光情報記録媒体用色素及びそれを用いた光情報記録媒体
【課題】 ２５℃における弾性率が４０ＭＰａ以上の硬化性樹脂で形成された光透過層を有する有機ＢＤ−Ｒにおいて、弾性率の低い層がなくても十分に大きな変調度が得られ、良好な記録特性を得ることができる光情報記録媒体用色素及びそれを用いた光情報記録媒体を提供する。
【解決手段】 基板の一方の主面上に、少なくとも、光反射層と、有機色素を含有する光記録層と、保護層と、２５℃における弾性率が４０ＭＰａ以上の硬化性樹脂で形成された光透過層と、がこの順に形成された光情報記録媒体において、前記光記録層として、レーザ光により記録した後の反射率が記録する前の反射率よりも高くなる光学特性を有し、吸収スペクトルのピーク波長λｍａｘが３７０〜４２５ｎｍであり、かつ記録前の複素屈折率の実部（ｎ）が１．６５以上である、有機色素を用いる。
【解決手段】 基板の一方の主面上に、少なくとも、光反射層と、有機色素を含有する光記録層と、保護層と、２５℃における弾性率が４０ＭＰａ以上の硬化性樹脂で形成された光透過層と、がこの順に形成された光情報記録媒体において、前記光記録層として、レーザ光により記録した後の反射率が記録する前の反射率よりも高くなる光学特性を有し、吸収スペクトルのピーク波長λｍａｘが３７０〜４２５ｎｍであり、かつ記録前の複素屈折率の実部（ｎ）が１．６５以上である、有機色素を用いる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光情報記録媒体用色素に関し、より詳しくは、半導体レーザによる波長が３６０〜４５０ｎｍのレーザ光（ブルーレーザ光、青紫レーザ光）による記録再生を行う光情報記録媒体用色素及びそれを用いた光情報記録媒体に関する
【背景技術】
【０００２】
有機色素を記録材料として用いた追記型光記録メディアは、波長７８０ｎｍのレーザ光を用いて記録再生を行う記録容量６５０ＭＢあるいは７００ＭＢのＣＤ−Ｒや、波長６５０ｎｍのレーザ光を用いて記録再生を行う単層ディスクで記録容量４．７ＧＢのＤＶＤ−Ｒ／＋Ｒが既に広く普及している。これらは未記録での反射率が高く、記録後は反射率が低くなることにより信号として情報を記録するＨｉｇｈ ｔｏ Ｌｏｗ型記録である。
【０００３】
更なる大容量メディアとして、２００６年には波長４０５ｎｍのレーザで記録再生を行い単層での記録容量が１５ＧＢのＨＤ（Ｈｉｇｈ−Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ） ＤＶＤ−Ｒが商品化された。ＨＤ ＤＶＤ−Ｒでは、記録極性は、未記録での反射率が低く、記録後は反射率が高くなるＬｏｗ ｔｏ Ｈｉｇｈである。現在開発が進められている有機色素を記録層に用いたＢｌｕ−ｒａｙ Ｄｉｓｃ−Ｒ（以下、「有機ＢＤ−Ｒ」という。）は、波長４０５ｎｍのレーザで記録再生を行い単層での記録容量が２５ＧＢの追記型光記録メディアである。この有機ＢＤ−Ｒ記録極性は、ＨＤ ＤＶＤ−Ｒと同様、Ｌｏｗ ｔｏ Ｈｉｇｈである。
【０００４】
こうした、Ｌｏｗ ｔｏ Ｈｉｇｈ記録によって高密度の光情報の記録再生が可能な光情報記録媒体に適した新たな有機色素が提案されており、例えば、特許文献１および特許文献２では、特定のアゾ系金属錯体が、Ｌｏｗ ｔｏ Ｈｉｇｈ記録の４０５ｎｍのレーザ光用いた記録再生を行うメディアに好適であるとしている。
また、特許文献３には、４５０ｎｍ以下の短波長のレーザ光によって、Ｌｏｗ ｔｏ Ｈｉｇｈ記録を行う光記録媒体において、記録前における記録層の複素屈折率の実部（ｎ）が１．２〜１．５であり、記録した後の記録層の複素屈折率の実部が１．７〜１．９であるものが記載されており、該記録層には、トリメチンオキソノールをアニオンとし、金属錯体をカチオンとする色素化合物が用いられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−１９６６６１号公報
【特許文献２】特開２００７−４５１４７号公報
【特許文献３】特開２００７−２８７２９８号公報
【特許文献４】特開２００８−１２３６３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
有機ＢＤ−Ｒは、厚さ１．１ｍｍで直径１２０ｍｍの光透過性材料からなる基板上に、反射層、色素含有記録層をこの順に有し、さらに保護層を介して厚さ０．１ｍｍの光透過層（カバー層）を設けた積層構造であり、光透過層（カバー層）側から照射されるレーザ光により記録再生を行うものである。この光透過層は、厚さ０．１ｍｍの光透過性材料からなるシートを接着剤を介して貼り付ける方法か、または紫外線硬化性樹脂等の光透過性の硬化性樹脂をスピンコート法によって厚さ０．１ｍｍに形成する方法によって形成される。
しかしながら、これまでこのような有機ＢＤ−Ｒでは、４０％以上の十分に大きな変調度を実現することは非常に困難であった。
その理由は、大容量の記録を行う有機ＢＤ−Ｒは、記録ピットのサイズが従来のＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒ／＋Ｒと比較して極めて微小であることにある。すなわち、記録ピット形成のためのレーザ光のスポットサイズは小さく、かつ記録におけるレーザ光の照射時間が短い。これは記録において照射されるレーザ光のエネルギー量が小さいことを指しており、記録ピットがＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒ／＋Ｒと比べて形成されにくく、記録信号すなわち記録前後の反射率の大きな変化が得られにくいことを意味する。
特許文献１および特許文献２に開示された色素は、こうした大容量の記録を行う、Ｌｏｗ ｔｏ Ｈｉｇｈ記録に適したものであり、基本的にはＨＤ ＤＶＤ−Ｒと有機ＢＤ−Ｒの両方に使用できる色素であるが、有機ＢＤ−Ｒ特有の課題については何ら記載されていない。
【０００７】
本発明者らが鋭意検討した結果、実際には、記録ピットの部分に光透過層の変形が生じていることがわかってきた。この光透過層の変形と記録層の色素の分解によって、記録ピットと未記録部分との光路長変化を大きくして、大きな変調度を得ることができるものである。ここで、光透過層が厚さ０．１ｍｍの光透過性材料からなるシートを接着剤を介して貼り付ける方法で形成された有機ＢＤ−Ｒでは、接着剤が変形を起こす変形補助層となる。そのため、シート貼り付けによる光透過層を有する有機ＢＤ−Ｒは、特許文献１、特許文献２および特許文献３に記載された有機色素を用いても十分な変調度を実現することが可能である。
【０００８】
一方、光透過層を硬化性樹脂の塗布によって形成する有機ＢＤ−Ｒでは、光透過層と接して弾性率が低い（２５℃での弾性率が４０ＭＰａ以下）硬化性樹脂の層を形成後、さらに弾性率が高い（２５℃での弾性率が４０ＭＰａ以上）硬化性樹脂を形成し、これらの層の総厚が０．１ｍｍとすることで光透過層（カバー層）を形成することができる（上記特許文献４参照）。これにより弾性率が低い硬化性樹脂の層は変形補助層として機能することにより十分な変調を実現するとともに、弾性率が高い硬化性樹脂の層により傷つきにくい光透過層を形成することができる。しかし、このような変形補助層として機能する弾性率が低い層を導入することによりカバー層の層数が多くなりコスト高となる欠点があることから、弾性率が低い層を有しないことが好ましい。
【０００９】
本発明は、以上のような事情に鑑みてなされたものであって、２５℃における弾性率が４０ＭＰａ以上の硬化性樹脂で形成された光透過層を有する有機ＢＤ−Ｒにおいて、弾性率の低い層がなくても十分に大きな変調度が得られ、良好な記録特性を得ることができる光情報記録媒体用色素及びそれを用いた光情報記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、有機色素を含む記録層が、吸収スペクトルのピーク波長λｍａｘが３７０〜４２５ｎｍでかつ複素屈折率の実部ｎが１．６５以上であること、より好ましくは１．７０〜２．１０のときに、この色素層を含むＩｎ−Ｇｒｏｏｖｅ記録でかつＬｏｗ ｔｏ Ｈｉｇｈ型記録の有機ＢＤ−Ｒで変調度が４０％以上となることを見出した。
【００１１】
本発明は、これらの知見に基づいて完成に至ったものであり、以下のとおりのものである。
［１］基板の一方の主面上に、少なくとも、光反射層と、有機色素を含有する光記録層と、保護層と、２５℃における弾性率が４０ＭＰａ以上の硬化性樹脂で形成された光透過層と、がこの順に形成された光情報記録媒体において、前記光記録層は、レーザ光により記録した後の反射率が記録する前の反射率よりも高くなる光学特性を有し、吸収スペクトルのピーク波長λｍａｘが３７０〜４２５ｎｍであり、かつ記録前の複素屈折率の実部（ｎ）が１．６５以上であることを特徴とする光情報記録媒体。
［２］前記光記録層は、記録前の複素屈折率の実部（ｎ）が１．７０〜２．１０であることを特徴とする前記［１］の光情報記録媒体。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、有機ＢＤ−Ｒのような短波長レーザ（４０５ｎｍ）で記録再生を行う光記録メディアにおいて、記録感度が高く、光透過層に弾性率の低い層を設けなくても４０％以上という大きな変調度が得られ、良好な記録特性を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の光情報記録媒体の全体構成を示す模式図
【図２】変調度＝(Ｒ８Ｔ＿ｔｏｐ−Ｒ８Ｔ＿ｂｏｔｔｏｍ)／Ｒ８Ｔ＿ｔｏｐを説明する図
【図３】色素１からなる薄膜の複素屈折率の実部ｎと虚部ｋのスペクトル形状を示す図。
【図４】色素１の吸収スペクトルを示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、図面により、本発明の実施の形態にかかる光情報記録媒体、及びその記録層に用いる光情報記録媒体用色素について説明する。
図１は、本発明のブルーレーザ光を用いる光情報記録媒体の一つの実施形態を模式的に示す断面図である。図１に示すとおり、本発明の光情報記録媒体１１は、基板２と、この基板２上に形成した光反射層３と、この光反射層３の上に形成した光吸収層すなわち光記録層４と、この光記録層４の上に形成した保護層５と、この保護層５の上に形成されたカバー層すなわち光透過層６とを有するものである。
【００１５】
上記構成の光情報記録媒体の記録は、光透過層６を通してレーザ光７を照射することにより行われるが、記録においては、光記録層に含まれる色素が記録光（レーザ光）を吸収し、光エネルギーを熱エネルギーに変換する、すなわち熱を生じ、その熱により色素が熱分解することにより色素の光学的物性が変化する。この光記録層の光学物性の変化により記録でのレーザ光の照射部分、すなわち記録部分の反射率が変化することで記録が行われる。
【００１６】
本発明では、記録感度が高く、具体的には２倍速記録での記録パワーが７ｍＷ以下において、変調度が４０％以上とするための光記録層の光学物性の最適値を見出した。
記録後の反射率が大きくなるＬｏｗ ｔｏ Ｈｉｇｈ型の記録特性を有する光情報記録媒体では、未記録時の反射率をできるだけ小さくした方が、記録前後の反射率の変化である変調度を大きく取ることができる。記録層の膜厚が一定である場合、未記録時の記録層の複素屈折率の実部ｎが大きいほど未記録時の反射率は小さくなる。そしてレーザ光の照射部分すなわち記録部分はｎの値が小さくなって反射率が大きくなる。そのため、できるだけｎの値を大きくすることが好ましい。また、吸収スペクトルのピーク波長λｍａｘを３７０〜４２５ｎｍとすることにより、４０５ｎｍにおける光吸収を大きくすることができる。これにより、未記録時の反射率をより小さくすることができる。
なお、変調度は、８Ｔピットの反射率Ｒにより以下の式で定義される。
変調度＝(Ｒ８Ｔ＿ｔｏｐ−Ｒ８Ｔ＿ｂｏｔｔｏｍ)／Ｒ８Ｔ＿ｔｏｐ
図２は、その説明図である。上記の式から、Ｒ８Ｔ＿ｂｏｔｔｏｍすなわち未記録時の反射率を小さくすると、Ｒ８Ｔ＿ｔｏｐ−Ｒ８Ｔ＿ｂｏｔｔｏｍの値が大きくなるため、変調度は大きくなる。なお、Ｒ８Ｔ＿ｂｏｔｔｏｍの値が小さくなるとともにＲ８Ｔ＿ｔｏｐの値も小さくなることがあるが、この場合、上記の式の分母が小さくなるので、変調度は大きくなる。
【００１７】
以下、本発明における、記録層の複素屈折率の実部ｎの数値を適切な値とする方法について説明する。
図３は、後述する本発明の実施例１で用いた（色素１）の薄膜の複素屈折率の実部ｎと虚部ｋのスペクトル形状を示す。該図では、ｎのスペクトルは、３４０ｎｍ付近で極小値を有し、４２０ｎｍ付近で極大値を有する。一方、ｋのスペクトルは、３８５ｎｍ付近に最大値を有し、ｎの極大波長と極小波長との中間付近にｋが最大となる波長を有する。このようなｎおよびｋのスペクトル形状は理論的な説明が行われている（例えば、「光物性入門」 著者：小林浩一、出版社：裳華房）
【００１８】
図４は、（色素１）の吸収スペクトルを示す図である。
ｋは消衰係数であることから、ｋが最大となる波長およびｋのスペクトル形状は、吸収スペクトルと対応する。ｎのスペクトルのピーク波長が約４２０ｎｍ付近であることから、吸収スペクトルの吸収ピークの波長λmaxが長波長化すると、ｎは減少する。一方、λmaxが短波長化すると、ｎのピーク波長がレーザ光の波長４０５ｎｍよりも長短波長であるときにはｎは増加していき、ｎのピーク波長が４０５ｎｍにおいてｎは最大となり、さらにｎのピーク波長がより長波長になると減少していく。
このように吸収スペクトルのλmaxを適切な範囲に設定することにより、ｎを適切な数値とすることができる。
【００１９】
本発明において、光記録層４は複素屈折率の実数部ｎが１．６５以上、より好ましくは１．７０〜２．１０である色素膜により構成されている。色素膜は単一の種類の色素あるいは複数の種類の色素の混合により形成されていても良い。
【００２０】
本発明の光記録層４を構成する色素としては、例えば下記の一般式（Ｉ）ないし（IV）に示す構造のアゾ化合物に金属イオンが配位する金属錯体化合物、または下記一般式（Ｖ）に示す構造のシアニン化合物であって、吸収スペクトルのピーク波長λｍａｘが３７０〜４２５ｎｍであり、複素屈折率の実数部ｎが１．６５以上、より好ましくは１．７０〜２．１０である色素が好ましく用いられる。なお、下記一般式（Ｉ）及び（II）に示す特定の構造のアゾ化合物に配位する金属イオンは、ニッケル、コバルト、銅から選ばれる。
【００２１】
【化１】
又は
【化２】
式（Ｉ）又は（II）において、環Ａは含窒素複素芳香環である。Ｘは、炭素原子または酸素原子であり、Ｒ１及びＲ２は、炭素数１〜１０の置換されていてもよいアルキル基、分岐アルキル基であり、環状構造を形成しても良い。
環Ａは例えば、以下の（化３）に示すものが挙げられるが限定されるものではない。
【００２２】
【化３】
【００２３】
【化４】
又は
【化５】
式（III）または（IV）において、環Ｂは含窒素複素芳香環である。Ｘは、炭素原子又は酸素原子であり、Ｒ１及びＲ２は、炭素数１〜１０の置換されていてもよいアルキル基、分岐アルキル基であり、環状構造を形成しても良い。Ｒ４は炭素数１〜６のアルキル基、分岐アルキル基であり、環状構造を形成しても良い。
環Ｂは例えば、以下の（化６）に示すものから選ばれる。
【００２４】
【化６】
【００２５】
【化７】
式（Ｖ）において、Ｒ１およびＲ２は置換基を有してもよい炭素数４以下のアルキル基、Ｒ３およびＲ４は置換基を有してもよいアリール基、炭素数４以下のアルキル基、ハロゲン、Ｙ１およびＹ２はＳ、Ｏ、Ｃ（ＣＨ３）２、ＡはＣＨあるいはＮ、Ｘ−は１価の陰イオンから選ばれる。
【００２６】
光記録層４は、これらの色素を例えば２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール（ＴＦＰ）溶液に溶かした色素溶液を、ＤＣジッタ値が最も低くなるときの光学密度（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｄｅｎｓｉｔｙ：以下ＯＤ値と略す）になるように、スピンコート法によって塗布して形成される。ここでＯＤ値とは、色素の最大吸収波長における吸光度を示すものである。測定方法は、図１の基板２の上に、直接記録層５を塗布して、各々の色素の最大吸収波長の光を用いて吸光度を測定することで行われる。ＯＤ値は成膜条件（回転数、時間等）によって調整される。ＤＣジッタが最も低くなるＯＤ値は、記録層５の成膜条件を変えてＯＤ値を変えたサンプルディスクを複数点用意し、市販の記録再生装置（例えばパルステック社製 ＯＤＵ−１０００）で記録を行い、それぞれのＤＣジッタ値を求め、その結果から決定する。
【００２７】
光記録層４の未記録時の屈折率ｎ（複素屈折率の実部）と未記録時の消衰係数ｋ（複素屈折率の虚部）は、ポリカーボネート製の両面が平坦な基板の上面に、色素をＴＦＰに溶解し２０ｇ／Ｌの濃度に調製した色素溶液をスピンコート法により塗布し、温度８０℃で３０分乾燥後、膜厚４０ｎｍである色素薄膜を形成し、ｎ、ｋ計測装置（ＳＴＥＡＧ ＥＴＡ−Ｏｐｔｉｋ ＧｍｂＨ社製ＥＴＡ−ＲＴ／ＵＶ）で測定することにより得られる。
【００２８】
以下、本発明の光情報記録媒体１１における、前記光記録層４以外の構成層について説明する。
（基板）
基板２は、レーザ光に対する屈折率がたとえば１．５〜１．７程度の範囲内の透明度の高い材料で、耐衝撃性に優れた主として樹脂により形成したもの、たとえばポリカーボネート、ガラス板、アクリル板、エポキシ板等を用いる。
基板２には、ピッチ０．３２μｍからなるスパイラル状の案内溝が形成される。トラッキングの誘導をするソフト等の変更を伴えば、溝はリング状の溝でも使用が可能となる。この案内溝は溝幅Ｗ１が１６０ｎｍ〜２００ｎｍ、溝深さＤ１が３２ｎｍ〜４５ｎｍが好ましい。ここで溝幅Ｗ１は、図１に示すように、溝深さＤ１の半分の深さの位置での幅すなわち半値幅で測定される。この案内溝上に反射膜３が構成される。
【００２９】
（光反射層）
光反射層３は、熱伝導率および光反射性の高い金属膜であり、たとえば、金、銀、銅、アルミニウム、あるいはこれらを含む合金を、蒸着法、スパッタ法等の手段により形成する。
反射膜３の厚さは４０ｎｍ〜６５ｎｍが好ましい。なお、反射膜３は案内溝内にも形成されるため、案内溝の寸法は反射膜の厚さ分変化する。反射膜を形成後の溝３’は、溝幅Ｗ２が１５０ｎｍ〜１９０ｎｍ、溝深さＤ２は３２ｎｍ〜４５ｎｍが好ましい。
【００３０】
（保護層）
保護層５は、カバー層６の成膜時における記録層４に含まれる色素のカバー層６への拡散や、カバー層６の形成用の硬化樹脂の溶剤等の記録層４への浸透などの混和現象を防止するためのものである。この保護層５を構成する材料は、酸化珪素、特に二酸化珪素や、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化イットリウム等の酸化物；硫化亜鉛、硫化イットリウムなどの硫化物；窒化珪素などの窒化物、炭化珪素；酸化物と硫黄化合物との混合物などが挙げられる。この保護層６はスパッタリング等の方法で形成される。
【００３１】
（光透過層）
本発明の光情報記録媒体１１においては、光透過層６を通してレーザ光７を照射し、光記録層４が照射されたレーザ光を吸収して光エネルギーを熱エネルギーに変換し、光記録層４の分解あるいは変性などを生じさせ、記録ピットを形成し、記録部分および未記録部分の光反射率などによるコントラストを電気信号（変調度）として読み取っている。
したがって、光透過層６は、レーザ光を透過する材料、例えばアクリル系樹脂，ポリオレフィン系樹脂等の硬化性樹脂で形成されている。
また、光透過層６は、光反射層３や光記録層４を外部の衝撃から保護するとともに、これら各層３，４が湿気等の腐食因子と接触するのを防止する保護層としても機能する。
この光透過層６は、紫外線または放射線によって硬化する硬化性樹脂をスピンコート法等によって厚さ０．１ｍｍに形成される。この光透過層６の光透過性は、硬化後の厚み０．１ｍｍで、４０５ｎｍの波長の光にて分光光度計で測定したときに７０％以上好ましくは８０％以上である。また、この光透過層６は、２５℃における弾性率が４０ＭＰａ以上である。ここで、２５℃における弾性率は、ナノインデンテーション法（神戸製鋼技報／Ｖｏｌ．５２ Ｎｏ．２（Ｓｅｐ．２００２）Ｐ７４〜Ｐ７７）によって測定される。
【実施例】
【００３２】
以下、本発明を実施例によってさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではない。
（実施例１）
中心部分に貫通孔を有し、かつトラックピッチ０．３２μｍ、溝幅１８０ｎｍ、溝深さ３２ｎｍの案内溝を有する外径１２０ｍｍ、厚さ１．１ｍｍの円板状のポリカーボネート製の基板を、射出成形によって作成した。この基板の案内溝が形成された面にＡｇ合金をスパッタリングして６０ｎｍの厚さの反射層を形成した。その後、下記の（化８）に示す化学式で表される有機色素（色素１：ｎ＝１．８５）をＴＦＰ溶剤に溶かした色素溶液をスピンコート法により塗布し、温度８０℃で１０分乾燥後、吸収最大波長（λｍａｘ＝３７９ｎｍ）でのＯＤ値が０．２５となるように光吸収層すなわち光記録層４を形成した。その後、更に光記録層３の上面にＺｎＳ−ＳｉＯ２材料からなる透明な保護層５を２０ｎｍの厚さになるようにスパッタリングした。それからＵＶ硬化樹脂をスピンコート法により塗布し、ＵＶ光照射により硬化させることにより厚さ０．１ｍｍのカバー層すなわち光透過層６を形成し、有機ＢＤ−Ｒ１１の追記型の光情報記録媒体の試料を得た。なお、光透過層６の弾性率は、ナノインデンテーション法により試験荷重０．１ｍＮで２５℃の室温下で弾性率を求めたところ、４０ＭＰａ以上であった。
【００３３】
【化８】
【００３４】
続いて、この有機ＢＤ−Ｒ１１を開口数ＮＡ０．８５、レーザ波長４０５ｎｍの市販の記録再生装置（パルステック社製ＯＤＵ−１０００）を用いて、線速９．８４ｍ／秒（２倍速記録）で記録し、再生特性を評価したところ、ＤＣジッタが最も小さくなるレーザパワーすなわち最適レーザパワーは４．７ｍＷであった。
その後、上記記録機を用いて、レーザ出力を０．３５ｍＷにし、記録信号を再生したところ、このときの変調度は４５％であり、記録感度が高く、変調度が大きいという良好な記録特性が得られた。
表１に光透過層６の２５℃での弾性率、最大吸収波長（λｍａｘ）、ｎ、ｋ、ＯＤ値、記録パワー、変調度を測定した結果を示す。
【００３５】
（実施例２〜１１）
実施例１において、（色素１）の代わりに、それぞれλｍａｘが４２５ｎｍ以下、ｎ＝１．７０以上である下記の（化８）〜（化１８）に示す化学式で表される色素２〜１１を用いたこと、および光透過層６として弾性率の異なる硬化性樹脂を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＢＤ−Ｒ １１を得た。
実施例１と同様にして測定した結果は表１の実施例２〜１１のそれぞれの欄に示した通り、いずれも変調度４０％以上が得られた。
【００３６】
【化９】
【化１０】
【化１１】
【化１２】
【化１３】
【化１４】
【化１５】
【化１６】
【化１７】
【化１８】
【００３７】
（比較例１〜５）
実施例１において、色素１の代わりに、それぞれλmaxが４２６ｎｍ以上、ｎ＝１．７０未満である下記の比較色素１〜６を用いたこと以外は同様にして有機ＢＤ−Ｒ １１を得た。なお、硬化性樹脂は、それぞれ実施例１、実施例５、実施例４、実施例６、実施例４、実施例１と同じ硬化性樹脂を用いた。実施例１と同様にして測定した結果は表１の比較例１〜６のそれぞれの欄に示した通り、いずれも変調度４０％未満であった。
【００３８】
【化１９】
【化２０】
【化２１】
【化２２】
【化２３】
【化２４】
【００３９】
【表１】
【産業上の利用可能性】
【００４０】
本発明の光情報記録媒体用色素は、ブルーレーザにより、Ｉｎ−Ｇｒｏｏｖｅ記録でかつＬｏｗ ｔｏ Ｈｉｇｈ型記録を行う光記録メディアにおいて使用することができる。
【符号の説明】
【００４１】
２：基板
３：光反射層
４：光記録層（光吸収層）
５：保護層
６：光透過層（カバー層）
７：レーザ光（記録、再生）
１１：本発明の追記型光ディスク（有機ＢＤ―Ｒ）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光情報記録媒体用色素に関し、より詳しくは、半導体レーザによる波長が３６０〜４５０ｎｍのレーザ光（ブルーレーザ光、青紫レーザ光）による記録再生を行う光情報記録媒体用色素及びそれを用いた光情報記録媒体に関する
【背景技術】
【０００２】
有機色素を記録材料として用いた追記型光記録メディアは、波長７８０ｎｍのレーザ光を用いて記録再生を行う記録容量６５０ＭＢあるいは７００ＭＢのＣＤ−Ｒや、波長６５０ｎｍのレーザ光を用いて記録再生を行う単層ディスクで記録容量４．７ＧＢのＤＶＤ−Ｒ／＋Ｒが既に広く普及している。これらは未記録での反射率が高く、記録後は反射率が低くなることにより信号として情報を記録するＨｉｇｈ ｔｏ Ｌｏｗ型記録である。
【０００３】
更なる大容量メディアとして、２００６年には波長４０５ｎｍのレーザで記録再生を行い単層での記録容量が１５ＧＢのＨＤ（Ｈｉｇｈ−Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ） ＤＶＤ−Ｒが商品化された。ＨＤ ＤＶＤ−Ｒでは、記録極性は、未記録での反射率が低く、記録後は反射率が高くなるＬｏｗ ｔｏ Ｈｉｇｈである。現在開発が進められている有機色素を記録層に用いたＢｌｕ−ｒａｙ Ｄｉｓｃ−Ｒ（以下、「有機ＢＤ−Ｒ」という。）は、波長４０５ｎｍのレーザで記録再生を行い単層での記録容量が２５ＧＢの追記型光記録メディアである。この有機ＢＤ−Ｒ記録極性は、ＨＤ ＤＶＤ−Ｒと同様、Ｌｏｗ ｔｏ Ｈｉｇｈである。
【０００４】
こうした、Ｌｏｗ ｔｏ Ｈｉｇｈ記録によって高密度の光情報の記録再生が可能な光情報記録媒体に適した新たな有機色素が提案されており、例えば、特許文献１および特許文献２では、特定のアゾ系金属錯体が、Ｌｏｗ ｔｏ Ｈｉｇｈ記録の４０５ｎｍのレーザ光用いた記録再生を行うメディアに好適であるとしている。
また、特許文献３には、４５０ｎｍ以下の短波長のレーザ光によって、Ｌｏｗ ｔｏ Ｈｉｇｈ記録を行う光記録媒体において、記録前における記録層の複素屈折率の実部（ｎ）が１．２〜１．５であり、記録した後の記録層の複素屈折率の実部が１．７〜１．９であるものが記載されており、該記録層には、トリメチンオキソノールをアニオンとし、金属錯体をカチオンとする色素化合物が用いられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−１９６６６１号公報
【特許文献２】特開２００７−４５１４７号公報
【特許文献３】特開２００７−２８７２９８号公報
【特許文献４】特開２００８−１２３６３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
有機ＢＤ−Ｒは、厚さ１．１ｍｍで直径１２０ｍｍの光透過性材料からなる基板上に、反射層、色素含有記録層をこの順に有し、さらに保護層を介して厚さ０．１ｍｍの光透過層（カバー層）を設けた積層構造であり、光透過層（カバー層）側から照射されるレーザ光により記録再生を行うものである。この光透過層は、厚さ０．１ｍｍの光透過性材料からなるシートを接着剤を介して貼り付ける方法か、または紫外線硬化性樹脂等の光透過性の硬化性樹脂をスピンコート法によって厚さ０．１ｍｍに形成する方法によって形成される。
しかしながら、これまでこのような有機ＢＤ−Ｒでは、４０％以上の十分に大きな変調度を実現することは非常に困難であった。
その理由は、大容量の記録を行う有機ＢＤ−Ｒは、記録ピットのサイズが従来のＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒ／＋Ｒと比較して極めて微小であることにある。すなわち、記録ピット形成のためのレーザ光のスポットサイズは小さく、かつ記録におけるレーザ光の照射時間が短い。これは記録において照射されるレーザ光のエネルギー量が小さいことを指しており、記録ピットがＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒ／＋Ｒと比べて形成されにくく、記録信号すなわち記録前後の反射率の大きな変化が得られにくいことを意味する。
特許文献１および特許文献２に開示された色素は、こうした大容量の記録を行う、Ｌｏｗ ｔｏ Ｈｉｇｈ記録に適したものであり、基本的にはＨＤ ＤＶＤ−Ｒと有機ＢＤ−Ｒの両方に使用できる色素であるが、有機ＢＤ−Ｒ特有の課題については何ら記載されていない。
【０００７】
本発明者らが鋭意検討した結果、実際には、記録ピットの部分に光透過層の変形が生じていることがわかってきた。この光透過層の変形と記録層の色素の分解によって、記録ピットと未記録部分との光路長変化を大きくして、大きな変調度を得ることができるものである。ここで、光透過層が厚さ０．１ｍｍの光透過性材料からなるシートを接着剤を介して貼り付ける方法で形成された有機ＢＤ−Ｒでは、接着剤が変形を起こす変形補助層となる。そのため、シート貼り付けによる光透過層を有する有機ＢＤ−Ｒは、特許文献１、特許文献２および特許文献３に記載された有機色素を用いても十分な変調度を実現することが可能である。
【０００８】
一方、光透過層を硬化性樹脂の塗布によって形成する有機ＢＤ−Ｒでは、光透過層と接して弾性率が低い（２５℃での弾性率が４０ＭＰａ以下）硬化性樹脂の層を形成後、さらに弾性率が高い（２５℃での弾性率が４０ＭＰａ以上）硬化性樹脂を形成し、これらの層の総厚が０．１ｍｍとすることで光透過層（カバー層）を形成することができる（上記特許文献４参照）。これにより弾性率が低い硬化性樹脂の層は変形補助層として機能することにより十分な変調を実現するとともに、弾性率が高い硬化性樹脂の層により傷つきにくい光透過層を形成することができる。しかし、このような変形補助層として機能する弾性率が低い層を導入することによりカバー層の層数が多くなりコスト高となる欠点があることから、弾性率が低い層を有しないことが好ましい。
【０００９】
本発明は、以上のような事情に鑑みてなされたものであって、２５℃における弾性率が４０ＭＰａ以上の硬化性樹脂で形成された光透過層を有する有機ＢＤ−Ｒにおいて、弾性率の低い層がなくても十分に大きな変調度が得られ、良好な記録特性を得ることができる光情報記録媒体用色素及びそれを用いた光情報記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、有機色素を含む記録層が、吸収スペクトルのピーク波長λｍａｘが３７０〜４２５ｎｍでかつ複素屈折率の実部ｎが１．６５以上であること、より好ましくは１．７０〜２．１０のときに、この色素層を含むＩｎ−Ｇｒｏｏｖｅ記録でかつＬｏｗ ｔｏ Ｈｉｇｈ型記録の有機ＢＤ−Ｒで変調度が４０％以上となることを見出した。
【００１１】
本発明は、これらの知見に基づいて完成に至ったものであり、以下のとおりのものである。
［１］基板の一方の主面上に、少なくとも、光反射層と、有機色素を含有する光記録層と、保護層と、２５℃における弾性率が４０ＭＰａ以上の硬化性樹脂で形成された光透過層と、がこの順に形成された光情報記録媒体において、前記光記録層は、レーザ光により記録した後の反射率が記録する前の反射率よりも高くなる光学特性を有し、吸収スペクトルのピーク波長λｍａｘが３７０〜４２５ｎｍであり、かつ記録前の複素屈折率の実部（ｎ）が１．６５以上であることを特徴とする光情報記録媒体。
［２］前記光記録層は、記録前の複素屈折率の実部（ｎ）が１．７０〜２．１０であることを特徴とする前記［１］の光情報記録媒体。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、有機ＢＤ−Ｒのような短波長レーザ（４０５ｎｍ）で記録再生を行う光記録メディアにおいて、記録感度が高く、光透過層に弾性率の低い層を設けなくても４０％以上という大きな変調度が得られ、良好な記録特性を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の光情報記録媒体の全体構成を示す模式図
【図２】変調度＝(Ｒ８Ｔ＿ｔｏｐ−Ｒ８Ｔ＿ｂｏｔｔｏｍ)／Ｒ８Ｔ＿ｔｏｐを説明する図
【図３】色素１からなる薄膜の複素屈折率の実部ｎと虚部ｋのスペクトル形状を示す図。
【図４】色素１の吸収スペクトルを示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、図面により、本発明の実施の形態にかかる光情報記録媒体、及びその記録層に用いる光情報記録媒体用色素について説明する。
図１は、本発明のブルーレーザ光を用いる光情報記録媒体の一つの実施形態を模式的に示す断面図である。図１に示すとおり、本発明の光情報記録媒体１１は、基板２と、この基板２上に形成した光反射層３と、この光反射層３の上に形成した光吸収層すなわち光記録層４と、この光記録層４の上に形成した保護層５と、この保護層５の上に形成されたカバー層すなわち光透過層６とを有するものである。
【００１５】
上記構成の光情報記録媒体の記録は、光透過層６を通してレーザ光７を照射することにより行われるが、記録においては、光記録層に含まれる色素が記録光（レーザ光）を吸収し、光エネルギーを熱エネルギーに変換する、すなわち熱を生じ、その熱により色素が熱分解することにより色素の光学的物性が変化する。この光記録層の光学物性の変化により記録でのレーザ光の照射部分、すなわち記録部分の反射率が変化することで記録が行われる。
【００１６】
本発明では、記録感度が高く、具体的には２倍速記録での記録パワーが７ｍＷ以下において、変調度が４０％以上とするための光記録層の光学物性の最適値を見出した。
記録後の反射率が大きくなるＬｏｗ ｔｏ Ｈｉｇｈ型の記録特性を有する光情報記録媒体では、未記録時の反射率をできるだけ小さくした方が、記録前後の反射率の変化である変調度を大きく取ることができる。記録層の膜厚が一定である場合、未記録時の記録層の複素屈折率の実部ｎが大きいほど未記録時の反射率は小さくなる。そしてレーザ光の照射部分すなわち記録部分はｎの値が小さくなって反射率が大きくなる。そのため、できるだけｎの値を大きくすることが好ましい。また、吸収スペクトルのピーク波長λｍａｘを３７０〜４２５ｎｍとすることにより、４０５ｎｍにおける光吸収を大きくすることができる。これにより、未記録時の反射率をより小さくすることができる。
なお、変調度は、８Ｔピットの反射率Ｒにより以下の式で定義される。
変調度＝(Ｒ８Ｔ＿ｔｏｐ−Ｒ８Ｔ＿ｂｏｔｔｏｍ)／Ｒ８Ｔ＿ｔｏｐ
図２は、その説明図である。上記の式から、Ｒ８Ｔ＿ｂｏｔｔｏｍすなわち未記録時の反射率を小さくすると、Ｒ８Ｔ＿ｔｏｐ−Ｒ８Ｔ＿ｂｏｔｔｏｍの値が大きくなるため、変調度は大きくなる。なお、Ｒ８Ｔ＿ｂｏｔｔｏｍの値が小さくなるとともにＲ８Ｔ＿ｔｏｐの値も小さくなることがあるが、この場合、上記の式の分母が小さくなるので、変調度は大きくなる。
【００１７】
以下、本発明における、記録層の複素屈折率の実部ｎの数値を適切な値とする方法について説明する。
図３は、後述する本発明の実施例１で用いた（色素１）の薄膜の複素屈折率の実部ｎと虚部ｋのスペクトル形状を示す。該図では、ｎのスペクトルは、３４０ｎｍ付近で極小値を有し、４２０ｎｍ付近で極大値を有する。一方、ｋのスペクトルは、３８５ｎｍ付近に最大値を有し、ｎの極大波長と極小波長との中間付近にｋが最大となる波長を有する。このようなｎおよびｋのスペクトル形状は理論的な説明が行われている（例えば、「光物性入門」 著者：小林浩一、出版社：裳華房）
【００１８】
図４は、（色素１）の吸収スペクトルを示す図である。
ｋは消衰係数であることから、ｋが最大となる波長およびｋのスペクトル形状は、吸収スペクトルと対応する。ｎのスペクトルのピーク波長が約４２０ｎｍ付近であることから、吸収スペクトルの吸収ピークの波長λmaxが長波長化すると、ｎは減少する。一方、λmaxが短波長化すると、ｎのピーク波長がレーザ光の波長４０５ｎｍよりも長短波長であるときにはｎは増加していき、ｎのピーク波長が４０５ｎｍにおいてｎは最大となり、さらにｎのピーク波長がより長波長になると減少していく。
このように吸収スペクトルのλmaxを適切な範囲に設定することにより、ｎを適切な数値とすることができる。
【００１９】
本発明において、光記録層４は複素屈折率の実数部ｎが１．６５以上、より好ましくは１．７０〜２．１０である色素膜により構成されている。色素膜は単一の種類の色素あるいは複数の種類の色素の混合により形成されていても良い。
【００２０】
本発明の光記録層４を構成する色素としては、例えば下記の一般式（Ｉ）ないし（IV）に示す構造のアゾ化合物に金属イオンが配位する金属錯体化合物、または下記一般式（Ｖ）に示す構造のシアニン化合物であって、吸収スペクトルのピーク波長λｍａｘが３７０〜４２５ｎｍであり、複素屈折率の実数部ｎが１．６５以上、より好ましくは１．７０〜２．１０である色素が好ましく用いられる。なお、下記一般式（Ｉ）及び（II）に示す特定の構造のアゾ化合物に配位する金属イオンは、ニッケル、コバルト、銅から選ばれる。
【００２１】
【化１】
又は
【化２】
式（Ｉ）又は（II）において、環Ａは含窒素複素芳香環である。Ｘは、炭素原子または酸素原子であり、Ｒ１及びＲ２は、炭素数１〜１０の置換されていてもよいアルキル基、分岐アルキル基であり、環状構造を形成しても良い。
環Ａは例えば、以下の（化３）に示すものが挙げられるが限定されるものではない。
【００２２】
【化３】
【００２３】
【化４】
又は
【化５】
式（III）または（IV）において、環Ｂは含窒素複素芳香環である。Ｘは、炭素原子又は酸素原子であり、Ｒ１及びＲ２は、炭素数１〜１０の置換されていてもよいアルキル基、分岐アルキル基であり、環状構造を形成しても良い。Ｒ４は炭素数１〜６のアルキル基、分岐アルキル基であり、環状構造を形成しても良い。
環Ｂは例えば、以下の（化６）に示すものから選ばれる。
【００２４】
【化６】
【００２５】
【化７】
式（Ｖ）において、Ｒ１およびＲ２は置換基を有してもよい炭素数４以下のアルキル基、Ｒ３およびＲ４は置換基を有してもよいアリール基、炭素数４以下のアルキル基、ハロゲン、Ｙ１およびＹ２はＳ、Ｏ、Ｃ（ＣＨ３）２、ＡはＣＨあるいはＮ、Ｘ−は１価の陰イオンから選ばれる。
【００２６】
光記録層４は、これらの色素を例えば２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール（ＴＦＰ）溶液に溶かした色素溶液を、ＤＣジッタ値が最も低くなるときの光学密度（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｄｅｎｓｉｔｙ：以下ＯＤ値と略す）になるように、スピンコート法によって塗布して形成される。ここでＯＤ値とは、色素の最大吸収波長における吸光度を示すものである。測定方法は、図１の基板２の上に、直接記録層５を塗布して、各々の色素の最大吸収波長の光を用いて吸光度を測定することで行われる。ＯＤ値は成膜条件（回転数、時間等）によって調整される。ＤＣジッタが最も低くなるＯＤ値は、記録層５の成膜条件を変えてＯＤ値を変えたサンプルディスクを複数点用意し、市販の記録再生装置（例えばパルステック社製 ＯＤＵ−１０００）で記録を行い、それぞれのＤＣジッタ値を求め、その結果から決定する。
【００２７】
光記録層４の未記録時の屈折率ｎ（複素屈折率の実部）と未記録時の消衰係数ｋ（複素屈折率の虚部）は、ポリカーボネート製の両面が平坦な基板の上面に、色素をＴＦＰに溶解し２０ｇ／Ｌの濃度に調製した色素溶液をスピンコート法により塗布し、温度８０℃で３０分乾燥後、膜厚４０ｎｍである色素薄膜を形成し、ｎ、ｋ計測装置（ＳＴＥＡＧ ＥＴＡ−Ｏｐｔｉｋ ＧｍｂＨ社製ＥＴＡ−ＲＴ／ＵＶ）で測定することにより得られる。
【００２８】
以下、本発明の光情報記録媒体１１における、前記光記録層４以外の構成層について説明する。
（基板）
基板２は、レーザ光に対する屈折率がたとえば１．５〜１．７程度の範囲内の透明度の高い材料で、耐衝撃性に優れた主として樹脂により形成したもの、たとえばポリカーボネート、ガラス板、アクリル板、エポキシ板等を用いる。
基板２には、ピッチ０．３２μｍからなるスパイラル状の案内溝が形成される。トラッキングの誘導をするソフト等の変更を伴えば、溝はリング状の溝でも使用が可能となる。この案内溝は溝幅Ｗ１が１６０ｎｍ〜２００ｎｍ、溝深さＤ１が３２ｎｍ〜４５ｎｍが好ましい。ここで溝幅Ｗ１は、図１に示すように、溝深さＤ１の半分の深さの位置での幅すなわち半値幅で測定される。この案内溝上に反射膜３が構成される。
【００２９】
（光反射層）
光反射層３は、熱伝導率および光反射性の高い金属膜であり、たとえば、金、銀、銅、アルミニウム、あるいはこれらを含む合金を、蒸着法、スパッタ法等の手段により形成する。
反射膜３の厚さは４０ｎｍ〜６５ｎｍが好ましい。なお、反射膜３は案内溝内にも形成されるため、案内溝の寸法は反射膜の厚さ分変化する。反射膜を形成後の溝３’は、溝幅Ｗ２が１５０ｎｍ〜１９０ｎｍ、溝深さＤ２は３２ｎｍ〜４５ｎｍが好ましい。
【００３０】
（保護層）
保護層５は、カバー層６の成膜時における記録層４に含まれる色素のカバー層６への拡散や、カバー層６の形成用の硬化樹脂の溶剤等の記録層４への浸透などの混和現象を防止するためのものである。この保護層５を構成する材料は、酸化珪素、特に二酸化珪素や、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化イットリウム等の酸化物；硫化亜鉛、硫化イットリウムなどの硫化物；窒化珪素などの窒化物、炭化珪素；酸化物と硫黄化合物との混合物などが挙げられる。この保護層６はスパッタリング等の方法で形成される。
【００３１】
（光透過層）
本発明の光情報記録媒体１１においては、光透過層６を通してレーザ光７を照射し、光記録層４が照射されたレーザ光を吸収して光エネルギーを熱エネルギーに変換し、光記録層４の分解あるいは変性などを生じさせ、記録ピットを形成し、記録部分および未記録部分の光反射率などによるコントラストを電気信号（変調度）として読み取っている。
したがって、光透過層６は、レーザ光を透過する材料、例えばアクリル系樹脂，ポリオレフィン系樹脂等の硬化性樹脂で形成されている。
また、光透過層６は、光反射層３や光記録層４を外部の衝撃から保護するとともに、これら各層３，４が湿気等の腐食因子と接触するのを防止する保護層としても機能する。
この光透過層６は、紫外線または放射線によって硬化する硬化性樹脂をスピンコート法等によって厚さ０．１ｍｍに形成される。この光透過層６の光透過性は、硬化後の厚み０．１ｍｍで、４０５ｎｍの波長の光にて分光光度計で測定したときに７０％以上好ましくは８０％以上である。また、この光透過層６は、２５℃における弾性率が４０ＭＰａ以上である。ここで、２５℃における弾性率は、ナノインデンテーション法（神戸製鋼技報／Ｖｏｌ．５２ Ｎｏ．２（Ｓｅｐ．２００２）Ｐ７４〜Ｐ７７）によって測定される。
【実施例】
【００３２】
以下、本発明を実施例によってさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではない。
（実施例１）
中心部分に貫通孔を有し、かつトラックピッチ０．３２μｍ、溝幅１８０ｎｍ、溝深さ３２ｎｍの案内溝を有する外径１２０ｍｍ、厚さ１．１ｍｍの円板状のポリカーボネート製の基板を、射出成形によって作成した。この基板の案内溝が形成された面にＡｇ合金をスパッタリングして６０ｎｍの厚さの反射層を形成した。その後、下記の（化８）に示す化学式で表される有機色素（色素１：ｎ＝１．８５）をＴＦＰ溶剤に溶かした色素溶液をスピンコート法により塗布し、温度８０℃で１０分乾燥後、吸収最大波長（λｍａｘ＝３７９ｎｍ）でのＯＤ値が０．２５となるように光吸収層すなわち光記録層４を形成した。その後、更に光記録層３の上面にＺｎＳ−ＳｉＯ２材料からなる透明な保護層５を２０ｎｍの厚さになるようにスパッタリングした。それからＵＶ硬化樹脂をスピンコート法により塗布し、ＵＶ光照射により硬化させることにより厚さ０．１ｍｍのカバー層すなわち光透過層６を形成し、有機ＢＤ−Ｒ１１の追記型の光情報記録媒体の試料を得た。なお、光透過層６の弾性率は、ナノインデンテーション法により試験荷重０．１ｍＮで２５℃の室温下で弾性率を求めたところ、４０ＭＰａ以上であった。
【００３３】
【化８】
【００３４】
続いて、この有機ＢＤ−Ｒ１１を開口数ＮＡ０．８５、レーザ波長４０５ｎｍの市販の記録再生装置（パルステック社製ＯＤＵ−１０００）を用いて、線速９．８４ｍ／秒（２倍速記録）で記録し、再生特性を評価したところ、ＤＣジッタが最も小さくなるレーザパワーすなわち最適レーザパワーは４．７ｍＷであった。
その後、上記記録機を用いて、レーザ出力を０．３５ｍＷにし、記録信号を再生したところ、このときの変調度は４５％であり、記録感度が高く、変調度が大きいという良好な記録特性が得られた。
表１に光透過層６の２５℃での弾性率、最大吸収波長（λｍａｘ）、ｎ、ｋ、ＯＤ値、記録パワー、変調度を測定した結果を示す。
【００３５】
（実施例２〜１１）
実施例１において、（色素１）の代わりに、それぞれλｍａｘが４２５ｎｍ以下、ｎ＝１．７０以上である下記の（化８）〜（化１８）に示す化学式で表される色素２〜１１を用いたこと、および光透過層６として弾性率の異なる硬化性樹脂を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＢＤ−Ｒ １１を得た。
実施例１と同様にして測定した結果は表１の実施例２〜１１のそれぞれの欄に示した通り、いずれも変調度４０％以上が得られた。
【００３６】
【化９】
【化１０】
【化１１】
【化１２】
【化１３】
【化１４】
【化１５】
【化１６】
【化１７】
【化１８】
【００３７】
（比較例１〜５）
実施例１において、色素１の代わりに、それぞれλmaxが４２６ｎｍ以上、ｎ＝１．７０未満である下記の比較色素１〜６を用いたこと以外は同様にして有機ＢＤ−Ｒ １１を得た。なお、硬化性樹脂は、それぞれ実施例１、実施例５、実施例４、実施例６、実施例４、実施例１と同じ硬化性樹脂を用いた。実施例１と同様にして測定した結果は表１の比較例１〜６のそれぞれの欄に示した通り、いずれも変調度４０％未満であった。
【００３８】
【化１９】
【化２０】
【化２１】
【化２２】
【化２３】
【化２４】
【００３９】
【表１】
【産業上の利用可能性】
【００４０】
本発明の光情報記録媒体用色素は、ブルーレーザにより、Ｉｎ−Ｇｒｏｏｖｅ記録でかつＬｏｗ ｔｏ Ｈｉｇｈ型記録を行う光記録メディアにおいて使用することができる。
【符号の説明】
【００４１】
２：基板
３：光反射層
４：光記録層（光吸収層）
５：保護層
６：光透過層（カバー層）
７：レーザ光（記録、再生）
１１：本発明の追記型光ディスク（有機ＢＤ―Ｒ）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の一方の主面上に、少なくとも、光反射層と、有機色素を含有する光記録層と、保護層と、２５℃における弾性率が４０ＭＰａ以上の硬化性樹脂で形成された光透過層と、がこの順に形成された光情報記録媒体において、前記光記録層は、レーザ光により記録した後の反射率が記録する前の反射率よりも高くなる光学特性を有し、吸収スペクトルのピーク波長λｍａｘが３７０〜４２５ｎｍであり、かつ記録前の複素屈折率の実部（ｎ）が１．６５以上であることを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項２】
前記光記録層は、記録前の複素屈折率の実部（ｎ）が１．７０〜２．１０であることを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項１】
基板の一方の主面上に、少なくとも、光反射層と、有機色素を含有する光記録層と、保護層と、２５℃における弾性率が４０ＭＰａ以上の硬化性樹脂で形成された光透過層と、がこの順に形成された光情報記録媒体において、前記光記録層は、レーザ光により記録した後の反射率が記録する前の反射率よりも高くなる光学特性を有し、吸収スペクトルのピーク波長λｍａｘが３７０〜４２５ｎｍであり、かつ記録前の複素屈折率の実部（ｎ）が１．６５以上であることを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項２】
前記光記録層は、記録前の複素屈折率の実部（ｎ）が１．７０〜２．１０であることを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２０１０−２８２７０６（Ｐ２０１０−２８２７０６Ａ）
【公開日】平成２２年１２月１６日（２０１０．１２．１６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１３７２５８（Ｐ２００９−１３７２５８）
【出願日】平成２１年６月８日（２００９．６．８）
【出願人】（０００２０４２８４）太陽誘電株式会社 (964)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１２月１６日（２０１０．１２．１６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年６月８日（２００９．６．８）
【出願人】（０００２０４２８４）太陽誘電株式会社 (964)
【Ｆターム（参考）】
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