光学用蒸着膜フィルタの製造方法及びソーラーシミュレータ用光源ユニット
【課題】可視域でのフラットで高い透過特性を保持しつつ、カットオフ域と近赤外域での所望の透過特性を与える光学蒸着膜フィルタを最小限の工程で製造する。
【解決手段】第１の入射角用のスペクトル合致度設計値に従って１次フィルタを作製する工程、１次フィルタのスペクトル合致度を第２の入射角で測定して１次スペクトル合致度を取得する工程、設計値と１次スペクトル合致度の差分に基づいて、可視域の設計値を維持した状態でカットオフ域及び近赤外域の設計値を補正し、補正された設計値に従って２次フィルタを作製する工程、２次フィルタのスペクトル合致度を第２の入射角で測定して２次スペクトル合致度を取得する工程、可視域の設計値を維持した状態で、カットオフ域及び近赤外域について、設計値、１次及び２次スペクトル合致度の関係に基づいて最終設計値を決定する工程、及び最終設計値に従って光学蒸着膜フィルタを作製する工程を備える。
【解決手段】第１の入射角用のスペクトル合致度設計値に従って１次フィルタを作製する工程、１次フィルタのスペクトル合致度を第２の入射角で測定して１次スペクトル合致度を取得する工程、設計値と１次スペクトル合致度の差分に基づいて、可視域の設計値を維持した状態でカットオフ域及び近赤外域の設計値を補正し、補正された設計値に従って２次フィルタを作製する工程、２次フィルタのスペクトル合致度を第２の入射角で測定して２次スペクトル合致度を取得する工程、可視域の設計値を維持した状態で、カットオフ域及び近赤外域について、設計値、１次及び２次スペクトル合致度の関係に基づいて最終設計値を決定する工程、及び最終設計値に従って光学蒸着膜フィルタを作製する工程を備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はソーラーシミュレータに用いる光学用蒸着膜フィルタの製造方法及びソーラーシミュレータ用光源ユニットに関する。
【背景技術】
【０００２】
ソーラーシミュレータでは、太陽光に近似するスペクトルを持つキセノンランプが光源として主に使用される。キセノンランプは近赤外域の放射が太陽光に比べて多いため、近赤外域の透過率を抑制するためのフィルタが必要となる。フィルタの方式としては蒸着膜フィルタ又は吸収ガラスがあるが、設計の自由度、精度及び耐久性の高さ等の観点において蒸着膜フィルタが有利であり、同フィルタが採用されることが多い。
【０００３】
光学用蒸着膜フィルタの規格は、例えば光源と組み合わせた状態で、ＪＩＳ・Ｃ８９１２「結晶系太陽電池測定用ソーラーシミュレータ」に規定され、その性能は特にスペクトル合致度と呼ばれる評価項目で判定される。後述するように、各波長域においてスペクトル合致度は透過率の略１次関数とみることができる。なお、本明細書においては一般に、４００〜７００ｎｍを可視(波長)域、７００〜８００ｎｍをカットオフ(波長)域、８００〜１１００ｎｍを近赤外(波長)域というものとする。
【０００４】
ところで、蒸着膜フィルタを使用する場合、フィルタへの入射角は垂直（０°）とは限らない。フィルタへの入射角が常に０°となるように、フィルタ形状をキセノンランプの形状に合わせて円筒形とすることも考えられるが、曲面に対して蒸着を行なうと膜厚ムラが発生するために設計通りの分光透過特性が得られない場合があり、有用ではない。従って、平面からなる蒸着膜フィルタを用いるのが好ましい。
【０００５】
図１はソーラーシミュレータ用の一般的な光源ユニット６の断面図である（例えば、特許文献１）。図示するように、キセノンランプ２２に対してその上方にフィルタ２６、下方にフィルタ２７が設けられる。フィルタ２６及び２７はフィルタ保持具２６Ｂ及び２７Ｂ並びにそれらに付加される蒸着膜フィルタ（赤外線カットフィルタ）２６Ａ及び２７Ａからなる。照射対象面（不図示）はフィルタ２６の上方に水平に配置される。なお、２１は吸収部材である。このような構成の光源ユニットの場合、キセノンランプ２２から照射対象面の間で光が蒸着膜フィルタ２７Ａを通過する角度（入射角）には一定の幅がある。ここで、この入射角が大きくなると（蒸着膜に対して垂直でなくなると）蒸着膜を通過する光路長が増加し、また屈折率が変わることから、分光透過率が変動して所望の放射が得られなくなることが問題となる。
【０００６】
従来では、上記の問題に対処するために複数回のカットアンドトライ的な試行錯誤を経て蒸着膜を設計していた。具体的には、まず、透過率、スペクトル合致度等に関する当初設計値（入射角０°用）に従って蒸着膜フィルタを作製し、その蒸着膜フィルタについて、複数の入射角に対するスペクトル合致度を取得する。この時点では通常、例えば図３Ａに示すように、入射角が大きい場合のスペクトル合致度は、カットオフ域では低く、近赤外域では高くなり、規格（等級Ａ：各波長域で０.７５〜１.２５）を満たさないものとなる。そこで、カットオフ域でのエネルギー分布（相対的な透過率）を高くするために可視域の透過率を相対的に下げ、さらに可視域の設計値の補正を考慮して近赤外域の設計値を補正していた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００９−２６４９９１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、上記のような補正では、可視域でのフラットで高い透過率を犠牲にする結果となり、それと関連して近赤外域で所望のスペクトル合致度を満たすことの困難性が増す結果となっていた。
具体的には、上述のように、補正により可視域のエネルギー分布（相対的な透過率）を下げたことによって、照射対象への規定の照射量を確保するのに更に多くの電力が必要となっていた。これは省エネの観点から好ましくない。さらに、可視域のエネルギー分布を下げたことによって、近赤外域のエネルギー分布が上がってしまうので、これと逆行して近赤外域でのスペクトル合致度を下げる補正が更に必要となってしまう。すると、再び全体のエネルギー分布が変動するので、再び可視域又はカットオフ域での調整が必要になる。この補正を多数繰り返すことが必要となっていたため、生産性の向上が図れなかった。
【０００９】
そこで、本発明は、可視域でのフラットで高い透過特性を保持しつつも、カットオフ域と近赤外域での所望の透過特性を与える蒸着膜フィルタを、最小限の工程で製造する方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の第１の側面は、光学蒸着膜フィルタの製造方法であって、第１の入射角用のスペクトル合致度設計値に従って１次蒸着膜フィルタを作製する工程、１次蒸着膜フィルタのスペクトル合致度を第２の入射角で測定して１次スペクトル合致度を取得する工程、スペクトル合致度設計値と１次スペクトル合致度の差分に基づいて、可視波長域のスペクトル合致度設計値を維持した状態でカットオフ波長域及び近赤外波長域のスペクトル合致度設計値を補正し、補正されたスペクトル合致度設計値に従って２次蒸着膜フィルタを作製する工程、２次蒸着膜フィルタのスペクトル合致度を第２の入射角で測定して２次スペクトル合致度を取得する工程、可視波長域のスペクトル合致度設計値を維持した状態で、カットオフ波長域及び近赤外波長域について、スペクトル合致度設計値、１次スペクトル合致度及び２次スペクトル合致度の関係に基づいて最終スペクトル合致度設計値を決定する工程、及び最終スペクトル合致度設計値に従って光学蒸着膜フィルタを作製する工程を備える製造方法である。
【００１１】
上記第１の側面において、最終スペクトル合致度設計値を決定する工程が、カットオフ波長域について、スペクトル合致度設計値に対する１次又は２次スペクトル合致度の減衰量を補正するようにカットオフ波長域の最終スペクトル合致度設計値を長波長側にシフトする工程を含む構成とした。
また、最終スペクトル合致度設計値を決定する工程が、近赤外波長域について、１次スペクトル合致度及び２次スペクトル合致度における透過率とスペクトル合致度の線形近似に基づいて最終スペクトル合致度設計値を特定する工程を含む構成とした。
【００１２】
本発明の第２の側面は、光学蒸着膜フィルタの製造方法であって、（Ａ）可視波長域、カットオフ波長域及び近赤外波長域についての第１の入射角用の１次設計値（Ｍ０１、Ｍ０２、Ｍ０３）に従って１次蒸着膜フィルタを作製する工程、（Ｂ）第１の入射角とは異なる第２の入射角における１次蒸着膜フィルタのスペクトル合致度を、可視波長域、カットオフ波長域及び近赤外波長域について測定及び算出して１次スペクトル合致度（Ｍ１１、Ｍ１２、Ｍ１３）を取得する工程、（Ｃ）可視域波長の１次スペクトル合致度（Ｍ１１）を規格化して近赤外域波長の規格化１次スペクトル合致度（Ｍ１３´）を算出する工程、（Ｄ）カットオフ波長域及び近赤外波長域の１次設計値（Ｍ０３）と規格化１次スペクトル合致度（Ｍ１２´、Ｍ１３´）の差分に基づいて、１次設計値のうちのカットオフ波長域及び近赤外波長域の設計値を補正して２次設計値を算出する工程、（Ｅ）２次設計値に従って２次蒸着膜フィルタを作製する工程、（Ｆ）第２の入射角における２次蒸着膜フィルタのスペクトル合致度を、可視波長域、カットオフ波長域及び近赤外波長域について算出して２次スペクトル合致度（Ｍ２１、Ｍ２２、Ｍ２３）を取得する工程、（Ｇ）可視波長域の２次スペクトル合致度（Ｍ２１）を規格化してカットオフ波長域及び近赤外波長域の規格化２次スペクトル合致度（Ｍ２２´、Ｍ２３´）を算出する工程、（Ｈ）カットオフ波長域の１次設計値（Ｍ０２）と規格化１次スペクトル合致度（Ｍ１２´）又は規格化２次スペクトル合致度（Ｍ２２´）の関係に基づいて、カットオフ波長域の最終設計値を決定する工程、（Ｉ）近赤外域波長の１次設計値及び２次設計値における透過率と１次規格化スペクトル合致度（Ｍ１３´）及び２次規格化スペクトル合致度（Ｍ２３´）の線形近似に基づいて、近赤外波長のスペクトル合致度が１となるように近赤外波長域の最終設計値を決定する工程、及び（Ｊ）工程（Ｈ）及び（Ｉ）で決定された最終設計値に基づいて蒸着膜フィルタを作製する工程を備える製造方法である。
【００１３】
上記第１又は第２の側面において、第２の入射角が複数の入射角からなり、１次及び２次スペクトル合致度を複数の入射角における測定値の平均値とすると補正の精度が増すので望ましい。また、第１の入射角をフィルタに対して垂直とすると本製造方法の汎用性が高まる。
なお、上記ステップ（Ｈ）において、最終設計値で規定されるカットオフ波長は２次設計値で規定されるカットオフ波長よりも長波長側にシフトする。
【００１４】
本発明の第３の側面は、ソーラーシミュレータ用光源ユニットであって、キセノンランプ及びキセノンランプを覆うフィルタを備え、フィルタが、上記の製造方法によって製造された光学蒸着膜フィルタを備えたソーラーシミュレータ用光源ユニットである。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】ソーラーシミュレータ用の光源ユニットを示す図である。
【図２】本発明の実施例による光学蒸着膜フィルタの製造方法のフローチャートである。
【図３Ａ】１次蒸着膜フィルタのスペクトル合致度を示す図である。
【図３Ｂ】２次蒸着膜フィルタのスペクトル合致度を示す図である。
【図３Ｃ】最終蒸着膜フィルタのスペクトル合致度を示す図である。
【図４Ａ】１次蒸着膜フィルタの分光透過率を示す図である。
【図４Ｂ】２次蒸着膜フィルタの分光透過率を示す図である。
【図４Ｃ】最終蒸着膜フィルタの分光透過率を示す図である。
【図５】最終蒸着膜フィルタの相対分光分布を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明の光学蒸着膜フィルタ（以下、「蒸着膜フィルタ」という）の製造方法は、入射角による透過特性への影響度を特定し、入射角による影響が少ない可視域での透過特性を固定して、特定された影響度に基づいてカットオフ域及び近赤外域のスペクトル合致度を調整するものである。
【００１７】
図２は本発明の実施例による蒸着膜フィルタの製造方法を示すフローチャートである。以下、本実施例を表１も参照して説明する。
【表１】
【００１８】
まず、工程Ｓ１０２において、可視波長域（４００−５００ｎｍ、５００−６００ｎｍ、６００−７００ｎｍ）、カットオフ波長域（７００−８００ｎｍ）及び近赤外波長域（８００−９００ｎｍ、９００−１１００ｎｍ）についての第１の入射角用の１次設計値に従って１次蒸着膜フィルタを作製する。ここで、１次設計値は各波長域のスペクトル合致度からなるが、透過率又は各波長域間での相対透過率等、直接又は間接にスペクトル合致度を導出できるものであればよい。また、第１の入射角θ１はθ１＝０°（即ち、フィルタに対して垂直入射）であればよい。第１の入射角はこれに限定されないが、一般に当初設計値は入射角０°について設計されるので、θ１＝０°とするのが本製造方法の汎用性の観点から望ましい。
【００１９】
ここで、第１の入射角における１次蒸着膜フィルタのスペクトル合致度の設計値を、可視域、カットオフ域及び近赤外域についてそれぞれ（Ｍ０１、Ｍ０２、Ｍ０３）とする。これは１次設計値そのものであってもよいし、１次蒸着膜フィルタを実際に測定したものであってもよい。具体的には、表１のステップ１に示すように各波長域について基準スペクトル合致度が得られ、表１のステップ２に示すように８００−９００ｎｍと９００−１１００ｎｍの値が平均化される。
【００２０】
工程Ｓ１０４において、第１の入射角とは異なる第２の入射角における１次蒸着膜フィルタのスペクトル合致度を、可視域、カットオフ域及び近赤外域について測定及び算出してそれぞれの１次スペクトル合致度（Ｍ１１、Ｍ１２、Ｍ１３）を取得する。具体的には、表１のステップ３に示すように各波長域の１次スペクトル合致度が測定され、表１のステップ４に示すように可視域及び近赤外域の値が平均化され、Ｍ１１、Ｍ１２及びＭ１３が得られる。
【００２１】
上記第２の入射角は単一の入射角でも複数の入射角でもよいが、複数の入射角を用いた方が補正の精度が向上する。表１では１つの第２の入射角としてθ２１＝２２.５°の場合を示している。
【００２２】
図３Ａに、各入射角における１次蒸着膜フィルタの１次設計値と１次スペクトル合致度の関係を示す。同図は表１のステップ１及び３の各値に対応する。
【００２３】
工程Ｓ１０６において、表１のステップ５に示すように、可視域の１次スペクトル合致度（Ｍ１１）を規格化してカットオフ域及び近赤外域の規格化１次スペクトル合致度（Ｍ１２´、Ｍ１３´）を算出する。
なお、本実施例では、計算量を減らすために平均化→規格化の順序で処理しているが、その逆の順序で処理してもよい。
【００２４】
なお、本実施例では、第２の入射角として、θ２１＝θ２５＝２２.５°、θ２２＝８.５°、θ２３＝４°、θ２４＝１４°の５角度を用いているので、工程Ｓ１０４〜Ｓ１０６を残りの各入射角（θ２２〜θ２５）に対して行ない、平均規格化１次スペクトル合致度（Ｍav１２´、Ｍav１３´）を算出する。もちろん、第２の入射角を１つの角度のみで行なう場合は、（Ｍ１２´、Ｍ１３´）＝（Ｍav１２´、Ｍav１３´）である。
【００２５】
工程Ｓ１０８において、カットオフ域及び近赤外域の１次設計値（Ｍ０２、Ｍ０３）と平均規格化１次スペクトル合致度（Ｍav１２´、Ｍav１３´）のそれぞれの差分に基づいて、１次設計値のうちのカットオフ域及び近赤外域の部分を補正して２次設計値を算出する。具体的には、表１のステップ６に示すように、Ｍ０２とＭ１２´の関係を考慮してカットオフ波長を長波長側にシフトし、Ｍ０３とＭ１３´の比を考慮して近赤外域におけるスペクトル合致度（透過率）を下げる補正を行なう。なお、この際の補正は厳密なものでなくてもよい。
【００２６】
工程Ｓ１１０において、上記２次設計値に従って２次光学蒸着膜フィルタを作製する。図３Ｂに各入射角における２次蒸着膜フィルタの２次設計値と２次スペクトル合致度の関係を示す。
【００２７】
工程Ｓ１１２において、工程Ｓ１０４と同様に、第２の入射角における２次蒸着膜フィルタのスペクトル合致度を、可視域、カットオフ域及び近赤外域について測定及び算出してそれぞれの２次スペクトル合致度（Ｍ２１、Ｍ２２、Ｍ２３）を取得する。
【００２８】
工程Ｓ１１４において、工程Ｓ１０４と同様に、可視域における２次スペクトル合致度（Ｍ２１）を規格化してカットオフ域及び近赤外域における規格化２次スペクトル合致度（Ｍ２２´、Ｍ２３´）を算出する。
【００２９】
前述したように、本実施例では第２の入射角として、θ２１＝θ２５＝２２.５°、θ２２＝８.５°、θ２３＝４°、θ２４＝１４°の５角度を用いているので、工程Ｓ１１２〜Ｓ１１４を残りの各入射角（θ２２〜θ２５）に対して行ない、平均規格化２次スペクトル合致度（Ｍav２２´、Ｍav２３´）を算出する。もちろん、第２の入射角を１つの角度のみで行なう場合は、（Ｍ２２´、Ｍ２３´）＝（Ｍav２２´、Ｍav２３´）である。表２に、本実施例における入射角（θ２１〜θ２５）についての平均規格化２次スペクトル合致度（Ｍav２２´、Ｍav２３´）を示す。
【表２】
【００３０】
工程Ｓ１１６において、カットオフ域の１次設計値（Ｍ０２）、平均規格化１次スペクトル合致度（Ｍ１２´）及び平均規格化２次スペクトル合致度（Ｍ２２´）の関係に基づいて、カットオフ域の最終設計値を決定する。具体的には、２次蒸着膜フィルタの平均規格化２次スペクトル合致度（Ｍav２２´＝０.７２）が１次設計値の１.０６に対して約３２％減衰しているので、Ｍav２２´が約３２％上昇するようにカットオフ波長を長波長側にずらす補正を行なう。本実施例の場合、図４Ａ及び４Ｂから１次蒸着膜フィルタで約２５ｎｍ、２次蒸着膜フィルタで約３０ｎｍが補正すべきシフト量に相当する。即ち、カットオフ波長を２次蒸着膜フィルタから３０ｎｍ長波長側に補正する。
【００３１】
工程Ｓ１１８において、近赤外域における平均規格化１次スペクトル合致度（Ｍav１３´）と平均規格化２次スペクトル合致度（Ｍav２３´）の線形近似に基づいて、近赤外域のスペクトル合致度が１となるように近赤外域の最終設計値を決定する。具体的には、スペクトル合致度は透過率の１次関数となることが分かっているので、表３に示す近赤外域（８００−１１００ｎｍ）の平均透過率設計値（ｘ）、及び近赤外域の全入射角（θ２１〜θ２５）についての平均規格化２次スペクトル合致度（ｙ）から、
ｙ＝０.０６５ｘ＋０.２５１
となることが導かれる。
【表３】
ここで、スペクトル合致度についてｙ＝１の場合、ｘ＝１１.６（％）となるので、近赤外域での平均透過率が１１.６％となるように最終設計値を決定する。
【００３２】
工程Ｓ１２０において、上記最終設計値に基づいて蒸着膜フィルタを作製する。図３Ｃに最終設計値に基づいて作製された最終の蒸着膜フィルタのスペクトル合致度を示す。図示するように、各波長域において規格（等級Ａ：各波長域で０.７５〜１.２５）を満たしている。
【００３３】
図４Ａ、４Ｂ及び４Ｃに、１次蒸着膜フィルタ、２次蒸着膜フィルタ及び最終蒸着膜フィルタの分光透過率（全入射角の平均）をそれぞれ示す。図４Ｃの最終の蒸着膜フィルタの可視域はフラットで高い透過率を有し、カットオフ周波数は図４Ａ又は４Ｂに示す１次又は２次蒸着膜フィルタのカットオフ周波数よりも長波長側にシフトしている。なお、図５に参照として、最終蒸着膜フィルタの透過光の相対発光強度を示す。
【００３４】
上記製造方法によって製造された蒸着膜フィルタは図１の蒸着膜フィルタ（赤外線カットフィルタ）２６Ａ又は２７Ａとして実施できる。即ち、キセノンランプ２２及びキセノンランプ２２を覆うフィルタ２６及び２７を備え、フィルタ２６及び２７において、上記の製造方法によって製造された蒸着膜フィルタ２６Ａ又は２７Ａがフィルタ保持具２６Ｂ又は２７Ｂに付加されたソーラーシミュレータ用光源ユニットを構成することができる。
【００３５】
上述したように、本発明の製造方法は、可視域の透過率をカットオフ域の透過率に対して大きく下げるような工程を有していないので、最終設計値による最終光学蒸着膜フィルタの可視域における透過率は、１次光学蒸着膜フィルタと同様にフラットで、かつ高いレベルにあることが分かる。また、上記製造方法は複数の入射角が発生し得る光源ユニットに適用できるので、図１に示す光源ユニットだけでなく、様々なフィルタ構成を有する光源に適用できる。
【００３６】
また、本製造方法ではわずか２回の設計値補正で所望の透過特性を得ることができた。即ち、可視域でのフラットで高い透過特性を保持しつつも、カットオフ域と近赤外域での所望の透過特性を与える蒸着膜フィルタを、最小限の工程で製造することが可能となった。
【００３７】
以上に本発明の最も好適な実施例を示したが、以下のように変形することもできる。
（１）実施例では、第１の入射角０°での特性を基準として第２の入射角での特性を調整する構成を示したが、他の（０°でない）入射角を第１の入射角として、第２の入射角（０°を含んでいてもいなくてもよい）での特性を調整する構成としてもよい。
（２）実施例では、（０°を含めて）６個の入射角を用いて設計値の決定を行なったが、少なくとも２個の入射角を用いれば本発明の製造方法を実現できる。
（３）上記実施例では、工程Ｓ１１６及びＳ１１８双方を適用するものを示したが、カットオフ域の補正だけが目的であれば工程Ｓ１１８は省略してもよく、逆に近赤外域の補正だけが目的であれば工程Ｓ１１６を省略できる。
【符号の説明】
【００３８】
６．光源ユニット
２２．キセノンランプ
２６、２７．フィルタ
２６Ａ、２７Ａ．蒸着膜フィルタ（赤外線カットフィルタ）
２６Ｂ、２７Ｂ．フィルタ保持具
【技術分野】
【０００１】
本発明はソーラーシミュレータに用いる光学用蒸着膜フィルタの製造方法及びソーラーシミュレータ用光源ユニットに関する。
【背景技術】
【０００２】
ソーラーシミュレータでは、太陽光に近似するスペクトルを持つキセノンランプが光源として主に使用される。キセノンランプは近赤外域の放射が太陽光に比べて多いため、近赤外域の透過率を抑制するためのフィルタが必要となる。フィルタの方式としては蒸着膜フィルタ又は吸収ガラスがあるが、設計の自由度、精度及び耐久性の高さ等の観点において蒸着膜フィルタが有利であり、同フィルタが採用されることが多い。
【０００３】
光学用蒸着膜フィルタの規格は、例えば光源と組み合わせた状態で、ＪＩＳ・Ｃ８９１２「結晶系太陽電池測定用ソーラーシミュレータ」に規定され、その性能は特にスペクトル合致度と呼ばれる評価項目で判定される。後述するように、各波長域においてスペクトル合致度は透過率の略１次関数とみることができる。なお、本明細書においては一般に、４００〜７００ｎｍを可視(波長)域、７００〜８００ｎｍをカットオフ(波長)域、８００〜１１００ｎｍを近赤外(波長)域というものとする。
【０００４】
ところで、蒸着膜フィルタを使用する場合、フィルタへの入射角は垂直（０°）とは限らない。フィルタへの入射角が常に０°となるように、フィルタ形状をキセノンランプの形状に合わせて円筒形とすることも考えられるが、曲面に対して蒸着を行なうと膜厚ムラが発生するために設計通りの分光透過特性が得られない場合があり、有用ではない。従って、平面からなる蒸着膜フィルタを用いるのが好ましい。
【０００５】
図１はソーラーシミュレータ用の一般的な光源ユニット６の断面図である（例えば、特許文献１）。図示するように、キセノンランプ２２に対してその上方にフィルタ２６、下方にフィルタ２７が設けられる。フィルタ２６及び２７はフィルタ保持具２６Ｂ及び２７Ｂ並びにそれらに付加される蒸着膜フィルタ（赤外線カットフィルタ）２６Ａ及び２７Ａからなる。照射対象面（不図示）はフィルタ２６の上方に水平に配置される。なお、２１は吸収部材である。このような構成の光源ユニットの場合、キセノンランプ２２から照射対象面の間で光が蒸着膜フィルタ２７Ａを通過する角度（入射角）には一定の幅がある。ここで、この入射角が大きくなると（蒸着膜に対して垂直でなくなると）蒸着膜を通過する光路長が増加し、また屈折率が変わることから、分光透過率が変動して所望の放射が得られなくなることが問題となる。
【０００６】
従来では、上記の問題に対処するために複数回のカットアンドトライ的な試行錯誤を経て蒸着膜を設計していた。具体的には、まず、透過率、スペクトル合致度等に関する当初設計値（入射角０°用）に従って蒸着膜フィルタを作製し、その蒸着膜フィルタについて、複数の入射角に対するスペクトル合致度を取得する。この時点では通常、例えば図３Ａに示すように、入射角が大きい場合のスペクトル合致度は、カットオフ域では低く、近赤外域では高くなり、規格（等級Ａ：各波長域で０.７５〜１.２５）を満たさないものとなる。そこで、カットオフ域でのエネルギー分布（相対的な透過率）を高くするために可視域の透過率を相対的に下げ、さらに可視域の設計値の補正を考慮して近赤外域の設計値を補正していた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００９−２６４９９１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、上記のような補正では、可視域でのフラットで高い透過率を犠牲にする結果となり、それと関連して近赤外域で所望のスペクトル合致度を満たすことの困難性が増す結果となっていた。
具体的には、上述のように、補正により可視域のエネルギー分布（相対的な透過率）を下げたことによって、照射対象への規定の照射量を確保するのに更に多くの電力が必要となっていた。これは省エネの観点から好ましくない。さらに、可視域のエネルギー分布を下げたことによって、近赤外域のエネルギー分布が上がってしまうので、これと逆行して近赤外域でのスペクトル合致度を下げる補正が更に必要となってしまう。すると、再び全体のエネルギー分布が変動するので、再び可視域又はカットオフ域での調整が必要になる。この補正を多数繰り返すことが必要となっていたため、生産性の向上が図れなかった。
【０００９】
そこで、本発明は、可視域でのフラットで高い透過特性を保持しつつも、カットオフ域と近赤外域での所望の透過特性を与える蒸着膜フィルタを、最小限の工程で製造する方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の第１の側面は、光学蒸着膜フィルタの製造方法であって、第１の入射角用のスペクトル合致度設計値に従って１次蒸着膜フィルタを作製する工程、１次蒸着膜フィルタのスペクトル合致度を第２の入射角で測定して１次スペクトル合致度を取得する工程、スペクトル合致度設計値と１次スペクトル合致度の差分に基づいて、可視波長域のスペクトル合致度設計値を維持した状態でカットオフ波長域及び近赤外波長域のスペクトル合致度設計値を補正し、補正されたスペクトル合致度設計値に従って２次蒸着膜フィルタを作製する工程、２次蒸着膜フィルタのスペクトル合致度を第２の入射角で測定して２次スペクトル合致度を取得する工程、可視波長域のスペクトル合致度設計値を維持した状態で、カットオフ波長域及び近赤外波長域について、スペクトル合致度設計値、１次スペクトル合致度及び２次スペクトル合致度の関係に基づいて最終スペクトル合致度設計値を決定する工程、及び最終スペクトル合致度設計値に従って光学蒸着膜フィルタを作製する工程を備える製造方法である。
【００１１】
上記第１の側面において、最終スペクトル合致度設計値を決定する工程が、カットオフ波長域について、スペクトル合致度設計値に対する１次又は２次スペクトル合致度の減衰量を補正するようにカットオフ波長域の最終スペクトル合致度設計値を長波長側にシフトする工程を含む構成とした。
また、最終スペクトル合致度設計値を決定する工程が、近赤外波長域について、１次スペクトル合致度及び２次スペクトル合致度における透過率とスペクトル合致度の線形近似に基づいて最終スペクトル合致度設計値を特定する工程を含む構成とした。
【００１２】
本発明の第２の側面は、光学蒸着膜フィルタの製造方法であって、（Ａ）可視波長域、カットオフ波長域及び近赤外波長域についての第１の入射角用の１次設計値（Ｍ０１、Ｍ０２、Ｍ０３）に従って１次蒸着膜フィルタを作製する工程、（Ｂ）第１の入射角とは異なる第２の入射角における１次蒸着膜フィルタのスペクトル合致度を、可視波長域、カットオフ波長域及び近赤外波長域について測定及び算出して１次スペクトル合致度（Ｍ１１、Ｍ１２、Ｍ１３）を取得する工程、（Ｃ）可視域波長の１次スペクトル合致度（Ｍ１１）を規格化して近赤外域波長の規格化１次スペクトル合致度（Ｍ１３´）を算出する工程、（Ｄ）カットオフ波長域及び近赤外波長域の１次設計値（Ｍ０３）と規格化１次スペクトル合致度（Ｍ１２´、Ｍ１３´）の差分に基づいて、１次設計値のうちのカットオフ波長域及び近赤外波長域の設計値を補正して２次設計値を算出する工程、（Ｅ）２次設計値に従って２次蒸着膜フィルタを作製する工程、（Ｆ）第２の入射角における２次蒸着膜フィルタのスペクトル合致度を、可視波長域、カットオフ波長域及び近赤外波長域について算出して２次スペクトル合致度（Ｍ２１、Ｍ２２、Ｍ２３）を取得する工程、（Ｇ）可視波長域の２次スペクトル合致度（Ｍ２１）を規格化してカットオフ波長域及び近赤外波長域の規格化２次スペクトル合致度（Ｍ２２´、Ｍ２３´）を算出する工程、（Ｈ）カットオフ波長域の１次設計値（Ｍ０２）と規格化１次スペクトル合致度（Ｍ１２´）又は規格化２次スペクトル合致度（Ｍ２２´）の関係に基づいて、カットオフ波長域の最終設計値を決定する工程、（Ｉ）近赤外域波長の１次設計値及び２次設計値における透過率と１次規格化スペクトル合致度（Ｍ１３´）及び２次規格化スペクトル合致度（Ｍ２３´）の線形近似に基づいて、近赤外波長のスペクトル合致度が１となるように近赤外波長域の最終設計値を決定する工程、及び（Ｊ）工程（Ｈ）及び（Ｉ）で決定された最終設計値に基づいて蒸着膜フィルタを作製する工程を備える製造方法である。
【００１３】
上記第１又は第２の側面において、第２の入射角が複数の入射角からなり、１次及び２次スペクトル合致度を複数の入射角における測定値の平均値とすると補正の精度が増すので望ましい。また、第１の入射角をフィルタに対して垂直とすると本製造方法の汎用性が高まる。
なお、上記ステップ（Ｈ）において、最終設計値で規定されるカットオフ波長は２次設計値で規定されるカットオフ波長よりも長波長側にシフトする。
【００１４】
本発明の第３の側面は、ソーラーシミュレータ用光源ユニットであって、キセノンランプ及びキセノンランプを覆うフィルタを備え、フィルタが、上記の製造方法によって製造された光学蒸着膜フィルタを備えたソーラーシミュレータ用光源ユニットである。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】ソーラーシミュレータ用の光源ユニットを示す図である。
【図２】本発明の実施例による光学蒸着膜フィルタの製造方法のフローチャートである。
【図３Ａ】１次蒸着膜フィルタのスペクトル合致度を示す図である。
【図３Ｂ】２次蒸着膜フィルタのスペクトル合致度を示す図である。
【図３Ｃ】最終蒸着膜フィルタのスペクトル合致度を示す図である。
【図４Ａ】１次蒸着膜フィルタの分光透過率を示す図である。
【図４Ｂ】２次蒸着膜フィルタの分光透過率を示す図である。
【図４Ｃ】最終蒸着膜フィルタの分光透過率を示す図である。
【図５】最終蒸着膜フィルタの相対分光分布を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明の光学蒸着膜フィルタ（以下、「蒸着膜フィルタ」という）の製造方法は、入射角による透過特性への影響度を特定し、入射角による影響が少ない可視域での透過特性を固定して、特定された影響度に基づいてカットオフ域及び近赤外域のスペクトル合致度を調整するものである。
【００１７】
図２は本発明の実施例による蒸着膜フィルタの製造方法を示すフローチャートである。以下、本実施例を表１も参照して説明する。
【表１】
【００１８】
まず、工程Ｓ１０２において、可視波長域（４００−５００ｎｍ、５００−６００ｎｍ、６００−７００ｎｍ）、カットオフ波長域（７００−８００ｎｍ）及び近赤外波長域（８００−９００ｎｍ、９００−１１００ｎｍ）についての第１の入射角用の１次設計値に従って１次蒸着膜フィルタを作製する。ここで、１次設計値は各波長域のスペクトル合致度からなるが、透過率又は各波長域間での相対透過率等、直接又は間接にスペクトル合致度を導出できるものであればよい。また、第１の入射角θ１はθ１＝０°（即ち、フィルタに対して垂直入射）であればよい。第１の入射角はこれに限定されないが、一般に当初設計値は入射角０°について設計されるので、θ１＝０°とするのが本製造方法の汎用性の観点から望ましい。
【００１９】
ここで、第１の入射角における１次蒸着膜フィルタのスペクトル合致度の設計値を、可視域、カットオフ域及び近赤外域についてそれぞれ（Ｍ０１、Ｍ０２、Ｍ０３）とする。これは１次設計値そのものであってもよいし、１次蒸着膜フィルタを実際に測定したものであってもよい。具体的には、表１のステップ１に示すように各波長域について基準スペクトル合致度が得られ、表１のステップ２に示すように８００−９００ｎｍと９００−１１００ｎｍの値が平均化される。
【００２０】
工程Ｓ１０４において、第１の入射角とは異なる第２の入射角における１次蒸着膜フィルタのスペクトル合致度を、可視域、カットオフ域及び近赤外域について測定及び算出してそれぞれの１次スペクトル合致度（Ｍ１１、Ｍ１２、Ｍ１３）を取得する。具体的には、表１のステップ３に示すように各波長域の１次スペクトル合致度が測定され、表１のステップ４に示すように可視域及び近赤外域の値が平均化され、Ｍ１１、Ｍ１２及びＭ１３が得られる。
【００２１】
上記第２の入射角は単一の入射角でも複数の入射角でもよいが、複数の入射角を用いた方が補正の精度が向上する。表１では１つの第２の入射角としてθ２１＝２２.５°の場合を示している。
【００２２】
図３Ａに、各入射角における１次蒸着膜フィルタの１次設計値と１次スペクトル合致度の関係を示す。同図は表１のステップ１及び３の各値に対応する。
【００２３】
工程Ｓ１０６において、表１のステップ５に示すように、可視域の１次スペクトル合致度（Ｍ１１）を規格化してカットオフ域及び近赤外域の規格化１次スペクトル合致度（Ｍ１２´、Ｍ１３´）を算出する。
なお、本実施例では、計算量を減らすために平均化→規格化の順序で処理しているが、その逆の順序で処理してもよい。
【００２４】
なお、本実施例では、第２の入射角として、θ２１＝θ２５＝２２.５°、θ２２＝８.５°、θ２３＝４°、θ２４＝１４°の５角度を用いているので、工程Ｓ１０４〜Ｓ１０６を残りの各入射角（θ２２〜θ２５）に対して行ない、平均規格化１次スペクトル合致度（Ｍav１２´、Ｍav１３´）を算出する。もちろん、第２の入射角を１つの角度のみで行なう場合は、（Ｍ１２´、Ｍ１３´）＝（Ｍav１２´、Ｍav１３´）である。
【００２５】
工程Ｓ１０８において、カットオフ域及び近赤外域の１次設計値（Ｍ０２、Ｍ０３）と平均規格化１次スペクトル合致度（Ｍav１２´、Ｍav１３´）のそれぞれの差分に基づいて、１次設計値のうちのカットオフ域及び近赤外域の部分を補正して２次設計値を算出する。具体的には、表１のステップ６に示すように、Ｍ０２とＭ１２´の関係を考慮してカットオフ波長を長波長側にシフトし、Ｍ０３とＭ１３´の比を考慮して近赤外域におけるスペクトル合致度（透過率）を下げる補正を行なう。なお、この際の補正は厳密なものでなくてもよい。
【００２６】
工程Ｓ１１０において、上記２次設計値に従って２次光学蒸着膜フィルタを作製する。図３Ｂに各入射角における２次蒸着膜フィルタの２次設計値と２次スペクトル合致度の関係を示す。
【００２７】
工程Ｓ１１２において、工程Ｓ１０４と同様に、第２の入射角における２次蒸着膜フィルタのスペクトル合致度を、可視域、カットオフ域及び近赤外域について測定及び算出してそれぞれの２次スペクトル合致度（Ｍ２１、Ｍ２２、Ｍ２３）を取得する。
【００２８】
工程Ｓ１１４において、工程Ｓ１０４と同様に、可視域における２次スペクトル合致度（Ｍ２１）を規格化してカットオフ域及び近赤外域における規格化２次スペクトル合致度（Ｍ２２´、Ｍ２３´）を算出する。
【００２９】
前述したように、本実施例では第２の入射角として、θ２１＝θ２５＝２２.５°、θ２２＝８.５°、θ２３＝４°、θ２４＝１４°の５角度を用いているので、工程Ｓ１１２〜Ｓ１１４を残りの各入射角（θ２２〜θ２５）に対して行ない、平均規格化２次スペクトル合致度（Ｍav２２´、Ｍav２３´）を算出する。もちろん、第２の入射角を１つの角度のみで行なう場合は、（Ｍ２２´、Ｍ２３´）＝（Ｍav２２´、Ｍav２３´）である。表２に、本実施例における入射角（θ２１〜θ２５）についての平均規格化２次スペクトル合致度（Ｍav２２´、Ｍav２３´）を示す。
【表２】
【００３０】
工程Ｓ１１６において、カットオフ域の１次設計値（Ｍ０２）、平均規格化１次スペクトル合致度（Ｍ１２´）及び平均規格化２次スペクトル合致度（Ｍ２２´）の関係に基づいて、カットオフ域の最終設計値を決定する。具体的には、２次蒸着膜フィルタの平均規格化２次スペクトル合致度（Ｍav２２´＝０.７２）が１次設計値の１.０６に対して約３２％減衰しているので、Ｍav２２´が約３２％上昇するようにカットオフ波長を長波長側にずらす補正を行なう。本実施例の場合、図４Ａ及び４Ｂから１次蒸着膜フィルタで約２５ｎｍ、２次蒸着膜フィルタで約３０ｎｍが補正すべきシフト量に相当する。即ち、カットオフ波長を２次蒸着膜フィルタから３０ｎｍ長波長側に補正する。
【００３１】
工程Ｓ１１８において、近赤外域における平均規格化１次スペクトル合致度（Ｍav１３´）と平均規格化２次スペクトル合致度（Ｍav２３´）の線形近似に基づいて、近赤外域のスペクトル合致度が１となるように近赤外域の最終設計値を決定する。具体的には、スペクトル合致度は透過率の１次関数となることが分かっているので、表３に示す近赤外域（８００−１１００ｎｍ）の平均透過率設計値（ｘ）、及び近赤外域の全入射角（θ２１〜θ２５）についての平均規格化２次スペクトル合致度（ｙ）から、
ｙ＝０.０６５ｘ＋０.２５１
となることが導かれる。
【表３】
ここで、スペクトル合致度についてｙ＝１の場合、ｘ＝１１.６（％）となるので、近赤外域での平均透過率が１１.６％となるように最終設計値を決定する。
【００３２】
工程Ｓ１２０において、上記最終設計値に基づいて蒸着膜フィルタを作製する。図３Ｃに最終設計値に基づいて作製された最終の蒸着膜フィルタのスペクトル合致度を示す。図示するように、各波長域において規格（等級Ａ：各波長域で０.７５〜１.２５）を満たしている。
【００３３】
図４Ａ、４Ｂ及び４Ｃに、１次蒸着膜フィルタ、２次蒸着膜フィルタ及び最終蒸着膜フィルタの分光透過率（全入射角の平均）をそれぞれ示す。図４Ｃの最終の蒸着膜フィルタの可視域はフラットで高い透過率を有し、カットオフ周波数は図４Ａ又は４Ｂに示す１次又は２次蒸着膜フィルタのカットオフ周波数よりも長波長側にシフトしている。なお、図５に参照として、最終蒸着膜フィルタの透過光の相対発光強度を示す。
【００３４】
上記製造方法によって製造された蒸着膜フィルタは図１の蒸着膜フィルタ（赤外線カットフィルタ）２６Ａ又は２７Ａとして実施できる。即ち、キセノンランプ２２及びキセノンランプ２２を覆うフィルタ２６及び２７を備え、フィルタ２６及び２７において、上記の製造方法によって製造された蒸着膜フィルタ２６Ａ又は２７Ａがフィルタ保持具２６Ｂ又は２７Ｂに付加されたソーラーシミュレータ用光源ユニットを構成することができる。
【００３５】
上述したように、本発明の製造方法は、可視域の透過率をカットオフ域の透過率に対して大きく下げるような工程を有していないので、最終設計値による最終光学蒸着膜フィルタの可視域における透過率は、１次光学蒸着膜フィルタと同様にフラットで、かつ高いレベルにあることが分かる。また、上記製造方法は複数の入射角が発生し得る光源ユニットに適用できるので、図１に示す光源ユニットだけでなく、様々なフィルタ構成を有する光源に適用できる。
【００３６】
また、本製造方法ではわずか２回の設計値補正で所望の透過特性を得ることができた。即ち、可視域でのフラットで高い透過特性を保持しつつも、カットオフ域と近赤外域での所望の透過特性を与える蒸着膜フィルタを、最小限の工程で製造することが可能となった。
【００３７】
以上に本発明の最も好適な実施例を示したが、以下のように変形することもできる。
（１）実施例では、第１の入射角０°での特性を基準として第２の入射角での特性を調整する構成を示したが、他の（０°でない）入射角を第１の入射角として、第２の入射角（０°を含んでいてもいなくてもよい）での特性を調整する構成としてもよい。
（２）実施例では、（０°を含めて）６個の入射角を用いて設計値の決定を行なったが、少なくとも２個の入射角を用いれば本発明の製造方法を実現できる。
（３）上記実施例では、工程Ｓ１１６及びＳ１１８双方を適用するものを示したが、カットオフ域の補正だけが目的であれば工程Ｓ１１８は省略してもよく、逆に近赤外域の補正だけが目的であれば工程Ｓ１１６を省略できる。
【符号の説明】
【００３８】
６．光源ユニット
２２．キセノンランプ
２６、２７．フィルタ
２６Ａ、２７Ａ．蒸着膜フィルタ（赤外線カットフィルタ）
２６Ｂ、２７Ｂ．フィルタ保持具
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学蒸着膜フィルタの製造方法であって、
第１の入射角用のスペクトル合致度設計値に従って１次蒸着膜フィルタを作製する工程、
前記１次蒸着膜フィルタのスペクトル合致度を第２の入射角で測定して１次スペクトル合致度を取得する工程、
前記スペクトル合致度設計値と前記１次スペクトル合致度の差分に基づいて、可視波長域のスペクトル合致度設計値を維持した状態で前記カットオフ波長域及び近赤外波長域のスペクトル合致度設計値を補正し、補正されたスペクトル合致度設計値に従って２次蒸着膜フィルタを作製する工程、
前記２次蒸着膜フィルタのスペクトル合致度を前記第２の入射角で測定して２次スペクトル合致度を取得する工程、
可視波長域のスペクトル合致度設計値を維持した状態で、前記カットオフ波長域及び近赤外波長域について、スペクトル合致度設計値、前記１次スペクトル合致度及び前記２次スペクトル合致度の関係に基づいて最終スペクトル合致度設計値を決定する工程、及び
前記最終スペクトル合致度設計値に従って光学蒸着膜フィルタを作製する工程
を備える製造方法。
【請求項２】
請求項１の製造方法であって、前記最終スペクトル合致度設計値を決定する工程が、
前記カットオフ波長域について、前記スペクトル合致度設計値に対する前記１次又は２次スペクトル合致度の減衰量を補正するように前記カットオフ波長域の最終スペクトル合致度設計値を長波長側にシフトする工程を含む製造方法。
【請求項３】
請求項１の製造方法であって、前記最終スペクトル合致度設計値を決定する工程が、
前記近赤外波長域について、前記１次スペクトル合致度及び２次スペクトル合致度における透過率とスペクトル合致度の線形近似に基づいて最終スペクトル合致度設計値を特定する工程を含む製造方法。
【請求項４】
光学蒸着膜フィルタの製造方法であって、
（Ａ）可視波長域、カットオフ波長域及び近赤外波長域についての第１の入射角用の１次設計値（Ｍ０１、Ｍ０２、Ｍ０３）に従って１次蒸着膜フィルタを作製する工程、
（Ｂ）前記第１の入射角とは異なる第２の入射角における前記１次蒸着膜フィルタのスペクトル合致度を、前記可視波長域、カットオフ波長域及び近赤外波長域について測定及び算出して１次スペクトル合致度（Ｍ１１、Ｍ１２、Ｍ１３）を取得する工程、
（Ｃ）前記可視域波長における前記１次スペクトル合致度（Ｍ１１）を規格化して前記近赤外域波長の規格化１次スペクトル合致度（Ｍ１３´）を算出する工程、
（Ｄ）前記カットオフ波長域及び近赤外波長域の前記１次設計値（Ｍ０３）と前記規格化１次スペクトル合致度（Ｍ１２´、Ｍ１３´）の差分に基づいて、前記１次設計値のうちの該カットオフ波長域及び近赤外波長域の設計値を補正して２次設計値を算出する工程、
（Ｅ）前記２次設計値に従って２次蒸着膜フィルタを作製する工程、
（Ｆ）前記第２の入射角における前記２次蒸着膜フィルタのスペクトル合致度を、前記可視波長域、カットオフ波長域及び近赤外波長域について算出して２次スペクトル合致度（Ｍ２１、Ｍ２２、Ｍ２３）を取得する工程、
（Ｇ）前記可視波長域の前記２次スペクトル合致度（Ｍ２１）を規格化して前記カットオフ波長域及び近赤外波長域の規格化２次スペクトル合致度（Ｍ２２´、Ｍ２３´）を算出する工程、
（Ｈ）前記カットオフ波長域の前記１次設計値（Ｍ０２）と前記規格化１次スペクトル合致度（Ｍ１２´）又は前記規格化２次スペクトル合致度（Ｍ２２´）の関係に基づいて、前記カットオフ波長域の最終設計値を決定する工程、
（Ｉ）前記近赤外域波長の前記１次設計値及び前記２次設計値における透過率と前記１次規格化スペクトル合致度（Ｍ１３´）及び前記２次規格化スペクトル合致度（Ｍ２３´）の線形近似に基づいて、前記近赤外波長のスペクトル合致度が１となるように前記近赤外波長域の最終設計値を決定する工程、及び
（Ｊ）前記工程（Ｈ）及び（Ｉ）で決定された最終設計値に基づいて蒸着膜フィルタを作製する工程
を備える製造方法。
【請求項５】
ソーラーシミュレータ用光源ユニットであって、
キセノンランプ及び該キセノンランプを覆うフィルタを備え、
前記フィルタが、請求項１又は４記載の製造方法によって製造された光学蒸着膜フィルタを備えたソーラーシミュレータ用光源ユニット。
【請求項１】
光学蒸着膜フィルタの製造方法であって、
第１の入射角用のスペクトル合致度設計値に従って１次蒸着膜フィルタを作製する工程、
前記１次蒸着膜フィルタのスペクトル合致度を第２の入射角で測定して１次スペクトル合致度を取得する工程、
前記スペクトル合致度設計値と前記１次スペクトル合致度の差分に基づいて、可視波長域のスペクトル合致度設計値を維持した状態で前記カットオフ波長域及び近赤外波長域のスペクトル合致度設計値を補正し、補正されたスペクトル合致度設計値に従って２次蒸着膜フィルタを作製する工程、
前記２次蒸着膜フィルタのスペクトル合致度を前記第２の入射角で測定して２次スペクトル合致度を取得する工程、
可視波長域のスペクトル合致度設計値を維持した状態で、前記カットオフ波長域及び近赤外波長域について、スペクトル合致度設計値、前記１次スペクトル合致度及び前記２次スペクトル合致度の関係に基づいて最終スペクトル合致度設計値を決定する工程、及び
前記最終スペクトル合致度設計値に従って光学蒸着膜フィルタを作製する工程
を備える製造方法。
【請求項２】
請求項１の製造方法であって、前記最終スペクトル合致度設計値を決定する工程が、
前記カットオフ波長域について、前記スペクトル合致度設計値に対する前記１次又は２次スペクトル合致度の減衰量を補正するように前記カットオフ波長域の最終スペクトル合致度設計値を長波長側にシフトする工程を含む製造方法。
【請求項３】
請求項１の製造方法であって、前記最終スペクトル合致度設計値を決定する工程が、
前記近赤外波長域について、前記１次スペクトル合致度及び２次スペクトル合致度における透過率とスペクトル合致度の線形近似に基づいて最終スペクトル合致度設計値を特定する工程を含む製造方法。
【請求項４】
光学蒸着膜フィルタの製造方法であって、
（Ａ）可視波長域、カットオフ波長域及び近赤外波長域についての第１の入射角用の１次設計値（Ｍ０１、Ｍ０２、Ｍ０３）に従って１次蒸着膜フィルタを作製する工程、
（Ｂ）前記第１の入射角とは異なる第２の入射角における前記１次蒸着膜フィルタのスペクトル合致度を、前記可視波長域、カットオフ波長域及び近赤外波長域について測定及び算出して１次スペクトル合致度（Ｍ１１、Ｍ１２、Ｍ１３）を取得する工程、
（Ｃ）前記可視域波長における前記１次スペクトル合致度（Ｍ１１）を規格化して前記近赤外域波長の規格化１次スペクトル合致度（Ｍ１３´）を算出する工程、
（Ｄ）前記カットオフ波長域及び近赤外波長域の前記１次設計値（Ｍ０３）と前記規格化１次スペクトル合致度（Ｍ１２´、Ｍ１３´）の差分に基づいて、前記１次設計値のうちの該カットオフ波長域及び近赤外波長域の設計値を補正して２次設計値を算出する工程、
（Ｅ）前記２次設計値に従って２次蒸着膜フィルタを作製する工程、
（Ｆ）前記第２の入射角における前記２次蒸着膜フィルタのスペクトル合致度を、前記可視波長域、カットオフ波長域及び近赤外波長域について算出して２次スペクトル合致度（Ｍ２１、Ｍ２２、Ｍ２３）を取得する工程、
（Ｇ）前記可視波長域の前記２次スペクトル合致度（Ｍ２１）を規格化して前記カットオフ波長域及び近赤外波長域の規格化２次スペクトル合致度（Ｍ２２´、Ｍ２３´）を算出する工程、
（Ｈ）前記カットオフ波長域の前記１次設計値（Ｍ０２）と前記規格化１次スペクトル合致度（Ｍ１２´）又は前記規格化２次スペクトル合致度（Ｍ２２´）の関係に基づいて、前記カットオフ波長域の最終設計値を決定する工程、
（Ｉ）前記近赤外域波長の前記１次設計値及び前記２次設計値における透過率と前記１次規格化スペクトル合致度（Ｍ１３´）及び前記２次規格化スペクトル合致度（Ｍ２３´）の線形近似に基づいて、前記近赤外波長のスペクトル合致度が１となるように前記近赤外波長域の最終設計値を決定する工程、及び
（Ｊ）前記工程（Ｈ）及び（Ｉ）で決定された最終設計値に基づいて蒸着膜フィルタを作製する工程
を備える製造方法。
【請求項５】
ソーラーシミュレータ用光源ユニットであって、
キセノンランプ及び該キセノンランプを覆うフィルタを備え、
前記フィルタが、請求項１又は４記載の製造方法によって製造された光学蒸着膜フィルタを備えたソーラーシミュレータ用光源ユニット。
【図１】
【図２】
【図３Ａ】
【図３Ｂ】
【図３Ｃ】
【図４Ａ】
【図４Ｂ】
【図４Ｃ】
【図５】
【図２】
【図３Ａ】
【図３Ｂ】
【図３Ｃ】
【図４Ａ】
【図４Ｂ】
【図４Ｃ】
【図５】
【公開番号】特開２０１１−１８６３２０（Ｐ２０１１−１８６３２０Ａ）
【公開日】平成２３年９月２２日（２０１１．９．２２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−５３３２９（Ｐ２０１０−５３３２９）
【出願日】平成２２年３月１０日（２０１０．３．１０）
【出願人】（００００００１９２）岩崎電気株式会社 (533)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年９月２２日（２０１１．９．２２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年３月１０日（２０１０．３．１０）
【出願人】（００００００１９２）岩崎電気株式会社 (533)
【Ｆターム（参考）】
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