説明

ポリ塩化ビフェニル類の分析方法

【課題】ポリ塩化ビフェニル類(PCB類)を含む疎水性試料に含まれ、PCB類の定量に妨害となる共存物質を、簡便な操作で、十分に除去して、PCB類を定量しうる分析方法を提供する。
【解決手段】本発明のPCB類の分析方法は、(1)前処理工程として、前記疎水性試料を、以下の条件を満足する発煙硫酸含浸シリカゲルと接触させる工程、および
(2)当該前処理を付した後のPCB類と抗体との抗原抗体反応を利用したイムノアッセイ工程
を含むことを特徴とする。通常、発煙硫酸含浸量はシリカゲルに対して0.5〜5質量倍、カラムに充填された発煙硫酸含浸シリカゲルと接触させる。
発煙硫酸含浸シリカゲル:BET比表面積250〜450m2/g、細孔容積1.4〜2.6cm3/gのシリカゲルに遊離SO3濃度5〜40質量%の発煙硫酸が含浸された発煙硫酸含浸シリカゲル

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ポリ塩化ビフェニル類の分析方法に関し、詳しくは疎水性試料中のポリ塩化ビフェニル類を定量しうる分析方法に関する。
【背景技術】
【0002】
トランスなどに使用されている絶縁油などの疎水性試料に含まれるポリ塩化ビフェニル類〔以下、PCB類と略称することがある。〕を定量するに際しては、PCB類の定量に妨害となる共存物質を予め除去することが必要であるが、このような共存物質には、カラムクロマトグラフ処理などの通常の処理方法だけでは分離が困難なものもある。このため、非特許文献1〔平成12年12月28日厚生省告示第633号で改正された平成4年7月3日厚生省告示第192号の別表第二「特別管理一般廃棄物及び特別管理産業廃棄物に係る基準の検定方法」〕に記載された、いわゆる公定法では、疎水性試料を濃硫酸と液−液接触させて処理する操作を繰り返したのちに、共存物質を上記カラムクロマトグラフ処理などの処理方法により除去する方法が開示されており、濃硫酸に代えて遊離SO3濃度25質量%の発煙硫酸を用いて疎水性試料を処理する方法も知られている。かかる処理方法によれば、疎水性試料に含まれる分離困難な妨害物質を除去することができる。濃硫酸または発煙硫酸と液−液接触させたのちの疎水性試料は、分液操作により濃硫酸または発煙硫酸から分離される。
【0003】
しかし、液−液接触させたのちの疎水性試料を濃硫酸または発煙硫酸から分離する操作を繰り返すことは煩雑である。
【0004】
一方、比較的短時間で、簡便に、妨害物質を除去しうる方法としては、疎水性試料を、珪藻土に濃硫酸単独を含浸させた濃硫酸含浸担体と接触させる方法が知られており、特許文献1〔特開2001−116723号公報第9頁の段落番号0082〕には、この濃硫酸含浸担体を充填したカラムに、疎水性試料を通過させたのちに、シリカゲルカラムクロマトグラフ処理を行うことにより、妨害物質の除去を図っている。
【0005】
しかし、濃硫酸単独を用いる従来の分解方法では、PCB類との分離が困難な妨害物質を十分に除去することができないという問題があった。
【0006】
【非特許文献1】平成12年12月28日厚生省告示第633号で改正された平成4年7月3日厚生省告示第192号の別表第二「特別管理一般廃棄物及び特別管理産業廃棄物に係る基準の検定方法」
【特許文献1】特開2001−116723号公報第9頁の段落番号0082
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
そこで本発明者らは、疎水性試料に含まれ、PCB類の定量に妨害となる共存物質を、簡便な操作で、十分に除去して、PCB類を定量しうる方法を開発するべく鋭意検討した結果、本発明に至った。
【課題を解決するための手段】
【0008】
すなわち本発明は、ポリ塩化ビフェニル類を含む疎水性試料中のポリ塩化ビフェニル類を定量するに際し、
(1)前処理工程として、前記疎水性試料を、以下の条件を満足する発煙硫酸含浸シリカゲルと接触させる工程、および
(2)当該前処理を付した後のポリ塩化ビフェニル類と抗体との抗原抗体反応を利用したイムノアッセイ工程
を含むことを特徴とする前記ポリ塩化ビフェニル類の分析方法を提供するものである。
【0009】
発煙硫酸含浸シリカゲル:BET比表面積250m2/g〜450m2/g、細孔容積1.4cm3/g〜2.6cm3/gのシリカゲルに遊離SO3濃度5質量%〜40質量%の発煙硫酸が含浸された発煙硫酸含浸シリカゲル
【発明の効果】
【0010】
本発明の方法によれば、遊離SO3濃度5〜40質量%の発煙硫酸を用いるので、疎水性試料に含まれる上記妨害物質を十分に除去することができることから、PCB類と抗体とのイムノアッセイでの共存物質による妨害を解消することができ、これによりPCB類を正確に定量できる。また、この発煙硫酸はシリカゲルに含浸されているので、従来の技術のような煩雑な分液操作を必要としない。
【発明を実施するための最良の形態】
【0011】
本発明の方法に適用される疎水性試料は、疎水性の液体試料であって、例えばトランス、コンデンサーなどの電気機器に絶縁、冷却などのために封入されて使用される絶縁油、該絶縁油を分解処理して得られる分解処理油などの油性試料が挙げられる。かかる油性試料は希釈されることなくそのまま用いられてもよいし、n−ヘキサン、シクロヘキサンなどのような疎水性溶媒で希釈されて用いられてもよい。
【0012】
また、疎水性試料としては、例えば焼却炉から排出される煤塵、燃え殻、土壌から採取される土質試料などの固形試料、雨水、排水などの水質試料などから、n−ヘキサン、トルエンなどのような疎水性溶媒により抽出されたPCB類を含む疎水性溶液も挙げられる。
【0013】
固形試料や水質試料から疎水性溶媒によりPCB類を抽出するには、例えば固形試料または水質試料を上記のような疎水性溶媒と接触させればよい。
【0014】
固形試料または水質試料から疎水性溶媒によりPCB類を抽出することにより得られた疎水性溶媒抽出液は、そのまま疎水性試料として用いてもよいが、通常は、PCB類と共に抽出される他の共存物質を分離するために、n−ヘキサン、トルエンなどの疎水性溶媒抽出液からPCB類を極性有機溶媒でさらに抽出し、得られた極性有機溶媒抽出液からPCB類を疎水性溶媒に転溶させる。かかる極性有機溶媒としては、例えばジメチルスルホキシド、アセトニトリル、メタノール、n−メチルピロリドンなどが挙げられる。極性有機溶媒抽出液から疎水性溶媒に転溶させるには、例えば極性有機溶媒抽出液に水を加えたのち、疎水性溶媒により抽出すればよい。
【0015】
本発明の方法において前処理工程で用いる発煙硫酸含浸シリカゲルは、シリカゲルに発煙硫酸が含浸されてなるものである。
【0016】
シリカゲルとしては、BET比表面積が250m2/g〜450m2/g、好ましくは250m2/g〜350m2/gであり、細孔容積が1.4cm3/g〜2.6cm3/g、好ましくは1.6cm3/g〜2.6cm3/gのものが用いられる。
【0017】
発煙硫酸は、濃硫酸に三酸化硫黄〔SO3〕ガスを吸収させたものであり、その遊離SO3濃度は、JIS K8741に従って測定される。一般に市販されている発煙硫酸の遊離SO3濃度は10質量%〜60質量%であるので、本発明で規定する遊離SO3濃度の発煙硫酸は、例えば市販の発煙硫酸に、濃硫酸、すなわちH2SO4濃度98質量%以上の硫酸を加えて希釈する方法、市販の発煙硫酸または濃硫酸に三酸化硫黄ガスを吹き込んで吸収させる方法などにより調製することができる。
【0018】
発煙硫酸の遊離SO3濃度は、妨害物質を十分に除去しうる点で、5質量%以上、好ましくは15質量%以上であり、PCB類を精度よく定量できる点で、40質量%以下、好ましくは30質量%以下である。
【0019】
かかる発煙硫酸のシリカゲルに対する含浸量は、シリカゲルに含浸されて保持されうる量であればよく、通常は、シリカゲルに対して0.5質量倍〜5質量倍であるが、含浸された発煙硫酸がほとんど滲み出さず、また粒子同士が互いに粘着せず、粉末状で流動性の発煙硫酸シリカゲルとなって取扱いが容易である点で、2.5質量倍以下であることが好ましい。
【0020】
疎水性試料と発煙硫酸含浸シリカゲルとの接触は、通常、疎水性試料を、カラムに充填された発煙硫酸含浸シリカゲルと接触させることにより行われ、代表的には、疎水性試料を、発煙硫酸含浸シリカゲルが充填されたカラムを通過させることにより行われる。
【0021】
また、発煙硫酸含浸シリカゲルカラムは、カラムに、前記のシリカゲルを充填したのち、上述の発煙硫酸を加えることにより調製することもできる。
【0022】
より具体的な使用形態としては、あらかじめ前記発煙硫酸含浸シリカゲルを携帯密封容器に収容しておき、使用時にこれを開封し、該発煙硫酸含浸シリカゲルをカラムに充填し、当該カラムを通過させることにより、該疎水性試料を処理する形態が挙げられる。かかる使用形態によれば、発煙硫酸含浸シリカゲルが携帯密封容器に収容されているために、分析対象となる疎水性試料の採取現場においても容易に前処理し得ることから好ましい。
【0023】
発煙硫酸含浸シリカゲルが収容される携帯密封容器としては、発煙硫酸に対して不活性であり、当該シリカゲルを密封し得るものが挙げられる。
【0024】
かかる容器としては、その内面がガラスライニング、フッ素樹脂加工になどによりコーティングされているシリンダー型の密封容器、アンプルなどが挙げられ、入手が容易であり、また軽量で取り扱いが容易である点で、アンプルが好ましい。
【0025】
アンプルとしては、通常は内容物の確認が容易で、開封が容易である点で、ガラス製のものが用いられる。
【0026】
密封アンプルは、上記の発煙硫酸含浸シリカゲルがアンプルに密封されてなるものであり、例えば投入口が開いたアンプルに、前記シリカゲルおよび発煙硫酸を投入し、投入口を封止することにより調製することができる。前記シリカゲルおよび発煙硫酸は、あらかじめ混合されていてもよいし、アンプルに投入されたのち、アンプルを振とうすることにより撹拌して混合してもよい。
【0027】
かくして得られる発煙硫酸含浸シリカゲル密封アンプルを開封し、密封されていた発煙硫酸含浸担体をカラムに充填するには、通常の方法でアンプルを開封したのち、内部の発煙硫酸含浸担体をカラムに移し替えればよい。
【0028】
前記のシリカゲルに、このシリカゲルに対して2.5質量倍以下の上述の発煙硫酸が含浸されてなる発煙硫酸含浸シリカゲルは、流動性の粉末状であるので、アンプルからカラムへの移し替えが容易である点で、好ましい。
【0029】
疎水性試料を発煙硫酸含浸シリカゲルと接触させる際の接触温度は、通常0℃〜50℃程度である。接触時間は、通常1分〜20分程度であり、精度が優れ効率的に測定できる点で、3分〜10分が好ましい。
【0030】
疎水性試料の粘度によっては、そのままでは発煙硫酸含浸シリカゲルカラムを通過させることが困難な場合もあるが、このような場合には、適宜、疎水性試料を、例えばn−ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサンなどの疎水性溶媒で希釈することにより粘度を下げて用いてもよいし、発煙硫酸含浸シリカゲルカラムに疎水性試料を戴置したのち、さらに疎水性溶媒を流下させることにより希釈させながら通過させてもよい。
【0031】
疎水性溶媒試料は、あらかじめ脱水されていることが好ましい。脱水させるには、例えば乾燥剤と接触させればよく、発煙硫酸含浸シリカゲルカラムとして、その上流側にさらに乾燥剤を充填した発煙硫酸含浸シリカゲル層と乾燥剤層との2層構成のカラムを用い、疎水性試料が、この乾燥剤層を通過することにより脱水されてから、発煙硫酸含浸シリカゲル層を通過するように構成してもよいし、発煙硫酸含浸シリカゲルカラムの上流側に乾燥剤を充填した乾燥剤カラムを接続して、疎水性試料が、乾燥剤カラムを通過したのちに、発煙硫酸含浸シリカゲルカラムを通過するように構成してもよい。乾燥剤として通常は、無水硫酸ナトリウムなどのような発煙硫酸および濃硫酸に対して不活性な乾燥剤が用いられる。
【0032】
このようにして発煙硫酸含浸シリカゲルと接触したのちの疎水性試料を、例えばシリカゲルカラムクロマトグラフ処理することにより、妨害物質を除去することができる。シリカゲルカラムクロマトグラフ処理には、通常、カラムにシリカゲルが充填されたシリカゲルカラムが用いられ、通常は、発煙硫酸含浸シリカゲルカラムの下流側に接続されて用いられる。
【0033】
このような処理操作を施したのちの疎水性試料は、必要に応じて、例えば溶媒留去などの
方法により濃縮されてもよい。また、通常は、該疎水性試料からPCB類をジメチルスルホキシド、アセトンなどの極性有機溶媒に転溶させる。極性有機溶媒に転溶させる方法としては、例えば疎水性試料を溶媒留去し、残渣に上記の極性有機溶媒に加えて溶解させる方法が挙げられるが、疎水性試料に残存する他の共存物質のうち、極性有機溶媒に不溶のものをPCB類と分離し、除去できることから、疎水性試料に対して不溶性の極性有機溶媒を加え、疎水性溶媒層と極性有機溶媒層との2層に層分離させたのち、分液により親水性溶媒層を得る方法が好ましく用いられ、分液前に溶媒留去などの方法により疎水性試料を濃縮してから分液してもよい。
【0034】
なお、上記の処理操作ののち、疎水性試料に残存する他の共存物質は、必要に応じて更に、通常のカラムクロマトグラフ法などの精製処理を付することにより、除去することができる。
【0035】
例えば上記他の共存物質のうち親油性のものは、疎水性試料に含まれるPCB類を極性有機溶媒で抽出し、得られた極性溶媒抽出液を、親油性吸着剤を充填剤とするカラムクロマトグラフ処理することにより、PCB類と分離することができる。
極性有機溶媒としては、上記したと同様のものが挙げられる。親油性吸着剤とは、少なくとも表面が油性の物質と親和性のある材料で構成された固形の吸着剤であって、通常は粒状のものが用いられる。かかる親油性吸着剤としては、例えばカラムクロマトグラフ用充填剤、固相抽出用充填剤、逆相液体クロマトグラフィーのカラム充填剤として広く用いられているものが挙げられ、例えばジーエルサイエンス社からカラムクロマト充填剤「C18」、米国ウォーターズ(Waters)社から「SEP−PAK−C18」、「SEP−PAK−tC18」、「SEP−PAK−Vac tC18」などの商品名で市販されているものを用いることができる。
【0036】
カラムクロマトグラフ処理は、例えば親油性吸着剤を充填したカラムを用い、極性有機溶媒抽出液を流下液として用いることにより行われる。流下後の極性溶媒抽出液は、必要に応じて濃縮してもよい。
【0037】
親油性吸着剤によりカラムクロマトグラフ処理したのちの極性有機溶媒抽出液に、他の共存物質として親水性のものが含まれる場合には、例えば極性有機溶媒抽出液に含まれるPCB類を疎水性溶媒に転溶させた転溶液を、多層シリカゲルカラムクロマトグラフ処理することにより、PCB類から分離することができる。
【0038】
極性有機溶媒抽出液に含まれるPCB類を疎水性溶媒に転溶させるには、例えば極性有機溶媒抽出液に水を加えたのち、疎水性溶媒で抽出すればよい。多層シリカゲルカラムクロマトグラフ処理は、例えばカラムに無処理のシリカゲル、水酸化カリウム被覆シリカゲル、硫酸被覆シリカゲルなどのシリカゲル充填剤が充填された多層構成の多層シリカゲルカラムに転溶液を通過させることにより行われる。通過後の転溶液は、溶媒留去などの方法により濃縮してもよい。
【0039】
かかる前処理を施した後、PCB類と抗体との抗原抗体反応を利用したイムノアッセイ工程により、PCB類を分析する。
【0040】
このようなPCB類と抗体との抗原抗体反応を利用したイムノアッセイ工程は特に制限されるものではなく、適宜公知の方法を採用し得るが、例えば
(1)前処理工程で得られるPCB類に、該PCB類に対する1次抗体を過剰量加えて混合することにより、当該1次抗体を抗原抗体反応により該PCB類と結合させたのち、
(2)該1次抗体との抗原抗体反応能力を有し、蛍光物質で標識化された標識化2次抗体を過剰量加えて混合し、PCB類の類似化合物であるハプテン抗原が担体に固定化された抗原固定化担体と接触させることにより、上記でPCB類と結合しなかった過剰分の1次抗体を抗原固定化担体のハプテン抗原に結合させると共に、この結合した1次抗体に標識化2次抗体を結合させ、
次いで、
(3)このようにして1次抗体を介して抗原固定化担体に担持され標識化2次抗体の担持量を求めればよい。
【0041】
この方法によれば、PCB類の含有量が多い場合には、抗原固定化担体への標識化2次抗体の担持量が少なくなり、PCB類の含有量が少ない場合には、標識化2次抗体の担持量が多くなるので、抗原固定化担体への標識化2次抗体の担持量を求めることにより、PCB類の含有量を求めることができる。標識化2次抗体の担持量は、担持後の抗原固定化担体に紫外線などを照射して蛍光強度を測定する通常の蛍光分析法により求めることができる。
【実施例】
【0042】
以下、実施例により本発明をより詳細に説明するが、本発明は、かかる実施例によって限定されるものではない。
【0043】
なお、実施例で用いたシリカゲルのBET比表面積は、MICROMETRICS社製「流動式比表面積自動測定装置 Flow Sorb 2300」を用いて一点法により測定した。
細孔容積は、MICROMETRICS社製社製「自動ポロシメーター オートポアIII 9420」を用いて細孔半径0.001μm〜100μmの範囲の細孔容積として求めた。
【0044】
実施例1
〔模擬絶縁油の調製〕
PCB類を含まない市販の絶縁油に、添加後のPCB類含有量が0.1ppmとなるように市販の標準PCB類を加えて、模擬絶縁油1を調製した。
【0045】
〔発煙硫酸含浸シリカゲル密封アンプルの作製〕
BET比表面積252m2/g、細孔容積2.58cm2/gのシリカゲルを250℃で一晩乾燥させた。このシリカゲル1質量部に、遊離SO3濃度25質量%の発煙硫酸〔和光純薬工業社製、試薬一級〕2質量部を天秤ではかりとって加え、密栓容器中で20分間以上振とうして、内容物を十分に混合して、発煙硫酸含浸シリカゲルを調製した。この発煙硫酸含浸シリカゲルは、互いに固着していない流動性の粉末状であった。この発煙硫酸含浸シリカゲル2gを、一端を溶封した内径5mm、長さ146mmのガラス管に投入し、開口部を溶封して発煙硫酸含浸シリカゲル密封アンプルを作製した。
【0046】
〔模擬絶縁油の前処理〕
容量10mLのポリプロピレン製ディスポシリンジをカラムとして用い、その底部にガラス繊維ろ紙〔ADVANTEC社製、GA−100〕を敷き、シリカゲル〔和光純薬工業社製、「ワコーゲルDX」〕0.5gを充填した。
【0047】
次に、上記で作製した発煙硫酸含浸シリカゲル密封アンプルの一端をアンプルカッターで切断、開封し、発煙硫酸含浸シリカゲルの全量をアンプルから流出させてシリカゲルの上部に積層した。さらに、無水硫酸ナトリウム〔和光純薬工業社製、「残留農薬試験用」〕0.5gを充填して、発煙硫酸含浸シリカゲルカラムを調製した。
【0048】
このカラムに、上から、上記で調製した模擬絶縁油1(295μL、0.25g)を加え、その後、n−ヘキサン〔和光純薬工業社製、「ダイオキシン類測定用」〕200μLを上から加え、5分間静置した。この間、カラムに加えた模擬絶縁油1およびn−ヘキサンは、すべてカラム内に保持されていた。
【0049】
その後、さらにn−ヘキサン〔和光純薬工業社製、「ダイオキシン類測定用」〕15mLを上から加えたのち、シリンジの底部から流出液として抜出して、内容積30mLのナスフラスコに回収した。
【0050】
〔ジメチルスルホキシドへの転溶〕
上記で回収した流出液の全量に、ジメチルスルホキシド〔和光純薬工業社製、生化学用試薬〕0.25mLを加えたのち、ロータリーエバポレーターにより、減圧下、30℃の温浴中で、n−ヘキサンが留出しなくなるまで濃縮し、次いで残渣を5分間遠心分離することによりn−ヘキサン層(上層)とジメチルスルホキシド層(下層)との2層に層分離させ、分液操作によりジメチルスルホキシド層(下層)を取り出して、ジメチルスルホキシド試料を得た。
【0051】
〔緩衝水溶液の調製〕
塩化ナトリウム〔和光純薬工業(株)製、残留農薬試験用〕8.0g、
リン酸水素二ナトリウム〔和光純薬工業(株)製、試薬特級〕2.9g、
塩化カリウム〔和光純薬工業(株)製、試薬特級〕2.0g、
リン酸二水素カリウム〔和光純薬工業(株)製、試薬特級〕0.2g、
アジ化ナトリウム〔和光純薬工業(株)製、試薬特級〕0.1gおよび
牛血清アルブミン〔SIGMA社製、Albumin Bovine Serum Fraction V〕1.0gをイオン交換水1Lに溶解して緩衝水溶液を調製した。
【0052】
〔1次抗体の調製〕
PRMI1640培地〔Invitrogen社製〕78質量部にHAT混合物〔「HATサプリメント」Invitorogen社製、ヒポキサンチン5ミリモル/L、アミノプテリン20マイクロモル/L、チミジン0.8ミリモル/Lを含む〕2質量部および牛胎児血清20質量部を加えて調製したHAT培地にて、37℃、CO25容量%と空気95容量%との混合雰囲気下に、細胞の密度が106Cells/mLに達するまで、抗体産生細胞〔独立行政法人産業技術総合研究所 特許生物寄託センターに寄託、微生物寄託番号:FERM P-20744〕を培養した。
【0053】
次いで、プロテインAを固定した樹脂〔「アフイゲルプロテインA」日本バイオ・ラッド社製〕1mLを充填したカラムに、上記で培養して得た培養液の上清10mLを流した後、0.1Mクエン酸ナトリウム水溶液〔濃度1モル/L、pH3.0〕3mLを加えて抗体を溶出させ、得られた溶出液3mLを、脱塩カラム〔「エコノパック10DGカラム」日本バイオ・ラッド社〕を用いてリン酸緩衝生理食塩水〔PBS緩衝液〕に置換して、1次抗体含有PBS緩衝液を得た。
【0054】
〔1次抗体水溶液および測定試料の調製〕
上記で調製した緩衝水溶液に、上記で得た1次抗体含有PBS緩衝液を、1次抗体の濃度が1.0nmol/Lとなるように加え、溶解させて1次抗体水溶液を調製した。
上記で得たジメチルスルホキシド試料40μLに、ジメチルスルホキシド〔和光純薬工業社製、生化学用試薬〕40μLを加え、次いで上記で調製した緩衝水溶液3.12mLを加え、、さらに1次抗体水溶液0.4mLを加えて、測定試料を調製した。
【0055】
〔2次抗体水溶液の調製〕
2次抗体〔「Cy5標識モノクローナル ヤギ抗マウス抗体」生化学工業製〕を2.0nmol/Lとなるように上記緩衝水溶液に溶解して、2次抗体水溶液を調製した。
【0056】
〔抗原固定化担体の調製〕
式(1)

で示されるジクロロベンゼン誘導体(ハプテン抗原)1gをジメチルスルホキシド1mLと混合し、さらにメタノール100mLを加えて混合した。得られた溶液から16mLを採取し、濃度1質量%の牛血清アルブミン水溶液〔SIGMA社製、Albumin Bovine Serum Fraction V〕10mLを加え、生理食塩水〔滅菌した食塩水であり、100mL中にNaCl約0.9gを含む〕74mLを加えて一晩、振盪した。振盪後の溶液1mLを採取し、ビーズ状の担体〔アガロースビーズ、NHS-activatedSepharoseTM 4 fast flow、Amercham Bosciences社製、粒子径約0.1mm〕を容積で5mL加え、さらに生理食塩水10mLを加えて2時間振盪した。その後、濃度10質量%の牛血清アルブミン水溶液〔SIGMA社製、Albumin Bovine Serum Fraction V〕1mLを加えて、さらに2時間振盪したのち、担体を取り出し、生理食塩水で洗浄して、ジクロロベンゼン誘導体を担体に固定化した抗原固定化担体を得た。
【0057】
〔イムノアッセイ工程〕
透明管からなり、出口側に篩が設けられた測定セル(内容積1.8μm3)を備えた蛍光強度測定装置〔米国Sapidyne社製、「KinExA3000」〕を用意した。
【0058】
上記で得た抗原固定化担体を、上記で調製した緩衝水溶液30mLに懸濁させて懸濁液とし、上記測定セルの入口側から送液することにより、懸濁液中の抗原固定化担体を測定セル出口側の篩にせき止め、これにより測定セルの内部に抗原固定化担体を充填した。
上記で得た測定試料1.0mLを流速0.25mL/分で、測定セルに送液して通過させた。
【0059】
次いで、上記で調製した2次抗体水溶液1.0mLを流速0.25mL/分で測定セルに送液して通過させた。
【0060】
その後、測定セルに紫外線を照射し、発生した蛍光をフォトダイオードによって信号強度として測定した。結果を第1表に示す。また、上記の操作を更に2回繰り返し行い、蛍光強度に基づく信号強度の標準偏差(SD)および変動係数(CV)を求めた。結果を第1表に併せて示す。
【0061】
実施例2
実施例1で用いたと同じ市販の絶縁油に、添加後のPCB類含有量が、それぞれ0.5ppm〔模擬絶縁油2〕、1ppm〔模擬絶縁油3〕、2ppm〔模擬絶縁油4〕、10ppm〔模擬絶縁油5〕となるように市販の標準PCB類を加えた以外は実施例1と同様に操作して模擬絶縁油2〜模擬絶縁油5を調製した。また、実施例1で用いたと同じ市販の絶縁油をそのまま模擬絶縁油0とした。
【0062】
模擬絶縁油1に代えて、上記で得た模擬絶縁油2〜模擬絶縁油5および模擬絶縁油0を用いた以外は実施例1と同様に操作して蛍光強度に基づく信号強度を測定した。結果を第1表に示す。
【0063】
第 1 表
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
模擬絶縁油 PCB類濃度 信号強度 CV SD
番号 (ppm) (V) (%)
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
1 0.1 1.74 1.77 1.79 1.4 0.025
2 0.5 1.06 0.94 1.10 8.1 0.083
3 1 0.74 0.75 0.78 2.8 0.021
4 2 0.42 0.41 0.43 2.4 0.010
5 10 0.19 0.19 0.20 3.0 0.006
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0 0 2.07 2.06 2.06 0.3 0.006
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【特許請求の範囲】
【請求項1】
ポリ塩化ビフェニル類を含む疎水性試料中のポリ塩化ビフェニル類を定量するに際し、
(1)前処理工程として、前記疎水性試料を、以下の条件を満足する発煙硫酸含浸シリカゲルと接触させる工程、および
(2)当該前処理を付した後のポリ塩化ビフェニル類と抗体との抗原抗体反応を利用したイムノアッセイ工程
を含むことを特徴とする前記ポリ塩化ビフェニル類の分析方法。
発煙硫酸含浸シリカゲル:BET比表面積250m2/g〜450m2/g、細孔容積1.4cm3/g〜2.6cm3/gのシリカゲルに遊離SO3濃度5質量%〜40質量%の発煙硫酸が含浸された発煙硫酸含浸シリカゲル
【請求項2】
発煙硫酸含浸量が、前記シリカゲルに対して0.5質量倍〜5質量倍である請求項1に記載の分析方法。
【請求項3】
カラムに充填された発煙硫酸含浸シリカゲルと接触させる請求項1または請求項2に記載の分析方法。
【請求項4】
前記発煙硫酸含浸シリカゲルが収容されてなる携帯密封容器を開封し、該発煙硫酸含浸シリカゲルをカラムに充填する請求項3に記載の分析方法。
【請求項5】
携帯密封容器がアンプルである請求項4に記載の分析方法。

【公開番号】特開2007−298318(P2007−298318A)
【公開日】平成19年11月15日(2007.11.15)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2006−124925(P2006−124925)
【出願日】平成18年4月28日(2006.4.28)
【出願人】(000173809)財団法人電力中央研究所 (1,040)
【出願人】(390000686)株式会社住化分析センター (72)
【Fターム(参考)】