ポジ型感光性樹脂組成物、表示素子用層間絶縁膜及びその形成方法
【課題】本発明は、良好な感度及び保存安定性に加え、現像時間に対する未露光部の膜厚変化量が少ないポジ型感光性樹脂組成物、優れた耐光性及び耐熱性を有する表示素子用層間絶縁膜、並びにその形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］下記式（１）で表される基を有する構造単位（Ｉ）、及び１以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する構造単位（ＩＩ）を含む共重合体、［Ｂ］下記式（２）で表されるオキシムスルホネート基を有する化合物、［Ｃ］ラジカル捕捉剤、並びに［Ｄ］溶媒を含有するポジ型感光性樹脂組成物である。
【解決手段】本発明は、［Ａ］下記式（１）で表される基を有する構造単位（Ｉ）、及び１以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する構造単位（ＩＩ）を含む共重合体、［Ｂ］下記式（２）で表されるオキシムスルホネート基を有する化合物、［Ｃ］ラジカル捕捉剤、並びに［Ｄ］溶媒を含有するポジ型感光性樹脂組成物である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はポジ型感光性樹脂組成物、表示素子用層間絶縁膜及びその形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示素子には、一般に層状に配置される配線の間を絶縁する目的で表示素子用層間絶縁膜が設けられている。表示素子用層間絶縁膜の形成材料としては、必要なパターン形状を得るための工程数が少なく、また得られる表示素子用層間絶縁膜に高度な平坦性が求められることからポジ型感光性樹脂組成物が幅広く使用されている。このようなポジ型感光性樹脂組成物には良好な感度及び保存安定性が求められ、また表示素子用層間絶縁膜には上記平坦性に加え、優れた耐光性、耐熱性等が求められる。
【０００３】
このようなポジ型感光性樹脂組成物としては、アクリル系樹脂が広く採用されており、例えば、架橋剤、酸発生剤及びアルカリ可溶性樹脂を含有する組成物が知られている（特開２００４−４６６９号公報参照）。上記アルカリ可溶性樹脂とは、保護基（アルカリ水溶液に不溶又は難溶であって、酸の作用により解離し得る基）を有し、この保護基が露光により解離した後に現像液であるアルカリ水溶液に可溶性となる樹脂をいう。また、他のポジ型感光性樹脂組成物としては、アセタール構造及び／又はケタール構造並びにエポキシ基を含有する樹脂及び酸発生剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物が提案されている（特開２００４−２６４６２３号公報参照）。
【０００４】
しかしながら、従来のポジ型感光性樹脂組成物を用いて表示素子用層間絶縁膜の形成を試みた場合、現像工程における未露光部の膜厚減少量が大きく、表示素子用層間絶縁膜の平坦性が損なわれたり、設計膜厚からのずれが生じる不都合がある。また、この不都合を回避するためには、現像時間を厳格に調整する必要があり、生産プロセスの非効率化につながる。
【０００５】
このような状況に鑑み、良好な感度及び保存安定性を有するポジ型感光性樹脂組成物、並びに優れた耐光性及び耐熱性に加え、現像時間に対する未露光部の膜厚変化量が少ない表示素子用層間絶縁膜の開発が望まれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−４６６９号公報
【特許文献２】特開２００４−２６４６２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであり、良好な感度及び保存安定性に加え、現像時間に対する未露光部の膜厚変化量が少ないポジ型感光性樹脂組成物、優れた耐光性及び耐熱性を有する表示素子用層間絶縁膜、並びにその形成方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するためになされた発明は、
［Ａ］下記式（１）で表される基を有する構造単位（Ｉ）、及び１以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する構造単位（ＩＩ）を含む共重合体（以下、「［Ａ］共重合体」とも称する）、
［Ｂ］下記式（２）で表されるオキシムスルホネート基を有する化合物（以下、「［Ｂ］化合物」とも称する）、
［Ｃ］ラジカル捕捉剤、並びに
［Ｄ］溶媒
を含有するポジ型感光性樹脂組成物である。
【化１】
（式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基である。但し、上記アルキル基、シクロアルキル基及びアリール基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。また、Ｒ１及びＲ２が共に水素原子である場合はない。Ｒ３は、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基又は−Ｍ（Ｒ４）３で表される基である。このＭは、Ｓｉ、Ｇｅ又はＳｎである。Ｒ４は、それぞれ独立してアルキル基である。また、Ｒ１とＲ３とが連結して環状エーテル構造を形成してもよい。但し、Ｒ３で表されるこれらの基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。）
【化２】
（式（２）中、Ｒ５は、直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基又はアリール基である。但し、上記アルキル基及びアリール基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。）
【０００９】
構造単位（Ｉ）が有する上記式（１）で表される基は、酸の存在下で解離して極性基を生じる基（酸解離性基）として存在しているので、放射線の照射により［Ｂ］化合物から生じた酸により解離し、その結果アルカリ不溶性であった［Ａ］共重合体はアルカリ可溶性となる。また、［Ａ］共重合体が上記特定構造を有する構造単位（ＩＩ）を含むことで、分子鎖間で架橋構造を形成し、良好な感度及び保存安定性に加え、現像時間に対する未露光部の膜厚変化量を抑制できると共に、優れた耐光性及び耐熱性を有する表示素子用層間絶縁膜の形成を可能とする。さらに、当該ポジ型感光性樹脂組成物が含有する［Ｃ］ラジカル捕捉剤は、露光若しくは加熱により発生したラジカル、又は酸化によって生成した過酸化物の分解ができ重合体分子の結合の解裂を防止することができる成分である。その結果、当該ポジ型感光性樹脂組成物は膜厚変化量をより抑制できる。
【００１０】
上記式（１）で表される基において、上記Ｒ１とＲ３とが連結して環状エーテル構造を形成していることが好ましい。また、上記式（１）で表される基は、下記式（１−１）で表される基であることが好ましい。
【化３】
【００１１】
上記式（１）で表される基を上記特定環構造とすることで、現像液に対して疎水性が高くなり、膜厚減少量をより抑制できる。
【００１２】
［Ａ］共重合体における構造単位（ＩＩ）の含有率は、５モル％以上６０モル％以下であることが好ましい。［Ａ］共重合体が構造単位（ＩＩ）を上記特定含有率で含むことにより、分子鎖間の架橋構造がより促進され、結果としてより良好な感度及び保存安定性に加え、現像時間に対する未露光部の膜厚変化量をより抑制できると共に、より優れた耐光性及び耐熱性を有する表示素子用層間絶縁膜の形成を可能とする。
【００１３】
構造単位（ＩＩ）は、２以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有することが好ましい。構造単位（ＩＩ）が、２以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有することでより良好な感度及び保存安定性に加え、現像時間に対する未露光部の膜厚変化量をより抑制でき、さらに、コンタクトホールの形状安定性についてもより向上することができる。また、優れた耐光性及び耐熱性を有する表示素子用層間絶縁膜の形成を可能とする。
【００１４】
［Ｄ］溶媒は、ケトン類、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールアルキルエーテル類及びプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類からなる群より選択される少なくとも１種の溶媒であることが好ましい。上記特定溶媒を選択することで、大型基板をスピンレス法で塗布する場合等に、塗膜面の塗布ムラを抑制できる。
【００１５】
当該ポジ型感光性樹脂組成物は、［Ｅ］分子中に２以上のエポキシ基を有する化合物（以下、「［Ｅ］エポキシ化合物」とも称する）をさらに含有することが好ましい。当該ポジ型感光性樹脂組成物が、［Ｅ］エポキシ化合物をさらに含有することで、当該ポジ型感光性樹脂組成物から形成される表示素子用層間絶縁膜の耐光性及び耐熱性をより向上することができる。
【００１６】
当該ポジ型感光性樹脂組成物は、表示素子用層間絶縁膜の形成材料として好適である。また、本発明には、当該ポジ型感光性樹脂組成物から形成される表示素子用層間絶縁膜も好適に含まれる。
【００１７】
本発明の表示素子用層間絶縁膜の形成方法は、
（１）当該ポジ型感光性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程、
（２）上記塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（３）上記放射線が照射された塗膜を現像する工程、及び
（４）上記現像された塗膜を加熱する工程
を有する。
【００１８】
当該形成方法によると、優れた耐光性及び耐熱性に加え、コンタクトホール径の安定性が高い表示素子用層間絶縁膜を形成できる。また、現像時間に対する未露光部の膜厚減少量を抑制できることから、結果として生産プロセスマージンを向上でき、歩留まりの向上を達成できる。さらに、感光性を利用した露光、現像、加熱によってパターンを形成することによって、容易に微細かつ精巧なパターンを有する表示素子用層間絶縁膜を形成できる。従って、形成された表示素子用層間絶縁膜は、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子等の表示素子に好適に使用できる。
【発明の効果】
【００１９】
以上説明したように、本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、良好な感度及び保存安定性に加え、現像時間に対する未露光部の膜厚変化量を抑制でき、優れた耐光性及び耐熱性を有する表示素子用層間絶縁膜を提供することができる。また、コンタクトホール径の安定性を向上することができる。膜厚減少量を抑制できることから、結果として生産プロセスマージンを向上でき、歩留まりの向上を達成できる。さらに、感光性を利用した露光、現像、加熱によってパターンを形成することによって、容易に微細かつ精巧なパターンを有する表示素子用層間絶縁膜を形成できる。従って、形成された表示素子用層間絶縁膜は、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子等の表示素子に好適に使用できる。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
＜ポジ型感光性樹脂組成物＞
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、［Ａ］共重合体、［Ｂ］化合物、［Ｃ］ラジカル捕捉剤及び［Ｄ］溶媒を含有する。また、当該ポジ型感光性樹脂組成物は好適成分として、［Ｅ］エポキシ化合物を含有してもよい。さらに、本発明の効果を損なわない限りにおいて、その他の任意成分を含有してもよい。以下、各成分を詳述する。
【００２１】
＜［Ａ］共重合体＞
［Ａ］共重合体は、上記式（１）で表される基を有する構造単位（Ｉ）、及び１以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する構造単位（ＩＩ）を含む共重合体である。また、［Ａ］共重合体は本発明の効果を損なわない範囲において、その他の構造単位を含んでいてもよい。なお、［Ａ］共重合体は、各構造単位を２種以上含んでいてもよい。以下、各構造単位を詳述する。
【００２２】
［構造単位（Ｉ）］
構造単位（Ｉ）は、上記式（１）で表される基を有する。上記式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基である。但し、上記アルキル基、シクロアルキル基及びアリール基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。また、Ｒ１及びＲ２が共に水素原子である場合はない。Ｒ３は、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基又は−Ｍ（Ｒ４）３で表される基である。このＭは、Ｓｉ、Ｇｅ又はＳｎである。Ｒ４は、それぞれ独立してアルキル基である。また、Ｒ１とＲ３とが連結して環状エーテル構造を形成してもよい。但し、Ｒ３で表されるこれらの基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。
【００２３】
上記Ｒ１及びＲ２で表されるアルキル基としては、例えば炭素数１〜３０の直鎖状及び分岐状のアルキル基等が挙げられる。上記炭素数１〜３０の直鎖状及び分岐状のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−オクタデシル基等の直鎖状アルキル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ネオペンチル基、２−ヘキシル基、３−ヘキシル基等の分岐状のアルキル基等が挙げられる。
【００２４】
上記Ｒ１及びＲ２で表されるシクロアルキル基としては、例えば炭素数３〜２０のシクロアルキル基等が挙げられる。また、この炭素数３〜２０のシクロアルキル基は、多環でもよい。上記炭素数３〜２０のシクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル、シクロオクチル、ボルニル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等が挙げられる。
【００２５】
上記Ｒ１及びＲ２で表されるアリール基としては、例えば炭素数６〜１４のアリール基等が挙げられる。上記炭素数６〜１４のアリール基は、単環でもよく、単環が連結した構造であってもよく、縮合環であってもよい。上記炭素数６〜１４のアリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【００２６】
上記Ｒ１及びＲ２で表される置換されていてもよいアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基の置換基としては、例えばハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、カルボニル基、シクロアルキル基（例えばシクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル、シクロオクチル、ボルニル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等）、アリール基（例えばフェニル基、ナフチル基等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基等の炭素数１〜２０のアルコキシ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ｉ−ブチリル基等の炭素数２〜２０のアシル基等）、アシロキシ基（例えば、アセトキシ基、エチリルオキシ基、ブチリルオキシ基、ｔ−ブチリルオキシ基、ｔ−アミリルオキシ基等の炭素数２〜１０のアシロキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基等の炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基）、ハロアルキル基（例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−オクタデシル基等の直鎖状アルキル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ネオペンチル基、２−ヘキシル基、３−ヘキシル基等の分岐状のアルキル基等のアルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等のシクロアルキル基の水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置換された基等）等が挙げられる。
【００２７】
上記Ｒ３及びＲ４で表されるアルキル基、並びにＲ３で表されるシクロアルキル基及びアリール基としては、例えば上記Ｒ１及びＲ２で例示した基が適用できる。これらの基の置換基としては、例えば上記Ｒ１及びＲ２で表される置換されていてもよいアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基の置換基として例示した基が適用できる。上記Ｒ３で表されるアラルキル基としては、例えば炭素数７〜２０のアラルキル基等が挙げられる。上記炭素数７〜２０のアラルキル基としては、例えばベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等が挙げられる。
【００２８】
上記Ｒ１とＲ３とが連結して形成してもよい環状エーテル構造を有する基としては、例えば２，２−オキセタンジイル基、２，２−テトラヒドロフランジイル基、２−テトラヒドロピランジイル基、２−ジオキサンジイル基等が挙げられる。
【００２９】
上記Ｒ１及びＲ３は、上記Ｒ１とＲ３とが連結して環状エーテル構造を形成していることが好ましい。また、上記式（１）で表される基は、上記式（１−１）で表される基であることが好ましい。上記式（１）で表される基を上記特定環構造とすることで、現像液に対して疎水性が高くなり、膜厚減少量をより抑制できる。
【００３０】
構造単位（Ｉ）としては、例えば下記式（１−２）〜（１−４）で表される構造単位等が挙げられる。
【００３１】
【化４】
【００３２】
上記式（１−２）〜（１−４）中、Ｒ’は、水素原子又はメチル基である。Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、上記式（１）と同義である。
【００３３】
上記式（１−２）〜（１−４）で表される構造単位（Ｉ）を与える単量体としては、例えばメタクリル酸１−エトキシエチル、メタクリル酸１−メトキシエチル、メタクリル酸１−ｎ−ブトキシエチル、メタクリル酸１−イソブトキシエチル、メタクリル酸１−ｔ−ブトキシエチル、メタクリル酸１−（２−クロルエトキシ）エチル、メタクリル酸１−（２−エチルヘキシルオキシ）エチル、メタクリル酸１−ｎ−プロポキシエチル、メタクリル酸１−シクロヘキシルオキシエチル、メタクリル酸１−（２−シクロヘキシルエトキシ）エチル、メタクリル酸１−ベンジルオキシエチル、メタクリル酸２−テトラヒドロピラニル、アクリル酸１−エトキシエチル、アクリル酸１−メトキシエチル、アクリル酸１−ｎ−ブトキシエチル、アクリル酸１−イソブトキシエチル、アクリル酸１−ｔ−ブトキシエチル、アクリル酸１−（２−クロルエトキシ）エチル、アクリル酸１−（２−エチルヘキシルオキシ）エチル、アクリル酸１−ｎ−プロポキシエチル、アクリル酸１−シクロヘキシルオキシエチル、アクリル酸１−（２−シクロヘキシルエトキシ）エチル、アクリル酸１−ベンジルオキシエチル、アクリル酸２−テトラヒドロピラニル、２，３−ジ（１−（トリメチルシラニルオキシ）エトキシ）カルボニル）−５−ノルボルネン、２，３−ジ（１−（トリメチルゲルミルオキシ）エトキシ）カルボニル）−５−ノルボルネン、２，３−ジ（１−メトキシエトキシカルボニル）−５−ノルボルネン、２，３−ジ（１−（シクロヘキシルオキシ）エトキシカルボニル）−５−ノルボルネン、２，３−ジ（１−（ベンジルオキシ）エトキシカルボニル）−５−ノルボルネン、ｐ又はｍ−１−エトキシエトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−メトキシエトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−ｎ−ブトキシエトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−イソブトキシエトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−（１，１−ジメチルエトキシ）エトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−（２−クロルエトキシ）エトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−（２−エチルヘキシルオキシ）エトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−ｎ−プロポキシエトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−シクロヘキシルオキシエトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−（２−シクロヘキシルエトキシ）エトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−ベンジルオキシエトキシスチレン等が挙げられる。なお、これらの単量体は単独又は２種以上を使用することができる。
【００３４】
これらのうち構造単位（Ｉ）を与える単量体としては、メタクリル酸１−ｎ−ブトキシエチル、メタクリル酸２−テトラヒドロピラニルが好ましい。
【００３５】
構造単位（Ｉ）を与える単量体は、市販のものを用いてもよいし、公知の方法で合成したものを用いることもできる。例えば、上記式（１−２）で表される構造単位（Ｉ）を与える単量体は、下記式に示すように（メタ）アクリル酸を酸触媒の存在下でビニルエーテルと反応させることにより合成することができる。
【００３６】
【化５】
【００３７】
上記式中、Ｒ’、Ｒ１及びＲ３は、上記式（１−２）と同義である。Ｒ２１及びＲ２２は、−ＣＨ（Ｒ２１）（Ｒ２２）として、上記式（１−２）におけるＲ２と同義である。
【００３８】
［Ａ］共重合体における構造単位（Ｉ）の含有率としては、［Ａ］共重合体に含まれる全構造単位に対して、１０質量％〜７０質量％が好ましく、２０質量％〜６０質量％がより好ましい。
【００３９】
［構造単位（ＩＩ）］
構造単位（ＩＩ）としては、１以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有していれば特に限定されない。
【００４０】
［Ａ］共重合体に構造単位（ＩＩ）を導入する方法としては、例えば１分子中に少なくとも１の水酸基を有する不飽和化合物を含む単量体の共重合体（以下、「［Ａ１］共重合体」とも称する）に、不飽和イソシアネート化合物を反応させる方法等が挙げられる。
【００４１】
［Ａ１］共重合体の合成に用いられる単量体（以下、「単量体（Ａ１）」とも称する）としては、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル、（メタ）アクリル酸ジヒドロキシアルキルエステル、（メタ）アクリル酸（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）アルキルエステル等が挙げられる。
【００４２】
上記（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルとしては、例えば（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチルエステル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピルエステル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチルエステル等が挙げられる。上記（メタ）アクリル酸ジヒドロキシアルキルエステルとしては、例えば（メタ）アクリル酸２，３−ジヒドロキシプロピルエステル、（メタ）アクリル酸１，３−ジヒドロキシプロピルエステル、（メタ）アクリル酸３，４−ジヒドロキシブチルエステル等が挙げられる。上記（メタ）アクリル酸（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）アルキルエステルとしては、例えば（メタ）アクリル酸２−（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）エチルエステル、（メタ）アクリル酸３−（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）プロピルエステル等が挙げられる。
【００４３】
これらの単量体（Ａ１）のうち、共重合反応性及びイソシアネート化合物との反応性の観点から、アクリル酸２−ヒドロキシエチルエステル、アクリル酸３−ヒドロキシプロピルエステル、アクリル酸４−ヒドロキシブチルエステル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチルエステル、メタクリル酸３−ヒドロキシプロピルエステル、メタクリル酸４−ヒドロキシブチルエステル、アクリル酸２，３−ジヒドロキシプロピルエステル、メタクリル酸２，３−ジヒドロキシプロピルエステルが好ましい。なお、これらの単量体は単独又は２種以上を使用することができる。
【００４４】
上記のようにして得られた［Ａ１］共重合体は、重合反応溶液のまま［Ａ］共重合体の合成に供してもよく、［Ａ１］共重合体を一旦溶液から分離したうえで［Ａ］共重合体の合成に供してもよい。
【００４５】
不飽和イソシアネート化合物としては、例えば（メタ）アクリル酸のイソシアネート基含有誘導体等が挙げられる。不飽和イソシアネート化合物としては、例えば２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチルイソシアネート、（メタ）アクリル酸２−（２−イソシアネートエトキシ）エチル、１，１−（ビス（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート等が挙げられる。なお、不飽和イソシアネート化合物は、単独又は２種以上を混合して使用することができる。
【００４６】
不飽和イソシアネート化合物の市販品としては、例えば２−アクリロイルオキシエチルイソシアネートの市販品としてカレンズＡＯＩ（昭和電工製）、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートの市販品としてカレンズＭＯＩ（昭和電工製）、メタクリル酸２−（２−イソシアネートエトキシ）エチルの市販品としてカレンズＭＯＩ−ＥＧ（昭和電工製）、１，１−（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネートの市販品としてカレンズＢＥＩ（昭和電工製）等が挙げられる。
【００４７】
これらの不飽和イソシアネート化合物のうち、［Ａ１］共重合体との反応性の観点から、２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、４−メタクリロイルオキシブチルイソシアネートまたはメタクリル酸２−（２−イソシアネートエトキシ）エチル、１，１−（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネートが好ましい。
【００４８】
［Ａ１］共重合体と不飽和イソシアネート化合物との反応は、必要に応じて適当な触媒の存在下において、好ましくは重合禁止剤を含む［Ａ１］共重合体の溶液に、室温又は加温下で、攪拌しつつ不飽和イソシアネート化合物を投入することによって実施することができる。
【００４９】
上記触媒としては、例えばジラウリン酸ジ−ｎ−ブチルすず（ＩＶ）等が挙げられる。上記重合禁止剤としては、例えばｐ−メトキシフェノール等が挙げられる。
【００５０】
［Ａ］共重合体に構造単位（ＩＩ）を導入する他の方法としては、例えば１分子中に少なくとも１のカルボキシル基を有する不飽和化合物を含む単量体の共重合体（以下、「［Ａ２］共重合体」とも称する）にビニルエーテル基及び（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物を反応させる方法等が挙げられる。
【００５１】
［Ａ２］共重合体の合成方法としては、材料の入手及び合成が容易な観点から、例えば、カルボキシル基含有単量体（以下、「単量体（Ａ２）」とも称する）を重合する方法等が挙げられる。
【００５２】
単量体（Ａ２）としては、例えば（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、マレイン酸モノエステル、イタコン酸モノエステル等が挙げられる。これらのうち（メタ）アクリル酸が好ましい。
【００５３】
ビニルエーテル基及び（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物としては、例えば下記式（４）で表される化合物等が挙げられる。
【００５４】
【化６】
【００５５】
上記式（４）中、Ｒ６は、水素原子又はメチル基である。Ｒ７は、２価の連結基である。Ｒ８は、水素原子又は１価の有機基である。
【００５６】
上記Ｒ７で表される２価の連結基としては、例えば、炭素数２〜１８の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基、炭素数２〜２０のアルコキシアルキレン基、炭素数２〜８のハロゲン化アルキレン基、末端水酸基を除くポリエチレングリコール骨格、末端水酸基を除くポリプロピレングリコール骨格、末端水酸基を除くポリブチレングリコール骨格、アリール基等が挙げられる。上記Ｒ８で表される１価の有機基としては、例えば炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素数６〜１１の置換されていてもよい芳香族基等が挙げられる。
【００５７】
上記式（４）で表されるビニルエーテル基及び（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物としては、例えば（メタ）アクリル酸２−ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１−メチル−２−ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシブチル、（メタ）アクリル酸１−メチル−３−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１−ビニロキシメチルプロピル、（メタ）アクリル酸２−メチル−３−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１，１−ジメチル−２−ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ビニロキシブチル、（メタ）アクリル酸１−メチル−２−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２−ビニロキシブチル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸６−ビニロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸３−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸２−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸ｐ−ビニロキシメチルフェニルメチル、（メタ）アクリル酸ｍ−ビニロキシメチルフェニルメチル、（メタ）アクリル酸ｏ−ビニロキシメチルフェニルメチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシイソプロポキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシイソプロポキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエトキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシイソプロポキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシエトキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシイソプロポキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエトキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシイソプロポキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシエトキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシイソプロポキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエトキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（イソプロペノキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（イソプロペノキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（イソプロペノキシエトキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（イソプロペノキシエトキシエトキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノビニルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリプロピレングリコールモノビニルエーテル等が挙げられる。なお、これらのビニルエーテル基及び（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物は単独又は２種以上を使用することができる。
【００５８】
これらのビニルエーテル基及び（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物のうち、上記式（４）で表される化合物が好ましく、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチルがより好ましい。なお、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチルの市販品としては、例えばアクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチルとしてのＶＥＥＡ、メタクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチルとしてのＶＥＥＭ（以上、日本触媒製）等が挙げられる。
【００５９】
［Ａ２］共重合体と、ビニルエーテル基及び（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物との付加反応としては特に限定されず、反応系中に添加することで実施できる。上記付加反応においては、［Ａ２］共重合体自体が触媒となるため、無触媒で反応を行うことができるが、触媒を併用することも可能である。
【００６０】
［Ａ］共重合体に構造単位（ＩＩ）を導入する他の方法としては、例えば単量体としての多官能（メタ）アクリレートを用いて、構造単位（Ｉ）等を与える単量体と共に共重合させる方法等が挙げられる。
【００６１】
多官能（メタ）アクリレートとしては、例えばエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジイルジメチレンジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルの両末端（メタ）アクリル酸付加物、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、フェノールノボラックポリグリシジルエーテルの（メタ）アクリレート等が挙げられる。なお、これらの単量体は単独又は２種以上を使用することができる。
【００６２】
多官能（メタ）アクリレートの市販品としては、例えばＳＡ１００２（三菱化学製）、ビスコート１９５、同２３０、同２６０、同２１５、同３１０、同２１４ＨＰ、同２９５、同３００、同３６０、同ＧＰＴ、同４００、同７００、同５４０、同３０００、同３７００（以上、大阪有機化学工業製）、カヤラッドＲ−５２６、ＨＤＤＡ、ＮＰＧＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＭＡＮＤＡ、Ｒ−５５１、Ｒ−７１２、Ｒ−６０４、Ｒ−６８４、ＰＥＴ−３０、ＧＰＯ−３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ−３３０、ＤＰＨＡ、ＤＰＨＡ−２Ｈ、ＤＰＨＡ−２Ｃ、ＤＰＨＡ−２Ｉ、Ｄ−３１０、Ｄ−３３０、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−３０、ＤＰＣＡ−６０、ＤＰＣＡ−１２０、ＤＮ−００７５、ＤＮ−２４７５、Ｔ−１４２０、Ｔ−２０２０、Ｔ−２０４０、ＴＰＡ−３２０、ＴＰＡ−３３０、ＲＰ−１０４０、ＲＰ−２０４０、Ｒ−０１１、Ｒ−３００、Ｒ−２０５（以上、日本化薬製）、アロニックスＭ−２１０、同Ｍ−２２０、同Ｍ−２３３、同Ｍ−２４０、同Ｍ−２１５、同Ｍ−３０５、同Ｍ−３０９、同Ｍ−３１０、同Ｍ−３１５、同Ｍ−３２５、同Ｍ−４００、同Ｍ−６２００、同Ｍ−６４００（以上、東亞合成製）、ライトアクリレートＢＰ−４ＥＡ、同ＢＰ−４ＰＡ、同ＢＰ−２ＥＡ、同ＢＰ−２ＰＡ、ＤＣＰ−Ａ（以上、共栄社化学製）、ニューフロンティアＢＰＥ−４、ＢＲ−４２Ｍ、ＧＸ−８３４５（以上、第一工業製薬製）、ＡＳＦ−４００（新日鐵化学製）、リポキシＳＰ−１５０６、同ＳＰ−１５０７、同ＳＰ−１５０９、同ＳＰ−４０１０、同ＳＰ−４０６０、ＶＲ−７７、（以上、昭和高分子製）、ＮＫエステルＡ−ＢＰＥ−４（新中村化学工業製）等が挙げられる。
【００６３】
これらの多官能（メタ）アクリレートのうち、分子中に２以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物、分子中に３以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物が好ましい。分子中に２以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物としては、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレートがより好ましい。分子中に３以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物としては、例えばトリ（メタ）アクリレート化合物、テトラ（メタ）アクリレート化合物、ペンタ（メタ）アクリレート化合物、ヘキサ（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。これらの３以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物のうち、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートが好ましい。
【００６４】
［Ａ］共重合体における構造単位（ＩＩ）の含有率としては［Ａ］共重合体に含まれる全構造単位に対して、５モル％以上６０モル％以下が好ましい。［Ａ］共重合体が構造単位（ＩＩ）を上記特定含有率で含むことにより、分子鎖間の架橋構造がより促進され、結果としてより良好な感度及び保存安定性に加え、現像時間に対する未露光部の膜厚変化量をより抑制できると共に、より優れた耐光性及び耐熱性を有する表示素子用層間絶縁膜の形成を可能とする。
【００６５】
構造単位（ＩＩ）は、２以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有することが好ましい。構造単位（ＩＩ）が、２以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有することでより良好な感度及び保存安定性に加え、現像時間に対する未露光部の膜厚変化量をより抑制でき、さらに、コンタクトホールの形状安定性についてもより向上することができる。また、優れた耐光性及び耐熱性を有する表示素子用層間絶縁膜の形成を可能とする。
【００６６】
［その他の構造単位］
［Ａ］共重合体は、本発明の効果を損なわない範囲において、構造単位（Ｉ）及び構造単位（ＩＩ）以外のその他の構造単位を含んでいてもよい。
【００６７】
その他の構造単位を与える単量体としては、例えば（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステル、（メタ）アクリル酸アリールエステル、（メタ）アクリル酸アラルキルエステル、不飽和ジカルボン酸ジアルキルエステル、ビニル芳香族化合物、共役ジエン化合物、その他の不飽和化合物等が挙げられる。
【００６８】
上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル等が挙げられる。上記（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステルとしては、例えば（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸２−メチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル、（メタ）アクリル酸２−（トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イルオキシ）エチル、（メタ）アクリル酸イソボロニル等が挙げられる。上記（メタ）アクリル酸アリールエステルとしては、例えばアクリル酸フェニル等が挙げられる。（メタ）アクリル酸アラルキルエステルとしては、例えば（メタ）アクリル酸ベンジル等が挙げられる。不飽和ジカルボン酸ジアルキルエステルとしては、例えばマレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル等が挙げられる。ビニル芳香族化合物としては、例えばスチレン、α−メチルスチレン等が挙げられる。共役ジエン化合物としては、例えば１，３−ブタジエン、イソプレン等が挙げられる。その他の不飽和化合物としては、例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド等が挙げられる。なお、これらの単量体は単独又は２種以上を使用することができる。
【００６９】
これらの単量体のうち、共重合反応性の観点から、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸メチル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸２−メチルグリシジル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル、スチレン、ｐ−メトキシスチレン、１，３−ブタジエンが好ましい。
【００７０】
［Ａ］共重合体のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）としては、好ましくは２．０×１０３〜１．０×１０５、より好ましくは５．０×１０３〜５．０×１０４である。［Ａ］共重合体のＭｗを上記特定範囲とすることで、当該ポジ型感光性樹脂組成物の感度及びアルカリ現像性を高めることができる。
【００７１】
［Ａ］共重合体のＧＰＣによるポリスチレン換算数平均分子量（Ｍｎ）としては、好ましくは２．０×１０３〜１．０×１０５、より好ましくは５．０×１０３〜５．０×１０４である。［Ａ］共重合体のＭｎを上記特定範囲とすることで、当該ポジ型感光性樹脂組成物の塗膜の硬化時の硬化反応性を向上させることができる。
【００７２】
［Ａ］共重合体の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）としては、好ましくは３．０以下、より好ましくは２．６以下である。［Ａ］共重合体のＭｗ／Ｍｎを３．０以下とすることで、得られる表示素子用層間絶縁膜の現像性を高めることができる。
【００７３】
なお、本明細書のＭｗ及びＭｎは、下記の条件によるＧＰＣにより測定した。
装置：ＧＰＣ−１０１（昭和電工製）
カラム：ＧＰＣ−ＫＦ−８０１、ＧＰＣ−ＫＦ−８０２、ＧＰＣ−ＫＦ−８０３及びＧＰＣ−ＫＦ−８０４を結合
移動相：テトラヒドロフラン
カラム温度：４０℃
流速：１．０ｍＬ／分
試料濃度：１．０質量％
試料注入量：１００μＬ
検出器：示差屈折計
標準物質：単分散ポリスチレン
【００７４】
［Ａ］共重合体は、上記各構造単位を与える単量体のラジカル共重合等により合成できる。［Ａ］共重合体の重合反応に用いられる溶媒としては、例えば後述する当該ポジ型感光性樹脂組成物の構成成分である［Ｄ］溶媒の項において例示する溶媒が適用できる。
【００７５】
重合反応に用いられる重合開始剤としては、一般的にラジカル重合開始剤として知られているものが使用できるが、例えば２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス−（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオン酸メチル）等のアゾ化合物；ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１，１’−ビス−（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン等の有機過酸化物；過酸化水素等が挙げられる。
【００７６】
［Ａ］共重合体の重合反応においては、分子量を調整するために分子量調整剤を使用することもできる。分子量調整剤としては、例えばクロロホルム、四臭化炭素等のハロゲン化炭化水素類；ｎ−ヘキシルメルカプタン、ｎ−オクチルメルカプタン、ｎ−ドデシルメルカプタン、ｔ−ドデシルメルカプタン、チオグリコール酸等のメルカプタン類；ジメチルキサントゲンスルフィド、ジイソプロピルキサントゲンジスルフィド等のキサントゲン類；ターピノーレン、α−メチルスチレンダイマー等が挙げられる。
【００７７】
＜［Ｂ］化合物＞
［Ｂ］化合物は、放射線の照射によって酸を発生する化合物である。放射線としては、例えば可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等を使用できる。当該ポジ型感光性樹脂組成物が［Ｂ］化合物を含むことで、当該ポジ型感光性樹脂組成物はポジ型の感放射線特性を発揮することができる。［Ｂ］化合物の当該ポジ型感光性樹脂組成物における含有形態としては、後述するような化合物の形態でも、［Ａ］共重合体又は他の重合体の一部として組み込まれた酸発生基の形態でも、これらの両方の形態でもよい。
【００７８】
［Ｂ］化合物としては、上記式（２）で表されるオキシムスルホネート基を有する化合物であれば特に限定されない。上記式（２）中、Ｒ５は、直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基又はアリール基である。但し、上記アルキル基及びアリール基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。
【００７９】
上記Ｒ５で表される直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基としては、炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐状のアルキル基が好ましい。上記炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐状のアルキル基は置換されていてもよく、置換基としては例えば炭素数１〜１０のアルコキシ基、７，７−ジメチル−２−オキソノルボルニル基等の有橋式脂環基を含む脂環式基等が挙げられる。なお、好ましい脂環式基としては、ビシクロアルキル基である。上記Ｒ５で表されるアリール基としては、炭素数６〜１１のアリール基が好ましく、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。上記アリール基は置換されていてもよく、置換基としては例えば炭素数１〜５のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
【００８０】
上記式（２）で表されるオキシムスルホネート基を含有する化合物としては、例えば下記式（３）で表されるオキシムスルホネート化合物等が挙げられる。
【００８１】
【化７】
【００８２】
上記式（３）中、Ｒ５は、上記式（２）と同義である。Ｘは、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子である。ｍは、０〜３の整数である。但し、Ｘが複数の場合、複数のＸは同一であっても異なっていてもよい。
【００８３】
上記Ｘで表され得るアルキル基としては、炭素数１〜４の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基が好ましい。上記Ｘで表されるアルコキシ基としては、炭素数１〜４の直鎖状又は分岐状のアルコキシ基が好ましい。上記Ｘで表されるハロゲン原子としては、塩素原子、フッ素原子が好ましい。ｍとしては、０又は１が好ましい。上記式（３）においては、ｍが１であり、Ｘがメチル基であり、Ｘの置換位置がオルトである化合物が好ましい。
【００８４】
上記（３）で表されるオキシムスルホネート化合物としては、例えば下記式（３−１）〜（３−５）でそれぞれ表される化合物等が挙げられる。
【００８５】
【化８】
【００８６】
上記化合物（３−１）〜（３−５）は、それぞれ（５−プロピルスルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル、（５−オクチルスルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル、（カンファースルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル、（５−ｐ−トルエンスルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル、（５−オクチルスルフォニルオキシイミノ）−（４−メトキシフェニル）アセトニトリルであり、市販品として入手できる。
【００８７】
［Ｂ］化合物としては、上記式（３）で表される化合物が好ましく、市販品として入手可能な、上記式（３−１）〜（３−５）で表される化合物がより好ましい。
【００８８】
当該ポジ型感光性樹脂組成物における［Ｂ］化合物の含有量としては、［Ｂ］化合物が化合物の形態である場合として、［Ａ］共重合体１００質量部に対して、好ましくは０．１質量部〜１０質量部、より好ましくは１質量部〜５質量部である。［Ｂ］化合物の含有量を上記特定範囲とすることで、当該ポジ型感光性樹脂組成物の感度を最適化し、透明性を維持しつつ耐光性及び耐熱性に優れる表示素子用層間絶縁膜を形成できる。
【００８９】
なお、［Ｂ］化合物としては、上記式（２）で表されるオキシムスルホネート基を有する化合物以外に、本発明の効果を損なわない範囲で、オニウム塩、スルホンイミド化合物、ハロゲン含有化合物、ジアゾメタン化合物、スルホン化合物、スルホン酸エステル化合物、カルボン酸エステル化合物等をさらに含有してもよい。なお、これらの［Ｂ］化合物は単独又は２種類以上を使用することができる。
【００９０】
オニウム塩としては、例えばジフェニルヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウム塩、スルホニウム塩、ベンゾチアゾニウム塩、テトラヒドロチオフェニウム塩等が挙げられる。ジフェニルヨードニウム塩としては、例えばジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート、ジフェニルヨードニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロアセテート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムカンファースルホン酸等が挙げられる。トリフェニルスルホニウム塩としては、例えばトリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムカンファースルホン酸、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、トリフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホナート、トリフェニルスルホニウムブチルトリス（２、６−ジフルオロフェニル）ボレート等が挙げられる。スルホニウム塩としては、例えばアルキルスルホニウム塩、ベンジルスルホニウム塩、ジベンジルスルホニウム塩、置換ベンジルスルホニウム塩等が挙げられる。アルキルスルホニウム塩としては、例えば４−アセトキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−アセトキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル−４−（ベンジルオキシカルボニルオキシ）フェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル−４−（ベンゾイルオキシ）フェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル−４−（ベンゾイルオキシ）フェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル−３−クロロ−４−アセトキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。ベンジルスルホニウム塩としては、例えばベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４−アセトキシフェニルベンジルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−４−メトキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−２−メチル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−３−クロロ−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。ジベンジルスルホニウム塩としては、例えばジベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４−アセトキシフェニルジベンジルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル−４−メトキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル−３−クロロ−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジベンジル−３−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−４−メトキシベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。置換ベンジルスルホニウム塩としては、例えばｐ−クロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−ニトロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−クロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ｐ−ニトロベンジル−３−メチル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、３，５−ジクロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｏ−クロロベンジル−３−クロロ−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。ベンゾチアゾニウム塩としては、例えば３−ベンジルベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジルベンゾチアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、３−ベンジルベンゾチアゾニウムテトラフルオロボレート、３−（ｐ−メトキシベンジル）ベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジル−２−メチルチオベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジル−５−クロロベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。テトラヒドロチオフェニウム塩としては、例えば４，７−ジ−ｎ−ブトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム−１，１，２，２−テトラフルオロ−２−（ノルボルナン−２−イル）エタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム−２−（５−ｔ−ブトキシカルボニルオキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム−２−（６−ｔ−ブトキシカルボニルオキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート等が挙げられる。
【００９１】
スルホンイミド化合物としては、例えばＮ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（２−フルオロフェニルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（フェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（ノナフルオロブタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（フェニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ペンタフルオロエチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ヘプタフルオロプロピルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ノナフルオロブチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（エチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（プロピルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ブチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ペンチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ヘキシルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ヘプチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（オクチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ノニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド等が挙げられる
【００９２】
ハロゲン含有化合物としては、例えば、ハロアルキル基含有炭化水素化合物、ハロアルキル基含有ヘテロ環状化合物等が挙げられる。
【００９３】
ジアゾメタン化合物としては、例えば、ビス（トリフルオロメチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（フェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｐ−トリルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（２，４−キシリルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｐ−クロロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、メチルスルホニル−ｐ−トルエンスルホニルジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル（１，１−ジメチルエチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（１，１−ジメチルエチルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル（ベンゾイル）ジアゾメタン等が挙げられる。
【００９４】
スルホン化合物としては、例えばβ−ケトスルホン化合物、β−スルホニルスルホン化合物、ジアリールジスルホン化合物等が挙げられる。
【００９５】
スルホン酸エステル化合物としては、例えば、アルキルスルホン酸エステル、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホネート等が挙げられる。
【００９６】
カルボン酸エステル化合物としては、例えばカルボン酸ｏ−ニトロベンジルエステル等が挙げられる。
【００９７】
＜［Ｃ］ラジカル捕捉剤＞
［Ｃ］ラジカル捕捉剤は、当該ポジ型感光性樹脂組成物において露光若しくは加熱により発生したラジカル、又は酸化によって生成した過酸化物の分解ができ重合体分子の結合の解裂を防止することができる成分である。その結果、当該ポジ型感光性樹脂組成物から得られる表示素子用層間絶縁膜は、当該ポジ型感光性樹脂組成物は膜厚変化量をより抑制できる。
【００９８】
［Ｃ］ラジカル捕捉剤としては、例えばヒンダードフェノール構造を有する化合物、ヒンダードアミン構造を有する化合物、アルキルホスファイト構造を有する化合物、チオエーテル構造を有する化合物等が挙げられる。
【００９９】
上記ヒンダードフェノール構造を有する化合物としては、例えばペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、チオジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイルビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）、３，３’，３’，５’，５’−ヘキサ−ｔｅｒｔ−ブチル−ａ，ａ’，ａ’−（メシチレン−２，４，６−トリイル）トリ−ｐ−クレゾール、４，６−ビス（オクチルチオメチル）−ｏ−クレゾール、４，６−ビス（ドデシルチオメチル）−ｏ−クレゾール、エチレンビス（オキシエチレン）ビス［３−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ｍ−トリル）プロピオネート、ヘキサメチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，３，５−トリス［（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−キシリン）メチル］−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−（４，６−ビス（オクチルチオ）−１，３，５−トリアジン−２−イルアミン）フェノール等が挙げられる。
【０１００】
上記ヒンダードフェノール構造を有する化合物の市販品としては、例えばアデカスタブＡＯ−２０、同ＡＯ−３０、同ＡＯ−４０、同ＡＯ−５０、同ＡＯ−６０、同ＡＯ−７０、同ＡＯ−８０、同ＡＯ−３３０（以上、ＡＤＥＫＡ製）、ｓｕｍｉｌｉｚｅｒＧＭ、同ＧＳ、同ＭＤＰ−Ｓ、同ＢＢＭ−Ｓ、同ＷＸ−Ｒ、同ＧＡ−８０（以上、住友化学製）、ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０、同１０３５、同１０７６、同１０９８、同１１３５、同１３３０、同１７２６、同１４２５ＷＬ、同１５２０Ｌ、同２４５、同２５９、同３１１４、同５６５、ＩＲＧＡＭＯＤ２９５（以上、チバジャパン製）、ヨシノックスＢＨＴ、同ＢＢ、同２２４６Ｇ、同４２５、同２５０、同９３０、同ＳＳ、同ＴＴ、同９１７、同３１４（以上、エーピーアイコーポレーション製）等が挙げられる。
【０１０１】
上記ヒンダードアミン構造を有する化合物としては、例えば２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−クレゾール、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１−アクロイル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）デカンジオエート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート、４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１−［２−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチル］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−メチル−２−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）プロピオンアミド、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート等が挙げられる。
【０１０２】
上記ヒンダードアミン構造を有する化合物の市販品としては、例えばアデカスタブＬＡ−５２、同ＬＡ５７、同ＬＡ−６２、同ＬＡ−６７、同ＬＡ−６３Ｐ、同ＬＡ−６８ＬＤ、同ＬＡ−７７、同ＬＡ−８２、同ＬＡ−８７（以上、ＡＤＥＫＡ製）、ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ９Ａ（住友化学製）、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ１１９ＦＬ、同２０２０ＦＤＬ、同９４４ＦＤＬ、ＴＩＮＵＶＩＮ６２２ＬＤ、同１４４、同７６５、同７７０ＤＦ（チバジャパン製）等が挙げられる。
【０１０３】
上記アルキルホスファイト構造を有する化合物としては、例えばトリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ホスファイト、トリス〔２，４，６−トリス（α−フェニルエチル）〕ホスファイト、トリス（ｐ−２−ブテニルフェニル）ホスファイト、ビス（ｐ−ノニルフェニル）シクロヘキシルホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジ（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリストールジホスファイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチル−１−フェニルオキシ）（２−エチルヘキシルオキシ）ホスホラス、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、４，４’−イソプロピリデ−ジフェノールアルキルホスファイト、テトラトリデシル−４，４’−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）ジホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンホスファイト、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニルフェニルペンタエリスリトールジホスファイト、２，６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニルフェニルペンタエリスリトールジホスファイト、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェニルステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（２，６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−４−メチルフェニルフェニルペンタエリスリトールジホスファイト等が挙げられる。
【０１０４】
アルキルホスファイト構造を有する化合物の市販品としては、例えばアデカスタブＰＥＰ−４Ｃ、同ＰＥＰ−８、同ＰＥＰ−８Ｗ、同ＰＥＰ−２４Ｇ、同ＰＥＰ−３６、同ＨＰ−１０、同２１１２、同２６０、同５２２Ａ、同１１７８、同１５００、同Ｃ、同１３５Ａ、同３０１０、同ＴＰＰ（以上、ＡＤＥＫＡ製）、ＩＲＧＡＦＯＳ１６８（チバジャパン製）等が挙げられる。
【０１０５】
上記チオエーテル構造を有する化合物としては、例えばジラウリルチオジプロピオネート、ジトリデシルチオジプロピオネート、ジミリスチルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−オクタデシルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−ミリスチルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−ステアリルチオプロピオネート）等が挙げられる
【０１０６】
チオエーテル構造を有する化合物の市販品としては、例えばアデカスタブＡＯ−４１２Ｓ、同ＡＯ−５０３（以上、ＡＤＥＫＡ製）、ｓｕｍｉｌｉｚｅｒＴＰＬ−Ｒ、同ＴＰＭ、同ＴＰＳ、同ＴＰ−Ｄ、同ＭＢ（以上、住友化学製）、ＩＲＧＡＮＯＸＰＳ８００ＦＤ、同８０２ＦＤ（以上、チバジャパン製）、ＤＬＴＰ、ＤＳＴＰ、ＤＭＴＰ、ＤＴＴＰ（以上、エーピーアイコーポレーション製）等が挙げられる。
【０１０７】
これらの［Ｃ］ラジカル捕捉剤のうち、ヒンダードフェノール構造を有する化合物が好ましく、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−クレゾールがより好ましい。
【０１０８】
これらの化合物は、単独又は２種以上を使用することができる。当該ポジ型感光性樹脂組成物において、［Ｃ］ラジカル捕捉剤の含有量としては、［Ａ］共重合体１００質量部に対して、好ましくは０．１質量部以上１０質量部以下、より好ましくは０．２質量部以上５質量部以下である。［Ｃ］ラジカル捕捉剤の含有量を上記特定範囲内とすることで、当該ポジ型感光性樹脂組成物は膜厚変化量をより抑制できる。
【０１０９】
＜［Ｄ］溶媒＞
［Ｄ］溶媒としては、各成分を均一に溶解又は分散し、各成分と反応しないものが好適に用いられる。［Ｄ］溶媒としては、例えばアルコール類、エーテル類、グリコールエーテル、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート、芳香族炭化水素類、ケトン類、他のエステル類等が挙げられる。なお、これらの溶媒は、単独又は２種以上を使用することができる。
【０１１０】
アルコール類としては、例えばメタノール、エタノール、ベンジルアルコール、２−フェニルエチルアルコール、３−フェニル−１−プロパノール等が挙げられる。
【０１１１】
エーテル類としては、例えばテトラヒドロフラン等が挙げられる。
【０１１２】
グリコールエーテルとして、例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等が挙げられる。
【０１１３】
エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類としては、例えばメチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等が挙げられる。
【０１１４】
ジエチレングリコールアルキルエーテルとしては、例えばジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等が挙げられる。
【０１１５】
プロピレングリコールモノアルキルエーテルとしては、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。
【０１１６】
プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類としては、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等が挙げられる。
【０１１７】
プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネートとしては、例えばプロピレンモノグリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノブチルエーテルプロピオネート等が挙げられる。
【０１１８】
芳香族炭化水素類としては、例えばトルエン、キシレン等が挙げられる。
【０１１９】
ケトン類としては、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等が挙げられる。
【０１２０】
他のエステル類としては、例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブトキシプロピオン酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エチル、２−ブトキシプロピオン酸プロピル、２−ブトキシプロピオン酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸プロピル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−プロポキシプロピオン酸メチル、３−プロポキシプロピオン酸エチル、３−プロポキシプロピオン酸プロピル、３−プロポキシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メチル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ブトキシプロピオン酸プロピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチル等が挙げられる。
【０１２１】
これらの溶媒のうち、ケトン類、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールアルキルエーテル類及びプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類からなる群より選択される少なくとも１種の溶媒が好ましく、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルイソブチルケトンがより好ましい。上記特定溶媒を選択することで、大型基板をスピンレス法で塗布する場合等に、塗膜面の塗布ムラを抑制できる。
【０１２２】
＜［Ｅ］エポキシ化合物＞
当該ポジ型感光性樹脂組成物は、好適成分として［Ｅ］エポキシ化合物をさらに含有することが好ましい。当該ポジ型感光性樹脂組成物が、［Ｅ］エポキシ化合物をさらに含有することで、当該ポジ型感光性樹脂組成物から形成される表示素子用層間絶縁膜の耐光性及び耐熱性をより向上することができる。
【０１２３】
［Ｅ］エポキシ化合物としては、分子中に２以上のエポキシ基を有する化合物であれば特に限定されない。なお、本明細書にいうエポキシ基とは、オキシラニル基（１，２−エポキシ構造）及びオキセタニル基（１，３−エポキシ構造）を含む概念である。
【０１２４】
オキシラニル基を有する［Ｅ］エポキシ化合物としては、例えば
ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（４，４’−イソプロピリデンジフェノールと１−クロロ−２，３−エポキシプロパンとの重縮合物）、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡＤジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル等のビスフェノール化合物のジグリシジルエーテル；
１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル；
エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに１種又は２種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル；
フェノールノボラック型エポキシ樹脂；
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂；
ポリフェノール型エポキシ樹脂；
環状脂肪族エポキシ樹脂；
脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル；
高級脂肪酸のグリシジルエステル；
エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油等が挙げられる。
【０１２５】
オキセタニル基を有する［Ｅ］エポキシ化合物としては、例えば１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、ビス｛［１−エチル（３−オキセタニル）］メチル｝エーテル、ビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル等が挙げられる。
【０１２６】
その他、分子中に２以上の３，４−エポキシシクロヘキシル基を有する化合物としては、例えば３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３’，４’−エポキシ−６’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、ラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等が挙げられる。
【０１２７】
［Ｅ］エポキシ化合物の市販品としては、例えばエピコート１００１、同１００２、同１００３、同１００４、同１００７、同１００９、同１０１０、同８２８（以上、ジャパンエポキシレジン製）等のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂；エピコート８０７（ジャパンエポキシレジン製）等のビスフェノールＦ型エポキシ樹脂；エピコート１５２、同１５４、同１５７Ｓ６５（以上、ジャパンエポキシレジン製）、ＥＰＰＮ２０１、同２０２（以上、日本化薬製）等のフェノールノボラック型エポキシ樹脂；ＥＯＣＮ１０２、同１０３Ｓ、同１０４Ｓ、１０２０、１０２５、１０２７（以上、日本化薬製）、エピコート１８０Ｓ７５（ジャパンエポキシレジン製）等のクレゾールノボラック型エポキシ樹脂；
エピコート１０３２Ｈ６０、同ＸＹ−４０００（以上、ジャパンエポキシレジン製）等のポリフェノール型エポキシ樹脂；ＣＹ−１７５、同１７７、同１７９、アラルダイトＣＹ−１８２、同１９２、１８４（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）、ＥＲＬ−４２３４、４２９９、４２２１、４２０６（以上、Ｕ．Ｃ．Ｃ製）、ショーダイン５０９（昭和電工製）、エピクロン２００、同４００（以上、大日本インキ製）、エピコート８７１、同８７２（以上、ジャパンエポキシレジン製）、ＥＤ−５６６１、同５６６２（以上、セラニーズコーティング製）等の環状脂肪族エポキシ樹脂；エポライト１００ＭＦ（共栄社化学製）、エピオールＴＭＰ（日本油脂製）、１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、ビス｛［１−エチル（３−オキセタニル）］メチル｝エーテル等の脂肪族ポリグリシジルエーテル等が挙げられる。
【０１２８】
これらの［Ｅ］エポキシ化合物のうち、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（４，４’−イソプロピリデンジフェノールと１−クロロ−２，３−エポキシプロパンの重縮合物）、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、ビス｛［１−エチル（３−オキセタニル）］メチル｝エーテル、ビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートが好ましい。
【０１２９】
［Ｅ］エポキシ化合物は、単独又は２種以上を使用することができる。当該ポジ型感光性樹脂組成物における［Ｅ］エポキシ化合物の含有量としては、［Ａ］共重合体１００質量部に対して、好ましくは０．５質量部〜５０質量部であり、より好ましくは１質量部〜３０質量部である。［Ｅ］エポキシ化合物の含有量を上記特定範囲とすることで、表示素子用層間絶縁膜の耐光性及び耐熱性をより向上することできる。
【０１３０】
＜その他の任意成分＞
当該ポジ型感光性樹脂組成物は、上記［Ａ］〜［Ｅ］成分に加え、本発明の効果を損なわない範囲で必要に応じて［Ｆ］塩基性化合物、［Ｇ］界面活性剤、キノンジアジド化合物等のその他の任意成分を含有してもよい。これらのその他の任意成分は、単独で使用してもよいし、２種以上を混合して使用してもよい。以下、各成分を詳述する。
【０１３１】
＜［Ｆ］塩基性化合物＞
当該ポジ型感光性樹脂組成物が、［Ｆ］塩基性化合物を含有することで、露光により［Ｂ］化合物から発生した酸の拡散長を適度に制御することができパターン現像性を良好にできる。［Ｆ］塩基性化合物としては、化学増幅レジストで用いられるものから任意に選択して使用でき、例えば脂肪族アミン、芳香族アミン、複素環式アミン、４級アンモニウムヒドロキシド、カルボン酸４級アンモニウム塩等が挙げられる。
【０１３２】
脂肪族アミンとしては、例えばトリメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−ペンチルアミン、トリ−ｎ−ペンチルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン等が挙げられる。
【０１３３】
芳香族アミンとしては、例えばアニリン、ベンジルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ジフェニルアミン等が挙げられる。
【０１３４】
複素環式アミンとしては、例えばピリジン、２−メチルピリジン、４−メチルピリジン、２−エチルピリジン、４−エチルピリジン、２−フェニルピリジン、４−フェニルピリジン、Ｎ−メチル−４−フェニルピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、イミダゾール、ベンズイミダゾール、４−メチルイミダゾール、２−フェニルベンズイミダゾール、２，４，５−トリフェニルイミダゾール、ニコチン、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、キノリン、８−オキシキノリン、ピラジン、ピラゾール、ピリダジン、プリン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、４−メチルモルホリン、１，５−ジアザビシクロ［４，３，０］−５−ノネン、１，８−ジアザビシクロ［５，３，０］−７ウンデセン等が挙げられる。
【０１３５】
４級アンモニウムヒドロキシドとしては、例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−ｎ−ヘキシルアンモニウムヒドロキシド等が挙げられる。
【０１３６】
カルボン酸４級アンモニウム塩としては、例えばテトラメチルアンモニウムアセテート、テトラメチルアンモニウムベンゾエート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムアセテート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムベンゾエート等が挙げられる。
【０１３７】
これらの［Ｆ］塩基性化合物のうち、複素環式アミンが好ましく、４−ジメチルアミノピリジン、４−メチルイミダゾール、１，５−ジアザビシクロ［４，３，０］−５−ノネンがより好ましい。
【０１３８】
当該ポジ型感光性樹脂組成物における［Ｆ］塩基性化合物の含有量としては、［Ａ］共重合体１００質量部に対して０．００１質量部〜１質量部が好ましく、０．００５質量部〜０．２質量部がより好ましい。［Ｆ］塩基性化合物の含有量を上記特定範囲とすることで、パターン現像性がより向上する。
【０１３９】
＜［Ｇ］界面活性剤＞
［Ｇ］界面活性剤は、当該ポジ型感光性樹脂組成物の塗膜形成性をより向上させることができる。［Ｇ］界面活性剤としては、例えばフッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等が挙げられる。当該ポジ型感光性樹脂組成物が、［Ｇ］界面活性剤を含有することで、塗膜の表面平滑性を向上でき、その結果形成される表示素子用層間絶縁膜の膜厚均一性をより向上できる。
【０１４０】
フッ素系界面活性剤としては、末端、主鎖及び側鎖の少なくともいずれかの部位にフルオロアルキル基及び／又はフルオロアルキレン基を有する化合物が好ましく、例えば１，１，２，２−テトラフルオロｎ−オクチル（１，１，２，２−テトラフルオロｎ−プロピル）エーテル、１，１，２，２−テトラフルオロｎ−オクチル（ｎ−ヘキシル）エーテル、ヘキサエチレングリコールジ（１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロｎ−ペンチル）エーテル、オクタエチレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフルオロｎ−ブチル）エーテル、ヘキサプロピレングリコールジ（１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロｎ−ペンチル）エーテル、オクタプロピレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフルオロｎ−ブチル）エーテル、パーフルオロｎ−ドデカンスルホン酸ナトリウム、１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロｎ−デカン、１，１，２，２，３，３，９，９，１０，１０−デカフルオロｎ−ドデカン、フルオロアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、フルオロアルキルリン酸ナトリウム、フルオロアルキルカルボン酸ナトリウム、ジグリセリンテトラキス（フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル）、フルオロアルキルアンモニウムヨージド、フルオロアルキルベタイン、フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、パーフルオロアルキルポリオキシエタノール、パーフルオロアルキルアルコキシレート、カルボン酸フルオロアルキルエステル等が挙げられる。
【０１４１】
フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えばＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００（以上、ＢＭ ＣＨＥＭＩＥ製）、メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３、同Ｆ１７８、同Ｆ１９１、同Ｆ４７１、同Ｆ４７６（以上、大日本インキ化学工業製）、フロラードＦＣ−１７０Ｃ、同ＦＣ−１７１、同ＦＣ−４３０、同ＦＣ−４３１（以上、住友スリーエム製）、サーフロンＳ−１１２、同Ｓ−１１３、同Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１、同Ｓ−１４５、同Ｓ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６（以上、旭硝子製）、エフトップＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２（以上、新秋田化成製）、フタージェントＦＴ−１００、同ＦＴ−１１０、同ＦＴ−１４０Ａ、同ＦＴ−１５０、同ＦＴ−２５０、同ＦＴ−２５１、同ＦＴ−３００、同ＦＴ−３１０、同ＦＴ−４００Ｓ、同ＦＴＸ−２１８、同ＦＴ−２５１（以上、ネオス製）等が挙げられる。
【０１４２】
シリコーン系界面活性剤としては、例えばトーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、同ＤＣ７ＰＡ、同ＳＨ１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８ＰＡ、同ＳＨ２９ＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、同ＳＨ−１９０、同ＳＨ−１９３、同ＳＺ−６０３２、同ＳＦ−８４２８、同ＤＣ−５７、同ＤＣ−１９０、ＳＨ ８４００ ＦＬＵＩＤ（以上、東レダウコーニングシリコーン製）、ＴＳＦ−４４４０、ＴＳＦ−４３００、ＴＳＦ−４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ−４４６０、ＴＳＦ−４４５２（以上、ＧＥ東芝シリコーン製）、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業製）等が挙げられる。
【０１４３】
当該ポジ型感光性樹脂組成物における［Ｇ］界面活性剤の含有量としては、［Ａ］共重合体１００質量部に対して、好ましくは０．０１質量部以上２質量部以下であり、より好ましくは０．０５質量部以上１質量部以下である。［Ｇ］界面活性剤の含有量を上記特定範囲とすることで塗膜の膜厚均一性をより向上できる。
【０１４４】
＜キノンジアジド化合物＞
キノンジアジド化合物は放射線の照射によりカルボン酸を発生する化合物である。キノンジアジド化合物としては、フェノール性化合物又はアルコール性化合物（以下、「母核」とも称する）と１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合物を用いることができる。
【０１４５】
上記母核としては、例えばトリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、ペンタヒドロキシベンゾフェノン、ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、（ポリヒドロキシフェニル）アルカン、その他の母核等が挙げられる。
【０１４６】
トリヒドロキシベンゾフェノンとしては、例えば２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン等が挙げられる。テトラヒドロキシベンゾフェノンとしては、例えば２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，３’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，２’−テトラヒドロキシ−４’−メチルベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシ−３’−メトキシベンゾフェノン等が挙げられる。ペンタヒドロキシベンゾフェノンとしては、例えば２，３，４，２’，６’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン等が挙げられる。ヘキサヒドロキシベンゾフェノンとしては、例えば２，４，６，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、３，４，５，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン等が挙げられる。（ポリヒドロキシフェニル）アルカンとしては、例えばビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン、トリス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１，１−トリス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン、４，４’−〔１−〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニル〕−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノール、ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインデン−５，６，７，５’，６’，７’−ヘキサノール、２，２，４−トリメチル−７，２’，４’−トリヒドロキシフラバン等が挙げられる。その他の母核として、例えば２−メチル−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４−（４−ヒドロキシフェニル）−７−ヒドロキシクロマン、１−［１−（３−｛１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル｝−４，６−ジヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］−３−（１−（３−｛１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル｝−４，６−ジヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）ベンゼン、４，６−ビス｛１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル｝−１，３−ジヒドロキシベンゼンが挙げられる。
【０１４７】
これらの母核のうち、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン、４，４’−〔１−〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニル〕−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノールが好ましい。
【０１４８】
１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとしては、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドが好ましい。１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドとしては、例えば１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸クロリド、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド等が挙げられる。これらのうち、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリドが好ましい。
【０１４９】
フェノール性化合物又はアルコール性化合物と１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合物としては、１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタンと１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリドとの縮合物、４，４’−〔１−〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニル〕−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノールと１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリドとの縮合物が好ましい。
【０１５０】
フェノール性化合物又はアルコール性化合物（母核）と、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合反応では、フェノール性化合物又はアルコール性化合物中のＯＨ基数に対して、好ましくは３０モル％〜８５モル％、より好ましくは５０モル％〜７０モル％に相当する１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドを用いることができる。縮合反応は、公知の方法によって実施することができる。
【０１５１】
また、キノンジアジド化合物としては、上記例示した母核のエステル結合をアミド結合に変更した１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミド類、例えば２，３，４−トリアミノベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸アミド等も好適に使用される。
【０１５２】
＜ポジ型感光性樹脂組成物の調製方法＞
当該ポジ型感光性樹脂組成物は、［Ｄ］溶媒に［Ａ］共重合体、［Ｂ］化合物、［Ｃ］ラジカル捕捉剤、必要に応じて好適成分及びその他の任意成分を混合することによって溶解又は分散させた状態に調製される。例えば［Ｄ］溶媒中で、各成分を所定の割合で混合することにより、当該ポジ型感光性樹脂組成物を調製できる。
【０１５３】
＜表示素子用層間絶縁膜の形成方法＞
当該ポジ型感光性樹脂組成物は、表示素子用層間絶縁膜の形成材料として好適である。また、本発明には、当該ポジ型感光性樹脂組成物から形成される表示素子用層間絶縁膜も好適に含まれる。
【０１５４】
本発明の表示素子用層間絶縁膜の形成方法は、
（１）当該ポジ型感光性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程、
（２）上記塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（３）上記放射線が照射された塗膜を現像する工程、及び
（４）上記現像された塗膜を加熱する工程
を有する。
【０１５５】
当該形成方法によると、優れた耐光性及び耐熱性に加え、現像時間に対する未露光部の膜厚変化量が少ない表示素子用層間絶縁膜を形成できる。さらには、コンタクトホール径の安定性も向上できる。また、膜厚減少量を抑制できることから、結果として生産プロセスマージンを向上でき、歩留まりの向上を達成できる。さらに、感光性を利用した露光、現像、加熱によってパターンを形成することによって、容易に微細かつ精巧なパターンを有する表示素子用層間絶縁膜を形成できる。従って、形成された表示素子用層間絶縁膜は、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子等の表示素子に好適に使用できる。
【０１５６】
［工程（１）］
本工程では、当該ポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布して塗膜を形成する。好ましくは塗布面をプレベークすることによって溶媒を除去する。
【０１５７】
基板としては、例えばガラス、石英、シリコーン、樹脂等が挙げられる。樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリイミド、環状オレフィンの開環重合体及びその水素添加物等が挙げられる。プレベークの条件としては、各成分の種類、配合割合等によっても異なるが、７０℃〜１２０℃、１分〜１０分間程度とすることができる。
【０１５８】
［工程（２）］
本工程では、上記形成された塗膜の少なくとも一部に放射線を照射し露光する。露光する際には、通常所定のパターンを有するフォトマスクを介して露光する。露光に使用される放射線としては、波長が１９０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲にある放射線が好ましく、３６５ｎｍの紫外線を含む放射線がより好ましい。露光量としては、放射線の波長３６５ｎｍにおける強度を、照度計（ＯＡＩ ｍｏｄｅｌ３５６、ＯＡＩ Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｓｓｏｃｉａｔｅｓ製）により測定した値で、５００Ｊ／ｍ２〜６，０００Ｊ／ｍ２が好ましく、１，５００Ｊ／ｍ２〜１，８００Ｊ／ｍ２がより好ましい。
【０１５９】
［工程（３）］
本工程では、上記放射線が照射された塗膜を現像する。露光後の塗膜を現像することにより、不要な部分（放射線の照射部分）を除去して所定のパターンを形成する。現像工程に使用される現像液としては、アルカリ性の水溶液が好ましい。アルカリとしては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア等の無機アルカリ；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の４級アンモニウム塩等が挙げられる。
【０１６０】
アルカリ水溶液には、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒や界面活性剤を適当量添加して使用することもできる。アルカリ水溶液におけるアルカリの濃度しては、適当な現像性を得る観点から、０．１質量％以上５質量％以下が好ましい。現像方法としては、例えば液盛り法、ディッピング法、揺動浸漬法、シャワー法等が挙げられる。現像時間としては、当該ポジ型感光性樹脂組成物の組成によって異なるが、１０秒〜１８０秒間程度である。このような現像処理に続いて、例えば流水洗浄を３０秒〜９０秒間行った後、例えば圧縮空気や圧縮窒素で風乾させることによって、所望のパターンを形成できる。
【０１６１】
［工程（４）］
本工程では、上記現像された塗膜を加熱する。加熱には、ホットプレート、オーブン等の加熱装置を用い、パターニングされた薄膜を加熱することで、［Ａ］共重合体の硬化反応を促進して、硬化物を得ることができる。加熱温度としては、例えば１２０℃〜２５０℃程度である。加熱時間としては、加熱機器の種類により異なるが、例えばホットプレートでは５分〜３０分間程度、オーブンでは３０分〜９０分間程度である。また、２回以上の加熱工程を行うステップベーク法等を用いることもできる。このようにして、目的とする表示素子用層間絶縁膜に対応するパターン状薄膜を基板の表面上に形成できる。なお、上記硬化膜の用途としては、表示素子用層間絶縁膜に限定されず、スペーサーや保護膜としても利用することができる。
【０１６２】
形成された表示素子用層間絶縁膜の膜厚としては、好ましくは０．１μｍ〜８μｍ、より好ましくは０．１μｍ〜６μｍである。
【実施例】
【０１６３】
以下、実施例に基づき本発明を詳述するが、この実施例の記載に基づいて本発明が限定的に解釈されるものではない。
【０１６４】
＜［Ａ］成分の合成＞
［合成例１］
冷却管及び撹拌機を備えたフラスコに、重合開始剤としての２，２’−アゾビスイソブチロニトリル５質量部及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２５０質量部を仕込み、引き続き、構造単位（Ｉ）を与えるメタクリル酸１−ｎ−ブトキシエチル５５質量部、単量体（Ａ１）としてのメタクリル酸２−ヒドロキシエチルエステル３０質量部、並びにその他の構造単位を与えるメタクリル酸１０質量部及びスチレン５質量部を仕込んで、窒素置換したのち、緩やかに攪拌しつつ溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持して重合することにより固形分濃度２８．８％の［Ａ１］共重合体溶液を得た。得られた［Ａ１］共重合体のＭｗは、１３，０００であった。
［Ａ１］共重合体溶液に、不飽和イソシアネート化合物としての２−メタアクリロイルオキシエチルイソシアネート（カレンズＭＯＩ、昭和電工製）１２質量部、重合禁止剤としての４−メトキシフェノール０．１質量部を添加したのち、４０℃で１時間、さらに６０℃で２時間攪拌して反応させた。２−メタアクリロイルオキシエチルイソシアネート由来のイソシアネート基と［Ａ１］共重合体の水酸基との反応の進行は、ＩＲ（赤外線吸収）スペクトルにより確認した。４０℃で１時間後、さらに６０℃で２時間反応後の反応溶液のＩＲスペクトルを測定し、２−メタアクリロイルオキシエチルイソシアネートのイソシアネート基に由来する２，２７０ｃｍ−１付近のピークが減少していることで、反応が進行しているのを確認した。固形分濃度３１．０％の共重合体（Ａ−１）溶液を得た。共重合体（Ａ−１）のＭｗは１４，０００であった。１３Ｃ−ＮＭＲ分析の結果、各構造単位の含有率は、構造単位（Ｉ）：構造単位（ＩＩ）：その他の構造単位＝４２：３１：２７（モル％）であった。なお、重合体の各構造単位の含有率を求めるための１３Ｃ−ＮＭＲ分析は、核磁気共鳴装置（日本電子製、ＪＮＭ−ＥＣＸ４００）を使用した。
【０１６５】
［合成例２］
上記２−メタアクリロイルオキシエチルイソシアネートの代わりに、不飽和イソシアネート化合物としての１，１−（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート（カレンズＢＥＩ、昭和電工製）１９質量部を加えたこと以外は合成例１と同様に操作して共重合体（Ａ−２）溶液を得た。共重合体（Ａ−２）のＭｗは１５，０００であった。固形分濃度は、３２．０質量％であった。１３Ｃ−ＮＭＲ分析の結果、各構造単位の含有率は、構造単位（Ｉ）：構造単位（ＩＩ）：その他の構造単位＝４２：３０：２８（モル％）であった。
【０１６６】
［合成例３］
温度計、攪拌機及び冷却管をつけた４つ口フラスコにジエチレングリコールエチルメチルエーテル５４０質量部を仕込み、窒素置換した後、オイルバスで９０℃にまで昇温した。構造単位（Ｉ）を与えるメタクリル酸２−テトラヒドロピラニル８７質量部、単量体（Ａ２）としてのメタクリル酸９０質量部、その他の構造単位を与えるメタクリル酸メチル４０質量部、及び重合開始剤としての２，２’−アゾビスイソブチロニトリ１０質量部を加え、同温度にて６時間維持した。その後、１００℃に昇温し温度を２時間維持した後、［Ａ２］共重合体溶液を得た。この共重合体溶液に重合禁止剤としての４−メトキシフェノール０．２質量部を加え、その後、ビニルエーテル基及び（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物としてのメタクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチル（日本触媒製、ＶＥＥＭ）１２８質量部を１時間かけて滴下ロートにて等速滴下した。１２時間の熟成反応の後、室温まで反応溶液を冷却し共重合体（Ａ−３）溶液を得た。共重合体（Ａ−３）のＭｗは１８，０００であった。固形分濃度は、３７．５質量％であった。１３Ｃ−ＮＭＲ分析の結果、各構造単位の含有率は、構造単位（Ｉ）：構造単位（ＩＩ）：その他の構造単位＝２６：５０：２４（モル％）であった。
【０１６７】
［合成例４］
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、重合開始剤としての２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）７質量部、及びジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００質量部を仕込んだ。引き続き、構造単位（Ｉ）を与えるメタクリル酸２−テトラヒドロピラニル５７質量部、多官能（メタ）アクリレートとしてのエチレングリコールジメタクリレート８質量部、その他の構造単位を与えるメタクリル酸１０質量部及びメタクリル酸メチル２０質量部及び、並びに分子量調整剤としてのα−メチルスチレンダイマー３質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（Ａ−４）を含む共重合体溶液を得た。共重合体（Ａ−４）のＭｗは１５，０００であった。固形分濃度は、３１．５質量％であった。１３Ｃ−ＮＭＲ分析の結果、各構造単位の含有率は、構造単位（Ｉ）：構造単位（ＩＩ）：その他の構造単位＝４８：６：４６（モル％）であった。
【０１６８】
［合成例５］
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに重合開始剤としての２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）７質量部、及びジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００質量部を仕込んだ。引き続き、構造単位（Ｉ）を与えるメタクリル酸２−テトラヒドロピラニル３０質量部、多官能（メタ）アクリレートとしてのエチレングリコールジメタクリレート２０質量部及びトリメチロールプロパントリメタクリレート５０質量部、並びに分子量調整剤としてのα−メチルスチレンダイマー３質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（Ａ−５）を含む共重合体溶液を得た。共重合体（Ａ−５）のＭｗは２０，０００であった。固形分濃度は、３３．５質量％であった。１３Ｃ−ＮＭＲ分析の結果、各構造単位の含有率は、構造単位（Ｉ）：構造単位（ＩＩ）＝４０：６０（モル％）であった。
【０１６９】
［合成例６］
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、重合開始剤としての２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）７質量部、及びジエチレングリコールエチルメチルエーテル４００質量部を仕込んだ。引き続き、構造単位（Ｉ）を与えるメタクリル酸２−テトラヒドロピラニル５７質量部、多官能（メタ）アクリレートとしてのエチレングリコールジメタクリレート８質量部、その他の構造単位を与えるメタクリル酸１０質量部及びメタクリル酸メチル２０質量部、並びに分子量調整剤としてのα−メチルスチレンダイマー３質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（Ａ−６）を含む重合体溶液を得た。さらに、この共重合体溶液に、多官能（メタ）アクリレートとしてのトリメチロールプロパントリメタクリレート５０質量部を滴下ロートで１時間にわたり滴下し、その後１時間攪拌した。共重合体（Ａ−６）のＭｗは２５，０００であった。固形分濃度は、２６．５質量％であった。１３Ｃ−ＮＭＲ分析の結果、各構造単位の含有率は、構造単位（Ｉ）：構造単位（ＩＩ）：その他の構造単位＝４８：６：４６（モル％）であった。
【０１７０】
［合成例７］
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）７質量部及びジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００質量部を仕込んだ。引き続き、構造単位（Ｉ）を与える１−エトキシエチルメタクリレート４０質量部、その他の構造単位を与えるメタクリル酸５質量部、スチレン５質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１０質量部及びメタクリル酸グリシジル４０質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（ＣＳ−１）を含む共重合体溶液を得た。共重合体（ＣＳ−１）のＭｗは１０，０００であった。固形分濃度は、３２．１質量％であった。
【０１７１】
＜［Ｅ］エポキシ化合物の合成＞
［合成例８］
冷却管及び撹拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）８質量部及びジエチレングリコールエチルメチルエーテル２２０質量部を仕込んだ。引き続き、メタクリル酸１５質量部、メタクリル酸メチル２０質量部、メタクリル酸ベンジル３０質量部、スチレン５質量部及びメタクリル酸グリシジル３０質量部を仕込み、窒素置換した後、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を７０℃に上昇し、この温度を５時間保持して重合することにより、共重合体（Ｅ−４）を含有する溶液を得た。共重合体（Ｅ−４）のＭｗは、８，０００であった。固形分濃度は、３２．３質量％であった。
【０１７２】
＜ポジ型感光性樹脂組成物の調製＞
以下、実施例及び比較例のポジ型感光性樹脂組成物の調製に用いた成分を詳述する。
【０１７３】
［Ｂ］成分
Ｂ−１：（５−プロピルスルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＰＡＧ １０３）
Ｂ−２：（５−オクチルスルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＰＡＧ １０８）
Ｂ−３：（５−ｐ−トルエンスルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＰＡＧ １２１）
Ｂ−４：（カンファースルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ製、ＣＧＩ１３８０）
Ｂ−５：（５−オクチルスルフォニルオキシイミノ）−（４−メトキシフェニル）アセトニトリル（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ製、ＣＧＩ７２５）
ｂ−１（キノンジアジド化合物）：４，４’−〔１−〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニル〕−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノール（１．０モル）と１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド（２．０モル）との縮合物
【０１７４】
［Ｃ］ラジカル捕捉剤
Ｃ−１：２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−クレゾール
Ｃ−２：１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン（アデカ製、アデカスタブＡＯ−３３０）
Ｃ−３：テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート（アデカ製、アデカスタブＬＡ−５７）
Ｃ−４：ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト（アデカ製、アデカスタブＰＥＰ−８）
Ｃ−５：ペンタエリスリトールテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）（アデカ製、アデカスタブＡＯ−４１２Ｓ）
【０１７５】
［Ｄ］溶媒
Ｄ−１：メチルイソブチルケトン
Ｄ−２：ジエチレングリコールエチルメチルエーテル
Ｄ−３：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
【０１７６】
［Ｅ］エポキシ化合物
Ｅ−１：フェノールノボラック型エポキシ樹脂
Ｅ−２：ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（４，４’−イソプロピリデンジフェノールと１−クロロ−２，３−エポキシプロパンとの重縮合物）
Ｅ−３：ビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル
Ｅ−５：３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート
【０１７７】
［Ｆ］塩基性化合物
Ｆ−１：４−ジメチルアミノピリジン
Ｆ−２：４−メチルイミダゾール
【０１７８】
［Ｇ］界面活性剤
Ｇ−１：シリコーン系界面活性剤（東レダウコーニングシリコーン製、ＳＨ ８４００ ＦＬＵＩＤ）
Ｇ−２：フッ素系界面活性剤（ネオス製、フタージェントＦＴＸ−２１８）
【０１７９】
［実施例１］
［Ｄ］溶媒としての（Ｄ−１）に、［Ａ］共重合体としての（Ａ−１）を含む溶液（（Ａ−１）１００質量部（固形分）に相当する量）に、［Ｂ］化合物としての（Ｂ−１）３．０質量部、［Ｃ］ラジカル捕捉剤としての（Ｃ−１）０．５質量部、［Ｅ］エポキシ化合物としての（Ｅ−１）５．０質量部、及び［Ｇ］界面活性剤としての（Ｇ−１）０．２０質量部を混合し、孔径０．２μｍのメンブランフィルタで濾過することにより、ポジ型感光性樹脂組成物を調製した。
【０１８０】
［実施例２〜１０並びに比較例１及び２］
各成分の種類及び配合量を表１に記載の通りとした以外は、実施例１と同様に操作して各ポジ型感光性樹脂組成物を調製した。なお、表１中の「−」は、該当する成分を使用しなかったことを示す。また、表１中の使用した［Ｄ］溶媒の値は、混合溶媒とした場合の質量比である。
【０１８１】
＜評価＞
調製した各ポジ型感光性樹脂組成物を用いて、下記の評価を実施した。結果を表１にあわせて示す。
【０１８２】
［感度（Ｊ／ｍ２）］
５５０×６５０ｍｍのクロム成膜ガラス上に、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）を塗布し、６０℃にて１分間加熱した。このＨＭＤＳ処理後のクロム成膜ガラス上に、各ポジ型感光性樹脂組成物をスリットダイコーター（東京応化工業製、ＴＲ６３２１０５−ＣＬ）を用いて塗布し、到達圧力を１００Ｐａに設定して真空下で溶媒を除去した後、さらに９０℃において２分間プレベークすることによって、膜厚４．０μｍの塗膜を形成した。続いて、露光機（キヤノン製、ＭＰＡ−６００ＦＡ、ｇｈｉ線混合）を用い、１０μｍのコンタクトホールのパターンを有するマスクを介して、プロキシギャップ１０μｍで塗膜に対し露光量を変量として放射線を照射した。その後、０．５質量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液にて２５℃において７０秒間現像した。次いで、超純水で流水洗浄を行い、その後乾燥することにより、ＨＭＤＳ処理後のガラス基板上にパターンを形成した。このとき、１０μｍのコンタクトホール径にもっとも近い露光量を放射線感度とした。この値が５００（Ｊ／ｍ２）以下の場合に感度が良好と判断した。
【０１８３】
［塗膜の外観］
５５０×６５０ｍｍのクロム成膜ガラス上に、調製した各ポジ型感光性樹脂組成物をスリットダイコーター（東京応化工業製、ＴＲ６３２１０５−ＣＬ）を用いて塗布し０．５Ｔｏｒｒまで減圧乾燥した後、ホットプレート上で１００℃にて２分間プレベークして塗膜を形成し、さらに２，０００Ｊ／ｍ２の露光量で露光することにより、クロム成膜ガラスの上面からの膜厚が４μｍの膜を形成した。ナトリウムランプ下において、肉眼によりこの塗膜の外観の観察を行った。このとき、塗膜の全体における筋ムラ（塗布方向又はそれに交差する方向にできる一本または複数本の直線のムラ）、モヤムラ（雲状のムラ）、ピン跡ムラ（基板支持ピン上にできる点状のムラ）の出現状況を調べた。これらのムラのいずれもほとんど見えない場合を「Ａ」（良好と判断）、いずれかが少し見える場合を「Ｂ」（やや不良と判断）、はっきりと見える場合を「Ｃ」（不良と判断）とした。
【０１８４】
［膜厚変化率（％）］
無アルカリガラス基板上にＨＭＤＳを塗布し、３分間加熱した。スピンナーを用いて、各ポジ型感光性樹脂組成物を塗布した後、９０℃で２分間ホットプレート上でプレベークして膜厚４．１μｍの塗膜を形成した。得られた塗膜にコンタクトホールパターンのマスクを介して、露光ギャップを３０μｍとし、上記感度の評価と同様に操作して、露光を行った。次いで０．５質量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で２３℃、パドル法で現像を行った。このとき現像時間を５０秒、７０秒、９０秒と時間を変化させた。その後、超純水で８秒間リンスした。現像後の未露光部分の膜厚について測定し、この値と下記式より膜厚変化率（％）を算出した。
現像後の膜厚変化率（％）＝（現像後の膜厚／現像前の膜厚）×１００
現像時間を５０秒、７０秒、９０秒と変化させた場合でも、膜厚変化率が９０％以上の場合、現像時間に対する膜厚減少量を抑制でき、良好と判断した。
【０１８５】
［コンタクトホールの形状安定性（μｍ）］
上記膜厚変化率の評価と同様に操作して無アルカリガラス基板上に塗膜を形成し、プレーク温度を８０℃、９０℃、１００℃と変化させた。その後、現像時間を９０秒とした以外は上記膜厚変化率の評価同様に操作して、マスクサイズが１０μｍのコンタクトホールのマスクを介した露光の後、現像し、コンタクトホールパターンを形成した。その後、２２０℃で４５分間、クリーンオーブンでポストベークを行った。それぞれのプレベーク温度条件で形成したコンタクトホールパターンをＳＥＭ（走査電子顕微鏡）で観察し、形状及びコンタクトホールパターンのサイズを測長した。コンタクトホールパターンのサイズが９．０μｍ〜１１．０μｍである場合、プレベーク温度の変化に対するコンタクトホールの形状安定性（μｍ）が良好と判断した。
【０１８６】
［耐光性（％）］
上記膜厚変化率の評価と同様に操作して無アルカリガラス基板上に各ポジ型感光性樹脂組成物を塗膜し、９０℃で２分間プレベークを行い、膜厚３．０μｍの塗膜を形成した。その後、露光はせず、０．５質量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液にて２５℃において７０秒間現像した。その後、２２０℃で４５分間、クリーンオーブンでポストベークを行った。得られた硬化膜の４００ｎｍにおける光線透過率を測定した（Ｔ１）。その後、上記硬化膜にＸｅランプ（照度１８０Ｗ／ｍ２）で７０時間照射した。照射後の硬化膜の４００ｎｍにおける光線透過率を測定した（Ｔ２）。これらの値と下記式より、照射前後での光線透過率の変化率（％）を下記式により算出し、これを耐光性（％）とした。
耐光性（％）＝｛（Ｔ１−Ｔ２）／Ｔ１｝×１００
値が５％以下の場合、耐光性が良好と判断した。
【０１８７】
［耐熱性（％）］
上記耐光性の評価で得られた、ポストベーク後の硬化膜のＴＧＡ（熱重量分析）を、ティー・エイ・インスツルメント製Ｑ５０００ＳＡを用いて行った。室温から２５０℃まで２０分で昇温し、その後１０分間２５０℃で保持し重量減少を測定した。測定前の室温時の重量を１００％として、測定後の重量減少率（％）を測定し耐熱性（％）とした。値が５％以下の場合、熱による重量減少が小さく耐熱性が良好と判断した。
【０１８８】
［保存安定性（％）］
上記膜厚変化率と同様に操作して、調製直後の各ポジ型感光性樹脂組成物の塗膜を形成し膜厚を測定した（下記式において、「調製直後の膜厚」と称する）。また、１４日間３０℃で各ポジ型感光性樹脂組成物を保存し１４日後に同様に形成した塗膜の膜厚を測定した（下記式において、「１４日後の膜厚」と称する）。膜厚増加率（％）を下記式から算出し、保存安定性（％）とした。
保存安定性（％）＝｛（１４日後の膜厚−調製直後の膜厚）／調製直後の膜厚｝×１００
値が５％以下の場合、保存安定性が良好と判断した。
【０１８９】
【表１】
【０１９０】
表１の結果から明らかなように当該ポジ型感光性樹脂組成物を使用した実施例１〜１０は、比較例１及び２の組成物と比べ、良好な感度及び保存安定性を有し、かつ現像時間に対する未露光部の膜厚変化量が少ないことがわかった。また、当該ポジ型感光性樹脂組成物から形成された表示素子用層間絶縁膜は耐光性及び耐熱性に加え、コンタクトホールの形状安定性にも優れることがわかった。
【産業上の利用可能性】
【０１９１】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、良好な感度及び保存安定性に加え、現像時間に対する未露光部の膜厚変化量が抑制でき、優れた耐光性及び耐熱性を有する表示素子用層間絶縁膜を提供することができる。また、コンタクトホール径の安定性を向上することができる。膜厚減少量を抑制できることから、結果として生産プロセスマージンを向上でき、歩留まりの向上を達成できる。さらに、感光性を利用した露光、現像、加熱によってパターンを形成することによって、容易に微細かつ精巧なパターンを有する表示素子用層間絶縁膜を形成できる。従って、形成された表示素子用層間絶縁膜は、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子等の表示素子に好適に使用できる。
【技術分野】
【０００１】
本発明はポジ型感光性樹脂組成物、表示素子用層間絶縁膜及びその形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示素子には、一般に層状に配置される配線の間を絶縁する目的で表示素子用層間絶縁膜が設けられている。表示素子用層間絶縁膜の形成材料としては、必要なパターン形状を得るための工程数が少なく、また得られる表示素子用層間絶縁膜に高度な平坦性が求められることからポジ型感光性樹脂組成物が幅広く使用されている。このようなポジ型感光性樹脂組成物には良好な感度及び保存安定性が求められ、また表示素子用層間絶縁膜には上記平坦性に加え、優れた耐光性、耐熱性等が求められる。
【０００３】
このようなポジ型感光性樹脂組成物としては、アクリル系樹脂が広く採用されており、例えば、架橋剤、酸発生剤及びアルカリ可溶性樹脂を含有する組成物が知られている（特開２００４−４６６９号公報参照）。上記アルカリ可溶性樹脂とは、保護基（アルカリ水溶液に不溶又は難溶であって、酸の作用により解離し得る基）を有し、この保護基が露光により解離した後に現像液であるアルカリ水溶液に可溶性となる樹脂をいう。また、他のポジ型感光性樹脂組成物としては、アセタール構造及び／又はケタール構造並びにエポキシ基を含有する樹脂及び酸発生剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物が提案されている（特開２００４−２６４６２３号公報参照）。
【０００４】
しかしながら、従来のポジ型感光性樹脂組成物を用いて表示素子用層間絶縁膜の形成を試みた場合、現像工程における未露光部の膜厚減少量が大きく、表示素子用層間絶縁膜の平坦性が損なわれたり、設計膜厚からのずれが生じる不都合がある。また、この不都合を回避するためには、現像時間を厳格に調整する必要があり、生産プロセスの非効率化につながる。
【０００５】
このような状況に鑑み、良好な感度及び保存安定性を有するポジ型感光性樹脂組成物、並びに優れた耐光性及び耐熱性に加え、現像時間に対する未露光部の膜厚変化量が少ない表示素子用層間絶縁膜の開発が望まれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−４６６９号公報
【特許文献２】特開２００４−２６４６２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであり、良好な感度及び保存安定性に加え、現像時間に対する未露光部の膜厚変化量が少ないポジ型感光性樹脂組成物、優れた耐光性及び耐熱性を有する表示素子用層間絶縁膜、並びにその形成方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するためになされた発明は、
［Ａ］下記式（１）で表される基を有する構造単位（Ｉ）、及び１以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する構造単位（ＩＩ）を含む共重合体（以下、「［Ａ］共重合体」とも称する）、
［Ｂ］下記式（２）で表されるオキシムスルホネート基を有する化合物（以下、「［Ｂ］化合物」とも称する）、
［Ｃ］ラジカル捕捉剤、並びに
［Ｄ］溶媒
を含有するポジ型感光性樹脂組成物である。
【化１】
（式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基である。但し、上記アルキル基、シクロアルキル基及びアリール基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。また、Ｒ１及びＲ２が共に水素原子である場合はない。Ｒ３は、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基又は−Ｍ（Ｒ４）３で表される基である。このＭは、Ｓｉ、Ｇｅ又はＳｎである。Ｒ４は、それぞれ独立してアルキル基である。また、Ｒ１とＲ３とが連結して環状エーテル構造を形成してもよい。但し、Ｒ３で表されるこれらの基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。）
【化２】
（式（２）中、Ｒ５は、直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基又はアリール基である。但し、上記アルキル基及びアリール基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。）
【０００９】
構造単位（Ｉ）が有する上記式（１）で表される基は、酸の存在下で解離して極性基を生じる基（酸解離性基）として存在しているので、放射線の照射により［Ｂ］化合物から生じた酸により解離し、その結果アルカリ不溶性であった［Ａ］共重合体はアルカリ可溶性となる。また、［Ａ］共重合体が上記特定構造を有する構造単位（ＩＩ）を含むことで、分子鎖間で架橋構造を形成し、良好な感度及び保存安定性に加え、現像時間に対する未露光部の膜厚変化量を抑制できると共に、優れた耐光性及び耐熱性を有する表示素子用層間絶縁膜の形成を可能とする。さらに、当該ポジ型感光性樹脂組成物が含有する［Ｃ］ラジカル捕捉剤は、露光若しくは加熱により発生したラジカル、又は酸化によって生成した過酸化物の分解ができ重合体分子の結合の解裂を防止することができる成分である。その結果、当該ポジ型感光性樹脂組成物は膜厚変化量をより抑制できる。
【００１０】
上記式（１）で表される基において、上記Ｒ１とＲ３とが連結して環状エーテル構造を形成していることが好ましい。また、上記式（１）で表される基は、下記式（１−１）で表される基であることが好ましい。
【化３】
【００１１】
上記式（１）で表される基を上記特定環構造とすることで、現像液に対して疎水性が高くなり、膜厚減少量をより抑制できる。
【００１２】
［Ａ］共重合体における構造単位（ＩＩ）の含有率は、５モル％以上６０モル％以下であることが好ましい。［Ａ］共重合体が構造単位（ＩＩ）を上記特定含有率で含むことにより、分子鎖間の架橋構造がより促進され、結果としてより良好な感度及び保存安定性に加え、現像時間に対する未露光部の膜厚変化量をより抑制できると共に、より優れた耐光性及び耐熱性を有する表示素子用層間絶縁膜の形成を可能とする。
【００１３】
構造単位（ＩＩ）は、２以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有することが好ましい。構造単位（ＩＩ）が、２以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有することでより良好な感度及び保存安定性に加え、現像時間に対する未露光部の膜厚変化量をより抑制でき、さらに、コンタクトホールの形状安定性についてもより向上することができる。また、優れた耐光性及び耐熱性を有する表示素子用層間絶縁膜の形成を可能とする。
【００１４】
［Ｄ］溶媒は、ケトン類、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールアルキルエーテル類及びプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類からなる群より選択される少なくとも１種の溶媒であることが好ましい。上記特定溶媒を選択することで、大型基板をスピンレス法で塗布する場合等に、塗膜面の塗布ムラを抑制できる。
【００１５】
当該ポジ型感光性樹脂組成物は、［Ｅ］分子中に２以上のエポキシ基を有する化合物（以下、「［Ｅ］エポキシ化合物」とも称する）をさらに含有することが好ましい。当該ポジ型感光性樹脂組成物が、［Ｅ］エポキシ化合物をさらに含有することで、当該ポジ型感光性樹脂組成物から形成される表示素子用層間絶縁膜の耐光性及び耐熱性をより向上することができる。
【００１６】
当該ポジ型感光性樹脂組成物は、表示素子用層間絶縁膜の形成材料として好適である。また、本発明には、当該ポジ型感光性樹脂組成物から形成される表示素子用層間絶縁膜も好適に含まれる。
【００１７】
本発明の表示素子用層間絶縁膜の形成方法は、
（１）当該ポジ型感光性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程、
（２）上記塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（３）上記放射線が照射された塗膜を現像する工程、及び
（４）上記現像された塗膜を加熱する工程
を有する。
【００１８】
当該形成方法によると、優れた耐光性及び耐熱性に加え、コンタクトホール径の安定性が高い表示素子用層間絶縁膜を形成できる。また、現像時間に対する未露光部の膜厚減少量を抑制できることから、結果として生産プロセスマージンを向上でき、歩留まりの向上を達成できる。さらに、感光性を利用した露光、現像、加熱によってパターンを形成することによって、容易に微細かつ精巧なパターンを有する表示素子用層間絶縁膜を形成できる。従って、形成された表示素子用層間絶縁膜は、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子等の表示素子に好適に使用できる。
【発明の効果】
【００１９】
以上説明したように、本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、良好な感度及び保存安定性に加え、現像時間に対する未露光部の膜厚変化量を抑制でき、優れた耐光性及び耐熱性を有する表示素子用層間絶縁膜を提供することができる。また、コンタクトホール径の安定性を向上することができる。膜厚減少量を抑制できることから、結果として生産プロセスマージンを向上でき、歩留まりの向上を達成できる。さらに、感光性を利用した露光、現像、加熱によってパターンを形成することによって、容易に微細かつ精巧なパターンを有する表示素子用層間絶縁膜を形成できる。従って、形成された表示素子用層間絶縁膜は、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子等の表示素子に好適に使用できる。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
＜ポジ型感光性樹脂組成物＞
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、［Ａ］共重合体、［Ｂ］化合物、［Ｃ］ラジカル捕捉剤及び［Ｄ］溶媒を含有する。また、当該ポジ型感光性樹脂組成物は好適成分として、［Ｅ］エポキシ化合物を含有してもよい。さらに、本発明の効果を損なわない限りにおいて、その他の任意成分を含有してもよい。以下、各成分を詳述する。
【００２１】
＜［Ａ］共重合体＞
［Ａ］共重合体は、上記式（１）で表される基を有する構造単位（Ｉ）、及び１以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する構造単位（ＩＩ）を含む共重合体である。また、［Ａ］共重合体は本発明の効果を損なわない範囲において、その他の構造単位を含んでいてもよい。なお、［Ａ］共重合体は、各構造単位を２種以上含んでいてもよい。以下、各構造単位を詳述する。
【００２２】
［構造単位（Ｉ）］
構造単位（Ｉ）は、上記式（１）で表される基を有する。上記式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基である。但し、上記アルキル基、シクロアルキル基及びアリール基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。また、Ｒ１及びＲ２が共に水素原子である場合はない。Ｒ３は、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基又は−Ｍ（Ｒ４）３で表される基である。このＭは、Ｓｉ、Ｇｅ又はＳｎである。Ｒ４は、それぞれ独立してアルキル基である。また、Ｒ１とＲ３とが連結して環状エーテル構造を形成してもよい。但し、Ｒ３で表されるこれらの基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。
【００２３】
上記Ｒ１及びＲ２で表されるアルキル基としては、例えば炭素数１〜３０の直鎖状及び分岐状のアルキル基等が挙げられる。上記炭素数１〜３０の直鎖状及び分岐状のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−オクタデシル基等の直鎖状アルキル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ネオペンチル基、２−ヘキシル基、３−ヘキシル基等の分岐状のアルキル基等が挙げられる。
【００２４】
上記Ｒ１及びＲ２で表されるシクロアルキル基としては、例えば炭素数３〜２０のシクロアルキル基等が挙げられる。また、この炭素数３〜２０のシクロアルキル基は、多環でもよい。上記炭素数３〜２０のシクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル、シクロオクチル、ボルニル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等が挙げられる。
【００２５】
上記Ｒ１及びＲ２で表されるアリール基としては、例えば炭素数６〜１４のアリール基等が挙げられる。上記炭素数６〜１４のアリール基は、単環でもよく、単環が連結した構造であってもよく、縮合環であってもよい。上記炭素数６〜１４のアリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【００２６】
上記Ｒ１及びＲ２で表される置換されていてもよいアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基の置換基としては、例えばハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、カルボニル基、シクロアルキル基（例えばシクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル、シクロオクチル、ボルニル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等）、アリール基（例えばフェニル基、ナフチル基等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基等の炭素数１〜２０のアルコキシ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ｉ−ブチリル基等の炭素数２〜２０のアシル基等）、アシロキシ基（例えば、アセトキシ基、エチリルオキシ基、ブチリルオキシ基、ｔ−ブチリルオキシ基、ｔ−アミリルオキシ基等の炭素数２〜１０のアシロキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基等の炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基）、ハロアルキル基（例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−オクタデシル基等の直鎖状アルキル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ネオペンチル基、２−ヘキシル基、３−ヘキシル基等の分岐状のアルキル基等のアルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等のシクロアルキル基の水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置換された基等）等が挙げられる。
【００２７】
上記Ｒ３及びＲ４で表されるアルキル基、並びにＲ３で表されるシクロアルキル基及びアリール基としては、例えば上記Ｒ１及びＲ２で例示した基が適用できる。これらの基の置換基としては、例えば上記Ｒ１及びＲ２で表される置換されていてもよいアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基の置換基として例示した基が適用できる。上記Ｒ３で表されるアラルキル基としては、例えば炭素数７〜２０のアラルキル基等が挙げられる。上記炭素数７〜２０のアラルキル基としては、例えばベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等が挙げられる。
【００２８】
上記Ｒ１とＲ３とが連結して形成してもよい環状エーテル構造を有する基としては、例えば２，２−オキセタンジイル基、２，２−テトラヒドロフランジイル基、２−テトラヒドロピランジイル基、２−ジオキサンジイル基等が挙げられる。
【００２９】
上記Ｒ１及びＲ３は、上記Ｒ１とＲ３とが連結して環状エーテル構造を形成していることが好ましい。また、上記式（１）で表される基は、上記式（１−１）で表される基であることが好ましい。上記式（１）で表される基を上記特定環構造とすることで、現像液に対して疎水性が高くなり、膜厚減少量をより抑制できる。
【００３０】
構造単位（Ｉ）としては、例えば下記式（１−２）〜（１−４）で表される構造単位等が挙げられる。
【００３１】
【化４】
【００３２】
上記式（１−２）〜（１−４）中、Ｒ’は、水素原子又はメチル基である。Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、上記式（１）と同義である。
【００３３】
上記式（１−２）〜（１−４）で表される構造単位（Ｉ）を与える単量体としては、例えばメタクリル酸１−エトキシエチル、メタクリル酸１−メトキシエチル、メタクリル酸１−ｎ−ブトキシエチル、メタクリル酸１−イソブトキシエチル、メタクリル酸１−ｔ−ブトキシエチル、メタクリル酸１−（２−クロルエトキシ）エチル、メタクリル酸１−（２−エチルヘキシルオキシ）エチル、メタクリル酸１−ｎ−プロポキシエチル、メタクリル酸１−シクロヘキシルオキシエチル、メタクリル酸１−（２−シクロヘキシルエトキシ）エチル、メタクリル酸１−ベンジルオキシエチル、メタクリル酸２−テトラヒドロピラニル、アクリル酸１−エトキシエチル、アクリル酸１−メトキシエチル、アクリル酸１−ｎ−ブトキシエチル、アクリル酸１−イソブトキシエチル、アクリル酸１−ｔ−ブトキシエチル、アクリル酸１−（２−クロルエトキシ）エチル、アクリル酸１−（２−エチルヘキシルオキシ）エチル、アクリル酸１−ｎ−プロポキシエチル、アクリル酸１−シクロヘキシルオキシエチル、アクリル酸１−（２−シクロヘキシルエトキシ）エチル、アクリル酸１−ベンジルオキシエチル、アクリル酸２−テトラヒドロピラニル、２，３−ジ（１−（トリメチルシラニルオキシ）エトキシ）カルボニル）−５−ノルボルネン、２，３−ジ（１−（トリメチルゲルミルオキシ）エトキシ）カルボニル）−５−ノルボルネン、２，３−ジ（１−メトキシエトキシカルボニル）−５−ノルボルネン、２，３−ジ（１−（シクロヘキシルオキシ）エトキシカルボニル）−５−ノルボルネン、２，３−ジ（１−（ベンジルオキシ）エトキシカルボニル）−５−ノルボルネン、ｐ又はｍ−１−エトキシエトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−メトキシエトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−ｎ−ブトキシエトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−イソブトキシエトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−（１，１−ジメチルエトキシ）エトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−（２−クロルエトキシ）エトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−（２−エチルヘキシルオキシ）エトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−ｎ−プロポキシエトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−シクロヘキシルオキシエトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−（２−シクロヘキシルエトキシ）エトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−ベンジルオキシエトキシスチレン等が挙げられる。なお、これらの単量体は単独又は２種以上を使用することができる。
【００３４】
これらのうち構造単位（Ｉ）を与える単量体としては、メタクリル酸１−ｎ−ブトキシエチル、メタクリル酸２−テトラヒドロピラニルが好ましい。
【００３５】
構造単位（Ｉ）を与える単量体は、市販のものを用いてもよいし、公知の方法で合成したものを用いることもできる。例えば、上記式（１−２）で表される構造単位（Ｉ）を与える単量体は、下記式に示すように（メタ）アクリル酸を酸触媒の存在下でビニルエーテルと反応させることにより合成することができる。
【００３６】
【化５】
【００３７】
上記式中、Ｒ’、Ｒ１及びＲ３は、上記式（１−２）と同義である。Ｒ２１及びＲ２２は、−ＣＨ（Ｒ２１）（Ｒ２２）として、上記式（１−２）におけるＲ２と同義である。
【００３８】
［Ａ］共重合体における構造単位（Ｉ）の含有率としては、［Ａ］共重合体に含まれる全構造単位に対して、１０質量％〜７０質量％が好ましく、２０質量％〜６０質量％がより好ましい。
【００３９】
［構造単位（ＩＩ）］
構造単位（ＩＩ）としては、１以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有していれば特に限定されない。
【００４０】
［Ａ］共重合体に構造単位（ＩＩ）を導入する方法としては、例えば１分子中に少なくとも１の水酸基を有する不飽和化合物を含む単量体の共重合体（以下、「［Ａ１］共重合体」とも称する）に、不飽和イソシアネート化合物を反応させる方法等が挙げられる。
【００４１】
［Ａ１］共重合体の合成に用いられる単量体（以下、「単量体（Ａ１）」とも称する）としては、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル、（メタ）アクリル酸ジヒドロキシアルキルエステル、（メタ）アクリル酸（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）アルキルエステル等が挙げられる。
【００４２】
上記（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルとしては、例えば（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチルエステル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピルエステル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチルエステル等が挙げられる。上記（メタ）アクリル酸ジヒドロキシアルキルエステルとしては、例えば（メタ）アクリル酸２，３−ジヒドロキシプロピルエステル、（メタ）アクリル酸１，３−ジヒドロキシプロピルエステル、（メタ）アクリル酸３，４−ジヒドロキシブチルエステル等が挙げられる。上記（メタ）アクリル酸（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）アルキルエステルとしては、例えば（メタ）アクリル酸２−（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）エチルエステル、（メタ）アクリル酸３−（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）プロピルエステル等が挙げられる。
【００４３】
これらの単量体（Ａ１）のうち、共重合反応性及びイソシアネート化合物との反応性の観点から、アクリル酸２−ヒドロキシエチルエステル、アクリル酸３−ヒドロキシプロピルエステル、アクリル酸４−ヒドロキシブチルエステル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチルエステル、メタクリル酸３−ヒドロキシプロピルエステル、メタクリル酸４−ヒドロキシブチルエステル、アクリル酸２，３−ジヒドロキシプロピルエステル、メタクリル酸２，３−ジヒドロキシプロピルエステルが好ましい。なお、これらの単量体は単独又は２種以上を使用することができる。
【００４４】
上記のようにして得られた［Ａ１］共重合体は、重合反応溶液のまま［Ａ］共重合体の合成に供してもよく、［Ａ１］共重合体を一旦溶液から分離したうえで［Ａ］共重合体の合成に供してもよい。
【００４５】
不飽和イソシアネート化合物としては、例えば（メタ）アクリル酸のイソシアネート基含有誘導体等が挙げられる。不飽和イソシアネート化合物としては、例えば２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチルイソシアネート、（メタ）アクリル酸２−（２−イソシアネートエトキシ）エチル、１，１−（ビス（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート等が挙げられる。なお、不飽和イソシアネート化合物は、単独又は２種以上を混合して使用することができる。
【００４６】
不飽和イソシアネート化合物の市販品としては、例えば２−アクリロイルオキシエチルイソシアネートの市販品としてカレンズＡＯＩ（昭和電工製）、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートの市販品としてカレンズＭＯＩ（昭和電工製）、メタクリル酸２−（２−イソシアネートエトキシ）エチルの市販品としてカレンズＭＯＩ−ＥＧ（昭和電工製）、１，１−（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネートの市販品としてカレンズＢＥＩ（昭和電工製）等が挙げられる。
【００４７】
これらの不飽和イソシアネート化合物のうち、［Ａ１］共重合体との反応性の観点から、２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、４−メタクリロイルオキシブチルイソシアネートまたはメタクリル酸２−（２−イソシアネートエトキシ）エチル、１，１−（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネートが好ましい。
【００４８】
［Ａ１］共重合体と不飽和イソシアネート化合物との反応は、必要に応じて適当な触媒の存在下において、好ましくは重合禁止剤を含む［Ａ１］共重合体の溶液に、室温又は加温下で、攪拌しつつ不飽和イソシアネート化合物を投入することによって実施することができる。
【００４９】
上記触媒としては、例えばジラウリン酸ジ−ｎ−ブチルすず（ＩＶ）等が挙げられる。上記重合禁止剤としては、例えばｐ−メトキシフェノール等が挙げられる。
【００５０】
［Ａ］共重合体に構造単位（ＩＩ）を導入する他の方法としては、例えば１分子中に少なくとも１のカルボキシル基を有する不飽和化合物を含む単量体の共重合体（以下、「［Ａ２］共重合体」とも称する）にビニルエーテル基及び（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物を反応させる方法等が挙げられる。
【００５１】
［Ａ２］共重合体の合成方法としては、材料の入手及び合成が容易な観点から、例えば、カルボキシル基含有単量体（以下、「単量体（Ａ２）」とも称する）を重合する方法等が挙げられる。
【００５２】
単量体（Ａ２）としては、例えば（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、マレイン酸モノエステル、イタコン酸モノエステル等が挙げられる。これらのうち（メタ）アクリル酸が好ましい。
【００５３】
ビニルエーテル基及び（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物としては、例えば下記式（４）で表される化合物等が挙げられる。
【００５４】
【化６】
【００５５】
上記式（４）中、Ｒ６は、水素原子又はメチル基である。Ｒ７は、２価の連結基である。Ｒ８は、水素原子又は１価の有機基である。
【００５６】
上記Ｒ７で表される２価の連結基としては、例えば、炭素数２〜１８の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基、炭素数２〜２０のアルコキシアルキレン基、炭素数２〜８のハロゲン化アルキレン基、末端水酸基を除くポリエチレングリコール骨格、末端水酸基を除くポリプロピレングリコール骨格、末端水酸基を除くポリブチレングリコール骨格、アリール基等が挙げられる。上記Ｒ８で表される１価の有機基としては、例えば炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素数６〜１１の置換されていてもよい芳香族基等が挙げられる。
【００５７】
上記式（４）で表されるビニルエーテル基及び（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物としては、例えば（メタ）アクリル酸２−ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１−メチル−２−ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシブチル、（メタ）アクリル酸１−メチル−３−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１−ビニロキシメチルプロピル、（メタ）アクリル酸２−メチル−３−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１，１−ジメチル−２−ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ビニロキシブチル、（メタ）アクリル酸１−メチル−２−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２−ビニロキシブチル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸６−ビニロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸３−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸２−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸ｐ−ビニロキシメチルフェニルメチル、（メタ）アクリル酸ｍ−ビニロキシメチルフェニルメチル、（メタ）アクリル酸ｏ−ビニロキシメチルフェニルメチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシイソプロポキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシイソプロポキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエトキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシイソプロポキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシエトキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシイソプロポキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエトキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシイソプロポキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシエトキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシイソプロポキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエトキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（イソプロペノキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（イソプロペノキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（イソプロペノキシエトキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（イソプロペノキシエトキシエトキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノビニルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリプロピレングリコールモノビニルエーテル等が挙げられる。なお、これらのビニルエーテル基及び（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物は単独又は２種以上を使用することができる。
【００５８】
これらのビニルエーテル基及び（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物のうち、上記式（４）で表される化合物が好ましく、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチルがより好ましい。なお、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチルの市販品としては、例えばアクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチルとしてのＶＥＥＡ、メタクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチルとしてのＶＥＥＭ（以上、日本触媒製）等が挙げられる。
【００５９】
［Ａ２］共重合体と、ビニルエーテル基及び（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物との付加反応としては特に限定されず、反応系中に添加することで実施できる。上記付加反応においては、［Ａ２］共重合体自体が触媒となるため、無触媒で反応を行うことができるが、触媒を併用することも可能である。
【００６０】
［Ａ］共重合体に構造単位（ＩＩ）を導入する他の方法としては、例えば単量体としての多官能（メタ）アクリレートを用いて、構造単位（Ｉ）等を与える単量体と共に共重合させる方法等が挙げられる。
【００６１】
多官能（メタ）アクリレートとしては、例えばエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジイルジメチレンジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルの両末端（メタ）アクリル酸付加物、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、フェノールノボラックポリグリシジルエーテルの（メタ）アクリレート等が挙げられる。なお、これらの単量体は単独又は２種以上を使用することができる。
【００６２】
多官能（メタ）アクリレートの市販品としては、例えばＳＡ１００２（三菱化学製）、ビスコート１９５、同２３０、同２６０、同２１５、同３１０、同２１４ＨＰ、同２９５、同３００、同３６０、同ＧＰＴ、同４００、同７００、同５４０、同３０００、同３７００（以上、大阪有機化学工業製）、カヤラッドＲ−５２６、ＨＤＤＡ、ＮＰＧＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＭＡＮＤＡ、Ｒ−５５１、Ｒ−７１２、Ｒ−６０４、Ｒ−６８４、ＰＥＴ−３０、ＧＰＯ−３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ−３３０、ＤＰＨＡ、ＤＰＨＡ−２Ｈ、ＤＰＨＡ−２Ｃ、ＤＰＨＡ−２Ｉ、Ｄ−３１０、Ｄ−３３０、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−３０、ＤＰＣＡ−６０、ＤＰＣＡ−１２０、ＤＮ−００７５、ＤＮ−２４７５、Ｔ−１４２０、Ｔ−２０２０、Ｔ−２０４０、ＴＰＡ−３２０、ＴＰＡ−３３０、ＲＰ−１０４０、ＲＰ−２０４０、Ｒ−０１１、Ｒ−３００、Ｒ−２０５（以上、日本化薬製）、アロニックスＭ−２１０、同Ｍ−２２０、同Ｍ−２３３、同Ｍ−２４０、同Ｍ−２１５、同Ｍ−３０５、同Ｍ−３０９、同Ｍ−３１０、同Ｍ−３１５、同Ｍ−３２５、同Ｍ−４００、同Ｍ−６２００、同Ｍ−６４００（以上、東亞合成製）、ライトアクリレートＢＰ−４ＥＡ、同ＢＰ−４ＰＡ、同ＢＰ−２ＥＡ、同ＢＰ−２ＰＡ、ＤＣＰ−Ａ（以上、共栄社化学製）、ニューフロンティアＢＰＥ−４、ＢＲ−４２Ｍ、ＧＸ−８３４５（以上、第一工業製薬製）、ＡＳＦ−４００（新日鐵化学製）、リポキシＳＰ−１５０６、同ＳＰ−１５０７、同ＳＰ−１５０９、同ＳＰ−４０１０、同ＳＰ−４０６０、ＶＲ−７７、（以上、昭和高分子製）、ＮＫエステルＡ−ＢＰＥ−４（新中村化学工業製）等が挙げられる。
【００６３】
これらの多官能（メタ）アクリレートのうち、分子中に２以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物、分子中に３以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物が好ましい。分子中に２以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物としては、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレートがより好ましい。分子中に３以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物としては、例えばトリ（メタ）アクリレート化合物、テトラ（メタ）アクリレート化合物、ペンタ（メタ）アクリレート化合物、ヘキサ（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。これらの３以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物のうち、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートが好ましい。
【００６４】
［Ａ］共重合体における構造単位（ＩＩ）の含有率としては［Ａ］共重合体に含まれる全構造単位に対して、５モル％以上６０モル％以下が好ましい。［Ａ］共重合体が構造単位（ＩＩ）を上記特定含有率で含むことにより、分子鎖間の架橋構造がより促進され、結果としてより良好な感度及び保存安定性に加え、現像時間に対する未露光部の膜厚変化量をより抑制できると共に、より優れた耐光性及び耐熱性を有する表示素子用層間絶縁膜の形成を可能とする。
【００６５】
構造単位（ＩＩ）は、２以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有することが好ましい。構造単位（ＩＩ）が、２以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有することでより良好な感度及び保存安定性に加え、現像時間に対する未露光部の膜厚変化量をより抑制でき、さらに、コンタクトホールの形状安定性についてもより向上することができる。また、優れた耐光性及び耐熱性を有する表示素子用層間絶縁膜の形成を可能とする。
【００６６】
［その他の構造単位］
［Ａ］共重合体は、本発明の効果を損なわない範囲において、構造単位（Ｉ）及び構造単位（ＩＩ）以外のその他の構造単位を含んでいてもよい。
【００６７】
その他の構造単位を与える単量体としては、例えば（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステル、（メタ）アクリル酸アリールエステル、（メタ）アクリル酸アラルキルエステル、不飽和ジカルボン酸ジアルキルエステル、ビニル芳香族化合物、共役ジエン化合物、その他の不飽和化合物等が挙げられる。
【００６８】
上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル等が挙げられる。上記（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステルとしては、例えば（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸２−メチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル、（メタ）アクリル酸２−（トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イルオキシ）エチル、（メタ）アクリル酸イソボロニル等が挙げられる。上記（メタ）アクリル酸アリールエステルとしては、例えばアクリル酸フェニル等が挙げられる。（メタ）アクリル酸アラルキルエステルとしては、例えば（メタ）アクリル酸ベンジル等が挙げられる。不飽和ジカルボン酸ジアルキルエステルとしては、例えばマレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル等が挙げられる。ビニル芳香族化合物としては、例えばスチレン、α−メチルスチレン等が挙げられる。共役ジエン化合物としては、例えば１，３−ブタジエン、イソプレン等が挙げられる。その他の不飽和化合物としては、例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド等が挙げられる。なお、これらの単量体は単独又は２種以上を使用することができる。
【００６９】
これらの単量体のうち、共重合反応性の観点から、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸メチル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸２−メチルグリシジル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル、スチレン、ｐ−メトキシスチレン、１，３−ブタジエンが好ましい。
【００７０】
［Ａ］共重合体のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）としては、好ましくは２．０×１０３〜１．０×１０５、より好ましくは５．０×１０３〜５．０×１０４である。［Ａ］共重合体のＭｗを上記特定範囲とすることで、当該ポジ型感光性樹脂組成物の感度及びアルカリ現像性を高めることができる。
【００７１】
［Ａ］共重合体のＧＰＣによるポリスチレン換算数平均分子量（Ｍｎ）としては、好ましくは２．０×１０３〜１．０×１０５、より好ましくは５．０×１０３〜５．０×１０４である。［Ａ］共重合体のＭｎを上記特定範囲とすることで、当該ポジ型感光性樹脂組成物の塗膜の硬化時の硬化反応性を向上させることができる。
【００７２】
［Ａ］共重合体の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）としては、好ましくは３．０以下、より好ましくは２．６以下である。［Ａ］共重合体のＭｗ／Ｍｎを３．０以下とすることで、得られる表示素子用層間絶縁膜の現像性を高めることができる。
【００７３】
なお、本明細書のＭｗ及びＭｎは、下記の条件によるＧＰＣにより測定した。
装置：ＧＰＣ−１０１（昭和電工製）
カラム：ＧＰＣ−ＫＦ−８０１、ＧＰＣ−ＫＦ−８０２、ＧＰＣ−ＫＦ−８０３及びＧＰＣ−ＫＦ−８０４を結合
移動相：テトラヒドロフラン
カラム温度：４０℃
流速：１．０ｍＬ／分
試料濃度：１．０質量％
試料注入量：１００μＬ
検出器：示差屈折計
標準物質：単分散ポリスチレン
【００７４】
［Ａ］共重合体は、上記各構造単位を与える単量体のラジカル共重合等により合成できる。［Ａ］共重合体の重合反応に用いられる溶媒としては、例えば後述する当該ポジ型感光性樹脂組成物の構成成分である［Ｄ］溶媒の項において例示する溶媒が適用できる。
【００７５】
重合反応に用いられる重合開始剤としては、一般的にラジカル重合開始剤として知られているものが使用できるが、例えば２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス−（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオン酸メチル）等のアゾ化合物；ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１，１’−ビス−（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン等の有機過酸化物；過酸化水素等が挙げられる。
【００７６】
［Ａ］共重合体の重合反応においては、分子量を調整するために分子量調整剤を使用することもできる。分子量調整剤としては、例えばクロロホルム、四臭化炭素等のハロゲン化炭化水素類；ｎ−ヘキシルメルカプタン、ｎ−オクチルメルカプタン、ｎ−ドデシルメルカプタン、ｔ−ドデシルメルカプタン、チオグリコール酸等のメルカプタン類；ジメチルキサントゲンスルフィド、ジイソプロピルキサントゲンジスルフィド等のキサントゲン類；ターピノーレン、α−メチルスチレンダイマー等が挙げられる。
【００７７】
＜［Ｂ］化合物＞
［Ｂ］化合物は、放射線の照射によって酸を発生する化合物である。放射線としては、例えば可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等を使用できる。当該ポジ型感光性樹脂組成物が［Ｂ］化合物を含むことで、当該ポジ型感光性樹脂組成物はポジ型の感放射線特性を発揮することができる。［Ｂ］化合物の当該ポジ型感光性樹脂組成物における含有形態としては、後述するような化合物の形態でも、［Ａ］共重合体又は他の重合体の一部として組み込まれた酸発生基の形態でも、これらの両方の形態でもよい。
【００７８】
［Ｂ］化合物としては、上記式（２）で表されるオキシムスルホネート基を有する化合物であれば特に限定されない。上記式（２）中、Ｒ５は、直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基又はアリール基である。但し、上記アルキル基及びアリール基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。
【００７９】
上記Ｒ５で表される直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基としては、炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐状のアルキル基が好ましい。上記炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐状のアルキル基は置換されていてもよく、置換基としては例えば炭素数１〜１０のアルコキシ基、７，７−ジメチル−２−オキソノルボルニル基等の有橋式脂環基を含む脂環式基等が挙げられる。なお、好ましい脂環式基としては、ビシクロアルキル基である。上記Ｒ５で表されるアリール基としては、炭素数６〜１１のアリール基が好ましく、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。上記アリール基は置換されていてもよく、置換基としては例えば炭素数１〜５のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
【００８０】
上記式（２）で表されるオキシムスルホネート基を含有する化合物としては、例えば下記式（３）で表されるオキシムスルホネート化合物等が挙げられる。
【００８１】
【化７】
【００８２】
上記式（３）中、Ｒ５は、上記式（２）と同義である。Ｘは、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子である。ｍは、０〜３の整数である。但し、Ｘが複数の場合、複数のＸは同一であっても異なっていてもよい。
【００８３】
上記Ｘで表され得るアルキル基としては、炭素数１〜４の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基が好ましい。上記Ｘで表されるアルコキシ基としては、炭素数１〜４の直鎖状又は分岐状のアルコキシ基が好ましい。上記Ｘで表されるハロゲン原子としては、塩素原子、フッ素原子が好ましい。ｍとしては、０又は１が好ましい。上記式（３）においては、ｍが１であり、Ｘがメチル基であり、Ｘの置換位置がオルトである化合物が好ましい。
【００８４】
上記（３）で表されるオキシムスルホネート化合物としては、例えば下記式（３−１）〜（３−５）でそれぞれ表される化合物等が挙げられる。
【００８５】
【化８】
【００８６】
上記化合物（３−１）〜（３−５）は、それぞれ（５−プロピルスルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル、（５−オクチルスルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル、（カンファースルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル、（５−ｐ−トルエンスルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル、（５−オクチルスルフォニルオキシイミノ）−（４−メトキシフェニル）アセトニトリルであり、市販品として入手できる。
【００８７】
［Ｂ］化合物としては、上記式（３）で表される化合物が好ましく、市販品として入手可能な、上記式（３−１）〜（３−５）で表される化合物がより好ましい。
【００８８】
当該ポジ型感光性樹脂組成物における［Ｂ］化合物の含有量としては、［Ｂ］化合物が化合物の形態である場合として、［Ａ］共重合体１００質量部に対して、好ましくは０．１質量部〜１０質量部、より好ましくは１質量部〜５質量部である。［Ｂ］化合物の含有量を上記特定範囲とすることで、当該ポジ型感光性樹脂組成物の感度を最適化し、透明性を維持しつつ耐光性及び耐熱性に優れる表示素子用層間絶縁膜を形成できる。
【００８９】
なお、［Ｂ］化合物としては、上記式（２）で表されるオキシムスルホネート基を有する化合物以外に、本発明の効果を損なわない範囲で、オニウム塩、スルホンイミド化合物、ハロゲン含有化合物、ジアゾメタン化合物、スルホン化合物、スルホン酸エステル化合物、カルボン酸エステル化合物等をさらに含有してもよい。なお、これらの［Ｂ］化合物は単独又は２種類以上を使用することができる。
【００９０】
オニウム塩としては、例えばジフェニルヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウム塩、スルホニウム塩、ベンゾチアゾニウム塩、テトラヒドロチオフェニウム塩等が挙げられる。ジフェニルヨードニウム塩としては、例えばジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート、ジフェニルヨードニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロアセテート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムカンファースルホン酸等が挙げられる。トリフェニルスルホニウム塩としては、例えばトリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムカンファースルホン酸、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、トリフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホナート、トリフェニルスルホニウムブチルトリス（２、６−ジフルオロフェニル）ボレート等が挙げられる。スルホニウム塩としては、例えばアルキルスルホニウム塩、ベンジルスルホニウム塩、ジベンジルスルホニウム塩、置換ベンジルスルホニウム塩等が挙げられる。アルキルスルホニウム塩としては、例えば４−アセトキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−アセトキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル−４−（ベンジルオキシカルボニルオキシ）フェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル−４−（ベンゾイルオキシ）フェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル−４−（ベンゾイルオキシ）フェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル−３−クロロ−４−アセトキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。ベンジルスルホニウム塩としては、例えばベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４−アセトキシフェニルベンジルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−４−メトキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−２−メチル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−３−クロロ−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。ジベンジルスルホニウム塩としては、例えばジベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４−アセトキシフェニルジベンジルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル−４−メトキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル−３−クロロ−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジベンジル−３−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−４−メトキシベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。置換ベンジルスルホニウム塩としては、例えばｐ−クロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−ニトロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−クロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ｐ−ニトロベンジル−３−メチル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、３，５−ジクロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｏ−クロロベンジル−３−クロロ−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。ベンゾチアゾニウム塩としては、例えば３−ベンジルベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジルベンゾチアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、３−ベンジルベンゾチアゾニウムテトラフルオロボレート、３−（ｐ−メトキシベンジル）ベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジル−２−メチルチオベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジル−５−クロロベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。テトラヒドロチオフェニウム塩としては、例えば４，７−ジ−ｎ−ブトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム−１，１，２，２−テトラフルオロ−２−（ノルボルナン−２−イル）エタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム−２−（５−ｔ−ブトキシカルボニルオキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム−２−（６−ｔ−ブトキシカルボニルオキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート等が挙げられる。
【００９１】
スルホンイミド化合物としては、例えばＮ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（２−フルオロフェニルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（フェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（ノナフルオロブタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（フェニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ペンタフルオロエチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ヘプタフルオロプロピルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ノナフルオロブチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（エチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（プロピルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ブチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ペンチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ヘキシルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ヘプチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（オクチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ノニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド等が挙げられる
【００９２】
ハロゲン含有化合物としては、例えば、ハロアルキル基含有炭化水素化合物、ハロアルキル基含有ヘテロ環状化合物等が挙げられる。
【００９３】
ジアゾメタン化合物としては、例えば、ビス（トリフルオロメチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（フェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｐ−トリルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（２，４−キシリルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｐ−クロロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、メチルスルホニル−ｐ−トルエンスルホニルジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル（１，１−ジメチルエチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（１，１−ジメチルエチルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル（ベンゾイル）ジアゾメタン等が挙げられる。
【００９４】
スルホン化合物としては、例えばβ−ケトスルホン化合物、β−スルホニルスルホン化合物、ジアリールジスルホン化合物等が挙げられる。
【００９５】
スルホン酸エステル化合物としては、例えば、アルキルスルホン酸エステル、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホネート等が挙げられる。
【００９６】
カルボン酸エステル化合物としては、例えばカルボン酸ｏ−ニトロベンジルエステル等が挙げられる。
【００９７】
＜［Ｃ］ラジカル捕捉剤＞
［Ｃ］ラジカル捕捉剤は、当該ポジ型感光性樹脂組成物において露光若しくは加熱により発生したラジカル、又は酸化によって生成した過酸化物の分解ができ重合体分子の結合の解裂を防止することができる成分である。その結果、当該ポジ型感光性樹脂組成物から得られる表示素子用層間絶縁膜は、当該ポジ型感光性樹脂組成物は膜厚変化量をより抑制できる。
【００９８】
［Ｃ］ラジカル捕捉剤としては、例えばヒンダードフェノール構造を有する化合物、ヒンダードアミン構造を有する化合物、アルキルホスファイト構造を有する化合物、チオエーテル構造を有する化合物等が挙げられる。
【００９９】
上記ヒンダードフェノール構造を有する化合物としては、例えばペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、チオジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイルビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）、３，３’，３’，５’，５’−ヘキサ−ｔｅｒｔ−ブチル−ａ，ａ’，ａ’−（メシチレン−２，４，６−トリイル）トリ−ｐ−クレゾール、４，６−ビス（オクチルチオメチル）−ｏ−クレゾール、４，６−ビス（ドデシルチオメチル）−ｏ−クレゾール、エチレンビス（オキシエチレン）ビス［３−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ｍ−トリル）プロピオネート、ヘキサメチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，３，５−トリス［（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−キシリン）メチル］−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−（４，６−ビス（オクチルチオ）−１，３，５−トリアジン−２−イルアミン）フェノール等が挙げられる。
【０１００】
上記ヒンダードフェノール構造を有する化合物の市販品としては、例えばアデカスタブＡＯ−２０、同ＡＯ−３０、同ＡＯ−４０、同ＡＯ−５０、同ＡＯ−６０、同ＡＯ−７０、同ＡＯ−８０、同ＡＯ−３３０（以上、ＡＤＥＫＡ製）、ｓｕｍｉｌｉｚｅｒＧＭ、同ＧＳ、同ＭＤＰ−Ｓ、同ＢＢＭ−Ｓ、同ＷＸ−Ｒ、同ＧＡ−８０（以上、住友化学製）、ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０、同１０３５、同１０７６、同１０９８、同１１３５、同１３３０、同１７２６、同１４２５ＷＬ、同１５２０Ｌ、同２４５、同２５９、同３１１４、同５６５、ＩＲＧＡＭＯＤ２９５（以上、チバジャパン製）、ヨシノックスＢＨＴ、同ＢＢ、同２２４６Ｇ、同４２５、同２５０、同９３０、同ＳＳ、同ＴＴ、同９１７、同３１４（以上、エーピーアイコーポレーション製）等が挙げられる。
【０１０１】
上記ヒンダードアミン構造を有する化合物としては、例えば２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−クレゾール、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１−アクロイル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）デカンジオエート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート、４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１−［２−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチル］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−メチル−２−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）プロピオンアミド、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート等が挙げられる。
【０１０２】
上記ヒンダードアミン構造を有する化合物の市販品としては、例えばアデカスタブＬＡ−５２、同ＬＡ５７、同ＬＡ−６２、同ＬＡ−６７、同ＬＡ−６３Ｐ、同ＬＡ−６８ＬＤ、同ＬＡ−７７、同ＬＡ−８２、同ＬＡ−８７（以上、ＡＤＥＫＡ製）、ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ９Ａ（住友化学製）、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ１１９ＦＬ、同２０２０ＦＤＬ、同９４４ＦＤＬ、ＴＩＮＵＶＩＮ６２２ＬＤ、同１４４、同７６５、同７７０ＤＦ（チバジャパン製）等が挙げられる。
【０１０３】
上記アルキルホスファイト構造を有する化合物としては、例えばトリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ホスファイト、トリス〔２，４，６−トリス（α−フェニルエチル）〕ホスファイト、トリス（ｐ−２−ブテニルフェニル）ホスファイト、ビス（ｐ−ノニルフェニル）シクロヘキシルホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジ（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリストールジホスファイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチル−１−フェニルオキシ）（２−エチルヘキシルオキシ）ホスホラス、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、４，４’−イソプロピリデ−ジフェノールアルキルホスファイト、テトラトリデシル−４，４’−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）ジホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンホスファイト、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニルフェニルペンタエリスリトールジホスファイト、２，６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニルフェニルペンタエリスリトールジホスファイト、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェニルステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（２，６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−４−メチルフェニルフェニルペンタエリスリトールジホスファイト等が挙げられる。
【０１０４】
アルキルホスファイト構造を有する化合物の市販品としては、例えばアデカスタブＰＥＰ−４Ｃ、同ＰＥＰ−８、同ＰＥＰ−８Ｗ、同ＰＥＰ−２４Ｇ、同ＰＥＰ−３６、同ＨＰ−１０、同２１１２、同２６０、同５２２Ａ、同１１７８、同１５００、同Ｃ、同１３５Ａ、同３０１０、同ＴＰＰ（以上、ＡＤＥＫＡ製）、ＩＲＧＡＦＯＳ１６８（チバジャパン製）等が挙げられる。
【０１０５】
上記チオエーテル構造を有する化合物としては、例えばジラウリルチオジプロピオネート、ジトリデシルチオジプロピオネート、ジミリスチルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−オクタデシルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−ミリスチルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−ステアリルチオプロピオネート）等が挙げられる
【０１０６】
チオエーテル構造を有する化合物の市販品としては、例えばアデカスタブＡＯ−４１２Ｓ、同ＡＯ−５０３（以上、ＡＤＥＫＡ製）、ｓｕｍｉｌｉｚｅｒＴＰＬ−Ｒ、同ＴＰＭ、同ＴＰＳ、同ＴＰ−Ｄ、同ＭＢ（以上、住友化学製）、ＩＲＧＡＮＯＸＰＳ８００ＦＤ、同８０２ＦＤ（以上、チバジャパン製）、ＤＬＴＰ、ＤＳＴＰ、ＤＭＴＰ、ＤＴＴＰ（以上、エーピーアイコーポレーション製）等が挙げられる。
【０１０７】
これらの［Ｃ］ラジカル捕捉剤のうち、ヒンダードフェノール構造を有する化合物が好ましく、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−クレゾールがより好ましい。
【０１０８】
これらの化合物は、単独又は２種以上を使用することができる。当該ポジ型感光性樹脂組成物において、［Ｃ］ラジカル捕捉剤の含有量としては、［Ａ］共重合体１００質量部に対して、好ましくは０．１質量部以上１０質量部以下、より好ましくは０．２質量部以上５質量部以下である。［Ｃ］ラジカル捕捉剤の含有量を上記特定範囲内とすることで、当該ポジ型感光性樹脂組成物は膜厚変化量をより抑制できる。
【０１０９】
＜［Ｄ］溶媒＞
［Ｄ］溶媒としては、各成分を均一に溶解又は分散し、各成分と反応しないものが好適に用いられる。［Ｄ］溶媒としては、例えばアルコール類、エーテル類、グリコールエーテル、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート、芳香族炭化水素類、ケトン類、他のエステル類等が挙げられる。なお、これらの溶媒は、単独又は２種以上を使用することができる。
【０１１０】
アルコール類としては、例えばメタノール、エタノール、ベンジルアルコール、２−フェニルエチルアルコール、３−フェニル−１−プロパノール等が挙げられる。
【０１１１】
エーテル類としては、例えばテトラヒドロフラン等が挙げられる。
【０１１２】
グリコールエーテルとして、例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等が挙げられる。
【０１１３】
エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類としては、例えばメチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等が挙げられる。
【０１１４】
ジエチレングリコールアルキルエーテルとしては、例えばジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等が挙げられる。
【０１１５】
プロピレングリコールモノアルキルエーテルとしては、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。
【０１１６】
プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類としては、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等が挙げられる。
【０１１７】
プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネートとしては、例えばプロピレンモノグリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノブチルエーテルプロピオネート等が挙げられる。
【０１１８】
芳香族炭化水素類としては、例えばトルエン、キシレン等が挙げられる。
【０１１９】
ケトン類としては、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等が挙げられる。
【０１２０】
他のエステル類としては、例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブトキシプロピオン酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エチル、２−ブトキシプロピオン酸プロピル、２−ブトキシプロピオン酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸プロピル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−プロポキシプロピオン酸メチル、３−プロポキシプロピオン酸エチル、３−プロポキシプロピオン酸プロピル、３−プロポキシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メチル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ブトキシプロピオン酸プロピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチル等が挙げられる。
【０１２１】
これらの溶媒のうち、ケトン類、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールアルキルエーテル類及びプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類からなる群より選択される少なくとも１種の溶媒が好ましく、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルイソブチルケトンがより好ましい。上記特定溶媒を選択することで、大型基板をスピンレス法で塗布する場合等に、塗膜面の塗布ムラを抑制できる。
【０１２２】
＜［Ｅ］エポキシ化合物＞
当該ポジ型感光性樹脂組成物は、好適成分として［Ｅ］エポキシ化合物をさらに含有することが好ましい。当該ポジ型感光性樹脂組成物が、［Ｅ］エポキシ化合物をさらに含有することで、当該ポジ型感光性樹脂組成物から形成される表示素子用層間絶縁膜の耐光性及び耐熱性をより向上することができる。
【０１２３】
［Ｅ］エポキシ化合物としては、分子中に２以上のエポキシ基を有する化合物であれば特に限定されない。なお、本明細書にいうエポキシ基とは、オキシラニル基（１，２−エポキシ構造）及びオキセタニル基（１，３−エポキシ構造）を含む概念である。
【０１２４】
オキシラニル基を有する［Ｅ］エポキシ化合物としては、例えば
ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（４，４’−イソプロピリデンジフェノールと１−クロロ−２，３−エポキシプロパンとの重縮合物）、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡＤジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル等のビスフェノール化合物のジグリシジルエーテル；
１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル；
エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに１種又は２種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル；
フェノールノボラック型エポキシ樹脂；
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂；
ポリフェノール型エポキシ樹脂；
環状脂肪族エポキシ樹脂；
脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル；
高級脂肪酸のグリシジルエステル；
エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油等が挙げられる。
【０１２５】
オキセタニル基を有する［Ｅ］エポキシ化合物としては、例えば１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、ビス｛［１−エチル（３−オキセタニル）］メチル｝エーテル、ビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル等が挙げられる。
【０１２６】
その他、分子中に２以上の３，４−エポキシシクロヘキシル基を有する化合物としては、例えば３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３’，４’−エポキシ−６’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、ラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等が挙げられる。
【０１２７】
［Ｅ］エポキシ化合物の市販品としては、例えばエピコート１００１、同１００２、同１００３、同１００４、同１００７、同１００９、同１０１０、同８２８（以上、ジャパンエポキシレジン製）等のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂；エピコート８０７（ジャパンエポキシレジン製）等のビスフェノールＦ型エポキシ樹脂；エピコート１５２、同１５４、同１５７Ｓ６５（以上、ジャパンエポキシレジン製）、ＥＰＰＮ２０１、同２０２（以上、日本化薬製）等のフェノールノボラック型エポキシ樹脂；ＥＯＣＮ１０２、同１０３Ｓ、同１０４Ｓ、１０２０、１０２５、１０２７（以上、日本化薬製）、エピコート１８０Ｓ７５（ジャパンエポキシレジン製）等のクレゾールノボラック型エポキシ樹脂；
エピコート１０３２Ｈ６０、同ＸＹ−４０００（以上、ジャパンエポキシレジン製）等のポリフェノール型エポキシ樹脂；ＣＹ−１７５、同１７７、同１７９、アラルダイトＣＹ−１８２、同１９２、１８４（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）、ＥＲＬ−４２３４、４２９９、４２２１、４２０６（以上、Ｕ．Ｃ．Ｃ製）、ショーダイン５０９（昭和電工製）、エピクロン２００、同４００（以上、大日本インキ製）、エピコート８７１、同８７２（以上、ジャパンエポキシレジン製）、ＥＤ−５６６１、同５６６２（以上、セラニーズコーティング製）等の環状脂肪族エポキシ樹脂；エポライト１００ＭＦ（共栄社化学製）、エピオールＴＭＰ（日本油脂製）、１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、ビス｛［１−エチル（３−オキセタニル）］メチル｝エーテル等の脂肪族ポリグリシジルエーテル等が挙げられる。
【０１２８】
これらの［Ｅ］エポキシ化合物のうち、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（４，４’−イソプロピリデンジフェノールと１−クロロ−２，３−エポキシプロパンの重縮合物）、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、ビス｛［１−エチル（３−オキセタニル）］メチル｝エーテル、ビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートが好ましい。
【０１２９】
［Ｅ］エポキシ化合物は、単独又は２種以上を使用することができる。当該ポジ型感光性樹脂組成物における［Ｅ］エポキシ化合物の含有量としては、［Ａ］共重合体１００質量部に対して、好ましくは０．５質量部〜５０質量部であり、より好ましくは１質量部〜３０質量部である。［Ｅ］エポキシ化合物の含有量を上記特定範囲とすることで、表示素子用層間絶縁膜の耐光性及び耐熱性をより向上することできる。
【０１３０】
＜その他の任意成分＞
当該ポジ型感光性樹脂組成物は、上記［Ａ］〜［Ｅ］成分に加え、本発明の効果を損なわない範囲で必要に応じて［Ｆ］塩基性化合物、［Ｇ］界面活性剤、キノンジアジド化合物等のその他の任意成分を含有してもよい。これらのその他の任意成分は、単独で使用してもよいし、２種以上を混合して使用してもよい。以下、各成分を詳述する。
【０１３１】
＜［Ｆ］塩基性化合物＞
当該ポジ型感光性樹脂組成物が、［Ｆ］塩基性化合物を含有することで、露光により［Ｂ］化合物から発生した酸の拡散長を適度に制御することができパターン現像性を良好にできる。［Ｆ］塩基性化合物としては、化学増幅レジストで用いられるものから任意に選択して使用でき、例えば脂肪族アミン、芳香族アミン、複素環式アミン、４級アンモニウムヒドロキシド、カルボン酸４級アンモニウム塩等が挙げられる。
【０１３２】
脂肪族アミンとしては、例えばトリメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−ペンチルアミン、トリ−ｎ−ペンチルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン等が挙げられる。
【０１３３】
芳香族アミンとしては、例えばアニリン、ベンジルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ジフェニルアミン等が挙げられる。
【０１３４】
複素環式アミンとしては、例えばピリジン、２−メチルピリジン、４−メチルピリジン、２−エチルピリジン、４−エチルピリジン、２−フェニルピリジン、４−フェニルピリジン、Ｎ−メチル−４−フェニルピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、イミダゾール、ベンズイミダゾール、４−メチルイミダゾール、２−フェニルベンズイミダゾール、２，４，５−トリフェニルイミダゾール、ニコチン、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、キノリン、８−オキシキノリン、ピラジン、ピラゾール、ピリダジン、プリン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、４−メチルモルホリン、１，５−ジアザビシクロ［４，３，０］−５−ノネン、１，８−ジアザビシクロ［５，３，０］−７ウンデセン等が挙げられる。
【０１３５】
４級アンモニウムヒドロキシドとしては、例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−ｎ−ヘキシルアンモニウムヒドロキシド等が挙げられる。
【０１３６】
カルボン酸４級アンモニウム塩としては、例えばテトラメチルアンモニウムアセテート、テトラメチルアンモニウムベンゾエート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムアセテート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムベンゾエート等が挙げられる。
【０１３７】
これらの［Ｆ］塩基性化合物のうち、複素環式アミンが好ましく、４−ジメチルアミノピリジン、４−メチルイミダゾール、１，５−ジアザビシクロ［４，３，０］−５−ノネンがより好ましい。
【０１３８】
当該ポジ型感光性樹脂組成物における［Ｆ］塩基性化合物の含有量としては、［Ａ］共重合体１００質量部に対して０．００１質量部〜１質量部が好ましく、０．００５質量部〜０．２質量部がより好ましい。［Ｆ］塩基性化合物の含有量を上記特定範囲とすることで、パターン現像性がより向上する。
【０１３９】
＜［Ｇ］界面活性剤＞
［Ｇ］界面活性剤は、当該ポジ型感光性樹脂組成物の塗膜形成性をより向上させることができる。［Ｇ］界面活性剤としては、例えばフッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等が挙げられる。当該ポジ型感光性樹脂組成物が、［Ｇ］界面活性剤を含有することで、塗膜の表面平滑性を向上でき、その結果形成される表示素子用層間絶縁膜の膜厚均一性をより向上できる。
【０１４０】
フッ素系界面活性剤としては、末端、主鎖及び側鎖の少なくともいずれかの部位にフルオロアルキル基及び／又はフルオロアルキレン基を有する化合物が好ましく、例えば１，１，２，２−テトラフルオロｎ−オクチル（１，１，２，２−テトラフルオロｎ−プロピル）エーテル、１，１，２，２−テトラフルオロｎ−オクチル（ｎ−ヘキシル）エーテル、ヘキサエチレングリコールジ（１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロｎ−ペンチル）エーテル、オクタエチレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフルオロｎ−ブチル）エーテル、ヘキサプロピレングリコールジ（１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロｎ−ペンチル）エーテル、オクタプロピレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフルオロｎ−ブチル）エーテル、パーフルオロｎ−ドデカンスルホン酸ナトリウム、１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロｎ−デカン、１，１，２，２，３，３，９，９，１０，１０−デカフルオロｎ−ドデカン、フルオロアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、フルオロアルキルリン酸ナトリウム、フルオロアルキルカルボン酸ナトリウム、ジグリセリンテトラキス（フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル）、フルオロアルキルアンモニウムヨージド、フルオロアルキルベタイン、フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、パーフルオロアルキルポリオキシエタノール、パーフルオロアルキルアルコキシレート、カルボン酸フルオロアルキルエステル等が挙げられる。
【０１４１】
フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えばＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００（以上、ＢＭ ＣＨＥＭＩＥ製）、メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３、同Ｆ１７８、同Ｆ１９１、同Ｆ４７１、同Ｆ４７６（以上、大日本インキ化学工業製）、フロラードＦＣ−１７０Ｃ、同ＦＣ−１７１、同ＦＣ−４３０、同ＦＣ−４３１（以上、住友スリーエム製）、サーフロンＳ−１１２、同Ｓ−１１３、同Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１、同Ｓ−１４５、同Ｓ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６（以上、旭硝子製）、エフトップＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２（以上、新秋田化成製）、フタージェントＦＴ−１００、同ＦＴ−１１０、同ＦＴ−１４０Ａ、同ＦＴ−１５０、同ＦＴ−２５０、同ＦＴ−２５１、同ＦＴ−３００、同ＦＴ−３１０、同ＦＴ−４００Ｓ、同ＦＴＸ−２１８、同ＦＴ−２５１（以上、ネオス製）等が挙げられる。
【０１４２】
シリコーン系界面活性剤としては、例えばトーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、同ＤＣ７ＰＡ、同ＳＨ１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８ＰＡ、同ＳＨ２９ＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、同ＳＨ−１９０、同ＳＨ−１９３、同ＳＺ−６０３２、同ＳＦ−８４２８、同ＤＣ−５７、同ＤＣ−１９０、ＳＨ ８４００ ＦＬＵＩＤ（以上、東レダウコーニングシリコーン製）、ＴＳＦ−４４４０、ＴＳＦ−４３００、ＴＳＦ−４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ−４４６０、ＴＳＦ−４４５２（以上、ＧＥ東芝シリコーン製）、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業製）等が挙げられる。
【０１４３】
当該ポジ型感光性樹脂組成物における［Ｇ］界面活性剤の含有量としては、［Ａ］共重合体１００質量部に対して、好ましくは０．０１質量部以上２質量部以下であり、より好ましくは０．０５質量部以上１質量部以下である。［Ｇ］界面活性剤の含有量を上記特定範囲とすることで塗膜の膜厚均一性をより向上できる。
【０１４４】
＜キノンジアジド化合物＞
キノンジアジド化合物は放射線の照射によりカルボン酸を発生する化合物である。キノンジアジド化合物としては、フェノール性化合物又はアルコール性化合物（以下、「母核」とも称する）と１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合物を用いることができる。
【０１４５】
上記母核としては、例えばトリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、ペンタヒドロキシベンゾフェノン、ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、（ポリヒドロキシフェニル）アルカン、その他の母核等が挙げられる。
【０１４６】
トリヒドロキシベンゾフェノンとしては、例えば２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン等が挙げられる。テトラヒドロキシベンゾフェノンとしては、例えば２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，３’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，２’−テトラヒドロキシ−４’−メチルベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシ−３’−メトキシベンゾフェノン等が挙げられる。ペンタヒドロキシベンゾフェノンとしては、例えば２，３，４，２’，６’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン等が挙げられる。ヘキサヒドロキシベンゾフェノンとしては、例えば２，４，６，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、３，４，５，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン等が挙げられる。（ポリヒドロキシフェニル）アルカンとしては、例えばビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン、トリス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１，１−トリス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン、４，４’−〔１−〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニル〕−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノール、ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインデン−５，６，７，５’，６’，７’−ヘキサノール、２，２，４−トリメチル−７，２’，４’−トリヒドロキシフラバン等が挙げられる。その他の母核として、例えば２−メチル−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４−（４−ヒドロキシフェニル）−７−ヒドロキシクロマン、１−［１−（３−｛１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル｝−４，６−ジヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］−３−（１−（３−｛１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル｝−４，６−ジヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）ベンゼン、４，６−ビス｛１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル｝−１，３−ジヒドロキシベンゼンが挙げられる。
【０１４７】
これらの母核のうち、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン、４，４’−〔１−〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニル〕−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノールが好ましい。
【０１４８】
１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとしては、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドが好ましい。１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドとしては、例えば１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸クロリド、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド等が挙げられる。これらのうち、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリドが好ましい。
【０１４９】
フェノール性化合物又はアルコール性化合物と１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合物としては、１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタンと１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリドとの縮合物、４，４’−〔１−〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニル〕−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノールと１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリドとの縮合物が好ましい。
【０１５０】
フェノール性化合物又はアルコール性化合物（母核）と、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合反応では、フェノール性化合物又はアルコール性化合物中のＯＨ基数に対して、好ましくは３０モル％〜８５モル％、より好ましくは５０モル％〜７０モル％に相当する１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドを用いることができる。縮合反応は、公知の方法によって実施することができる。
【０１５１】
また、キノンジアジド化合物としては、上記例示した母核のエステル結合をアミド結合に変更した１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミド類、例えば２，３，４−トリアミノベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸アミド等も好適に使用される。
【０１５２】
＜ポジ型感光性樹脂組成物の調製方法＞
当該ポジ型感光性樹脂組成物は、［Ｄ］溶媒に［Ａ］共重合体、［Ｂ］化合物、［Ｃ］ラジカル捕捉剤、必要に応じて好適成分及びその他の任意成分を混合することによって溶解又は分散させた状態に調製される。例えば［Ｄ］溶媒中で、各成分を所定の割合で混合することにより、当該ポジ型感光性樹脂組成物を調製できる。
【０１５３】
＜表示素子用層間絶縁膜の形成方法＞
当該ポジ型感光性樹脂組成物は、表示素子用層間絶縁膜の形成材料として好適である。また、本発明には、当該ポジ型感光性樹脂組成物から形成される表示素子用層間絶縁膜も好適に含まれる。
【０１５４】
本発明の表示素子用層間絶縁膜の形成方法は、
（１）当該ポジ型感光性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程、
（２）上記塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（３）上記放射線が照射された塗膜を現像する工程、及び
（４）上記現像された塗膜を加熱する工程
を有する。
【０１５５】
当該形成方法によると、優れた耐光性及び耐熱性に加え、現像時間に対する未露光部の膜厚変化量が少ない表示素子用層間絶縁膜を形成できる。さらには、コンタクトホール径の安定性も向上できる。また、膜厚減少量を抑制できることから、結果として生産プロセスマージンを向上でき、歩留まりの向上を達成できる。さらに、感光性を利用した露光、現像、加熱によってパターンを形成することによって、容易に微細かつ精巧なパターンを有する表示素子用層間絶縁膜を形成できる。従って、形成された表示素子用層間絶縁膜は、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子等の表示素子に好適に使用できる。
【０１５６】
［工程（１）］
本工程では、当該ポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布して塗膜を形成する。好ましくは塗布面をプレベークすることによって溶媒を除去する。
【０１５７】
基板としては、例えばガラス、石英、シリコーン、樹脂等が挙げられる。樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリイミド、環状オレフィンの開環重合体及びその水素添加物等が挙げられる。プレベークの条件としては、各成分の種類、配合割合等によっても異なるが、７０℃〜１２０℃、１分〜１０分間程度とすることができる。
【０１５８】
［工程（２）］
本工程では、上記形成された塗膜の少なくとも一部に放射線を照射し露光する。露光する際には、通常所定のパターンを有するフォトマスクを介して露光する。露光に使用される放射線としては、波長が１９０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲にある放射線が好ましく、３６５ｎｍの紫外線を含む放射線がより好ましい。露光量としては、放射線の波長３６５ｎｍにおける強度を、照度計（ＯＡＩ ｍｏｄｅｌ３５６、ＯＡＩ Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｓｓｏｃｉａｔｅｓ製）により測定した値で、５００Ｊ／ｍ２〜６，０００Ｊ／ｍ２が好ましく、１，５００Ｊ／ｍ２〜１，８００Ｊ／ｍ２がより好ましい。
【０１５９】
［工程（３）］
本工程では、上記放射線が照射された塗膜を現像する。露光後の塗膜を現像することにより、不要な部分（放射線の照射部分）を除去して所定のパターンを形成する。現像工程に使用される現像液としては、アルカリ性の水溶液が好ましい。アルカリとしては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア等の無機アルカリ；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の４級アンモニウム塩等が挙げられる。
【０１６０】
アルカリ水溶液には、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒や界面活性剤を適当量添加して使用することもできる。アルカリ水溶液におけるアルカリの濃度しては、適当な現像性を得る観点から、０．１質量％以上５質量％以下が好ましい。現像方法としては、例えば液盛り法、ディッピング法、揺動浸漬法、シャワー法等が挙げられる。現像時間としては、当該ポジ型感光性樹脂組成物の組成によって異なるが、１０秒〜１８０秒間程度である。このような現像処理に続いて、例えば流水洗浄を３０秒〜９０秒間行った後、例えば圧縮空気や圧縮窒素で風乾させることによって、所望のパターンを形成できる。
【０１６１】
［工程（４）］
本工程では、上記現像された塗膜を加熱する。加熱には、ホットプレート、オーブン等の加熱装置を用い、パターニングされた薄膜を加熱することで、［Ａ］共重合体の硬化反応を促進して、硬化物を得ることができる。加熱温度としては、例えば１２０℃〜２５０℃程度である。加熱時間としては、加熱機器の種類により異なるが、例えばホットプレートでは５分〜３０分間程度、オーブンでは３０分〜９０分間程度である。また、２回以上の加熱工程を行うステップベーク法等を用いることもできる。このようにして、目的とする表示素子用層間絶縁膜に対応するパターン状薄膜を基板の表面上に形成できる。なお、上記硬化膜の用途としては、表示素子用層間絶縁膜に限定されず、スペーサーや保護膜としても利用することができる。
【０１６２】
形成された表示素子用層間絶縁膜の膜厚としては、好ましくは０．１μｍ〜８μｍ、より好ましくは０．１μｍ〜６μｍである。
【実施例】
【０１６３】
以下、実施例に基づき本発明を詳述するが、この実施例の記載に基づいて本発明が限定的に解釈されるものではない。
【０１６４】
＜［Ａ］成分の合成＞
［合成例１］
冷却管及び撹拌機を備えたフラスコに、重合開始剤としての２，２’−アゾビスイソブチロニトリル５質量部及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２５０質量部を仕込み、引き続き、構造単位（Ｉ）を与えるメタクリル酸１−ｎ−ブトキシエチル５５質量部、単量体（Ａ１）としてのメタクリル酸２−ヒドロキシエチルエステル３０質量部、並びにその他の構造単位を与えるメタクリル酸１０質量部及びスチレン５質量部を仕込んで、窒素置換したのち、緩やかに攪拌しつつ溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持して重合することにより固形分濃度２８．８％の［Ａ１］共重合体溶液を得た。得られた［Ａ１］共重合体のＭｗは、１３，０００であった。
［Ａ１］共重合体溶液に、不飽和イソシアネート化合物としての２−メタアクリロイルオキシエチルイソシアネート（カレンズＭＯＩ、昭和電工製）１２質量部、重合禁止剤としての４−メトキシフェノール０．１質量部を添加したのち、４０℃で１時間、さらに６０℃で２時間攪拌して反応させた。２−メタアクリロイルオキシエチルイソシアネート由来のイソシアネート基と［Ａ１］共重合体の水酸基との反応の進行は、ＩＲ（赤外線吸収）スペクトルにより確認した。４０℃で１時間後、さらに６０℃で２時間反応後の反応溶液のＩＲスペクトルを測定し、２−メタアクリロイルオキシエチルイソシアネートのイソシアネート基に由来する２，２７０ｃｍ−１付近のピークが減少していることで、反応が進行しているのを確認した。固形分濃度３１．０％の共重合体（Ａ−１）溶液を得た。共重合体（Ａ−１）のＭｗは１４，０００であった。１３Ｃ−ＮＭＲ分析の結果、各構造単位の含有率は、構造単位（Ｉ）：構造単位（ＩＩ）：その他の構造単位＝４２：３１：２７（モル％）であった。なお、重合体の各構造単位の含有率を求めるための１３Ｃ−ＮＭＲ分析は、核磁気共鳴装置（日本電子製、ＪＮＭ−ＥＣＸ４００）を使用した。
【０１６５】
［合成例２］
上記２−メタアクリロイルオキシエチルイソシアネートの代わりに、不飽和イソシアネート化合物としての１，１−（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート（カレンズＢＥＩ、昭和電工製）１９質量部を加えたこと以外は合成例１と同様に操作して共重合体（Ａ−２）溶液を得た。共重合体（Ａ−２）のＭｗは１５，０００であった。固形分濃度は、３２．０質量％であった。１３Ｃ−ＮＭＲ分析の結果、各構造単位の含有率は、構造単位（Ｉ）：構造単位（ＩＩ）：その他の構造単位＝４２：３０：２８（モル％）であった。
【０１６６】
［合成例３］
温度計、攪拌機及び冷却管をつけた４つ口フラスコにジエチレングリコールエチルメチルエーテル５４０質量部を仕込み、窒素置換した後、オイルバスで９０℃にまで昇温した。構造単位（Ｉ）を与えるメタクリル酸２−テトラヒドロピラニル８７質量部、単量体（Ａ２）としてのメタクリル酸９０質量部、その他の構造単位を与えるメタクリル酸メチル４０質量部、及び重合開始剤としての２，２’−アゾビスイソブチロニトリ１０質量部を加え、同温度にて６時間維持した。その後、１００℃に昇温し温度を２時間維持した後、［Ａ２］共重合体溶液を得た。この共重合体溶液に重合禁止剤としての４−メトキシフェノール０．２質量部を加え、その後、ビニルエーテル基及び（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物としてのメタクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチル（日本触媒製、ＶＥＥＭ）１２８質量部を１時間かけて滴下ロートにて等速滴下した。１２時間の熟成反応の後、室温まで反応溶液を冷却し共重合体（Ａ−３）溶液を得た。共重合体（Ａ−３）のＭｗは１８，０００であった。固形分濃度は、３７．５質量％であった。１３Ｃ−ＮＭＲ分析の結果、各構造単位の含有率は、構造単位（Ｉ）：構造単位（ＩＩ）：その他の構造単位＝２６：５０：２４（モル％）であった。
【０１６７】
［合成例４］
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、重合開始剤としての２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）７質量部、及びジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００質量部を仕込んだ。引き続き、構造単位（Ｉ）を与えるメタクリル酸２−テトラヒドロピラニル５７質量部、多官能（メタ）アクリレートとしてのエチレングリコールジメタクリレート８質量部、その他の構造単位を与えるメタクリル酸１０質量部及びメタクリル酸メチル２０質量部及び、並びに分子量調整剤としてのα−メチルスチレンダイマー３質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（Ａ−４）を含む共重合体溶液を得た。共重合体（Ａ−４）のＭｗは１５，０００であった。固形分濃度は、３１．５質量％であった。１３Ｃ−ＮＭＲ分析の結果、各構造単位の含有率は、構造単位（Ｉ）：構造単位（ＩＩ）：その他の構造単位＝４８：６：４６（モル％）であった。
【０１６８】
［合成例５］
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに重合開始剤としての２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）７質量部、及びジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００質量部を仕込んだ。引き続き、構造単位（Ｉ）を与えるメタクリル酸２−テトラヒドロピラニル３０質量部、多官能（メタ）アクリレートとしてのエチレングリコールジメタクリレート２０質量部及びトリメチロールプロパントリメタクリレート５０質量部、並びに分子量調整剤としてのα−メチルスチレンダイマー３質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（Ａ−５）を含む共重合体溶液を得た。共重合体（Ａ−５）のＭｗは２０，０００であった。固形分濃度は、３３．５質量％であった。１３Ｃ−ＮＭＲ分析の結果、各構造単位の含有率は、構造単位（Ｉ）：構造単位（ＩＩ）＝４０：６０（モル％）であった。
【０１６９】
［合成例６］
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、重合開始剤としての２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）７質量部、及びジエチレングリコールエチルメチルエーテル４００質量部を仕込んだ。引き続き、構造単位（Ｉ）を与えるメタクリル酸２−テトラヒドロピラニル５７質量部、多官能（メタ）アクリレートとしてのエチレングリコールジメタクリレート８質量部、その他の構造単位を与えるメタクリル酸１０質量部及びメタクリル酸メチル２０質量部、並びに分子量調整剤としてのα−メチルスチレンダイマー３質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（Ａ−６）を含む重合体溶液を得た。さらに、この共重合体溶液に、多官能（メタ）アクリレートとしてのトリメチロールプロパントリメタクリレート５０質量部を滴下ロートで１時間にわたり滴下し、その後１時間攪拌した。共重合体（Ａ−６）のＭｗは２５，０００であった。固形分濃度は、２６．５質量％であった。１３Ｃ−ＮＭＲ分析の結果、各構造単位の含有率は、構造単位（Ｉ）：構造単位（ＩＩ）：その他の構造単位＝４８：６：４６（モル％）であった。
【０１７０】
［合成例７］
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）７質量部及びジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００質量部を仕込んだ。引き続き、構造単位（Ｉ）を与える１−エトキシエチルメタクリレート４０質量部、その他の構造単位を与えるメタクリル酸５質量部、スチレン５質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１０質量部及びメタクリル酸グリシジル４０質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（ＣＳ−１）を含む共重合体溶液を得た。共重合体（ＣＳ−１）のＭｗは１０，０００であった。固形分濃度は、３２．１質量％であった。
【０１７１】
＜［Ｅ］エポキシ化合物の合成＞
［合成例８］
冷却管及び撹拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）８質量部及びジエチレングリコールエチルメチルエーテル２２０質量部を仕込んだ。引き続き、メタクリル酸１５質量部、メタクリル酸メチル２０質量部、メタクリル酸ベンジル３０質量部、スチレン５質量部及びメタクリル酸グリシジル３０質量部を仕込み、窒素置換した後、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を７０℃に上昇し、この温度を５時間保持して重合することにより、共重合体（Ｅ−４）を含有する溶液を得た。共重合体（Ｅ−４）のＭｗは、８，０００であった。固形分濃度は、３２．３質量％であった。
【０１７２】
＜ポジ型感光性樹脂組成物の調製＞
以下、実施例及び比較例のポジ型感光性樹脂組成物の調製に用いた成分を詳述する。
【０１７３】
［Ｂ］成分
Ｂ−１：（５−プロピルスルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＰＡＧ １０３）
Ｂ−２：（５−オクチルスルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＰＡＧ １０８）
Ｂ−３：（５−ｐ−トルエンスルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＰＡＧ １２１）
Ｂ−４：（カンファースルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ製、ＣＧＩ１３８０）
Ｂ−５：（５−オクチルスルフォニルオキシイミノ）−（４−メトキシフェニル）アセトニトリル（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ製、ＣＧＩ７２５）
ｂ−１（キノンジアジド化合物）：４，４’−〔１−〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニル〕−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノール（１．０モル）と１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド（２．０モル）との縮合物
【０１７４】
［Ｃ］ラジカル捕捉剤
Ｃ−１：２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−クレゾール
Ｃ−２：１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン（アデカ製、アデカスタブＡＯ−３３０）
Ｃ−３：テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート（アデカ製、アデカスタブＬＡ−５７）
Ｃ−４：ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト（アデカ製、アデカスタブＰＥＰ−８）
Ｃ−５：ペンタエリスリトールテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）（アデカ製、アデカスタブＡＯ−４１２Ｓ）
【０１７５】
［Ｄ］溶媒
Ｄ−１：メチルイソブチルケトン
Ｄ−２：ジエチレングリコールエチルメチルエーテル
Ｄ−３：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
【０１７６】
［Ｅ］エポキシ化合物
Ｅ−１：フェノールノボラック型エポキシ樹脂
Ｅ−２：ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（４，４’−イソプロピリデンジフェノールと１−クロロ−２，３−エポキシプロパンとの重縮合物）
Ｅ−３：ビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル
Ｅ−５：３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート
【０１７７】
［Ｆ］塩基性化合物
Ｆ−１：４−ジメチルアミノピリジン
Ｆ−２：４−メチルイミダゾール
【０１７８】
［Ｇ］界面活性剤
Ｇ−１：シリコーン系界面活性剤（東レダウコーニングシリコーン製、ＳＨ ８４００ ＦＬＵＩＤ）
Ｇ−２：フッ素系界面活性剤（ネオス製、フタージェントＦＴＸ−２１８）
【０１７９】
［実施例１］
［Ｄ］溶媒としての（Ｄ−１）に、［Ａ］共重合体としての（Ａ−１）を含む溶液（（Ａ−１）１００質量部（固形分）に相当する量）に、［Ｂ］化合物としての（Ｂ−１）３．０質量部、［Ｃ］ラジカル捕捉剤としての（Ｃ−１）０．５質量部、［Ｅ］エポキシ化合物としての（Ｅ−１）５．０質量部、及び［Ｇ］界面活性剤としての（Ｇ−１）０．２０質量部を混合し、孔径０．２μｍのメンブランフィルタで濾過することにより、ポジ型感光性樹脂組成物を調製した。
【０１８０】
［実施例２〜１０並びに比較例１及び２］
各成分の種類及び配合量を表１に記載の通りとした以外は、実施例１と同様に操作して各ポジ型感光性樹脂組成物を調製した。なお、表１中の「−」は、該当する成分を使用しなかったことを示す。また、表１中の使用した［Ｄ］溶媒の値は、混合溶媒とした場合の質量比である。
【０１８１】
＜評価＞
調製した各ポジ型感光性樹脂組成物を用いて、下記の評価を実施した。結果を表１にあわせて示す。
【０１８２】
［感度（Ｊ／ｍ２）］
５５０×６５０ｍｍのクロム成膜ガラス上に、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）を塗布し、６０℃にて１分間加熱した。このＨＭＤＳ処理後のクロム成膜ガラス上に、各ポジ型感光性樹脂組成物をスリットダイコーター（東京応化工業製、ＴＲ６３２１０５−ＣＬ）を用いて塗布し、到達圧力を１００Ｐａに設定して真空下で溶媒を除去した後、さらに９０℃において２分間プレベークすることによって、膜厚４．０μｍの塗膜を形成した。続いて、露光機（キヤノン製、ＭＰＡ−６００ＦＡ、ｇｈｉ線混合）を用い、１０μｍのコンタクトホールのパターンを有するマスクを介して、プロキシギャップ１０μｍで塗膜に対し露光量を変量として放射線を照射した。その後、０．５質量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液にて２５℃において７０秒間現像した。次いで、超純水で流水洗浄を行い、その後乾燥することにより、ＨＭＤＳ処理後のガラス基板上にパターンを形成した。このとき、１０μｍのコンタクトホール径にもっとも近い露光量を放射線感度とした。この値が５００（Ｊ／ｍ２）以下の場合に感度が良好と判断した。
【０１８３】
［塗膜の外観］
５５０×６５０ｍｍのクロム成膜ガラス上に、調製した各ポジ型感光性樹脂組成物をスリットダイコーター（東京応化工業製、ＴＲ６３２１０５−ＣＬ）を用いて塗布し０．５Ｔｏｒｒまで減圧乾燥した後、ホットプレート上で１００℃にて２分間プレベークして塗膜を形成し、さらに２，０００Ｊ／ｍ２の露光量で露光することにより、クロム成膜ガラスの上面からの膜厚が４μｍの膜を形成した。ナトリウムランプ下において、肉眼によりこの塗膜の外観の観察を行った。このとき、塗膜の全体における筋ムラ（塗布方向又はそれに交差する方向にできる一本または複数本の直線のムラ）、モヤムラ（雲状のムラ）、ピン跡ムラ（基板支持ピン上にできる点状のムラ）の出現状況を調べた。これらのムラのいずれもほとんど見えない場合を「Ａ」（良好と判断）、いずれかが少し見える場合を「Ｂ」（やや不良と判断）、はっきりと見える場合を「Ｃ」（不良と判断）とした。
【０１８４】
［膜厚変化率（％）］
無アルカリガラス基板上にＨＭＤＳを塗布し、３分間加熱した。スピンナーを用いて、各ポジ型感光性樹脂組成物を塗布した後、９０℃で２分間ホットプレート上でプレベークして膜厚４．１μｍの塗膜を形成した。得られた塗膜にコンタクトホールパターンのマスクを介して、露光ギャップを３０μｍとし、上記感度の評価と同様に操作して、露光を行った。次いで０．５質量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で２３℃、パドル法で現像を行った。このとき現像時間を５０秒、７０秒、９０秒と時間を変化させた。その後、超純水で８秒間リンスした。現像後の未露光部分の膜厚について測定し、この値と下記式より膜厚変化率（％）を算出した。
現像後の膜厚変化率（％）＝（現像後の膜厚／現像前の膜厚）×１００
現像時間を５０秒、７０秒、９０秒と変化させた場合でも、膜厚変化率が９０％以上の場合、現像時間に対する膜厚減少量を抑制でき、良好と判断した。
【０１８５】
［コンタクトホールの形状安定性（μｍ）］
上記膜厚変化率の評価と同様に操作して無アルカリガラス基板上に塗膜を形成し、プレーク温度を８０℃、９０℃、１００℃と変化させた。その後、現像時間を９０秒とした以外は上記膜厚変化率の評価同様に操作して、マスクサイズが１０μｍのコンタクトホールのマスクを介した露光の後、現像し、コンタクトホールパターンを形成した。その後、２２０℃で４５分間、クリーンオーブンでポストベークを行った。それぞれのプレベーク温度条件で形成したコンタクトホールパターンをＳＥＭ（走査電子顕微鏡）で観察し、形状及びコンタクトホールパターンのサイズを測長した。コンタクトホールパターンのサイズが９．０μｍ〜１１．０μｍである場合、プレベーク温度の変化に対するコンタクトホールの形状安定性（μｍ）が良好と判断した。
【０１８６】
［耐光性（％）］
上記膜厚変化率の評価と同様に操作して無アルカリガラス基板上に各ポジ型感光性樹脂組成物を塗膜し、９０℃で２分間プレベークを行い、膜厚３．０μｍの塗膜を形成した。その後、露光はせず、０．５質量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液にて２５℃において７０秒間現像した。その後、２２０℃で４５分間、クリーンオーブンでポストベークを行った。得られた硬化膜の４００ｎｍにおける光線透過率を測定した（Ｔ１）。その後、上記硬化膜にＸｅランプ（照度１８０Ｗ／ｍ２）で７０時間照射した。照射後の硬化膜の４００ｎｍにおける光線透過率を測定した（Ｔ２）。これらの値と下記式より、照射前後での光線透過率の変化率（％）を下記式により算出し、これを耐光性（％）とした。
耐光性（％）＝｛（Ｔ１−Ｔ２）／Ｔ１｝×１００
値が５％以下の場合、耐光性が良好と判断した。
【０１８７】
［耐熱性（％）］
上記耐光性の評価で得られた、ポストベーク後の硬化膜のＴＧＡ（熱重量分析）を、ティー・エイ・インスツルメント製Ｑ５０００ＳＡを用いて行った。室温から２５０℃まで２０分で昇温し、その後１０分間２５０℃で保持し重量減少を測定した。測定前の室温時の重量を１００％として、測定後の重量減少率（％）を測定し耐熱性（％）とした。値が５％以下の場合、熱による重量減少が小さく耐熱性が良好と判断した。
【０１８８】
［保存安定性（％）］
上記膜厚変化率と同様に操作して、調製直後の各ポジ型感光性樹脂組成物の塗膜を形成し膜厚を測定した（下記式において、「調製直後の膜厚」と称する）。また、１４日間３０℃で各ポジ型感光性樹脂組成物を保存し１４日後に同様に形成した塗膜の膜厚を測定した（下記式において、「１４日後の膜厚」と称する）。膜厚増加率（％）を下記式から算出し、保存安定性（％）とした。
保存安定性（％）＝｛（１４日後の膜厚−調製直後の膜厚）／調製直後の膜厚｝×１００
値が５％以下の場合、保存安定性が良好と判断した。
【０１８９】
【表１】
【０１９０】
表１の結果から明らかなように当該ポジ型感光性樹脂組成物を使用した実施例１〜１０は、比較例１及び２の組成物と比べ、良好な感度及び保存安定性を有し、かつ現像時間に対する未露光部の膜厚変化量が少ないことがわかった。また、当該ポジ型感光性樹脂組成物から形成された表示素子用層間絶縁膜は耐光性及び耐熱性に加え、コンタクトホールの形状安定性にも優れることがわかった。
【産業上の利用可能性】
【０１９１】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、良好な感度及び保存安定性に加え、現像時間に対する未露光部の膜厚変化量が抑制でき、優れた耐光性及び耐熱性を有する表示素子用層間絶縁膜を提供することができる。また、コンタクトホール径の安定性を向上することができる。膜厚減少量を抑制できることから、結果として生産プロセスマージンを向上でき、歩留まりの向上を達成できる。さらに、感光性を利用した露光、現像、加熱によってパターンを形成することによって、容易に微細かつ精巧なパターンを有する表示素子用層間絶縁膜を形成できる。従って、形成された表示素子用層間絶縁膜は、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子等の表示素子に好適に使用できる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
［Ａ］下記式（１）で表される基を有する構造単位（Ｉ）、及び１以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する構造単位（ＩＩ）を含む共重合体、
［Ｂ］下記式（２）で表されるオキシムスルホネート基を有する化合物、
［Ｃ］ラジカル捕捉剤、並びに
［Ｄ］溶媒
を含有するポジ型感光性樹脂組成物。
【化１】
（式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基である。但し、上記アルキル基、シクロアルキル基及びアリール基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。また、Ｒ１及びＲ２が共に水素原子である場合はない。Ｒ３は、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基又は−Ｍ（Ｒ４）３で表される基である。このＭは、Ｓｉ、Ｇｅ又はＳｎである。Ｒ４は、それぞれ独立してアルキル基である。また、Ｒ１とＲ３とが連結して環状エーテル構造を形成してもよい。但し、Ｒ３で表されるこれらの基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。）
【化２】
（式（２）中、Ｒ５は、直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基又はアリール基である。但し、上記アルキル基及びアリール基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。）
【請求項２】
上記Ｒ１とＲ３とが連結して環状エーテル構造を形成している請求項１に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項３】
上記式（１）で表される基が、下記式（１−１）で表される基である請求項２に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【化３】
【請求項４】
［Ａ］共重合体における構造単位（ＩＩ）の含有率が、５モル％以上６０モル％以下である請求項１、請求項２又は請求項３に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項５】
構造単位（ＩＩ）が、２以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する請求項１から請求項４のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項６】
［Ｄ］溶媒が、ケトン類、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールアルキルエーテル類及びプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類からなる群より選択される少なくとも１種の溶媒である請求項１から請求項５のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項７】
［Ｅ］分子中に２以上のエポキシ基を有する化合物をさらに含有する請求項１から請求項６のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項８】
表示素子用層間絶縁膜の形成に用いられる請求項１から請求項７のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項９】
（１）請求項８に記載のポジ型感光性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程、
（２）上記塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（３）上記放射線が照射された塗膜を現像する工程、及び
（４）上記現像された塗膜を加熱する工程
を有する表示素子用層間絶縁膜の形成方法。
【請求項１０】
請求項８に記載のポジ型感光性樹脂組成物から形成される表示素子用層間絶縁膜。
【請求項１】
［Ａ］下記式（１）で表される基を有する構造単位（Ｉ）、及び１以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する構造単位（ＩＩ）を含む共重合体、
［Ｂ］下記式（２）で表されるオキシムスルホネート基を有する化合物、
［Ｃ］ラジカル捕捉剤、並びに
［Ｄ］溶媒
を含有するポジ型感光性樹脂組成物。
【化１】
（式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基である。但し、上記アルキル基、シクロアルキル基及びアリール基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。また、Ｒ１及びＲ２が共に水素原子である場合はない。Ｒ３は、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基又は−Ｍ（Ｒ４）３で表される基である。このＭは、Ｓｉ、Ｇｅ又はＳｎである。Ｒ４は、それぞれ独立してアルキル基である。また、Ｒ１とＲ３とが連結して環状エーテル構造を形成してもよい。但し、Ｒ３で表されるこれらの基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。）
【化２】
（式（２）中、Ｒ５は、直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基又はアリール基である。但し、上記アルキル基及びアリール基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。）
【請求項２】
上記Ｒ１とＲ３とが連結して環状エーテル構造を形成している請求項１に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項３】
上記式（１）で表される基が、下記式（１−１）で表される基である請求項２に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【化３】
【請求項４】
［Ａ］共重合体における構造単位（ＩＩ）の含有率が、５モル％以上６０モル％以下である請求項１、請求項２又は請求項３に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項５】
構造単位（ＩＩ）が、２以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する請求項１から請求項４のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項６】
［Ｄ］溶媒が、ケトン類、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールアルキルエーテル類及びプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類からなる群より選択される少なくとも１種の溶媒である請求項１から請求項５のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項７】
［Ｅ］分子中に２以上のエポキシ基を有する化合物をさらに含有する請求項１から請求項６のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項８】
表示素子用層間絶縁膜の形成に用いられる請求項１から請求項７のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項９】
（１）請求項８に記載のポジ型感光性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程、
（２）上記塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（３）上記放射線が照射された塗膜を現像する工程、及び
（４）上記現像された塗膜を加熱する工程
を有する表示素子用層間絶縁膜の形成方法。
【請求項１０】
請求項８に記載のポジ型感光性樹脂組成物から形成される表示素子用層間絶縁膜。
【公開番号】特開２０１２−２３４１４８（Ｐ２０１２−２３４１４８Ａ）
【公開日】平成２４年１１月２９日（２０１２．１１．２９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−４７９２３（Ｐ２０１２−４７９２３）
【出願日】平成２４年３月５日（２０１２．３．５）
【出願人】（０００００４１７８）ＪＳＲ株式会社 (3,320)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１１月２９日（２０１２．１１．２９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２４年３月５日（２０１２．３．５）
【出願人】（０００００４１７８）ＪＳＲ株式会社 (3,320)
【Ｆターム（参考）】
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