ポリウレタン難燃組成物
【課題】ホスホナイト又はホスフィットと窒素含有の難燃剤の組み合わせ及びポリウレタンポリマー基材を含む難燃組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、
ａ）亜ホスホン酸及び亜リン酸からなる群より選択された少なくとも１種のリン含有のオキソ酸のエステル誘導体；
ｂ）窒素化合物をベースとした少なくとも１種の難燃剤成分；特にメラミンシアヌレート、及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む難燃組成物に関する。
【解決手段】本発明は、
ａ）亜ホスホン酸及び亜リン酸からなる群より選択された少なくとも１種のリン含有のオキソ酸のエステル誘導体；
ｂ）窒素化合物をベースとした少なくとも１種の難燃剤成分；特にメラミンシアヌレート、及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む難燃組成物に関する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ホスホナイト又はホスフィットと窒素含有の難燃剤の組み合わせ及びポリウレタンポリマー基材を含む難燃組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ）は多くの工業用途に有益である。特定の参照文献は非特許文献１である。
ポリウレタンを製造する多くの方法が既知である。柔軟性基材を形成する高分子量のポリヒドロキシ化合物、例えばポリオキシアルキレングリコール、例えばポリオキシプロピレン又はポリオキシエチレングリコール、ポリオキシプロピレンポリオキシエチレングリコール、ポリオキシブチレングリコール、ポリオキシブチレンポリオキシエチレングリコール又はポリオキシブチレンポリオキシプロピレングリコール、或いはポリエステルジオール、例えばアルカンジオールポリアジペートが、芳香族又は脂肪族ジイソシアネート、例えばジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアナート（ＭＤＩ）又はヘキサメチレン−１，６−ジイソシアナート（ＨＤＩ）、並びに硬質セグメントの形成のための低分子量鎖延長剤、例えばアルカンジオール又はジアルキレングリコール、例えば１，４−ブタンジオール又はジエチレングリコールと反応される。ＴＰＵの欠点は、その易燃性である。
【０００３】
ポリマーの難燃特性を高めるために難燃剤がポリマー材（合成の又は天然の）に添加される。それらの組成に応じて、難燃剤は、化学的に例えば窒素の遊離により泡立って、及び／又は物理的に例えば発泡被覆を発生することにより、固体、液体又はガス相中で機能し得る。難燃剤は、燃焼過程の特定の段階の間に、例えば加熱の間に、分解、点火又は延焼を遅らせる。
窒素含有の難燃剤、とりわけメラミンをベースとしたものは長期にわたり既知であり、及び幾つかの場合、商業上入手可能である。それらメラミン誘導体の幾つかはまた、リンを含有している。そのような難燃剤に関連した刊行物の例はとりわけ、特許文献１、特許文献２及び特許文献３及び特許文献４である。
窒素含有の難燃剤とリン化合物をベースとした難燃剤の組み合わせがまた既知である。その観点において、特定の参照文献は例えば、特許文献５、特許文献６、特許文献７、特許文献８、特許文献９及び特許文献１０である。特定のホスフェートと窒素含有の化合物との組み合わせがまた、難燃剤として特許文献１１、特許文献１２、特許文献１３、特許文献１４、特許文献１５及び特許文献１６から既知である。
【０００４】
改良された耐熱性及び機械的特性を有し及び種々のポリマー基材中に使用され得る難燃剤が必要とされ続けている。特に、増大する安全性の要求及び環境的な要求は、従来の既知の難燃剤がもはやすべての要求を満足し得ないことを意味している。
ＴＰＵに対する難燃剤としてメラミン又はメラミン誘導体の使用が種々の参照文献において提案されている。さらなる改良として、ＴＰＵ組成物中でのメラミンシアヌレートと有機ホスフェートとの組み合わせの使用が例えば、特許文献１７において提案されている。
【非特許文献１】Ｋｕｎｓｔｏｆｆ−Ｈａｎｄｂｕｃｈ，Ｖｏｌ．ＶＩＩ，Ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ，Ｃａｒｌ Ｈａｎｓｅｒ Ｖｅｒｌａｇ ドイツ国 ミュンヘン，第１版 １９９６年，編集者Ｒ．Ｖｉｅｗｅｇ及びＡ．Ｈｏｅｃｈｔｌｅｎ，及び第２版，編集者Ｇ．Ｏｅｒｔｅｌ
【特許文献１】欧州特許出願公開第７８２５９９号明細書
【特許文献２】欧州特許出願公開第１０９５０３０号明細書
【特許文献３】米国特許第４，０１０，１３７号明細書
【特許文献４】米国特許第３，９１５，７７７号明細書
【特許文献５】独国特許出願公開第１９７３４４３７号明細書
【特許文献６】独国特許出願公開第１９７３７７２７号明細書
【特許文献７】国際公開第９７／３９０５３号パンフレット
【特許文献８】欧州特許出願公開第１０７０７５４号パンフレット
【特許文献９】欧州特許出願公開第６５６８号明細書
【特許文献１０】独国特許出願公開第１９６１４４２４号明細書
【特許文献１１】欧州特許出願公開第４８４８３２号明細書
【特許文献１２】欧州特許出願公開第５４５４９６号明細書
【特許文献１３】欧州特許出願公開第７０７０３６号明細書
【特許文献１４】国際公開第０１／９８４０１号パンフレット
【特許文献１５】英国特許出願公開第１４６８１８８号明細書
【特許文献１６】欧州特許出願公開第６１７０７９号明細書
【特許文献１７】米国特許第５，８３７，７６０号明細書
【発明の開示】
【０００５】
難燃剤、特にメラミンをベースとした難燃剤と、亜ホスホン酸及び亜リン酸からなる群より選択されたリン含有のオキソ酸のエステル誘導体との組み合わせの使用が、ＴＰＵの耐熱性及び機械的特性を改良することが今や見出された。
それ故、本発明は、
ａ）オキサホスホリンオキシド（ｏｘａｐｈｏｓｐｈｏｒｉｎｏｘｉｄｅ）、亜ホスホン酸及び亜リン酸からなる群より選択された少なくとも１種のリン含有のオキソ酸のエステル誘導体；
ｂ）窒素化合物をベースとした少なくとも１種の難燃剤成分；及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む組成物に関する。
好ましい態様に従うと、本発明は、
ａ）亜ホスホン酸及び亜リン酸からなる群より選択された少なくとも１種のリン含有のオキソ酸のエステル誘導体；
ｂ）窒素化合物をベースとした少なくとも１種の難燃剤成分；及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む組成物に関する。
本発明に従う組成物は、ＵＬ−９４（Ｕｎｄｅｒｗｒｉｔｅｒ’ｓ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ Ｓｕｊｅｃｔ ９４）に従う望ましいＶ−０評価、及び関連する試験方法において他の優秀な評価を得ている一方で、熱可塑性ポリウレタンの優れた機械的特性、化学的特性及び耐熱性、例えば色彩安定性及び光安定性を維持している。
【０００６】
該組成物は、上記定義されたように、以下の成分を有している。
成分ａ）
本発明に従う組成物は、成分ａ）として、オキサホスホリンオキシド（ｏｘａｐｈｏｓｐｈｏｒｉｎｏｘｉｄｅ）、亜ホスホン酸及び亜リン酸からなる群より選択された少なくとも１種のリン含有のオキソ酸のエステル誘導体を含む。
好ましい態様に従うと、本発明に従う組成物は、成分ａ）として、亜ホスホン酸及び亜リン酸からなる群より選択された少なくとも１種のリン含有のオキソ酸のエステル誘導体を含む。
オキサホスホリンオキシドは環構造を有しており、及び以下の一般式：
【化１】
により表される。
リン原子及び１個の酸素原子が、以下の代表的な化合物：
【化２】
により表されるように、環構造、特に５又は６員環の一部となっており、６Ｈ−ジベンズ［ｃ，ｅ］［１，２］オキサホスホリン−６−オキシド、３，４：５，６−ジベンゾ−２Ｈ−１，２−オキサホスホリン−２−オキシド又は９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスホリルフェナントレン−１０−オキシドとして命名され得るものは、ＤＯＰＯ（Ｃ．Ａ．ＲＮ３５９４８−２５−５）として略記される。そのような化合物は、サンコＨＣＡ（Ｓａｎｋｏ ＨＣＡ）から商業上入手可能である。
【０００７】
亜ホスホン酸は、以下の一般式：
【化３】
により表される。
該酸は、リン酸、亜リン酸又は亜ホスフィン酸のような他の構成物を含むリン含有のオキソ酸の広い群のうちの１種である。亜ホスホン酸は、水性溶液中で遊離形態では存在しない。
亜ホスホン酸のエステル誘導体は、以下の一般式
【化４】
（式中、Ｒは、有機エステル基を表し、及びＲ’は、リン原子に直接に結合した水素原子又は有機置換基を表す。）
により表される。
Ｒ’が水素原子を表す場合、式ＩＩ’はその範囲内に、以下の互変異性構造：
【化５】
を含む。
亜リン酸は、以下の一般式：
【化６】
により表される。
該酸は、リン含有のオキソ酸の広い群のうちの他の構成物であり、及び同様にその遊離形態で水性溶液中に存在しない。
亜リン酸のエステル誘導体は、用語ホスフィットにより定義される。それらは以下の一般式：
【化７】
（式中、Ｒは有機エステル基を表す。）
により表される。
【０００８】
好ましい態様は、成分ａ）として、以下の一般式：
【化８】
（式中、
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3のうちの１つ並びにＲ4、Ｒ5及びＲ6のうちの１つは水素原子を表し、及びその他は炭素原子数１ないし８のアルキル基又はアリール−炭素原子数１ないし４のアルキル基を表すか；又は
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3並びにＲ4、Ｒ5及びＲ6は、炭素原子数１ないし８のアルキル基を表す。）；又は
【化９】
（式中、Ｒ及びＲ’は炭素原子数９ないし２０のアルキル基を表す。）；又は
【化１０】
（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表すか；又は
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3のうちの１つ又は２つは水素原子を表し且つその他は炭素原子数１な
いし１８のアルキル基を表す。）；又は
【化１１】
（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3のうちの１つはメチル基を表し且つその他は炭素原子数３又は
４のアルキル基を表すか；又はＲ1、Ｒ2及びＲ3は互いに独立して炭素原子数１ないし４
のアルキル基を表し；及び
Ｒa及びＲbはメチル基又はエチル基を表す。）；又は
【化１２】
（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は互いに独立して、フェニル基又は炭素原子数５ないし２０の
アルキル基を表す。）；又は
【化１３】
（式中、ｘは２又は２より大きい数を表し；ｙは１又は１より大きい数を表し、及びＲ1
及びＲ2は互いに独立してフェニル基又は炭素原子数５ないし２０のアルキル基を表す。
）；又は
【化１４】
（式中、ｘは１又は１より大きい数を表し、及びｙは２又は２より大きい数を表す。）
により表されるような亜リン酸のエステル誘導体を含む組成物に関する。
【０００９】
好ましい態様は、成分ａ）として、
【化１５】
（イルガフォス（Ｉｒｇａｆｏｓ）（登録商標）ＴＮＰＰ、ドーバーフォス（Ｄｏｖｅｒｐｈｏｓ）（登録商標）ＨｉＰｕｒｅ４）、
【化１６】
（イルガフォス１６８、ドーバーフォスＳ−４８０、Ｓ−６８０）、
【化１７】
（イルガフォスＰ−ＥＰＱ、サンドスタブ（Ｓａｎｄｏｓｔａｂ）（登録商標）Ｐ−ＥＰＱ）、
【化１８】
（エタノックス（Ｅｔｈａｎｏｘ）（登録商標）３９８）
【化１９】
（ウルトラノックス（Ｕｌｔｒａｎｏｘ）（登録商標）６４１）、
【化２０】
【化２１】
（ドーバーフォスＳ−９２２８）、
【化２２】
（イルガフォス１２）
【化２３】
（マーク（Ｍａｒｋ）ＨＰ−１０）、
【化２４】
（ウルトラノックス６２６、イルガフォス１２６）、
【化２５】
（マークＰＥＰ３６）、
【化２６】
（ウェストン（Ｗｅｓｔｏｎ）（登録商標）６１８）、
【化２７】
（イルガフォス３８）
からなる群より選択された亜ホスホン酸及び亜リン酸のエステル誘導体を含む組成物に関する。
【００１０】
他の好ましい態様は、成分ａ）として、式
【化２８】
で表される環状オキサホスホリンオキシド或いはジプロピレングリコールホスフィット［ＣＡＳ ＲＮ ４０３０５−８６−０］、
【化２９】
【化３０】
【化３１】
【化３２】
【化３３】
、Ｐ（−Ｏ−イソＣ8Ｈ17）3、Ｐ（−Ｏ−Ｃ18Ｈ37）3、Ｐ（−Ｏ−イソＣ10Ｈ21）3、Ｐ（−Ｏ−Ｃ12Ｈ25）3、Ｐ（−Ｏ−２−エチルヘキシル）（−Ｏ−Ｃ6Ｈ5）2、（Ｃ6Ｈ5−Ｏ−）2Ｐ−Ｏ−Ｃ2Ｈ4Ｏ−Ｐ（−Ｏ−Ｃ6Ｈ5）2、［（Ｃ6Ｈ5−Ｏ−）2Ｐ］2（−Ｏ−Ｃ2Ｈ4）2［ＣＡＳ ＲＮ ５７０７７−４５−９］、（Ｃ6Ｈ5−Ｏ−）2Ｐ−Ｏ−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−Ｏ−Ｐ（−Ｏ−Ｃ6Ｈ5）2、［（Ｃ6Ｈ5−Ｏ−）2Ｐ］2（−ＯＣ2Ｈ5）14（
Ｃ6Ｈ5−Ｏ−Ｐ）6［ＣＡＳ ＲＮ ６７３８３−５４−４］、［（Ｃ6Ｈ5−Ｏ−）2Ｐ］2（−ＯＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2）14（Ｃ6Ｈ5−Ｏ−Ｐ）6［ＣＡＳ ＲＮ ８０５８４−８６
−７］、及びトリス［２−（２−ヒドロキシプロポキシ）−１−メチルエチル］亜リン酸エステル［ＣＡＳ ＲＮ １３４７４−９６−９］からなる群より選択された亜ホスホン酸及び亜リン酸のエステル誘導体を含む組成物に関する。
【００１１】
特に好ましい態様は、成分ａ）として、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−クミルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスフィット、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、２，２’，２”−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］、２−エチルヘキシル（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット、５−ブチル−５−エチル−２−（２，４，６−トリ−第三ブチルフェノキシ）−１，３，２−ジオキサホスフィランからなる群より選択された亜ホスホン酸及び亜リン酸のエステル誘導体を含む組成物に関する。
【００１２】
非常に好ましい態様は、成分ａ）として、トリスノニルフェニルホスフィット（ＴＮＰＰ ＤＯＶＥＲＰＨＯＳ ４）、トリフェニルホスフィット（ＴＰＰ ＤＯＶＥＲＰＨＯＳ １０）又はジフェニルホスフィット（ＤＰＰ ＤＯＶＥＲＰＨＯＳ ２１３）のようなアリール有機ホスフィット、フェニルジイソデシルホスフィット（ＰＤＤＰ ＤＯＶＥＲＰＨＯＳ ７）、ジフェニルイソデシルホスフィット（ＤＰＤＰ ＤＯＶＥＲＰＨＯＳ
８）、ジフェニルイソオクチルホスフィット（ＤＰＩＯＰ ＤＯＶＥＲＰＨＯＳ ９）、テトラフェニルジプロピレングリコールジホスフィット（ＴＨＯＰ ＤＯＶＥＲＰＨＯＳ １１）、ポリ（ジプロピレングリコール）フェニルホスフィット（ＤＨＯＰ ＤＯＶＥＲＰＨＯＳ １２）又はドデシルジフェニルホスフィット（ＤＤＰＰ）のようなアリール−アルキル有機ホスフィット、及びトリイソデシルホスフィット（ＴＤＰ ＤＯＶＥＲＰＨＯＳ ６）、トリストリデシルホスフィット（ＴＴＤＰ ＤＯＶＥＲＰＨＯＳ ４９）又はトリラウリルホスフィット（ＴＬＰ ＤＯＶＥＲＰＨＯＳ ５３）のようなアルキル有機ホスフィットからなる群より選択された亜ホスホン酸及び亜リン酸のエステル誘導体を含む組成物に関する。
【００１３】
本発明の他の非常に好ましい態様は、成分ａ）として、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスホリルフェナントレン−１０−オキシド（ＤＯＰＯ）、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット［ＣＡＳ ＲＮ ８０６９３−００−１］、［（Ｃ6Ｈ5−Ｏ−）2Ｐ］2（−Ｏ−Ｃ2Ｈ4）2［ＣＡＳ
ＲＮ ５７０７７−４５−９］、［（Ｃ6Ｈ5−Ｏ−）2Ｐ］2（−Ｏ−Ｃ2Ｈ5）14（Ｃ6
Ｈ5−Ｏ−Ｐ）6［ＣＡＳ ＲＮ ６７３８３−５４−４］及びトリフェニルホスフィットからなる群より選択された亜ホスホン酸又は亜リン酸のエステル誘導体を含む組成物に関
する。
ホスホン酸及び亜リン酸のエステル誘導体は既知の化合物であり、及び商業上入手可能である。
【００１４】
特に好ましい態様に従うと、本発明は、成分ａ）として、市販品イルガフォス１２６、１６８、３８、ＰＥＰＱ、１２、ＴＮＰＰ及びＤＤＰＰ、ウェストン６１８及びマークＰＥＰ３６からなる群より選択された亜ホスホン酸及び亜リン酸のエステル誘導体を含む組成物に関する。
特に好ましい態様に従うと、本発明は、成分ａ）が組成物の総質量に基づき１質量％以上の量で存在するところの、組成物に関する。
【００１５】
成分ｂ）
本発明に従う組成物は、成分ｂ）として、
【化３４】
【化３５】
【化３６】
【化３７】
【化３８】
【化３９】
及び
【化４０】
［化合物（ＩＩＩ）、（ＶＩＩ）及び（ＩＸ）中：
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3は互いに独立して、所望の置換基としてヒドロキシ基を有する炭素原
子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数５又は６のシクロアルキル基及び炭素原子数１ないし４のアルキル−炭素原子数５又は６のシクロアルキル基からなる群より選択された置換基を表すか；又は炭素原子数２ないし８のアルケニル基、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、炭素原子数２ないし８のアルケニル基；炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、炭素原子数６ないし１２のアリール基、−Ｏ−Ｒ1及び
−Ｎ（Ｒ1）Ｒ2（式中、Ｒ1及びＲ2は互いに独立して、水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素原子数５又は６のシクロアルキル基、炭素原子数２ないし８のアルケニル基、炭素原子数２ないし４のヒドロキシアルキル基又は炭素原子数６ないし１２のアリール基を表す。）からなる群より選択された置換基を表すか；又は
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3のうちの１つは、水素原子を表し、且つＲ1、Ｒ2及びＲ3のうちの２つは、上記定義された置換基を表すか；又は
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3のうちの２つは、水素原子を表し、且つＲ1、Ｒ2及びＲ3のうちの１つは、上記定義された置換基を表し；
Ｘは、プロトン酸のアニオンを表し；
ｘは、プロトン酸からトリアジン化合物に転移したプロトン数を表す数であり、；及び
ｙは、プロトン酸から引き抜かれたプロトンの数を表す数である。］
からなる群より選択された少なくとも１種の窒素化合物を含むが、
但し、
化合物（ＶＩＩ）中、プロトンを加え得る１つの基が存在しており；及び
式中のＲ1、Ｒ2及びＲ3が部分式−Ｎ（Ｒ1）Ｒ2を表し且つＲ1及びＲ2が水素原子を表
すところの化合物（ＩＩＩ）は除かれ；
及び化合物（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩ）及び（ＶＩＩＩ）中：
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は互いに独立して、水素原子又は所望の置換基としてヒド
ロキシ基を有する、炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数５又は６のシクロアルキル基及び炭素原子数１ないし４のアルキル−炭素原子数５又は６のシクロアルキル基からなる群より選択された置換基；又は炭素原子数２ないし８のアルケニル基、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、炭素原子数２ないし８のアルケニル基、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、炭素原子数６ないし１２のアリール基及び−Ｏ−Ｒ1（式中、Ｒ1は水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素原子数５又は６のシクロアルキル基、炭素原子数２ないし８のアルケニル基、炭素原子数１ないし４のヒドロキシアルキル基又は炭素原子数６ないし１２のアリール基を表す。）からなる群より選択された置換基を表す。
【００１６】
本発明の他の態様に従うと、該組成物は、成分ｂ）として、アンモニウムポリホスフェート、メラミンアンモニウムホスフェート、メラミンアンモニウムポリホスフェート、メラミンアンモニウムピロホスフェート、メラミンとリン酸との縮合生成物及びメラミンとリン酸との他の反応生成物からなる群より選択された少なくとも１種の窒素化合物及びそれらの混合物を含む。
式ＶＩＩ中の記号Ｘは例えば、リン酸、ポリリン酸（直鎖状又は枝分れ状）、ピロリン酸、ホスフィン酸、ホスホン酸又はホウ酸のアニオンである。
好ましい態様に従うと、該組成物は、成分ｂ）として、式中のＲ1、Ｒ2又はＲ3が互い
に独立して、炭素原子数１ないし４のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、炭素原子数１ないし４のヒドロキシアルキル基、炭素原子数２ないし６のアルケニル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、フェニル基；メチル基、メトキシ基からなる群より選択された１ないし３個の置換基により及びハロゲン原子、−ＯＲ1により及び−Ｎ（Ｒ1）Ｒ2（式中、Ｒ1及びＲ2は互いに独立して、水素原子、
炭素原子数１ないし４のアルキル基、ヒドロキシ−炭素原子数２ないし４のアルキル基、シクロアルキル基、メチルシクロヘキシル基、フェニル基又は、メチル基、メトキシ基からなる群より選択された１ないし３個の置換基により及びハロゲン原子により置換されたフェニル基を表す。）により置換されたフェニル基からなる群より選択された置換基を表すところの化合物（ＩＩＩ）、（ＶＩＩ）及び（ＩＸ）を含む。
特に好ましい態様に従うと、該組成物は、成分ｂ）として、式中のＲ1、Ｒ2又はＲ3の
うちの１つが水素原子を表し且つＲ1、Ｒ2又はＲ3のうちの２つが上記定義されたとおり
の置換基を表すか；又はＲ1、Ｒ2又はＲ3のうちの２つが水素原子を表し且つＲ1、Ｒ2又
はＲ3のうちの１つが上記定義されたとおりの置換基を表すところの化合物（ＩＩＩ）、
（ＶＩＩ）及び（ＩＸ）を含む。
【００１７】
他の好ましい態様に従うと、該組成物は、成分ｂ）として、式中のＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5が互いに独立して、水素原子或いは炭素原子数１ないし４のアルキル基、シクロ
ペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ヒドロキシ−炭素原子数２ないし４のアルキル基、炭素原子数２ないし６のアルケニル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、フェニル基；メチル基、メトキシ基及びハロゲン原子からなる群より選択された１ないし３個の置換基により及び−ＯＲ1（式中、Ｒ1は、水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、ヒドロキシ−炭素原子数２ないし４のアルキル基、シクロアルキル基、メチルシクロヘキシル基、フェニル基又は；メチル基、メトキシ基及びハロゲン原子からなる群より選択された１ないし３個の置換基により置換されるフェニル基を表す。）により置換されたフェニル基からなる群より選択された置換基を表すところの化合物（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩ）及び（ＶＩＩＩ）を含む。
特に好ましい態様に従うと、該組成物は、成分ｂ）として、ベンゾグアナミン（式ＩＩＩ、Ｒ1＝フェニル基、Ｒ2＝Ｒ3＝−ＮＨ2）、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート（式ＩＶ、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝−ＣＨ2−ＣＨ2−ＯＨ）、アラントイン（式Ｖ、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝Ｒ5＝Ｈ）、グリコールウリル（式ＶＩ、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝Ｈ）、メラミンホスフェート、ジメラミンホスフェート、メラミンピロホスフェート、メラミンボレ
ート（式ＶＩＩ型のすべて）、ウレアシアヌレート（式ＶＩＩＩ型）、メラミンシアヌレート（式ＩＸ型）、メラム又はメレムホスフェート、メラム又はメレムポリホスフェート、アンモニウムポリホスフェート及びメラミンアンモニウムホスフェート、ピロホスフェート及びポリホスフェートからなる群より選択された窒素化合物を含む。
上記定義され及び記載される窒素化合物は、既知の化合物であるか、又は既知の方法により得られ得る。それらの幾つかは商業上入手可能である。
【００１８】
特に好ましい態様に従うと、該組成物は、成分ｂ）として、化合物（ＶＩＩ）、化合物（ＩＸ）、アンモニウムポリホスフェート、メラミンアンモニウムホスフェート、メラミンアンモニウムポリホスフェート、メラミンアンモニウムピロホスフェート、メラミンとリン酸との縮合生成物及びメラミンとリン酸との他の反応生成物からなる群より選択された窒素化合物、及びそれらの混合物を含む。
非常に好ましい態様に従うと、該組成物は、成分ｂ）として、ベンゾグアナミン、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、アラントイン、グリコールウリル、メラミンシアヌレート、メラミンホスフェート、ジメチルアミンホスフェート、メラミンピロホスフェート、ウレアシアヌレート、メラミンポリホスフェート、メラミンボレート、アンモニウムポリホスフェート、メラミンアンモニウムポリホスフェート、メラミンアンモニウムピロホスフェート、メレム、メラム、メロン及び高縮合化合物からなる群より選択されたメラミンの縮合生成物、並びにメラミンとリン酸との他の反応生成物からなる群より選択された窒素化合物、及びそれらの混合物を含む。
特に強調されるのは、ジメラミンピロホスフェート、メラミンポリホスフェート、メレムポリホスフェート、メラムポリホスフェート、及び／又はそれらの混合ポリ塩、特にメラミンポリホスフェートである。
非常に好ましい態様に従うと、該組成物は、成分ｂ）として、メラミンシアヌレート、例えばメラプアＭＣ（ＭＥＬＡＰＵＲ ＭＣ）、ＭＣ１５、ＭＣ２５、ＭＣ５０の名称の下で商業上入手可能なものを含む。
成分ａ）とｂ）の比は、広い限定内で変化し得、及び意図された用途に応じる。比ａ：ｂ（質量比）の例は、５：９５ないし９５：５であり、例えば１０：９０ないし９０：１０であり、好ましくは２０：８０ないし８０：２０であり、とりわけ３０：７０ないし７０：３０であり、及び４０：６０ないし６０：４０である。
【００１９】
成分ｃ）
本発明に従う組成物は、成分ｃ）として、ポリウレタンポリマー基材を含む。
該ポリマー基材は、熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ）、ＰＵエラストマー、合成革、ＰＵスキン、ＰＵストレーコーティング又は反応射出成形（ＲＩＭ）、キャストＰＵ、シリル化ポリウレタン（ＳＰＵＲ）、ＰＵホットメルト接着剤又はＰＵホットメルト接着剤であり得る。
ポリウレタンは、例えば、末端ヒドロキシル基を含むポリエーテル、ポリエステル及びポリブタジエン、即ちポリオールと、脂肪族又は芳香族ポリイソシアネートとの反応により得られ得る。
末端ヒドロキシル基を有するポリエーテル及びポリエステルは既知であり、及び例えば、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド、テトラヒドロフラン、スチレンオキシド又はエピクロロヒドリンのようなエポキシドと、それら自体とを、例えばＢＦ3の存在下で重合させることにより、或いは、反応性水素原子を含む出発成分、例え
ばアルコール、アンモニア又はアミン、例えばエチレングリコール、プロピレン１，３−及び１，２−グリコール、トリメチロールプロパン、４，４’−ジヒドロキシジフェニルプロパン、アニリン、エタノールアミン又はエチレンジアミンを用いることにより、単独で又は混合物として又は連続して、これらエポキシドの付加反応により、製造される。スクロースポリエーテルがまた、本発明に関して適している。多くの場合、好ましくは、優先的に（ポリエーテル中に存在するすべてのＯＨ基に基づき９０質量％まで）、第１ＯＨ
基を含むそれらのポリエーテルである。さらにその上、例えば、ポリエーテルの存在下でスチレンとアクリロニトリルを重合させることにより形成されるような、ビニルポリマーにより変性されたポリエーテルが適しており、これらはＯＨ基を含むポリブタジエンである。
【００２０】
これらの化合物は、一般的に、４０の分子量を有し、及びポリヒドロキシ化合物、とりわけ２個から８個のヒドロキシル基を含む化合物、とりわけ８００ないし１００００、好ましくは１０００ないし６０００の分子量のもの、例えば、少なくとも２個、一般的には２ないし８個であるが、好ましくは２ないし４個のヒドロキシル基を含むポリエーテルであり、これらは均質なポリウレタン及び多孔質ポリウレタンの製造について既知である。
少なくとも２個のイソシアネート反応性の水素原子を含み、特に４００ないし１００００の分子量を有する上記化合物の混合物を使用することがもちろん可能である。
適するポリイソシアネートは、脂肪族、脂環式、芳香脂肪族、芳香族及びヘテロ環式ポリイソシアネート、例えばエチレンジイソシアネート、１，４−テトラメチレンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、１，１２−ドデカンジイソシアネート、シクロブタン１，３−ジイソシアネート、シクロヘキサン１，３−及び−１，４−ジイソシアネート及びまたそれらの異性体のいずれの所望の混合物、１−イソシアナート−３，３，５−トリメチル−５−イソシアナートメチルシクロヘキサン、２，４−及び２，６−ヘキサヒドロトリレンジイソシアネート及びまたそれらの異性体のいずれの所望の混合物、ヘキサヒドロ−１，３−及び／又は−１，４−フェニレンジイソシアネート、パーヒドロ−２，４’−及び／又は−４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、１，３−及び１，４−フェニレンジイソシアネート、２，４−及び２，６−トリレンジイソシアネート、及びまたそれらの異性体のいずれの所望の混合物、ジフェニルメタン２，４’−及び／又は−４，４’−ジイソシアネート、ナフチレン１，５−ジイソシアネート、トリフェニルメタン４，４’，４”−トリイソシアネート、アニリン−ホルムアルデヒド縮合、その後のホスゲン化により得られるようなポリフェニル−ポリメチレンポリイソシアネート、ｍ−及びｐ−イソシアナートフェニルスルホニルイソシアネート、完全塩素化アリールポリイソシアネート、カルボジイミド基を含むポリイソシアネート、アロファネート基を含むポリイソシアネート、イソシアヌレート基を含むポリイソシアヌレート、ウレタン基を含むポリイソシヌレート、アシル化尿素基を含むポリイソシアネート、ビウレット基を含むポリイソシアネート、エステル基を含むポリイソシアネート、上記のイソシアネートとアセタールとの反応生成物、及びポリマー状脂肪酸基を含むポリイソシアネートである。
【００２１】
イソシアネート基を含む蒸留残渣が１種以上の上記ポリイソシアネート中に溶解されるためにそれらを使用することがまた可能であり、それらはイソシアネートの工業的製造過程により得られる。上記ポリイソシアネートのいずれの所望の混合物を使用することがさらに可能である。
特に好ましくは一般的に、工業的にたやすく得られ得るポリイソシアネート、例えば、芳香族イソシアネート、例えば２，４−及び２，６−トリレンジイソシアネート及びそれらの異性体のいずれの所望の混合物（“ＴＤＩ”）、アニリン−ホルムアルデヒド縮合、その後のホスゲン化により製造されるようなポリフェニル−ポリメチレン−ポリイソシアネート（“粗ＭＤＩ”）、及びカルボジイミド、ウレタン、アロファネート、イソシアヌレート、尿素又はビウレット基を含むポリイソシアネート（“変性ポリイソシアネート”）である。
ポリウレタンは、好ましくは、液体状の出発成分、即ちワンショットプロセスにおいて互いに一緒に混合されることにより反応される出発成分から製造される。
【００２２】
成分ｃ）のポリマー基材は、混合物として又はコポリマーとしての形態で、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリエステル、ポリエーテル、ポリアミド、ポリ（メタ）アクリレ
ート、熱可塑性ポリウレタン、ポリスルホン、ポリアセタール及びＰＶＣを含む広い種々の他の合成ポリマー、適する相溶剤をさらに含み得る。例えば、ポリマー基材は、ポリオレフィン、熱可塑性ポリウレタン、スチレンポリマー及びそれらのコポリマーからなる樹脂群より選択された熱可塑性ポリマーをさらに含み得る。特別の態様は、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、グリコール変性されたポリシクロヘキシレンメチレンテレフタレート（ＰＣＴＧ）、ポリスルホン（ＰＳＵ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン（ＡＢＳ）、アクリロニトリル−スチレン−アクリルエステル（ＡＳＡ）、アクリロニトリル−エチレン−プロピレン−スチレン（ＡＥＳ）、スチレン−マレイン酸無水物（ＳＭＡ）又は高耐衝撃性ポリスチレン（ＨＩＰＳ）を含む。
【００２３】
適する合成ポリマーの列挙は以下に与えられる：
１．モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ−１−エン、ポリ−４−メチルペンテ−１−エン、ポリビニルシクロヘキサン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロオレフィン、例えばシクロペンテン又はノルボルネンのポリマー、ポリエチレン（所望により架橋され得る）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度及び高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度及び超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、（ＶＬＤＰＥ）及び（ＵＬＤＰＥ）。前段落において例示したモノオレフィンのポリマー、好ましくはポリエチレン及びポリプロピレンは、種々の及びとりわけ以下の方法により調製され得る：
ａ）ラジカル重合（通常は高圧下及び高温において）。
ｂ）周期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂ又はＶＩＩＩ族の金属の一つ又はそれ以上を通常含む触媒を使用した触媒重合。これらの金属は通常、一つ又はそれ以上の配位子、典型的にはπ−又はσ−配位し得るオキシド、ハロゲン化物、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル及び／又はアリールを有する。これらの金属錯体は遊離形態であるか、又は基材に、典型的には活性化塩化マグネシウム、チタン（ＩＩＩ）クロリド、アルミナ又は酸化ケイ素に固定され得る。これらの触媒は、重合媒体中に可溶又は不溶であり得る。該触媒は重合においてそのまま使用され得、又は他の活性化剤、典型的には金属アルキル、金属ヒドリド、金属アルキルハライド、金属アルキルオキシド又は金属アルキルオキサンであって、該金属が周期表のＩａ、ＩＩａ及び／又はＩＩＩａ族の元素であるものが使用され得る。活性化剤は、他のエステル、エーテル、及びアミン又はシリルエーテル基で都合良く変性され得る。これらの触媒系は大抵、フィリップス（Ｐｈｉｌｉｐｓ）、スタンダードオイルインディアナ（Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｏｉｌ Ｉｎｄｉａｎａ）、チグラー（Ｚｉｅｇｌｅｒ）（−ナッタ（Ｎａｔｔａ））、ＴＮＺ（デュポン（ＤｕＰｏｎｔ））、メタロセン又はシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と命名される。
【００２４】
２．１）で言及されたポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンの混合物、ポリプロピレンとポリエチレン（例えば、ＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）の混合物、及び異なる型のポリエチレンの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００２５】
３．モノオレフィン及びジオレフィンの互いの又は他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）及びその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテ−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテ−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキサンコポリマー、エチレン／シクロオレフィンコポリマー（例えば、エチレン／ノルボルネンのような
ＣＯＣ）、１−オレフィンがその場で生成されるエチレン／１−オレフィンコポリマー；プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキセンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマー又はエチレン／アクリル酸コポリマー及びそれらの塩（アイオノマー）並びにエチレンとプロピレン及びへキサジエン、ジシクロペンタジエン又はエチリデン−ノルボルネンのようなジエンとのターポリマー；及びそのようなコポリマーの互いの及び１）で上述したポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ及び交互の又はランダムのポリアルキレン／一酸化炭素コポリマー及びそれらの他のポリマー、例えばポリアミドとの混合物。
【００２６】
４．水素化変性物（例えば粘着付与剤）を含む炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）及びポリアルキレン及びデンプンの混合物；
上記のホモポリマー及びコポリマーは、シンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチック又はアタクチックを含むいずれの立体構造をも有し得；アタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロックポリマーがまた含まれる。
【００２７】
５．ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン）。
【００２８】
６．スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンの全ての異性体、とりわけｐ−ビニルトルエン、エチルスチレン、プロピルスチレン、ビニルビフェニル、ビニルナフタレン、及びビニルアントラセンの全ての異性体、及びそれらの混合物を含む芳香族ビニルモノマーから誘導された芳香族ホモポリマー及びコポリマー。ホモポリマー及びコポリマーはシンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチック又はアタクチックを含むいずれの立体構造をも有し得；アタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロックポリマーがまた含まれる。
ａ）上述された芳香族ビニルモノマー及びエチレン、プロピレン、ジエン、ニトリル、酸、マレイン酸無水物、マレイミド、酢酸ビニル及び塩化ビニル又はアクリル誘導体及びその混合物から選択されたコモノマーを含むコポリマー、例えば、スチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／エチレン（共重合体）、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン／マレイン酸無水物、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート；スチレンコポリマー及び他のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマー又はエチレン／プロピレン／ジエンターポリマーの高耐衝撃性の混合物；及びスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン又はスチレン／エチレン／プロピレン／スチレンのようなスチレンのブロックコポリマー。
ｂ）６．）で言及されたポリマーの水素化から誘導された水素化芳香族ポリマー、とりわけアタクチックポリスチレンを水素化することにより製造されるポリシクロヘキシルエチレン（ＰＣＨＥ）を含み、それはしばしばポリビニルシクロヘキサン（ＰＶＣＨ）として言及される。
ｃ）６ａ．）で言及されたポリマーの水素化から誘導された水素化芳香族ポリマー。
ホモポリマー及びコポリマーはシンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチック又はアタクチックを含むいずれの立体構造をも有し得；アタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロックポリマーがまた含まれる。
【００２９】
７．スチレン又はα−メチルスチレンのような芳香族ビニルモノマーのグラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジエン−スチレン又はポリブタジエン−アクリロニトリルコポリマーにスチレン；ポリブタジエンにスチレン及びアクリロニトリ
ル（又はメタクリロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリル及びメチルメタクリレート；ポリブタジエンにスチレン及びマレイン酸無水物；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリル及びマレイン酸無水物又はマレイミド；ポリブタジエンにスチレン及びマレイミド；ポリブタジエンにスチレン及びアルキルアクリレート又はメタクリレート；エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーにスチレン及びアクリロニトリル；ポリアルキルアクリレート又はポリアルキルメタクリレートにスチレン及びアクリロニトリル；アクリレート／ブタジエンコポリマーにスチレン及びアクリロニトリル、並びにそれらの６）に列挙されたコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡ又はＡＥＳポリマーとして既知であるコポリマー混合物。
【００３０】
８．ポリクロロプレン、塩化ゴム、イソブチレン−イソプレンの塩化及び臭化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩化又はスルホ塩化ポリエチレン、エチレン及び塩化エチレンのコポリマー、エピクロロヒドリンホモ−及びコポリマーのようなハロゲン原子含有ポリマー、とりわけハロゲン原子含有ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ボリフッ化ビニリデン並びに塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニル又は塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマーのようなそれらのコボリマー。
【００３１】
９．α，β−不飽和酸から誘導されたポリマー及びポリアクリレート及びポリメタクリレートのようなその誘導体；ブチルアクリレートで耐衝撃性が改良されたポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド及びポリアクリロニトリル。
【００３２】
１０．９）で言及されたモノマーの互いの又は他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレート又はアクリロニトリル／ビニルハライドコポリマー又はアクリロニトリル／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリマー。
【００３３】
１１．不飽和アルコール及びアミンから誘導されたポリマー又はそれらのアシル誘導体又はアセタール、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレート又はポリアリルメラミン；並びに上記１．で言及されたオレフィンとのそれらのコポリマー。
【００３４】
１２．ポリアルキレングリコール、ボリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドのような環状エーテルのホモポリマー及びコポリマー又はビスグリシジルエーテルとそれらのコポリマー。
【００３５】
１３．ポリオキシメチレンのようなポリアセタール及びコモノマーとしてエチレンオキシドを含むポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレート又はＭＢＳで変性されたポリアセタール。
【００３６】
１４．ポリフェニレンオキシド及びスルフィド、及びポリフェニレンオキシドとスチレンポリマー又はポリアミドとの混合物。
【００３７】
１５．ジアミシとジカルボン酸から及び／又はアミノカルボン酸又は対応するラクタムから誘導されたポリアミド及びコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミン及びアジピン酸から開始した芳香族ポリアミド；へキサメチレンジアミン及びイソフタル酸及び／又はテレフタル酸から及び変性剤としてのエ
ラストマーを用いて又は用いずに製造されたポリアミド、例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミド又はポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド：及び上述されたポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマー又は化学的に結合されたか又はグラフトされたエラストマーとのブロックコポリマー；又は例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール又はポリテトラメチレングリコールのようなポリエーテルとのブロックコポリマー；並びにＥＰＤＭ又はＡＢＳで変性されたポリアミド又はコポリアミド；及び加工の間に縮合されたポリアミド（ＲＩＭポリアミド系）。
【００３８】
１６．ポリ尿素、ポリイミド、ボリアミド−イミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリヒダントイン及びポリベンズイミダゾール。
【００３９】
１７．ジカルボン酸とジオールから及び／又はヒドロキシカルボン酸又は対応するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリアルキレンナフタレート（ＰＡＮ）及びポリヒドロキシベンゾエート、並びにヒドロキシル末端化ポリエーテルから誘導されたブロックポリエーテルエステル；及びまたポリカーボネート又はＭＢＳで変性されたポリエステル。
【００４０】
１８．ポリケトン。
【００４１】
１９．ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリエーテルケトン。
【００４２】
２０．前述のポリマーのブレンド（ポリブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭ又はＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６及びコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳ又はＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
【００４３】
本発明に従う組成物の製造は、本発明に従う成分ａ）及びｂ）からなる難燃剤を添加することにより又は塗布することにより行われ得るが、しかしながら、個々の成分を別々に添加するか又は塗布することにより、行われ得る。
好ましくは、ポリマー基材の質量に基づき、０．１ないし３０．０質量％、例えば０．２ないし２０．０質量％、好ましくは０．２ないし１５．０質量％の濃度での、各々互いに独立した成分ａ）及びｂ）の使用である。
本発明に従う組成物は、組成物に基づき、例えば０．１ないし５０．０質量％、好ましくは０．３ないし４０．０質量％、とりわけ０．３ないし３０．０質量％又は０．８ないし３０．０質量％の量で、成分ａ）及びｂ）からなる難燃剤を含む。
難燃性ポリマー組成物はとりわけ、例えば射出成形、押出し又は圧縮成形による、成形品、フィルム、糸及び繊維の製造に適している。
【００４４】
添加成分
本発明はさらに、上記定義された成分ａ）、ｂ）及びｃ）の他に、ｄ）ポリマー安定剤からなる群より選択されたさらなる添加剤、並びに、リン含有の難燃剤、ハロゲン化難燃剤及び無機難燃剤からなる群より選択されたさらなる難燃剤を含む組成物に関する。
安定剤は、好ましくは、ハロゲン非含有であり、及び、ニトロキシル安定剤、ニトロン安定剤、アミンオキシド安定剤、ベンゾフラノン安定剤、ホスフィット及びホスホナイト安定剤、キノンメチド（ｑｕｉｎｏｎｅ ｍｅｔｈｉｄｅ）安定剤及び２，２’−アルキリデンビスフェノール安定剤より選択される。
本発明における該成分ｄ）としてのさらなる難燃剤は、商品であるか又は既知の方法により得られ得る既知の成分である。
成分ａ）について上記定義されたものの他の、代表的なリン含有の難燃剤は、例えば：
テトラフェニルレゾルシノールジホスフィット（フィロルフレックス（ＦＹＲＯＬＦＬＥＸ）（登録商標）ＲＤＰ，アクゾ ノベル（Ａｋｚｏ Ｎｏｂｅｌ）社）、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウムスルフィド、トリフェニルホスフェート、ジエチル−Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−アミノメチルホスホネート、リン酸のヒドロキシアルキルエステル、レゾルシノールジホスフェートオリゴマー（ＲＤＰ）、ホスファゼン難燃剤又はエチレンジアミンジホスフェート（ＥＤＡＰ）である。
【００４５】
代表的なハロゲン化難燃剤は例えば：
ポリ臭素化ジフェニルオキシド（ＤＥ−６０Ｆ，グレート レイクス社（Ｇｒｅａｔ Ｌａｋｅｓ Ｃｏｒｐ．），デカブロモジフェニルオキシド（ＤＢＤＰＯ；セイテックス（ＳＡＹＴＥＸ）（登録商標）１０２Ｅ）、トリス［３−ブロモ−２，２−ビス（ブロモメチル）プロピル］ホスフェート（ＰＢ３７０（登録商標），ＦＭＣ社）、トリス（２，３−ジブロモプロピル）ホスフェート、トリス（２，３−ジクロロプロピル）ホスフェート、クロレンド酸、テトラクロロフタル酸、テトラブロモフタル酸、ポリ−β−クロロエチルトリホスホネート混合物、テトラブロモビスフェノールＡビス（２，３−ジブロモプロピルエーテル）（ＰＥ６８）、臭素化エポキシ樹脂、エチレン−ビス（テトラブロモフタルイミド）（セイテックスＢＴ−９３）、ビス（ヘキサクロロシクロペンタジエノ）−シクロオクタン（デクロレーン プラス（ＤＥＣＬＯＲＡＮＥ ＰＬＵＳ）（登録商標））、塩素化パラフィン、オクタブロモジフェニルエーテル、ヘキサクロロシクロペンタジエン誘導体、１，２−ビス（トリブロモフェノキシ）エタン（ＦＦ６８０）、テトラブロモビスフェノールＡ（セイテックスＲＢ１００）、エチレンビス−（ジブロモ−ノルボルナンジカルボキシミド）（セイテックスＢＮ−４５１）、ビス−（ヘキサクロロシクロエンタデノ）シクロオクタン、ＰＴＦＥ、トリス−（２，３−ジブロモプロピル）−イソシアヌレート、及びエチレン−ビス−テトラブロモフタルイミドである。
【００４６】
上記の難燃剤は、通常は、無機オキシド相乗剤と組み合わされる。この使用について最も一般的なのは、酸化亜鉛又は酸化アンチモン、例えばＳｂ2Ｏ3又はＳｂ2Ｏ5である。ホウ素化合物がまた適する。
上記の難燃剤群は、有機ポリマー基材のおよそ０．５質量％ないしおよそ４５．０質量％；例えばおよそ３．０質量％ないしおよそ４０．０質量％；例えばポリマーのおよそ５．０質量％ないしおよそ３５．０質量％の量で、本発明の組成物中に有利に含まれる。例えば、成分ｂ）の難燃剤は、ポリマー基材の質量に基づき、およそ０．５質量％ないしおよそ１０．０質量％、およそ１．０質量％ないしおよそ１０．０質量％、およそ３．０質量％ないしおよそ１０．０質量％、又はおよそ５．０質量％ないしおよそ１０．０質量％で使用される。例えば、成分ｂ）は、ポリマー基材の質量に基づき、およそ０．５質量％ないしおよそ８．０質量％、およそ０．５質量％ないしおよそ６．０質量％、およそ０．５質量％ないしおよそ５．０質量％、又はおよそ０．５質量％ないしおよそ３．０質量％で使用される。
【００４７】
上記したように、本発明に従う組成物は、１種以上の慣用の添加剤、例えば、顔料、染料、可塑剤、抗酸化剤、チキソトロピー剤、平滑剤、塩基性の補助安定剤、金属奪活剤、金属オキシド、有機リン化合物、さらなる光安定剤及びそれらの混合物、とりわけ、顔料、フェノール系抗酸化剤、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール及び／又は２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン群のＵＶ吸収剤をさらに含み得る。より特別な例は以下の成分である。
【００４８】
１．抗酸化剤
１．１．アルキル化モノフェノール、
例えば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、直鎖状又は側鎖において枝分れしたノニルフェノール、例えば、２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノール及びそれらの混合物。
【００４９】
１．２．アルキルチオメチルフェノール、
例えば、２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【００５０】
１．３．ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン、
例えば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【００５１】
１．４．トコフェロール、
例えば、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール及びそれらの混合物（ビタミンＥ）。
【００５２】
１．５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、
例えば、２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ−第二アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
【００５３】
１．６．アルキリデンビスフェノール、
例えば、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）−フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル
フェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス（３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【００５４】
１．７．Ｏ−、Ｎ−及びＳ−ベンジル化合物、
例えば、３，５，３’，５’−テトラ−第三ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
【００５５】
１．８．ヒドロキシベンジル化マロネート、
例えば、ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジ［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【００５６】
１．９．芳香族ヒドロキシベンジル化合物、
例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【００５７】
１．１０．トリアジン化合物、
例えば、２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【００５８】
１．１１．ベンジルホスホネート、
例えば、ジメチル２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
【００５９】
１．１２．アシルアミノフェノール、
例えば、４−ヒドロキシラウリン酸アニリド、４−ヒドロキシステアリン酸アニリド、Ｎ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバミン酸オクチルエステル。
【００６０】
１．１３．β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のエステルであって、一価又は多価アルコール、例えば、
メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、イソオクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００６１】
１．１４．β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸のエステルであって、一価又は多価アルコール、例えば、
メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、イソオクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン；３，９−ビス［２−｛３−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカンとのエステル。
【００６２】
１．１５．β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のエステルであって、一価又は多価アルコール、例えば、
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００６３】
１．１６． ３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸のエステルであって、一価又は多価アルコール、例えば、
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオー
ル、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００６４】
１．１７．β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例えば、
Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス［２−（３−［３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド（ユニロイヤル（Ｕｎｉｒｏｙａｌ）からのナウガード（Ｎａｕｇａｒｄ）（登録商標）ＸＬ−１）。
【００６５】
１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ）
【００６６】
１．１９．アミン系抗酸化剤、
例えば、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルホンアミド）−ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ’−ジ−第三オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ジ（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−第三ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ジ（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）−ビグアニド、ジ［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’
，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジ−４−イル−ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケート、２，２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オール。
【００６７】
２．ＵＶ吸収剤及び光安定剤
２．１． ２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）−フェニル−ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾリ−２−イルフェノール］；２−［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシ−フェニル］−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換生成物；［Ｒ−ＣＨ2ＣＨ2−ＣＯＯ−ＣＨ2ＣＨ2−］2−（式中、Ｒは
３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イルフェニル基を表す。）、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（α，α−ジメチルベンジル）−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル］−ベンゾトリアゾール；２−［２’−ヒドロキシ−３’− （１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５’−（α，α
−ジメチルベンジル）−フェニル］−ベンゾトリアゾール。
【００６８】
２．２． ２−ヒドロキシベンゾフェノン、
例えば、４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシ又は２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
【００６９】
２．３．置換された及び未置換の安息香酸のエステル、
例えば、４−第三ブチル−フェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸２，４−ジ−第三ブチルフェニルエステル、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシ安息香酸ヘキサデシルエステル、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸オクタデシルエステル、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸２−メチル−４，６−ジ−第三ブチルフェニルエステル。
【００７０】
２．４．アクリレート、
例えば、α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリル酸エチルエステル又はイソオクチルエステル、α−メトキシカルボニルケイ皮酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシケイ皮酸メチルエステル又はブチルエステル、α−メトキシカルボニル−ｐ−メトキシケイ皮酸メチルエステル、Ｎ−（β−メトキシカルボニル−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。
【００７１】
２．５．ニッケル化合物、
例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン又はＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンのような付加的な配位子を所望により有する１：１又は１：２錯体のような２，２’−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステル、例えば４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のメチル又はエチルエステルのニッケル塩、ケトキシムの、例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニル−ウンデシルケトキシムのニッケル錯体、付加的な配位子を所望により有する１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。
【００７２】
２．６．立体障害性アミン、
例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジ−４−イル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケート、ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）エステル、１−ヒドロキシエチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸の縮合生成物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−ｓ−トリアジンの直鎖状又は環状縮合生成物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラオエート、１，１’−（１，２−エタンジイル）ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの直鎖状又は環状縮合生成物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス−（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−と４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合生成物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン並びに４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの縮合生成物（ＣＡＳ登録番号［１３６５０４−９６−６］）；１，６−ジアミノヘキサン及び２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン及びまたＮ，Ｎ−ジブチルアミン及び４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの縮合生成物（ＣＡＳ登録番号［１９２２６８−６４−７］）；Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４．５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４．５］デカンとエピクロロヒドリンの反応生成物、１，１−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エテン、Ｎ，Ｎ’−ビス−ホルミル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、４−メトキシメチレンマロン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、マレイン酸無水物−α−オレフィンコポリマーと２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジン又は１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物。
【００７３】
２．７．シュウ酸ジアミド、
例えば、４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−第三ブチルオキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−第三ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサルアミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エチルオキサニリド及びその２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−第三ブチルオキサニリドとの混合物、ｏ−及びｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物及びｏ−及びｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【００７４】
２．８． ２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、
例えば、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル−フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒ
ドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−｛２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル｝−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン。
【００７５】
３．金属奪活剤、
例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイル−ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）シュウ酸ジヒドラジド、オキサニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸ビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジピン酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイルシュウ酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイルチオプロピオン酸ジヒドラジド。
【００７６】
４．ヒドロキシルアミン、
例えば、Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、水素化牛脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
【００７７】
５．ニトロン、
例えば、Ｎ−ベンジル−α−フェニルニトロン、Ｎ−エチル−α−メチルニトロン、Ｎ−オクチル−α−ヘプチルニトロン、Ｎ−ラウリル−α−ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシル−α−トリデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシルニトロン、水素化牛脂アミンから製造されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
【００７８】
６．チオ相乗剤、
例えば、チオジプロピオン酸ジラウリルエステル又はチオジプロピオン酸ジステアリルエステル。
【００７９】
７．パーオキシド破壊化合物、
例えば、β−チオジプロピオン酸のエステル、例えば、ラウリル、ステアリル、ミリスチル又はトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【００８０】
８．ポリアミド安定剤
例えば、ヨウ化物及び／又はリン化合物と組み合わせた銅塩及び二価マンガンの塩。
【００８１】
９．塩基性の補助安定剤
例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、例えばステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ベヘン酸マグネシウム、ステアリン酸マグネシウム、リシノール酸ナトリウム及びパルミチン酸カリウム、ピロカテコール酸アンチモン又はピロカテコール酸亜鉛。
【００８２】
１０．核剤、
例えば、無機物質、例えばタルク、二酸化チタン、酸化マグネシウムのような金属酸化物、好ましくはアルカリ土類金属のリン酸塩、炭酸塩又は硫酸塩；モノ−又はポリカルボン酸のような有機化合物及びそれらの塩、例えば、４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム又は安息香酸ナトリウム；イオンコポリマー（“アイオノマー”）のようなポリマー化合物。特に好ましくは、１，３：２，４−ビス（３’，４’−ジメチルベンジリデン）ソルビトール、１，３：２，４−ジ（パラメチルジベンジリデン）ソルビトール及び１，３：２，４−ジ（ベンジリデン）ソルビトールである。
【００８３】
１１．充填材及び強化剤、
例えば、炭酸カルシウム、シリケート、ガラス繊維、ガラス球、アスベスト、タルク、カオリン、マイカ、硫酸バリウム、金属酸化物及び金属水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木粉及び他の天然物の粉末又は繊維、合成繊維。
【００８４】
１２．ベンゾフラノン及びインドリノン、
例えば、米国特許第４，３２５，８６３号明細書；米国特許第４，３３８，２４４号明細書；米国特許第５，１７５，３１２号明細書；米国特許第５，２１６，０５２号明細書；米国特許第５，２５２，６４３号明細書；独国特許出願公開第４３１６６１１号明細書；独国特許出願公開第４３１６６２２号明細書；独国特許出願公開第４３１６８７６号明細書；欧州特許出願公開第０５８９８３９号明細書又は欧州特許出願公開第０５９１１０２号明細書に開示されるもの又は３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン。
【００８５】
１３．抗ガス退色剤
例えば、１，１，１’，１’−テトラメチル−４，４’−（メチレン−ジ−ｐ−フェニレン）ジセミカルバジド；１，６−ヘキサメチレンビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルセミカルバジド）；１１−［６−［［（２，２−ジ−メチルヒドラジノ）カルボニル］アミノ］ヘキシル］−１０，１２−ジオキソ−ビス（２，２−ジメチルヒドラジド）。
【００８６】
１４．他の添加剤
例えば、可塑剤、滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、流れ調節剤、蛍光増白剤、防炎加工剤、帯電防止剤及び発泡剤。
【００８７】
成分ｃ）のさらなる添加剤は、例えば、本発明の組成物の全質量に関して、０．０１ないし１０．０％の濃度で添加される。
添加剤ａ）及びｂ）及び所望のさらなる成分のポリマー成分ｃ）への配合は、粉体の形態での乾燥ブレンド、或いは、例えば不活性溶媒、水又はオイル中の溶液、分散液又は懸濁液形態での湿式混合のような既知の方法により行われる。添加剤成分ａ）及びｂ）及び所望のさらなる添加剤は、例えば、成形の前後に、或いはまた、その後の溶媒又は懸濁／分散剤の蒸発を伴ってまたは伴わずに、溶解されたか又は分散された添加剤又は添加剤混合物をポリマー材に塗布することにより、配合され得る。それらは、例えば乾燥混合物又は粉体として、或いは溶液又は分散液又は懸濁液又は溶融物として、加工機（例えば、押出機、内部ミキサー等）に直接に添加され得る。
ポリマー基材ｃ）への添加剤成分の添加は、ポリマーが添加剤と溶融され且つ混合されるすべての慣用の混合機内で行われ得る。適する機械は、当業者に既知である。それらは優先的に、ミキサー、ニーダー及び押出機である。
加工は好ましくは、加工の間に添加剤を導入することにより押出機内で行われる。
特に好ましい加工機は、一軸スクリュー押出機、逆回転及び同一回転二軸スクリュー押出機、遊星ギア押出機、リング押出機又はコニーダーである。真空が適用され得る少なくとも１つのガス除去室付きの加工機を使用することがまた可能である。
【００８８】
適する押出機及びニーダーは例えば、Ｈａｎｄｂｕｃｈ ｄｅｒ Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆｅｘｔｒｕｓｉｏｎ，Ｖｏｌ．１ Ｇｒｕｎｄｌａｇｅｎ，編者 Ｆ．Ｈｅｎｓｅｎ，Ｗ．Ｋｎａｐｐｅ，ＨＰｏｔｅｎｔｅ，１９８９，ｐｐ．３−７，ＩＳＢＮ：３−４４６−１４３３９−４（Ｖｏｌ．２ Ｅｘｔｒｕｓｉｏｎｓａｎｌａｇｅｎ １９８６，ＩＳＢＮ ３−４４６−１４３２９−７）に記載される。
例えば、スクリュー長は、１ないし６０スクリュー直径であり、好ましくは３５ないし４８スクリュー直径である。スクリューの回転速度は、好ましくは１分当り１０ないし６００回転（ｒｐｍ）であり、非常に特に好ましくは２５ないし３００ｒｐｍである。
最大処理量は、スクリュー直径、回転速度及び駆動力による。本発明の方法はまた、言及したパラメータを変えるか又は適用量を与える計量機を使用することにより、最大処理量よりも低い水準で行われ得る。
多くの成分が添加される場合、これらは前混合され得るか又は個々に添加され得る。
【００８９】
添加剤成分ａ）及びｂ）及び所望のさらなる添加剤はまた、ポリマー基材ｃ）に噴霧され得る。添加剤混合物は、他の添加剤、例えば上記示された慣用の添加剤、或いはそれら添加剤と一緒にポリマー基材に噴霧され得るようにそれらの溶融物を希釈する。重合触媒の失活の間の噴霧による添加は、特に有利であり；この場合、発生した蒸気は触媒の失活に使用され得る。球状に重合されたポリオレフィンの場合には、所望により他の添加剤と一緒に、本発明の添加剤を噴霧により塗布することが有利であり得る。
添加剤成分ａ）及びｂ）及び所望のさらなる添加剤はまた、例えば、ポリマーに配合されるおよそ１．０質量％ないしおよそ４０．０質量％、及び好ましくは２．０質量％ないしおよそ２０．０質量％の濃度で成分を含むマスターバッチ（“濃縮物（ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｅ）”）の形態でポリマーに添加され得る。ポリマーは、添加剤が最終的に添加されるポリマーとは同一構造である必要はない。そのような操作において、ポリマーは、粉体、顆粒、溶液、及び懸濁液の形態で、或いはラテックスの形態で使用され得る。
配合は、造形操作に先立って或いはその間に行われ得る。本明細書で記載された本発明の添加剤を含む材料は、好ましくは、成形品、例えば回転成形品、射出成形品、異形材等、及びとりわけ、繊維、溶融紡糸不織布、フィルム又はフォームの製造に使用される。
【００９０】
従って、本発明は、本発明の組成物を含む、成形品又は押出品、繊維、スパンメルト不織布又はフォームにさらに関する。
特に好ましい本発明の態様は、
ａ）少なくとも１種の亜ホスホン酸及び亜リン酸のエステル誘導体；
ｂ）メラミンシアヌレート；及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む組成物に関する。
他の特に好ましい本発明の態様は、
ａ）
【化４１】
【化４２】
【化４３】
【化４４】
【化４５】
【化４６】
【化４７】
【化４８】
【化４９】
及び
【化５０】
からなる群より選択された少なくとも１種の亜ホスホン酸及び亜リン酸のエステル誘導体；
ｂ）メラミンシアヌレート；及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む組成物に関する。
【００９１】
特に好ましい本発明の態様は、
ａ）
【化５１】
【化５２】
【化５３】
【化５４】
【化５５】
及び
【化５６】
からなる群より選択された少なくとも１種の亜ホスホン酸及び亜リン酸のエステル誘導体；
ｂ）メラミンシアヌレート；及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む組成物に関する。
【００９２】
他の好ましい本発明の態様は、
ａ）トリスノニルフェニルホスフィット（ＴＮＰＰ）、トリフェニルホスフィット（ＴＰＰ）、ジフェニルホスフィット（ＤＰＰ）、フェニルジイソデシルホスフィット（ＰＤＤＰ）、ジフェニルイソデシルホスフィット（ＤＰＤＰ）、ジフェニルイソオクチルホスフィット（ＤＰＩＯＰ）、テトラフェニルジプロピレングリコールジホスフィット（ＴＨＯＰ）、ポリ（ジプロピレングリコール）フェニルホスフィット（ＤＨＯＰ）、ドデシルジフェニルホスフィット（ＤＤＰＰ）、トリイソデシルホスフィット（ＴＤＰ）、トリストリデシルホスフィット（ＴＴＤＰ）及びトリラウリルホスフィット（ＴＬＰ）からなる群より選択された少なくとも１種の亜ホスホ酸及び亜リン酸のエステル誘導体；
ｂ）メラミンシアヌレート；及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む組成物に関する。
【００９３】
他の本発明の特に好ましい態様は、
ａ）９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスホリルフェナントレン−１０−オキシド（ＤＯＰＯ）、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット［ＣＡＳ ＲＮ８０６９３−００−１］、［（Ｃ6Ｈ5−Ｏ−）2Ｐ］2（−Ｏ−Ｃ2Ｈ4）2［ＣＡＳ ＲＮ５７０７７−４５−９］、［（Ｃ6Ｈ5−Ｏ−）2Ｐ］2（−ＯＣ2Ｈ5）14（Ｃ6Ｈ5−Ｏ−Ｐ）6［ＣＡＳ ＲＮ６７３８３−５４−４］及び
トリフェニルホスフィットからなる群より選択された少なくとも１種の亜ホスホ酸及び亜リン酸のエステル誘導体；
ｂ）メラミンシアヌレート；及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む組成物に関する。
【００９４】
本発明のさらなる態様は、ポリウレタンポリマー基材に難燃性を与える方法であって、前記ポリマー基材に
ａ）オキサホスホリンオキシド、亜ホスホン酸及び亜リン酸からなる群より選択された少なくとも１種のリン含有のオキソ酸のエステル誘導体；及び
ｂ）窒素化合物をベースとした少なくとも１種の難燃剤成分
を含む混合物を添加することからなる方法に関する。
【実施例】
【００９５】
実施例１
材料及び方法
タンブルミキサー内で、ポリエステル熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ）ペレット（エスタン（Ｅｓｔａｎｅ）（登録商標）ＧＰ７２ＤＢ ＮＡＴ０２１Ｐ（ノベオン（Ｎｏｖｅｏｎ）（登録商標））の４ｋｇを、５ないし１０％ビス（２，４−ジ−第三ブチル−フェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット（イルガフォス（ＩＲＧＡＦＯＳ）１２６）、２５％メラミンシアヌレート（メラプア ＭＣ２５）及びペンタエリトリトールテトラキス３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（イルガノックス（ＩＲＧＡＮＯＸ）１０６６）と均質になるまで混合した。このブレンドを、２２０℃以下の温度にて、二軸スクリュー押出機（ベルストッフ（Ｂｅｒｓｔｏｒｆｆ）（登録商標））内で配合した。水浴を通した延伸及び冷却後に、押出物を顆粒化した。
１２５ｍｍ×１３ｍｍ×１．６ｍｍの試験パネルを、２２０℃以下の温度にて射出成形機（アルブルグ（Ａｒｂｕｒｇ）（登録商標）３２０Ｓ）を用いて形成した顆粒から成形した（成形温度：５０℃）。
試料をＵＬ９４Ｖシックセクションテスト（ｔｈｉｃｋ ｓｅｃｔｉｏｎ ｔｅｓｔ）（Ｕｎｄｅｒｗｒｉｔｅｒ’ｓ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ ＵＬ９４ Ｆｌａｍｍａｂｉｌｉｔｙ Ｔｅｓｔ：ＵＬ９４ Ｔｅｓｔ ｆｏｒ Ｆｌａｍｍａｂｉｌｉｔｙ ｏｆ
Ｐｌａｓｔｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ｆｏｒ ｐａｒｔｓ ｉｎ Ｄｅｖｉｃｅｓ ａｎｄ Ａｐｐｌｉａｎｃｅｓ，第５版，１９９６年）により難燃性について試験した。
【００９６】
結果
【表１】
【００９７】
実施例２
材料及び方法
タンブルミキサー内で、ポリエステル熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ）ペレット（エス
タン５８３１１ナチュラル（Ｎａｔｕｒａｌ）０２８Ｐ）の４ｋｇを、異なる濃度のビス（２，４−ジ−第三ブチル−フェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット（イルガフォス１２６）、異なる濃度のメラミンシアヌレート（メラプアＭＣ２５）及び１％ペンタエリトリトールテトラキス３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（イルガノックス１０６６）と均質になるまで混合した。このブレンドを、２２０℃以下の温度にて、二軸スクリュー押出機（ベルストッフ）内で配合した。水浴を通した延伸及び冷却後に、押出物を顆粒化した。
射出成形し、そして実施例１と同様の手法で難燃性について試験した。
結果
【表２】
【００９８】
実施例３
材料及び方法
タンブルミキサー内で、ポリエステル熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ）ペレット（エスタン５８３１１ナチュラル０２８Ｐ）の４ｋｇを、異なる濃度のビス（２，４−ジ−第三ブチル−フェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット（イルガフォス１２６）、異なる濃度のメラミンシアヌレート（メラプアＭＣ２５）及び表３中に記載した試験化合物及び１％ペンタエリトリトールテトラキス３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（イルガノックス１０６６）と均質になるまで混合した。このブレンドを、２２０℃以下の温度にて、二軸スクリュー押出機（ベルストッフ）内で配合した。水浴を通した延伸及び冷却後に、押出物を顆粒化した。
射出成形し、そして実施例１と同様の手法で難燃性について試験した。
結果
【表３】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ホスホナイト又はホスフィットと窒素含有の難燃剤の組み合わせ及びポリウレタンポリマー基材を含む難燃組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ）は多くの工業用途に有益である。特定の参照文献は非特許文献１である。
ポリウレタンを製造する多くの方法が既知である。柔軟性基材を形成する高分子量のポリヒドロキシ化合物、例えばポリオキシアルキレングリコール、例えばポリオキシプロピレン又はポリオキシエチレングリコール、ポリオキシプロピレンポリオキシエチレングリコール、ポリオキシブチレングリコール、ポリオキシブチレンポリオキシエチレングリコール又はポリオキシブチレンポリオキシプロピレングリコール、或いはポリエステルジオール、例えばアルカンジオールポリアジペートが、芳香族又は脂肪族ジイソシアネート、例えばジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアナート（ＭＤＩ）又はヘキサメチレン−１，６−ジイソシアナート（ＨＤＩ）、並びに硬質セグメントの形成のための低分子量鎖延長剤、例えばアルカンジオール又はジアルキレングリコール、例えば１，４−ブタンジオール又はジエチレングリコールと反応される。ＴＰＵの欠点は、その易燃性である。
【０００３】
ポリマーの難燃特性を高めるために難燃剤がポリマー材（合成の又は天然の）に添加される。それらの組成に応じて、難燃剤は、化学的に例えば窒素の遊離により泡立って、及び／又は物理的に例えば発泡被覆を発生することにより、固体、液体又はガス相中で機能し得る。難燃剤は、燃焼過程の特定の段階の間に、例えば加熱の間に、分解、点火又は延焼を遅らせる。
窒素含有の難燃剤、とりわけメラミンをベースとしたものは長期にわたり既知であり、及び幾つかの場合、商業上入手可能である。それらメラミン誘導体の幾つかはまた、リンを含有している。そのような難燃剤に関連した刊行物の例はとりわけ、特許文献１、特許文献２及び特許文献３及び特許文献４である。
窒素含有の難燃剤とリン化合物をベースとした難燃剤の組み合わせがまた既知である。その観点において、特定の参照文献は例えば、特許文献５、特許文献６、特許文献７、特許文献８、特許文献９及び特許文献１０である。特定のホスフェートと窒素含有の化合物との組み合わせがまた、難燃剤として特許文献１１、特許文献１２、特許文献１３、特許文献１４、特許文献１５及び特許文献１６から既知である。
【０００４】
改良された耐熱性及び機械的特性を有し及び種々のポリマー基材中に使用され得る難燃剤が必要とされ続けている。特に、増大する安全性の要求及び環境的な要求は、従来の既知の難燃剤がもはやすべての要求を満足し得ないことを意味している。
ＴＰＵに対する難燃剤としてメラミン又はメラミン誘導体の使用が種々の参照文献において提案されている。さらなる改良として、ＴＰＵ組成物中でのメラミンシアヌレートと有機ホスフェートとの組み合わせの使用が例えば、特許文献１７において提案されている。
【非特許文献１】Ｋｕｎｓｔｏｆｆ−Ｈａｎｄｂｕｃｈ，Ｖｏｌ．ＶＩＩ，Ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ，Ｃａｒｌ Ｈａｎｓｅｒ Ｖｅｒｌａｇ ドイツ国 ミュンヘン，第１版 １９９６年，編集者Ｒ．Ｖｉｅｗｅｇ及びＡ．Ｈｏｅｃｈｔｌｅｎ，及び第２版，編集者Ｇ．Ｏｅｒｔｅｌ
【特許文献１】欧州特許出願公開第７８２５９９号明細書
【特許文献２】欧州特許出願公開第１０９５０３０号明細書
【特許文献３】米国特許第４，０１０，１３７号明細書
【特許文献４】米国特許第３，９１５，７７７号明細書
【特許文献５】独国特許出願公開第１９７３４４３７号明細書
【特許文献６】独国特許出願公開第１９７３７７２７号明細書
【特許文献７】国際公開第９７／３９０５３号パンフレット
【特許文献８】欧州特許出願公開第１０７０７５４号パンフレット
【特許文献９】欧州特許出願公開第６５６８号明細書
【特許文献１０】独国特許出願公開第１９６１４４２４号明細書
【特許文献１１】欧州特許出願公開第４８４８３２号明細書
【特許文献１２】欧州特許出願公開第５４５４９６号明細書
【特許文献１３】欧州特許出願公開第７０７０３６号明細書
【特許文献１４】国際公開第０１／９８４０１号パンフレット
【特許文献１５】英国特許出願公開第１４６８１８８号明細書
【特許文献１６】欧州特許出願公開第６１７０７９号明細書
【特許文献１７】米国特許第５，８３７，７６０号明細書
【発明の開示】
【０００５】
難燃剤、特にメラミンをベースとした難燃剤と、亜ホスホン酸及び亜リン酸からなる群より選択されたリン含有のオキソ酸のエステル誘導体との組み合わせの使用が、ＴＰＵの耐熱性及び機械的特性を改良することが今や見出された。
それ故、本発明は、
ａ）オキサホスホリンオキシド（ｏｘａｐｈｏｓｐｈｏｒｉｎｏｘｉｄｅ）、亜ホスホン酸及び亜リン酸からなる群より選択された少なくとも１種のリン含有のオキソ酸のエステル誘導体；
ｂ）窒素化合物をベースとした少なくとも１種の難燃剤成分；及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む組成物に関する。
好ましい態様に従うと、本発明は、
ａ）亜ホスホン酸及び亜リン酸からなる群より選択された少なくとも１種のリン含有のオキソ酸のエステル誘導体；
ｂ）窒素化合物をベースとした少なくとも１種の難燃剤成分；及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む組成物に関する。
本発明に従う組成物は、ＵＬ−９４（Ｕｎｄｅｒｗｒｉｔｅｒ’ｓ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ Ｓｕｊｅｃｔ ９４）に従う望ましいＶ−０評価、及び関連する試験方法において他の優秀な評価を得ている一方で、熱可塑性ポリウレタンの優れた機械的特性、化学的特性及び耐熱性、例えば色彩安定性及び光安定性を維持している。
【０００６】
該組成物は、上記定義されたように、以下の成分を有している。
成分ａ）
本発明に従う組成物は、成分ａ）として、オキサホスホリンオキシド（ｏｘａｐｈｏｓｐｈｏｒｉｎｏｘｉｄｅ）、亜ホスホン酸及び亜リン酸からなる群より選択された少なくとも１種のリン含有のオキソ酸のエステル誘導体を含む。
好ましい態様に従うと、本発明に従う組成物は、成分ａ）として、亜ホスホン酸及び亜リン酸からなる群より選択された少なくとも１種のリン含有のオキソ酸のエステル誘導体を含む。
オキサホスホリンオキシドは環構造を有しており、及び以下の一般式：
【化１】
により表される。
リン原子及び１個の酸素原子が、以下の代表的な化合物：
【化２】
により表されるように、環構造、特に５又は６員環の一部となっており、６Ｈ−ジベンズ［ｃ，ｅ］［１，２］オキサホスホリン−６−オキシド、３，４：５，６−ジベンゾ−２Ｈ−１，２−オキサホスホリン−２−オキシド又は９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスホリルフェナントレン−１０−オキシドとして命名され得るものは、ＤＯＰＯ（Ｃ．Ａ．ＲＮ３５９４８−２５−５）として略記される。そのような化合物は、サンコＨＣＡ（Ｓａｎｋｏ ＨＣＡ）から商業上入手可能である。
【０００７】
亜ホスホン酸は、以下の一般式：
【化３】
により表される。
該酸は、リン酸、亜リン酸又は亜ホスフィン酸のような他の構成物を含むリン含有のオキソ酸の広い群のうちの１種である。亜ホスホン酸は、水性溶液中で遊離形態では存在しない。
亜ホスホン酸のエステル誘導体は、以下の一般式
【化４】
（式中、Ｒは、有機エステル基を表し、及びＲ’は、リン原子に直接に結合した水素原子又は有機置換基を表す。）
により表される。
Ｒ’が水素原子を表す場合、式ＩＩ’はその範囲内に、以下の互変異性構造：
【化５】
を含む。
亜リン酸は、以下の一般式：
【化６】
により表される。
該酸は、リン含有のオキソ酸の広い群のうちの他の構成物であり、及び同様にその遊離形態で水性溶液中に存在しない。
亜リン酸のエステル誘導体は、用語ホスフィットにより定義される。それらは以下の一般式：
【化７】
（式中、Ｒは有機エステル基を表す。）
により表される。
【０００８】
好ましい態様は、成分ａ）として、以下の一般式：
【化８】
（式中、
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3のうちの１つ並びにＲ4、Ｒ5及びＲ6のうちの１つは水素原子を表し、及びその他は炭素原子数１ないし８のアルキル基又はアリール−炭素原子数１ないし４のアルキル基を表すか；又は
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3並びにＲ4、Ｒ5及びＲ6は、炭素原子数１ないし８のアルキル基を表す。）；又は
【化９】
（式中、Ｒ及びＲ’は炭素原子数９ないし２０のアルキル基を表す。）；又は
【化１０】
（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表すか；又は
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3のうちの１つ又は２つは水素原子を表し且つその他は炭素原子数１な
いし１８のアルキル基を表す。）；又は
【化１１】
（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3のうちの１つはメチル基を表し且つその他は炭素原子数３又は
４のアルキル基を表すか；又はＲ1、Ｒ2及びＲ3は互いに独立して炭素原子数１ないし４
のアルキル基を表し；及び
Ｒa及びＲbはメチル基又はエチル基を表す。）；又は
【化１２】
（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は互いに独立して、フェニル基又は炭素原子数５ないし２０の
アルキル基を表す。）；又は
【化１３】
（式中、ｘは２又は２より大きい数を表し；ｙは１又は１より大きい数を表し、及びＲ1
及びＲ2は互いに独立してフェニル基又は炭素原子数５ないし２０のアルキル基を表す。
）；又は
【化１４】
（式中、ｘは１又は１より大きい数を表し、及びｙは２又は２より大きい数を表す。）
により表されるような亜リン酸のエステル誘導体を含む組成物に関する。
【０００９】
好ましい態様は、成分ａ）として、
【化１５】
（イルガフォス（Ｉｒｇａｆｏｓ）（登録商標）ＴＮＰＰ、ドーバーフォス（Ｄｏｖｅｒｐｈｏｓ）（登録商標）ＨｉＰｕｒｅ４）、
【化１６】
（イルガフォス１６８、ドーバーフォスＳ−４８０、Ｓ−６８０）、
【化１７】
（イルガフォスＰ−ＥＰＱ、サンドスタブ（Ｓａｎｄｏｓｔａｂ）（登録商標）Ｐ−ＥＰＱ）、
【化１８】
（エタノックス（Ｅｔｈａｎｏｘ）（登録商標）３９８）
【化１９】
（ウルトラノックス（Ｕｌｔｒａｎｏｘ）（登録商標）６４１）、
【化２０】
【化２１】
（ドーバーフォスＳ−９２２８）、
【化２２】
（イルガフォス１２）
【化２３】
（マーク（Ｍａｒｋ）ＨＰ−１０）、
【化２４】
（ウルトラノックス６２６、イルガフォス１２６）、
【化２５】
（マークＰＥＰ３６）、
【化２６】
（ウェストン（Ｗｅｓｔｏｎ）（登録商標）６１８）、
【化２７】
（イルガフォス３８）
からなる群より選択された亜ホスホン酸及び亜リン酸のエステル誘導体を含む組成物に関する。
【００１０】
他の好ましい態様は、成分ａ）として、式
【化２８】
で表される環状オキサホスホリンオキシド或いはジプロピレングリコールホスフィット［ＣＡＳ ＲＮ ４０３０５−８６−０］、
【化２９】
【化３０】
【化３１】
【化３２】
【化３３】
、Ｐ（−Ｏ−イソＣ8Ｈ17）3、Ｐ（−Ｏ−Ｃ18Ｈ37）3、Ｐ（−Ｏ−イソＣ10Ｈ21）3、Ｐ（−Ｏ−Ｃ12Ｈ25）3、Ｐ（−Ｏ−２−エチルヘキシル）（−Ｏ−Ｃ6Ｈ5）2、（Ｃ6Ｈ5−Ｏ−）2Ｐ−Ｏ−Ｃ2Ｈ4Ｏ−Ｐ（−Ｏ−Ｃ6Ｈ5）2、［（Ｃ6Ｈ5−Ｏ−）2Ｐ］2（−Ｏ−Ｃ2Ｈ4）2［ＣＡＳ ＲＮ ５７０７７−４５−９］、（Ｃ6Ｈ5−Ｏ−）2Ｐ−Ｏ−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−Ｏ−Ｐ（−Ｏ−Ｃ6Ｈ5）2、［（Ｃ6Ｈ5−Ｏ−）2Ｐ］2（−ＯＣ2Ｈ5）14（
Ｃ6Ｈ5−Ｏ−Ｐ）6［ＣＡＳ ＲＮ ６７３８３−５４−４］、［（Ｃ6Ｈ5−Ｏ−）2Ｐ］2（−ＯＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2）14（Ｃ6Ｈ5−Ｏ−Ｐ）6［ＣＡＳ ＲＮ ８０５８４−８６
−７］、及びトリス［２−（２−ヒドロキシプロポキシ）−１−メチルエチル］亜リン酸エステル［ＣＡＳ ＲＮ １３４７４−９６−９］からなる群より選択された亜ホスホン酸及び亜リン酸のエステル誘導体を含む組成物に関する。
【００１１】
特に好ましい態様は、成分ａ）として、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−クミルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスフィット、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、２，２’，２”−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］、２−エチルヘキシル（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット、５−ブチル−５−エチル−２−（２，４，６−トリ−第三ブチルフェノキシ）−１，３，２−ジオキサホスフィランからなる群より選択された亜ホスホン酸及び亜リン酸のエステル誘導体を含む組成物に関する。
【００１２】
非常に好ましい態様は、成分ａ）として、トリスノニルフェニルホスフィット（ＴＮＰＰ ＤＯＶＥＲＰＨＯＳ ４）、トリフェニルホスフィット（ＴＰＰ ＤＯＶＥＲＰＨＯＳ １０）又はジフェニルホスフィット（ＤＰＰ ＤＯＶＥＲＰＨＯＳ ２１３）のようなアリール有機ホスフィット、フェニルジイソデシルホスフィット（ＰＤＤＰ ＤＯＶＥＲＰＨＯＳ ７）、ジフェニルイソデシルホスフィット（ＤＰＤＰ ＤＯＶＥＲＰＨＯＳ
８）、ジフェニルイソオクチルホスフィット（ＤＰＩＯＰ ＤＯＶＥＲＰＨＯＳ ９）、テトラフェニルジプロピレングリコールジホスフィット（ＴＨＯＰ ＤＯＶＥＲＰＨＯＳ １１）、ポリ（ジプロピレングリコール）フェニルホスフィット（ＤＨＯＰ ＤＯＶＥＲＰＨＯＳ １２）又はドデシルジフェニルホスフィット（ＤＤＰＰ）のようなアリール−アルキル有機ホスフィット、及びトリイソデシルホスフィット（ＴＤＰ ＤＯＶＥＲＰＨＯＳ ６）、トリストリデシルホスフィット（ＴＴＤＰ ＤＯＶＥＲＰＨＯＳ ４９）又はトリラウリルホスフィット（ＴＬＰ ＤＯＶＥＲＰＨＯＳ ５３）のようなアルキル有機ホスフィットからなる群より選択された亜ホスホン酸及び亜リン酸のエステル誘導体を含む組成物に関する。
【００１３】
本発明の他の非常に好ましい態様は、成分ａ）として、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスホリルフェナントレン−１０−オキシド（ＤＯＰＯ）、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット［ＣＡＳ ＲＮ ８０６９３−００−１］、［（Ｃ6Ｈ5−Ｏ−）2Ｐ］2（−Ｏ−Ｃ2Ｈ4）2［ＣＡＳ
ＲＮ ５７０７７−４５−９］、［（Ｃ6Ｈ5−Ｏ−）2Ｐ］2（−Ｏ−Ｃ2Ｈ5）14（Ｃ6
Ｈ5−Ｏ−Ｐ）6［ＣＡＳ ＲＮ ６７３８３−５４−４］及びトリフェニルホスフィットからなる群より選択された亜ホスホン酸又は亜リン酸のエステル誘導体を含む組成物に関
する。
ホスホン酸及び亜リン酸のエステル誘導体は既知の化合物であり、及び商業上入手可能である。
【００１４】
特に好ましい態様に従うと、本発明は、成分ａ）として、市販品イルガフォス１２６、１６８、３８、ＰＥＰＱ、１２、ＴＮＰＰ及びＤＤＰＰ、ウェストン６１８及びマークＰＥＰ３６からなる群より選択された亜ホスホン酸及び亜リン酸のエステル誘導体を含む組成物に関する。
特に好ましい態様に従うと、本発明は、成分ａ）が組成物の総質量に基づき１質量％以上の量で存在するところの、組成物に関する。
【００１５】
成分ｂ）
本発明に従う組成物は、成分ｂ）として、
【化３４】
【化３５】
【化３６】
【化３７】
【化３８】
【化３９】
及び
【化４０】
［化合物（ＩＩＩ）、（ＶＩＩ）及び（ＩＸ）中：
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3は互いに独立して、所望の置換基としてヒドロキシ基を有する炭素原
子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数５又は６のシクロアルキル基及び炭素原子数１ないし４のアルキル−炭素原子数５又は６のシクロアルキル基からなる群より選択された置換基を表すか；又は炭素原子数２ないし８のアルケニル基、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、炭素原子数２ないし８のアルケニル基；炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、炭素原子数６ないし１２のアリール基、−Ｏ−Ｒ1及び
−Ｎ（Ｒ1）Ｒ2（式中、Ｒ1及びＲ2は互いに独立して、水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素原子数５又は６のシクロアルキル基、炭素原子数２ないし８のアルケニル基、炭素原子数２ないし４のヒドロキシアルキル基又は炭素原子数６ないし１２のアリール基を表す。）からなる群より選択された置換基を表すか；又は
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3のうちの１つは、水素原子を表し、且つＲ1、Ｒ2及びＲ3のうちの２つは、上記定義された置換基を表すか；又は
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3のうちの２つは、水素原子を表し、且つＲ1、Ｒ2及びＲ3のうちの１つは、上記定義された置換基を表し；
Ｘは、プロトン酸のアニオンを表し；
ｘは、プロトン酸からトリアジン化合物に転移したプロトン数を表す数であり、；及び
ｙは、プロトン酸から引き抜かれたプロトンの数を表す数である。］
からなる群より選択された少なくとも１種の窒素化合物を含むが、
但し、
化合物（ＶＩＩ）中、プロトンを加え得る１つの基が存在しており；及び
式中のＲ1、Ｒ2及びＲ3が部分式−Ｎ（Ｒ1）Ｒ2を表し且つＲ1及びＲ2が水素原子を表
すところの化合物（ＩＩＩ）は除かれ；
及び化合物（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩ）及び（ＶＩＩＩ）中：
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は互いに独立して、水素原子又は所望の置換基としてヒド
ロキシ基を有する、炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数５又は６のシクロアルキル基及び炭素原子数１ないし４のアルキル−炭素原子数５又は６のシクロアルキル基からなる群より選択された置換基；又は炭素原子数２ないし８のアルケニル基、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、炭素原子数２ないし８のアルケニル基、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、炭素原子数６ないし１２のアリール基及び−Ｏ−Ｒ1（式中、Ｒ1は水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素原子数５又は６のシクロアルキル基、炭素原子数２ないし８のアルケニル基、炭素原子数１ないし４のヒドロキシアルキル基又は炭素原子数６ないし１２のアリール基を表す。）からなる群より選択された置換基を表す。
【００１６】
本発明の他の態様に従うと、該組成物は、成分ｂ）として、アンモニウムポリホスフェート、メラミンアンモニウムホスフェート、メラミンアンモニウムポリホスフェート、メラミンアンモニウムピロホスフェート、メラミンとリン酸との縮合生成物及びメラミンとリン酸との他の反応生成物からなる群より選択された少なくとも１種の窒素化合物及びそれらの混合物を含む。
式ＶＩＩ中の記号Ｘは例えば、リン酸、ポリリン酸（直鎖状又は枝分れ状）、ピロリン酸、ホスフィン酸、ホスホン酸又はホウ酸のアニオンである。
好ましい態様に従うと、該組成物は、成分ｂ）として、式中のＲ1、Ｒ2又はＲ3が互い
に独立して、炭素原子数１ないし４のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、炭素原子数１ないし４のヒドロキシアルキル基、炭素原子数２ないし６のアルケニル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、フェニル基；メチル基、メトキシ基からなる群より選択された１ないし３個の置換基により及びハロゲン原子、−ＯＲ1により及び−Ｎ（Ｒ1）Ｒ2（式中、Ｒ1及びＲ2は互いに独立して、水素原子、
炭素原子数１ないし４のアルキル基、ヒドロキシ−炭素原子数２ないし４のアルキル基、シクロアルキル基、メチルシクロヘキシル基、フェニル基又は、メチル基、メトキシ基からなる群より選択された１ないし３個の置換基により及びハロゲン原子により置換されたフェニル基を表す。）により置換されたフェニル基からなる群より選択された置換基を表すところの化合物（ＩＩＩ）、（ＶＩＩ）及び（ＩＸ）を含む。
特に好ましい態様に従うと、該組成物は、成分ｂ）として、式中のＲ1、Ｒ2又はＲ3の
うちの１つが水素原子を表し且つＲ1、Ｒ2又はＲ3のうちの２つが上記定義されたとおり
の置換基を表すか；又はＲ1、Ｒ2又はＲ3のうちの２つが水素原子を表し且つＲ1、Ｒ2又
はＲ3のうちの１つが上記定義されたとおりの置換基を表すところの化合物（ＩＩＩ）、
（ＶＩＩ）及び（ＩＸ）を含む。
【００１７】
他の好ましい態様に従うと、該組成物は、成分ｂ）として、式中のＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5が互いに独立して、水素原子或いは炭素原子数１ないし４のアルキル基、シクロ
ペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ヒドロキシ−炭素原子数２ないし４のアルキル基、炭素原子数２ないし６のアルケニル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、フェニル基；メチル基、メトキシ基及びハロゲン原子からなる群より選択された１ないし３個の置換基により及び−ＯＲ1（式中、Ｒ1は、水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、ヒドロキシ−炭素原子数２ないし４のアルキル基、シクロアルキル基、メチルシクロヘキシル基、フェニル基又は；メチル基、メトキシ基及びハロゲン原子からなる群より選択された１ないし３個の置換基により置換されるフェニル基を表す。）により置換されたフェニル基からなる群より選択された置換基を表すところの化合物（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩ）及び（ＶＩＩＩ）を含む。
特に好ましい態様に従うと、該組成物は、成分ｂ）として、ベンゾグアナミン（式ＩＩＩ、Ｒ1＝フェニル基、Ｒ2＝Ｒ3＝−ＮＨ2）、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート（式ＩＶ、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝−ＣＨ2−ＣＨ2−ＯＨ）、アラントイン（式Ｖ、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝Ｒ5＝Ｈ）、グリコールウリル（式ＶＩ、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝Ｈ）、メラミンホスフェート、ジメラミンホスフェート、メラミンピロホスフェート、メラミンボレ
ート（式ＶＩＩ型のすべて）、ウレアシアヌレート（式ＶＩＩＩ型）、メラミンシアヌレート（式ＩＸ型）、メラム又はメレムホスフェート、メラム又はメレムポリホスフェート、アンモニウムポリホスフェート及びメラミンアンモニウムホスフェート、ピロホスフェート及びポリホスフェートからなる群より選択された窒素化合物を含む。
上記定義され及び記載される窒素化合物は、既知の化合物であるか、又は既知の方法により得られ得る。それらの幾つかは商業上入手可能である。
【００１８】
特に好ましい態様に従うと、該組成物は、成分ｂ）として、化合物（ＶＩＩ）、化合物（ＩＸ）、アンモニウムポリホスフェート、メラミンアンモニウムホスフェート、メラミンアンモニウムポリホスフェート、メラミンアンモニウムピロホスフェート、メラミンとリン酸との縮合生成物及びメラミンとリン酸との他の反応生成物からなる群より選択された窒素化合物、及びそれらの混合物を含む。
非常に好ましい態様に従うと、該組成物は、成分ｂ）として、ベンゾグアナミン、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、アラントイン、グリコールウリル、メラミンシアヌレート、メラミンホスフェート、ジメチルアミンホスフェート、メラミンピロホスフェート、ウレアシアヌレート、メラミンポリホスフェート、メラミンボレート、アンモニウムポリホスフェート、メラミンアンモニウムポリホスフェート、メラミンアンモニウムピロホスフェート、メレム、メラム、メロン及び高縮合化合物からなる群より選択されたメラミンの縮合生成物、並びにメラミンとリン酸との他の反応生成物からなる群より選択された窒素化合物、及びそれらの混合物を含む。
特に強調されるのは、ジメラミンピロホスフェート、メラミンポリホスフェート、メレムポリホスフェート、メラムポリホスフェート、及び／又はそれらの混合ポリ塩、特にメラミンポリホスフェートである。
非常に好ましい態様に従うと、該組成物は、成分ｂ）として、メラミンシアヌレート、例えばメラプアＭＣ（ＭＥＬＡＰＵＲ ＭＣ）、ＭＣ１５、ＭＣ２５、ＭＣ５０の名称の下で商業上入手可能なものを含む。
成分ａ）とｂ）の比は、広い限定内で変化し得、及び意図された用途に応じる。比ａ：ｂ（質量比）の例は、５：９５ないし９５：５であり、例えば１０：９０ないし９０：１０であり、好ましくは２０：８０ないし８０：２０であり、とりわけ３０：７０ないし７０：３０であり、及び４０：６０ないし６０：４０である。
【００１９】
成分ｃ）
本発明に従う組成物は、成分ｃ）として、ポリウレタンポリマー基材を含む。
該ポリマー基材は、熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ）、ＰＵエラストマー、合成革、ＰＵスキン、ＰＵストレーコーティング又は反応射出成形（ＲＩＭ）、キャストＰＵ、シリル化ポリウレタン（ＳＰＵＲ）、ＰＵホットメルト接着剤又はＰＵホットメルト接着剤であり得る。
ポリウレタンは、例えば、末端ヒドロキシル基を含むポリエーテル、ポリエステル及びポリブタジエン、即ちポリオールと、脂肪族又は芳香族ポリイソシアネートとの反応により得られ得る。
末端ヒドロキシル基を有するポリエーテル及びポリエステルは既知であり、及び例えば、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド、テトラヒドロフラン、スチレンオキシド又はエピクロロヒドリンのようなエポキシドと、それら自体とを、例えばＢＦ3の存在下で重合させることにより、或いは、反応性水素原子を含む出発成分、例え
ばアルコール、アンモニア又はアミン、例えばエチレングリコール、プロピレン１，３−及び１，２−グリコール、トリメチロールプロパン、４，４’−ジヒドロキシジフェニルプロパン、アニリン、エタノールアミン又はエチレンジアミンを用いることにより、単独で又は混合物として又は連続して、これらエポキシドの付加反応により、製造される。スクロースポリエーテルがまた、本発明に関して適している。多くの場合、好ましくは、優先的に（ポリエーテル中に存在するすべてのＯＨ基に基づき９０質量％まで）、第１ＯＨ
基を含むそれらのポリエーテルである。さらにその上、例えば、ポリエーテルの存在下でスチレンとアクリロニトリルを重合させることにより形成されるような、ビニルポリマーにより変性されたポリエーテルが適しており、これらはＯＨ基を含むポリブタジエンである。
【００２０】
これらの化合物は、一般的に、４０の分子量を有し、及びポリヒドロキシ化合物、とりわけ２個から８個のヒドロキシル基を含む化合物、とりわけ８００ないし１００００、好ましくは１０００ないし６０００の分子量のもの、例えば、少なくとも２個、一般的には２ないし８個であるが、好ましくは２ないし４個のヒドロキシル基を含むポリエーテルであり、これらは均質なポリウレタン及び多孔質ポリウレタンの製造について既知である。
少なくとも２個のイソシアネート反応性の水素原子を含み、特に４００ないし１００００の分子量を有する上記化合物の混合物を使用することがもちろん可能である。
適するポリイソシアネートは、脂肪族、脂環式、芳香脂肪族、芳香族及びヘテロ環式ポリイソシアネート、例えばエチレンジイソシアネート、１，４−テトラメチレンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、１，１２−ドデカンジイソシアネート、シクロブタン１，３−ジイソシアネート、シクロヘキサン１，３−及び−１，４−ジイソシアネート及びまたそれらの異性体のいずれの所望の混合物、１−イソシアナート−３，３，５−トリメチル−５−イソシアナートメチルシクロヘキサン、２，４−及び２，６−ヘキサヒドロトリレンジイソシアネート及びまたそれらの異性体のいずれの所望の混合物、ヘキサヒドロ−１，３−及び／又は−１，４−フェニレンジイソシアネート、パーヒドロ−２，４’−及び／又は−４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、１，３−及び１，４−フェニレンジイソシアネート、２，４−及び２，６−トリレンジイソシアネート、及びまたそれらの異性体のいずれの所望の混合物、ジフェニルメタン２，４’−及び／又は−４，４’−ジイソシアネート、ナフチレン１，５−ジイソシアネート、トリフェニルメタン４，４’，４”−トリイソシアネート、アニリン−ホルムアルデヒド縮合、その後のホスゲン化により得られるようなポリフェニル−ポリメチレンポリイソシアネート、ｍ−及びｐ−イソシアナートフェニルスルホニルイソシアネート、完全塩素化アリールポリイソシアネート、カルボジイミド基を含むポリイソシアネート、アロファネート基を含むポリイソシアネート、イソシアヌレート基を含むポリイソシアヌレート、ウレタン基を含むポリイソシヌレート、アシル化尿素基を含むポリイソシアネート、ビウレット基を含むポリイソシアネート、エステル基を含むポリイソシアネート、上記のイソシアネートとアセタールとの反応生成物、及びポリマー状脂肪酸基を含むポリイソシアネートである。
【００２１】
イソシアネート基を含む蒸留残渣が１種以上の上記ポリイソシアネート中に溶解されるためにそれらを使用することがまた可能であり、それらはイソシアネートの工業的製造過程により得られる。上記ポリイソシアネートのいずれの所望の混合物を使用することがさらに可能である。
特に好ましくは一般的に、工業的にたやすく得られ得るポリイソシアネート、例えば、芳香族イソシアネート、例えば２，４−及び２，６−トリレンジイソシアネート及びそれらの異性体のいずれの所望の混合物（“ＴＤＩ”）、アニリン−ホルムアルデヒド縮合、その後のホスゲン化により製造されるようなポリフェニル−ポリメチレン−ポリイソシアネート（“粗ＭＤＩ”）、及びカルボジイミド、ウレタン、アロファネート、イソシアヌレート、尿素又はビウレット基を含むポリイソシアネート（“変性ポリイソシアネート”）である。
ポリウレタンは、好ましくは、液体状の出発成分、即ちワンショットプロセスにおいて互いに一緒に混合されることにより反応される出発成分から製造される。
【００２２】
成分ｃ）のポリマー基材は、混合物として又はコポリマーとしての形態で、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリエステル、ポリエーテル、ポリアミド、ポリ（メタ）アクリレ
ート、熱可塑性ポリウレタン、ポリスルホン、ポリアセタール及びＰＶＣを含む広い種々の他の合成ポリマー、適する相溶剤をさらに含み得る。例えば、ポリマー基材は、ポリオレフィン、熱可塑性ポリウレタン、スチレンポリマー及びそれらのコポリマーからなる樹脂群より選択された熱可塑性ポリマーをさらに含み得る。特別の態様は、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、グリコール変性されたポリシクロヘキシレンメチレンテレフタレート（ＰＣＴＧ）、ポリスルホン（ＰＳＵ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン（ＡＢＳ）、アクリロニトリル−スチレン−アクリルエステル（ＡＳＡ）、アクリロニトリル−エチレン−プロピレン−スチレン（ＡＥＳ）、スチレン−マレイン酸無水物（ＳＭＡ）又は高耐衝撃性ポリスチレン（ＨＩＰＳ）を含む。
【００２３】
適する合成ポリマーの列挙は以下に与えられる：
１．モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ−１−エン、ポリ−４−メチルペンテ−１−エン、ポリビニルシクロヘキサン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロオレフィン、例えばシクロペンテン又はノルボルネンのポリマー、ポリエチレン（所望により架橋され得る）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度及び高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度及び超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、（ＶＬＤＰＥ）及び（ＵＬＤＰＥ）。前段落において例示したモノオレフィンのポリマー、好ましくはポリエチレン及びポリプロピレンは、種々の及びとりわけ以下の方法により調製され得る：
ａ）ラジカル重合（通常は高圧下及び高温において）。
ｂ）周期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂ又はＶＩＩＩ族の金属の一つ又はそれ以上を通常含む触媒を使用した触媒重合。これらの金属は通常、一つ又はそれ以上の配位子、典型的にはπ−又はσ−配位し得るオキシド、ハロゲン化物、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル及び／又はアリールを有する。これらの金属錯体は遊離形態であるか、又は基材に、典型的には活性化塩化マグネシウム、チタン（ＩＩＩ）クロリド、アルミナ又は酸化ケイ素に固定され得る。これらの触媒は、重合媒体中に可溶又は不溶であり得る。該触媒は重合においてそのまま使用され得、又は他の活性化剤、典型的には金属アルキル、金属ヒドリド、金属アルキルハライド、金属アルキルオキシド又は金属アルキルオキサンであって、該金属が周期表のＩａ、ＩＩａ及び／又はＩＩＩａ族の元素であるものが使用され得る。活性化剤は、他のエステル、エーテル、及びアミン又はシリルエーテル基で都合良く変性され得る。これらの触媒系は大抵、フィリップス（Ｐｈｉｌｉｐｓ）、スタンダードオイルインディアナ（Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｏｉｌ Ｉｎｄｉａｎａ）、チグラー（Ｚｉｅｇｌｅｒ）（−ナッタ（Ｎａｔｔａ））、ＴＮＺ（デュポン（ＤｕＰｏｎｔ））、メタロセン又はシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と命名される。
【００２４】
２．１）で言及されたポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンの混合物、ポリプロピレンとポリエチレン（例えば、ＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）の混合物、及び異なる型のポリエチレンの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００２５】
３．モノオレフィン及びジオレフィンの互いの又は他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）及びその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテ−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテ−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキサンコポリマー、エチレン／シクロオレフィンコポリマー（例えば、エチレン／ノルボルネンのような
ＣＯＣ）、１−オレフィンがその場で生成されるエチレン／１−オレフィンコポリマー；プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキセンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマー又はエチレン／アクリル酸コポリマー及びそれらの塩（アイオノマー）並びにエチレンとプロピレン及びへキサジエン、ジシクロペンタジエン又はエチリデン−ノルボルネンのようなジエンとのターポリマー；及びそのようなコポリマーの互いの及び１）で上述したポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ及び交互の又はランダムのポリアルキレン／一酸化炭素コポリマー及びそれらの他のポリマー、例えばポリアミドとの混合物。
【００２６】
４．水素化変性物（例えば粘着付与剤）を含む炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）及びポリアルキレン及びデンプンの混合物；
上記のホモポリマー及びコポリマーは、シンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチック又はアタクチックを含むいずれの立体構造をも有し得；アタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロックポリマーがまた含まれる。
【００２７】
５．ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン）。
【００２８】
６．スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンの全ての異性体、とりわけｐ−ビニルトルエン、エチルスチレン、プロピルスチレン、ビニルビフェニル、ビニルナフタレン、及びビニルアントラセンの全ての異性体、及びそれらの混合物を含む芳香族ビニルモノマーから誘導された芳香族ホモポリマー及びコポリマー。ホモポリマー及びコポリマーはシンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチック又はアタクチックを含むいずれの立体構造をも有し得；アタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロックポリマーがまた含まれる。
ａ）上述された芳香族ビニルモノマー及びエチレン、プロピレン、ジエン、ニトリル、酸、マレイン酸無水物、マレイミド、酢酸ビニル及び塩化ビニル又はアクリル誘導体及びその混合物から選択されたコモノマーを含むコポリマー、例えば、スチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／エチレン（共重合体）、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン／マレイン酸無水物、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート；スチレンコポリマー及び他のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマー又はエチレン／プロピレン／ジエンターポリマーの高耐衝撃性の混合物；及びスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン又はスチレン／エチレン／プロピレン／スチレンのようなスチレンのブロックコポリマー。
ｂ）６．）で言及されたポリマーの水素化から誘導された水素化芳香族ポリマー、とりわけアタクチックポリスチレンを水素化することにより製造されるポリシクロヘキシルエチレン（ＰＣＨＥ）を含み、それはしばしばポリビニルシクロヘキサン（ＰＶＣＨ）として言及される。
ｃ）６ａ．）で言及されたポリマーの水素化から誘導された水素化芳香族ポリマー。
ホモポリマー及びコポリマーはシンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチック又はアタクチックを含むいずれの立体構造をも有し得；アタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロックポリマーがまた含まれる。
【００２９】
７．スチレン又はα−メチルスチレンのような芳香族ビニルモノマーのグラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジエン−スチレン又はポリブタジエン−アクリロニトリルコポリマーにスチレン；ポリブタジエンにスチレン及びアクリロニトリ
ル（又はメタクリロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリル及びメチルメタクリレート；ポリブタジエンにスチレン及びマレイン酸無水物；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリル及びマレイン酸無水物又はマレイミド；ポリブタジエンにスチレン及びマレイミド；ポリブタジエンにスチレン及びアルキルアクリレート又はメタクリレート；エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーにスチレン及びアクリロニトリル；ポリアルキルアクリレート又はポリアルキルメタクリレートにスチレン及びアクリロニトリル；アクリレート／ブタジエンコポリマーにスチレン及びアクリロニトリル、並びにそれらの６）に列挙されたコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡ又はＡＥＳポリマーとして既知であるコポリマー混合物。
【００３０】
８．ポリクロロプレン、塩化ゴム、イソブチレン−イソプレンの塩化及び臭化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩化又はスルホ塩化ポリエチレン、エチレン及び塩化エチレンのコポリマー、エピクロロヒドリンホモ−及びコポリマーのようなハロゲン原子含有ポリマー、とりわけハロゲン原子含有ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ボリフッ化ビニリデン並びに塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニル又は塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマーのようなそれらのコボリマー。
【００３１】
９．α，β−不飽和酸から誘導されたポリマー及びポリアクリレート及びポリメタクリレートのようなその誘導体；ブチルアクリレートで耐衝撃性が改良されたポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド及びポリアクリロニトリル。
【００３２】
１０．９）で言及されたモノマーの互いの又は他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレート又はアクリロニトリル／ビニルハライドコポリマー又はアクリロニトリル／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリマー。
【００３３】
１１．不飽和アルコール及びアミンから誘導されたポリマー又はそれらのアシル誘導体又はアセタール、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレート又はポリアリルメラミン；並びに上記１．で言及されたオレフィンとのそれらのコポリマー。
【００３４】
１２．ポリアルキレングリコール、ボリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドのような環状エーテルのホモポリマー及びコポリマー又はビスグリシジルエーテルとそれらのコポリマー。
【００３５】
１３．ポリオキシメチレンのようなポリアセタール及びコモノマーとしてエチレンオキシドを含むポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレート又はＭＢＳで変性されたポリアセタール。
【００３６】
１４．ポリフェニレンオキシド及びスルフィド、及びポリフェニレンオキシドとスチレンポリマー又はポリアミドとの混合物。
【００３７】
１５．ジアミシとジカルボン酸から及び／又はアミノカルボン酸又は対応するラクタムから誘導されたポリアミド及びコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミン及びアジピン酸から開始した芳香族ポリアミド；へキサメチレンジアミン及びイソフタル酸及び／又はテレフタル酸から及び変性剤としてのエ
ラストマーを用いて又は用いずに製造されたポリアミド、例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミド又はポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド：及び上述されたポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマー又は化学的に結合されたか又はグラフトされたエラストマーとのブロックコポリマー；又は例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール又はポリテトラメチレングリコールのようなポリエーテルとのブロックコポリマー；並びにＥＰＤＭ又はＡＢＳで変性されたポリアミド又はコポリアミド；及び加工の間に縮合されたポリアミド（ＲＩＭポリアミド系）。
【００３８】
１６．ポリ尿素、ポリイミド、ボリアミド−イミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリヒダントイン及びポリベンズイミダゾール。
【００３９】
１７．ジカルボン酸とジオールから及び／又はヒドロキシカルボン酸又は対応するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリアルキレンナフタレート（ＰＡＮ）及びポリヒドロキシベンゾエート、並びにヒドロキシル末端化ポリエーテルから誘導されたブロックポリエーテルエステル；及びまたポリカーボネート又はＭＢＳで変性されたポリエステル。
【００４０】
１８．ポリケトン。
【００４１】
１９．ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリエーテルケトン。
【００４２】
２０．前述のポリマーのブレンド（ポリブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭ又はＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６及びコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳ又はＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
【００４３】
本発明に従う組成物の製造は、本発明に従う成分ａ）及びｂ）からなる難燃剤を添加することにより又は塗布することにより行われ得るが、しかしながら、個々の成分を別々に添加するか又は塗布することにより、行われ得る。
好ましくは、ポリマー基材の質量に基づき、０．１ないし３０．０質量％、例えば０．２ないし２０．０質量％、好ましくは０．２ないし１５．０質量％の濃度での、各々互いに独立した成分ａ）及びｂ）の使用である。
本発明に従う組成物は、組成物に基づき、例えば０．１ないし５０．０質量％、好ましくは０．３ないし４０．０質量％、とりわけ０．３ないし３０．０質量％又は０．８ないし３０．０質量％の量で、成分ａ）及びｂ）からなる難燃剤を含む。
難燃性ポリマー組成物はとりわけ、例えば射出成形、押出し又は圧縮成形による、成形品、フィルム、糸及び繊維の製造に適している。
【００４４】
添加成分
本発明はさらに、上記定義された成分ａ）、ｂ）及びｃ）の他に、ｄ）ポリマー安定剤からなる群より選択されたさらなる添加剤、並びに、リン含有の難燃剤、ハロゲン化難燃剤及び無機難燃剤からなる群より選択されたさらなる難燃剤を含む組成物に関する。
安定剤は、好ましくは、ハロゲン非含有であり、及び、ニトロキシル安定剤、ニトロン安定剤、アミンオキシド安定剤、ベンゾフラノン安定剤、ホスフィット及びホスホナイト安定剤、キノンメチド（ｑｕｉｎｏｎｅ ｍｅｔｈｉｄｅ）安定剤及び２，２’−アルキリデンビスフェノール安定剤より選択される。
本発明における該成分ｄ）としてのさらなる難燃剤は、商品であるか又は既知の方法により得られ得る既知の成分である。
成分ａ）について上記定義されたものの他の、代表的なリン含有の難燃剤は、例えば：
テトラフェニルレゾルシノールジホスフィット（フィロルフレックス（ＦＹＲＯＬＦＬＥＸ）（登録商標）ＲＤＰ，アクゾ ノベル（Ａｋｚｏ Ｎｏｂｅｌ）社）、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウムスルフィド、トリフェニルホスフェート、ジエチル−Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−アミノメチルホスホネート、リン酸のヒドロキシアルキルエステル、レゾルシノールジホスフェートオリゴマー（ＲＤＰ）、ホスファゼン難燃剤又はエチレンジアミンジホスフェート（ＥＤＡＰ）である。
【００４５】
代表的なハロゲン化難燃剤は例えば：
ポリ臭素化ジフェニルオキシド（ＤＥ−６０Ｆ，グレート レイクス社（Ｇｒｅａｔ Ｌａｋｅｓ Ｃｏｒｐ．），デカブロモジフェニルオキシド（ＤＢＤＰＯ；セイテックス（ＳＡＹＴＥＸ）（登録商標）１０２Ｅ）、トリス［３−ブロモ−２，２−ビス（ブロモメチル）プロピル］ホスフェート（ＰＢ３７０（登録商標），ＦＭＣ社）、トリス（２，３−ジブロモプロピル）ホスフェート、トリス（２，３−ジクロロプロピル）ホスフェート、クロレンド酸、テトラクロロフタル酸、テトラブロモフタル酸、ポリ−β−クロロエチルトリホスホネート混合物、テトラブロモビスフェノールＡビス（２，３−ジブロモプロピルエーテル）（ＰＥ６８）、臭素化エポキシ樹脂、エチレン−ビス（テトラブロモフタルイミド）（セイテックスＢＴ−９３）、ビス（ヘキサクロロシクロペンタジエノ）−シクロオクタン（デクロレーン プラス（ＤＥＣＬＯＲＡＮＥ ＰＬＵＳ）（登録商標））、塩素化パラフィン、オクタブロモジフェニルエーテル、ヘキサクロロシクロペンタジエン誘導体、１，２−ビス（トリブロモフェノキシ）エタン（ＦＦ６８０）、テトラブロモビスフェノールＡ（セイテックスＲＢ１００）、エチレンビス−（ジブロモ−ノルボルナンジカルボキシミド）（セイテックスＢＮ−４５１）、ビス−（ヘキサクロロシクロエンタデノ）シクロオクタン、ＰＴＦＥ、トリス−（２，３−ジブロモプロピル）−イソシアヌレート、及びエチレン−ビス−テトラブロモフタルイミドである。
【００４６】
上記の難燃剤は、通常は、無機オキシド相乗剤と組み合わされる。この使用について最も一般的なのは、酸化亜鉛又は酸化アンチモン、例えばＳｂ2Ｏ3又はＳｂ2Ｏ5である。ホウ素化合物がまた適する。
上記の難燃剤群は、有機ポリマー基材のおよそ０．５質量％ないしおよそ４５．０質量％；例えばおよそ３．０質量％ないしおよそ４０．０質量％；例えばポリマーのおよそ５．０質量％ないしおよそ３５．０質量％の量で、本発明の組成物中に有利に含まれる。例えば、成分ｂ）の難燃剤は、ポリマー基材の質量に基づき、およそ０．５質量％ないしおよそ１０．０質量％、およそ１．０質量％ないしおよそ１０．０質量％、およそ３．０質量％ないしおよそ１０．０質量％、又はおよそ５．０質量％ないしおよそ１０．０質量％で使用される。例えば、成分ｂ）は、ポリマー基材の質量に基づき、およそ０．５質量％ないしおよそ８．０質量％、およそ０．５質量％ないしおよそ６．０質量％、およそ０．５質量％ないしおよそ５．０質量％、又はおよそ０．５質量％ないしおよそ３．０質量％で使用される。
【００４７】
上記したように、本発明に従う組成物は、１種以上の慣用の添加剤、例えば、顔料、染料、可塑剤、抗酸化剤、チキソトロピー剤、平滑剤、塩基性の補助安定剤、金属奪活剤、金属オキシド、有機リン化合物、さらなる光安定剤及びそれらの混合物、とりわけ、顔料、フェノール系抗酸化剤、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール及び／又は２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン群のＵＶ吸収剤をさらに含み得る。より特別な例は以下の成分である。
【００４８】
１．抗酸化剤
１．１．アルキル化モノフェノール、
例えば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、直鎖状又は側鎖において枝分れしたノニルフェノール、例えば、２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノール及びそれらの混合物。
【００４９】
１．２．アルキルチオメチルフェノール、
例えば、２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【００５０】
１．３．ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン、
例えば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【００５１】
１．４．トコフェロール、
例えば、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール及びそれらの混合物（ビタミンＥ）。
【００５２】
１．５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、
例えば、２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ−第二アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
【００５３】
１．６．アルキリデンビスフェノール、
例えば、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）−フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル
フェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス（３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【００５４】
１．７．Ｏ−、Ｎ−及びＳ−ベンジル化合物、
例えば、３，５，３’，５’−テトラ−第三ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
【００５５】
１．８．ヒドロキシベンジル化マロネート、
例えば、ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジ［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【００５６】
１．９．芳香族ヒドロキシベンジル化合物、
例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【００５７】
１．１０．トリアジン化合物、
例えば、２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【００５８】
１．１１．ベンジルホスホネート、
例えば、ジメチル２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
【００５９】
１．１２．アシルアミノフェノール、
例えば、４−ヒドロキシラウリン酸アニリド、４−ヒドロキシステアリン酸アニリド、Ｎ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバミン酸オクチルエステル。
【００６０】
１．１３．β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のエステルであって、一価又は多価アルコール、例えば、
メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、イソオクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００６１】
１．１４．β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸のエステルであって、一価又は多価アルコール、例えば、
メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、イソオクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン；３，９−ビス［２−｛３−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカンとのエステル。
【００６２】
１．１５．β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のエステルであって、一価又は多価アルコール、例えば、
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００６３】
１．１６． ３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸のエステルであって、一価又は多価アルコール、例えば、
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオー
ル、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００６４】
１．１７．β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例えば、
Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス［２−（３−［３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド（ユニロイヤル（Ｕｎｉｒｏｙａｌ）からのナウガード（Ｎａｕｇａｒｄ）（登録商標）ＸＬ−１）。
【００６５】
１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ）
【００６６】
１．１９．アミン系抗酸化剤、
例えば、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルホンアミド）−ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ’−ジ−第三オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ジ（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−第三ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ジ（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）−ビグアニド、ジ［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’
，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジ−４−イル−ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケート、２，２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オール。
【００６７】
２．ＵＶ吸収剤及び光安定剤
２．１． ２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）−フェニル−ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾリ−２−イルフェノール］；２−［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシ−フェニル］−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換生成物；［Ｒ−ＣＨ2ＣＨ2−ＣＯＯ−ＣＨ2ＣＨ2−］2−（式中、Ｒは
３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イルフェニル基を表す。）、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（α，α−ジメチルベンジル）−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル］−ベンゾトリアゾール；２−［２’−ヒドロキシ−３’− （１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５’−（α，α
−ジメチルベンジル）−フェニル］−ベンゾトリアゾール。
【００６８】
２．２． ２−ヒドロキシベンゾフェノン、
例えば、４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシ又は２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
【００６９】
２．３．置換された及び未置換の安息香酸のエステル、
例えば、４−第三ブチル−フェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸２，４−ジ−第三ブチルフェニルエステル、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシ安息香酸ヘキサデシルエステル、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸オクタデシルエステル、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸２−メチル−４，６−ジ−第三ブチルフェニルエステル。
【００７０】
２．４．アクリレート、
例えば、α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリル酸エチルエステル又はイソオクチルエステル、α−メトキシカルボニルケイ皮酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシケイ皮酸メチルエステル又はブチルエステル、α−メトキシカルボニル−ｐ−メトキシケイ皮酸メチルエステル、Ｎ−（β−メトキシカルボニル−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。
【００７１】
２．５．ニッケル化合物、
例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン又はＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンのような付加的な配位子を所望により有する１：１又は１：２錯体のような２，２’−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステル、例えば４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のメチル又はエチルエステルのニッケル塩、ケトキシムの、例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニル−ウンデシルケトキシムのニッケル錯体、付加的な配位子を所望により有する１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。
【００７２】
２．６．立体障害性アミン、
例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジ−４−イル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケート、ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）エステル、１−ヒドロキシエチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸の縮合生成物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−ｓ−トリアジンの直鎖状又は環状縮合生成物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラオエート、１，１’−（１，２−エタンジイル）ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの直鎖状又は環状縮合生成物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス−（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−と４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合生成物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン並びに４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの縮合生成物（ＣＡＳ登録番号［１３６５０４−９６−６］）；１，６−ジアミノヘキサン及び２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン及びまたＮ，Ｎ−ジブチルアミン及び４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの縮合生成物（ＣＡＳ登録番号［１９２２６８−６４−７］）；Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４．５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４．５］デカンとエピクロロヒドリンの反応生成物、１，１−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エテン、Ｎ，Ｎ’−ビス−ホルミル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、４−メトキシメチレンマロン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、マレイン酸無水物−α−オレフィンコポリマーと２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジン又は１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物。
【００７３】
２．７．シュウ酸ジアミド、
例えば、４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−第三ブチルオキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−第三ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサルアミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エチルオキサニリド及びその２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−第三ブチルオキサニリドとの混合物、ｏ−及びｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物及びｏ−及びｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【００７４】
２．８． ２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、
例えば、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル−フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒ
ドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−｛２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル｝−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン。
【００７５】
３．金属奪活剤、
例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイル−ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）シュウ酸ジヒドラジド、オキサニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸ビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジピン酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイルシュウ酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイルチオプロピオン酸ジヒドラジド。
【００７６】
４．ヒドロキシルアミン、
例えば、Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、水素化牛脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
【００７７】
５．ニトロン、
例えば、Ｎ−ベンジル−α−フェニルニトロン、Ｎ−エチル−α−メチルニトロン、Ｎ−オクチル−α−ヘプチルニトロン、Ｎ−ラウリル−α−ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシル−α−トリデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシルニトロン、水素化牛脂アミンから製造されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
【００７８】
６．チオ相乗剤、
例えば、チオジプロピオン酸ジラウリルエステル又はチオジプロピオン酸ジステアリルエステル。
【００７９】
７．パーオキシド破壊化合物、
例えば、β−チオジプロピオン酸のエステル、例えば、ラウリル、ステアリル、ミリスチル又はトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【００８０】
８．ポリアミド安定剤
例えば、ヨウ化物及び／又はリン化合物と組み合わせた銅塩及び二価マンガンの塩。
【００８１】
９．塩基性の補助安定剤
例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、例えばステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ベヘン酸マグネシウム、ステアリン酸マグネシウム、リシノール酸ナトリウム及びパルミチン酸カリウム、ピロカテコール酸アンチモン又はピロカテコール酸亜鉛。
【００８２】
１０．核剤、
例えば、無機物質、例えばタルク、二酸化チタン、酸化マグネシウムのような金属酸化物、好ましくはアルカリ土類金属のリン酸塩、炭酸塩又は硫酸塩；モノ−又はポリカルボン酸のような有機化合物及びそれらの塩、例えば、４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム又は安息香酸ナトリウム；イオンコポリマー（“アイオノマー”）のようなポリマー化合物。特に好ましくは、１，３：２，４−ビス（３’，４’−ジメチルベンジリデン）ソルビトール、１，３：２，４−ジ（パラメチルジベンジリデン）ソルビトール及び１，３：２，４−ジ（ベンジリデン）ソルビトールである。
【００８３】
１１．充填材及び強化剤、
例えば、炭酸カルシウム、シリケート、ガラス繊維、ガラス球、アスベスト、タルク、カオリン、マイカ、硫酸バリウム、金属酸化物及び金属水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木粉及び他の天然物の粉末又は繊維、合成繊維。
【００８４】
１２．ベンゾフラノン及びインドリノン、
例えば、米国特許第４，３２５，８６３号明細書；米国特許第４，３３８，２４４号明細書；米国特許第５，１７５，３１２号明細書；米国特許第５，２１６，０５２号明細書；米国特許第５，２５２，６４３号明細書；独国特許出願公開第４３１６６１１号明細書；独国特許出願公開第４３１６６２２号明細書；独国特許出願公開第４３１６８７６号明細書；欧州特許出願公開第０５８９８３９号明細書又は欧州特許出願公開第０５９１１０２号明細書に開示されるもの又は３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン。
【００８５】
１３．抗ガス退色剤
例えば、１，１，１’，１’−テトラメチル−４，４’−（メチレン−ジ−ｐ−フェニレン）ジセミカルバジド；１，６−ヘキサメチレンビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルセミカルバジド）；１１−［６−［［（２，２−ジ−メチルヒドラジノ）カルボニル］アミノ］ヘキシル］−１０，１２−ジオキソ−ビス（２，２−ジメチルヒドラジド）。
【００８６】
１４．他の添加剤
例えば、可塑剤、滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、流れ調節剤、蛍光増白剤、防炎加工剤、帯電防止剤及び発泡剤。
【００８７】
成分ｃ）のさらなる添加剤は、例えば、本発明の組成物の全質量に関して、０．０１ないし１０．０％の濃度で添加される。
添加剤ａ）及びｂ）及び所望のさらなる成分のポリマー成分ｃ）への配合は、粉体の形態での乾燥ブレンド、或いは、例えば不活性溶媒、水又はオイル中の溶液、分散液又は懸濁液形態での湿式混合のような既知の方法により行われる。添加剤成分ａ）及びｂ）及び所望のさらなる添加剤は、例えば、成形の前後に、或いはまた、その後の溶媒又は懸濁／分散剤の蒸発を伴ってまたは伴わずに、溶解されたか又は分散された添加剤又は添加剤混合物をポリマー材に塗布することにより、配合され得る。それらは、例えば乾燥混合物又は粉体として、或いは溶液又は分散液又は懸濁液又は溶融物として、加工機（例えば、押出機、内部ミキサー等）に直接に添加され得る。
ポリマー基材ｃ）への添加剤成分の添加は、ポリマーが添加剤と溶融され且つ混合されるすべての慣用の混合機内で行われ得る。適する機械は、当業者に既知である。それらは優先的に、ミキサー、ニーダー及び押出機である。
加工は好ましくは、加工の間に添加剤を導入することにより押出機内で行われる。
特に好ましい加工機は、一軸スクリュー押出機、逆回転及び同一回転二軸スクリュー押出機、遊星ギア押出機、リング押出機又はコニーダーである。真空が適用され得る少なくとも１つのガス除去室付きの加工機を使用することがまた可能である。
【００８８】
適する押出機及びニーダーは例えば、Ｈａｎｄｂｕｃｈ ｄｅｒ Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆｅｘｔｒｕｓｉｏｎ，Ｖｏｌ．１ Ｇｒｕｎｄｌａｇｅｎ，編者 Ｆ．Ｈｅｎｓｅｎ，Ｗ．Ｋｎａｐｐｅ，ＨＰｏｔｅｎｔｅ，１９８９，ｐｐ．３−７，ＩＳＢＮ：３−４４６−１４３３９−４（Ｖｏｌ．２ Ｅｘｔｒｕｓｉｏｎｓａｎｌａｇｅｎ １９８６，ＩＳＢＮ ３−４４６−１４３２９−７）に記載される。
例えば、スクリュー長は、１ないし６０スクリュー直径であり、好ましくは３５ないし４８スクリュー直径である。スクリューの回転速度は、好ましくは１分当り１０ないし６００回転（ｒｐｍ）であり、非常に特に好ましくは２５ないし３００ｒｐｍである。
最大処理量は、スクリュー直径、回転速度及び駆動力による。本発明の方法はまた、言及したパラメータを変えるか又は適用量を与える計量機を使用することにより、最大処理量よりも低い水準で行われ得る。
多くの成分が添加される場合、これらは前混合され得るか又は個々に添加され得る。
【００８９】
添加剤成分ａ）及びｂ）及び所望のさらなる添加剤はまた、ポリマー基材ｃ）に噴霧され得る。添加剤混合物は、他の添加剤、例えば上記示された慣用の添加剤、或いはそれら添加剤と一緒にポリマー基材に噴霧され得るようにそれらの溶融物を希釈する。重合触媒の失活の間の噴霧による添加は、特に有利であり；この場合、発生した蒸気は触媒の失活に使用され得る。球状に重合されたポリオレフィンの場合には、所望により他の添加剤と一緒に、本発明の添加剤を噴霧により塗布することが有利であり得る。
添加剤成分ａ）及びｂ）及び所望のさらなる添加剤はまた、例えば、ポリマーに配合されるおよそ１．０質量％ないしおよそ４０．０質量％、及び好ましくは２．０質量％ないしおよそ２０．０質量％の濃度で成分を含むマスターバッチ（“濃縮物（ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｅ）”）の形態でポリマーに添加され得る。ポリマーは、添加剤が最終的に添加されるポリマーとは同一構造である必要はない。そのような操作において、ポリマーは、粉体、顆粒、溶液、及び懸濁液の形態で、或いはラテックスの形態で使用され得る。
配合は、造形操作に先立って或いはその間に行われ得る。本明細書で記載された本発明の添加剤を含む材料は、好ましくは、成形品、例えば回転成形品、射出成形品、異形材等、及びとりわけ、繊維、溶融紡糸不織布、フィルム又はフォームの製造に使用される。
【００９０】
従って、本発明は、本発明の組成物を含む、成形品又は押出品、繊維、スパンメルト不織布又はフォームにさらに関する。
特に好ましい本発明の態様は、
ａ）少なくとも１種の亜ホスホン酸及び亜リン酸のエステル誘導体；
ｂ）メラミンシアヌレート；及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む組成物に関する。
他の特に好ましい本発明の態様は、
ａ）
【化４１】
【化４２】
【化４３】
【化４４】
【化４５】
【化４６】
【化４７】
【化４８】
【化４９】
及び
【化５０】
からなる群より選択された少なくとも１種の亜ホスホン酸及び亜リン酸のエステル誘導体；
ｂ）メラミンシアヌレート；及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む組成物に関する。
【００９１】
特に好ましい本発明の態様は、
ａ）
【化５１】
【化５２】
【化５３】
【化５４】
【化５５】
及び
【化５６】
からなる群より選択された少なくとも１種の亜ホスホン酸及び亜リン酸のエステル誘導体；
ｂ）メラミンシアヌレート；及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む組成物に関する。
【００９２】
他の好ましい本発明の態様は、
ａ）トリスノニルフェニルホスフィット（ＴＮＰＰ）、トリフェニルホスフィット（ＴＰＰ）、ジフェニルホスフィット（ＤＰＰ）、フェニルジイソデシルホスフィット（ＰＤＤＰ）、ジフェニルイソデシルホスフィット（ＤＰＤＰ）、ジフェニルイソオクチルホスフィット（ＤＰＩＯＰ）、テトラフェニルジプロピレングリコールジホスフィット（ＴＨＯＰ）、ポリ（ジプロピレングリコール）フェニルホスフィット（ＤＨＯＰ）、ドデシルジフェニルホスフィット（ＤＤＰＰ）、トリイソデシルホスフィット（ＴＤＰ）、トリストリデシルホスフィット（ＴＴＤＰ）及びトリラウリルホスフィット（ＴＬＰ）からなる群より選択された少なくとも１種の亜ホスホ酸及び亜リン酸のエステル誘導体；
ｂ）メラミンシアヌレート；及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む組成物に関する。
【００９３】
他の本発明の特に好ましい態様は、
ａ）９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスホリルフェナントレン−１０−オキシド（ＤＯＰＯ）、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット［ＣＡＳ ＲＮ８０６９３−００−１］、［（Ｃ6Ｈ5−Ｏ−）2Ｐ］2（−Ｏ−Ｃ2Ｈ4）2［ＣＡＳ ＲＮ５７０７７−４５−９］、［（Ｃ6Ｈ5−Ｏ−）2Ｐ］2（−ＯＣ2Ｈ5）14（Ｃ6Ｈ5−Ｏ−Ｐ）6［ＣＡＳ ＲＮ６７３８３−５４−４］及び
トリフェニルホスフィットからなる群より選択された少なくとも１種の亜ホスホ酸及び亜リン酸のエステル誘導体；
ｂ）メラミンシアヌレート；及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む組成物に関する。
【００９４】
本発明のさらなる態様は、ポリウレタンポリマー基材に難燃性を与える方法であって、前記ポリマー基材に
ａ）オキサホスホリンオキシド、亜ホスホン酸及び亜リン酸からなる群より選択された少なくとも１種のリン含有のオキソ酸のエステル誘導体；及び
ｂ）窒素化合物をベースとした少なくとも１種の難燃剤成分
を含む混合物を添加することからなる方法に関する。
【実施例】
【００９５】
実施例１
材料及び方法
タンブルミキサー内で、ポリエステル熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ）ペレット（エスタン（Ｅｓｔａｎｅ）（登録商標）ＧＰ７２ＤＢ ＮＡＴ０２１Ｐ（ノベオン（Ｎｏｖｅｏｎ）（登録商標））の４ｋｇを、５ないし１０％ビス（２，４−ジ−第三ブチル−フェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット（イルガフォス（ＩＲＧＡＦＯＳ）１２６）、２５％メラミンシアヌレート（メラプア ＭＣ２５）及びペンタエリトリトールテトラキス３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（イルガノックス（ＩＲＧＡＮＯＸ）１０６６）と均質になるまで混合した。このブレンドを、２２０℃以下の温度にて、二軸スクリュー押出機（ベルストッフ（Ｂｅｒｓｔｏｒｆｆ）（登録商標））内で配合した。水浴を通した延伸及び冷却後に、押出物を顆粒化した。
１２５ｍｍ×１３ｍｍ×１．６ｍｍの試験パネルを、２２０℃以下の温度にて射出成形機（アルブルグ（Ａｒｂｕｒｇ）（登録商標）３２０Ｓ）を用いて形成した顆粒から成形した（成形温度：５０℃）。
試料をＵＬ９４Ｖシックセクションテスト（ｔｈｉｃｋ ｓｅｃｔｉｏｎ ｔｅｓｔ）（Ｕｎｄｅｒｗｒｉｔｅｒ’ｓ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ ＵＬ９４ Ｆｌａｍｍａｂｉｌｉｔｙ Ｔｅｓｔ：ＵＬ９４ Ｔｅｓｔ ｆｏｒ Ｆｌａｍｍａｂｉｌｉｔｙ ｏｆ
Ｐｌａｓｔｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ｆｏｒ ｐａｒｔｓ ｉｎ Ｄｅｖｉｃｅｓ ａｎｄ Ａｐｐｌｉａｎｃｅｓ，第５版，１９９６年）により難燃性について試験した。
【００９６】
結果
【表１】
【００９７】
実施例２
材料及び方法
タンブルミキサー内で、ポリエステル熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ）ペレット（エス
タン５８３１１ナチュラル（Ｎａｔｕｒａｌ）０２８Ｐ）の４ｋｇを、異なる濃度のビス（２，４−ジ−第三ブチル−フェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット（イルガフォス１２６）、異なる濃度のメラミンシアヌレート（メラプアＭＣ２５）及び１％ペンタエリトリトールテトラキス３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（イルガノックス１０６６）と均質になるまで混合した。このブレンドを、２２０℃以下の温度にて、二軸スクリュー押出機（ベルストッフ）内で配合した。水浴を通した延伸及び冷却後に、押出物を顆粒化した。
射出成形し、そして実施例１と同様の手法で難燃性について試験した。
結果
【表２】
【００９８】
実施例３
材料及び方法
タンブルミキサー内で、ポリエステル熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ）ペレット（エスタン５８３１１ナチュラル０２８Ｐ）の４ｋｇを、異なる濃度のビス（２，４−ジ−第三ブチル−フェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット（イルガフォス１２６）、異なる濃度のメラミンシアヌレート（メラプアＭＣ２５）及び表３中に記載した試験化合物及び１％ペンタエリトリトールテトラキス３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（イルガノックス１０６６）と均質になるまで混合した。このブレンドを、２２０℃以下の温度にて、二軸スクリュー押出機（ベルストッフ）内で配合した。水浴を通した延伸及び冷却後に、押出物を顆粒化した。
射出成形し、そして実施例１と同様の手法で難燃性について試験した。
結果
【表３】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）オキサホスホリンオキシド（ｏｘａｐｈｏｓｐｈｏｒｉｎｏｘｉｄｅ）、亜ホスホン酸及び亜リン酸からなる群より選択された少なくとも１種のリン含有のオキソ酸のエステル誘導体；
ｂ）窒素化合物をベースとした少なくとも１種の難燃剤成分；及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む組成物。
【請求項２】
ａ）亜ホスホン酸及び亜リン酸からなる群より選択された少なくとも１種のリン含有のオキソ酸のエステル誘導体；
ｂ）窒素化合物をベースとした少なくとも１種の難燃剤成分；及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む組成物。
【請求項３】
ａ）少なくとも１種の亜ホスホン酸及び亜リン酸のエステル誘導体；
ｂ）メラミンシアヌレート；及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
ａ）
【化１】
【化２】
【化３】
【化４】
【化５】
【化６】
【化７】
【化８】
【化９】
【化１０】
及び
【化１１】
からなる群より選択された少なくとも１種の亜ホスホン酸及び亜リン酸のエステル誘導体；
ｂ）メラミンシアヌレート；及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
ａ）
【化１２】
【化１３】
【化１４】
【化１５】
【化１６】
及び
【化１７】
からなる群より選択された少なくとも１種の亜ホスホン酸及び亜リン酸のエステル誘導体；
ｂ）メラミンシアヌレート；及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
ａ）トリスノニルフェニルホスフィット（ＴＮＰＰ）、トリフェニルホスフィット（ＴＰＰ）、ジフェニルホスフィット（ＤＰＰ）、フェニルジイソデシルホスフィット（ＰＤＤＰ）、ジフェニルイソデシルホスフィット（ＤＰＤＰ）、ジフェニルイソオクチルホスフィット（ＤＰＩＯＰ）、テトラフェニルジプロピレングリコールジホスフィット（ＴＨＯＰ）、ポリ（ジプロピレングリコール）フェニルホスフィット（ＤＨＯＰ）、ドデシルジフェニルホスフィット（ＤＤＰＰ）、トリイソデシルホスフィット（ＴＤＰ）、トリストリデシルホスフィット（ＴＴＤＰ）及びトリラウリルホスフィット（ＴＬＰ）からなる群より選択された少なくとも１種の亜ホスホン酸及び亜リン酸のエステル誘導体；
ｂ）メラミンシアヌレート；及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
ａ）９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスホリルフェナントレン−１０−オキシド（ＤＯＰＯ）、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、［（Ｃ6Ｈ5−Ｏ−）2Ｐ］2（−Ｏ−Ｃ2Ｈ4）2、［（Ｃ6Ｈ5
−Ｏ−）2Ｐ］2（−ＯＣ2Ｈ5）14（Ｃ6Ｈ5−Ｏ−Ｐ）6及びトリフェニルホスフィットか
らなる群より選択された少なくとも１種の亜ホスホン酸及び亜リン酸のエステル誘導体；
ｂ）メラミンシアヌレート；及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
ポリウレタンポリマー基材に難燃性を与える方法であって、前記ポリマー基材に
ａ）オキサホスホリンオキシド、亜ホスホン酸及び亜リン酸からなる群より選択された少なくとも１種のリン含有のオキソ酸のエステル誘導体；及び
ｂ）窒素化合物をベースとした少なくとも１種の難燃剤成分
を含む混合物を添加することからなる方法。
【請求項１】
ａ）オキサホスホリンオキシド（ｏｘａｐｈｏｓｐｈｏｒｉｎｏｘｉｄｅ）、亜ホスホン酸及び亜リン酸からなる群より選択された少なくとも１種のリン含有のオキソ酸のエステル誘導体；
ｂ）窒素化合物をベースとした少なくとも１種の難燃剤成分；及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む組成物。
【請求項２】
ａ）亜ホスホン酸及び亜リン酸からなる群より選択された少なくとも１種のリン含有のオキソ酸のエステル誘導体；
ｂ）窒素化合物をベースとした少なくとも１種の難燃剤成分；及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む組成物。
【請求項３】
ａ）少なくとも１種の亜ホスホン酸及び亜リン酸のエステル誘導体；
ｂ）メラミンシアヌレート；及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
ａ）
【化１】
【化２】
【化３】
【化４】
【化５】
【化６】
【化７】
【化８】
【化９】
【化１０】
及び
【化１１】
からなる群より選択された少なくとも１種の亜ホスホン酸及び亜リン酸のエステル誘導体；
ｂ）メラミンシアヌレート；及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
ａ）
【化１２】
【化１３】
【化１４】
【化１５】
【化１６】
及び
【化１７】
からなる群より選択された少なくとも１種の亜ホスホン酸及び亜リン酸のエステル誘導体；
ｂ）メラミンシアヌレート；及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
ａ）トリスノニルフェニルホスフィット（ＴＮＰＰ）、トリフェニルホスフィット（ＴＰＰ）、ジフェニルホスフィット（ＤＰＰ）、フェニルジイソデシルホスフィット（ＰＤＤＰ）、ジフェニルイソデシルホスフィット（ＤＰＤＰ）、ジフェニルイソオクチルホスフィット（ＤＰＩＯＰ）、テトラフェニルジプロピレングリコールジホスフィット（ＴＨＯＰ）、ポリ（ジプロピレングリコール）フェニルホスフィット（ＤＨＯＰ）、ドデシルジフェニルホスフィット（ＤＤＰＰ）、トリイソデシルホスフィット（ＴＤＰ）、トリストリデシルホスフィット（ＴＴＤＰ）及びトリラウリルホスフィット（ＴＬＰ）からなる群より選択された少なくとも１種の亜ホスホン酸及び亜リン酸のエステル誘導体；
ｂ）メラミンシアヌレート；及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
ａ）９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスホリルフェナントレン−１０−オキシド（ＤＯＰＯ）、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、［（Ｃ6Ｈ5−Ｏ−）2Ｐ］2（−Ｏ−Ｃ2Ｈ4）2、［（Ｃ6Ｈ5
−Ｏ−）2Ｐ］2（−ＯＣ2Ｈ5）14（Ｃ6Ｈ5−Ｏ−Ｐ）6及びトリフェニルホスフィットか
らなる群より選択された少なくとも１種の亜ホスホン酸及び亜リン酸のエステル誘導体；
ｂ）メラミンシアヌレート；及び
ｃ）ポリウレタンポリマー基材
を含む請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
ポリウレタンポリマー基材に難燃性を与える方法であって、前記ポリマー基材に
ａ）オキサホスホリンオキシド、亜ホスホン酸及び亜リン酸からなる群より選択された少なくとも１種のリン含有のオキソ酸のエステル誘導体；及び
ｂ）窒素化合物をベースとした少なくとも１種の難燃剤成分
を含む混合物を添加することからなる方法。
【公表番号】特表２００９−５０７９７６（Ｐ２００９−５０７９７６Ａ）
【公表日】平成２１年２月２６日（２００９．２．２６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−５３０４８３（Ｐ２００８−５３０４８３）
【出願日】平成１８年９月６日（２００６．９．６）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００６／０６６０４５
【国際公開番号】ＷＯ２００７／０３１４５０
【国際公開日】平成１９年３月２２日（２００７．３．２２）
【出願人】（３９６０２３９４８）チバ ホールディング インコーポレーテッド (530)
【氏名又は名称原語表記】Ｃｉｂａ Ｈｏｌｄｉｎｇ Ｉｎｃ．
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２１年２月２６日（２００９．２．２６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年９月６日（２００６．９．６）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００６／０６６０４５
【国際公開番号】ＷＯ２００７／０３１４５０
【国際公開日】平成１９年３月２２日（２００７．３．２２）
【出願人】（３９６０２３９４８）チバ ホールディング インコーポレーテッド (530)
【氏名又は名称原語表記】Ｃｉｂａ Ｈｏｌｄｉｎｇ Ｉｎｃ．
【Ｆターム（参考）】
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