説明

ジメチルアミンを除去するプロセス

ジメチルホルムアミド(DMF)の存在下でスクロース−6−アシレートの塩素化から生じるスクラロース−6−アシレートを含む供給流の反応容器中で、脱アシル化前及び/又は脱アシル化中及び/又は脱アシル化後にジメチルアミン(DMA)を除去するプロセスであって、該脱アシル化が温度、pH及び圧力の条件の第1の組で実施されるプロセスであり、(a)前記反応容器から該反応容器への側流ループを設けること、並びに(b)前記ループにおける温度、pH及び圧力の1つ又は複数の条件を調節すると共に、該ループを通る流量を設定して、炭水化物分解を最低限に抑えながらDMAを除去する、調節すると共に設定することを含む、プロセス。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、スクラロースの製造中にジメチルアミン(DMA)を除去し、好ましくはさらに回収するプロセスに関する。
【0002】
【化1】

【背景技術】
【0003】
スクラロースは、ジメチルホルムアミド(DMF)のような第三級アミドの存在下でスクロース−6−アシレートを塩素化して、塩素化されたスクロース−6−エステルの混合物(その最大の構成成分は、4,1’,6’−トリクロロ−4,1’,6’−トリデオキシ−ガラクトスクロース−6−エステルである)を形成し、続いて高pHでクエンチ(quenching)することによって通常調製されるが、その後、DMFは除去され、該アシレートは、加水分解されて粗スクラロースを形成した後、精製される。
【0004】
したがって、DMFは、塩素化中の溶媒及び反応物の両方として有用である。しかしながら、DMFが直接的又は間接的にDMAへ分解された場合でさえ、コスト効率が高い製造は、多数の流からのこの溶媒の回収に依存する。この回収は、DMFのコスト、及び生成されるスクラロース1モルにつき、2〜20モルのDMFが最終的にDMAへ変換され得るという事実のため経済的に重要である。したがって、溶媒の回収は、プロセスの経済性にとって非常に重要である。同様に、高レベルのDMAへのバイオマスの曝露によって生物学的廃棄物処理システム(biological waste treatment system)を阻害及び抑制することは望ましくない。
【0005】
DMFを再生するために、ナトリウムメトキシド触媒を用いた非水性条件下で、DMAをCOと反応させることは既知の技術である。したがって、DMAの安全かつ経済的な回収を使用して、スクラロース製造で失われた高価なDMFを置き換えることができる。
【0006】
DMAを蒸留により精製及び濃縮し、COと反応させて、主要DMF精製システムへの再利用のためにDMFを再形成させる。次に、別個の溶媒を含まない炭水化物廃棄物流(carbohydrate waste streams)を中和して、溶媒による妨害を伴わずに生物学的に処理することができる。
【0007】
DMAが所望の炭水化物流に混入している場合、炭水化物を保存しつつ、強力な塩基の添加により揮発性DMAを遊離させ、したがってDMAの蒸留を可能にするのに慎重な選択が行われなくてはならない。DMAが、望ましい炭水化物の存在下で存在する場合、好適な脱アシル化並びにスクラロースの望ましくない分解のような反応が起こり得る。したがって、DMAを除去及び回収することは望ましいが、同時に、副生成物の形成を最低限に抑えることによってスクラロースの収率を最大にすることが望ましい。
【発明の概要】
【0008】
本発明の目的は、脱アシル化中、又は脱アシル化前若しくは後に、DMAの少なくとも一部を除去すること、好ましくはさらに回収することであり、それにより脱アシル化は、DMFストリッピング(DMF stripping)の前又は後に行われる。
【0009】
したがって、本発明の第1の態様は、ジメチルホルムアミド(DMF)の存在下でスクロース−6−アシレートの塩素化から生じるスクラロース−6−アシレートを含む供給流(feed stream)の反応容器中で、脱アシル化前及び/又は脱アシル化中及び/又は脱アシル化後にジメチルアミン(DMA)を除去するプロセスであって、該脱アシル化が温度、pH及び圧力の条件の第1の組で実施されるプロセスであり、
(a)前記反応容器から該反応容器への側流ループを設けること、並びに
(b)前記ループにおける温度、pH及び圧力の1つ又は複数の条件を調節すると共に、該ループを通る流量を設定して、炭水化物分解を最低限に抑えながらDMAを除去することを含む、プロセスをここに提供する。
【0010】
本発明の第2の態様は、スクラロースを製造するプロセスであって、
(i)ジメチルホルムアミド(DMF)の存在下でスクロース−6−アシレートの塩素化から生じるスクラロース−6−アシレートを含む供給流の反応容器中で、脱アシル化前及び/又は脱アシル化中及び/又は脱アシル化後にジメチルアミン(DMA)を除去する工程であって、該脱アシル化が温度、pH及び圧力の条件の第1の組で実施され、
(a)前記反応容器から該反応容器への側流ループを設けること、並びに
(b)前記ループにおける温度、pH及び圧力の1つ又は複数の条件を調節すると共に、該ループを通る流量を設定して、炭水化物分解を最低限に抑えながらDMAを除去することを含む、工程、
(ii)スクラロースを前記反応容器の内容物から単離する工程、並びに必要に応じて、
(iii)前記単離したスクラロースを精製する工程を含む、プロセスを提供する。
【0011】
本発明の一実施の形態によれば、側流ループにおけるDMA除去は、実質的に脱アシル化反応中に行われる。しかしながら、DMA除去は、大幅な脱アシル化が始まる前に始まってもよく、脱アシル化反応後には実質的に終結されている。
【0012】
脱アシル化反応に関する条件の第1の組は通常、下記の通りである。
【0013】
本温度は通常、−5℃〜20℃である。
【0014】
圧力は通常、大気圧に近く、例えば760±100トール(torr)(101.3±13.3kPa)である。
【0015】
pHは通常、9.5〜12.5である。
【0016】
本発明のプロセスに関する供給流は、スクロースのアシル化、及び塩素化、及び必要に応じてDMF除去により調製される。これらの手順は、以下でより詳細に記載される。本発明の方法は、クエンチされた塩素化反応混合物(quenched chlorination reaction mixture)に対して実行される。
【0017】
脱アシル化を行うために、供給流のpHは通常、塩素化反応のクエンチが実行されたレベルを超えるレベルに上昇させる。これは、塩基による供給流の処理により達成することができる。任意の好適な塩基を使用してもよく、好適な塩基は、塩素化反応のクエンチ用の塩基として以下で記載されるものである。便宜上、脱アシル化及びクエンチに関して同じ塩基を使用することが好ましい。両方の場合において塩基として水酸化ナトリウムを使用することが特に好ましい。
【0018】
概して、より高いpH値での脱アシル化は、比較的より低温で最良に機能し、より低いpH値は、比較的より高温で最良に機能することを本出願人は見出した。したがって、本発明の幾つかの実施の形態では、脱アシル化に採用される温度及び圧力は、以下の方程式に従って選択され得る:
T(℃)=(−14.724)(pH)+193.52±5(又は幾つかの実施の形態では±2)
【0019】
脱アシル化で採用される温度、圧力及びpHの条件の1つ又は複数は、一般的により厳しい条件(例えば、より高温及び/又はより高いpH)を達成するように、側流ループで調節される。これらのより厳しい条件は、DMA除去を助長するが、同様に炭水化物分解、特に「アンヒドロ(anhydro)」、即ち3’,6’−アンヒドロ−4,1’−ジクロロガラクトスクロースの形成ももたらし得る。より厳しい条件はまた、さらなるDMA形成をもたらし得る。この影響は、側流ループにおいて該条件への材料の曝露を低減させることによって軽減される。このことは、いずれか1つの時点におけるループ容積及びループを通る流量を設定することによって達成することができる。
【0020】
ループ中の温度は、例えば5℃〜50℃、好ましくは10℃〜40℃、より好ましくは15℃〜20℃上昇させてもよい。温度は、例えば20℃〜50℃へ、好ましくは30℃〜50℃へ、より好ましくは40℃〜50℃へ上昇させてもよい。
【0021】
ループ中の圧力は、例えば20トール〜600トール(2.7kPa〜80.0kPa)へ、好ましくは20トール〜80トール(2.7kPa〜10.7kPa)へ、さらに好ましくは25トール〜60トール(3.3kPa〜8.0kPa)へ低下させてもよい。
【0022】
本発明の一実施の形態によれば、ループ中のpHは調節されない。したがって、ループ中のpHの調節は、本発明では任意である。
【0023】
本発明の別の実施の形態によれば、ループ中のpHは上昇させる。pHを上昇させる場合、pHは、少なくとも0.5pH単位、より好ましくは少なくとも1.0pH単位上昇させることが好ましい。同様に、pHは、少なくとも1.5pH単位、又は少なくとも2.0pH単位上昇させてもよい。しかしながら、ループ中のpHは、pH13よりも高くないpHへ、より好ましくはpH12.5よりも高くないpHへ上昇させることが好ましい。
【0024】
pHは、より多くの塩基を添加することによって調節され得る。添加することができる塩基は好ましくは、脱アシル化反応における使用に関して上述されるのと同じ塩基から選択される。塩基は好ましくは、脱アシル化反応で使用されるものと同じである。
【0025】
ループ容積は、いずれか1つの時点における側流ループにおける流の容積である。ループ容積は、脱アシル化反応容器容積の比率として表される。ループ容積は、好ましくは脱アシル化反応容器容積の1/3〜1/500、より好ましくは脱アシル化反応容器容積の1/5〜1/100である。
【0026】
「ループ容積(loop volume)」及び「脱アシル化反応容器容積(deacylation reaction vessel volume)」は、脱アシル化のバッチタイプの運転に関連して定義される。しかしながら、本発明による脱アシル化は、バッチプロセスとして又は連続プロセスとして実行することができる。脱アシル化が連続的に実行される場合、「容積(volume)」は、「単位時間当たりの容積(volume per unit time)」として理解されなくてはならない。「脱アシル化反応容器(deacylation reaction vessel)」という用語は、脱アシル化がバッチプロセスとして実行されようと、又は連続プロセスとして実行されようと、その中で脱アシル化が実行される装置として解釈される。
【0027】
ループを通る流量は、脱アシル化時間中に脱アシル化反応容器の1倍容量〜5倍容量、好ましくは2倍容量〜4倍容量を回転させる(turn over)ようなものであることが好ましい。
【0028】
上記パラメータに従って、下記方程式を確立することができる:
R=(X×V+L)/T
(式中、
R=V、L及びTにより規定される容積/時間の単位でのループを通る流量
X=ループを通る脱アシル化容積の回転(turnovers)の数
V=脱アシル化反応容器容積
L=Vと同じ単位でのループ容積
T=脱アシル化に関する総時間、又はループにおけるDMA除去を実行するのに費やされる時間)。
【0029】
ループは好ましくは、凝縮カラムを含む。DMAは通常、凝縮カラムを通って減圧条件下で除去される。
【0030】
好ましくは、ループは、ループへ供給される際に反応容器の液体出口を加熱するように配置された加熱用媒体で加熱される熱交換器を含む。加熱用媒体の温度は好ましくは、ループにおける標的加熱温度に近いが、それ以上である。
【0031】
好ましくは、ループは、反応容器へ供給し戻される際にループの液体出口を冷却するように配置された冷却用媒体で冷却される熱交換器を含む。冷却用媒体の温度は、好ましくは−3℃〜50℃、より好ましくは10℃〜30℃、さらに好ましくは15℃〜25℃である。
【0032】
脱アシル化反応は、HPLCで利便性良くモニタリングされ得る。最適な収率のためには、脱アシル化反応の進行をモニタリングして、反応が完了した場合に反応混合物を中和することは重要である。反応混合物のpHは、6〜8.5、好ましくはおよそ7.5へ調節すべきである。反応混合物は、塩酸水溶液を使用して又はクエン酸若しくは酢酸を使用して、利便性良く中和することができる。あるいは、反応混合物は、気体状二酸化炭素で中和することができる。
【0033】
スクロース−6−アシレートの調製
スクロースの6−ヒドロキシルの選択的保護は、有機スズベースのアシル化促進剤の存在下、無水極性非プロトン性溶媒(通常はDMF、本発明のための供給流を調製するのに使用される場合、DMFが好ましい)中で、スクロース−6−エステルを生成させるのに十分な温度及び期間で、スクロースと無水酢酸又は無水安息香酸等のカルボン酸無水物とを反応させることによって実行することができる。6−エステル基は6位のヒドロキシルを塩素化反応から保護する。したがって、塩素化反応条件に安定であり、得られたスクラロースに影響を与えない条件下で除去することができる任意のエステル基が使用され得る。スクロース−6−アセテートを調製する場合、有機スズベースのアシル化促進剤として、例えば1,3−ジアセトキシ−1,1,3,3−テトラブチルジスタンノキサン、及びカルボン酸無水物として無水酢酸を使用することができる。スクロース−6−エステルの調製は、例えばO' Brienの米国特許第4,783,526号、Naviaの米国特許第4,950,746号、Simpsonの米国特許第4,889,928号、Neiditchの米国特許第5,023,329号、Walkupの米国特許第5,089,608号、Vernonの米国特許第5,034,551号、Sankeyの米国特許第5,470,969号、Kahnの米国特許第5,440,026号、Clarkの米国特許第6,939,962号、及びLiの米国特許出願公開第2007/0227897号(それらの開示が全て、参照により本明細書中に援用される)に開示されている。
【0034】
スクロース−6−アシレートは、塩素化反応中に6−ヒドロキシ基を保護するのに役立つ任意のアシレートであり得る。スクロース−6−アシレートは好ましくは、脂肪族又は炭素環式芳香族アシレート、より好ましくはベンゾエート又はアセテート、最も好ましくはアセテートである。
【0035】
スクロース−6−アシレートの塩素化
本発明の供給流を生成するための塩素化反応は、欧州特許第0043649号、欧州特許第0409549号、米国特許出願公開第2006/0205936号及び米国特許出願公開第2007/0100139号に開示される方法のような多数の方法により実行され得る。
【0036】
スクロース−6−アシレートの4位、1’位及び6’位を塩素化するために、多数の塩素化剤が使用され得る。好適な例としては、ホスゲン、アーノルド試薬((クロロメチレン)ジメチルイミニウムクロリドとして、又は(クロロメチレン)ジメチルアンモニウムクロリド)としても既知である)、オキシ塩化リン、五塩化リン、塩化チオニル、塩化オキサリル、塩化メタンスルホニル、塩化スルフリル、ジホスゲン(トリクロロメチルクロロホルメート)及びトリホスゲン(ビス(トリクロロメチル)カーボネート)からなる群から選択されるものが挙げられる。当業者に既知の他の好適な塩素化剤もまた使用され得る。好ましくは、塩素化剤は、ホスゲン又はアーノルド試薬である。
【0037】
本明細書中で使用される場合、「反応媒体(reaction vehicle)」という用語は、その中で塩素化反応が行なわれる希釈液又は溶媒を意味する。該用語は、媒体が反応の全成分及び生成混合物を完全には溶解しない場合があることを示すことを意味する。用いられる塩素化試薬に応じて多数の種類の反応媒体を使用することができ、塩素化条件下で安定であり、出発物質、試薬、及び生成物を少なくとも或る程度溶解する任意の反応媒体を使用することができる。本発明による反応媒体はDMFを含む。塩素化反応中のDMFと全炭水化物との重量比は、約5:1〜約12:1であり得る。
【0038】
反応媒体はさらに、第三級アミドに加えて1つ又は複数の共溶媒を含んでもよい。好適な共溶媒は、1,2−ジクロロエタン、1,2−ジエトキシエタン、トルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレン、クロロホルム、ジクロロメタン及びそれらの混合物からなる群から選択される。
【0039】
塩素化剤はスクロース−6−アシレートに対して過剰に、好ましくは大過剰に添加するのが好ましい。4位、1’位、及び6’位を塩素化するためには、スクロース−6−アシレート1モル当たり少なくとも3モル当量の塩素化剤が必要とされる。したがって、塩素化剤の過剰量とは、スクロース−6−アシレート1モル当たり3モル当量を超える任意の量である。好ましい実施の形態では、塩素化剤は、スクロース−6−アシレート1モル当たり少なくとも7モル当量の量で添加される。典型的には、塩素化剤とスクロース−6−アシレートとのモル比は、約7:1〜約11:1である。
【0040】
塩素化を達成するために、多数の反応条件を用いることができる。Walkupの米国特許第4,980,463号(その開示が参照により本明細書中に援用される)は例えば、塩素化を2つの異なる温度(約85℃以下の温度、及び少なくとも約100℃であるが約130℃以下の温度)で実行して、塩素化を行う2段階プロセスを開示している。Fryの米国特許出願公開第2007/0100139号(その開示が参照により本明細書中に援用される)は、反応混合物を75℃〜100℃に加熱して塩素化を行うプロセスを開示している。
【0041】
概して、塩素化反応の反応温度は、典型的には85℃〜130℃である。
【0042】
塩素化の反応時間は、用いられる温度に応じて異なり、温度が低ければ必要とされる反応時間が長くなる。当業者は反応をモニタリングすることによって、所与の反応温度に対する最適反応時間を容易に決定することができる。反応時間が過度に短いと、4,1’,6’−トリクロロ−4,1’,6’−トリデオキシ−ガラクトスクロース−6−アシレートへの不十分な変換が起こる。反応時間が過度に長いと、過塩素化が起こり、四塩素化副生成物のレベルが上昇する。
【0043】
塩素化の後に、プロセス流を、例えば塩基でクエンチして、スクラロース−6−アシレート及び塩基の酸塩を得る。
【0044】
多数の異なる塩基をクエンチ(quenching)に使用することができる。クエンチに好ましい塩基としては、アルカリ金属水酸化物若しくはアルカリ土類金属水酸化物、又は水酸化アンモニウムが挙げられる。アルカリ金属水酸化物としては、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムが特に好適である。アルカリ土類金属水酸化物としては、水酸化カルシウムが特に好適である。水酸化ナトリウムが、その入手し易さ及びコストの低さのためにクエンチに最も好ましい塩基である。当業者に既知の他の塩基をクエンチに使用することもできる。クエンチは好ましくは、塩基の水溶液を用いて実行される。水溶液は、約5重量%〜約50重量%、通常約8重量%〜約40重量%の塩基を含有し得る。これらの範囲内で、塩基の溶液は、「濃(concentrated)」又は「希(dilute)」のいずれかであり得る。塩基の溶液が濃である場合、塩の沈降が想定され、これらの場合、好適な濃度は、13重量%〜50重量%、好ましくは25重量%〜45重量%、より好ましくは約35重量%である。塩基の溶液が希である場合、塩の沈降は想定されず、この場合、好適な濃度は、5重量%〜15重量%、好ましくは8重量%〜13重量%、より好ましくは10重量%〜11重量%である。
【0045】
クエンチの間、プロセス流のpHを制御するのが好ましいが、これは概して、クエンチが起こっている間脱アシル化を最小限に抑えるのが好ましいためである。このpH制御は、プロセス流中のpHをモニタリングしながら塩基の水溶液の添加速度を制御することによって容易に達成可能である。当業者に既知の任意のpH制御添加方法を使用することができる。
【0046】
好適には、クエンチの間、流のpHを約7.5〜約10.5、好ましくは約8.5〜約10.5、より好ましくは約9.5〜約10、より好ましくは約9.5〜約9.75の範囲に維持する。任意で、添加の間pHをより低いレベル、例えば約4.5に維持し、次いで全ての塩基が添加された時点で好ましいpHまで上昇させてもよい。ただし、脱アシル化が独立した工程として実行される場合、一般にクエンチの間pHが約10を越えるのは避けるべきである、なぜなら脱アシル化が続いて起こる可能性があるからである。pHが局所的に極端になることを避けるためには、反応混合物はクエンチ手順の間中、十分に混合されるべきである。
【0047】
クエンチ中の流の温度は、0℃超〜約80℃の範囲、例えば10℃〜60℃の範囲、好ましくは約12℃〜約35℃の範囲に維持するのが好適であり得る。
【0048】
クエンチは、米国特許第5,530,106号及び米国特許第5,498,709号に記載される「二重流クエンチ(dual stream quench)」方法によって実施してもよい。
【0049】
二重流プロセスにおいては、反応容器に供給材料をゆっくりと添加すると同時に、塩基水溶液をゆっくりと添加することによってクエンチ条件が達成される。DMF等の第三級アミドの水溶液を反応容器に初めに入れておいてもよい。塩基水溶液及び供給材料をゆっくりと添加することによって、添加の間pH及び温度の両方を制御することが可能となる。供給材料及び塩基水溶液は、所望の量の供給材料が添加されるまで同時にゆっくりと添加する。所望のpHに達するまで、さらなる塩基水溶液を添加する。次いで、反応の残りの時間中、温度及びpHを所望のレベルに維持する。好ましくは、クエンチ反応の時間中、pHは約10.5を超えないようにする。
【0050】
クエンチは代替的に循環プロセスによって実行することができる。循環プロセスにおいては、クエンチ条件は、供給混合物(feed mixture)を容器から循環ループを通して循環させることによって達成される。供給混合物及び塩基水溶液(aqueous base)はこの循環ループ内にゆっくりと添加される。塩基水溶液及び供給材料(feed material)をゆっくりと添加することによって、添加の間pH及び温度の両方を制御することが可能となる。所望のpHに達するまで、十分な塩基水溶液を添加する。次いで、反応の残りの時間中、温度及びpHを所望のレベルに維持する。このプロセスはバッチモードで行っても、又は連続モードで行ってもよい。好ましくは、クエンチ反応の時間中、pHは約10.5を超えないようにする。
【0051】
クエンチの後、反応混合物は、酸性水溶液、例えば塩酸水溶液の添加により中和することもできる。代替的には、反応混合物を先に中和することなく、脱アシル化まで進めることができる。
【0052】
DMF除去
本発明による脱アシル化/DMA除去の組合せは、クエンチされた塩素化反応混合物に対して直接実行することができ、又はDMFは、脱アシル化/DMA除去前に除去することができる。
【0053】
DMFは必要に応じて、脱アシル化の前に、クエンチされた塩素化反応混合物から除去することができる。このDMF除去は、蒸留、減圧蒸留、水蒸気蒸留、水蒸気ストリッピング(steam stripping)のような当該技術分野で既知の手段により、又は攪拌薄膜乾燥機若しくは噴霧乾燥器の使用により実行することができる。DMFの除去は、水蒸気ストリッピングにより実行されることが好ましい。かかる水蒸気ストリッピングは、欧州特許第0708110号(その開示が参照により本明細書中に援用される)に記載されるように実行され得る。
【0054】
あるいは、DMFは、塩素化クエンチの前に除去することができる。この手順は、2009年3月27日に出願された同時係属中の米国仮出願第61/164,075号及び2009年3月30日に出願された同第61/164,703号(それらの開示が参照により本明細書中に援用される)に記載されている。
【0055】
DMFはまた、本発明によれば、脱アシル化/DMA除去後に除去することができる。DMF除去が脱アシル化後に実行されるプロセスは、同時係属中の米国仮出願第61/039,616号及び国際出願PCT/GB2009/000006号(それらの開示が参照により本明細書中に援用される)に開示される。
【0056】
スクラロースの精製
本発明の幾つかの実施の形態によれば、スクラロースは、本発明による脱アシル化/DMA除去後に単離される。
【0057】
スクラロースを単離及び/又は精製する方法は、米国特許第6890581号、米国特許第5977349号、米国特許第6943248号、米国特許第6998480号、米国特許第7049435号、米国特許第6809198号、米国特許第6646121号、米国特許第5298611号、米国特許第5498709号、米国特許出願公開第2006/0188629号、米国特許出願公開第2006/0276639号、米国特許出願公開第2007/0015916号、米国特許出願公開第2007/0160732号及び米国特許出願公開第2007/0270583号(それらの開示が全て、参照により本明細書中に援用される)に開示されている。
【0058】
精製方法としては、液/液抽出、結晶化、クロマトグラフィ及びこれらの組合せが挙げられる。
【0059】
本発明はここで、下記の好ましい実施形態の説明及び実施例によって、並びに添付の図面を参照して、より詳細に説明される。
【図面の簡単な説明】
【0060】
【図1】種々のpH値での不純物形成に対する流量の影響を示す図である。
【図2】本発明の一実施形態における使用のための装置を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【0061】
本発明のプロセスを実行する主な目的は、ストリッピング容器から除去されたDMAをDMFへ変換させることである。このことは、当該技術分野で既知であるように、ナトリウムメトキシド触媒を使用した非水性条件下でのCOとの反応により達成することができる。好ましくは、DMFは続いて再利用されて、少なくとも1つのより初期のプロセス段階、特にスクロース−6−アシレートの塩素化を含むより初期のプロセス段階で使用される。同様に、好ましくは、少なくとも1つのより初期のプロセス段階は、スクロースの6−ヒドロキシ基のアシル化を含む。
【0062】
好ましいアシレートは、アセテート及びベンゾエートを含む。好ましくは、脱アシル化は、水酸化アンモニウム及び金属水酸化物、好ましくはアルカリ金属水酸化物又はアルカリ土類金属水酸化物、特に水酸化ナトリウム並びにこれらの混合物から選択される1つ又は複数の水酸化物の存在下で行われる。
【0063】
一般的に言えば、DMA除去の非限定的な概要は下記の通りである:
【0064】
1)DMAHClは塩形態である:媒体のpHが増大されるにつれ、DMAの%が増大する。DMAは、pHを11を超えて増大させることによって除去され得るが、遊離形態でDMAが存在するpHを超える(即ち、pH8を超える)任意のpHが可能である。しかしながら、pHが約pH10を下回るにつれ、DMA除去の量は徐々に減少する。DMAをストリッピングして除く(strip off)ために側流ループにおいて媒体へ真空を適用し、好ましくは、温度もまた、DMAを揮発させるように上昇させる。
【0065】
2)好ましくは、除去プロセスは、スクラロース又はスクラロース−6−アシレートの存在下で完了される。したがって、本発明のプロセスの1つの注目すべき利点は、除去プロセスが収率に対して有する負の影響が最小限であるということである。DMAの部分的除去は、主としてスクラロース収率を最大にすることを目的とした温度で高pH脱アシル化条件中に減圧を加えることによって可能である。DMAの残部は、液/液抽出、続く高pH蒸留のような他の手段により除去されなくてはならない。しかしながら、脱アシル化からの側流が、ストリッピング容器(例えば、凝縮カラム)中で短時間の加熱及び低圧処理を通じてループする(looped)場合、DMA除去の効率は、バルク溶液中で最適な炭水化物脱アシル化条件を維持しながら最適化される。
【0066】
3)高収率及び高いDMA除去をもたらす圧力、温度、流量及び必要に応じて同様にpHの少なくとも1つの組合せが、スクラロース−6−アシレートの脱アシル化中に見出される。驚くべきことに、本発明の一実施形態によれば、ストリッピングカラム中の残留時間が最小に保持される限りは、50℃を超える温度、例えば53℃でさえ、DMAを首尾よくストリッピングすることが可能であることが見出された。収率損失は、より高いpHで最大であるが、残留時間が短く保たれている場合には、pH11〜13がDMAをストリッピングするのに特に好ましい。
【0067】
添付の図面の図1は、種々のpH値でのアンヒドロ(3’,6’−アンヒドロ−4,1’−ジクロロガラクトスクロース)形成に対する流量の影響を示す。
【0068】
実験は、スクロース−6−アセテートの塩素化からのクエンチされた塩素化塊(mass)を使用して実行し、ここで脱アセチル化条件は、主要な塊において適切に維持されたのに対して、側流は、約50℃を適用するヒータを通して短時間循環させ、DMAをストリッピングするために真空に曝露した。90%〜95%のDMA除去は、潜在的なスクラロース形成炭水化物の分解生成物への2%未満の損失を伴って達成された。
【0069】
このようにして得られるDMF/DMA/水流を蒸留して、DMFへの再変換のためにDMA流を濃縮した。DMFは同様に、再使用のために直接分離及び濃縮してもよい。
【0070】
非常に広範囲の脱アセチル化条件を、温度とpHとの逆相関とともに研究した。脱アセチル化は、ほぼ0℃で、13.0程度と高いpHを用いて実行されていた。逆に、10.0以上の中程度のpHで温かい温度(40℃)を使用して、首尾よい脱アセチル化が達成された。脱アセチル化溶液の一部が加熱された減圧ループへと循環されるループ構造を用いて、良好な脱アセチル化収率及びDMA除去の両方を可能にする条件を得ることができる。脱アセチル化に関して高いpHでのより低温は、高温に短時間加熱されて、冷却された脱アセチル化ポットへ戻った後に低圧に付される場合に、最良のDMA除去を与える。これは、より高いpHでの塩からのDMAの遊離に起因する。50℃は、DMAストリップループに関して有用な温度であることが見出されている。より低温(20℃程度と低い)を採用してもよいが、より積極的な真空及び凝縮を要することが予測される。より高温もまた、最大60℃までは容易に可能である。さらに高い温度でさえ、非常に短時間の曝露時間で可能であると考え得る。
【0071】
DMAストリッピング容器でのより低圧は、DMAを除去するための起動力を付与するのに好適である。30トール〜50トールが首尾よいと証明されているが、実施可能である場合にはさらに低圧が有益である。より高い圧力は、特に脱アセチル化容器が加圧され得る場合に可能である。
【0072】
添付の図面の図2は、本発明の一実施形態における使用のための装置1を示す概略図である。この実施形態では、側流ループ2において、温度は上昇されて、圧力は低減される。pHは、この実施態様によれば調節されない。脱アシル化反応は、脱アシル化反応容器3で行われ、脱アシル化反応容器3は、攪拌機4により攪拌される。脱アシル化反応容器3中のpHは、ポンプ6を介した容器5からの水酸化ナトリウム溶液の添加により制御される。水酸化ナトリウムの添加は、反応容器3の内部の測定されたpH7に応答して制御される。脱アセチル化反応塊の一部は、ポンプ8及びポンプ9を使用して、側流ループ2を通って循環される。流(stream)はポンプ8を介してループに入ると、熱交換器10を介して加熱されて、続いてカラム11へ供給される。落下流は液溜め12中に捕捉されて、ポンプ9を介して脱アシル化反応容器3へ供給し戻される。脱アシル化反応容器3は、温度制御されている。このことは、加熱用/冷却用ジャケット(図示しない)を使用すること、及び/又は熱交換器(図示しない)を使用して反応容器3に入る戻り流(returning stream)を冷却することによって達成され得る。カラム11中の圧力は、真空ポンプ13を用いて低減される。揮発したDMAは、凝縮器14を使用して凝縮され、スクラバ15を介して回収される。
【0073】
本発明はここで、下記の非限定的な実施例を参照して、より詳細に説明される。
【実施例】
【0074】
実施例1
供給流(feed stream)は、水酸化ナトリウム溶液によるクエンチ後に、ホスゲン/ジメチルホルムアミドによるスクロース−6−アセテートの塩素化によって生じた。かかる供給流は、例えば欧州特許第0409549号で開示される方法により生成することができる。
【0075】
クエンチされた塩素化反応からの供給流の典型的な組成は下記の通りである:
【0076】
【表1】

【0077】
クエンチされた塩素化塊600gを、15%NaOHを使用して6時間にわたって脱アセチル化した。反応器をジャケットで覆い、11℃、pH12.4で維持した一方で、5g/分の材料を、53℃の加熱用媒体を有する熱交換器(53℃に制御された油浴中に漬浸される直径1/4’’のステンレス鋼コイル管)を通して、40トールの圧力で長さ1フィート、直径1’’のカラムの最上部へ送り込んだ。材料は、カラムの底部で回収されて、冷却用媒体により10℃に維持された熱交換器(長さ8’’、直径1/4’’のジャケット付きステンレス鋼管)を通って反応器へ送り戻された。DMAの100%が除去された。総潜在収率に対する分解生成物+未反応のスクラロース−6−アセテートのモル比は損失比を反映し、これは、より良好な脱アセチル化が達成されるにつれ0に近づくはずである。これは2.66%を達成した。
【0078】
実施例2
クエンチされた塩素化塊600gを、10%NaOHを使用して6時間にわたって脱アセチル化した。反応器をジャケットで覆い、20℃、pH11.8で維持した一方で、5g/分の材料を、53℃の加熱用媒体を有する熱交換器(53℃に制御された油浴中に漬浸される直径1/4’’のステンレス鋼コイル管)を通して、40トールの圧力で長さ1フィート、直径1’’のカラムの最上部へ送り込んだ。材料は、カラムの底部で回収されて、冷却用媒体により10℃に維持された熱交換器(長さ8’’、直径1/4’’のジャケット付きステンレス鋼管)を通って反応器へ送り戻された。DMAの94%が除去された。モル損失比は(上記で定義される)4.3%であった。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
ジメチルホルムアミド(DMF)の存在下でスクロース−6−アシレートの塩素化から生じるスクラロース−6−アシレートを含む供給流の反応容器中で、脱アシル化前及び/又は脱アシル化中及び/又は脱アシル化後にジメチルアミン(DMA)を除去するプロセスであって、該脱アシル化が温度、pH及び圧力の条件の第1の組で実施され、
(a)前記反応容器から該反応容器への側流ループを設けること、並びに
(b)前記ループにおける温度、pH及び圧力の1つ又は複数の条件を調節すると共に、該ループを通る流量を設定して、炭水化物分解を最低限に抑えながらDMAを除去することを含む、プロセス。
【請求項2】
前記圧力を前記ループ中で低下させる、請求項1に記載のプロセス。
【請求項3】
前圧力を前記ループ中で20トール〜600トール(2.7kPa〜80.0kPa)へ低下させる、請求項2に記載のプロセス。
【請求項4】
前記温度を前記ループ中で上昇させる、請求項1〜3のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項5】
前記温度を前記ループ中で20℃〜50℃へ上昇させる、請求項4に記載のプロセス。
【請求項6】
前記ループ中の前記pHを調節しない、請求項1〜5のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項7】
前記pHを前記ループ中で上昇させる、請求項1〜5のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項8】
前記ループ中の前記流量を、脱アシル化容積を1回〜5回回転させるように設定する、請求項1〜7のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項9】
前記ループが凝縮カラムを含む、請求項1〜8のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項10】
前記ループが、前記ループへ供給される際に前記反応容器の液体出口を加熱するように配置された加熱用媒体で加熱される熱交換器を含む、請求項1〜9のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項11】
前記ループが、前記反応容器へ供給し戻される際に前記ループの液体出口を冷却するように配置された冷却用媒体で冷却される熱交換器を含む、請求項1〜10のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項12】
前記冷却用媒体の温度が−3℃〜50℃、好ましくは10℃〜30℃、より好ましくは15℃〜25℃である、請求項11に記載のプロセス。
【請求項13】
前記ストリッピング容器から除去されるDMAがDMFへ変換される、請求項1〜12のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項14】
前記DMFが少なくとも1つのより初期のプロセス段階で使用されるように再利用される、請求項13に記載のプロセス。
【請求項15】
前記少なくとも1つのより初期のプロセス段階が前記スクロース−6−アシレートの塩素化を含む、請求項14に記載のプロセス。
【請求項16】
前記少なくとも1つのより初期のプロセス段階がスクロースの6−ヒドロキシ基のアシル化を含む、請求項14に記載のプロセス。
【請求項17】
前記アシレートがアセテート又はベンゾエート、好ましくはアセテートである、請求項1〜16のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項18】
前記脱アシル化を、水酸化アンモニウム及び金属水酸化物、好ましくはアルカリ金属水酸化物又はアルカリ土類金属水酸化物、特に水酸化ナトリウム並びにそれらの混合物から選択される1つ又は複数の水酸化物の存在下で行う、請求項1〜17のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項19】
温度、pH及び圧力の条件の前記第1の組が、温度−5℃〜20℃及び/又は圧力760±100トール及び/又はpH9.5〜12.5を含む、請求項1〜18のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項20】
スクラロースを製造するプロセスであって、
(i)ジメチルホルムアミド(DMF)の存在下でスクロース−6−アシレートの塩素化から生じるスクラロース−6−アシレートを含む供給流の反応容器中で、脱アシル化前及び/又は脱アシル化中及び/又は脱アシル化後にジメチルアミン(DMA)を除去する工程であって、該脱アシル化が温度、pH及び圧力の条件の第1の組で実施される工程であり、
(a)前記反応容器から該反応容器への側流ループを設けること、並びに
(b)前記ループにおける温度、pH及び圧力の1つ又は複数の条件を調節すると共に、該ループを通る流量を設定して、炭水化物分解を最低限に抑えながらDMAを除去することを含む、工程、
(ii)スクラロースを前記反応容器の内容物から単離する工程、並びに必要に応じて、
(iii)前記単離したスクラロースを精製する工程を含む、プロセス。

【図1】
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【図2】
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【公表番号】特表2012−522035(P2012−522035A)
【公表日】平成24年9月20日(2012.9.20)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2012−502762(P2012−502762)
【出願日】平成22年3月24日(2010.3.24)
【国際出願番号】PCT/GB2010/000554
【国際公開番号】WO2010/112813
【国際公開日】平成22年10月7日(2010.10.7)
【出願人】(509178806)テート アンド ライル テクノロジー リミテッド (17)
【Fターム(参考)】