フォトニック粒子を用いて太陽の紫外線照射から物質を光防護する方法、組成物
本発明は、太陽の紫外線照射から物質を光防護する方法であって、１μｍ〜５００μｍの範囲の平均粒径を有するフォトニック粒子の分散物を含み、各粒子が単分散のナノ粒子または空隙の、回折する配列を含み、前記配列の回折スペクトルが２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に一次反射ピークを含む組成物を用いて前記物質を処理することに基づくか、あるいは前記フォトニック粒子の分散物を前記物質に混ぜ込むことに基づく、方法を提供する。特に、本発明は、物質（塗料、インク、皮膜など）、ポリマーから製造される物質、あるいは繊維材料（織物、紙など）、あるいは有機または無機ガラスなどを光防護する方法を提供する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトニック粒子の分散物を用いて種々の物質を光防護する方法、および組成物ならびにヒトの角質物質を処理する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在の光防護組成物は、様々なスクリーニング剤、特に可溶性または不溶性の有機遮蔽剤（ｏｒｇａｎｉｃ ｓｃｒｅｅｎｓ）を組み合わせて用いている。前記遮蔽剤のそれぞれの吸収スペクトルは、紫外線スペクトル全体をカバーするほど十分広いことはめったになく、組み合わせる必要がある。
【０００３】
さらに、多数の可溶性有機遮蔽剤では、組成物に通常含まれる成分との適合性の問題が起こることがある。これは、特に他の有機遮蔽剤との相互作用または活性分子（酸化防止剤またはビタミンなど）との相互作用の結果として起こり、それらの光安定性が、完全に申し分のないものとはならないことがある。多数の特許がこの問題を解決することに関係しており、この問題がなくなっていないことを示している。
【０００４】
化粧品以外の多数の工業分野でも、紫外線遮蔽剤を用いて紫外線照射（特に太陽放射）の影響から様々な物質を光防護している。
【０００５】
このことは、紫外線照射に常時さらされる物体（建築材料、自動車工業に使用される材料、またはプラスチックパッケージ材料など）に施与するための保護皮膜配合物、塗料、またはインクに関して当てはまる。特に、着色剤配合物用の紫外線遮蔽剤の開発が行われており、その遮蔽剤は、透明で、光安定性があり、前記配合物中に含まれる通常の成分と適合性があり、かつ所望の耐光性を色に付与するのに有効である必要がある。
【０００６】
このことは、プラスチック材料の製造に特に使用される貯蔵安定性のあるポリマー組成物に関しても当てはまる。そうした組成物の場合、ポリマーの製造および変形方法に特に適合するようにされた紫外線遮蔽剤の開発が求められており、特に、それらは押出時における高温に耐えることができなければならない。
【０００７】
天然繊維および／または人造繊維および／または合成繊維工業では、特にポリアミド系繊維（ナイロンなど）の製造との関連で、前記繊維の製造方法と適合性のある広域スペクトルの光安定性紫外線遮蔽剤に関して開発が行われており、そのフィルターは、高温に強く、押出し時に紫外線防護性（ＵＶ ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ）をもたせることができるものである。さらに、繊維との親和性、繊維との接着性が良好である（従って特に、頻繁な洗浄に対して良好な抵抗性を示す）紫外線遮蔽剤の開発が行われている。開発が行われている紫外線遮蔽剤は、織物繊維を十分に保護すると共に前記繊維に接する皮膚およびヒトの他の角質物質を十分に保護することも行わなければならない。
【０００８】
無機ガラスまたは有機ガラス工業（特に、眼科学に用いられるガラス）では、広域スペクトルとなるもので（ＵＶＡ領域とＵＶＢ領域で有効）、しかも光安定性があり、透明であって、様々なガラスの処理技法（ガラスマトリックスに定着させるか、または光防護皮膜を例えばポリカーボネートガラスに施与する方法など）と適合性のある紫外線遮蔽剤を開発している。
【０００９】
出願の国際公開第０６／１３６７２４号パンフレットは、格子を形成することができ、かつＵＶＢ、ＵＶＡおよび赤外線における光学的遮蔽特性を有する単分散粒子を用いることが周知であることを示している。その出願では、粒子は皮膚上に構造化されなければならない。
【００１０】
Ｊ．Ｗａｎｇによる公表文献（Ｐｏｌｙｍ Ｉｎｔ ５７：５０９−５１４，２００８）によると、著者らは様々な直径（９５ｎｍ、１１４ｎｍ、１３４ｎｍ、１４２ｎｍおよび１５０ｎｍ）の単分散のＰＭＭＡ球体を製造した。各直径は、粒子が構造化されて格子になった場合の反射最大値（２５０ｎｍ、２８０ｎｍ、３３０ｎｍ、３５０ｎｍ、３８０ｎｍ）に対応する。
【００１１】
出願の国際公開第０８／００７２６７号パンフレットは、メーキャップ用途および紫外線光防護用途における、構造化されてフォトニック結晶になることが可能な中空粒子の使用を記載している。
【００１２】
特許である米国特許第６８９４０８６号明細書は、様々なフォトニック粒子、特に有色のもの、または可視スペクトルの外側の電磁放射線を反射するフォトニック粒子について記載している。
【００１３】
出願である米国特許出願公開第２００３／０１１６０６２号明細書および米国特許出願公開第２００６／０００２８７５号明細書は、フォトニック粒子を記載しているが、太陽の紫外線放射に対する光防護方法にそれらを使用してはいない。
【００１４】
Ａ．Ｓｔｅｉｎによる公表文献（Ｃｈｅｍ Ｍａｔｅｒ ２００２，１４，３３０５−３３１５）は、長波長のＵＶＡスペクトル（３７４ｎｍ）に反射バンドのあるフォトニック粒子を開示している。
【００１５】
Ｅ．Ｔｈｏｍａｓによる公表文献（Ｎａｔ Ｍａｔ Ｖｏｌ ６，９５７−９６０，２００８）は、明確な順序のある複数の反射ピークを含む反射スペクトルを有するゲルを開示している。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
ＵＶＡおよび／またはＵＶＢスペクトルをカバーするのに使用でき、まったく無害であり、環境に対して不活性で、光安定性があり、かつ光反応性がない不溶性遮蔽物質であって、それらを含む組成物の他の成分との適合性の問題がなく、パッケージ材料の機械的性質を低下させるようなことはなく、またナノ粒子を放出することもなく、さらに可視光線を透過させるような、不溶性遮蔽物質を役立てることが求められている。
【００１７】
紫外線照射を遮蔽し、かつ工業材料（上述したものなど）を光防護するようにした新規の物質を開発することも求められている。
【００１８】
本発明は、こうした目的のすべてまたは一部を達成することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
第１の例示的実施態様では、本発明は、太陽の紫外線照射から物質を光防護する方法であって、１μｍ［マイクロメートル］〜５００μｍの範囲の平均粒径を有するフォトニック粒子の分散物を含んでいて、各粒子が単分散のナノ粒子または空隙の、回折する配列を含んでおり、前記配列の回折スペクトルが２５０ｎｍ［ナノメートル］〜４００ｎｍの波長範囲に一次反射ピークを含んでいる組成物によって前記物質を処理することを含むか、あるいは前記フォトニック粒子の分散物を前記物質に混ぜ込むことを含む、方法を提供する。
【００２０】
第２の例示的実施態様では、本発明は、１μｍ〜５００μｍの範囲の平均粒径を有するフォトニック粒子の分散物を含んでいて、各粒子が単分散のナノ粒子または空隙の、回折する配列を含んでおり、前記配列の回折スペクトルが２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に一次反射ピークを含んでいる化粧料組成物を施与することを含む、太陽の紫外線照射からヒトの角質物質を光防護する、非治療的な、特に化粧的な方法を提供する。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】マトリックスなしで凝集しているナノ粒子１０を含むフォトニック粒子１を示す。
【図２】マトリックス２０中に凝集しているナノ粒子（互いに接触している）を含む「直接オパール」型のフォトニック粒子を示す。
【図３】マトリックス２０中に分散しているナノ粒子を含む「直接オパール」型のフォトニック粒子を示す。
【図４】本発明のフォトニック粒子を含んでいる様々な組成物の吸収スペクトルを示す。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
本発明との関連では、「回折する配列」という用語は、用途に応じて、紫外線を遮蔽し、かつ／または色を生み出し、かつ／またはスペクトル反射を変えるような仕方で、入射光を回折させる粒子または空隙の集まりを意味する。
【００２３】
２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に一次反射ピークが存在することは、配列が、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲の少なくとも１つの波長の光を１に等しい干渉次数で回折させ、それによって少なくとも部分的にそれを反射することを意味する。
【００２４】
紫外線のそのような一次反射ピークは、続く順位の反射ピークがより短い波長側に位置し、したがって可視領域の外側にあることを示唆している。このため配列は無色になり、無色の組成物の製造が容易になる。このことは遮光剤用途の場合に好ましい。
【００２５】
例を挙げれば、本発明による光防護方法に使用する組成物は、ＳＰＦ指標が少なくとも１０、好ましくは１５、より好ましくは少なくとも３０、４５または６０である。ＳＰＦ指標（サンスクリーンプロテクションファクター（Ｓｕｎｓｃｒｅｅｎ Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ Ｆａｃｔｏｒ））は、論文「Ａ ｎｅｗ ｓｕｂｓｔｒａｔｅ ｔｏ ｍｅａｓｕｒｅ ｓｕｎｓｃｒｅｅｎ ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ ｆａｃｔｏｒｓ ｔｈｒｏｕｇｈｏｕｔ ｔｈｅ ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ ｓｐｅｃｔｒｕｍ」（Ｊ．Ｓｏｃ．Ｃｏｓｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．，４０，１２７−１３３（Ｍａｙ／Ｊｕｎｅ １９８９））で定義されている。
【００２６】
組成物の配合は、例えば、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲の少なくとも１つの波長で、好ましくは前記範囲の全体にわたって、組成物の透過率が７０％、６０％、５０％、４０％、３０％、２０％、１０％、５％以下、または好ましくは１％以下となるように選択する。遮蔽は、透過率が２５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲で低い場合にはいっそうよい。
【００２７】
他の例示的実施態様によれば、本発明は、本発明の光防護方法を実施するための光防護組成物を提供する。そのような組成物は、上記の特性のいずれかを有している。
【００２８】
他の例示的実施態様によれば、本発明は、本発明のフォトニック粒子を化粧的に許容される媒体中に分散させることを含む、化粧料組成物の製造方法を提供する。
【００２９】
本発明の他の例示的実施態様は、太陽の紫外線照射からヒトの角質物質を光防護する方法、特に皮膚癌の出現の危険性を減らす方法に用いる組成物であって、
前記組成物が１μｍ〜５００μｍの範囲の平均粒径を有するフォトニック粒子の分散物を含み、各粒子が単分散のナノ粒子または空隙の、回折する配列を含み、前記配列の回折スペクトルが２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に一次反射ピーク含んでいる、組成物を提供する。
【００３０】
この組成物は、逆のことを特に明記していない限り、以下に記載する本発明の化粧料組成物のあらゆる特性を示しうる。
【００３１】
他の例示的実施態様によれば、本発明は、１μｍ［マイクロメートル］〜５００μｍの範囲、特に１μｍ〜３００μｍの範囲の平均粒径を有していて、中空ナノ粒子の、回折する配列を含んでいるフォトニック粒子を提供する。
【００３２】
他の例示的実施態様では、本発明は、
・太陽の紫外線照射からヒトの角質物質を光防護する、非治療的な、特に化粧的な方法；
・ヒトの角質物質を着色し、かつ／または明るくする方法；
・ヒトの角質物質のスペクトル反射を変える方法であって、
前記方法のそれぞれが、１μｍ〜５００μｍの範囲（特に１μｍ〜３００μｍの範囲）の平均粒径を有するフォトニック粒子の分散物を含んでいて、前記フォトニック粒子のそれぞれが中空ナノ粒子の、回折する配列を含んでいるような化粧料組成物を施与することを含む方法を提供する。
【００３３】
本発明の他の例示的実施態様はまた、太陽の紫外線照射からヒトの角質物質を光防護する方法、特に皮膚癌の出現の危険性を減らす方法に用いるフォトニック粒子であって、フォトニック粒子が１μｍ〜５００μｍの範囲、特に１μｍ〜３００μｍの範囲の平均粒径を有しかつ中空ナノ粒子の、回折する配列を含む、フォトニック粒子を提供する。
【００３４】
本発明の他の例示的実施態様は、ヒトの角質物質を太陽の紫外線照射から光防護する方法、特に皮膚癌の出現の危険性を減らす方法に用いる組成物であって、組成物が、１μｍ〜５００μｍの範囲（特に１μｍ〜３００μｍの範囲）の平均粒径を有するフォトニック粒子の分散物を含み、かつ中空ナノ粒子の、回折する配列を含む、組成物を提供する。本発明の他の例示的実施態様は、各粒子が２未満の形状係数を有するフォトニック粒子の分散物を含み、前記粒子が、熱架橋性、電子架橋性（ｅｌｅｃｔｒｏｃｒｏｓｓｌｉｎｋａｂｌｅ）または光架橋性のマトリックス中に空隙または単分散ナノ粒子の、回折する配列を含む、組成物（特に化粧料組成物）を提供する。
【００３５】
更なる例示的実施態様によれば、本発明は、
・太陽の紫外線照射からヒトの角質物質を光防護する、非治療的な、特に化粧的な方法；
・ヒトの角質物質を着色し、かつ／または明るくする方法；
・ヒトの角質物質のスペクトル反射を変える方法であって、
前記方法のそれぞれが、前記角質物質に、各粒子が２未満の形状係数を有するフォトニック粒子の分散物を含んでいる化粧料組成物を施与することを含み、前記粒子が、熱架橋性、電子架橋性または光架橋性のマトリックス中に空隙または単分散ナノ粒子を含んでいる回折する配列を含む方法を提供する。
【００３６】
本発明の他の例示的実施態様は、太陽の紫外線照射からヒトの角質物質を光防護する方法、特に皮膚癌の出現の危険性を減らす方法に用いる組成物であって、
前記組成物が、各粒子が２未満の形状係数を有するフォトニック粒子の分散物を含み、前記粒子が熱架橋性、電子架橋性または光架橋性のマトリックス中に空隙または単分散ナノ粒子の回折する配列を含んでいる、組成物を提供する。
【００３７】
他の例示的実施態様では、本発明は、
・上で規定するフォトニック粒子の分散物を含む少なくとも１種の組成物を前記インクまたは塗料あるいは前記皮膜に含有させることを含む、インク、塗料、または皮膜を光防護する方法；
・少なくとも１種の合成または天然ポリマーから製造された物質を光防護する方法であって、上で規定するフォトニック粒子の分散物を含んでいる組成物で前記ポリマーを処理することを含むか、または少なくとも前記組成物を前記物質に混ぜ込むことを含む、方法；
・有機または無機ガラスを光防護する方法であって、上で規定するフォトニック粒子の分散物を含んでいる少なくとも１種の組成物で前記ガラスを処理することを含むか、または少なくとも前記組成物を前記ガラスに混ぜ込むことを含む、方法；
・少なくとも天然繊維および／または人造繊維および／または合成繊維（織物または紙など）を含む物質を光防護する方法であって、上で規定するフォトニック粒子の分散物を含んでいる少なくとも１種の組成物で前記物質を処理することを含むか、または少なくとも前記組成物を前記物質に混ぜ込むことを含む、方法
を提供する。
【００３８】
本発明のポリマー材料は、特に、半製品または物品にするために一般に高温下および圧力下で成形可能または加工可能なプラスチック材料である。
【００３９】
前記物質に用いられるポリマーは、好ましくは次の３つの主なカテゴリーから選択される：
（ｉ）熱可塑性プラスチック。例えば、
・アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン（ＡＢＳ）コポリマー；
・酢酸セルロース（ＣＡ）ポリマー；
・発泡ポリスチレン（ＥＰＳ）；
・ポリスチレン（ＰＳ）；
・ポリアミド（ＰＡ）；
・ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）；
・ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）；
・ポリカーボネート（ＰＣ）；
・ポリエチレン（ＰＥ）；
・ポリプロピレン（ＰＰ）；
・ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）；
・ポリホルムアルデヒド（ＰＯＭ）；
・ポリ酢酸ビニル（ＰＶＡＣ）；
・ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）；
・スチレン−アクリロニトリル（ＳＡＮ）コポリマーなど；
（ｉｉ）熱硬化性プラスチック。例えば、
・ポリエポキシド（ＥＰ）；
・メラミン−ホルムアルデヒド（ＭＦ）コポリマー；
・フェノール−ホルムアルデヒド（ＰＦ）コポリマー；
・硬化ポリウレタン（ＰＵＲ）；
・尿素−ホルムアルデヒド（ＵＦ）コポリマー；
・不飽和ポリエステル
など。
（ｉｉｉ）テクニカルプラスチック（ｔｅｃｈｎｉｃａｌ ｐｌａｓｔｉｃｓ）。例えば、
・ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）
など。
【００４０】
挙げることのできる天然繊維の例は、例えば、次のとおりである。
・植物繊維（綿、アマの種子、大麻、ジュート、わら、またはラテックスなど）、
・動物繊維（羊毛、絹、モヘヤ、アンゴラ、カシミヤまたはアルパカなど）。
【００４１】
人造繊維は一般に、天然物質（ラニタール用のミルクカゼイン、またはビスコース用の様々な植物（マツ樹皮、タケ、ダイズ、カバノキ）のセルロースなど）を化学処理する（溶解し、その後に析出させる）ことによって得る。こうした化学処理は、紡糸可能な（ダイの小さな孔を通過できる）製品を製造することを意図している。ダイの出口において、得られたフィラメントは、蚕糸のように一緒にして連続フィラメントにするか、または羊毛のように切断して不連続繊維にする。
【００４２】
挙げることのできる人造繊維の例は、例えば、
・酢酸セルロース；
・三酢酸セルロース；および
・ビスコース
である。
【００４３】
紡織繊維の具体例は以下のものである。
・ポリ乳酸；
・アクリル繊維；
・アラミド；
・エラステイン（ｅｌａｓｔｈａｎｅ）（Ｌｙｃｒａ（登録商標））；
・クロロ繊維（ｃｈｌｏｒｏｆｉｂｅｒ）；
・モダクリリック；
・ポリアミド；
・ポリベンゾイミダゾール；
・ポリエステル；
・ポリエチレン；
・ポリフェノール；および
・ポリ尿素／ポリウレタン。
【００４４】
挙げることのできる本発明に用いるのに適したガラスの例は、ケイ酸塩系の従来の無機ガラス、光学用のガラス、眼科学用のガラス、特に有機ガラス（ポリカーボネート、例えばビスフェノールＡポリカーボネートまたはアリルポリカーボネート、自動車工業に使用されるもの（フロントガラス）など）などである。
【００４５】
フォトニック粒子
本発明との関連では、オパールとしても知られている。
【００４６】
フォトニック粒子は、形状係数が２未満、特に１．７５未満であってもよい。粒子が長円形である場合、形状係数は、その最大縦断寸法（ｌａｒｇｅｓｔ ｌｏｎｇｉｔｕｄｉｎａｌ ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ）と最大横断寸法との比率を表す。フォトニック粒子は球形であってもよく、その場合の形状係数は１である。
【００４７】
形状係数が２未満である場合、重なりうる平たい粒子と比べて、表面被覆率の点で有利でありうる。
【００４８】
フォトニック粒子の平均粒径は、１μｍ〜５００μｍの範囲、例えば１μｍ〜３００μｍの範囲であってもよい。「平均粒径」という用語は、集団の半分における統計的粒度（ｓｔａｔｉｓｔｉｃａｌ ｇｒａｉｎ−ｓｉｚｅ ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ）（Ｄ（０．５）と称される）を表す。
【００４９】
本発明のフォトニック粒子は、マトリックスなしで凝集しているか、または任意のタイプのマトリックス中に分散している（例えば、熱架橋性、電子架橋性または光架橋性のマトリックス中に分散している）、中実または中空ナノ粒子を含みうる。
【００５０】
フォトニック粒子の重量含有率は、施与する前に、組成物の全重量を基準にして０．１％〜２０％の範囲、好ましくは１％〜１０％の範囲であってもよい。
【００５１】
本発明のフォトニック粒子は、種々の実施形態にしたがって、以下に記載するように、直接オパール（ｄｉｒｅｃｔ ｏｐａｌ）、逆オパールまたは擬似逆オパール（ｐｓｅｕｄｏ ｉｎｖｅｒｓｅ ｏｐａｌ）に分類されうる。
【００５２】
フォトニック粒子は無色であってもよい。
【００５３】
フォトニック粒子は、中実であっても中空であってもよい。
【００５４】
直接オパール
「直接オパール」型のフォトニック粒子では、中実の（任意選択で複合の）ナノ粒子の配列が用いられる。
【００５５】
フォトニック粒子は、マトリックスなしで凝集しているナノ粒子を含んでいてもよい。マトリックスなしで凝集しているナノ粒子１０を含むそのようなフォトニック粒子１を図１に示す。
【００５６】
そのような粒子を製造する第１の方法は、Ｓ−Ｈ Ｋｉｍ ｅｔ ａｌによる公表文献ＪＡＣＳ，２００６，１２８，１０８９７−１０９０４に記載されているように、油中水型エマルジョン（水性相が単分散ナノ粒子を含む）を得るステップと、その後のフォトニック粒子を得るステップ（得られたエマルジョンにマイクロ波を照射するステップを含む）を含みうる。
【００５７】
Ｓ−Ｍ Ｙａｎｇによる公表文献Ｌａｎｇｍｕｉｒ ２００５，２１，１０４１６−１０４２１に記載されているように、第２の製造ステップは、エレクトロスプレーのもとでＳｉＯ２またはポリスチレンナノ粒子を凝集させるステップを含みうる。
【００５８】
「直接オパール」型のフォトニック粒子は、Ｌｉ ｅｔ ａｌによる公表文献「Ｏｒｄｅｒｅｄ ｍａｃｒｏｐｏｒｏｕｓ ｔｉｔａｎｉａ ｐｈｏｔｏｎｉｃ ｂａｌｌｓ ｂｙ ｍｉｃｒｏｍｅｔｅｒ−ｓｃａｌｅ ｓｐｈｅｒｉｃａｌ ａｓｓｅｍｂｌｙ ｔｅｍｐｌａｔｉｎｇ」（Ｊ．Ｍａｔｅｒ．Ｃｈｅｍ．，２００５，１５，２５５１−２５５６）に記載されているような方法などでも得ることができる。
【００５９】
「直接オパール」型のフォトニック粒子は、図２に示すようにマトリックス２０中に凝集しているナノ粒子（互いに接触している）を含むこともでき、あるいは図３に示すようにマトリックス２０中に分散しているナノ粒子を含むこともできる。
【００６０】
上述のものに加えて幾つかの方法、特にＨｏｎｅｙｗｅｌｌの出願である米国特許出願公開第２００３／０１４８０８８号明細書に記載されている、ケイ素マトリックス中にＳｉＯ２粒子を凝集させる方法が、前記フォトニック粒子の製造に好適でありうる。
【００６１】
Ｄ．Ｐｉｎｅによる公表文献Ｌａｎｇｍｕｉｒ ２００５，２１，６６６９−６６７４に記載されているように、第２の方法は、ＰＭＭＡナノ粒子のエマルジョンから凝集させるステップを含んでもよい。
【００６２】
「直接オパール」型のフォトニック粒子は、光架橋性、電子架橋性または熱架橋性のマトリックス中に分散しているナノ粒子を含むことができる。
【００６３】
光架橋性、電子架橋性または熱架橋性（特に光架橋性または熱架橋性）の有機マトリックスを使用するのが有利なのは、フォトニック粒子の光学的性質を変えるために、マトリックス中に含まれるナノ粒子間の距離を調節できるからである。この距離は、光架橋、電子架橋または熱架橋の前、特に光架橋または熱架橋の前の、有機マトリックス中に分散しているナノ粒子の重量分率に依存しうる。前記重量分率は、熱架橋、電子架橋または光架橋の前におけるナノ粒子の重量とマトリックスの重量との比率に等しい。
【００６４】
本発明の好ましい実施態様では、ナノ粒子のこの分率は、１％〜９０重量％の範囲、好ましくは５％〜６０重量％の範囲である。
【００６５】
この型のフォトニック粒子は、幾つかの乳化方法で得ることができ、例えば、Ｓ−Ｈ Ｋｉｍ ｅｔ ａｌによる公表文献Ａｄｖ Ｍａｔｅｒ ２００８，９９９９，１−７に記載されている方法であって、ＵＶのもとで光重合できる光架橋性ＥＴＰＴＡ（エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリラート）樹脂中に分散しているシリカ粒子を使用する方法、あるいはＬｉ ｅｔ ａｌによる「Ｏｒｄｅｒｅｄ ｍａｃｒｏｐｏｒｏｕｓ ｔｉｔａｎｉａ ｐｈｏｔｏｎｉｃ ｂａｌｌｓ ｂｙ ｍｉｃｒｏｍｅｔｅｒ−ｓｃａｌｅ ｓｐｈｅｒｉｃａｌ ａｓｓｅｍｂｌｙ ｔｅｍｐｌａｔｉｎｇ」（Ｊ．Ｍａｔｅｒ．Ｃｈｅｍ．，２００５，１５，２５５１−２５５６）に記載されている方法で得ることができる。
【００６６】
実施態様によっては、フォトニック粒子は、ケイ素マトリックス中で凝集しているポリスチレン（ＰＳ）のナノ粒子を含む。
【００６７】
実施態様によっては、フォトニック粒子は、熱架橋性、電子架橋性または光架橋性のシリコーン樹脂中に分散しているポリスチレン（ＰＳ）のナノ粒子を含む。
【００６８】
逆オパール
「逆オパール」型のフォトニック粒子は、ナノ粒子の代わりに孔を含む。
【００６９】
これらは、例えば、か焼または酸加水分解（例えば、５％フッ化水素酸を使用）してナノ粒子を破壊した後（それにより、ナノ粒子の全部または一部の代わりに空間が残される）の直接オパールから得ることができる。破壊ステップにより、場合によっては、マトリックス中のナノ粒子の特徴である粒径が最高５０％まで減少することがありうる。
【００７０】
か焼（５００℃または１０００℃）は、有機ナノ粒子と無機マトリックスとをベースにしている直接オパールに対して実施してもよい。
【００７１】
酸加水分解（例えば、フッ化水素酸溶液を使用）は、無機ナノ粒子と有機マトリックスとをベースにしているオパールに対して実施してもよい。
【００７２】
逆オパールでは、ナノ粒子の占有体積とマトリックス（有機マトリックス、または無機マトリックス前駆体）の占有体積との比率が、９９／１〜８０／２０の範囲で変わりうるが、それにより、逆オパールの表面多孔性が変わるという影響がある。そのような変化は、Ｄ．Ｐｉｎｅによる公表文献Ｆ．Ｌａｎｇｅ，Ｌａｎｇｍｕｉｒ ２００５，２１，６６６９−６６７４で示されている。
【００７３】
逆オパールは、マトリックス中に凝集または分散しているナノ粒子を含む直接オパールに関して説明した方法を用い、その後、例えばか焼または酸加水分解でナノ粒子を破壊するステップを実施して製造することができる。これは、例えば、以下の公表文献に記載されているようにして行いうる。
・Ａ．Ｓｔｅｉｎ：Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．２００２，１４，３３０５−３３１５。この文献では、オパールは、ＺｒＯ物品の場合は酢酸ジルコニウムマトリックス中の単分散粒子から、ＴｉＯ２オパールの場合はＴｉプロポキシドから、あるいはシリカオパールの場合はテトラメトキシシラン（ＴＭＯＳ）から製造される。か焼の後、ＰＳ粒子は空隙に変わる。次いで、最終物質を粉砕してオパール粉末を製造する。
・Ｄ．Ｐｉｎｅ，Ｆ．Ｆ．Ｌａｎｇｅ：Ｌａｎｇｍｕｉｒ，Ｖｏｌ ２１，１５，２００５，６６６９−６６７４（乳化し、その後でＰＭＭＡ粒子のか焼ステップを行う方法を用いた、球形のオパールの製造について記載）。オパールの多孔率は、ＴｉアルコキシドとＰＭＭＡ粒子の量との比率で制御される。
・Ｆ．Ｆ．Ｌａｎｇｅ，Ｃｏｌｌｏｉｄ Ｐｏｌｙｍ Ｓｃｉ（２００３）２８２，７−１３（Ｔｉブトキシドの存在下でＰＭＭＡの粒子を乳化させ、次いでＰＭＭＡ粒子をか焼することを記載）。
【００７４】
もともと逆オパールは、更なる処理を施さなくても、多孔性物質であり、オパールの孔を満たすことができる媒体に応じて変化する光学的性質を有するものである。
【００７５】
どんな媒体中でも光学的性質が保たれるようにするために、逆オパール構造を有するフォトニック粒子は、粒子が浸漬される媒体から守られるように被覆し密封することができる。
【００７６】
前記被覆は、例えば、ポリマーまたはワックスを用いて実施してもよい。
【００７７】
幾つかの方法が可能である。
・噴霧乾燥：原理は、フォトニック粒子を被覆する物質を、蒸発点（ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ ｐｏｉｎｔ）が１００℃以下である揮発性溶剤（エタノール、アセトン、イソプロパノール、水など、またはそれらの混合物）中に溶かすかまたは分散させる（ラテックスの場合）というものである。その集合体を、溶剤または混合物が蒸発できる温度まで加熱したチャンバー内に噴霧すると、物質が付着して粒子が被覆される。それらは、そこからの回収のために周囲温度で容器内の空気流によって運ばれる。挙げることのできる例は、公表文献の「Ｅｆｆｅｃｔｓ ｏｆ ｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ ｃｏｎｄｉｔｉｏｎｓ ｏｎ ｔｈｅ ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃｓ ｏｆ ｅｔａｍｉｄａｚｏｌｅ ｓｐｒａｙ ｄｒｉｅｄ ｍｉｃｒｏｓｐｈｅｒｅｓ」（Ｗａｎｇ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｍｉｃｒｏｅｎｃａｐｓｕｌａｔｉｏｎ，２００２，ｖｏｌ．１９，Ｎｏ ４，４９５−５１０）である。
・空気流動床：空気流動床法（ｆｌｕｉｄｉｚｅｄ ａｉｒ ｂｅｄ）は、顆粒の乾燥および製造に頻用される方法である。穏やかな空気流を反応器の下部から導入する。懸濁液を噴霧器で製造チャンバー内に噴霧すると、懸濁液中の粒子が大きくなって、下部に落下する。そうすると、粒子を空気流で持ち上げることはできない。
【００７８】
限定されるわけではないが、粒子の被覆用物質は以下から選択できる。
・融点が４５℃より高いワックスおよび油脂（ｆａｔｓ）で、特にカルナウバろう、蜜ろう、ステアリン酸ステアリル、ポリエチレンワックス、ＤＩ １８／２２アジペート、テトラステアリン酸ペンタエリトリチル、テトラコンタニルステアレート（ｔｅｔｒａｃｏｎｔａｎｙｌ ｓｔｅａｒａｔｅ）、またはジオクタデシルカーボネート；
・セルロースおよびセルロース誘導体で、特にエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシブチルセルロース、またはＥｔｈｏｃｅｌ（登録商標）という商標で販売されているポリマー；
・分子量が１００００ｇ／ｍｏｌ［グラム／モル］〜８００００ｇ／ｍｏｌの範囲であるポリカプロラクトン；
・ポリ乳酸（ＰＬＡ）および比率が９０／１０〜５０／５０の範囲にあるポリ乳酸−グリコール酸（ＰＬＡＧＡ）；
・ポリビニルアルコール；
・ポリビニルピロリドンと酢酸ビニルとのコポリマー；およびＥｕｄｒａｇｉｔ（登録商標）Ｌ１００という商標で販売されているアクリル酸とメタクリル酸メチルとのコポリマー。
【００７９】
フォトニック粒子のコアとそれと共に製造されるシェルとの重量比は、９９．９／０．１〜８０／２０の範囲、好ましくは９９／１〜９０／１０の範囲であってもよい。
【００８０】
例示的実施態様では、マトリックスなしで凝集しているナノ粒子を含むフォトニック粒子は、任意選択により、皮膜で（例えば、上述のようにして）被覆することができる。
【００８１】
擬似逆オパール
「擬似逆」型のフォトニック粒子は、マトリックスなしで凝集している中空ナノ粒子または任意のタイプのマトリックス中に分散している（例えば、熱架橋性、電子架橋性または光架橋性のマトリックス中に分散している）中空ナノ粒子を含む。
【００８２】
中空ナノ粒子の直接オパール（「擬似逆オパール」とも称される）を製造することには、中空ナノ粒子を使用しない直接オパールと比べて指標の差が大きくなるため光学効果が増大するという利点、被覆されていない逆オパールと比べて多孔率がゼロであるという利点、また粒子が分散している媒体に光学的性質が依存するという利点がある。
【００８３】
中空ナノ粒子は、以下に記載するようなものであってもよい。
【００８４】
ヤヌス（Ｊａｎｕｓ）型フォトニック粒子
フォトニック粒子は、ヤヌス型のものであってもよい。すなわち、少なくとも１種の他のナノ粒子の回折する配列、さらには少なくとも２種類の他の回折する配列を含み、配列がそれぞれ独自の光学的性質（特に、異なる回折スペクトル）を有するものであってもよい。
【００８５】
第１の例示的実施態様では、ある配列は中実ナノ粒子を含むことができ、別の配列は中実または中空ナノ粒子を含むことができる。
【００８６】
変形形態では、ある配列は中空ナノ粒子を含むことができ、別の配列も中空ナノ粒子を含むことができる。
【００８７】
粒子が複数の配列を含む場合、光防護の範囲を広くするために、それぞれの配列が、例えば、紫外線スペクトルの別の部分をカバーすることができる。
【００８８】
複数の、回折する配列を含むフォトニック粒子は、Ｓ−Ｈ Ｋｉｍ ｅｔ ａｌによる公表文献Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．２００８，９９９９，１−７またはＫｉｍ ｅｔ ａｌによる公表文献「Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ ｃｏｌｌｏｉｄａｌ ｐｈｏｔｏｎｉｃ ｄｏｍｅｓ ａｎｄ ｂａｌｌｓ ｄｅｒｉｖｅｄ ｆｒｏｍ ｖｉｓｃｏｕｓ ｐｈｏｔｏｃｕｒａｂｌｅ ｓｕｓｐｅｎｓｉｏｎｓ」（Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．２００８，２０，３２１１−３２１７）に教示されているようにして得ることができる。
【００８９】
フォトニック粒子をその着色特性ゆえに（特に、顔色を均一にするために）少なくとも一部使用する場合、ナノ粒子の配列は、白色光で照らすと、それぞれ異なる色を生じうる。配列は、特に赤色、緑色および／または青色を生じうるので、それにより多数の色合い（特に、反射光の加算合成により白色）を得ることができる。
【００９０】
例えば、観測角度が３０°〜１５０°の範囲である場合に、可視スペクトルの反射率が６２０ｎｍ〜７００ｎｍの波長範囲で少なくとも５０％であるときには、配列により赤色が反射される。緑色の場合、想定される波長範囲は４９０ｎｍ〜５５０ｎｍであり、青色の場合は４１０ｎｍ〜４９０ｎｍである。配列は、フォトニック粒子のそれぞれの様々なゾーン（例えば、向かい合った２つのゾーン、例えば球形であるフォトニック粒子における全く反対側の２つの半球体ゾーン）によって光を回折させうる。
【００９１】
配列の１つは、少なくとも１つの一次反射ピークが２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲にある回折スペクトルを有していてもよく、別の配列は少なくとも１つの一次反射ピークが２５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲または４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲にある回折スペクトルを有していてもよい。
【００９２】
フォトニック粒子の混合物
本発明の組成物は、単一型のフォトニック粒子、または少なくとも２種類の異なる型のフォトニック粒子（例えば、反射ピーク、特に一次ピークが、可視領域または紫外線領域内の異なる波長を中心にしているもの）の混合物を含みうる。
【００９３】
組成物は、例えば、中実ナノ粒子を含むある型のフォトニック粒子と、中実であっても中空であってもよいナノ粒子を含む別の型のフォトニック粒子との混合物を含んでもよい。
【００９４】
組成物は、例えば、中空ナノ粒子を含むある型のフォトニック粒子と、中空であってもよいナノ粒子を含む別の型のフォトニック粒子との混合物を含んでもよい。
【００９５】
組成物は、例えば、熱架橋性、電子架橋性または光架橋性のマトリックスを含むある型のフォトニック粒子と、熱架橋性、電子架橋性または光架橋性のマトリックスを含まない別の型のフォトニック粒子との混合物を含んでもよい。
【００９６】
ナノ粒子
フォトニック粒子のナノ粒子は、平均粒径が１００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲、好ましくは１００ｎｍ〜３００ｎｍの範囲であってもよい。「平均粒径」という用語は、集団の半分における統計的粒度分析粒度（ｓｔａｔｉｓｔｉｃａｌ ｇｒａｎｕｌｏｍｅｔｒｉｃ ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ）（Ｄ（０．５）と称される）を表す。
【００９７】
ナノ粒子は形状が球形であってもよい。
【００９８】
ナノ粒子は、１５％単分散であるか、またはもっとよくてもよい。本発明で使用する「ｘ％単分散」という用語は、変動係数（ＣＶ）がｘ％以下である平均粒径を有する粒子を意味する。変動係数（ＣＶ）は、
【数１】
という関係式で定義される。ｓは、粒径分布の標準偏差であり、Ｄはその平均粒径である。平均粒径Ｄおよび標準偏差ｓは、２５０個の粒子に関して、供給業者であるＨＩＴＡＣＨＩの走査型電子顕微鏡（例えば、Ｓ−４５００という参照記号のもの）を使用して得られた画像を分析することで、測定できる。画像解析ソフトウェアは、この測定を簡単にするために使用でき、例えば供給業者であるＭｉｔａｎｉ ＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎのＷｉｎｒｏｏｆ（登録商標）ソフトウェアを使用できる。好ましくは、単分散ナノ粒子の変動係数は、１０％以下、より好ましくは７％以下、さらにより好ましくは５％以下、例えば、実質的に３．５％以下程度である。
【００９９】
ナノ粒子は、中実であっても中空であってもよく、有機であっても無機であってもよい。
【０１００】
ナノ粒子は、一体構造であっても、複合体であってもよい。
【０１０１】
単分散ナノ粒子が複合体である場合、それらは、例えば、異なる物質（例えば、有機物質および／または無機物質）から作られたコアおよびシェルを含んでもよい。
【０１０２】
無機ナノ粒子
ナノ粒子は、無機化合物を含んでもよく、さらには全体が鉱物質であってもよい。
【０１０３】
ナノ粒子が無機である場合、それらは、例えば、少なくとも１種の酸化物、特に金属酸化物を含んでもよく、例えば、シリカ、シリカ、鉄、チタン、アルミニウム、クロム、亜鉛、銅、ジルコニウムおよびセリウムといったものの酸化物、シリカ、およびそれらの混合物から選択される金属酸化物を含んでもよい。ナノ粒子は、金属、特にチタン、銀、金、アルミニウム、亜鉛、鉄、銅ならびにそれらの混合物および合金を含んでもよい。
【０１０４】
有機ナノ粒子
ナノ粒子は、有機化合物を含んでもよく、さらには全体が有機であってもよい。
【０１０５】
挙げることのできる、有機ナノ粒子を製造するのに好適でありうる物質は、ポリマー（特に炭素鎖またはシリコーン鎖を有するもの）で、例えば、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、ポリアクリルアミド（ＰＡＭ）、シリコーンポリマー、ＮＡＤ（「非水性分散物」）（硬質ＮＡＤ（例えば、９６．７％のメタクリル酸メチルと３．３％のエチレングリコールジメタクリレートとから構成され、イソドデカン中で２０％硬化されたもの（粒径：１４１ｎｍ）（多分散度Ｑ＝０．１４）；または９０％のメタクリル酸メチルと１０％のメタクリル酸アリルとから構成されたもの（粒径：１７０ｎｍ）；またはメチルジメタクリレート１００％のもの（粒径：１３８ｎｍ）（多分散度Ｑ＝０．１５）など）；あるいはポリ（メタクリル酸メチル／メタクリル酸アリル）、ポリ乳酸（ＰＬＡ）、ポリ乳酸−グリコール酸（ＰＬＡＧＡ）、セルロース類とその誘導体、ポリウレタン、ポリカプロラクトン、ラテックス形態、キチン、または複合キチン（ｃｏｍｐｏｓｉｔｅ ｃｈｉｔｉｎ）物質である。
【０１０６】
有機ナノ粒子のガラス転移温度（Ｔｇ）は、４０℃より高くてもよく、好ましくは６０℃より高くてもよい。
【０１０７】
中空ナノ粒子
こうしたナノ粒子はコアとシェルを含む。シェルは有機であっても無機であってもよい。
【０１０８】
ナノ粒子のシェルは、例えばＰＳから形成されてもよく、粒子は、例えば有機マトリックス中で凝集していてもよい。
【０１０９】
ナノ粒子のシェルは、例えばＰＳから形成されていてもよく、粒子は、例えば、熱架橋性、電子架橋性または光架橋性の有機マトリックス中に分散していてもよい。
【０１１０】
前記中空ナノ粒子のコアは、異なる屈折率を有効活用するために、空気または空気以外の気体（例えば、ＣＯ２、Ｎ２、ブタン、またはイソブタン）で構成することができる。
【０１１１】
中空ナノ粒子内の空気または別の気体の存在を利用して、ナノ粒子と周囲の媒体との間の屈折率を大きくすることができる。屈折率が大きいと回折ピークの強度の点から見て好ましい。
【０１１２】
ナノ粒子が中空である場合、コアとシェルとの間で回折する波長における屈折率の差は、０．４以上であってもよい。前記回折波長は、２５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲、例えば２５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲であってもよい。ナノ粒子が中空である場合、コアの最大寸法とナノ粒子の最大寸法との比率は０．５〜０．８の範囲であってもよい。ナノ粒子が中空である場合、コアの体積は、ナノ粒子の全体積の１０％〜８０％の範囲、好ましくは２０％〜６０％の範囲を占める。
【０１１３】
中空ナノ粒子のシェルの厚さ（これは、ナノ粒子の最大寸法とナノ粒子のコアの最大寸法との差の半分に等しい）は、５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲、例えば３０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲であってもよい。
【０１１４】
挙げることのできる中空ナノ粒子の例は、供給業者のＪＳＲ ＳＸ８６６（Ｂ）からの２８０ｎｍナノ粒子である。
【０１１５】
ナノ粒子のコアは、任意選択で遮光剤または遮光剤混合物を含んでもよい。
【０１１６】
マトリックス
フォトニック粒子は、上述のように、任意のタイプのマトリックス中に凝集または分散している（例えば、熱架橋性、電子架橋性または光架橋性のマトリックス中に分散している）中空または中実ナノ粒子、あるいは任意のタイプのマトリックス中に分散している（例えば、熱架橋性、電子架橋性または光架橋性のマトリックス中に分散している）空隙を含むことができる。
【０１１７】
マトリックスは有機であっても無機であってもよい。
【０１１８】
挙げることのできる有機マトリックスの非限定例としては、アクリルマトリックス（ａｃｒｙｌｉｃ ｍａｔｒｉｘｅｓ）（ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）またはポリアクリルアミド（ＰＡＭ））、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリカプロラクトン（ＰＣＬ）、ポリ酢酸ビニル（ＰＶＡ）、ポリビニルエチルアセテート（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌｅｔｈｙｌ ａｃｅｔａｔｅ）（ＰＶＥＡ）、および融点が６５℃［摂氏度］より高く（例えば、７５℃より高く）かつ硬度が５ＭＰａより大きい（好ましくは６ＭＰａ［メガパスカル］より大きい）ワックスの各マトリックスがある。
【０１１９】
特に、マトリックスは、熱架橋性であっても、光架橋性であっても、電子架橋性であってもよい。
【０１２０】
「光架橋性マトリックス」という用語は、架橋が、光（特にＵＶ）によって引き起こされ、かつ／または助長されるマトリックスを意味する。
【０１２１】
「熱架橋性マトリックス」という用語は、架橋が、加熱によって（例えば、マトリックスを６０℃より高い温度にすることによって）引き起こされ、かつ／または助長されるマトリックスを意味する。
【０１２２】
「電子架橋性マトリックス」という用語は、架橋が、電場をかけることによって引き起こされ、かつ／または助長されるマトリックスを意味する。
【０１２３】
マトリックスは、熱架橋性および光架橋性の両方であってもよい。
【０１２４】
フォトニック粒子は、熱架橋性、電子架橋性または光架橋性のマトリックス中に分散している中実または中空ナノ粒子、あるいは熱架橋性、電子架橋性または光架橋性のマトリックス中に分散している空隙を含むことができる。
【０１２５】
熱架橋性または光架橋性のマトリックスは有機であってもよい。
【０１２６】
挙げることのできる架橋性有機マトリックスの非限定例は、以下のものである。
・ＥＴＰＡ（エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート）、ＰＥＧＤＡ（ポリエチレングリコールジアクリレート）、アクリル樹脂、ＰＥＧジアクリレート、または仏国特許第２８３３４８７号明細書に記載の物質などの光架橋性ポリマー；
・ＰＶＡまたはＰＶＥＡと、以下の式を有するスチリルピリジニウム：
【化１】
［式中、Ｒは、水素原子、アルキル基またはヒドロキシアルキル基を表し、Ｒ’は水素原子またはアルキル基を表す］
との付加環化重合（ｐｏｌｙｃｙｃｌｏａｄｄｉｔｉｏｎ）によって架橋される仏国特許第２８４８４２８号明細書に記載のコポリマー；
・特許の仏国特許第２９１０２８６号明細書に記載の反応性シリコーン、すなわち：
・次式を有するシロキサン単位：
【数２】
［式中、Ｒは、１〜３０個の炭素原子を含む直鎖状または環状の一価の炭化水素基であり、
【数３】
は１または２に等しく、Ｒ’は、２〜１０個の炭素原子を含む不飽和脂肪族炭化水素基または５〜８個の炭素原子を含む不飽和環状炭化水素基である］
を含むポリオルガノシロキサン；および／または
・次式を有する少なくとも１種のアルキルハイドロジェンシロキサン（ａｌｋｙｌｈｙｄｒｏｇｅｎｓｉｌｏｘａｎｅ）単位：
【数４】
［式中、Ｒは、１〜３０個の炭素原子またはフェニル基を含む直鎖状または環状の一価の炭化水素基であり、
【数５】
は１〜２に等しい］
を含むポリオルガノシロキサン；および
・熱可塑性、熱架橋性、電子架橋性のポリマー。
【０１２７】
マトリックスの架橋は、出願の国際公開第２００７／０８２０６１Ａ２号パンフレットに記載されているように、例えばスクシンイミド類を用いた化学架橋であってもよい。
【０１２８】
光開始剤を必要とする光架橋性マトリックスの場合、光開始剤は例えば以下のリストから選択される： ＤＭＰＡ（ジメトキシ２−フェニルアセトフェノン）、２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）−１−［４−（４−モルホリノフェニル］−１−ブタノン（Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）３６９という商標でＣｉｂａ（登録商標）から販売）、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン（Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ（登録商標）が販売）、２−ヒドロキシ−４’−（２−ヒドロキシエトキシ）−２−メチルプロピオフェノン（Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ（登録商標）が販売）、２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）−４’−モルホリノブチロフェノン（Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ（登録商標）が販売）、フェニルビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−ホスフィンオキシド（Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ（登録商標）が販売）、イソプロピル−チオキサントン（Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ（登録商標）が販売）、およびカンホロラクトン（ｃａｍｐｈｏｒｏｌａｃｔｏｎｅ）。
【０１２９】
ＰＥＧジアクリレートは、例えば、カンホロラクトンなどの光開始剤を用いて架橋できる。
【０１３０】
挙げることのできる無機マトリックスの例は、金属酸化物マトリックス、特にＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯまたはＣａＣＯ３、またはＳｉのマトリックスである。
【０１３１】
フォトニック粒子を含む媒体
フォトニック粒子は、化粧的に許容される媒体、すなわちヒトの角質物質（特に皮膚、粘膜、または毛髪または爪）に施与するのに適した無毒性の媒体に含有させることができる。
【０１３２】
前記媒体は、組成物をつける支持体の性質に合うように、また組成物がパッケージされる形態に合うようにされる。
【０１３３】
媒体は、フォトニック粒子を含んでいる相（２５℃で液体である）を含むことができる。
【０１３４】
媒体は、フォトニック粒子が凝集するのを防ぐため、フォトニック粒子が媒体中に分散するのが容易になるようなもの（それを施与する前）を選択することができる。一例として、フォトニック粒子を含んでいる媒体の表面張力を３５ｍＮ／ｍ［１メートル当たりのミリニュートン］未満まで減少させるような１種または複数種の試剤を使用することも可能でありうる。
【０１３５】
媒体は、水性であってもよく、フォトニック粒子が水性相に含まれている。「水性媒体」という用語は、周囲温度および大気圧で液体であり、かつ媒体の全重量を基準にして含まれる水の割合が大きい媒体を表す。残りの部分は、化粧的に許容される水混和性有機溶媒（例えば、アルコール類またはアルキレングリコール類）を含むか、またはそれによって構成されていてもよい。水性媒体中の水の量は、例えば、３０重量％以上、好ましくは４０％、より好ましくは５０％である。
【０１３６】
媒体は、単相であっても多相であってもよい。
【０１３７】
媒体は、アルコール（例えば、エタノールまたはイソプロパノールなど）を含んでも、グリコール誘導体（特にエチレングリコールまたはプロピレングリコール）を含んでもよい。
【０１３８】
媒体は、透明でも半透明でもよく、さらに色がついていてもいなくてもよい。フォトニック粒子を含む媒体は、顔料や着色剤を含んでいなくてもよい。媒体の着色は、さらなる着色剤を添加することによって起こることがある。
【０１３９】
媒体は、揮発性溶剤を含んでもよい。本発明との関連で使用する「揮発性溶剤」という用語は、周囲温度および大気圧において、角質物質と接触して蒸発することのできる任意の液体を意味する。
【０１４０】
媒体は特に、組成物が少なくとも５％、さらには少なくとも３０％の揮発性溶剤を含むように選択できる。
【０１４１】
媒体は、防護持続性を向上させる皮膜形成ポリマーを含んでもよい。
【０１４２】
皮膜形成ポリマー
本発明では、「皮膜形成ポリマー」という用語は、それ自体で、または補助皮膜形成剤の存在下で、肉眼的に連続している、角質物質に付着する皮膜を形成でき、好ましくは粘着性皮膜、より好ましくは、例えば、Ｔｅｆｌｏｎまたはシリコーンの表面などくっつかない表面上にキャストすることによって前記皮膜が製造されるとき、前記皮膜を分離できかつ分離したまま操作できるような粘着性および機械的性質を持つ皮膜を形成できるポリマーを意味する。
【０１４３】
組成物は水性相を含んでもよく、皮膜形成ポリマーが前記水性相中に存在してもよい。その場合、それは好ましくは分散物ポリマーであるか、または両親媒性または結合性（ａｓｓｏｃｉａｔｉｖｅ）ポリマーである。
【０１４４】
「分散物ポリマー」という用語は、水に不溶性であって、様々な粒径の粒子形態のポリマーを意味する。ポリマーは、任意選択で硬化されていてもよい。平均粒径は、典型的には、２５ｎｍ〜５００ｎｍの範囲、好ましくは５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲である。以下の水性分散物のポリマーを使用できる：Ｇａｎｚ ＣｈｅｍｉｃａｌのＵｌｔｒａｓｏｌ ２０７５（登録商標）、Ｄａｉｔｏ ＫａｓｅｉのＤａｉｔｏｓｏｌ ５０００ＡＤ（登録商標）、ＮｏｖｅｏｎのＡｖａｌｕｒｅ ＵＲ ４５０（登録商標）、Ｎａｔｉｏｎａｌ ＳｔａｒｃｈのＤＹＮＡＭＸ（登録商標）、ＩｎｔｅｒｐｏｌｙｍｅｒのＳｙｎｔｒａｎ ５７６０（登録商標）、Ｒｏｈｍ＆ＨａａｓのＡｃｕｓｏｌ ＯＰ ３０１（登録商標）、およびＡｖｅｃｉａのＮｅｏｃｒｙｌ Ａ １０９０（登録商標）。
【０１４５】
アクリル系分散液で、Ｎｅｏｃｒｙｌ ＸＫ−９０（登録商標）、Ｎｅｏｃｒｙｌ Ａ−１０７０（登録商標）、Ｎｅｏｃｒｙｌ Ａ−１０９０（登録商標）、Ｎｅｏｃｒｙｌ ＢＴ−６２（登録商標）、Ｎｅｏｃｒｙｌ Ａ−１０７９（登録商標）およびＮｅｏｃｒｙｌ Ａ−５２３（登録商標）という名称で供給業者のＡＶＥＣＩＡ−ＮＥＯＲＥＳＩＮＳで販売されているもの、供給業者のＤＯＷ ＣＨＥＭＩＣＡＬのＤｏｗ Ｌａｔｅｘ ４３２（登録商標）、供給業者のＤＡＩＴＯ ＫＡＳＥＹ ＫＯＧＹＯのＤａｉｔｏｓｏｌ ５０００ ＡＤ（登録商標）またはＤａｉｔｏｓｏｌ ５０００ ＳＪ（登録商標）、供給業者のＩｎｔｅｒｐｏｌｙｍｅｒのＳｙｎｔｒａｎ ５７６０（登録商標）、供給業者のＲＯＨＭ&ＨＡＡＳのＡｌｌｉａｎｚ ＯＰＴ、アクリルポリマーまたはスチレン／アクリルポリマーの水性分散液で、ＪＯＮＣＲＹＬ（登録商標）という商品名で供給業者のＪＯＨＮＳＯＮ ＰＯＬＹＭＥＲから販売されているもの、あるいはポリウレタンの水性分散液で、Ｎｅｏｒｅｚ Ｒ−９８１（登録商標）およびＮｅｏｒｅｚ Ｒ−９７４（登録商標）という名称で供給業者のＡＶＥＣＩＡ−ＮＥＯＲＥＳＩＮＳから販売されているもの、供給業者のＧＯＯＤＲＩＣＨのものであるＡｖａｌｕｒｅ ＵＲ−４０５（登録商標）、Ａｖａｌｕｒｅ ＵＲ−４１０（登録商標）、Ａｖａｌｕｒｅ ＵＲ−４２５（登録商標）、Ａｖａｌｕｒｅ ＵＲ−４５０（登録商標）、Ｓａｎｃｕｒｅ ８７５（登録商標）、Ｓａｎｃｕｒｅ ８６１（登録商標）、Ｓａｎｃｕｒｅ ８７８（登録商標）およびＳａｎｃｕｒｅ ２０６０（登録商標）、供給業者のＢＡＹＥＲのＩｍｐｒａｎｉｌ ８５（登録商標）、供給業者のＨＹＤＲＯＭＥＲのＡｑｕａｍｅｒｅ Ｈ−１５１１（登録商標）、Ｅａｓｔｍａｎ ＡＱ（登録商標）という商品名で供給業者のＥａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓから販売されているスルホポリエステル（ｓｕｌｆｏｐｏｌｙｅｓｔｅｒｓ）、ビニル分散液（供給業者のＣＨＩＭＥＸのＭｅｘｏｍｅｒｅ ＰＡＭ（登録商標）など）、およびそれらの混合物は、水分散性（ｈｙｄｒｏｄｉｓｐｅｒｓｉｂｌｅ）皮膜形成ポリマーの粒子の水性分散液の他の例である。
【０１４６】
「両親媒性または結合性ポリマー」という用語は、ポリマーを部分的に水溶性にする１つまたは複数の親水性部分と、ポリマーが結合または相互作用に用いる１つまたは複数の疎水性部分とを含むポリマーを意味する。以下の結合性ポリマーを使用してもよい： ＥｌｅｍｅｎｔｉｓのＮｕｖｉｓ ＦＸ１１００（登録商標）、Ｒｏｈｍ＆ＨａａｓのＡｃｕｌｙｎ ２２（登録商標）、Ａｃｕｌｙｎ ４４（登録商標）、Ａｃｕｌｙｎ ４６（登録商標）、ならびにＡｍｅｒｃｈｏｌのＶｉｓｃｏｐｈｏｂｅ ＤＢ１０００（登録商標）。親水性のブロック（ポリアクリレート、ポリエチレングリコール）および疎水性のブロック（ポリスチレン、ポリシロキサン）によって構成されたジブロックコポリマーを使用してもよい。
【０１４７】
組成物は油相を含んでもよく、皮膜形成ポリマーが前記油相中に存在してもよい。その場合、ポリマーは分散状態であっても溶液状態であってもよい。ＮＡＤタイプのポリマーまたはミクロゲル（例えばＫＳＧ）を使用してもよく、さらにＰＳ−ＰＡタイプのポリマーまたはスチレン系のコポリマー（Ｋｒａｔｏｎ，Ｒｅｇａｌｉｔｅ）を使用してもよい。
【０１４８】
１種または複数種のシリコーン油および／または炭化水素油中にポリマー粒子（特に、ブロックポリマー、グラフトポリマーまたはランダムポリマー）を含む非水分散液であって、少なくとも１種の安定剤によってその表面で安定化させることができ、かつ挙げることのできるものの例は、イソドデカン中のアクリル分散液（供給業者のＣＨＩＭＥＸのＭｅｘｏｍｅｒｅ ＰＡＰ（登録商標）など）、および液状の油性（ｆａｔｔｙ）相中にグラフトエチレンポリマー（好ましくはアクリル系）の粒子を含む分散液であり、有利には、エチレンポリマーが更なる安定剤の非存在下で粒子の表面に分散しているものであり、そのようなものには、特に文献の国際公開第０４／０５５０８１号パンフレット中に記載されているものなどがある。
【０１４９】
本発明の組成物に使用してもよい挙げることのできる皮膜形成ポリマーは、ラジカルタイプ（ｒａｄｉｃａｌ ｔｙｐｅ）または重縮合タイプの合成ポリマー、天然起源のポリマー、およびそれらの混合物である。
【０１５０】
特に、ラジカルタイプの皮膜形成ポリマーは、ビニル系（ｖｉｎｙｌｓ）であるポリマーまたはコポリマー（特にアクリルポリマー）であってもよい。
【０１５１】
ビニル系皮膜形成ポリマーは、少なくとも１種の酸基および／または前記酸モノマーのエステルおよび／または前記酸モノマーのアミドを有する、エチレン性不飽和結合を含むモノマー（不飽和のα，β−エチレン性不飽和カルボン酸など、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸またはイタコン酸）を重合させることにより、得ることができる。
【０１５２】
天然起源のポリマー（任意選択で変性されている）は、シェラック樹脂、サンダラックゴム、ダンマー、エレミ、コーパル、およびセルロースポリマー（ニトロセルロース、エチルセルロースまたはニトロセルロースエステルなどで、例えば、酢酸セルロース、セルロースアセトブチレート、セルロースアセトプロピオネート、およびそれらの混合物から選択される）から選択できる。
【０１５３】
皮膜形成ポリマーは、水性分散液または油性の分散液中にある中実粒子の形（一般にラテックスまたは擬似ラテックス（ｐｓｅｕｄｏｌａｔｅｘ）として知られる）で存在してもよい。皮膜形成ポリマーは、生理学的に許容される液状油性相中に、１種または複数種のポリマーである一般に球形のポリマー粒子を含んでいる、１種または複数種の安定分散物を含むことができる。こうした分散物は、水性ポリマー分散液であるラテックスとは違い、一般にポリマーＮＡＤと称される。こうした分散物は、前記油性相中にポリマーのナノ粒子が安定して分散した形であってもよい。ナノ粒子の粒径は、好ましくは５ｎｍ〜６００ｎｍの範囲である。前記分散物の製造法は、当業者によく知られている。
【０１５４】
組成物は、直鎖状のエチレン系皮膜形成ブロックポリマーである少なくとも１種の皮膜形成ポリマーを含んでもよい。前記ポリマーは、少なくとも１種の第１シーケンス（ブロック）と少なくとも１種の第２シーケンス（異なるガラス転移温度（Ｔｇ）を有するもの）を含むことができ、前記１シーケンスおよび第２シーケンスは、第１シーケンスの少なくとも１種の構成モノマーと第２シーケンスの少なくとも１種の構成モノマーとを含む中間シーケンスを介して結合される。一例として、第１および第２シーケンスならびにブロックポリマーは、互いに適合性がないことがある。そのようなポリマー、例えば、文献の欧州特許第１４１１０６９号明細書または国際公開第０４／０２８４８８号パンフレット（これらを本明細書に援用する）に記載されている。
【０１５５】
油性相
フォトニック粒子を含有する組成物は油を含まなくてもよいが、本発明の実施態様によっては、組成物は油性相を含んでもよい。フォトニック粒子は、任意選択で前記油性相中に含有させることができる。
【０１５６】
油性相は、特に揮発性であってもよい。
【０１５７】
組成物は、油を含むことができ、油は、例えば、合成されたエステルまたはエーテル、鉱物起源または合成起源の直鎖状または分枝炭化水素、８〜２６個の炭素原子を含む脂肪アルコール、部分フッ素化された炭化水素および／またはシリコーン油（シリコーン油はポリメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）などで、任意選択で揮発性であってもよく、直鎖状または環状のシリコーン鎖を有し、周囲温度で液体またはペースト状であってもよい）、およびそれらの混合物などである。他の例を以下に示す。
【０１５８】
したがって本発明による組成物は、少なくとも１種の揮発油を含むことができる。
【０１５９】
揮発性油
本発明との関連において、「揮発性油」という用語は、周囲温度および大気圧において、皮膚に接すると１時間たたないうちに蒸発できる油（または非水性媒体）を意味する。
【０１６０】
揮発油は、揮発性の化粧用油であって、周囲温度において特に蒸気圧がゼロではない液体であり、周囲温度および大気圧において、特に蒸気圧が０．１３Ｐａ〜４００００Ｐａ（１０−３ｍｍＨｇ〜３００ｍｍＨｇ）の範囲、特に１．３Ｐａ〜１３０００Ｐａ（０．０１ｍｍＨｇ〜１００ｍｍＨｇ）の範囲、とりわけ１．３Ｐａ〜１３００Ｐａ（０．０１ｍｍＨｇ〜１０ｍｍＨｇ）の範囲である。
【０１６１】
揮発性炭化水素油は、８〜１６個の炭素原子、特にＣ８〜Ｃ１６分枝アルカン（イソパラフィンとも称する）を含む動物由来または野菜由来の炭化水素油から選択することができ、それには、イソドデカン（２，２，４，４，６−ペンタメチルヘプタンとも称する）、イソデカン、イソヘキサデカン、および、例えば、Ｉｓｏｐａｒｓ（登録商標）またはＰｅｒｍｅｔｈｙｌｓ（登録商標）という商品名で販売されている油などがある。
【０１６２】
さらに使用してもよい揮発性油の例は、揮発性シリコーンで、例えば直鎖状または環状の揮発性シリコーン油、特に、粘度が８センチストークス（８×１０−６ｍ２／ｓ）以下であり、特に２〜１０個のケイ素原子、特に２〜７個のケイ素原子を含むものである。前記シリコーンは、任意選択で１〜１０個の炭素原子を含んでいるアルキルまたはアルコキシ基を含む。挙げることのできる本発明に使用できる揮発性シリコーン油の例は、粘度が５ｃＳｔ〜６ｃＳｔであるジメチコーン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン、ヘプタメチルヘキシルトリシロキサン、ヘプタメチルオクチルトリシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、およびそれらの混合物である。
【０１６３】
ノナフルオロメトキシブタンまたはパーフルオロメチルシクロペンタン、およびそれらの混合物などのフッ素化揮発性油を使用することも可能である。
【０１６４】
上述の油の混合物を使用することも可能である。
【０１６５】
不揮発性油
本発明の組成物は、不揮発性油を含むことができる。
【０１６６】
本発明との関連においては、「不揮発性油」という用語は、蒸気圧が０．１３Ｐａ未満の油、特に高分子量の油を意味する。
【０１６７】
不揮発性油は、特に、炭化水素油、フッ素化シリコーン油（適切な場合）、および／または不揮発性シリコーン油から選択できる。
【０１６８】
本発明を実施するのに好適でありうる不揮発性炭化水素油の例で、特に挙げることのできるものは以下の通りである。
・動物由来の炭化水素油；
・植物由来の炭化水素油で、植物ステアリル（ｐｈｙｔｏｓｔｅａｒｙｌ）エステル、例えば植物ステアリルオレエート、植物ステアリルイソステアレートまたはラウロイル／オクチルドデシル／植物ステアリルグルタメート（例えば、ＥＬＤＥＷ ＰＳ２０３という名称でＡＪＩＮＯＭＯＴＯから販売）、脂肪酸とグリセロールのエステルで構成されているトリグリセリド（ここで、脂肪酸はＣ４〜Ｃ２４の範囲の鎖長を有することができ、直鎖状であって分枝であってもよく、また飽和であっても不飽和であってもよい）；前記油は特に、ヘプタン酸トリグリセリドまたはオクタン酸トリグリセリド、またはコムギ麦芽、ヒマワリ、ブドウ種、ゴマ、トウモロコシ、アンズ、ヒマシ油（ｃａｓｔｏｒ）、シアバターノキ、アボガド、オリーブ、ダイズ、スイートアーモンド、ヤシ、セイヨウアブラナ、綿実、ハシバミ、マカダミアナッツ、ホホバ、アルファルファ、ケシ、北海道カボチャ、ウリ、クロフサスグリ、マツヨイグサ、キビ、大麦、キノア、ライ麦、ベニバナ、バンクーリエ（ｂａｎｃｏｕｌｉｅｒ）、トケイソウ、またはマスクローズの油；シアバター；またはカプリル酸／カプリン酸のトリグリセリド（供給業者のＳｔｅａｒｉｎｅｒｉｅｓ Ｄｕｂｏｉｓから発売されているもの、または供給業者のＤｙｎａｍｉｔ ＮｏｂｅｌからＭｉｇｌｙｏｌ ８１０（登録商標）、８１２（登録商標）および８１８（登録商標）という名称で販売されているものなど）など；
・鉱物起源または合成起源の炭化水素油で、例えば以下のものなど：
○ １０〜４０個の炭素原子を含む合成エーテル；
○ 鉱物起源または合成起源の直鎖状または分枝炭化水素で、ワセリン、ポリデセン（ｐｏｌｙｄｅｃｅｎｅｓ）、水添ポリイソブテン（パールリーム（ｐａｒｌｅａｍ）など）、スクワランおよびそれらの混合物など、特に水添ポリイソブテン；および
○ 合成エステルで、式Ｒ１ＣＯＯＲ２［式中、Ｒ１は、１〜４０個の炭素原子を含む直鎖状または分枝脂肪酸の残基を表し、Ｒ２は、１〜４０個の炭素原子を含む炭化水素鎖（特に分枝のもの）を表す。ただし、Ｒ１＋Ｒ２≧１０である］を有する油など。
【０１６９】
エステルは、特に、例えば以下のようなエステル（特に脂肪酸のエステル）から選択することができる。
・オクタン酸セトステアリル、イソプロピルアルコールのエステル（ミリスチン酸イソプロピル、パルミチン酸イソプロピルなど）、パルミチン酸エチル、パルミチン酸２−エチルヘキシル、ステアリン酸イソプロピルまたはイソステアリン酸イソプロピル、イソステアリン酸イソステアリル、ステアリン酸オクチル、ヒドロキシルエステル（ｈｙｄｒｏｘｙｌ ｅｓｔｅｒｓ）（乳酸イソステアリル、オクチルヒドロキシステアレート、アジピン酸ジイソプロピルなど）、アルコールまたは多価アルコールのヘプタノエート（特に、イソステアリルヘプタノエート）、オクタノエート、デカノエートまたはリシノレエート（プロピレングリコールジオクタノエート、セチルオクタノエート、トリデシルオクタノエート、２−エチルヘキシル４−ジヘプタノエートおよびパルミテート、アルキルベンゾエート、ポリエチレングリコールジヘプタノエート、プロピレングリコール２−ジエチルヘキサノエートおよびそれらの混合物など）、Ｃ１２〜Ｃ１５アルコールのベンゾエート、ラウリン酸ヘキシル、ネオペンタン酸エステル（ネオペンタン酸イソデシル、ネオペンタン酸イソトリデシル、ネオペンタン酸イソステアリル、ネオペンタン酸オクチルドデシルなど）、イソノナン酸エステル（イソノナン酸イソノニル、イソノナン酸イソトリデシル、イソノナン酸オクチルなど）、またはヒドロキシルエステル（乳酸イソステアリル、またはマレイン酸ジイソステアリルなど）；
・ポリオールのエステル、およびペンタエリトリトールエステル（ジペンタエリトリトールテトラヒドロキシステアレート／テトライソステアレートなど）；
・ジオール二量体と二塩基酸二量体とのエステルで、供給業者のＮＩＰＰＯＮ ＦＩＮＥ ＣＨＥＭＩＣＡＬから販売されているＬｕｓｐｌａｎ ＤＤ−ＤＡ５（登録商標）およびＬｕｓｐｌａｎ ＤＤ−ＤＡ７（登録商標）など（出願の仏国特許出願公開第０３０２８０９号明細書に記載）；
・周囲温度において液体であり、１２〜２６個の炭素原子を含む分枝および／または不飽和の炭素鎖を有する脂肪アルコール（２−オクチルドデカノール、イソステアリルアルコール、オレインアルコール（ｏｌｅｉｃ ａｌｃｏｈｏｌ）、２−ヘキシルデカノール、２−ブチルオクタノール、または２−ウンデシルペンタデカノールなど）；
・高級脂肪酸（オレイン酸、リノール酸、リノレン酸およびそれらの混合物など）；および
・２つのアルキル鎖が場合により同一であるかまたは異なるジアルキルカーボネート（ＣｏｇｎｉｓからＣｅｔｉｏｌ ＣＣ（登録商標）という名称で販売されている炭酸ジカプリリルなど）；
・不揮発性シリコーン油。例えば、不揮発性ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）、ペンダントのアルキルまたはアルコキシ基を含み、かつ／またはシリコーン鎖末端を有する（それぞれの基が２〜２４個の炭素原子を含む）ポリジメチルシロキサン、フェニルシリコーン（フェニルトリメチコーン、フェニルジメチコーン、フェニルトリメチルシロキシジフェニルシロキサン、ジフェニルジメチコーン、ジフェニルメチルジフェニルトリシロキサン、または２−フェニルエチルトリメチルシロキシシリケートなど）、あるいは粘度が１００ｃＳｔ以下であるジメチコーンまたはフェニルトリメチコーン、およびそれらの混合物など；
・ならびにそれらの混合物。
【０１７０】
フォトニック粒子を含有する組成物は油を含まなくてもよく、特に不揮発性油を含んでいなくてもよい。
【０１７１】
補足的遮蔽剤および添加剤
フォトニック粒子を含む組成物は、化粧品分野で標準的である補助剤から選択される少なくとも１種の添加剤を含むことができ、それには、充填剤、着色剤、親水性または親油性のゲル化剤、有効成分（水溶性または脂溶性のいずれか）、防腐剤、保湿剤（ポリオール、特にグリセリンなど）、金属イオン封鎖剤、酸化防止剤、溶剤、芳香剤、物理的および化学的遮光剤（特に、ＵＶＡおよび／またはＵＶＢに対するもの）、臭気吸収剤（ｏｄｏｒ ａｂｓｏｒｂｅｒｓ）、ｐＨ調節剤（酸または塩基）、およびそれらの混合物などがある。
【０１７２】
組成物は、酸化防止剤、美白剤（ｗｈｉｔｅｎｉｎｇ ａｇｅｎｔｓ）（色素沈着防止および脱色が関係している場合）、または老化防止有効成分など、太陽光防護の分野で補足的働きをする少なくとも１種の有効成分を含むことができる。
【０１７３】
更なる有機遮蔽剤（疎水性、親水性または通常の溶剤に不溶性のいずれか）は、様々な部類の化合物から選択できる。特に、有機遮蔽剤は、ジベンゾイルメタン誘導体；アントラニレート；桂皮酸誘導体（ｃｉｎｎａｍｉｃ ｄｅｒｉｖａｔｉｖｅｓ）；サリチル酸誘導体、樟脳誘導体；ベンゾフェノン誘導体；β，β−ジフェニルアクリレート誘導体；式（Ｉ）以外のトリアジン誘導体；ベンザルマロネート誘導体（特に、特許の米国特許第５６２４６６３号明細書に記載のもの）；ベンズイミダゾール誘導体；イミダゾリン類；ｐ−アミノ安息香酸（ＰＡＢＡ）誘導体；ベンゾトリアゾール誘導体；出願の米国特許第５２３７０７１号明細書、米国特許第５１６６３５５号明細書、英国特許出願公開第２３０３５４９号明細書、独国特許出願公開第１９７２６１８４号明細書および欧州特許第０８９３１１９号明細書に記載されているようなメチレンビス（ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール）誘導体；特許出願である欧州特許開第０８３２６４２号明細書、欧州特許出願公開第１０２７８８３号明細書、欧州特許出願公開第１３００１３７号明細書および独国特許出願公開第０１６２８４４号明細書に記載されているようなベンゾキサゾール誘導体；ポリマー遮蔽剤およびシリコーン遮蔽剤（特に出願の国際公開第９３／０４６６５号パンフレットに記載されているものなど）；α−アルキルスチレンから得られる二量体（特許出願である独国特許出願公開第１９８５５６４９号明細書に記載されているものなど）；４，４−ジアリールブタジエン（出願である欧州特許第０９６７２００号明細書、独国特許出願公開第１９７４６６５４号明細書、独国特許出願公開第１９７５５６４９号明細書、欧州特許出願公開第１００８５８６Ａ号明細書、欧州特許出願公開第１１３３９８０号明細書および欧州特許第０１３３９８１号明細書に記載されているものなど）；またはメロシアニン誘導体（出願の国際公開第０４／００６８７８号パンフレット、国際公開第０５／０５８２６９号パンフレットおよび国際公開第０６／０３２７４１号パンフレットに記載されているものなど）、およびそれらの混合物から選択される。
【０１７４】
１種または複数種の遮蔽剤は、以下の遮蔽剤から選択できる。
３２０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲の紫外線（ＵＶＡ）を吸収できる疎水性遮蔽剤
【０１７５】
ジベンゾイルメタン誘導体
ブチルメトキシジベンゾイルメタン（特に「ＰＡＲＳＯＬ １７８９」という商品名でＤＳＭ Ｎｕｔｒｉｔｉｏｎａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ，Ｉｎｃから販売されているもの）；
・イソプロピルジベンゾイルメタン。
【０１７６】
アミノベンゾフェノン
ｎ−ヘキシル２−（４−ジエチルアミノ−２−ヒドロキシベンゾイル）ベンゾエート（ＢＡＳＦから「ＵＶＩＮＵＬ Ａ＋」という商品名で販売されているもの）。
【０１７７】
アントラニル酸誘導体（Ａｎｔｈｒａｎｉｌｉｃ ｄｅｒｉｖａｔｉｖｅｓ）
アントラニル酸メンチル（ＳＹＭＲＩＳＥから「ＮＥＯ ＨＥＬＩＯＰＡＮ ＭＡ」という商品名で販売されているもの）。
【０１７８】
４，４−ジアリールブタジエン誘導体
１，１−ジカルボキシ（２，２’−ジメチル−プロピル）−４，４−ジフェニルブタジエン。
【０１７９】
好ましい遮蔽剤は、ブチルメトキシジベンゾイルメタンおよびｎ−ヘキシル２−（４−ジエチルアミノ−２−ヒドロキシベンゾイル）ベンゾエートである。
【０１８０】
２８０ｎｍ〜３２０ｎｍの範囲の紫外線（ＵＶＢ）を吸収できる疎水性遮蔽剤
【０１８１】
ｐ−アミノベンゾエート
エチルＰＡＢＡ；
エチルジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ；
エチルヘキシルジメチルＰＡＢＡ（ＩＳＰのＥＳＣＡＬＯＬ ５０７）。
【０１８２】
サリチル酸誘導体
ホモサレート（「Ｅｕｓｏｌｅｘ ＨＭＳ」という名称でＲｏｎａ／ＥＭ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓから販売されているもの）；
・エチルヘキシルサリチレート（「ＮＥＯ ＨＥＬＩＯＰＡＮ ＯＳ」という名称でＳＹＭＲＩＳＥから販売されているもの）；
・ジプロピレングリコールサリチレート（「ＤＩＰＳＡＬ」という名称でＳＣＨＥＲから販売されているもの）；
・ＴＥＡサリチレート（「ＮＥＯ ＨＥＬＩＯＰＡＮ ＴＳ」という名称でＳＹＭＲＩＳＥから販売されているもの）。
【０１８３】
シンナメート
エチルヘキシルメトキシシンナメート（特に「ＰＡＲＳＯＬ ＭＣＸ」という商品名でＤＳＭ Ｎｕｔｒｉｔｉｏｎａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ，Ｉｎｃから販売されているもの）；
・イソプロピルメトキシシンナメート；
・イソアミルメトキシシンナメート（「ＮＥＯ ＨＥＬＩＯＰＡＮ Ｅ １０００」という商品名でＳＹＭＲＩＳＥから販売されているもの）；
・ジイソプロピルメチルシンナメート；
・シノキサート；
・グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート。
【０１８４】
β，β’−ジフェニルアクリレート誘導体
オクトクリレン（特に「ＵＶＩＮＵＬ Ｎ５３９」という商品名でＢＡＳＦから販売されているもの）；
・エトクレリン（特に「ＵＶＩＮＵＬ Ｎ３５」という商品名でＢＡＳＦから販売されているもの）。
【０１８５】
ベンジリデンカンファー誘導体
３−ベンジリデンカンファー（「ＭＥＸＯＲＹＬ ＳＤ」という商品名でＣＨＩＭＥＸによって製造されているもの）；
・メチルベンジリデンカンファー（「ＥＵＳＯＬＥＸ ６３００」という商品名でＭＥＲＣＫから販売されているもの）；
・ポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー（「ＭＥＸＯＲＹＬ ＳＷ」という名称でＣＨＩＭＥＸによって製造されているもの）。
【０１８６】
トリアジン誘導体
エチルヘキシルトリアゾントリアゾン（特に「ＵＶＩＮＵＬ Ｔ１５０」という商品名でＢＡＳＦから販売されているもの）；
・ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン（「ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＥＢ」という商品名でＳＩＧＭＡ ３Ｖから販売されているもの）；
・２，４，６−トリス（ジネオペンチル４’−アミノベンザルマロネート）−ｓ−トリアジン；
・２，４，６−トリス−（ジイソブチル４’−アミノベンザルマロネート）−ｓ−トリアジン；
・２，４−ビス（ジネオペンチル４’−アミノベンザルマロネート）−６−（４’−ｎ−ブチルアミノベンゾエート）−ｓ−トリアジン；
・２，４−ビス（ｎ−ブチル４’−アミノベンゾエート）−６−（アミノプロピルトリシロキサン）−ｓ−トリアジン；
・対称トリアジン遮蔽剤（特許の米国特許第６２２５４６７号明細書、出願の国際公開第２００４／０８５４１２号パンフレット（化合物６〜９を参照）または文献の「Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃａｌ Ｔｒｉａｚｉｎｅ Ｄｅｒｉｖａｔｉｖｅｓ」（ＩＰ．ＣＯＭ Ｊｏｕｒｎａｌ，ＩＰ．ＣＯＭ ＩＮＣ ＷＥＳＴ ＨＥＮＲＩＥＴＴＡ，ＮＹ，ＵＳ（２０ Ｓｅｐｔｅｍｂｅｒ ２００４））に記載されているもの）、特に、２，４，６−トリス（ビフェニル）−１，３，５−トリアジン（特に、２，４，６−トリス（ビフェニル−４−イル−１，３，５−トリアジン）および２，４，６−トリス（テルフェニル）−１，３，５−トリアジン（これは、ＢＥＩＥＲＳＤＯＲＦによって出願された国際公開第０６／０３５０００号パンフレット、国際公開第０６／０３４９８２号パンフレット、国際公開第０６／０３４９９１号パンフレット、国際公開第０６／０３５００７号パンフレット、国際公開第２００６／０３４９９２号パンフレット、国際公開第２００６／０３４９８５号パンフレットに記述されている））。
【０１８７】
イミダゾリン誘導体
エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオネート。
【０１８８】
ベンザルマロネート誘導体
ベンザルマロネート官能基を有するポリオルガノシロキサン（「ＰＡＲＳＯＬ ＳＬＸ」という商品名でＤＳＭ Ｎｕｔｒｉｔｉｏｎａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ，Ｉｎｃから販売されているポリシリコン−１５など）；
・ジ−ネオペンチル４’−メトキシベンザルマロネート。
【０１８９】
メロシアニン誘導体
オクチル−５−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ−２−フェニルスルホニル−２，４−ペンタジエノエート。
【０１９０】
好ましい遮蔽剤は、ホモサレート、エチルヘキシルサリチレート、オクトクリレン、エチルヘキシルメトキシシンナメートｖ、イソアミルメトキシシンナメート、エチルヘキシルトリアゾン、およびジエチルヘキシルブタミドトリアゾンである。
【０１９１】
もっとも好ましい化合物は、エチルヘキシルサリチレート、オクトクリレン、エチルヘキシルトリアゾンおよびエチルヘキシルメトキシシンナメートである。
【０１９２】
ＵＶＡとＵＶＢの両方を吸収できる混合疎水性遮蔽剤
ベンゾフェノン誘導体
ベンゾフェノン−１（「ＵＶＩＮＵＬ ４００」という商品名でＢＡＳＦから販売されているもの）；
・ベンゾフェノン−２（「ＵＶＩＮＵＬ Ｄ５０」という商品名でＢＡＳＦから販売されているもの）；
・ベンゾフェノン−３またはオキシベンゾン（「ＵＶＩＮＵＬ Ｍ４０」という商品名でＢＡＳＦから販売されているもの）；
・ベンゾフェノン−５；
・ベンゾフェノン−６（「Ｈｅｌｉｓｏｒｂ １１」という商品名でＮｏｒｑｕａｙから販売されているもの）
ベンゾフェノン−８（「Ｓｐｅｃｔｒａ−Ｓｏｒｂ ＵＶ−２４」という商品名でＡｍｅｒｉｃａｎ Ｃｙａｎａｍｉｄから販売されているもの）；
・ベンゾフェノン−１０；
・ベンゾフェノン−１１；
・ベンゾフェノン−１２。
【０１９３】
フェニルベンゾトリアゾール誘導体
ドロメトリゾールトリシロキサン（「Ｓｉｌａｔｒｉｚｏｌｅ」という名称でＲＨＯＤＩＡ ＣＨＩＭＩＥから販売されているもの）；
・メチレンビス−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール（固体形態で「ＭＩＸＸＩＭ ＢＢ／１００」という商品名でＦＡＩＲＭＯＵＮＴ ＣＨＥＭＩＣＡＬから販売されているか、水性分散液中の微粉形態で「ＴＩＮＯＳＯＲＢ Ｍ」という商品名でＣＩＢＡ ＳＰＥＣＩＡＬＴＹ ＣＨＥＭＩＣＡＬＳから販売されているもの）。
【０１９４】
ビス−レゾルシニルトリアジン誘導体
ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン（「ＴＩＮＯＳＯＲＢ Ｓ」という商品名でＣＩＢＡ ＧＥＩＧＹから販売されているもの）。
【０１９５】
ベンゾキサゾール誘導体
２，４−ビス−［５−１（ジメチルプロピル）ベンゾキサゾール−２−イル−（４−フェニル）−イミノ］−６−（２−エチルヘキシル）−イミノ−１，３，５−トリアジン（Ｕｖａｓｏｒｂ Ｋ２Ａという名称でＳｉｇｍａ ３Ｖから販売されているもの）。
【０１９６】
好ましい遮蔽剤は以下のものである。
・ドロメトリゾールトリシロキサン；
・メチレンビス−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール；
・ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン；および
・ベンゾフェノン−３またはオキシベンゾン。
【０１９７】
もっとも好ましいのは以下のものである。
・ドロメトリゾールトリシロキサン；および
・ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン。
【０１９８】
３２０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲の紫外線（ＵＶＡ）を吸収できる水溶性遮蔽剤
テレフタリリデンジカンファー酸スルホン酸（「ＭＥＸＯＲＹＬ ＳＸ」という名称でＣＨＩＭＥＸによって製造されているもの）。
【０１９９】
特許の欧州特許第０６６９３２３号明細書および米国特許第２４６３２６４号明細書に記載のビス−ベンゾアゾリル（ｂｉｓ−ｂｅｎｚｏａｚｏｌｙｌ）誘導体、さらに詳しくは、「ＮＥＯ ＨＥＬＩＯＰＡＮ ＡＰ」という商品名でＨａａｒｍａｎｎ ａｎｄ ＲＥＩＭＥＲから販売されている化合物のフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム。
【０２００】
好ましい遮蔽剤は、テレフタリリデンジカンファー酸スルホン酸である。
【０２０１】
２８０ｎｍ〜３２０ｎｍの範囲の紫外線（ＵＶＢ）を吸収できる水溶性遮蔽剤
ｐ−アミノ安息香酸誘導体（ＰＡＢＡ）
ＰＡＢＡ；
・グリセリルＰＡＢＡ；および
・ＰＥＧ−２５ ＰＡＢＡ（「ＵＶＩＮＵＬ Ｐ２５」という名称でＢＡＳＦから販売されているもの）；
・フェニルベンズイミダゾールスルホン酸（特に「ＥＵＳＯＬＥＸ ２３２」という商品名でＭＥＲＣＫから販売されているもの）；
・フェルラ酸；
・サリチル酸；
・ＤＥＡメトキシシンナメート；
・ベンジリデンショウノウスルホン酸（「ＭＥＸＯＲＹＬ ＳＬ」という名称でＣＨＩＭＥＸが製造しているもの）；
・カンファーベンザルコニウムメトサルフェート（ｃａｍｐｈｏｒ ｂｅｎｚａｌｋｏｎｉｕｍ ｍｅｔｈｏｓｕｌｆａｔｅ）（「ＭＥＸＯＲＹＬ ＳＯ」という名称でＣＨＩＭＥＸが製造しているもの）；および
・好ましい遮蔽剤はフェニルベンズイミダゾールスルホン酸である。
【０２０２】
ＵＶＡとＵＶＢの混合水溶性遮蔽剤
少なくとも１つのスルホン基を含むベンゾフェノン誘導体
ベンゾフェノン−４（「ＵＶＩＮＵＬ ＭＳ４０」という商品名でＢＡＳＦから販売されているもの）；
・ベンゾフェノン−５；および
・ベンゾフェノン−９。
【０２０３】
好ましい遮蔽剤はベンゾフェノン−４である。
【０２０４】
本発明の１種または複数種の有機遮蔽剤は、本発明の組成物中に、全組成物の重量を基準にして０．１重量％〜１５重量％の範囲、好ましくは０．２重量％〜１０重量％の範囲の濃度で存在してもよい。
【０２０５】
無機の遮光剤または光防護物質
無機光防護剤は、任意選択で被覆されていてもよい金属酸化物顔料（一次粒子の平均粒径が、一般に５ｎｍ〜１００ｎｍの範囲、好ましくは１０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲である）から選択され、それには、酸化チタン顔料（非結晶またはルチルおよび／またはアナターゼの形の結晶）、鉄、亜鉛、ジルコニウム、またはセリウム（これらはすべて、それ自体よく知られている紫外線の光防護物質である）などがある。
【０２０６】
顔料は、任意選択で被覆されていてもよい。
【０２０７】
被覆顔料は、Ｃｏｓｍｅｔｉｃｓ ＆ Ｔｏｉｌｅｔｒｉｅｓ，Ｆｅｂｒｕａｒｙ １９９０，Ｖｏｌ １０５，ｐｐ．５３−６４に記載されているような化合物によって化学的、電気的、または化学機械的な性質の表面処理を１回または複数回行った顔料であり、その化合物は、アミノ酸、蜜ろう、脂肪酸、脂肪アルコール、陰イオン界面活性剤、レシチン類、脂肪酸のナトリウム、カリウム、亜鉛、鉄，またはアルミニウム塩、金属（チタンまたはアルミニウム）アルコキシド、ポリエチレン、シリコーン、タンパク質（コラーゲン、エラスチン）、アルカノールアミン、ケイ素の酸化物、金属酸化物またはヘキサメタリン酸ナトリウムなどである。
【０２０８】
周知の方法では、シリコーンは、直鎖状または環状の、分枝構造または硬化構造を有する有機ケイ素のポリマーまたはオリゴマーであって、様々な分子量を有し、適切に官能基化されたシランの重合および／または重縮合によって得られ、かつ酸素原子を介してケイ素原子が結合している（シロキサン結合）主要モチーフの反復で基本的に構成されており、置換可能な炭化水素基が炭素原子を介して前記ケイ素原子に直接結合している、有機ケイ素のポリマーまたはオリゴマーである。
【０２０９】
「シリコーン」という用語は、その調製に必要とされる顔料、特にアルキルシランも包含する。
【０２１０】
本発明に好適に使用される顔料被覆用のシリコーンは、好ましくは、アルキルシラン、ポリジアルキルシロキサンおよびポリアルキルヒドロゲノシロキサン（ｐｏｌｙａｌｋｙｌｈｙｄｒｏｇｅｎｏｓｉｌｏｘａｎｅｓ）を含む群から選択される。さらにより好ましくは、シリコーンは、オクチルトリメチルシラン、ポリジメチルシロキサンおよびポリメチルヒドロゲノシロキサン（ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌｈｙｄｒｏｇｅｎｏｓｉｌｏｘａｎｅｓ）を含む群から選択される。
【０２１１】
明らかに、それらをシリコーンで処理する前に、金属酸化物顔料は、他の表面剤、特に酸化セリウム、アルミナ、シリカ、アルミニウム化合物、ケイ素化合物、またはそれらの混合物で処理されていたと考えられる。
【０２１２】
さらに詳細には、被覆顔料は、以下のもので被覆された酸化チタンである：
・シリカ（供給業者のＩＫＥＤＡの製品「ＳＵＮＶＥＩＬ」など）；
・シリカおよび酸化鉄（供給業者のＩＫＥＤＡの製品「ＳＵＮＶＥＩＬ Ｆ」など）；
・シリカおよびアルミナ（供給業者のＴＡＹＣＡの製品「ＭＩＣＲＯＴＩＴＡＮＩＵＭ ＤＩＯＸＩＤＥ ＭＴ ５００ ＳＡ」および「ＭＩＣＲＯＴＩＴＡＮＩＵＭ ＤＩＯＸＩＤＥ ＭＴ １００ ＳＡ」、または供給業者のＴＩＯＸＩＤＥの「ＴＩＯＶＥＩＬ」など）；
・アルミナ（供給業者のＩＳＨＩＨＡＲＡの製品「ＴＩＰＡＱＵＥ ＴＴＯ−５５（Ｂ）」または「ＴＩＰＡＱＵＥ ＴＴＯ−５５（Ａ）」、および供給業者のＫＥＭＩＲＡの「ＵＶＴ １４／４」など）；
・アルミナおよびステアリン酸アルミニウム（供給業者のＴＡＹＣＡの製品「ＭＩＣＲＯＴＩＴＡＮＩＵＭ ＤＩＯＸＩＤＥ ＭＴ １００ Ｔ、ＭＴ １００ ＴＸ、ＭＴ １００ Ｚ、ＭＴ−０１」、供給業者のＵＮＩＱＥＭＡの製品「Ｓｏｌａｖｅｉｌ ＣＴ−１０ Ｗ」および「Ｓｏｌａｖｅｉｌ ＣＴ １００」および供給業者のＭＥＲＣＫの製品「Ｅｕｓｏｌｅｘ Ｔ−ＡＶＯ」など）；
・シリカ、アルミナおよびアルギン酸（供給業者のＴＡＹＣＡの製品「ＭＴ−１００ ＡＱ」など）；
・アルミナおよび三ラウリン酸アルミニウム（供給業者のＴＡＹＣＡの製品「ＭＩＣＲＯＴＩＴＡＮＩＵＭ ＤＩＯＸＩＤＥ ＭＴ １００ Ｓ」など）；
・酸化鉄およびステアリン酸鉄（供給業者のＴＡＹＣＡの製品「ＭＩＣＲＯＴＩＴＡＮＩＵＭ ＤＩＯＸＩＤＥ ＭＴ １００ Ｆ」など）；
酸化亜鉛およびステアリン酸亜鉛（供給業者のＴＡＹＣＡの製品「ＢＲ ３５１」など）；
・シリカおよびアルミナ（シリコーンで処理されたもの）（供給業者のＴＡＹＣＡの製品「ＭＩＣＲＯＴＩＴＡＮＩＵＭ ＤＩＯＸＩＤＥ ＭＴ ６００ ＳＡＳ」、「ＭＩＣＲＯＴＩＴＡＮＩＵＭ ＤＩＯＸＩＤＥ ＭＴ ５００ ＳＡＳ」、または「ＭＩＣＲＯＴＩＴＡＮＩＵＭ ＤＩＯＸＩＤＥ ＭＴ １００ ＳＡＳ」など）；
・シリカ、アルミナ、およびステアリン酸アルミニウム（シリコーンで処理されたもの）（供給業者のＴＩＴＡＮ ＫＯＧＹＯの製品「ＳＴＴ−３０−ＤＳ」など）；
・シリコーン処理されたシリカ（供給業者のＫＥＭＩＲＡの製品「ＵＶ−ＴＩＴＡＮ Ｘ １９５」など）；
・シリコーン処理されたアルミナ（供給業者のＩＳＨＩＨＡＲＡの製品「ＴＩＰＡＱＵＥ ＴＴＯ−５５（Ｓ）」、または供給業者のＫＥＭＩＲＡの「ＵＶ ＴＩＴＡＮ Ｍ ２６２」など）；
・トリエタノールアミン（供給業者のＴＩＴＡＮ ＫＯＧＹＯの製品「ＳＴＴ−６５−Ｓ」など）；
・ステアリン酸（供給業者のＩＳＨＩＨＡＲＡの製品「ＴＩＰＡＱＵＥ ＴＴＯ−５５（Ｃ）」など）；
・ヘキサメタリン酸ナトリウム（供給業者のＴＡＹＣＡの製品「ＭＩＣＲＯＴＩＴＡＮＩＵＭ ＤＩＯＸＩＤＥ ＭＴ １５０ Ｗ」など）；
・オクチルトリメチルシランで処理されたＴｉＯ２（供給業者のＤＥＧＵＳＳＡ ＳＩＬＩＣＥＳから「Ｔ ８０５」という商品名で販売されているもの）；
・ポリジメチルシロキサンで処理されたＴｉＯ２（供給業者のＣＡＲＤＲＥから「７０２５０ Ｃａｒｄｒｅ ＵＦ ＴｉＯ２ＳＩ３」という商品名で販売されているもの）；
・ポリジメチルヒドロゲノシロキサンで処理されたＴｉＯ２アナターゼ／ルチル（供給業者のＣＯＬＯＲ ＴＥＣＨＮＩＱＵＥＳから「ＭＩＣＲＯ ＴＩＴＡＮＩＵＭ ＤＩＯＸＩＤＥ ＵＳＰ ＧＲＡＤＥ ＨＹＤＲＯＰＨＯＢＩＣ」という商品名で販売されているもの）。
【０２１３】
被覆されていない酸化チタン顔料は、例えば、供給業者のＴＡＹＣＡから「ＭＩＣＲＯＴＩＴＡＮＩＵＭ ＤＩＯＸＩＤＥ ＭＴ ５００ Ｂ」または「ＭＩＣＲＯＴＩＴＡＮＩＵＭ ＤＩＯＸＩＤＥ ＭＴ６００ Ｂ」という商品名で、供給業者のＤＥＧＵＳＳＡから「Ｐ ２５」という名称で、供給業者のＷＡＣＫＥＲから「Ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ ｔｉｔａｎｉｕｍ ｏｘｉｄｅ ＰＷ」という名称で、供給業者のＭＩＹＯＳＨＩ ＫＡＳＥＩから「ＵＦＴＲ」という名称で、供給業者のＴＯＭＥＮから「ＩＴＳ」という名称で、さらに供給業者のＴＩＯＸＩＤＥから「ＴＩＯＶＥＩＬ ＡＱ」という名称で販売されている。
【０２１４】
被覆されていない酸化亜鉛顔料の例は以下のものである。
・「Ｚ−ｃｏｔｅ」という名称で供給業者のＳｕｎｓｍａｒｔから販売されているもの；
・「Ｎａｎｏｘ」という名称で供給業者のＥｌｅｍｅｎｔｉｓから販売されているもの；
・「Ｎａｎｏｇａｒｄ ＷＣＤ ２０２５」という名称で供給業者のＮａｎｏｐｈａｓｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓから販売されているもの。
【０２１５】
被覆酸化亜鉛顔料の例は以下のものである。
・「Ｚｉｎｃ ｏｘｉｄｅ ＣＳ−５」という名称で供給業者のＴｏｓｈｉｂｉから販売されているもの（ポリメチルヒドロゲノシロキサンで被覆されたＺｎＯ）；
・「Ｎａｎｏｇａｒｄ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ ＦＮ」という名称で供給業者のＮａｎｏｐｈａｓｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓから販売されているもの（Ｆｉｎｓｏｌｖ ＴＮ（Ｃ１２〜Ｃ１５アルコールベンゾアート）中中の４０％分散液）；
・「ＤＡＩＴＯＰＥＲＳＩＯＮ ＺＮ−３０」および「ＤＡＩＴＯＰＥＲＳＩＯＮ Ｚｎ−５０」という名称で供給業者のＤａｉｔｏから販売されているもの（シクロポリメチルシロキサン／オキシエチレン化ポリジメチルシロキサン中に、シリカおよびポリメチルヒドロゲノシロキサンで被覆されたナノ酸化亜鉛を３０％〜５０％含む分散液）；
・「ＮＦＤ Ｕｌｔｒａｆｉｎｅ ＺｎＯ」という名称で供給業者のＤａｉｋｉｎから販売されているもの（パーフルオロアルキルリン酸とパーフルオロアルキルエチル系コポリマーとで被覆されたＺｎＯが、シクロペンタシロキサン中に分散しているもの）；
・「ＳＰＤ−Ｚ１」という名称で供給業者のＳｈｉｎ−Ｅｔｓｕから販売されているもの（シリコーングラフト化アクリルポリマーで被覆されたＺｎＯが、シクロジメチルシロキサン中に分散しているもの）；
・「Ｅｓｃａｌｏｌ Ｚ１００」という名称で供給業者のＩＳＰから販売されているもの（ＺｎＯで処理されたアルミナが、エチルヘキシルメトキシシンナメート／ＰＶＰ−ヘキサデセンコポリマー／メチコン混合物中に分散しているもの）；
・「Ｆｕｊｉ ＺｎＯ−ＳＭＳ−１０」という名称で供給業者のＦｕｊｉ Ｐｉｇｍｅｎｔから販売されているもの（シリカおよびポリメチルシルセスキオキサンで被覆されたＺｎＯ）；
・「Ｎａｎｏｘ Ｇｅｌ ＴＮ」という名称で供給業者のＥｌｅｍｅｎｔｉｓから販売されているもの（Ｃ１２〜Ｃ１５アルコールベンゾアートおよびヒドロキシステアリン酸重縮合物中に濃度５５％で分散しているＺｎＯ）。
【０２１６】
被覆されていない酸化セリウム顔料は、「ＣＯＬＬＯＩＤＡＬ ＣＥＲＩＵＭ ＯＸＩＤＥ」という名称で供給業者のＲＨＯＮＥ ＰＯＵＬＥＮＣから販売されている。
【０２１７】
被覆されていない酸化鉄顔料は、例えば、供給業者のＡＲＮＡＵＤから「ＮＡＮＯＧＡＲＤ ＷＣＤ ２００２（ＦＥ ４５Ｂ）」、「ＮＡＮＯＧＡＲＤ ＩＲＯＮ ＦＥ ４５ ＢＬ ＡＱ」、「ＮＡＮＯＧＡＲＤ ＦＥ ４５Ｒ ＡＱ」、「ＮＡＮＯＧＡＲＤ ＷＣＤ ２００６（ＦＥ ４５Ｒ）」という名称で、または供給業者のＭＩＴＳＵＢＩＳＨＩから「ＴＹ−２２０」という名称で販売されている。
【０２１８】
被覆酸化鉄顔料は、例えば、供給業者のＡＲＮＡＵＤから「ＮＡＮＯＧＡＲＤ ＷＣＤ ２００８（ＦＥ ４５Ｂ ＦＮ）」、「ＮＡＮＯＧＡＲＤ ＷＣＤ ２００９（ＦＥ ４５Ｂ ５５６）」、「ＮＡＮＯＧＡＲＤ ＦＥ ４５ ＢＬ ３４５」、「ＮＡＮＯＧＡＲＤ ＦＥ ４５ ＢＬ」という名称で、または供給業者のＢＡＳＦから「ＴＲＡＮＳＰＡＲＥＮＴ ＩＲＯＮ ＯＸＩＤＥ」という名称で販売されている。
【０２１９】
シリカで被覆されている同重量の二酸化セリウムおよび二酸化チタンの混合物（供給業者のＩＫＥＤＡから「ＳＵＮＶＥＩＬＡ」という名称で販売されている）も含め、金属酸化物（特に二酸化チタンおよび二酸化セリウム）の混合物、ならびに二酸化チタンおよび二酸化亜鉛の混合物で、アルミナ、シリカおよびシリコーンで被覆されたもの（供給業者のＫＥＭＩＲＡが販売している製品「Ｍ ２６１」など）、またはアルミナ、シリカおよびグリセリンで被覆されたもの（供給業者のＫＥＭＩＲＡが販売している製品「Ｍ ２１１」など）も挙げることができる。
【０２２０】
１種または複数種の無機遮蔽剤は、本発明の組成物中に、組成物の全重量を基準にして０．１重量％〜１５重量％の範囲、好ましくは０．２重量％〜１０重量％の範囲の濃度で存在してもよい。
【０２２１】
１種または複数種の添加剤は、ＣＴＦＡ Ｃｏｓｍｅｔｉｃ Ｉｎｇｒｅｄｉｅｎｔ Ｈａｎｄｂｏｏｋ，１０ｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｃｏｓｍｅｔｉｃ ａｎｄ Ｆｒａｇｒａｎｃｅ Ａｓｓｎ，Ｉｎｃ．，Ｗａｓｈｉｎｇｔｏｎ ＤＣ（２００４）（本明細書に援用する）に挙げられているものから選択してもよい。
【０２２２】
生薬形態
フォトニック粒子は、皮膚、唇、毛髪または爪用の、化粧水、クリーム、乳液、ポマード、ジェル、フィルム、パッチ、スティック、パウダー、ペーストに使用できる。
【０２２３】
施与の方法
フォトニック粒子を含む組成物は、手で、または施与器を用いて施与することができる。
【０２２４】
施与は、例えば、噴霧または圧電装置による射出によって、あるいは中間支持体上に付着した組成物の層を移すことによって行うこともできる。
【０２２５】
パッケージ
組成物は、任意のパッケージ手段（特に熱可塑性材料から作られたもの）の中に、あるいはその目的のために用意された任意の支持体上にパッケージ化できる。
【０２２６】
パッケージ手段は、ボトル、ポンプボトル、エアロゾルボトル、チューブ、小袋またはポットであってもよい。
【実施例】
【０２２７】
ナノ粒子は、供給業者のＳＯＫＥＮの２８５ｎｍ ＰＭＭＡナノ粒子１００％で構成される。
【０２２８】
噴霧乾燥で得られたフォトニック粒子は、粒径がおよそ３０μｍであった。
【０２２９】
図４は、本発明のフォトニック粒子を含んでいる様々な組成物の吸収スペクトルを示す。
【０２３０】
特に明記されていない限り、「１種（１つ）の〜を含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ ａ）」という表現は、「少なくとも１種（少なくとも１つ）の〜を含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ ａｔ ｌｅａｓｔ ｏｎｅ）」を意味すると解釈されるべきである。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトニック粒子の分散物を用いて種々の物質を光防護する方法、および組成物ならびにヒトの角質物質を処理する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在の光防護組成物は、様々なスクリーニング剤、特に可溶性または不溶性の有機遮蔽剤（ｏｒｇａｎｉｃ ｓｃｒｅｅｎｓ）を組み合わせて用いている。前記遮蔽剤のそれぞれの吸収スペクトルは、紫外線スペクトル全体をカバーするほど十分広いことはめったになく、組み合わせる必要がある。
【０００３】
さらに、多数の可溶性有機遮蔽剤では、組成物に通常含まれる成分との適合性の問題が起こることがある。これは、特に他の有機遮蔽剤との相互作用または活性分子（酸化防止剤またはビタミンなど）との相互作用の結果として起こり、それらの光安定性が、完全に申し分のないものとはならないことがある。多数の特許がこの問題を解決することに関係しており、この問題がなくなっていないことを示している。
【０００４】
化粧品以外の多数の工業分野でも、紫外線遮蔽剤を用いて紫外線照射（特に太陽放射）の影響から様々な物質を光防護している。
【０００５】
このことは、紫外線照射に常時さらされる物体（建築材料、自動車工業に使用される材料、またはプラスチックパッケージ材料など）に施与するための保護皮膜配合物、塗料、またはインクに関して当てはまる。特に、着色剤配合物用の紫外線遮蔽剤の開発が行われており、その遮蔽剤は、透明で、光安定性があり、前記配合物中に含まれる通常の成分と適合性があり、かつ所望の耐光性を色に付与するのに有効である必要がある。
【０００６】
このことは、プラスチック材料の製造に特に使用される貯蔵安定性のあるポリマー組成物に関しても当てはまる。そうした組成物の場合、ポリマーの製造および変形方法に特に適合するようにされた紫外線遮蔽剤の開発が求められており、特に、それらは押出時における高温に耐えることができなければならない。
【０００７】
天然繊維および／または人造繊維および／または合成繊維工業では、特にポリアミド系繊維（ナイロンなど）の製造との関連で、前記繊維の製造方法と適合性のある広域スペクトルの光安定性紫外線遮蔽剤に関して開発が行われており、そのフィルターは、高温に強く、押出し時に紫外線防護性（ＵＶ ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ）をもたせることができるものである。さらに、繊維との親和性、繊維との接着性が良好である（従って特に、頻繁な洗浄に対して良好な抵抗性を示す）紫外線遮蔽剤の開発が行われている。開発が行われている紫外線遮蔽剤は、織物繊維を十分に保護すると共に前記繊維に接する皮膚およびヒトの他の角質物質を十分に保護することも行わなければならない。
【０００８】
無機ガラスまたは有機ガラス工業（特に、眼科学に用いられるガラス）では、広域スペクトルとなるもので（ＵＶＡ領域とＵＶＢ領域で有効）、しかも光安定性があり、透明であって、様々なガラスの処理技法（ガラスマトリックスに定着させるか、または光防護皮膜を例えばポリカーボネートガラスに施与する方法など）と適合性のある紫外線遮蔽剤を開発している。
【０００９】
出願の国際公開第０６／１３６７２４号パンフレットは、格子を形成することができ、かつＵＶＢ、ＵＶＡおよび赤外線における光学的遮蔽特性を有する単分散粒子を用いることが周知であることを示している。その出願では、粒子は皮膚上に構造化されなければならない。
【００１０】
Ｊ．Ｗａｎｇによる公表文献（Ｐｏｌｙｍ Ｉｎｔ ５７：５０９−５１４，２００８）によると、著者らは様々な直径（９５ｎｍ、１１４ｎｍ、１３４ｎｍ、１４２ｎｍおよび１５０ｎｍ）の単分散のＰＭＭＡ球体を製造した。各直径は、粒子が構造化されて格子になった場合の反射最大値（２５０ｎｍ、２８０ｎｍ、３３０ｎｍ、３５０ｎｍ、３８０ｎｍ）に対応する。
【００１１】
出願の国際公開第０８／００７２６７号パンフレットは、メーキャップ用途および紫外線光防護用途における、構造化されてフォトニック結晶になることが可能な中空粒子の使用を記載している。
【００１２】
特許である米国特許第６８９４０８６号明細書は、様々なフォトニック粒子、特に有色のもの、または可視スペクトルの外側の電磁放射線を反射するフォトニック粒子について記載している。
【００１３】
出願である米国特許出願公開第２００３／０１１６０６２号明細書および米国特許出願公開第２００６／０００２８７５号明細書は、フォトニック粒子を記載しているが、太陽の紫外線放射に対する光防護方法にそれらを使用してはいない。
【００１４】
Ａ．Ｓｔｅｉｎによる公表文献（Ｃｈｅｍ Ｍａｔｅｒ ２００２，１４，３３０５−３３１５）は、長波長のＵＶＡスペクトル（３７４ｎｍ）に反射バンドのあるフォトニック粒子を開示している。
【００１５】
Ｅ．Ｔｈｏｍａｓによる公表文献（Ｎａｔ Ｍａｔ Ｖｏｌ ６，９５７−９６０，２００８）は、明確な順序のある複数の反射ピークを含む反射スペクトルを有するゲルを開示している。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
ＵＶＡおよび／またはＵＶＢスペクトルをカバーするのに使用でき、まったく無害であり、環境に対して不活性で、光安定性があり、かつ光反応性がない不溶性遮蔽物質であって、それらを含む組成物の他の成分との適合性の問題がなく、パッケージ材料の機械的性質を低下させるようなことはなく、またナノ粒子を放出することもなく、さらに可視光線を透過させるような、不溶性遮蔽物質を役立てることが求められている。
【００１７】
紫外線照射を遮蔽し、かつ工業材料（上述したものなど）を光防護するようにした新規の物質を開発することも求められている。
【００１８】
本発明は、こうした目的のすべてまたは一部を達成することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
第１の例示的実施態様では、本発明は、太陽の紫外線照射から物質を光防護する方法であって、１μｍ［マイクロメートル］〜５００μｍの範囲の平均粒径を有するフォトニック粒子の分散物を含んでいて、各粒子が単分散のナノ粒子または空隙の、回折する配列を含んでおり、前記配列の回折スペクトルが２５０ｎｍ［ナノメートル］〜４００ｎｍの波長範囲に一次反射ピークを含んでいる組成物によって前記物質を処理することを含むか、あるいは前記フォトニック粒子の分散物を前記物質に混ぜ込むことを含む、方法を提供する。
【００２０】
第２の例示的実施態様では、本発明は、１μｍ〜５００μｍの範囲の平均粒径を有するフォトニック粒子の分散物を含んでいて、各粒子が単分散のナノ粒子または空隙の、回折する配列を含んでおり、前記配列の回折スペクトルが２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に一次反射ピークを含んでいる化粧料組成物を施与することを含む、太陽の紫外線照射からヒトの角質物質を光防護する、非治療的な、特に化粧的な方法を提供する。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】マトリックスなしで凝集しているナノ粒子１０を含むフォトニック粒子１を示す。
【図２】マトリックス２０中に凝集しているナノ粒子（互いに接触している）を含む「直接オパール」型のフォトニック粒子を示す。
【図３】マトリックス２０中に分散しているナノ粒子を含む「直接オパール」型のフォトニック粒子を示す。
【図４】本発明のフォトニック粒子を含んでいる様々な組成物の吸収スペクトルを示す。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
本発明との関連では、「回折する配列」という用語は、用途に応じて、紫外線を遮蔽し、かつ／または色を生み出し、かつ／またはスペクトル反射を変えるような仕方で、入射光を回折させる粒子または空隙の集まりを意味する。
【００２３】
２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に一次反射ピークが存在することは、配列が、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲の少なくとも１つの波長の光を１に等しい干渉次数で回折させ、それによって少なくとも部分的にそれを反射することを意味する。
【００２４】
紫外線のそのような一次反射ピークは、続く順位の反射ピークがより短い波長側に位置し、したがって可視領域の外側にあることを示唆している。このため配列は無色になり、無色の組成物の製造が容易になる。このことは遮光剤用途の場合に好ましい。
【００２５】
例を挙げれば、本発明による光防護方法に使用する組成物は、ＳＰＦ指標が少なくとも１０、好ましくは１５、より好ましくは少なくとも３０、４５または６０である。ＳＰＦ指標（サンスクリーンプロテクションファクター（Ｓｕｎｓｃｒｅｅｎ Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ Ｆａｃｔｏｒ））は、論文「Ａ ｎｅｗ ｓｕｂｓｔｒａｔｅ ｔｏ ｍｅａｓｕｒｅ ｓｕｎｓｃｒｅｅｎ ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ ｆａｃｔｏｒｓ ｔｈｒｏｕｇｈｏｕｔ ｔｈｅ ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ ｓｐｅｃｔｒｕｍ」（Ｊ．Ｓｏｃ．Ｃｏｓｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．，４０，１２７−１３３（Ｍａｙ／Ｊｕｎｅ １９８９））で定義されている。
【００２６】
組成物の配合は、例えば、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲の少なくとも１つの波長で、好ましくは前記範囲の全体にわたって、組成物の透過率が７０％、６０％、５０％、４０％、３０％、２０％、１０％、５％以下、または好ましくは１％以下となるように選択する。遮蔽は、透過率が２５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲で低い場合にはいっそうよい。
【００２７】
他の例示的実施態様によれば、本発明は、本発明の光防護方法を実施するための光防護組成物を提供する。そのような組成物は、上記の特性のいずれかを有している。
【００２８】
他の例示的実施態様によれば、本発明は、本発明のフォトニック粒子を化粧的に許容される媒体中に分散させることを含む、化粧料組成物の製造方法を提供する。
【００２９】
本発明の他の例示的実施態様は、太陽の紫外線照射からヒトの角質物質を光防護する方法、特に皮膚癌の出現の危険性を減らす方法に用いる組成物であって、
前記組成物が１μｍ〜５００μｍの範囲の平均粒径を有するフォトニック粒子の分散物を含み、各粒子が単分散のナノ粒子または空隙の、回折する配列を含み、前記配列の回折スペクトルが２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に一次反射ピーク含んでいる、組成物を提供する。
【００３０】
この組成物は、逆のことを特に明記していない限り、以下に記載する本発明の化粧料組成物のあらゆる特性を示しうる。
【００３１】
他の例示的実施態様によれば、本発明は、１μｍ［マイクロメートル］〜５００μｍの範囲、特に１μｍ〜３００μｍの範囲の平均粒径を有していて、中空ナノ粒子の、回折する配列を含んでいるフォトニック粒子を提供する。
【００３２】
他の例示的実施態様では、本発明は、
・太陽の紫外線照射からヒトの角質物質を光防護する、非治療的な、特に化粧的な方法；
・ヒトの角質物質を着色し、かつ／または明るくする方法；
・ヒトの角質物質のスペクトル反射を変える方法であって、
前記方法のそれぞれが、１μｍ〜５００μｍの範囲（特に１μｍ〜３００μｍの範囲）の平均粒径を有するフォトニック粒子の分散物を含んでいて、前記フォトニック粒子のそれぞれが中空ナノ粒子の、回折する配列を含んでいるような化粧料組成物を施与することを含む方法を提供する。
【００３３】
本発明の他の例示的実施態様はまた、太陽の紫外線照射からヒトの角質物質を光防護する方法、特に皮膚癌の出現の危険性を減らす方法に用いるフォトニック粒子であって、フォトニック粒子が１μｍ〜５００μｍの範囲、特に１μｍ〜３００μｍの範囲の平均粒径を有しかつ中空ナノ粒子の、回折する配列を含む、フォトニック粒子を提供する。
【００３４】
本発明の他の例示的実施態様は、ヒトの角質物質を太陽の紫外線照射から光防護する方法、特に皮膚癌の出現の危険性を減らす方法に用いる組成物であって、組成物が、１μｍ〜５００μｍの範囲（特に１μｍ〜３００μｍの範囲）の平均粒径を有するフォトニック粒子の分散物を含み、かつ中空ナノ粒子の、回折する配列を含む、組成物を提供する。本発明の他の例示的実施態様は、各粒子が２未満の形状係数を有するフォトニック粒子の分散物を含み、前記粒子が、熱架橋性、電子架橋性（ｅｌｅｃｔｒｏｃｒｏｓｓｌｉｎｋａｂｌｅ）または光架橋性のマトリックス中に空隙または単分散ナノ粒子の、回折する配列を含む、組成物（特に化粧料組成物）を提供する。
【００３５】
更なる例示的実施態様によれば、本発明は、
・太陽の紫外線照射からヒトの角質物質を光防護する、非治療的な、特に化粧的な方法；
・ヒトの角質物質を着色し、かつ／または明るくする方法；
・ヒトの角質物質のスペクトル反射を変える方法であって、
前記方法のそれぞれが、前記角質物質に、各粒子が２未満の形状係数を有するフォトニック粒子の分散物を含んでいる化粧料組成物を施与することを含み、前記粒子が、熱架橋性、電子架橋性または光架橋性のマトリックス中に空隙または単分散ナノ粒子を含んでいる回折する配列を含む方法を提供する。
【００３６】
本発明の他の例示的実施態様は、太陽の紫外線照射からヒトの角質物質を光防護する方法、特に皮膚癌の出現の危険性を減らす方法に用いる組成物であって、
前記組成物が、各粒子が２未満の形状係数を有するフォトニック粒子の分散物を含み、前記粒子が熱架橋性、電子架橋性または光架橋性のマトリックス中に空隙または単分散ナノ粒子の回折する配列を含んでいる、組成物を提供する。
【００３７】
他の例示的実施態様では、本発明は、
・上で規定するフォトニック粒子の分散物を含む少なくとも１種の組成物を前記インクまたは塗料あるいは前記皮膜に含有させることを含む、インク、塗料、または皮膜を光防護する方法；
・少なくとも１種の合成または天然ポリマーから製造された物質を光防護する方法であって、上で規定するフォトニック粒子の分散物を含んでいる組成物で前記ポリマーを処理することを含むか、または少なくとも前記組成物を前記物質に混ぜ込むことを含む、方法；
・有機または無機ガラスを光防護する方法であって、上で規定するフォトニック粒子の分散物を含んでいる少なくとも１種の組成物で前記ガラスを処理することを含むか、または少なくとも前記組成物を前記ガラスに混ぜ込むことを含む、方法；
・少なくとも天然繊維および／または人造繊維および／または合成繊維（織物または紙など）を含む物質を光防護する方法であって、上で規定するフォトニック粒子の分散物を含んでいる少なくとも１種の組成物で前記物質を処理することを含むか、または少なくとも前記組成物を前記物質に混ぜ込むことを含む、方法
を提供する。
【００３８】
本発明のポリマー材料は、特に、半製品または物品にするために一般に高温下および圧力下で成形可能または加工可能なプラスチック材料である。
【００３９】
前記物質に用いられるポリマーは、好ましくは次の３つの主なカテゴリーから選択される：
（ｉ）熱可塑性プラスチック。例えば、
・アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン（ＡＢＳ）コポリマー；
・酢酸セルロース（ＣＡ）ポリマー；
・発泡ポリスチレン（ＥＰＳ）；
・ポリスチレン（ＰＳ）；
・ポリアミド（ＰＡ）；
・ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）；
・ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）；
・ポリカーボネート（ＰＣ）；
・ポリエチレン（ＰＥ）；
・ポリプロピレン（ＰＰ）；
・ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）；
・ポリホルムアルデヒド（ＰＯＭ）；
・ポリ酢酸ビニル（ＰＶＡＣ）；
・ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）；
・スチレン−アクリロニトリル（ＳＡＮ）コポリマーなど；
（ｉｉ）熱硬化性プラスチック。例えば、
・ポリエポキシド（ＥＰ）；
・メラミン−ホルムアルデヒド（ＭＦ）コポリマー；
・フェノール−ホルムアルデヒド（ＰＦ）コポリマー；
・硬化ポリウレタン（ＰＵＲ）；
・尿素−ホルムアルデヒド（ＵＦ）コポリマー；
・不飽和ポリエステル
など。
（ｉｉｉ）テクニカルプラスチック（ｔｅｃｈｎｉｃａｌ ｐｌａｓｔｉｃｓ）。例えば、
・ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）
など。
【００４０】
挙げることのできる天然繊維の例は、例えば、次のとおりである。
・植物繊維（綿、アマの種子、大麻、ジュート、わら、またはラテックスなど）、
・動物繊維（羊毛、絹、モヘヤ、アンゴラ、カシミヤまたはアルパカなど）。
【００４１】
人造繊維は一般に、天然物質（ラニタール用のミルクカゼイン、またはビスコース用の様々な植物（マツ樹皮、タケ、ダイズ、カバノキ）のセルロースなど）を化学処理する（溶解し、その後に析出させる）ことによって得る。こうした化学処理は、紡糸可能な（ダイの小さな孔を通過できる）製品を製造することを意図している。ダイの出口において、得られたフィラメントは、蚕糸のように一緒にして連続フィラメントにするか、または羊毛のように切断して不連続繊維にする。
【００４２】
挙げることのできる人造繊維の例は、例えば、
・酢酸セルロース；
・三酢酸セルロース；および
・ビスコース
である。
【００４３】
紡織繊維の具体例は以下のものである。
・ポリ乳酸；
・アクリル繊維；
・アラミド；
・エラステイン（ｅｌａｓｔｈａｎｅ）（Ｌｙｃｒａ（登録商標））；
・クロロ繊維（ｃｈｌｏｒｏｆｉｂｅｒ）；
・モダクリリック；
・ポリアミド；
・ポリベンゾイミダゾール；
・ポリエステル；
・ポリエチレン；
・ポリフェノール；および
・ポリ尿素／ポリウレタン。
【００４４】
挙げることのできる本発明に用いるのに適したガラスの例は、ケイ酸塩系の従来の無機ガラス、光学用のガラス、眼科学用のガラス、特に有機ガラス（ポリカーボネート、例えばビスフェノールＡポリカーボネートまたはアリルポリカーボネート、自動車工業に使用されるもの（フロントガラス）など）などである。
【００４５】
フォトニック粒子
本発明との関連では、オパールとしても知られている。
【００４６】
フォトニック粒子は、形状係数が２未満、特に１．７５未満であってもよい。粒子が長円形である場合、形状係数は、その最大縦断寸法（ｌａｒｇｅｓｔ ｌｏｎｇｉｔｕｄｉｎａｌ ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ）と最大横断寸法との比率を表す。フォトニック粒子は球形であってもよく、その場合の形状係数は１である。
【００４７】
形状係数が２未満である場合、重なりうる平たい粒子と比べて、表面被覆率の点で有利でありうる。
【００４８】
フォトニック粒子の平均粒径は、１μｍ〜５００μｍの範囲、例えば１μｍ〜３００μｍの範囲であってもよい。「平均粒径」という用語は、集団の半分における統計的粒度（ｓｔａｔｉｓｔｉｃａｌ ｇｒａｉｎ−ｓｉｚｅ ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ）（Ｄ（０．５）と称される）を表す。
【００４９】
本発明のフォトニック粒子は、マトリックスなしで凝集しているか、または任意のタイプのマトリックス中に分散している（例えば、熱架橋性、電子架橋性または光架橋性のマトリックス中に分散している）、中実または中空ナノ粒子を含みうる。
【００５０】
フォトニック粒子の重量含有率は、施与する前に、組成物の全重量を基準にして０．１％〜２０％の範囲、好ましくは１％〜１０％の範囲であってもよい。
【００５１】
本発明のフォトニック粒子は、種々の実施形態にしたがって、以下に記載するように、直接オパール（ｄｉｒｅｃｔ ｏｐａｌ）、逆オパールまたは擬似逆オパール（ｐｓｅｕｄｏ ｉｎｖｅｒｓｅ ｏｐａｌ）に分類されうる。
【００５２】
フォトニック粒子は無色であってもよい。
【００５３】
フォトニック粒子は、中実であっても中空であってもよい。
【００５４】
直接オパール
「直接オパール」型のフォトニック粒子では、中実の（任意選択で複合の）ナノ粒子の配列が用いられる。
【００５５】
フォトニック粒子は、マトリックスなしで凝集しているナノ粒子を含んでいてもよい。マトリックスなしで凝集しているナノ粒子１０を含むそのようなフォトニック粒子１を図１に示す。
【００５６】
そのような粒子を製造する第１の方法は、Ｓ−Ｈ Ｋｉｍ ｅｔ ａｌによる公表文献ＪＡＣＳ，２００６，１２８，１０８９７−１０９０４に記載されているように、油中水型エマルジョン（水性相が単分散ナノ粒子を含む）を得るステップと、その後のフォトニック粒子を得るステップ（得られたエマルジョンにマイクロ波を照射するステップを含む）を含みうる。
【００５７】
Ｓ−Ｍ Ｙａｎｇによる公表文献Ｌａｎｇｍｕｉｒ ２００５，２１，１０４１６−１０４２１に記載されているように、第２の製造ステップは、エレクトロスプレーのもとでＳｉＯ２またはポリスチレンナノ粒子を凝集させるステップを含みうる。
【００５８】
「直接オパール」型のフォトニック粒子は、Ｌｉ ｅｔ ａｌによる公表文献「Ｏｒｄｅｒｅｄ ｍａｃｒｏｐｏｒｏｕｓ ｔｉｔａｎｉａ ｐｈｏｔｏｎｉｃ ｂａｌｌｓ ｂｙ ｍｉｃｒｏｍｅｔｅｒ−ｓｃａｌｅ ｓｐｈｅｒｉｃａｌ ａｓｓｅｍｂｌｙ ｔｅｍｐｌａｔｉｎｇ」（Ｊ．Ｍａｔｅｒ．Ｃｈｅｍ．，２００５，１５，２５５１−２５５６）に記載されているような方法などでも得ることができる。
【００５９】
「直接オパール」型のフォトニック粒子は、図２に示すようにマトリックス２０中に凝集しているナノ粒子（互いに接触している）を含むこともでき、あるいは図３に示すようにマトリックス２０中に分散しているナノ粒子を含むこともできる。
【００６０】
上述のものに加えて幾つかの方法、特にＨｏｎｅｙｗｅｌｌの出願である米国特許出願公開第２００３／０１４８０８８号明細書に記載されている、ケイ素マトリックス中にＳｉＯ２粒子を凝集させる方法が、前記フォトニック粒子の製造に好適でありうる。
【００６１】
Ｄ．Ｐｉｎｅによる公表文献Ｌａｎｇｍｕｉｒ ２００５，２１，６６６９−６６７４に記載されているように、第２の方法は、ＰＭＭＡナノ粒子のエマルジョンから凝集させるステップを含んでもよい。
【００６２】
「直接オパール」型のフォトニック粒子は、光架橋性、電子架橋性または熱架橋性のマトリックス中に分散しているナノ粒子を含むことができる。
【００６３】
光架橋性、電子架橋性または熱架橋性（特に光架橋性または熱架橋性）の有機マトリックスを使用するのが有利なのは、フォトニック粒子の光学的性質を変えるために、マトリックス中に含まれるナノ粒子間の距離を調節できるからである。この距離は、光架橋、電子架橋または熱架橋の前、特に光架橋または熱架橋の前の、有機マトリックス中に分散しているナノ粒子の重量分率に依存しうる。前記重量分率は、熱架橋、電子架橋または光架橋の前におけるナノ粒子の重量とマトリックスの重量との比率に等しい。
【００６４】
本発明の好ましい実施態様では、ナノ粒子のこの分率は、１％〜９０重量％の範囲、好ましくは５％〜６０重量％の範囲である。
【００６５】
この型のフォトニック粒子は、幾つかの乳化方法で得ることができ、例えば、Ｓ−Ｈ Ｋｉｍ ｅｔ ａｌによる公表文献Ａｄｖ Ｍａｔｅｒ ２００８，９９９９，１−７に記載されている方法であって、ＵＶのもとで光重合できる光架橋性ＥＴＰＴＡ（エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリラート）樹脂中に分散しているシリカ粒子を使用する方法、あるいはＬｉ ｅｔ ａｌによる「Ｏｒｄｅｒｅｄ ｍａｃｒｏｐｏｒｏｕｓ ｔｉｔａｎｉａ ｐｈｏｔｏｎｉｃ ｂａｌｌｓ ｂｙ ｍｉｃｒｏｍｅｔｅｒ−ｓｃａｌｅ ｓｐｈｅｒｉｃａｌ ａｓｓｅｍｂｌｙ ｔｅｍｐｌａｔｉｎｇ」（Ｊ．Ｍａｔｅｒ．Ｃｈｅｍ．，２００５，１５，２５５１−２５５６）に記載されている方法で得ることができる。
【００６６】
実施態様によっては、フォトニック粒子は、ケイ素マトリックス中で凝集しているポリスチレン（ＰＳ）のナノ粒子を含む。
【００６７】
実施態様によっては、フォトニック粒子は、熱架橋性、電子架橋性または光架橋性のシリコーン樹脂中に分散しているポリスチレン（ＰＳ）のナノ粒子を含む。
【００６８】
逆オパール
「逆オパール」型のフォトニック粒子は、ナノ粒子の代わりに孔を含む。
【００６９】
これらは、例えば、か焼または酸加水分解（例えば、５％フッ化水素酸を使用）してナノ粒子を破壊した後（それにより、ナノ粒子の全部または一部の代わりに空間が残される）の直接オパールから得ることができる。破壊ステップにより、場合によっては、マトリックス中のナノ粒子の特徴である粒径が最高５０％まで減少することがありうる。
【００７０】
か焼（５００℃または１０００℃）は、有機ナノ粒子と無機マトリックスとをベースにしている直接オパールに対して実施してもよい。
【００７１】
酸加水分解（例えば、フッ化水素酸溶液を使用）は、無機ナノ粒子と有機マトリックスとをベースにしているオパールに対して実施してもよい。
【００７２】
逆オパールでは、ナノ粒子の占有体積とマトリックス（有機マトリックス、または無機マトリックス前駆体）の占有体積との比率が、９９／１〜８０／２０の範囲で変わりうるが、それにより、逆オパールの表面多孔性が変わるという影響がある。そのような変化は、Ｄ．Ｐｉｎｅによる公表文献Ｆ．Ｌａｎｇｅ，Ｌａｎｇｍｕｉｒ ２００５，２１，６６６９−６６７４で示されている。
【００７３】
逆オパールは、マトリックス中に凝集または分散しているナノ粒子を含む直接オパールに関して説明した方法を用い、その後、例えばか焼または酸加水分解でナノ粒子を破壊するステップを実施して製造することができる。これは、例えば、以下の公表文献に記載されているようにして行いうる。
・Ａ．Ｓｔｅｉｎ：Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．２００２，１４，３３０５−３３１５。この文献では、オパールは、ＺｒＯ物品の場合は酢酸ジルコニウムマトリックス中の単分散粒子から、ＴｉＯ２オパールの場合はＴｉプロポキシドから、あるいはシリカオパールの場合はテトラメトキシシラン（ＴＭＯＳ）から製造される。か焼の後、ＰＳ粒子は空隙に変わる。次いで、最終物質を粉砕してオパール粉末を製造する。
・Ｄ．Ｐｉｎｅ，Ｆ．Ｆ．Ｌａｎｇｅ：Ｌａｎｇｍｕｉｒ，Ｖｏｌ ２１，１５，２００５，６６６９−６６７４（乳化し、その後でＰＭＭＡ粒子のか焼ステップを行う方法を用いた、球形のオパールの製造について記載）。オパールの多孔率は、ＴｉアルコキシドとＰＭＭＡ粒子の量との比率で制御される。
・Ｆ．Ｆ．Ｌａｎｇｅ，Ｃｏｌｌｏｉｄ Ｐｏｌｙｍ Ｓｃｉ（２００３）２８２，７−１３（Ｔｉブトキシドの存在下でＰＭＭＡの粒子を乳化させ、次いでＰＭＭＡ粒子をか焼することを記載）。
【００７４】
もともと逆オパールは、更なる処理を施さなくても、多孔性物質であり、オパールの孔を満たすことができる媒体に応じて変化する光学的性質を有するものである。
【００７５】
どんな媒体中でも光学的性質が保たれるようにするために、逆オパール構造を有するフォトニック粒子は、粒子が浸漬される媒体から守られるように被覆し密封することができる。
【００７６】
前記被覆は、例えば、ポリマーまたはワックスを用いて実施してもよい。
【００７７】
幾つかの方法が可能である。
・噴霧乾燥：原理は、フォトニック粒子を被覆する物質を、蒸発点（ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ ｐｏｉｎｔ）が１００℃以下である揮発性溶剤（エタノール、アセトン、イソプロパノール、水など、またはそれらの混合物）中に溶かすかまたは分散させる（ラテックスの場合）というものである。その集合体を、溶剤または混合物が蒸発できる温度まで加熱したチャンバー内に噴霧すると、物質が付着して粒子が被覆される。それらは、そこからの回収のために周囲温度で容器内の空気流によって運ばれる。挙げることのできる例は、公表文献の「Ｅｆｆｅｃｔｓ ｏｆ ｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ ｃｏｎｄｉｔｉｏｎｓ ｏｎ ｔｈｅ ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃｓ ｏｆ ｅｔａｍｉｄａｚｏｌｅ ｓｐｒａｙ ｄｒｉｅｄ ｍｉｃｒｏｓｐｈｅｒｅｓ」（Ｗａｎｇ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｍｉｃｒｏｅｎｃａｐｓｕｌａｔｉｏｎ，２００２，ｖｏｌ．１９，Ｎｏ ４，４９５−５１０）である。
・空気流動床：空気流動床法（ｆｌｕｉｄｉｚｅｄ ａｉｒ ｂｅｄ）は、顆粒の乾燥および製造に頻用される方法である。穏やかな空気流を反応器の下部から導入する。懸濁液を噴霧器で製造チャンバー内に噴霧すると、懸濁液中の粒子が大きくなって、下部に落下する。そうすると、粒子を空気流で持ち上げることはできない。
【００７８】
限定されるわけではないが、粒子の被覆用物質は以下から選択できる。
・融点が４５℃より高いワックスおよび油脂（ｆａｔｓ）で、特にカルナウバろう、蜜ろう、ステアリン酸ステアリル、ポリエチレンワックス、ＤＩ １８／２２アジペート、テトラステアリン酸ペンタエリトリチル、テトラコンタニルステアレート（ｔｅｔｒａｃｏｎｔａｎｙｌ ｓｔｅａｒａｔｅ）、またはジオクタデシルカーボネート；
・セルロースおよびセルロース誘導体で、特にエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシブチルセルロース、またはＥｔｈｏｃｅｌ（登録商標）という商標で販売されているポリマー；
・分子量が１００００ｇ／ｍｏｌ［グラム／モル］〜８００００ｇ／ｍｏｌの範囲であるポリカプロラクトン；
・ポリ乳酸（ＰＬＡ）および比率が９０／１０〜５０／５０の範囲にあるポリ乳酸−グリコール酸（ＰＬＡＧＡ）；
・ポリビニルアルコール；
・ポリビニルピロリドンと酢酸ビニルとのコポリマー；およびＥｕｄｒａｇｉｔ（登録商標）Ｌ１００という商標で販売されているアクリル酸とメタクリル酸メチルとのコポリマー。
【００７９】
フォトニック粒子のコアとそれと共に製造されるシェルとの重量比は、９９．９／０．１〜８０／２０の範囲、好ましくは９９／１〜９０／１０の範囲であってもよい。
【００８０】
例示的実施態様では、マトリックスなしで凝集しているナノ粒子を含むフォトニック粒子は、任意選択により、皮膜で（例えば、上述のようにして）被覆することができる。
【００８１】
擬似逆オパール
「擬似逆」型のフォトニック粒子は、マトリックスなしで凝集している中空ナノ粒子または任意のタイプのマトリックス中に分散している（例えば、熱架橋性、電子架橋性または光架橋性のマトリックス中に分散している）中空ナノ粒子を含む。
【００８２】
中空ナノ粒子の直接オパール（「擬似逆オパール」とも称される）を製造することには、中空ナノ粒子を使用しない直接オパールと比べて指標の差が大きくなるため光学効果が増大するという利点、被覆されていない逆オパールと比べて多孔率がゼロであるという利点、また粒子が分散している媒体に光学的性質が依存するという利点がある。
【００８３】
中空ナノ粒子は、以下に記載するようなものであってもよい。
【００８４】
ヤヌス（Ｊａｎｕｓ）型フォトニック粒子
フォトニック粒子は、ヤヌス型のものであってもよい。すなわち、少なくとも１種の他のナノ粒子の回折する配列、さらには少なくとも２種類の他の回折する配列を含み、配列がそれぞれ独自の光学的性質（特に、異なる回折スペクトル）を有するものであってもよい。
【００８５】
第１の例示的実施態様では、ある配列は中実ナノ粒子を含むことができ、別の配列は中実または中空ナノ粒子を含むことができる。
【００８６】
変形形態では、ある配列は中空ナノ粒子を含むことができ、別の配列も中空ナノ粒子を含むことができる。
【００８７】
粒子が複数の配列を含む場合、光防護の範囲を広くするために、それぞれの配列が、例えば、紫外線スペクトルの別の部分をカバーすることができる。
【００８８】
複数の、回折する配列を含むフォトニック粒子は、Ｓ−Ｈ Ｋｉｍ ｅｔ ａｌによる公表文献Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．２００８，９９９９，１−７またはＫｉｍ ｅｔ ａｌによる公表文献「Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ ｃｏｌｌｏｉｄａｌ ｐｈｏｔｏｎｉｃ ｄｏｍｅｓ ａｎｄ ｂａｌｌｓ ｄｅｒｉｖｅｄ ｆｒｏｍ ｖｉｓｃｏｕｓ ｐｈｏｔｏｃｕｒａｂｌｅ ｓｕｓｐｅｎｓｉｏｎｓ」（Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．２００８，２０，３２１１−３２１７）に教示されているようにして得ることができる。
【００８９】
フォトニック粒子をその着色特性ゆえに（特に、顔色を均一にするために）少なくとも一部使用する場合、ナノ粒子の配列は、白色光で照らすと、それぞれ異なる色を生じうる。配列は、特に赤色、緑色および／または青色を生じうるので、それにより多数の色合い（特に、反射光の加算合成により白色）を得ることができる。
【００９０】
例えば、観測角度が３０°〜１５０°の範囲である場合に、可視スペクトルの反射率が６２０ｎｍ〜７００ｎｍの波長範囲で少なくとも５０％であるときには、配列により赤色が反射される。緑色の場合、想定される波長範囲は４９０ｎｍ〜５５０ｎｍであり、青色の場合は４１０ｎｍ〜４９０ｎｍである。配列は、フォトニック粒子のそれぞれの様々なゾーン（例えば、向かい合った２つのゾーン、例えば球形であるフォトニック粒子における全く反対側の２つの半球体ゾーン）によって光を回折させうる。
【００９１】
配列の１つは、少なくとも１つの一次反射ピークが２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲にある回折スペクトルを有していてもよく、別の配列は少なくとも１つの一次反射ピークが２５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲または４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲にある回折スペクトルを有していてもよい。
【００９２】
フォトニック粒子の混合物
本発明の組成物は、単一型のフォトニック粒子、または少なくとも２種類の異なる型のフォトニック粒子（例えば、反射ピーク、特に一次ピークが、可視領域または紫外線領域内の異なる波長を中心にしているもの）の混合物を含みうる。
【００９３】
組成物は、例えば、中実ナノ粒子を含むある型のフォトニック粒子と、中実であっても中空であってもよいナノ粒子を含む別の型のフォトニック粒子との混合物を含んでもよい。
【００９４】
組成物は、例えば、中空ナノ粒子を含むある型のフォトニック粒子と、中空であってもよいナノ粒子を含む別の型のフォトニック粒子との混合物を含んでもよい。
【００９５】
組成物は、例えば、熱架橋性、電子架橋性または光架橋性のマトリックスを含むある型のフォトニック粒子と、熱架橋性、電子架橋性または光架橋性のマトリックスを含まない別の型のフォトニック粒子との混合物を含んでもよい。
【００９６】
ナノ粒子
フォトニック粒子のナノ粒子は、平均粒径が１００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲、好ましくは１００ｎｍ〜３００ｎｍの範囲であってもよい。「平均粒径」という用語は、集団の半分における統計的粒度分析粒度（ｓｔａｔｉｓｔｉｃａｌ ｇｒａｎｕｌｏｍｅｔｒｉｃ ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ）（Ｄ（０．５）と称される）を表す。
【００９７】
ナノ粒子は形状が球形であってもよい。
【００９８】
ナノ粒子は、１５％単分散であるか、またはもっとよくてもよい。本発明で使用する「ｘ％単分散」という用語は、変動係数（ＣＶ）がｘ％以下である平均粒径を有する粒子を意味する。変動係数（ＣＶ）は、
【数１】
という関係式で定義される。ｓは、粒径分布の標準偏差であり、Ｄはその平均粒径である。平均粒径Ｄおよび標準偏差ｓは、２５０個の粒子に関して、供給業者であるＨＩＴＡＣＨＩの走査型電子顕微鏡（例えば、Ｓ−４５００という参照記号のもの）を使用して得られた画像を分析することで、測定できる。画像解析ソフトウェアは、この測定を簡単にするために使用でき、例えば供給業者であるＭｉｔａｎｉ ＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎのＷｉｎｒｏｏｆ（登録商標）ソフトウェアを使用できる。好ましくは、単分散ナノ粒子の変動係数は、１０％以下、より好ましくは７％以下、さらにより好ましくは５％以下、例えば、実質的に３．５％以下程度である。
【００９９】
ナノ粒子は、中実であっても中空であってもよく、有機であっても無機であってもよい。
【０１００】
ナノ粒子は、一体構造であっても、複合体であってもよい。
【０１０１】
単分散ナノ粒子が複合体である場合、それらは、例えば、異なる物質（例えば、有機物質および／または無機物質）から作られたコアおよびシェルを含んでもよい。
【０１０２】
無機ナノ粒子
ナノ粒子は、無機化合物を含んでもよく、さらには全体が鉱物質であってもよい。
【０１０３】
ナノ粒子が無機である場合、それらは、例えば、少なくとも１種の酸化物、特に金属酸化物を含んでもよく、例えば、シリカ、シリカ、鉄、チタン、アルミニウム、クロム、亜鉛、銅、ジルコニウムおよびセリウムといったものの酸化物、シリカ、およびそれらの混合物から選択される金属酸化物を含んでもよい。ナノ粒子は、金属、特にチタン、銀、金、アルミニウム、亜鉛、鉄、銅ならびにそれらの混合物および合金を含んでもよい。
【０１０４】
有機ナノ粒子
ナノ粒子は、有機化合物を含んでもよく、さらには全体が有機であってもよい。
【０１０５】
挙げることのできる、有機ナノ粒子を製造するのに好適でありうる物質は、ポリマー（特に炭素鎖またはシリコーン鎖を有するもの）で、例えば、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、ポリアクリルアミド（ＰＡＭ）、シリコーンポリマー、ＮＡＤ（「非水性分散物」）（硬質ＮＡＤ（例えば、９６．７％のメタクリル酸メチルと３．３％のエチレングリコールジメタクリレートとから構成され、イソドデカン中で２０％硬化されたもの（粒径：１４１ｎｍ）（多分散度Ｑ＝０．１４）；または９０％のメタクリル酸メチルと１０％のメタクリル酸アリルとから構成されたもの（粒径：１７０ｎｍ）；またはメチルジメタクリレート１００％のもの（粒径：１３８ｎｍ）（多分散度Ｑ＝０．１５）など）；あるいはポリ（メタクリル酸メチル／メタクリル酸アリル）、ポリ乳酸（ＰＬＡ）、ポリ乳酸−グリコール酸（ＰＬＡＧＡ）、セルロース類とその誘導体、ポリウレタン、ポリカプロラクトン、ラテックス形態、キチン、または複合キチン（ｃｏｍｐｏｓｉｔｅ ｃｈｉｔｉｎ）物質である。
【０１０６】
有機ナノ粒子のガラス転移温度（Ｔｇ）は、４０℃より高くてもよく、好ましくは６０℃より高くてもよい。
【０１０７】
中空ナノ粒子
こうしたナノ粒子はコアとシェルを含む。シェルは有機であっても無機であってもよい。
【０１０８】
ナノ粒子のシェルは、例えばＰＳから形成されてもよく、粒子は、例えば有機マトリックス中で凝集していてもよい。
【０１０９】
ナノ粒子のシェルは、例えばＰＳから形成されていてもよく、粒子は、例えば、熱架橋性、電子架橋性または光架橋性の有機マトリックス中に分散していてもよい。
【０１１０】
前記中空ナノ粒子のコアは、異なる屈折率を有効活用するために、空気または空気以外の気体（例えば、ＣＯ２、Ｎ２、ブタン、またはイソブタン）で構成することができる。
【０１１１】
中空ナノ粒子内の空気または別の気体の存在を利用して、ナノ粒子と周囲の媒体との間の屈折率を大きくすることができる。屈折率が大きいと回折ピークの強度の点から見て好ましい。
【０１１２】
ナノ粒子が中空である場合、コアとシェルとの間で回折する波長における屈折率の差は、０．４以上であってもよい。前記回折波長は、２５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲、例えば２５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲であってもよい。ナノ粒子が中空である場合、コアの最大寸法とナノ粒子の最大寸法との比率は０．５〜０．８の範囲であってもよい。ナノ粒子が中空である場合、コアの体積は、ナノ粒子の全体積の１０％〜８０％の範囲、好ましくは２０％〜６０％の範囲を占める。
【０１１３】
中空ナノ粒子のシェルの厚さ（これは、ナノ粒子の最大寸法とナノ粒子のコアの最大寸法との差の半分に等しい）は、５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲、例えば３０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲であってもよい。
【０１１４】
挙げることのできる中空ナノ粒子の例は、供給業者のＪＳＲ ＳＸ８６６（Ｂ）からの２８０ｎｍナノ粒子である。
【０１１５】
ナノ粒子のコアは、任意選択で遮光剤または遮光剤混合物を含んでもよい。
【０１１６】
マトリックス
フォトニック粒子は、上述のように、任意のタイプのマトリックス中に凝集または分散している（例えば、熱架橋性、電子架橋性または光架橋性のマトリックス中に分散している）中空または中実ナノ粒子、あるいは任意のタイプのマトリックス中に分散している（例えば、熱架橋性、電子架橋性または光架橋性のマトリックス中に分散している）空隙を含むことができる。
【０１１７】
マトリックスは有機であっても無機であってもよい。
【０１１８】
挙げることのできる有機マトリックスの非限定例としては、アクリルマトリックス（ａｃｒｙｌｉｃ ｍａｔｒｉｘｅｓ）（ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）またはポリアクリルアミド（ＰＡＭ））、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリカプロラクトン（ＰＣＬ）、ポリ酢酸ビニル（ＰＶＡ）、ポリビニルエチルアセテート（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌｅｔｈｙｌ ａｃｅｔａｔｅ）（ＰＶＥＡ）、および融点が６５℃［摂氏度］より高く（例えば、７５℃より高く）かつ硬度が５ＭＰａより大きい（好ましくは６ＭＰａ［メガパスカル］より大きい）ワックスの各マトリックスがある。
【０１１９】
特に、マトリックスは、熱架橋性であっても、光架橋性であっても、電子架橋性であってもよい。
【０１２０】
「光架橋性マトリックス」という用語は、架橋が、光（特にＵＶ）によって引き起こされ、かつ／または助長されるマトリックスを意味する。
【０１２１】
「熱架橋性マトリックス」という用語は、架橋が、加熱によって（例えば、マトリックスを６０℃より高い温度にすることによって）引き起こされ、かつ／または助長されるマトリックスを意味する。
【０１２２】
「電子架橋性マトリックス」という用語は、架橋が、電場をかけることによって引き起こされ、かつ／または助長されるマトリックスを意味する。
【０１２３】
マトリックスは、熱架橋性および光架橋性の両方であってもよい。
【０１２４】
フォトニック粒子は、熱架橋性、電子架橋性または光架橋性のマトリックス中に分散している中実または中空ナノ粒子、あるいは熱架橋性、電子架橋性または光架橋性のマトリックス中に分散している空隙を含むことができる。
【０１２５】
熱架橋性または光架橋性のマトリックスは有機であってもよい。
【０１２６】
挙げることのできる架橋性有機マトリックスの非限定例は、以下のものである。
・ＥＴＰＡ（エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート）、ＰＥＧＤＡ（ポリエチレングリコールジアクリレート）、アクリル樹脂、ＰＥＧジアクリレート、または仏国特許第２８３３４８７号明細書に記載の物質などの光架橋性ポリマー；
・ＰＶＡまたはＰＶＥＡと、以下の式を有するスチリルピリジニウム：
【化１】
［式中、Ｒは、水素原子、アルキル基またはヒドロキシアルキル基を表し、Ｒ’は水素原子またはアルキル基を表す］
との付加環化重合（ｐｏｌｙｃｙｃｌｏａｄｄｉｔｉｏｎ）によって架橋される仏国特許第２８４８４２８号明細書に記載のコポリマー；
・特許の仏国特許第２９１０２８６号明細書に記載の反応性シリコーン、すなわち：
・次式を有するシロキサン単位：
【数２】
［式中、Ｒは、１〜３０個の炭素原子を含む直鎖状または環状の一価の炭化水素基であり、
【数３】
は１または２に等しく、Ｒ’は、２〜１０個の炭素原子を含む不飽和脂肪族炭化水素基または５〜８個の炭素原子を含む不飽和環状炭化水素基である］
を含むポリオルガノシロキサン；および／または
・次式を有する少なくとも１種のアルキルハイドロジェンシロキサン（ａｌｋｙｌｈｙｄｒｏｇｅｎｓｉｌｏｘａｎｅ）単位：
【数４】
［式中、Ｒは、１〜３０個の炭素原子またはフェニル基を含む直鎖状または環状の一価の炭化水素基であり、
【数５】
は１〜２に等しい］
を含むポリオルガノシロキサン；および
・熱可塑性、熱架橋性、電子架橋性のポリマー。
【０１２７】
マトリックスの架橋は、出願の国際公開第２００７／０８２０６１Ａ２号パンフレットに記載されているように、例えばスクシンイミド類を用いた化学架橋であってもよい。
【０１２８】
光開始剤を必要とする光架橋性マトリックスの場合、光開始剤は例えば以下のリストから選択される： ＤＭＰＡ（ジメトキシ２−フェニルアセトフェノン）、２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）−１−［４−（４−モルホリノフェニル］−１−ブタノン（Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）３６９という商標でＣｉｂａ（登録商標）から販売）、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン（Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ（登録商標）が販売）、２−ヒドロキシ−４’−（２−ヒドロキシエトキシ）−２−メチルプロピオフェノン（Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ（登録商標）が販売）、２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）−４’−モルホリノブチロフェノン（Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ（登録商標）が販売）、フェニルビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−ホスフィンオキシド（Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ（登録商標）が販売）、イソプロピル−チオキサントン（Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ（登録商標）が販売）、およびカンホロラクトン（ｃａｍｐｈｏｒｏｌａｃｔｏｎｅ）。
【０１２９】
ＰＥＧジアクリレートは、例えば、カンホロラクトンなどの光開始剤を用いて架橋できる。
【０１３０】
挙げることのできる無機マトリックスの例は、金属酸化物マトリックス、特にＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯまたはＣａＣＯ３、またはＳｉのマトリックスである。
【０１３１】
フォトニック粒子を含む媒体
フォトニック粒子は、化粧的に許容される媒体、すなわちヒトの角質物質（特に皮膚、粘膜、または毛髪または爪）に施与するのに適した無毒性の媒体に含有させることができる。
【０１３２】
前記媒体は、組成物をつける支持体の性質に合うように、また組成物がパッケージされる形態に合うようにされる。
【０１３３】
媒体は、フォトニック粒子を含んでいる相（２５℃で液体である）を含むことができる。
【０１３４】
媒体は、フォトニック粒子が凝集するのを防ぐため、フォトニック粒子が媒体中に分散するのが容易になるようなもの（それを施与する前）を選択することができる。一例として、フォトニック粒子を含んでいる媒体の表面張力を３５ｍＮ／ｍ［１メートル当たりのミリニュートン］未満まで減少させるような１種または複数種の試剤を使用することも可能でありうる。
【０１３５】
媒体は、水性であってもよく、フォトニック粒子が水性相に含まれている。「水性媒体」という用語は、周囲温度および大気圧で液体であり、かつ媒体の全重量を基準にして含まれる水の割合が大きい媒体を表す。残りの部分は、化粧的に許容される水混和性有機溶媒（例えば、アルコール類またはアルキレングリコール類）を含むか、またはそれによって構成されていてもよい。水性媒体中の水の量は、例えば、３０重量％以上、好ましくは４０％、より好ましくは５０％である。
【０１３６】
媒体は、単相であっても多相であってもよい。
【０１３７】
媒体は、アルコール（例えば、エタノールまたはイソプロパノールなど）を含んでも、グリコール誘導体（特にエチレングリコールまたはプロピレングリコール）を含んでもよい。
【０１３８】
媒体は、透明でも半透明でもよく、さらに色がついていてもいなくてもよい。フォトニック粒子を含む媒体は、顔料や着色剤を含んでいなくてもよい。媒体の着色は、さらなる着色剤を添加することによって起こることがある。
【０１３９】
媒体は、揮発性溶剤を含んでもよい。本発明との関連で使用する「揮発性溶剤」という用語は、周囲温度および大気圧において、角質物質と接触して蒸発することのできる任意の液体を意味する。
【０１４０】
媒体は特に、組成物が少なくとも５％、さらには少なくとも３０％の揮発性溶剤を含むように選択できる。
【０１４１】
媒体は、防護持続性を向上させる皮膜形成ポリマーを含んでもよい。
【０１４２】
皮膜形成ポリマー
本発明では、「皮膜形成ポリマー」という用語は、それ自体で、または補助皮膜形成剤の存在下で、肉眼的に連続している、角質物質に付着する皮膜を形成でき、好ましくは粘着性皮膜、より好ましくは、例えば、Ｔｅｆｌｏｎまたはシリコーンの表面などくっつかない表面上にキャストすることによって前記皮膜が製造されるとき、前記皮膜を分離できかつ分離したまま操作できるような粘着性および機械的性質を持つ皮膜を形成できるポリマーを意味する。
【０１４３】
組成物は水性相を含んでもよく、皮膜形成ポリマーが前記水性相中に存在してもよい。その場合、それは好ましくは分散物ポリマーであるか、または両親媒性または結合性（ａｓｓｏｃｉａｔｉｖｅ）ポリマーである。
【０１４４】
「分散物ポリマー」という用語は、水に不溶性であって、様々な粒径の粒子形態のポリマーを意味する。ポリマーは、任意選択で硬化されていてもよい。平均粒径は、典型的には、２５ｎｍ〜５００ｎｍの範囲、好ましくは５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲である。以下の水性分散物のポリマーを使用できる：Ｇａｎｚ ＣｈｅｍｉｃａｌのＵｌｔｒａｓｏｌ ２０７５（登録商標）、Ｄａｉｔｏ ＫａｓｅｉのＤａｉｔｏｓｏｌ ５０００ＡＤ（登録商標）、ＮｏｖｅｏｎのＡｖａｌｕｒｅ ＵＲ ４５０（登録商標）、Ｎａｔｉｏｎａｌ ＳｔａｒｃｈのＤＹＮＡＭＸ（登録商標）、ＩｎｔｅｒｐｏｌｙｍｅｒのＳｙｎｔｒａｎ ５７６０（登録商標）、Ｒｏｈｍ＆ＨａａｓのＡｃｕｓｏｌ ＯＰ ３０１（登録商標）、およびＡｖｅｃｉａのＮｅｏｃｒｙｌ Ａ １０９０（登録商標）。
【０１４５】
アクリル系分散液で、Ｎｅｏｃｒｙｌ ＸＫ−９０（登録商標）、Ｎｅｏｃｒｙｌ Ａ−１０７０（登録商標）、Ｎｅｏｃｒｙｌ Ａ−１０９０（登録商標）、Ｎｅｏｃｒｙｌ ＢＴ−６２（登録商標）、Ｎｅｏｃｒｙｌ Ａ−１０７９（登録商標）およびＮｅｏｃｒｙｌ Ａ−５２３（登録商標）という名称で供給業者のＡＶＥＣＩＡ−ＮＥＯＲＥＳＩＮＳで販売されているもの、供給業者のＤＯＷ ＣＨＥＭＩＣＡＬのＤｏｗ Ｌａｔｅｘ ４３２（登録商標）、供給業者のＤＡＩＴＯ ＫＡＳＥＹ ＫＯＧＹＯのＤａｉｔｏｓｏｌ ５０００ ＡＤ（登録商標）またはＤａｉｔｏｓｏｌ ５０００ ＳＪ（登録商標）、供給業者のＩｎｔｅｒｐｏｌｙｍｅｒのＳｙｎｔｒａｎ ５７６０（登録商標）、供給業者のＲＯＨＭ&ＨＡＡＳのＡｌｌｉａｎｚ ＯＰＴ、アクリルポリマーまたはスチレン／アクリルポリマーの水性分散液で、ＪＯＮＣＲＹＬ（登録商標）という商品名で供給業者のＪＯＨＮＳＯＮ ＰＯＬＹＭＥＲから販売されているもの、あるいはポリウレタンの水性分散液で、Ｎｅｏｒｅｚ Ｒ−９８１（登録商標）およびＮｅｏｒｅｚ Ｒ−９７４（登録商標）という名称で供給業者のＡＶＥＣＩＡ−ＮＥＯＲＥＳＩＮＳから販売されているもの、供給業者のＧＯＯＤＲＩＣＨのものであるＡｖａｌｕｒｅ ＵＲ−４０５（登録商標）、Ａｖａｌｕｒｅ ＵＲ−４１０（登録商標）、Ａｖａｌｕｒｅ ＵＲ−４２５（登録商標）、Ａｖａｌｕｒｅ ＵＲ−４５０（登録商標）、Ｓａｎｃｕｒｅ ８７５（登録商標）、Ｓａｎｃｕｒｅ ８６１（登録商標）、Ｓａｎｃｕｒｅ ８７８（登録商標）およびＳａｎｃｕｒｅ ２０６０（登録商標）、供給業者のＢＡＹＥＲのＩｍｐｒａｎｉｌ ８５（登録商標）、供給業者のＨＹＤＲＯＭＥＲのＡｑｕａｍｅｒｅ Ｈ−１５１１（登録商標）、Ｅａｓｔｍａｎ ＡＱ（登録商標）という商品名で供給業者のＥａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓから販売されているスルホポリエステル（ｓｕｌｆｏｐｏｌｙｅｓｔｅｒｓ）、ビニル分散液（供給業者のＣＨＩＭＥＸのＭｅｘｏｍｅｒｅ ＰＡＭ（登録商標）など）、およびそれらの混合物は、水分散性（ｈｙｄｒｏｄｉｓｐｅｒｓｉｂｌｅ）皮膜形成ポリマーの粒子の水性分散液の他の例である。
【０１４６】
「両親媒性または結合性ポリマー」という用語は、ポリマーを部分的に水溶性にする１つまたは複数の親水性部分と、ポリマーが結合または相互作用に用いる１つまたは複数の疎水性部分とを含むポリマーを意味する。以下の結合性ポリマーを使用してもよい： ＥｌｅｍｅｎｔｉｓのＮｕｖｉｓ ＦＸ１１００（登録商標）、Ｒｏｈｍ＆ＨａａｓのＡｃｕｌｙｎ ２２（登録商標）、Ａｃｕｌｙｎ ４４（登録商標）、Ａｃｕｌｙｎ ４６（登録商標）、ならびにＡｍｅｒｃｈｏｌのＶｉｓｃｏｐｈｏｂｅ ＤＢ１０００（登録商標）。親水性のブロック（ポリアクリレート、ポリエチレングリコール）および疎水性のブロック（ポリスチレン、ポリシロキサン）によって構成されたジブロックコポリマーを使用してもよい。
【０１４７】
組成物は油相を含んでもよく、皮膜形成ポリマーが前記油相中に存在してもよい。その場合、ポリマーは分散状態であっても溶液状態であってもよい。ＮＡＤタイプのポリマーまたはミクロゲル（例えばＫＳＧ）を使用してもよく、さらにＰＳ−ＰＡタイプのポリマーまたはスチレン系のコポリマー（Ｋｒａｔｏｎ，Ｒｅｇａｌｉｔｅ）を使用してもよい。
【０１４８】
１種または複数種のシリコーン油および／または炭化水素油中にポリマー粒子（特に、ブロックポリマー、グラフトポリマーまたはランダムポリマー）を含む非水分散液であって、少なくとも１種の安定剤によってその表面で安定化させることができ、かつ挙げることのできるものの例は、イソドデカン中のアクリル分散液（供給業者のＣＨＩＭＥＸのＭｅｘｏｍｅｒｅ ＰＡＰ（登録商標）など）、および液状の油性（ｆａｔｔｙ）相中にグラフトエチレンポリマー（好ましくはアクリル系）の粒子を含む分散液であり、有利には、エチレンポリマーが更なる安定剤の非存在下で粒子の表面に分散しているものであり、そのようなものには、特に文献の国際公開第０４／０５５０８１号パンフレット中に記載されているものなどがある。
【０１４９】
本発明の組成物に使用してもよい挙げることのできる皮膜形成ポリマーは、ラジカルタイプ（ｒａｄｉｃａｌ ｔｙｐｅ）または重縮合タイプの合成ポリマー、天然起源のポリマー、およびそれらの混合物である。
【０１５０】
特に、ラジカルタイプの皮膜形成ポリマーは、ビニル系（ｖｉｎｙｌｓ）であるポリマーまたはコポリマー（特にアクリルポリマー）であってもよい。
【０１５１】
ビニル系皮膜形成ポリマーは、少なくとも１種の酸基および／または前記酸モノマーのエステルおよび／または前記酸モノマーのアミドを有する、エチレン性不飽和結合を含むモノマー（不飽和のα，β−エチレン性不飽和カルボン酸など、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸またはイタコン酸）を重合させることにより、得ることができる。
【０１５２】
天然起源のポリマー（任意選択で変性されている）は、シェラック樹脂、サンダラックゴム、ダンマー、エレミ、コーパル、およびセルロースポリマー（ニトロセルロース、エチルセルロースまたはニトロセルロースエステルなどで、例えば、酢酸セルロース、セルロースアセトブチレート、セルロースアセトプロピオネート、およびそれらの混合物から選択される）から選択できる。
【０１５３】
皮膜形成ポリマーは、水性分散液または油性の分散液中にある中実粒子の形（一般にラテックスまたは擬似ラテックス（ｐｓｅｕｄｏｌａｔｅｘ）として知られる）で存在してもよい。皮膜形成ポリマーは、生理学的に許容される液状油性相中に、１種または複数種のポリマーである一般に球形のポリマー粒子を含んでいる、１種または複数種の安定分散物を含むことができる。こうした分散物は、水性ポリマー分散液であるラテックスとは違い、一般にポリマーＮＡＤと称される。こうした分散物は、前記油性相中にポリマーのナノ粒子が安定して分散した形であってもよい。ナノ粒子の粒径は、好ましくは５ｎｍ〜６００ｎｍの範囲である。前記分散物の製造法は、当業者によく知られている。
【０１５４】
組成物は、直鎖状のエチレン系皮膜形成ブロックポリマーである少なくとも１種の皮膜形成ポリマーを含んでもよい。前記ポリマーは、少なくとも１種の第１シーケンス（ブロック）と少なくとも１種の第２シーケンス（異なるガラス転移温度（Ｔｇ）を有するもの）を含むことができ、前記１シーケンスおよび第２シーケンスは、第１シーケンスの少なくとも１種の構成モノマーと第２シーケンスの少なくとも１種の構成モノマーとを含む中間シーケンスを介して結合される。一例として、第１および第２シーケンスならびにブロックポリマーは、互いに適合性がないことがある。そのようなポリマー、例えば、文献の欧州特許第１４１１０６９号明細書または国際公開第０４／０２８４８８号パンフレット（これらを本明細書に援用する）に記載されている。
【０１５５】
油性相
フォトニック粒子を含有する組成物は油を含まなくてもよいが、本発明の実施態様によっては、組成物は油性相を含んでもよい。フォトニック粒子は、任意選択で前記油性相中に含有させることができる。
【０１５６】
油性相は、特に揮発性であってもよい。
【０１５７】
組成物は、油を含むことができ、油は、例えば、合成されたエステルまたはエーテル、鉱物起源または合成起源の直鎖状または分枝炭化水素、８〜２６個の炭素原子を含む脂肪アルコール、部分フッ素化された炭化水素および／またはシリコーン油（シリコーン油はポリメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）などで、任意選択で揮発性であってもよく、直鎖状または環状のシリコーン鎖を有し、周囲温度で液体またはペースト状であってもよい）、およびそれらの混合物などである。他の例を以下に示す。
【０１５８】
したがって本発明による組成物は、少なくとも１種の揮発油を含むことができる。
【０１５９】
揮発性油
本発明との関連において、「揮発性油」という用語は、周囲温度および大気圧において、皮膚に接すると１時間たたないうちに蒸発できる油（または非水性媒体）を意味する。
【０１６０】
揮発油は、揮発性の化粧用油であって、周囲温度において特に蒸気圧がゼロではない液体であり、周囲温度および大気圧において、特に蒸気圧が０．１３Ｐａ〜４００００Ｐａ（１０−３ｍｍＨｇ〜３００ｍｍＨｇ）の範囲、特に１．３Ｐａ〜１３０００Ｐａ（０．０１ｍｍＨｇ〜１００ｍｍＨｇ）の範囲、とりわけ１．３Ｐａ〜１３００Ｐａ（０．０１ｍｍＨｇ〜１０ｍｍＨｇ）の範囲である。
【０１６１】
揮発性炭化水素油は、８〜１６個の炭素原子、特にＣ８〜Ｃ１６分枝アルカン（イソパラフィンとも称する）を含む動物由来または野菜由来の炭化水素油から選択することができ、それには、イソドデカン（２，２，４，４，６−ペンタメチルヘプタンとも称する）、イソデカン、イソヘキサデカン、および、例えば、Ｉｓｏｐａｒｓ（登録商標）またはＰｅｒｍｅｔｈｙｌｓ（登録商標）という商品名で販売されている油などがある。
【０１６２】
さらに使用してもよい揮発性油の例は、揮発性シリコーンで、例えば直鎖状または環状の揮発性シリコーン油、特に、粘度が８センチストークス（８×１０−６ｍ２／ｓ）以下であり、特に２〜１０個のケイ素原子、特に２〜７個のケイ素原子を含むものである。前記シリコーンは、任意選択で１〜１０個の炭素原子を含んでいるアルキルまたはアルコキシ基を含む。挙げることのできる本発明に使用できる揮発性シリコーン油の例は、粘度が５ｃＳｔ〜６ｃＳｔであるジメチコーン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン、ヘプタメチルヘキシルトリシロキサン、ヘプタメチルオクチルトリシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、およびそれらの混合物である。
【０１６３】
ノナフルオロメトキシブタンまたはパーフルオロメチルシクロペンタン、およびそれらの混合物などのフッ素化揮発性油を使用することも可能である。
【０１６４】
上述の油の混合物を使用することも可能である。
【０１６５】
不揮発性油
本発明の組成物は、不揮発性油を含むことができる。
【０１６６】
本発明との関連においては、「不揮発性油」という用語は、蒸気圧が０．１３Ｐａ未満の油、特に高分子量の油を意味する。
【０１６７】
不揮発性油は、特に、炭化水素油、フッ素化シリコーン油（適切な場合）、および／または不揮発性シリコーン油から選択できる。
【０１６８】
本発明を実施するのに好適でありうる不揮発性炭化水素油の例で、特に挙げることのできるものは以下の通りである。
・動物由来の炭化水素油；
・植物由来の炭化水素油で、植物ステアリル（ｐｈｙｔｏｓｔｅａｒｙｌ）エステル、例えば植物ステアリルオレエート、植物ステアリルイソステアレートまたはラウロイル／オクチルドデシル／植物ステアリルグルタメート（例えば、ＥＬＤＥＷ ＰＳ２０３という名称でＡＪＩＮＯＭＯＴＯから販売）、脂肪酸とグリセロールのエステルで構成されているトリグリセリド（ここで、脂肪酸はＣ４〜Ｃ２４の範囲の鎖長を有することができ、直鎖状であって分枝であってもよく、また飽和であっても不飽和であってもよい）；前記油は特に、ヘプタン酸トリグリセリドまたはオクタン酸トリグリセリド、またはコムギ麦芽、ヒマワリ、ブドウ種、ゴマ、トウモロコシ、アンズ、ヒマシ油（ｃａｓｔｏｒ）、シアバターノキ、アボガド、オリーブ、ダイズ、スイートアーモンド、ヤシ、セイヨウアブラナ、綿実、ハシバミ、マカダミアナッツ、ホホバ、アルファルファ、ケシ、北海道カボチャ、ウリ、クロフサスグリ、マツヨイグサ、キビ、大麦、キノア、ライ麦、ベニバナ、バンクーリエ（ｂａｎｃｏｕｌｉｅｒ）、トケイソウ、またはマスクローズの油；シアバター；またはカプリル酸／カプリン酸のトリグリセリド（供給業者のＳｔｅａｒｉｎｅｒｉｅｓ Ｄｕｂｏｉｓから発売されているもの、または供給業者のＤｙｎａｍｉｔ ＮｏｂｅｌからＭｉｇｌｙｏｌ ８１０（登録商標）、８１２（登録商標）および８１８（登録商標）という名称で販売されているものなど）など；
・鉱物起源または合成起源の炭化水素油で、例えば以下のものなど：
○ １０〜４０個の炭素原子を含む合成エーテル；
○ 鉱物起源または合成起源の直鎖状または分枝炭化水素で、ワセリン、ポリデセン（ｐｏｌｙｄｅｃｅｎｅｓ）、水添ポリイソブテン（パールリーム（ｐａｒｌｅａｍ）など）、スクワランおよびそれらの混合物など、特に水添ポリイソブテン；および
○ 合成エステルで、式Ｒ１ＣＯＯＲ２［式中、Ｒ１は、１〜４０個の炭素原子を含む直鎖状または分枝脂肪酸の残基を表し、Ｒ２は、１〜４０個の炭素原子を含む炭化水素鎖（特に分枝のもの）を表す。ただし、Ｒ１＋Ｒ２≧１０である］を有する油など。
【０１６９】
エステルは、特に、例えば以下のようなエステル（特に脂肪酸のエステル）から選択することができる。
・オクタン酸セトステアリル、イソプロピルアルコールのエステル（ミリスチン酸イソプロピル、パルミチン酸イソプロピルなど）、パルミチン酸エチル、パルミチン酸２−エチルヘキシル、ステアリン酸イソプロピルまたはイソステアリン酸イソプロピル、イソステアリン酸イソステアリル、ステアリン酸オクチル、ヒドロキシルエステル（ｈｙｄｒｏｘｙｌ ｅｓｔｅｒｓ）（乳酸イソステアリル、オクチルヒドロキシステアレート、アジピン酸ジイソプロピルなど）、アルコールまたは多価アルコールのヘプタノエート（特に、イソステアリルヘプタノエート）、オクタノエート、デカノエートまたはリシノレエート（プロピレングリコールジオクタノエート、セチルオクタノエート、トリデシルオクタノエート、２−エチルヘキシル４−ジヘプタノエートおよびパルミテート、アルキルベンゾエート、ポリエチレングリコールジヘプタノエート、プロピレングリコール２−ジエチルヘキサノエートおよびそれらの混合物など）、Ｃ１２〜Ｃ１５アルコールのベンゾエート、ラウリン酸ヘキシル、ネオペンタン酸エステル（ネオペンタン酸イソデシル、ネオペンタン酸イソトリデシル、ネオペンタン酸イソステアリル、ネオペンタン酸オクチルドデシルなど）、イソノナン酸エステル（イソノナン酸イソノニル、イソノナン酸イソトリデシル、イソノナン酸オクチルなど）、またはヒドロキシルエステル（乳酸イソステアリル、またはマレイン酸ジイソステアリルなど）；
・ポリオールのエステル、およびペンタエリトリトールエステル（ジペンタエリトリトールテトラヒドロキシステアレート／テトライソステアレートなど）；
・ジオール二量体と二塩基酸二量体とのエステルで、供給業者のＮＩＰＰＯＮ ＦＩＮＥ ＣＨＥＭＩＣＡＬから販売されているＬｕｓｐｌａｎ ＤＤ−ＤＡ５（登録商標）およびＬｕｓｐｌａｎ ＤＤ−ＤＡ７（登録商標）など（出願の仏国特許出願公開第０３０２８０９号明細書に記載）；
・周囲温度において液体であり、１２〜２６個の炭素原子を含む分枝および／または不飽和の炭素鎖を有する脂肪アルコール（２−オクチルドデカノール、イソステアリルアルコール、オレインアルコール（ｏｌｅｉｃ ａｌｃｏｈｏｌ）、２−ヘキシルデカノール、２−ブチルオクタノール、または２−ウンデシルペンタデカノールなど）；
・高級脂肪酸（オレイン酸、リノール酸、リノレン酸およびそれらの混合物など）；および
・２つのアルキル鎖が場合により同一であるかまたは異なるジアルキルカーボネート（ＣｏｇｎｉｓからＣｅｔｉｏｌ ＣＣ（登録商標）という名称で販売されている炭酸ジカプリリルなど）；
・不揮発性シリコーン油。例えば、不揮発性ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）、ペンダントのアルキルまたはアルコキシ基を含み、かつ／またはシリコーン鎖末端を有する（それぞれの基が２〜２４個の炭素原子を含む）ポリジメチルシロキサン、フェニルシリコーン（フェニルトリメチコーン、フェニルジメチコーン、フェニルトリメチルシロキシジフェニルシロキサン、ジフェニルジメチコーン、ジフェニルメチルジフェニルトリシロキサン、または２−フェニルエチルトリメチルシロキシシリケートなど）、あるいは粘度が１００ｃＳｔ以下であるジメチコーンまたはフェニルトリメチコーン、およびそれらの混合物など；
・ならびにそれらの混合物。
【０１７０】
フォトニック粒子を含有する組成物は油を含まなくてもよく、特に不揮発性油を含んでいなくてもよい。
【０１７１】
補足的遮蔽剤および添加剤
フォトニック粒子を含む組成物は、化粧品分野で標準的である補助剤から選択される少なくとも１種の添加剤を含むことができ、それには、充填剤、着色剤、親水性または親油性のゲル化剤、有効成分（水溶性または脂溶性のいずれか）、防腐剤、保湿剤（ポリオール、特にグリセリンなど）、金属イオン封鎖剤、酸化防止剤、溶剤、芳香剤、物理的および化学的遮光剤（特に、ＵＶＡおよび／またはＵＶＢに対するもの）、臭気吸収剤（ｏｄｏｒ ａｂｓｏｒｂｅｒｓ）、ｐＨ調節剤（酸または塩基）、およびそれらの混合物などがある。
【０１７２】
組成物は、酸化防止剤、美白剤（ｗｈｉｔｅｎｉｎｇ ａｇｅｎｔｓ）（色素沈着防止および脱色が関係している場合）、または老化防止有効成分など、太陽光防護の分野で補足的働きをする少なくとも１種の有効成分を含むことができる。
【０１７３】
更なる有機遮蔽剤（疎水性、親水性または通常の溶剤に不溶性のいずれか）は、様々な部類の化合物から選択できる。特に、有機遮蔽剤は、ジベンゾイルメタン誘導体；アントラニレート；桂皮酸誘導体（ｃｉｎｎａｍｉｃ ｄｅｒｉｖａｔｉｖｅｓ）；サリチル酸誘導体、樟脳誘導体；ベンゾフェノン誘導体；β，β−ジフェニルアクリレート誘導体；式（Ｉ）以外のトリアジン誘導体；ベンザルマロネート誘導体（特に、特許の米国特許第５６２４６６３号明細書に記載のもの）；ベンズイミダゾール誘導体；イミダゾリン類；ｐ−アミノ安息香酸（ＰＡＢＡ）誘導体；ベンゾトリアゾール誘導体；出願の米国特許第５２３７０７１号明細書、米国特許第５１６６３５５号明細書、英国特許出願公開第２３０３５４９号明細書、独国特許出願公開第１９７２６１８４号明細書および欧州特許第０８９３１１９号明細書に記載されているようなメチレンビス（ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール）誘導体；特許出願である欧州特許開第０８３２６４２号明細書、欧州特許出願公開第１０２７８８３号明細書、欧州特許出願公開第１３００１３７号明細書および独国特許出願公開第０１６２８４４号明細書に記載されているようなベンゾキサゾール誘導体；ポリマー遮蔽剤およびシリコーン遮蔽剤（特に出願の国際公開第９３／０４６６５号パンフレットに記載されているものなど）；α−アルキルスチレンから得られる二量体（特許出願である独国特許出願公開第１９８５５６４９号明細書に記載されているものなど）；４，４−ジアリールブタジエン（出願である欧州特許第０９６７２００号明細書、独国特許出願公開第１９７４６６５４号明細書、独国特許出願公開第１９７５５６４９号明細書、欧州特許出願公開第１００８５８６Ａ号明細書、欧州特許出願公開第１１３３９８０号明細書および欧州特許第０１３３９８１号明細書に記載されているものなど）；またはメロシアニン誘導体（出願の国際公開第０４／００６８７８号パンフレット、国際公開第０５／０５８２６９号パンフレットおよび国際公開第０６／０３２７４１号パンフレットに記載されているものなど）、およびそれらの混合物から選択される。
【０１７４】
１種または複数種の遮蔽剤は、以下の遮蔽剤から選択できる。
３２０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲の紫外線（ＵＶＡ）を吸収できる疎水性遮蔽剤
【０１７５】
ジベンゾイルメタン誘導体
ブチルメトキシジベンゾイルメタン（特に「ＰＡＲＳＯＬ １７８９」という商品名でＤＳＭ Ｎｕｔｒｉｔｉｏｎａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ，Ｉｎｃから販売されているもの）；
・イソプロピルジベンゾイルメタン。
【０１７６】
アミノベンゾフェノン
ｎ−ヘキシル２−（４−ジエチルアミノ−２−ヒドロキシベンゾイル）ベンゾエート（ＢＡＳＦから「ＵＶＩＮＵＬ Ａ＋」という商品名で販売されているもの）。
【０１７７】
アントラニル酸誘導体（Ａｎｔｈｒａｎｉｌｉｃ ｄｅｒｉｖａｔｉｖｅｓ）
アントラニル酸メンチル（ＳＹＭＲＩＳＥから「ＮＥＯ ＨＥＬＩＯＰＡＮ ＭＡ」という商品名で販売されているもの）。
【０１７８】
４，４−ジアリールブタジエン誘導体
１，１−ジカルボキシ（２，２’−ジメチル−プロピル）−４，４−ジフェニルブタジエン。
【０１７９】
好ましい遮蔽剤は、ブチルメトキシジベンゾイルメタンおよびｎ−ヘキシル２−（４−ジエチルアミノ−２−ヒドロキシベンゾイル）ベンゾエートである。
【０１８０】
２８０ｎｍ〜３２０ｎｍの範囲の紫外線（ＵＶＢ）を吸収できる疎水性遮蔽剤
【０１８１】
ｐ−アミノベンゾエート
エチルＰＡＢＡ；
エチルジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ；
エチルヘキシルジメチルＰＡＢＡ（ＩＳＰのＥＳＣＡＬＯＬ ５０７）。
【０１８２】
サリチル酸誘導体
ホモサレート（「Ｅｕｓｏｌｅｘ ＨＭＳ」という名称でＲｏｎａ／ＥＭ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓから販売されているもの）；
・エチルヘキシルサリチレート（「ＮＥＯ ＨＥＬＩＯＰＡＮ ＯＳ」という名称でＳＹＭＲＩＳＥから販売されているもの）；
・ジプロピレングリコールサリチレート（「ＤＩＰＳＡＬ」という名称でＳＣＨＥＲから販売されているもの）；
・ＴＥＡサリチレート（「ＮＥＯ ＨＥＬＩＯＰＡＮ ＴＳ」という名称でＳＹＭＲＩＳＥから販売されているもの）。
【０１８３】
シンナメート
エチルヘキシルメトキシシンナメート（特に「ＰＡＲＳＯＬ ＭＣＸ」という商品名でＤＳＭ Ｎｕｔｒｉｔｉｏｎａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ，Ｉｎｃから販売されているもの）；
・イソプロピルメトキシシンナメート；
・イソアミルメトキシシンナメート（「ＮＥＯ ＨＥＬＩＯＰＡＮ Ｅ １０００」という商品名でＳＹＭＲＩＳＥから販売されているもの）；
・ジイソプロピルメチルシンナメート；
・シノキサート；
・グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート。
【０１８４】
β，β’−ジフェニルアクリレート誘導体
オクトクリレン（特に「ＵＶＩＮＵＬ Ｎ５３９」という商品名でＢＡＳＦから販売されているもの）；
・エトクレリン（特に「ＵＶＩＮＵＬ Ｎ３５」という商品名でＢＡＳＦから販売されているもの）。
【０１８５】
ベンジリデンカンファー誘導体
３−ベンジリデンカンファー（「ＭＥＸＯＲＹＬ ＳＤ」という商品名でＣＨＩＭＥＸによって製造されているもの）；
・メチルベンジリデンカンファー（「ＥＵＳＯＬＥＸ ６３００」という商品名でＭＥＲＣＫから販売されているもの）；
・ポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー（「ＭＥＸＯＲＹＬ ＳＷ」という名称でＣＨＩＭＥＸによって製造されているもの）。
【０１８６】
トリアジン誘導体
エチルヘキシルトリアゾントリアゾン（特に「ＵＶＩＮＵＬ Ｔ１５０」という商品名でＢＡＳＦから販売されているもの）；
・ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン（「ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＥＢ」という商品名でＳＩＧＭＡ ３Ｖから販売されているもの）；
・２，４，６−トリス（ジネオペンチル４’−アミノベンザルマロネート）−ｓ−トリアジン；
・２，４，６−トリス−（ジイソブチル４’−アミノベンザルマロネート）−ｓ−トリアジン；
・２，４−ビス（ジネオペンチル４’−アミノベンザルマロネート）−６−（４’−ｎ−ブチルアミノベンゾエート）−ｓ−トリアジン；
・２，４−ビス（ｎ−ブチル４’−アミノベンゾエート）−６−（アミノプロピルトリシロキサン）−ｓ−トリアジン；
・対称トリアジン遮蔽剤（特許の米国特許第６２２５４６７号明細書、出願の国際公開第２００４／０８５４１２号パンフレット（化合物６〜９を参照）または文献の「Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃａｌ Ｔｒｉａｚｉｎｅ Ｄｅｒｉｖａｔｉｖｅｓ」（ＩＰ．ＣＯＭ Ｊｏｕｒｎａｌ，ＩＰ．ＣＯＭ ＩＮＣ ＷＥＳＴ ＨＥＮＲＩＥＴＴＡ，ＮＹ，ＵＳ（２０ Ｓｅｐｔｅｍｂｅｒ ２００４））に記載されているもの）、特に、２，４，６−トリス（ビフェニル）−１，３，５−トリアジン（特に、２，４，６−トリス（ビフェニル−４−イル−１，３，５−トリアジン）および２，４，６−トリス（テルフェニル）−１，３，５−トリアジン（これは、ＢＥＩＥＲＳＤＯＲＦによって出願された国際公開第０６／０３５０００号パンフレット、国際公開第０６／０３４９８２号パンフレット、国際公開第０６／０３４９９１号パンフレット、国際公開第０６／０３５００７号パンフレット、国際公開第２００６／０３４９９２号パンフレット、国際公開第２００６／０３４９８５号パンフレットに記述されている））。
【０１８７】
イミダゾリン誘導体
エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオネート。
【０１８８】
ベンザルマロネート誘導体
ベンザルマロネート官能基を有するポリオルガノシロキサン（「ＰＡＲＳＯＬ ＳＬＸ」という商品名でＤＳＭ Ｎｕｔｒｉｔｉｏｎａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ，Ｉｎｃから販売されているポリシリコン−１５など）；
・ジ−ネオペンチル４’−メトキシベンザルマロネート。
【０１８９】
メロシアニン誘導体
オクチル−５−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ−２−フェニルスルホニル−２，４−ペンタジエノエート。
【０１９０】
好ましい遮蔽剤は、ホモサレート、エチルヘキシルサリチレート、オクトクリレン、エチルヘキシルメトキシシンナメートｖ、イソアミルメトキシシンナメート、エチルヘキシルトリアゾン、およびジエチルヘキシルブタミドトリアゾンである。
【０１９１】
もっとも好ましい化合物は、エチルヘキシルサリチレート、オクトクリレン、エチルヘキシルトリアゾンおよびエチルヘキシルメトキシシンナメートである。
【０１９２】
ＵＶＡとＵＶＢの両方を吸収できる混合疎水性遮蔽剤
ベンゾフェノン誘導体
ベンゾフェノン−１（「ＵＶＩＮＵＬ ４００」という商品名でＢＡＳＦから販売されているもの）；
・ベンゾフェノン−２（「ＵＶＩＮＵＬ Ｄ５０」という商品名でＢＡＳＦから販売されているもの）；
・ベンゾフェノン−３またはオキシベンゾン（「ＵＶＩＮＵＬ Ｍ４０」という商品名でＢＡＳＦから販売されているもの）；
・ベンゾフェノン−５；
・ベンゾフェノン−６（「Ｈｅｌｉｓｏｒｂ １１」という商品名でＮｏｒｑｕａｙから販売されているもの）
ベンゾフェノン−８（「Ｓｐｅｃｔｒａ−Ｓｏｒｂ ＵＶ−２４」という商品名でＡｍｅｒｉｃａｎ Ｃｙａｎａｍｉｄから販売されているもの）；
・ベンゾフェノン−１０；
・ベンゾフェノン−１１；
・ベンゾフェノン−１２。
【０１９３】
フェニルベンゾトリアゾール誘導体
ドロメトリゾールトリシロキサン（「Ｓｉｌａｔｒｉｚｏｌｅ」という名称でＲＨＯＤＩＡ ＣＨＩＭＩＥから販売されているもの）；
・メチレンビス−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール（固体形態で「ＭＩＸＸＩＭ ＢＢ／１００」という商品名でＦＡＩＲＭＯＵＮＴ ＣＨＥＭＩＣＡＬから販売されているか、水性分散液中の微粉形態で「ＴＩＮＯＳＯＲＢ Ｍ」という商品名でＣＩＢＡ ＳＰＥＣＩＡＬＴＹ ＣＨＥＭＩＣＡＬＳから販売されているもの）。
【０１９４】
ビス−レゾルシニルトリアジン誘導体
ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン（「ＴＩＮＯＳＯＲＢ Ｓ」という商品名でＣＩＢＡ ＧＥＩＧＹから販売されているもの）。
【０１９５】
ベンゾキサゾール誘導体
２，４−ビス−［５−１（ジメチルプロピル）ベンゾキサゾール−２−イル−（４−フェニル）−イミノ］−６−（２−エチルヘキシル）−イミノ−１，３，５−トリアジン（Ｕｖａｓｏｒｂ Ｋ２Ａという名称でＳｉｇｍａ ３Ｖから販売されているもの）。
【０１９６】
好ましい遮蔽剤は以下のものである。
・ドロメトリゾールトリシロキサン；
・メチレンビス−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール；
・ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン；および
・ベンゾフェノン−３またはオキシベンゾン。
【０１９７】
もっとも好ましいのは以下のものである。
・ドロメトリゾールトリシロキサン；および
・ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン。
【０１９８】
３２０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲の紫外線（ＵＶＡ）を吸収できる水溶性遮蔽剤
テレフタリリデンジカンファー酸スルホン酸（「ＭＥＸＯＲＹＬ ＳＸ」という名称でＣＨＩＭＥＸによって製造されているもの）。
【０１９９】
特許の欧州特許第０６６９３２３号明細書および米国特許第２４６３２６４号明細書に記載のビス−ベンゾアゾリル（ｂｉｓ−ｂｅｎｚｏａｚｏｌｙｌ）誘導体、さらに詳しくは、「ＮＥＯ ＨＥＬＩＯＰＡＮ ＡＰ」という商品名でＨａａｒｍａｎｎ ａｎｄ ＲＥＩＭＥＲから販売されている化合物のフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム。
【０２００】
好ましい遮蔽剤は、テレフタリリデンジカンファー酸スルホン酸である。
【０２０１】
２８０ｎｍ〜３２０ｎｍの範囲の紫外線（ＵＶＢ）を吸収できる水溶性遮蔽剤
ｐ−アミノ安息香酸誘導体（ＰＡＢＡ）
ＰＡＢＡ；
・グリセリルＰＡＢＡ；および
・ＰＥＧ−２５ ＰＡＢＡ（「ＵＶＩＮＵＬ Ｐ２５」という名称でＢＡＳＦから販売されているもの）；
・フェニルベンズイミダゾールスルホン酸（特に「ＥＵＳＯＬＥＸ ２３２」という商品名でＭＥＲＣＫから販売されているもの）；
・フェルラ酸；
・サリチル酸；
・ＤＥＡメトキシシンナメート；
・ベンジリデンショウノウスルホン酸（「ＭＥＸＯＲＹＬ ＳＬ」という名称でＣＨＩＭＥＸが製造しているもの）；
・カンファーベンザルコニウムメトサルフェート（ｃａｍｐｈｏｒ ｂｅｎｚａｌｋｏｎｉｕｍ ｍｅｔｈｏｓｕｌｆａｔｅ）（「ＭＥＸＯＲＹＬ ＳＯ」という名称でＣＨＩＭＥＸが製造しているもの）；および
・好ましい遮蔽剤はフェニルベンズイミダゾールスルホン酸である。
【０２０２】
ＵＶＡとＵＶＢの混合水溶性遮蔽剤
少なくとも１つのスルホン基を含むベンゾフェノン誘導体
ベンゾフェノン−４（「ＵＶＩＮＵＬ ＭＳ４０」という商品名でＢＡＳＦから販売されているもの）；
・ベンゾフェノン−５；および
・ベンゾフェノン−９。
【０２０３】
好ましい遮蔽剤はベンゾフェノン−４である。
【０２０４】
本発明の１種または複数種の有機遮蔽剤は、本発明の組成物中に、全組成物の重量を基準にして０．１重量％〜１５重量％の範囲、好ましくは０．２重量％〜１０重量％の範囲の濃度で存在してもよい。
【０２０５】
無機の遮光剤または光防護物質
無機光防護剤は、任意選択で被覆されていてもよい金属酸化物顔料（一次粒子の平均粒径が、一般に５ｎｍ〜１００ｎｍの範囲、好ましくは１０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲である）から選択され、それには、酸化チタン顔料（非結晶またはルチルおよび／またはアナターゼの形の結晶）、鉄、亜鉛、ジルコニウム、またはセリウム（これらはすべて、それ自体よく知られている紫外線の光防護物質である）などがある。
【０２０６】
顔料は、任意選択で被覆されていてもよい。
【０２０７】
被覆顔料は、Ｃｏｓｍｅｔｉｃｓ ＆ Ｔｏｉｌｅｔｒｉｅｓ，Ｆｅｂｒｕａｒｙ １９９０，Ｖｏｌ １０５，ｐｐ．５３−６４に記載されているような化合物によって化学的、電気的、または化学機械的な性質の表面処理を１回または複数回行った顔料であり、その化合物は、アミノ酸、蜜ろう、脂肪酸、脂肪アルコール、陰イオン界面活性剤、レシチン類、脂肪酸のナトリウム、カリウム、亜鉛、鉄，またはアルミニウム塩、金属（チタンまたはアルミニウム）アルコキシド、ポリエチレン、シリコーン、タンパク質（コラーゲン、エラスチン）、アルカノールアミン、ケイ素の酸化物、金属酸化物またはヘキサメタリン酸ナトリウムなどである。
【０２０８】
周知の方法では、シリコーンは、直鎖状または環状の、分枝構造または硬化構造を有する有機ケイ素のポリマーまたはオリゴマーであって、様々な分子量を有し、適切に官能基化されたシランの重合および／または重縮合によって得られ、かつ酸素原子を介してケイ素原子が結合している（シロキサン結合）主要モチーフの反復で基本的に構成されており、置換可能な炭化水素基が炭素原子を介して前記ケイ素原子に直接結合している、有機ケイ素のポリマーまたはオリゴマーである。
【０２０９】
「シリコーン」という用語は、その調製に必要とされる顔料、特にアルキルシランも包含する。
【０２１０】
本発明に好適に使用される顔料被覆用のシリコーンは、好ましくは、アルキルシラン、ポリジアルキルシロキサンおよびポリアルキルヒドロゲノシロキサン（ｐｏｌｙａｌｋｙｌｈｙｄｒｏｇｅｎｏｓｉｌｏｘａｎｅｓ）を含む群から選択される。さらにより好ましくは、シリコーンは、オクチルトリメチルシラン、ポリジメチルシロキサンおよびポリメチルヒドロゲノシロキサン（ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌｈｙｄｒｏｇｅｎｏｓｉｌｏｘａｎｅｓ）を含む群から選択される。
【０２１１】
明らかに、それらをシリコーンで処理する前に、金属酸化物顔料は、他の表面剤、特に酸化セリウム、アルミナ、シリカ、アルミニウム化合物、ケイ素化合物、またはそれらの混合物で処理されていたと考えられる。
【０２１２】
さらに詳細には、被覆顔料は、以下のもので被覆された酸化チタンである：
・シリカ（供給業者のＩＫＥＤＡの製品「ＳＵＮＶＥＩＬ」など）；
・シリカおよび酸化鉄（供給業者のＩＫＥＤＡの製品「ＳＵＮＶＥＩＬ Ｆ」など）；
・シリカおよびアルミナ（供給業者のＴＡＹＣＡの製品「ＭＩＣＲＯＴＩＴＡＮＩＵＭ ＤＩＯＸＩＤＥ ＭＴ ５００ ＳＡ」および「ＭＩＣＲＯＴＩＴＡＮＩＵＭ ＤＩＯＸＩＤＥ ＭＴ １００ ＳＡ」、または供給業者のＴＩＯＸＩＤＥの「ＴＩＯＶＥＩＬ」など）；
・アルミナ（供給業者のＩＳＨＩＨＡＲＡの製品「ＴＩＰＡＱＵＥ ＴＴＯ−５５（Ｂ）」または「ＴＩＰＡＱＵＥ ＴＴＯ−５５（Ａ）」、および供給業者のＫＥＭＩＲＡの「ＵＶＴ １４／４」など）；
・アルミナおよびステアリン酸アルミニウム（供給業者のＴＡＹＣＡの製品「ＭＩＣＲＯＴＩＴＡＮＩＵＭ ＤＩＯＸＩＤＥ ＭＴ １００ Ｔ、ＭＴ １００ ＴＸ、ＭＴ １００ Ｚ、ＭＴ−０１」、供給業者のＵＮＩＱＥＭＡの製品「Ｓｏｌａｖｅｉｌ ＣＴ−１０ Ｗ」および「Ｓｏｌａｖｅｉｌ ＣＴ １００」および供給業者のＭＥＲＣＫの製品「Ｅｕｓｏｌｅｘ Ｔ−ＡＶＯ」など）；
・シリカ、アルミナおよびアルギン酸（供給業者のＴＡＹＣＡの製品「ＭＴ−１００ ＡＱ」など）；
・アルミナおよび三ラウリン酸アルミニウム（供給業者のＴＡＹＣＡの製品「ＭＩＣＲＯＴＩＴＡＮＩＵＭ ＤＩＯＸＩＤＥ ＭＴ １００ Ｓ」など）；
・酸化鉄およびステアリン酸鉄（供給業者のＴＡＹＣＡの製品「ＭＩＣＲＯＴＩＴＡＮＩＵＭ ＤＩＯＸＩＤＥ ＭＴ １００ Ｆ」など）；
酸化亜鉛およびステアリン酸亜鉛（供給業者のＴＡＹＣＡの製品「ＢＲ ３５１」など）；
・シリカおよびアルミナ（シリコーンで処理されたもの）（供給業者のＴＡＹＣＡの製品「ＭＩＣＲＯＴＩＴＡＮＩＵＭ ＤＩＯＸＩＤＥ ＭＴ ６００ ＳＡＳ」、「ＭＩＣＲＯＴＩＴＡＮＩＵＭ ＤＩＯＸＩＤＥ ＭＴ ５００ ＳＡＳ」、または「ＭＩＣＲＯＴＩＴＡＮＩＵＭ ＤＩＯＸＩＤＥ ＭＴ １００ ＳＡＳ」など）；
・シリカ、アルミナ、およびステアリン酸アルミニウム（シリコーンで処理されたもの）（供給業者のＴＩＴＡＮ ＫＯＧＹＯの製品「ＳＴＴ−３０−ＤＳ」など）；
・シリコーン処理されたシリカ（供給業者のＫＥＭＩＲＡの製品「ＵＶ−ＴＩＴＡＮ Ｘ １９５」など）；
・シリコーン処理されたアルミナ（供給業者のＩＳＨＩＨＡＲＡの製品「ＴＩＰＡＱＵＥ ＴＴＯ−５５（Ｓ）」、または供給業者のＫＥＭＩＲＡの「ＵＶ ＴＩＴＡＮ Ｍ ２６２」など）；
・トリエタノールアミン（供給業者のＴＩＴＡＮ ＫＯＧＹＯの製品「ＳＴＴ−６５−Ｓ」など）；
・ステアリン酸（供給業者のＩＳＨＩＨＡＲＡの製品「ＴＩＰＡＱＵＥ ＴＴＯ−５５（Ｃ）」など）；
・ヘキサメタリン酸ナトリウム（供給業者のＴＡＹＣＡの製品「ＭＩＣＲＯＴＩＴＡＮＩＵＭ ＤＩＯＸＩＤＥ ＭＴ １５０ Ｗ」など）；
・オクチルトリメチルシランで処理されたＴｉＯ２（供給業者のＤＥＧＵＳＳＡ ＳＩＬＩＣＥＳから「Ｔ ８０５」という商品名で販売されているもの）；
・ポリジメチルシロキサンで処理されたＴｉＯ２（供給業者のＣＡＲＤＲＥから「７０２５０ Ｃａｒｄｒｅ ＵＦ ＴｉＯ２ＳＩ３」という商品名で販売されているもの）；
・ポリジメチルヒドロゲノシロキサンで処理されたＴｉＯ２アナターゼ／ルチル（供給業者のＣＯＬＯＲ ＴＥＣＨＮＩＱＵＥＳから「ＭＩＣＲＯ ＴＩＴＡＮＩＵＭ ＤＩＯＸＩＤＥ ＵＳＰ ＧＲＡＤＥ ＨＹＤＲＯＰＨＯＢＩＣ」という商品名で販売されているもの）。
【０２１３】
被覆されていない酸化チタン顔料は、例えば、供給業者のＴＡＹＣＡから「ＭＩＣＲＯＴＩＴＡＮＩＵＭ ＤＩＯＸＩＤＥ ＭＴ ５００ Ｂ」または「ＭＩＣＲＯＴＩＴＡＮＩＵＭ ＤＩＯＸＩＤＥ ＭＴ６００ Ｂ」という商品名で、供給業者のＤＥＧＵＳＳＡから「Ｐ ２５」という名称で、供給業者のＷＡＣＫＥＲから「Ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ ｔｉｔａｎｉｕｍ ｏｘｉｄｅ ＰＷ」という名称で、供給業者のＭＩＹＯＳＨＩ ＫＡＳＥＩから「ＵＦＴＲ」という名称で、供給業者のＴＯＭＥＮから「ＩＴＳ」という名称で、さらに供給業者のＴＩＯＸＩＤＥから「ＴＩＯＶＥＩＬ ＡＱ」という名称で販売されている。
【０２１４】
被覆されていない酸化亜鉛顔料の例は以下のものである。
・「Ｚ−ｃｏｔｅ」という名称で供給業者のＳｕｎｓｍａｒｔから販売されているもの；
・「Ｎａｎｏｘ」という名称で供給業者のＥｌｅｍｅｎｔｉｓから販売されているもの；
・「Ｎａｎｏｇａｒｄ ＷＣＤ ２０２５」という名称で供給業者のＮａｎｏｐｈａｓｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓから販売されているもの。
【０２１５】
被覆酸化亜鉛顔料の例は以下のものである。
・「Ｚｉｎｃ ｏｘｉｄｅ ＣＳ−５」という名称で供給業者のＴｏｓｈｉｂｉから販売されているもの（ポリメチルヒドロゲノシロキサンで被覆されたＺｎＯ）；
・「Ｎａｎｏｇａｒｄ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ ＦＮ」という名称で供給業者のＮａｎｏｐｈａｓｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓから販売されているもの（Ｆｉｎｓｏｌｖ ＴＮ（Ｃ１２〜Ｃ１５アルコールベンゾアート）中中の４０％分散液）；
・「ＤＡＩＴＯＰＥＲＳＩＯＮ ＺＮ−３０」および「ＤＡＩＴＯＰＥＲＳＩＯＮ Ｚｎ−５０」という名称で供給業者のＤａｉｔｏから販売されているもの（シクロポリメチルシロキサン／オキシエチレン化ポリジメチルシロキサン中に、シリカおよびポリメチルヒドロゲノシロキサンで被覆されたナノ酸化亜鉛を３０％〜５０％含む分散液）；
・「ＮＦＤ Ｕｌｔｒａｆｉｎｅ ＺｎＯ」という名称で供給業者のＤａｉｋｉｎから販売されているもの（パーフルオロアルキルリン酸とパーフルオロアルキルエチル系コポリマーとで被覆されたＺｎＯが、シクロペンタシロキサン中に分散しているもの）；
・「ＳＰＤ−Ｚ１」という名称で供給業者のＳｈｉｎ−Ｅｔｓｕから販売されているもの（シリコーングラフト化アクリルポリマーで被覆されたＺｎＯが、シクロジメチルシロキサン中に分散しているもの）；
・「Ｅｓｃａｌｏｌ Ｚ１００」という名称で供給業者のＩＳＰから販売されているもの（ＺｎＯで処理されたアルミナが、エチルヘキシルメトキシシンナメート／ＰＶＰ−ヘキサデセンコポリマー／メチコン混合物中に分散しているもの）；
・「Ｆｕｊｉ ＺｎＯ−ＳＭＳ−１０」という名称で供給業者のＦｕｊｉ Ｐｉｇｍｅｎｔから販売されているもの（シリカおよびポリメチルシルセスキオキサンで被覆されたＺｎＯ）；
・「Ｎａｎｏｘ Ｇｅｌ ＴＮ」という名称で供給業者のＥｌｅｍｅｎｔｉｓから販売されているもの（Ｃ１２〜Ｃ１５アルコールベンゾアートおよびヒドロキシステアリン酸重縮合物中に濃度５５％で分散しているＺｎＯ）。
【０２１６】
被覆されていない酸化セリウム顔料は、「ＣＯＬＬＯＩＤＡＬ ＣＥＲＩＵＭ ＯＸＩＤＥ」という名称で供給業者のＲＨＯＮＥ ＰＯＵＬＥＮＣから販売されている。
【０２１７】
被覆されていない酸化鉄顔料は、例えば、供給業者のＡＲＮＡＵＤから「ＮＡＮＯＧＡＲＤ ＷＣＤ ２００２（ＦＥ ４５Ｂ）」、「ＮＡＮＯＧＡＲＤ ＩＲＯＮ ＦＥ ４５ ＢＬ ＡＱ」、「ＮＡＮＯＧＡＲＤ ＦＥ ４５Ｒ ＡＱ」、「ＮＡＮＯＧＡＲＤ ＷＣＤ ２００６（ＦＥ ４５Ｒ）」という名称で、または供給業者のＭＩＴＳＵＢＩＳＨＩから「ＴＹ−２２０」という名称で販売されている。
【０２１８】
被覆酸化鉄顔料は、例えば、供給業者のＡＲＮＡＵＤから「ＮＡＮＯＧＡＲＤ ＷＣＤ ２００８（ＦＥ ４５Ｂ ＦＮ）」、「ＮＡＮＯＧＡＲＤ ＷＣＤ ２００９（ＦＥ ４５Ｂ ５５６）」、「ＮＡＮＯＧＡＲＤ ＦＥ ４５ ＢＬ ３４５」、「ＮＡＮＯＧＡＲＤ ＦＥ ４５ ＢＬ」という名称で、または供給業者のＢＡＳＦから「ＴＲＡＮＳＰＡＲＥＮＴ ＩＲＯＮ ＯＸＩＤＥ」という名称で販売されている。
【０２１９】
シリカで被覆されている同重量の二酸化セリウムおよび二酸化チタンの混合物（供給業者のＩＫＥＤＡから「ＳＵＮＶＥＩＬＡ」という名称で販売されている）も含め、金属酸化物（特に二酸化チタンおよび二酸化セリウム）の混合物、ならびに二酸化チタンおよび二酸化亜鉛の混合物で、アルミナ、シリカおよびシリコーンで被覆されたもの（供給業者のＫＥＭＩＲＡが販売している製品「Ｍ ２６１」など）、またはアルミナ、シリカおよびグリセリンで被覆されたもの（供給業者のＫＥＭＩＲＡが販売している製品「Ｍ ２１１」など）も挙げることができる。
【０２２０】
１種または複数種の無機遮蔽剤は、本発明の組成物中に、組成物の全重量を基準にして０．１重量％〜１５重量％の範囲、好ましくは０．２重量％〜１０重量％の範囲の濃度で存在してもよい。
【０２２１】
１種または複数種の添加剤は、ＣＴＦＡ Ｃｏｓｍｅｔｉｃ Ｉｎｇｒｅｄｉｅｎｔ Ｈａｎｄｂｏｏｋ，１０ｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｃｏｓｍｅｔｉｃ ａｎｄ Ｆｒａｇｒａｎｃｅ Ａｓｓｎ，Ｉｎｃ．，Ｗａｓｈｉｎｇｔｏｎ ＤＣ（２００４）（本明細書に援用する）に挙げられているものから選択してもよい。
【０２２２】
生薬形態
フォトニック粒子は、皮膚、唇、毛髪または爪用の、化粧水、クリーム、乳液、ポマード、ジェル、フィルム、パッチ、スティック、パウダー、ペーストに使用できる。
【０２２３】
施与の方法
フォトニック粒子を含む組成物は、手で、または施与器を用いて施与することができる。
【０２２４】
施与は、例えば、噴霧または圧電装置による射出によって、あるいは中間支持体上に付着した組成物の層を移すことによって行うこともできる。
【０２２５】
パッケージ
組成物は、任意のパッケージ手段（特に熱可塑性材料から作られたもの）の中に、あるいはその目的のために用意された任意の支持体上にパッケージ化できる。
【０２２６】
パッケージ手段は、ボトル、ポンプボトル、エアロゾルボトル、チューブ、小袋またはポットであってもよい。
【実施例】
【０２２７】
ナノ粒子は、供給業者のＳＯＫＥＮの２８５ｎｍ ＰＭＭＡナノ粒子１００％で構成される。
【０２２８】
噴霧乾燥で得られたフォトニック粒子は、粒径がおよそ３０μｍであった。
【０２２９】
図４は、本発明のフォトニック粒子を含んでいる様々な組成物の吸収スペクトルを示す。
【０２３０】
特に明記されていない限り、「１種（１つ）の〜を含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ ａ）」という表現は、「少なくとも１種（少なくとも１つ）の〜を含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ ａｔ ｌｅａｓｔ ｏｎｅ）」を意味すると解釈されるべきである。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
太陽の紫外線照射から物質を光防護する方法であって、組成物を用いて前記物質を処理するかまたは組成物を前記物質中に混ぜ込むことを含む方法において、
前記組成物が１μｍ〜５００μｍの範囲の平均粒径を有するフォトニック粒子の分散物を含み、各フォトニック粒子が単分散のナノ粒子または空隙の、回折する配列を含み、前記配列の回折スペクトルが２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に一次反射ピークを含む、方法。
【請求項２】
１μｍ〜５００μｍの範囲の平均粒径を有するフォトニック粒子の分散物を含み、各粒子が単分散のナノ粒子または空隙の、回折する配列を含み、前記配列の回折スペクトルが２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に一次反射ピークを含む化粧料組成物を施与することを含む、太陽の紫外線照射からヒトの角質物質を光防護する、非治療的な、特に化粧的な方法。
【請求項３】
前記フォトニック粒子がマトリックスなしで凝集しているナノ粒子を含む、請求項１または２のいずれかに記載の方法。
【請求項４】
前記フォトニック粒子がマトリックス（２０）中で凝集または分散しているナノ粒子（１０）を含む、請求項１または２のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
前記ナノ粒子（１０）の平均粒径が１００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲、好ましくは１００ｎｍ〜３５０ｎｍの範囲にある、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記フォトニック粒子（１）が２未満の形状係数を有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記フォトニック粒子（１）が実質的に球の形状である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記組成物が更なる遮光剤および／または更なる着色剤を含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記組成物中の前記フォトニック粒子（１）の含有率が、施与前では０．１重量％〜２０重量％の範囲である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
少なくとも１つのフォトニック粒子（１）がナノ粒子（１０）の少なくとも１種の他の回折する配列、特に２種類の他の配列を含み、前記配列が異なる回折スペクトルを有する、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記異なる配列が前記フォトニック粒子（１）の異なるゾーンによって光を回折させる、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記配列の１つが、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に少なくとも１つの一次反射ピークがある回折スペクトルを有し、別の配列が、２５０ｎｍ〜４００ｎｍまたは４００ｎｍ〜７００ｎｍの前記波長範囲に少なくとも１つの一次反射ピークを示す回折スペクトルを有する、請求項１０または１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
前記マトリックス（２０）が、
・有機マトリックスであって、
・ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）またはポリアクリルアミド（ＰＡＭ）のアクリルマトリックス、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリカプロラクトン、ポリ酢酸ビニル，またはポリビニルエチルアセテートのマトリックス、および融点が６５℃より高くかつ硬度が５ＭＰａより大きいワックス；ならびに
・有機架橋性マトリックスであって、
− 光架橋性ポリマー、例えばＥＴＰＡ（エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート）、ＰＥＧＤＡ（ポリエチレングリコールジアクリレート）、アクリル樹脂、ＰＥＧジアクリレート、
− ポリ酢酸ビニルまたはポリビニルエチルアセテートと、以下の式を有するスチリルピリジニウム
【化１】
［式中、Ｒは、水素原子、アルキル基またはヒドロキシアルキル基を表し、Ｒ’は、水素原子またはアルキル基を表す］
とのコポリマー；
− 桂皮酸誘導体、例えばポリビニルシンナメートまたはＰＤＭＳシンナメート；
− 反応性シリコーン、すなわち、
− 次式を有するシロキサン単位：
【数１】
［式中、Ｒは、１〜３０個の炭素原子を含む直鎖状または環状の一価の炭化水素基であり、ｍは１または２に等しく、Ｒ’は、２〜１０個の炭素原子を含む不飽和脂肪族炭化水素基または５〜８個の炭素原子を含む不飽和環状炭化水素基である］
を含むポリオルガノシロキサン；
− 次式を有する少なくとも１種のアルキルヒドロゲノシロキサン単位：
【数３】
［式中、Ｒは、１〜３０個の炭素原子を含む直鎖状または環状の一価の炭化水素基であるかまたはフェニル基であり、ｐは１〜２に等しい］
を含むポリオルガノシロキサン；および
− 熱可塑性、熱架橋性または電子架橋性のポリマー
から選択される有機架橋性マトリックス
から選択される、有機マトリックス；
・金属酸化物、特にＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯ、または無機のＣａＣＯ３またはＳｉマトリックスから選択される無機マトリックス
である、請求項４〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記フォトニック粒子（１）が無色である、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記ナノ粒子（１０）が、変動係数が５％〜１５％の範囲にある平均粒径を有する、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
前記フォトニック粒子が、１〜５０μｍ、より望ましくは１〜４０μｍ、より望ましくは１〜２０μｍの範囲の平均粒径を有する、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
前記組成物は単一型のフォトニック粒子を含む、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
前記ナノ粒子が無機であり、特にシリカを含む、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】
前記フォトニック粒子が直接オパール型である、請求項１〜１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】
前記フォトニック粒子が逆オパール型である、請求項４〜１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
前記マトリックスが、前記回折する配列を構成する前記ナノ粒子とは異なる更なるナノ粒子、特に金属または金属酸化物タイプ、を含まない、請求項４〜２０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２２】
請求項１〜２１のいずれか一項に記載のフォトニック粒子の分散物を含む少なくとも１種の組成物をインクまたは塗料または皮膜に含有させることを含む、前記インク、塗料または皮膜を光防護する方法。
【請求項２３】
少なくとも１種の合成ポリマーまたは天然ポリマーから製造された物質を光防護する方法であって、前記ポリマーを請求項１〜２１のいずれか一項に記載のフォトニック粒子の分散物を含む少なくとも１種の組成物で処理するか、または前記組成物を前記物質に混ぜ込むことを含む、方法。
【請求項２４】
有機または無機ガラスを光防護する方法であって、前記ガラスを請求項１〜２１のいずれか一項に記載のフォトニック粒子の分散物を含む少なくとも１種の組成物で処理することを含むか、または前記組成物を前記ガラスに混ぜ込むことを含む、方法。
【請求項２５】
少なくとも天然繊維および／または合成繊維、例えば織物または紙、を含む物質を光防護する方法であって、前記物質を請求項１〜２１のいずれか一項に記載のフォトニック粒子の分散物を含む少なくとも１種の組成物で処理することを含むか、または前記組成物を前記物質に混ぜ込むことを含む、方法。
【請求項２６】
１μｍ〜５００μｍの範囲の平均粒径を有するフォトニック粒子（１）の分散物を含み、各粒子が単分散のナノ粒子（１０）または空隙の、回折する配列を含み、前記配列の回折スペクトルが２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に一次反射ピークを含む、請求項２２〜２５のいずれか一項に記載の方法を実施するための組成物。
【請求項２７】
１μｍ〜５００μｍの範囲の平均粒径を有するフォトニック粒子（１）の分散物を含み、各粒子が単分散のナノ粒子（１０）または空隙の、回折する配列を含み、前記配列の回折スペクトルが２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に一次反射ピークを含む、請求項１〜２６のいずれか一項に記載の方法を実施するための光防護用化粧料組成物。
【請求項２８】
１０より大きいＳＰＦを有する、請求項２７に記載の組成物。
【請求項２９】
太陽の紫外線照射から物質を光防護する方法であって、組成物を用いて前記物質を処理するかまたは前記組成物を前記物質に混ぜ込むことを含む方法において、
前記組成物が１μｍ〜５００μｍの範囲の平均粒径を有するフォトニック粒子の分散物を含み、各フォトニック粒子が単分散のナノ粒子または空隙の、回折する配列を含み、前記配列の回折スペクトルが２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に一次反射ピークを含み、
前記フォトニック粒子が直接オパール型でありかつ実質的に球の形状である、方法。
【請求項３０】
太陽の紫外線照射から物質を光防護する方法であって、組成物を用いて前記物質を処理するかまたは前記組成物を前記物質中に混ぜ込むことを含む方法において、
前記組成物が１μｍ〜５００μｍの範囲の平均粒径を有するフォトニック粒子の分散物を含み、各フォトニック粒子が単分散のナノ粒子または空隙の、回折する配列を含み、前記配列の回折スペクトルが２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に一次反射ピークを含み、
前記フォトニック粒子が逆オパール型である、方法。
【請求項３１】
１μｍ〜５００μｍの範囲の平均粒径を有するフォトニック粒子の分散物を含み、各粒子が単分散のナノ粒子または空隙の、回折する配列を含み、前記配列の回折スペクトルが２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に一次反射ピークを含む化粧料組成物を施与することを含む、太陽の紫外線照射からヒトの角質物質を光防護する、非治療的な、特に化粧的な方法において、
前記フォトニック粒子が直接オパール型でありかつ実質的に球の形状である、方法。
【請求項３２】
１μｍ〜５００μｍの範囲の平均粒径を有するフォトニック粒子の分散物を含み、各粒子が単分散のナノ粒子または空隙の、回折する配列を含み、前記配列の回折スペクトルが２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に一次反射ピークを含む化粧料組成物を施与することを含む、太陽の紫外線照射からヒトの角質物質を光防護する、非治療的な、特に化粧的な方法において、
前記フォトニック粒子が逆オパール型である、方法。
【請求項１】
太陽の紫外線照射から物質を光防護する方法であって、組成物を用いて前記物質を処理するかまたは組成物を前記物質中に混ぜ込むことを含む方法において、
前記組成物が１μｍ〜５００μｍの範囲の平均粒径を有するフォトニック粒子の分散物を含み、各フォトニック粒子が単分散のナノ粒子または空隙の、回折する配列を含み、前記配列の回折スペクトルが２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に一次反射ピークを含む、方法。
【請求項２】
１μｍ〜５００μｍの範囲の平均粒径を有するフォトニック粒子の分散物を含み、各粒子が単分散のナノ粒子または空隙の、回折する配列を含み、前記配列の回折スペクトルが２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に一次反射ピークを含む化粧料組成物を施与することを含む、太陽の紫外線照射からヒトの角質物質を光防護する、非治療的な、特に化粧的な方法。
【請求項３】
前記フォトニック粒子がマトリックスなしで凝集しているナノ粒子を含む、請求項１または２のいずれかに記載の方法。
【請求項４】
前記フォトニック粒子がマトリックス（２０）中で凝集または分散しているナノ粒子（１０）を含む、請求項１または２のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
前記ナノ粒子（１０）の平均粒径が１００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲、好ましくは１００ｎｍ〜３５０ｎｍの範囲にある、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記フォトニック粒子（１）が２未満の形状係数を有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記フォトニック粒子（１）が実質的に球の形状である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記組成物が更なる遮光剤および／または更なる着色剤を含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記組成物中の前記フォトニック粒子（１）の含有率が、施与前では０．１重量％〜２０重量％の範囲である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
少なくとも１つのフォトニック粒子（１）がナノ粒子（１０）の少なくとも１種の他の回折する配列、特に２種類の他の配列を含み、前記配列が異なる回折スペクトルを有する、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記異なる配列が前記フォトニック粒子（１）の異なるゾーンによって光を回折させる、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記配列の１つが、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に少なくとも１つの一次反射ピークがある回折スペクトルを有し、別の配列が、２５０ｎｍ〜４００ｎｍまたは４００ｎｍ〜７００ｎｍの前記波長範囲に少なくとも１つの一次反射ピークを示す回折スペクトルを有する、請求項１０または１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
前記マトリックス（２０）が、
・有機マトリックスであって、
・ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）またはポリアクリルアミド（ＰＡＭ）のアクリルマトリックス、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリカプロラクトン、ポリ酢酸ビニル，またはポリビニルエチルアセテートのマトリックス、および融点が６５℃より高くかつ硬度が５ＭＰａより大きいワックス；ならびに
・有機架橋性マトリックスであって、
− 光架橋性ポリマー、例えばＥＴＰＡ（エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート）、ＰＥＧＤＡ（ポリエチレングリコールジアクリレート）、アクリル樹脂、ＰＥＧジアクリレート、
− ポリ酢酸ビニルまたはポリビニルエチルアセテートと、以下の式を有するスチリルピリジニウム
【化１】
［式中、Ｒは、水素原子、アルキル基またはヒドロキシアルキル基を表し、Ｒ’は、水素原子またはアルキル基を表す］
とのコポリマー；
− 桂皮酸誘導体、例えばポリビニルシンナメートまたはＰＤＭＳシンナメート；
− 反応性シリコーン、すなわち、
− 次式を有するシロキサン単位：
【数１】
［式中、Ｒは、１〜３０個の炭素原子を含む直鎖状または環状の一価の炭化水素基であり、ｍは１または２に等しく、Ｒ’は、２〜１０個の炭素原子を含む不飽和脂肪族炭化水素基または５〜８個の炭素原子を含む不飽和環状炭化水素基である］
を含むポリオルガノシロキサン；
− 次式を有する少なくとも１種のアルキルヒドロゲノシロキサン単位：
【数３】
［式中、Ｒは、１〜３０個の炭素原子を含む直鎖状または環状の一価の炭化水素基であるかまたはフェニル基であり、ｐは１〜２に等しい］
を含むポリオルガノシロキサン；および
− 熱可塑性、熱架橋性または電子架橋性のポリマー
から選択される有機架橋性マトリックス
から選択される、有機マトリックス；
・金属酸化物、特にＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯ、または無機のＣａＣＯ３またはＳｉマトリックスから選択される無機マトリックス
である、請求項４〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記フォトニック粒子（１）が無色である、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記ナノ粒子（１０）が、変動係数が５％〜１５％の範囲にある平均粒径を有する、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
前記フォトニック粒子が、１〜５０μｍ、より望ましくは１〜４０μｍ、より望ましくは１〜２０μｍの範囲の平均粒径を有する、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
前記組成物は単一型のフォトニック粒子を含む、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
前記ナノ粒子が無機であり、特にシリカを含む、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】
前記フォトニック粒子が直接オパール型である、請求項１〜１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】
前記フォトニック粒子が逆オパール型である、請求項４〜１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
前記マトリックスが、前記回折する配列を構成する前記ナノ粒子とは異なる更なるナノ粒子、特に金属または金属酸化物タイプ、を含まない、請求項４〜２０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２２】
請求項１〜２１のいずれか一項に記載のフォトニック粒子の分散物を含む少なくとも１種の組成物をインクまたは塗料または皮膜に含有させることを含む、前記インク、塗料または皮膜を光防護する方法。
【請求項２３】
少なくとも１種の合成ポリマーまたは天然ポリマーから製造された物質を光防護する方法であって、前記ポリマーを請求項１〜２１のいずれか一項に記載のフォトニック粒子の分散物を含む少なくとも１種の組成物で処理するか、または前記組成物を前記物質に混ぜ込むことを含む、方法。
【請求項２４】
有機または無機ガラスを光防護する方法であって、前記ガラスを請求項１〜２１のいずれか一項に記載のフォトニック粒子の分散物を含む少なくとも１種の組成物で処理することを含むか、または前記組成物を前記ガラスに混ぜ込むことを含む、方法。
【請求項２５】
少なくとも天然繊維および／または合成繊維、例えば織物または紙、を含む物質を光防護する方法であって、前記物質を請求項１〜２１のいずれか一項に記載のフォトニック粒子の分散物を含む少なくとも１種の組成物で処理することを含むか、または前記組成物を前記物質に混ぜ込むことを含む、方法。
【請求項２６】
１μｍ〜５００μｍの範囲の平均粒径を有するフォトニック粒子（１）の分散物を含み、各粒子が単分散のナノ粒子（１０）または空隙の、回折する配列を含み、前記配列の回折スペクトルが２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に一次反射ピークを含む、請求項２２〜２５のいずれか一項に記載の方法を実施するための組成物。
【請求項２７】
１μｍ〜５００μｍの範囲の平均粒径を有するフォトニック粒子（１）の分散物を含み、各粒子が単分散のナノ粒子（１０）または空隙の、回折する配列を含み、前記配列の回折スペクトルが２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に一次反射ピークを含む、請求項１〜２６のいずれか一項に記載の方法を実施するための光防護用化粧料組成物。
【請求項２８】
１０より大きいＳＰＦを有する、請求項２７に記載の組成物。
【請求項２９】
太陽の紫外線照射から物質を光防護する方法であって、組成物を用いて前記物質を処理するかまたは前記組成物を前記物質に混ぜ込むことを含む方法において、
前記組成物が１μｍ〜５００μｍの範囲の平均粒径を有するフォトニック粒子の分散物を含み、各フォトニック粒子が単分散のナノ粒子または空隙の、回折する配列を含み、前記配列の回折スペクトルが２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に一次反射ピークを含み、
前記フォトニック粒子が直接オパール型でありかつ実質的に球の形状である、方法。
【請求項３０】
太陽の紫外線照射から物質を光防護する方法であって、組成物を用いて前記物質を処理するかまたは前記組成物を前記物質中に混ぜ込むことを含む方法において、
前記組成物が１μｍ〜５００μｍの範囲の平均粒径を有するフォトニック粒子の分散物を含み、各フォトニック粒子が単分散のナノ粒子または空隙の、回折する配列を含み、前記配列の回折スペクトルが２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に一次反射ピークを含み、
前記フォトニック粒子が逆オパール型である、方法。
【請求項３１】
１μｍ〜５００μｍの範囲の平均粒径を有するフォトニック粒子の分散物を含み、各粒子が単分散のナノ粒子または空隙の、回折する配列を含み、前記配列の回折スペクトルが２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に一次反射ピークを含む化粧料組成物を施与することを含む、太陽の紫外線照射からヒトの角質物質を光防護する、非治療的な、特に化粧的な方法において、
前記フォトニック粒子が直接オパール型でありかつ実質的に球の形状である、方法。
【請求項３２】
１μｍ〜５００μｍの範囲の平均粒径を有するフォトニック粒子の分散物を含み、各粒子が単分散のナノ粒子または空隙の、回折する配列を含み、前記配列の回折スペクトルが２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に一次反射ピークを含む化粧料組成物を施与することを含む、太陽の紫外線照射からヒトの角質物質を光防護する、非治療的な、特に化粧的な方法において、
前記フォトニック粒子が逆オパール型である、方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公表番号】特表２０１３−５０７３５３（Ｐ２０１３−５０７３５３Ａ）
【公表日】平成２５年３月４日（２０１３．３．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−５３２７１１（Ｐ２０１２−５３２７１１）
【出願日】平成２２年１０月１２日（２０１０．１０．１２）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＩＢ２０１０／０５４６０９
【国際公開番号】ＷＯ２０１１／０４５７４０
【国際公開日】平成２３年４月２１日（２０１１．４．２１）
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．ＴＥＦＬＯＮ
【出願人】（５９５１００３７０）ロレアル (108)
【氏名又は名称原語表記】Ｌ′ＯＲＥＡＬ
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２５年３月４日（２０１３．３．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１０月１２日（２０１０．１０．１２）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＩＢ２０１０／０５４６０９
【国際公開番号】ＷＯ２０１１／０４５７４０
【国際公開日】平成２３年４月２１日（２０１１．４．２１）
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．ＴＥＦＬＯＮ
【出願人】（５９５１００３７０）ロレアル (108)
【氏名又は名称原語表記】Ｌ′ＯＲＥＡＬ
【Ｆターム（参考）】
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