【課題】優れた気管支収縮抑制作用を示すため、喘息の予防・治療剤として有用であるナフタレン誘導体を提供するものである。
【解決手段】 一般式〔Ｉ〕
【化４０】


（但し、Ｒ¹ 及びＲ² は同一又は異なって水素原子又は保護されていてもよい水酸基を表し、Ｒ³ 及びＲ⁴ のいずれか一方が、保護されていてもよい水酸基置換メチル基、他方が水素原子、低級アルキル基又は保護されていてもよい水酸基置換メチル基であることを表し、Ｒ⁵ 及びＲ⁶ は同一又は異なって、水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいフェニル基又は保護されていてもよいアミノ基を表すか、あるいは互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに置換されていてもよい複素環式基を形成していることを表す。）で示されるナフタレン誘導体又はその薬理的に許容し得る塩。

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は抗喘息作用を有する新規ナフタレン誘導体及びその合成中間体に関する。
【０００２】
【従来の技術】１位に含窒素複素６員環式基を有するナフタレン誘導体としては、１−（５−メチル−２（１Ｈ）−ピリドン−３−イル）ナフタレンが公知であるが〔ブレチン・オブ・ザ・ケミカル・ソサイエティー・オブ・ジャパン（ＢＵＬＬＥＴＩＮＯＦ ＴＨＥ ＣＨＥＭＩＣＡＬ ＳＯＣＩＥＴＹ ＯＦ ＪＡＰＡＮ），Ｖｏｌ．４１，１６５−１６７（１９６８）〕、この化合物は薬理活性を含めいかなる用途も知られていない。また、特開平５−２２９９８７号公報には、１−［Ｎ−（２−メトキシエチル）−２（１Ｈ）−ピリドン−４−イル］−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレン等の化合物に抗喘息作用があることが記載されているが、本願の目的化合物の如きナフタレン骨格の１位置換基上のピリジン環が非置換又は置換アミノ基で置換された化合物は記載されていない。
【０００３】一方、細胞内セカンドメッセンジャーであるｃＡＭＰやｃＧＭＰは、ホスホジエステラーゼ（ＰＤＥ）により分解され不活性化する。ＰＤＥは生体内の組織に広く分布し、ＰＤＥ阻害剤は該ＰＤＥを阻害することにより細胞内のｃＡＭＰやｃＧＭＰの濃度を上昇させ、種々の薬理作用を有することが知られている。
【０００４】例えば、血管平滑筋や気管支平滑筋においては弛緩作用、心臓においては陽性変力及び変時作用を引き起こす。又、中枢においてはｃＡＭＰ増加に伴う中枢機能の調整、即ち抗うつ作用、記憶・学習機能を改善する。その他に血小板においては凝集抑制、炎症細胞においては活性化抑制作用を、又脂肪細胞においては脂肪分解作用を示す〔Ｃ．Ｄ．Ｎｉｃｈｏｌｓｏｎ ｅｔ ａｌ．，Ｔｒｅｎｄｓｉｎ Ｐｈａｒｍａｃｏｌ．，１２，１９（１９９１）〕。
【０００５】従って、ＰＤＥを阻害する薬剤は種々の疾病、即ち、気管支喘息、血栓症、うつ病、脳血管閉塞後の中枢機能低下症、脳血管痴呆症、アルツハイマー型痴呆症、各種炎症、肥満症及び心不全などの治療薬として有効であると考えられている。
【０００６】一方、従来から多数の抗喘息薬が知られているが、既存の薬剤は、気管支収縮の抑制効果が充分でなく或いは心臓等に対する副作用との分離が充分でない等の難点があり、さらに新たな薬剤の開発が求められている。
【０００７】テオフィリンは代表的なＰＤＥ阻害剤として従来より喘息症の治療に用いられてきた。しかし本薬剤のＰＤＥ阻害作用が非特異的なために、気管支平滑筋弛緩作用以外に強心作用や中枢作用を有し、その為副作用が常に問題とされている。そこでＰＤＥのアイソザイムの中でも、特に気管支平滑筋及び炎症細胞に多く存在するＩＶ型に対して特異的に阻害作用を有する薬剤の開発が望まれている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、優れた気管支収縮抑制作用及び／又は選択的ホスホジエステラーゼＩＶ（ＰＤＥ ＩＶ）阻害作用を有し、抗喘息薬として有用な新規ナフタレン誘導体を提供するものである。また、本発明は、このような新規ナフタレン誘導体の製法及びその合成中間体をも提供するものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は一般式〔Ｉ〕
【００１０】
【化１９】


【００１１】（但し、Ｒ¹ 及びＲ² は同一又は異なって水素原子又は保護されていてもよい水酸基を表し、Ｒ³ 及びＲ⁴ はいずれか一方が保護されていてもよい水酸基置換メチル基であり、他方が水素原子、低級アルキル基又は保護されていてもよい水酸基置換メチル基であることを表し、Ｒ⁵ 及びＲ⁶ は同一又は異なって、水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいフェニル基又は保護されていてもよいアミノ基を表すか、あるいは互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに置換されていてもよい複素環式基を形成していることを表す。）で示される新規ナフタレン誘導体及びその薬理的に許容し得る塩を提供するものである。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明の目的化合物〔Ｉ〕又はその塩は、強い気管支収縮抑制作用を有し喘息の予防・治療剤として有用な医薬化合物である。例えば当該目的物〔Ｉ〕は、抗原誘発気管支収縮抑制効果がテオフィリンより強力である等、気管支収縮の抑制効果が強く、かつ心臓等に対する副作用を示さないという特長を有する。
【００１３】本発明の目的化合物〔Ｉ〕におけるＲ⁵ 及びＲ⁶ が互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに形成される複素環式基としては、当該窒素原子以外にさらに窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれるヘテロ原子を含有していてもよい単環式、双環式又は三環式複素環式基があげられる。
【００１４】このような複素環式基としては、ピリジル基、キノリル基、イソキノリル基、シクロペンタ〔ｂ〕ピリジル基、ピロ〔２，３−ｂ〕ピリジル基、イミダゾ〔４，５−ｂ〕ピリジル基、ピリド〔２，３−ｄ〕チアゾリル基、ピリド〔２，３−ｄ〕オキサゾリル基、ナフチリジニル基、キノキサリニル基、フタラジニル基、キナゾリニル基、インドリル基、ピリダジニル基、アゼピニル基、アゼチジル基、イソインドリル基、ピロリル基、ベンゾアゼピニル基、フェナントリジニル基、ベンゾチアジニル基、ベンゾイミダゾリニル基、ピラジニル基、モルホリノ基が挙げられ、これらの複素環式基は部分的もしくは全て水素化されていてもよい。
【００１５】本発明の目的化合物〔Ｉ〕におけるＲ⁵ 及び／又はＲ⁶ の低級アルキル基及びフェニル基上の置換しうる基としては、水酸基、モノもしくはジヒドロキシ低級アルキル基等が挙げられる。
【００１６】アミノ基の保護基としてはアミノ基の保護基となりうるものであればよく、低級アルカノイルアミノ基、フェニル低級アルコキシカルボニル基等が挙げられる。
【００１７】本発明の目的化合物〔Ｉ〕において、Ｒ¹ 及び／又はＲ² が保護された水酸基である場合、当該水酸基の保護基としては、薬理的に許容し得る水酸基の保護基であればいかなるものであってもよい。例えば、置換基を有していてもよい低級アルカノイル基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基等をあげることができる。好ましくは、アルキル基とりわけ低級アルキル基があげられる。
【００１８】また、本発明の目的化合物〔Ｉ〕において、Ｒ³ 及び／又はＲ⁴ が保護された水酸基置換メチル基である場合、当該水酸基の保護基としては、薬理的に許容し得る水酸基の保護基であればいかなるものであってもよい。この様な保護基の具体例としては、生体内で加水分解によって分解し、かつ有害な副生成物を生じないもの、例えば、置換基を有していてもよい低級アルカノイル基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよい低級アルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基等をあげることができる。
【００１９】ここで、置換基を有していてもよい低級アルカノイル基としては、保護されていてもよいアミノ基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、水酸基及び低級アルコキシ基から選ばれる１〜２個の基で置換されていてもよい低級アルカノイル基が挙げられ、置換基を有していてもよいアルキル基としては、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシ基、アリール基及び低級アルキル基置換ピペラジニルカルボニル基から選ばれる基で置換されていてもよいアルキル基が挙げられる。ここで、アリール基としては、フェニル基、低級アルコキシフェニル基、ナフチル基等があげられる。
【００２０】さらに、低級アルカノイル基に置換しうる保護されたアミノ基における保護基としては、アミノ基の保護基となりうるものであればよく、例えば、アセチル基、プロピオニル基等の低級アルカノイル基、低級アルコキシカルボニル基又はベンジルオキシカルボニル等のフェニル低級アルコキシカルボニル基等のアシル基が挙げられる。
【００２１】一方、上記複素環式基は、置換基を有していてもよく、かかる置換基としては、例えば、（１）低級アルケニル基；（２）低級アルキニル基；（３）低級アルキルチオ基；（４）シクロアルキル基；（５）トリフルオロメチル基；（６）シアノ基；（７）テトラゾリル基；（８）ホルミル基；（９）アミノ基；（１０）モルホリノ基、モノシクロアルキル基置換アミノ基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピペリジル基又はピロリジニル基で低級アルキル基部分が置換されていてもよいモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；（１１）ピリジル基；（１２）モルホリノ基；（１３）低級アルキル基置換トリアゾリル基；（１４）ビス（ヒドロキシ低級アルキル）アミノカルボニル基；（１５）ビス（トリ低級アルキルシリルオキシ低級アルキル）アミノカルボニル基；（１６）モルホリノカルボニル基；（１７）低級アルキル基置換ピペラジニルカルボニル基；（１８）ヒドロキシ低級アルキル基置換ピペラジニルカルボニル基；（１９）トリ低級アルキルシリルオキシ低級アルキル基置換ピペラジニルカルボニル基；（２０）低級アルコキシカルボニル基；（２１）カルボキシル基；（２２）モルホリノ基もしくはピリジル基で置換されていてもよい低級アルキル基；（２３）ピペリジル基、ピリジル基、水酸基又は低級アルコキシ基で置換されていてもよい低級アルコキシ基；（２４）オキソ基；（２５）水酸基；（２６）ピリミジニル基；（２７）ジ低級アルキルアミノ基又はハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基；（２８）ハロゲン原子；（２９）ニトロ基；（３０）イミダゾリル基；及び（３１）低級アルキレンジオキシ基が挙げられる。これらの置換基は同一又は異なって２個以上複素環式基上に置換していてもよい。
【００２２】置換された複素環式基のうちでも、少なくともオキソ基、水酸基又はアミノ基で置換された複素環式基、とりわけ少なくともオキソ基で置換された複素環式基が薬効上好ましい。少なくともオキソ基で置換された複素環式基は、部分構造式
【００２３】
【化２０】


【００２４】等があげられる。
【００２５】本発明の目的物〔Ｉ〕の具体例としては、Ｒ⁵ 及びＲ⁶ が互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに複素環式基を形成しており、かつ複素環式基が（１）モルホリノ基、モノシクロアルキル基置換アミノ基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピペリジノ基又はピロリジニル基で低級アルキル基部分が置換されていてもよいモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；ピリジル基；モルホリノ基；低級アルキル基置換トリアゾリル基；ビス（ヒドロキシ低級アルキル）アミノカルボニル基；ビス（トリ低級アルキルシリルオキシ低級アルキル）アミノカルボニル基；モルホリノカルボニル基；低級アルキル基置換ピペラジニルカルボニル基；ヒドロキシ低級アルキル基置換ピペラジニルカルボニル基；トリ低級アルキルシリルオキシ低級アルキル基置換ピペラジニルカルボニル基；低級アルコキシカルボニル基；カルボキシル基；低級アルキル基；水酸基もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよい低級アルコキシ基；及び水酸基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基、（２）オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノキサリニル基、（３）モルホリノ基置換低級アルキル基；ピペリジル基、ピリジル基又は低級アルコキシ基で置換されていてもよい低級アルコキシ基；及び水酸基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）イソキノリル基、（４）ピリジル基で置換されていてもよい低級アルキル基；ピリミジニル基；低級アルコキシ基；ピリジル基；イミダゾリル基；ジ低級アルキルアミノ基又はハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基；及び水酸基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）フタラジニル基、（５）ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ニトロ基、ピリジル基及びイミダゾリル基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はヘキサヒドロ）ピリジル基、（６）オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ナフチリジニル基、（７）オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ヘキサヒドロキノリル基、（８）オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロインドリル基、（９）オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ベンゾアゼピニル基、（１０）ジヒドロ（又はテトラヒドロ）イソキノリル基、（１１）オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ベンゾチアジニル基、（１２）低級アルキル基及び／又はオキソ基で置換されていてもよいオキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基、（１３）オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロベンゾイミダゾリニル基、（１４）オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロフェナントリジニル基、（１５）低級アルキル基で置換されていてもよいオキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ピロリル基、（１６）ヘキサヒドロキシピラジニル基、（１７）低級アルキレンジオキシ基置換ヘキサヒドロピリジル基又は（１８）モルホリノ基である化合物が挙げられる。
【００２６】オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基は具体的には、オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基又はヒドロキシ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基であり、より具体的にはオキソ基置換ジヒドロキノリル基、オキソ基置換テトラヒドロキノリル基、ヒドロキシ基置換ジヒドロキノリル基又はヒドロキシ基置換テトラヒドロキノリル基；オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノキサリニル基は具体的には、オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノキサリニル基又はヒドロキシ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノキサリニル基であり、より具体的にはオキソ基置換ジヒドロキノキサリニル基、オキソ基置換テトラヒドロキノキサリニル基、ヒドロキシ基置換ジヒドロキノキサリニル基又はヒドロキシ基置換テトラヒドロキノキサリニル基；オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）イソキノリル基は、オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）イソキノリル基又はヒドロキシ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）イソキノリル基であり、より具体的にはオキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、オキソ基置換テトラヒドロイソキノリル基、ヒドロキシ基置換ジヒドロイソキノリル基又はヒドロキシ基置換テトラヒドロイソキノリル基；オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）フタラジニル基は、オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）フタラジニル基又はヒドロキシ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）フタラジニル基であり、より具体的にはオキソ基置換ジヒドロフタラジニル基、オキソ基置換テトラヒドロフタラジニル基、ヒドロキシ基置換ジヒドロフタラジニル基又はヒドロキシ基置換テトラヒドロフタラジニル基；オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はヘキサヒドロ）ピリジル基は、オキソ基置換ジヒドロ（又はヘキサヒドロ）ピリジル基又はヒドロキシ基置換ジヒドロ（又はヘキサヒドロ）ピリジル基であり、より具体的にはオキソ基置換ジヒドロピリジル基、オキソ基置換ヘキサヒドロピリジル基、ヒドロキシ基置換ジヒドロピリジル基又はヒドロキシ基置換ヘキサヒドロピリジル基；オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ナフチリジニル基は、オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ナフチリジニル基又はヒドロキシ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ナフチリジニル基であり、より具体的にはオキソ基置換ジヒドロナフチリジニル基、オキソ基置換テトラヒドロナフチリジニル基、ヒドロキシ基置換ジヒドロナフチリジニル基又はヒドロキシ基置換テトラヒドロナフチリジニル基；オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ヘキサヒドロキノリル基は、オキソ基置換ヘキサヒドロキノリル基又はヒドロキシ基置換ヘキサヒドロキノリル基；オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロインドリル基は、オキソ基置換ジヒドロインドリル基又はヒドロキシ基置換ジヒドロインドリル基；オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ベンゾアゼピニル基は、オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ベンゾアゼピニル基又はヒドロキシ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ベンゾアゼピニル基であり、より具体的にはオキソ基置換ジヒドロベンゾアゼピニル基、オキソ基置換テトラヒドロベンゾアゼピニル基、ヒドロキシ基置換ジヒドロベンゾアゼピニル基又はヒドロキシ基置換テトラヒドロベンゾアゼピニル基；ジヒドロ（又はテトラヒドロ）イソキノリル基は、ジヒドロイソキノリル基又はテトラヒドロイソキノリル基；オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ベンゾチアジニル基は、オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ベンゾチアジニル基又はヒドロキシ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ベンゾチアジニル基であり、より具体的にはオキソ基置換ジヒドロベンゾチアジニル基、オキソ基置換テトラヒドロベンゾチアジニル基、ヒドロキシ基置換ジヒドロベンゾチアジニル基又はヒドロキシ基置換テトラヒドロベンゾチアジニル基；オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基は、オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基又はヒドロキシ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基であり、より具体的にはオキソ基置換ジヒドロキナゾリニル基、オキソ基置換テトラヒドロキナゾリニル基、ヒドロキシ基置換ジヒドロキナゾリニル基又はヒドロキシ基置換テトラヒドロキナゾリニル基；オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロベンゾイミダゾリニル基は、オキソ基置換ジヒドロベンゾイミダゾリニル基又はヒドロキシ基置換ジヒドロベンゾイミダゾリニル基；オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロフェナントリジニル基は、オキソ基置換ジヒドロフェナントリジニル基又はヒドロキシ基置換ジヒドロフェナントリジニル基；オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ピロリル基は、オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ピロリル基又はヒドロキシ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ピロリル基であり、より具体的にはオキソ基置換ジヒドロピロリル基、オキソ基置換テトラヒドロピロリル基、ヒドロキシ基置換ジヒドロピロリル基又はヒドロキシ基置換テトラヒドロピロリル基を各々示している。
【００２７】本発明の目的化合物〔Ｉ〕の具体例のうち、好ましい化合物としては、Ｒ⁵ 及びＲ⁶ が互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに形成される複素環式基が、（１）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基又はヒドロキシ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基、（２）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノキサリニル基、（３）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）イソキノリル基、（４）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）フタラジニル基、（５）オキソ基置換ジヒドロ（又はヘキサヒドロ）ピリジル基、（６）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ナフチリジニル基、（７）オキソ基置換ヘキサヒドロキノリル基、（８）オキソ基置換ジヒドロインドリル基、（９）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ベンゾアゼピニル基、（１０）ジヒドロ（又はテトラヒドロ）イソキノリル基、（１１）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ベンゾチアジニル基、（１２）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基、（１３）オキソ基置換ジヒドロベンゾイミダゾリニル基、（１４）オキソ基置換ジヒドロフェナントリジニル基、（１５）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ピロリル基、（１６）ヘキサヒドロキシピラジニル基、（１７）低級アルキレンジオキシ基置換ヘキサヒドロピリジル基又は（１８）モルホリノ基である化合物が挙げられる。
【００２８】特に好ましい例としてはＲ⁵ 及びＲ⁶ が互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに形成される複素環式基が、（１）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基又はヒドロキシ基置換テトラヒドロキノリル基、（２）オキソ基置換ジヒドロキノキサリニル基、（３）オキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、（４）オキソ基置換ジヒドロフタラジニル基、（５）オキソ基置換ジヒドロ（又はヘキサヒドロ）ピリジル基、（６）オキソ基置換ジヒドロナフチリジニル基、（７）オキソ基置換ヘキサヒドロキノリル基、（８）オキソ基置換ジヒドロインドリル基、（９）オキソ基置換ジヒドロベンゾアゼピニル基、（１０）テトラヒドロイソキノリル基、（１１）オキソ基置換テトラヒドロベンゾチアジニル基、（１２）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基、（１３）オキソ基置換ジヒドロベンゾイミダゾリニル基、（１４）オキソ基置換ジヒドロフェナントリジニル基、（１５）オキソ基置換テトラヒドロピロリル基、（１６）ヘキサヒドロキシピラジニル基、（１７）低級アルキレンジオキシ基置換ヘキサヒドロピリジル基又は（１８）モルホリノ基である化合物が挙げられる。
【００２９】本発明の目的化合物〔Ｉ〕のうち、薬効上好ましい化合物としては、Ｒ⁵ 及びＲ⁶ が互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに形成される置換されていてもよい複素環式基が、（１）モルホリノ基、モノシクロアルキル基置換アミノ基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピペリジノ基又はピロリジニル基で低級アルキル基部分が置換されているモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；ピリジル基；モルホリノ基；低級アルキル基置換トリアゾリル基；低級アルキル基置換ピペラジニルカルボニル基；低級アルコキシカルボニル基；低級アルキル基；水酸基；及び水酸基もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよい低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基又はヒドロキシ基置換テトラヒドロキノリル基、（２）オキソ基置換ジヒドロキノキサリニル基、（３）モルホリノ基置換低級アルキル基；ピペリジル基、ピリジル基又は低級アルコキシ基で置換されていてもよい低級アルコキシ基；及び水酸基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、（４）ピリジル基置換低級アルキル基；ピリミジニル基；低級アルコキシ基；ピリジル基；イミダゾリル基；及びジ低級アルキルアミノ基置換フェニル基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロフタラジニル基、（５）低級アルキル基；低級アルコキシ基；ピリジル基；及びイミダゾリル基から選ばれる基で置換されているオキソ基置換ジヒドロピリジル基、（６）オキソ基置換ジヒドロナフチリジニル基、（７）オキソ基置換ヘキサヒドロキノリル基、（８）オキソ基置換ジヒドロインドリル基、（９）オキソ基置換テトラヒドロベンゾチアジニル基、（１０）低級アルキル基及びオキソ基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基、（１１）オキソ基置換ジヒドロベンゾイミダゾリニル基又は（１２）オキソ基置換ジヒドロフェナントリジニル基である化合物が挙げられる。
【００３０】本発明の目的化合物〔Ｉ〕のうち、より薬効上好ましい化合物としては、Ｒ⁵及びＲ⁶ が互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに形成される複素環式基が、（１）モルホリノ基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピペリジノ基又はピロリジニル基で低級アルキル基部分が置換されているモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；ピリジル基；モルホリノ基；低級アルキル基置換トリアゾリル基；低級アルキル基；及び水酸基もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよい低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基又はヒドロキシ基置換テトラヒドロキノリル基、（２）オキソ基置換ジヒドロキノキサリニル基、（３）モルホリノ基置換低級アルキル基；ピペリジル基もしくは低級アルコキシ基で置換されている低級アルコキシ基；及び水酸基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、（４）ピリジル基置換低級アルキル基、ピリミジニル基、ピリジル基、イミダゾリル基及び低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロフタラジニル基、（５）低級アルキル基、低級アルコキシ基、ピリジル基及びイミダゾリル基から選ばれる基で置換されているオキソ基置換ジヒドロピリジル基、（６）オキソ基置換テトラヒドロベンゾチアジニル基又は（７）低級アルキル基及びオキソ基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基である化合物が挙げられる。
【００３１】このうち、薬効上さらに好ましい化合物としては、Ｒ⁵ 及びＲ⁶ が互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに形成される複素環式基が、（１）モルホリノ基、ピリジル基、イミダゾリル基又はピペリジノ基で低級アルキル基部分が置換されているモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；ピリジル基；モルホリノ基；低級アルキル基置換トリアゾリル基；及び低級アルコキシ基又は水酸基で置換されている低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロキノリル基又はヒドロキシ基置換テトラヒドロキノリル基、（２）モルホリノ基置換低級アルキル基；ピペリジノ基もしくは低級アルコキシ基で置換されている低級アルコキシ基；及び水酸基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、（３）ピリジル基置換低級アルキル基、ピリミジニル基、ピリジル基、イミダゾリル基及び低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロフタラジニル基、（４）低級アルキル基、低級アルコキシ基、ピリジル基及びイミダゾリル基から選ばれる基で置換されているオキソ基置換ジヒドロピリジル基又は（５）低級アルキル基及びオキソ基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基である化合物が挙げられる。
【００３２】このうち、薬効上とりわけ好ましい化合物としては、Ｒ⁵ 及びＲ⁶ が互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに形成される複素環式基が、（１）モルホリノ基、ピリジル基、イミダゾリル基又はピペリジノ基で低級アルキル基部分が置換されているモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；ピリジル基；モルホリノ基；低級アルキル基置換トリアゾリル基；及び低級アルコキシ基又は水酸基で置換されている低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロキノリル基、（２）モルホリノ基置換低級アルキル基及びピペリジル基置換低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、（３）ピリジル基置換低級アルキル基、ピリミジニル基、ピリジル基、イミダゾリル基及び低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロフタラジニル基又は（４）低級アルキル基、低級アルコキシ基及びイミダゾリル基から選ばれる基で置換されているオキソ基置換ジヒドロピリジル基である化合物が挙げられる。
【００３３】本発明の目的化合物〔Ｉ〕のうち、他の薬効上好ましい化合物としては、Ｒ⁵及びＲ⁶ が互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに形成される複素環式基が、（１）モルホリノ基、モノシクロアルキル基置換アミノ基、ピリジル基、イミダゾリル基又はピペリジノ基で低級アルキル基部分が置換されているモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；ピリジル基；モルホリノ基；低級アルキル基置換ピペラジニルカルボニル基；低級アルコキシカルボニル基；低級アルキル基；水酸基；及び水酸基もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよい低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基又はヒドロキシ基置換テトラヒドロキノリル基、（２）モルホリノ基置換低級アルキル基；ピペリジノ基、ピリジル基又は低級アルコキシ基で置換されている低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、（３）ピリジル基置換低級アルキル基；ピリミジニル基；低級アルコキシ基；ピリジル基；イミダゾリル基；及びジ低級アルキルアミノ基置換フェニル基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロフタラジニル基、（４）ピリジル基で置換されているオキソ基置換ジヒドロピリジル基、（５）オキソ基置換ジヒドロナフチリジニル基、（６）オキソ基置換ヘキサヒドロキノリル基、（７）オキソ基置換ジヒドロインドリル基、（８）オキソ基置換テトラヒドロベンゾチアジニル基、（９）低級アルキル基及びオキソ基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基、（１０）オキソ基置換ジヒドロベンゾイミダゾリニル基又は（１１）オキソ基置換ジヒドロフェナントリジニル基である化合物が挙げられる。
【００３４】このうち、薬効上より好ましい化合物としては、Ｒ⁵ 及びＲ⁶ が互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに形成される複素環式基が、（１）モルホリノ基、イミダゾリル基又はピリジル基で低級アルキル基部分が置換されているモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；モルホリノ基；及び低級アルキル基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基、（２）モルホリノ基置換低級アルキル基；ピリジル基又は低級アルコキシ基で置換されている低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、（３）ピリジル基置換低級アルキル基；低級アルコキシ基；ピリジル基；及びジ低級アルキルアミノ基置換フェニル基から選ばれる基で置換されているオキソ基置換ジヒドロフタラジニル基又は（４）オキソ基置換ジヒドロフェナントリジニル基である化合物が挙げられる。
【００３５】このうち、薬効上とりわけ好ましい化合物としては、Ｒ⁵ 及びＲ⁶ が互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに形成される複素環式基が、（１）ピリジル基で低級アルキル基部分が置換されているモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；モルホリノ基；及び低級アルキル基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基、（２）モルホリノ基置換低級アルキル基；ピリジル基又は低級アルコキシ基で置換されている低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、（３）ピリジル基置換低級アルキル基；低級アルコキシ基；ピリジル基；及びジ低級アルキルアミノ基置換フェニル基から選ばれる基で置換されているオキソ基置換ジヒドロフタラジニル基又は（４）オキソ基置換ジヒドロフェナントリジニル基である化合物が挙げられる。
【００３６】また、他の薬効上好ましい化合物としては、Ｒ⁵ 及びＲ⁶ が互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに形成される置換されていてもよい複素環式基が、（１）モルホリノ基、イミダゾリル基又はピリジル基で低級アルキル基部分が置換されているモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；モルホリノ基；及び低級アルキル基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基、（２）モルホリノ基置換低級アルキル基；及び低級アルコキシ基置換低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されているオキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、（３）ピリジル基置換低級アルキル基；低級アルコキシ基；及びピリジル基から選ばれる基で置換されているオキソ基置換ジヒドロフタラジニル基である化合物が挙げられる。
【００３７】更に、他の薬効上好ましい化合物としては、Ｒ⁵ 及びＲ⁶ が互いに末端で結合して隣接する窒素原子と共に形成される複素環式基が、式
【００３８】
【化２１】


【００３９】（但し、Ｒ⁹¹、Ｒ⁹²及びＲ⁹³は同一又は異なって水素原子、水酸基、低級アルコシキシ基、ピリジル基で置換されていてもよい低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ基又はハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基、ピリジル基、ピリミジニル基又はイミダゾリル基を表す。）で示される基である化合物（以下、化合物〔Ｉ−ａ〕と称する）が挙げられる。
【００４０】このうち、薬効上好ましい化合物としては、Ｒ⁹¹、Ｒ⁹²及びＲ⁹³は同一又は異なって水素原子、低級アルコシキシ基、ピリジル基置換低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ基置換フェニル基又はピリジル基である化合物が挙げられる。
【００４１】本発明の目的化合物〔Ｉ〕のこれら薬効上好ましい例のうち、Ｒ¹ 及びＲ² が同一又は異なって低級アルコキシ基、Ｒ³ 及びＲ⁴ が水酸基置換メチル基である化合物が好ましい。
【００４２】本発明の目的化合物〔Ｉ〕には、不斉炭素に基づく光学活性体が存在しうるが、本発明はこれらの光学異性体及びその混合物のいずれをも含むものである。
【００４３】本発明の目的化合物〔Ｉ〕は、遊離の形でも、また、薬理的に許容し得る塩の形でも医薬用途に使用することができる。かかる薬理的に許容し得る塩としては、例えば塩酸塩、硫酸塩又は臭化水素酸塩の如き無機酸塩、酢酸塩、フマル酸塩、シュウ酸塩、メタンスルホン酸塩又はマレイン酸塩の如き有機酸塩などがあげられる。また、カルボキシル基等の置換基を有する場合には塩基性塩（例えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩又はカルシウム塩の如きアルカリ土類金属塩）としても用いることができる。
【００４４】従って、目的化合物〔Ｉ〕及びその塩は、その分子内塩、付加物、溶媒和物あるいは水和物等をいずれも含むものと解釈されるべきである。
【００４５】本発明の目的化合物〔Ｉ〕もしくはその塩は経口的にも非経口的にも投与することができ、また、常法により例えば、錠剤、顆粒剤、カプセル剤、散剤、注射剤、吸入剤のような適宜の医薬製剤として用いることができる。
【００４６】本発明の目的化合物〔Ｉ〕又はその薬理的に許容し得る塩の投与量は、投与方法、患者の年令、体重、状態によっても異なるが、通常、１日当り約０．００１〜１０ｍｇ／ｋｇ、とりわけ約０．００３〜３ｍｇ／ｋｇ程度とするのが好ましい。
【００４７】本発明によれば、目的化合物〔Ｉ〕は、下記〔Ａ法〕〜〔Ｃ法〕によって製造することができる。
【００４８】〔Ａ法〕本発明の目的化合物〔Ｉ〕は、一般式〔ＩＩ〕
【００４９】
【化２２】


【００５０】（但し、Ｒ¹¹及びＲ²¹は同一又は異なって水素原子又は保護されていてもよい水酸基、Ｒ³¹及びＲ⁴¹はいずれか一方が、保護されていてもよい水酸基置換メチル基、他方が水素原子、低級アルキル基又は保護されていてもよい水酸基置換メチル基であることを表し、Ｘはハロゲン原子を表す。）で示される化合物と一般式〔ＩＩＩ〕
【００５１】
【化２３】


【００５２】（但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される含窒素化合物とを反応させ、Ｒ¹¹及び／又はＲ²¹が保護された水酸基であり、Ｒ³¹及び／又はＲ⁴¹が保護された水酸基置換メチル基である場合は、所望により当該水酸基の保護基の種類に応じ、全てあるいは選択的に当該保護基を除去し、要すれば６位及び／又は７位のヒドロキシ部位あるいは２位及び／又は３位のヒドロキシメチル部位を再び保護し、さらに要すれば全てのヒドロキシ部位あるいはヒドロキシメチル部位を保護して製造することができる。
【００５３】〔Ｂ法〕本発明の目的化合物のうち、一般式
【００５４】
【化２４】


【００５５】（但し、Ｒ⁵¹及びＲ⁶¹は互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに少なくともオキソ基で置換された複素環式基を形成していることを表し、他の記号は前記と同一意味を有する。）で示される化合物は、一般式〔ＩＶ〕
【００５６】
【化２５】


【００５７】（但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される化合物と一般式〔Ｖ〕
【００５８】
【化２６】


【００５９】（但し、Ｒ⁵²及びＲ⁶²は互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに少なくともハロゲン原子で置換された複素環式基を形成していることを表す。）で示されるハロゲノ含窒素化合物とを反応させ、Ｒ¹¹及び／又はＲ²¹が保護された水酸基であり、Ｒ³¹及び／又はＲ⁴¹が保護された水酸基置換メチル基である場合は、所望により当該水酸基の保護基の種類に応じ、全てあるいは選択的に当該保護基を除去し、要すれば６位及び／又は７位のヒドロキシ部位あるいは２位及び／又は３位のヒドロキシメチル部位を再び保護し、さらに要すれば全てのヒドロキシ部位あるいはヒドロキシメチル部位を保護して製造することができる。
【００６０】〔Ｃ法〕本発明の目的化合物のうち、一般式
【００６１】
【化２７】


【００６２】（但し、Ｒ⁵³及びＲ⁶³は同一又は異なって、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいフェニル基又は保護されていてもよいアミノ基を表すか、あるいは互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに還元反応に安定な置換されていてもよい複素環式基を形成していることを表し、他の記号は前記と同一意味を有する。）で示される化合物は、一般式〔ＶＩ〕
【００６３】
【化２８】


【００６４】（但し、Ｒ⁷ 及びＲ⁸ のいずれか一方が遊離の又はエステル化されたカルボキシル基、他方が水素原子、低級アルキル基、あるいは遊離の又はエステル化されたカルボキシル基を表し、他の記号は前記と同一意味を有する。）で示される化合物又はその分子内酸無水物を還元反応に付し、Ｒ¹¹及び／又はＲ²¹が保護された水酸基である場合は、所望により当該保護基を除去し、要すれば６位及び／又は７位のヒドロキシ部位あるいは２位及び／又は３位のヒドロキシメチル部位を再び保護し、さらに要すれば全てのヒドロキシ部位あるいはヒドロキシメチル部位を保護して製造することができる。
【００６５】これら〔Ａ法〕〜〔Ｃ法〕は以下のようにして実施することができる。
【００６６】〔Ａ法〕化合物〔ＩＩ〕と含窒素化合物〔ＩＩＩ〕との反応は、塩基及び銅触媒の存在下、適当な溶媒中で実施することができる。塩基としては、水素化アルカリ金属、炭酸アルカリ金属等を、銅触媒としては、ヨウ化銅（Ｉ）、臭化銅（Ｉ）、銅粉（０）、酸化銅（Ｉ）、臭化銅（ＩＩ）等を好適に用いることができる。また、溶媒としては、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、トルエン、キシレン等を適宜用いることができる。本反応は、８０℃〜１６０℃、とりわけ１２０℃〜１５０℃で好適に進行する。
【００６７】〔Ｂ法〕化合物〔ＩＶ〕とハロゲノ含窒素化合物〔Ｖ〕との反応は、酸触媒の存在又は非存在下、適当な溶媒中で実施することができる。酸触媒としては、臭化水素、塩化水素、酢酸等を、溶媒としては、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、トルエン、キシレン、メシチレン、ジ、トリもしくはテトラクロロエタン等を適宜用いることができる。本反応は、８０℃〜１６０℃、とりわけ１１０℃〜１５０℃で好適に進行する。
【００６８】〔Ｃ法〕化合物〔ＶＩ〕又はその分子内酸無水物の還元反応は、適当な還元剤を用い、溶媒中で実施することができる。化合物〔ＶＩ〕において、エステル化されたカルボキシル基は、還元反応によりヒドロキシメチル基に変換しうるものであればよく、例えば低級アルコキシカルボニル基などがあげられる。還元剤としては、Ｒ⁷ 及びＲ⁸ の種類に応じ適宜選択すればよい。例えば、Ｒ⁷ 及びＲ⁸ がエステル化されたカルボキシル基である場合には、金属水素化物、例えば、水素化リチウムアルミニウム、水素化ビス（メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、水素化ホウ素ナトリウム等、とりわけ水素化ホウ素ナトリウムを好適に使用することができる。この反応は適当な溶媒、例えばテトラヒドロフラン、エーテルの如きエーテル系溶媒と低級アルカノールとの混合溶媒中、加熱下で好適に実施することができる。一方、Ｒ⁷ 及び／又はＲ⁸ が遊離のカルボキシル基である場合には、例えば水素化リチウムアルミニウム等を好適に使用することができる。さらに化合物〔ＶＩ〕の分子内酸無水物はＲ⁷ 及びＲ⁸ が遊離のカルボキシル基である化合物〔ＶＩ〕を分子内脱水反応に付して調製することができ、その還元反応は、Ｒ⁷ 及び／又はＲ⁸ が遊離のカルボキシル基である場合と同様の条件下に実施することができる。これらの反応は適当な溶媒、例えばテトラヒドロフラン、エーテル、ジオキサンの如きエーテル系溶媒中、冷却下で、好適に実施することができる。
【００６９】上記〔Ａ法〕及び〔Ｂ法〕においてＲ¹¹及び／又はＲ²¹が保護された水酸基、Ｒ³¹及び／又はＲ⁴¹が保護された水酸基置換メチル基である場合、生成物からの当該保護基の除去は、保護基の種類に応じて、常法に従って加水分解、酸処理、還元等の通常の方法で実施することができる。さらに上記〔Ａ法〕〜〔Ｃ法〕において６位及び／又は７位ヒドロキシ部、２位及び／又は３位ヒドロキシメチル部の保護は、常法に従い、各生成物と基Ｒ¹ 及びＲ² 、基Ｒ³ 及びＲ⁴ の保護基に対応する低級アルカン酸又はシクロアルカン酸の酸無水物、酸ハライド又は低級アルコキシカルボニル基で置換されていてもよい低級アルキルハライド又は保護されていてもよいカルボキシル基置換低級アルキルスルホネート等とを縮合反応させて実施することができる。反応は、塩基（トリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、水素化ナトリウム、ヘキサメチルホスホリックトリアミド等）の存在下、適当な溶媒（塩化メチレン、テトラヒドロフラン等）中又は無溶媒で好適に実施できる。又、各生成物と基Ｒ¹ 及びＲ² 、基Ｒ³ 及びＲ⁴ の保護基に対応する保護されていてもよいアミノ基置換低級アルキルカルボン酸等とを反応させて実施することができる。反応は、縮合剤（ジシクロヘキシルカルボジイミド、水溶性カルボジイミド誘導体）の存在下、適当な溶媒（ジメチルホルムアミド、塩化メチレン、クロロホルム）中好適に実施できる。この場合、３位のヒドロキシメチル部は、２位のヒドロキシメチル部よりも反応性が高いため、生成物１モルに対し、低級アルカン酸の酸無水物、酸ハライド又は低級アルキルハライドを等モル使用すると、３位ヒドロキシメチル部のみが保護された目的物が主に生成し、２モル以上使用すると、２位と３位がともに保護された目的物を得ることができる。又、カルボキシル基及び／又はアミノ基の保護基としては、慣用のカルボキシル基及び／又はアミノ基の保護基を用いることができ、常法によって除去することができる。
【００７０】本発明の目的物〔Ｉ〕は、上記の如くして得られる目的物を他の目的物へ相互変換することによっても製造することができる。このような目的物間の相互変換反応としては、その化合物が有する置換基の種類に応じ、適宜選択すればよいが、例えば次の如く実施することができる。
【００７１】化合物〔Ｉ−ａ〕は、一般式〔Ｉ〕において、対応するＲ⁵ が水素原子であり、Ｒ⁶ がアミノ基である化合物（以下、化合物〔Ｉ−ｂ〕と称する）又はその塩と一般式〔ＶＩＩ〕
【００７２】
【化２９】


【００７３】（但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示されるカルボン酸誘導体又はその塩と反応させることにより製造することができる。
【００７４】更に、一般式〔Ｉ−ａ〕においてＲ⁹¹が水酸基である化合物〔Ｉ−ａ’〕は化合物〔Ｉ−ｂ〕又はその塩と一般式〔ＶＩＩＩ〕
【００７５】
【化３０】


【００７６】（但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される酸無水物化合物と反応させることにより製造することができる。
【００７７】これら反応は適当な溶媒（例えば、低級アルカノール、エチレングリコール、ジオキサン、トルエン等）中で、実施することができ、１００〜１４０℃で好適に進行する。
【００７８】なお、本発明の原料化合物〔ＩＩ〕は新規化合物であり、例えば、一般式〔ＩＸ〕
【００７９】
【化３１】


【００８０】（但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示されるベンズアルデヒド化合物を、ハロゲン（臭素等）で処理し、得られる６−ハロゲノベンズアルデヒド化合物を、酸触媒（例えば、強酸性樹脂等）の存在下オルトギ酸メチルと反応させ、次いで塩基（ｎ−ブチルリチウム等）の存在下一般式〔Ｘ〕
【００８１】
【化３２】


【００８２】（但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示されるアルデヒド化合物と反応させ、さらに生成物を一般式〔ＸＩ〕
【００８３】
【化３３】


【００８４】（但し、Ｒ⁷¹及びＲ⁸¹はいずれか一方がエステル化されたカルボキシル基、他方が水素原子、低級アルキル基又はエステル化されたカルボキシル基であることを表す。）で示されるオレフィン化合物と縮合反応させて一般式〔ＸＩＩ〕
【００８５】
【化３４】


【００８６】（但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される化合物とし、これを還元剤（水素化ホウ素アルカリ金属、水素化ビス（メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム等）で還元して製造することができる。
【００８７】また、原料化合物〔ＩＩ〕は、化合物〔Ｘ〕に代えて一般式〔ＸＩＩＩ〕
【００８８】
【化３５】


【００８９】で示される化合物を用いて上記と同様にして化合物〔ＸＩＩ〕に対応する一般式〔ＸＩＶ〕
【００９０】
【化３６】


【００９１】（但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される化合物とし、これを酸化剤（メタクロロ過安息香酸、カリウムパーオキシスルフェート（２ＫＨＳＯ₅・ＫＨＳＯ₄・Ｋ₂ＳＯ₄）、過酸化水素等）で酸化して一般式〔ＸＶ〕
【００９２】
【化３７】


【００９３】（但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される化合物とし、これをハロゲン化剤（オキシ塩化リン、オキシ臭化リン等）で処理して化合物〔ＸＩＩ〕とし、さらに還元剤（水素化ホウ素アルカリ金属、水素化ビス（メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム等）で還元して製造することもできる。
【００９４】また、一般式〔ＸＩＶ〕においてＲ⁷¹ がエステル化されたカルボキシル基であり、Ｒ⁸¹ が水素原子である化合物は、一般式〔ＸＩＩＩ〕で示される化合物と、カルボキシル基が常用の保護基（例えば、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基等）で保護されたアクリル酸とを反応させ、更に生成物のカルボキシル基の保護基を慣用の方法により、脱保護して得られる一般式
【００９５】
【化３８】


【００９６】で示される化合物を、更に一般式〔ＩＸ〕で示されるベンズアルデヒド化合物を無水酢酸及び酢酸ナトリウム、あるいは三酸化硫黄及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドと反応させ、一般式〔ＸＶＩ〕
【００９７】
【化３９】


【００９８】（但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される化合物とし、これを酸触媒（例えば、酢酸−塩酸混液、塩化アルミニウム等）で処理してナフタレン化合物に変換した後、ナフタレン環３位のカルボキシル基を慣用の方法によりエステル化して製造することができる。
【００９９】本発明の原料化合物〔ＩＶ〕は、例えば、化合物〔ＸＩＶ〕を還元剤（例えば水素化ビス（メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム）で還元し、得られた２，３−ビス（ヒドロキシメチル）化合物の水酸基を保護したのちに酸化剤（例えばメタクロロ過安息香酸）で酸化し、さらに所望により生成物から水酸基の保護基を除去して製造することができる。
【０１００】さらに、化合物〔ＶＩ〕も新規化合物であり、例えば化合物〔ＸＩＩ〕と含窒素化合物〔ＩＩＩ〕とを、化合物〔ＩＩ〕と含窒素化合物〔ＩＩＩ〕との反応と同様の条件下に反応させることにより製造することができる。また、化合物〔ＶＩ〕は、化合物〔ＸＶ〕とハロゲノ含窒素化合物〔Ｖ〕とを、化合物〔ＩＶ〕とハロゲノ含窒素化合物〔Ｖ〕との反応と同様の条件下に反応させることにより製造することもできる。
【０１０１】なお、本発明において、アルキル基としては、炭素数１〜１６、とりわけ炭素数１〜８の直鎖状又は分岐鎖状のものが挙げられ、低級アルキル基及び低級アルコキシ基としては炭素数１〜６、とりわけ１〜４のものが挙げられる。又、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級アルキレンジオキシ基、低級アルカノイル基としては炭素数２〜７、とりわけ２〜５の直鎖状又は分岐鎖状のものが挙げられる。更に、シクロアルキル基としては炭素数３〜８、とりわけ３〜６のものが挙げられる。ハロゲン原子としては、塩素、臭素、フッ素又はヨウ素が挙げられる。
【０１０２】
【実施例】以下に実施例を掲載して、本発明を更に詳細に説明するが、これにより発明を限定するものではない。また、上記例示の方法で合成される化合物、並びに同様の製法による本発明一般式〔Ｉ〕の化合物をまとめて下記第１〜１４表に具体的に示す。
【０１０３】
【表１】


【０１０４】
【表２】


【０１０５】
【表３】


【０１０６】
【表４】


【０１０７】
【表５】


【０１０８】
【表６】


【０１０９】
【表７】


【０１１０】
【表８】


【０１１１】
【表９】


【０１１２】
【表１０】


【０１１３】
【表１１】


【０１１４】
【表１２】


【０１１５】
【表１３】


【０１１６】
【表１４】


【０１１７】
【表１５】


【０１１８】
【表１６】


【０１１９】
【表１７】


【０１２０】
【表１８】


【０１２１】
【表１９】


【０１２２】
【表２０】


【０１２３】
【表２１】


【０１２４】
【表２２】


【０１２５】
【表２３】


【０１２６】
【表２４】


【０１２７】
【表２５】


【０１２８】実施例 １１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（アセトキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレンのＮ−オキシド３．５ｇ及び１−クロロイソキノリン１．２６ｇのメシチレン３０ｍｌ懸濁液を１５０〜１６０℃で加熱撹拌する。反応後溶媒を留去し、残渣に塩化メチレン及び炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレン層を分取する。塩化メチレン層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：アセトン＝３０：１）で精製して第１表記載の１−〔２−（１−オキソ−１，２−ジヒドロイソキノリン−２−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（アセトキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレン１．８５ｇを得る。
【０１２９】ｍ．ｐ． ９０−９３℃実施例 ２１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（アセトキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシド２．１３ｇ及び２−クロロキノリン１．６４ｇのジメチルホルムアミド５ｍｌ懸濁液に塩化水素−ジオキサン溶液を数滴注ぎ、１２０〜１３０℃で加熱撹拌する。反応後溶媒を留去し、残渣に塩化メチレン及び炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレン層を分取する。得られた塩化メチレン層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し残渣を得た。得られた残渣に、氷冷下にてピリジン５ｍｌ及び無水酢酸１．０ｍｌを加え、室温にて２時間撹拌する。反応後溶媒を留去し、残渣に酢酸エチル及び水を加え、酢酸エチル層を分取する。酢酸エチル層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：アセトン＝５：１）で精製して第１表記載の１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（アセトキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン１．２０ｇを得る。
【０１３０】ｍ．ｐ． １８１−１８４℃実施例 ３１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（アセトキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシド３．５ｇ及び２−クロロ−５−ニトロピリジン１３．０ｇのキシレン３０ｍｌ懸濁液に、臭化水素−酢酸溶液を数滴注ぎ、１４０〜１５０℃で加熱撹拌する。反応後溶媒を留去し、残渣にクロロホルム及び炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルム層を分取する。クロロホルム層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：アセトン＝５０：１）で精製して第１表記載の１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロ−５−ニトロピリジン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（アセトキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン１．８３ｇを得る。
【０１３１】ｍ．ｐ． ８１−８４℃実施例 ４１−〔２−（１−オキソ−１，２−ジヒドロイソキノリン−２−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（アセトキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレン１．８４ｇのメタノール５０ｍｌ溶液に、氷冷下にナトリウムメトキシド０．５２ｇを加える。室温で２時間半撹拌し、さらに氷冷下にナトリウムメトキシド０．１７ｇを加え、室温で１時間撹拌する。反応混合物に氷冷下に酢酸０．７４ｍｌを加え、溶媒を留去する。残渣に塩化メチレン及び炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレン層を分取する。塩化メチレン層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：エタノール＝２５：１）で精製して第１表記載の１−〔２−（１−オキソ−１，２−ジヒドロイソキノリン−２−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレン０．９５ｇを得る。
【０１３２】ｍ．ｐ． １３１−１３４℃実施例 ５１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロ−５−ニトロピリジン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（アセトキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン１．８３ｇのメタノール５０ｍｌ溶液に、氷冷下にナトリウムメトキシド０．７２ｇを加える。室温で１時間撹拌する。反応混合物に氷冷下に酢酸０．８ｍｌを加え、溶媒を留去する。残渣にクロロホルム及び炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルム層を分取する。クロロホルム層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：アセトン＝３：１）で精製後、酢酸エチルにて結晶化し第１表記載の１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロ−５−ニトロピリジン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン０．８１ｇを得る。
【０１３３】ｍ．ｐ． ２４８−２５１℃（分解）
実施例 ６（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレン１５．０ｇのテトラヒドロフラン１５０ｍｌ懸濁液に水素化ホウ素ナトリウム６．１６ｇを加え加熱還流する。該加熱還流下の混合物にメタノール６０ｍｌ及びテトラヒドロフラン６０ｍｌの混液を５時間かけて滴下する。反応終了後、溶媒を留去し、残渣に塩化メチレン及び炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレン層を分取する。塩化メチレン層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、残渣をイソプロピルエーテルで結晶化して１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン１１．８６ｇを得る。
【０１３４】ｍ．ｐ． １７７−１７９℃（２）２−ヒドロキシキノキサリン２．９２ｇのジメチルホルムアミド２０ｍｌ溶液を窒素雰囲気下氷冷し、６０％水素化ナトリウム０．７８ｇを加え、室温で１５分間撹拌する。ついで該混合物にヨウ化銅（Ｉ）４．１９ｇを加え、１２０℃で１５分間撹拌する。該混合物を室温に戻し、１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン２．０２ｇを加え、１２０℃で５時間撹拌する。反応終了後酢酸エチル及びアンモニア水を加え、酢酸エチル層を分取する。酢酸エチル層をろ過後、洗浄、乾燥し、溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：メタノール＝２０：１）で精製して第２表記載の１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノキサリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン４５０ｍｇを得る。
【０１３５】ｍ．ｐ． １５８−１６５℃（分解）
実施例 ７２−ヒドロキシ−４−〔２−（１−ピペリジノ）エチル〕アミノキノリン３．２６ｇのジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液を窒素雰囲気下氷冷し、６０％水素化ナトリウム０．４８ｇを加え、室温で１５分間撹拌する。ついで該混合物にヨウ化銅（Ｉ）２．２９ｇを加え、１２０℃で３０分間撹拌する。該混合物を室温に戻し、１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン２．４３ｇを加え、１２０℃で５時間撹拌する。反応終了後酢酸エチル及びアンモニア水を加え、酢酸エチル層を分取する。酢酸エチル層をろ過後、洗浄、乾燥し、溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：メタノール＝６：１）で精製後、塩化水素−ジオキサン溶液を数滴注ぎ、結晶化させ、さらに洗浄後乾燥させ、第２表記載の１−｛２−〔２−オキソ−４−〔２−（１−ピペリジノ）エチル〕アミノ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン・塩酸塩２１０ｍｇを得る。
【０１３６】ｍ．ｐ． ＞２２０℃実施例 ８〜５７１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンと対応含窒素化合物〔ＩＩＩ〕とを実施例６−（２）もしくは実施例７と同様に処理して第１〜２表記載の化合物を得る。
【０１３７】実施例 ５８（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−エトキシ−７−メトキシナフタレンを実施例６−（１）と同様に処理して１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−エトキシ−７−メトキシナフタレンを得る。
【０１３８】ｍ．ｐ． １５６−１５７℃（２）本品と対応含窒素化合物〔ＩＩＩ〕とを実施例７と同様に処理して第３表記載の１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕ピリジン−４−イル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−エトキシ−７−メトキシナフタレン・塩酸塩を得る。
【０１３９】ｍ．ｐ． ２１５−２１８℃（分解）
（３）１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕ピリジン−４−イル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−エトキシ−７−メトキシナフタレン・硫酸塩ｍ．ｐ． ＞２５０℃（４）１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕ピリジン−４−イル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−エトキシ−７−メトキシナフタレン・メタンスルホン酸塩ｍ．ｐ． ２０５−２１５℃（分解）
実施例 ５９〜６０（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）ナフタレンを実施例６−（１）と同様に処理して１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）ナフタレンを得る。
【０１４０】ｍ．ｐ． １０８−１０９℃（２）本品と対応含窒素化合物〔ＩＩＩ〕とを実施例６−（２）もしくは実施例７と同様に処理して第３表記載の化合物を得る。
【０１４１】実施例 ６１〜６２（１）１−（２−ブロモ−５−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンを実施例６−（１）と同様に処理して１−（２−ブロモ−５−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０１４２】ｍ．ｐ． １８５−１８６℃（分解）
（２）本品と対応含窒素化合物〔ＩＩＩ〕とを実施例６−（２）もしくは実施例７と同様に処理して第４表記載の化合物を得る。
【０１４３】実施例 ６３（１）１−（２−ブロモ−６−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレン７１５ｍｇのテトラヒドロフラン２０ｍｌ懸濁液に水素化ホウ素リチウム１７４ｍｇを加え加熱還流する。該加熱還流下の混合物にメタノール２．２ｍｌ及びテトラヒドロフラン１０ｍｌの混液を２時間かけて滴下する。反応終了後、溶媒を留去し、残渣に酢酸エチル及び水を加え、酢酸エチル層を分取する。酢酸エチル層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：メタノール＝１５：１）で精製して１−（２−ブロモ−６−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン５０５ｍｇを得る。
【０１４４】ｍ．ｐ． １０７−１０８℃（２）１−（２−ブロモ−６−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンと対応含窒素化合物〔ＩＩＩ〕とを実施例６−（２）と同様に処理して第５表記載の１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）ピリジン−６−イル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０１４５】ｍ．ｐ． １４２−１４３℃実施例 ６４１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンとフタルイミドのカリウム塩とを実施例６−（２）と同様に処理して１−（２−フタルイミド−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンの加水分解物である第６表記載の１−（２−アミノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０１４６】ｍ．ｐ． ９９−１０３℃実施例 ６５１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンと２−オキソベンゾオキサゾリジンとを実施例６−（２）と同様に処理して１−〔２−（２−オキソベンゾオキサゾリジン−３−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンの加水分解物である第６表記載の１−〔２−（２−ヒドロキシフェニル）アミノ−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０１４７】ｍ．ｐ． ９０−９３℃実施例 ６６（１）１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシド１．９９ｇのトルエン１０ｍｌ懸濁液に２−クロロキノリン３．２７ｇを加える。ついで３０％臭化水素−酢酸溶液５滴を加え１５時間加熱還流する。溶媒留去後、残渣に水及び塩化メチレンを加え、ついで炭酸水素ナトリウム水溶液を加えてｐＨ８に調整する。塩化メチレンで抽出後、洗浄、乾燥し、溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：アセトン＝４：１）で精製して１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレン２．６０ｇを得る。
【０１４８】ｍ．ｐ． ＞２３０℃（２）１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレン２００ｍｇのテトラヒドロフラン懸濁液に、水素化ホウ素ナトリウム３６ｍｇを加え加熱還流する。該加熱還流下の混合物にメタノール０．３ｍｌを１時間かけて滴下する。該混合物を室温に戻し、水素化ホウ素ナトリウム３６ｍｇを加え、加熱還流下にメタノール０．３ｍｌを１時間かけて滴下する。反応終了後、反応混合物に塩化メチレン及び希塩酸を加え、塩化メチレン層を分取する。塩化メチレン層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：メタノール＝２０：１）で精製して第６表記載の１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン９０ｍｇを得る。
【０１４９】ｍ．ｐ． ＞２３０℃（酢酸エチルから再結晶）
実施例 ６７（１）１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシドと４−〔３−（１−イミダゾリル）プロピル〕アミノ−２−クロロキノリンとを実施例６６−（１）と同様に処理して下記第１５表記載の１−｛２−〔２−オキソ−４−〔３−（１−イミダゾリル）プロピル〕アミノ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０１５０】ｍ．ｐ． １４２−１４８℃（２）本品２．２ｇのテトラヒドロフラン懸濁液に、水素化ホウ素ナトリウム６４０ｍｇを加え加熱還流する。該加熱還流下の混合物にメタノール５．４ｍｌ及びテトラヒドロフラン６ｍｌの混液を２時間かけて滴下する。該混合物を室温に戻し、水素化ホウ素ナトリウム４００ｍｇを加え、加熱還流下にメタノール３．４ｍｌを０．５時間かけて滴下する。反応終了後、反応混合物に氷冷下、水酸化ナトリウム水溶液及び塩化メチレンを加え、塩化メチレン層を分取する。塩化メチレン層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：メタノール＝２：１）で精製後、ジオキサン／メタノール溶液に溶解し、塩化水素−ジオキサン溶液を０．２９ｍｌ加えて結晶化させ、さらに洗浄後乾燥させ、第６表記載の１−｛２−〔２−オキソ−４−〔３−（１−イミダゾリル）プロピル〕アミノ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン・塩酸塩９０ｍｇを得る。
【０１５１】ｍ．ｐ． ＞２２０℃実施例 ６８〜７２（１）１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシ（又はジエトキシ）ナフタレンのＮ−オキシドと対応ハロゲノ含窒素化合物〔Ｖ〕とを実施例６６−（１）と同様に処理して下記第１５表記載の化合物を得る。
【０１５２】
【表２６】


【０１５３】（２）上記（１）で得られた生成物を実施例６６−（２）と同様に処理して第６表記載の化合物を得る。
【０１５４】実施例 ７３（１）１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシドと２−クロロ−４−ベンジルオキシカルボニルメトキシキノリンとを実施例６６−（１）と同様に処理して１−〔２−（２−オキソ−４−ベンジルオキシカルボニルメトキシ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０１５５】ｍ．ｐ． １８６−１８９℃（２）上記（１）で得られた生成物を実施例６６−（２）と同様に処理して第６表記載の１−｛２−〔２−オキソ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０１５６】ｍ．ｐ． １００−１１０℃（分解）
実施例 ７４（１）１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシドと２−クロロ−４−モルホリノカルボニルキノリンとを実施例６６−（１）と同様に処理して１−〔２−（２−オキソ−４−モルホリノカルボニル−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０１５７】ｍ．ｐ． ２４７−２４９℃（２）上記（１）で得られた生成物を実施例６６−（２）と同様に処理して第６表記載の１−｛２−〔２−（１−ヒドロキシメチル−３−ヒドロキシプロピル）フェニルアミノ〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０１５８】ｍ．ｐ． ２０４−２０７℃実施例 ７５〜８１（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンと対応含窒素化合物〔ＩＩＩ〕とを実施例６−（２）と同様に処理して下記第１６表記載の化合物を得る。
【０１５９】
【表２７】


【０１６０】（２）上記（１）で得られた生成物を実施例６６−（２）と同様に処理して第６〜７表記載の化合物を得る。
【０１６１】実施例 ８２（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンと４−ヒドロキシキノリンとを実施例６−（２）と同様に処理して１−〔２−（４−オキソ−１，４−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０１６２】ｍ．ｐ． ２６４−２６６℃（分解）
（２）上記（１）で得られた生成物を実施例６６−（２）と同様に処理して第７表記載の１−〔２−（４−ヒドロキシ−１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０１６３】ｍ．ｐ． ９０−９４℃実施例 ８３（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンと５−メチル−２−オキソピロリジンとを実施例６−（２）と同様に処理して１−〔２−（５−メチル−２−オキソピロリジン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０１６４】ｍ．ｐ． １８４−１８６℃（２）上記（１）で得られた生成物を実施例６６−（２）と同様に処理して第７表記載の１−〔２−（１−メチル−４−ヒドロキシブチル）アミノ−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０１６５】ｍ．ｐ． ５７−６１℃実施例 ８４（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンと２−オキソ−１，２，３，４−テトラヒドロキノリンとを実施例６−（２）と同様に処理して１−〔２−（２−オキソ−１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０１６６】ｍ．ｐ． ２２９−２３３℃（２）上記（１）で得られた生成物を実施例６６−（２）と同様に処理して第７表記載の１−｛２−〔２−（３−ヒドロキシプロピル）フェニル〕アミノ−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０１６７】ｍ．ｐ． １５６−１５８℃実施例 ８５１−〔２−（２−オキソ−４−メトキシメトキシ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン１．３９ｇをジオキサン１０ｍｌ及びメタノール５ｍｌの混液に溶解し、該溶液に２Ｎ塩酸２ｍｌを加える。この溶液を５０℃に加温し、７時間撹拌後、溶媒を留去する。残渣にクロロホルム及び水を加え、クロロホルム層を分取し、洗浄、乾燥後溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：メタノール＝１０：１）で精製して第７表記載の１−〔２−（２−オキソ−４−ヒドロキシ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン０．７９ｇを得る。
【０１６８】ｍ．ｐ． １６０−１７０℃実施例 ８６１−〔２−（１−オキソ−５−メトキシメトキシ−１，２−ジヒドロイソキノリン−２−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを実施例８５と同様に処理して第７表記載の１−〔２−（１−オキソ−５−ヒドロキシ−１，２−ジヒドロキノリン−２−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０１６９】ｍ．ｐ． １３８−１４０℃実施例 ８７１−〔２−（２−オキソ−４−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン０．９６ｇを氷冷下に４Ｎの塩化水素−ジオキサン溶液２５ｍｌに加え、室温で１晩撹拌する。溶媒留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：メタノール：酢酸＝９０：１０：３）で精製し、酢酸エチルで結晶化して第７表記載の１−〔２−（２−オキソ−４−カルボキシ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン０．４１ｇを得る。
【０１７０】ｍ．ｐ． ＞２５０℃実施例 ８８１−｛２−〔２−オキソ−４−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル）アミノカルボニル−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン１．９ｇのテトラヒドロフラン２０ｍｌ溶液に、氷冷下にフッ化テトラブチルアンモニウムのテトラヒドロフラン溶液（１．０Ｍ）２．８ｍｌを加え、室温で１時間撹拌する。反応終了後、溶媒を留去し、塩化メチレン及び炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレン層を分取する。塩化メチレン層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：メタノール＝１０：１〜５：１）で精製し、エーテルで粉末化して第７表記載の１−｛２−〔２−オキソ−４−ビス（２−ヒドロキシエチル）アミノカルボニル−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン０．６８ｇを得る。
【０１７１】ｍ．ｐ． ６５−６８℃実施例 ８９１−｛２−〔２−オキソ−４−〔４−（２−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル）ピペラジン−１−イル〕カルボニル−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを実施例８８と同様に処理して第７表記載の１−｛２−〔２−オキソ−４−〔４−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン−１−イル〕カルボニル−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン得る。
【０１７２】ｍ．ｐ． １５０−１５３℃実施例 ９０〜９２１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン３．１ｇのジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液を、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグリシン２．１ｇ及びカルボニルジイミダゾール２．１４ｇのジメチルホルムアミド５ｍｌ溶液を３０分間撹拌したものに加え、室温で一晩撹拌する。残渣に酢酸エチル及び水を加え、酢酸エチル層を分取する。酢酸エチル層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：メタノール＝２０：１）で精製して第８表記載の１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノメチルカルボニルオキシメチル）−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジメトキシナフタレン０．８ｇ（実施例９０）、１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２−ヒドロキシメチル−３−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノメチルカルボニルオキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン１．２ｇ（実施例９１）及び１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノメチルカルボニルオキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン０．４７ｇ（実施例９２）を得る。
【０１７３】
（実施例９０）ｍ．ｐ． １２０−１２２℃（実施例９１）ｍ．ｐ． １３６−１３８℃（実施例９２）油状物実施例 ９３１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２−ヒドロキシメチル−３−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノメチルカルボニルオキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン７００ｍｇにトリフルオロ酢酸５ｍｌを加えて溶解し室温にて１時間撹拌する。反応終了後、溶媒を留去し、メタノール及び１５％塩化水素−メタノール溶液２０ｍｌを加えた。溶媒を留去し、残渣をエーテルで粉末化して第８表記載の１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２−ヒドロキシメチル−３−アミノメチルカルボニルオキシメチル−６，７−ジメトキシナフタレン・塩酸塩５１０ｍｇを得る。
【０１７４】ｍ．ｐ． １２６−１２８℃（分解）
実施例 ９４１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノメチルカルボニルオキシメチル）−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジメトキシナフタレンを実施例９３と同様に処理して第８表記載の１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２−アミノメチルカルボニルオキシメチル−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジメトキシナフタレン・塩酸塩を得る。
【０１７５】ｍ．ｐ． １４６−１４９℃（分解）
実施例 ９５１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノメチルカルボニルオキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを実施例９３と同様に処理して第８表記載の１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（アミノメチルカルボニルオキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン・２塩酸塩を得る。
【０１７６】ｍ．ｐ． １６５−１６８℃（分解）
実施例 ９６〜９７１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン４６８ｍｇのジメチルホルムアミド５ｍｌ溶液に、水素化ナトリウム６０ｍｇを加え３０分間撹拌する。該溶液を氷冷下に付し、エチルブロモアセテート０．１７ｍｌを滴下し一晩撹拌する。残渣に酢酸エチル及び水を加え、酢酸エチル層を分取する。酢酸エチル層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：アセトン＝５：１）で精製して第８表記載の１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２−エトキシカルボニルメトキシメチル−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジメトキシナフタレン７０ｍｇ（実施例９６）、１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２−ヒドロキシメチル−３−エトキシカルボニルメトキシメチル−６，７−ジメトキシナフタレン１２０ｍｇ（実施例９７）を得る。
【０１７７】
（実施例９６）ｍ．ｐ． １９０−１９２℃（実施例９７）ｍ．ｐ． １２４−１２６℃実施例 ９８１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２−ヒドロキシメチル−３−エトキシカルボニルメトキシメチル−６，７−ジメトキシナフタレン２００ｍｇのテトラヒドロフラン５ｍｌ溶液に１規定水酸化ナトリウム溶液０．３６ｍｌを加え撹拌する。該溶液に更にメタノール５ｍｌを加え２０分間加熱還流する。反応液を室温まで冷却し１規定塩酸０．３６ｍｌを加えｐＨ約４にする。反応液にクロロホルムを加え、クロロホルム層を分取する。クロロホルム層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、精製することなく残渣に塩化メチレン５ｍｌを加えジシクロヘキシルカルボジイミド８３ｍｇ及び１−ハイドロキシベンゾトリアゾール６１ｍｇを加え室温にて３０分間撹拌する。該溶液に１−メチルピペラジン５０ｍｇを加え一晩撹拌する。反応液を水洗後、溶媒を留去しシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：メタノール＝１０：１）で精製して第８表記載の１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２−ヒドロキシメチル−３−（４−メチルピペラジン−１−イル）カルボニルメトキシメチル−６，７−ジメトキシナフタレン１５０ｍｇを得る。
【０１７８】ｍ．ｐ． １００−１０２℃実施例 ９９（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンを実施例６−（１）と同様に処理して１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０１７９】（２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン２．０ｇ及びピペラジンの混合物を１３０℃で９０分間撹拌する。該混合物を室温に戻し、反応終了後塩化メチレン及び水を加え、塩化メチレン層を分取する。溶媒を留去し、残渣をエタノールに溶解後、４規定塩化水素−ジオキサン溶液２．８ｍｌを加え塩酸塩とし、溶媒留去後、エタノールで結晶化し、第８表記載の１−〔２−（１−ピペラジニル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン・２塩酸塩１．５７ｇを得る。
【０１８０】ｍ．ｐ． ＞２５０℃実施例 １００〜１０１１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンと対応含窒素化合物〔ＩＩＩ〕とを実施例９９（２）と同様に処理して第９表記載の化合物を得る。
【０１８１】実施例 １０２１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン１．８ｇ及び１，４−ジオキサ−８−アザスピロ［４，５］デカンの混合物を１４０℃で１８時間撹拌する。該混合物を室温に戻し、反応終了後クロロホルム及び水を加え、クロロホルム層を分取する。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：アセトン＝５：１）で精製し、第８表記載の１−〔２−（１，４−ジオキサ−８−アザスピロ［４，５］デシ−８−イル）ピリジン−４−イル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン１．５４ｇ（収率；６２％）を得る。
【０１８２】ｍ．ｐ． １００−１０３℃実施例 １０３１−［２−（１，４−ジオキサ−８−アザスピロ［４，５］デカ−８−イル）ピリジン−４−イル］−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン１．４０ｇと７０％過塩素酸３．６２ｍｌ、テトラヒドロフラン１５ｍｌ及び水１０ｍｌの混合物を室温にて３日間撹拌する。反応終了後、クロロホルム及び水を加え、クロロホルム層を分取する。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：アセトン＝２：１）で精製後、クロロホルムに溶解し、４規定塩化水素−ジオキサン溶液を加え溶媒留去して第９表記載の１−〔２−（４−オキソ−１−ピペリジニル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン・塩酸塩８２８ｍｇを得る。
【０１８３】ｍ．ｐ．＞２５０℃実施例１０４（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−メトキシ−７−エトキシナフタレンを実施例６−（１）と同様に処理して１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−メトキシ−７−エトキシナフタレンを得る。
【０１８４】ｍ．ｐ． １２３−１２６℃（２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−メトキシ−７−エトキシナフタレン１６．０ｇのヒドラジン水和物５０ｍｌ懸濁液を４時間加熱還流する。該加熱還流下の混合物を室温まで戻し、水を加え結晶を濾過する。結晶を水にて洗浄、乾燥して１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−メトキシ−７−エトキシナフタレン１４．５ｇを得る。
【０１８５】ｍ．ｐ． １９７−２００℃（３）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−メトキシ−７−エトキシナフタレン２．０ｇ、（２−カルボキシフェニル）−（３−ピリジル）ケトン１．３５ｇ及びエチレングリコール５ｍｌの混合物を２時間加熱還流する。該加熱還流下の混合物を室温まで戻し、塩化メチレン及び水を加え、塩化メチレン層を分取する。塩化メチレン層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、クロロホルムにて結晶化する。析出物をクロロホルム−メタノール混液にて溶解し、その後、４規定塩化水素−ジオキサン溶液０．６７ｍｌを加え第１０表記載の１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−メトキシ−７−エトキシナフタレン・塩酸塩１．４３ｇを得る。
【０１８６】ｍ．ｐ． ２１１−２１５℃（分解）
実施例１０５（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジエトキシナフタレンを実施例６−（１）と同様に処理して１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレンを得る。
【０１８７】ｍ．ｐ． １４８−１５０℃（２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレンを実施例１０４−（２）と同様に処理して１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレンを得る。
【０１８８】ｍ．ｐ． ２２５−２３０℃（分解）
（３）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレンを実施例１０４−（３）と同様に処理して第１０表記載の１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレン・塩酸塩を得る。
【０１８９】ｍ．ｐ． ２０７−２１１℃（分解）
実施例 １０６〜１０７（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを実施例１０４−（２）と同様に処理して１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０１９０】ｍ．ｐ．２１４−２２０℃（２）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンと対応カルボン酸誘導体〔ＶＩＩ〕を実施例１０４−（３）と同様に処理して第１０表記載の化合物を得る。
【０１９１】実施例 １０８１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン２．０ｇ、無水フタル酸０．９２ｇ及びエチレングリコール１０ｍｌの混合物を１３０℃で２時間加熱撹拌する。該加熱下の混合物を室温まで戻し、塩化メチレン及び水を加え、塩化メチレン層を分取する。塩化メチレン層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、エタノールにて結晶化する。このことにより、第１０表記載の１−〔２−（４−ヒドロキシ−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン１．６８ｇ（収率；６１％）を得る。
【０１９２】ｍ．ｐ． ＞２５０℃実施例 １０９１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン２．０ｇ及び酢酸２０ｍｌの混合物を室温で９６時間撹拌する。反応終了後塩化メチレン及び炭酸カリウム水溶液を加え、塩化メチレン層を分取する。塩化メチレン層から溶媒を留去し、クロロホルムで結晶化し、第１０表記載の１−〔２−（２−アセチルヒドラジノ）ピリジン−４−イル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン０．８４ｇを得る。
【０１９３】ｍ．ｐ． １５４−１５６℃実施例 １１０〜１１１（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２−メトキシカルボニル−３−メチル−６，７−ジメトキシナフタレンを実施例６−（１）と同様に処理して１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２−ヒドロキシメチル−３−メチル−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０１９４】ｍ．ｐ． １０６−１０８℃（２）本品と対応含窒素化合物〔ＩＩＩ〕とを実施例６−（２）と同様に処理して第１１表記載の化合物を得る。
【０１９５】実施例 １１２〜１１４（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２−メトキシカルボニル−６，７−ジメトキシナフタレンを実施例６−（１）と同様に処理して１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２−ヒドロキシメチル−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０１９６】ｍ．ｐ． １５０−１５３℃（２）本品と対応含窒素化合物〔ＩＩＩ〕とを実施例６−（２）もしくは実施例７と同様に処理して第１１表記載の化合物を得る。
【０１９７】実施例 １１５（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−ベンジルオキシ−７−メトキシナフタレンを実施例６−（１）と同様に処理して１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−ベンジルオキシ−７−メトキシナフタレンを得る。
【０１９８】ｍ．ｐ． ２１５−２１７℃（分解）
（２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−ベンジルオキシ−７−メトキシナフタレンを実施例１０４−（２）と同様に処理して１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−ベンジルオキシ−７−メトキシナフタレンを得る。
【０１９９】ｍ．ｐ． １５５−１５７℃（３）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−ベンジルオキシ−７−メトキシナフタレンを実施例１０４−（３）と同様に処理して第１２表記載の１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−ベンジルオキシ−７−メトキシナフタレン・塩酸塩を得る。
【０２００】ｍ．ｐ． ２１９−２２１℃（分解）
実施例 １１６１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−ベンジルオキシ−７−メトキシナフタレン０．７３ｇのジクロロメタン（１０ｍｌ）溶液に、氷冷下、無水酢酸０．７ｍｌ及びトリエチルアミン１．３ｍｌを滴下して室温にて終夜撹拌する。ジクロロメタンで希釈し、水洗、乾燥後、溶媒を留去する。残渣の酢酸（５０ｍｌ）溶液に１０％パラジウム−カーボン（Ｐｄ−Ｃ）０．１ｇを加え、Ｐａｒｒ還元装置を用いて室温で終夜中圧接触還元する。触媒をろ去後、ろ液を減圧濃縮し、得られる残渣をメタノール（１０ｍｌ）に溶解する。得られたメタノール溶液に、氷冷下、ナトリウムメトキシド０．２ｇを加える。室温で３時間撹拌後、反応混合物に氷冷下、希塩酸を加え、溶媒を減圧留去する。残渣に水を加え、ジクロロメタン抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣を酢酸エチルにて結晶化後、４規定塩化水素−酢酸エチル溶液を加えて、第１２表記載の１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−ヒドロキシ−７−メトキシナフタレン・塩酸塩０．１５ｇ（収率２５％）を得る。
【０２０１】ｍ．ｐ． ＞２７０℃実施例 １１７（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−ベンジルオキシ−７−メトキシナフタレン６．６ｇの酢酸−ジオキサン（１：１）１０００ｍｌ混合懸濁液に１０％パラジウム−カーボン（Ｐｄ−Ｃ）２ｇを加え、Ｐａｒｒ還元装置を用いて室温で終夜中圧接触還元する。更に、酢酸−ジオキサン混液（１０００ｍｌ）加え、１０％パラジウム−カーボン（Ｐｄ−Ｃ）２ｇを加え、同様にＰａｒｒ還元装置を用いて室温で約１８時間中圧接触還元する。触媒をろ去後、ろ液を減圧濃縮し、得られる残渣をエタノールで結晶化することにより、１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−ヒドロキシ−７−メトキシナフタレン３．３５ｇ（収率６２％）を得る。
【０２０２】ｍ．ｐ． ２３１−２３３℃（分解）
（２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−ヒドロキシ−７−メトキシナフタレン３．３４ｇのジメチルホルムアミド１５０ｍｌ溶液に、氷冷下、水素化ナトリウム０．４ｇを加え室温で３０分間撹拌する。該溶液に臭化シクロペンタン１．８ｍｌを滴下し、８０℃で一晩撹拌する。更に１３０℃に昇温し２時間撹拌後、残渣にクロロホルム及び水を加え、クロロホルム層を分取する。クロロホルム層を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣をエタノールで結晶化することにより、１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−シクロペンチルオキシ−７−メトキシナフタレン１．２４ｇ（収率３２％）を得る。
【０２０３】ｍ．ｐ． １７９−１８１℃（３）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−シクロペンチルオキシ−７−メトキシナフタレンを実施例６−（１）と同様に処理して１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−シクロペンチルオキシ−７−メトキシナフタレンを得る。
【０２０４】ｍ．ｐ． ２００−２０１℃（４）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−シクロペンチルオキシ−７−メトキシナフタレンを実施例１０４−（２）と同様に処理して１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−シクロペンチルオキシ−７−メトキシナフタレンを得る。
【０２０５】ｍ．ｐ． １２７−１３０℃（５）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−シクロペンチルオキシ−７−メトキシナフタレンを実施例１０４−（３）と同様に処理して第１２表記載の１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−シクロペンチルオキシ−７−メトキシナフタレン・塩酸塩を得る。
【０２０６】ｍ．ｐ． ２１５−２１７℃（分解）
実施例 １１８（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−イソプロピルオキシ−７−メトキシナフタレンを実施例６−（１）と同様に処理して１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−イソプロピルオキシ−７−メトキシナフタレンを得る。
【０２０７】ｍ．ｐ． １２９−１３１℃（２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−イソプロピルオキシ−７−メトキシナフタレンを実施例１０４−（２）と同様に処理して１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−イソプロピルオキシ−７−メトキシナフタレンを得る。
【０２０８】ｍ．ｐ． １２８−１３１℃（３）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−イソプロピルオキシ−７−メトキシナフタレンを実施例１０４−（３）と同様に処理して第１２表記載の１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−イソプロピルオキシ−７−メトキシナフタレン・塩酸塩を得る。
【０２０９】ｍ．ｐ． ２０３−２０６℃（分解）
実施例 １１９（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−ブトキシ−７−メトキシナフタレンを実施例６−（１）と同様に処理して１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−ブトキシ−７−メトキシナフタレンを得る。
【０２１０】ｍ．ｐ． ９３−９７℃（２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−ブトキシ−７−メトキシナフタレンを実施例１０４−（２）と同様に処理して１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−ブトキシ−７−メトキシナフタレンを得る。
【０２１１】ｍ．ｐ． ９３−９７℃（３）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−ブトキシ−７−メトキシナフタレンを実施例１０４−（３）と同様に処理して第１２表記載の１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−ブトキシ−７−メトキシナフタレン・塩酸塩を得る。
【０２１２】ｍ．ｐ． １９８−２０１℃（分解）
実施例 １２０（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−オクチルオキシ−７−メトキシナフタレンを実施例６−（１）と同様に処理して１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−オクチルオキシ−７−メトキシナフタレンを得る。
【０２１３】ｍ．ｐ． ９８−１０２℃（２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−オクチルオキシ−７−メトキシナフタレンを実施例１０４−（２）と同様に処理して１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−オクチルオキシ−７−メトキシナフタレンを得る。
【０２１４】ｍ．ｐ． ９８−１０２℃（３）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−オクチルオキシ−７−メトキシナフタレンを実施例１０４−（３）と同様に処理して第１２表記載の１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−オクチルオキシ−７−メトキシナフタレン・塩酸塩を得る。
【０２１５】ｍ．ｐ． １９０−１９３℃（分解）
実施例 １２１（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを実施例１０４−（２）と同様に処理して、１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得た後、本品と対応原料化合物〔ＶＩＩ〕とを実施例１０４−（３）と同様に処理して、１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンの粗精製物（７５．５ｇ）を得る。当該粗精製物のクロロホルム−メタノール（３：１）（７００ｍｌ）溶液を活性炭３．７ｇにて活性炭処理後、クロロホルム−メタノール（３：１）（３００ｍｌ）で洗浄する。当該溶液に２規定塩酸６９ｍｌを加えた後、溶媒留去し、エタノール（１５０ｍｌ）にて２回共沸し、溶媒を留去する。析出物をろ取、エタノール（２００ｍｌ）にて洗浄後、５０℃にて終夜送風乾燥し、１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン・塩酸塩８４ｇを得る。本品のクロロホルム−メタノール（３：１）（１０００ｍｌ）溶液に炭酸カリウム水溶液（水３００ｍｌ中炭酸カリウム２３ｇ）を加えて洗浄し、有機層を乾燥後、溶媒を結晶物が析出しない程度留去する。エタノール３００ｍｌ加え、更にクロロホルム及びメタノールを留去する。再度、エタノール（３００ｍｌ）を加え、溶媒を一部留去する。析出物をろ取しエタノール（３００ｍｌ）で洗浄、５０℃で終夜送風乾燥し、第１２表記載の１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン６６．６ｇ（収率８５％）を得る。
【０２１６】ｍ．ｐ． ２６９−２７０℃（２）１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン・硫酸塩ｍ．ｐ． ＞２６０℃実施例 １２２（１）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレンと対応原料化合物〔ＶＩＩ〕とを実施例１０４−（３）と同様に処理して、１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレンの粗生成物（６．５ｇ）を得る。本品に室温下、エタノール−水（３３ｍｌ−１３ｍｌ）混液を加え懸濁化する。当該懸濁液に３５％塩酸（２．２ｍｌ）を滴下し溶解後、５０〜５５℃に昇温し、活性炭（１．３ｇ）にて処理後、活性炭をろ別し、エタノール−水（１３ｍｌ−７ｍｌ）で洗浄する。当該溶液を４５〜５０℃まで加温し、水酸化ナトリウム水溶液（水１３ｍｌ中水酸化ナトリウム１ｇ）を滴下し５５〜６０℃で３時間撹拌後、無水物を接種する。室温にて終夜撹拌した後氷冷し、析出物をろ取、５０％エタノール（１３ｍｌ）で洗浄、５０℃にて終夜送風乾燥することにより、第１２表記載の１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレン５．６ｇ（収率８６％）を得る。
【０２１７】ｍ．ｐ． ２２２℃（２）１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレン・硫酸塩ｍ．ｐ． ＞２２０℃（３）１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレン・メタンスルホン酸塩ｍ．ｐ． １６０−１６３℃（分解）
実施例 １２３１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレンを実施例１０４−（３）と同様に処理して、１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレンの粗精製物（７．０ｇ）を得た後、エタノール−水（３５ｍｌ−１４ｍｌ）混液を加え、室温下懸濁化する。当該懸濁液に３５％塩酸（２．３ｍｌ）を滴下し溶解後、５０〜５５℃に昇温し、活性炭（１．４ｇ）にて活性炭処理後、エタノール−水（１４ｍｌ−７ｍｌ）で洗浄する。当該溶液を３５℃まで加温し、水酸化ナトリウム水溶液（水１４ｍｌ中水酸化ナトリウム１．１ｇ）を滴下し、二水和物を接種する。氷冷下１時間撹拌した後、析出物をろ取、５０％エタノール（１４ｍｌ）で洗浄、５０℃にて終夜送風乾燥することにより、第１２表記載の１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレン・二水和物６．４ｇ（収率８６％）を得る。
【０２１８】ｍ．ｐ． １４１℃（１４１℃で融解し、昇温することにより無水物化し結晶析出。２２２−２２３℃で再度融解）
実施例 １２４（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−３−メトキシカルボニル−６，７−ジメトキシナフタレンを実施例６−（１）と同様に処理して１−（２−クロロ−４−ピリジル）−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０２１９】ｍ．ｐ． １１５−１１８℃（２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジメトキシナフタレンを実施例１０４−（２）と同様に処理して１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０２２０】ｍ．ｐ． １３９−１４４℃（３）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジメトキシナフタレンを実施例１０４−（３）と同様に処理して第１３表記載の１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジメトキシナフタレン・塩酸塩を得る。
【０２２１】ｍ．ｐ． ＞２５０℃実施例１２５（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−３−カルボキシ−６，７−ジエトキシナフタレンのテトラヒドロフラン５０ｍｌ懸濁液に窒素雰囲気下、５℃以下で水素化ビス（メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム２９．４ｍｌ（７０％トルエン溶液）とテトラヒドロフラン２０ｍｌ混合溶液を滴下し、同温で１時間反応する。反応終了後、メタノール１２ｍｌを加え、次いで６．２５規定水酸化ナトリウム水溶液４８ｍｌを加え、５０℃で１時間撹拌した。テトラヒドロフラン層を分取した後、水層に塩化メチレンを加え、抽出した後、塩化メチレン層を分取する。有機層を合わせた後、溶媒を留去し、再び塩化メチレンで抽出し、洗浄、乾燥後溶媒を留去し、残査をシリカゲルクロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：酢酸エチル＝４：１）で精製後、ジエチルエーテルで結晶化し、１−（２−クロロ−４−ピリジル）−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジエトキシナフタレン３．９４ｇを得る。
【０２２２】ｍ．ｐ． １３５−１３７℃（２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジエトキシナフタレン３．９０ｇのヒドラジン水和物１７．８ｍｌ懸濁液を９時間加熱還流する。該加熱還流下の混合物を室温で１０分間撹拌し、氷冷下で１０分間撹拌し、塩化メチレン及び水を加え、塩化メチレン層を分取する。塩化メチレン層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、残査をエタノール２０ｍｌに加温溶解後、一夜放冷撹拌して１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジエトキシナフタレン３．１９ｇを得る。
【０２２３】ｍ．ｐ． １４７−１４９℃（３）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジエトキシナフタレン１．０６ｇを実施例１０４−（３）と同様に処理して、第１４表記載の１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジエトキシナフタレン・塩酸塩１．４５ｇを得る。
【０２２４】ｍ．ｐ． １９７−２０１℃（分解）
実施例１２６１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジエトキシナフタレン１７７ｍｇ、１−カルボキシ−２−フェニルカルボニルベンゼン１９１ｍｇ及びエチレングリコール１ｍｌを用いて、実施例１０４−（３）と同様の操作により、第１４表記載の１−〔２−（４−フェニル−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル）−４−ピリジル〕−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジエトキシナフタレン２０６ｍｇを得る。
【０２２５】ｍ．ｐ． ２０３−２０４℃実施例１２７１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジエトキシナフタレン１７７ｍｇ、１−カルボキシ−２−（４−クロロフェニルカルボニル）ベンゼン１３７ｍｇ及びエチレングリコール１ｍｌを用いて、実施例１０４−（３）と同様の操作により、第１４表記載の１−｛２−〔４−（４−クロロフェニル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジエトキシナフタレン２４７ｍｇを得る。
【０２２６】ｍ．ｐ． ２２３−２２５℃実施例１２８１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジエトキシナフタレン１７７ｍｇ、１−カルボキシ−２−メチルカルボニルベンゼン８６ｍｇ及びエチレングリコール１ｍｌを用いて、実施例１０４−（３）と同様の操作により、第１４表記載の１−〔２−（４−メチル−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル）−４−ピリジル〕−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジエトキシナフタレン２１１ｍｇを得る。
【０２２７】ｍ．ｐ． ２２０−２２１℃参考例 １（１）３，４−ジメトキシベンズアルデヒド３９８．８ｇを酢酸１．８リットルに溶解し室温で臭素１３６ｍｌを４時間かけて滴下する。終夜撹拌した後再び臭素６０ｍｌをゆっくり滴下し終夜撹拌する。反応液を水７リットルに加え、析出晶をろ取し、水洗して得られた結晶をクロロホルム２リットルに溶解する。該クロロホルム溶液を洗浄、乾燥後濃縮し、ジイソプロピルエーテルで結晶化して６−ブロモ−３，４−ジメトキシベンズアルデヒド４７０ｇを無色結晶として得る。
【０２２８】ｍ．ｐ． １４４−１４６℃（２）６−ブロモ−３，４−ジメトキシベンズアルデヒド４７０ｇをメタノール６００ｍｌに懸濁させ、オルトギ酸メチル１０２５ｍｌとＩＲＡ−１２０（Ｈ＋型）１０ｇを加え１時間加熱還流する。室温に戻し不溶物をろ別してろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をエーテルに溶解する。洗浄、乾燥し、エーテルを留去後減圧蒸留して主留（１３３−１３８℃／１Ｔｏｒｒ）として６−ブロモ−３，４−ジメトキシベンズアルデヒドジメチルアセタール５２２ｇを得る。
【０２２９】参考例 ２３，４−ジエトキシベンズアルデヒドを参考例１と同様に処理して６−ブロモ−３，４−ジエトキシベンズアルデヒドジメチルアセタールを得る。
【０２３０】ｂ．ｐ． １４５−１５０℃／１Ｔｏｒｒ参考例 ３３−メトキシ−４−エトキシベンズアルデヒドを参考例１と同様に処理して６−ブロモ−３ーメトキシ−４−エトキシベンズアルデヒドジメチルアセタールを得る。
【０２３１】ｂ．ｐ．１６０−１６２℃／２Ｔｏｒｒ参考例 ４ベンズアルデヒドを参考例１と同様に処理して２−ブロモベンズアルデヒドジメチルアセタールを得る。
【０２３２】ｂ．ｐ．９０−１００℃／１Ｔｏｒｒ参考例 ５３−エトキシ−４−メトキシベンズアルデヒドを参考例１と同様に処理して６−ブロモ−３−エトキシ−４−メトキシベンズアルデヒドジメチルアセタールを得る。
【０２３３】ｂ．ｐ．１７０−１７５℃／３Ｔｏｒｒ参考例 ６６−ブロモ−３，４−ジメトキシベンズアルデヒドジメチルアセタール２０ｇのテトラヒドロフラン１００ｍｌ溶液を−６０℃に冷却し窒素雰囲気下でｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．６Ｍ）４５．１ｍｌを２０分間で滴下する。同温で３０分間反応させた後４−ホルミルピリジン７．３６ｇのテトラヒドロフラン５０ｍｌ溶液を２０分間で滴下する。１時間反応させた後反応液に水、酢酸エチル２００ｍｌを加えて酢酸エチル層を分取し、洗浄、乾燥後、酢酸エチルを留去して３，４−ジメトキシ−６−（４−ピリジル）ヒドロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタール１５．４ｇを得る。
【０２３４】ｍ．ｐ． １３０−１３３℃参考例 ７６−ブロモ−３，４−ジエトキシベンズアルデヒドジメチルアセタールを参考例６と同様に処理して３，４−ジエトキシ−６−（４−ピリジル）ヒドロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを得る。
【０２３５】ｍ．ｐ． １０８−１０９℃参考例 ８６−ブロモ−３−メトキシ−４−エトキシベンズアルデヒドジメチルアセタールを参考例６と同様に処理して３−メトキシ−４−エトキシ−６−（４−ピリジル）ヒドロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを得る。
【０２３６】ｍ．ｐ．１２５−１２７℃参考例 ９２−ブロモベンズアルデヒドジメチルアセタールを参考例６と同様に処理して６−（４−ピリジル）ヒドロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを得る。
【０２３７】ｍ．ｐ．１１５−１１６℃参考例 １０６−ブロモ−３−エトキシ−４−メトキシベンズアルデヒドジメチルアセタールを参考例６と同様に処理して３−エトキシ−４−メトキシ−６−（４−ピリジル）ヒドロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを得る。
【０２３８】ｍ．ｐ．１１４−１１５℃参考例 １１６−ブロモ−３，４−ジメトキシベンズアルデヒドジメチルアセタールと２−ブロモ−４−ホルミルピリジンを参考例６と同様に処理して３，４−ジメトキシ−６−（２−ブロモ−４−ピリジル）ヒドロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを油状物として得る。
【０２３９】参考例 １２６−ブロモ−３，４−ジメトキシベンズアルデヒドジメチルアセタールと２−ホルミルピリジンを参考例６と同様に処理して３，４−ジメトキシ−６−（２−ピリジル）ヒドロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを油状物として得る。
【０２４０】参考例 １３６−ブロモ−３，４−ジメトキシベンズアルデヒドジメチルアセタールと３−ホルミルピリジンを参考例６と同様に処理して３，４−ジメトキシ−６−（３−ピリジル）ヒドロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを油状物として得る。
【０２４１】参考例 １４３，４−ジメトキシ−６−（４−ピリジル）ヒドロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタール１８．４ｇの酢酸５０ｍｌ−トルエン５０ｍｌ溶液にマレイン酸ジメチル８．６４ｍｌを加え１時間加熱還流する。メタンスルホン酸９．３３ｍｌを加えディーン・スターク装置を用いて生成する水を除去しながら８時間加熱還流する。室温にもどし反応液を濃縮し、得られた残渣をクロロホルムに溶解し、炭酸カリウム水溶液を加えてｐＨ８に調整する。該溶液をクロロホルム抽出し、洗浄、乾燥後濃縮して得られた残渣をエーテルから結晶化して１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレン１３．５ｇを得る。
【０２４２】ｍ．ｐ． ２０４−２０６℃参考例 １５３，４−ジエトキシ−６−（４−ピリジル）ヒドロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを参考例１４と同様に処理して１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジエトキシナフタレンを得る。
【０２４３】ｍ．ｐ． １４９−１５０℃参考例 １６３−メトキシ−４−エトキシ−６−（４−ピリジル）ヒドロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを参考例１４と同様に処理して１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−メトキシ−７−エトキシナフタレンを得る。
【０２４４】ｍ．ｐ．１９５−１９７℃参考例 １７６−（４−ピリジル）ヒドロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを参考例１４と同様に処理して１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）ナフタレンを得る。
【０２４５】ｍ．ｐ．１９７−１９８℃参考例 １８３−エトキシ−４−メトキシ−６−（４−ピリジル）ヒドロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを参考例１４と同様に処理して１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−エトキシ−７−メトキシナフタレンを得る。
【０２４６】ｍ．ｐ．１８８−１８９℃参考例 １９３，４−ジメトキシ−６−（２−ピリジル）ヒドロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを参考例１４と同様に処理して１−（２−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０２４７】ｍ．ｐ． １６３−１６５℃参考例 ２０３，４−ジメトキシ−６−（３−ピリジル）ヒドロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを参考例１４と同様に処理して１−（３−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０２４８】ｍ．ｐ． ９５−９６℃参考例 ２１１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレン５ｇの塩化メチレン溶液３００ｍｌに氷冷下メタクロロ過安息香酸８．１ｇを加え、室温に戻し終夜撹拌する。反応液を洗浄、乾燥後濃縮して１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシド１５．０ｇを結晶として得る。
【０２４９】ｍ．ｐ． ２３７−２３９℃参考例 ２２１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジエトキシナフタレンを参考例２１と同様に処理して１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジエトキシナフタレンのＮ−オキシドを得る。
【０２５０】ｍ．ｐ． １７７−１７８℃参考例 ２３１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−メトキシ−７−エトキシナフタレンを参考例２１と同様に処理して１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−メトキシ−７−エトキシナフタレンのＮ−オキシドを得る。
【０２５１】ｍ．ｐ．＞２２０℃参考例 ２４１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）ナフタレンを参考例２１と同様に処理して１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）ナフタレンのＮ−オキシドを得る。
【０２５２】ｍ．ｐ．２１５−２１８℃参考例 ２５１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−エトキシ−７−メトキシナフタレンを参考例２１と同様に処理して１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−エトキシ−７−メトキシナフタレンのＮ−オキシドを得る。
【０２５３】ｍ．ｐ．２３０−２３１℃参考例 ２６１−（２−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンを参考例２１と同様に処理して１−（２−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシドを得る。
【０２５４】ｍ．ｐ．１７３−１７５℃参考例 ２７１−（３−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンを参考例２１と同様に処理して１−（３−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシドを得る。
【０２５５】ｍ．ｐ．１８５−１８６℃（分解）
参考例 ２８テトラヒドロフラン２５ｍｌに水素化ビス（メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウムのトルエン溶液（３．４Ｍ）１８．０ｍｌを加え、−１０℃に冷却する。そこへ１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジエトキシナフタレン１０．０ｇのテトラヒドロフラン懸濁液２５ｍｌを１５分間で滴下する。反応液を昇温し、氷冷下で１．５時間撹拌した後、１５％水酸化ナトリウム水溶液３．７ｍｌを加える。反応混合物に水及び塩化メチレンを加え、不溶物をろ去する。ろ液を塩化メチレン抽出し、抽出液を洗浄、乾燥後、濃縮して１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレン７．８９ｇを得る。
【０２５６】ｍ．ｐ． １５９−１６１℃参考例 ２９１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンを参考例２８と同様に処理して１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０２５７】ｍ．ｐ．１３５−１３８℃参考例 ３０１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレン２０．０ｇを塩化メチレン２００ｍｌに溶解し、氷冷下に無水酢酸４６．６ｇ及びトリエチルアミン５７．４ｇを滴下して室温で終夜撹拌する。塩化メチレンで希釈後水洗し、乾燥後濃縮して残渣を酢酸エチル−ヘキサン混液より再結晶して１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（アセトキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレン２２．４ｇを得る。
【０２５８】ｍ．ｐ． １１５−１１６℃参考例 ３１１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを参考例３０と同様に処理して１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（アセトキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０２５９】ｍ．ｐ．１６５−１６７℃参考例 ３２１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（アセトキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレン２２．４ｇの塩化メチレン１００ｍｌ溶液に室温でメタクロロ過安息香酸１９．０ｇを加え終夜撹拌する。反応液を洗浄、乾燥後濃縮し、残渣をエーテルより結晶化して１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（アセトキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレンのＮ−オキシド２０．８ｇを得る。
【０２６０】ｍ．ｐ． １５８−１５９℃参考例 ３３１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（アセトキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを参考例３２と同様に処理して１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（アセトキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシドを得る。
【０２６１】ｍ．ｐ．１８２−１８５℃参考例 ３４１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシド３０ｇ及びオキシ塩化リン１５０ｍｌの混合物を２時間加熱還流する。オキシ塩化リンを留去し、塩化メチレン及び炭酸カリウム水溶液を加え、塩化メチレン層を分取する。溶媒留去後メタノールで結晶化して１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレン２６ｇを得る。
【０２６２】ｍ．ｐ．２０１−２０３℃参考例 ３５１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−メトキシ−７−エトキシナフタレンのＮ−オキシドを参考例３４と同様に処理し１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−メトキシ−７−エトキシナフタレンを得る。
【０２６３】ｍ．ｐ．１９６−１９８℃参考例 ３６１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）ナフタレンのＮ−オキシドを参考例３４と同様に処理し１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）ナフタレンを得る。
【０２６４】ｍ．ｐ．１７４−１７８℃参考例 ３７１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−エトキシ−７−メトキシナフタレンのＮ−オキシドを参考例３４と同様に処理し１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−エトキシ−７−メトキシナフタレンを得る。
【０２６５】ｍ．ｐ．２０５−２０８℃参考例 ３８１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジエトキシナフタレンのＮ−オキシドを参考例３４と同様に処理し１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジエトキシナフタレンを得る。
【０２６６】ｍ．ｐ．１５４−１５６℃参考例 ３９１−（２−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシドを参考例３４と同様に処理し１−（２−クロロ−６−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレン及び１−（４−クロロ−２−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンの混合物を得る。
【０２６７】ＭＳ；４１５（Ｍ⁺）
参考例 ４０１−（３−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシドを参考例３４と同様に処理し１−（２−クロロ−５−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレン及び１−（２−クロロ−３−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンの混合物を得る。
【０２６８】ＭＳ；４１５（Ｍ⁺）
参考例 ４１１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレン２２．７ｇ、三臭化リン５２ｍｌ及び１，１，２，２−テトラクロロエタン１００ｍｌの混合物を１００℃で１０時間撹拌する。反応後溶媒を留去し、塩化メチレン及び炭酸カリウム水溶液を加え、塩化メチレン層を分取する。溶媒留去後メタノールで結晶化して１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレン１７．１ｇを得る。
【０２６９】ｍ．ｐ．１９２−１９４℃参考例 ４２１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）ナフタレンを参考例４１と同様に処理して１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）ナフタレンを得る。
【０２７０】ｍ．ｐ．１６２−１６３℃参考例 ４３１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−エトキシ−７−メトキシナフタレンを参考例４１と同様に処理して１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−エトキシ−７−メトキシナフタレンを得る。
【０２７１】ｍ．ｐ．２０３−２０４℃参考例 ４４参考例３９で得た混合物を参考例４１と同様に処理し、さらにシリカゲル精製して、１−（２−ブロモ−６−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０２７２】ｍ．ｐ．１９９−２００℃参考例 ４５参考例４０で得た混合物を参考例４１と同様に処理し、さらにシリカゲル精製して、１−（２−ブロモ−５−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０２７３】ｍ．ｐ．１８２−１８４℃参考例 ４６１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシド１０６．４ｇの１，２−ジクロロエタン５００ｍｌ懸濁液にオキシ臭化リン１００ｇを加え、５時間加熱還流する。反応終了後溶媒等を留去し、酢酸エチルを加える。該酢酸エチル溶液を氷水に加え、析出晶をろ取して１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレン３８．９ｇを得る。
【０２７４】ｍ．ｐ． １９２−１９４℃参考例 ４７３，４−ジメトキシ−６−（４−ピリジル）ヒドロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタールとクロトン酸メチルを参考例１４と同様に処理して１−（４−ピリジル）−２−メトキシカルボニル−３−メチル−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０２７５】ｍ．ｐ． １５２−１５４℃参考例 ４８３，４−ジメトキシ−６−（４−ピリジル）ヒドロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタールとアクリル酸メチルを参考例１４と同様に処理して１−（４−ピリジル）−２−メトキシカルボニル−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０２７６】ｍ．ｐ． １５２−１５４℃参考例 ４９１−（４−ピリジル）−２−メトキシカルボニル−３−メチル−６，７−ジメトキシナフタレンを参考例２１と同様に処理して１−（４−ピリジル）−２−メトキシカルボニル−３−メチル−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシドを得る。
【０２７７】ｍ．ｐ． ２３０−２３２℃参考例 ５０１−（４−ピリジル）−２−メトキシカルボニル−６，７−ジメトキシナフタレンを参考例２１と同様に処理して１−（４−ピリジル）−２−メトキシカルボニル−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシドを得る。
【０２７８】ｍ．ｐ． ２２２−２２４℃参考例 ５１１−（４−ピリジル）−２−メトキシカルボニル−３−メチル−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシドを参考例３４と同様に処理して１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２−メトキシカルボニル−３−メチル−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０２７９】ｍ．ｐ．１３３−１３６℃参考例 ５２１−（４−ピリジル）−２−メトキシカルボニル−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシドを参考例３４と同様に処理し１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２−メトキシカルボニル−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０２８０】ｍ．ｐ．１４２−１４５℃参考例 ５３１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２−メトキシカルボニル−３−メチル−６，７−ジメトキシナフタレンを参考例４１と同様に処理して１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２−メトキシカルボニル−３−メチル−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０２８１】ｍ．ｐ．１４８−１５０℃参考例 ５４１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２−メトキシカルボニル−６，７−ジメトキシナフタレンを参考例４１と同様に処理して１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２−メトキシカルボニル−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。
【０２８２】ｍ．ｐ．１４６−１４８℃参考例 ５５イソバニリン２００ｇのジメチルホルムアミド５００ｍｌ溶液に、氷冷下、炭酸カリウム２３６ｇを加えた後、臭化ベンジル２０３ｍｌを滴下し、終夜撹拌する。反応残渣の不溶物を濾過し、アセトンにて洗浄、溶媒を留去し、残渣にエーテル及び水を加えて、再度洗浄、溶媒を留去することにより、３−ベンジルオキシ−４−メトキシベンズアルデヒド（油状物質）を得る。
【０２８３】参考例 ５６（１）３−ベンジルオキシ−４−メトキシベンズアルデヒドを酢酸−酢酸ナトリウム共存下、参考例１−（１）と同様に処理して、６−ブロモ−３−ベンジルオキシ−４−メトキシベンズアルデヒド得る。
【０２８４】ｍ．ｐ．１４０−１４１℃（２）６−ブロモ−３−ベンジルオキシ−４−メトキシベンズアルデヒドを参考例１−（２）と同様に処理して、６−ブロモ−３−ベンジルオキシ−４−メトキシベンズアルデヒドジメチルアセタール（油状物質）を得る。
【０２８５】参考例 ５７６−ブロモ−３−ベンジルオキシ−４−メトキシベンズアルデヒドジメチルアセタールを参考例６と同様に処理して、３−ベンジルオキシ−４−メトキシ−６−（４−ピリジル）ヒドロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタール（油状物質）を得る。
【０２８６】参考例 ５８３−ベンジルオキシ−４−メトキシ−６−（４−ピリジル）ヒドロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを３日間室温下、参考例１４と同様に処理して、１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−ベンジルオキシ−７−メトキシナフタレンを得る。
【０２８７】ｍ．ｐ． ２４０−２４２℃（分解）
参考例 ５９１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−ベンジルオキシ−７−メトキシナフタレンを参考例２１と同様に処理して、１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−ベンジルオキシ−７−メトキシナフタレンのＮ−オキシドを得る。
【０２８８】ｍ．ｐ． ２５４−２５７℃（分解）
参考例 ６０１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−ベンジルオキシ−７−メトキシナフタレンのＮ−オキシドを参考例３４と同様に処理して、１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−ベンジルオキシ−７−メトキシナフタレンを得る。
【０２８９】ｍ．ｐ．２６０−２６１℃（分解）
参考例 ６１１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−ベンジルオキシ−７−メトキシナフタレンを実施例１１７−（１）と同様に処理して、１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−ヒドロキシ−７−メトキシナフタレンを得る。
【０２９０】ｍ．ｐ．２２５−２３０℃（分解）
参考例 ６２１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−ヒドロキシ−７−メトキシナフタレンとヨウ化イソプロピルを実施例１１７−（２）と同様に処理して、１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−イソプロピルオキシ−７−メトキシナフタレンを得る。
【０２９１】ｍ．ｐ．２１０−２１２℃参考例 ６３１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−ヒドロキシ−７−メトキシナフタレンとヨウ化ブチルを実施例１１７−（２）と同様に処理して、１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−ブトキシ−７−メトキシナフタレンを得る。
【０２９２】ｍ．ｐ．１４９−１５１℃参考例 ６４１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−ヒドロキシ−７−メトキシナフタレンと臭化オクチルを実施例１１７−（２）と同様に処理して、１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−オクチルオキシ−７−メトキシナフタレンを得る。
【０２９３】ｍ．ｐ．１２４−１２６℃参考例 ６５１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−イソプロピルオキシ−７−メトキシナフタレンを参考例２１と同様に処理して、１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−イソプロピルオキシ−７−メトキシナフタレンのＮ−オキシドを得る。
【０２９４】ｍ．ｐ．１９５−２００℃（分解）
参考例 ６６１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−ブトキシ−７−メトキシナフタレンを参考例２１と同様に処理して、１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−ブトキシ−７−メトキシナフタレンのＮ−オキシドを得る。
【０２９５】ｍ．ｐ．１７０−１７３℃参考例 ６７１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−オクチルオキシ−７−メトキシナフタレンを参考例２１と同様に処理して、１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−オクチルオキシ−７−メトキシナフタレンのＮ−オキシドを得る。
【０２９６】ｍ．ｐ．１４３−１４６℃参考例 ６８１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−イソプロピルオキシ−７−メトキシナフタレンのＮ−オキシドを参考例３４と同様に処理して、１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−イソプロピルオキシ−７−メトキシナフタレン得る。
【０２９７】ｍ．ｐ．１９５−２００℃（分解）
参考例 ６９１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−ブトキシ−７−メトキシナフタレンのＮ−オキシドを参考例３４と同様に処理して、１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−ブトキシ−７−メトキシナフタレン得る。
【０２９８】ｍ．ｐ．１４３−１４７℃参考例 ７０１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−オクチルオキシ−７−メトキシナフタレンのＮ−オキシドを参考例３４と同様に処理して、１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−オクチルオキシ−７−メトキシナフタレン得る。
【０２９９】ｍ．ｐ．９３−９７℃参考例 ７１４−カルボキシ−２−クロロピリジン７８．７ｇを窒素雰囲気下、水素化ホウ素ナトリウム２８．４ｇのテトラヒドロフラン７５０ｍｌの懸濁液に徐々に加え、次いで三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩１２３ｍｌを滴下した後、室温で６時間反応する。反応終了液に、６規定塩酸９６０ｍｌを滴下し、有機溶媒を留去後、水酸化ナトリウムでアルカリ性にし、クロロホルムで抽出した。クロロホルム層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、乾燥後溶媒を留去し、２−クロロ−４−ヒドロキシメチルピリジン６２．２ｇを得る。
【０３００】ｍ．ｐ． ６３−６５℃参考例 ７２（１）オキザリルクロライド４２．２ｍｌの塩化メチレン溶液（１１００ｍｌ）に−６０℃〜−５０℃でジメチルスルフォキサイド６８．７ｍｌの塩化メチレン溶液（２２０ｍｌ）を滴下し、同温で２−クロロ−４−ヒドロキシメチルピリジン６３．２ｇの塩化メチレン溶液４４０ｍｌを滴下した後、１５分間撹拌する。次いで、同温でトリエチルアミン３０６．６ｍｌを滴下し、５分間撹拌後、室温にする。反応終了液に、水２．２ｌを加え、塩化メチレン層を分取し、水層を再び塩化メチレン２．２ｌで抽出し、先の塩化メチレン層と合す。合わせた塩化メチレン層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、乾燥後溶媒を留去し、２−クロロピリジン−４−カルバルデヒドを得る。
【０３０１】（２）２−クロロピリジン−４−カルバルデヒドのジメチルホルムアミド溶液（１５０ｍｌ）をシアン化ナトリウム５．２ｇのジメチルホルムアミド懸濁液２００ｍｌに５分間で滴下し、５分間撹拌後、アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル６１．４ｍｌのジメチルホルムアミド溶液（３５０ｍｌ）を１０分間で滴下し、一夜撹拌する。反応終了液に、酢酸エチルと水を加え、酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、乾燥後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製後、４−（２−クロロピリジン−４−イル）−４−オキソ−ブチル酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（油状物質）８２．８ｇを得る。
【０３０２】参考例 ７３４−（２−クロロピリジン−４−イル）−４−オキソ−ブチル酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル８２．８ｇに氷冷下、トリフルオロ酢酸１１８ｍｌを加え、１５分間撹拌した後、室温で１時間反応する。更に、トリフルオロ酢酸２４ｍｌを加え、室温で２時間反応する。トリフルオロ酢酸を留去し、トルエンでトリフルオロ酢酸を共沸した後、ジエチルエーテルで結晶化し、４−（２−クロロピリジン−４−イル）−４−オキソ−ブチル酸５３．８ｇを得る。
【０３０３】ｍ．ｐ． １１８−１２０℃参考例 ７４４−（２−クロロピリジン−４−イル）−４−オキソ−ブチル酸２．１４ｇ、３，４−ジメトキシベンズアルデヒド１．６６ｇ、酢酸ナトリウム０．８２ｇ及び無水酢酸５．６６ｍｌの混合物を８０℃で２時間撹拌する。酢酸及び濃塩酸５０ｍｌを滴下し、２時間加熱還流する。反応液をエーテルで洗浄、水酸化ナトリウムでｐＨ＝４に調整し、乾燥後、溶媒を留去し、残渣を有機溶媒（クロロホルム：メタノール＝９：１）で抽出し、１−（２−クロロ−４−ピリジル）−３−カルボキシ−６，７−ジメトキシナフタレン（収率；６７％）を得る。
【０３０４】ｍ．ｐ．＞２５０℃参考例 ７５１−（２−クロロ−４−ピリジル）−３−カルボキシ−６，７−ジメトキシナフタレン２．３ｇのテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（６０ｍｌ）溶液に、−１０℃にて水素化ビス（メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム２．３６ｍｌ（７０％トルエン溶液）のＴＨＦ溶液を滴下し、室温にて１時間撹拌する。更に水素化ビス（メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム１．５７ｍｌ（７０％トルエン溶液）のＴＨＦ溶液（５ｍｌ）を滴下し、更に４０℃で１時間加熱撹拌する。反応液にメタノールを加えた後、水酸化ナトリウム水溶液（水２０ｍｌ中水酸化ナトリウム１．６ｇ）を加え、５０℃にて３０分間撹拌する。
【０３０５】反応残渣を酢酸エチル抽出し、更にジクロロメタン抽出する。有機層を水洗、乾燥後、溶媒を留去し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：アセトン＝１９：１）で処理し、エーテルで結晶化させることにより、１−（２−クロロ−４−ピリジル）−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジメトキシナフタレン５３１ｍｇ（収率２４％）を得る。
【０３０６】ｍ．ｐ．１１５−１１８℃参考例 ７６３，４−ジエトキシベンズアルデヒド５４．２ｇ、４−（２−クロロピリジン−４−イル）−４−オキソ−ブチル酸５９．６ｇ、酢酸ナトリウム２２．９ｇ及び無水酢酸１５８ｍｌの混合物を窒素雰囲気下、８０℃で２時間撹拌する。３０分間放冷後、酢酸１．４ｌ及び濃塩酸１．４ｌを加え、２時間加熱還流する。該加熱還流下の混合物を氷冷し、水酸化ナトリウムを６７２ｇ加えた後、水１．４ｌ、クロロホルム２．５ｌ、メタノール０．３ｌを加える。クロロホルム層を乾燥後溶媒を留去して、ジエチルエーテルで結晶化し、１−（２−クロロ−４−ピリジル）−３−カルボキシ−６，７−ジエトキシナフタレン７０．４ｇを得る。
【０３０７】ｍ．ｐ． ＞２５０℃
【０３０８】
【発明の効果】本発明の目的化合物〔Ｉ〕又はその薬理的に許容し得る塩は、優れた気管支収縮抑制作用を有し、喘息の予防・治療剤として有用である。即ち、本発明の目的化合物〔Ｉ〕は、ヒスタミン、Ｕ−４６６１９、ロイコトリエンＤ₄ 等の各種スパスモーゲンや抗原により誘発される気管支収縮を、効果的に抑制する。例えば、本発明の目的化合物である１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン、１−｛２−〔２−オキソ−４−（２−ピペリジノエチル）アミノ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン、１−｛２−〔２−オキソ−４−（４−ピリジル）−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン、１−〔２−（２−オキソ−３−モルホリノ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン、１−〔２−（１−オキソ−５−メトキシメトキシ−１，２−ジヒドロイソキノリン−２−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン、１−｛２−〔１−オキソ−５−（２−ピペリジノエチルオキシ）−１，２−ジヒドロイソキノリン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン、１−〔２−（３−オキソ−２，３−ジヒドロイソキノリン−２−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン、１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン、１−｛２−〔４−（３−ピリジルメチル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン、１−｛２−〔６，７−ジメトキシ−４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン、１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレン、１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−メトキシ−７−エトキシナフタレン又はそれらの薬理的に許容しうる塩は、テオフィリンより３０倍以上強力な抗原誘発気管支収縮抑制作用を示す。
【０３０９】また、本発明の目的化合物〔Ｉ〕又はその薬理的に許容し得る塩は、心臓等に対する副作用をほとんど示さず、選択的に気管支収縮抑制作用を示すとともに、低毒性であり、医薬として高い安全性を示すという優れた特性を有する。テオフィリンの場合、血圧低下、心悸亢進等心臓への副作用が知られているが、本発明の目的化合物〔Ｉ〕又はその薬理的に許容し得る塩はかかる副作用を実質的に示さず、優れた抗喘息作用を有する。

【特許請求の範囲】
【請求項１】 一般式〔Ｉ〕
【化１】


（但し、Ｒ¹ 及びＲ² は同一又は異なって水素原子又は保護されていてもよい水酸基を表し、Ｒ³ 及びＲ⁴ はいずれか一方が保護されていてもよい水酸基置換メチル基であり、他方が水素原子、低級アルキル基又は保護されていてもよい水酸基置換メチル基であることを表し、Ｒ⁵ 及びＲ⁶ は同一又は異なって、水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいフェニル基又は保護されていてもよいアミノ基を表すか、あるいは互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに置換されていてもよい複素環式基を形成していることを表す。）で示されるナフタレン誘導体又はその薬理的に許容し得る塩。
【請求項２】 Ｒ¹ 及びＲ² が同一又は異なって水素原子又は低級アルコキシ基である請求項１記載の化合物。
【請求項３】 Ｒ⁵ 及びＲ⁶ が互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに形成される複素環式基が、当該窒素原子以外にさらに窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれるヘテロ原子を含有していてもよい単環式、双環式又は三環式複素環式基である請求項１又は２記載の化合物。
【請求項４】 Ｒ⁵ 及びＲ⁶ が互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに形成される複素環式基が、ピリジル基、キノリル基、イソキノリル基、シクロペンタ〔ｂ〕ピリジル基、ピロ〔２，３−ｂ〕ピリジル基、イミダゾ〔４，５−ｂ〕ピリジル基、ピリド〔２，３−ｄ〕チアゾリル基、ピリド〔２，３−ｄ〕オキサゾリル基、ナフチリジニル基、キノキサリニル基、フタラジニル基、キナゾリニル基、インドリル基、ピリダジニル基、アゼピニル基、アゼチジル基、イソインドリル基、ピロリル基、ベンゾアゼピニル基、フェナントリジニル基、ベンゾチアジニル基、ベンゾイミダゾリニル基、ピラジニル基又はモルホリノ基（これらの複素環式基は部分的もしくは全て水素化されていてもよい）である請求項３記載の化合物。
【請求項５】 Ｒ⁵ 及びＲ⁶ が互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに形成される複素環式基に置換しうる基が、（１）低級アルケニル基；（２）低級アルキニル基；（３）低級アルキルチオ基；（４）シクロアルキル基；（５）トリフルオロメチル基；（６）シアノ基；（７）テトラゾリル基；（８）ホルミル基；（９）アミノ基；（１０）モルホリノ基、モノシクロアルキル基置換アミノ基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピペリジル基又はピロリジニル基で低級アルキル基部分が置換されていてもよいモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；（１１）ピリジル基；（１２）モルホリノ基；（１３）低級アルキル基置換トリアゾリル基；（１４）ビス（ヒドロキシ低級アルキル）アミノカルボニル基；（１５）ビス（トリ低級アルキルシリルオキシ低級アルキル）アミノカルボニル基；（１６）モルホリノカルボニル基；（１７）低級アルキル基置換ピペラジニルカルボニル基；（１８）ヒドロキシ低級アルキル基置換ピペラジニルカルボニル基；（１９）トリ低級アルキルシリルオキシ低級アルキル基置換ピペラジニルカルボニル基；（２０）低級アルコキシカルボニル基；（２１）カルボキシル基；（２２）モルホリノ基もしくはピリジル基で置換されていてもよい低級アルキル基；（２３）ピペリジル基、ピリジル基、水酸基又は低級アルコキシ基で置換されていてもよい低級アルコキシ基；（２４）オキソ基；（２５）水酸基；（２６）ピリミジニル基；（２７）ジ低級アルキルアミノ基又はハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基；（２８）ハロゲン原子；（２９）ニトロ基；（３０）イミダゾリル基；及び（３１）低級アルキレンジオキシ基から選ばれる１個もしくは２個以上の同一又は異なる基である請求項１、２、３又は４記載の化合物。
【請求項６】 Ｒ⁵ 及びＲ⁶ が互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに形成される複素環式基が、少なくともオキソ基で置換された複素環式基である請求項５記載の化合物。
【請求項７】 少なくともオキソ基で置換された複素環式基が部分構造式
【化２】


を有する複素環式基である請求項６記載の化合物。
【請求項８】 Ｒ⁵ 及びＲ⁶ が互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに形成される置換されていてもよい複素環式基が、（１）モルホリノ基、モノシクロアルキル基置換アミノ基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピペリジノ基又はピロリジニル基で低級アルキル基部分が置換されていてもよいモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；ピリジル基；モルホリノ基；低級アルキル基置換トリアゾリル基；ビス（ヒドロキシ低級アルキル）アミノカルボニル基；ビス（トリ低級アルキルシリルオキシ低級アルキル）アミノカルボニル基；モルホリノカルボニル基；低級アルキル基置換ピペラジニルカルボニル基；ヒドロキシ低級アルキル基置換ピペラジニルカルボニル基；トリ低級アルキルシリルオキシ低級アルキル基置換ピペラジニルカルボニル基；低級アルコキシカルボニル基；カルボキシル基；低級アルキル基；水酸基もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよい低級アルコキシ基；及び水酸基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基、（２）オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノキサリニル基、（３）モルホリノ基置換低級アルキル基；ピペリジル基、ピリジル基又は低級アルコキシ基で置換されていてもよい低級アルコキシ基；及び水酸基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）イソキノリル基、（４）ピリジル基で置換されていてもよい低級アルキル基；ピリミジニル基；低級アルコキシ基；ピリジル基；イミダゾリル基；ジ低級アルキルアミノ基又はハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基；及び水酸基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）フタラジニル基、（５）ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ニトロ基、ピリジル基及びイミダゾリル基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はヘキサヒドロ）ピリジル基、（６）オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ナフチリジニル基、（７）オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ヘキサヒドロキノリル基、（８）オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロインドリル基、（９）オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ベンゾアゼピニル基、（１０）ジヒドロ（又はテトラヒドロ）イソキノリル基、（１１）オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ベンゾチアジニル基、（１２）低級アルキル基及び／又はオキソ基で置換されていてもよいオキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基、（１３）オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロベンゾイミダゾリニル基、（１４）オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロフェナントリジニル基、（１５）低級アルキル基で置換されていてもよいオキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ピロリル基、（１６）ヘキサヒドロキシピラジニル基、（１７）低級アルキレンジオキシ基置換ヘキサヒドロピリジル基又は（１８）モルホリノ基である請求項５記載の化合物。
【請求項９】 Ｒ⁵ 及びＲ⁶ が互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに形成される置換されていてもよい複素環式基が、（１）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基又はヒドロキシ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基、（２）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノキサリニル基、（３）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）イソキノリル基、（４）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）フタラジニル基、（５）オキソ基置換ジヒドロ（又はヘキサヒドロ）ピリジル基、（６）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ナフチリジニル基、（７）オキソ基置換ヘキサヒドロキノリル基、（８）オキソ基置換ジヒドロインドリル基、（９）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ベンゾアゼピニル基、（１０）ジヒドロ（又はテトラヒドロ）イソキノリル基、（１１）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ベンゾチアジニル基、（１２）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基、（１３）オキソ基置換ジヒドロベンゾイミダゾリニル基、（１４）オキソ基置換ジヒドロフェナントリジニル基、（１５）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ピロリル基、（１６）ヘキサヒドロキシピラジニル基、（１７）低級アルキレンジオキシ基置換ヘキサヒドロピリジル基又は（１８）モルホリノ基である請求項８記載の化合物。
【請求項１０】 Ｒ⁵ 及びＲ⁶ が互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに形成される置換されていてもよい複素環式基が、（１）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基又はヒドロキシ基置換テトラヒドロキノリル基、（２）オキソ基置換ジヒドロキノキサリニル基、（３）オキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、（４）オキソ基置換ジヒドロフタラジニル基、（５）オキソ基置換ジヒドロ（又はヘキサヒドロ）ピリジル基、（６）オキソ基置換ジヒドロナフチリジニル基、（７）オキソ基置換ヘキサヒドロキノリル基、（８）オキソ基置換ジヒドロインドリル基、（９）オキソ基置換ジヒドロベンゾアゼピニル基、（１０）テトラヒドロイソキノリル基、（１１）オキソ基置換テトラヒドロベンゾチアジニル基、（１２）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基、（１３）オキソ基置換ジヒドロベンゾイミダゾリニル基、（１４）オキソ基置換ジヒドロフェナントリジニル基、（１５）オキソ基置換テトラヒドロピロリル基、（１６）ヘキサヒドロキシピペラジニル基、（１７）低級アルキレンジオキシ基置換ヘキサヒドロピリジル基又は（１８）モルホリノ基である請求項９記載の化合物。
【請求項１１】 Ｒ⁵ 及びＲ⁶ が互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに形成される置換されていてもよい複素環式基が、（１）モルホリノ基、モノシクロアルキル基置換アミノ基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピペリジノ基又はピロリジニル基で低級アルキル基部分が置換されているモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；ピリジル基；モルホリノ基；低級アルキル基置換トリアゾリル基；低級アルキル基置換ピペラジニルカルボニル基；低級アルコキシカルボニル基；低級アルキル基；水酸基；及び水酸基もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよい低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基又はヒドロキシ基置換テトラヒドロキノリル基、（２）オキソ基置換ジヒドロキノキサリニル基、（３）モルホリノ基置換低級アルキル基；ピペリジル基、ピリジル基又は低級アルコキシ基で置換されていてもよい低級アルコキシ基；及び水酸基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、（４）ピリジル基置換低級アルキル基；ピリミジニル基；低級アルコキシ基；ピリジル基；イミダゾリル基；及びジ低級アルキルアミノ基置換フェニル基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロフタラジニル基、（５）低級アルキル基；低級アルコキシ基；ピリジル基；及びイミダゾリル基から選ばれる基で置換されているオキソ基置換ジヒドロピリジル基、（６）オキソ基置換ジヒドロナフチリジニル基、（７）オキソ基置換ヘキサヒドロキノリル基、（８）オキソ基置換ジヒドロインドリル基、（９）オキソ基置換テトラヒドロベンゾチアジニル基、（１０）低級アルキル基及びオキソ基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基、（１１）オキソ基置換ジヒドロベンゾイミダゾリニル基又は（１２）オキソ基置換ジヒドロフェナントリジニル基である請求項１０記載の化合物。
【請求項１２】 Ｒ⁵ 及びＲ⁶ が互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに形成される置換されていてもよい複素環式基が、（１）モルホリノ基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピペリジノ基又はピロリジニル基で低級アルキル基部分が置換されているモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；ピリジル基；モルホリノ基；低級アルキル基置換トリアゾリル基；低級アルキル基；及び水酸基もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよい低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基又はヒドロキシ基置換テトラヒドロキノリル基、（２）オキソ基置換ジヒドロキノキサリニル基、（３）モルホリノ基置換低級アルキル基；ピペリジル基もしくは低級アルコキシ基で置換されている低級アルコキシ基；及び水酸基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、（４）ピリジル基置換低級アルキル基、ピリミジニル基、ピリジル基、イミダゾリル基及び低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロフタラジニル基、（５）低級アルキル基、低級アルコキシ基、ピリジル基及びイミダゾリル基から選ばれる基で置換されているオキソ基置換ジヒドロピリジル基、（６）オキソ基置換テトラヒドロベンゾチアジニル基又は（７）低級アルキル基及びオキソ基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基である請求項１０記載の化合物。
【請求項１３】 Ｒ⁵ 及びＲ⁶ が互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに形成される置換されていてもよい複素環式基が、（１）モルホリノ基、ピリジル基、イミダゾリル基又はピペリジノ基で低級アルキル基部分が置換されているモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；ピリジル基；モルホリノ基；低級アルキル基置換トリアゾリル基；及び低級アルコキシ基又は水酸基で置換されている低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロキノリル基又はヒドロキシ基置換テトラヒドロキノリル基、（２）モルホリノ基置換低級アルキル基；ピペリジノ基もしくは低級アルコキシ基で置換されている低級アルコキシ基；及び水酸基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、（３）ピリジル基置換低級アルキル基、ピリミジニル基、ピリジル基、イミダゾリル基及び低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロフタラジニル基、（４）低級アルキル基、低級アルコキシ基、ピリジル基及びイミダゾリル基から選ばれる基で置換されているオキソ基置換ジヒドロピリジル基又は（５）低級アルキル基及びオキソ基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基である請求項１２記載の化合物。
【請求項１４】 Ｒ⁵ 及びＲ⁶ が互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに形成される置換されていてもよい複素環式基が、（１）モルホリノ基、ピリジル基、イミダゾリル基又はピペリジノ基で低級アルキル基部分が置換されているモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；ピリジル基；モルホリノ基；低級アルキル基置換トリアゾリル基；及び低級アルコキシ基又は水酸基で置換されている低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロキノリル基、（２）モルホリノ基置換低級アルキル基及びピペリジル基置換低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、（３）ピリジル基置換低級アルキル基、ピリミジニル基、ピリジル基、イミダゾリル基及び低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロフタラジニル基又は（４）低級アルキル基、低級アルコキシ基及びイミダゾリル基から選ばれる基で置換されているオキソ基置換ジヒドロピリジル基である請求項１３記載の化合物。
【請求項１５】 Ｒ⁵ 及びＲ⁶ が互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに形成される置換されていてもよい複素環式基が、（１）モルホリノ基、モノシクロアルキル基置換アミノ基、ピリジル基、イミダゾリル基又はピペリジノ基で低級アルキル基部分が置換されているモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；ピリジル基；モルホリノ基；低級アルキル基置換ピペラジニルカルボニル基；低級アルコキシカルボニル基；低級アルキル基；水酸基；及び水酸基もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよい低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基又はヒドロキシ基置換テトラヒドロキノリル基、（２）モルホリノ基置換低級アルキル基；ピペリジノ基、ピリジル基又は低級アルコキシ基で置換されている低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、（３）ピリジル基置換低級アルキル基；ピリミジニル基；低級アルコキシ基；ピリジル基；イミダゾリル基；及びジ低級アルキルアミノ基置換フェニル基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロフタラジニル基、（４）ピリジル基で置換されているオキソ基置換ジヒドロピリジル基、（５）オキソ基置換ジヒドロナフチリジニル基、（６）オキソ基置換ヘキサヒドロキノリル基、（７）オキソ基置換ジヒドロインドリル基、（８）オキソ基置換テトラヒドロベンゾチアジニル基、（９）低級アルキル基及びオキソ基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基、（１０）オキソ基置換ジヒドロベンゾイミダゾリニル基又は（１１）オキソ基置換ジヒドロフェナントリジニル基である請求項１１記載の化合物。
【請求項１６】 Ｒ⁵ 及びＲ⁶ が互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに形成される置換されていてもよい複素環式基が、（１）モルホリノ基、イミダゾリル基又はピリジル基で低級アルキル基部分が置換されているモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；モルホリノ基；及び低級アルキル基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基、（２）モルホリノ基置換低級アルキル基；ピリジル基又は低級アルコキシ基で置換されている低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、（３）ピリジル基置換低級アルキル基；低級アルコキシ基；ピリジル基；及びジ低級アルキルアミノ基置換フェニル基から選ばれる基で置換されているオキソ基置換ジヒドロフタラジニル基又は（４）オキソ基置換ジヒドロフェナントリジニル基である請求項１５記載の化合物。
【請求項１７】 Ｒ⁵ 及びＲ⁶ が互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに形成される置換されていてもよい複素環式基が、（１）ピリジル基で低級アルキル基部分が置換されているモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；モルホリノ基；及び低級アルキル基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基、（２）モルホリノ基置換低級アルキル基；ピリジル基又は低級アルコキシ基で置換されている低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、（３）ピリジル基置換低級アルキル基；低級アルコキシ基；ピリジル基；及びジ低級アルキルアミノ基置換フェニル基から選ばれる基で置換されているオキソ基置換ジヒドロフタラジニル基又は（４）オキソ基置換ジヒドロフェナントリジニル基である請求項１６記載の化合物。
【請求項１８】 Ｒ⁵ 及びＲ⁶ が互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに形成される置換されていてもよい複素環式基が、（１）モルホリノ基、イミダゾリル基又はピリジル基で低級アルキル基部分が置換されているモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；モルホリノ基；及び低級アルキル基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基、（２）モルホリノ基置換低級アルキル基；及び低級アルコキシ基置換低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されているオキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、（３）ピリジル基置換低級アルキル基；低級アルコキシ基；及びピリジル基から選ばれる基で置換されているオキソ基置換ジヒドロフタラジニル基である請求項１０記載の化合物。
【請求項１９】 Ｒ¹ 及びＲ² が同一又は異なって保護された水酸基、Ｒ³及びＲ⁴ が水酸基置換メチル基である請求項１、３、４、５、６、７、１１、１５、１６、１７又は１８記載の化合物。
【請求項２０】 保護された水酸基が低級アルキル基で保護された水酸基である請求項１９記載の化合物。
【請求項２１】 １−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン、１−｛２−〔２−オキソ−４−（２−ピペリジノエチル）アミノ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン、１−｛２−〔２−オキソ−４−（４−ピリジル）−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン、１−〔２−（２−オキソ−３−モルホリノ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン、１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン、１−｛２−〔４−（３−ピリジルメチル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン、１−｛２−〔６，７−ジメトキシ−４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン、１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレン、１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−メトキシ−７−エトキシナフタレン又はそれらの薬理的に許容しうる塩。
【請求項２２】 １−〔２−（２−オキソ−３−モルホリノ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン又はその薬理的に許容しうる塩。
【請求項２３】 １−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン又はその薬理的に許容しうる塩。
【請求項２４】 １−｛２−〔４−（３−ピリジルメチル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン又はその薬理的に許容しうる塩。
【請求項２５】 １−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレン又はその薬理的に許容しうる塩。
【請求項２６】 一般式〔ＩＩ〕
【化３】


（但し、Ｒ¹¹ 及びＲ²¹ は同一又は異なって水素原子又は保護されていてもよい水酸基を表し、Ｒ³¹ 及びＲ⁴¹ はいずれか一方が保護されていてもよい水酸基置換メチル基、他方が水素原子、低級アルキル基又は保護されていてもよい水酸基置換メチル基であることを表し、Ｘはハロゲン原子を表す。）で示される化合物と一般式〔ＩＩＩ〕
【化４】


（但し、Ｒ⁵ 及びＲ⁶ は同一又は異なって、水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいフェニル基又は保護されていてもよいアミノ基を表すか、あるいは互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに置換されていてもよい複素環式基を形成していることを表す。）で示される含窒素化合物とを反応させ、Ｒ¹¹及び／又はＲ²¹が保護された水酸基であり、Ｒ³¹及び／又はＲ⁴¹が保護された水酸基置換メチル基である場合は、所望により当該水酸基の保護基の種類に応じ、全てあるいは選択的に当該保護基を除去し、要すれば６位及び／又は７位のヒドロキシ部位あるいは２位及び／又は３位のヒドロキシメチル部位を再び保護し、さらに要すれば全てのヒドロキシ部位あるいはヒドロキシメチル部位を保護し、さらに要すれば生成物をその薬理的に許容し得る塩とすることを特徴とする一般式〔Ｉ〕
【化５】


（但し、Ｒ¹ 及びＲ² は同一又は異なって水素原子又は保護されていてもよい水酸基、Ｒ³ 及びＲ⁴ はいずれか一方が保護されていてもよい水酸基置換メチル基、他方が水素原子、低級アルキル基又は保護されていてもよい水酸基置換メチル基であることを表し、他の記号は前記と同一意味を有する。）で示されるナフタレン誘導体又はその薬理的に許容し得る塩の製法。
【請求項２７】 一般式〔ＩＶ〕
【化６】


（但し、Ｒ¹¹ 及びＲ²¹ は同一又は異なって水素原子又は保護されていてもよい水酸基、Ｒ³¹及びＲ⁴¹はいずれか一方が保護されていてもよい水酸基置換メチル基、他方が水素原子、低級アルキル基又は保護されていてもよい水酸基置換メチル基を表す。）で示される化合物と一般式〔Ｖ〕
【化７】


（但し、Ｒ⁵²及びＲ⁶²は互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに少なくともハロゲン原子で置換された複素環式基を形成していることを表す。）で示されるハロゲノ含窒素化合物とを反応させ、Ｒ¹¹及び／又はＲ²¹が保護された水酸基であり、Ｒ³¹及び／又はＲ⁴¹が保護された水酸基置換メチル基である場合は、所望により当該水酸基の保護基の種類に応じ、全てあるいは選択的に当該保護基を除去し、要すれば６位及び／又は７位のヒドロキシ部位あるいは２位及び／又は３位のヒドロキシメチル部位を再び保護し、さらに要すれば生成物をその薬理的に許容し得る塩とすることを特徴とする一般式
【化８】


（但し、Ｒ¹ 及びＲ² は同一又は異なって水素原子又は保護されていてもよい水酸基、Ｒ³ 及びＲ⁴ はいずれか一方が保護されていてもよい水酸基置換メチル基、他方が水素原子、低級アルキル基又は保護されていてもよい水酸基置換メチル基であることを表し、Ｒ⁵¹及びＲ⁶¹は互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに少なくともオキソ基で置換された複素環式基を形成していることを表し、他の記号は前記と同一意味を有する。）で示されるナフタレン誘導体又はその薬理的に許容し得る塩の製法。
【請求項２８】 一般式〔ＶＩ〕
【化９】


（但し、Ｒ¹¹ 及びＲ²¹ は同一又は異なって水素原子又は保護されていてもよい水酸基、Ｒ⁵³及びＲ⁶³は同一又は異なって、水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいフェニル基又は保護されていてもよいアミノ基を表すか、あるいは互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに還元反応に安定な置換されていてもよい複素環式基を形成していることを表し、Ｒ⁷ 及びＲ⁸ はいずれか一方が遊離の又はエステル化されたカルボキシル基、他方が、水素原子、低級アルキル基、あるいは遊離の又はエステル化されたカルボキシル基であることを表す。）で示される化合物又はその分子内酸無水物を還元反応に付し、Ｒ¹¹及び／又はＲ²¹が保護された水酸基である場合は、所望により当該保護基を除去し、要すれば６位及び／又は７位のヒドロキシ部位あるいは２位及び／又は３位のヒドロキシメチル部位を再び保護し、さらに要すれば全てのヒドロキシ部位あるいはヒドロキシメチル部位を保護し、さらに要すれば生成物をその薬理的に許容し得る塩とすることを特徴とする一般式
【化１０】


（但し、Ｒ¹ 及びＲ² は同一又は異なって水素原子又は保護されていてもよい水酸基、Ｒ³ 及びＲ⁴ はいずれか一方が保護されていてもよい水酸基置換メチル基、他方が水素原子、低級アルキル基又は保護されていてもよい水酸基置換メチル基であることを表し、他の記号は前記と同一意味を有する。）で示されるナフタレン誘導体又はその薬理的に許容し得る塩の製法。
【請求項２９】一般式〔Ｉ−ｂ〕
【化１１】


（但し、Ｒ¹¹ 及びＲ²¹ は同一又は異なって水素原子又は保護されていてもよい水酸基を表し、Ｒ³¹ 及びＲ⁴¹ はいずれか一方が保護されていてもよい水酸基置換メチル基、他方が水素原子、低級アルキル基又は保護されていてもよい水酸基置換メチル基であることを表す。）で示される化合物又はその塩と一般式〔ＶＩＩ〕
【化１２】


（但し、Ｒ⁹¹、Ｒ⁹²及びＲ⁹³は同一又は異なって水素原子、水酸基、低級アルコシキシ基、ピリジル基で置換されていてもよい低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ基又はハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基、ピリジル基、ピリミジニル基又はイミダゾリル基を表す。）で示されるカルボン酸誘導体又はその塩とを反応させ、Ｒ¹¹及び／又はＲ²¹が保護された水酸基であり、Ｒ³¹及び／又はＲ⁴¹が保護された水酸基置換メチル基である場合は、所望により当該水酸基の保護基の種類に応じ、全てあるいは選択的に当該保護基を除去し、要すれば６位及び／又は７位のヒドロキシ部位あるいは２位及び／又は３位のヒドロキシメチル部位を再び保護し、さらに要すれば全てのヒドロキシ部位あるいはヒドロキシメチル部位を保護し、さらに要すれば生成物をその薬理的に許容しうる塩とすることを特徴とする一般式〔Ｉ−ａ〕
【化１３】


（但し、Ｒ¹ 及びＲ² は同一又は異なって水素原子又は保護されていてもよい水酸基を表し、Ｒ³ 及びＲ⁴ はいずれか一方が保護されていてもよい水酸基置換メチル基、他方が水素原子、低級アルキル基又は保護されていてもよい水酸基置換メチル基であることを表し、他の記号は前記と同一意味を有する。）で示されるナフタレン誘導体又はその薬理的に許容しうる塩の製法。
【請求項３０】一般式〔Ｉ−ｂ〕
【化１４】


（但し、Ｒ¹¹ 及びＲ²¹ は同一又は異なって水素原子又は保護されていてもよい水酸基を表し、Ｒ³¹ 及びＲ⁴¹ はいずれか一方が保護されていてもよい水酸基置換メチル基、他方が水素原子、低級アルキル基又は保護されていてもよい水酸基置換メチル基であることを表す。）で示される化合物又はその塩と一般式〔ＶＩＩＩ〕
【化１５】


（但し、Ｒ⁹²及びＲ⁹³は同一又は異なって水素原子、水酸基、低級アルコシキシ基、ピリジル基で置換されていてもよい低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ基又はハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基、ピリジル基、ピリミジニル基又はイミダゾリル基を表す。）で示される酸無水物と反応させ、Ｒ¹¹及び／又はＲ²¹が保護された水酸基であり、Ｒ³¹及び／又はＲ⁴¹が保護された水酸基置換メチル基である場合は、所望により当該水酸基の保護基の種類に応じ、全てあるいは選択的に当該保護基を除去し、要すれば６位及び／又は７位のヒドロキシ部位あるいは２位及び／又は３位のヒドロキシメチル部位を再び保護し、さらに要すれば全てのヒドロキシ部位あるいはヒドロキシメチル部位を保護し、さらに要すれば生成物をその薬理的に許容しうる塩とすることを特徴とする一般式〔Ｉ−ａ’〕
【化１６】


（但し、Ｒ¹ 及びＲ² は同一又は異なって水素原子又は保護されていてもよい水酸基を表し、Ｒ³ 及びＲ⁴ はいずれか一方が保護されていてもよい水酸基置換メチル基、他方が水素原子、低級アルキル基又は保護されていてもよい水酸基置換メチル基であることを表し、他の記号は前記と同一意味を有する。）で示されるナフタレン誘導体又はその薬理的に許容しうる塩の製法。
【請求項３１】 一般式〔ＩＩ〕
【化１７】


（但し、Ｒ¹¹ 及びＲ²¹ は同一又は異なって水素原子又は保護されていてもよい水酸基、Ｒ³¹及びＲ⁴¹はいずれか一方が保護されていてもよい水酸基置換メチル基、他方が水素原子、低級アルキル基又は保護されていてもよい水酸基置換メチル基であることを表し、Ｘはハロゲン原子を表す。）で示される化合物。
【請求項３２】 一般式〔ＶＩ〕
【化１８】


（但し、Ｒ¹¹ 及びＲ²¹ は同一又は異なって水素原子又は保護されていてもよい水酸基、Ｒ⁵³及びＲ⁶³は同一又は異なって、水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいフェニル基又は保護されていてもよいアミノ基を表すか、あるいは互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに還元反応に安定な置換されていてもよい複素環式基を形成していることを表し、Ｒ⁷ 及びＲ⁸ はいずれか一方が遊離の又はエステル化されたカルボキシル基、他方が、水素原子、低級アルキル基、あるいは遊離の又はエステル化されたカルボキシル基であることを表す。）で示される化合物又はその分子内酸無水物。

【公開番号】特開平９−５９２５５
【公開日】平成９年（１９９７）３月４日
【国際特許分類】
【出願番号】特願平８−１５２７６１
【出願日】平成８年（１９９６）６月１４日
【出願人】（０００００２９５６）田辺製薬株式会社 (225)