質化を実現した電子写真感光体を提供することであり、また、それらの長寿命、高性能感光体を使用した画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジを提供する。
【解決手段】ジスチルベンポリカーボネートユニットを複数含むポリカーボネート、及びジスチルベンポリカーボネートユニットを複数含むポリカーボネートと炭素−炭素二重結合を有する重合性電荷輸送物質とからの重合反応生成物を含む層を有することを特徴とする電子写真感光体。
【解決手段】ジスチルベンポリカーボネートユニットを複数含むポリカーボネート、及びジスチルベンポリカーボネートユニットを複数含むポリカーボネートと炭素−炭素二重結合を有する重合性電荷輸送物質とからの重合反応生成物を含む層を有することを特徴とする電子写真感光体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐摩耗性が高く、平滑な表面性を有し、且つ電気的特性が良好な感光層を用いることにより、高耐久性を有し、且つ長期間にわたり高画質化を実現した電子写真感光体に関する。また、それらの長寿命、高性能感光体を使用した画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機感光体（ＯＰＣ）は良好な性能、様々な利点から、無機感光体に換わり複写機、ファクシミリ、レーザープリンタ及びこれらの複合機に多く用いられている。この理由としては、例えば（１）光吸収波長域の広さ及び吸収量の大きさ等の光学特性、（２）高感度、安定な帯電特性等の電気的特性、（３）材料の選択範囲の広さ、（４）製造の容易さ、（５）低コスト、（６）無毒性、等が挙げられる。
【０００３】
一方、最近画像形成装置の小型化から感光体の小径化が進み、機械の高速化やメンテナンスフリーの動きも加わり感光体の高耐久化が切望されるようになってきた。この観点からみると、有機感光体は、表面層が低分子電荷輸送材料と不活性高分子を主成分としているため一般に柔らかく、電子写真プロセスにおいて繰り返し使用された場合、現像システムやクリーニングシステムによる機械的な負荷により摩耗が発生しやすいという欠点を有している。加えて高画質化の要求からトナー粒子の小粒径化に伴いクリーニング性を向上させる目的でクリーニングブレードのゴム硬度の上昇と当接圧力の上昇を余儀なくされ、このことも感光体の摩耗を促進する要因となっている。この様な感光体の摩耗は、感度の劣化、帯電性の低下などの電気的特性を劣化させ、画像濃度低下、地肌汚れ等の異常画像の原因となる。また摩耗が局所的に発生した傷は、クリーニング不良によるスジ状汚れ画像をもたらす。現状では感光体の寿命はこの摩耗や傷が律速となり、交換に至っている。
【０００４】
したがって、有機感光体の高耐久化においては前述の摩耗量を低減することが不可欠であり、これが当分野でもっとも解決が迫られている課題である。
【０００５】
感光層の耐摩耗性を改良する技術としては、２，２’−ジアリルビスフェノールＡ型ポリカーボネート樹脂の硬化が知られている（例えば、特許文献１参照）。また、２，２’−ジアリルビスフェノール型ポリカーボネート樹脂とアクリル基置換電荷輸送物質との硬化電荷輸送層が提案（例えば、特許文献２参照）されているが、これらは側鎖からのアリル基の反応で硬度等耐摩耗性は十二分とはいえない。また、スチルベンカーボネート樹脂が開示（例えば、特許文献３参照）されているが、これは結晶性が高く、分子鎖の二次構造性が高く靱性が高い。
【特許文献１】特開平４−２９１３４８号公報
【特許文献２】特許第３０８１７０５号公報
【特許文献３】特表平１０−５０８０６４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の課題は、耐摩耗性が高く、耐傷性が高く、且つ電気的特性が良好であるほか、特に架橋表面層の全層にわたり均一な硬化による膜の平滑性に優れ、クリアな架橋表面層の感光層を形成することにより、クリーニング特性が良好で、高耐久性を有し、かつ長期間にわたり高画質化を実現した電子写真感光体を提供することであり、また、それらの長寿命、高性能感光体を使用した画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題は、以下の本発明により解決される。
【０００８】
（１）下記一般式（１）で示されるジスチルベンポリカーボネートユニットを複数含むポリカーボネート。
【０００９】
【化１４】
一般式（１）
（式中、Ｒ１，Ｒ２は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基を表わす。）
（２）下記一般式（２）で示されるジスチルベンカーボネートユニットとビスフェノール誘導体型カーボネートユニットとを複数含むポリカーボネート共重合体。
【００１０】
【化１５】
一般式（２）
（式中、Ｒ１，Ｒ２は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ３、Ｒ４は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、炭素数５〜７のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基を表わし、Ａは単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳｉＯ（ＣＨ３）２−、−ＣＲ５Ｒ６−（Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子、トリフオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル基、又は炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基である。）、炭素数５〜１１の１，１−シクロアルキリデン基を表わし、ａ，ｂはそれぞれ独立に０〜４の整数を表わし、ｈ，ｉは共重合ｍｏｌ％を表わし、ｈは５〜８０、ｉは２０〜９５を表わす。）
（３）下記一般式（１）で示されるジスチルベンポリカーボネートユニットを複数含むポリカーボネートと、炭素−炭素二重結合を有する重合性電荷輸送物質とからの重合反応生成物を含む層を有することを特徴とする電子写真感光体。
【００１１】
【化１６】
一般式（１）
（式中、Ｒ１，Ｒ２は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基を表わす。）
（４）下記一般式（２）で示されるジスチルベンカーボネートユニットとビスフェノール誘導体型カーボネートユニットとを複数含むポリカーボネート共重合体と、前記炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質とからの硬化させられた最上層を有することを特徴とする電子写真感光体。
【００１２】
【化１７】
一般式（２）
（式中、Ｒ１，Ｒ２は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ３、Ｒ４は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、炭素数５〜７のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基を表わし、Ａは単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳｉＯ（ＣＨ３）２−、−ＣＲ５Ｒ６−（Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子、トリフオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル基、又は炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基である。）、炭素数５〜１１の１，１−シクロアルキリデン基を表わし、ａ，ｂはそれぞれ独立に０〜４の整数を表わし、ｈ，ｉは共重合ｍｏｌ％を表わし、ｈは５〜８０、ｉは２０〜９５を表わす。）
（５）前記炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質が下記一般式（３）、一般式（４）で示されるものであることを特徴とする前記（３）又は（４）に記載の電子写真感光体。
【００１３】
【化１８】
一般式（３）
【００１４】
【化１９】
一般式（４）
（式中、Ａｃｔは、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基から選択される炭素−炭素二重結合を表わし、Ｒ７，Ｒ８，Ｒ９，Ｒ１０，Ｒ１１，Ｒ１２は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基を表わし、ｃ，ｄは１≦ｃ＋ｄ≦４を満たす整数、ｅ，ｆは１≦ｅ＋ｆ≦４を満たす整数である。）
（６）前記炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質が下記一般式（５）で示されるものであることを特徴とする前記（３）又は（４）に記載の電子写真感光体。
【００１５】
【化２０】
一般式（５）
（式中、Ａｃｔは炭素−炭素二重結合を表わし、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基を表わし、Ｒ２０，Ｒ２１は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基を表わし、Ａｒ１は置換、無置換のアリーレン基を表わし、ｇ，ｋ，ｏはそれぞれ独立に０〜２の整数を表わし、ｖは０又は１を表わす。）
（７）前記炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質が下記一般式（６）で示されるものであることを特徴とする前記（３）又は（４）に記載の電子写真感光体。
【００１６】
【化２１】
一般式（６）
（式中、Ａｃｔは、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基から選択される炭素−炭素二重結合を表わし、Ｒ２２，Ｒ２３は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基を表わし、炭素数１〜４のアルコキシ基を表わし、ｐ，ｑはそれぞれ独立に０〜２の整数を表わす。）
（８）前記炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質が下記一般式（７）で示されるものであることを特徴とする前記（３）又は（４）に記載の電子写真感光体。
【００１７】
【化２２】
一般式（７）
（式中、Ａｃｔは、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基から選択された炭素−炭素二重結合を表わし、Ａｒ２，Ａｒ３は置換、無置換のアリール基を表わし、
Ｂは、
【００１８】
【化２３】
を表わし、ここでＲ２４，Ｒ２５は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、置換、無置換のアリール基を表わし、ｒは１〜２の整数を表わす。）
（９）前記炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質が下記一般式（８）で示されるものであることを特徴とする前記（３）又は（４）に記載の電子写真感光体。
【００１９】
【化２４】
一般式（８）
（式中、Ａｃｔは、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基から選択された炭素−炭素二重結合を表わし、Ａｒ４は置換、無置換のアリール基を表わし、ｓ，ｕはそれぞれ独立に０〜２の整数を表わす。）
（１０）下記一般式（１）又は一般式（２）で示されるポリカーボネート共重合体、炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質、及びアクリロイルオキシ基及び／又はメタクリロイルオキシ基を有するラジカル重合性モノマーの重合反応性生成物が感光層の最上層に含有されたことを特徴とする電子写真感光体。
【００２０】
【化２５】
一般式（１）
（式中、Ｒ１，Ｒ２は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基を表わす。）
【００２１】
【化２６】
一般式（２）
（式中、Ｒ１，Ｒ２は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ３、Ｒ４は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、炭素数５〜７のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基を表わし、Ａは単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳｉＯ（ＣＨ３）２−、−ＣＲ５Ｒ６−（Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子、トリフオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル基、又は炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基である。）、又は炭素数５〜１１の１，１−シクロアルキリデン基を表わし、ａ，ｂはそれぞれ独立に０〜４の整数を表わし、ｈ，ｉは共重合ｍｏｌ％を表わし、ｈは５〜８０、ｉは２０〜９５を表わす。）
（１１）前記炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質は、上記一般式（３）乃至（８）の群から選択できることを特徴とする前記（１０）に記載の電子写真感光体。
【００２２】
（１２）電子写真感光体が前記（３）乃至（１１）のいずれか一項に記載のものである電子写真感光体を用い、少なくとも該電子写真感光体に帯電、画像露光、現像の過程を経た後、画像保持体へのトナー画像の転写、定着及び該電子写真感光体表面のクリーニングによって画像形成を行うことを特徴とする画像形成方法。
【００２３】
（１３）少なくとも、帯電手段、画像露光手段、現像手段、転写手段及び電子写真感光体を具備した画像形成装置において、該電子写真感光体が前記（３）乃至（１１）のいずれか一項に記載のものであることを特徴とする画像形成装置。
【００２４】
（１４）前記（３）乃至（１１）のいずれか一項に記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、クリーニング手段より選ばれる少なくとも１つの手段とを一体的に支持し、画像形成装置本体に着脱自在であることを特徴とする画像形成装置用プロセスカートリッジ。
【発明の効果】
【００２５】
本発明は、ジスチルベンユニットを有するポリカーボネート樹脂と炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質との架橋によって、硬度上昇、弾性率向上で機械的強度で耐摩耗性向上による高耐久感光体の提供ができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
本発明は、感光層の表面層が少なくとも下記一般式（１）で示されるジスチルベン骨格ユニットを複数もつ（樹脂状）ポリカーボネート化合物と炭素−炭素二重結合を有する重合性電荷輸送物質からの硬化反応（重合反応）生成物を含有させた高感度感光体を提供するものである。
【００２７】
【化２７】
一般式（１）
（式中、Ｒ１，Ｒ２は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、ａ，ｂは１〜４の整数を表わす。）
［ジスチルベンユニットを有するポリカーボネート、前記一般式（２）で示される共重合体］
前記一般式（１）で示されるポリカーボネートは、以下のスキームで合成される。モノマーの合成はヒドロキベンズアルデヒドとジベンジルホスフォネートとのウィティヒ反応でジスチルベンを合成した。ポリカーボネート化はピリジン中で溶液重合法でトリホスゲンを作用させ、ポリカーボネートを合成した。
【００２８】
【化２８】
（式中Ｒ１，Ｒ２は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基を表わす。）
本発明においては、ジスチルベンユニットを有するポリカーボネートとして、下記一般式（２）で示される共重合体も好ましく用いることができる。
【００２９】
【化２９】
一般式（２）
ジヒドロキシジスチルベンの単重合ポリマーは高い結晶性を示し、反応途中から析出してしまい、また溶媒に溶けなくなるが、他のビスフェノールとの共重合によって溶媒可溶にフィルム形成を行なう。共重合比率は全モル数で７０％以下、あるいは重量比率でも７０％以下が好ましい。
【００３０】
前記一般式（２）で示される共重合体を得るために用いられる二価フェノールとしては、下記一般式（９）で示されるものが挙げられる。
【００３１】
【化３０】
一般式（９）
（Ｒ３、Ｒ４は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、炭素数５〜７のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基を表わし、Ａは単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳｉＯ（ＣＨ３）２−、−ＣＲ５Ｒ６−（Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子、トリフオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル基、又は炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基である。）、炭素数５〜１１の１，１−シクロアルキリデン基を表わし、ｃ，ｄはそれぞれ独立に０〜４の整数を表わす。）
具体例としては、例えば、４，４’−ジヒドロキシビフェニル、３，３’−ジフルオロ−４，４’−ジヒドロキシビフェニル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルビフェニル、４，４’−ジヒドロキシ−２，２’−ジメチルビフェニル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジシクロヘキシルビフェニル等の４，４’−ジヒドロキシビフェニル類；ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（別名：ビスフェノールＡ）、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）イソブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ヘプタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−１−フェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニル）ブタン、ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジフルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン（別名：テトラフルオロビスフェノールＡ）、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン（別名：テトラクロロビスフェノールＡ）、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン（別名：テトラブロモビスフェノールＡ）、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシ−５−クロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１−フェニル−１，１−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン等のビス（４−ヒドロキシフェニル）アルカン類；ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エーテル等のビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル類；ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド等のビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド類；ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン等のビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン類；４，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン等が挙げられる。
【００３２】
中でも好適に用いられる二価フェノールは、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）プロパン、４，４’−ジヒドロキシビフェニル及びビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホンであり、特に２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンが好適に用いられる。
【００３３】
これら一般式（９）の二価フェノールは、上記特許文献１の特開平４−２９１３４８号公報に記載されている。
【００３４】
［炭素−炭素二重結合を有する重合性電荷輸送材（物質）］
炭素−炭素二重結合を有する重合性電荷輸送材は、下記一般式（３）、一般式（４）で示されるベンジジン化合物であり、構造式中Ａｃｔは、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基から選択された炭素−炭素二重結合を表わし、Ｒ７，Ｒ８，Ｒ３０，Ｒ３１，Ｒ３２，Ｒ３３は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基を表わし、ｅ，ｆは１≦ｅ＋ｆ≦４、ｌ，ｍは１≦ｌ＋ｍ≦４で示される。
【００３５】
【化３１】
一般式（３）
【００３６】
【化３２】
一般式（４）
アクリロイル基の導入は以下のルートで合成される。
【００３７】
【化３３】
ビニル基の導入は以下のルートで合成される。
【００３８】
【化３４】
以下に具体例を示すが、これらに限定されるものでない。
【００３９】
【化３５】
炭素−炭素二重結合を有する重合性電荷輸送材としては、下記一般式（５）で示されるアミノビフェニル化合物が挙げられる。
【００４０】
【化３６】
一般式（５）
式中、Ａｃｔは炭素−炭素二重結合を表わし、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基を表わし、Ｒ９，Ｒ１０は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基を表わし、Ａｒ１は置換、無置換のアリーレン基を表わし、ｇ，ｋ、ｏはそれぞれ独立に０〜２の整数、好ましくは１≦ｇ＋ｋ＋ｏ≦４を満たす整数を表わし、ｖは０〜１の整数を表わす。
【００４１】
以下に具体例を示すが、これらに限定されるものでない。これらは、前記特許文献２の特許第３０８１７０５号明細書に記載されている。
【００４２】
【化３７】
炭素−炭素二重結合を有する重合性電荷輸送材としては、下記一般式（６）で示されるフェニレンジアミン化合物が挙げられる。
【００４３】
【化３８】
一般式（６）
式中、Ａｃｔは炭素−炭素二重結合を表わし、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基を表わし、Ｒ１１，Ｒ１２は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基を表わし、ｐ，ｑは、それぞれ独立に０〜２の整数、好ましくは１≦ｐ＋ｑ≦４を満たす整数を表わす。
【００４４】
以下に具体例を示すが、これらに限定されるものでない。
【００４５】
【化３９】
炭素−炭素二重結合を有する重合性電荷輸送材としては、下記一般式（７）で示される化合物が挙げられる。
【００４６】
【化４０】
一般式（７）
式中、Ａｃｔは、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基から選択された炭素−炭素二重結合を表わし、Ａｒ２，Ａｒ３は置換、無置換のアリール基を表わし、Ｂは
【００４７】
【化４１】
を表わし、ここでＲ２４，Ｒ２５は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、置換、無置換のアリール基を表わす。ｒは１〜２の整数を表わす。）
以下に具体例を示すが、これらに限定されるものではない。
【００４８】
【化４２】
炭素−炭素二重結合を有する重合性電荷輸送材としては、下記一般式（８）で示されるトリフェニルアミン化合物が挙げられる。
【００４９】
【化４３】
一般式（８）
式中、Ａｃｔは、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基から選択された炭素−炭素二重結合を表わしを表わし、Ａｒ４は置換、無置換のアリール基を表わし、ｓ，ｕはそれぞれ独立に０〜２の整数、好ましくは１≦ｓ＋ｕ≦４を満たす整数を表わす。
【００５０】
以下に具体例を示すが、これらに限定されるものでない。
【００５１】
【化４４】
一般式（３）〜（８）の炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質と、一般式（１）で示されるユニットを有するポリカーボネート樹脂の配合比率は、炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質１０重量に対しポリカーボネート樹脂６〜２０重量であり、好ましくは７〜１５重量である。
【００５２】
ここで炭素数１〜５のアルキル基とは、具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ペンチル基等が挙げられる。
【００５３】
アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、ターフェニリル基、ピレニル基、フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基等が挙げられ、置換基としては炭素数１〜５の前記したアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、具体的にはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
【００５４】
本発明において好ましくは、前記一般式（１）又は一般式（２）で示されるユニットを有するポリカーボネート樹脂、炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質と共にアクリロイルオキシ基及び／又はメタクリロイルオキシ基を有するラジカル重合性モノマー（又は、これらの硬化物）で感光層を形成する。
【００５５】
アクリロイルオキシ基及び／又はメタクリロイルオキシ基化合物は２官能のモノマー、オリゴマー、ポリマーとしてはジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート等；３官能のモノマー、オリゴマー、ポリマーとしてはトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、脂肪族トリ（メタ）アクリレート等；４官能のモノマー、オリゴマー、ポリマーとしてはペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、脂肪族テトラ（メタ）アクリレート等が挙げられ；５官能以上のモノマー、オリゴマー、ポリマーとしてはジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の他、ポリエステル骨格、ウレタン骨格、フォスファゼン骨格を有する（メタ）アクリレート等が挙げられる。本発明では、上記モノマーを１種又は２種以上の混合物として使用することができる。
【００５６】
これらアクリロイルオキシ基及び／又はメタクリロイルオキシ基を有するラジカル重合性モノマーは一般式（１）又は一般式（２）で示されるユニットを有するポリカーボネート樹脂、炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質の全重量に対して２〜５０重量％添加され、好ましくは１０〜３０重量％の添加量である。
【００５７】
前記一般式（１）又は一般式（２）で示される繰返しユニットを有するポリカーボネート樹脂と炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質、あるいは適宜アクリロイルオキシ基及び／又はメタクリロイルオキシ基化合物を添加した塗工膜をラジカル重合させるには熱重合開始剤、あるいは、光重合開始剤を含有させ硬化させる。熱重合開始剤、及び光重合開始剤として以下のものが挙げられる。
【００５８】
熱重合開始剤としては、メチルエチルケトンパーオキサイド、メチルイソブチルケトンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、イソブチリルパーオキサイド、２，４−ジクロルベンゾイルパーオキサイド、ビス−３，５，５−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｐ−クロルベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−（ｔ−ブチルオキシ）−ヘキサン、１，３−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ−イソプロピル）ベンゼン、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−ｔブチルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−（ジｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３、トリス−（ｔ−ブチルパーオキシ）トリアジン、１，１−ジｔ−ブチルパーオキシ−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ジｔ−ブチルパーオキシシクロヘキサン、２，２−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、４，４−ジ−ｔ−ブチルパーオキシバレリックアッシドｎ−ブチルエステル、２，２−ビス（４，４−ｔ−ブチルパーオキシシクロヘキシル）プロパン、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ジｔ−ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、ｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサエート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ジｔ−ブチルパーオキシトリメチルアジペートなどの過酸化物、あるいはアゾビスイソブチロニトリル、アゾビスジメチルバレロニトリル、アゾビスシクロヘキシルニトリルなどのアゾ系が使用される。
【００５９】
光重合開始剤としては、ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−２−モルフォリノ（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、などのアセトフェノン系又はケタール系光重合開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、などのベンゾインエーテル系光重合開始剤、ベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、２−ベンゾイルナフタレン、４−ベンゾイルビフェニル、４−ベンゾイルフェニールエーテル、アクリル化ベンゾフェノン、１，４−ベンゾイルベンゼン、などのベンゾフェノン系光重合開始剤、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、などのチオキサントン系光重合開始剤、その他の光重合開始剤としては、エチルアントラキノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシエステル、９，１０−フェナントレン、アクリジン系化合物、トリアジン系化合物、イミダゾール系化合物、が挙げられる。また、光重合促進効果を有するものを単独又は上記光重合開始剤と併用して用いることもできる。例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸（２−ジメチルアミノ）エチル、４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、などが挙げられる。
【００６０】
これらの熱、光重合開始剤はそれぞれ処方液中に添加され、熱重合開始剤の１種又は２種以上、あるいは光重合開始剤の１種又は２種以上混合して用いてもよい。重合開始剤の含有量は、ラジカル重合性を有する総含有物１００重量部に対し、０．５〜４０重量部、好ましくは１〜２０重量部である。熱重合開始剤の半減期は８０℃以上が好ましく、５０℃以下であると塗工液の保存性が悪くなり、硬化する。
【００６１】
更に、本発明の塗工液は必要に応じて各種可塑剤（応力緩和や接着性向上の目的）、レベリング剤、ラジカル反応性を有しない低分子電荷輸送物質などの添加剤が含有できる。これらの添加剤は公知のものが使用可能であり、可塑剤としてはジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等の一般の樹脂に使用されているものが利用可能で、その使用量は塗工液の総固形分に対し２０重量％以下、好ましくは１０％以下に抑えられる。また、レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマーあるいはオリゴマーが利用でき、その使用量は塗工液の総固形分に対し３重量％以下が適当である。
【００６２】
前記一般式（１）又は一般式（２）で示されるユニットを有するポリカーボネート樹脂、炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質と適宜添加されたアクリロイルオキシ基及び／又はメタクリロイルオキシ基化合物ラジカル重合性化合物を含有する塗工液を塗布、硬化することにより形成される。かかる塗工液はラジカル重合性モノマーが液体である場合、これに他の成分を溶解して塗布することも可能であるが、必要に応じて溶媒により希釈して塗布される。このとき用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール系、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系、テトラヒドロフラン、ジオキサン、プロピルエーテルなどのエーテル系、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼンなどのハロゲン系、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、セロソルブアセテートなどのセロソルブ系などが挙げられる。これらの溶媒は単独又は２種以上を混合して用いてもよい。溶媒による希釈率は組成物の溶解性、塗工法、目的とする膜厚により変わり、任意である。塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート、リングコート法などを用いて行なうことができる。
【００６３】
本発明においては、かかる塗工液を塗布後、外部からエネルギーを与えて硬化させ、架橋表面層を形成するものであるが、このとき用いられる外部エネルギーとしては熱、光、放射線がある。熱のエネルギーを加える方法としては、空気、窒素などの気体、蒸気、あるいは各種熱媒体、赤外線、電磁波を用い塗工表面側あるいは支持体側から加熱することによって行なわれる。加熱温度は８０℃以上、１７０℃以下が好ましく、８０℃未満では反応速度が遅く、完全に反応が終了しない。１７０℃より高温では反応が不均一に進行し架橋表面層中に大きな歪みが発生する。硬化反応を均一に進めるために、５０℃未満の比較的低温で加熱後、更に１００℃以上に加温し反応を完結させる方法も有効である。光のエネルギーとしては主に紫外光に発光波長を有する高圧水銀灯やメタルハライドランプなどのＵＶ照射光源が利用できるが、ラジカル重合性含有物や光重合開始剤の吸収波長に合わせ可視光光源の選択も可能である。照射光量は５０ｍＷ／ｃｍ２以上、１０００ｍＷ／ｃｍ２以下が好ましく、５０ｍＷ／ｃｍ２未満では硬化反応に時間を要する。１０００ｍＷ／ｃｍ２より強いと反応の進行が不均一となり、架橋表面層の荒れが激しくなる。放射線のエネルギーとしては電子線を用いるものが挙げられる。これらのエネルギーの中で、反応速度制御の容易さ、装置の簡便さから熱と光のエネルギーを用いたものが有用である。
【００６４】
本発明の光硬化開始剤と熱硬化開始剤を添加した系では、光エネルギー、熱エネルギーのどちらを先に与えても良く、また高圧水銀灯などの光エネルギーを与えた時には被射物は高温になり、８０℃以上になり、それで熱重合硬化が進行する、
本発明の架橋表面層の膜厚は、架橋表面層が用いられる感光体の層構造によって異なるため、層構造とともに以降に記載する。
【００６５】
以下、本発明をその層構造に従い説明する。
＜電子写真感光体の層構造について＞
本発明に用いられる電子写真感光体を図面に基づいて説明する。
【００６６】
図１は、本発明の電子写真感光体を表わす断面図であり、導電性支持体（３１）上に、電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する感光層（３３）が設けられた単層構造の感光体である。架橋表面層が感光層全体の場合を示したのが図１−Ａであり、架橋表面層が感光層の表面部分である場合を示したのが図１−Ｂである。
【００６７】
図２は、導電性支持体（３１）上に、電荷発生機能を有する電荷発生層（３５）と、電荷輸送物機能を有する電荷輸送層（３７）とが積層された積層構造の感光体である。架橋表面層が電荷輸送層全体の場合を示すのが図２−Ａであり、架橋表面層が電荷輸送層の表面部分である場合を示すのが図２−Ｂである。
【００６８】
＜導電性支持体について＞
導電性支持体（３１）としては、体積抵抗１０１０Ω・ｃｍ以下の導電性を示すもの、例えば、アルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、金、銀、白金などの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を蒸着又はスパッタリングにより、フィルム状もしくは円筒状のプラスチック、紙に被覆したもの、あるいはアルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレスなどの板及びそれらを押し出し、引き抜きなどの工法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩などの表面処理を施した管などを使用することができる。また、特開昭５２−３６０１６号公報に開示されたエンドレスニッケルベルト、エンドレスステンレスベルトも導電性支持体（３１）として用いることができる。
【００６９】
この他、上記支持体上に導電性粉体を適当な結着樹脂に分散して塗工したものについても、本発明の導電性支持体（３１）として用いることができる。
【００７０】
この導電性粉体としては、カーボンブラック、アセチレンブラック、また、アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀などの金属粉、あるいは導電性酸化スズ、ＩＴＯなどの金属酸化物粉体などが挙げられる。また、同時に用いられる結着樹脂には、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などの熱可塑性、熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂が挙げられる。このような導電性層は、これらの導電性粉体と結着樹脂を適当な溶剤、例えば、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、メチルエチルケトン、トルエンなどに分散して塗布することにより設けることができる。
【００７１】
さらに、適当な円筒基体上にポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、テフロン（登録商標）などの素材に前記導電性粉体を含有させた熱収縮チューブによって導電性層を設けてなるものも、本発明の導電性支持体（３１）として良好に用いることができる。
【００７２】
＜感光層について＞
次に感光層について説明する。感光層は積層構造でも単層構造でもよい。
【００７３】
積層構造の場合には、感光層は電荷発生機能を有する電荷発生層と電荷輸送機能を有する電荷輸送層とから構成される。また、単層構造の場合には、感光層は電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する層である。
【００７４】
以下、積層構造の感光層及び単層構造の感光層のそれぞれについて述べる。
【００７５】
＜感光層が電荷発生層と電荷輸送層からなるもの＞
（電荷発生層）
電荷発生層（３５）は、電荷発生機能を有する電荷発生物質を主成分とする層で、必要に応じてバインダー樹脂を併用することもできる。電荷発生物質としては、無機系材料と有機系材料を用いることができる。
【００７６】
無機系材料には、結晶セレン、アモルファス・セレン、セレン−テルル、セレン−テルル−ハロゲン、セレン−ヒ素化合物や、アモルファス・シリコン等が挙げられる。アモルファス・シリコンにおいては、ダングリングボンドを水素原子、ハロゲン原子でターミネートしたものや、ホウ素原子、リン原子等をドープしたものが良好に用いられる。
【００７７】
一方、有機系材料としては、公知の材料を用いることができる。例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン等のフタロシアニン系顔料、アズレニウム塩顔料、スクエアリック酸メチン顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料、ペリレン系顔料、アントラキノン系又は多環キノン系顔料、キノンイミン系顔料、ジフェニルメタン及びトリフェニルメタン系顔料、ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料、シアニン及びアゾメチン系顔料、インジゴイド系顔料、ビスベンズイミダゾール系顔料などが挙げられる。これらの電荷発生物質は、単独又は２種以上の混合物として用いることができる。
【００７８】
電荷発生層（３５）に必要に応じて用いられるバインダー樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミドなどが挙げられる。これらのバインダー樹脂は、単独又は２種以上の混合物として用いることができる。また、電荷発生層のバインダー樹脂として上述のバインダー樹脂の他に、電荷輸送機能を有する高分子電荷輸送物質、例えば、アリールアミン骨格やベンジジン骨格やヒドラゾン骨格やカルバゾール骨格やスチルベン骨格やピラゾリン骨格等を有するポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリシロキサン、アクリル樹脂等の高分子材料やポリシラン骨格を有する高分子材料等を用いることができる。
【００７９】
前者の具体的な例としては、特開平０１−００１７２８号公報、特開平０１−００９９６４号公報、特開平０１−０１３０６１号公報、特開平０１−０１９０４９号公報、特開平０１−２４１５５９号公報、特開平０４−０１１６２７号公報、特開平０４−１７５３３７号公報、特開平０４−１８３７１９号公報、特開平０４−２２５０１４号公報、特開平０４−２３０７６７号公報、特開平０４−３２０４２０号公報、特開平０５−２３２７２７号公報、特開平０５−３１０９０４号公報、特開平０６−２３４８３６号公報、特開平０６−２３４８３７号公報、特開平０６−２３４８３８号公報、特開平０６−２３４８３９号公報、特開平０６−２３４８４０号公報、特開平０６−２３４８４１号公報、特開平０６−２３９０４９号公報、特開平０６−２３６０５０号公報、特開平０６−２３６０５１号公報、特開平０６−２９５０７７号公報、特開平０７−０５６３７４号公報、特開平０８−１７６２９３号公報、特開平０８−２０８８２０号公報、特開平０８−２１１６４０号公報、特開平０８−２５３５６８号公報、特開平０８−２６９１８３号公報、特開平０９−０６２０１９号公報、特開平０９−０４３８８３号公報、特開平０９−７１６４２号公報、特開平０９−８７３７６号公報、特開平０９−１０４７４６号公報、特開平０９−１１０９７４号公報、特開平０９−１１０９７６号公報、特開平０９−１５７３７８号公報、特開平０９−２２１５４４号公報、特開平０９−２２７６６９号公報、特開平０９−２３５３６７号公報、特開平０９−２４１３６９号公報、特開平０９−２６８２２６号公報、特開平０９−２７２７３５号公報、特開平０９−３０２０８４号公報、特開平０９−３０２０８５号公報、特開平０９−３２８５３９号公報等に記載の電荷輸送性高分子材料が挙げられる。
【００８０】
また、後者の具体例としては、例えば特開昭６３−２８５５５２号公報、特開平０５−１９４９７号公報、特開平０５−７０５９５号公報、特開平１０−７３９４４号公報等に記載のポリシリレン重合体が例示される。
【００８１】
また、電荷発生層（３５）には低分子電荷輸送物質を含有させることができる。
【００８２】
電荷発生層（３５）に併用できる低分子電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質とがある。
【００８３】
電子輸送物質としては、たとえばクロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロキサントン、２，４，８−トリニトロチオキサントン、２，６，８−トリニトロ−４Ｈ−インデノ〔１，２−ｂ〕チオフェン−４−オン、１，３，７−トリニトロジベンゾチオフェン−５，５−ジオキサイド、ジフェノキノン誘導体などの電子受容性物質が挙げられる。これらの電子輸送物質は、単独又は２種以上の混合物として用いることができる。
【００８４】
正孔輸送物質としては、以下に表わされる電子供与性物質が挙げられ、良好に用いられる。正孔輸送物質としては、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、モノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘導体、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、α−フェニルスチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ジアリールメタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、９−スチリルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジビニルベンゼン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘導体、ブタジェン誘導体、ピレン誘導体等、ビススチルベン誘導体、エナミン誘導体等、その他公知の材料が挙げられる。これらの正孔輸送物質は、単独又は２種以上の混合物として用いることができる。
【００８５】
電荷発生層（３５）を形成する方法には、真空薄膜作製法と溶液分散系からのキャスティング法とが大きく挙げられる。
【００８６】
前者の方法には、真空蒸着法、グロー放電分解法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、ＣＶＤ法等が用いられ、上述した無機系材料、有機系材料が良好に形成できる。
【００８７】
また、後述のキャスティング法によって電荷発生層を設けるには、上述した無機系もしくは有機系電荷発生物質を必要ならばバインダー樹脂と共にテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン、トルエン、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン、ジクロロエタン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、アニソール、キシレン、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等の溶媒を用いてボールミル、アトライター、サンドミル、ビーズミル等により分散し、分散液を適度に希釈して塗布することにより、形成できる。また、必要に応じて、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のレベリング剤を添加することができる。塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート、リングコート法などを用いて行なうことができる。
【００８８】
以上のようにして設けられる電荷発生層の膜厚は、０．０１〜５μｍ程度が適当であり、好ましくは０．０５〜２μｍである。
【００８９】
（電荷輸送層について）
電荷輸送層（３７）は電荷輸送機能を有する層で、本発明の一般式（１）又は一般式（２）で示されるユニットを有するポリカーボネート樹脂、炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質を有する架橋表面層は電荷輸送層として有用に用いられる。架橋表面層が電荷輸送層（３７）の全体である場合、前述の架橋表面層作製方法に記載したように電荷発生層（３５）上に塗工液を塗布、必要に応じて乾燥後、外部エネルギーにより硬化反応を開始させ、架橋表面層が形成される。このとき、架橋表面層の膜厚は、１０〜３０μｍ、好ましくは１０〜２５μｍである。１０μｍより薄いと充分な帯電電位が維持できず、３０μｍより厚いと硬化時の体積収縮により下層との剥離が生じやすくなる。
【００９０】
また、架橋表面層が電荷輸送層（３７）の表面部分に形成され、電荷輸送層（３７）が積層構造である場合、電荷輸送層の下層部分は電荷輸送機能を有する電荷輸送物質及び結着樹脂を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを電荷発生層（３５）上に塗布、乾燥することにより形成し、この上に上記本発明の一般式（１）又は一般式（２）で示されるユニットを有するポリカーボネート樹脂、炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質を含有する塗工液を塗布し、外部エネルギーにより架橋硬化させる。
【００９１】
電荷輸送物質としては、前記電荷発生層（３５）で記載した電子輸送物質、正孔輸送物質及び高分子電荷輸送物質を用いることができる。前述したように高分子電荷輸送物質を用いることにより、表面層塗工時の下層の溶解性を低減でき、とりわけ有用である。
【００９２】
結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性又は熱硬化性樹脂が挙げられる。
【００９３】
電荷輸送物質の量は結着樹脂１００重量に対し、２０〜３００重量、好ましくは４０〜１５０重量が適当である。但し、高分子電荷輸送物質を用いる場合は、単独でも結着樹脂との併用も可能である。
【００９４】
電荷輸送層の下層部分の塗工に用いられる溶媒としては前記電荷発生層と同様なものが使用できるが、電荷輸送物質及び結着樹脂を良好に溶解するものが適している。これらの溶剤は単独で使用しても２種以上混合して使用しても良い。また、電荷輸送層の下層部分の形成には電荷発生層（３５）と同様な塗工法が可能である。
【００９５】
また、必要により可塑剤、レベリング剤を添加することもできる。
【００９６】
電荷輸送層の下層部分に併用できる可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等の一般の樹脂の可塑剤として使用されているものがそのまま使用でき、その使用量は、結着樹脂１００重量部に対して０〜３０重量部程度が適当である。
【００９７】
電荷輸送層の下層部分に併用できるレベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマーあるいはオリゴマーが使用され、その使用量は、結着樹脂１００重量部に対して０〜１重量部程度が適当である。
【００９８】
電荷輸送層の下層部分の膜厚は、５〜４０μｍ程度が適当であり、好ましくは１０〜３０μｍ程度が適当である。
【００９９】
架橋表面層が電荷輸送層（３７）の表面部分である場合、前述の架橋表面層作製方法に記載したように、かかる電荷輸送層の下層部分上に本発明の一般式（１）又は一般式（２）で示されるユニットを有するポリカーボネート樹脂、炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質を含有する塗工液を塗布、必要に応じて乾燥後、熱や光の外部エネルギーにより硬化反応を開始させ、架橋表面層が形成される。このとき、架橋表面層の膜厚は、１〜２０μｍ、好ましくは２〜１０μｍである。１μｍより薄いと膜厚ムラによって耐久性がバラツキ、２０μｍより厚いと電荷輸送層全体の膜厚が厚くなり電荷の拡散から画像の再現性が低下する。
【０１００】
＜感光層が単層のもの＞
単層構造の感光層は電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する層で、本発明の電荷輸送性構造を有する架橋表面層は電荷発生機能を有する電荷発生物質を含有させることにより、単層構造の感光層として有用に用いられる。上記の電荷発生層のキャスティング形成方法に記載したように、電荷発生物質を本発明の一般式（１）又は一般式（２）で示されるユニットを持つポリカーボネート樹脂、炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質を含有する塗工液と共に分散し、導電性支持体（３１）上に塗布、必要に応じて乾燥後、光と熱エネルギーにより硬化反応を開始させ、架橋表面層が形成される。なお、電荷発生物質はあらかじめ溶媒と共に分散した液を本架橋表面層用塗工液に加えてもよい。このとき、架橋表面層の膜厚は、１０〜３０μｍ、好ましくは１０〜２５μｍである。１０μｍより薄いと充分な帯電電位が維持できず、３０μｍより厚いと硬化時の体積収縮により導電性基体又は下引き層との剥離が生じやすくなる。
【０１０１】
また、架橋表面層が単層構造の感光層の表面部分である場合、感光層の下層部分は電荷発生機能を有する電荷発生物質と電荷輸送機能を有する電荷輸送物質と結着樹脂を適当な溶媒に溶解ないし分散し、これを塗布、乾燥することによって形成できる。また、必要により可塑剤やレベリング剤等を添加することもできる。電荷発生物質の分散方法、それぞれ電荷発生物質、電荷輸送物質、可塑剤、レベリング剤は前記電荷発生層（３５）、電荷輸送層（３７）において既に述べたものと同様なものが使用できる。結着樹脂としては、先に電荷輸送層（３７）の項で挙げた結着樹脂のほかに、電荷発生層（３５）で挙げたバインダー樹脂を混合して用いてもよい。また、先に挙げた高分子電荷輸送物質も使用可能で、架橋表面層への下層感光層組成物の混入を低減できる点で有用である。かかる感光層の下層部分の膜厚は、５〜３０μｍ程度が適当であり、好ましくは１０〜２５μｍ程度が適当である。
【０１０２】
架橋表面層が単層構造の感光層の表面部分である場合、前述のようにかかる感光層の下層部分上に本発明の一般式（１）又は一般式（２）で示されるユニットを持つポリカーボネート樹脂、炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質と電荷発生物質を含有する塗工液を塗布、必要に応じて乾燥後、熱と光の外部エネルギーにより硬化し、架橋表面層を形成する。このとき、架橋表面層の膜厚は、１〜２０μｍ、好ましくは２〜１０μｍである。１μｍより薄いと膜厚ムラによって耐久性のバラツキが生じる。
【０１０３】
単層構造の感光層中に含有される電荷発生物質は感光層全量に対し１〜３０重量％が好ましく、感光層の下層部分に含有される結着樹脂は全量の２０〜８０重量％、電荷輸送物質は１０〜７０重量部が良好に用いられる。
【０１０４】
＜中間層について＞
本発明の感光体においては、架橋表面層が感光層の表面部分となる場合、架橋表面層と下層感光層の間に中間層を設けることが可能である。この中間層はラジカル重合性組成物を含有する架橋表面層中に下部感光層組成物の混入により生ずる、硬化反応の阻害や架橋表面層の凹凸を防止する。また、下層の感光層と表面架橋層の接着性を向上させることも可能である。
【０１０５】
中間層には、一般にバインダー樹脂を主成分として用いる。これら樹脂としては、ポリアミド、アルコール可溶性ナイロン、水溶性ポリビニルブチラール、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコールなどが挙げられる。中間層の形成法としては、前述のごとく一般に用いられる塗工法が採用される。なお、中間層の厚さは０．０５〜２μｍ程度が適当である。
【０１０６】
＜下引き層について＞
本発明の感光体においては、導電性支持体（３１）と感光層との間に下引き層を設けることができる。下引き層は一般には樹脂を主成分とするが、これらの樹脂はその上に感光層を溶剤で塗布することを考えると、一般の有機溶剤に対して耐溶剤性の高い樹脂であることが望ましい。このような樹脂としては、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する硬化型樹脂等が挙げられる。また、下引き層にはモアレ防止、残留電位の低減等のために酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で例示できる金属酸化物の微粉末顔料を加えてもよい。
【０１０７】
これらの下引き層は、前述の感光層の如く適当な溶媒及び塗工法を用いて形成することができる。更に本発明の下引き層として、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を使用することもできる。この他、本発明の下引き層には、Ａｌ２Ｏ３を陽極酸化にて設けたものや、ポリパラキシリレン（パリレン）等の有機物やＳｉＯ２、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２、ＩＴＯ、ＣｅＯ２等の無機物を真空薄膜作成法にて設けたものも良好に使用できる。このほかにも公知のものを用いることができる。下引き層の膜厚は０〜５μｍが適当である。
【０１０８】
＜各層への酸化防止剤の添加について＞
また、本発明においては、耐環境性の改善のため、とりわけ、感度低下、残留電位の上昇を防止する目的で、表面架橋層、感光層、電荷発生層、電荷輸送層、下引き層、中間層等の各層に酸化防止剤を添加することができる。
【０１０９】
本発明に用いることができる酸化防止剤として、下記のものが挙げられる。
（フェノール系化合物）
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス−［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、ビス［３，３’−ビス（４’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアッシド］クリコ−ルエステル、トコフェロール類など。
【０１１０】
（パラフェニレンジアミン類）
Ｎ−フェニル−Ｎ’−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミンなど。
【０１１１】
（ハイドロキノン類）
２，５−ジ−ｔ−オクチルハイドロキノン、２，６−ジドデシルハイドロキノン、２−ドデシルハイドロキノン、２−ドデシル−５−クロロハイドロキノン、２−ｔ−オクチル−５−メチルハイドロキノン、２−（２−オクタデセニル）−５−メチルハイドロキノンなど。
【０１１２】
（有機硫黄化合物類）
ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジテトラデシル−３，３’−チオジプロピオネートなど。
【０１１３】
（有機燐化合物類）
トリフェニルホスフィン、トリ（ノニルフェニル）ホスフィン、トリ（ジノニルフェニル）ホスフィン、トリクレジルホスフィン、トリ（２，４−ジブチルフェノキシ）ホスフィンなど。
【０１１４】
これら化合物は、ゴム、プラスチック、油脂類などの酸化防止剤として知られており、市販品を容易に入手できる。
【０１１５】
本発明における酸化防止剤の添加量は、添加する層の総重量に対して０．０１〜１０重量％である。
【０１１６】
＜画像形成方法及び装置について＞
次に図面に基づいて本発明の画像形成方法ならびに画像形成装置を詳しく説明する。
【０１１７】
本発明の画像形成方法ならびに画像形成装置とは、本発明は平滑な電荷輸送性表面架橋層を有する感光体を用い、例えば少なくとも感光体に帯電、画像露光、現像の過程を経た後、画像保持体（転写紙）へのトナー画像の転写、定着及び感光体表面のクリーニングというプロセスよりなる画像形成方法ならびに画像形成装置である。
【０１１８】
場合により、静電潜像を直接転写体に転写し現像する画像形成方法等では、感光体に配した上記プロセスを必ずしも有するものではない。
【０１１９】
図３は、画像形成装置の一例を示す概略図である。この例の画像形成装置においては、感光体（１）の周囲に、帯電手段の１例としての帯電チャージャ（３）、イレーサ（４）、画像露光部（５）、現像ユニット（６）、転写前チャージャ（７）、図示してない転写紙トレーからレジストローラ（８）により搬送された転写紙（９）にトナー像を転写する転写チャージャ（１０）と一体に形成された分離チャージャ（１１）、分離爪（１２）、クリーニング前チャージャ（１３）、クリーニング用ファーブラシ（１４）、クリーニングブレード（１５）、除電ランプ（２）が配置されている。感光体（１）を平均的に帯電させる手段として、帯電チャージャ（３）が用いられる。この帯電手段としては、コロトロンデバイス、スコロトロンデバイス、固体放電素子、針電極デバイス、ローラ帯電デバイス、導電性ブラシデバイス等が用いられ、公知の方式が使用可能である。
【０１２０】
特に本発明の構成は、接触帯電方式又は非接触近接配置帯電方式のような帯電手段からの近接放電により感光体組成物が分解する様な帯電手段を用いた場合に有効である。ここで言う接触帯電方式とは、感光体に帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電ブレード等が直接接触する帯電方式である。一方の近接帯電方式とは、例えば帯電ローラが感光体表面と帯電手段との間に２００μｍ以下の空隙を有するように非接触状態で近接配置したタイプのものである。この空隙は、大きすぎた場合には帯電が不安定になりやすく、また、小さすぎた場合には、感光体に残留したトナーが存在する場合に、帯電部材表面が汚染されてしまう可能性がある。したがって、空隙は１０〜２００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍの範囲が適当である。
【０１２１】
次に、均一に帯電された感光体（１）上に静電潜像を形成するために画像露光部（５）が用いられる。この光源には、蛍光灯、タングステンランプ、ハロゲンランプ、水銀灯、ナトリウム灯、発光ダイオード（ＬＥＤ）、半導体レーザー（ＬＤ）、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）などの発光物全般を用いることができる。そして、所望の波長域の光のみを照射するために、シャープカットフィルター、バンドパスフィルター、近赤外カットフィルター、ダイクロイックフィルター、干渉フィルター、色温度変換フィルターなどの各種フィルターを用いることもできる。
【０１２２】
次に、感光体（１）上に形成された静電潜像を可視化するために現像ユニット（６）が用いられる。現像方式としては、乾式トナーを用いた一成分現像法、二成分現像法、湿式トナーを用いた湿式現像法がある。感光体に正（負）帯電を施し、画像露光を行なうと、感光体表面上には正（負）の静電潜像が形成される。これを負（正）極性のトナー（検電微粒子）で現像すれば、ポジ画像が得られるし、また正（負）極性のトナーで現像すれば、ネガ画像が得られる。
【０１２３】
次に、感光体上で可視化されたトナー像を転写体（９）上に転写するために転写チャージャ（１０）が用いられる。また、転写をより良好に行なうために転写前チャージャ（７）を用いてもよい。これらの転写手段としては、転写チャージャ、バイアスローラーを用いる静電転写方式、粘着転写法、圧力転写法等の機械転写方式、磁気転写方式が利用可能である。静電転写方式としては、前記帯電手段が利用可能である。
【０１２４】
次に、転写体（９）を感光体（１）より分離する手段として分離チャージャ（１１）、分離爪（１２）が用いられる。その他分離手段としては、静電吸着誘導分離、側端ベルト分離、先端グリップ搬送、曲率分離等が用いられる。分離チャージャ（１１）としては、前記帯電手段が利用可能である。
【０１２５】
次に、転写後感光体上に残されたトナーをクリーニングするためにファーブラシ（１４）、クリーニングブレード（１５）が用いられる。また、クリーニングをより効率的に行なうためにクリーニング前チャージャ（１３）を用いてもよい。その他クリーニング手段としては、ウェブ方式、マグネットブラシ方式等があるが、それぞれ単独又は複数の方式を一緒に用いてもよい。
【０１２６】
次に、必要に応じて感光体上の潜像を取り除く目的で除電手段が用いられる。除電手段としては除電ランプ（２）、除電チャージャが用いられ、それぞれ前記露光光源、帯電手段が利用できる。
【０１２７】
その他、感光体に近接していない原稿読み取り、給紙、定着、排紙等のプロセスは公知のものが使用できる。
【０１２８】
本発明は、このような画像形成手段に本発明に係る電子写真感光体を用いる画像形成方法及び画像形成装置である。
【０１２９】
この画像形成手段は、複写装置、ファクシミリ、プリンタ内に固定して組み込まれていてもよいが、プロセスカートリッジの形態でそれら装置内に組み込まれ、着脱自在としたものであってもよい。プロセスカートリッジの一例を図４に示す。
【０１３０】
画像形成装置用プロセスカートリッジとは、感光体（１０１）を内蔵し、他に帯電手段（１０２）、現像手段（１０４）、転写手段（１０６）、クリーニング手段（１０７）、除電手段（図示せず）の少なくとも一つを具備し、画像形成装置本体に着脱可能とした装置（部品）である。
【０１３１】
図４に例示される装置による画像形成プロセスについて示すと、感光体（１０１）は、矢印方向に回転しながら、帯電手段（１０２）による帯電、露光手段（１０３）による露光により、その表面に露光像に対応する静電潜像が形成され、この静電潜像は、現像手段（１０４）でトナー現像され、該トナー現像は転写手段（１０６）により、転写体（１０５）に転写され、プリントアウトされる。次いで、像転写後の感光体表面は、クリーニング手段（１０７）によりクリーニングされ、さらに除電手段（図示せず）により除電されて、再び以上の操作を繰り返すものである。
【０１３２】
本発明は、平滑な電荷輸送性表面架橋層を有する感光体と帯電、現像、転写、クリーニング、除電手段の少なくとも一つを一体化した画像形成装置用プロセスカートリッジを提供するものである。
【０１３３】
以上の説明から明らかなように、本発明の電子写真感光体は電子写真複写機に利用するのみならず、レーザービームプリンター、ＣＲＴプリンター、ＬＥＤプリンター、液晶プリンター及びレーザー製版等の電子写真応用分野にも広く用いることができるものである。
【実施例】
【０１３４】
（実施例１）
１、４−ビス（３−ヒドロキシスチリル）ベンゼンの合成
３−ヒドロキシベンズアルデヒド ２５ｇ（０．２０４７ｍｏｌ）、１，４−キシリレン−ビス（ホスホニックアッシドジエチルエステル）３４．８ｇ（０．０９２ｍｏｌ）、ＤＭＦ ３００ｍｌを四径フラスコにとり、室温下攪拌溶解させる。これに４０℃を超えない温度範囲でカリウムタシャリーブチルオキシドを１時間３０分で加えた、その後５時間反応し、反応物を水４００ｍｌ中に注ぎ、酢酸で酸性に析出物をロ別した。ロ過物を５００ｍｌの水で３回洗浄後、乾燥し、エタノール：酢酸エチル＝３００：１００ｖｏｌで熱ろ過し再結晶した。黄色 ２０．９ｇ ｍ．ｐ．：２７９〜２８１℃ ＬＣＭＳ ｍ／ｚ ３１４
Ｉ．Ｒ．：図５
ポリカーボネートの合成
上記ジスチリル体２．２２ｇ（７．０６ｍｍｏｌ）、ビスフェノールＡ １．６２ｇ（７．１ｍｍｏｌ）、脱水ピリジン１００ｍｌを四径フラスコにとり、氷−水浴で５℃に冷却し、冷却後、氷−水浴を取り除き、トリホスゲン２．６３ｇ（８．８６ｍｍｏｌ）の塩化メチレン３０ｍｌ溶液を強攪拌下２０分で滴下した、黄色物が析出しエマルジョン状態になり、２６℃まで発熱した、その後２時間反応し、塩化メチレン２００ｍｌ添加し、有機層を分離した、有機層は透明にはならず、７％塩酸水溶液１５０ｍｌで３回洗浄、２％塩酸水溶液で２回洗浄、イオン交換水１５０ｍｌで５回洗浄した、有機層は透明になった。有機層をメタノール１．５Ｌに注ぎ析出させポリカーボネートを３ｇ得た。
ＧＰＣでポリスチレン換算分子量はＭｎ：４４００，Ｍｗ：１０５００であった。これによって作成されたポリカーボネート共重合体を合成例１とする。
Ｉ．Ｒ．：図６
また、同様にして実施例２、３を下記表１のモノマーを用いて共重合した。この実施例２、３によって作成されたポリカーボネート共重合体をそれぞれ合成例２、３とする。
【０１３５】
【表１】
＜実施例４＞
φ３０ｍｍのアルミニウムシリンダー上に、下記組成の下引き層用塗工液、電荷発生層用塗工液、電荷輸送層用塗工液を順次、塗布、乾燥することにより、３．５μｍの下引き層、０．２μｍの電荷発生層、２２μｍの電荷輸送層を形成した。メタルハライドランプ：１６０Ｗ／ｃｍ、照射距離：１２０ｍｍ、照射強度：５００ｍＷ／ｃｍ２、照射時間：３０秒の条件で光照射を行ない、その後１５０℃で３０分間乾燥し本発明の電子写真感光体を得た。
〔下引き層用塗工液〕
アルキッド樹脂 ６部
（ベッコゾール１３０７−６０−ＥＬ、大日本インキ化学工業製）
メラミン樹脂 ４部
（スーパーベッカミン Ｇ−８２１−６０、大日本インキ化学工業製）
酸化チタン ４０部
メチルエチルケトン ５０部
〔電荷発生層用塗工液〕
下記構造式（Ｉ）のビスアゾ顔料 ２．５部
ポリビニルブチラール（ＸＹＨＬ、ＵＣＣ製） ０．５部
シクロヘキサノン ２００部
メチルエチルケトン ８０部
【０１３６】
【化４５】
構造式I
〔電荷輸送層用塗工液〕
合成例１のポリカーボネート共重合体 ２部
炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質Ｎｏ．１ ２部
トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ） ０．５部
光重合開始剤 ０．２部
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）
テトラヒドロフラン（ＴＨＦ） １６部
１％シリコーンオイル（ＫＦ５０ 信越化学社製）ＴＨＦ溶液 ０．１部
＜実施例５〜８＞
実施例４と同様にして表２の電荷輸送層用塗工液のポリカーボネート樹脂と電荷輸送物質に変えて本発明の感光体を作成した。
【０１３７】
【表２】
＜比較例１＞
実施例４と同様に下引き層、電荷発生層を設けた上に下記電荷輸送層２２μｍを設けた。
〔電荷輸送層用塗工液〕
ビスフェノールＺポリカーボネート １０部
（パンライトＴＳ−２０５０、帝人化成製）
下記構造式（II）の低分子電荷輸送物質（Ｄ−１） ７部
テトラヒドロフラン １００部
１％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液 ０．２部
（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業製）
【０１３８】
【化４６】
構造式II
＜比較例２＞
実施例４と同様に下引き層、電荷発生層を設けた上に下記電荷輸送層２２μｍを設けた。
〔電荷輸送層用塗工液〕
合成例１のポリカーボネート共重合体 ２部
下記構造式（II）の低分子電荷輸送物質（Ｄ−１） １．４部
テトラヒドロフラン １４部
１％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液 ０．１部
（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業製）
【０１３９】
【化４７】
構造式II
＜評価＞
硬度計測にはフィシャー・インストルメンツ社製、微小硬度計 Ｈ−１００を用いて、ビッカース圧子９．８ｍＮの力で３０秒で押し込み、５秒保持し、９．８ｍＮの力で３０秒間で抜き、マルテンス硬度、変形回復率を求めた。結果を以下に示す。
【０１４０】
【表３】
実施例４〜８、比較例１、２の電子写真感光体について、Ａ４サイズ１万枚の通紙試験を実施した。まず、前記感光体を電子写真装置用プロセスカートリッジに装着し、画像露光光源として６５５ｎｍの半導体レーザーを用いたリコー製ｉｍａｇｉｏ Ｎｅｏ ２７０改造機にて初期暗部電位を−７００Ｖに設定した。その後通紙試験を開始し、１万枚複写後の膜厚減少量の測定を行なった。結果を以下に示す。なお、初期から画像不良が著しい感光体は通紙試験を中止した。
【０１４１】
膜厚計測は、フィシャー・インストルメンツ社製 渦電流膜厚計フィシャースコープＭＭＳで計測した。
【０１４２】
【表４】
以上のように本発明の感光体は機械的強度が高く、耐摩耗性が高いものであり、高耐久性が高い。
【０１４３】
＜実施例９＞
φ１００ｍｍアルミニウムシリンダー上に、下記組成の中間層用塗工液、電荷発生層用塗工液、電荷輸送層用塗工液を順次、塗布乾燥することにより、３．５μｍの中間層、０．２μｍの電荷発生層、２０μｍの電荷輸送層を形成した。更に、その上に架橋表面層用塗工液をスプレー法で塗工して、光硬化装置で光硬化させ、その後１５０℃で３０分間乾燥させ７μ硬化電荷輸送層を設けた。
〔中間層用塗工液〕
下記組成をボールミルで２４時間分散して調整した。
【０１４４】
アルキッド樹脂 ６部
（ベッコゾール １３０７−６０−ＥＬ，大日本インキ化学工業製）
メラミン樹脂 ４部
（スーパーベッカミン Ｇ−８２１−６０，大日本インキ化学工業製）
酸化チタン（ＣＲＥＬ 石原産業社製） ４０部
メチルエチルケトン ２００部
〔電荷発生層用塗工液〕
下記組成をボールミルで２４時間分散して調整した。
【０１４５】
オキソチタニウムフタロシアニン顔料 ２部
ポリビニルブチラール（ＵＣＣ：ＸＹＨＬ） ０．２部
テトラヒドロフラン ５０部
〔電荷輸送層用塗工液〕
下記組成を溶解し調整した。
【０１４６】
ポリスチレン（ＭＷ１Ｃ 東洋スチレン社製） １２部
下記構造式（Ｖ）の低分子電荷輸送物質 １２部
【０１４７】
【化４８】
構造式V
ＴＨＦ ９０部
１％シリコーンオイル（ＫＦ５０信越シリコーン社製）ジクロルメタン溶液
１部
〔架橋表面層用塗工液〕
合成例２のポリカーボネート共重合体 １部
Ｎｏ．２０の化合物 １部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート
（ＳＲ−２９５、日本化薬製） ０．５部
ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート
（ＳＲ−３５５、日本化薬製） ０．２５部
光重合開始剤 ０．２部
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）
テトラヒドロフラン ３０部
シクロヘキサノン １０部
＜実施例１０＞
実施例９と同様にして下引き層、電荷発生層、電荷輸送層を設けた上に下記表面架橋層を実施例９と同様に設けた。
〔架橋表面層用塗工液〕
合成例１のポリカーボネート共重合体 １部
Ｎｏ．２４の化合物 １部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート
（ＳＲ−２９５、日本化薬製） ０．５部
ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート
（ＳＲ−３５５、日本化薬製） ０．２５部
光重合開始剤 ０．２部
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）
テトラヒドロフラン ３０部
シクロヘキサノン １０部
＜比較例３＞
実施例９と同様に中間層、電荷発生層を設けた上に電荷輸送層バインダー樹脂をＺポリカ樹脂（ＴＳ２０５０ 帝人化成社製）に変え、膜厚を２７μｍを順次、塗布乾燥することにより感光体を作成した。
【０１４８】
実施例６、７、比較例３の感光体を図３に示した装置、リコー社製イマジオ Ｎｅｏ１０５０Ｐｒｏに装着して１００万枚の通紙試験を行なった。
【０１４９】
【表５】
本来比較例は架橋表面層がないものではあるが、使用した電荷輸送層バインダー樹脂がポリスチレン表層であると機械的強度がなく耐久試験には適さないため強靱なＺポリカ樹脂とした。
【０１５０】
＜実施例１１＞
（分散液１）
１５ｃｍボールミルポットに下記電荷発生物質、溶剤を仕込み、１０φジルコニアメディアを用いて４８時間ボールミルし、その後シクロヘキサノン５００部を加えミルベースを調整した。
【０１５１】
下記構造式の電荷発生物質 ２２部
【０１５２】
【化４９】
シクロヘキサノン ４００部
（塗工液１）
テトラヒドロフラン（ＴＨＦ） ６６部
合成例２のポリカーボネート共重合体 ８部
Ｎｏ．２４化合物 ４部
ポリエチレングリコール ０．２部
（イオネットＭＣ１４００ 三洋化成社）
シリコーンオイル（ＫＦ５０ 信越化学社製） ０．０１部
分散液１を１２部、塗工液１を２０部、混合攪拌して塗工液２を調整した。
【０１５３】
φ３０ｍｍアルミニウムシリンダー上にポリアミド樹脂（ＣＭ８０００ 東レ社製）１０部、メタノール２２０部、ｎ−ブタノール１００部の溶液を５ｍｍ／ｓｅｃで浸漬塗工し、１００℃で１０分間乾燥して０．３μｍの下引き層を設けた。この上に上記塗工液２を塗工して２０μｍの単層感光体を設けた。これをメタルハライドランプ：１６０Ｗ／ｃｍ、照射距離：１２０ｍｍ、照射強度：５００ｍＷ／ｃｍ２、照射時間：６０秒の条件で光照射を行ない、その後１５０℃で３０分間乾燥し本発明の電子写真感光体を得た。
【０１５４】
＜比較例４＞
（塗工液３）
テトラヒドロフラン（ＴＨＦ） ６６部
ポリカーボネート樹脂（Ｃ１４００ 帝人化成社製） ８部
下記構造式（II）の低分子電荷輸送物質（Ｄ−１） ４部
【０１５５】
【化５０】
構造式II
ポリエチレングリコール
（イオネットＭＣ１４００、三洋化成社） ０．２部
シリコーンオイル（ＫＦ５０ 信越化学社製） ０．０１部
分散液１を１２部、塗工液３を２０部、混合攪拌して塗工液４を調整した。
【０１５６】
φ３０ｍｍアルミニウムシリンダー上にポリアミド樹脂（ＣＭ８０００ 東レ社製）１０部、メタノール２２０部、ｎ−ブタノール１００部の溶液を浸漬塗工し、１００℃で１０分間乾燥して０．３μｍの下引き層を設けた。この上に塗工液４を塗工して２０μｍの比較感光体を作成した。
【０１５７】
実施例１１と比較例４の感光体を電子写真装置用プロセスカートリッジに装着し、画像露光光源として６５５ｎｍの半導体レーザーを用い、帯電極性を正帯電としたリコー製ｉｍａｇｉｏ Ｎｅｏ ２７０改造機にて初期暗部電位を７００Ｖに設定した。その後通紙試験を開始し、１０００枚複写試験を行なった。
【０１５８】
実施例１１は鮮明な画像であったが、比較例４の感光体は白スジ、黒スジの発生が確認された。これは表面硬度違いと思われ、実施例感光体は架橋したことによって硬度上昇に伴い耐傷性が向上し鮮明な画像が得られたと考えられる。
【０１５９】
以上、本発明の好ましい実施例について詳述したが、本発明はかかる特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の趣旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１６０】
【図１】本発明の電子写真感光体の断面図の一例である。
【図２】本発明の電子写真感光体の断面図の他の例である。
【図３】本発明の画像形成装置の一例を示す概略図である。
【図４】本発明の画像形成装置用プロセスカートリッジの一例を示す概略図である。
【図５】本発明のジスチリルモノマーの赤外線スペクトルを示すグラフである。
【図６】本発明のジスチリルポリカーボネートの赤外線スペクトルを示すグラフである。
【符号の説明】
【０１６１】
１ 感光体
２ 除電ランプ
３ 帯電チャージャ
４ イレーサ
５ 画像露光部
６ 現像ユニット
７ 転写前チャージャ
８ レジストローラ
９ 転写紙
１０ 転写チャージャ
１１ 分離チャージャ
１２ 分離爪
１３ クリーニング前チャージャ
１４ ファーブラシ
１５ クリーニングブレード
３１ 導電性支持体
３３ 感光層
３５ 電荷発生層
３７ 電荷輸送層
３９ 保護層
１０１ 感光ドラム
１０２ 帯電装置
１０３ 露光
１０４ 現像装置
１０５ 転写体
１０６ 転写装置
１０７ クリーニングブレード
【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐摩耗性が高く、平滑な表面性を有し、且つ電気的特性が良好な感光層を用いることにより、高耐久性を有し、且つ長期間にわたり高画質化を実現した電子写真感光体に関する。また、それらの長寿命、高性能感光体を使用した画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機感光体（ＯＰＣ）は良好な性能、様々な利点から、無機感光体に換わり複写機、ファクシミリ、レーザープリンタ及びこれらの複合機に多く用いられている。この理由としては、例えば（１）光吸収波長域の広さ及び吸収量の大きさ等の光学特性、（２）高感度、安定な帯電特性等の電気的特性、（３）材料の選択範囲の広さ、（４）製造の容易さ、（５）低コスト、（６）無毒性、等が挙げられる。
【０００３】
一方、最近画像形成装置の小型化から感光体の小径化が進み、機械の高速化やメンテナンスフリーの動きも加わり感光体の高耐久化が切望されるようになってきた。この観点からみると、有機感光体は、表面層が低分子電荷輸送材料と不活性高分子を主成分としているため一般に柔らかく、電子写真プロセスにおいて繰り返し使用された場合、現像システムやクリーニングシステムによる機械的な負荷により摩耗が発生しやすいという欠点を有している。加えて高画質化の要求からトナー粒子の小粒径化に伴いクリーニング性を向上させる目的でクリーニングブレードのゴム硬度の上昇と当接圧力の上昇を余儀なくされ、このことも感光体の摩耗を促進する要因となっている。この様な感光体の摩耗は、感度の劣化、帯電性の低下などの電気的特性を劣化させ、画像濃度低下、地肌汚れ等の異常画像の原因となる。また摩耗が局所的に発生した傷は、クリーニング不良によるスジ状汚れ画像をもたらす。現状では感光体の寿命はこの摩耗や傷が律速となり、交換に至っている。
【０００４】
したがって、有機感光体の高耐久化においては前述の摩耗量を低減することが不可欠であり、これが当分野でもっとも解決が迫られている課題である。
【０００５】
感光層の耐摩耗性を改良する技術としては、２，２’−ジアリルビスフェノールＡ型ポリカーボネート樹脂の硬化が知られている（例えば、特許文献１参照）。また、２，２’−ジアリルビスフェノール型ポリカーボネート樹脂とアクリル基置換電荷輸送物質との硬化電荷輸送層が提案（例えば、特許文献２参照）されているが、これらは側鎖からのアリル基の反応で硬度等耐摩耗性は十二分とはいえない。また、スチルベンカーボネート樹脂が開示（例えば、特許文献３参照）されているが、これは結晶性が高く、分子鎖の二次構造性が高く靱性が高い。
【特許文献１】特開平４−２９１３４８号公報
【特許文献２】特許第３０８１７０５号公報
【特許文献３】特表平１０−５０８０６４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の課題は、耐摩耗性が高く、耐傷性が高く、且つ電気的特性が良好であるほか、特に架橋表面層の全層にわたり均一な硬化による膜の平滑性に優れ、クリアな架橋表面層の感光層を形成することにより、クリーニング特性が良好で、高耐久性を有し、かつ長期間にわたり高画質化を実現した電子写真感光体を提供することであり、また、それらの長寿命、高性能感光体を使用した画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題は、以下の本発明により解決される。
【０００８】
（１）下記一般式（１）で示されるジスチルベンポリカーボネートユニットを複数含むポリカーボネート。
【０００９】
【化１４】
一般式（１）
（式中、Ｒ１，Ｒ２は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基を表わす。）
（２）下記一般式（２）で示されるジスチルベンカーボネートユニットとビスフェノール誘導体型カーボネートユニットとを複数含むポリカーボネート共重合体。
【００１０】
【化１５】
一般式（２）
（式中、Ｒ１，Ｒ２は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ３、Ｒ４は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、炭素数５〜７のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基を表わし、Ａは単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳｉＯ（ＣＨ３）２−、−ＣＲ５Ｒ６−（Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子、トリフオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル基、又は炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基である。）、炭素数５〜１１の１，１−シクロアルキリデン基を表わし、ａ，ｂはそれぞれ独立に０〜４の整数を表わし、ｈ，ｉは共重合ｍｏｌ％を表わし、ｈは５〜８０、ｉは２０〜９５を表わす。）
（３）下記一般式（１）で示されるジスチルベンポリカーボネートユニットを複数含むポリカーボネートと、炭素−炭素二重結合を有する重合性電荷輸送物質とからの重合反応生成物を含む層を有することを特徴とする電子写真感光体。
【００１１】
【化１６】
一般式（１）
（式中、Ｒ１，Ｒ２は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基を表わす。）
（４）下記一般式（２）で示されるジスチルベンカーボネートユニットとビスフェノール誘導体型カーボネートユニットとを複数含むポリカーボネート共重合体と、前記炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質とからの硬化させられた最上層を有することを特徴とする電子写真感光体。
【００１２】
【化１７】
一般式（２）
（式中、Ｒ１，Ｒ２は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ３、Ｒ４は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、炭素数５〜７のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基を表わし、Ａは単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳｉＯ（ＣＨ３）２−、−ＣＲ５Ｒ６−（Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子、トリフオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル基、又は炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基である。）、炭素数５〜１１の１，１−シクロアルキリデン基を表わし、ａ，ｂはそれぞれ独立に０〜４の整数を表わし、ｈ，ｉは共重合ｍｏｌ％を表わし、ｈは５〜８０、ｉは２０〜９５を表わす。）
（５）前記炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質が下記一般式（３）、一般式（４）で示されるものであることを特徴とする前記（３）又は（４）に記載の電子写真感光体。
【００１３】
【化１８】
一般式（３）
【００１４】
【化１９】
一般式（４）
（式中、Ａｃｔは、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基から選択される炭素−炭素二重結合を表わし、Ｒ７，Ｒ８，Ｒ９，Ｒ１０，Ｒ１１，Ｒ１２は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基を表わし、ｃ，ｄは１≦ｃ＋ｄ≦４を満たす整数、ｅ，ｆは１≦ｅ＋ｆ≦４を満たす整数である。）
（６）前記炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質が下記一般式（５）で示されるものであることを特徴とする前記（３）又は（４）に記載の電子写真感光体。
【００１５】
【化２０】
一般式（５）
（式中、Ａｃｔは炭素−炭素二重結合を表わし、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基を表わし、Ｒ２０，Ｒ２１は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基を表わし、Ａｒ１は置換、無置換のアリーレン基を表わし、ｇ，ｋ，ｏはそれぞれ独立に０〜２の整数を表わし、ｖは０又は１を表わす。）
（７）前記炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質が下記一般式（６）で示されるものであることを特徴とする前記（３）又は（４）に記載の電子写真感光体。
【００１６】
【化２１】
一般式（６）
（式中、Ａｃｔは、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基から選択される炭素−炭素二重結合を表わし、Ｒ２２，Ｒ２３は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基を表わし、炭素数１〜４のアルコキシ基を表わし、ｐ，ｑはそれぞれ独立に０〜２の整数を表わす。）
（８）前記炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質が下記一般式（７）で示されるものであることを特徴とする前記（３）又は（４）に記載の電子写真感光体。
【００１７】
【化２２】
一般式（７）
（式中、Ａｃｔは、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基から選択された炭素−炭素二重結合を表わし、Ａｒ２，Ａｒ３は置換、無置換のアリール基を表わし、
Ｂは、
【００１８】
【化２３】
を表わし、ここでＲ２４，Ｒ２５は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、置換、無置換のアリール基を表わし、ｒは１〜２の整数を表わす。）
（９）前記炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質が下記一般式（８）で示されるものであることを特徴とする前記（３）又は（４）に記載の電子写真感光体。
【００１９】
【化２４】
一般式（８）
（式中、Ａｃｔは、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基から選択された炭素−炭素二重結合を表わし、Ａｒ４は置換、無置換のアリール基を表わし、ｓ，ｕはそれぞれ独立に０〜２の整数を表わす。）
（１０）下記一般式（１）又は一般式（２）で示されるポリカーボネート共重合体、炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質、及びアクリロイルオキシ基及び／又はメタクリロイルオキシ基を有するラジカル重合性モノマーの重合反応性生成物が感光層の最上層に含有されたことを特徴とする電子写真感光体。
【００２０】
【化２５】
一般式（１）
（式中、Ｒ１，Ｒ２は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基を表わす。）
【００２１】
【化２６】
一般式（２）
（式中、Ｒ１，Ｒ２は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ３、Ｒ４は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、炭素数５〜７のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基を表わし、Ａは単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳｉＯ（ＣＨ３）２−、−ＣＲ５Ｒ６−（Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子、トリフオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル基、又は炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基である。）、又は炭素数５〜１１の１，１−シクロアルキリデン基を表わし、ａ，ｂはそれぞれ独立に０〜４の整数を表わし、ｈ，ｉは共重合ｍｏｌ％を表わし、ｈは５〜８０、ｉは２０〜９５を表わす。）
（１１）前記炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質は、上記一般式（３）乃至（８）の群から選択できることを特徴とする前記（１０）に記載の電子写真感光体。
【００２２】
（１２）電子写真感光体が前記（３）乃至（１１）のいずれか一項に記載のものである電子写真感光体を用い、少なくとも該電子写真感光体に帯電、画像露光、現像の過程を経た後、画像保持体へのトナー画像の転写、定着及び該電子写真感光体表面のクリーニングによって画像形成を行うことを特徴とする画像形成方法。
【００２３】
（１３）少なくとも、帯電手段、画像露光手段、現像手段、転写手段及び電子写真感光体を具備した画像形成装置において、該電子写真感光体が前記（３）乃至（１１）のいずれか一項に記載のものであることを特徴とする画像形成装置。
【００２４】
（１４）前記（３）乃至（１１）のいずれか一項に記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、クリーニング手段より選ばれる少なくとも１つの手段とを一体的に支持し、画像形成装置本体に着脱自在であることを特徴とする画像形成装置用プロセスカートリッジ。
【発明の効果】
【００２５】
本発明は、ジスチルベンユニットを有するポリカーボネート樹脂と炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質との架橋によって、硬度上昇、弾性率向上で機械的強度で耐摩耗性向上による高耐久感光体の提供ができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
本発明は、感光層の表面層が少なくとも下記一般式（１）で示されるジスチルベン骨格ユニットを複数もつ（樹脂状）ポリカーボネート化合物と炭素−炭素二重結合を有する重合性電荷輸送物質からの硬化反応（重合反応）生成物を含有させた高感度感光体を提供するものである。
【００２７】
【化２７】
一般式（１）
（式中、Ｒ１，Ｒ２は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、ａ，ｂは１〜４の整数を表わす。）
［ジスチルベンユニットを有するポリカーボネート、前記一般式（２）で示される共重合体］
前記一般式（１）で示されるポリカーボネートは、以下のスキームで合成される。モノマーの合成はヒドロキベンズアルデヒドとジベンジルホスフォネートとのウィティヒ反応でジスチルベンを合成した。ポリカーボネート化はピリジン中で溶液重合法でトリホスゲンを作用させ、ポリカーボネートを合成した。
【００２８】
【化２８】
（式中Ｒ１，Ｒ２は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基を表わす。）
本発明においては、ジスチルベンユニットを有するポリカーボネートとして、下記一般式（２）で示される共重合体も好ましく用いることができる。
【００２９】
【化２９】
一般式（２）
ジヒドロキシジスチルベンの単重合ポリマーは高い結晶性を示し、反応途中から析出してしまい、また溶媒に溶けなくなるが、他のビスフェノールとの共重合によって溶媒可溶にフィルム形成を行なう。共重合比率は全モル数で７０％以下、あるいは重量比率でも７０％以下が好ましい。
【００３０】
前記一般式（２）で示される共重合体を得るために用いられる二価フェノールとしては、下記一般式（９）で示されるものが挙げられる。
【００３１】
【化３０】
一般式（９）
（Ｒ３、Ｒ４は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、炭素数５〜７のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基を表わし、Ａは単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳｉＯ（ＣＨ３）２−、−ＣＲ５Ｒ６−（Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子、トリフオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル基、又は炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基である。）、炭素数５〜１１の１，１−シクロアルキリデン基を表わし、ｃ，ｄはそれぞれ独立に０〜４の整数を表わす。）
具体例としては、例えば、４，４’−ジヒドロキシビフェニル、３，３’−ジフルオロ−４，４’−ジヒドロキシビフェニル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルビフェニル、４，４’−ジヒドロキシ−２，２’−ジメチルビフェニル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジシクロヘキシルビフェニル等の４，４’−ジヒドロキシビフェニル類；ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（別名：ビスフェノールＡ）、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）イソブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ヘプタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−１−フェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニル）ブタン、ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジフルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン（別名：テトラフルオロビスフェノールＡ）、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン（別名：テトラクロロビスフェノールＡ）、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン（別名：テトラブロモビスフェノールＡ）、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシ−５−クロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１−フェニル−１，１−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン等のビス（４−ヒドロキシフェニル）アルカン類；ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エーテル等のビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル類；ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド等のビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド類；ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン等のビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン類；４，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン等が挙げられる。
【００３２】
中でも好適に用いられる二価フェノールは、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）プロパン、４，４’−ジヒドロキシビフェニル及びビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホンであり、特に２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンが好適に用いられる。
【００３３】
これら一般式（９）の二価フェノールは、上記特許文献１の特開平４−２９１３４８号公報に記載されている。
【００３４】
［炭素−炭素二重結合を有する重合性電荷輸送材（物質）］
炭素−炭素二重結合を有する重合性電荷輸送材は、下記一般式（３）、一般式（４）で示されるベンジジン化合物であり、構造式中Ａｃｔは、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基から選択された炭素−炭素二重結合を表わし、Ｒ７，Ｒ８，Ｒ３０，Ｒ３１，Ｒ３２，Ｒ３３は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基を表わし、ｅ，ｆは１≦ｅ＋ｆ≦４、ｌ，ｍは１≦ｌ＋ｍ≦４で示される。
【００３５】
【化３１】
一般式（３）
【００３６】
【化３２】
一般式（４）
アクリロイル基の導入は以下のルートで合成される。
【００３７】
【化３３】
ビニル基の導入は以下のルートで合成される。
【００３８】
【化３４】
以下に具体例を示すが、これらに限定されるものでない。
【００３９】
【化３５】
炭素−炭素二重結合を有する重合性電荷輸送材としては、下記一般式（５）で示されるアミノビフェニル化合物が挙げられる。
【００４０】
【化３６】
一般式（５）
式中、Ａｃｔは炭素−炭素二重結合を表わし、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基を表わし、Ｒ９，Ｒ１０は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基を表わし、Ａｒ１は置換、無置換のアリーレン基を表わし、ｇ，ｋ、ｏはそれぞれ独立に０〜２の整数、好ましくは１≦ｇ＋ｋ＋ｏ≦４を満たす整数を表わし、ｖは０〜１の整数を表わす。
【００４１】
以下に具体例を示すが、これらに限定されるものでない。これらは、前記特許文献２の特許第３０８１７０５号明細書に記載されている。
【００４２】
【化３７】
炭素−炭素二重結合を有する重合性電荷輸送材としては、下記一般式（６）で示されるフェニレンジアミン化合物が挙げられる。
【００４３】
【化３８】
一般式（６）
式中、Ａｃｔは炭素−炭素二重結合を表わし、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基を表わし、Ｒ１１，Ｒ１２は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基を表わし、ｐ，ｑは、それぞれ独立に０〜２の整数、好ましくは１≦ｐ＋ｑ≦４を満たす整数を表わす。
【００４４】
以下に具体例を示すが、これらに限定されるものでない。
【００４５】
【化３９】
炭素−炭素二重結合を有する重合性電荷輸送材としては、下記一般式（７）で示される化合物が挙げられる。
【００４６】
【化４０】
一般式（７）
式中、Ａｃｔは、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基から選択された炭素−炭素二重結合を表わし、Ａｒ２，Ａｒ３は置換、無置換のアリール基を表わし、Ｂは
【００４７】
【化４１】
を表わし、ここでＲ２４，Ｒ２５は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、置換、無置換のアリール基を表わす。ｒは１〜２の整数を表わす。）
以下に具体例を示すが、これらに限定されるものではない。
【００４８】
【化４２】
炭素−炭素二重結合を有する重合性電荷輸送材としては、下記一般式（８）で示されるトリフェニルアミン化合物が挙げられる。
【００４９】
【化４３】
一般式（８）
式中、Ａｃｔは、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基から選択された炭素−炭素二重結合を表わしを表わし、Ａｒ４は置換、無置換のアリール基を表わし、ｓ，ｕはそれぞれ独立に０〜２の整数、好ましくは１≦ｓ＋ｕ≦４を満たす整数を表わす。
【００５０】
以下に具体例を示すが、これらに限定されるものでない。
【００５１】
【化４４】
一般式（３）〜（８）の炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質と、一般式（１）で示されるユニットを有するポリカーボネート樹脂の配合比率は、炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質１０重量に対しポリカーボネート樹脂６〜２０重量であり、好ましくは７〜１５重量である。
【００５２】
ここで炭素数１〜５のアルキル基とは、具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ペンチル基等が挙げられる。
【００５３】
アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、ターフェニリル基、ピレニル基、フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基等が挙げられ、置換基としては炭素数１〜５の前記したアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、具体的にはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
【００５４】
本発明において好ましくは、前記一般式（１）又は一般式（２）で示されるユニットを有するポリカーボネート樹脂、炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質と共にアクリロイルオキシ基及び／又はメタクリロイルオキシ基を有するラジカル重合性モノマー（又は、これらの硬化物）で感光層を形成する。
【００５５】
アクリロイルオキシ基及び／又はメタクリロイルオキシ基化合物は２官能のモノマー、オリゴマー、ポリマーとしてはジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート等；３官能のモノマー、オリゴマー、ポリマーとしてはトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、脂肪族トリ（メタ）アクリレート等；４官能のモノマー、オリゴマー、ポリマーとしてはペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、脂肪族テトラ（メタ）アクリレート等が挙げられ；５官能以上のモノマー、オリゴマー、ポリマーとしてはジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の他、ポリエステル骨格、ウレタン骨格、フォスファゼン骨格を有する（メタ）アクリレート等が挙げられる。本発明では、上記モノマーを１種又は２種以上の混合物として使用することができる。
【００５６】
これらアクリロイルオキシ基及び／又はメタクリロイルオキシ基を有するラジカル重合性モノマーは一般式（１）又は一般式（２）で示されるユニットを有するポリカーボネート樹脂、炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質の全重量に対して２〜５０重量％添加され、好ましくは１０〜３０重量％の添加量である。
【００５７】
前記一般式（１）又は一般式（２）で示される繰返しユニットを有するポリカーボネート樹脂と炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質、あるいは適宜アクリロイルオキシ基及び／又はメタクリロイルオキシ基化合物を添加した塗工膜をラジカル重合させるには熱重合開始剤、あるいは、光重合開始剤を含有させ硬化させる。熱重合開始剤、及び光重合開始剤として以下のものが挙げられる。
【００５８】
熱重合開始剤としては、メチルエチルケトンパーオキサイド、メチルイソブチルケトンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、イソブチリルパーオキサイド、２，４−ジクロルベンゾイルパーオキサイド、ビス−３，５，５−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｐ−クロルベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−（ｔ−ブチルオキシ）−ヘキサン、１，３−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ−イソプロピル）ベンゼン、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−ｔブチルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−（ジｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３、トリス−（ｔ−ブチルパーオキシ）トリアジン、１，１−ジｔ−ブチルパーオキシ−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ジｔ−ブチルパーオキシシクロヘキサン、２，２−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、４，４−ジ−ｔ−ブチルパーオキシバレリックアッシドｎ−ブチルエステル、２，２−ビス（４，４−ｔ−ブチルパーオキシシクロヘキシル）プロパン、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ジｔ−ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、ｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサエート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ジｔ−ブチルパーオキシトリメチルアジペートなどの過酸化物、あるいはアゾビスイソブチロニトリル、アゾビスジメチルバレロニトリル、アゾビスシクロヘキシルニトリルなどのアゾ系が使用される。
【００５９】
光重合開始剤としては、ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−２−モルフォリノ（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、などのアセトフェノン系又はケタール系光重合開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、などのベンゾインエーテル系光重合開始剤、ベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、２−ベンゾイルナフタレン、４−ベンゾイルビフェニル、４−ベンゾイルフェニールエーテル、アクリル化ベンゾフェノン、１，４−ベンゾイルベンゼン、などのベンゾフェノン系光重合開始剤、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、などのチオキサントン系光重合開始剤、その他の光重合開始剤としては、エチルアントラキノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシエステル、９，１０−フェナントレン、アクリジン系化合物、トリアジン系化合物、イミダゾール系化合物、が挙げられる。また、光重合促進効果を有するものを単独又は上記光重合開始剤と併用して用いることもできる。例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸（２−ジメチルアミノ）エチル、４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、などが挙げられる。
【００６０】
これらの熱、光重合開始剤はそれぞれ処方液中に添加され、熱重合開始剤の１種又は２種以上、あるいは光重合開始剤の１種又は２種以上混合して用いてもよい。重合開始剤の含有量は、ラジカル重合性を有する総含有物１００重量部に対し、０．５〜４０重量部、好ましくは１〜２０重量部である。熱重合開始剤の半減期は８０℃以上が好ましく、５０℃以下であると塗工液の保存性が悪くなり、硬化する。
【００６１】
更に、本発明の塗工液は必要に応じて各種可塑剤（応力緩和や接着性向上の目的）、レベリング剤、ラジカル反応性を有しない低分子電荷輸送物質などの添加剤が含有できる。これらの添加剤は公知のものが使用可能であり、可塑剤としてはジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等の一般の樹脂に使用されているものが利用可能で、その使用量は塗工液の総固形分に対し２０重量％以下、好ましくは１０％以下に抑えられる。また、レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマーあるいはオリゴマーが利用でき、その使用量は塗工液の総固形分に対し３重量％以下が適当である。
【００６２】
前記一般式（１）又は一般式（２）で示されるユニットを有するポリカーボネート樹脂、炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質と適宜添加されたアクリロイルオキシ基及び／又はメタクリロイルオキシ基化合物ラジカル重合性化合物を含有する塗工液を塗布、硬化することにより形成される。かかる塗工液はラジカル重合性モノマーが液体である場合、これに他の成分を溶解して塗布することも可能であるが、必要に応じて溶媒により希釈して塗布される。このとき用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール系、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系、テトラヒドロフラン、ジオキサン、プロピルエーテルなどのエーテル系、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼンなどのハロゲン系、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、セロソルブアセテートなどのセロソルブ系などが挙げられる。これらの溶媒は単独又は２種以上を混合して用いてもよい。溶媒による希釈率は組成物の溶解性、塗工法、目的とする膜厚により変わり、任意である。塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート、リングコート法などを用いて行なうことができる。
【００６３】
本発明においては、かかる塗工液を塗布後、外部からエネルギーを与えて硬化させ、架橋表面層を形成するものであるが、このとき用いられる外部エネルギーとしては熱、光、放射線がある。熱のエネルギーを加える方法としては、空気、窒素などの気体、蒸気、あるいは各種熱媒体、赤外線、電磁波を用い塗工表面側あるいは支持体側から加熱することによって行なわれる。加熱温度は８０℃以上、１７０℃以下が好ましく、８０℃未満では反応速度が遅く、完全に反応が終了しない。１７０℃より高温では反応が不均一に進行し架橋表面層中に大きな歪みが発生する。硬化反応を均一に進めるために、５０℃未満の比較的低温で加熱後、更に１００℃以上に加温し反応を完結させる方法も有効である。光のエネルギーとしては主に紫外光に発光波長を有する高圧水銀灯やメタルハライドランプなどのＵＶ照射光源が利用できるが、ラジカル重合性含有物や光重合開始剤の吸収波長に合わせ可視光光源の選択も可能である。照射光量は５０ｍＷ／ｃｍ２以上、１０００ｍＷ／ｃｍ２以下が好ましく、５０ｍＷ／ｃｍ２未満では硬化反応に時間を要する。１０００ｍＷ／ｃｍ２より強いと反応の進行が不均一となり、架橋表面層の荒れが激しくなる。放射線のエネルギーとしては電子線を用いるものが挙げられる。これらのエネルギーの中で、反応速度制御の容易さ、装置の簡便さから熱と光のエネルギーを用いたものが有用である。
【００６４】
本発明の光硬化開始剤と熱硬化開始剤を添加した系では、光エネルギー、熱エネルギーのどちらを先に与えても良く、また高圧水銀灯などの光エネルギーを与えた時には被射物は高温になり、８０℃以上になり、それで熱重合硬化が進行する、
本発明の架橋表面層の膜厚は、架橋表面層が用いられる感光体の層構造によって異なるため、層構造とともに以降に記載する。
【００６５】
以下、本発明をその層構造に従い説明する。
＜電子写真感光体の層構造について＞
本発明に用いられる電子写真感光体を図面に基づいて説明する。
【００６６】
図１は、本発明の電子写真感光体を表わす断面図であり、導電性支持体（３１）上に、電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する感光層（３３）が設けられた単層構造の感光体である。架橋表面層が感光層全体の場合を示したのが図１−Ａであり、架橋表面層が感光層の表面部分である場合を示したのが図１−Ｂである。
【００６７】
図２は、導電性支持体（３１）上に、電荷発生機能を有する電荷発生層（３５）と、電荷輸送物機能を有する電荷輸送層（３７）とが積層された積層構造の感光体である。架橋表面層が電荷輸送層全体の場合を示すのが図２−Ａであり、架橋表面層が電荷輸送層の表面部分である場合を示すのが図２−Ｂである。
【００６８】
＜導電性支持体について＞
導電性支持体（３１）としては、体積抵抗１０１０Ω・ｃｍ以下の導電性を示すもの、例えば、アルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、金、銀、白金などの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を蒸着又はスパッタリングにより、フィルム状もしくは円筒状のプラスチック、紙に被覆したもの、あるいはアルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレスなどの板及びそれらを押し出し、引き抜きなどの工法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩などの表面処理を施した管などを使用することができる。また、特開昭５２−３６０１６号公報に開示されたエンドレスニッケルベルト、エンドレスステンレスベルトも導電性支持体（３１）として用いることができる。
【００６９】
この他、上記支持体上に導電性粉体を適当な結着樹脂に分散して塗工したものについても、本発明の導電性支持体（３１）として用いることができる。
【００７０】
この導電性粉体としては、カーボンブラック、アセチレンブラック、また、アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀などの金属粉、あるいは導電性酸化スズ、ＩＴＯなどの金属酸化物粉体などが挙げられる。また、同時に用いられる結着樹脂には、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などの熱可塑性、熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂が挙げられる。このような導電性層は、これらの導電性粉体と結着樹脂を適当な溶剤、例えば、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、メチルエチルケトン、トルエンなどに分散して塗布することにより設けることができる。
【００７１】
さらに、適当な円筒基体上にポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、テフロン（登録商標）などの素材に前記導電性粉体を含有させた熱収縮チューブによって導電性層を設けてなるものも、本発明の導電性支持体（３１）として良好に用いることができる。
【００７２】
＜感光層について＞
次に感光層について説明する。感光層は積層構造でも単層構造でもよい。
【００７３】
積層構造の場合には、感光層は電荷発生機能を有する電荷発生層と電荷輸送機能を有する電荷輸送層とから構成される。また、単層構造の場合には、感光層は電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する層である。
【００７４】
以下、積層構造の感光層及び単層構造の感光層のそれぞれについて述べる。
【００７５】
＜感光層が電荷発生層と電荷輸送層からなるもの＞
（電荷発生層）
電荷発生層（３５）は、電荷発生機能を有する電荷発生物質を主成分とする層で、必要に応じてバインダー樹脂を併用することもできる。電荷発生物質としては、無機系材料と有機系材料を用いることができる。
【００７６】
無機系材料には、結晶セレン、アモルファス・セレン、セレン−テルル、セレン−テルル−ハロゲン、セレン−ヒ素化合物や、アモルファス・シリコン等が挙げられる。アモルファス・シリコンにおいては、ダングリングボンドを水素原子、ハロゲン原子でターミネートしたものや、ホウ素原子、リン原子等をドープしたものが良好に用いられる。
【００７７】
一方、有機系材料としては、公知の材料を用いることができる。例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン等のフタロシアニン系顔料、アズレニウム塩顔料、スクエアリック酸メチン顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料、ペリレン系顔料、アントラキノン系又は多環キノン系顔料、キノンイミン系顔料、ジフェニルメタン及びトリフェニルメタン系顔料、ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料、シアニン及びアゾメチン系顔料、インジゴイド系顔料、ビスベンズイミダゾール系顔料などが挙げられる。これらの電荷発生物質は、単独又は２種以上の混合物として用いることができる。
【００７８】
電荷発生層（３５）に必要に応じて用いられるバインダー樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミドなどが挙げられる。これらのバインダー樹脂は、単独又は２種以上の混合物として用いることができる。また、電荷発生層のバインダー樹脂として上述のバインダー樹脂の他に、電荷輸送機能を有する高分子電荷輸送物質、例えば、アリールアミン骨格やベンジジン骨格やヒドラゾン骨格やカルバゾール骨格やスチルベン骨格やピラゾリン骨格等を有するポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリシロキサン、アクリル樹脂等の高分子材料やポリシラン骨格を有する高分子材料等を用いることができる。
【００７９】
前者の具体的な例としては、特開平０１−００１７２８号公報、特開平０１−００９９６４号公報、特開平０１−０１３０６１号公報、特開平０１−０１９０４９号公報、特開平０１−２４１５５９号公報、特開平０４−０１１６２７号公報、特開平０４−１７５３３７号公報、特開平０４−１８３７１９号公報、特開平０４−２２５０１４号公報、特開平０４−２３０７６７号公報、特開平０４−３２０４２０号公報、特開平０５−２３２７２７号公報、特開平０５−３１０９０４号公報、特開平０６−２３４８３６号公報、特開平０６−２３４８３７号公報、特開平０６−２３４８３８号公報、特開平０６−２３４８３９号公報、特開平０６−２３４８４０号公報、特開平０６−２３４８４１号公報、特開平０６−２３９０４９号公報、特開平０６−２３６０５０号公報、特開平０６−２３６０５１号公報、特開平０６−２９５０７７号公報、特開平０７−０５６３７４号公報、特開平０８−１７６２９３号公報、特開平０８−２０８８２０号公報、特開平０８−２１１６４０号公報、特開平０８−２５３５６８号公報、特開平０８−２６９１８３号公報、特開平０９−０６２０１９号公報、特開平０９−０４３８８３号公報、特開平０９−７１６４２号公報、特開平０９−８７３７６号公報、特開平０９−１０４７４６号公報、特開平０９−１１０９７４号公報、特開平０９−１１０９７６号公報、特開平０９−１５７３７８号公報、特開平０９−２２１５４４号公報、特開平０９−２２７６６９号公報、特開平０９−２３５３６７号公報、特開平０９−２４１３６９号公報、特開平０９−２６８２２６号公報、特開平０９−２７２７３５号公報、特開平０９−３０２０８４号公報、特開平０９−３０２０８５号公報、特開平０９−３２８５３９号公報等に記載の電荷輸送性高分子材料が挙げられる。
【００８０】
また、後者の具体例としては、例えば特開昭６３−２８５５５２号公報、特開平０５−１９４９７号公報、特開平０５−７０５９５号公報、特開平１０−７３９４４号公報等に記載のポリシリレン重合体が例示される。
【００８１】
また、電荷発生層（３５）には低分子電荷輸送物質を含有させることができる。
【００８２】
電荷発生層（３５）に併用できる低分子電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質とがある。
【００８３】
電子輸送物質としては、たとえばクロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロキサントン、２，４，８−トリニトロチオキサントン、２，６，８−トリニトロ−４Ｈ−インデノ〔１，２−ｂ〕チオフェン−４−オン、１，３，７−トリニトロジベンゾチオフェン−５，５−ジオキサイド、ジフェノキノン誘導体などの電子受容性物質が挙げられる。これらの電子輸送物質は、単独又は２種以上の混合物として用いることができる。
【００８４】
正孔輸送物質としては、以下に表わされる電子供与性物質が挙げられ、良好に用いられる。正孔輸送物質としては、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、モノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘導体、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、α−フェニルスチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ジアリールメタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、９−スチリルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジビニルベンゼン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘導体、ブタジェン誘導体、ピレン誘導体等、ビススチルベン誘導体、エナミン誘導体等、その他公知の材料が挙げられる。これらの正孔輸送物質は、単独又は２種以上の混合物として用いることができる。
【００８５】
電荷発生層（３５）を形成する方法には、真空薄膜作製法と溶液分散系からのキャスティング法とが大きく挙げられる。
【００８６】
前者の方法には、真空蒸着法、グロー放電分解法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、ＣＶＤ法等が用いられ、上述した無機系材料、有機系材料が良好に形成できる。
【００８７】
また、後述のキャスティング法によって電荷発生層を設けるには、上述した無機系もしくは有機系電荷発生物質を必要ならばバインダー樹脂と共にテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン、トルエン、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン、ジクロロエタン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、アニソール、キシレン、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等の溶媒を用いてボールミル、アトライター、サンドミル、ビーズミル等により分散し、分散液を適度に希釈して塗布することにより、形成できる。また、必要に応じて、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のレベリング剤を添加することができる。塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート、リングコート法などを用いて行なうことができる。
【００８８】
以上のようにして設けられる電荷発生層の膜厚は、０．０１〜５μｍ程度が適当であり、好ましくは０．０５〜２μｍである。
【００８９】
（電荷輸送層について）
電荷輸送層（３７）は電荷輸送機能を有する層で、本発明の一般式（１）又は一般式（２）で示されるユニットを有するポリカーボネート樹脂、炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質を有する架橋表面層は電荷輸送層として有用に用いられる。架橋表面層が電荷輸送層（３７）の全体である場合、前述の架橋表面層作製方法に記載したように電荷発生層（３５）上に塗工液を塗布、必要に応じて乾燥後、外部エネルギーにより硬化反応を開始させ、架橋表面層が形成される。このとき、架橋表面層の膜厚は、１０〜３０μｍ、好ましくは１０〜２５μｍである。１０μｍより薄いと充分な帯電電位が維持できず、３０μｍより厚いと硬化時の体積収縮により下層との剥離が生じやすくなる。
【００９０】
また、架橋表面層が電荷輸送層（３７）の表面部分に形成され、電荷輸送層（３７）が積層構造である場合、電荷輸送層の下層部分は電荷輸送機能を有する電荷輸送物質及び結着樹脂を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを電荷発生層（３５）上に塗布、乾燥することにより形成し、この上に上記本発明の一般式（１）又は一般式（２）で示されるユニットを有するポリカーボネート樹脂、炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質を含有する塗工液を塗布し、外部エネルギーにより架橋硬化させる。
【００９１】
電荷輸送物質としては、前記電荷発生層（３５）で記載した電子輸送物質、正孔輸送物質及び高分子電荷輸送物質を用いることができる。前述したように高分子電荷輸送物質を用いることにより、表面層塗工時の下層の溶解性を低減でき、とりわけ有用である。
【００９２】
結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性又は熱硬化性樹脂が挙げられる。
【００９３】
電荷輸送物質の量は結着樹脂１００重量に対し、２０〜３００重量、好ましくは４０〜１５０重量が適当である。但し、高分子電荷輸送物質を用いる場合は、単独でも結着樹脂との併用も可能である。
【００９４】
電荷輸送層の下層部分の塗工に用いられる溶媒としては前記電荷発生層と同様なものが使用できるが、電荷輸送物質及び結着樹脂を良好に溶解するものが適している。これらの溶剤は単独で使用しても２種以上混合して使用しても良い。また、電荷輸送層の下層部分の形成には電荷発生層（３５）と同様な塗工法が可能である。
【００９５】
また、必要により可塑剤、レベリング剤を添加することもできる。
【００９６】
電荷輸送層の下層部分に併用できる可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等の一般の樹脂の可塑剤として使用されているものがそのまま使用でき、その使用量は、結着樹脂１００重量部に対して０〜３０重量部程度が適当である。
【００９７】
電荷輸送層の下層部分に併用できるレベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマーあるいはオリゴマーが使用され、その使用量は、結着樹脂１００重量部に対して０〜１重量部程度が適当である。
【００９８】
電荷輸送層の下層部分の膜厚は、５〜４０μｍ程度が適当であり、好ましくは１０〜３０μｍ程度が適当である。
【００９９】
架橋表面層が電荷輸送層（３７）の表面部分である場合、前述の架橋表面層作製方法に記載したように、かかる電荷輸送層の下層部分上に本発明の一般式（１）又は一般式（２）で示されるユニットを有するポリカーボネート樹脂、炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質を含有する塗工液を塗布、必要に応じて乾燥後、熱や光の外部エネルギーにより硬化反応を開始させ、架橋表面層が形成される。このとき、架橋表面層の膜厚は、１〜２０μｍ、好ましくは２〜１０μｍである。１μｍより薄いと膜厚ムラによって耐久性がバラツキ、２０μｍより厚いと電荷輸送層全体の膜厚が厚くなり電荷の拡散から画像の再現性が低下する。
【０１００】
＜感光層が単層のもの＞
単層構造の感光層は電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する層で、本発明の電荷輸送性構造を有する架橋表面層は電荷発生機能を有する電荷発生物質を含有させることにより、単層構造の感光層として有用に用いられる。上記の電荷発生層のキャスティング形成方法に記載したように、電荷発生物質を本発明の一般式（１）又は一般式（２）で示されるユニットを持つポリカーボネート樹脂、炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質を含有する塗工液と共に分散し、導電性支持体（３１）上に塗布、必要に応じて乾燥後、光と熱エネルギーにより硬化反応を開始させ、架橋表面層が形成される。なお、電荷発生物質はあらかじめ溶媒と共に分散した液を本架橋表面層用塗工液に加えてもよい。このとき、架橋表面層の膜厚は、１０〜３０μｍ、好ましくは１０〜２５μｍである。１０μｍより薄いと充分な帯電電位が維持できず、３０μｍより厚いと硬化時の体積収縮により導電性基体又は下引き層との剥離が生じやすくなる。
【０１０１】
また、架橋表面層が単層構造の感光層の表面部分である場合、感光層の下層部分は電荷発生機能を有する電荷発生物質と電荷輸送機能を有する電荷輸送物質と結着樹脂を適当な溶媒に溶解ないし分散し、これを塗布、乾燥することによって形成できる。また、必要により可塑剤やレベリング剤等を添加することもできる。電荷発生物質の分散方法、それぞれ電荷発生物質、電荷輸送物質、可塑剤、レベリング剤は前記電荷発生層（３５）、電荷輸送層（３７）において既に述べたものと同様なものが使用できる。結着樹脂としては、先に電荷輸送層（３７）の項で挙げた結着樹脂のほかに、電荷発生層（３５）で挙げたバインダー樹脂を混合して用いてもよい。また、先に挙げた高分子電荷輸送物質も使用可能で、架橋表面層への下層感光層組成物の混入を低減できる点で有用である。かかる感光層の下層部分の膜厚は、５〜３０μｍ程度が適当であり、好ましくは１０〜２５μｍ程度が適当である。
【０１０２】
架橋表面層が単層構造の感光層の表面部分である場合、前述のようにかかる感光層の下層部分上に本発明の一般式（１）又は一般式（２）で示されるユニットを持つポリカーボネート樹脂、炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質と電荷発生物質を含有する塗工液を塗布、必要に応じて乾燥後、熱と光の外部エネルギーにより硬化し、架橋表面層を形成する。このとき、架橋表面層の膜厚は、１〜２０μｍ、好ましくは２〜１０μｍである。１μｍより薄いと膜厚ムラによって耐久性のバラツキが生じる。
【０１０３】
単層構造の感光層中に含有される電荷発生物質は感光層全量に対し１〜３０重量％が好ましく、感光層の下層部分に含有される結着樹脂は全量の２０〜８０重量％、電荷輸送物質は１０〜７０重量部が良好に用いられる。
【０１０４】
＜中間層について＞
本発明の感光体においては、架橋表面層が感光層の表面部分となる場合、架橋表面層と下層感光層の間に中間層を設けることが可能である。この中間層はラジカル重合性組成物を含有する架橋表面層中に下部感光層組成物の混入により生ずる、硬化反応の阻害や架橋表面層の凹凸を防止する。また、下層の感光層と表面架橋層の接着性を向上させることも可能である。
【０１０５】
中間層には、一般にバインダー樹脂を主成分として用いる。これら樹脂としては、ポリアミド、アルコール可溶性ナイロン、水溶性ポリビニルブチラール、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコールなどが挙げられる。中間層の形成法としては、前述のごとく一般に用いられる塗工法が採用される。なお、中間層の厚さは０．０５〜２μｍ程度が適当である。
【０１０６】
＜下引き層について＞
本発明の感光体においては、導電性支持体（３１）と感光層との間に下引き層を設けることができる。下引き層は一般には樹脂を主成分とするが、これらの樹脂はその上に感光層を溶剤で塗布することを考えると、一般の有機溶剤に対して耐溶剤性の高い樹脂であることが望ましい。このような樹脂としては、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する硬化型樹脂等が挙げられる。また、下引き層にはモアレ防止、残留電位の低減等のために酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で例示できる金属酸化物の微粉末顔料を加えてもよい。
【０１０７】
これらの下引き層は、前述の感光層の如く適当な溶媒及び塗工法を用いて形成することができる。更に本発明の下引き層として、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を使用することもできる。この他、本発明の下引き層には、Ａｌ２Ｏ３を陽極酸化にて設けたものや、ポリパラキシリレン（パリレン）等の有機物やＳｉＯ２、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２、ＩＴＯ、ＣｅＯ２等の無機物を真空薄膜作成法にて設けたものも良好に使用できる。このほかにも公知のものを用いることができる。下引き層の膜厚は０〜５μｍが適当である。
【０１０８】
＜各層への酸化防止剤の添加について＞
また、本発明においては、耐環境性の改善のため、とりわけ、感度低下、残留電位の上昇を防止する目的で、表面架橋層、感光層、電荷発生層、電荷輸送層、下引き層、中間層等の各層に酸化防止剤を添加することができる。
【０１０９】
本発明に用いることができる酸化防止剤として、下記のものが挙げられる。
（フェノール系化合物）
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス−［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、ビス［３，３’−ビス（４’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアッシド］クリコ−ルエステル、トコフェロール類など。
【０１１０】
（パラフェニレンジアミン類）
Ｎ−フェニル−Ｎ’−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミンなど。
【０１１１】
（ハイドロキノン類）
２，５−ジ−ｔ−オクチルハイドロキノン、２，６−ジドデシルハイドロキノン、２−ドデシルハイドロキノン、２−ドデシル−５−クロロハイドロキノン、２−ｔ−オクチル−５−メチルハイドロキノン、２−（２−オクタデセニル）−５−メチルハイドロキノンなど。
【０１１２】
（有機硫黄化合物類）
ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジテトラデシル−３，３’−チオジプロピオネートなど。
【０１１３】
（有機燐化合物類）
トリフェニルホスフィン、トリ（ノニルフェニル）ホスフィン、トリ（ジノニルフェニル）ホスフィン、トリクレジルホスフィン、トリ（２，４−ジブチルフェノキシ）ホスフィンなど。
【０１１４】
これら化合物は、ゴム、プラスチック、油脂類などの酸化防止剤として知られており、市販品を容易に入手できる。
【０１１５】
本発明における酸化防止剤の添加量は、添加する層の総重量に対して０．０１〜１０重量％である。
【０１１６】
＜画像形成方法及び装置について＞
次に図面に基づいて本発明の画像形成方法ならびに画像形成装置を詳しく説明する。
【０１１７】
本発明の画像形成方法ならびに画像形成装置とは、本発明は平滑な電荷輸送性表面架橋層を有する感光体を用い、例えば少なくとも感光体に帯電、画像露光、現像の過程を経た後、画像保持体（転写紙）へのトナー画像の転写、定着及び感光体表面のクリーニングというプロセスよりなる画像形成方法ならびに画像形成装置である。
【０１１８】
場合により、静電潜像を直接転写体に転写し現像する画像形成方法等では、感光体に配した上記プロセスを必ずしも有するものではない。
【０１１９】
図３は、画像形成装置の一例を示す概略図である。この例の画像形成装置においては、感光体（１）の周囲に、帯電手段の１例としての帯電チャージャ（３）、イレーサ（４）、画像露光部（５）、現像ユニット（６）、転写前チャージャ（７）、図示してない転写紙トレーからレジストローラ（８）により搬送された転写紙（９）にトナー像を転写する転写チャージャ（１０）と一体に形成された分離チャージャ（１１）、分離爪（１２）、クリーニング前チャージャ（１３）、クリーニング用ファーブラシ（１４）、クリーニングブレード（１５）、除電ランプ（２）が配置されている。感光体（１）を平均的に帯電させる手段として、帯電チャージャ（３）が用いられる。この帯電手段としては、コロトロンデバイス、スコロトロンデバイス、固体放電素子、針電極デバイス、ローラ帯電デバイス、導電性ブラシデバイス等が用いられ、公知の方式が使用可能である。
【０１２０】
特に本発明の構成は、接触帯電方式又は非接触近接配置帯電方式のような帯電手段からの近接放電により感光体組成物が分解する様な帯電手段を用いた場合に有効である。ここで言う接触帯電方式とは、感光体に帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電ブレード等が直接接触する帯電方式である。一方の近接帯電方式とは、例えば帯電ローラが感光体表面と帯電手段との間に２００μｍ以下の空隙を有するように非接触状態で近接配置したタイプのものである。この空隙は、大きすぎた場合には帯電が不安定になりやすく、また、小さすぎた場合には、感光体に残留したトナーが存在する場合に、帯電部材表面が汚染されてしまう可能性がある。したがって、空隙は１０〜２００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍの範囲が適当である。
【０１２１】
次に、均一に帯電された感光体（１）上に静電潜像を形成するために画像露光部（５）が用いられる。この光源には、蛍光灯、タングステンランプ、ハロゲンランプ、水銀灯、ナトリウム灯、発光ダイオード（ＬＥＤ）、半導体レーザー（ＬＤ）、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）などの発光物全般を用いることができる。そして、所望の波長域の光のみを照射するために、シャープカットフィルター、バンドパスフィルター、近赤外カットフィルター、ダイクロイックフィルター、干渉フィルター、色温度変換フィルターなどの各種フィルターを用いることもできる。
【０１２２】
次に、感光体（１）上に形成された静電潜像を可視化するために現像ユニット（６）が用いられる。現像方式としては、乾式トナーを用いた一成分現像法、二成分現像法、湿式トナーを用いた湿式現像法がある。感光体に正（負）帯電を施し、画像露光を行なうと、感光体表面上には正（負）の静電潜像が形成される。これを負（正）極性のトナー（検電微粒子）で現像すれば、ポジ画像が得られるし、また正（負）極性のトナーで現像すれば、ネガ画像が得られる。
【０１２３】
次に、感光体上で可視化されたトナー像を転写体（９）上に転写するために転写チャージャ（１０）が用いられる。また、転写をより良好に行なうために転写前チャージャ（７）を用いてもよい。これらの転写手段としては、転写チャージャ、バイアスローラーを用いる静電転写方式、粘着転写法、圧力転写法等の機械転写方式、磁気転写方式が利用可能である。静電転写方式としては、前記帯電手段が利用可能である。
【０１２４】
次に、転写体（９）を感光体（１）より分離する手段として分離チャージャ（１１）、分離爪（１２）が用いられる。その他分離手段としては、静電吸着誘導分離、側端ベルト分離、先端グリップ搬送、曲率分離等が用いられる。分離チャージャ（１１）としては、前記帯電手段が利用可能である。
【０１２５】
次に、転写後感光体上に残されたトナーをクリーニングするためにファーブラシ（１４）、クリーニングブレード（１５）が用いられる。また、クリーニングをより効率的に行なうためにクリーニング前チャージャ（１３）を用いてもよい。その他クリーニング手段としては、ウェブ方式、マグネットブラシ方式等があるが、それぞれ単独又は複数の方式を一緒に用いてもよい。
【０１２６】
次に、必要に応じて感光体上の潜像を取り除く目的で除電手段が用いられる。除電手段としては除電ランプ（２）、除電チャージャが用いられ、それぞれ前記露光光源、帯電手段が利用できる。
【０１２７】
その他、感光体に近接していない原稿読み取り、給紙、定着、排紙等のプロセスは公知のものが使用できる。
【０１２８】
本発明は、このような画像形成手段に本発明に係る電子写真感光体を用いる画像形成方法及び画像形成装置である。
【０１２９】
この画像形成手段は、複写装置、ファクシミリ、プリンタ内に固定して組み込まれていてもよいが、プロセスカートリッジの形態でそれら装置内に組み込まれ、着脱自在としたものであってもよい。プロセスカートリッジの一例を図４に示す。
【０１３０】
画像形成装置用プロセスカートリッジとは、感光体（１０１）を内蔵し、他に帯電手段（１０２）、現像手段（１０４）、転写手段（１０６）、クリーニング手段（１０７）、除電手段（図示せず）の少なくとも一つを具備し、画像形成装置本体に着脱可能とした装置（部品）である。
【０１３１】
図４に例示される装置による画像形成プロセスについて示すと、感光体（１０１）は、矢印方向に回転しながら、帯電手段（１０２）による帯電、露光手段（１０３）による露光により、その表面に露光像に対応する静電潜像が形成され、この静電潜像は、現像手段（１０４）でトナー現像され、該トナー現像は転写手段（１０６）により、転写体（１０５）に転写され、プリントアウトされる。次いで、像転写後の感光体表面は、クリーニング手段（１０７）によりクリーニングされ、さらに除電手段（図示せず）により除電されて、再び以上の操作を繰り返すものである。
【０１３２】
本発明は、平滑な電荷輸送性表面架橋層を有する感光体と帯電、現像、転写、クリーニング、除電手段の少なくとも一つを一体化した画像形成装置用プロセスカートリッジを提供するものである。
【０１３３】
以上の説明から明らかなように、本発明の電子写真感光体は電子写真複写機に利用するのみならず、レーザービームプリンター、ＣＲＴプリンター、ＬＥＤプリンター、液晶プリンター及びレーザー製版等の電子写真応用分野にも広く用いることができるものである。
【実施例】
【０１３４】
（実施例１）
１、４−ビス（３−ヒドロキシスチリル）ベンゼンの合成
３−ヒドロキシベンズアルデヒド ２５ｇ（０．２０４７ｍｏｌ）、１，４−キシリレン−ビス（ホスホニックアッシドジエチルエステル）３４．８ｇ（０．０９２ｍｏｌ）、ＤＭＦ ３００ｍｌを四径フラスコにとり、室温下攪拌溶解させる。これに４０℃を超えない温度範囲でカリウムタシャリーブチルオキシドを１時間３０分で加えた、その後５時間反応し、反応物を水４００ｍｌ中に注ぎ、酢酸で酸性に析出物をロ別した。ロ過物を５００ｍｌの水で３回洗浄後、乾燥し、エタノール：酢酸エチル＝３００：１００ｖｏｌで熱ろ過し再結晶した。黄色 ２０．９ｇ ｍ．ｐ．：２７９〜２８１℃ ＬＣＭＳ ｍ／ｚ ３１４
Ｉ．Ｒ．：図５
ポリカーボネートの合成
上記ジスチリル体２．２２ｇ（７．０６ｍｍｏｌ）、ビスフェノールＡ １．６２ｇ（７．１ｍｍｏｌ）、脱水ピリジン１００ｍｌを四径フラスコにとり、氷−水浴で５℃に冷却し、冷却後、氷−水浴を取り除き、トリホスゲン２．６３ｇ（８．８６ｍｍｏｌ）の塩化メチレン３０ｍｌ溶液を強攪拌下２０分で滴下した、黄色物が析出しエマルジョン状態になり、２６℃まで発熱した、その後２時間反応し、塩化メチレン２００ｍｌ添加し、有機層を分離した、有機層は透明にはならず、７％塩酸水溶液１５０ｍｌで３回洗浄、２％塩酸水溶液で２回洗浄、イオン交換水１５０ｍｌで５回洗浄した、有機層は透明になった。有機層をメタノール１．５Ｌに注ぎ析出させポリカーボネートを３ｇ得た。
ＧＰＣでポリスチレン換算分子量はＭｎ：４４００，Ｍｗ：１０５００であった。これによって作成されたポリカーボネート共重合体を合成例１とする。
Ｉ．Ｒ．：図６
また、同様にして実施例２、３を下記表１のモノマーを用いて共重合した。この実施例２、３によって作成されたポリカーボネート共重合体をそれぞれ合成例２、３とする。
【０１３５】
【表１】
＜実施例４＞
φ３０ｍｍのアルミニウムシリンダー上に、下記組成の下引き層用塗工液、電荷発生層用塗工液、電荷輸送層用塗工液を順次、塗布、乾燥することにより、３．５μｍの下引き層、０．２μｍの電荷発生層、２２μｍの電荷輸送層を形成した。メタルハライドランプ：１６０Ｗ／ｃｍ、照射距離：１２０ｍｍ、照射強度：５００ｍＷ／ｃｍ２、照射時間：３０秒の条件で光照射を行ない、その後１５０℃で３０分間乾燥し本発明の電子写真感光体を得た。
〔下引き層用塗工液〕
アルキッド樹脂 ６部
（ベッコゾール１３０７−６０−ＥＬ、大日本インキ化学工業製）
メラミン樹脂 ４部
（スーパーベッカミン Ｇ−８２１−６０、大日本インキ化学工業製）
酸化チタン ４０部
メチルエチルケトン ５０部
〔電荷発生層用塗工液〕
下記構造式（Ｉ）のビスアゾ顔料 ２．５部
ポリビニルブチラール（ＸＹＨＬ、ＵＣＣ製） ０．５部
シクロヘキサノン ２００部
メチルエチルケトン ８０部
【０１３６】
【化４５】
構造式I
〔電荷輸送層用塗工液〕
合成例１のポリカーボネート共重合体 ２部
炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質Ｎｏ．１ ２部
トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ） ０．５部
光重合開始剤 ０．２部
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）
テトラヒドロフラン（ＴＨＦ） １６部
１％シリコーンオイル（ＫＦ５０ 信越化学社製）ＴＨＦ溶液 ０．１部
＜実施例５〜８＞
実施例４と同様にして表２の電荷輸送層用塗工液のポリカーボネート樹脂と電荷輸送物質に変えて本発明の感光体を作成した。
【０１３７】
【表２】
＜比較例１＞
実施例４と同様に下引き層、電荷発生層を設けた上に下記電荷輸送層２２μｍを設けた。
〔電荷輸送層用塗工液〕
ビスフェノールＺポリカーボネート １０部
（パンライトＴＳ−２０５０、帝人化成製）
下記構造式（II）の低分子電荷輸送物質（Ｄ−１） ７部
テトラヒドロフラン １００部
１％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液 ０．２部
（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業製）
【０１３８】
【化４６】
構造式II
＜比較例２＞
実施例４と同様に下引き層、電荷発生層を設けた上に下記電荷輸送層２２μｍを設けた。
〔電荷輸送層用塗工液〕
合成例１のポリカーボネート共重合体 ２部
下記構造式（II）の低分子電荷輸送物質（Ｄ−１） １．４部
テトラヒドロフラン １４部
１％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液 ０．１部
（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業製）
【０１３９】
【化４７】
構造式II
＜評価＞
硬度計測にはフィシャー・インストルメンツ社製、微小硬度計 Ｈ−１００を用いて、ビッカース圧子９．８ｍＮの力で３０秒で押し込み、５秒保持し、９．８ｍＮの力で３０秒間で抜き、マルテンス硬度、変形回復率を求めた。結果を以下に示す。
【０１４０】
【表３】
実施例４〜８、比較例１、２の電子写真感光体について、Ａ４サイズ１万枚の通紙試験を実施した。まず、前記感光体を電子写真装置用プロセスカートリッジに装着し、画像露光光源として６５５ｎｍの半導体レーザーを用いたリコー製ｉｍａｇｉｏ Ｎｅｏ ２７０改造機にて初期暗部電位を−７００Ｖに設定した。その後通紙試験を開始し、１万枚複写後の膜厚減少量の測定を行なった。結果を以下に示す。なお、初期から画像不良が著しい感光体は通紙試験を中止した。
【０１４１】
膜厚計測は、フィシャー・インストルメンツ社製 渦電流膜厚計フィシャースコープＭＭＳで計測した。
【０１４２】
【表４】
以上のように本発明の感光体は機械的強度が高く、耐摩耗性が高いものであり、高耐久性が高い。
【０１４３】
＜実施例９＞
φ１００ｍｍアルミニウムシリンダー上に、下記組成の中間層用塗工液、電荷発生層用塗工液、電荷輸送層用塗工液を順次、塗布乾燥することにより、３．５μｍの中間層、０．２μｍの電荷発生層、２０μｍの電荷輸送層を形成した。更に、その上に架橋表面層用塗工液をスプレー法で塗工して、光硬化装置で光硬化させ、その後１５０℃で３０分間乾燥させ７μ硬化電荷輸送層を設けた。
〔中間層用塗工液〕
下記組成をボールミルで２４時間分散して調整した。
【０１４４】
アルキッド樹脂 ６部
（ベッコゾール １３０７−６０−ＥＬ，大日本インキ化学工業製）
メラミン樹脂 ４部
（スーパーベッカミン Ｇ−８２１−６０，大日本インキ化学工業製）
酸化チタン（ＣＲＥＬ 石原産業社製） ４０部
メチルエチルケトン ２００部
〔電荷発生層用塗工液〕
下記組成をボールミルで２４時間分散して調整した。
【０１４５】
オキソチタニウムフタロシアニン顔料 ２部
ポリビニルブチラール（ＵＣＣ：ＸＹＨＬ） ０．２部
テトラヒドロフラン ５０部
〔電荷輸送層用塗工液〕
下記組成を溶解し調整した。
【０１４６】
ポリスチレン（ＭＷ１Ｃ 東洋スチレン社製） １２部
下記構造式（Ｖ）の低分子電荷輸送物質 １２部
【０１４７】
【化４８】
構造式V
ＴＨＦ ９０部
１％シリコーンオイル（ＫＦ５０信越シリコーン社製）ジクロルメタン溶液
１部
〔架橋表面層用塗工液〕
合成例２のポリカーボネート共重合体 １部
Ｎｏ．２０の化合物 １部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート
（ＳＲ−２９５、日本化薬製） ０．５部
ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート
（ＳＲ−３５５、日本化薬製） ０．２５部
光重合開始剤 ０．２部
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）
テトラヒドロフラン ３０部
シクロヘキサノン １０部
＜実施例１０＞
実施例９と同様にして下引き層、電荷発生層、電荷輸送層を設けた上に下記表面架橋層を実施例９と同様に設けた。
〔架橋表面層用塗工液〕
合成例１のポリカーボネート共重合体 １部
Ｎｏ．２４の化合物 １部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート
（ＳＲ−２９５、日本化薬製） ０．５部
ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート
（ＳＲ−３５５、日本化薬製） ０．２５部
光重合開始剤 ０．２部
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）
テトラヒドロフラン ３０部
シクロヘキサノン １０部
＜比較例３＞
実施例９と同様に中間層、電荷発生層を設けた上に電荷輸送層バインダー樹脂をＺポリカ樹脂（ＴＳ２０５０ 帝人化成社製）に変え、膜厚を２７μｍを順次、塗布乾燥することにより感光体を作成した。
【０１４８】
実施例６、７、比較例３の感光体を図３に示した装置、リコー社製イマジオ Ｎｅｏ１０５０Ｐｒｏに装着して１００万枚の通紙試験を行なった。
【０１４９】
【表５】
本来比較例は架橋表面層がないものではあるが、使用した電荷輸送層バインダー樹脂がポリスチレン表層であると機械的強度がなく耐久試験には適さないため強靱なＺポリカ樹脂とした。
【０１５０】
＜実施例１１＞
（分散液１）
１５ｃｍボールミルポットに下記電荷発生物質、溶剤を仕込み、１０φジルコニアメディアを用いて４８時間ボールミルし、その後シクロヘキサノン５００部を加えミルベースを調整した。
【０１５１】
下記構造式の電荷発生物質 ２２部
【０１５２】
【化４９】
シクロヘキサノン ４００部
（塗工液１）
テトラヒドロフラン（ＴＨＦ） ６６部
合成例２のポリカーボネート共重合体 ８部
Ｎｏ．２４化合物 ４部
ポリエチレングリコール ０．２部
（イオネットＭＣ１４００ 三洋化成社）
シリコーンオイル（ＫＦ５０ 信越化学社製） ０．０１部
分散液１を１２部、塗工液１を２０部、混合攪拌して塗工液２を調整した。
【０１５３】
φ３０ｍｍアルミニウムシリンダー上にポリアミド樹脂（ＣＭ８０００ 東レ社製）１０部、メタノール２２０部、ｎ−ブタノール１００部の溶液を５ｍｍ／ｓｅｃで浸漬塗工し、１００℃で１０分間乾燥して０．３μｍの下引き層を設けた。この上に上記塗工液２を塗工して２０μｍの単層感光体を設けた。これをメタルハライドランプ：１６０Ｗ／ｃｍ、照射距離：１２０ｍｍ、照射強度：５００ｍＷ／ｃｍ２、照射時間：６０秒の条件で光照射を行ない、その後１５０℃で３０分間乾燥し本発明の電子写真感光体を得た。
【０１５４】
＜比較例４＞
（塗工液３）
テトラヒドロフラン（ＴＨＦ） ６６部
ポリカーボネート樹脂（Ｃ１４００ 帝人化成社製） ８部
下記構造式（II）の低分子電荷輸送物質（Ｄ−１） ４部
【０１５５】
【化５０】
構造式II
ポリエチレングリコール
（イオネットＭＣ１４００、三洋化成社） ０．２部
シリコーンオイル（ＫＦ５０ 信越化学社製） ０．０１部
分散液１を１２部、塗工液３を２０部、混合攪拌して塗工液４を調整した。
【０１５６】
φ３０ｍｍアルミニウムシリンダー上にポリアミド樹脂（ＣＭ８０００ 東レ社製）１０部、メタノール２２０部、ｎ−ブタノール１００部の溶液を浸漬塗工し、１００℃で１０分間乾燥して０．３μｍの下引き層を設けた。この上に塗工液４を塗工して２０μｍの比較感光体を作成した。
【０１５７】
実施例１１と比較例４の感光体を電子写真装置用プロセスカートリッジに装着し、画像露光光源として６５５ｎｍの半導体レーザーを用い、帯電極性を正帯電としたリコー製ｉｍａｇｉｏ Ｎｅｏ ２７０改造機にて初期暗部電位を７００Ｖに設定した。その後通紙試験を開始し、１０００枚複写試験を行なった。
【０１５８】
実施例１１は鮮明な画像であったが、比較例４の感光体は白スジ、黒スジの発生が確認された。これは表面硬度違いと思われ、実施例感光体は架橋したことによって硬度上昇に伴い耐傷性が向上し鮮明な画像が得られたと考えられる。
【０１５９】
以上、本発明の好ましい実施例について詳述したが、本発明はかかる特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の趣旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１６０】
【図１】本発明の電子写真感光体の断面図の一例である。
【図２】本発明の電子写真感光体の断面図の他の例である。
【図３】本発明の画像形成装置の一例を示す概略図である。
【図４】本発明の画像形成装置用プロセスカートリッジの一例を示す概略図である。
【図５】本発明のジスチリルモノマーの赤外線スペクトルを示すグラフである。
【図６】本発明のジスチリルポリカーボネートの赤外線スペクトルを示すグラフである。
【符号の説明】
【０１６１】
１ 感光体
２ 除電ランプ
３ 帯電チャージャ
４ イレーサ
５ 画像露光部
６ 現像ユニット
７ 転写前チャージャ
８ レジストローラ
９ 転写紙
１０ 転写チャージャ
１１ 分離チャージャ
１２ 分離爪
１３ クリーニング前チャージャ
１４ ファーブラシ
１５ クリーニングブレード
３１ 導電性支持体
３３ 感光層
３５ 電荷発生層
３７ 電荷輸送層
３９ 保護層
１０１ 感光ドラム
１０２ 帯電装置
１０３ 露光
１０４ 現像装置
１０５ 転写体
１０６ 転写装置
１０７ クリーニングブレード
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で示されるジスチルベンポリカーボネートユニットを複数含むポリカーボネート。
【化１】
一般式（１）
（式中、Ｒ１，Ｒ２は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基を表わす。）
【請求項２】
下記一般式（２）で示されるジスチルベンカーボネートユニットとビスフェノール誘導体型カーボネートユニットとを複数含むポリカーボネート共重合体。
【化２】
一般式（２）
（式中、Ｒ１，Ｒ２は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ３、Ｒ４は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、炭素数５〜７のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基を表わし、Ａは単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳｉＯ（ＣＨ３）２−、−ＣＲ５Ｒ６−（Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子、トリフオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル基、又は炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基である。）、炭素数５〜１１の１，１−シクロアルキリデン基を表わし、ａ，ｂはそれぞれ独立に０〜４の整数を表わし、ｈ，ｉは共重合ｍｏｌ％を表わし、ｈは５〜８０、ｉは２０〜９５を表わす。）
【請求項３】
下記一般式（１）で示されるジスチルベンポリカーボネートユニットを複数含むポリカーボネートと、炭素−炭素二重結合を有する重合性電荷輸送物質とからの重合反応生成物を含む層を有することを特徴とする電子写真感光体。
【化３】
一般式（１）
（式中、Ｒ１，Ｒ２は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基を表わす。）
【請求項４】
下記一般式（２）で示されるジスチルベンカーボネートユニットとビスフェノール誘導体型カーボネートユニットとを複数含むポリカーボネート共重合体と、前記炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質とからの硬化させられた最上層を有することを特徴とする電子写真感光体。
【化４】
一般式（２）
（式中、Ｒ１，Ｒ２は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ３、Ｒ４は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、炭素数５〜７のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基を表わし、Ａは単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳｉＯ（ＣＨ３）２−、−ＣＲ５Ｒ６−（Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子、トリフオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル基、又は炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基である。）、炭素数５〜１１の１，１−シクロアルキリデン基を表わし、ａ，ｂはそれぞれ独立に０〜４の整数を表わし、ｈ，ｉは共重合ｍｏｌ％を表わし、ｈは５〜８０、ｉは２０〜９５を表わす。）
【請求項５】
前記炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質が下記一般式（３）、一般式（４）で示されるものであることを特徴とする請求項３又は４に記載の電子写真感光体。
【化５】
一般式（３）
【化６】
一般式（４）
（式中、Ａｃｔは、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基から選択される炭素−炭素二重結合を表わし、Ｒ７，Ｒ８，Ｒ９，Ｒ１０，Ｒ１１，Ｒ１２は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基を表わし、ｃ，ｄは１≦ｃ＋ｄ≦４を満たす整数、ｅ，ｆは１≦ｅ＋ｆ≦４を満たす整数である。）
【請求項６】
前記炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質が下記一般式（５）で示されるものであることを特徴とする請求項３又は４に記載の電子写真感光体。
【化７】
一般式（５）
（式中、Ａｃｔは炭素−炭素二重結合を表わし、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基を表わし、Ｒ２０，Ｒ２１は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基を表わし、Ａｒ１は置換、無置換のアリーレン基を表わし、ｇ，ｋ，ｏはそれぞれ独立に０〜２の整数を表わし、ｖは０又は１を表わす。）
【請求項７】
前記炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質が下記一般式（６）で示されるものであることを特徴とする請求項３又は４に記載の電子写真感光体。
【化８】
一般式（６）
（式中、Ａｃｔは、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基から選択される炭素−炭素二重結合を表わし、Ｒ２２，Ｒ２３は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基を表わし、炭素数１〜４のアルコキシ基を表わし、ｐ，ｑはそれぞれ独立に０〜２の整数を表わす。）
【請求項８】
前記炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質が下記一般式（７）で示されるものであることを特徴とする請求項３又は４に記載の電子写真感光体。
【化９】
一般式（７）
（式中、Ａｃｔは、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基から選択された炭素−炭素二重結合を表わし、Ａｒ２，Ａｒ３は置換、無置換のアリール基を表わし、
Ｂは、
【化１０】
を表わし、ここでＲ２４，Ｒ２５は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、置換、無置換のアリール基を表わし、ｒは１〜２の整数を表わす。）
【請求項９】
前記炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質が下記一般式（８）で示されるものであることを特徴とする請求項３又は４に記載の電子写真感光体。
【化１１】
一般式（８）
（式中、Ａｃｔは、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基から選択された炭素−炭素二重結合を表わし、Ａｒ４は置換、無置換のアリール基を表わし、ｓ，ｕはそれぞれ独立に０〜２の整数を表わす。）
【請求項１０】
下記一般式（１）又は（２）で示されるポリカーボネート共重合体、炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質、及びアクリロイルオキシ基及び／又はメタクリロイルオキシ基を有するラジカル重合性モノマーの重合反応性生成物が感光層の最上層に含有されたことを特徴とする電子写真感光体。
【化１２】
一般式（１）
（式中、Ｒ１，Ｒ２は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基を表わす。）
【化１３】
一般式（２）
（式中、Ｒ１，Ｒ２は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ３、Ｒ４は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、炭素数５〜７のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基を表わし、Ａは単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳｉＯ（ＣＨ３）２−、−ＣＲ５Ｒ６−（Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子、トリフオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル基、又は炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基である。）、又は炭素数５〜１１の１，１−シクロアルキリデン基を表わし、ａ，ｂはそれぞれ独立に０〜４の整数を表わし、ｈ，ｉは共重合ｍｏｌ％を表わし、ｈは５〜８０、ｉは２０〜９５を表わす。）
【請求項１１】
前記炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質は、上記一般式（３）乃至（８）の群から選択できることを特徴とする請求項１０に記載の電子写真感光体。
【請求項１２】
電子写真感光体が請求項３乃至１１のいずれか一項に記載のものである電子写真感光体を用い、少なくとも該電子写真感光体に帯電、画像露光、現像の過程を経た後、画像保持体へのトナー画像の転写、定着及び該電子写真感光体表面のクリーニングによって画像形成を行うことを特徴とする画像形成方法。
【請求項１３】
少なくとも、帯電手段、画像露光手段、現像手段、転写手段及び電子写真感光体を具備した画像形成装置において、該電子写真感光体が請求項３乃至１１のいずれか一項に記載のものであることを特徴とする画像形成装置。
【請求項１４】
請求項３乃至１１のいずれか一項に記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、クリーニング手段より選ばれる少なくとも１つの手段とを一体的に支持し、画像形成装置本体に着脱自在であることを特徴とする画像形成装置用プロセスカートリッジ。
【請求項１】
下記一般式（１）で示されるジスチルベンポリカーボネートユニットを複数含むポリカーボネート。
【化１】
一般式（１）
（式中、Ｒ１，Ｒ２は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基を表わす。）
【請求項２】
下記一般式（２）で示されるジスチルベンカーボネートユニットとビスフェノール誘導体型カーボネートユニットとを複数含むポリカーボネート共重合体。
【化２】
一般式（２）
（式中、Ｒ１，Ｒ２は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ３、Ｒ４は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、炭素数５〜７のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基を表わし、Ａは単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳｉＯ（ＣＨ３）２−、−ＣＲ５Ｒ６−（Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子、トリフオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル基、又は炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基である。）、炭素数５〜１１の１，１−シクロアルキリデン基を表わし、ａ，ｂはそれぞれ独立に０〜４の整数を表わし、ｈ，ｉは共重合ｍｏｌ％を表わし、ｈは５〜８０、ｉは２０〜９５を表わす。）
【請求項３】
下記一般式（１）で示されるジスチルベンポリカーボネートユニットを複数含むポリカーボネートと、炭素−炭素二重結合を有する重合性電荷輸送物質とからの重合反応生成物を含む層を有することを特徴とする電子写真感光体。
【化３】
一般式（１）
（式中、Ｒ１，Ｒ２は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基を表わす。）
【請求項４】
下記一般式（２）で示されるジスチルベンカーボネートユニットとビスフェノール誘導体型カーボネートユニットとを複数含むポリカーボネート共重合体と、前記炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質とからの硬化させられた最上層を有することを特徴とする電子写真感光体。
【化４】
一般式（２）
（式中、Ｒ１，Ｒ２は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ３、Ｒ４は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、炭素数５〜７のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基を表わし、Ａは単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳｉＯ（ＣＨ３）２−、−ＣＲ５Ｒ６−（Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子、トリフオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル基、又は炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基である。）、炭素数５〜１１の１，１−シクロアルキリデン基を表わし、ａ，ｂはそれぞれ独立に０〜４の整数を表わし、ｈ，ｉは共重合ｍｏｌ％を表わし、ｈは５〜８０、ｉは２０〜９５を表わす。）
【請求項５】
前記炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質が下記一般式（３）、一般式（４）で示されるものであることを特徴とする請求項３又は４に記載の電子写真感光体。
【化５】
一般式（３）
【化６】
一般式（４）
（式中、Ａｃｔは、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基から選択される炭素−炭素二重結合を表わし、Ｒ７，Ｒ８，Ｒ９，Ｒ１０，Ｒ１１，Ｒ１２は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基を表わし、ｃ，ｄは１≦ｃ＋ｄ≦４を満たす整数、ｅ，ｆは１≦ｅ＋ｆ≦４を満たす整数である。）
【請求項６】
前記炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質が下記一般式（５）で示されるものであることを特徴とする請求項３又は４に記載の電子写真感光体。
【化７】
一般式（５）
（式中、Ａｃｔは炭素−炭素二重結合を表わし、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基を表わし、Ｒ２０，Ｒ２１は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基を表わし、Ａｒ１は置換、無置換のアリーレン基を表わし、ｇ，ｋ，ｏはそれぞれ独立に０〜２の整数を表わし、ｖは０又は１を表わす。）
【請求項７】
前記炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質が下記一般式（６）で示されるものであることを特徴とする請求項３又は４に記載の電子写真感光体。
【化８】
一般式（６）
（式中、Ａｃｔは、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基から選択される炭素−炭素二重結合を表わし、Ｒ２２，Ｒ２３は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基を表わし、炭素数１〜４のアルコキシ基を表わし、ｐ，ｑはそれぞれ独立に０〜２の整数を表わす。）
【請求項８】
前記炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質が下記一般式（７）で示されるものであることを特徴とする請求項３又は４に記載の電子写真感光体。
【化９】
一般式（７）
（式中、Ａｃｔは、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基から選択された炭素−炭素二重結合を表わし、Ａｒ２，Ａｒ３は置換、無置換のアリール基を表わし、
Ｂは、
【化１０】
を表わし、ここでＲ２４，Ｒ２５は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、置換、無置換のアリール基を表わし、ｒは１〜２の整数を表わす。）
【請求項９】
前記炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質が下記一般式（８）で示されるものであることを特徴とする請求項３又は４に記載の電子写真感光体。
【化１１】
一般式（８）
（式中、Ａｃｔは、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基から選択された炭素−炭素二重結合を表わし、Ａｒ４は置換、無置換のアリール基を表わし、ｓ，ｕはそれぞれ独立に０〜２の整数を表わす。）
【請求項１０】
下記一般式（１）又は（２）で示されるポリカーボネート共重合体、炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質、及びアクリロイルオキシ基及び／又はメタクリロイルオキシ基を有するラジカル重合性モノマーの重合反応性生成物が感光層の最上層に含有されたことを特徴とする電子写真感光体。
【化１２】
一般式（１）
（式中、Ｒ１，Ｒ２は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基を表わす。）
【化１３】
一般式（２）
（式中、Ｒ１，Ｒ２は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ３、Ｒ４は水素、同一、又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、炭素数５〜７のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基を表わし、Ａは単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳｉＯ（ＣＨ３）２−、−ＣＲ５Ｒ６−（Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子、トリフオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル基、又は炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基である。）、又は炭素数５〜１１の１，１−シクロアルキリデン基を表わし、ａ，ｂはそれぞれ独立に０〜４の整数を表わし、ｈ，ｉは共重合ｍｏｌ％を表わし、ｈは５〜８０、ｉは２０〜９５を表わす。）
【請求項１１】
前記炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質は、上記一般式（３）乃至（８）の群から選択できることを特徴とする請求項１０に記載の電子写真感光体。
【請求項１２】
電子写真感光体が請求項３乃至１１のいずれか一項に記載のものである電子写真感光体を用い、少なくとも該電子写真感光体に帯電、画像露光、現像の過程を経た後、画像保持体へのトナー画像の転写、定着及び該電子写真感光体表面のクリーニングによって画像形成を行うことを特徴とする画像形成方法。
【請求項１３】
少なくとも、帯電手段、画像露光手段、現像手段、転写手段及び電子写真感光体を具備した画像形成装置において、該電子写真感光体が請求項３乃至１１のいずれか一項に記載のものであることを特徴とする画像形成装置。
【請求項１４】
請求項３乃至１１のいずれか一項に記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、クリーニング手段より選ばれる少なくとも１つの手段とを一体的に支持し、画像形成装置本体に着脱自在であることを特徴とする画像形成装置用プロセスカートリッジ。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２００８−１１５３３７（Ｐ２００８−１１５３３７Ａ）
【公開日】平成２０年５月２２日（２００８．５．２２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−３０２１３８（Ｐ２００６−３０２１３８）
【出願日】平成１８年１１月７日（２００６．１１．７）
【出願人】（０００００６７４７）株式会社リコー (37,907)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年５月２２日（２００８．５．２２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年１１月７日（２００６．１１．７）
【出願人】（０００００６７４７）株式会社リコー (37,907)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]