ハロゲン置換テレフタル酸ジアミド化合物、その製造方法及び該化合物を用いたハロゲン置換ベンゼンジメタノールの製造方法
【課題】ハロゲン置換ベンゼンジメタノールの新規な製造方法を提供する。
【解決手段】ハロゲン置換ベンゼンジカルボキサミド化合物とピロカルボン酸ジアルキルを反応させて、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（アルコキシカルボニル）ベンゼンジカルボキサミド化合物を得る第１工程と、該Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（アルコキシカルボニル）ベンゼンジカルボキサミド化合物を水素化ホウ素化合物で還元して、下式（４）で示されるハロゲン置換ベンゼンジメタノールを得る第２工程とを含むことを特徴とするハロゲン置換ベンゼンジメタノール（４）の製造方法。
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、水素原子またはハロゲン原子を表す。）
【解決手段】ハロゲン置換ベンゼンジカルボキサミド化合物とピロカルボン酸ジアルキルを反応させて、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（アルコキシカルボニル）ベンゼンジカルボキサミド化合物を得る第１工程と、該Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（アルコキシカルボニル）ベンゼンジカルボキサミド化合物を水素化ホウ素化合物で還元して、下式（４）で示されるハロゲン置換ベンゼンジメタノールを得る第２工程とを含むことを特徴とするハロゲン置換ベンゼンジメタノール（４）の製造方法。
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、水素原子またはハロゲン原子を表す。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハロゲン置換テレフタル酸ジアミド化合物、その製造方法及び該化合物を用いたハロゲン置換ベンゼンジメタノールの製造方法等に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハロゲン置換ベンゼンジメタノールの製造方法としては、例えば、対応するハロゲン置換テレフタル酸（例えば、特許文献１参照。）やハロゲン置換テレフタル酸エステル（例えば、特許文献２、３および４参照。）を、それぞれ水素化ホウ素化合物で還元する方法が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−２２４０１７号公報
【特許文献２】特開２００７−２１１００１号公報
【特許文献３】特開２００７−２３００６号公報
【特許文献４】特開２００８−３１１５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、ハロゲン置換ベンゼンジメタノールの新規な製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
このような状況下、本発明者らは鋭意検討した結果、以下の本発明に至った。すなわち、本発明は、
＜１＞ 式（１）
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ独立に、水素原子またはハロゲン原子を表す。ただし、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４の少なくとも一つはハロゲン原子である。）
で示される化合物、及び、式（２）
（式中、Ｒは置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基を表す。）
で示される化合物を反応させて、式（３）
（式中、Ｒ、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ上記と同じ意味を表す。）
で示されるジカルボキサミド化合物を得る第１工程と、
第１工程で得られた式（３）で示されるジカルボキサミド化合物を水素化ホウ素化合物で還元して、式（４）
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ上記と同じ意味を表す。）
で示されるハロゲン置換ベンゼンジメタノールを得る第２工程と
を含むことを特徴とするハロゲン置換ベンゼンジメタノールの製造方法；
【０００６】
＜２＞ Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、全てハロゲン原子であることを特徴とする＜１＞記載の製造方法；
＜３＞ Ｒが、炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基であることを特徴とする請求項１又は２記載の製造方法；
＜４＞ 第１工程が、４−ジアルキルアミノピリジンの存在下で反応させる工程であることを特徴とする＜１＞〜＜３＞のいずれか記載の製造方法；
＜５＞ 第２工程が、モノアルコールの存在下で還元する工程であることを特徴とする＜１＞〜＜４＞のいずれか記載の製造方法；
＜６＞ モノアルコールが、炭素数１〜５の脂肪族モノアルコールであることを特徴とする＜５＞記載の製造方法；
＜７＞ 水素化ホウ素化合物の量が、式（３）で示されるジカルボキサミド化合物１モルに対して１〜３モルであるであることを特徴とする＜１＞〜＜６＞のいずれか記載の製造方法；
＜８＞ 水素化ホウ素化合物が、水素化ホウ素アルカリ金属塩であることを特徴とする＜１＞〜＜７＞のいずれか記載の製造方法；
【０００７】
＜９＞ 式（１）
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ独立に、水素原子またはハロゲン原子を表す。ただし、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４の少なくとも一つはハロゲン原子である。）
で示される化合物、及び、式（２）
（式中、Ｒは置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基を表す。）
で示される化合物を反応させて、式（３）
（式中、Ｒ、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ上記と同じ意味を表す。）
で示されるジカルボキサミド化合物を得る第１工程
を含むことを特徴とするジカルボキサミド化合物の製造方法；
【０００８】
＜１０＞ 式（３）
（式中、Ｒは置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基を表す。Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ独立に、水素原子またはハロゲン原子を表す。ただし、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４の少なくとも一つはハロゲン原子である。）
で示されるジカルボキサミド化合物を水素化ホウ素化合物で還元して、式（４）
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ上記と同じ意味を表す。）
で示されるハロゲン置換ベンゼンジメタノールを得る第２工程
を含むことを特徴とするハロゲン置換ベンゼンジメタノールの製造方法；
【０００９】
＜１１＞ 式（３）
（式中、Ｒは置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基を表す。Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ独立に、水素原子またはハロゲン原子を表す。ただし、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４の少なくとも一つはハロゲン原子である。）
で示されるジカルボキサミド化合物；
＜１２＞ Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２,３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド
等である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、ハロゲン置換ベンゼンジメタノールの新規な製造方法が提供可能である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のハロゲン置換ベンゼンジメタノールの製造方法は、後述の第１工程と第２工程とを含む。
第１工程は、式（１）
【００１２】
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ独立に、水素原子またはハロゲン原子を表す。ただし、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４の少なくとも一つはハロゲン原子である。）
で示される化合物（以下、化合物（１）と称することがある）、及び、式（２）
（式中、Ｒは置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基を表す。）
で示される化合物（以下、化合物（２）と称することがある）を反応させて、式（３）
【００１３】
（式中、Ｒ、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ上記と同じ意味を表す。）
で示されるジカルボキサミド化合物を得る工程である。
【００１４】
式（１）において、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ独立に水素原子またはハロゲン原子を表す。
上記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が挙げられる。
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４としては、それぞれ独立に、ハロゲン原子が好ましく、フッ素原子および塩素原子がより好ましく、フッ素原子が更に好ましい。Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、全てハロゲン原子であることが好ましい。
【００１５】
化合物（１）の例として、２−フルオロテレフタル酸ジアミド、２−クロロテレフタル酸ジアミド、２，５−ジフルオロテレフタル酸ジアミド、２，６−ジフルオロテレフタル酸ジアミド、２，３−ジフルオロテレフタル酸ジアミド、２、６−ジクロロテレフタル酸ジアミド、２，３−ジクロロテレフタル酸ジアミド、２，３，５−トリフルオロテレフタル酸ジアミド、２，３，５−トリクロロテレフタル酸ジアミド、２，３，５，６−テトラフルオロテレフタル酸ジアミド、２，３，５，６−テトラクロロテレフタル酸ジアミド、２，３，５−トリフルオロ−６−クロロテレフタル酸ジアミド等が挙げられる。なかでも２，３，５，６−テトラフルオロテレフタル酸ジアミドが好ましい。
【００１６】
化合物（１）は、例えば、対応する酸ハライドとアンモニアガスとを反応させる（例えば、Ｚｈｕｒｎａｌ Ｏｂｓｈｃｈｅｉ Ｋｈｉｍｉｉ， ３４， ２９５３−２９５８ （１９６４）参照。）等の方法に準じて製造することができる。
【００１７】
式（２）において、Ｒは、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、すなわちアルコキシカルボニル基または置換基を有するアルコキシカルボニル基を表す。
Ｒにより示されるアルコキシカルボニル基としては、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基が挙げられる。かかるアルコキシカルボニル基は、直鎖状、分枝鎖状および環状の何れであってもよく、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基、オクタデシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等が挙げられる。
該アルコキシカルボニル基に結合される置換基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等のアリール基が挙げられる。置換基を有するアルコキシカルボニル基としては、例えば、ベンジルオキシカルボニル基等の炭素数８〜２０のアリール置換アルコキシカルボニル基等が挙げられる。
式（２）において、Ｒとしては、炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基が好ましく、炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基がより好ましく、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基が更に好ましい。
【００１８】
化合物（２）としては、例えば、ピロカルボン酸ジメチルエステル、ピロカルボン酸ジエチルエステル、ピロカルボン酸ジイソプロピルエステル、ピロカルボン酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチルエステル、ピロカルボン酸ジベンジルエステル等が挙げられる。
化合物（２）として、例えば特開平４−２１１６３４号公報等に記載の公知の方法により製造したものや、市販のものを用いてもよい。
化合物（２）の量は、化合物（１）１モルに対して、少なくとも４モルであることが好ましい。化合物（２）の量の上限は、特に限定されないが、経済的には、化合物（１）１モルに対して１０モル以下であることが好ましい。
【００１９】
第１工程は、４−ジアルキルアミノピリジンの存在下で行われることが好ましい。
４−ジアルキルアミノピリジンは、ジアルキルアミノ基が炭素数１〜５のアルキル基を有することが好ましく、炭素数１〜３のアルキル基を有することがより好ましい。
４−ジアルキルアミノピリジンとしては、例えば、４−ジメチルアミノピリジン、４−ジエチルアミノピリジン、４−ジ（ｎ−プロピル）アミノピリジン、４−ジ（ｎ−ブチル）アミノピリジン等が挙げられ、入手の容易さから、４−ジメチルアミノピリジンが好ましい。
４−ジアルキルアミノピリジンとして、市販のものを用いることができる。
４−ジアルキルアミノピリジンは、通常、化合物（１）１モルに対して０．００１モル以上、好ましくは０．００１〜０．１モル、より好ましくは０．００５〜０．１モルの範囲で用いられる。
【００２０】
第１工程は、溶媒の存在下に行うことが好ましい。溶媒としては、例えば、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジグライム等のエーテル溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル溶媒；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；などが挙げられる。第１工程において、該溶媒は１種類のみ用いられてもよいし、２種以上用いられてもよい。
該溶媒としては、ニトリル溶媒が好ましく、アルキルニトリル溶媒がより好ましく、炭素数１〜５のアルキルニトリル溶媒が更に好ましい。該溶媒を２種以上用いる場合、ニトリル溶媒と芳香族炭化水素溶媒との混合物を用いることが好ましい。
溶媒を使用する場合、その量は制限されないが、容積効率（第１工程に用いる反応容器単位容積あたりの式（３）で示される化合物の生産性）等を考慮すると、化合物（１）１重量部に対して、例えば、溶媒１〜１００重量部の範囲等を挙げることができる。
【００２１】
第１工程の反応温度は、例えば、−２０〜１５０℃の範囲等を挙げることができ、好ましくは、例えば、３０〜１００℃の範囲等を挙げることができる。また、第１工程は常圧条件下で行ってもよいし、加圧条件下で行ってもよい。
【００２２】
第１工程における反応の進行の度合いは、例えばガスクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー、ＮＭＲ、ＩＲ等の通常の分析手段により確認することができる。
第１工程は、化合物（１）と化合物（２）とを混合し、必要に応じて加熱することにより行われる。化合物（１）および化合物（２）の混合順序は特に制限されない。具体的には、例えば、［１］化合物（１）、化合物（２）、必要に応じて溶媒、及び必要に応じて４−ジアルキルアミノピリジンを一括して混合し、必要に応じて加熱する工程、［２］化合物（２）、必要に応じて溶媒、及び必要に応じて４−ジアルキルアミノピリジンを一括して混合し、必要に応じて加熱し、得られた混合物に化合物（１）を混合する工程、［３］化合物（１）、必要に応じて溶媒、及び必要に応じて４−ジアルキルアミノピリジンを一括して混合し、必要に応じて加熱し、得られた混合物に化合物（２）を混合する工程等を挙げることができる。上記［２］［３］において混合物に混合される化合物（１）又は化合物（２）は、溶媒に溶解させていてもよい。
第１工程の好ましい工程としては［３］を挙げることができ、好ましくは、溶媒と４−ジメチルアミノピリジンと化合物（１）の混合物を好ましい反応温度に調整しながら、化合物（２）を加えていく工程等が挙げられる。
【００２３】
第１工程により、式（３）
で示されるジカルボキサミド化合物（以下、化合物（３）と称することがある。）を含む反応混合物が得られる。
【００２４】
式（３）において、Ｒ、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ上記と同じ意味である。
式（３）において、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４の好ましい範囲は、式（１）と同様である。
式（３）において、Ｒの好ましい範囲は、式（２）と同様である。
【００２５】
化合物（３）としては、例えば、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスメトキシカルボニル−（２−フルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスエトキシカルボニル−（２−クロロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスブトキシカルボニル−（２,５−ジフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスベンジルオキシカルボニル−（２,６−ジフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２,３−ジフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２,５−ジクロロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２,６−ジクロロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２,３−ジクロロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２,３，５−トリフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２,３，５−トリクロロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスメトキシカルボニル−（２,３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスエトキシカルボニル−（２,３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスイソプロポキシカルボニル−（２,３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２,３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスベンジルオキシカルボニル−（２,３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、
【００２６】
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスメトキシカルボニル−（２,３，５，６−テトラクロロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスエトキシカルボニル−（２,３，５，６−テトラクロロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスイソプロポキシカルボニル−（２,３，５，６−テトラクロロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２,３，５，６−テトラクロロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスベンジルオキシカルボニル−（２,３，５，６−テトラクロロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド
【００２７】
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスメトキシカルボニル−（２,３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスエトキシカルボニル−（２,３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスイソプロポキシカルボニル−（２,３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２,３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２,３，５−トリフルオロ−６−クロロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド等が挙げられる。なかでも、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスアルコキシカルボニル−（２,３，５，６−テトラハロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミドが好ましく、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（Ｃ１〜Ｃ５アルコキシ）カルボニル−（２,３，５，６−テトラハロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミドがより好ましく、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２,３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミドが更に好ましい。
【００２８】
第１工程により得られる反応混合物は、そのまま、後述する第２工程に供してもよいし、晶析、濃縮、分液等を行うことにより該反応混合物から化合物（３）を単離し、得られた化合物（３）を第２工程に供してもよい。単離された化合物（３）は、例えば晶析、カラムクロマトグラフィー等の一般的な方法により精製した後、精製された化合物（３）を第２工程に供してもよい。
【００２９】
化合物（３）は、好ましくは、有機溶媒と酸水溶液とを用いた分液により上記反応混合物から単離される。より好ましくは、有機溶媒と酸水溶液とを該反応混合物に加え、これらを攪拌、静置及び分液し、得られる有機溶媒層から化合物（３）を回収することができる。該反応混合物が有機溶媒を含む場合、酸水溶液のみを該反応混合物に加えることにより分液することができる。該有機溶媒は、水と混和しない溶媒であればよい。該有機溶媒としては、トルエン等の芳香族炭化水素化合物；酢酸エチル等の脂肪族炭化水素化合物；アセトニトリル等のニトリル化合物が挙げられる。該酸水溶液としては、塩酸、硫酸等の無機酸の水溶液が好ましく、塩酸がより好ましい。
【００３０】
本発明の第２工程は化合物（３）を水素化ホウ素化合物で還元して、式（４）
（式中、Ｒ、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ上記と同じ意味を表す。）
で示されるハロゲン置換ベンセンジメタノール（以下、化合物（４）と称することがある。）を得る工程である。
【００３１】
水素化ホウ素化合物としては、例えば、水素化ホウ素アルカリ金属塩、水素化ホウ素アルカリ土類金属塩等が挙げられる。上記水素化ホウ素アルカリ金属塩としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素カリウムが挙げられる。上記水素化ホウ素アルカリ土類金属塩としては、水素化ホウ素カルシウム、水素化ホウ素マグネシウム等が挙げられる。
水素化ホウ素化合物としては、入手の容易さから、水素化ホウ素アルカリ金属塩が好ましく、水素化ホウ素ナトリウムがより好ましい。
【００３２】
水素化ホウ素化合物は、市販のものを用いてもよいし、調製して用いてもよい。例えば、水素化ホウ素ナトリウムは、ホウ酸エステルと水素化ナトリウムとから容易に調製可能である。また、他の水素化ホウ素化合物は、水素化ホウ素ナトリウムと対応する金属ハロゲン化物との反応により調製可能であり、例えば水素化ホウ素カルシウムは、水素化ホウ素ナトリウムと塩化カルシウムとの反応により得られる。水素化ホウ素化合物を調製して用いる場合には、予め調製した水素化ホウ素化合物を用いてよいし、化合物（３）の還元反応と同時に該化合物（３）の存在下で調製されてもよい。
水素化ホウ素化合物は、化合物（３）１モルに対して、通常１モル以上の量で用いればよい。該水素化ホウ素化合物の量は、経済性の点において、化合物（３）１モルに対して、通常５モル以下、好ましくは１〜２．５モルの範囲である。
【００３３】
化合物（３）の還元は、好ましくはモノアルコールの存在下で行われる。化合物（３）の還元をモノアルコールの存在下で行う場合、化合物（３）が化合物（４）に効率よく変換される。上記モノアルコールは溶媒として用いることができる。
上記モノアルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等の炭素数１〜４の脂肪族モノアルコールが挙げられ、メタノールが好ましい。
該モノアルコールの量は、制限されないが、化合物（３）１モルに対して、例えば、１〜１００モルの範囲等が挙げられる。
【００３４】
化合物（３）の還元は、溶媒の存在下で行われる。かかる溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル等のエーテル溶媒や、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒が挙げられる。上記溶媒は、好ましくはエーテル溶媒である。
【００３５】
第２工程における溶媒の量は、制限されないが、容積効率（第２工程に用いる反応容器単位容積あたりの化合物（４）の生産性）等を考慮すると、化合物（３）１重量部に対して、実用的には１重量部以上、１００重量部以下である。
第２工程における反応温度は、例えば、０〜１００℃の範囲等を挙げることができ、好ましくは２０〜７０℃の範囲等が挙げられる。
第２工程は、例えば、溶媒の存在下、化合物（３）と水素化ホウ素化合物とを、反応温度条件下で混合する工程等を挙げることができ、それらの混合順序は特に限定されない。具体的には、化合物（３）と水素化ホウ素化合物とを含む混合物にモノアルコールを該混合物に徐々に加えていく工程等が挙げられる。モノアルコールを該混合物に徐々に加えていくことにより、化合物（３）の水素化ホウ素化合物による還元反応を促進する傾向があることから好ましい。
【００３６】
第２工程は、通常、常圧条件下で行われるが、加圧条件下に行ってもよい。反応の進行の度合いは、例えばガスクロマトグラフィーや液体クロマトグラフィー等の通常の分析手段により確認することができる。
第２工程終了後、得られる反応混合物には化合物（４）が含まれており、これに、例えば塩酸、硫酸、リン酸、硝酸等の鉱酸の水溶液を加えた後、必要に応じて、中和、抽出、濃縮等の公知の手段により、化合物（４）を単離することができる。得られた化合物（４）は、例えば晶析、カラムクロマトグラフィー等の一般的な方法により精製されてもよい。
【００３７】
上記化合物（４）は、式（４）で示される化合物である。式（４）において、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４の好ましい範囲は、式（１）と同様である。
上記化合物（４）としては、例えば、２−フルオロ−１，４−ベンゼンジメタノール、２−クロロ−１，４−ベンゼンジメタノール、２，５−ジフルオロ−１，４−ベンゼンジメタノール、２，６−ジフルオロ−１，４−ベンゼンジメタノール、２，３−ジフルオロ−１，４−ベンゼンジメタノール、２，５−ジクロロ−１，４−ベンゼンジメタノール、２，６−ジクロロ−１，４−ベンゼンジメタノール、２，３−ジクロロ−１，４−ベンゼンジメタノール、２，３，５−トリフルオロ−１，４−ベンゼンジメタノール、２，３，５−トリクロロ−１，４−ベンゼンジメタノール、２，３，５，６−テトラフルオロベンゼンジメタノール、２，３，５，６−テトラクロロベンゼンジメタノール、２，３，５−トリフルオロ−６−クロロベンゼンジメタノール等が挙げられる。なかでも、２，３，５，６−テトラハロベンゼンジメタノールが好ましく、２，３，５，６−テトラフルオロベンゼンジメタノール及び２，３，５，６−テトラクロロベンゼンジメタノールがより好ましく、２，３，５，６−テトラフルオロベンゼンジメタノールが更に好ましい。
【００３８】
化合物（１）と化合物（２）を反応させて化合物（３）を得る該化合物（３）の製造方法もまた、本発明に含まれる。
化合物（３）は、本発明のハロゲン置換ベンゼンジメタノールの製造方法における中間体として有用である。化合物（３）は、容易にハロゲン置換ベンゼンジメタノールに変換することができる。化合物（３）の製造方法は、ハロゲン置換ベンゼンジメタノールの製造に好適な化合物（３）を容易に得る方法として有用である。
化合物（３）を水素化ホウ素化合物で還元して化合物（４）を得る該化合物（４）の製造方法もまた、本願発明の１つである。該化合物（４）の製造方法は、化合物（３）を用いるので、ハロゲン置換ベンゼンジメタノールを容易に得ることができる。
【００３９】
ハロゲン置換ベンゼンジメタノールは、例えば、医農薬原料、中間体などとして重要な化合物である。特に２，３，５，６−テトラフルオロベンゼンジメタノールは、家庭用殺虫剤の中間体として有用であることが知られている（例えば、日本国特許第２６０６８９２号公報参照。）。本発明は、かかるハロゲン置換ベンゼンジメタノールの製造方法およびその中間体として有用である。
【実施例】
【００４０】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
（実施例１）
（１）Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２，３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミドの調製
還流冷却管を付した１００ｍｌフラスコに、室温（約２５℃）で２，３，５，６−テトラフルオロテレフタル酸ジアミド５００ｍｇ、トルエン１０ｇ、アセトニトリル１０ｇ、４−ジメチルアミノピリジン１０ｍｇを仕込み、内温を８０℃に調整した。内容物を同温度で攪拌しながら、そこに、ピロカルボン酸ジ（ｔｅｒｔ−ブチルエステル）３．０ｇを２時間かけて滴下した。滴下終了後、内容物を同温度で２時間攪拌した後、室温まで冷却した。得られた反応混合物に５重量％塩酸水２０ｇを加えて攪拌、静置したところ、２層に分離したので、分液して上層の有機溶媒層を得た。該有機溶媒層を水３０ｇで２回洗浄し、得られた有機溶媒層から溶媒を留去することにより、淡黄色の油状物として、｛Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２，３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド１．３ｇを得た。収率は９６％であった。
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２，３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド
１Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３、ＴＭＳ基準）：１．５１（ｓ，３６Ｈ）
【００４１】
（２）２，３，５，６−テトラフルオロベンゼンジメタノールの調製
還流冷却管を付した１００ｍｌフラスコに、室温で水素化ホウ素ナトリウム１２５ｍｇ、テトラヒドロフラン５ｇを仕込んだ。そこに、上記実施例１（１）で得た油状物７００ｍｇを加え、内温を５０℃に調整し、内容物を同温度で２時間攪拌した。得られた反応混合物を室温まで冷却し、そこに１０重量％塩酸水１０ｇと酢酸エチル１０ｇを加えて攪拌、静置したところ、２層に分離したので、分液して上層の有機溶媒層を得た。該有機溶媒層を液体クロマトグラフィ内部標準法により分析したところ、２，３，５，６−テトラフルオロベンゼンジメタノールの得量は９５ｍｇであり、収率は４１％であった。
【００４２】
（実施例２）
（１）Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２，３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミドの調製
還流冷却管を付した１００ｍｌフラスコに、室温で２，３，５，６−テトラフルオロテレフタル酸ジアミド５００ｍｇ、アセトニトリル１０ｇ、４−ジメチルアミノピリジン１０ｍｇを仕込み、内温を８０℃に調整した。内容物を同温度で攪拌しながら、そこに、ピロカルボン酸ジ（ｔｅｒｔ−ブチルエステル）３．０ｇを２時間かけて滴下した。滴下終了後、内容物を同温度で２時間攪拌した後、室温まで冷却した。得られた反応混合物に５重量％塩酸水２０ｇと酢酸エチル２０ｇを加えて攪拌、静置したところ、２層に分離したので、分液して上層の有機溶媒層を得た。該有機溶媒層を水３０ｇで２回洗浄し、得られた有機溶媒層から溶媒を留去することにより、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２，３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミドを主成分とする淡黄色の油状物を得た。
【００４３】
（２）２，３，５，６−テトラフルオロベンゼンジメタノールの調製
還流冷却管を付した１００ｍｌフラスコに、室温で水素化ホウ素ナトリウム２４０ｍｇ、テトラヒドロフラン１０ｇを仕込んだ。そこに、実施例２（１）で得た油状物の全量を加え、内温を５０℃に調整し、内容物を同温度で２時間攪拌した。そこに、メタノール５ｇを１時間かけて滴下し、得られた内容物を同温度で１時間攪拌した。得られた反応混合物を室温まで冷却し、そこに１０重量％塩酸水２０ｇと酢酸エチル２０ｇを加えて攪拌、静置したところ、２層に分離したので、分液して上層の有機溶媒層を得た。該有機溶媒層を液体クロマトグラフィ内部標準法により分析したところ、２，３，５，６−テトラフルオロベンゼンジメタノールの得量は３６０ｍｇであった。実施例２−１からの通算収率は８１％であった。
【００４４】
（実施例３）
還流冷却管を付した１００ｍｌフラスコに、室温で２，３，５，６−テトラフルオロテレフタル酸ジアミド５００ｍｇ、アセトニトリル５ｇ、４−ジメチルアミノピリジン１０ｍｇを仕込み、内温を６０℃に調整した。内容物を同温度で攪拌しながら、そこに、ピロカルボン酸ジ（ｔｅｒｔ−ブチルエステル）３．０ｇを１時間かけて滴下した。滴下終了後、内容物を同温度で４時間攪拌した後、室温まで冷却した。冷却すると結晶が析出したので、ろ過、アセトニトリル１ｍｌで洗浄後、乾燥して、白色結晶４５０ｍｇを得た。この結晶は、ＮＭＲによりＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２，３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミドと同定した。
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２，３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド
１Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３、ＴＭＳ基準）：１．５１（ｓ，３６Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３、ＴＭＳ基準）：２７．５（ｓ）、２７．８（ｓ）、８６．０（ｓ）、８６．５（ｓ）、１４８．２（ｓ）、１５８．０（ｓ）
【産業上の利用可能性】
【００４５】
本発明によれば、ハロゲン置換ベンゼンジメタノールの新規な製造方法が提供可能である。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハロゲン置換テレフタル酸ジアミド化合物、その製造方法及び該化合物を用いたハロゲン置換ベンゼンジメタノールの製造方法等に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハロゲン置換ベンゼンジメタノールの製造方法としては、例えば、対応するハロゲン置換テレフタル酸（例えば、特許文献１参照。）やハロゲン置換テレフタル酸エステル（例えば、特許文献２、３および４参照。）を、それぞれ水素化ホウ素化合物で還元する方法が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−２２４０１７号公報
【特許文献２】特開２００７−２１１００１号公報
【特許文献３】特開２００７−２３００６号公報
【特許文献４】特開２００８−３１１５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、ハロゲン置換ベンゼンジメタノールの新規な製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
このような状況下、本発明者らは鋭意検討した結果、以下の本発明に至った。すなわち、本発明は、
＜１＞ 式（１）
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ独立に、水素原子またはハロゲン原子を表す。ただし、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４の少なくとも一つはハロゲン原子である。）
で示される化合物、及び、式（２）
（式中、Ｒは置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基を表す。）
で示される化合物を反応させて、式（３）
（式中、Ｒ、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ上記と同じ意味を表す。）
で示されるジカルボキサミド化合物を得る第１工程と、
第１工程で得られた式（３）で示されるジカルボキサミド化合物を水素化ホウ素化合物で還元して、式（４）
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ上記と同じ意味を表す。）
で示されるハロゲン置換ベンゼンジメタノールを得る第２工程と
を含むことを特徴とするハロゲン置換ベンゼンジメタノールの製造方法；
【０００６】
＜２＞ Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、全てハロゲン原子であることを特徴とする＜１＞記載の製造方法；
＜３＞ Ｒが、炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基であることを特徴とする請求項１又は２記載の製造方法；
＜４＞ 第１工程が、４−ジアルキルアミノピリジンの存在下で反応させる工程であることを特徴とする＜１＞〜＜３＞のいずれか記載の製造方法；
＜５＞ 第２工程が、モノアルコールの存在下で還元する工程であることを特徴とする＜１＞〜＜４＞のいずれか記載の製造方法；
＜６＞ モノアルコールが、炭素数１〜５の脂肪族モノアルコールであることを特徴とする＜５＞記載の製造方法；
＜７＞ 水素化ホウ素化合物の量が、式（３）で示されるジカルボキサミド化合物１モルに対して１〜３モルであるであることを特徴とする＜１＞〜＜６＞のいずれか記載の製造方法；
＜８＞ 水素化ホウ素化合物が、水素化ホウ素アルカリ金属塩であることを特徴とする＜１＞〜＜７＞のいずれか記載の製造方法；
【０００７】
＜９＞ 式（１）
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ独立に、水素原子またはハロゲン原子を表す。ただし、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４の少なくとも一つはハロゲン原子である。）
で示される化合物、及び、式（２）
（式中、Ｒは置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基を表す。）
で示される化合物を反応させて、式（３）
（式中、Ｒ、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ上記と同じ意味を表す。）
で示されるジカルボキサミド化合物を得る第１工程
を含むことを特徴とするジカルボキサミド化合物の製造方法；
【０００８】
＜１０＞ 式（３）
（式中、Ｒは置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基を表す。Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ独立に、水素原子またはハロゲン原子を表す。ただし、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４の少なくとも一つはハロゲン原子である。）
で示されるジカルボキサミド化合物を水素化ホウ素化合物で還元して、式（４）
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ上記と同じ意味を表す。）
で示されるハロゲン置換ベンゼンジメタノールを得る第２工程
を含むことを特徴とするハロゲン置換ベンゼンジメタノールの製造方法；
【０００９】
＜１１＞ 式（３）
（式中、Ｒは置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基を表す。Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ独立に、水素原子またはハロゲン原子を表す。ただし、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４の少なくとも一つはハロゲン原子である。）
で示されるジカルボキサミド化合物；
＜１２＞ Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２,３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド
等である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、ハロゲン置換ベンゼンジメタノールの新規な製造方法が提供可能である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のハロゲン置換ベンゼンジメタノールの製造方法は、後述の第１工程と第２工程とを含む。
第１工程は、式（１）
【００１２】
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ独立に、水素原子またはハロゲン原子を表す。ただし、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４の少なくとも一つはハロゲン原子である。）
で示される化合物（以下、化合物（１）と称することがある）、及び、式（２）
（式中、Ｒは置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基を表す。）
で示される化合物（以下、化合物（２）と称することがある）を反応させて、式（３）
【００１３】
（式中、Ｒ、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ上記と同じ意味を表す。）
で示されるジカルボキサミド化合物を得る工程である。
【００１４】
式（１）において、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ独立に水素原子またはハロゲン原子を表す。
上記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が挙げられる。
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４としては、それぞれ独立に、ハロゲン原子が好ましく、フッ素原子および塩素原子がより好ましく、フッ素原子が更に好ましい。Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、全てハロゲン原子であることが好ましい。
【００１５】
化合物（１）の例として、２−フルオロテレフタル酸ジアミド、２−クロロテレフタル酸ジアミド、２，５−ジフルオロテレフタル酸ジアミド、２，６−ジフルオロテレフタル酸ジアミド、２，３−ジフルオロテレフタル酸ジアミド、２、６−ジクロロテレフタル酸ジアミド、２，３−ジクロロテレフタル酸ジアミド、２，３，５−トリフルオロテレフタル酸ジアミド、２，３，５−トリクロロテレフタル酸ジアミド、２，３，５，６−テトラフルオロテレフタル酸ジアミド、２，３，５，６−テトラクロロテレフタル酸ジアミド、２，３，５−トリフルオロ−６−クロロテレフタル酸ジアミド等が挙げられる。なかでも２，３，５，６−テトラフルオロテレフタル酸ジアミドが好ましい。
【００１６】
化合物（１）は、例えば、対応する酸ハライドとアンモニアガスとを反応させる（例えば、Ｚｈｕｒｎａｌ Ｏｂｓｈｃｈｅｉ Ｋｈｉｍｉｉ， ３４， ２９５３−２９５８ （１９６４）参照。）等の方法に準じて製造することができる。
【００１７】
式（２）において、Ｒは、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、すなわちアルコキシカルボニル基または置換基を有するアルコキシカルボニル基を表す。
Ｒにより示されるアルコキシカルボニル基としては、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基が挙げられる。かかるアルコキシカルボニル基は、直鎖状、分枝鎖状および環状の何れであってもよく、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基、オクタデシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等が挙げられる。
該アルコキシカルボニル基に結合される置換基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等のアリール基が挙げられる。置換基を有するアルコキシカルボニル基としては、例えば、ベンジルオキシカルボニル基等の炭素数８〜２０のアリール置換アルコキシカルボニル基等が挙げられる。
式（２）において、Ｒとしては、炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基が好ましく、炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基がより好ましく、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基が更に好ましい。
【００１８】
化合物（２）としては、例えば、ピロカルボン酸ジメチルエステル、ピロカルボン酸ジエチルエステル、ピロカルボン酸ジイソプロピルエステル、ピロカルボン酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチルエステル、ピロカルボン酸ジベンジルエステル等が挙げられる。
化合物（２）として、例えば特開平４−２１１６３４号公報等に記載の公知の方法により製造したものや、市販のものを用いてもよい。
化合物（２）の量は、化合物（１）１モルに対して、少なくとも４モルであることが好ましい。化合物（２）の量の上限は、特に限定されないが、経済的には、化合物（１）１モルに対して１０モル以下であることが好ましい。
【００１９】
第１工程は、４−ジアルキルアミノピリジンの存在下で行われることが好ましい。
４−ジアルキルアミノピリジンは、ジアルキルアミノ基が炭素数１〜５のアルキル基を有することが好ましく、炭素数１〜３のアルキル基を有することがより好ましい。
４−ジアルキルアミノピリジンとしては、例えば、４−ジメチルアミノピリジン、４−ジエチルアミノピリジン、４−ジ（ｎ−プロピル）アミノピリジン、４−ジ（ｎ−ブチル）アミノピリジン等が挙げられ、入手の容易さから、４−ジメチルアミノピリジンが好ましい。
４−ジアルキルアミノピリジンとして、市販のものを用いることができる。
４−ジアルキルアミノピリジンは、通常、化合物（１）１モルに対して０．００１モル以上、好ましくは０．００１〜０．１モル、より好ましくは０．００５〜０．１モルの範囲で用いられる。
【００２０】
第１工程は、溶媒の存在下に行うことが好ましい。溶媒としては、例えば、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジグライム等のエーテル溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル溶媒；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；などが挙げられる。第１工程において、該溶媒は１種類のみ用いられてもよいし、２種以上用いられてもよい。
該溶媒としては、ニトリル溶媒が好ましく、アルキルニトリル溶媒がより好ましく、炭素数１〜５のアルキルニトリル溶媒が更に好ましい。該溶媒を２種以上用いる場合、ニトリル溶媒と芳香族炭化水素溶媒との混合物を用いることが好ましい。
溶媒を使用する場合、その量は制限されないが、容積効率（第１工程に用いる反応容器単位容積あたりの式（３）で示される化合物の生産性）等を考慮すると、化合物（１）１重量部に対して、例えば、溶媒１〜１００重量部の範囲等を挙げることができる。
【００２１】
第１工程の反応温度は、例えば、−２０〜１５０℃の範囲等を挙げることができ、好ましくは、例えば、３０〜１００℃の範囲等を挙げることができる。また、第１工程は常圧条件下で行ってもよいし、加圧条件下で行ってもよい。
【００２２】
第１工程における反応の進行の度合いは、例えばガスクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー、ＮＭＲ、ＩＲ等の通常の分析手段により確認することができる。
第１工程は、化合物（１）と化合物（２）とを混合し、必要に応じて加熱することにより行われる。化合物（１）および化合物（２）の混合順序は特に制限されない。具体的には、例えば、［１］化合物（１）、化合物（２）、必要に応じて溶媒、及び必要に応じて４−ジアルキルアミノピリジンを一括して混合し、必要に応じて加熱する工程、［２］化合物（２）、必要に応じて溶媒、及び必要に応じて４−ジアルキルアミノピリジンを一括して混合し、必要に応じて加熱し、得られた混合物に化合物（１）を混合する工程、［３］化合物（１）、必要に応じて溶媒、及び必要に応じて４−ジアルキルアミノピリジンを一括して混合し、必要に応じて加熱し、得られた混合物に化合物（２）を混合する工程等を挙げることができる。上記［２］［３］において混合物に混合される化合物（１）又は化合物（２）は、溶媒に溶解させていてもよい。
第１工程の好ましい工程としては［３］を挙げることができ、好ましくは、溶媒と４−ジメチルアミノピリジンと化合物（１）の混合物を好ましい反応温度に調整しながら、化合物（２）を加えていく工程等が挙げられる。
【００２３】
第１工程により、式（３）
で示されるジカルボキサミド化合物（以下、化合物（３）と称することがある。）を含む反応混合物が得られる。
【００２４】
式（３）において、Ｒ、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ上記と同じ意味である。
式（３）において、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４の好ましい範囲は、式（１）と同様である。
式（３）において、Ｒの好ましい範囲は、式（２）と同様である。
【００２５】
化合物（３）としては、例えば、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスメトキシカルボニル−（２−フルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスエトキシカルボニル−（２−クロロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスブトキシカルボニル−（２,５−ジフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスベンジルオキシカルボニル−（２,６−ジフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２,３−ジフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２,５−ジクロロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２,６−ジクロロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２,３−ジクロロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２,３，５−トリフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２,３，５−トリクロロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスメトキシカルボニル−（２,３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスエトキシカルボニル−（２,３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスイソプロポキシカルボニル−（２,３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２,３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスベンジルオキシカルボニル−（２,３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、
【００２６】
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスメトキシカルボニル−（２,３，５，６−テトラクロロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスエトキシカルボニル−（２,３，５，６−テトラクロロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスイソプロポキシカルボニル−（２,３，５，６−テトラクロロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２,３，５，６−テトラクロロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスベンジルオキシカルボニル−（２,３，５，６−テトラクロロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド
【００２７】
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスメトキシカルボニル−（２,３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスエトキシカルボニル−（２,３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスイソプロポキシカルボニル−（２,３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２,３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２,３，５−トリフルオロ−６−クロロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド等が挙げられる。なかでも、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキスアルコキシカルボニル−（２,３，５，６−テトラハロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミドが好ましく、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（Ｃ１〜Ｃ５アルコキシ）カルボニル−（２,３，５，６−テトラハロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミドがより好ましく、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２,３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミドが更に好ましい。
【００２８】
第１工程により得られる反応混合物は、そのまま、後述する第２工程に供してもよいし、晶析、濃縮、分液等を行うことにより該反応混合物から化合物（３）を単離し、得られた化合物（３）を第２工程に供してもよい。単離された化合物（３）は、例えば晶析、カラムクロマトグラフィー等の一般的な方法により精製した後、精製された化合物（３）を第２工程に供してもよい。
【００２９】
化合物（３）は、好ましくは、有機溶媒と酸水溶液とを用いた分液により上記反応混合物から単離される。より好ましくは、有機溶媒と酸水溶液とを該反応混合物に加え、これらを攪拌、静置及び分液し、得られる有機溶媒層から化合物（３）を回収することができる。該反応混合物が有機溶媒を含む場合、酸水溶液のみを該反応混合物に加えることにより分液することができる。該有機溶媒は、水と混和しない溶媒であればよい。該有機溶媒としては、トルエン等の芳香族炭化水素化合物；酢酸エチル等の脂肪族炭化水素化合物；アセトニトリル等のニトリル化合物が挙げられる。該酸水溶液としては、塩酸、硫酸等の無機酸の水溶液が好ましく、塩酸がより好ましい。
【００３０】
本発明の第２工程は化合物（３）を水素化ホウ素化合物で還元して、式（４）
（式中、Ｒ、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ上記と同じ意味を表す。）
で示されるハロゲン置換ベンセンジメタノール（以下、化合物（４）と称することがある。）を得る工程である。
【００３１】
水素化ホウ素化合物としては、例えば、水素化ホウ素アルカリ金属塩、水素化ホウ素アルカリ土類金属塩等が挙げられる。上記水素化ホウ素アルカリ金属塩としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素カリウムが挙げられる。上記水素化ホウ素アルカリ土類金属塩としては、水素化ホウ素カルシウム、水素化ホウ素マグネシウム等が挙げられる。
水素化ホウ素化合物としては、入手の容易さから、水素化ホウ素アルカリ金属塩が好ましく、水素化ホウ素ナトリウムがより好ましい。
【００３２】
水素化ホウ素化合物は、市販のものを用いてもよいし、調製して用いてもよい。例えば、水素化ホウ素ナトリウムは、ホウ酸エステルと水素化ナトリウムとから容易に調製可能である。また、他の水素化ホウ素化合物は、水素化ホウ素ナトリウムと対応する金属ハロゲン化物との反応により調製可能であり、例えば水素化ホウ素カルシウムは、水素化ホウ素ナトリウムと塩化カルシウムとの反応により得られる。水素化ホウ素化合物を調製して用いる場合には、予め調製した水素化ホウ素化合物を用いてよいし、化合物（３）の還元反応と同時に該化合物（３）の存在下で調製されてもよい。
水素化ホウ素化合物は、化合物（３）１モルに対して、通常１モル以上の量で用いればよい。該水素化ホウ素化合物の量は、経済性の点において、化合物（３）１モルに対して、通常５モル以下、好ましくは１〜２．５モルの範囲である。
【００３３】
化合物（３）の還元は、好ましくはモノアルコールの存在下で行われる。化合物（３）の還元をモノアルコールの存在下で行う場合、化合物（３）が化合物（４）に効率よく変換される。上記モノアルコールは溶媒として用いることができる。
上記モノアルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等の炭素数１〜４の脂肪族モノアルコールが挙げられ、メタノールが好ましい。
該モノアルコールの量は、制限されないが、化合物（３）１モルに対して、例えば、１〜１００モルの範囲等が挙げられる。
【００３４】
化合物（３）の還元は、溶媒の存在下で行われる。かかる溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル等のエーテル溶媒や、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒が挙げられる。上記溶媒は、好ましくはエーテル溶媒である。
【００３５】
第２工程における溶媒の量は、制限されないが、容積効率（第２工程に用いる反応容器単位容積あたりの化合物（４）の生産性）等を考慮すると、化合物（３）１重量部に対して、実用的には１重量部以上、１００重量部以下である。
第２工程における反応温度は、例えば、０〜１００℃の範囲等を挙げることができ、好ましくは２０〜７０℃の範囲等が挙げられる。
第２工程は、例えば、溶媒の存在下、化合物（３）と水素化ホウ素化合物とを、反応温度条件下で混合する工程等を挙げることができ、それらの混合順序は特に限定されない。具体的には、化合物（３）と水素化ホウ素化合物とを含む混合物にモノアルコールを該混合物に徐々に加えていく工程等が挙げられる。モノアルコールを該混合物に徐々に加えていくことにより、化合物（３）の水素化ホウ素化合物による還元反応を促進する傾向があることから好ましい。
【００３６】
第２工程は、通常、常圧条件下で行われるが、加圧条件下に行ってもよい。反応の進行の度合いは、例えばガスクロマトグラフィーや液体クロマトグラフィー等の通常の分析手段により確認することができる。
第２工程終了後、得られる反応混合物には化合物（４）が含まれており、これに、例えば塩酸、硫酸、リン酸、硝酸等の鉱酸の水溶液を加えた後、必要に応じて、中和、抽出、濃縮等の公知の手段により、化合物（４）を単離することができる。得られた化合物（４）は、例えば晶析、カラムクロマトグラフィー等の一般的な方法により精製されてもよい。
【００３７】
上記化合物（４）は、式（４）で示される化合物である。式（４）において、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４の好ましい範囲は、式（１）と同様である。
上記化合物（４）としては、例えば、２−フルオロ−１，４−ベンゼンジメタノール、２−クロロ−１，４−ベンゼンジメタノール、２，５−ジフルオロ−１，４−ベンゼンジメタノール、２，６−ジフルオロ−１，４−ベンゼンジメタノール、２，３−ジフルオロ−１，４−ベンゼンジメタノール、２，５−ジクロロ−１，４−ベンゼンジメタノール、２，６−ジクロロ−１，４−ベンゼンジメタノール、２，３−ジクロロ−１，４−ベンゼンジメタノール、２，３，５−トリフルオロ−１，４−ベンゼンジメタノール、２，３，５−トリクロロ−１，４−ベンゼンジメタノール、２，３，５，６−テトラフルオロベンゼンジメタノール、２，３，５，６−テトラクロロベンゼンジメタノール、２，３，５−トリフルオロ−６−クロロベンゼンジメタノール等が挙げられる。なかでも、２，３，５，６−テトラハロベンゼンジメタノールが好ましく、２，３，５，６−テトラフルオロベンゼンジメタノール及び２，３，５，６−テトラクロロベンゼンジメタノールがより好ましく、２，３，５，６−テトラフルオロベンゼンジメタノールが更に好ましい。
【００３８】
化合物（１）と化合物（２）を反応させて化合物（３）を得る該化合物（３）の製造方法もまた、本発明に含まれる。
化合物（３）は、本発明のハロゲン置換ベンゼンジメタノールの製造方法における中間体として有用である。化合物（３）は、容易にハロゲン置換ベンゼンジメタノールに変換することができる。化合物（３）の製造方法は、ハロゲン置換ベンゼンジメタノールの製造に好適な化合物（３）を容易に得る方法として有用である。
化合物（３）を水素化ホウ素化合物で還元して化合物（４）を得る該化合物（４）の製造方法もまた、本願発明の１つである。該化合物（４）の製造方法は、化合物（３）を用いるので、ハロゲン置換ベンゼンジメタノールを容易に得ることができる。
【００３９】
ハロゲン置換ベンゼンジメタノールは、例えば、医農薬原料、中間体などとして重要な化合物である。特に２，３，５，６−テトラフルオロベンゼンジメタノールは、家庭用殺虫剤の中間体として有用であることが知られている（例えば、日本国特許第２６０６８９２号公報参照。）。本発明は、かかるハロゲン置換ベンゼンジメタノールの製造方法およびその中間体として有用である。
【実施例】
【００４０】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
（実施例１）
（１）Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２，３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミドの調製
還流冷却管を付した１００ｍｌフラスコに、室温（約２５℃）で２，３，５，６−テトラフルオロテレフタル酸ジアミド５００ｍｇ、トルエン１０ｇ、アセトニトリル１０ｇ、４−ジメチルアミノピリジン１０ｍｇを仕込み、内温を８０℃に調整した。内容物を同温度で攪拌しながら、そこに、ピロカルボン酸ジ（ｔｅｒｔ−ブチルエステル）３．０ｇを２時間かけて滴下した。滴下終了後、内容物を同温度で２時間攪拌した後、室温まで冷却した。得られた反応混合物に５重量％塩酸水２０ｇを加えて攪拌、静置したところ、２層に分離したので、分液して上層の有機溶媒層を得た。該有機溶媒層を水３０ｇで２回洗浄し、得られた有機溶媒層から溶媒を留去することにより、淡黄色の油状物として、｛Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２，３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド１．３ｇを得た。収率は９６％であった。
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２，３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド
１Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３、ＴＭＳ基準）：１．５１（ｓ，３６Ｈ）
【００４１】
（２）２，３，５，６−テトラフルオロベンゼンジメタノールの調製
還流冷却管を付した１００ｍｌフラスコに、室温で水素化ホウ素ナトリウム１２５ｍｇ、テトラヒドロフラン５ｇを仕込んだ。そこに、上記実施例１（１）で得た油状物７００ｍｇを加え、内温を５０℃に調整し、内容物を同温度で２時間攪拌した。得られた反応混合物を室温まで冷却し、そこに１０重量％塩酸水１０ｇと酢酸エチル１０ｇを加えて攪拌、静置したところ、２層に分離したので、分液して上層の有機溶媒層を得た。該有機溶媒層を液体クロマトグラフィ内部標準法により分析したところ、２，３，５，６−テトラフルオロベンゼンジメタノールの得量は９５ｍｇであり、収率は４１％であった。
【００４２】
（実施例２）
（１）Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２，３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミドの調製
還流冷却管を付した１００ｍｌフラスコに、室温で２，３，５，６−テトラフルオロテレフタル酸ジアミド５００ｍｇ、アセトニトリル１０ｇ、４−ジメチルアミノピリジン１０ｍｇを仕込み、内温を８０℃に調整した。内容物を同温度で攪拌しながら、そこに、ピロカルボン酸ジ（ｔｅｒｔ−ブチルエステル）３．０ｇを２時間かけて滴下した。滴下終了後、内容物を同温度で２時間攪拌した後、室温まで冷却した。得られた反応混合物に５重量％塩酸水２０ｇと酢酸エチル２０ｇを加えて攪拌、静置したところ、２層に分離したので、分液して上層の有機溶媒層を得た。該有機溶媒層を水３０ｇで２回洗浄し、得られた有機溶媒層から溶媒を留去することにより、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２，３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミドを主成分とする淡黄色の油状物を得た。
【００４３】
（２）２，３，５，６−テトラフルオロベンゼンジメタノールの調製
還流冷却管を付した１００ｍｌフラスコに、室温で水素化ホウ素ナトリウム２４０ｍｇ、テトラヒドロフラン１０ｇを仕込んだ。そこに、実施例２（１）で得た油状物の全量を加え、内温を５０℃に調整し、内容物を同温度で２時間攪拌した。そこに、メタノール５ｇを１時間かけて滴下し、得られた内容物を同温度で１時間攪拌した。得られた反応混合物を室温まで冷却し、そこに１０重量％塩酸水２０ｇと酢酸エチル２０ｇを加えて攪拌、静置したところ、２層に分離したので、分液して上層の有機溶媒層を得た。該有機溶媒層を液体クロマトグラフィ内部標準法により分析したところ、２，３，５，６−テトラフルオロベンゼンジメタノールの得量は３６０ｍｇであった。実施例２−１からの通算収率は８１％であった。
【００４４】
（実施例３）
還流冷却管を付した１００ｍｌフラスコに、室温で２，３，５，６−テトラフルオロテレフタル酸ジアミド５００ｍｇ、アセトニトリル５ｇ、４−ジメチルアミノピリジン１０ｍｇを仕込み、内温を６０℃に調整した。内容物を同温度で攪拌しながら、そこに、ピロカルボン酸ジ（ｔｅｒｔ−ブチルエステル）３．０ｇを１時間かけて滴下した。滴下終了後、内容物を同温度で４時間攪拌した後、室温まで冷却した。冷却すると結晶が析出したので、ろ過、アセトニトリル１ｍｌで洗浄後、乾燥して、白色結晶４５０ｍｇを得た。この結晶は、ＮＭＲによりＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２，３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミドと同定した。
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２，３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド
１Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３、ＴＭＳ基準）：１．５１（ｓ，３６Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３、ＴＭＳ基準）：２７．５（ｓ）、２７．８（ｓ）、８６．０（ｓ）、８６．５（ｓ）、１４８．２（ｓ）、１５８．０（ｓ）
【産業上の利用可能性】
【００４５】
本発明によれば、ハロゲン置換ベンゼンジメタノールの新規な製造方法が提供可能である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ独立に、水素原子またはハロゲン原子を表す。ただし、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４の少なくとも一つはハロゲン原子である。）
で示される化合物、及び、式（２）
（式中、Ｒは置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基を表す。）
で示される化合物を反応させて、式（３）
（式中、Ｒ、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ上記と同じ意味を表す。）
で示されるジカルボキサミド化合物を得る第１工程と、
第１工程で得られた式（３）で示されるジカルボキサミド化合物を水素化ホウ素化合物で還元して、式（４）
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ上記と同じ意味を表す。）
で示されるハロゲン置換ベンゼンジメタノールを得る第２工程と
を含むことを特徴とするハロゲン置換ベンゼンジメタノールの製造方法。
【請求項２】
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、全てハロゲン原子であることを特徴とする請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
Ｒが、炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基であることを特徴とする請求項１又は２記載の製造方法。
【請求項４】
第１工程が、４−ジアルキルアミノピリジンの存在下で反応させる工程であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか記載の製造方法。
【請求項５】
第２工程が、モノアルコールの存在下で還元する工程であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか記載の製造方法。
【請求項６】
モノアルコールが、炭素数１〜５の脂肪族モノアルコールであることを特徴とする請求項５記載の製造方法。
【請求項７】
水素化ホウ素化合物の量が、式（３）で示されるジカルボキサミド化合物１モルに対して１〜３モルであるであることを特徴とする請求項１〜６のいずれか記載の製造方法。
【請求項８】
水素化ホウ素化合物が、水素化ホウ素アルカリ金属塩であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか記載の製造方法。
【請求項９】
式（１）
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ独立に、水素原子またはハロゲン原子を表す。ただし、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４の少なくとも一つはハロゲン原子である。）
で示される化合物、及び、式（２）
（式中、Ｒは置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基を表す。）
で示される化合物を反応させて、式（３）
（式中、Ｒ、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ上記と同じ意味を表す。）
で示されるジカルボキサミド化合物を得る第１工程
を含むことを特徴とするジカルボキサミド化合物の製造方法。
【請求項１０】
式（３）
（式中、Ｒは置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基を表す。Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ独立に、水素原子またはハロゲン原子を表す。ただし、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４の少なくとも一つはハロゲン原子である。）
で示されるジカルボキサミド化合物を水素化ホウ素化合物で還元して、式（４）
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ上記と同じ意味を表す。）
で示されるハロゲン置換ベンゼンジメタノールを得る第２工程
を含むことを特徴とするハロゲン置換ベンゼンジメタノールの製造方法。
【請求項１１】
式（３）
（式中、Ｒは置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基を表す。Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ独立に、水素原子またはハロゲン原子を表す。ただし、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４の少なくとも一つはハロゲン原子である。）
で示されるジカルボキサミド化合物。
【請求項１２】
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２,３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド。
【請求項１】
式（１）
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ独立に、水素原子またはハロゲン原子を表す。ただし、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４の少なくとも一つはハロゲン原子である。）
で示される化合物、及び、式（２）
（式中、Ｒは置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基を表す。）
で示される化合物を反応させて、式（３）
（式中、Ｒ、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ上記と同じ意味を表す。）
で示されるジカルボキサミド化合物を得る第１工程と、
第１工程で得られた式（３）で示されるジカルボキサミド化合物を水素化ホウ素化合物で還元して、式（４）
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ上記と同じ意味を表す。）
で示されるハロゲン置換ベンゼンジメタノールを得る第２工程と
を含むことを特徴とするハロゲン置換ベンゼンジメタノールの製造方法。
【請求項２】
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、全てハロゲン原子であることを特徴とする請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
Ｒが、炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基であることを特徴とする請求項１又は２記載の製造方法。
【請求項４】
第１工程が、４−ジアルキルアミノピリジンの存在下で反応させる工程であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか記載の製造方法。
【請求項５】
第２工程が、モノアルコールの存在下で還元する工程であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか記載の製造方法。
【請求項６】
モノアルコールが、炭素数１〜５の脂肪族モノアルコールであることを特徴とする請求項５記載の製造方法。
【請求項７】
水素化ホウ素化合物の量が、式（３）で示されるジカルボキサミド化合物１モルに対して１〜３モルであるであることを特徴とする請求項１〜６のいずれか記載の製造方法。
【請求項８】
水素化ホウ素化合物が、水素化ホウ素アルカリ金属塩であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか記載の製造方法。
【請求項９】
式（１）
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ独立に、水素原子またはハロゲン原子を表す。ただし、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４の少なくとも一つはハロゲン原子である。）
で示される化合物、及び、式（２）
（式中、Ｒは置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基を表す。）
で示される化合物を反応させて、式（３）
（式中、Ｒ、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ上記と同じ意味を表す。）
で示されるジカルボキサミド化合物を得る第１工程
を含むことを特徴とするジカルボキサミド化合物の製造方法。
【請求項１０】
式（３）
（式中、Ｒは置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基を表す。Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ独立に、水素原子またはハロゲン原子を表す。ただし、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４の少なくとも一つはハロゲン原子である。）
で示されるジカルボキサミド化合物を水素化ホウ素化合物で還元して、式（４）
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ上記と同じ意味を表す。）
で示されるハロゲン置換ベンゼンジメタノールを得る第２工程
を含むことを特徴とするハロゲン置換ベンゼンジメタノールの製造方法。
【請求項１１】
式（３）
（式中、Ｒは置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基を表す。Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、それぞれ独立に、水素原子またはハロゲン原子を表す。ただし、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４の少なくとも一つはハロゲン原子である。）
で示されるジカルボキサミド化合物。
【請求項１２】
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２,３，５，６−テトラフルオロベンゼン）−１，４−ビスカルボキサミド。
【公開番号】特開２０１０−２２９１２８（Ｐ２０１０−２２９１２８Ａ）
【公開日】平成２２年１０月１４日（２０１０．１０．１４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−４７７５３（Ｐ２０１０−４７７５３）
【出願日】平成２２年３月４日（２０１０．３．４）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１０月１４日（２０１０．１０．１４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年３月４日（２０１０．３．４）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【Ｆターム（参考）】
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