光干渉縞緩和性に優れた湾曲面を有する光透過型電磁波シールド材料
【課題】偏光板または位相差板を有するディスプレイ若しくは車載パネル用の湾曲面を有する光透過型電磁波シールド材料において、偏光特性を有するサングラス、ゴーグル、防眩用パネル若しくは防眩用窓材を介しても強い光干渉縞が発生せず、視認性が良好な光透過型電磁波シールド材料を提供する。
【解決手段】リタデーション値が一定値以上の高延伸光透過型有機高分子材料を電磁波シールド層のベース基材として用いることにより、光干渉縞緩和性に優れた湾曲面を有する光透過型電磁波シールド材料を得ることが出来る。
【解決手段】リタデーション値が一定値以上の高延伸光透過型有機高分子材料を電磁波シールド層のベース基材として用いることにより、光干渉縞緩和性に優れた湾曲面を有する光透過型電磁波シールド材料を得ることが出来る。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光干渉縞緩和性に優れた湾曲面を有する光透過型電磁波シールド材料に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、パソコンや携帯電話、液晶やプラズマに代表されるフラットパネルディスプレイ、タッチパネル、カーナビゲーション、携帯情報端末、携帯型ゲーム機などの電子機器から発生する電磁波により、機械や電子機器の誤動作や通信障害を引き起こし大きな問題となっている。さらに、電磁波は人体に対しても悪影響を及ぼす可能性が指摘されており、いわゆる電磁波障害（以下、ＥＭＩという）を防止するため、各種電磁波シールド材による対策を講じている。
【０００３】
光透過型電磁波シールド材料のベース基材として、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂などの透明樹脂シートが用いられている。これらの樹脂をベース基材とした電磁波シールド材料を偏光板または位相差板を含む電子機器ディスプレイに使用した場合、偏光特性を有するサングラス、ゴーグル、防眩用パネル若しくは防眩用窓材を介してディスプレイを見ると、ベース基材の複屈折特性すなわちリタデーション値が影響して強い光干渉縞が発生し、視認性が著しく低下するという問題がある。
【０００４】
光透過型電磁波シールド材料のベース基材として、特許文献１ではリタデーション値が２００ｎｍ以下のポリカーボネート樹脂が使用されており、平面における光干渉縞防止性に優れているが、プレス加工などによる湾曲面を有する電磁波シールド材に加工した場合には、湾曲部のリタデーション値が増加するため、強い光干渉縞が発生し、視認性が著しく低下するという問題がある。
【０００５】
光透過型電磁波シールド材料のベース基材として、特許文献２〜５ではポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂などの各種の透明樹脂シートが示されているが、いずれも基材のリタデーション値は記載されておらず、リタデーション値２０００ｎｍ未満のベース機材を使用した湾曲面を有する光透過型電磁波シールド材料を偏光板または位相差板を含む電子機器ディスプレイに使用した場合、偏光特性を有するサングラス、ゴーグル、防眩用パネル若しくは防眩用窓材を介してディスプレイを見ると、強い光干渉縞が発生し、視認性が著しく低下するという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−１７４４９０号公報
【特許文献２】特開２００６−１５７０４０号公報
【特許文献３】特開２００６−３１９２５１号公報
【特許文献４】特開平１０−３３５８８４号公報
【特許文献５】特開平１０−４１６８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、かかる従来技術の問題点を鑑み、偏光特性を有するサングラス、ゴーグル、防眩用パネル若しくは防眩用窓材を介しても湾曲面において強い光干渉縞が発生せず、視認性の良好な光透過型電磁波シールド材料を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討の結果、電磁波シールド層のベース基材の特性すなわちそのリタデーション値が光干渉縞の発生に密接な関係を有していることを見出し、リタデーション値が一定値以上の高延伸光透過型有機高分子材料を電磁波シールド層のベース基材として用いることにより、湾曲面での光干渉縞緩和性に優れた光透過型電磁波シールド材料を得られることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、高延伸光透過型有機高分子材料を電磁波シールド層のベース基材に用いることを特徴とする湾曲面を有する光干渉縞緩和性に優れた光透過型電磁波シールド材料に関するものである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の湾曲面を有する光透過型電磁波シールド材料は、偏光特性を有するサングラス等を介しても湾曲面に強い光干渉縞が発生せず、良好な視認性を有するため、車中で利用可能なカーナビゲーション、携帯電話、携帯情報端末、携帯型ゲーム機、さらに屋外で利用される広告用液晶またはプラズマディスプレイ、自動販売機や券売機のディスプレイなど、優れたデザイン性、電磁波シールド性能、透明性および視認性を同時に必要とする広範囲の電磁波シールド分野に使用される。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の光透過型電磁波シールド材料は、電磁波シールド層を有しており、電磁波シールド層が高延伸光透過型高分子材料と導電性化合物または高延伸光透過型高分子材料と接着剤および導電性化合物から構成されている。
【００１１】
本発明のベース基材として用いる光透過型有機高分子材料は、強い光干渉縞の発生を緩和するため、リタデーション値が一定値以上の高延伸光透過型有機高分子材料を使用する。強い光干渉縞発生と視認性低下を緩和する観点から、高延伸光透過型有機高分子材料のリタデーション値は２０００ｎｍ以上であることが好ましい。より好ましくはリタデーション値が３０００ｎｍ以上であり、更に好ましくはリタデーション値が５０００ｎｍ以上であることが好ましい。
リタデーション値の上限はなく、一般的には２００００ｎｍ以下である。２０００ｎｍよりも低いリタデーション値のベース基材を用いると湾曲面においてリタデーション値が増加するため強い光干渉縞が発生し、その値が５００〜１５００ｎｍの範囲において着色が最大となり、光干渉縞の発生が著しく顕著になる。
【００１２】
高延伸光透過型有機高分子材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂、光透過型ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリプロピレン樹脂またはポリエチレン樹脂などが挙げられる。
【００１３】
これらの高延伸光透過型有機高分子材料の中で、透明性や耐衝撃性および汎用性の観点から、特にポリカーボネート樹脂が好ましい。
本発明における前記リタデーション値を有するポリカーボネートベース基材は例えば下記の方法によって製造することが出来る。すなわち、ポリカーボネートフィルムまたはシートは通常の押し出し法あるいはキャスティング法によってシート化し、ガラス転移温度より若干高い温度（例えば１４０〜１８０℃位）に加熱しながら、実質的に一方向に延伸することにより製造することが出来る。この場合シートの厚みと延伸倍率が実質的にリタデーション値を決定する。
延伸倍率は例えばポリカーボネートシートの延伸前の厚みが１ｍｍ以上の場合には１．１〜２．０倍、シートの厚みが０．４〜１．０ｍｍの場合で１．２〜３．０倍、フィルムの厚みが２００μｍ以下の場合には３〜５倍が一般的に採用される。
【００１４】
本発明で採用されるベース基材のフィルムおよびシートの厚みについては特に制限はないが、操作性の観点から２５μｍ〜５ｍｍ、好ましくは５０μｍ〜３ｍｍが適当である。尚、本発明で使用されるポリカーボネートフィルムまたはシートは通常のポリカーボネート樹脂から製造されたもののほか、ポリカーボネート系共重合体樹脂から製造されたものなどが使用できる。また、本発明で使用されるポリカーボネートフィルムおよびシートは表面にハードコート処理、帯電防止コート処理、防曇コート処理、紫外線防止コート処理、熱線遮断コート処理、反射防止コート処理などの各種表面コート処理を施したものを含む。
【００１５】
電磁波シールド層の電磁波シールド性能は、３０デシベル以上の性能を有するものが好ましい。シールド性能が３０デシベル以下では、電子機器から発生する電磁波の流出を完全に防ぐことが出来ず、他の機械や電子機器の誤動作や通信障害を生じる可能性があるばかりでなく、電子機器の外部から侵入する電磁波を防ぐことが出来ず、電子機器にダメージを与える可能性がある。
前記の電磁波シールド性能を達成するためには、電磁波シールド層の表面抵抗率（シート抵抗値）は１０[Ω／□]以下であることが好ましい。より好ましくは１[Ω／□]以下であり、更に好ましくは０．１[Ω／□]以下であることが好ましい。
【００１６】
電磁波シールド層を構成する導電性化合物は、導電性があれば特に制限は無いが、鉄、金、銀、銅、アルミ、ニッケル、カーボン、ＩＴＯ(酸化インジウム／酸化錫)、ＺｎＯ（酸化亜鉛）、錫、亜鉛、チタン、タングステン、ステンレスから選ばれた少なくとも１つ以上の金属成分を含有する金属化合物を用いることが出来る。経済的な観点から、銀、銅、アルミ、ニッケル、カーボン、ＺｎＯ（酸化亜鉛）、錫またはステンレスから選ばれた少なくとも１つ以上の金属成分を含有する導電性化合物を用いることが好ましい。
【００１７】
電磁波シールド層は、導電性化合物を用いた金属薄膜メッシュまたは導電性印刷メッシュである。金属薄膜メッシュの製法は特に制限はないが、例えば、光透過型有機高分子材料のフィルムまたはシート表面に銅、銀、アルミ、ＩＴＯ(酸化インジウム／酸化錫) 、ＺｎＯ（酸化亜鉛）などの金属薄膜を蒸着やスパッタリングにより形成したもの、あるいはこれらの金属箔を接着剤により貼り合せた後、エッチングなどの手段でメッシュを形成する方法、メッキ触媒含有インキやペーストをグラビア印刷、インクジェット印刷、スクリーン印刷などにより塗布後、無電解メッキや電気メッキを施してメッシュを形成する方法、銅、銀、アルミなどの金属板を圧延加工して所定の厚さにした金属箔をパンチング加工してメッシュを形成する方法などが挙げられる。これらの金属薄膜メッシュは、耐水性、耐湿性、耐腐食性、防錆性、反射防止性の観点から、片面または両面に黒化処理を施しておくことが好ましい。金属薄膜メッシュは電磁波シールド性能および透明性の観点から、ライン幅５〜２００μｍ、厚さ０．０１〜１００μｍ、ピッチ１００〜１０００μｍの範囲が好ましい。
【００１８】
金属薄膜メッシュを形成する金属箔用接着剤としては、特に制限は無く、透明性、耐水性、耐湿性、接着力の良好な公知の接着剤や粘着剤を使用することが出来る。
接着剤としては、公知の光硬化型接着剤、熱硬化型接着剤、ホットメルト型接着剤などが挙げられる。
【００１９】
粘着剤としては、例えば、公知のアクリル系樹脂組成物、ポリウレタン系樹脂組成物、ポリエステル系樹脂組成物、エポキシ系樹脂組成物、シリコーン系樹脂組成物、ゴム系樹脂組成物などの粘着剤を用いることが出来る。これらの中で、透明性、耐水性、耐湿性および接着力の良好なアクリル系樹脂組成物の粘着剤が最も好ましい。
【００２０】
ホットメルト型接着剤としては、例えば、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体樹脂組成物、エチレン−（メタ）アクリル酸エステル共重合体樹脂組成物などのポリオレフィン系樹脂組成物、ポリスチレン系樹脂組成物、エチレン酢酸ビニル系樹脂組成物、酢酸ビニル系樹脂組成物、アクリル系樹脂組成物、ポリウレタン系樹脂組成物、ポリエステル系樹脂組成物、エポキシ系樹脂組成物、ポリエステル系樹脂組成物、ポリアミド系樹脂組成物、ポリビニールエーテル系樹脂組成物、シリコーン系樹脂組成物、ゴム系樹脂組成物などが挙げられる。これらの中で、透明性、耐水性、耐湿性および接着力の良好なアクリル系樹脂組成物のホットメルト型接着剤が最も好ましい。
【００２１】
熱硬化型接着剤としては、熱により重合するものであれば特に制限は無く、例えば、グリシジル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、水酸基、カルボキシル基、イソシアヌレート基、アミノ基、アミド基等の官能基を持つ化合物が挙げられ、これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせても、使用することができる。例えば、エポキシ系樹脂組成物、アクリル系樹脂組成物、シリコーン系樹脂組成物、フェノール系樹脂組成物、熱硬化型ポリイミド系樹脂組成物、ポリウレタン系樹脂組成物、ポリエステル系樹脂組成物、メラミン系樹脂組成物、ユリア系樹脂組成物などが挙げられる。接着力および透明性の観点からエポキシアクリレート系樹脂組成物、ウレタンアクリレート系樹脂組成物、ポリエーテルアクリレート系樹脂組成物、ポリエステルアクリレート系樹脂組成物などのアクリル系樹脂組成物が好ましい。これらの熱硬化型接着剤は必要に応じて、２種以上併用することができる。また熱硬化型接着剤組成物には硬化剤を併用することが好ましい。硬化剤としては公知の硬化剤を使用することができ、イソシアネート系硬化剤、トリエチレンテトラミン、キシレンジアミン、Ｎ − アミノテトラミン、ジアミノジフェニルメタンなどのアミン類、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水ドデシルコハク酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸などの酸無水物、ジアミノジフェニルスルホン、トリス（ ジメチルアミノメチル） フェノール、ポリアミド樹脂、ジシアンジアミド、エチルメチルイミダゾールなどを使用することができる。これらの硬化剤は単独で用いても良いし、２種以上混合して用いても良い。
【００２２】
光硬化型接着剤としては、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート系接着剤組成物、ポリエステル（メタ）アクリレート系接着剤組成物、エポキシ（メタ）アクリレート系接着剤組成物およびポリオール（メタ）アクリレート系接着剤組成物から選ばれた少なくともいずれか１種類以上の(メタ)アクリレート系接着剤組成であることが好ましく、この中でも耐水性、耐湿性、耐侯性、透明性および接着力の観点からウレタン（メタ）アクリレート系接着剤組成物が特に好ましい。
活性エネルギー線の照射による硬化性を有する光硬化型（メタ）アクリレート系接着剤組成物は、硬化時間、安全性の面から特に好ましく、活性エネルギー線としては可視光線または紫外線が好ましい。
【００２３】
導電性印刷メッシュの製法に制限はないが、例えば、銅、銀、アルミ、ニッケルなどの金属粒子化合物やカーボンなどをエポキシ系、ウレタン系、アクリル系、ＥＶＡ系などの樹脂バインダーに混合したインキまたはペーストを用いて、スクリーン印刷、グラビア印刷、オフセット印刷などの方法により光透過型有機高分子材料のフィルムまたはシート表面にメッシュを形成する方法が挙げられる。導電性印刷メッシュは電磁波シールド性能および透明性の観点から、ライン幅１０〜２００μｍ、厚さ１〜１００μｍ、ピッチ１００〜１０００μｍの範囲が好ましい。
【００２４】
本発明の光透過型電磁波シールド材料は、耐衝撃性、耐擦傷性、耐侯性、耐水性、防湿性、防曇性、反射防止性、防汚染性などの観点から、電磁波シールド層の片側または両側に保護層を配置することが好ましい。保護層は、視認可能で光を通す材料であれば、光透過性ガラスまたは高延伸光透過型有機高分子材料からなるフィルムやシート材料でも構わないし、各種機能性を有する被膜でも構わない。
【００２５】
前記の保護層に用いる高延伸光透過型有機高分子材料には、各種金属化合物、導電性化合物、有機性化合物、無機性化合物など接着、蒸着、塗布、印刷、加工した材料を包含する。高延伸光透過型有機高分子材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂、光透過型ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン樹脂などが挙げられ、そのリタデーション値は２０００ｎｍ以上であることが好ましい。
これらの高延伸光透過型有機高分子材料の中で、透明性や耐衝撃性および汎用性の観点から、特にポリカーボネート樹脂が好ましい。
【００２６】
前記の被膜としては、特に制限は無いが、長期間の耐久性に優れ、かつ表面硬度が比較的高いシリコーン樹脂系化合物、または処理が比較的簡便でかつ良好な被膜が形成されるアクリル樹脂または多官能アクリル樹脂が好ましい。これら被膜の硬化方法は使用する樹脂化合物の性質によるが、生産性や簡便性を考慮した場合、熱硬化型または光硬化型樹脂を選択することが好ましい。光硬化型樹脂の一例としては、１官能あるいは多官能のアクリレートモノマーあるいはオリゴマーなどの単独あるいは複数からなる樹脂組成物に硬化触媒として光重合開始剤が加えられた樹脂組成物が挙げられる。熱硬化型樹脂としてはポリオルガノシロキサン系、架橋型アクリル系などのものが挙げられる。この様な樹脂組成物は、ハードコート剤として市販されており、被膜ラインとの適正を加味し、適宜選択すれば良い。
これらの被膜には紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤のほか、必要に応じて、有機溶剤、着色防止剤などの各種安定剤やレベリング剤、消泡剤、増粘剤、帯電防止剤、防曇剤などの界面活性剤等を適宜添加してもよい。
【００２７】
本発明の光透過型電磁波シールド材料は、そのシールド性能を十分に発揮させる目的や電磁波の漏洩を防止するために、適宜アースを設置することが好ましい。アースの設置方法としては、特に制限は無いが、例えば、銅、銀、アルミ、ニッケルなどの金属粒子化合物やカーボンなどをエポキシ系、ウレタン系、アクリル系、ＥＶＡ系などの樹脂バインダーに混合した導電性ペーストを光透過型電磁波シールド材料の端面外周に塗布する方法や光透過型電磁波シールド材料の端面外周を導電性テープで被覆する方法、これらを併用する方法などが挙げられる。端面外周の７０％以上に導電性ペーストまたはテープで被覆することが好ましい。
【００２８】
本発明の光透過型電磁波シールド材料は、積層する光透過型有機高分子材料自体の加水分解や酸化による老化防止、紫外線による劣化防止、太陽光や風雨に曝される厳しい条件下での耐熱性、耐侯性などを向上する目的で、電磁波シールド層、保護層および接着剤層等に紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤を含有させることが好ましい。コストの面から光透過型電磁波シールド積層体の片面または両面に紫外線吸収剤、光安定剤および酸化防止剤の内、少なくとも１種類以上を含有してなる皮膜を形成させことが好ましい。
【００２９】
前記の被膜としては、長期間の耐久性に優れ、かつ表面硬度が比較的高いシリコーン樹脂系化合物、または処理が比較的簡便でかつ良好な被膜が形成されるアクリル樹脂または多官能アクリル樹脂が好ましい。これら被膜の硬化方法は、使用する樹脂化合物の性質によるが、生産性や簡便性を考慮した場合、熱硬化型または光硬化型樹脂を選択することが好ましい。光硬化型樹脂の一例としては、１官能あるいは多官能のアクリレートモノマーあるいはオリゴマーなどの単独あるいは複数からなる樹脂組成物に硬化触媒として光重合開始剤が加えられた樹脂組成物が挙げられる。熱硬化型樹脂としてはポリオルガノシロキサン系、架橋型アクリル系などのものが挙げられる。この様な樹脂組成物は、ハードコート剤として市販されており、被膜ラインとの適正を加味し、適宜選択すれば良い。
これらの被膜には前述した紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤のほか、必要に応じて、有機溶剤、着色防止剤などの各種安定剤やレベリング剤、消泡剤、増粘剤、帯電防止剤、防曇剤などの界面活性剤等を適宜添加してもよい。
【００３０】
また前記の被膜は、光透過型電磁波シールド積層体の基材との密着性を向上させるために、基材とアクリル樹脂を共押出しにより積層したアクリル樹脂層上に被膜を形成することもできる。
【００３１】
光硬化型アクリル系樹脂化合物からなる被膜の一例としては、１,９−ノナンジオールジアクリレートまたはトリス（アクロキシエチル）イソシアヌレート２０〜８０重量％と共重合可能な他の化合物２０〜８０重量％とからなる光重合性化合物に対し、光重合開始剤を１〜１０重量％を添加することを特徴とする紫外線硬化型樹脂被膜用組成物が挙げられる。
【００３２】
本発明において、光透過型電磁波シールド材料に被膜を塗布する方法は、刷毛、ロール、ディッピング、流し塗り、スプレー、ロールコーター、フローコーターなどが適用できる。熱硬化あるいは光硬化によって硬化した被膜層の厚さは１〜２０μｍ、好ましくは２〜１５μｍ、さらに好ましくは３〜１２μｍである。被膜層の厚さが１μｍ未満であると耐候性や表面硬度の改良効果が不十分になりやすく、逆に２０μｍを超えてもコスト的に不利で、耐衝撃性の低下を招くこともある。
【実施例】
【００３３】
以下、本発明について実施例、比較例によりその実施形態と効果について具体的に説明するが、本発明はこれらの例により何ら限定されるものではない。実施例および比較例中に記載の評価結果は下記の試験方法にて測定した。
【００３４】
（リタデーション値[Ｒｅ]）
エリプソメーター（溝尻光学所製ＥＬＰ−２００ＡＤＴ）を用いて、測定波長（λ）６３２．８ｎｍのリタデーション値を測定した。
【００３５】
（光干渉縞試験）
偏光板または位相差板を含む液晶ディスプレイの前面に曲率半径５０ｍｍに曲げ加工した湾曲面を持つ光透過型電磁波シールド材料を配置し、偏光特性を有するサングラスを介して、光干渉縞の発生の有無を目視評価した。
[目視評価]
○：湾曲面での強い光干渉縞はほとんど認められず、薄い着色あるが視認性良好
△：湾曲面での強い光干渉縞が僅かに発生、着色あるが視認性あり
×：強い光干渉縞が発生して顕著な着色があり、視認性が著しく低下
【００３６】
（電磁波シールド性能試験）
電磁波シールド性能測定装置（アドバンテスト社製）を用いて１００ＭＨｚ〜１ＧＨｚの周波数範囲の電磁波シールド性能を測定した。
[電磁波シールド性能評価]
周波数１００ＭＨｚと１ＧＨｚの電磁波シールド性能が３０ｄＢ以上を示すものを合格（○）とし、３０ｄＢ未満のものを不合格（×）とした。
【００３７】
実施例１
リタデーション値（Ｒｅ）が１０５００ｎｍの高延伸ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム（５０μｍ厚）上にアクリル系接着フィルム（デュポン社製パイララックスＬＦ−０２００）を介して厚さ１０μｍの銅箔を接着させた。得られた銅箔付きＰＣフィルムにフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅１０μｍ、ライン間隔３００μｍの銅薄膜メッシュをＰＣフィルム上に形成し、サンプルを得た。
前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。金型温度１７５℃のプレス機にて曲率半径５０ｍｍに成形後、前記「光干渉縞試験」において湾曲面での強い光干渉縞はほとんど認められず、薄い着色あるが視認性は良好であった。
【００３８】
実施例２
リタデーション値（Ｒｅ）が５５００ｎｍの高延伸ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム（１００μｍ厚）上にアクリル系接着フィルム（デュポン社製パイララックスＬＦ−０２００）を介して厚さ１０μｍの銅箔を接着させた。得られた銅箔付きＰＣフィルムにフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅１０μｍ、ライン間隔３００μｍの銅薄膜メッシュをＰＣフィルム上に形成し、サンプルを得た。
前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。金型温度１７５℃のプレス機にて曲率半径５０ｍｍに成形後、前記「光干渉縞試験」において湾曲面での強い光干渉縞はほとんど認められず、薄い着色あるが視認性は良好であった。
【００３９】
実施例３
リタデーション値（Ｒｅ）が３２００ｎｍの高延伸ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム（２００μｍ厚）上にアクリル系接着フィルム（デュポン社製パイララックスＬＦ−０２００）を介して厚さ１０μｍの銅箔を接着させた。得られた銅箔付きＰＣフィルムにフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅１０μｍ、ライン間隔３００μｍの銅薄膜メッシュをＰＣフィルム上に形成し、サンプルを得た。
前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。金型温度１７５℃のプレス機にて曲率半径５０ｍｍに成形後、前記「光干渉縞試験」において湾曲面での強い光干渉縞はほとんど認められず、薄い着色あるが視認性は良好であった。
【００４０】
実施例４
リタデーション値（Ｒｅ）が５４００ｎｍの高延伸ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム（３００μｍ厚）上にアクリル系接着フィルム（デュポン社製パイララックスＬＦ−０２００）を介して厚さ１０μｍの銅箔を接着させた。得られた銅箔付きＰＣフィルムにフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅１０μｍ、ライン間隔３００μｍの銅薄膜メッシュをＰＣフィルム上に形成し、サンプルを得た。
前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。金型温度１７５℃のプレス機にて曲率半径５０ｍｍに成形後、前記「光干渉縞試験」において湾曲面での強い光干渉縞はほとんど認められず、薄い着色あるが視認性は良好であった。
【００４１】
実施例５
リタデーション値（Ｒｅ）が６１００ｎｍの高延伸ポリカーボネート（ＰＣ）シート（５００μｍ厚）上にアクリル系接着フィルム（デュポン社製パイララックスＬＦ−０２００）を介して厚さ１０μｍの銅箔を接着させた。得られた銅箔付きＰＣフィルムにフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅１０μｍ、ライン間隔３００μｍの銅薄膜メッシュをＰＣフィルム上に形成し、サンプルを得た。
前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。金型温度１７５℃のプレス機にて曲率半径５０ｍｍに成形後、前記「光干渉縞試験」において湾曲面での強い光干渉縞はほとんど認められず、薄い着色あるが視認性は良好であった。
【００４２】
実施例６
リタデーション値（Ｒｅ）が３４００ｎｍの高延伸ポリカーボネート（ＰＣ）シート（１０００μｍ厚）上にアクリル系接着フィルム（デュポン社製パイララックスＬＦ−０２００）を介して厚さ１０μｍの銅箔を接着させた。得られた銅箔付きＰＣフィルムにフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅１０μｍ、ライン間隔３００μｍの銅薄膜メッシュをＰＣフィルム上に形成し、サンプルを得た。
前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。金型温度１７５℃のプレス機にて曲率半径５０ｍｍに成形後、前記「光干渉縞試験」において湾曲面での強い光干渉縞はほとんど認められず、薄い着色あるが視認性は良好であった。
【００４３】
実施例７
リタデーション値（Ｒｅ）が２０５０ｎｍの高延伸ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム（２００μｍ厚）上にアクリル系接着フィルム（デュポン社製パイララックスＬＦ−０２００）を介して厚さ１０μｍの銅箔を接着させた。得られた銅箔付きＰＣフィルムにフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅１０μｍ、ライン間隔３００μｍの銅薄膜メッシュをＰＣフィルム上に形成し、サンプルを得た。
前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。金型温度１７５℃のプレス機にて曲率半径５０ｍｍに成形後、前記「光干渉縞試験」において湾曲面での強い光干渉縞が僅かに発生し、着色があるものの視認性は問題ない程度であった。
【００４４】
実施例８
リタデーション値（Ｒｅ）が４８００ｎｍの延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡社製１００μｍ厚）上にアクリル系接着フィルム（デュポン社製パイララックスＬＦ−０２００）を介して厚さ１０μｍの銅箔を接着させた。得られた銅箔付きＰＥＴフィルムにフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅１０μｍ、ライン間隔３００μｍの銅薄膜メッシュをＰＥＴフィルム上に形成し、サンプルを得た。
前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。金型温度１７５℃のプレス機にて曲率半径５０ｍｍに成形後、前記「光干渉縞試験」において湾曲面での強い光干渉縞はほとんど認められず、薄い着色あるが視認性は良好であった。
【００４５】
実施例９
リタデーション値（Ｒｅ）が５４００ｎｍの高延伸ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム（３００μｍ厚）上にアクリル系接着フィルム（デュポン社製パイララックスＬＦ−０２００）を介して厚さ３μｍのアルミ箔を接着させた。得られたアルミ箔付きＰＣフィルムにフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅２０μｍ、ライン間隔３００μｍのアルミ薄膜メッシュをＰＣフィルム上に形成し、サンプルを得た。
前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。金型温度１７５℃のプレス機にて曲率半径５０ｍｍに成形後、前記「光干渉縞試験」において湾曲面での強い光干渉縞はほとんど認められず、薄い着色あるが視認性は良好であった。
【００４６】
実施例１０
リタデーション値（Ｒｅ）が５４００ｎｍの高延伸ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム（３００μｍ厚）上にマスク層を用いて無電解ニッケルめっきを格子状に形成することによりライン幅１０μｍ、ライン間隔３００μｍ、ライン厚み３μｍのニッケル薄膜メッシュをＰＣフィルム上に形成し、サンプルを得た。
前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。金型温度１７５℃のプレス機にて曲率半径５０ｍｍに成形後、前記「光干渉縞試験」において湾曲面での強い光干渉縞はほとんど認められず、薄い着色あるが視認性は良好であった。
【００４７】
実施例１１
リタデーション値（Ｒｅ）が５４００ｎｍの高延伸ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム（３００μｍ厚）上にＡｇＣ導電性ペースト用いてライン幅１００μｍ、ライン間隔３００μｍ、ライン厚み１０μｍの導電性印刷メッシュをスクリーン印刷で形成し、サンプルを得た。
前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。金型温度１７５℃のプレス機にて曲率半径５０ｍｍに成形後、前記「光干渉縞試験」において湾曲面での強い光干渉縞はほとんど認められず、薄い着色あるが視認性は良好であった。
【００４８】
比較例１
リタデーション値（Ｒｅ）が１３９０ｎｍの延伸ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム（３０００μｍ厚）上にアクリル系接着フィルム（デュポン社製パイララックスＬＦ−０２００）を介して厚さ１０μｍの銅箔を接着させた。得られた銅箔付きＰＣフィルムにフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅１０μｍ、ライン間隔３００μｍの銅薄膜メッシュをＰＣフィルム上に形成し、サンプルを得た。
前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。金型温度１７５℃のプレス機にて曲率半径５０ｍｍに成形後、前記「光干渉縞試験」において強い光干渉縞が発生して顕著な着色があり、視認性が著しく低下した。
【００４９】
比較例２
リタデーション値（Ｒｅ）が５４０ｎｍの延伸ポリカーボネート（ＰＣ）シート（２００μｍ厚）上にアクリル系接着フィルム（デュポン社製パイララックスＬＦ−０２００）を介して厚さ１０μｍの銅箔を接着させた。得られた銅箔付きＰＣシートにフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅１０μｍ、ライン間隔３００μｍの銅薄膜メッシュをＰＣシート上に形成し、サンプルを得た。
前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。金型温度１７５℃のプレス機にて曲率半径５０ｍｍに成形後、前記「光干渉縞試験」において強い光干渉縞が発生して顕著な着色があり、視認性が著しく低下した。
【００５０】
比較例３
リタデーション値（Ｒｅ）が６００ｎｍの延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（５００μｍ厚）上にアクリル系接着フィルム（デュポン社製パイララックスＬＦ−０２００）を介して厚さ１０μｍの銅箔を接着させた。得られた銅箔付きＰＥＴフィルムにフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅１０μｍ、ライン間隔３００μｍの銅薄膜メッシュをＰＥＴフィルム上に形成し、サンプルを得た。
前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。金型温度１７５℃のプレス機にて曲率半径５０ｍｍに成形後、前記「光干渉縞試験」において強い光干渉縞が発生して顕著な着色があり、視認性が著しく低下した。
【００５１】
【表１】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光干渉縞緩和性に優れた湾曲面を有する光透過型電磁波シールド材料に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、パソコンや携帯電話、液晶やプラズマに代表されるフラットパネルディスプレイ、タッチパネル、カーナビゲーション、携帯情報端末、携帯型ゲーム機などの電子機器から発生する電磁波により、機械や電子機器の誤動作や通信障害を引き起こし大きな問題となっている。さらに、電磁波は人体に対しても悪影響を及ぼす可能性が指摘されており、いわゆる電磁波障害（以下、ＥＭＩという）を防止するため、各種電磁波シールド材による対策を講じている。
【０００３】
光透過型電磁波シールド材料のベース基材として、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂などの透明樹脂シートが用いられている。これらの樹脂をベース基材とした電磁波シールド材料を偏光板または位相差板を含む電子機器ディスプレイに使用した場合、偏光特性を有するサングラス、ゴーグル、防眩用パネル若しくは防眩用窓材を介してディスプレイを見ると、ベース基材の複屈折特性すなわちリタデーション値が影響して強い光干渉縞が発生し、視認性が著しく低下するという問題がある。
【０００４】
光透過型電磁波シールド材料のベース基材として、特許文献１ではリタデーション値が２００ｎｍ以下のポリカーボネート樹脂が使用されており、平面における光干渉縞防止性に優れているが、プレス加工などによる湾曲面を有する電磁波シールド材に加工した場合には、湾曲部のリタデーション値が増加するため、強い光干渉縞が発生し、視認性が著しく低下するという問題がある。
【０００５】
光透過型電磁波シールド材料のベース基材として、特許文献２〜５ではポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂などの各種の透明樹脂シートが示されているが、いずれも基材のリタデーション値は記載されておらず、リタデーション値２０００ｎｍ未満のベース機材を使用した湾曲面を有する光透過型電磁波シールド材料を偏光板または位相差板を含む電子機器ディスプレイに使用した場合、偏光特性を有するサングラス、ゴーグル、防眩用パネル若しくは防眩用窓材を介してディスプレイを見ると、強い光干渉縞が発生し、視認性が著しく低下するという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−１７４４９０号公報
【特許文献２】特開２００６−１５７０４０号公報
【特許文献３】特開２００６−３１９２５１号公報
【特許文献４】特開平１０−３３５８８４号公報
【特許文献５】特開平１０−４１６８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、かかる従来技術の問題点を鑑み、偏光特性を有するサングラス、ゴーグル、防眩用パネル若しくは防眩用窓材を介しても湾曲面において強い光干渉縞が発生せず、視認性の良好な光透過型電磁波シールド材料を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討の結果、電磁波シールド層のベース基材の特性すなわちそのリタデーション値が光干渉縞の発生に密接な関係を有していることを見出し、リタデーション値が一定値以上の高延伸光透過型有機高分子材料を電磁波シールド層のベース基材として用いることにより、湾曲面での光干渉縞緩和性に優れた光透過型電磁波シールド材料を得られることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、高延伸光透過型有機高分子材料を電磁波シールド層のベース基材に用いることを特徴とする湾曲面を有する光干渉縞緩和性に優れた光透過型電磁波シールド材料に関するものである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の湾曲面を有する光透過型電磁波シールド材料は、偏光特性を有するサングラス等を介しても湾曲面に強い光干渉縞が発生せず、良好な視認性を有するため、車中で利用可能なカーナビゲーション、携帯電話、携帯情報端末、携帯型ゲーム機、さらに屋外で利用される広告用液晶またはプラズマディスプレイ、自動販売機や券売機のディスプレイなど、優れたデザイン性、電磁波シールド性能、透明性および視認性を同時に必要とする広範囲の電磁波シールド分野に使用される。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の光透過型電磁波シールド材料は、電磁波シールド層を有しており、電磁波シールド層が高延伸光透過型高分子材料と導電性化合物または高延伸光透過型高分子材料と接着剤および導電性化合物から構成されている。
【００１１】
本発明のベース基材として用いる光透過型有機高分子材料は、強い光干渉縞の発生を緩和するため、リタデーション値が一定値以上の高延伸光透過型有機高分子材料を使用する。強い光干渉縞発生と視認性低下を緩和する観点から、高延伸光透過型有機高分子材料のリタデーション値は２０００ｎｍ以上であることが好ましい。より好ましくはリタデーション値が３０００ｎｍ以上であり、更に好ましくはリタデーション値が５０００ｎｍ以上であることが好ましい。
リタデーション値の上限はなく、一般的には２００００ｎｍ以下である。２０００ｎｍよりも低いリタデーション値のベース基材を用いると湾曲面においてリタデーション値が増加するため強い光干渉縞が発生し、その値が５００〜１５００ｎｍの範囲において着色が最大となり、光干渉縞の発生が著しく顕著になる。
【００１２】
高延伸光透過型有機高分子材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂、光透過型ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリプロピレン樹脂またはポリエチレン樹脂などが挙げられる。
【００１３】
これらの高延伸光透過型有機高分子材料の中で、透明性や耐衝撃性および汎用性の観点から、特にポリカーボネート樹脂が好ましい。
本発明における前記リタデーション値を有するポリカーボネートベース基材は例えば下記の方法によって製造することが出来る。すなわち、ポリカーボネートフィルムまたはシートは通常の押し出し法あるいはキャスティング法によってシート化し、ガラス転移温度より若干高い温度（例えば１４０〜１８０℃位）に加熱しながら、実質的に一方向に延伸することにより製造することが出来る。この場合シートの厚みと延伸倍率が実質的にリタデーション値を決定する。
延伸倍率は例えばポリカーボネートシートの延伸前の厚みが１ｍｍ以上の場合には１．１〜２．０倍、シートの厚みが０．４〜１．０ｍｍの場合で１．２〜３．０倍、フィルムの厚みが２００μｍ以下の場合には３〜５倍が一般的に採用される。
【００１４】
本発明で採用されるベース基材のフィルムおよびシートの厚みについては特に制限はないが、操作性の観点から２５μｍ〜５ｍｍ、好ましくは５０μｍ〜３ｍｍが適当である。尚、本発明で使用されるポリカーボネートフィルムまたはシートは通常のポリカーボネート樹脂から製造されたもののほか、ポリカーボネート系共重合体樹脂から製造されたものなどが使用できる。また、本発明で使用されるポリカーボネートフィルムおよびシートは表面にハードコート処理、帯電防止コート処理、防曇コート処理、紫外線防止コート処理、熱線遮断コート処理、反射防止コート処理などの各種表面コート処理を施したものを含む。
【００１５】
電磁波シールド層の電磁波シールド性能は、３０デシベル以上の性能を有するものが好ましい。シールド性能が３０デシベル以下では、電子機器から発生する電磁波の流出を完全に防ぐことが出来ず、他の機械や電子機器の誤動作や通信障害を生じる可能性があるばかりでなく、電子機器の外部から侵入する電磁波を防ぐことが出来ず、電子機器にダメージを与える可能性がある。
前記の電磁波シールド性能を達成するためには、電磁波シールド層の表面抵抗率（シート抵抗値）は１０[Ω／□]以下であることが好ましい。より好ましくは１[Ω／□]以下であり、更に好ましくは０．１[Ω／□]以下であることが好ましい。
【００１６】
電磁波シールド層を構成する導電性化合物は、導電性があれば特に制限は無いが、鉄、金、銀、銅、アルミ、ニッケル、カーボン、ＩＴＯ(酸化インジウム／酸化錫)、ＺｎＯ（酸化亜鉛）、錫、亜鉛、チタン、タングステン、ステンレスから選ばれた少なくとも１つ以上の金属成分を含有する金属化合物を用いることが出来る。経済的な観点から、銀、銅、アルミ、ニッケル、カーボン、ＺｎＯ（酸化亜鉛）、錫またはステンレスから選ばれた少なくとも１つ以上の金属成分を含有する導電性化合物を用いることが好ましい。
【００１７】
電磁波シールド層は、導電性化合物を用いた金属薄膜メッシュまたは導電性印刷メッシュである。金属薄膜メッシュの製法は特に制限はないが、例えば、光透過型有機高分子材料のフィルムまたはシート表面に銅、銀、アルミ、ＩＴＯ(酸化インジウム／酸化錫) 、ＺｎＯ（酸化亜鉛）などの金属薄膜を蒸着やスパッタリングにより形成したもの、あるいはこれらの金属箔を接着剤により貼り合せた後、エッチングなどの手段でメッシュを形成する方法、メッキ触媒含有インキやペーストをグラビア印刷、インクジェット印刷、スクリーン印刷などにより塗布後、無電解メッキや電気メッキを施してメッシュを形成する方法、銅、銀、アルミなどの金属板を圧延加工して所定の厚さにした金属箔をパンチング加工してメッシュを形成する方法などが挙げられる。これらの金属薄膜メッシュは、耐水性、耐湿性、耐腐食性、防錆性、反射防止性の観点から、片面または両面に黒化処理を施しておくことが好ましい。金属薄膜メッシュは電磁波シールド性能および透明性の観点から、ライン幅５〜２００μｍ、厚さ０．０１〜１００μｍ、ピッチ１００〜１０００μｍの範囲が好ましい。
【００１８】
金属薄膜メッシュを形成する金属箔用接着剤としては、特に制限は無く、透明性、耐水性、耐湿性、接着力の良好な公知の接着剤や粘着剤を使用することが出来る。
接着剤としては、公知の光硬化型接着剤、熱硬化型接着剤、ホットメルト型接着剤などが挙げられる。
【００１９】
粘着剤としては、例えば、公知のアクリル系樹脂組成物、ポリウレタン系樹脂組成物、ポリエステル系樹脂組成物、エポキシ系樹脂組成物、シリコーン系樹脂組成物、ゴム系樹脂組成物などの粘着剤を用いることが出来る。これらの中で、透明性、耐水性、耐湿性および接着力の良好なアクリル系樹脂組成物の粘着剤が最も好ましい。
【００２０】
ホットメルト型接着剤としては、例えば、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体樹脂組成物、エチレン−（メタ）アクリル酸エステル共重合体樹脂組成物などのポリオレフィン系樹脂組成物、ポリスチレン系樹脂組成物、エチレン酢酸ビニル系樹脂組成物、酢酸ビニル系樹脂組成物、アクリル系樹脂組成物、ポリウレタン系樹脂組成物、ポリエステル系樹脂組成物、エポキシ系樹脂組成物、ポリエステル系樹脂組成物、ポリアミド系樹脂組成物、ポリビニールエーテル系樹脂組成物、シリコーン系樹脂組成物、ゴム系樹脂組成物などが挙げられる。これらの中で、透明性、耐水性、耐湿性および接着力の良好なアクリル系樹脂組成物のホットメルト型接着剤が最も好ましい。
【００２１】
熱硬化型接着剤としては、熱により重合するものであれば特に制限は無く、例えば、グリシジル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、水酸基、カルボキシル基、イソシアヌレート基、アミノ基、アミド基等の官能基を持つ化合物が挙げられ、これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせても、使用することができる。例えば、エポキシ系樹脂組成物、アクリル系樹脂組成物、シリコーン系樹脂組成物、フェノール系樹脂組成物、熱硬化型ポリイミド系樹脂組成物、ポリウレタン系樹脂組成物、ポリエステル系樹脂組成物、メラミン系樹脂組成物、ユリア系樹脂組成物などが挙げられる。接着力および透明性の観点からエポキシアクリレート系樹脂組成物、ウレタンアクリレート系樹脂組成物、ポリエーテルアクリレート系樹脂組成物、ポリエステルアクリレート系樹脂組成物などのアクリル系樹脂組成物が好ましい。これらの熱硬化型接着剤は必要に応じて、２種以上併用することができる。また熱硬化型接着剤組成物には硬化剤を併用することが好ましい。硬化剤としては公知の硬化剤を使用することができ、イソシアネート系硬化剤、トリエチレンテトラミン、キシレンジアミン、Ｎ − アミノテトラミン、ジアミノジフェニルメタンなどのアミン類、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水ドデシルコハク酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸などの酸無水物、ジアミノジフェニルスルホン、トリス（ ジメチルアミノメチル） フェノール、ポリアミド樹脂、ジシアンジアミド、エチルメチルイミダゾールなどを使用することができる。これらの硬化剤は単独で用いても良いし、２種以上混合して用いても良い。
【００２２】
光硬化型接着剤としては、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート系接着剤組成物、ポリエステル（メタ）アクリレート系接着剤組成物、エポキシ（メタ）アクリレート系接着剤組成物およびポリオール（メタ）アクリレート系接着剤組成物から選ばれた少なくともいずれか１種類以上の(メタ)アクリレート系接着剤組成であることが好ましく、この中でも耐水性、耐湿性、耐侯性、透明性および接着力の観点からウレタン（メタ）アクリレート系接着剤組成物が特に好ましい。
活性エネルギー線の照射による硬化性を有する光硬化型（メタ）アクリレート系接着剤組成物は、硬化時間、安全性の面から特に好ましく、活性エネルギー線としては可視光線または紫外線が好ましい。
【００２３】
導電性印刷メッシュの製法に制限はないが、例えば、銅、銀、アルミ、ニッケルなどの金属粒子化合物やカーボンなどをエポキシ系、ウレタン系、アクリル系、ＥＶＡ系などの樹脂バインダーに混合したインキまたはペーストを用いて、スクリーン印刷、グラビア印刷、オフセット印刷などの方法により光透過型有機高分子材料のフィルムまたはシート表面にメッシュを形成する方法が挙げられる。導電性印刷メッシュは電磁波シールド性能および透明性の観点から、ライン幅１０〜２００μｍ、厚さ１〜１００μｍ、ピッチ１００〜１０００μｍの範囲が好ましい。
【００２４】
本発明の光透過型電磁波シールド材料は、耐衝撃性、耐擦傷性、耐侯性、耐水性、防湿性、防曇性、反射防止性、防汚染性などの観点から、電磁波シールド層の片側または両側に保護層を配置することが好ましい。保護層は、視認可能で光を通す材料であれば、光透過性ガラスまたは高延伸光透過型有機高分子材料からなるフィルムやシート材料でも構わないし、各種機能性を有する被膜でも構わない。
【００２５】
前記の保護層に用いる高延伸光透過型有機高分子材料には、各種金属化合物、導電性化合物、有機性化合物、無機性化合物など接着、蒸着、塗布、印刷、加工した材料を包含する。高延伸光透過型有機高分子材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂、光透過型ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン樹脂などが挙げられ、そのリタデーション値は２０００ｎｍ以上であることが好ましい。
これらの高延伸光透過型有機高分子材料の中で、透明性や耐衝撃性および汎用性の観点から、特にポリカーボネート樹脂が好ましい。
【００２６】
前記の被膜としては、特に制限は無いが、長期間の耐久性に優れ、かつ表面硬度が比較的高いシリコーン樹脂系化合物、または処理が比較的簡便でかつ良好な被膜が形成されるアクリル樹脂または多官能アクリル樹脂が好ましい。これら被膜の硬化方法は使用する樹脂化合物の性質によるが、生産性や簡便性を考慮した場合、熱硬化型または光硬化型樹脂を選択することが好ましい。光硬化型樹脂の一例としては、１官能あるいは多官能のアクリレートモノマーあるいはオリゴマーなどの単独あるいは複数からなる樹脂組成物に硬化触媒として光重合開始剤が加えられた樹脂組成物が挙げられる。熱硬化型樹脂としてはポリオルガノシロキサン系、架橋型アクリル系などのものが挙げられる。この様な樹脂組成物は、ハードコート剤として市販されており、被膜ラインとの適正を加味し、適宜選択すれば良い。
これらの被膜には紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤のほか、必要に応じて、有機溶剤、着色防止剤などの各種安定剤やレベリング剤、消泡剤、増粘剤、帯電防止剤、防曇剤などの界面活性剤等を適宜添加してもよい。
【００２７】
本発明の光透過型電磁波シールド材料は、そのシールド性能を十分に発揮させる目的や電磁波の漏洩を防止するために、適宜アースを設置することが好ましい。アースの設置方法としては、特に制限は無いが、例えば、銅、銀、アルミ、ニッケルなどの金属粒子化合物やカーボンなどをエポキシ系、ウレタン系、アクリル系、ＥＶＡ系などの樹脂バインダーに混合した導電性ペーストを光透過型電磁波シールド材料の端面外周に塗布する方法や光透過型電磁波シールド材料の端面外周を導電性テープで被覆する方法、これらを併用する方法などが挙げられる。端面外周の７０％以上に導電性ペーストまたはテープで被覆することが好ましい。
【００２８】
本発明の光透過型電磁波シールド材料は、積層する光透過型有機高分子材料自体の加水分解や酸化による老化防止、紫外線による劣化防止、太陽光や風雨に曝される厳しい条件下での耐熱性、耐侯性などを向上する目的で、電磁波シールド層、保護層および接着剤層等に紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤を含有させることが好ましい。コストの面から光透過型電磁波シールド積層体の片面または両面に紫外線吸収剤、光安定剤および酸化防止剤の内、少なくとも１種類以上を含有してなる皮膜を形成させことが好ましい。
【００２９】
前記の被膜としては、長期間の耐久性に優れ、かつ表面硬度が比較的高いシリコーン樹脂系化合物、または処理が比較的簡便でかつ良好な被膜が形成されるアクリル樹脂または多官能アクリル樹脂が好ましい。これら被膜の硬化方法は、使用する樹脂化合物の性質によるが、生産性や簡便性を考慮した場合、熱硬化型または光硬化型樹脂を選択することが好ましい。光硬化型樹脂の一例としては、１官能あるいは多官能のアクリレートモノマーあるいはオリゴマーなどの単独あるいは複数からなる樹脂組成物に硬化触媒として光重合開始剤が加えられた樹脂組成物が挙げられる。熱硬化型樹脂としてはポリオルガノシロキサン系、架橋型アクリル系などのものが挙げられる。この様な樹脂組成物は、ハードコート剤として市販されており、被膜ラインとの適正を加味し、適宜選択すれば良い。
これらの被膜には前述した紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤のほか、必要に応じて、有機溶剤、着色防止剤などの各種安定剤やレベリング剤、消泡剤、増粘剤、帯電防止剤、防曇剤などの界面活性剤等を適宜添加してもよい。
【００３０】
また前記の被膜は、光透過型電磁波シールド積層体の基材との密着性を向上させるために、基材とアクリル樹脂を共押出しにより積層したアクリル樹脂層上に被膜を形成することもできる。
【００３１】
光硬化型アクリル系樹脂化合物からなる被膜の一例としては、１,９−ノナンジオールジアクリレートまたはトリス（アクロキシエチル）イソシアヌレート２０〜８０重量％と共重合可能な他の化合物２０〜８０重量％とからなる光重合性化合物に対し、光重合開始剤を１〜１０重量％を添加することを特徴とする紫外線硬化型樹脂被膜用組成物が挙げられる。
【００３２】
本発明において、光透過型電磁波シールド材料に被膜を塗布する方法は、刷毛、ロール、ディッピング、流し塗り、スプレー、ロールコーター、フローコーターなどが適用できる。熱硬化あるいは光硬化によって硬化した被膜層の厚さは１〜２０μｍ、好ましくは２〜１５μｍ、さらに好ましくは３〜１２μｍである。被膜層の厚さが１μｍ未満であると耐候性や表面硬度の改良効果が不十分になりやすく、逆に２０μｍを超えてもコスト的に不利で、耐衝撃性の低下を招くこともある。
【実施例】
【００３３】
以下、本発明について実施例、比較例によりその実施形態と効果について具体的に説明するが、本発明はこれらの例により何ら限定されるものではない。実施例および比較例中に記載の評価結果は下記の試験方法にて測定した。
【００３４】
（リタデーション値[Ｒｅ]）
エリプソメーター（溝尻光学所製ＥＬＰ−２００ＡＤＴ）を用いて、測定波長（λ）６３２．８ｎｍのリタデーション値を測定した。
【００３５】
（光干渉縞試験）
偏光板または位相差板を含む液晶ディスプレイの前面に曲率半径５０ｍｍに曲げ加工した湾曲面を持つ光透過型電磁波シールド材料を配置し、偏光特性を有するサングラスを介して、光干渉縞の発生の有無を目視評価した。
[目視評価]
○：湾曲面での強い光干渉縞はほとんど認められず、薄い着色あるが視認性良好
△：湾曲面での強い光干渉縞が僅かに発生、着色あるが視認性あり
×：強い光干渉縞が発生して顕著な着色があり、視認性が著しく低下
【００３６】
（電磁波シールド性能試験）
電磁波シールド性能測定装置（アドバンテスト社製）を用いて１００ＭＨｚ〜１ＧＨｚの周波数範囲の電磁波シールド性能を測定した。
[電磁波シールド性能評価]
周波数１００ＭＨｚと１ＧＨｚの電磁波シールド性能が３０ｄＢ以上を示すものを合格（○）とし、３０ｄＢ未満のものを不合格（×）とした。
【００３７】
実施例１
リタデーション値（Ｒｅ）が１０５００ｎｍの高延伸ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム（５０μｍ厚）上にアクリル系接着フィルム（デュポン社製パイララックスＬＦ−０２００）を介して厚さ１０μｍの銅箔を接着させた。得られた銅箔付きＰＣフィルムにフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅１０μｍ、ライン間隔３００μｍの銅薄膜メッシュをＰＣフィルム上に形成し、サンプルを得た。
前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。金型温度１７５℃のプレス機にて曲率半径５０ｍｍに成形後、前記「光干渉縞試験」において湾曲面での強い光干渉縞はほとんど認められず、薄い着色あるが視認性は良好であった。
【００３８】
実施例２
リタデーション値（Ｒｅ）が５５００ｎｍの高延伸ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム（１００μｍ厚）上にアクリル系接着フィルム（デュポン社製パイララックスＬＦ−０２００）を介して厚さ１０μｍの銅箔を接着させた。得られた銅箔付きＰＣフィルムにフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅１０μｍ、ライン間隔３００μｍの銅薄膜メッシュをＰＣフィルム上に形成し、サンプルを得た。
前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。金型温度１７５℃のプレス機にて曲率半径５０ｍｍに成形後、前記「光干渉縞試験」において湾曲面での強い光干渉縞はほとんど認められず、薄い着色あるが視認性は良好であった。
【００３９】
実施例３
リタデーション値（Ｒｅ）が３２００ｎｍの高延伸ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム（２００μｍ厚）上にアクリル系接着フィルム（デュポン社製パイララックスＬＦ−０２００）を介して厚さ１０μｍの銅箔を接着させた。得られた銅箔付きＰＣフィルムにフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅１０μｍ、ライン間隔３００μｍの銅薄膜メッシュをＰＣフィルム上に形成し、サンプルを得た。
前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。金型温度１７５℃のプレス機にて曲率半径５０ｍｍに成形後、前記「光干渉縞試験」において湾曲面での強い光干渉縞はほとんど認められず、薄い着色あるが視認性は良好であった。
【００４０】
実施例４
リタデーション値（Ｒｅ）が５４００ｎｍの高延伸ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム（３００μｍ厚）上にアクリル系接着フィルム（デュポン社製パイララックスＬＦ−０２００）を介して厚さ１０μｍの銅箔を接着させた。得られた銅箔付きＰＣフィルムにフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅１０μｍ、ライン間隔３００μｍの銅薄膜メッシュをＰＣフィルム上に形成し、サンプルを得た。
前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。金型温度１７５℃のプレス機にて曲率半径５０ｍｍに成形後、前記「光干渉縞試験」において湾曲面での強い光干渉縞はほとんど認められず、薄い着色あるが視認性は良好であった。
【００４１】
実施例５
リタデーション値（Ｒｅ）が６１００ｎｍの高延伸ポリカーボネート（ＰＣ）シート（５００μｍ厚）上にアクリル系接着フィルム（デュポン社製パイララックスＬＦ−０２００）を介して厚さ１０μｍの銅箔を接着させた。得られた銅箔付きＰＣフィルムにフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅１０μｍ、ライン間隔３００μｍの銅薄膜メッシュをＰＣフィルム上に形成し、サンプルを得た。
前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。金型温度１７５℃のプレス機にて曲率半径５０ｍｍに成形後、前記「光干渉縞試験」において湾曲面での強い光干渉縞はほとんど認められず、薄い着色あるが視認性は良好であった。
【００４２】
実施例６
リタデーション値（Ｒｅ）が３４００ｎｍの高延伸ポリカーボネート（ＰＣ）シート（１０００μｍ厚）上にアクリル系接着フィルム（デュポン社製パイララックスＬＦ−０２００）を介して厚さ１０μｍの銅箔を接着させた。得られた銅箔付きＰＣフィルムにフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅１０μｍ、ライン間隔３００μｍの銅薄膜メッシュをＰＣフィルム上に形成し、サンプルを得た。
前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。金型温度１７５℃のプレス機にて曲率半径５０ｍｍに成形後、前記「光干渉縞試験」において湾曲面での強い光干渉縞はほとんど認められず、薄い着色あるが視認性は良好であった。
【００４３】
実施例７
リタデーション値（Ｒｅ）が２０５０ｎｍの高延伸ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム（２００μｍ厚）上にアクリル系接着フィルム（デュポン社製パイララックスＬＦ−０２００）を介して厚さ１０μｍの銅箔を接着させた。得られた銅箔付きＰＣフィルムにフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅１０μｍ、ライン間隔３００μｍの銅薄膜メッシュをＰＣフィルム上に形成し、サンプルを得た。
前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。金型温度１７５℃のプレス機にて曲率半径５０ｍｍに成形後、前記「光干渉縞試験」において湾曲面での強い光干渉縞が僅かに発生し、着色があるものの視認性は問題ない程度であった。
【００４４】
実施例８
リタデーション値（Ｒｅ）が４８００ｎｍの延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡社製１００μｍ厚）上にアクリル系接着フィルム（デュポン社製パイララックスＬＦ−０２００）を介して厚さ１０μｍの銅箔を接着させた。得られた銅箔付きＰＥＴフィルムにフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅１０μｍ、ライン間隔３００μｍの銅薄膜メッシュをＰＥＴフィルム上に形成し、サンプルを得た。
前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。金型温度１７５℃のプレス機にて曲率半径５０ｍｍに成形後、前記「光干渉縞試験」において湾曲面での強い光干渉縞はほとんど認められず、薄い着色あるが視認性は良好であった。
【００４５】
実施例９
リタデーション値（Ｒｅ）が５４００ｎｍの高延伸ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム（３００μｍ厚）上にアクリル系接着フィルム（デュポン社製パイララックスＬＦ−０２００）を介して厚さ３μｍのアルミ箔を接着させた。得られたアルミ箔付きＰＣフィルムにフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅２０μｍ、ライン間隔３００μｍのアルミ薄膜メッシュをＰＣフィルム上に形成し、サンプルを得た。
前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。金型温度１７５℃のプレス機にて曲率半径５０ｍｍに成形後、前記「光干渉縞試験」において湾曲面での強い光干渉縞はほとんど認められず、薄い着色あるが視認性は良好であった。
【００４６】
実施例１０
リタデーション値（Ｒｅ）が５４００ｎｍの高延伸ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム（３００μｍ厚）上にマスク層を用いて無電解ニッケルめっきを格子状に形成することによりライン幅１０μｍ、ライン間隔３００μｍ、ライン厚み３μｍのニッケル薄膜メッシュをＰＣフィルム上に形成し、サンプルを得た。
前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。金型温度１７５℃のプレス機にて曲率半径５０ｍｍに成形後、前記「光干渉縞試験」において湾曲面での強い光干渉縞はほとんど認められず、薄い着色あるが視認性は良好であった。
【００４７】
実施例１１
リタデーション値（Ｒｅ）が５４００ｎｍの高延伸ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム（３００μｍ厚）上にＡｇＣ導電性ペースト用いてライン幅１００μｍ、ライン間隔３００μｍ、ライン厚み１０μｍの導電性印刷メッシュをスクリーン印刷で形成し、サンプルを得た。
前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。金型温度１７５℃のプレス機にて曲率半径５０ｍｍに成形後、前記「光干渉縞試験」において湾曲面での強い光干渉縞はほとんど認められず、薄い着色あるが視認性は良好であった。
【００４８】
比較例１
リタデーション値（Ｒｅ）が１３９０ｎｍの延伸ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム（３０００μｍ厚）上にアクリル系接着フィルム（デュポン社製パイララックスＬＦ−０２００）を介して厚さ１０μｍの銅箔を接着させた。得られた銅箔付きＰＣフィルムにフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅１０μｍ、ライン間隔３００μｍの銅薄膜メッシュをＰＣフィルム上に形成し、サンプルを得た。
前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。金型温度１７５℃のプレス機にて曲率半径５０ｍｍに成形後、前記「光干渉縞試験」において強い光干渉縞が発生して顕著な着色があり、視認性が著しく低下した。
【００４９】
比較例２
リタデーション値（Ｒｅ）が５４０ｎｍの延伸ポリカーボネート（ＰＣ）シート（２００μｍ厚）上にアクリル系接着フィルム（デュポン社製パイララックスＬＦ−０２００）を介して厚さ１０μｍの銅箔を接着させた。得られた銅箔付きＰＣシートにフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅１０μｍ、ライン間隔３００μｍの銅薄膜メッシュをＰＣシート上に形成し、サンプルを得た。
前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。金型温度１７５℃のプレス機にて曲率半径５０ｍｍに成形後、前記「光干渉縞試験」において強い光干渉縞が発生して顕著な着色があり、視認性が著しく低下した。
【００５０】
比較例３
リタデーション値（Ｒｅ）が６００ｎｍの延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（５００μｍ厚）上にアクリル系接着フィルム（デュポン社製パイララックスＬＦ−０２００）を介して厚さ１０μｍの銅箔を接着させた。得られた銅箔付きＰＥＴフィルムにフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅１０μｍ、ライン間隔３００μｍの銅薄膜メッシュをＰＥＴフィルム上に形成し、サンプルを得た。
前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。金型温度１７５℃のプレス機にて曲率半径５０ｍｍに成形後、前記「光干渉縞試験」において強い光干渉縞が発生して顕著な着色があり、視認性が著しく低下した。
【００５１】
【表１】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高延伸光透過型有機高分子材料を電磁波シールド層のベース基材に用いることを特徴とする光干渉縞緩和性に優れた湾曲面を有する光透過型電磁波シールド材料。
【請求項２】
高延伸光透過型有機高分子材料がポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂またはポリエステル樹脂である請求項１記載の光透過型電磁波シールド材料。
【請求項３】
高延伸光透過型有機高分子材料のリタデーション値が２０００ｎｍ以上である請求項１〜２記載の光透過型電磁波シールド材料。
【請求項４】
高延伸光透過型有機高分子材料のリタデーション値が３０００ｎｍ以上である請求項３記載の光透過型電磁波シールド材料。
【請求項５】
高延伸光透過型有機高分子材料の厚みが２５μｍ〜５ｍｍである請求項１〜４記載の光透過型電磁波シールド材料。
【請求項６】
電磁波シールド層に、金属薄膜メッシュまたは導電性印刷メッシュを用いる請求項１〜５記載の光透過型電磁波シールド材料。
【請求項７】
金属薄膜メッシュまたは導電性印刷メッシュが、銀、銅、アルミ、ニッケル、カーボン、ＩＴＯ（酸化インジウム／酸化錫）、ＺｎＯ（酸化亜鉛）、錫、亜鉛、チタン、タングステンおよびステンレスから選ばれた少なくとも１つ以上の金属成分を含有する金属化合物を用いる請求項６記載の光透過型電磁波シールド材料。
【請求項８】
電磁波シールド層の電磁波シールド性能が３０デシベル以上である請求項１〜７記載の光透過型電磁波シールド材料。
【請求項９】
偏光板または位相差板を有するディスプレイに使用することを特徴とする請求項１〜８記載の光透過型電磁波シールド材料。
【請求項１０】
偏光板または位相差板を含むカーナビゲーションまたは車載パネルに使用することを特徴とする請求項１〜９記載の光透過型電磁波シールド材料。
【請求項１】
高延伸光透過型有機高分子材料を電磁波シールド層のベース基材に用いることを特徴とする光干渉縞緩和性に優れた湾曲面を有する光透過型電磁波シールド材料。
【請求項２】
高延伸光透過型有機高分子材料がポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂またはポリエステル樹脂である請求項１記載の光透過型電磁波シールド材料。
【請求項３】
高延伸光透過型有機高分子材料のリタデーション値が２０００ｎｍ以上である請求項１〜２記載の光透過型電磁波シールド材料。
【請求項４】
高延伸光透過型有機高分子材料のリタデーション値が３０００ｎｍ以上である請求項３記載の光透過型電磁波シールド材料。
【請求項５】
高延伸光透過型有機高分子材料の厚みが２５μｍ〜５ｍｍである請求項１〜４記載の光透過型電磁波シールド材料。
【請求項６】
電磁波シールド層に、金属薄膜メッシュまたは導電性印刷メッシュを用いる請求項１〜５記載の光透過型電磁波シールド材料。
【請求項７】
金属薄膜メッシュまたは導電性印刷メッシュが、銀、銅、アルミ、ニッケル、カーボン、ＩＴＯ（酸化インジウム／酸化錫）、ＺｎＯ（酸化亜鉛）、錫、亜鉛、チタン、タングステンおよびステンレスから選ばれた少なくとも１つ以上の金属成分を含有する金属化合物を用いる請求項６記載の光透過型電磁波シールド材料。
【請求項８】
電磁波シールド層の電磁波シールド性能が３０デシベル以上である請求項１〜７記載の光透過型電磁波シールド材料。
【請求項９】
偏光板または位相差板を有するディスプレイに使用することを特徴とする請求項１〜８記載の光透過型電磁波シールド材料。
【請求項１０】
偏光板または位相差板を含むカーナビゲーションまたは車載パネルに使用することを特徴とする請求項１〜９記載の光透過型電磁波シールド材料。
【公開番号】特開２０１０−２７１５０９（Ｐ２０１０−２７１５０９Ａ）
【公開日】平成２２年１２月２日（２０１０．１２．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１２２７２０（Ｐ２００９−１２２７２０）
【出願日】平成２１年５月２１日（２００９．５．２１）
【出願人】（０００００４４６６）三菱瓦斯化学株式会社 (1,281)
【出願人】（５９７００３５１６）ＭＧＣフィルシート株式会社 (33)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１２月２日（２０１０．１２．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年５月２１日（２００９．５．２１）
【出願人】（０００００４４６６）三菱瓦斯化学株式会社 (1,281)
【出願人】（５９７００３５１６）ＭＧＣフィルシート株式会社 (33)
【Ｆターム（参考）】
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