説明

プラズマディスプレイパネルの製造方法および蛍光体層形成装置

【課題】高精細度化や大画面化に対応して、画面上に色ムラや輝度ムラの発生のない蛍光体層の形成方法を提供する。
【解決手段】隔壁22が形成された背面基板17に蛍光体層を形成する蛍光体層形成装置50であって、背面基板17に対して相対移動しながら隔壁22間に蛍光体ペーストを吐出充填する塗布ノズル56と、背面基板17に対して相対移動しながら乾燥ガス64によって隔壁22内に充填された蛍光体ペーストを乾燥する乾燥部52とを備えている。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、テレビなどの画像表示に用いられ、かつ紫外線により励起されて発光する蛍光体層を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法とその蛍光体層形成装置に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、薄型テレビ等に用いられているディスプレイ装置としてプラズマディスプレイパネル(以下、PDPと記載する)が注目されている。PDPは、気体放電を利用した平面表示装置であって、高速表示や高精細表示、並びに大型化・薄型軽量化が比較的容易であり、映像表示装置や広報表示装置などの分野で広く実用化されている。
【0003】
また、PDPの用途の多様化から、従来のSDパネル(走査線数が横852本、縦480本)やHDパネル(走査線数が横1024本、縦768本)よりさらに高精細のフルハイビジョンパネルやスーパーハイビジョンパネルの開発が望まれている。具体的には、例えば42インチのフルハイビジョンパネルでは、画素数が横1920個×縦1080個で、横方向のセルピッチは0.16mm程度となる。また、50インチのスーパーハイビジョン(超高精細)パネルでは、画素数が横4000個×縦2000個とさらに増大し、横方向のセルピッチは0.1mm程度と極めて微細なサイズになる。このような、高精細のPDPにおいてもさらなる輝度向上と、高画質化が要求されている。
【0004】
しかしながら、このような高精細度化と高輝度化とを実現するために、隔壁によって形成される微細セル内に形成する蛍光体層の形状を制御する必要がある。蛍光体層の形状は、蛍光体ペーストを隔壁間に充填塗布した後の、隔壁の条件や乾燥の条件によって決定される。
【0005】
このような、蛍光体ペーストを塗布後に、蛍光体層の形状を制御する方法として以下のような方法が開示されている。特許文献1には、蛍光体ペーストをストライプ状の隔壁間に塗布した後に、隔壁間の中心部に空気を吹き付けて隔壁の側壁に蛍光体ペーストを盛り上げさせて充分な膜厚を形成する方法が開示されている。また、特許文献2には、蛍光体ペーストを塗布後に、基板の上下面を逆転させて乾燥し、隔壁の側壁に充分な膜厚を形成する方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【特許文献1】特開平11−96911号公報
【特許文献2】特開2000−260330号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
しかしながら、特許文献1や特許文献2に開示された技術では、近年の画面の高精細度化や大画面化には対応できずに、蛍光体層の塗布膜形状が変動して画面に色ムラや輝度ムラが生ずるなどの課題があった。
【0008】
本発明は、上記の課題を解決して、高精細度化や大画面化に対応して、画面上に色ムラや輝度ムラの発生のない蛍光体層を形成するPDPの製造方法と、その蛍光体層形成装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【0009】
上記の目的を達成するために、本発明のPDPの製造方法は、隔壁が形成された基板に蛍光体層を有するPDPの製造方法であって、蛍光体層を形成するステップが、隔壁間に蛍光体ペーストを充填する蛍光体ペースト充填ステップと、隔壁間に充填された直後の蛍光体ペーストに乾燥ガスを吹き付けて蛍光体ペーストを乾燥させる乾燥ステップとを含んでいる。
【0010】
このような方法によれば、蛍光体層の乾燥を蛍光体ペーストが充填された直後に行い、蛍光体ペーストの隔壁への吸収による蛍光体層膜厚のばらつきや、塗布と乾燥との時間管理のばらつきなどの影響による蛍光体層膜厚のばらつきを排除することができる。その結果、高精細度、大画面でも、形状が均一で、なおかつ高輝度を実現する蛍光体層の形状を実現することができる。
【0011】
さらに、乾燥ガスは60℃〜200℃に加熱された窒素ガスまたはアルゴンガスであることが望ましい。このような方法によれば、蛍光体ペーストからの溶剤蒸発を安全に早く行うことができ、蛍光体層の形成を短時間で行うことができる。
【0012】
また、本発明の蛍光体層形成装置は、隔壁が形成された基板に蛍光体層を形成する蛍光体層形成装置であって、基板に対して相対移動しながら隔壁間に蛍光体ペーストを吐出充填する塗布ノズルを有する塗布部と、乾燥ガスによって隔壁内に充填された蛍光体ペーストを乾燥する塗布部に一体で配置された乾燥部とを備えている。
【0013】
このような構成によれば、蛍光体層の乾燥を蛍光体ペーストが充填された直後に行い、蛍光体ペーストの隔壁への吸収による蛍光体層膜厚のばらつきや、塗布と乾燥との時間管理のばらつきなどの影響による蛍光体層膜厚のばらつきを排除することができる。その結果、高精細度、大画面でも、形状が均一で、なおかつ高輝度を実現する蛍光体層の形状を実現することができる。
【0014】
さらに、乾燥ガスは60℃〜200℃に加熱された窒素ガスまたはアルゴンガスであることが望ましい。このような構成によれば、蛍光体ペーストからの溶剤蒸発を安全に早く行うことができ、蛍光体層の形成を短時間で行うことができる。
【発明の効果】
【0015】
以上のように、本発明のPDPの製造方法および蛍光体層形成装置によれば、高精細度、大画面でも、形状が均一で、なおかつ高輝度を実現する蛍光体層の形状を実現し、画面上に色ムラや輝度ムラの発生のないPDPを実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【0016】
【図1】実施の形態におけるPDPの製造方法を用いて製造されるPDPの構造を示す分解斜視図である。
【図2】実施の形態における蛍光体層形成装置を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0017】
以下に、本発明の一実施の形態について図面を参照しながら説明する。
【0018】
(実施の形態)
図1は、実施の形態におけるPDPの製造方法を用いて製造されるPDPの構造を示す分解斜視図である。
【0019】
図1に示すように、PDP10は、前面基板11と背面基板17とから構成されている。ガラス製の前面基板11上には、走査電極12と維持電極13とで対をなす表示電極対14が互いに平行に複数対形成されている。この走査電極12および維持電極13は、走査電極12−維持電極13−維持電極13−走査電極12の配列を繰り返すパターンで形成されている。走査電極12は、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化スズ(SnO)、酸化亜鉛(ZnO)などの導電性金属酸化物からなる幅の広い透明電極12aの上に、導電性を高めるために銀(Ag)などの金属を含む幅の狭いバス電極12bを積層して形成されている。維持電極13も同様に、幅の広い透明電極13aの上に幅の狭いバス電極13bを積層して形成されている。
【0020】
さらに、表示電極対14を覆うように誘電体層15および酸化マグネシウム(MgO)からなる保護層16が形成されている。誘電体層15は、膜厚が約40μmの酸化ビスマス(Bi)系低融点ガラスまたは酸化亜鉛(ZnO)系低融点ガラスで形成されている。保護層16は、膜厚が約0.8μmの酸化マグネシウム(MgO)を主体とするアルカリ土類金属酸化物からなる薄膜層であり、誘電体層15をイオンスパッタから保護するとともに放電開始電圧などの放電特性を安定させるために設けられている。
【0021】
一方、ガラス製の背面基板17上には、銀(Ag)などを主成分とする導電性の高い材料からなる互いに平行な複数のデータ電極18が形成され、データ電極18を覆うように下地誘電体層19が形成されている。下地誘電体層19は、誘電体層15と同様の酸化ビスマス(Bi)系低融点ガラスなどであってもよいが、可視光反射層としての働きも兼ねるように酸化チタン(TiO)粒子などを混合した材料であってもよい。
【0022】
下地誘電体層19上には縦隔壁22aと横隔壁22bとにより井桁状に構成された隔壁22が形成され、下地誘電体層19の表面と隔壁22の側面とには、赤色、緑色、青色に発光する蛍光体層23が形成されている。隔壁22は、例えば低融点ガラス材料を用いて約0.12mmの高さに形成されている。蛍光体層23は、青色蛍光体としてBaMgAl1017:Euを、緑色蛍光体としてZnSiO:Mnを、赤色蛍光体として(Y、Gd)BO:Euなどの蛍光体粒子を積層させて約15μmの膜厚に形成されている。
【0023】
前面基板11と背面基板17は、表示電極対14とデータ電極18とが交差するように、対向配置され、その外周部をフリットなどの封着材(図示せず)によって封着され内部に放電空間が形成されている。放電空間にはキセノン(Xe)などを含む放電ガスが約6×10Paの圧力で封入されている。放電空間は隔壁22によって複数の区画に仕切られており、表示電極対14とデータ電極18とが交差する部分に放電セル24が形成されている。そしてこれらの放電セル24が放電、発光することにより画像が表示される。なお、PDP10の構造は上述したものに限られるわけではなく、隔壁22の形状がストライプ状であってもよい。
【0024】
なお、実施の形態では、画面サイズが42インチクラスのフルハイビジョンテレビに合わせて、隔壁22の高さは0.1mm〜0.15mm、また隣接する隔壁22のピッチは0.15mmとしている。
【0025】
次に、実施の形態におけるPDPの製造方法である蛍光体層23の形成ステップについて、図2の蛍光体層形成装置50を用いて説明する。図2は、実施の形態における蛍光体層形成装置50を示す概略断面図であり、背面基板17の縦隔壁22aに沿って移動する状態を示す。
【0026】
図2に示すように、蛍光体層形成装置50は、移動載置台(図示せず)に載置した背面基板17上に所定距離だけ離間させて配置され、図1に示す縦隔壁22aの方向、図2の矢印Aの方向に背面基板17に対して相対移動する。すなわち、図2に示すように、背面基板17の横隔壁22bに対して相対移動する方向は直交する。
【0027】
蛍光体層形成装置50は、塗布部51と乾燥部52とにより構成されている。塗布部51は、蛍光体ペーストを貯留されているタンク53、加圧ポンプ54、塗布ヘッド55を備え、塗布ヘッド55には小口径の開口を有する塗布ノズル56が設けられている。タンク53の蛍光体ペーストは加圧ポンプ54によって加圧されて塗布ヘッド55に供給され、塗布ノズル56から連続吐出流57として吐出される。
【0028】
タンク53には、赤色蛍光体、緑色蛍光体、青色蛍光体のうちの1色の蛍光体ペーストが貯留され、塗布ヘッド55には数百本の塗布ノズル56が設けられている。すなわち、塗布部51の一回の走査で、各1色の蛍光体ペーストが数百本の隔壁22内に充填される。
【0029】
また、塗布部51の進行方向と反対側には、塗布部51と一体に乾燥部52が設けられている。すなわち、乾燥部52は塗布部51と一体となり、矢印Aの進行方向に対して塗布部51の後流となる位置に設けられている。乾燥部52には、ガス導入部61、乾燥室62、ガス排出部63が設けられ、さらに、ガス導入部61にはフィルター66が配置されている。温度、湿度と流量が制御された乾燥ガス64がガス導入部61のフィルター66で異物などが除去されて乾燥室62内に導入され、乾燥室62内を循環した後、ガス排出部63から外部に排出される。
【0030】
また、塗布部51と乾燥部52とが一体的に配置されているために、塗布ヘッド55内の蛍光体ペーストに影響を与えないように、塗布部51と乾燥部52とを断熱材65などで断熱する構成としてもよい。また、乾燥室62内の乾燥ガス64の流れによって、連続吐出流57が影響を受けないようにするために、乾燥室62と背面基板17との間隙を小さくしてもよい。
【0031】
すなわち、蛍光体層形成装置50は、塗布部51と乾燥部52とが一体に構成され、背面基板17に対して相対的に矢印Aの方向に走査されている。そのため、蛍光体層23を形成するステップが、塗布ノズル56からの連続吐出流57によって、隔壁22間に蛍光体ペーストを充填する蛍光体ペースト充填ステップと、その直後に蛍光体ペースト充填領域70において、乾燥室62の乾燥ガス64を蛍光体ペーストに吹き付けて乾燥させる乾燥ステップとを含んでいる。
【0032】
したがって、塗布部51と乾燥部52とを背面基板17に対しての走査することによって、塗布ノズル56から吐出された蛍光体ペーストを隔壁22間に充填しながら、その直後に、乾燥室62でその蛍光体ペーストを乾燥させている。乾燥室62では、温度、湿度が制御された乾燥ガス64によって蛍光体ペースト中の有機溶媒などが蒸発し、それらをガス排出部63から排出するようにしている。
【0033】
このような方法によれば、蛍光体層23の乾燥を蛍光体ペーストが充填された直後に行うことができる。その結果、蛍光体ペースト中の溶剤が隔壁22への吸収されることによる膜厚のばらつきや、塗布と乾燥との時間管理のばらつきなどの影響による膜厚のばらつきを排除することができる。その結果、高精細度、大画面でも、乾燥後の形状が均一な蛍光体層23の形状を実現することができる。
【0034】
このようにして、PDP10の全面に、赤色、緑色、および青色の乾燥後の蛍光体層23を形成し、その後、500℃〜600℃で焼成することにより、蛍光体ペースト中のバインダー樹脂成分や残りの溶媒を焼失させ、蛍光体粒子が積層された各色の蛍光体層23を形成することができます。
【0035】
次に、実際に蛍光体ペーストを作製し、上述の蛍光体層形成装置50によって画面サイズが42インチクラスのフルハイビジョンテレビ用として蛍光体層23を作製した。蛍光体層23の評価は、乾燥後の塗布形状の評価と、蛍光体層23を焼成してPDP10を作製した画像を評価した。
【0036】
蛍光体ペーストの粘度は、各色蛍光体粒子、バインダー樹脂、溶剤などを調合し、塗布ノズル56からの塗布と乾燥後の蛍光体層23の形状とが最適となるように調整した。また、蛍光体粒子としては、青色蛍光体としてBaMgAl1017:Euを、緑色蛍光体としてZnSiO:Mnを、赤色蛍光体として(Y、Gd)BO:Euを用いた。バインダー樹脂としてはエチルセルロースを、溶剤としてはブチルアルコール、テルピネオール、ベンジルアルコールなどの有機溶媒混合物を用い、蛍光体ペーストの粘度が25℃で5Pa・sとなるように調整した。
【0037】
実施例として、塗布部51における蛍光体ペーストの条件と塗布条件を同一とし、乾燥部52に導入する乾燥ガス64の条件を変えた場合について、乾燥後の蛍光体層23の形状を確認するとともに、PDP10を点灯させた場合の画像評価を行った。その結果を表1に示す。
【0038】
【表1】

【0039】
表1には、乾燥室62に導入する乾燥ガス64の種類と温度条件とを変えた場合について、乾燥後の背面基板17に形成された蛍光体層23の塗布形状の観察結果、およびPDP10を点灯させた場合の画像評価について示している。
【0040】
実施例1から実施例5では、乾燥室62に導入する乾燥ガス64の種類を変えて60℃から200℃に変化させた場合の結果について示している。また、比較例1では乾燥ガス64の温度を実施例1から実施例4以外の温度をした場合の結果について示している。
【0041】
表1の結果より、上述の蛍光体ペーストでは、乾燥室62に導入する乾燥ガス64の温度が60℃〜200℃の範囲で、かつ、不活性な窒素ガスあるいはアルゴンガスを用いることにより、乾燥後の蛍光体層23の形状を全領域に亘って最適に保持し、PDP10としての画像評価結果も良好とすることができる。一方、乾燥ガス64の種類によらず、温度が50℃と低い場合や逆に210℃と高い場合には、乾燥後の蛍光体層23の形状が全領域で不均一となり、結果として画像評価で画面上に色ムラや輝度ムラが発生する。
【0042】
すなわち、乾燥ガス64の温度が低い場合には、蛍光体層23の形状決定が蛍光体ペーストの隔壁22への吸収などによって律則され、特に大画面の場合には隔壁22の精度のばらつきに影響されて不均一となる。一方、乾燥ガス64の温度が200℃を超えると、蛍光体ペースト中のブチルアルコール、テルピネオール、ベンジルアルコールなどの溶剤の蒸発が制御できなくなるために、乾燥後の蛍光体層23の形状に不均一性が発生する。これらの結果、乾燥後の蛍光体層23を焼成して作製したPDP10では、画面上に色ムラや輝度ムラが発生する。
【0043】
なお、実施の形態では乾燥ガス64として、蛍光体ペーストからの溶剤蒸発を安全に行うために窒素ガス、アルゴンガスの不活性ガスを用いているが、その他の不活性ガスを用いてもよいし、制御されたガスを用いることも可能である。また、これらの乾燥ガス64は低湿度であることが望ましく、隔壁22内に充填された蛍光体ペーストをより早く乾燥させることが可能となる。
【0044】
また、実施の形態では加熱した乾燥ガス64を乾燥室62に導入する構成としているが、常温の乾燥ガス64を乾燥部52に導入し、乾燥室62内に加熱ヒーターを設けて乾燥ガス64を加熱する構成としてもよい。
【0045】
すなわち、実施の形態のような、PDPの製造方法および蛍光体層形成装置によれば、蛍光体層の乾燥を蛍光体ペーストが充填された直後に行い、蛍光体ペーストの隔壁への吸収によるばらつきや、塗布と乾燥との時間管理のばらつきなどの影響を排除することができる。その結果、高精細度、大画面でも、形状が均一で、なおかつ高輝度を実現する蛍光体層の形状を実現することができる。
【産業上の利用可能性】
【0046】
本発明のPDPの製造方法および蛍光体層形成装置によれば、高精細度、大画面でも、形状が均一で、なおかつ高輝度を実現する蛍光体層の形成が可能となり、大画面表示装置などに有用である。
【符号の説明】
【0047】
10 PDP
11 前面基板
12 走査電極
12a,13a 透明電極
12b,13b バス電極
13 維持電極
14 表示電極対
15 誘電体層
16 保護層
17 背面基板
18 データ電極
19 下地誘電体層
22 隔壁
22a 縦隔壁
22b 横隔壁
23 蛍光体層
24 放電セル
50 蛍光体層形成装置
51 塗布部
52 乾燥部
53 タンク
54 加圧ポンプ
55 塗布ヘッド
56 塗布ノズル
57 連続吐出流
61 ガス導入部
62 乾燥室
63 ガス排出部
64 乾燥ガス
65 断熱材
66 フィルター
70 蛍光体ペースト充填領域

【特許請求の範囲】
【請求項1】
隔壁が形成された基板に蛍光体層を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記蛍光体層を形成するステップが、前記隔壁間に蛍光体ペーストを充填する蛍光体ペースト充填ステップと、前記隔壁間に充填された直後の前記蛍光体ペーストに乾燥ガスを吹き付けて前記蛍光体ペーストを乾燥させる乾燥ステップとを含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項2】
前記乾燥ガスが60℃〜200℃に加熱された窒素ガスまたはアルゴンガスであることを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項3】
隔壁が形成された基板に蛍光体層を形成する蛍光体層形成装置であって、前記基板に対して相対移動しながら前記隔壁間に蛍光体ペーストを吐出充填する塗布ノズルを有する塗布部と、乾燥ガスによって前記隔壁内に充填された前記蛍光体ペーストを乾燥する前記塗布部に一体で配置された乾燥部とを備えたことを特徴とする蛍光体層形成装置。
【請求項4】
前記乾燥ガスが60℃〜200℃に加熱された窒素ガスまたはアルゴンガスであることを特徴とする請求項3に記載の蛍光体層形成装置。

【図1】
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【図2】
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【公開番号】特開2011−187310(P2011−187310A)
【公開日】平成23年9月22日(2011.9.22)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−51377(P2010−51377)
【出願日】平成22年3月9日(2010.3.9)
【出願人】(000005821)パナソニック株式会社 (73,050)
【Fターム(参考)】