パラジウムの除去方法
【課題】リン系配位子を有するパラジウム錯体が溶解した溶液からパラジウムを効率的に除去する方法を提供すること。
【解決手段】リン系配位子を有するパラジウム錯体が溶解した溶液を、細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトで処理することを特徴とするパラジウムの除去方法、反応生成物に対するパラジウム量が１５ｐｐｂ以下である反応生成物含有溶液の製造方法、及び、反応生成物に対するパラジウム量が１５ｐｐｂ以下である反応生成物含有溶液。
【解決手段】リン系配位子を有するパラジウム錯体が溶解した溶液を、細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトで処理することを特徴とするパラジウムの除去方法、反応生成物に対するパラジウム量が１５ｐｐｂ以下である反応生成物含有溶液の製造方法、及び、反応生成物に対するパラジウム量が１５ｐｐｂ以下である反応生成物含有溶液。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パラジウムの除去方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
トリフェニルホスフィンに代表されるリン系配位子を有するパラジウム錯体は、例えば鈴木カップリング反応、薗頭カップリング反応、ヘック反応、ブッフバルド反応、カルボニル化反応等種々の有機合成反応の触媒として用いられており（例えば非特許文献１〜３参照）、これら反応は、医薬品、農薬、電子材料等およびこれらの中間体の製造に適した反応であることから、その重要性がますます高まってきている。
【０００３】
前記パラジウム錯体を触媒として、これら反応を行った後、必要に応じて抽出処理等の後処理を行い、目的とする反応生成物が取り出されるが、反応液中には前記パラジウム錯体に由来するパラジウムも溶解しているため、反応生成物にパラジウムが混入してくるという問題やパラジウムが溶解した廃液を処理しなければならないという問題があった。そのため、前記パラジウム錯体が溶解した溶液からパラジウムを除去する方法が種々検討されており、例えば活性炭で処理する方法（例えば非特許文献４参照。）、乳酸水溶液で抽出処理する方法（例えば非特許文献５参照。）等が報告されている。かかる方法は、処理後に残存するパラジウム量が、反応生成物に対して１ｐｐｍ程度まで除去可能な方法であるものの、反応生成物を医薬品、農薬、電子材料等の用途に用いるためには、不十分であり、さらにパラジウム量を低減することができる除去方法が必要であった。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】エイイチ・ネギシ編，「Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｏｒｇａｎｏｐａｌｌａｄｉｕｍ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｆｏｒ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ」，Ａ Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，２００２年
【非特許文献２】ジロウ・ツジ著，「Ｐａｌｌａｄｉｕｍ Ｒｅａｇｅｎｔｓ ａｎｄ Ｃａｔａｌｙｓｔｓ−ｉｎｎｏｖａｔｉｏｎｓ ｉｎ ｏｒｇａｎｉｃ ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ」，Ａ Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，１９９５年
【非特許文献３】日本化学会編，「実験化学講座（第２５巻）有機合成ＶＩＩ」，第４版，丸善株式会社，ｐ．３９６〜４２７
【非特許文献４】Ｏｒｇａｎｉｃ Ｐｒｏｃｅｓｓ Ｒｅｓｅａｒａｃｈ ＆ Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ，２００１，５，３８３
【非特許文献５】Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２００３，６８，２６３３
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
このような状況のもと、本発明者らは、リン系配位子を有するパラジウム錯体が溶解した溶液からパラジウムを効率的に除去する方法を開発すべく鋭意検討したところ、前記溶液を、細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトで処理することにより、パラジウムを効率的に除去できることを見出し、本発明に至った。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
すなわち本発明は、リン系配位子を有するパラジウム錯体が溶解した溶液を、細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトで処理することを特徴とするパラジウムの除去方法を提供するものである。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、リン系配位子を有するパラジウム錯体が溶解した溶液から、効率的にパラジウムを除去することができ、パラジウム含有量がより低レベルの溶液を得ることができる。しかも、医薬品、農薬、電子材料等の製造に好適な薗頭カップリング反応等の前記パラジウム錯体を触媒とする有機合成反応で得られる反応生成物を含む溶液からも、前記反応生成物のロスを抑えて、溶解しているパラジウムを効率的に除去できるため、工業的な観点からも有利な方法となり得る。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
リン系配位子を有するパラジウム錯体が溶解した溶液としては、前記パラジウム錯体が溶解した有機溶媒溶液であれば特に制限されない。例えばリン系配位子を有するパラジウム錯体を触媒とする有機合成反応を行い、得られた反応生成物と前記パラジウム錯体を含む反応液を用いてもよいし、前記反応液について、例えば抽出処理、濾過処理等の後処理を行った後の反応生成物と前記パラジウム錯体を含む溶液を用いてもよい。また、前記溶液中には、銅塩等の他の金属成分、塩基等の成分が含まれていてもよい。リン系配位子を有するパラジウム錯体を触媒とする有機合成反応も特に制限されず、Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｏｒｇａｎｏｐａｌｌａｄｉｕｍ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｆｏｒ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、Ｐａｌｌａｄｉｕｍ Ｒｅａｇｅｎｔｓ ａｎｄ Ｃａｔａｌｙｓｔｓ−ｉｎｎｏｖａｔｉｏｎｓ ｉｎ ｏｒｇａｎｉｃ ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、第４版実験化学講座第２５巻有機合成ＶＩＩ，ｐ．３９６〜４２７等に記載の公知のパラジウム錯体を用いる有機合成反応が挙げられる。
【０００９】
かかる有機合成反応としては、例えば水添反応、脱水素反応、ハロゲン化アリールの脱ハロゲン化反応、不飽和化合物の不飽和結合の転位反応、重合反応、炭素−炭素結合生成反応、炭素−窒素結合生成反応等が挙げられ、なかでも医薬品、農薬、電子材料等およびこれらの中間体の合成反応として用いられることが多い炭素−炭素結合生成反応や炭素−窒素結合生成反応の場合に、本発明の方法は好適である。炭素−炭素結合生成反応や炭素−窒素結合生成反応としては、例えばハロゲン化アリールとアリールホウ酸とを反応させる鈴木カップリング反応、ハロゲン化アリールとアルキンとを反応させる薗頭カップリング反応、ハロゲン化アリールもしくはハロゲン化ビニルとオレフィンとを反応させるヘック反応、ハロゲン化アリールとアミンとを反応させるブッフバルド反応、ハロゲン化アリールと一酸化炭素とアルコールとを反応させるカルボニル化反応、ハロゲン化アリールとケトンとを反応させるα−アリールケトン合成反応、ハロゲン化アリールと有機亜鉛試薬とのカップリング反応等が挙げられる。
【００１０】
リン系配位子としては、パラジウムに配位可能なリン原子を有する配位子であれば特に制限されず、例えばトリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリ（ｎ−ブチル）ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリ（ｏ−トリル）ホスフィン等の単座ホスフィン系配位子、例えばトリフェニルホスファイト等の単座ホスファイト系配位子、例えばビス（ジフェニルホスフィノ）メタン、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、２，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）ビシクロ［２．２．１］へプト−５−エン、４，５−ビス（ジフェニルホスフィノメチル）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフタレン、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン等の二座ホスフィン系配位子等が挙げられ、単座または二座ホスフィン系配位子が好ましく、単座ホスフィン系配位子がより好ましい。
【００１１】
リン系配位子を有するパラジウム錯体としては、前記溶液中でリン系配位子がパラジウムに配位した錯体であればよく、リン系配位子以外の配位子が配位していてもよい。かかるパラジウム錯体としては、例えばテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｐｄ（ＰＰｈ3）4）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＰｄＣｌ2（ＰＰｈ3）2）、ジクロロビス（トリエチルホスフィン）パラジウム（ＰｄＣｌ2（ＰＥｔ3）2）、ジクロロ［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム・ジクロロメタン錯体（ＰｄＣｌ2（ｄｐｐｆ）・ＣＨ2Ｃｌ2）等の予めリン系配位子がパラジウムに配位した錯体であってもよいし、例えば塩化パラジウム（ＰｄＣｌ2）、臭化パラジウム（ＰｄＢｒ2）、酢酸パラジウム（Ｐｄ（ＯＡｃ）2）、リチウムテトラクロロパラデート（Ｌｉ2ＰｄＣｌ4）、ビス（η3−アリル）パラジウム、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（Ｐｄ2（ｄｂａ）3）、ビス（アセチルアセトナート）パラジウム（Ｐｄ（ａｃａｃ）2）、ジクロロビス（アセトニトリル）パラジウム（（ＣＨ3ＣＮ）2ＰｄＣｌ2）、ジクロロビス（ベンゾニトリル）パラジウム（（ＰｈＣＮ）2ＰｄＣｌ2）等のリン系配位子を有さないパラジウム化合物と前記リン系配位子とを反応系中で接触せしめて形成させたパラジウム錯体等であってもよい。
【００１２】
有機溶媒としては、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、例えば酢酸エチル等のエステル系溶媒、例えばアセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、例えばジクロロメタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒等の単独または混合溶媒が挙げられ、脂肪族炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒およびこれらの混合溶媒が好ましい。脂肪族炭化水素系溶媒と芳香族炭化水素系溶媒の混合溶媒を用いる場合には、脂肪族炭化水素系溶媒を、芳香族炭化水素系溶媒よりも多く使用する方が好ましい。かかる有機溶媒の使用量は特に制限されないが、パラジウム錯体を触媒とする有機合成反応を行って得られる反応生成物を含む溶液の場合には、反応生成物に対して、通常０．５〜１００重量倍、好ましくは２〜５０重量倍、より好ましくは３〜３０重量倍の有機溶媒が用いられる。
【００１３】
前記溶液中のパラジウム量としては、通常１００ｐｐｂ〜１％、好ましくは１００ｐｐｂ〜１０００ｐｐｍである。
【００１４】
層状粘土化合物としては、例えばマグネシウム、アルミニウム、鉄、ケイ素等の酸化物からなる積層構造を有する化合物であればよく、例えばカオリナイト、モンモリロナイト、ハロイサイト等が挙げられ、モンモリロナイトが好ましい。モンモリロナイトとしては、例えば活性白土、酸性白土等が挙げられ、活性白土が好ましい。かかる層状粘土化合物の形状は特に制限されず、例えば粉末状、粒状等が挙げられ、好ましくは粉末状のものが用いられる。かかる層状粘土化合物としては、通常市販されているものが用いられる。
【００１５】
細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトとしては、天然ゼオライトであってもよいし、合成ゼオライトであってもよい。かかるゼオライトとしては、例えばＹ型ゼオライト、リンデＸ、ＡｌＰＯ4−３７、フォージャサイト等のＦＡＵ構造を有するゼオライト、例えばグメリナイト等のＧＭＥ構造を有するゼオライト、例えばリンデＬ等のＬＴＬ構造を有するゼオライト、例えばマザイト、ＺＳＭ−４ゼオライト等のＭＡＺ構造を有するゼオライト、例えばモルデナイト、ゼオロン等のＭＯＲ構造を有するゼオライト、例えばオフレタイト、リンデＴ等のＯＦＦ構造を有するゼオライト等が挙げられ、ＦＡＵ構造を有するゼオライトが好ましい。かかるゼオライトは、市販されているものを用いてもよいし、合成ゼオライトであれば、公知の方法に従い製造したものを用いてもよい。
【００１６】
かかる層状粘土化合物または細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトの使用量としては、特に制限されない。前記溶液中に反応生成物を含む場合の使用量は、反応生成物に対して、通常０．１〜１００重量倍、好ましくは０．５〜３０重量倍である。
【００１７】
層状粘土化合物または細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトで、前記溶液を処理する方法としては、例えば層状粘土化合物または細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトと前記溶液を混合し、所定時間接触させた後、層状粘土化合物または細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトを、例えば濾過、遠心分離等の通常の分離手段により分離する方法、層状粘土化合物または細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトが充填された塔内に、前記溶液を通液する方法等が挙げられる。処理温度は、通常−５０〜２００℃、好ましくは−１０〜１００℃である。濾過により、処理後の層状粘土化合物または細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトを分離する場合、例えばセライト等の濾過助剤を用いてもよい。処理時間は特に制限されないが、通常０．１〜４８時間、好ましくは０．３〜１０時間である。
【００１８】
反応生成物を含む溶液についてかかる処理を行うことにより、反応生成物に対するパラジウム量が１５ｐｐｂ以下である反応生成物含有溶液が得られ、前記溶液を、必要に応じて濃縮処理した後、例えば晶析処理することにより、パラジウム含量がより低減された反応生成物を得ることができる。
【実施例】
【００１９】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、溶液中のパラジウム（以下、Ｐｄと略記する。）量は、採取した試料を濃縮処理した後、湿式加圧酸分解し、蒸発乾固し、次いで王水に溶解させ、ＩＣＰ発光分析（Ｐｄ量が１ｐｐｍ以上の場合）またはＩＣＰ−ＭＳ分析（パラジウム量が１ｐｐｍ未満の場合）し、算出した。また、溶液中の反応生成物の含量は、高速液体クロマトグラフィにより分析し、算出した。
【００２０】
参考例１
１００ｍＬメスフラスコに、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｐｄ（ＰＰｈ3）4）１０８．７ｍｇおよびトリフェニルホスフィン９８．７ｍｇを秤量し、トルエンを加えて、１００ｍＬとした。この溶液１０ｍＬを採取し、トルエン／ヘキサン混合溶液（トルエン／ヘキサン重量比＝１７／８３）を加え、全体重量を１０００ｇとし、Ｐｄ含量１ｐｐｍの溶液を調製した。
【００２１】
実施例１
温度計、冷却管および攪拌装置を備えた四つ口フラスコに、前記参考例１で調製したＰｄ含量１ｐｐｍの溶液５０ｇおよび活性白土（和光純薬製）７．５ｇを加え、内温２０℃で２時間攪拌、保持した。その後、同温度で活性白土を濾別した。濾別した活性白土をトルエン／ヘキサン混合溶液（トルエン／ヘキサン重量比＝１７／８３）７．５ｇで２回洗浄処理し、洗浄液を先に得た濾液と合一した。合一後の溶液を濃縮処理し、濃縮液１０ｇを得た。濃縮液中のＰｄ含量は５ｐｐｂ未満であり、Ｐｄ除去率は９９．９％以上であった。
【００２２】
実施例２〜５
実施例１において、活性白土の使用量および処理温度を下記表１に示した条件とした以外は実施例１と同様に実施した。結果を表１に示した。
【００２３】
【表１】
【００２４】
実施例６
実施例１において、活性白土に代えてＹ型ゼオライト（細孔径０．７４ｎｍ）を用いた以外は実施例１と同様に実施したところ、濃縮液中のＰｄ含量は５ｐｐｂ未満、Ｐｄ除去率は９９．９％以上であった。
【００２５】
比較例１
実施例１において、活性白土に代えてＺＳＭ−５ゼオライト（細孔径０．５ｎｍ）を用いた以外は実施例１と同様に実施したところ、濃縮液中のＰｄ含量は１４０ｐｐｂ、Ｐｄ除去率は９７．２％であった。
【００２６】
比較例２
実施例１において、活性白土に代えてケイソウ土（和光純薬製ハイフロスーパーセル）を用いた以外は実施例１と同様に実施したところ、濃縮液中のＰｄ含量は２３０ｐｐｂ、Ｐｄ除去率は９５．４％であった。
【００２７】
参考例２
温度計および攪拌装置を備えた１Ｌフラスコの内部を窒素置換した後、１，３−ジブロモアダマンタン４３ｇおよび無水臭化アルミニウム１０ｇを仕込み、内温０℃まで冷却した。これに、予め５℃に冷却しておいた１，３−ジブロモベンゼン１９０ｇを仕込み、内温０〜１０℃で７時間攪拌、反応させた。反応中に発生する臭化水素ガスはアルカリ水溶液中に導き、除害しながら反応を行った。反応終了後、４重量％塩酸１３０ｇをゆっくり滴下し、反応液のオレンジ色が消失するまで攪拌を継続した。攪拌を停止し、静置後、分液処理し、得られた有機層を水で３回洗浄処理した。洗浄処理後の有機層にトルエン１９０ｇを加え、昇温し、還流条件下で水を除去した。その後冷却し、析出した結晶を濾取した。濾取した結晶をトルエン、メタノールおよび水で洗浄した後、減圧条件下で乾燥させ、１，３−ビス（３，５−ジブロモフェニル）アダマンタン４４ｇを得た。
【００２８】
温度計、還流冷却管および攪拌装置を備えた５００ｍＬフラスコの内部を窒素置換した後、トルエン２６８ｇ、トリエチルアミン２６ｇ、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＰｄＣｌ2（ＰＰｈ3）2）０．２９ｇ、トリフェニルホスフィン０．５８ｇおよびヨウ化銅（Ｉ）０．２３ｇを仕込んだ。これに、前記１，３−ビス（３，５−ジブロモフェニル）アダマンタン３１ｇを加え、内温８０℃に昇温した。同温度で、トリメチルシリルアセチレン２２ｇを６時間かけて滴下した後、同温度で２時間保持し、薗頭カップリング反応を行った。反応終了後、室温まで冷却し、不溶分を濾別した。濾別した不溶分をトルエン３１ｇで２回洗浄した後、洗浄液を先に得た濾液と合一した。合一後の溶液を４重量％塩酸中に加え、攪拌し、静置後、分液処理した。得られた有機層を水１５５ｇで２回洗浄した後、減圧条件下で濃縮処理し、濃縮液６６ｇを得た。濃縮液中には、薗頭カップリング反応の反応生成物である１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンが５０重量％含まれていた。
【００２９】
得られた濃縮液にヘキサン１６５ｇを加え、１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンの含有量が、１４重量％の溶液を調製した。この溶液に、シリカゲル（関東化学製、球状中性、粒径１００〜２１０μｍ）６２ｇを仕込み、内温２５℃で２時間攪拌保持した後、同じシリカゲル３１ｇをプレコートした濾過器で濾過処理した。濾過器上に濾取されたシリカゲルをトルエン／ヘキサン混合溶液（トルエン／ヘキサン重量比＝１７／８３）３１ｇで２回洗浄し、洗浄液は先に得た濾液と合一し、１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタン含有溶液２５０ｇを得た。該溶液中の１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンの含有量は１０重量％、１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンに対するＰｄ量は２８０ｐｐｂであった。また、該溶液中のトルエン／ヘキサン重量比は１７／７３であった。
【００３０】
実施例７
温度計および攪拌装置を備えたフラスコに、前記参考例２で得られた１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタン含有溶液１００重量部および活性白土（和光純薬製）２８重量部を仕込み、室温で２時間攪拌、保持した。その後、同温度で活性白土を濾別した。濾別した活性白土をヘキサン２８重量部で２回洗浄処理し、洗浄液を先に得た濾液と合一した。合一後の溶液を濃縮処理し、１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンの含量が５０重量％である濃縮液２０重量部を得た。濃縮液中の１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンに対するＰｄ量は１０ｐｐｂ以下であり、Ｐｄ除去率は９８．２％以上であった。また、１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンの回収率は１００％であった。
【００３１】
比較例３
実施例７において、活性白土に代えて活性炭を用いた以外は実施例７と同様に実施したところ、濃縮液中の１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンに対するＰｄ量は２２ｐｐｂであり、Ｐｄ除去率は９２．１％であった。
また、１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンの回収率は７３％であった。
【００３２】
比較例４
実施例７において、活性白土に代えてケイソウ土を用いた以外は実施例７と同様に実施したところ、濃縮液中の１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンに対するＰｄ量は１５４ｐｐｂであり、Ｐｄ除去率は４４．９％であった。また、１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンの回収率は９８％であった。
【００３３】
参考例３
参考例２において、シリカゲル３１ｇをプレコートした濾過器に代えてプレコートしていない濾過器を用いた以外は参考例２と同様に実施して、１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタン含有溶液２６０ｇを得た。該溶液中の１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンの含有量は１２重量％、１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンに対するＰｄ量は２０００ｐｐｂであった。また、該溶液中のトルエン／ヘキサン重量比は１５／７３であった。
【００３４】
実施例８
実施例７において、前記参考例２で得られた１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタン含有溶液に代えて、前記参考例３で得られた１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタン含有溶液を用いた以外は実施例７と同様に実施したところ、濃縮液中の１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンに対するＰｄ量は１０ｐｐｂ以下であり、Ｐｄ除去率は９９．５％以上であった。また、１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンの回収率は９５％であった。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パラジウムの除去方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
トリフェニルホスフィンに代表されるリン系配位子を有するパラジウム錯体は、例えば鈴木カップリング反応、薗頭カップリング反応、ヘック反応、ブッフバルド反応、カルボニル化反応等種々の有機合成反応の触媒として用いられており（例えば非特許文献１〜３参照）、これら反応は、医薬品、農薬、電子材料等およびこれらの中間体の製造に適した反応であることから、その重要性がますます高まってきている。
【０００３】
前記パラジウム錯体を触媒として、これら反応を行った後、必要に応じて抽出処理等の後処理を行い、目的とする反応生成物が取り出されるが、反応液中には前記パラジウム錯体に由来するパラジウムも溶解しているため、反応生成物にパラジウムが混入してくるという問題やパラジウムが溶解した廃液を処理しなければならないという問題があった。そのため、前記パラジウム錯体が溶解した溶液からパラジウムを除去する方法が種々検討されており、例えば活性炭で処理する方法（例えば非特許文献４参照。）、乳酸水溶液で抽出処理する方法（例えば非特許文献５参照。）等が報告されている。かかる方法は、処理後に残存するパラジウム量が、反応生成物に対して１ｐｐｍ程度まで除去可能な方法であるものの、反応生成物を医薬品、農薬、電子材料等の用途に用いるためには、不十分であり、さらにパラジウム量を低減することができる除去方法が必要であった。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】エイイチ・ネギシ編，「Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｏｒｇａｎｏｐａｌｌａｄｉｕｍ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｆｏｒ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ」，Ａ Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，２００２年
【非特許文献２】ジロウ・ツジ著，「Ｐａｌｌａｄｉｕｍ Ｒｅａｇｅｎｔｓ ａｎｄ Ｃａｔａｌｙｓｔｓ−ｉｎｎｏｖａｔｉｏｎｓ ｉｎ ｏｒｇａｎｉｃ ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ」，Ａ Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，１９９５年
【非特許文献３】日本化学会編，「実験化学講座（第２５巻）有機合成ＶＩＩ」，第４版，丸善株式会社，ｐ．３９６〜４２７
【非特許文献４】Ｏｒｇａｎｉｃ Ｐｒｏｃｅｓｓ Ｒｅｓｅａｒａｃｈ ＆ Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ，２００１，５，３８３
【非特許文献５】Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２００３，６８，２６３３
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
このような状況のもと、本発明者らは、リン系配位子を有するパラジウム錯体が溶解した溶液からパラジウムを効率的に除去する方法を開発すべく鋭意検討したところ、前記溶液を、細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトで処理することにより、パラジウムを効率的に除去できることを見出し、本発明に至った。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
すなわち本発明は、リン系配位子を有するパラジウム錯体が溶解した溶液を、細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトで処理することを特徴とするパラジウムの除去方法を提供するものである。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、リン系配位子を有するパラジウム錯体が溶解した溶液から、効率的にパラジウムを除去することができ、パラジウム含有量がより低レベルの溶液を得ることができる。しかも、医薬品、農薬、電子材料等の製造に好適な薗頭カップリング反応等の前記パラジウム錯体を触媒とする有機合成反応で得られる反応生成物を含む溶液からも、前記反応生成物のロスを抑えて、溶解しているパラジウムを効率的に除去できるため、工業的な観点からも有利な方法となり得る。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
リン系配位子を有するパラジウム錯体が溶解した溶液としては、前記パラジウム錯体が溶解した有機溶媒溶液であれば特に制限されない。例えばリン系配位子を有するパラジウム錯体を触媒とする有機合成反応を行い、得られた反応生成物と前記パラジウム錯体を含む反応液を用いてもよいし、前記反応液について、例えば抽出処理、濾過処理等の後処理を行った後の反応生成物と前記パラジウム錯体を含む溶液を用いてもよい。また、前記溶液中には、銅塩等の他の金属成分、塩基等の成分が含まれていてもよい。リン系配位子を有するパラジウム錯体を触媒とする有機合成反応も特に制限されず、Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｏｒｇａｎｏｐａｌｌａｄｉｕｍ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｆｏｒ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、Ｐａｌｌａｄｉｕｍ Ｒｅａｇｅｎｔｓ ａｎｄ Ｃａｔａｌｙｓｔｓ−ｉｎｎｏｖａｔｉｏｎｓ ｉｎ ｏｒｇａｎｉｃ ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、第４版実験化学講座第２５巻有機合成ＶＩＩ，ｐ．３９６〜４２７等に記載の公知のパラジウム錯体を用いる有機合成反応が挙げられる。
【０００９】
かかる有機合成反応としては、例えば水添反応、脱水素反応、ハロゲン化アリールの脱ハロゲン化反応、不飽和化合物の不飽和結合の転位反応、重合反応、炭素−炭素結合生成反応、炭素−窒素結合生成反応等が挙げられ、なかでも医薬品、農薬、電子材料等およびこれらの中間体の合成反応として用いられることが多い炭素−炭素結合生成反応や炭素−窒素結合生成反応の場合に、本発明の方法は好適である。炭素−炭素結合生成反応や炭素−窒素結合生成反応としては、例えばハロゲン化アリールとアリールホウ酸とを反応させる鈴木カップリング反応、ハロゲン化アリールとアルキンとを反応させる薗頭カップリング反応、ハロゲン化アリールもしくはハロゲン化ビニルとオレフィンとを反応させるヘック反応、ハロゲン化アリールとアミンとを反応させるブッフバルド反応、ハロゲン化アリールと一酸化炭素とアルコールとを反応させるカルボニル化反応、ハロゲン化アリールとケトンとを反応させるα−アリールケトン合成反応、ハロゲン化アリールと有機亜鉛試薬とのカップリング反応等が挙げられる。
【００１０】
リン系配位子としては、パラジウムに配位可能なリン原子を有する配位子であれば特に制限されず、例えばトリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリ（ｎ−ブチル）ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリ（ｏ−トリル）ホスフィン等の単座ホスフィン系配位子、例えばトリフェニルホスファイト等の単座ホスファイト系配位子、例えばビス（ジフェニルホスフィノ）メタン、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、２，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）ビシクロ［２．２．１］へプト−５−エン、４，５−ビス（ジフェニルホスフィノメチル）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフタレン、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン等の二座ホスフィン系配位子等が挙げられ、単座または二座ホスフィン系配位子が好ましく、単座ホスフィン系配位子がより好ましい。
【００１１】
リン系配位子を有するパラジウム錯体としては、前記溶液中でリン系配位子がパラジウムに配位した錯体であればよく、リン系配位子以外の配位子が配位していてもよい。かかるパラジウム錯体としては、例えばテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｐｄ（ＰＰｈ3）4）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＰｄＣｌ2（ＰＰｈ3）2）、ジクロロビス（トリエチルホスフィン）パラジウム（ＰｄＣｌ2（ＰＥｔ3）2）、ジクロロ［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム・ジクロロメタン錯体（ＰｄＣｌ2（ｄｐｐｆ）・ＣＨ2Ｃｌ2）等の予めリン系配位子がパラジウムに配位した錯体であってもよいし、例えば塩化パラジウム（ＰｄＣｌ2）、臭化パラジウム（ＰｄＢｒ2）、酢酸パラジウム（Ｐｄ（ＯＡｃ）2）、リチウムテトラクロロパラデート（Ｌｉ2ＰｄＣｌ4）、ビス（η3−アリル）パラジウム、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（Ｐｄ2（ｄｂａ）3）、ビス（アセチルアセトナート）パラジウム（Ｐｄ（ａｃａｃ）2）、ジクロロビス（アセトニトリル）パラジウム（（ＣＨ3ＣＮ）2ＰｄＣｌ2）、ジクロロビス（ベンゾニトリル）パラジウム（（ＰｈＣＮ）2ＰｄＣｌ2）等のリン系配位子を有さないパラジウム化合物と前記リン系配位子とを反応系中で接触せしめて形成させたパラジウム錯体等であってもよい。
【００１２】
有機溶媒としては、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、例えば酢酸エチル等のエステル系溶媒、例えばアセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、例えばジクロロメタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒等の単独または混合溶媒が挙げられ、脂肪族炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒およびこれらの混合溶媒が好ましい。脂肪族炭化水素系溶媒と芳香族炭化水素系溶媒の混合溶媒を用いる場合には、脂肪族炭化水素系溶媒を、芳香族炭化水素系溶媒よりも多く使用する方が好ましい。かかる有機溶媒の使用量は特に制限されないが、パラジウム錯体を触媒とする有機合成反応を行って得られる反応生成物を含む溶液の場合には、反応生成物に対して、通常０．５〜１００重量倍、好ましくは２〜５０重量倍、より好ましくは３〜３０重量倍の有機溶媒が用いられる。
【００１３】
前記溶液中のパラジウム量としては、通常１００ｐｐｂ〜１％、好ましくは１００ｐｐｂ〜１０００ｐｐｍである。
【００１４】
層状粘土化合物としては、例えばマグネシウム、アルミニウム、鉄、ケイ素等の酸化物からなる積層構造を有する化合物であればよく、例えばカオリナイト、モンモリロナイト、ハロイサイト等が挙げられ、モンモリロナイトが好ましい。モンモリロナイトとしては、例えば活性白土、酸性白土等が挙げられ、活性白土が好ましい。かかる層状粘土化合物の形状は特に制限されず、例えば粉末状、粒状等が挙げられ、好ましくは粉末状のものが用いられる。かかる層状粘土化合物としては、通常市販されているものが用いられる。
【００１５】
細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトとしては、天然ゼオライトであってもよいし、合成ゼオライトであってもよい。かかるゼオライトとしては、例えばＹ型ゼオライト、リンデＸ、ＡｌＰＯ4−３７、フォージャサイト等のＦＡＵ構造を有するゼオライト、例えばグメリナイト等のＧＭＥ構造を有するゼオライト、例えばリンデＬ等のＬＴＬ構造を有するゼオライト、例えばマザイト、ＺＳＭ−４ゼオライト等のＭＡＺ構造を有するゼオライト、例えばモルデナイト、ゼオロン等のＭＯＲ構造を有するゼオライト、例えばオフレタイト、リンデＴ等のＯＦＦ構造を有するゼオライト等が挙げられ、ＦＡＵ構造を有するゼオライトが好ましい。かかるゼオライトは、市販されているものを用いてもよいし、合成ゼオライトであれば、公知の方法に従い製造したものを用いてもよい。
【００１６】
かかる層状粘土化合物または細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトの使用量としては、特に制限されない。前記溶液中に反応生成物を含む場合の使用量は、反応生成物に対して、通常０．１〜１００重量倍、好ましくは０．５〜３０重量倍である。
【００１７】
層状粘土化合物または細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトで、前記溶液を処理する方法としては、例えば層状粘土化合物または細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトと前記溶液を混合し、所定時間接触させた後、層状粘土化合物または細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトを、例えば濾過、遠心分離等の通常の分離手段により分離する方法、層状粘土化合物または細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトが充填された塔内に、前記溶液を通液する方法等が挙げられる。処理温度は、通常−５０〜２００℃、好ましくは−１０〜１００℃である。濾過により、処理後の層状粘土化合物または細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトを分離する場合、例えばセライト等の濾過助剤を用いてもよい。処理時間は特に制限されないが、通常０．１〜４８時間、好ましくは０．３〜１０時間である。
【００１８】
反応生成物を含む溶液についてかかる処理を行うことにより、反応生成物に対するパラジウム量が１５ｐｐｂ以下である反応生成物含有溶液が得られ、前記溶液を、必要に応じて濃縮処理した後、例えば晶析処理することにより、パラジウム含量がより低減された反応生成物を得ることができる。
【実施例】
【００１９】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、溶液中のパラジウム（以下、Ｐｄと略記する。）量は、採取した試料を濃縮処理した後、湿式加圧酸分解し、蒸発乾固し、次いで王水に溶解させ、ＩＣＰ発光分析（Ｐｄ量が１ｐｐｍ以上の場合）またはＩＣＰ−ＭＳ分析（パラジウム量が１ｐｐｍ未満の場合）し、算出した。また、溶液中の反応生成物の含量は、高速液体クロマトグラフィにより分析し、算出した。
【００２０】
参考例１
１００ｍＬメスフラスコに、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｐｄ（ＰＰｈ3）4）１０８．７ｍｇおよびトリフェニルホスフィン９８．７ｍｇを秤量し、トルエンを加えて、１００ｍＬとした。この溶液１０ｍＬを採取し、トルエン／ヘキサン混合溶液（トルエン／ヘキサン重量比＝１７／８３）を加え、全体重量を１０００ｇとし、Ｐｄ含量１ｐｐｍの溶液を調製した。
【００２１】
実施例１
温度計、冷却管および攪拌装置を備えた四つ口フラスコに、前記参考例１で調製したＰｄ含量１ｐｐｍの溶液５０ｇおよび活性白土（和光純薬製）７．５ｇを加え、内温２０℃で２時間攪拌、保持した。その後、同温度で活性白土を濾別した。濾別した活性白土をトルエン／ヘキサン混合溶液（トルエン／ヘキサン重量比＝１７／８３）７．５ｇで２回洗浄処理し、洗浄液を先に得た濾液と合一した。合一後の溶液を濃縮処理し、濃縮液１０ｇを得た。濃縮液中のＰｄ含量は５ｐｐｂ未満であり、Ｐｄ除去率は９９．９％以上であった。
【００２２】
実施例２〜５
実施例１において、活性白土の使用量および処理温度を下記表１に示した条件とした以外は実施例１と同様に実施した。結果を表１に示した。
【００２３】
【表１】
【００２４】
実施例６
実施例１において、活性白土に代えてＹ型ゼオライト（細孔径０．７４ｎｍ）を用いた以外は実施例１と同様に実施したところ、濃縮液中のＰｄ含量は５ｐｐｂ未満、Ｐｄ除去率は９９．９％以上であった。
【００２５】
比較例１
実施例１において、活性白土に代えてＺＳＭ−５ゼオライト（細孔径０．５ｎｍ）を用いた以外は実施例１と同様に実施したところ、濃縮液中のＰｄ含量は１４０ｐｐｂ、Ｐｄ除去率は９７．２％であった。
【００２６】
比較例２
実施例１において、活性白土に代えてケイソウ土（和光純薬製ハイフロスーパーセル）を用いた以外は実施例１と同様に実施したところ、濃縮液中のＰｄ含量は２３０ｐｐｂ、Ｐｄ除去率は９５．４％であった。
【００２７】
参考例２
温度計および攪拌装置を備えた１Ｌフラスコの内部を窒素置換した後、１，３−ジブロモアダマンタン４３ｇおよび無水臭化アルミニウム１０ｇを仕込み、内温０℃まで冷却した。これに、予め５℃に冷却しておいた１，３−ジブロモベンゼン１９０ｇを仕込み、内温０〜１０℃で７時間攪拌、反応させた。反応中に発生する臭化水素ガスはアルカリ水溶液中に導き、除害しながら反応を行った。反応終了後、４重量％塩酸１３０ｇをゆっくり滴下し、反応液のオレンジ色が消失するまで攪拌を継続した。攪拌を停止し、静置後、分液処理し、得られた有機層を水で３回洗浄処理した。洗浄処理後の有機層にトルエン１９０ｇを加え、昇温し、還流条件下で水を除去した。その後冷却し、析出した結晶を濾取した。濾取した結晶をトルエン、メタノールおよび水で洗浄した後、減圧条件下で乾燥させ、１，３−ビス（３，５−ジブロモフェニル）アダマンタン４４ｇを得た。
【００２８】
温度計、還流冷却管および攪拌装置を備えた５００ｍＬフラスコの内部を窒素置換した後、トルエン２６８ｇ、トリエチルアミン２６ｇ、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＰｄＣｌ2（ＰＰｈ3）2）０．２９ｇ、トリフェニルホスフィン０．５８ｇおよびヨウ化銅（Ｉ）０．２３ｇを仕込んだ。これに、前記１，３−ビス（３，５−ジブロモフェニル）アダマンタン３１ｇを加え、内温８０℃に昇温した。同温度で、トリメチルシリルアセチレン２２ｇを６時間かけて滴下した後、同温度で２時間保持し、薗頭カップリング反応を行った。反応終了後、室温まで冷却し、不溶分を濾別した。濾別した不溶分をトルエン３１ｇで２回洗浄した後、洗浄液を先に得た濾液と合一した。合一後の溶液を４重量％塩酸中に加え、攪拌し、静置後、分液処理した。得られた有機層を水１５５ｇで２回洗浄した後、減圧条件下で濃縮処理し、濃縮液６６ｇを得た。濃縮液中には、薗頭カップリング反応の反応生成物である１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンが５０重量％含まれていた。
【００２９】
得られた濃縮液にヘキサン１６５ｇを加え、１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンの含有量が、１４重量％の溶液を調製した。この溶液に、シリカゲル（関東化学製、球状中性、粒径１００〜２１０μｍ）６２ｇを仕込み、内温２５℃で２時間攪拌保持した後、同じシリカゲル３１ｇをプレコートした濾過器で濾過処理した。濾過器上に濾取されたシリカゲルをトルエン／ヘキサン混合溶液（トルエン／ヘキサン重量比＝１７／８３）３１ｇで２回洗浄し、洗浄液は先に得た濾液と合一し、１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタン含有溶液２５０ｇを得た。該溶液中の１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンの含有量は１０重量％、１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンに対するＰｄ量は２８０ｐｐｂであった。また、該溶液中のトルエン／ヘキサン重量比は１７／７３であった。
【００３０】
実施例７
温度計および攪拌装置を備えたフラスコに、前記参考例２で得られた１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタン含有溶液１００重量部および活性白土（和光純薬製）２８重量部を仕込み、室温で２時間攪拌、保持した。その後、同温度で活性白土を濾別した。濾別した活性白土をヘキサン２８重量部で２回洗浄処理し、洗浄液を先に得た濾液と合一した。合一後の溶液を濃縮処理し、１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンの含量が５０重量％である濃縮液２０重量部を得た。濃縮液中の１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンに対するＰｄ量は１０ｐｐｂ以下であり、Ｐｄ除去率は９８．２％以上であった。また、１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンの回収率は１００％であった。
【００３１】
比較例３
実施例７において、活性白土に代えて活性炭を用いた以外は実施例７と同様に実施したところ、濃縮液中の１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンに対するＰｄ量は２２ｐｐｂであり、Ｐｄ除去率は９２．１％であった。
また、１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンの回収率は７３％であった。
【００３２】
比較例４
実施例７において、活性白土に代えてケイソウ土を用いた以外は実施例７と同様に実施したところ、濃縮液中の１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンに対するＰｄ量は１５４ｐｐｂであり、Ｐｄ除去率は４４．９％であった。また、１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンの回収率は９８％であった。
【００３３】
参考例３
参考例２において、シリカゲル３１ｇをプレコートした濾過器に代えてプレコートしていない濾過器を用いた以外は参考例２と同様に実施して、１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタン含有溶液２６０ｇを得た。該溶液中の１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンの含有量は１２重量％、１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンに対するＰｄ量は２０００ｐｐｂであった。また、該溶液中のトルエン／ヘキサン重量比は１５／７３であった。
【００３４】
実施例８
実施例７において、前記参考例２で得られた１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタン含有溶液に代えて、前記参考例３で得られた１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタン含有溶液を用いた以外は実施例７と同様に実施したところ、濃縮液中の１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンに対するＰｄ量は１０ｐｐｂ以下であり、Ｐｄ除去率は９９．５％以上であった。また、１，３−ビス［３，５−ビス（トリメチルシリルエチニル）フェニル］アダマンタンの回収率は９５％であった。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リン系配位子を有するパラジウム錯体が溶解した溶液を、細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトで処理することを特徴とするパラジウムの除去方法。
【請求項２】
前記溶液が、リン系配位子を有するパラジウム錯体を触媒として用いた有機合成反応の反応生成物がさらに溶解した溶液である請求項１記載のパラジウムの除去方法。
【請求項３】
リン系配位子が、ホスフィン系配位子である請求項１または２記載のパラジウムの除去方法。
【請求項４】
有機合成反応が、炭素−炭素結合生成反応または炭素−窒素結合生成反応である請求項２又は３記載のパラジウムの除去方法。
【請求項５】
細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトがＹ型ゼオライトである請求項１〜４のいずれか記載のパラジウムの除去方法。
【請求項６】
リン系配位子を有するパラジウム錯体を触媒として用いた有機合成反応の反応生成物および前記パラジウム錯体が溶解した溶液を、細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトで処理することを特徴とする反応生成物に対するパラジウム量が１５ｐｐｂ以下である反応生成物含有溶液の製造方法。
【請求項７】
リン系配位子が、ホスフィン系配位子である請求項６記載の反応生成物含有溶液の製造方法。
【請求項８】
有機合成反応が、炭素−炭素結合生成反応または炭素−窒素結合生成反応である請求項６又は７記載の反応生成物含有溶液の製造方法。
【請求項９】
細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトがＹ型ゼオライトである請求項６〜８のいずれか記載の反応生成物含有溶液の製造方法。
【請求項１０】
リン系配位子を有するパラジウム錯体を触媒として用いた有機合成反応の反応生成物および前記パラジウム錯体が溶解した溶液を、細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトで処理してなる反応生成物に対するパラジウム量が１５ｐｐｂ以下である反応生成物含有溶液。
【請求項１１】
リン系配位子が、ホスフィン系配位子である請求項１０記載の反応生成物含有溶液。
【請求項１２】
有機合成反応が、炭素−炭素結合生成反応または炭素−窒素結合生成反応である請求項１０又は１１記載の反応生成物含有溶液。
【請求項１３】
細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトがＹ型ゼオライトである請求項１０〜１２のいずれか記載の反応生成物含有溶液。
【請求項１】
リン系配位子を有するパラジウム錯体が溶解した溶液を、細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトで処理することを特徴とするパラジウムの除去方法。
【請求項２】
前記溶液が、リン系配位子を有するパラジウム錯体を触媒として用いた有機合成反応の反応生成物がさらに溶解した溶液である請求項１記載のパラジウムの除去方法。
【請求項３】
リン系配位子が、ホスフィン系配位子である請求項１または２記載のパラジウムの除去方法。
【請求項４】
有機合成反応が、炭素−炭素結合生成反応または炭素−窒素結合生成反応である請求項２又は３記載のパラジウムの除去方法。
【請求項５】
細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトがＹ型ゼオライトである請求項１〜４のいずれか記載のパラジウムの除去方法。
【請求項６】
リン系配位子を有するパラジウム錯体を触媒として用いた有機合成反応の反応生成物および前記パラジウム錯体が溶解した溶液を、細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトで処理することを特徴とする反応生成物に対するパラジウム量が１５ｐｐｂ以下である反応生成物含有溶液の製造方法。
【請求項７】
リン系配位子が、ホスフィン系配位子である請求項６記載の反応生成物含有溶液の製造方法。
【請求項８】
有機合成反応が、炭素−炭素結合生成反応または炭素−窒素結合生成反応である請求項６又は７記載の反応生成物含有溶液の製造方法。
【請求項９】
細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトがＹ型ゼオライトである請求項６〜８のいずれか記載の反応生成物含有溶液の製造方法。
【請求項１０】
リン系配位子を有するパラジウム錯体を触媒として用いた有機合成反応の反応生成物および前記パラジウム錯体が溶解した溶液を、細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトで処理してなる反応生成物に対するパラジウム量が１５ｐｐｂ以下である反応生成物含有溶液。
【請求項１１】
リン系配位子が、ホスフィン系配位子である請求項１０記載の反応生成物含有溶液。
【請求項１２】
有機合成反応が、炭素−炭素結合生成反応または炭素−窒素結合生成反応である請求項１０又は１１記載の反応生成物含有溶液。
【請求項１３】
細孔径０．６〜２ｎｍのゼオライトがＹ型ゼオライトである請求項１０〜１２のいずれか記載の反応生成物含有溶液。
【公開番号】特開２０１０−５８１１４（Ｐ２０１０−５８１１４Ａ）
【公開日】平成２２年３月１８日（２０１０．３．１８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２４３３５０（Ｐ２００９−２４３３５０）
【出願日】平成２１年１０月２２日（２００９．１０．２２）
【分割の表示】特願２００４−１４２０６６（Ｐ２００４−１４２０６６）の分割
【原出願日】平成１６年５月１２日（２００４．５．１２）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年３月１８日（２０１０．３．１８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１０月２２日（２００９．１０．２２）
【分割の表示】特願２００４−１４２０６６（Ｐ２００４−１４２０６６）の分割
【原出願日】平成１６年５月１２日（２００４．５．１２）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【Ｆターム（参考）】
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