光ファイバ心線
【課題】開口数（ＮＡ）を大きくすることが可能であり、単層被覆であっても良好な機械的強度を有し、低コストで作製可能な光ファイバ心線であって、ファイバレーザの操作中の高温環境下でもロスを低減して励起光を効率的に導波することが可能な光ファイバ心線を提供すること。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る光ファイバ心線１０は、コア１と、コア１の周囲に設けられ、該コア１より屈折率が低いガラスクラッド２と、ガラスクラッド２の周囲に設けられ、該ガラスクラッド２より屈折率が低いポリマークラッド３とを備える。ポリマークラッド３はフッ素を含有しており、ポリマークラッド３は、６０℃の時の弾性率と２３℃の時の弾性率との差が１００ＭＰａ以内であり、かつ２３℃での該ポリマークラッドの弾性率が２００ＭＰａ以上である。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る光ファイバ心線１０は、コア１と、コア１の周囲に設けられ、該コア１より屈折率が低いガラスクラッド２と、ガラスクラッド２の周囲に設けられ、該ガラスクラッド２より屈折率が低いポリマークラッド３とを備える。ポリマークラッド３はフッ素を含有しており、ポリマークラッド３は、６０℃の時の弾性率と２３℃の時の弾性率との差が１００ＭＰａ以内であり、かつ２３℃での該ポリマークラッドの弾性率が２００ＭＰａ以上である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ファイバ心線に関し、より詳細には、２つのクラッド層を備えるダブルクラッドファイバに用いるポリマークラッド光ファイバ心線に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、コア中を導波する信号光を励起するためにクラッド層に励起光を導波するダブルクラッドファイバにおいては、ガラスクラッドの外側に第二クラッド層として低屈折率樹脂を被覆している。該低屈折率樹脂については、屈折率を、上記励起光を導波するための第一クラッド層より低くするため、フッ素系のＵＶ硬化型樹脂を使用している。
【０００３】
一方、特許文献１によれば、第二クラッド層としてシリカガラスを用い、このシリカガラスにフッ素をドープし、第一クラッド層より低屈折率にすることにより、マルチクラッド構造を得ている。さらには、該第二クラッド層の周囲には、シリカガラスである第二クラッド層を外部から保護するための、ポリマーからなる保護層が形成されている。
【０００４】
特許文献１に開示されたダブルクラッドファイバでは、上記構成において、上記第一クラッド層が励起光伝播に対するコアとして機能し、フッ素ドープされたシリカガラスである第二クラッド層が上記励起光伝播に対するクラッドとして機能する。特許文献１では、ガラス製の上記第二クラッド層が存在することにより、第一クラッド層中を伝播する励起光によるエバネッセントフィールドのポリマー製の保護層への漏れを緩和することになり、上記エバネッセントフィールドによるポリマー製の保護層の損傷を抑制している。さらには、フッ素ドープの第二クラッド層により、ダブルクラッドファイバ（マルチクラッドファイバ）の耐熱強度を上げている。
【０００５】
しかし、ダブルクラッドファイバといったマルチクラッドファイバのＮＡはシリカガラスからなる第一クラッド層と第二クラッド層との屈折率差に比例する。シリカガラスにドープできるフッ素の量には限界があり、特許文献１では、フッ素添加により、第二クラッド層の屈折率を大きく低減することは難しい。
【０００６】
一方、シリカガラスよりも、ＵＶ硬化型フッ素樹脂といった樹脂の方がフッ素含有量を多くできる。そのため、第二クラッド層はポリマークラッドである方がファイバのＮＡを大きくできる可能性が高い。ファイバレーザのような出力される光強度の増大が求められる用途では、第一クラッド内により多くの励起光を導波することが求められるため、より大きいＮＡが期待できるポリマークラッドが第二クラッド層に使用される（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特表２００６−５１９４９５号公報
【特許文献２】特開平１０−１９７７３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、フッ素系樹脂は非フッ素系のUV硬化樹脂と比べて機械的強度が低いという問題がある。そのため、特許文献２に開示された技術のように、フッ素系樹脂をダブルクラッドファイバの第二クラッド層（第一被覆層）に使用する際には、機械的強度に優れる第二被覆層にて上記第二クラッド層を被覆する必要があり、コストアップにつながっている。
【０００９】
また、特許文献２に開示されたダブルクラッドファイバを用いたファイバレーザのように入射される光強度が変化する場合、ファイバの自己発熱が高くなり、ポリマークラッド材の機械的強度が低下する。特に、上記ファイバレーザにおいて出力が高いと、すなわち温度が高くなると、フッ素系樹脂である第二クラッド層（第一被覆層）の機械的強度が低くなる。従って、シリカガラスを主成分とする第一クラッド層、及びコアに対する保護機能が失われ、ファイバレーザの故障につながる問題がある。
【００１０】
さらには、特許文献１では、第一クラッド層から漏れるエバネッセントフィールドから樹脂製の保護層を保護するという技術目的から、第二クラッド層をシリカガラスにすることがどうしても必要である。上述のように、シリカガラスへのフッ素のドープ量は少なく制限されているので、フッ素ドープによる屈折率の低下をあまり見込めず、ＮＡを大きくすることは難しい。
【００１１】
本発明は、このような課題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、開口数（ＮＡ）を大きくすることが可能であり、単層被覆であっても良好な機械的強度を有し、低コストで作製可能な光ファイバ心線であって、ファイバレーザの操作中の高温環境下でもロスを低減して励起光を効率的に導波することが可能な光ファイバ心線を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、このような目的を達成するために、光ファイバ心線であって、コアと、前記コアの周囲に設けられ、該コアより屈折率が低いガラスクラッドと、前記ガラスクラッドの周囲に設けられ、該ガラスクラッドより屈折率が低いポリマークラッドとを備え、前記ポリマークラッドはフッ素を含有しており、前記ポリマークラッドは、６０℃の時の弾性率と２３℃の時の弾性率との差が１００ＭＰａ以内であり、かつ２３℃での該ポリマークラッドの弾性率が２００ＭＰａ以上であることを特徴とする。
【００１３】
また、本発明は、光ファイバ心線であって、コアと、前記コアを囲んで設けられ、前記コアよりも屈折率が低いガラスを含む第一クラッドと、前記第一クラッドを囲んで設けられ、前記第一クラッドよりも屈折率が低い樹脂であって、フッ素を含有した樹脂を含む第二クラッドとを備え、前記第二クラッドは、（メタ）アクリレート官能基を二つ有するパーフルオロポリエーテルを含んでいることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明では、フッ素をドーピングした低屈折率のポリマークラッド材の使用温度範囲内での弾性率を高めることで、ＮＡを大きくしつつ、単一層で、励起光に対するクラッド（例えば、第二クラッド層）の機能とガラス保護機能とを発揮することが可能である。従って、励起光に対するクラッド層と保護層とを別個に設ける必要が無く、コストダウンを図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の一実施形態に係る光ファイバ心線の断面図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る伝送損失増加量の測定系を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、図面を参照して本発明の実施形態を詳細に説明する。なお、以下で説明する図面で、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
図１において、ダブルクラッドファイバレーザに適用可能な光ファイバ心線１０は、その中心にコア１を備えており、該コア１の周囲には、コア１よりも屈折率が低い第一クラッド層としてのガラスクラッド２が設けられている。さらに、ガラスクラッド２の周囲には、ガラスクラッド２よりも屈折率が低い第二クラッド層としてのポリマークラッド３が設けられている。
【００１７】
このような構成において、第一クラッド層としてのガラスクラッド２は、コア１に対してはクラッドとして機能し、第二クラッド層としてのポリマークラッド３に対してはコアとして機能する。すなわち、ガラスクラッド２は、光ファイバ心線１０に入射した励起光によりコア１にて発振されたレーザ光に対してはクラッドとして機能し、上記入射された励起光に対してはコアとして機能する。
【００１８】
また、ポリマークラッド３は、後述するように、室温および高温環境下においても十分に機械的強度を有し、さらにはガラスクラッド２よりも屈折率が低いことから、ガラスクラッド２の保護層として機能すると共に、上記励起光に対するクラッドとして機能する。すなわち、ポリマークラッド３は、励起光に対するクラッド層としての役割と、ガラスクラッド２を保護する役割との二役を担っている。従って、第二クラッド層としてフッ素系樹脂を用いる場合であっても別個に保護層を設ける必要が無く、別個に保護層を設ける手間、コストを低減しつつも、第二クラッド層へのフッ素のドープ量を増やすことができ、ＮＡを大きくすることができる。
【００１９】
上記コア１、ガラスクラッド２の材料としてはそれぞれ、通常のファイバレーザに用いられるものを用いることができる。例えば、コア１としてエルビウムやイッテルビウム等を添加した石英を用いれば良く、ガラスクラッド２として石英を用いればよい。
【００２０】
上記ポリマークラッド３については、その主成分としては、例えば、フッ素を含有したウレタンアクリレートといったフッ素系樹脂（フッ素含有樹脂）を用いることができるが、以下に示すような、新しい技術的知見、および従来には見られなかった新たな技術的思想に基づいて設計されている。なお、本発明では、ポリマークラッド３の主成分となる材料は、従来からファイバレーザに用いられるフッ素系樹脂であればいずれを用いても良い。
【００２１】
さて、第二クラッド層としてのポリマークラッド３としてフッ素系樹脂を用いることにより、第二クラッド層としてガラスを用いる場合に比べて、第二クラッド層（ポリマークラッド）３の屈折率を下げることができるので、ＮＡをより大きくすることができ、より多くの励起光を光ファイバ心線１０に結合することができる。しかしながら、ダブルクラッドファイバレーザの駆動時に光ファイバが高温環境下におかれると、フッ素系樹脂からなる第二クラッド層の機械的強度が下がってしまう。特に、レーザ出力を高くすると、ファイバの自己発熱が起こり、機械的強度の低下に繋がってしまう。従って、高温環境下でも機械的強度を確保するために、特許文献２のように従来では、耐熱性に優れた保護層を第二クラッド層とは別個に設ける必要がある。
【００２２】
一方、本発明において、励起光のクラッドとして機能する第二クラッド層の弾性率が高いほど、ダブルクラッドファイバレーザに導入された励起光の伝送ロスが小さくなるという技術的知見を見出した。該技術的知見は、本発明にて初めて見出されたものである。すなわち、本発明にて見出された技術的知見によれば、動作時においてポリマークラッド３の弾性率をなるべく大きくすることにより、伝送ロスを低減して効率的に励起光を導波させることができるのである。
【００２３】
ここで、保護層を別個に設けないようにすることを考慮すると、室温のみならず高温環境下でも十分な機械的強度を確保する必要がある。また一方、上述のように初めて見出された技術的知見によればポリマークラッド３の弾性率を大きくするほど、励起光の伝送ロスを低減することができる。すなわち、高温環境下においてもポリマークラッド３の機械的強度を所定値よりも大きくなるようにすれば、保護層を別個に設けなくても十分な機械的強度を得ることができ、かつ励起光の伝送ロスを低減することができる。
【００２４】
本発明では、フッ素系樹脂を第二クラッド層として用いるダブルクラッドファイバレーザにおいて、励起光の伝送ロスを低減しつつ、第二クラッド層（励起光に対するクラッド層）とは別個に保護層を設けなくても十分に機械的強度を得るために、フッ素系樹脂であるポリマークラッドの弾性率を適切に設定する、という従来には無い新たな技術的思想に従って、ポリマークラッド３を設計している。
【００２５】
本発明の一実施形態では、このような技術的思想に基づいて、通常光ファイバ心線１０が配置される所定温度（例えば、室温）における弾性率が所定の値以上であり、かつ該所定温度と、ダブルクラッドファイバレーザの動作時における高温時とにおける、弾性率の差がなるべく小さくなるように、すなわち所定の値よりも小さくなるように、ポリマークラッド３を設計することは、本発明において新規な着眼点である。
【００２６】
このような新規な着眼点に従って鋭意検討した結果、本発明では、後述する実施例で示すように、所定の温度範囲（２３℃（室温）〜６０℃（高温環境下））でのポリマークラッド３の弾性率の変動が１００ＭＰａ以内であり（６０℃でのポリマークラッド３の弾性率と２３℃でのポリマークラッド３の弾性率との差が１００ＭＰａ以内であり）、かつ所定の温度（２３℃）でのポリマークラッド３の弾性率が２００ＭＰａ以上となるように、ポリマークラッド３を作製することにより、別個に保護層を設けなくても良好な機械的強度を得ると共に、伝送ロスを低減して効率良く励起光を導波させることができることを見出した。また、第二クラッド層としてポリマークラッドを用いているので、フッ素の含有量を多くすることができ、ＮＡを大きくすることができる。
【００２７】
本発明の別の実施形態では、ポリマークラッド３に、（メタ）アクリレート官能基を２つ有するパーフルオロポリエーテルを含有させている。このように、（メタ）アクリレート官能基を２つ有するフッ素系モノマーからポリマークラッド３を形成しているので、ラジカル重合によりモノマー同士が網目構造のポリマーになる。従って、屈折率を下げつつ、ポリマークラッド３の機械的強度を向上させることができる。さらに、上記パーフルオロポリエーテルを用いることにより、架橋密度をより大きくすることができ、より強い機械的強度のポリマークラッド３を得ることができる。
【００２８】
すなわち、（メタ）アクリレート官能基を２つ有するパーフルオロポリエーテルをポリマークラッド３に含有させることによって、架橋密度をより大きくすることができるので、より密な網目構造を有するポリマークラッド３を形成することができ、高温環境化であってもポリマークラッド３の機械的強度を大きくすることができる。従って、別個に保護層を設けなくても、励起光に対するクラッドであるポリマークラッド３により保護層の役割を果たすことができ、さらに励起光の伝送ロスを低減することができる。
【００２９】
なお、（メタ）アクリレート官能基を２つ有するパーフルオロポリエーテルの分子量を１５００未満とすることが好ましく、上記分子量を６００以上１５００未満とすることがさらに好ましい。本発明では、上述の新たな技術的思想を達成することを考慮すると、ポリマークラッド３の弾性率をなるべく大きくする必要があり、そのためにポリマークラッド３の架橋密度を大きくすることが望ましい。しかしながら、（メタ）アクリレート官能基を２つ有するパーフルオロポリエーテルの分子量が大きくなるに従って架橋密度は相対的に小さくなる。従って、分子量が所定値を超えて大きいと、伝送ロスや保護の観点から決まってくる許容範囲のポリマークラッド３の機械的強度に対応する架橋密度を得ることができなくなる。この観点から、（メタ）アクリレート官能基を２つ有するパーフルオロポリエーテルの分子量を１５００未満とすることが好ましいのである。すなわち、（メタ）アクリレート官能基を２つ有するパーフルオロポリエーテルの分子量を１５００未満とすることにより、架橋密度を適切な範囲にすることができ、高温環境下においても励起光の伝送ロスを低減しつつ、ポリマークラッド３により、励起光に対するクラッドの機能と、ガラスクラッド２の保護機能との双方を実現することができる。
【００３０】
さらに、ポリマークラッド３の屈折率を下げてＮＡを大きくすることを考慮すると、フッ素含有率が５０ｗｔ％以上の（メタ）アクリレート官能基を２つ有するパーフルオロポリエーテルを用いることが好ましい。
【００３１】
（実施例）
以下、本発明の実施例を説明する。
本実施例では、ダブルクラッドファイバに適用する光ファイバ心線１０のポリマークラッド３のポリマークラッド材組成物として、フッ素化ポリエーテルでウレタン結合同士を連結させたウレタンアクリレートを主成分として含み、フッ素化アクリレートモノマーもしくは非フッ素化アクリレートモノマーである反応性希釈剤、および光重合開始剤を含む放射線硬化性樹脂を作製した。以下の表１に作製したサンプルの組成比を示す。
【００３２】
モノマーＡは単官能性のフッ素化アクリレートモノマーである。モノマーＢは分子量が４００−６００程度の二官能性のフッ素化アクリレートモノマーである。モノマーＣは分子量１５００程度でフッ素含有率が５２ｗｔ%の二官能性のフッ素化アクリレートモノマーである。モノマーＤは分子量６００程度でフッ素含有率が５１ｗｔ%の二官能性のフッ素化アクリレートモノマーである。モノマーEは分子量２５００程度でフッ素含有率が５４ｗｔ%のフッ素化アクリレートモノマーである。また、モノマーＣ、Ｄ、Ｅはパーフルオロポリエーテル鎖の末端にアクリロイル基を付加した構造であり、アクリロイル基を２つ有する構造である。
【００３３】
なお、本実施例では、架橋密度をより向上させるために、ラジカル重合する官能基を２つ有するパーフルオロポリエーテルを用いることが重要であるので、モノマーＣ、Ｄ、Ｅとして、アクリレート官能基を２つ有するパーフルオロポリエーテルに限らず、メタクリレート官能基を２つ有するパーフルオロポリエーテルを用いても良いことは言うまでもない。
【００３４】
ポリマークラッド３として、上記ウレタンアクリレートとモノマーＡ〜Ｅを適切に配合して表１に示すようにサンプルＡ〜Ｉ（本実施例）、およびサンプルＪ〜Ｌ（比較例）を作製した。配合は表１に記載した比率を正確にガラス製の容器に入れ、５分程度攪拌し、各材料が混ざっているか否かを目視で確認した。粘度が高く攪拌中気泡が大量に入る場合、ホットプレート上で５０℃に加熱した状態で攪拌しても良い。それぞれ作製したサンプルの基礎特性を評価した。試験方法の詳細は以下の通りである。
【００３５】
（１）表１の組成比で配合したサンプルの粘度測定はブルックフィールド型粘度計で、回転速度２０ｒｐｍで測定した。温度環境は２３℃で測定を行った。
（２）表１の組成比で配合したサンプルはガラス基板上に１００μmでスピンコートした。
（３）石英ガラス板を蓋にしているパージボックスの中にサンプルを塗布したガラス板を入れ、１５ｌ／ｍｉｎで５ｍｉｎの間、窒素パージし、Ｆｕｓｉｏｎ ＵＶ ｓｙｓｔｅｍｓのＤ−Ｂｕｌｂを使用してＵＶ光を照射した。照射量は３５００ｍＪ／ｃｍ2で照射を行った。
（４）ポリマークラッド３の弾性率測定については、光ファイバ心線１０を６ｍm幅の短冊状に切り取り、弾性率を測定した。弾性率はＴＡインスツルメント社のＲＳＡ３を使用して、引っ張り応力をかけ、２．５%の歪みをかけた時の応力で算出した。温度環境は２３℃と６０℃で測定を行った。
（５）屈折率はＭｅｔｒｉｃｏｎ社のＰｒｉｓｍ Ｃｏｕｐｌｅｒ ２０１０Ｍを使用した。波長は５９４ｎｍで測定を行った。温度環境は２３℃で測定を行った。
【００３６】
【表１】
【００３７】
上記表１は、上述のようにして作製したサンプルＡ〜Ｌの組成比と樹脂特性（２３℃での粘度、２３℃、６０℃での弾性率、２３℃での屈折率）とを示している。
【００３８】
（伝送損失増加量測定）
表1に示したサンプルＡ〜Ｌをポリマークラッド３として用いてガラスクラッド２を被覆した１２５μmのマルチモード光ファイバ（光ファイバ心線１０）を作製した。被覆層であるポリマークラッド２は厚みが約６０μmで作製し、該被覆層を合わせたファイバの外径は２４５−２５５μmであった。
【００３９】
作製したファイバを使用して伝送損失量（励起光ロス）を測定した。ここでの伝送損失量は表2での励起光ロスである。また、作製したマルチモードファイバとしての光ファイバ心線１０からガラスを抜き取り、ポリマークラッド３の２３℃、６０℃における弾性率を測定した。伝送損失量および弾性率を表２に示す。
【００４０】
伝送損失量の測定はカットバック法により測定した。本実施例に係る測定系の形態を図２に示す。図２において、符号２１はレーザダイオードであり、符号２２は高反射鏡であり、符号２３は出力カプラであり、符号２４は測定ヘッドであり、符号２５はパワーメータであり、符号２６ａ〜２６ｃは光ファイバ同士の融着点である。本実施例では、例えば高反射鏡２２の反射率が１００％、出力カプラ２３の反射率が２０％であり、高反射鏡２２と出力カプラ２３との間に設けられた光ファイバ心線１０がレーザダイオード２１から入射された励起光によりレーザを発振する。該発振されたレーザは、出力カプラ２３により測定ヘッド２４へと出射され、パワーメータ２５により光ファイバ心線１０の伝送損失を測定する。本実施例では、測定波長は９７５nmで測定した。測定する光ファイバ心線１０の長さは１０ｍとした。表２において、測定した伝送損失量が５．０ｄＢ／ｋｍ以下である場合は（△）、１．０ｄＢ以下である場合は（○）、５．０ｄＢ／ｋｍ超である場合は、（×）とする。
【００４１】
【表２】
【００４２】
表２に示すように、本実施例のサンプルＨは伝送損失量が本実施例の他のサンプルＡ〜Ｉ、Ｇより大きかった。これは、表１に示すように未硬化状態のポリマークラッド材の粘度が低すぎるため、線引き後のファイバが偏肉していることが原因と考えられる。しかしながら、サンプルＨでも、伝送損失を５．０ｄＢ／ｋｍ以下に抑えることができ、かつ２３℃でのポリマークラッド３の弾性率を２００ＭＰａ以上に、さらには２３℃と６０℃との間の温度範囲で弾性率の変動が１００ＭＰａ以内にすることができる。従って、該サンプルＨにおいても、保護層を設けなくても室温および高温環境下の双方において十分な機械的強度を得ることができ、かつ伝送ロスを低減することができる。
【００４３】
また、本実施例のサンプルＡ〜Ｇ，及びサンプルＩは全て、表２に示されるようにレーザダイオード２１から光ファイバ心線１０への入力光強度が１０Ｗの場合の伝送損失量が１．０ｄＢ以内であり、サンプルＨは、５．０ｄＢ以内である。また、表１に示されるように、本実施例のサンプルＡ〜Ｉのいずれにおいても、２３℃でのポリマークラッド３の弾性率を２００ＭＰａ以上に、さらには６０℃の時の弾性率と２３℃の時の弾性率との差を１００ＭＰａ以内にすることができる。従って、励起光の伝送ロスを非常に低減しつつ、保護層を設けなくても室温および高温環境下の双方において十分な機械的強度を得ることができる。
【００４４】
さて、ファイバレーザの場合、出力を大きくするために、より多くの励起光を第一クラッド層であるガラスクラッド２に導波することが求められることがある。その際、ポリマークラッド３の屈折率をなるべく低くし、ファイバのＮＡが高いほど、出力を上げることができる。そのため、本実施例に示される９つのサンプルの中でも、サンプルＥ，Ｆ，Ｇは最良の形態である。
【００４５】
また、アクリレート官能基を２つ有するパーフルオロポリエーテルを用いる場合、表１、２に示されるように、粘度、弾性率、屈折率、伝送ロスを考慮すると、上記アクリレート官能基を２つ有するパーフルオロポリエーテルを５ｗｔ％〜３０ｗｔ％にすることも好ましい。
【００４６】
一方、比較例のサンプルＪ、Ｋについては、未硬化時の粘度が高く、線引きすることができなかった。比較例のサンプルＬはポリマークラッド３の弾性率が低く、伝送損失量が高いことが考えられる。これは入力光が大きくファイバの自己発熱でファイバの温度が上がり、クラッド層の弾性率が低くなっていることが原因と予想される。
【００４７】
本実施例では、ポリマークラッド３のポリマークラッド材の未硬化時の粘度を１０００ｍＰａ・ｓ〜５００００ｍＰａ・ｓとすることにより、ポリマークラッド３を被覆層としてガラスクラッド２の周囲に形成することができる。
【符号の説明】
【００４８】
１ コア
２ ガラスクラッド
３ ポリマークラッド
１０ 光ファイバ心線
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ファイバ心線に関し、より詳細には、２つのクラッド層を備えるダブルクラッドファイバに用いるポリマークラッド光ファイバ心線に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、コア中を導波する信号光を励起するためにクラッド層に励起光を導波するダブルクラッドファイバにおいては、ガラスクラッドの外側に第二クラッド層として低屈折率樹脂を被覆している。該低屈折率樹脂については、屈折率を、上記励起光を導波するための第一クラッド層より低くするため、フッ素系のＵＶ硬化型樹脂を使用している。
【０００３】
一方、特許文献１によれば、第二クラッド層としてシリカガラスを用い、このシリカガラスにフッ素をドープし、第一クラッド層より低屈折率にすることにより、マルチクラッド構造を得ている。さらには、該第二クラッド層の周囲には、シリカガラスである第二クラッド層を外部から保護するための、ポリマーからなる保護層が形成されている。
【０００４】
特許文献１に開示されたダブルクラッドファイバでは、上記構成において、上記第一クラッド層が励起光伝播に対するコアとして機能し、フッ素ドープされたシリカガラスである第二クラッド層が上記励起光伝播に対するクラッドとして機能する。特許文献１では、ガラス製の上記第二クラッド層が存在することにより、第一クラッド層中を伝播する励起光によるエバネッセントフィールドのポリマー製の保護層への漏れを緩和することになり、上記エバネッセントフィールドによるポリマー製の保護層の損傷を抑制している。さらには、フッ素ドープの第二クラッド層により、ダブルクラッドファイバ（マルチクラッドファイバ）の耐熱強度を上げている。
【０００５】
しかし、ダブルクラッドファイバといったマルチクラッドファイバのＮＡはシリカガラスからなる第一クラッド層と第二クラッド層との屈折率差に比例する。シリカガラスにドープできるフッ素の量には限界があり、特許文献１では、フッ素添加により、第二クラッド層の屈折率を大きく低減することは難しい。
【０００６】
一方、シリカガラスよりも、ＵＶ硬化型フッ素樹脂といった樹脂の方がフッ素含有量を多くできる。そのため、第二クラッド層はポリマークラッドである方がファイバのＮＡを大きくできる可能性が高い。ファイバレーザのような出力される光強度の増大が求められる用途では、第一クラッド内により多くの励起光を導波することが求められるため、より大きいＮＡが期待できるポリマークラッドが第二クラッド層に使用される（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特表２００６−５１９４９５号公報
【特許文献２】特開平１０−１９７７３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、フッ素系樹脂は非フッ素系のUV硬化樹脂と比べて機械的強度が低いという問題がある。そのため、特許文献２に開示された技術のように、フッ素系樹脂をダブルクラッドファイバの第二クラッド層（第一被覆層）に使用する際には、機械的強度に優れる第二被覆層にて上記第二クラッド層を被覆する必要があり、コストアップにつながっている。
【０００９】
また、特許文献２に開示されたダブルクラッドファイバを用いたファイバレーザのように入射される光強度が変化する場合、ファイバの自己発熱が高くなり、ポリマークラッド材の機械的強度が低下する。特に、上記ファイバレーザにおいて出力が高いと、すなわち温度が高くなると、フッ素系樹脂である第二クラッド層（第一被覆層）の機械的強度が低くなる。従って、シリカガラスを主成分とする第一クラッド層、及びコアに対する保護機能が失われ、ファイバレーザの故障につながる問題がある。
【００１０】
さらには、特許文献１では、第一クラッド層から漏れるエバネッセントフィールドから樹脂製の保護層を保護するという技術目的から、第二クラッド層をシリカガラスにすることがどうしても必要である。上述のように、シリカガラスへのフッ素のドープ量は少なく制限されているので、フッ素ドープによる屈折率の低下をあまり見込めず、ＮＡを大きくすることは難しい。
【００１１】
本発明は、このような課題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、開口数（ＮＡ）を大きくすることが可能であり、単層被覆であっても良好な機械的強度を有し、低コストで作製可能な光ファイバ心線であって、ファイバレーザの操作中の高温環境下でもロスを低減して励起光を効率的に導波することが可能な光ファイバ心線を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、このような目的を達成するために、光ファイバ心線であって、コアと、前記コアの周囲に設けられ、該コアより屈折率が低いガラスクラッドと、前記ガラスクラッドの周囲に設けられ、該ガラスクラッドより屈折率が低いポリマークラッドとを備え、前記ポリマークラッドはフッ素を含有しており、前記ポリマークラッドは、６０℃の時の弾性率と２３℃の時の弾性率との差が１００ＭＰａ以内であり、かつ２３℃での該ポリマークラッドの弾性率が２００ＭＰａ以上であることを特徴とする。
【００１３】
また、本発明は、光ファイバ心線であって、コアと、前記コアを囲んで設けられ、前記コアよりも屈折率が低いガラスを含む第一クラッドと、前記第一クラッドを囲んで設けられ、前記第一クラッドよりも屈折率が低い樹脂であって、フッ素を含有した樹脂を含む第二クラッドとを備え、前記第二クラッドは、（メタ）アクリレート官能基を二つ有するパーフルオロポリエーテルを含んでいることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明では、フッ素をドーピングした低屈折率のポリマークラッド材の使用温度範囲内での弾性率を高めることで、ＮＡを大きくしつつ、単一層で、励起光に対するクラッド（例えば、第二クラッド層）の機能とガラス保護機能とを発揮することが可能である。従って、励起光に対するクラッド層と保護層とを別個に設ける必要が無く、コストダウンを図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の一実施形態に係る光ファイバ心線の断面図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る伝送損失増加量の測定系を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、図面を参照して本発明の実施形態を詳細に説明する。なお、以下で説明する図面で、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
図１において、ダブルクラッドファイバレーザに適用可能な光ファイバ心線１０は、その中心にコア１を備えており、該コア１の周囲には、コア１よりも屈折率が低い第一クラッド層としてのガラスクラッド２が設けられている。さらに、ガラスクラッド２の周囲には、ガラスクラッド２よりも屈折率が低い第二クラッド層としてのポリマークラッド３が設けられている。
【００１７】
このような構成において、第一クラッド層としてのガラスクラッド２は、コア１に対してはクラッドとして機能し、第二クラッド層としてのポリマークラッド３に対してはコアとして機能する。すなわち、ガラスクラッド２は、光ファイバ心線１０に入射した励起光によりコア１にて発振されたレーザ光に対してはクラッドとして機能し、上記入射された励起光に対してはコアとして機能する。
【００１８】
また、ポリマークラッド３は、後述するように、室温および高温環境下においても十分に機械的強度を有し、さらにはガラスクラッド２よりも屈折率が低いことから、ガラスクラッド２の保護層として機能すると共に、上記励起光に対するクラッドとして機能する。すなわち、ポリマークラッド３は、励起光に対するクラッド層としての役割と、ガラスクラッド２を保護する役割との二役を担っている。従って、第二クラッド層としてフッ素系樹脂を用いる場合であっても別個に保護層を設ける必要が無く、別個に保護層を設ける手間、コストを低減しつつも、第二クラッド層へのフッ素のドープ量を増やすことができ、ＮＡを大きくすることができる。
【００１９】
上記コア１、ガラスクラッド２の材料としてはそれぞれ、通常のファイバレーザに用いられるものを用いることができる。例えば、コア１としてエルビウムやイッテルビウム等を添加した石英を用いれば良く、ガラスクラッド２として石英を用いればよい。
【００２０】
上記ポリマークラッド３については、その主成分としては、例えば、フッ素を含有したウレタンアクリレートといったフッ素系樹脂（フッ素含有樹脂）を用いることができるが、以下に示すような、新しい技術的知見、および従来には見られなかった新たな技術的思想に基づいて設計されている。なお、本発明では、ポリマークラッド３の主成分となる材料は、従来からファイバレーザに用いられるフッ素系樹脂であればいずれを用いても良い。
【００２１】
さて、第二クラッド層としてのポリマークラッド３としてフッ素系樹脂を用いることにより、第二クラッド層としてガラスを用いる場合に比べて、第二クラッド層（ポリマークラッド）３の屈折率を下げることができるので、ＮＡをより大きくすることができ、より多くの励起光を光ファイバ心線１０に結合することができる。しかしながら、ダブルクラッドファイバレーザの駆動時に光ファイバが高温環境下におかれると、フッ素系樹脂からなる第二クラッド層の機械的強度が下がってしまう。特に、レーザ出力を高くすると、ファイバの自己発熱が起こり、機械的強度の低下に繋がってしまう。従って、高温環境下でも機械的強度を確保するために、特許文献２のように従来では、耐熱性に優れた保護層を第二クラッド層とは別個に設ける必要がある。
【００２２】
一方、本発明において、励起光のクラッドとして機能する第二クラッド層の弾性率が高いほど、ダブルクラッドファイバレーザに導入された励起光の伝送ロスが小さくなるという技術的知見を見出した。該技術的知見は、本発明にて初めて見出されたものである。すなわち、本発明にて見出された技術的知見によれば、動作時においてポリマークラッド３の弾性率をなるべく大きくすることにより、伝送ロスを低減して効率的に励起光を導波させることができるのである。
【００２３】
ここで、保護層を別個に設けないようにすることを考慮すると、室温のみならず高温環境下でも十分な機械的強度を確保する必要がある。また一方、上述のように初めて見出された技術的知見によればポリマークラッド３の弾性率を大きくするほど、励起光の伝送ロスを低減することができる。すなわち、高温環境下においてもポリマークラッド３の機械的強度を所定値よりも大きくなるようにすれば、保護層を別個に設けなくても十分な機械的強度を得ることができ、かつ励起光の伝送ロスを低減することができる。
【００２４】
本発明では、フッ素系樹脂を第二クラッド層として用いるダブルクラッドファイバレーザにおいて、励起光の伝送ロスを低減しつつ、第二クラッド層（励起光に対するクラッド層）とは別個に保護層を設けなくても十分に機械的強度を得るために、フッ素系樹脂であるポリマークラッドの弾性率を適切に設定する、という従来には無い新たな技術的思想に従って、ポリマークラッド３を設計している。
【００２５】
本発明の一実施形態では、このような技術的思想に基づいて、通常光ファイバ心線１０が配置される所定温度（例えば、室温）における弾性率が所定の値以上であり、かつ該所定温度と、ダブルクラッドファイバレーザの動作時における高温時とにおける、弾性率の差がなるべく小さくなるように、すなわち所定の値よりも小さくなるように、ポリマークラッド３を設計することは、本発明において新規な着眼点である。
【００２６】
このような新規な着眼点に従って鋭意検討した結果、本発明では、後述する実施例で示すように、所定の温度範囲（２３℃（室温）〜６０℃（高温環境下））でのポリマークラッド３の弾性率の変動が１００ＭＰａ以内であり（６０℃でのポリマークラッド３の弾性率と２３℃でのポリマークラッド３の弾性率との差が１００ＭＰａ以内であり）、かつ所定の温度（２３℃）でのポリマークラッド３の弾性率が２００ＭＰａ以上となるように、ポリマークラッド３を作製することにより、別個に保護層を設けなくても良好な機械的強度を得ると共に、伝送ロスを低減して効率良く励起光を導波させることができることを見出した。また、第二クラッド層としてポリマークラッドを用いているので、フッ素の含有量を多くすることができ、ＮＡを大きくすることができる。
【００２７】
本発明の別の実施形態では、ポリマークラッド３に、（メタ）アクリレート官能基を２つ有するパーフルオロポリエーテルを含有させている。このように、（メタ）アクリレート官能基を２つ有するフッ素系モノマーからポリマークラッド３を形成しているので、ラジカル重合によりモノマー同士が網目構造のポリマーになる。従って、屈折率を下げつつ、ポリマークラッド３の機械的強度を向上させることができる。さらに、上記パーフルオロポリエーテルを用いることにより、架橋密度をより大きくすることができ、より強い機械的強度のポリマークラッド３を得ることができる。
【００２８】
すなわち、（メタ）アクリレート官能基を２つ有するパーフルオロポリエーテルをポリマークラッド３に含有させることによって、架橋密度をより大きくすることができるので、より密な網目構造を有するポリマークラッド３を形成することができ、高温環境化であってもポリマークラッド３の機械的強度を大きくすることができる。従って、別個に保護層を設けなくても、励起光に対するクラッドであるポリマークラッド３により保護層の役割を果たすことができ、さらに励起光の伝送ロスを低減することができる。
【００２９】
なお、（メタ）アクリレート官能基を２つ有するパーフルオロポリエーテルの分子量を１５００未満とすることが好ましく、上記分子量を６００以上１５００未満とすることがさらに好ましい。本発明では、上述の新たな技術的思想を達成することを考慮すると、ポリマークラッド３の弾性率をなるべく大きくする必要があり、そのためにポリマークラッド３の架橋密度を大きくすることが望ましい。しかしながら、（メタ）アクリレート官能基を２つ有するパーフルオロポリエーテルの分子量が大きくなるに従って架橋密度は相対的に小さくなる。従って、分子量が所定値を超えて大きいと、伝送ロスや保護の観点から決まってくる許容範囲のポリマークラッド３の機械的強度に対応する架橋密度を得ることができなくなる。この観点から、（メタ）アクリレート官能基を２つ有するパーフルオロポリエーテルの分子量を１５００未満とすることが好ましいのである。すなわち、（メタ）アクリレート官能基を２つ有するパーフルオロポリエーテルの分子量を１５００未満とすることにより、架橋密度を適切な範囲にすることができ、高温環境下においても励起光の伝送ロスを低減しつつ、ポリマークラッド３により、励起光に対するクラッドの機能と、ガラスクラッド２の保護機能との双方を実現することができる。
【００３０】
さらに、ポリマークラッド３の屈折率を下げてＮＡを大きくすることを考慮すると、フッ素含有率が５０ｗｔ％以上の（メタ）アクリレート官能基を２つ有するパーフルオロポリエーテルを用いることが好ましい。
【００３１】
（実施例）
以下、本発明の実施例を説明する。
本実施例では、ダブルクラッドファイバに適用する光ファイバ心線１０のポリマークラッド３のポリマークラッド材組成物として、フッ素化ポリエーテルでウレタン結合同士を連結させたウレタンアクリレートを主成分として含み、フッ素化アクリレートモノマーもしくは非フッ素化アクリレートモノマーである反応性希釈剤、および光重合開始剤を含む放射線硬化性樹脂を作製した。以下の表１に作製したサンプルの組成比を示す。
【００３２】
モノマーＡは単官能性のフッ素化アクリレートモノマーである。モノマーＢは分子量が４００−６００程度の二官能性のフッ素化アクリレートモノマーである。モノマーＣは分子量１５００程度でフッ素含有率が５２ｗｔ%の二官能性のフッ素化アクリレートモノマーである。モノマーＤは分子量６００程度でフッ素含有率が５１ｗｔ%の二官能性のフッ素化アクリレートモノマーである。モノマーEは分子量２５００程度でフッ素含有率が５４ｗｔ%のフッ素化アクリレートモノマーである。また、モノマーＣ、Ｄ、Ｅはパーフルオロポリエーテル鎖の末端にアクリロイル基を付加した構造であり、アクリロイル基を２つ有する構造である。
【００３３】
なお、本実施例では、架橋密度をより向上させるために、ラジカル重合する官能基を２つ有するパーフルオロポリエーテルを用いることが重要であるので、モノマーＣ、Ｄ、Ｅとして、アクリレート官能基を２つ有するパーフルオロポリエーテルに限らず、メタクリレート官能基を２つ有するパーフルオロポリエーテルを用いても良いことは言うまでもない。
【００３４】
ポリマークラッド３として、上記ウレタンアクリレートとモノマーＡ〜Ｅを適切に配合して表１に示すようにサンプルＡ〜Ｉ（本実施例）、およびサンプルＪ〜Ｌ（比較例）を作製した。配合は表１に記載した比率を正確にガラス製の容器に入れ、５分程度攪拌し、各材料が混ざっているか否かを目視で確認した。粘度が高く攪拌中気泡が大量に入る場合、ホットプレート上で５０℃に加熱した状態で攪拌しても良い。それぞれ作製したサンプルの基礎特性を評価した。試験方法の詳細は以下の通りである。
【００３５】
（１）表１の組成比で配合したサンプルの粘度測定はブルックフィールド型粘度計で、回転速度２０ｒｐｍで測定した。温度環境は２３℃で測定を行った。
（２）表１の組成比で配合したサンプルはガラス基板上に１００μmでスピンコートした。
（３）石英ガラス板を蓋にしているパージボックスの中にサンプルを塗布したガラス板を入れ、１５ｌ／ｍｉｎで５ｍｉｎの間、窒素パージし、Ｆｕｓｉｏｎ ＵＶ ｓｙｓｔｅｍｓのＤ−Ｂｕｌｂを使用してＵＶ光を照射した。照射量は３５００ｍＪ／ｃｍ2で照射を行った。
（４）ポリマークラッド３の弾性率測定については、光ファイバ心線１０を６ｍm幅の短冊状に切り取り、弾性率を測定した。弾性率はＴＡインスツルメント社のＲＳＡ３を使用して、引っ張り応力をかけ、２．５%の歪みをかけた時の応力で算出した。温度環境は２３℃と６０℃で測定を行った。
（５）屈折率はＭｅｔｒｉｃｏｎ社のＰｒｉｓｍ Ｃｏｕｐｌｅｒ ２０１０Ｍを使用した。波長は５９４ｎｍで測定を行った。温度環境は２３℃で測定を行った。
【００３６】
【表１】
【００３７】
上記表１は、上述のようにして作製したサンプルＡ〜Ｌの組成比と樹脂特性（２３℃での粘度、２３℃、６０℃での弾性率、２３℃での屈折率）とを示している。
【００３８】
（伝送損失増加量測定）
表1に示したサンプルＡ〜Ｌをポリマークラッド３として用いてガラスクラッド２を被覆した１２５μmのマルチモード光ファイバ（光ファイバ心線１０）を作製した。被覆層であるポリマークラッド２は厚みが約６０μmで作製し、該被覆層を合わせたファイバの外径は２４５−２５５μmであった。
【００３９】
作製したファイバを使用して伝送損失量（励起光ロス）を測定した。ここでの伝送損失量は表2での励起光ロスである。また、作製したマルチモードファイバとしての光ファイバ心線１０からガラスを抜き取り、ポリマークラッド３の２３℃、６０℃における弾性率を測定した。伝送損失量および弾性率を表２に示す。
【００４０】
伝送損失量の測定はカットバック法により測定した。本実施例に係る測定系の形態を図２に示す。図２において、符号２１はレーザダイオードであり、符号２２は高反射鏡であり、符号２３は出力カプラであり、符号２４は測定ヘッドであり、符号２５はパワーメータであり、符号２６ａ〜２６ｃは光ファイバ同士の融着点である。本実施例では、例えば高反射鏡２２の反射率が１００％、出力カプラ２３の反射率が２０％であり、高反射鏡２２と出力カプラ２３との間に設けられた光ファイバ心線１０がレーザダイオード２１から入射された励起光によりレーザを発振する。該発振されたレーザは、出力カプラ２３により測定ヘッド２４へと出射され、パワーメータ２５により光ファイバ心線１０の伝送損失を測定する。本実施例では、測定波長は９７５nmで測定した。測定する光ファイバ心線１０の長さは１０ｍとした。表２において、測定した伝送損失量が５．０ｄＢ／ｋｍ以下である場合は（△）、１．０ｄＢ以下である場合は（○）、５．０ｄＢ／ｋｍ超である場合は、（×）とする。
【００４１】
【表２】
【００４２】
表２に示すように、本実施例のサンプルＨは伝送損失量が本実施例の他のサンプルＡ〜Ｉ、Ｇより大きかった。これは、表１に示すように未硬化状態のポリマークラッド材の粘度が低すぎるため、線引き後のファイバが偏肉していることが原因と考えられる。しかしながら、サンプルＨでも、伝送損失を５．０ｄＢ／ｋｍ以下に抑えることができ、かつ２３℃でのポリマークラッド３の弾性率を２００ＭＰａ以上に、さらには２３℃と６０℃との間の温度範囲で弾性率の変動が１００ＭＰａ以内にすることができる。従って、該サンプルＨにおいても、保護層を設けなくても室温および高温環境下の双方において十分な機械的強度を得ることができ、かつ伝送ロスを低減することができる。
【００４３】
また、本実施例のサンプルＡ〜Ｇ，及びサンプルＩは全て、表２に示されるようにレーザダイオード２１から光ファイバ心線１０への入力光強度が１０Ｗの場合の伝送損失量が１．０ｄＢ以内であり、サンプルＨは、５．０ｄＢ以内である。また、表１に示されるように、本実施例のサンプルＡ〜Ｉのいずれにおいても、２３℃でのポリマークラッド３の弾性率を２００ＭＰａ以上に、さらには６０℃の時の弾性率と２３℃の時の弾性率との差を１００ＭＰａ以内にすることができる。従って、励起光の伝送ロスを非常に低減しつつ、保護層を設けなくても室温および高温環境下の双方において十分な機械的強度を得ることができる。
【００４４】
さて、ファイバレーザの場合、出力を大きくするために、より多くの励起光を第一クラッド層であるガラスクラッド２に導波することが求められることがある。その際、ポリマークラッド３の屈折率をなるべく低くし、ファイバのＮＡが高いほど、出力を上げることができる。そのため、本実施例に示される９つのサンプルの中でも、サンプルＥ，Ｆ，Ｇは最良の形態である。
【００４５】
また、アクリレート官能基を２つ有するパーフルオロポリエーテルを用いる場合、表１、２に示されるように、粘度、弾性率、屈折率、伝送ロスを考慮すると、上記アクリレート官能基を２つ有するパーフルオロポリエーテルを５ｗｔ％〜３０ｗｔ％にすることも好ましい。
【００４６】
一方、比較例のサンプルＪ、Ｋについては、未硬化時の粘度が高く、線引きすることができなかった。比較例のサンプルＬはポリマークラッド３の弾性率が低く、伝送損失量が高いことが考えられる。これは入力光が大きくファイバの自己発熱でファイバの温度が上がり、クラッド層の弾性率が低くなっていることが原因と予想される。
【００４７】
本実施例では、ポリマークラッド３のポリマークラッド材の未硬化時の粘度を１０００ｍＰａ・ｓ〜５００００ｍＰａ・ｓとすることにより、ポリマークラッド３を被覆層としてガラスクラッド２の周囲に形成することができる。
【符号の説明】
【００４８】
１ コア
２ ガラスクラッド
３ ポリマークラッド
１０ 光ファイバ心線
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コアと、
前記コアの周囲に設けられ、該コアより屈折率が低いガラスクラッドと、
前記ガラスクラッドの周囲に設けられ、該ガラスクラッドより屈折率が低いポリマークラッドとを備え、
前記ポリマークラッドはフッ素を含有しており、
前記ポリマークラッドは、６０℃の時の弾性率と２３℃の時の弾性率との差が１００ＭＰａ以内であり、かつ２３℃での該ポリマークラッドのヤング率が２００ＭＰａ以上であることを特徴とする光ファイバ心線。
【請求項２】
前記ポリマークラッドは、分子量１５００未満の（メタ）アクリレート官能基を二つ有するパーフルオロポリエーテルを含有していることを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ心線。
【請求項３】
前記ポリマークラッド層は、分子量６００以上１５００未満の（メタ）アクリレート官能基を二つ有するパーフルオロポリエーテルを含有していることを特徴とする請求項２に記載の光ファイバ心線。
【請求項４】
前記ポリマークラッドは、前記パーフルオロポリエーテルを５ｗｔ％〜３０ｗｔ％含有していることを特徴とする請求項２または３に記載の光ファイバ心線。
【請求項５】
前記ポリマークラッド層のフッ素含有率は５０ｗｔ%以上であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の光ファイバ心線。
【請求項６】
前記ポリマークラッドの未硬化時の粘度が１０００−５００００ｍPa・sであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の光ファイバ心線。
【請求項７】
前記光ファイバ心線の伝送損失量は１０Ｗ以下の入力光強度に対して１．０ｄＢ／ｋｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の光ファイバ心線。
【請求項８】
コアと、
前記コアを囲んで設けられ、前記コアよりも屈折率が低いガラスを含む第一クラッドと、
前記第一クラッドを囲んで設けられ、前記第一クラッドよりも屈折率が低い樹脂であって、フッ素を含有した樹脂を含む第二クラッドとを備え、
前記第二クラッドは、（メタ）アクリレート官能基を二つ有するパーフルオロポリエーテルを含んでいることを特徴とする光ファイバ心線。
【請求項１】
コアと、
前記コアの周囲に設けられ、該コアより屈折率が低いガラスクラッドと、
前記ガラスクラッドの周囲に設けられ、該ガラスクラッドより屈折率が低いポリマークラッドとを備え、
前記ポリマークラッドはフッ素を含有しており、
前記ポリマークラッドは、６０℃の時の弾性率と２３℃の時の弾性率との差が１００ＭＰａ以内であり、かつ２３℃での該ポリマークラッドのヤング率が２００ＭＰａ以上であることを特徴とする光ファイバ心線。
【請求項２】
前記ポリマークラッドは、分子量１５００未満の（メタ）アクリレート官能基を二つ有するパーフルオロポリエーテルを含有していることを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ心線。
【請求項３】
前記ポリマークラッド層は、分子量６００以上１５００未満の（メタ）アクリレート官能基を二つ有するパーフルオロポリエーテルを含有していることを特徴とする請求項２に記載の光ファイバ心線。
【請求項４】
前記ポリマークラッドは、前記パーフルオロポリエーテルを５ｗｔ％〜３０ｗｔ％含有していることを特徴とする請求項２または３に記載の光ファイバ心線。
【請求項５】
前記ポリマークラッド層のフッ素含有率は５０ｗｔ%以上であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の光ファイバ心線。
【請求項６】
前記ポリマークラッドの未硬化時の粘度が１０００−５００００ｍPa・sであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の光ファイバ心線。
【請求項７】
前記光ファイバ心線の伝送損失量は１０Ｗ以下の入力光強度に対して１．０ｄＢ／ｋｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の光ファイバ心線。
【請求項８】
コアと、
前記コアを囲んで設けられ、前記コアよりも屈折率が低いガラスを含む第一クラッドと、
前記第一クラッドを囲んで設けられ、前記第一クラッドよりも屈折率が低い樹脂であって、フッ素を含有した樹脂を含む第二クラッドとを備え、
前記第二クラッドは、（メタ）アクリレート官能基を二つ有するパーフルオロポリエーテルを含んでいることを特徴とする光ファイバ心線。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２０１２−１８２５８（Ｐ２０１２−１８２５８Ａ）
【公開日】平成２４年１月２６日（２０１２．１．２６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１５４８３２（Ｐ２０１０−１５４８３２）
【出願日】平成２２年７月７日（２０１０．７．７）
【出願人】（０００００５２９０）古河電気工業株式会社 (4,457)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１月２６日（２０１２．１．２６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年７月７日（２０１０．７．７）
【出願人】（０００００５２９０）古河電気工業株式会社 (4,457)
【Ｆターム（参考）】
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