説明

ロードセル

【課題】荷重に対する起歪部のひずみ量を簡単な構造で低減でき、起歪部の限界以上の変形を抑制するストッパ機構を省略可能なロードセルを提供する。
【解決手段】ロードセル1は、エレメント2と、エレメント2の上面に配置される上蓋3と、エレメント2の下面に配置される下蓋4とを備え、エレメント2は、ひずみゲージ5を貼着する起歪部6を有する基台7と、基台7の上面の中央に配置されている荷重受け部8とを有した構成からなる。起歪部6は、荷重受け部8を中心として環状に形成されるとともに、荷重方向に貫通する穴10が起歪部6の円周方向に沿って略等間隔で複数穿設され、一部の穴10の内周にひずみゲージ5が貼着される。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ひずみゲージを用いた圧縮型のロードセルに関する。
【背景技術】
【0002】
圧縮型のロードセルに関する従来技術として例えば特許文献1〜4に記載のものが挙げられる。特許文献1には、設置ベース上に配置される荷重支持部分と、荷重支持部分に連結されて設置ベース表面から幾分の間隔をおいて位置する荷重負荷部分と、これら両部分を連結するとともに荷重負荷部分に作用する負荷の大きさに応じて撓み変形する荷重検知部分とを備えるロードセルにおいて、荷重負荷部分に荷重検知部分の過剰の変形を阻止するストッパピンを配設する技術が記載されている。
【0003】
特許文献2には、ベースにストッパ用ネジ孔を形成するとともに、このストッパ用ネジ孔に先端部が感度アームと当接しその変位を規制するストッパ用ネジを螺合し、ストッパ用ネジの螺進度を調整することにより定格荷重以上の荷重が印加されたとき、感度アームが起歪部の弾性変形可能範囲を超えて変形することを防止する技術が記載されている。
【0004】
特許文献3には、支持フレームが受皿を支持する位置とロードセルに連結された位置との中間位置に四隅ストッパを対向配置し、受皿に極度に過大な荷重や衝撃が作用したとき、支持フレームが四隅ストッパを支点として湾曲することで、受皿が連結された四隅が降下するとともにロードセルが連結された中央が上昇し、ロードセルの変形を防止する技術が記載されている。
【0005】
特許文献4には、弾性部材を介して受皿を支持フレームで支持するようにしたロードセル秤において、ロードセルの荷重受端に連結された支持フレームとこの支持フレームで支持される受皿との間に介在する弾性部材を半球状に形成することにより、受皿に与えられた衝撃や振動がロードセルまで伝達しにくくする技術が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【特許文献1】特開平11−211543号公報
【特許文献2】特開2001−33299号公報
【特許文献3】特開平7−333043号公報
【特許文献4】特開2000−171289号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
ひずみゲージとしてゲージ率の高いものを用いれば、電気抵抗変化の出力値が大きくなって計測値の分解能・精度が上がることとなり、このことは荷重に対する起歪部のひずみ量が小さい量で済むことにつながる。特許文献1〜3の技術は機械的なストッパ機構により起歪部が限界以上に変位しないようにする技術に関するものであり、特許文献4の技術は衝撃や振動の吸収性の向上を図る技術に関するものである。本発明は、荷重に対する起歪部のひずみ量を簡単な構造で低減でき、特許文献1〜3等に示される機械的なストッパ機構も省略可能となるロードセルを提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【0008】
前記課題を解決するため、本発明は、エレメントと、該エレメントの上面に配置される上蓋と、前記エレメントの下面に配置される下蓋と、を備え、前記エレメントは、ひずみゲージを貼着する起歪部を有する基台と、該基台の上面の中央に配置されている荷重受け部とを有し、前記起歪部は、前記荷重受け部を中心として環状に形成されるとともに、荷重方向に貫通する穴が起歪部の円周方向に沿って略等間隔で複数穿設されていることを特徴とするロードセルとした。
【0009】
当該ロードセルによれば、起歪部の円周方向360度にわたり略均一な変位(ひずみ)が得られ、隣り合う穴同士の間隔寸法を適宜に大きく設定することにより起歪部の剛性が円周方向360度にわたり高まり、荷重に対する起歪部のひずみ量を低減することができる。
【0010】
従来のロードセルの場合、起歪部の限界以上のひずみ量を抑制するにあたり、例えば荷重受け部の下面をストッパの構造体に突き当てて変位を抑制する等、機械的なストッパ機構を要する構造であるのに対し、本発明によれば当該ストッパ機構も省略できるため、簡単な構造となってロードセルの設計の自由度が増す。
【0011】
また、本発明は、前記ひずみゲージは、Fe−Ni−Cr系アイソエラスティック組成物からなることを特徴とする。
【0012】
本発明では、荷重に対する起歪部のひずみ量を低減する一方、ひずみゲージとしてゲージ率の高いものを用いる。Fe−Ni−Cr系アイソエラスティック組成物からなるひずみゲージはゲージ率が高く、荷重に対する起歪部のひずみ量を低減した場合であってもロードセルの所定の計測値の分解能・精度を確保できる。Fe−Ni−Cr系アイソエラスティック組成物は、低コスト化の要請にも応えることができ、かつ、酸化しにくいため防食性、ひいては耐久性が優れている等の長所も兼ね備える。
【0013】
また、本発明は、前記穴の内周面に前記ひずみゲージが貼着されるとともに、前記基台の上面および下面がそれぞれ前記上蓋および前記下蓋で溶接により密閉されることを特徴とする。
【0014】
基台の上面および下面をそれぞれ上蓋および下蓋で溶接により密閉することにより、起歪部に貼着されたひずみゲージは外気にさらされることがない。したがって、ひずみゲージの温度係数の影響を効果的に抑えることができ、ロードセルの所定の計測値の分解能・精度を安定して確保することができる。
【発明の効果】
【0015】
本発明によれば、起歪部の円周方向360度にわたり略均一な変位(ひずみ)が得られ、隣り合う穴同士の間隔寸法を適宜に大きく設定することにより起歪部の剛性が円周方向360度にわたり高まり、荷重に対する起歪部のひずみ量を低減することができる。
これにより、従来の荷重規制用のストッパ機構を省略でき、簡単な構造となってロードセルの設計の自由度が増す。
【図面の簡単な説明】
【0016】
【図1】(a)は本発明に係るロードセルのエレメントの上面図、(b)は(a)におけるA−A断面図である。
【図2】本発明に係るロードセルの外観斜視図である。
【図3】本発明に係るロードセルの分解斜視図である。
【図4】本発明に係るロードセルの断面図であり、(a)は上蓋および下蓋が未装着の場合、(b)は上蓋および下蓋が装着された場合を示す。
【発明を実施するための形態】
【0017】
本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。本発明のロードセル1は、図3に示すように、エレメント2と、エレメント2の上面に配置される上蓋3と、エレメント2の下面に配置される下蓋4とを備える。本発明のロードセル1は最大荷重容量が例えば5kN〜200kN(20トン)の仕様のものに適している。
【0018】
図3および図1を参照して説明すると、エレメント2は、ひずみゲージ5を貼着する起歪部6を有する基台7と、この基台7の上面の中央に配置されている荷重受け部8とを有した構成からなる。基台7は円柱形状を呈しており、その中心軸Oに沿う方向から外部荷重を受ける。
【0019】
基台7の上面は、中央寄りから順に、中心軸0を中心に円形に形成される荷重受け面8Aと、荷重受け面8Aよりも低位に位置する環状の第1上面7Aと、第1上面7Aよりも低位に位置する環状の第2上面7Bと、基台7の上面の内で最低位に位置し起歪部6の上面を構成する環状の起歪上面6Aと、起歪上面6Aよりも高位であって第2環上面7Bよりも低位に位置する環状の第3上面7Cと、第3上面7Cよりも高位であって第2上面7Bよりも低位に位置する環状の第4上面7Dと、第2上面7Bと同位に位置する第5上面7Eとから構成される。荷重受け面8Aは荷重受け部8の上面を構成する面であり、中心を頂点とした緩やかな曲面を呈している。
【0020】
図4において、上蓋3は、その外径が前記第5上面7Eの外径寸法と略同寸であって、中央には前記第1上面7Aの外縁径よりも若干大きい径寸法の孔が形成された環円板状の部材である。上蓋3は、図4(b)に示されるように、その内縁周りが第2上面7Bに載置されるとともに外縁周りが第5上面7Eに載置されたうえで、それぞれ内縁回り、外縁周りが基台7に溶接される。これにより、基台7の上面の内で荷重受け面8Aと第1上面7Aとが上蓋3から上方に突出して位置し、起歪上面6A、第3上面7Cおよび第4上面7Dの上方空間が上蓋3により密閉される。なお、基台7におけるこれら溶接箇所の近傍には、溶接時の変形の逃げとして逃げ溝9が適宜に形成されている。
【0021】
基台7の下面は、径方向外側に環状に形成される最低位の底面7Fと、底面7Fの内側において基台7の下面の内で最高位に位置し起歪部6の下面を構成する環状の起歪下面6Bと、中心軸0を中心に円形に形成され起歪下面6Bよりも若干低位に位置する荷重受け部下面8Bとから構成される。荷重受け部下面8Bは荷重受け部8の下面を構成する面である。起歪下面6Bの内径および外径は起歪上面6Aのそれらと同寸である。
【0022】
下蓋4は、その外径が基台7の底面7Fの内径寸法と略同寸の円板状の部材である。基台7の底面7Fの内縁には、下蓋4の外縁を受け止めるための段差部が形成されている。下蓋4は、図4(b)に示されるように、その外縁が前記段差部に突き当てられた状態で基台7に溶接される。これにより、起歪下面6Bおよび荷重受け部下面8Bの下方空間が下蓋4により密閉される。下蓋4の下面は基台7の底面7Fよりも若干高位に位置する。また、前記段差部の近傍にも溶接時の変形の逃げとして逃げ溝9が適宜に形成されている。
【0023】
以上から判るように、起歪部6は、概ね、中心軸Oを中心に形成される起歪上面6A、起歪下面6Bを有する真円の円筒形の領域として基台7内において画成される。起歪上面6Aと起歪下面6Bとの距離、つまり起歪部6の高さ寸法は基台7の高さ寸法の内で最も小さく設定されており、荷重受け面8Aから受ける荷重に対して起歪部6には良好な変位(ひずみ)のリニア特性が得られる。また起歪部6は真円の円筒形領域として画成されるため円周方向360度にわたり略均一な変位(ひずみ)が得られる。
【0024】
以上の起歪部6には、荷重方向に貫通する、つまり中心軸Oに沿って貫通する穴10が起歪部6の円周方向に沿って略等間隔で複数穿設されている。穴10の径寸法は例えば起歪部6の径方向の幅寸法よりも若干小さい程度の寸法である。複数の穴10の内の少なくとも1つにおいてその内周には、図1に示されるようにひずみゲージ5が貼着される。本実施形態では8個の穴10が等間隔で穿設されており、一つおきに4個の穴10にそれぞれひずみゲージ5が2枚ずつ貼着されている。つまり、ひずみゲージ5は中心軸Oを中心とした円周上において等間隔でレイアウトされるものであり、本実施形態では90度間隔でレイアウトされることとなる。
【0025】
計8枚のひずみゲージ5は例えばブリッジ回路を構成しており、起歪部6で発生するひずみ量を電気信号に変換する。ブリッジ回路の回路配線は例えば起歪下面6Bおよび荷重受け部下面8Bの下方空間を利用して引き回される。基台7の外周面には配線用アダプタ12(図2)を取り付けるための取付孔11が形成されており、この取付孔11の内側先端はひずみゲージ5が貼着されていない穴10の内の1つに臨む。前記回路配線はこの取付孔11に装着された配線用アダプタ12(図2)を通って外部に引き出される。
【0026】
以上のように、起歪部6を荷重受け部8を中心として環状に形成するとともに、荷重方向に貫通する穴10を起歪部6の円周方向に沿って略等間隔で複数穿設する構成によれば、起歪部6の円周方向360度にわたり略均一な変位(ひずみ)が得られ、隣り合う穴10同士の間隔寸法を適宜に大きく設定することにより起歪部6の剛性が円周方向360度にわたり高まり、荷重に対する起歪部6のひずみ量を抑えることができる。
【0027】
従来のロードセルの場合、起歪部の限界以上のひずみ量を抑制するにあたり、例えば荷重受け部の下面をストッパの構造体に突き当てて変位を抑制する等、機械的なストッパ機構を要する構造であるのに対し、本発明によれば当該ストッパ機構も省略できるため、簡単な構造となってロードセルの設計の自由度が増すこととなる。本実施形態では、荷重受け部下面8Bと下蓋4との間隔寸法は充分な距離を有しており、想定し得る異常な大荷重がかかった場合でも起歪部6が低い値のひずみ量をもってひずむことで、荷重受け部下面8Bが下蓋4に突き当たらないようになっている。
【0028】
本発明では、荷重に対する起歪部6のひずみ量が低減される一方、ひずみゲージ5としてはゲージ率の高いものが用いられ、特にFe−Ni−Cr系アイソエラスティック組成物からなるひずみゲージ5が好適に用いられる。Fe−Ni−Cr系アイソエラスティック組成物からなるひずみゲージ5としては例えば特開2010−275590号公報に記載のものが挙げられる。
【0029】
すなわち、本発明で用いるひずみゲージ5の一例としては、Fe、Ni及びCrを主成分とし、Mn、Mo及びSiを副成分としたFe−Ni−Cr系アイソエラスティック組成物において、前記Mnが、1wt%から3wt%のいずれかのwt%で添加される。Mnのwt%は、1wt%未満であっても、3wt%より大きくても、ひずみゲージのGF(ゲージ率)が従来品のそれよりも劣化する。すなわち、1wt%から3wt%の間の、Mnのwt%が、Fe−Ni−Cr系アイソエラスティック組成物を用いて製造されるひずみゲージに含有させるべきMnの最適な添加量となる。このFe−Ni−Cr系アイソエラスティック組成物は、低コスト化の要請にも応えることができ、かつ、酸化しにくいため防食性、ひいては耐久性が優れている等の長所も兼ね備える。
【0030】
前記Fe−Ni−Cr系アイソエラスティック組成物の該組成は、Niを32wt%から40wt%、Crを6wt%から9wt%、Mnを1wt%から3wt%、Moを0.3wt%から0.7wt%、Siを0.45wt%から0.5wt%を好適範囲とし、残部をFeとすることが好ましい。Fe−Ni−Cr系アイソエラスティック組成物の合金の材料として、例えば、磁気ヘッド材料として知られるダイナロイ(「dynalloy」登録商標)合金を用いることができる。ダイナロイ合金の組成(一例)は、Cr7.4、Mo0.5、Mn0.5、Ni36、Si0.45、Fe残部であり、Fe−Ni−Cr系アイソエラスティック組成物と、Mnの含有比率を除き、略等しい。したがって、市販のダイナロイ合金に、Mnを1wt%から3wt%となるように固溶させてインゴットを作製すれば、ひずみゲージ5用のFe−Ni−Cr系アイソエラスティック組成物の合金を製造することができる。
【0031】
以上のようにひずみゲージ5としてFe−Ni−Cr系アイソエラスティック組成物からなるものを用いることで、ゲージ率が高くなり、電気抵抗変化の出力値が大きくなる。したがって、荷重に対する起歪部6のひずみ量を小さくした構造にあっても、ロードセル1の所定の計測値の分解能・精度を確保することができる。
【0032】
Fe−Ni−Cr系アイソエラスティック組成物からなるひずみゲージ5の特性として、ゲージ率が高くなる代わりに温度係数(温度依存性:ひずみゲージの貼着場所による温度変化に伴う電気抵抗値の変化量)が大きくなり、貼着場所により抵抗値のばらつきが大きくなりやすいという問題がある。これに対して、本実施形態では前記したように基台7の上面および下面をそれぞれ上蓋3および下蓋4で溶接により密閉したため、ひずみゲージ5が外気にさらされることがない。したがって、ひずみゲージ5の温度係数の影響を効果的に抑えることができ、ロードセル1の所定の計測値の分解能・精度を安定して確保することができる。
【0033】
以上、本発明の好適な実施形態を説明した。説明した実施形態では、ブリッジ回路を構成する8枚のひずみゲージ5を起歪部6にレイアウトさせるにあたり、8つの穴10を等間隔に設けたうえで一つおきの穴10にひずみゲージ5を2枚ずつ貼着している。これによれば2枚1セットのひずみゲージ5を円周方向に90度間隔で配置させることができ、起歪部6のひずみ量を精度良く計測することができる。場合により4つの穴10を等間隔に設けたうえでそれぞれの穴10にひずみゲージ5を2枚ずつ貼着することもできる。
【符号の説明】
【0034】
1 ロードセル
2 エレメント
3 上蓋
4 下蓋
5 ひずみゲージ
6 起歪部
7 基台
8 荷重受け部
10 穴

【特許請求の範囲】
【請求項1】
エレメントと、
該エレメントの上面に配置される上蓋と、
前記エレメントの下面に配置される下蓋と、
を備え、
前記エレメントは、ひずみゲージを貼着する起歪部を有する基台と、該基台の上面の中央に配置されている荷重受け部とを有し、
前記起歪部は、前記荷重受け部を中心として環状に形成されるとともに、荷重方向に貫通する穴が起歪部の円周方向に沿って略等間隔で複数穿設されていることを特徴とするロードセル。
【請求項2】
前記ひずみゲージは、Fe−Ni−Cr系アイソエラスティック組成物からなることを特徴とする請求項1に記載のロードセル。
【請求項3】
前記穴の内周面に前記ひずみゲージが貼着されるとともに、前記基台の上面および下面がそれぞれ前記上蓋および前記下蓋で溶接により密閉されることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のロードセル。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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