フルオロエラストマーを含む中間転写部材
【課題】電気的性質および／または機械的性質が改善された中間転写部材を提供する。
【解決手段】フルオロエラストマー中に分散されたコアシェル成分を含み、該コアが金属酸化物を含み、該シェルがシリカを含む、中間転写部材である。該シェルは、シラザンの疎水性物質で化学修飾されてもよく、金属酸化物が、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、アルミニウム亜鉛酸化物、アンチモンチタン二酸化物、アンチモンスズ酸化物、酸化インジウム、インジウムスズ酸化物、またはそれらの混合物であってもよい。
【解決手段】フルオロエラストマー中に分散されたコアシェル成分を含み、該コアが金属酸化物を含み、該シェルがシリカを含む、中間転写部材である。該シェルは、シラザンの疎水性物質で化学修飾されてもよく、金属酸化物が、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、アルミニウム亜鉛酸化物、アンチモンチタン二酸化物、アンチモンスズ酸化物、酸化インジウム、インジウムスズ酸化物、またはそれらの混合物であってもよい。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、中間転写部材、より具体的には、フルオロエラストマーを含む中間転写部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
中間転写部材を使用することの不利な点は、トナー粒子と転写部材との間に電荷交換（この電荷交換により最終的に完全とはいえないトナー転写が引き起こされ得る）が起こる可能性があるため、複数の転写ステップが通常必要となることである。これにより、受像基材上に低解像度画像がもたらされ、さらに画像劣化ももたらされる。画像がカラーの場合には、加えて、その画像は複数回の転写停止による色ずれや退色を受けることがある。
【０００３】
実施形態において、中間転写部材の抵抗率は、十分な転写を可能にする範囲内である。また、中間転写部材が制御された抵抗率を有し、この抵抗率が、湿度、温度、バイアス磁場、および動作時間の変化に事実上影響を受けないことも望ましい。さらに、抵抗率が制御されると、静電転写のためにバイアス磁場を確立することができるので価値がある。また、空気の絶縁破壊が起こる可能性があるため、中間転写部材にあまり導電性がないことも価値がある。
【０００４】
米国特許第６，３９７，０３４号では、ポリイミド中間転写部材層におけるフッ素化炭素充填剤の使用が開示されている。しかしながら、これらの部材に関して、非溶解粒子がブルームを起こすかまたはポリマー層の表面へと移動したりすることが多く、これにより抵抗率が不均一となり、そしてこのことが帯電防止特性低下や機械的強度低下の原因となるなどの不具合がある。また、このベルトの表面に存在するイオン添加剤がトナーの放出を妨げ、導電性ポリマー層に気泡が現われる可能性があって、これらの気泡には顕微鏡を用いてしか見ることができないものも肉眼で観察できるほど大きなものもあり、その結果、電気的性質が低下または不均一になり、機械的性質が低下する。
【０００５】
そのため、優れた転写能力を有する溶接可能な中間転写ベルトを提供することが望ましい。また、パズルカットシームを有していないが、その代わりに溶接可能なシームを有する溶接可能な中間転写ベルトを提供し、それによって指を使ってパズルカットシームを手作業で継ぎ合わせるような労働集約的なステップを行わず、さらに長期間の高温高湿度調整ステップも行わずに製造することのできるベルトを提供することも望ましい。さらに、カラー電子写真機の条件に合う円周溶接可能なベルトを提供することも望ましい。
【０００６】
米国特許第７，１３０，５６９号には、全固体の約２〜約２５重量％の量のポリアニリンと、全固体の約７５〜約９８重量％の量で存在する熱可塑性のポリイミドとを含む均質組成物を含む基材を含んでなり、ポリアニリンの粒径が約０．５〜約５μｍである溶接可能な中間転写ベルトが例示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】米国特許第６，３９７，０３４号明細書
【特許文献２】米国特許第６，６０２，１５６号明細書
【特許文献３】米国特許第７，０３１，６４７号明細書
【特許文献４】米国特許第７，１３０，５６９号明細書
【特許文献５】米国特許第７，１３９，５１９号明細書
【特許文献６】米国特許第７，２８０，７９１号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記課題の少なくとも一つを解決することを目的のひとつとする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
フルオロエラストマー中に分散されたコアシェル成分を含む中間転写部材であって、該コアが金属酸化物を含み、該シェルがシリカを含む、中間転写部材である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
中間転写部材、より具体的には、静電複写方式、例えば電子写真方式の（デジタル方式、多重現像方式などを含む）、プリンター、機械または装置による現像画像を転写する際に有用な中間転写部材を開示する。実施形態において、金属酸化物コアおよびシリカシェルで構成されるコアシェル成分からなる選択された中間転写部材、およびシェルがシラザンで疎水処理されているコアシェル成分、より具体的には、金属酸化物からなるコアおよびシリカシェル、からなる中間転写部材であって、シェルにはシラザンが添加されており、コアシェルがフッ素化ポリマー（ＶＩＴＯＮ（登録商標）のような公知のフルオロエラストマーなど）中に分散されており、さらに結果として生じる疎水化コアシェル成分が、優れた抵抗率、優れた画像転写および許容耐引掻性を可能にする疎水性表面、主として部材の撥水性による優れた電気的および寸法安定性などの複数の利点を有し、かつ中間転写部材表面層が、公知のロータスリーフ効果（lotus leaf effect）を特徴とし汚染防止、固着防止、および自浄作用などの独特の性質を有する超疎水性表面を含有すると見なされ得る、中間転写部材がある。
【００１１】
本開示の範囲内には、中間転写ベルトとコアシェル成分、より具体的には、フルオロエラストマー中に分散された疎水化コアシェル（この場合、コアは金属酸化物であり、シェルは修飾シリカからなる）とを含む基材からなるベルト以外の中間部材；コアおよびその上のシェルを含む基材からなる中間転写媒体であって、該シェルがシラザン含有シリカからなり、該コアシェルがフルオロエラストマー中に分散されており、さらにそのコアシェルが、例えば、約３０〜約１００ｍ２／ｇのＢ．Ｅ．Ｔ．表面積を有する中間転写媒体；疎水化コアシェル含有フルオロエラストマー表面層で構成される中間転写部材（この場合、コアは金属酸化物であり、シェルは疎水化シリカおよびポリイミド支持基材からなる）；ポリイミド第１支持基材層、およびその上の疎水化コアシェル含有フルオロエラストマーからなる第２層、第１層と第２層の間に位置する接着剤層で構成される転写媒体であって、第１層および第２層の少なくとも１つがカーボンブラック、ポリアニリン、金属酸化物などのような公知の導電性成分をさらに含む転写媒体；ポリイミド基材層、およびその上の疎水化コアシェル含有フルオロエラストマーからなる層で構成される中間転写ベルトであって、基材層および疎水化コアシェル含有フルオロエラストマーの少なくとも１つが導電性成分を含む中間転写ベルト、ならびに現像された画像を電荷保持表面から基材へ転写するための中間転写ベルトを含む、記録媒体上に画像を形成するための電子写真装置であって、中間転写ベルトが、導電性コアシェル成分が分散されたフルオロエラストマーを含んでなり、シェルがシリカからなり、そのシェルがシラザンなどのような疎水性物質を含み、さらにコアが金属酸化物からなる電子写真装置が含まれる。
【００１２】
その態様において、フルオロエラストマー中に分散されたコアシェル成分を含む基材からなる中間転写部材（ベルトなど）であって、コアが金属酸化物からなり、シェルがシリカからなる中間転写部材；金属酸化物コアおよびその上のシリカシェルで構成される疎水性中間転写媒体であって、コアシェルがフルオロエラストマー中に含まれ、かつシェルがトリアルキル−Ｎ−（トリアルキルシリル）−シランアミンを含む疎水性中間転写媒体；フルオロエラストマー、金属酸化物コア、およびその上のシリカシェルの混合物で構成される超疎水性中間転写媒体であって、シェルがトリアルキル−Ｎ−（トリアルキルシリル）−シランアミンを含み、かつフルオロエラストマーが、フッ化ビニリデンおよびヘキサフルオロプロピレンのコポリマー、フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレンおよびテトラフルオロエチレンのターポリマー、またはフッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン、および、４−ブロモペルフルオロブテン−１、１，１−ジヒドロ−４−ブロモペルフルオロブテン−１，３−ブロモペルフルオロプロペン−１、または１，１−ジヒドロ−３−ブロモペルフルオロプロペン−１の硬化部位モノマーのテトラポリマーである、超疎水性中間転写媒体；金属酸化物コア、およびシリカなどのシェルで構成されるコアシェル成分からなる転写部材であって、さらにシェルがシラザン、フルオロシラン、ポリシロキサンなどで疎水化されており、かつ処理されたコアシェルがフルオロエラストマー中に分散されている転写部材を本明細書において開示する。実施形態において、金属酸化物またはドープ金属酸化物は、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、アルミニウムをドープした酸化亜鉛、アンチモンをドープした二酸化チタン、アンチモンをドープした酸化スズ、酸化インジウム、インジウムスズ酸化物、同様のドープ酸化物、およびそれらの混合物からなる群から選択されてよい。
【００１３】
シェルを化学処理するかまたはシェルに添加するために用いられる疎水性成分の例としては、例えば、シラザン、フルオロシラン、およびポリシロキサンが挙げられ；そしてこのような化学処理剤は、一定量、例えば、約１〜約１５重量％、約１〜約１０重量％、約０．１〜約１２重量％の量、およびシェルについて選択される量に応じた他の好適な量で選択される。
【００１４】
シェルに選択される特定のシラザン例は、次の構造／式（化１，２）により表される、ヘキサメチルジシラザン［１，１，１−トリメチル−Ｎ−（トリメチルシリル）−シランアミン］、２，２，４，４，６，６−ヘキサメチルシクロトリシラザン、１，３−ジエチル−１，１，３，３−テトラメチルジシラザン、１，１，３，３−テトラメチル−１，３−ジフェニルジシラザン、１，３−ジメチル−１，１，３，３−テトラフェニルジシラザンである。
【００１５】
【化１】
【００１６】
シェルに選択される特定のフルオロシランの例は、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）３、Ｃ８Ｈ１７ＣＨ２ＣＨ２ＯＳｉ（ＯＣ２Ｈ５）３など、およびそれらの混合物である。
【００１７】
シェルに選択される特定のポリシロキサンの例は、２，４，６，８−テトラメチルシクロテトラシロキサン、２，４，６，８，１０−ペンタメチルシクロペンタシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、２，４，６−トリメチル−２，４，６−トリフェニルシクロトリシロキサン、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン、オクタフェニルシクロテトラシロキサンなど、およびそれらの混合物である。
【００１８】
シェルに選択されるシリカの例は、シリカ（ＳｉＯ２）、シリコーン（Ｒ２ＳｉＯ）、かご型シルセスキオキサン（ＰＯＳＳ、ＲＳｉＯ１．５）（式中、Ｒは、例えば、約１〜約１８個の炭素原子、または約４〜約８個の炭素原子を有する、アルキル；例えば、約６〜約２４個の炭素原子、または約６〜約１６個の炭素原子を有する、アリールである）、またはそれらの混合物である。
【００１９】
コア−シェルの特定の例は、ＥＶＯＮＩＫ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ（ドイツ、フランクフルト）から市販されている、ＶＰ ＳＴＸ８０１（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝４０〜７０ｍ２／ｇ）に指定される。ＶＰ ＳＴＸ８０１は、二酸化チタンコア（８５重量％）およびシリカシェル（１５重量％）を含んでなり、このシェルは１，１，１−トリメチル−Ｎ−（トリメチルシリル）−シランアミン、またはヘキサメチルジシラザンで疎水修飾されている。一般的には、金属酸化物コアは、約５０〜約９９重量％、約６５〜約９５重量％、約８０〜約９０重量％、さらに具体的には、約８５重量％の量で選択され、シェルは、約１〜約５０重量％、約５〜約４０重量％、約１０〜約３０重量％、約１５〜約２０重量％、より具体的には、約１５重量％の量で存在する。化学処理成分は、様々な有効量（例えば、約０．１〜約４０重量％、約１〜約３０重量％、または約１０〜約２０重量％など）で選択することができる。
【００２０】
実施形態において、コアシェルは、約１０〜約２００ｍ２／ｇ、約３０〜約１００ｍ２／ｇ、または約４０〜約７０ｍ２／ｇのＢ．Ｅ．Ｔ．表面積を有する。
【００２１】
コアシェル成分は、例えば、約５〜約１，０００ｎｍ、例えば、約１０〜約２００ｎｍ、または約２０〜約１００ｎｍの粒径を有する。
【００２２】
コアシェル充填剤は、中間転写部材成分に対して、例えば、約３〜約６０重量％、約１〜約５０重量％、または約２０〜約４０重量％の量で存在する。
【００２３】
本開示のコアシェル製品成分は、フルオロエラストマーとともに分散系に形成されてよく、これは機械的攪拌により均一分散系とし、ドローバー塗布法を用いて支持基材に塗布される。結果として得られる被膜は、基材上に残したまま、約１００℃〜約４００℃のような温度で、約２０〜約６００分間加熱することにより乾燥させることができる。乾燥させ、室温に冷却した後、基材上に形成された約１〜約１５０μｍ厚の被膜が、中間転写部材として機能することができる。
【００２４】
フルオロエラストマーの例としては、例えば、コポリマーおよびフッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレンおよびテトラフルオロエチレンのターポリマーが挙げられる。ＶＩＴＯＮ（登録商標）という名称は、Ｅ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ，Ｉｎｃの商標である。コアシェルを分散させるために選択することができる公知のフルオロエラストマーは、ＶＩＴＯＮ（登録商標）Ａとして商業的に知られている、フッ化ビニリデン（ＶＦ２）およびヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）のコポリマー、ＶＩＴＯＮ（登録商標）Ｂ、Ｆ、ＧＢＬ、ＧＬＴ、ＧＦＬＴ、ＥＴＰおよびＧＦとして商業的に知られている、フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレンおよびテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）のターポリマーからなる。フルオロエラストマーは、Ｅ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔから市販されているもの、例えば４−ブロモペルフルオロブテン−１、１，１−ジヒドロ−４−ブロモペルフルオロブテン−１，３−ブロモペルフルオロプロペン−１、１，１−ジヒドロ−３−ブロモペルフルオロプロペン−１、または任意の他の好適な公知の市販の硬化部位モノマーから選択される硬化部位モノマーをさらに含むことができる。硬化性フルオロエラストマーは、ジアミン硬化剤、ビスフェノールＡＦ硬化剤、および／または過酸化物硬化剤で硬化処理することができる。
【００２５】
使用することのできる具体的なフルオロエラストマーの例としては、ＶＩＴＯＮ（登録商標）Ａ−２０１Ｃ、Ａ−３３１Ｃ、Ａ−３６１Ｃ、Ａ−４０１Ｃ、Ａ−６０１Ｃ、Ａ−１００、Ａ−２００、Ａ−５００、Ａ−７００、Ａ−ＨＶ、ＡＬ−３００、ＡＬ−６００、Ｂ−４３５Ｃ、Ｂ−６０１Ｃ、Ｂ−６５１Ｃ、ＧＢＬ−２００Ｓ、ＧＢＬ−６００Ｓ、Ｂ−２０２、Ｂ−６００、Ｆ−６０５Ｃ、ＧＦ−２００Ｓ、ＧＦ−６００Ｓ、ＧＬＴ−２００Ｓ、ＧＬＴ−６００Ｓ、ＧＢＬＴ−２００Ｓ、ＧＢＬＴ−６００Ｓ、ＧＦＬＴ−２００Ｓ、ＧＦＬＴ−６００Ｓ、およびＥＴＰ−６００Ｓが挙げられる。より具体的には、ＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦは、３５モル百分率のフッ化ビニリデン、３４モル百分率のヘキサフルオロプロピレン、および２９モル百分率のテトラフルオロエチレンと、２モル百分率の硬化部位モノマーとで構成されている。
【００２６】
公知の好適な基材に加えて、実施形態においては、プレポリマー溶液、例えばポリアミック酸またはポリアミック酸のエステルなどから、または二無水物とジアミンの反応により合成することのできるポリイミドを選択する。
【００２７】
中間転写部材に添合することのできる熱硬化性ポリイミドの例としては、公知の低温急速硬化ポリイミドポリマー、例えばＶＴＥＣ（商標）ＰＩ １３８８、０８０−０５１、８５１、３０２、２０３、２０１、およびＰＥＴＩ−５（全てＲｉｃｈａｒｄ Ｂｌａｉｎｅ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ，Ｒｅａｄｉｎｇ，ＰＡから入手可能である）が挙げられる。約１８０℃〜約２６０℃の温度で短時間にて、例えば約１０〜約１２０分間、または約２０〜約６０分間で硬化させることのできるこれらの熱硬化性ポリイミドは、約５，０００〜約５００，０００、または約１０，０００〜約１００，０００の数平均分子量、および約５０，０００〜約５，０００，０００、または約１００，０００〜約１，０００，０００の重量平均分子量を有する。ＩＴＭまたはＩＴＢに選択することができ、３００℃より高い温度で硬化させることができる他の熱硬化性ポリイミドとしては、ＰＹＲＥ Ｍ．Ｌ．（登録商標）ＲＣ−５０１９、ＲＣ−５０５７、ＲＣ−５０６９、ＲＣ−５０９７、ＲＣ−５０５３、およびＲＫ−６９２（全てＩｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｓｕｍｍｉｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（ニュージャージー、パーリン）から市販されている）；ＲＰ−４６およびＲＰ−５０（両方Ｕｎｉｔｅｃｈ ＬＬＣ（バレンシア、ハンプトン）から市販されている）；ＤＵＲＩＭＩＤＥ（登録商標）１００（ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｕ．Ｓ．Ａ．，Ｉｎｃ．（ロードアイランド、ノースキングストン）から市販されている）；ならびにＫＡＰＴＯＮ（登録商標）ＨＮ、ＶＮおよびＦＮ（全てＥ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔ（デラウェア、ウィルミントン）から市販されている）；ジ−（２，３−ジカルボキシフェニル）−エーテル二無水物を５−アミノ−１−（ｐ−アミノフェニル）−１，３，３−トリメチルインダン（Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（ニューヨーク、アーズレイ）からポリイミド ＸＵ ２１８として入手可能である）と反応させることにより調製したポリイミドが挙げられる。
【００２８】
実施形態において、ポリイミド支持基材の第１層は、その上に、様々なジアミンと二無水物から形成されるもの（例えばポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミドなど）のような本明細書において例示するコアシェル成分を付着させている。ポリイミドとしては、芳香族ポリイミド、例えばピロメリット酸とジアミノジフェニルエーテルの反応により、または２種の芳香族ジアミン（例えばｐ−フェニレンジアミンおよびジアミノジフェニルエーテル）を用いたコポリマー酸（例えばビフェニルテトラカルボン酸およびピロメリット酸）のイミド化により形成されるものなど；２，２−ビス［４−（８−アミノフェノキシ）フェノキシ］−ヘキサフルオロプロパンと反応させたピロメリット酸二無水物およびベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物コポリマー酸；および１，２，１’，２’−ビフェニルテトラカルボキシイミド基およびパラ−フェニレン基を含むもの、およびジフェニルエーテル末端スペーサー特性を有するビフェニルテトラカルボキシイミド官能性を有するものを含む芳香族ポリイミドが挙げられる。
【００２９】
例えばポリアミドイミド基材は、少なくとも次の２つの方法、（１）イソシアネートと無水トリメリット酸との反応を伴うイソシアネート法；または（２）ジアミンと無水トリメリット酸塩化物を反応させる酸塩化物法により合成することができる。ポリアミドイミドの例としては、ＶＹＬＯＭＡＸ（登録商標）ＨＲ−１１ＮＮ（Ｎ−メチルピロリドン中１５重量％溶液、Ｔｇ＝３００℃、およびＭｗ＝４５，０００）、ＨＲ−１２Ｎ２（Ｎ−メチルピロリドン／キシレン／メチルエチルケトン中３０重量％溶液＝５０／３５／１５、Ｔｇ＝２５５℃、およびＭｗ＝８，０００）、ＨＲ−１３ＮＸ（Ｎ−メチルピロリドン／キシレン中３０重量％溶液＝６７／３３、Ｔｇ＝２８０℃、およびＭｗ＝１０，０００）、ＨＲ−１５ＥＴ（エタノール／トルエン中２５重量％溶液＝５０／５０、Ｔｇ＝２６０℃、およびＭｗ＝１０，０００）、ＨＲ−１６ＮＮ（Ｎ−メチルピロリドン中１４重量％溶液、Ｔｇ＝３２０℃、およびＭｗ＝１００，０００）（全てＴｏｙｏｂｏ Ｃｏｍｐａｎｙ （日本）から市販されている）、およびＴＯＲＬＯＮ（登録商標）ＡＩ−１０（Ｔｇ＝２７２℃）（Ｓｏｌｖａｙ Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｐｏｌｙｍｅｒｓ，ＬＬＣ（ジョージア、アルファレッタ）から市販されている）が挙げられる。
【００３０】
中間転写部材中に存在する（例えばコアシェルフルオロエラストマー混合物またはポリイミド基材中に存在する）追加成分の例は、約１〜約６０重量％、約１〜約３５重量％、約１〜約２０重量％、１〜約１０重量％量で選択される複数の公知の導電性成分、例えば金属酸化物、ポリアニリンおよびカーボンブラックである。
【００３１】
金属酸化物の例としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、アルミニウムをドープした酸化亜鉛、アンチモンをドープした二酸化チタン、アンチモンをドープした酸化スズ、酸化インジウム、インジウムスズ酸化物、同様のドープ酸化物、およびそれらの混合物が挙げられる。
【００３２】
実施形態において、導電性成分に加えられるポリアニリンは、約０．５〜約５μｍ、約１．１〜約２．３μｍ、約１．２〜約２μｍ、約１．５〜約１．９μｍ、または約１．７μｍの比較的小さい粒径を有する。選択されるポリアニリンの特定の例は、Ｐａｎｉｐｏｌ Ｏｙ（フィンランド）から市販されているＰＡＮＩＰＯＬ（商標）Ｆ；およびリグノスルホン酸グラフト化ポリアニリンである。
【００３３】
カーボンブラックの導電性は、主として表面積およびその構造によって決まる。一般的には、表面積が大きく構造が高次になるほど、カーボンブラックの導電性が高くなる。表面積は、カーボンブラックの単位重量当たりのＢ．Ｅ．Ｔ．窒素表面積により測定され、それが一次粒子径の測定値となる。構造は、カーボンブラックの一次凝集の形態を示す複合属性である。構造は、一次凝集物を含む一次粒子の数と、それらの粒子が「融合する」という挙動の両方についての１つの指標である。高次構造カーボンブラックは、多数の一次粒子からなる、多数「分枝」および「連鎖」している凝集体を特徴とし、一方、低次構造カーボンブラックは、少数の一次粒子からなる小型凝集体を特徴とする。構造は、カーボンブラック内の空隙へのフタル酸ジブチル（ＤＢＰ）吸収により測定される。構造が高次になるほど、空隙が多くなり、そしてＤＢＰ吸収が高くなる。
【００３４】
導電性成分として選択されるカーボンブラックの例としては、Ｃａｂｏｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手可能な、ＶＵＬＣＡＮ（登録商標）カーボンブラック、ＲＥＧＡＬ（登録商標）カーボンブラック、ＭＯＮＡＲＣＨ（登録商標）カーボンブラック、およびＢＬＡＣＫ ＰＥＡＲＬＳ（登録商標）カーボンブラックが挙げられる。導電性カーボンブラックの具体的な例は、ＢＬＡＣＫ ＰＥＡＲＬＳ（登録商標）１０００（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝３４３ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝１．０５ｍＬ／ｇ）、ＢＬＡＣＫ ＰＥＡＲＬＳ（登録商標）８８０（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝２４０ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝１．０６ｍＬ／ｇ）、ＢＬＡＣＫ ＰＥＡＲＬＳ（登録商標）８００（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝２３０ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝０．６８ｍＬ／ｇ）、ＢＬＡＣＫ ＰＥＡＲＬＳ（登録商標）Ｌ（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝１３８ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝０．６１ｍＬ／ｇ）、ＢＬＡＣＫ ＰＥＡＲＬＳ（登録商標）５７０（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝１１０ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝１．１４ｍＬ／ｇ）、ＢＬＡＣＫ ＰＥＡＲＬＳ（登録商標）１７０（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝３５ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝１．２２ｍＬ／ｇ）、ＶＵＬＣＡＮ（登録商標）ＸＣ７２（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝２５４ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝１．７６ｍＬ／ｇ）、ＶＵＬＣＡＮ（登録商標）ＸＣ７２Ｒ（綿毛状のＶＵＬＣＡＮ（登録商標）ＸＣ７２）、ＶＵＬＣＡＮ（登録商標）ＸＣ６０５、ＶＵＬＣＡＮ（登録商標）ＸＣ３０５、ＲＥＧＡＬ（登録商標）６６０（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝１１２ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝０．５９ｍＬ／ｇ）、ＲＥＧＡＬ（登録商標）４００（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝９６ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝０．６９ｍＬ／ｇ）、ＲＥＧＡＬ（登録商標）３３０（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝９４ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝０．７１ｍＬ／ｇ）、ＭＯＮＡＲＣＨ（登録商標）８８０（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝２２０ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝１．０５ｍＬ／ｇ、一次粒径＝１６ｎｍ）、およびＭＯＮＡＲＣＨ（登録商標）１０００（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝３４３ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝１．０５ｍＬ／ｇ、一次粒径＝１６ｎｍ）である。
【００３５】
Ｅｖｏｎｉｋ−Ｄｅｇｕｓｓａから入手可能なチャネルカーボンブラック；Ｓｐｅｃｉａｌ Ｂｌａｃｋ ４（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝１８０ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝１．８ｍＬ／ｇ、一次粒径＝２５ｎｍ）、Ｓｐｅｃｉａｌ Ｂｌａｃｋ ５（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝２４０ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝１．４１ｍＬ／ｇ、一次粒径＝２０ｎｍ）、Ｃｏｌｏｒ Ｂｌａｃｋ ＦＷ１（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝３２０ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝２．８９ｍＬ／ｇ、一次粒径＝１３ｎｍ）、Ｃｏｌｏｒ Ｂｌａｃｋ ＦＷ２（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝４６０ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝４．８２ｍＬ／ｇ、一次粒径＝１３ｎｍ）、およびＣｏｌｏｒ Ｂｌａｃｋ ＦＷ２００（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝４６０ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝４．６ｍＬ／ｇ、一次粒径＝１３ｎｍ）。
【００３６】
実施形態において、コアシェル成分のドープ金属酸化物コアとは、例えば、少なくとも２種の金属の混合金属酸化物を意味する。よって、例えば、アンチモンスズ酸化物は、約５０％以下の酸化アンチモンを含み、残部が酸化スズであり；スズアンチモン酸化物は、約５０％以下の酸化スズを含み、残部が酸化アンチモンである。
【００３７】
一般的には、実施形態においてコアアンチモンスズ酸化物は、ＳｂｘＳｎｙＯｚにより表すことができ、ここで、ｘは、例えば、約０．０２〜約０．９８であり、ｙは約０．５１〜約０．９９であり、ｚは約２．０１〜約２．４９であり、より具体的には、この酸化物は、約１〜約４９％のＳｂ２Ｏ３および約５１〜約９９％のＳｎＯ２からなる。実施形態において、ｘは約０．４０〜約０．９０であり、ｙは約０．７０〜約０．９５であり、ｚは約２．１０〜約２．３５であり；より具体的には、ｘは約０．７５であり、ｙは約０．４５であり、ｚは約２．２５であり；コアは、約１〜約４９％の酸化アンチモンおよび約５１〜約９９％の酸化スズ、約１５〜約３５％の酸化アンチモンおよび約８５〜約６５％の酸化スズからなり、その合計が約１００％であり；または約４０％の酸化アンチモンおよび約６０％の酸化スズからなり、その合計が約１００％である。
【００３８】
複数の層状部材の接着剤層成分、そしてこの接着剤層が支持基材とその上の上部湾曲シェル層の間に通常位置する接着剤層成分としては、多数の樹脂またはポリマー、例えば、エポキシ、ウレタン、シリコーン、ポリエステルなどが挙げられる。一般的には、接着剤層は無溶剤層であり、室温（約２５℃）で液体であって少なくとも２つの材料を接着するために弾性または硬質膜を架橋することのできる材料である。具体的な接着剤層例としては、Ｌｏｒｄ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（ペンシルバニア、エリー）から得られるポリウレタン系接着剤、例えばＴＹＣＥＬ（登録商標）７９２４（粘度約１，４００〜約２，０００ｃｐｓ）、ＴＹＣＥＬ（登録商標）７９７５（粘度約１，２００〜約１，６００ｃｐｓ）およびＴＹＣＥＬ（登録商標）７２７６を含む１００％固形接着剤が挙げられる。接着剤の粘度範囲は、例えば、約１，２００〜約２，０００ｃｐｓである。無溶剤接着剤は、熱、室温硬化、湿気硬化、紫外線、赤外線、電子線硬化、または任意の他の公知の技法のいずれかを用いて活性化することができる。接着剤層の厚さは、通常約１００ｎｍ未満であり、より具体的には、以下に例示するとおりである。
【００３９】
中間転写部材の各層の厚さは変動し得て、任意の特定値に限定されない。特定の実施形態において、基材層の厚さは、例えば、約２０〜約３００μｍ、約３０〜約２００μｍ、約７５〜約１５０μｍ、約５０〜約１００μｍであり、一方、上部コアシェル含有フルオロエラストマー層の厚さは、例えば、約１〜約１５０μｍ、約１０〜約１００μｍ、約２０〜約７０μｍ、および約３０〜約５０μｍである。接着剤層の厚さは、例えば、約１〜約１００ｎｍ、約５〜約７５ｎｍ、または約５０〜約１００ｎｍである。
【００４０】
本明細書において開示される中間転写部材の表面抵抗率は、例えば、約１０８〜約１０１３オーム／平方（ohm/sq）、または約１０１０〜約１０１２オーム／平方である。中間転写部材のシート抵抗率は、例えば、約１０８〜約１０１３オーム／平方、または約１０１０〜約１０１２オーム／平方である。
【００４１】
中間転写ベルトのような、本明細書において例示される中間転写部材は、電子写真印刷を含めて複数の印刷および複写システム用に選択することができる。例えば、開示される中間転写部材は多重画像形成システムに組み込むことができ、この多重画像形成システムでは、画像形成ステーションにおいて、転写される各画像を画像形成ドラムまたは光導電性ドラム上に形成し、その後、これらの画像の各々を現像ステーションにおいて現像し、中間転写部材に転写する。これらの画像は、光導電体上に形成し、順次現像した後、中間転写部材に転写されてもよい。別法においては、各画像は、光導電または光受容ドラム上に形成され、現像され、中間転写部材に見当を合わせて転写されてもよい。実施形態において、多重画像形成システムはカラー複写システムであり、このカラー複写システムでは、複写される画像の各色が光受容ドラム上に形成され、現像され、中間転写部材に転写される。
【００４２】
トナー潜像を光受容ドラムから中間転写部材へと転写した後、その中間転写部材を加熱および加圧下で紙などの受像基材と接触させてよい。その後、中間転写部材上のトナー画像を転写し、画像構成において、紙などの基材に定着させる。
【００４３】
本明細書において例示する画像形成システム、および他の公知の画像形成および印刷システムにおいて存在する中間転写部材は、シート、ウェブ、ベルト（エンドレスベルト、エンドレスシーム付可撓性ベルト、およびエンドレスシーム付可撓性ベルトを含む）；ローラー、フィルム、ホイル、ストリップ、コイル、シリンダー、ドラム、エンドレスストリップ、ならびに円形ディスクの形状であってよく、その場合、１〜２以上の層からなる転写部材の外周は、例えば、約２５０〜約２，５００ｍｍ、約１，５００〜約２，５００ｍｍ、または約２，０００〜約２，２００ｍｍである。転写部材の幅は、例えば、約１００〜約１，０００ｍｍ、約２００〜約５００ｍｍ、または約３００〜約４００ｍｍである。
【実施例】
【００４４】
［実施例Ｉ］
ポリイミド基層とコアシェル含有フルオロエラストマー表面層を含む二重層中間転写部材の調製：
ポリイミド基層を次のとおり調製した。Ｅｖｏｎｉｋ−Ｄｅｇｕｓｓａから入手した、１ｇのＣｏｌｏｒ Ｂｌａｃｋ ＦＷ１（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝３２０ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝２．８９ｍＬ／ｇ、一次粒径＝１３ｎｍ）を、２６．２５ｇのポリアミック酸（ポリイミド前駆体）溶液、Ｒｉｃｈａｒｄ Ｂｌａｉｎｅ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄから入手したＶＴＥＣ（商標）ＰＩ １３８８（Ｎ−メチルピロリドン中２０重量％溶液、Ｔｇ＞３２０℃）と混合した。上述の混合物を、磨砕機によって２ｍｍステンレスショットを用いて１時間ボールミル粉砕することにより、均一分散系を得た。次いで、得られた分散系を、公知のドローバー塗布法を用いてガラス板上に塗布した。その後、得られた被膜をガラス板上に残したまま、１００℃にて２０分間乾燥させた。
【００４５】
コアシェルフルオロエラストマー表面層を次のとおり調製した。ＥＶＯＮＩＫ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓから市販されている、１ｇのコアシェル充填剤ＶＰ ＳＴＸ８０１［Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積が約４０〜７０ｍ２／ｇであり、二酸化チタンコア（８５％）およびシリカシェル（１５％）を含み、このシェルは１，１，１−トリメチル−Ｎ−（トリメチルシリル）−シランアミンで疎水修飾されている］を、Ｅ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔから入手可能である、２．２３ｇのＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ（３５モル百分率のフッ化ビニリデン、３４モル百分率のヘキサフルオロプロピレン、および２９モル百分率のテトラフルオロエチレンと、２モル百分率の硬化部位モノマー（４−ブロモペルフルオロブテン−１；１，１−ジヒドロ−４−ブロモペルフルオロブテン−１、３−ブロモペルフルオロプロペン−１；または１，１−ジヒドロ−３−ブロモペルフルオロプロペン−１（Ｅ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔは、これらの硬化部位モノマーのどれを選択したかは明らかにしていない））とのテトラポリマー）、０．１ｇのビスフェノールＡＦ硬化剤ＶＣ５０（これもＥ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔから入手可能である）、および２５．４ｇのメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）と混合した。この混合物を、２ｍｍのステンレスショットを用いて一晩、２３時間ボールミル粉砕することにより、均一分散系を得た。次いで、この分散系を、公知のドローバー塗布法を用いてガラス板上に存在する上記ポリイミド基層上に塗布した。続いて、結果として得られた二重層膜を、ガラス板上に残したまま、４９℃にて２時間、１７７℃にて２時間、２０４℃にて乾燥させ、２３２℃にて６時間後硬化させた。
【００４６】
その後、ガラス板上の二重層膜を水に一晩、約２３時間浸漬し、自立膜が自動的にガラスから剥離し、その結果、カーボンブラック１６部およびポリイミド８４部の重量比を有する７５μｍ厚のカーボンブラック／ポリイミド基層と、コアシェル充填剤３０、ＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ６７、および上記硬化剤ＶＣ５０ ３の重量比を有する２０μｍ厚の上記コアシェル充填剤／ＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ／硬化剤ＶＣ５０表面層とを備えた二重層中間転写部材を得た。
【００４７】
［実施例ＩＩ］
ポリイミド基層とコアシェル含有フルオロエラストマー表面層を含む二重層中間転写部材の調製：
ポリイミド基層を次のとおり調製した。１ｇのＥｖｏｎｉｋ−Ｄｅｇｕｓｓａ製Ｃｏｌｏｒ Ｂｌａｃｋ ＦＷ１（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝３２０ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝２．８９ｍＬ／ｇ、一次粒径＝１３ｎｍ）を、２６．２５ｇのポリアミック酸（ポリイミド前駆体）溶液、Ｒｉｃｈａｒｄ Ｂｌａｉｎｅ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄから入手した、ＶＴＥＣ（商標）ＰＩ １３８８（Ｎ−メチルピロリドン中２０重量％溶液、Ｔｇ＞３２０℃）と混合した。この混合物を、磨砕機によって２ｍｍステンレスショットを用いて１時間ボールミル粉砕することにより、均一分散系を得た。次いで、この分散系を、公知のドローバー塗布法を用いてガラス板上に塗布した。続いて、得られた被膜を、ガラス板上に残したまま、１００℃にて２０分間乾燥させた。
【００４８】
コアシェルフルオロエラストマー表面層を次のとおり調製した。ＥＶＯＮＩＫ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓから市販されている、１ｇのコアシェル充填剤ＶＰ ＳＴＸ８０１（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積が約４０〜７０ｍ２／ｇであり、二酸化チタンコア（８５％）およびシリカシェル（１５％）を含み、このシェルは１，１，１−トリメチル−Ｎ−（トリメチルシリル）−シランアミン）で疎水修飾されている）を、Ｅ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔから入手可能な、１．４４ｇのＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ（３５モル百分率のフッ化ビニリデン、３４モル百分率のヘキサフルオロプロピレンおよび２９モル百分率のテトラフルオロエチレンと、２モル百分率の実施例Ｉの硬化部位モノマーとのテトラポリマー）、これもＥ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔから入手可能な、０．０６５ｇのビスフェノールＡＦ硬化剤ＶＣ５０、および２５．４ｇのメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）と混合した。この混合物を、２ｍｍのステンレスショットを用いて一晩、２３時間ボールミル粉砕することにより、均一分散系を得た。次いで、この分散系を、上記ドローバー塗布法を用いてガラス板上に存在する上記ポリイミド基層上に塗布した。続いて、結果として得られる二重層膜を、ガラス板上に残したまま、４９℃にて２時間、１７７℃にて２時間、２０４℃にて乾燥させ、２３２℃にて６時間後硬化させた。
【００４９】
その後、ガラス上の二重層膜を水に一晩、約２３時間浸漬し、自立膜が自動的にガラスから剥離し、その結果、カーボンブラック１６部およびポリイミド８４部の重量比を有する７５μｍ厚のカーボンブラック／ポリイミド基層と、コアシェル充填剤４０部、ＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ ５７．４部、および上記硬化剤ＶＣ５０ ２．６部の重量比を有する２０μｍ厚の上記コアシェル充填剤／ＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ／硬化剤ＶＣ５０表面層とを備えた二重層中間転写部材を得た。
【００５０】
［実施例ＩＩＩ］
単層コアシェル含有フルオロエラストマー中間転写部材の調製：
ＥＶＯＮＩＫ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓから市販されている、１ｇのコアシェル充填剤ＶＰ ＳＴＸ８０１（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積が約４０〜７０ｍ２／ｇであり、二酸化チタンコア（８５％）およびシリカシェル（１５％）を含み、このシェルは１，１，１−トリメチル−Ｎ−（トリメチルシリル）−シランアミンで疎水修飾されている）を、Ｅ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔから入手可能な、２．２３ｇのＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ（３５モル百分率のフッ化ビニリデン、３４モル百分率のヘキサフルオロプロピレン、および２９モル百分率のテトラフルオロエチレンと、２モル百分率の実施例Ｉの硬化部位モノマーとのテトラポリマー）、これもＥ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔから入手可能な０．１ｇの上記ビスフェノールＡＦ硬化剤ＶＣ５０、および２５．４ｇのメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）と混合した。この混合物を、２ｍｍのステンレスショットを用いて一晩、２３時間ボールミル粉砕することにより、均一分散系を得た。次いで、この分散系を、上記ドローバー塗布法を用いてガラス板上に塗布した。続いて、結果として得られた被膜を、ガラス板上に残したまま、４９℃にて２時間、１７７℃にて２時間、２０４℃にて乾燥させ、２３２℃にて６時間後硬化させた。
【００５１】
その後、ガラス上の被膜を水に一晩、約２３時間浸漬し、自立膜が自動的にガラスから剥離し、その結果、コアシェル充填剤３０部、ＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ ６７部、および硬化剤ＶＣ５０ ３部の重量比を有する７５μｍ厚のコアシェル充填剤／ＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ／硬化剤ＶＣ５０層を備えた単層中間転写部材を得た。
【００５２】
［実施例ＩＶ］
単層コアシェル含有フルオロエラストマー中間転写部材の調製：
ＥＶＯＮＩＫ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓから市販されている、１ｇのコアシェル充填剤ＶＰ ＳＴＸ８０１（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積が約４０〜７０ｍ２／ｇであり、二酸化チタンコア（８５％）およびシリカシェル（１５％）を含み、このシェルは１，１，１−トリメチル−Ｎ−（トリメチルシリル）−シランアミン）で疎水修飾されている）を、Ｅ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔから入手可能な１．４４ｇのＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ（３５モル百分率のフッ化ビニリデン、３４モル百分率のヘキサフルオロプロピレン、および２９モル百分率のテトラフルオロエチレンと、２モル百分率の実施例Ｉの硬化部位モノマーとのテトラポリマー）、これもＥ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔから入手可能な０．０６５ｇの上記ビスフェノールＡＦ硬化剤ＶＣ５０、および２５．４ｇのメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）と混合した。この混合物を、２ｍｍのステンレスショットを用いて一晩、２３時間ボールミル粉砕することにより、均一分散系を得た。次いで、この分散系を、上記ドローバー塗布法を用いてガラス板上に塗布した。続いて、結果として得られた被膜を、ガラス板上に残したまま、４９℃にて２時間、１７７℃にて２時間、２０４℃にて乾燥させ、２３２℃にて６時間後硬化させた。
【００５３】
その後、ガラス上の被膜を水に一晩、約２３時間浸漬し、自立膜が自動的にガラスから剥離し、その結果、コアシェル充填剤４０部、ＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ ５７．４部および硬化剤ＶＣ５０ ２．６部の重量比を有する７５μｍ厚のコアシェル充填剤／ＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ／硬化剤ＶＣ５０層を備えた単層中間転写部材を得た。
【００５４】
［比較例１］
単層フルオロエラストマー中間転写部材の調製：
Ｅ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔから入手可能な、３ｇのＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ（３５モル百分率のフッ化ビニリデン、３４モル百分率のヘキサフルオロプロピレン、および２９モル百分率のテトラフルオロエチレンと、２モル百分率の上記硬化部位モノマーとのテトラポリマー）、および、これもＥ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔから入手可能な０．１３ｇの上記ビスフェノールＡＦ硬化剤ＶＣ５０を、２０．９ｇのメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）と混合した。次いで、この溶液を、ドローバー塗布法を用いてガラス板上に塗布した。続いて、結果として得られた被膜を、ガラス板上に残したまま、４９℃にて２時間、１７７℃にて２時間、２０４℃にて乾燥させ、２３２℃にて６時間後硬化させた。
【００５５】
その後、ガラス上の被膜を水に一晩、約２３時間浸漬し、自立膜が自動的にガラスから剥離し、その結果、ＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ ９５．７部および上記硬化剤ＶＣ５０ ４．３部の重量比を有する７５μｍ厚のＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ／硬化剤ＶＣ５０層を備えた単層中間転写部材を得た。
【００５６】
［表面抵抗率の測定］
実施例ＩおよびＩＩの上記ＩＴＢ部材または装置を、Ｈｉｇｈ Ｒｅｓｉｓｔｉｖｉｔｙ Ｍｅｔｅｒ（Ｍｉｔｓｕｂｉｓｈｉ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｒｐ．製Ｈｉｒｅｓｔａ−Ｕｐ ＭＣＰ−ＨＴ４５０）を使用して表面抵抗率について測定した（様々な地点における４〜６つの測定値の平均を求めた、７２°Ｆ（約２２℃）／室内湿度６５％）。これらの結果を表１に示す。
【００５７】
【表１】
【００５８】
開示されるコアシェルフルオロエラストマー表面層がポリイミド基層上に付着した、機能性中間転写部材が得られた。表面層に約３０〜約４０重量％の導電性コアシェル充填剤が存在する場合には、この表面抵抗率は約１０８〜約１０１１オーム／平方で変動した。
【００５９】
［接触角の測定］
比較例１ならびに実施例ＩＩＩおよびＩＶのＩＴＢ装置についての水の接触角（脱イオン水中）を、Ｃｏｎｔａｃｔ Ａｎｇｌｅ Ｓｙｓｔｅｍ ＯＣＡ（Ｄａｔａｐｈｙｓｉｃｓ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ ＧｍｂＨ、ＯＣＡ１５モデル）を使用して周囲温度（約２３℃）にて測定した。少なくとも１０回の測定を行い、それらの測定の平均を表２に示す。
【００６０】
【表２】
【００６１】
開示される実施例ＩＩＩおよび実施例ＩＶのＩＴＢ装置は、比較例１のＩＴＢ装置よりも約４０°〜４４°高い接触角を示した。このように接触角が高くなったことが、トナー転写の改善および清浄作用の改善につながる。実施例ＩＶの接触角は、超疎水性状態（約１５０°）にほぼ等しかったが、これは、自浄作用するＩＴＢ装置を可能にする。加えて、開示される実施例ＩＩＩおよびＩＶのＩＴＢ装置は、それらの疎水性の性質から、比較例のＩＴＢ装置と比較して改善された電気的特性および優れた寸法安定性も有すると予想される。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、中間転写部材、より具体的には、フルオロエラストマーを含む中間転写部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
中間転写部材を使用することの不利な点は、トナー粒子と転写部材との間に電荷交換（この電荷交換により最終的に完全とはいえないトナー転写が引き起こされ得る）が起こる可能性があるため、複数の転写ステップが通常必要となることである。これにより、受像基材上に低解像度画像がもたらされ、さらに画像劣化ももたらされる。画像がカラーの場合には、加えて、その画像は複数回の転写停止による色ずれや退色を受けることがある。
【０００３】
実施形態において、中間転写部材の抵抗率は、十分な転写を可能にする範囲内である。また、中間転写部材が制御された抵抗率を有し、この抵抗率が、湿度、温度、バイアス磁場、および動作時間の変化に事実上影響を受けないことも望ましい。さらに、抵抗率が制御されると、静電転写のためにバイアス磁場を確立することができるので価値がある。また、空気の絶縁破壊が起こる可能性があるため、中間転写部材にあまり導電性がないことも価値がある。
【０００４】
米国特許第６，３９７，０３４号では、ポリイミド中間転写部材層におけるフッ素化炭素充填剤の使用が開示されている。しかしながら、これらの部材に関して、非溶解粒子がブルームを起こすかまたはポリマー層の表面へと移動したりすることが多く、これにより抵抗率が不均一となり、そしてこのことが帯電防止特性低下や機械的強度低下の原因となるなどの不具合がある。また、このベルトの表面に存在するイオン添加剤がトナーの放出を妨げ、導電性ポリマー層に気泡が現われる可能性があって、これらの気泡には顕微鏡を用いてしか見ることができないものも肉眼で観察できるほど大きなものもあり、その結果、電気的性質が低下または不均一になり、機械的性質が低下する。
【０００５】
そのため、優れた転写能力を有する溶接可能な中間転写ベルトを提供することが望ましい。また、パズルカットシームを有していないが、その代わりに溶接可能なシームを有する溶接可能な中間転写ベルトを提供し、それによって指を使ってパズルカットシームを手作業で継ぎ合わせるような労働集約的なステップを行わず、さらに長期間の高温高湿度調整ステップも行わずに製造することのできるベルトを提供することも望ましい。さらに、カラー電子写真機の条件に合う円周溶接可能なベルトを提供することも望ましい。
【０００６】
米国特許第７，１３０，５６９号には、全固体の約２〜約２５重量％の量のポリアニリンと、全固体の約７５〜約９８重量％の量で存在する熱可塑性のポリイミドとを含む均質組成物を含む基材を含んでなり、ポリアニリンの粒径が約０．５〜約５μｍである溶接可能な中間転写ベルトが例示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】米国特許第６，３９７，０３４号明細書
【特許文献２】米国特許第６，６０２，１５６号明細書
【特許文献３】米国特許第７，０３１，６４７号明細書
【特許文献４】米国特許第７，１３０，５６９号明細書
【特許文献５】米国特許第７，１３９，５１９号明細書
【特許文献６】米国特許第７，２８０，７９１号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記課題の少なくとも一つを解決することを目的のひとつとする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
フルオロエラストマー中に分散されたコアシェル成分を含む中間転写部材であって、該コアが金属酸化物を含み、該シェルがシリカを含む、中間転写部材である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
中間転写部材、より具体的には、静電複写方式、例えば電子写真方式の（デジタル方式、多重現像方式などを含む）、プリンター、機械または装置による現像画像を転写する際に有用な中間転写部材を開示する。実施形態において、金属酸化物コアおよびシリカシェルで構成されるコアシェル成分からなる選択された中間転写部材、およびシェルがシラザンで疎水処理されているコアシェル成分、より具体的には、金属酸化物からなるコアおよびシリカシェル、からなる中間転写部材であって、シェルにはシラザンが添加されており、コアシェルがフッ素化ポリマー（ＶＩＴＯＮ（登録商標）のような公知のフルオロエラストマーなど）中に分散されており、さらに結果として生じる疎水化コアシェル成分が、優れた抵抗率、優れた画像転写および許容耐引掻性を可能にする疎水性表面、主として部材の撥水性による優れた電気的および寸法安定性などの複数の利点を有し、かつ中間転写部材表面層が、公知のロータスリーフ効果（lotus leaf effect）を特徴とし汚染防止、固着防止、および自浄作用などの独特の性質を有する超疎水性表面を含有すると見なされ得る、中間転写部材がある。
【００１１】
本開示の範囲内には、中間転写ベルトとコアシェル成分、より具体的には、フルオロエラストマー中に分散された疎水化コアシェル（この場合、コアは金属酸化物であり、シェルは修飾シリカからなる）とを含む基材からなるベルト以外の中間部材；コアおよびその上のシェルを含む基材からなる中間転写媒体であって、該シェルがシラザン含有シリカからなり、該コアシェルがフルオロエラストマー中に分散されており、さらにそのコアシェルが、例えば、約３０〜約１００ｍ２／ｇのＢ．Ｅ．Ｔ．表面積を有する中間転写媒体；疎水化コアシェル含有フルオロエラストマー表面層で構成される中間転写部材（この場合、コアは金属酸化物であり、シェルは疎水化シリカおよびポリイミド支持基材からなる）；ポリイミド第１支持基材層、およびその上の疎水化コアシェル含有フルオロエラストマーからなる第２層、第１層と第２層の間に位置する接着剤層で構成される転写媒体であって、第１層および第２層の少なくとも１つがカーボンブラック、ポリアニリン、金属酸化物などのような公知の導電性成分をさらに含む転写媒体；ポリイミド基材層、およびその上の疎水化コアシェル含有フルオロエラストマーからなる層で構成される中間転写ベルトであって、基材層および疎水化コアシェル含有フルオロエラストマーの少なくとも１つが導電性成分を含む中間転写ベルト、ならびに現像された画像を電荷保持表面から基材へ転写するための中間転写ベルトを含む、記録媒体上に画像を形成するための電子写真装置であって、中間転写ベルトが、導電性コアシェル成分が分散されたフルオロエラストマーを含んでなり、シェルがシリカからなり、そのシェルがシラザンなどのような疎水性物質を含み、さらにコアが金属酸化物からなる電子写真装置が含まれる。
【００１２】
その態様において、フルオロエラストマー中に分散されたコアシェル成分を含む基材からなる中間転写部材（ベルトなど）であって、コアが金属酸化物からなり、シェルがシリカからなる中間転写部材；金属酸化物コアおよびその上のシリカシェルで構成される疎水性中間転写媒体であって、コアシェルがフルオロエラストマー中に含まれ、かつシェルがトリアルキル−Ｎ−（トリアルキルシリル）−シランアミンを含む疎水性中間転写媒体；フルオロエラストマー、金属酸化物コア、およびその上のシリカシェルの混合物で構成される超疎水性中間転写媒体であって、シェルがトリアルキル−Ｎ−（トリアルキルシリル）−シランアミンを含み、かつフルオロエラストマーが、フッ化ビニリデンおよびヘキサフルオロプロピレンのコポリマー、フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレンおよびテトラフルオロエチレンのターポリマー、またはフッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン、および、４−ブロモペルフルオロブテン−１、１，１−ジヒドロ−４−ブロモペルフルオロブテン−１，３−ブロモペルフルオロプロペン−１、または１，１−ジヒドロ−３−ブロモペルフルオロプロペン−１の硬化部位モノマーのテトラポリマーである、超疎水性中間転写媒体；金属酸化物コア、およびシリカなどのシェルで構成されるコアシェル成分からなる転写部材であって、さらにシェルがシラザン、フルオロシラン、ポリシロキサンなどで疎水化されており、かつ処理されたコアシェルがフルオロエラストマー中に分散されている転写部材を本明細書において開示する。実施形態において、金属酸化物またはドープ金属酸化物は、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、アルミニウムをドープした酸化亜鉛、アンチモンをドープした二酸化チタン、アンチモンをドープした酸化スズ、酸化インジウム、インジウムスズ酸化物、同様のドープ酸化物、およびそれらの混合物からなる群から選択されてよい。
【００１３】
シェルを化学処理するかまたはシェルに添加するために用いられる疎水性成分の例としては、例えば、シラザン、フルオロシラン、およびポリシロキサンが挙げられ；そしてこのような化学処理剤は、一定量、例えば、約１〜約１５重量％、約１〜約１０重量％、約０．１〜約１２重量％の量、およびシェルについて選択される量に応じた他の好適な量で選択される。
【００１４】
シェルに選択される特定のシラザン例は、次の構造／式（化１，２）により表される、ヘキサメチルジシラザン［１，１，１−トリメチル−Ｎ−（トリメチルシリル）−シランアミン］、２，２，４，４，６，６−ヘキサメチルシクロトリシラザン、１，３−ジエチル−１，１，３，３−テトラメチルジシラザン、１，１，３，３−テトラメチル−１，３−ジフェニルジシラザン、１，３−ジメチル−１，１，３，３−テトラフェニルジシラザンである。
【００１５】
【化１】
【００１６】
シェルに選択される特定のフルオロシランの例は、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）３、Ｃ８Ｈ１７ＣＨ２ＣＨ２ＯＳｉ（ＯＣ２Ｈ５）３など、およびそれらの混合物である。
【００１７】
シェルに選択される特定のポリシロキサンの例は、２，４，６，８−テトラメチルシクロテトラシロキサン、２，４，６，８，１０−ペンタメチルシクロペンタシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、２，４，６−トリメチル−２，４，６−トリフェニルシクロトリシロキサン、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン、オクタフェニルシクロテトラシロキサンなど、およびそれらの混合物である。
【００１８】
シェルに選択されるシリカの例は、シリカ（ＳｉＯ２）、シリコーン（Ｒ２ＳｉＯ）、かご型シルセスキオキサン（ＰＯＳＳ、ＲＳｉＯ１．５）（式中、Ｒは、例えば、約１〜約１８個の炭素原子、または約４〜約８個の炭素原子を有する、アルキル；例えば、約６〜約２４個の炭素原子、または約６〜約１６個の炭素原子を有する、アリールである）、またはそれらの混合物である。
【００１９】
コア−シェルの特定の例は、ＥＶＯＮＩＫ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ（ドイツ、フランクフルト）から市販されている、ＶＰ ＳＴＸ８０１（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝４０〜７０ｍ２／ｇ）に指定される。ＶＰ ＳＴＸ８０１は、二酸化チタンコア（８５重量％）およびシリカシェル（１５重量％）を含んでなり、このシェルは１，１，１−トリメチル−Ｎ−（トリメチルシリル）−シランアミン、またはヘキサメチルジシラザンで疎水修飾されている。一般的には、金属酸化物コアは、約５０〜約９９重量％、約６５〜約９５重量％、約８０〜約９０重量％、さらに具体的には、約８５重量％の量で選択され、シェルは、約１〜約５０重量％、約５〜約４０重量％、約１０〜約３０重量％、約１５〜約２０重量％、より具体的には、約１５重量％の量で存在する。化学処理成分は、様々な有効量（例えば、約０．１〜約４０重量％、約１〜約３０重量％、または約１０〜約２０重量％など）で選択することができる。
【００２０】
実施形態において、コアシェルは、約１０〜約２００ｍ２／ｇ、約３０〜約１００ｍ２／ｇ、または約４０〜約７０ｍ２／ｇのＢ．Ｅ．Ｔ．表面積を有する。
【００２１】
コアシェル成分は、例えば、約５〜約１，０００ｎｍ、例えば、約１０〜約２００ｎｍ、または約２０〜約１００ｎｍの粒径を有する。
【００２２】
コアシェル充填剤は、中間転写部材成分に対して、例えば、約３〜約６０重量％、約１〜約５０重量％、または約２０〜約４０重量％の量で存在する。
【００２３】
本開示のコアシェル製品成分は、フルオロエラストマーとともに分散系に形成されてよく、これは機械的攪拌により均一分散系とし、ドローバー塗布法を用いて支持基材に塗布される。結果として得られる被膜は、基材上に残したまま、約１００℃〜約４００℃のような温度で、約２０〜約６００分間加熱することにより乾燥させることができる。乾燥させ、室温に冷却した後、基材上に形成された約１〜約１５０μｍ厚の被膜が、中間転写部材として機能することができる。
【００２４】
フルオロエラストマーの例としては、例えば、コポリマーおよびフッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレンおよびテトラフルオロエチレンのターポリマーが挙げられる。ＶＩＴＯＮ（登録商標）という名称は、Ｅ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ，Ｉｎｃの商標である。コアシェルを分散させるために選択することができる公知のフルオロエラストマーは、ＶＩＴＯＮ（登録商標）Ａとして商業的に知られている、フッ化ビニリデン（ＶＦ２）およびヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）のコポリマー、ＶＩＴＯＮ（登録商標）Ｂ、Ｆ、ＧＢＬ、ＧＬＴ、ＧＦＬＴ、ＥＴＰおよびＧＦとして商業的に知られている、フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレンおよびテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）のターポリマーからなる。フルオロエラストマーは、Ｅ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔから市販されているもの、例えば４−ブロモペルフルオロブテン−１、１，１−ジヒドロ−４−ブロモペルフルオロブテン−１，３−ブロモペルフルオロプロペン−１、１，１−ジヒドロ−３−ブロモペルフルオロプロペン−１、または任意の他の好適な公知の市販の硬化部位モノマーから選択される硬化部位モノマーをさらに含むことができる。硬化性フルオロエラストマーは、ジアミン硬化剤、ビスフェノールＡＦ硬化剤、および／または過酸化物硬化剤で硬化処理することができる。
【００２５】
使用することのできる具体的なフルオロエラストマーの例としては、ＶＩＴＯＮ（登録商標）Ａ−２０１Ｃ、Ａ−３３１Ｃ、Ａ−３６１Ｃ、Ａ−４０１Ｃ、Ａ−６０１Ｃ、Ａ−１００、Ａ−２００、Ａ−５００、Ａ−７００、Ａ−ＨＶ、ＡＬ−３００、ＡＬ−６００、Ｂ−４３５Ｃ、Ｂ−６０１Ｃ、Ｂ−６５１Ｃ、ＧＢＬ−２００Ｓ、ＧＢＬ−６００Ｓ、Ｂ−２０２、Ｂ−６００、Ｆ−６０５Ｃ、ＧＦ−２００Ｓ、ＧＦ−６００Ｓ、ＧＬＴ−２００Ｓ、ＧＬＴ−６００Ｓ、ＧＢＬＴ−２００Ｓ、ＧＢＬＴ−６００Ｓ、ＧＦＬＴ−２００Ｓ、ＧＦＬＴ−６００Ｓ、およびＥＴＰ−６００Ｓが挙げられる。より具体的には、ＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦは、３５モル百分率のフッ化ビニリデン、３４モル百分率のヘキサフルオロプロピレン、および２９モル百分率のテトラフルオロエチレンと、２モル百分率の硬化部位モノマーとで構成されている。
【００２６】
公知の好適な基材に加えて、実施形態においては、プレポリマー溶液、例えばポリアミック酸またはポリアミック酸のエステルなどから、または二無水物とジアミンの反応により合成することのできるポリイミドを選択する。
【００２７】
中間転写部材に添合することのできる熱硬化性ポリイミドの例としては、公知の低温急速硬化ポリイミドポリマー、例えばＶＴＥＣ（商標）ＰＩ １３８８、０８０−０５１、８５１、３０２、２０３、２０１、およびＰＥＴＩ−５（全てＲｉｃｈａｒｄ Ｂｌａｉｎｅ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ，Ｒｅａｄｉｎｇ，ＰＡから入手可能である）が挙げられる。約１８０℃〜約２６０℃の温度で短時間にて、例えば約１０〜約１２０分間、または約２０〜約６０分間で硬化させることのできるこれらの熱硬化性ポリイミドは、約５，０００〜約５００，０００、または約１０，０００〜約１００，０００の数平均分子量、および約５０，０００〜約５，０００，０００、または約１００，０００〜約１，０００，０００の重量平均分子量を有する。ＩＴＭまたはＩＴＢに選択することができ、３００℃より高い温度で硬化させることができる他の熱硬化性ポリイミドとしては、ＰＹＲＥ Ｍ．Ｌ．（登録商標）ＲＣ−５０１９、ＲＣ−５０５７、ＲＣ−５０６９、ＲＣ−５０９７、ＲＣ−５０５３、およびＲＫ−６９２（全てＩｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｓｕｍｍｉｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（ニュージャージー、パーリン）から市販されている）；ＲＰ−４６およびＲＰ−５０（両方Ｕｎｉｔｅｃｈ ＬＬＣ（バレンシア、ハンプトン）から市販されている）；ＤＵＲＩＭＩＤＥ（登録商標）１００（ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｕ．Ｓ．Ａ．，Ｉｎｃ．（ロードアイランド、ノースキングストン）から市販されている）；ならびにＫＡＰＴＯＮ（登録商標）ＨＮ、ＶＮおよびＦＮ（全てＥ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔ（デラウェア、ウィルミントン）から市販されている）；ジ−（２，３−ジカルボキシフェニル）−エーテル二無水物を５−アミノ−１−（ｐ−アミノフェニル）−１，３，３−トリメチルインダン（Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（ニューヨーク、アーズレイ）からポリイミド ＸＵ ２１８として入手可能である）と反応させることにより調製したポリイミドが挙げられる。
【００２８】
実施形態において、ポリイミド支持基材の第１層は、その上に、様々なジアミンと二無水物から形成されるもの（例えばポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミドなど）のような本明細書において例示するコアシェル成分を付着させている。ポリイミドとしては、芳香族ポリイミド、例えばピロメリット酸とジアミノジフェニルエーテルの反応により、または２種の芳香族ジアミン（例えばｐ−フェニレンジアミンおよびジアミノジフェニルエーテル）を用いたコポリマー酸（例えばビフェニルテトラカルボン酸およびピロメリット酸）のイミド化により形成されるものなど；２，２−ビス［４−（８−アミノフェノキシ）フェノキシ］−ヘキサフルオロプロパンと反応させたピロメリット酸二無水物およびベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物コポリマー酸；および１，２，１’，２’−ビフェニルテトラカルボキシイミド基およびパラ−フェニレン基を含むもの、およびジフェニルエーテル末端スペーサー特性を有するビフェニルテトラカルボキシイミド官能性を有するものを含む芳香族ポリイミドが挙げられる。
【００２９】
例えばポリアミドイミド基材は、少なくとも次の２つの方法、（１）イソシアネートと無水トリメリット酸との反応を伴うイソシアネート法；または（２）ジアミンと無水トリメリット酸塩化物を反応させる酸塩化物法により合成することができる。ポリアミドイミドの例としては、ＶＹＬＯＭＡＸ（登録商標）ＨＲ−１１ＮＮ（Ｎ−メチルピロリドン中１５重量％溶液、Ｔｇ＝３００℃、およびＭｗ＝４５，０００）、ＨＲ−１２Ｎ２（Ｎ−メチルピロリドン／キシレン／メチルエチルケトン中３０重量％溶液＝５０／３５／１５、Ｔｇ＝２５５℃、およびＭｗ＝８，０００）、ＨＲ−１３ＮＸ（Ｎ−メチルピロリドン／キシレン中３０重量％溶液＝６７／３３、Ｔｇ＝２８０℃、およびＭｗ＝１０，０００）、ＨＲ−１５ＥＴ（エタノール／トルエン中２５重量％溶液＝５０／５０、Ｔｇ＝２６０℃、およびＭｗ＝１０，０００）、ＨＲ−１６ＮＮ（Ｎ−メチルピロリドン中１４重量％溶液、Ｔｇ＝３２０℃、およびＭｗ＝１００，０００）（全てＴｏｙｏｂｏ Ｃｏｍｐａｎｙ （日本）から市販されている）、およびＴＯＲＬＯＮ（登録商標）ＡＩ−１０（Ｔｇ＝２７２℃）（Ｓｏｌｖａｙ Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｐｏｌｙｍｅｒｓ，ＬＬＣ（ジョージア、アルファレッタ）から市販されている）が挙げられる。
【００３０】
中間転写部材中に存在する（例えばコアシェルフルオロエラストマー混合物またはポリイミド基材中に存在する）追加成分の例は、約１〜約６０重量％、約１〜約３５重量％、約１〜約２０重量％、１〜約１０重量％量で選択される複数の公知の導電性成分、例えば金属酸化物、ポリアニリンおよびカーボンブラックである。
【００３１】
金属酸化物の例としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、アルミニウムをドープした酸化亜鉛、アンチモンをドープした二酸化チタン、アンチモンをドープした酸化スズ、酸化インジウム、インジウムスズ酸化物、同様のドープ酸化物、およびそれらの混合物が挙げられる。
【００３２】
実施形態において、導電性成分に加えられるポリアニリンは、約０．５〜約５μｍ、約１．１〜約２．３μｍ、約１．２〜約２μｍ、約１．５〜約１．９μｍ、または約１．７μｍの比較的小さい粒径を有する。選択されるポリアニリンの特定の例は、Ｐａｎｉｐｏｌ Ｏｙ（フィンランド）から市販されているＰＡＮＩＰＯＬ（商標）Ｆ；およびリグノスルホン酸グラフト化ポリアニリンである。
【００３３】
カーボンブラックの導電性は、主として表面積およびその構造によって決まる。一般的には、表面積が大きく構造が高次になるほど、カーボンブラックの導電性が高くなる。表面積は、カーボンブラックの単位重量当たりのＢ．Ｅ．Ｔ．窒素表面積により測定され、それが一次粒子径の測定値となる。構造は、カーボンブラックの一次凝集の形態を示す複合属性である。構造は、一次凝集物を含む一次粒子の数と、それらの粒子が「融合する」という挙動の両方についての１つの指標である。高次構造カーボンブラックは、多数の一次粒子からなる、多数「分枝」および「連鎖」している凝集体を特徴とし、一方、低次構造カーボンブラックは、少数の一次粒子からなる小型凝集体を特徴とする。構造は、カーボンブラック内の空隙へのフタル酸ジブチル（ＤＢＰ）吸収により測定される。構造が高次になるほど、空隙が多くなり、そしてＤＢＰ吸収が高くなる。
【００３４】
導電性成分として選択されるカーボンブラックの例としては、Ｃａｂｏｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手可能な、ＶＵＬＣＡＮ（登録商標）カーボンブラック、ＲＥＧＡＬ（登録商標）カーボンブラック、ＭＯＮＡＲＣＨ（登録商標）カーボンブラック、およびＢＬＡＣＫ ＰＥＡＲＬＳ（登録商標）カーボンブラックが挙げられる。導電性カーボンブラックの具体的な例は、ＢＬＡＣＫ ＰＥＡＲＬＳ（登録商標）１０００（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝３４３ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝１．０５ｍＬ／ｇ）、ＢＬＡＣＫ ＰＥＡＲＬＳ（登録商標）８８０（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝２４０ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝１．０６ｍＬ／ｇ）、ＢＬＡＣＫ ＰＥＡＲＬＳ（登録商標）８００（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝２３０ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝０．６８ｍＬ／ｇ）、ＢＬＡＣＫ ＰＥＡＲＬＳ（登録商標）Ｌ（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝１３８ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝０．６１ｍＬ／ｇ）、ＢＬＡＣＫ ＰＥＡＲＬＳ（登録商標）５７０（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝１１０ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝１．１４ｍＬ／ｇ）、ＢＬＡＣＫ ＰＥＡＲＬＳ（登録商標）１７０（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝３５ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝１．２２ｍＬ／ｇ）、ＶＵＬＣＡＮ（登録商標）ＸＣ７２（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝２５４ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝１．７６ｍＬ／ｇ）、ＶＵＬＣＡＮ（登録商標）ＸＣ７２Ｒ（綿毛状のＶＵＬＣＡＮ（登録商標）ＸＣ７２）、ＶＵＬＣＡＮ（登録商標）ＸＣ６０５、ＶＵＬＣＡＮ（登録商標）ＸＣ３０５、ＲＥＧＡＬ（登録商標）６６０（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝１１２ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝０．５９ｍＬ／ｇ）、ＲＥＧＡＬ（登録商標）４００（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝９６ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝０．６９ｍＬ／ｇ）、ＲＥＧＡＬ（登録商標）３３０（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝９４ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝０．７１ｍＬ／ｇ）、ＭＯＮＡＲＣＨ（登録商標）８８０（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝２２０ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝１．０５ｍＬ／ｇ、一次粒径＝１６ｎｍ）、およびＭＯＮＡＲＣＨ（登録商標）１０００（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝３４３ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝１．０５ｍＬ／ｇ、一次粒径＝１６ｎｍ）である。
【００３５】
Ｅｖｏｎｉｋ−Ｄｅｇｕｓｓａから入手可能なチャネルカーボンブラック；Ｓｐｅｃｉａｌ Ｂｌａｃｋ ４（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝１８０ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝１．８ｍＬ／ｇ、一次粒径＝２５ｎｍ）、Ｓｐｅｃｉａｌ Ｂｌａｃｋ ５（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝２４０ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝１．４１ｍＬ／ｇ、一次粒径＝２０ｎｍ）、Ｃｏｌｏｒ Ｂｌａｃｋ ＦＷ１（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝３２０ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝２．８９ｍＬ／ｇ、一次粒径＝１３ｎｍ）、Ｃｏｌｏｒ Ｂｌａｃｋ ＦＷ２（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝４６０ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝４．８２ｍＬ／ｇ、一次粒径＝１３ｎｍ）、およびＣｏｌｏｒ Ｂｌａｃｋ ＦＷ２００（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝４６０ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝４．６ｍＬ／ｇ、一次粒径＝１３ｎｍ）。
【００３６】
実施形態において、コアシェル成分のドープ金属酸化物コアとは、例えば、少なくとも２種の金属の混合金属酸化物を意味する。よって、例えば、アンチモンスズ酸化物は、約５０％以下の酸化アンチモンを含み、残部が酸化スズであり；スズアンチモン酸化物は、約５０％以下の酸化スズを含み、残部が酸化アンチモンである。
【００３７】
一般的には、実施形態においてコアアンチモンスズ酸化物は、ＳｂｘＳｎｙＯｚにより表すことができ、ここで、ｘは、例えば、約０．０２〜約０．９８であり、ｙは約０．５１〜約０．９９であり、ｚは約２．０１〜約２．４９であり、より具体的には、この酸化物は、約１〜約４９％のＳｂ２Ｏ３および約５１〜約９９％のＳｎＯ２からなる。実施形態において、ｘは約０．４０〜約０．９０であり、ｙは約０．７０〜約０．９５であり、ｚは約２．１０〜約２．３５であり；より具体的には、ｘは約０．７５であり、ｙは約０．４５であり、ｚは約２．２５であり；コアは、約１〜約４９％の酸化アンチモンおよび約５１〜約９９％の酸化スズ、約１５〜約３５％の酸化アンチモンおよび約８５〜約６５％の酸化スズからなり、その合計が約１００％であり；または約４０％の酸化アンチモンおよび約６０％の酸化スズからなり、その合計が約１００％である。
【００３８】
複数の層状部材の接着剤層成分、そしてこの接着剤層が支持基材とその上の上部湾曲シェル層の間に通常位置する接着剤層成分としては、多数の樹脂またはポリマー、例えば、エポキシ、ウレタン、シリコーン、ポリエステルなどが挙げられる。一般的には、接着剤層は無溶剤層であり、室温（約２５℃）で液体であって少なくとも２つの材料を接着するために弾性または硬質膜を架橋することのできる材料である。具体的な接着剤層例としては、Ｌｏｒｄ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（ペンシルバニア、エリー）から得られるポリウレタン系接着剤、例えばＴＹＣＥＬ（登録商標）７９２４（粘度約１，４００〜約２，０００ｃｐｓ）、ＴＹＣＥＬ（登録商標）７９７５（粘度約１，２００〜約１，６００ｃｐｓ）およびＴＹＣＥＬ（登録商標）７２７６を含む１００％固形接着剤が挙げられる。接着剤の粘度範囲は、例えば、約１，２００〜約２，０００ｃｐｓである。無溶剤接着剤は、熱、室温硬化、湿気硬化、紫外線、赤外線、電子線硬化、または任意の他の公知の技法のいずれかを用いて活性化することができる。接着剤層の厚さは、通常約１００ｎｍ未満であり、より具体的には、以下に例示するとおりである。
【００３９】
中間転写部材の各層の厚さは変動し得て、任意の特定値に限定されない。特定の実施形態において、基材層の厚さは、例えば、約２０〜約３００μｍ、約３０〜約２００μｍ、約７５〜約１５０μｍ、約５０〜約１００μｍであり、一方、上部コアシェル含有フルオロエラストマー層の厚さは、例えば、約１〜約１５０μｍ、約１０〜約１００μｍ、約２０〜約７０μｍ、および約３０〜約５０μｍである。接着剤層の厚さは、例えば、約１〜約１００ｎｍ、約５〜約７５ｎｍ、または約５０〜約１００ｎｍである。
【００４０】
本明細書において開示される中間転写部材の表面抵抗率は、例えば、約１０８〜約１０１３オーム／平方（ohm/sq）、または約１０１０〜約１０１２オーム／平方である。中間転写部材のシート抵抗率は、例えば、約１０８〜約１０１３オーム／平方、または約１０１０〜約１０１２オーム／平方である。
【００４１】
中間転写ベルトのような、本明細書において例示される中間転写部材は、電子写真印刷を含めて複数の印刷および複写システム用に選択することができる。例えば、開示される中間転写部材は多重画像形成システムに組み込むことができ、この多重画像形成システムでは、画像形成ステーションにおいて、転写される各画像を画像形成ドラムまたは光導電性ドラム上に形成し、その後、これらの画像の各々を現像ステーションにおいて現像し、中間転写部材に転写する。これらの画像は、光導電体上に形成し、順次現像した後、中間転写部材に転写されてもよい。別法においては、各画像は、光導電または光受容ドラム上に形成され、現像され、中間転写部材に見当を合わせて転写されてもよい。実施形態において、多重画像形成システムはカラー複写システムであり、このカラー複写システムでは、複写される画像の各色が光受容ドラム上に形成され、現像され、中間転写部材に転写される。
【００４２】
トナー潜像を光受容ドラムから中間転写部材へと転写した後、その中間転写部材を加熱および加圧下で紙などの受像基材と接触させてよい。その後、中間転写部材上のトナー画像を転写し、画像構成において、紙などの基材に定着させる。
【００４３】
本明細書において例示する画像形成システム、および他の公知の画像形成および印刷システムにおいて存在する中間転写部材は、シート、ウェブ、ベルト（エンドレスベルト、エンドレスシーム付可撓性ベルト、およびエンドレスシーム付可撓性ベルトを含む）；ローラー、フィルム、ホイル、ストリップ、コイル、シリンダー、ドラム、エンドレスストリップ、ならびに円形ディスクの形状であってよく、その場合、１〜２以上の層からなる転写部材の外周は、例えば、約２５０〜約２，５００ｍｍ、約１，５００〜約２，５００ｍｍ、または約２，０００〜約２，２００ｍｍである。転写部材の幅は、例えば、約１００〜約１，０００ｍｍ、約２００〜約５００ｍｍ、または約３００〜約４００ｍｍである。
【実施例】
【００４４】
［実施例Ｉ］
ポリイミド基層とコアシェル含有フルオロエラストマー表面層を含む二重層中間転写部材の調製：
ポリイミド基層を次のとおり調製した。Ｅｖｏｎｉｋ−Ｄｅｇｕｓｓａから入手した、１ｇのＣｏｌｏｒ Ｂｌａｃｋ ＦＷ１（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝３２０ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝２．８９ｍＬ／ｇ、一次粒径＝１３ｎｍ）を、２６．２５ｇのポリアミック酸（ポリイミド前駆体）溶液、Ｒｉｃｈａｒｄ Ｂｌａｉｎｅ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄから入手したＶＴＥＣ（商標）ＰＩ １３８８（Ｎ−メチルピロリドン中２０重量％溶液、Ｔｇ＞３２０℃）と混合した。上述の混合物を、磨砕機によって２ｍｍステンレスショットを用いて１時間ボールミル粉砕することにより、均一分散系を得た。次いで、得られた分散系を、公知のドローバー塗布法を用いてガラス板上に塗布した。その後、得られた被膜をガラス板上に残したまま、１００℃にて２０分間乾燥させた。
【００４５】
コアシェルフルオロエラストマー表面層を次のとおり調製した。ＥＶＯＮＩＫ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓから市販されている、１ｇのコアシェル充填剤ＶＰ ＳＴＸ８０１［Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積が約４０〜７０ｍ２／ｇであり、二酸化チタンコア（８５％）およびシリカシェル（１５％）を含み、このシェルは１，１，１−トリメチル−Ｎ−（トリメチルシリル）−シランアミンで疎水修飾されている］を、Ｅ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔから入手可能である、２．２３ｇのＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ（３５モル百分率のフッ化ビニリデン、３４モル百分率のヘキサフルオロプロピレン、および２９モル百分率のテトラフルオロエチレンと、２モル百分率の硬化部位モノマー（４−ブロモペルフルオロブテン−１；１，１−ジヒドロ−４−ブロモペルフルオロブテン−１、３−ブロモペルフルオロプロペン−１；または１，１−ジヒドロ−３−ブロモペルフルオロプロペン−１（Ｅ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔは、これらの硬化部位モノマーのどれを選択したかは明らかにしていない））とのテトラポリマー）、０．１ｇのビスフェノールＡＦ硬化剤ＶＣ５０（これもＥ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔから入手可能である）、および２５．４ｇのメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）と混合した。この混合物を、２ｍｍのステンレスショットを用いて一晩、２３時間ボールミル粉砕することにより、均一分散系を得た。次いで、この分散系を、公知のドローバー塗布法を用いてガラス板上に存在する上記ポリイミド基層上に塗布した。続いて、結果として得られた二重層膜を、ガラス板上に残したまま、４９℃にて２時間、１７７℃にて２時間、２０４℃にて乾燥させ、２３２℃にて６時間後硬化させた。
【００４６】
その後、ガラス板上の二重層膜を水に一晩、約２３時間浸漬し、自立膜が自動的にガラスから剥離し、その結果、カーボンブラック１６部およびポリイミド８４部の重量比を有する７５μｍ厚のカーボンブラック／ポリイミド基層と、コアシェル充填剤３０、ＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ６７、および上記硬化剤ＶＣ５０ ３の重量比を有する２０μｍ厚の上記コアシェル充填剤／ＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ／硬化剤ＶＣ５０表面層とを備えた二重層中間転写部材を得た。
【００４７】
［実施例ＩＩ］
ポリイミド基層とコアシェル含有フルオロエラストマー表面層を含む二重層中間転写部材の調製：
ポリイミド基層を次のとおり調製した。１ｇのＥｖｏｎｉｋ−Ｄｅｇｕｓｓａ製Ｃｏｌｏｒ Ｂｌａｃｋ ＦＷ１（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積＝３２０ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸収＝２．８９ｍＬ／ｇ、一次粒径＝１３ｎｍ）を、２６．２５ｇのポリアミック酸（ポリイミド前駆体）溶液、Ｒｉｃｈａｒｄ Ｂｌａｉｎｅ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄから入手した、ＶＴＥＣ（商標）ＰＩ １３８８（Ｎ−メチルピロリドン中２０重量％溶液、Ｔｇ＞３２０℃）と混合した。この混合物を、磨砕機によって２ｍｍステンレスショットを用いて１時間ボールミル粉砕することにより、均一分散系を得た。次いで、この分散系を、公知のドローバー塗布法を用いてガラス板上に塗布した。続いて、得られた被膜を、ガラス板上に残したまま、１００℃にて２０分間乾燥させた。
【００４８】
コアシェルフルオロエラストマー表面層を次のとおり調製した。ＥＶＯＮＩＫ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓから市販されている、１ｇのコアシェル充填剤ＶＰ ＳＴＸ８０１（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積が約４０〜７０ｍ２／ｇであり、二酸化チタンコア（８５％）およびシリカシェル（１５％）を含み、このシェルは１，１，１−トリメチル−Ｎ−（トリメチルシリル）−シランアミン）で疎水修飾されている）を、Ｅ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔから入手可能な、１．４４ｇのＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ（３５モル百分率のフッ化ビニリデン、３４モル百分率のヘキサフルオロプロピレンおよび２９モル百分率のテトラフルオロエチレンと、２モル百分率の実施例Ｉの硬化部位モノマーとのテトラポリマー）、これもＥ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔから入手可能な、０．０６５ｇのビスフェノールＡＦ硬化剤ＶＣ５０、および２５．４ｇのメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）と混合した。この混合物を、２ｍｍのステンレスショットを用いて一晩、２３時間ボールミル粉砕することにより、均一分散系を得た。次いで、この分散系を、上記ドローバー塗布法を用いてガラス板上に存在する上記ポリイミド基層上に塗布した。続いて、結果として得られる二重層膜を、ガラス板上に残したまま、４９℃にて２時間、１７７℃にて２時間、２０４℃にて乾燥させ、２３２℃にて６時間後硬化させた。
【００４９】
その後、ガラス上の二重層膜を水に一晩、約２３時間浸漬し、自立膜が自動的にガラスから剥離し、その結果、カーボンブラック１６部およびポリイミド８４部の重量比を有する７５μｍ厚のカーボンブラック／ポリイミド基層と、コアシェル充填剤４０部、ＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ ５７．４部、および上記硬化剤ＶＣ５０ ２．６部の重量比を有する２０μｍ厚の上記コアシェル充填剤／ＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ／硬化剤ＶＣ５０表面層とを備えた二重層中間転写部材を得た。
【００５０】
［実施例ＩＩＩ］
単層コアシェル含有フルオロエラストマー中間転写部材の調製：
ＥＶＯＮＩＫ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓから市販されている、１ｇのコアシェル充填剤ＶＰ ＳＴＸ８０１（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積が約４０〜７０ｍ２／ｇであり、二酸化チタンコア（８５％）およびシリカシェル（１５％）を含み、このシェルは１，１，１−トリメチル−Ｎ−（トリメチルシリル）−シランアミンで疎水修飾されている）を、Ｅ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔから入手可能な、２．２３ｇのＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ（３５モル百分率のフッ化ビニリデン、３４モル百分率のヘキサフルオロプロピレン、および２９モル百分率のテトラフルオロエチレンと、２モル百分率の実施例Ｉの硬化部位モノマーとのテトラポリマー）、これもＥ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔから入手可能な０．１ｇの上記ビスフェノールＡＦ硬化剤ＶＣ５０、および２５．４ｇのメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）と混合した。この混合物を、２ｍｍのステンレスショットを用いて一晩、２３時間ボールミル粉砕することにより、均一分散系を得た。次いで、この分散系を、上記ドローバー塗布法を用いてガラス板上に塗布した。続いて、結果として得られた被膜を、ガラス板上に残したまま、４９℃にて２時間、１７７℃にて２時間、２０４℃にて乾燥させ、２３２℃にて６時間後硬化させた。
【００５１】
その後、ガラス上の被膜を水に一晩、約２３時間浸漬し、自立膜が自動的にガラスから剥離し、その結果、コアシェル充填剤３０部、ＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ ６７部、および硬化剤ＶＣ５０ ３部の重量比を有する７５μｍ厚のコアシェル充填剤／ＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ／硬化剤ＶＣ５０層を備えた単層中間転写部材を得た。
【００５２】
［実施例ＩＶ］
単層コアシェル含有フルオロエラストマー中間転写部材の調製：
ＥＶＯＮＩＫ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓから市販されている、１ｇのコアシェル充填剤ＶＰ ＳＴＸ８０１（Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積が約４０〜７０ｍ２／ｇであり、二酸化チタンコア（８５％）およびシリカシェル（１５％）を含み、このシェルは１，１，１−トリメチル−Ｎ−（トリメチルシリル）−シランアミン）で疎水修飾されている）を、Ｅ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔから入手可能な１．４４ｇのＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ（３５モル百分率のフッ化ビニリデン、３４モル百分率のヘキサフルオロプロピレン、および２９モル百分率のテトラフルオロエチレンと、２モル百分率の実施例Ｉの硬化部位モノマーとのテトラポリマー）、これもＥ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔから入手可能な０．０６５ｇの上記ビスフェノールＡＦ硬化剤ＶＣ５０、および２５．４ｇのメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）と混合した。この混合物を、２ｍｍのステンレスショットを用いて一晩、２３時間ボールミル粉砕することにより、均一分散系を得た。次いで、この分散系を、上記ドローバー塗布法を用いてガラス板上に塗布した。続いて、結果として得られた被膜を、ガラス板上に残したまま、４９℃にて２時間、１７７℃にて２時間、２０４℃にて乾燥させ、２３２℃にて６時間後硬化させた。
【００５３】
その後、ガラス上の被膜を水に一晩、約２３時間浸漬し、自立膜が自動的にガラスから剥離し、その結果、コアシェル充填剤４０部、ＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ ５７．４部および硬化剤ＶＣ５０ ２．６部の重量比を有する７５μｍ厚のコアシェル充填剤／ＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ／硬化剤ＶＣ５０層を備えた単層中間転写部材を得た。
【００５４】
［比較例１］
単層フルオロエラストマー中間転写部材の調製：
Ｅ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔから入手可能な、３ｇのＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ（３５モル百分率のフッ化ビニリデン、３４モル百分率のヘキサフルオロプロピレン、および２９モル百分率のテトラフルオロエチレンと、２モル百分率の上記硬化部位モノマーとのテトラポリマー）、および、これもＥ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔから入手可能な０．１３ｇの上記ビスフェノールＡＦ硬化剤ＶＣ５０を、２０．９ｇのメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）と混合した。次いで、この溶液を、ドローバー塗布法を用いてガラス板上に塗布した。続いて、結果として得られた被膜を、ガラス板上に残したまま、４９℃にて２時間、１７７℃にて２時間、２０４℃にて乾燥させ、２３２℃にて６時間後硬化させた。
【００５５】
その後、ガラス上の被膜を水に一晩、約２３時間浸漬し、自立膜が自動的にガラスから剥離し、その結果、ＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ ９５．７部および上記硬化剤ＶＣ５０ ４．３部の重量比を有する７５μｍ厚のＶＩＴＯＮ（登録商標）ＧＦ／硬化剤ＶＣ５０層を備えた単層中間転写部材を得た。
【００５６】
［表面抵抗率の測定］
実施例ＩおよびＩＩの上記ＩＴＢ部材または装置を、Ｈｉｇｈ Ｒｅｓｉｓｔｉｖｉｔｙ Ｍｅｔｅｒ（Ｍｉｔｓｕｂｉｓｈｉ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｒｐ．製Ｈｉｒｅｓｔａ−Ｕｐ ＭＣＰ−ＨＴ４５０）を使用して表面抵抗率について測定した（様々な地点における４〜６つの測定値の平均を求めた、７２°Ｆ（約２２℃）／室内湿度６５％）。これらの結果を表１に示す。
【００５７】
【表１】
【００５８】
開示されるコアシェルフルオロエラストマー表面層がポリイミド基層上に付着した、機能性中間転写部材が得られた。表面層に約３０〜約４０重量％の導電性コアシェル充填剤が存在する場合には、この表面抵抗率は約１０８〜約１０１１オーム／平方で変動した。
【００５９】
［接触角の測定］
比較例１ならびに実施例ＩＩＩおよびＩＶのＩＴＢ装置についての水の接触角（脱イオン水中）を、Ｃｏｎｔａｃｔ Ａｎｇｌｅ Ｓｙｓｔｅｍ ＯＣＡ（Ｄａｔａｐｈｙｓｉｃｓ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ ＧｍｂＨ、ＯＣＡ１５モデル）を使用して周囲温度（約２３℃）にて測定した。少なくとも１０回の測定を行い、それらの測定の平均を表２に示す。
【００６０】
【表２】
【００６１】
開示される実施例ＩＩＩおよび実施例ＩＶのＩＴＢ装置は、比較例１のＩＴＢ装置よりも約４０°〜４４°高い接触角を示した。このように接触角が高くなったことが、トナー転写の改善および清浄作用の改善につながる。実施例ＩＶの接触角は、超疎水性状態（約１５０°）にほぼ等しかったが、これは、自浄作用するＩＴＢ装置を可能にする。加えて、開示される実施例ＩＩＩおよびＩＶのＩＴＢ装置は、それらの疎水性の性質から、比較例のＩＴＢ装置と比較して改善された電気的特性および優れた寸法安定性も有すると予想される。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フルオロエラストマー中に分散されたコアシェル成分を含む中間転写部材であって、
該コアが金属酸化物を含み、該シェルがシリカを含む、中間転写部材。
【請求項２】
前記シェルが、ヘキサメチルジシラザン、２，２，４，４，６，６−ヘキサメチルシクロトリシラザン、１，３−ジエチル−１，１，３，３−テトラメチルジシラザン、１，１，３，３−テトラメチル−１，３−ジフェニルジシラザン、１，３−ジメチル−１，１，３，３−テトラフェニルジシラザン、１，１，１−トリメチル−Ｎ−（トリメチルシリル）−シランアミンおよびそれらの混合物からなる群から選択されるシラザンの疎水性物質で化学修飾され、
前記金属酸化物が、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、アルミニウム亜鉛酸化物、アンチモンチタン二酸化物、アンチモンスズ酸化物、酸化インジウム、インジウムスズ酸化物、またはそれらの混合物であり、前記コアシェル成分が、全固体重量に対して約１〜約６０重量％の量で存在し、前記フルオロエラストマーが約９９〜約４０重量％の量で存在し、
前記フルオロエラストマーが、フッ化ビニリデンおよびヘキサフルオロプロピレンのコポリマー、フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン、およびテトラフルオロエチレンのターポリマー、またはフッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレンおよび硬化部位モノマーのテトラポリマーである、請求項１に記載の中間転写部材。
【請求項３】
前記コアシェル成分の前記シリカが、シリカ（ＳｉＯ２）、シリコーン（Ｒ２ＳｉＯ）、またはかご型シルセスキオキサン、ＲＳｉＯ１．５であって、式中、Ｒは、アルキルまたはアリールであり；
ポリアニリン、カーボンブラック、金属酸化物、およびそれらの混合物のうちの少なくとも１つの導電性成分をさらに含み、各々が全固体重量に対して約１〜約６０重量％の量で存在する、請求項１に記載の中間転写部材。
【請求項４】
前記コアが、ＳｂｘＳｎｙＯｚ（式中、ｘは約０．０２〜約０．９８であり；ｙは約０．５１〜約０．９９であり、ｚは約２．０１〜約２．４９である）により表されるアンチモンスズ酸化物からなり；
前記シェルが、疎水性物質で化学処理されたシリカである、請求項１に記載の中間転写部材。
【請求項５】
前記シェルが、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）３、Ｃ８Ｈ１７ＣＨ２ＣＨ２ＯＳｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、およびそれらの混合物のフルオロシラン、あるいは２，４，６，８−テトラメチルシクロテトラシロキサン、２，４，６，８，１０−ペンタメチルシクロペンタシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、２，４，６−トリメチル−２，４，６−トリフェニルシクロトリシロキサン、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン、オクタフェニルシクロテトラシロキサン、またはそれらの混合物のポリシロキサンの疎水性物質で化学修飾され、
前記フルオロエラストマー中に分散された前記コアシェル成分と接触しているポリイミド基材をさらに含み、
前記酸化物が二酸化チタンであり、
前記フルオロエラストマーが、フッ化ビニリデンおよびヘキサフルオロプロピレンのコポリマー、フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン、およびテトラフルオロエチレンのターポリマー、またはフッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレンおよび硬化部位モノマーのテトラポリマーである、請求項１に記載の中間転写部材。
【請求項１】
フルオロエラストマー中に分散されたコアシェル成分を含む中間転写部材であって、
該コアが金属酸化物を含み、該シェルがシリカを含む、中間転写部材。
【請求項２】
前記シェルが、ヘキサメチルジシラザン、２，２，４，４，６，６−ヘキサメチルシクロトリシラザン、１，３−ジエチル−１，１，３，３−テトラメチルジシラザン、１，１，３，３−テトラメチル−１，３−ジフェニルジシラザン、１，３−ジメチル−１，１，３，３−テトラフェニルジシラザン、１，１，１−トリメチル−Ｎ−（トリメチルシリル）−シランアミンおよびそれらの混合物からなる群から選択されるシラザンの疎水性物質で化学修飾され、
前記金属酸化物が、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、アルミニウム亜鉛酸化物、アンチモンチタン二酸化物、アンチモンスズ酸化物、酸化インジウム、インジウムスズ酸化物、またはそれらの混合物であり、前記コアシェル成分が、全固体重量に対して約１〜約６０重量％の量で存在し、前記フルオロエラストマーが約９９〜約４０重量％の量で存在し、
前記フルオロエラストマーが、フッ化ビニリデンおよびヘキサフルオロプロピレンのコポリマー、フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン、およびテトラフルオロエチレンのターポリマー、またはフッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレンおよび硬化部位モノマーのテトラポリマーである、請求項１に記載の中間転写部材。
【請求項３】
前記コアシェル成分の前記シリカが、シリカ（ＳｉＯ２）、シリコーン（Ｒ２ＳｉＯ）、またはかご型シルセスキオキサン、ＲＳｉＯ１．５であって、式中、Ｒは、アルキルまたはアリールであり；
ポリアニリン、カーボンブラック、金属酸化物、およびそれらの混合物のうちの少なくとも１つの導電性成分をさらに含み、各々が全固体重量に対して約１〜約６０重量％の量で存在する、請求項１に記載の中間転写部材。
【請求項４】
前記コアが、ＳｂｘＳｎｙＯｚ（式中、ｘは約０．０２〜約０．９８であり；ｙは約０．５１〜約０．９９であり、ｚは約２．０１〜約２．４９である）により表されるアンチモンスズ酸化物からなり；
前記シェルが、疎水性物質で化学処理されたシリカである、請求項１に記載の中間転写部材。
【請求項５】
前記シェルが、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）３、Ｃ８Ｈ１７ＣＨ２ＣＨ２ＯＳｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、およびそれらの混合物のフルオロシラン、あるいは２，４，６，８−テトラメチルシクロテトラシロキサン、２，４，６，８，１０−ペンタメチルシクロペンタシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、２，４，６−トリメチル−２，４，６−トリフェニルシクロトリシロキサン、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン、オクタフェニルシクロテトラシロキサン、またはそれらの混合物のポリシロキサンの疎水性物質で化学修飾され、
前記フルオロエラストマー中に分散された前記コアシェル成分と接触しているポリイミド基材をさらに含み、
前記酸化物が二酸化チタンであり、
前記フルオロエラストマーが、フッ化ビニリデンおよびヘキサフルオロプロピレンのコポリマー、フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン、およびテトラフルオロエチレンのターポリマー、またはフッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレンおよび硬化部位モノマーのテトラポリマーである、請求項１に記載の中間転写部材。
【公開番号】特開２０１１−３４０８２（Ｐ２０１１−３４０８２Ａ）
【公開日】平成２３年２月１７日（２０１１．２．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１６８８１５（Ｐ２０１０−１６８８１５）
【出願日】平成２２年７月２８日（２０１０．７．２８）
【出願人】（５９６１７０１７０）ゼロックス コーポレイション (1,961)
【氏名又は名称原語表記】ＸＥＲＯＸ ＣＯＲＰＯＲＡＴＩＯＮ
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年２月１７日（２０１１．２．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年７月２８日（２０１０．７．２８）
【出願人】（５９６１７０１７０）ゼロックス コーポレイション (1,961)
【氏名又は名称原語表記】ＸＥＲＯＸ ＣＯＲＰＯＲＡＴＩＯＮ
【Ｆターム（参考）】
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