創傷部位を被覆するための重合マスキング材料、およびその使用方法
本発明の一態様は一般に、接着防止バリアを形成するマスキング材料と、被覆材料とで構成される２成分系を使用して、欠陥、創傷、または空隙をシールする方法に関する。ある実施形態において、被覆材料はインサイチュー重合シーラントを含む。ある実施形態において、インサイチュー重合シーラントは、健常組織に結合するが、マスキング材料の下の領域には付着しないままであるハイドロゲルである。ある実施形態において、マスキング材料もハイドロゲルである。ある実施形態において、正常な生物学的プロセスはマスキング材料を溶解させて、創傷部位の上に重合したシーラントの保護カバーを残す。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者の組織の欠陥、創傷、または空隙を包帯、被覆、またはブリッジする方法であって：
該欠陥、創傷、または空隙を第１の材料で被覆するステップと；
該第１の材料を第２の材料で被覆するステップと；
を含み、
該第１の材料によって被覆された領域が該欠陥、創傷、または空隙の領域と等しいか、その領域よりも大きく；該第２の材料が該第１の材料によって被覆された領域を被覆し；該第２の材料によって被覆された領域が該第１の材料によって被覆された領域よりも大きい、方法。
【請求項２】
前記欠陥、創傷、または空隙が硬膜に位置する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記欠陥、創傷、または空隙が硬膜にある、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記第１の材料が欠陥、創傷、または空隙上にブラシで適用される、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記第１の材料が欠陥、創傷、または空隙上にスプレーされる、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記第１の材料が欠陥、創傷、または空隙上にカニューレで適用される、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記第１の材料が生分解性である、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記第１の材料が第２の材料よりも速く実質的に分解、移動または希釈される、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記第１の材料が約３０分間で実質的に分解、移動または希釈される、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記第１の材料が約２時間で実質的に分解、移動または希釈される、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記第１の材料が約１２時間で実質的に分解、移動または希釈される、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記第１の材料が約２４時間で実質的に分解、移動または希釈される、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記第１の材料がポリ（乳酸）、ポリ（グリコール酸）、またはそれらのコポリマーである、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記第１の材料がコラーゲン、ヒアルロン酸、アルブミン、セルロース、エラスチン、フィブリン、フィブロネクチン、ゼラチン、ヘパリン、ヘパリンサルフェート、ポリリジン、ポリ（ビニルアセテート）、ポリビニルピロリドン、ポリ（アクリル酸）、ポリ（エチレングリコール）、ポリ（プロピレングリコール）−ポリ（エチレングリコール）コポリマー、トリメチレンカーボネート、またはトリペプチドＡｒｇ−Ｇｌｙ−Ａｓｐを含むポリペプチドを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記第１の材料がハイドロゲルである、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
前記第１の材料が前もって形成されたハイドロゲルである、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
前記第１の材料がポリアルキレンイミン含有ハイドロゲルである、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
前記第１の材料がハイドロゲルであり；該ハイドロゲルが直径約１ミクロン〜約１００ミクロンの範囲の孔を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
前記第１の材料が薬剤、着色剤、着香剤、芳香剤、繊維添加剤、増粘剤または可塑剤を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
前記第１の材料が少なくとも約１０−３の滅菌保証レベルを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項２１】
前記第１の材料が少なくとも約１０−４の滅菌保証レベルを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項２２】
前記第１の材料が少なくとも約１０−５の滅菌保証レベルを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項２３】
前記第１の材料が少なくとも約１０−６の滅菌保証レベルを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項２４】
前記第２の材料が欠陥、創傷、または空隙上にブラシで適用される、請求項１に記載の方法。
【請求項２５】
前記第２の材料が欠陥、創傷、または空隙上にスプレーされる、請求項１に記載の方法。
【請求項２６】
前記第２の材料が欠陥、創傷、または空隙上にカニューレで適用される、請求項１に記載の方法。
【請求項２７】
前記第２の材料が生分解性である、請求項１に記載の方法。
【請求項２８】
前記第２の材料がハイドロゲルである、請求項１に記載の方法。
【請求項２９】
前記第２の材料が前もって形成されたハイドロゲルである、請求項１に記載の方法。
【請求項３０】
前記第２の材料がポリアルキレンイミン含有ハイドロゲルである、請求項１に記載の方法。
【請求項３１】
前記第２の材料がハイドロゲルであり；該ハイドロゲルが直径約１ミクロン〜約１００ミクロンの範囲の孔を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３２】
前記第２の材料が薬剤、着色剤、着香剤、芳香剤、繊維添加剤、増粘剤または可塑剤を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３３】
前記第２の材料が少なくとも約１０−３の滅菌保証レベルを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３４】
前記第２の材料が少なくとも約１０−４の滅菌保証レベルを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３５】
前記第２の材料が少なくとも約１０−５の滅菌保証レベルを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３６】
前記第２の材料が少なくとも約１０−６の滅菌保証レベルを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３７】
前記欠陥、創傷、または空隙のみが露出されるように、前記第１の材料を該欠陥、創傷、または空隙上に配置する前に滅菌材料片を該欠陥、創傷、または空隙の周囲に配置するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３８】
患者の創傷、空隙、または組織に溶解性ポリマーまたは無機塩を適用するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３９】
患者の創傷、空隙、または組織にメッシュを適用するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４０】
患者の創傷、空隙、または組織にメッシュを適用するステップをさらに含み；該メッシュがメチルメタクリレート、メルシレン、シリコーン、テフロン（登録商標）、ダクロン（登録商標）、ポリエチレン、ポリエステル、チタン−ダクロン（登録商標）、ヒドロキシルアパタイト、またはそれらの組合せを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４１】
患者の創傷、空隙、または組織にメッシュを適用するステップをさらに含み；該メッシュがポリプロピレンまたはポリエステルを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４２】
患者の創傷、空隙、または組織にメッシュを適用するステップをさらに含み；該メッシュが生分解性ポリマーを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４３】
患者の創傷、空隙、または組織にメッシュを適用するステップをさらに含み；該メッシュがポリ（グリコール酸）、ポリ（乳酸）、またはそれらのコポリマーを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４４】
前記第１の材料がメッシュを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４５】
前記第１の材料がメッシュを含み；該メッシュがメチルメタクリレート、メルシレン、シリコーン、テフロン（登録商標）、ダクロン（登録商標）、ポリエチレン、ポリエステル、チタン−ダクロン（登録商標）、ヒドロキシルアパタイト、またはそれらの組合せを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４６】
第１の材料がメッシュを含み；該メッシュがポリプロピレンまたはポリエステルを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４７】
第１の材料がメッシュを含み；該メッシュが生分解性ポリマーを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４８】
第１の材料がメッシュを含み；該メッシュがポリ（グリコール酸）、ポリ（乳酸）、またはそれらのコポリマーを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４９】
第２の材料がメッシュを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５０】
第２の材料がメッシュを含み；該メッシュがメチルメタクリレート、メルシレン、シリコーン、テフロン（登録商標）、ダクロン（登録商標）、ポリエチレン、ポリエステル、チタン−ダクロン（登録商標）、ヒドロキシルアパタイト、またはそれらの組合せを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５１】
第２の材料がメッシュを含み；該メッシュがポリプロピレンまたはポリエステルを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５２】
第２の材料がメッシュを含み；該メッシュが生分解性ポリマーを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５３】
第２の材料がメッシュを含み；該メッシュがポリ（グリコール酸）、ポリ（乳酸）、またはそれらのコポリマーを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５４】
第１の材料がハイドロゲルであり；前記欠陥、創傷、または空隙を第１の材料によって被覆するステップが：
第１の組成物を該欠陥、創傷、または空隙に適用するステップと；
第２の組成物を該欠陥、創傷、または空隙に適用するステップと；
を含み；
第１の時間量の後、該第１の組成物の適用および該第２の組成物の適用が第１の材料の形成をもたらす；
請求項１に記載の方法。
【請求項５５】
前記第１の材料がハイドロゲルであり；前記欠陥、創傷、または空隙を第１の材料によって被覆するステップが：
プレハイドロゲル混合物を該欠陥、創傷、または空隙に適用するステップ；
を含み；
該プレハイドロゲル混合物が第１の組成物および第２の組成物を含み；第１の時間量の後、該プレハイドロゲル混合物がゲル化して、それにより第１の材料を形成する；
請求項１に記載の方法。
【請求項５６】
第１の組成物および第２の組成物を合わせるステップと；
第２の時間量を待って、それによりプレハイドロゲル混合物を形成するステップと；
をさらに含む、請求項５５に記載の方法。
【請求項５７】
前記第２の材料がハイドロゲルであり；前記第１の材料を第２の材料で被覆するステップが：
第１の組成物を該第１の材料の上に適用するステップと；
第２の組成物を該第１の材料の上に適用するステップと；
を含み；
第１の時間量の後、該第１の組成物の適用および該第２の組成物の適用が第２の材料の形成をもたらす；
請求項５４〜５６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５８】
前記第２の材料がハイドロゲルであり；前記第１の材料を第２の材料で被覆するステップが：
プレハイドロゲル混合物を第１の材料の上に適用するステップ；
を含み；
該プレハイドロゲル混合物が第１の組成物および第２の組成物を含み；第１の時間量の後、該プレハイドロゲル混合物がゲル化して、それにより第２の材料を形成する；
請求項５４〜５６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５９】
第１の組成物および第２の組成物を合わせるステップと；
第２の時間量を待って、それによりプレハイドロゲル混合物を形成するステップと；
をさらに含む、請求項５０に記載の方法。
【請求項６０】
前記第１の組成物が式Ｉａ：
【化１７５】
の化合物を含み、
式中、各出現で独立して、
Ｗが、−ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、または−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−であり；
Ｒが、水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、またはｉ−プロピルであり；
Ｒ１が、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、
【化１７６】
【化１７７】
【化１７８】
または炭水化物ラジカルであり；
Ｙが、−ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、または−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−であり；
Ｒ２が、Ｒ２が電子対でないときに薬学的に許容される対イオンが存在するという条件で、電子対、水素、アルキル、またはアラルキルであり、
Ｒ３が、水素、または
【化１７９】
であり；
Ｒ４が、水素、アルキル、アルコキシル、ハロゲンまたはアラルキルであり；
Ｒ５が、水素、アルキル、アリールまたはアラルキルであり；
Ｒ６が、水素、または
【化１８０】
であり；
Ｒ７が、水素、または
【化１８１】
であり；
Ｒ８が、水素、または
【化１８２】
であり；
Ｒ９が、水素、または
【化１８３】
であり；
ｄが、１以上１０以下の整数であり；
ｎが、１以上４以下の整数であり；
ｙが、５以上４０，０００以下の整数であり；
ｚが、０以上２０，０００以下の整数であり；
ただし、ｙおよびｚの和が約５０，０００未満である；
請求項５４〜５９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６１】
Ｒ１の少なくとも約５％が水素、
【化１８４】
【化１８５】
である、請求項６０に記載の方法。
【請求項６２】
Ｗが−ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、または−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−である、請求項６０に記載の方法。
【請求項６３】
Ｗが−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、または−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−である、請求項６０に記載の方法。
【請求項６４】
Ｗが−ＣＨ２ＣＨ２−である、請求項６０に記載の方法。
【請求項６５】
Ｒ１の少なくとも約５０％が水素である、請求項６０に記載の方法。
【請求項６６】
Ｒ１の少なくとも約７０％が水素である、請求項６０に記載の方法。
【請求項６７】
Ｒ１の少なくとも約９０％が水素である、請求項６０に記載の方法。
【請求項６８】
Ｒ１の少なくとも約９５％が水素である、請求項６０に記載の方法。
【請求項６９】
Ｒ１が
【化１８６】
である、請求項６０に記載の方法。
【請求項７０】
Ｒ１が
【化１８７】
である、請求項６０に記載の方法。
【請求項７１】
Ｒが水素である、請求項６０に記載の方法。
【請求項７２】
Ｒ２が電子対である、請求項６０に記載の方法。
【請求項７３】
Ｒ６が水素である、請求項６０に記載の方法。
【請求項７４】
Ｒ７が水素である、請求項６０に記載の方法。
【請求項７５】
Ｒ８が水素である、請求項６０に記載の方法。
【請求項７６】
Ｒ９が水素である、請求項６０に記載の方法。
【請求項７７】
ｄが１以上８以下である、請求項６０に記載の方法。
【請求項７８】
ｎが１または２である、請求項６０に記載の方法。
【請求項７９】
ｙおよびｚの和が約５０〜約２００の整数である、請求項６０に記載の方法。
【請求項８０】
前記式Ｉａの化合物がＮＨ２（ＣＨ２）２Ｎ（Ｈ）（ＣＨ２）４Ｎ（Ｈ）（ＣＨ２）２ＮＨ２またはＮＨ２（ＣＨ２）３Ｎ（Ｈ）（ＣＨ２）４Ｎ（Ｈ）（ＣＨ２）３ＮＨ２である、請求項６０に記載の方法。
【請求項８１】
前記式Ｉａの化合物が約６００ダルトン〜約１０，０００ダルトンの重量平均分子量を有する、請求項６０に記載の方法。
【請求項８２】
前記第１の組成物が
【化１８８】
から成る群より選択される式Ｉｂの化合物を含み；
式中、各出現で独立して、
Ｒが、水素、アルキル、アリールまたはアラルキルであり；
Ｒ１が、水素、アルキル、または重合阻害剤であり；
Ｒ２が、電子対、水素、アルキル、またはアラルキルであり、ただしＲ２が電子対でないときに薬学的に許容される対イオンが存在し；
Ｒ３が、水素、アルキル、アリール、アラルキル、アシル、
【化１８９】
であり；
Ｒ４が、水素、アルキル、アリール、アラルキル、
【化１９０】
であり；
Ｒ５が、水素、またはアルキルであり；
Ｒ６が、水素、アルキル、アリール、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、または−ＯＣ（Ｏ）Ｒ４であり；
ｄが、１以上８以下の整数であり；
ｐが、１以上５以下の整数であり；
ｑが、５０以上１００，０００以下の整数である；
請求項５４〜８１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８３】
式Ｉｂの化合物が
【化１９１】
である、請求項８２に記載の方法。
【請求項８４】
式Ｉｂの化合物が
【化１９２】
である、請求項８２に記載の方法。
【請求項８５】
式Ｉｂの化合物が
【化１９３】
である、請求項８２に記載の方法。
【請求項８６】
式Ｉｂの化合物が
【化１９４】
であり；Ｒ４が−（ＣＨ２）ｄＮＨ２である、請求項８２に記載の方法。
【請求項８７】
前記第１の組成物が式Ｉｅ：
【化１９５】
によって表される１つ以上のモノマー単位を有するポリマーを含み、
式中、各出現で独立して、
Ｗが、−ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、または−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−であり；
Ｒが、水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、またはｉ−プロピルであり；
Ｒ１が、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、
【化１９６】
【化１９７】
【化１９８】
【化１９９】
または炭水化物ラジカルであり；
Ｙが、−ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、または−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−であり；
Ｒ２が、電子対、水素、アルキル、またはアラルキルであり、ただしＲ２が電子対でないときに薬学的に許容される対イオンが存在し；
Ｒ３が、水素、または
【化２００】
であり；
Ｒ４が、水素、アルキル、アルコキシ、ハロゲンまたはアラルキルであり；
Ｒ５が、水素、アルキル、アリールまたはアラルキルであり；
Ｒ６が、水素、または
【化２０１】
であり；
Ｒ７が、水素、または
【化２０２】
であり；
Ｒ８が、水素、または
【化２０３】
であり；
Ｒ９が、水素、または
【化２０４】
であり；
ｄが、１以上１０以下の整数であり；
ｎが、１以上４以下の整数であり；
ｙが、５以上４０，０００以下の整数であり；
ｚが、０以上２０，０００以下の整数であり；
ただし、ｙおよびｚの和が約５０，０００未満である；
請求項５４〜８６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８８】
Ｒ１の少なくとも約５％が水素、
【化２０５】
【化２０６】
である、請求項８７に記載の方法。
【請求項８９】
Ｗが−ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、または−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−である、請求項８７に記載の方法。
【請求項９０】
Ｗが−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、または−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−である、請求項８７に記載の方法。
【請求項９１】
Ｒ１の少なくとも約５０％が水素である、請求項８７に記載の方法。
【請求項９２】
Ｒ１の少なくとも約７０％が水素である、請求項８７に記載の方法。
【請求項９３】
Ｒ１の少なくとも約９０％が水素である、請求項８７に記載の方法。
【請求項９４】
Ｒ１の少なくとも約９５％が水素である、請求項８７に記載の方法。
【請求項９５】
Ｒ１が
【化２０７】
である、請求項８７に記載の方法。
【請求項９６】
Ｒ１が
【化２０８】
である、請求項８７に記載の方法。
【請求項９７】
Ｒが水素である、請求項８７に記載の方法。
【請求項９８】
Ｒ２が電子対である、請求項８７に記載の方法。
【請求項９９】
Ｒ６が水素である、請求項８７に記載の方法。
【請求項１００】
Ｒ７が水素である、請求項８７に記載の方法。
【請求項１０１】
Ｒ８が水素である、請求項８７に記載の方法。
【請求項１０２】
Ｒ９が水素である、請求項８７に記載の方法。
【請求項１０３】
ｄが１以上８以下である、請求項８７に記載の方法。
【請求項１０４】
ｎが１または２である、請求項８７に記載の方法。
【請求項１０５】
ｙおよびｚの和が約５０〜約２００の整数である、請求項８７に記載の方法。
【請求項１０６】
前記第１の組成物が
【化２０９】
から成る群より選択される式ＩＶの化合物を含み、
式中、各出現で独立して、
Ｒ１が、
【化２１０】
であり；
Ｒ２が、水素、アルキル、またはハロゲンであり；
Ｒ３が、
【化２１１】
【化２１２】
であり；
Ｒ４が、水素、アルキル、アリール、アラルキル、
【化２１３】
であり；
Ｒ５が、水素、アルキル、またはアラルキルであり；
ｆが、１以上２５以下の整数であり；
ｋが、１以上２５以下の整数であり；
ｐが、１以上５以下の整数であり；
ｖが、２以上４以下の整数であり；
ｗが、５以上１，０００以下の整数である、
請求項５４〜１０５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０７】
前記第２の組成物がＲ１−（アルキルジラジカル）−Ｒ１，Ｒ１（ヘテロアルキルジラジカル）−Ｒ１、
【化２１４】
から成る群より選択される式ＩＩＩの化合物を含み；
式中、各出現で独立して、
Ｒ１が、
【化２１５】
【化２１６】
であり；
Ｒ２が、水素、アルキル、またはハロゲンであり；
Ｒ３が、−Ｃ（Ｏ）Ｈ、−Ｃ（Ｏ）アルキル、−Ｃ（Ｏ）フルオロアルキル、−Ｃ（Ｏ）クロロアルキル、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＮＯ２、
【化２１７】
であり；
Ｒ４が、−Ｎ＝Ｃ＝Ｏ、−Ｎ＝Ｃ＝Ｓ、
【化２１８】
であり；
Ｒ５が、水素、アルキル、またはアラルキルであり；
Ｒ６が、水素、またはＣ１−Ｃ６アルキルであり；
Ｒ７が、−ＣＯ２Ｈ、−（ＣＲ６２）ｐＮ＝Ｃ＝Ｏ、
【化２１９】
であり；
Ｒ８が、
【化２２０−１】
であり；
Ｒ９が、
【化２２０−２】
【化２２１】
であり；
Ａ１が、アルキルジラジカル、ヘテロアルキルジラジカル、シクロアルキルジラジカル、ヘテロシクロアルキルジラジカル、アルケニルジラジカル、アルキニルジラジカル、アリールジラジカル、ヘテロアリールジラジカル、アラルキルジラジカル、またはヘテロアラルキルジラジカルであり；
Ａ２が、結合、アルキルジラジカル、ヘテロアルキルジラジカル、シクロアルキルジラジカル、ヘテロシクロアルキルジラジカル、アルケニルジラジカル、アルキニルジラジカル、アリールジラジカル、ヘテロアリールジラジカル、アラルキルジラジカル、またはヘテロアラルキルジラジカルであり；
Ａ３が、アルキルトリラジカル、ヘテロアルキルトリラジカル、シクロアルキルトリラジカル、ヘテロシクロアルキルトリラジカル、アルケニルトリラジカル、アリールトリラジカル、ヘテロアリールトリラジカル、アラルキルトリラジカル、またはヘテロアラルキルトリラジカルであり；
Ａ４が、アルキルジラジカル、シクロアルキルジラジカル、アリールジラジカル、またはアラルキルジラジカルであり；
Ａ５が、アルキルジラジカル、ヘテロアルキルジラジカル、または
【化２２２】
であり；
ｆが、１以上２５以下の整数であり；
ｋが、１以上２５以下の整数であり；
ｐが、０以上５以下の整数であり；
ｔが、１以上４以下の整数であり；
ｖが、２以上４以下の整数であり；
ｗが、５以上１，０００以下の整数である；
請求項５４〜１０６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０８】
ｗが約５０〜約２５０の範囲内の整数である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１０９】
ｗが約６０〜約９０の範囲内の整数である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１１０】
ｗが約１５〜約９０の範囲内の整数である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１１１】
式ＩＩＩの化合物が
【化２２３】
である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１１２】
Ｒ１が
【化２２４】
である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１１３】
式ＩＩＩの化合物が
【化２２５】
であり；Ｒ１が
【化２２６】
である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１１４】
式ＩＩＩの化合物が
【化２２７】
であり；Ｒ１が
【化２２８】
であり；ｗが約１５〜約９０の範囲内の整数である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１１５】
式ＩＩＩの化合物が
【化２２９】
であり；Ｒ１が
【化２３０】
であり；ｆが３である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１１６】
式ＩＩＩの化合物が
【化２３１】
であり；Ｒ１が
【化２３２】
であり；ｋが２、または３である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１１７】
式ＩＩＩの化合物が
【化２３３】
であり；ｓが１以上２０以下の範囲内の整数である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１１８】
Ｒ９が
【化２３４】
【化２３５】
である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１１９】
式ＩＩＩの化合物が
【化２３６】
であり；Ａ５が
【化２３７】
であり；Ａ１がアリールジラジカルである、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１２０】
式ＩＩＩの化合物が
【化２３８】
であり；Ａ５が
【化２３９】
であり；Ａ１が場合により置換されたフェニルジラジカルである、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１２１】
式ＩＩＩの化合物が
【化２４０】
であり；Ａ５が
【化２４１】
であり；Ａ２が結合であり；Ａ１がアルキルジラジカルである、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１２２】
式ＩＩＩの化合物が
【化２４２】
であり；Ａ５が
【化２４３】
であり；Ａ２が結合であり；Ａ３がアルキルトリラジカルである、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１２３】
式ＩＩＩの化合物が
【化２４４】
であり；Ａ５が
【化２４５】
であり；Ａ２が結合であり；Ａ１がアルキルジラジカルであり；Ｒ７が
【化２４６】
である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１２４】
式ＩＩＩの化合物が
【化２４７】
であり；Ａ５が
【化２４８】
であり；Ａ２が結合であり；Ａ３がアルキルトリラジカルであり；Ｒ７が
【化２４９】
である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１２５】
式ＩＩＩの化合物が
【化２５０】
であり；Ａ５が
【化２５１】
であり；Ａ２がアリールジラジカルであり；Ａ１がアラルキルジラジカルであり；Ｒ７が
【化２５２】
である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１２６】
式ＩＩＩの化合物が
【化２５３】
であり；Ａ５が
【化２５４】
であり；Ａ２がアリールジラジカルであり；Ａ３がアラルキルトリラジカルであり；Ｒ７が
【化２５５】
である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１２７】
式ＩＩＩの化合物が
【化２５６】
であり；Ａ５が
【化２５７】
であり；Ａ２が場合により置換されたフェニルジラジカルであり；Ａ１が場合により置換されたベンジルジラジカルであり；Ｒ７が
【化２５８】
である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１２８】
式ＩＩＩの化合物が
【化２５９】
であり；Ａ５が
【化２６０】
であり；Ａ２が場合により置換されたフェニルジラジカルであり；Ａ３が場合により置換されたベンジルトリラジカルであり；Ｒ７が
【化２６１】
である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１２９】
式ＩＩＩの化合物が
【化２６２】
であり；Ｒ１が
【化２６３】
である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１３０】
式ＩＩＩの化合物が
【化２６４】
であり；Ｒ１が
【化２６５】
であり；Ｒ６がＣ１−Ｃ６アルキルであり；Ａ１が場合により置換されたフェニルジラジカルである、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１３１】
式ＩＩＩの化合物が
【化２６６】
であり；Ｒ１が
【化２６７】
であり；Ａ１がフェニルジラジカルである、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１３２】
Ｒ１が−ＣＨ２Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｈ）−Ａ４−Ｒ３であり；Ａ４がアルキルジラジカルであり；Ｒ３が
【化２６８】
である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１３３】
ｆが１以上９以下の整数である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１３４】
ｋが１以上９以下の整数である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１３５】
前記式ＩＩＩの化合物が約５００ダルトン〜約２０，０００ダルトンの重量平均分子量を有する、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１３６】
式ＩＩＩの化合物が
【化２６９】
であり、
式中、各出現で独立して、
Ｇが、−ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、または−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−であり；
Ｒが、水素またはメチルである；
請求項１０７に記載の方法。
【請求項１３７】
Ｇが−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−、または−Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２−である、請求項１３６に記載の方法。
【請求項１３８】
前記第２の組成物が
【化２７０】
から成る群より選択される式ＩＶの化合物をさらに含み、
式中、各出現で独立して、
Ｒ１が、
【化２７１】
であり；
Ｒ２が、水素、アルキル、またはハロゲンであり；
Ｒ３が、
【化２７２】
であり；
Ｒ４が、水素、アルキル、アリール、アラルキル、
【化２７３】
であり；
Ｒ５が、水素、またはアルキルであり；
ｆが、１以上２５以下の整数であり；
ｋが、１以上２５以下の整数であり；
ｐが、１以上５以下の整数であり；
ｖが、２以上４以下の整数であり；
ｗが、５以上１，０００以下の整数である；
請求項１０７〜１３７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３９】
第１の組成物が式Ｉａ：
【化２７４】
の化合物を含み、
式中、各出現で独立して、
Ｗが、−ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、または−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−であり；
Ｒが、水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、またはｉ−プロピルであり；
Ｒ１が、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、
【化２７５】
であり；
Ｒ２が、電子対、水素、アルキル、またはアラルキルであり、ただしＲ２が電子対でないときに薬学的に許容される対イオンが存在し、
Ｒ３が、水素、または
【化２７６】
であり；
Ｒ４が、水素、アルキル、アルコキシ、ハロゲンまたはアラルキルであり；
Ｒ５が、水素、アルキル、アリールまたはアラルキルであり；
Ｒ６が、水素、または
【化２７７】
であり；
Ｒ７が、水素、または
【化２７８】
であり；
Ｒ８が、水素、または
【化２７９】
であり；
Ｒ９が、水素、または
【化２８０】
であり；
ｄが、１以上８以下の整数であり；
ｎが、１以上４以下の整数であり；
ｙが、５以上４０，０００以下の整数であり；
ｚが、０以上２０，０００以下の整数であり；
ただし、ｙおよびｚの和が約５０，０００未満である；
請求項５４〜５９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４０】
Ｒ１の５％が
【化２８１】
である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１４１】
Ｒ１の少なくとも約１０％が
【化２８２】
である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１４２】
Ｒ１の少なくとも約２５％が
【化２８３】
である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１４３】
Ｒ１の少なくとも約５０％が
【化２８４】
である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１４４】
Ｒが水素である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１４５】
Ｗが−ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、または−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１４６】
Ｗが−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、または−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１４７】
Ｗが−ＣＨ２ＣＨ２−である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１４８】
Ｒ２が電子対である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１４９】
Ｒ６が水素である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１５０】
Ｒ７が水素である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１５１】
Ｒ８が水素である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１５２】
Ｒ９が水素である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１５３】
ｄが１以上８以下である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１５４】
ｎが１または２である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１５５】
ｙおよびｚの和が約５０〜約２００の整数である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１５６】
前記第１の組成物が
【化２８５】
から成る群より選択される式Ｉｂの化合物を含み；
式中、各出現で独立して、
Ｒが、水素、アルキル、アリールまたはアラルキルであり；
Ｒ１が、水素、アルキル、
【化２８６】
であり；
Ｒ２が、電子対、水素、アルキル、またはアラルキルであり、ただしＲ２が電子対でないときに薬学的に許容される対イオンが存在し、
Ｒ３が、水素、アルキル、アリール、アラルキル、アシル、
【化２８７】
【化２８８】
であり；
Ｒ４が、水素、アルキル、アリール、アラルキル、
【化２８９】
であり；
Ｒ５が、水素、またはアルキルであり；
Ｒ６が、水素、またはＣ１−Ｃ３アルキルであり；
ｄが、１以上８以下の整数であり；
ｐが、１以上５以下の整数であり；
ｑが、５０以上１００，０００以下の整数である；
請求項５４〜５９および１３９〜１５５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５７】
式Ｉｂの化合物が
【化２９０】
である、請求項１５６に記載の方法。
【請求項１５８】
式Ｉｂの化合物が
【化２９１】
である、請求項１５６に記載の方法。
【請求項１５９】
式Ｉｂの化合物が
【化２９２】
である、請求項１５６に記載の方法。
【請求項１６０】
Ｒ１が
【化２９３】
である、請求項１５６に記載の方法。
【請求項１６１】
Ｒ３が
【化２９４】
である、請求項１５６に記載の方法。
【請求項１６２】
Ｒ４が
【化２９５】
である、請求項１５６に記載の方法。
【請求項１６３】
前記第１の組成物が式Ｉｃ：
【化２９６】
の化合物を含み、
式中、各出現で独立して、
Ｗが、−ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、または−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−であり；
Ｒは、水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、またはｉ−プロピルであり；
Ｒ１が、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、
【化２９７】
であり；
Ｒ２が、電子対、水素、アルキル、またはアラルキルであり、ただしＲ２が電子対でないときに薬学的に許容される対イオンが存在し、
Ｒ３が、水素、または
【化２９８】
であり；
Ｒ４が、水素、アルキル、アルコキシ、ハロゲンまたはアラルキルであり；
Ｒ５が、水素、アルキル、アリールまたはアラルキルであり；
Ｒ６が、水素、または
【化２９９】
であり；
Ｒ７が、水素、または
【化３００】
であり；
Ｒ８が、水素、または
【化３０１】
であり；
Ｒ９が、水素、または
【化３０２】
であり；
ｄが、１以上８以下の整数であり；
ｎが、１以上４以下の整数であり；
ｐが、１以上５以下の整数であり；
ｖが、２以上４以下の整数であり；
ｗが、５以上１，０００以下の整数であり；
ｙが、５以上４０，０００以下の整数であり；
ｚが、０以上２０，０００以下の整数であり；
ただし、およびｚの和が約５０，０００未満である；
請求項５４〜５９および１３９〜１６２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６４】
Ｒが水素である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１６５】
Ｗが−ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、または−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１６６】
Ｗが−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、または−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１６７】
Ｒ１の少なくとも約５０％が水素である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１６８】
Ｒ１の少なくとも約７０％が水素である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１６９】
Ｒ１の少なくとも約９０％が水素である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１７０】
Ｒ１の少なくとも約９５％が水素である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１７１】
Ｒ１の少なくとも約５％が
【化３０３】
である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１７２】
Ｒ１の少なくとも約１０％が
【化３０４】
である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１７３】
Ｒ１の少なくとも約２５％が
【化３０５】
である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１７４】
Ｒ１の少なくとも約５０％が
【化３０６】
である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１７５】
Ｒ２が電子対である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１７６】
Ｒ６が水素である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１７７】
Ｒ７が水素である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１７８】
Ｒ８が水素である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１７９】
Ｒ９が水素である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１８０】
ｄが１以上８以下である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１８１】
ｎが１または２である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１８２】
ｙおよびｚの和が約５０〜約２００の整数である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１８３】
ｙが約２〜約１００の範囲内の整数である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１８４】
前記第２の組成物が
【化３０７】
から成る群より選択される式ＩＩＩの化合物を含み；
式中、各出現で独立して、
Ｒ１が、
【化３０８】
【化３０９】
であり；
Ｒ２が、水素、アルキル、またはハロゲンであり；
Ｒ３が、
【化３１０】
であり；
Ｒ４が、水素、アルキル、アリール、アラルキル、
【化３１１】
であり；
Ｒ５が、水素、またはアルキルであり；
ｆが、１以上２５以下の整数であり；
ｋが、１以上２５以下の整数であり；
ｐが、１以上５以下の整数であり；
ｖが、２以上４以下の整数であり；
ｗが、５以上１，０００以下の整数である、
請求項５４〜５９および１３９〜１８３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８５】
式ＩＩＩの化合物が
【化３１２】
である、請求項１８４に記載の方法。
【請求項１８６】
Ｒ２が水素である、請求項１８４に記載の方法。
【請求項１８７】
Ｒ４が水素である、請求項１８４に記載の方法。
【請求項１８８】
Ｒ５が水素である、請求項１８４に記載の方法。
【請求項１８９】
ｆが１以上９以下の整数である、請求項１８４に記載の方法。
【請求項１９０】
ｋが１以上９以下の整数である、請求項１８４に記載の方法。
【請求項１９１】
前記第１の時間量が約２分間である、請求項５４〜１９０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９２】
前記第１の時間量が約１分間である、請求項５４〜１９０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９３】
前記第１の時間量が約３０秒間である、請求項５４〜１９０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９４】
前記第１の時間量が約１０秒間である、請求項５４〜１９０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９５】
前記第１の材料、前記第２の材料、または該第１の材料および該第２の材料の両方を第３の組成物に曝露して、それにより光重合性材料を形成するステップと；
該光重合性材料を紫外光または可視光に曝露して、それにより該光重合性材料を重合するステップと；
をさらに含み；
該第３の組成物が式Ｖ：
【化３１３】
の化合物を含み、
式中、各出現で独立して、
Ｒ１が、ハロゲン、
【化３１４】
であり；
Ｒ２が、水素、アルキル、アリールまたはアラルキルであり；
Ｒ３が、水素、アルキル、アリール、またはアラルキルであり；
Ｒ４が、水素、アルキル、アリール、またはアラルキルである；
請求項１〜１９４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９６】
前記式Ｖの化合物が
【化３１５】
【化３１６】
である、請求項１９５に記載の方法。
【請求項１９７】
前記式Ｖの化合物が
【化３１７】
である、請求項１９５に記載の方法。
【請求項１９８】
前記光重合性材料が紫外光のみによって処理される、請求項１９５に記載の方法。
【請求項１９９】
前記光重合性材料が可視光のみによって処理され；前記方法が該光重合性材料を光開始剤に曝露するステップをさらに含む、請求項１９５に記載の方法。
【請求項２００】
前記光開始剤がエオシンｙである、請求項１９９に記載の方法。
【請求項２０１】
前記欠陥、創傷、または空隙を第１の材料によって被覆するステップが：
組成物を欠陥、創傷、または空隙に適用するステップと；
該組成物を、該組成物を重合するのに十分な紫外光または可視光によって処理して、それにより第１の材料を形成するステップと；
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２０２】
前記第１の材料を第２の材料によって被覆するステップが：
組成物を第１の材料を覆うように適用するステップと；
該組成物を、該組成物を重合するのに十分な紫外光または可視光によって処理して、それにより第２の材料を形成するステップと；
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２０３】
前記組成物が式Ｉ：
【化３１８】
の化合物を含み、
式中、各出現で独立して、
Ｗが、−ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、または−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−であり；
Ｒが、水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、またはｉ−プロピルであり；
Ｒ１が、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、
【化３１９】
【化３２０】
【化３２１】
または炭水化物ラジカルであり；
Ｙが、−ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、または−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−であり；
Ｒ２が、電子対、水素、アルキル、またはアラルキルであり、ただしＲ２が電子対でないときに薬学的に許容される対イオンが存在し、
Ｒ３が、水素、または
【化３２２】
であり；
Ｒ４が、水素、アルキル、アルコキシ、ハロゲンまたはアラルキルであり；
Ｒ５が、水素、アルキル、アリールまたはアラルキルであり；
Ｒ６が、水素、または
【化３２３】
であり；
Ｒ７が、水素、または
【化３２４】
であり；
Ｒ８が、水素、または
【化３２５】
であり；
Ｒ９が、水素、または
【化３２６】
であり；
Ｒ１０が、水素、アルキル、アリールまたはアラルキルであり；
ｄが、１以上１０以下の整数であり；
ｎが、１以上４以下の整数であり；
ｙが、５以上４０，０００以下の整数であり；
ｚが、０以上２０，０００以下の整数であり；
Ｒ１の少なくとも約５％が
【化３２７】
であり；ただし、ｙおよびｚの和が約５０，０００未満である；
請求項２０１または２０２に記載の方法。
【請求項２０４】
前記組成物が
【化３２８】
から成る群より選択される式ＩＩＩの化合物を含み、
式中、各出現で独立して、
Ｒ１が、
【化３２９】
【化３３０】
であり；
Ｒ２が、水素、アルキル、またはハロゲンであり；
Ｒ３が、水素、アルキル、アリール、またはアラルキルであり；
Ｒ４が、水素、アルキル、アリール、またはアラルキルであり；
Ｒ５が、水素、アルキル、アリールまたはアラルキルであり；
ｆが、１以上２５以下の整数であり；
ｋが、１以上２５以下の整数であり；
ｖが、２以上４以下の整数であり；
ｗが、５以上１，０００以下の整数である；
請求項２０１〜２０３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０５】
Ｒ１が
【化３３１】
である、請求項２０４に記載の方法。
【請求項２０６】
Ｒ１が
【化３３２】
である、請求項２０４に記載の方法。
【請求項２０７】
前記組成物が紫外光のみによって処理される、請求項２０１〜２０５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０８】
前記組成物が可視光のみによって処理され；前記方法が該組成物を光開始剤に曝露するステップをさらに含む、請求項２０１〜２０６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０９】
前記光開始剤がエオシンｙである、請求項２０８に記載の方法。
【請求項１】
患者の組織の欠陥、創傷、または空隙を包帯、被覆、またはブリッジする方法であって：
該欠陥、創傷、または空隙を第１の材料で被覆するステップと；
該第１の材料を第２の材料で被覆するステップと；
を含み、
該第１の材料によって被覆された領域が該欠陥、創傷、または空隙の領域と等しいか、その領域よりも大きく；該第２の材料が該第１の材料によって被覆された領域を被覆し；該第２の材料によって被覆された領域が該第１の材料によって被覆された領域よりも大きい、方法。
【請求項２】
前記欠陥、創傷、または空隙が硬膜に位置する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記欠陥、創傷、または空隙が硬膜にある、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記第１の材料が欠陥、創傷、または空隙上にブラシで適用される、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記第１の材料が欠陥、創傷、または空隙上にスプレーされる、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記第１の材料が欠陥、創傷、または空隙上にカニューレで適用される、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記第１の材料が生分解性である、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記第１の材料が第２の材料よりも速く実質的に分解、移動または希釈される、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記第１の材料が約３０分間で実質的に分解、移動または希釈される、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記第１の材料が約２時間で実質的に分解、移動または希釈される、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記第１の材料が約１２時間で実質的に分解、移動または希釈される、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記第１の材料が約２４時間で実質的に分解、移動または希釈される、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記第１の材料がポリ（乳酸）、ポリ（グリコール酸）、またはそれらのコポリマーである、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記第１の材料がコラーゲン、ヒアルロン酸、アルブミン、セルロース、エラスチン、フィブリン、フィブロネクチン、ゼラチン、ヘパリン、ヘパリンサルフェート、ポリリジン、ポリ（ビニルアセテート）、ポリビニルピロリドン、ポリ（アクリル酸）、ポリ（エチレングリコール）、ポリ（プロピレングリコール）−ポリ（エチレングリコール）コポリマー、トリメチレンカーボネート、またはトリペプチドＡｒｇ−Ｇｌｙ−Ａｓｐを含むポリペプチドを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記第１の材料がハイドロゲルである、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
前記第１の材料が前もって形成されたハイドロゲルである、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
前記第１の材料がポリアルキレンイミン含有ハイドロゲルである、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
前記第１の材料がハイドロゲルであり；該ハイドロゲルが直径約１ミクロン〜約１００ミクロンの範囲の孔を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
前記第１の材料が薬剤、着色剤、着香剤、芳香剤、繊維添加剤、増粘剤または可塑剤を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
前記第１の材料が少なくとも約１０−３の滅菌保証レベルを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項２１】
前記第１の材料が少なくとも約１０−４の滅菌保証レベルを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項２２】
前記第１の材料が少なくとも約１０−５の滅菌保証レベルを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項２３】
前記第１の材料が少なくとも約１０−６の滅菌保証レベルを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項２４】
前記第２の材料が欠陥、創傷、または空隙上にブラシで適用される、請求項１に記載の方法。
【請求項２５】
前記第２の材料が欠陥、創傷、または空隙上にスプレーされる、請求項１に記載の方法。
【請求項２６】
前記第２の材料が欠陥、創傷、または空隙上にカニューレで適用される、請求項１に記載の方法。
【請求項２７】
前記第２の材料が生分解性である、請求項１に記載の方法。
【請求項２８】
前記第２の材料がハイドロゲルである、請求項１に記載の方法。
【請求項２９】
前記第２の材料が前もって形成されたハイドロゲルである、請求項１に記載の方法。
【請求項３０】
前記第２の材料がポリアルキレンイミン含有ハイドロゲルである、請求項１に記載の方法。
【請求項３１】
前記第２の材料がハイドロゲルであり；該ハイドロゲルが直径約１ミクロン〜約１００ミクロンの範囲の孔を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３２】
前記第２の材料が薬剤、着色剤、着香剤、芳香剤、繊維添加剤、増粘剤または可塑剤を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３３】
前記第２の材料が少なくとも約１０−３の滅菌保証レベルを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３４】
前記第２の材料が少なくとも約１０−４の滅菌保証レベルを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３５】
前記第２の材料が少なくとも約１０−５の滅菌保証レベルを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３６】
前記第２の材料が少なくとも約１０−６の滅菌保証レベルを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３７】
前記欠陥、創傷、または空隙のみが露出されるように、前記第１の材料を該欠陥、創傷、または空隙上に配置する前に滅菌材料片を該欠陥、創傷、または空隙の周囲に配置するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３８】
患者の創傷、空隙、または組織に溶解性ポリマーまたは無機塩を適用するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３９】
患者の創傷、空隙、または組織にメッシュを適用するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４０】
患者の創傷、空隙、または組織にメッシュを適用するステップをさらに含み；該メッシュがメチルメタクリレート、メルシレン、シリコーン、テフロン（登録商標）、ダクロン（登録商標）、ポリエチレン、ポリエステル、チタン−ダクロン（登録商標）、ヒドロキシルアパタイト、またはそれらの組合せを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４１】
患者の創傷、空隙、または組織にメッシュを適用するステップをさらに含み；該メッシュがポリプロピレンまたはポリエステルを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４２】
患者の創傷、空隙、または組織にメッシュを適用するステップをさらに含み；該メッシュが生分解性ポリマーを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４３】
患者の創傷、空隙、または組織にメッシュを適用するステップをさらに含み；該メッシュがポリ（グリコール酸）、ポリ（乳酸）、またはそれらのコポリマーを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４４】
前記第１の材料がメッシュを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４５】
前記第１の材料がメッシュを含み；該メッシュがメチルメタクリレート、メルシレン、シリコーン、テフロン（登録商標）、ダクロン（登録商標）、ポリエチレン、ポリエステル、チタン−ダクロン（登録商標）、ヒドロキシルアパタイト、またはそれらの組合せを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４６】
第１の材料がメッシュを含み；該メッシュがポリプロピレンまたはポリエステルを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４７】
第１の材料がメッシュを含み；該メッシュが生分解性ポリマーを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４８】
第１の材料がメッシュを含み；該メッシュがポリ（グリコール酸）、ポリ（乳酸）、またはそれらのコポリマーを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４９】
第２の材料がメッシュを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５０】
第２の材料がメッシュを含み；該メッシュがメチルメタクリレート、メルシレン、シリコーン、テフロン（登録商標）、ダクロン（登録商標）、ポリエチレン、ポリエステル、チタン−ダクロン（登録商標）、ヒドロキシルアパタイト、またはそれらの組合せを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５１】
第２の材料がメッシュを含み；該メッシュがポリプロピレンまたはポリエステルを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５２】
第２の材料がメッシュを含み；該メッシュが生分解性ポリマーを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５３】
第２の材料がメッシュを含み；該メッシュがポリ（グリコール酸）、ポリ（乳酸）、またはそれらのコポリマーを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５４】
第１の材料がハイドロゲルであり；前記欠陥、創傷、または空隙を第１の材料によって被覆するステップが：
第１の組成物を該欠陥、創傷、または空隙に適用するステップと；
第２の組成物を該欠陥、創傷、または空隙に適用するステップと；
を含み；
第１の時間量の後、該第１の組成物の適用および該第２の組成物の適用が第１の材料の形成をもたらす；
請求項１に記載の方法。
【請求項５５】
前記第１の材料がハイドロゲルであり；前記欠陥、創傷、または空隙を第１の材料によって被覆するステップが：
プレハイドロゲル混合物を該欠陥、創傷、または空隙に適用するステップ；
を含み；
該プレハイドロゲル混合物が第１の組成物および第２の組成物を含み；第１の時間量の後、該プレハイドロゲル混合物がゲル化して、それにより第１の材料を形成する；
請求項１に記載の方法。
【請求項５６】
第１の組成物および第２の組成物を合わせるステップと；
第２の時間量を待って、それによりプレハイドロゲル混合物を形成するステップと；
をさらに含む、請求項５５に記載の方法。
【請求項５７】
前記第２の材料がハイドロゲルであり；前記第１の材料を第２の材料で被覆するステップが：
第１の組成物を該第１の材料の上に適用するステップと；
第２の組成物を該第１の材料の上に適用するステップと；
を含み；
第１の時間量の後、該第１の組成物の適用および該第２の組成物の適用が第２の材料の形成をもたらす；
請求項５４〜５６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５８】
前記第２の材料がハイドロゲルであり；前記第１の材料を第２の材料で被覆するステップが：
プレハイドロゲル混合物を第１の材料の上に適用するステップ；
を含み；
該プレハイドロゲル混合物が第１の組成物および第２の組成物を含み；第１の時間量の後、該プレハイドロゲル混合物がゲル化して、それにより第２の材料を形成する；
請求項５４〜５６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５９】
第１の組成物および第２の組成物を合わせるステップと；
第２の時間量を待って、それによりプレハイドロゲル混合物を形成するステップと；
をさらに含む、請求項５０に記載の方法。
【請求項６０】
前記第１の組成物が式Ｉａ：
【化１７５】
の化合物を含み、
式中、各出現で独立して、
Ｗが、−ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、または−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−であり；
Ｒが、水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、またはｉ−プロピルであり；
Ｒ１が、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、
【化１７６】
【化１７７】
【化１７８】
または炭水化物ラジカルであり；
Ｙが、−ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、または−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−であり；
Ｒ２が、Ｒ２が電子対でないときに薬学的に許容される対イオンが存在するという条件で、電子対、水素、アルキル、またはアラルキルであり、
Ｒ３が、水素、または
【化１７９】
であり；
Ｒ４が、水素、アルキル、アルコキシル、ハロゲンまたはアラルキルであり；
Ｒ５が、水素、アルキル、アリールまたはアラルキルであり；
Ｒ６が、水素、または
【化１８０】
であり；
Ｒ７が、水素、または
【化１８１】
であり；
Ｒ８が、水素、または
【化１８２】
であり；
Ｒ９が、水素、または
【化１８３】
であり；
ｄが、１以上１０以下の整数であり；
ｎが、１以上４以下の整数であり；
ｙが、５以上４０，０００以下の整数であり；
ｚが、０以上２０，０００以下の整数であり；
ただし、ｙおよびｚの和が約５０，０００未満である；
請求項５４〜５９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６１】
Ｒ１の少なくとも約５％が水素、
【化１８４】
【化１８５】
である、請求項６０に記載の方法。
【請求項６２】
Ｗが−ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、または−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−である、請求項６０に記載の方法。
【請求項６３】
Ｗが−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、または−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−である、請求項６０に記載の方法。
【請求項６４】
Ｗが−ＣＨ２ＣＨ２−である、請求項６０に記載の方法。
【請求項６５】
Ｒ１の少なくとも約５０％が水素である、請求項６０に記載の方法。
【請求項６６】
Ｒ１の少なくとも約７０％が水素である、請求項６０に記載の方法。
【請求項６７】
Ｒ１の少なくとも約９０％が水素である、請求項６０に記載の方法。
【請求項６８】
Ｒ１の少なくとも約９５％が水素である、請求項６０に記載の方法。
【請求項６９】
Ｒ１が
【化１８６】
である、請求項６０に記載の方法。
【請求項７０】
Ｒ１が
【化１８７】
である、請求項６０に記載の方法。
【請求項７１】
Ｒが水素である、請求項６０に記載の方法。
【請求項７２】
Ｒ２が電子対である、請求項６０に記載の方法。
【請求項７３】
Ｒ６が水素である、請求項６０に記載の方法。
【請求項７４】
Ｒ７が水素である、請求項６０に記載の方法。
【請求項７５】
Ｒ８が水素である、請求項６０に記載の方法。
【請求項７６】
Ｒ９が水素である、請求項６０に記載の方法。
【請求項７７】
ｄが１以上８以下である、請求項６０に記載の方法。
【請求項７８】
ｎが１または２である、請求項６０に記載の方法。
【請求項７９】
ｙおよびｚの和が約５０〜約２００の整数である、請求項６０に記載の方法。
【請求項８０】
前記式Ｉａの化合物がＮＨ２（ＣＨ２）２Ｎ（Ｈ）（ＣＨ２）４Ｎ（Ｈ）（ＣＨ２）２ＮＨ２またはＮＨ２（ＣＨ２）３Ｎ（Ｈ）（ＣＨ２）４Ｎ（Ｈ）（ＣＨ２）３ＮＨ２である、請求項６０に記載の方法。
【請求項８１】
前記式Ｉａの化合物が約６００ダルトン〜約１０，０００ダルトンの重量平均分子量を有する、請求項６０に記載の方法。
【請求項８２】
前記第１の組成物が
【化１８８】
から成る群より選択される式Ｉｂの化合物を含み；
式中、各出現で独立して、
Ｒが、水素、アルキル、アリールまたはアラルキルであり；
Ｒ１が、水素、アルキル、または重合阻害剤であり；
Ｒ２が、電子対、水素、アルキル、またはアラルキルであり、ただしＲ２が電子対でないときに薬学的に許容される対イオンが存在し；
Ｒ３が、水素、アルキル、アリール、アラルキル、アシル、
【化１８９】
であり；
Ｒ４が、水素、アルキル、アリール、アラルキル、
【化１９０】
であり；
Ｒ５が、水素、またはアルキルであり；
Ｒ６が、水素、アルキル、アリール、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、または−ＯＣ（Ｏ）Ｒ４であり；
ｄが、１以上８以下の整数であり；
ｐが、１以上５以下の整数であり；
ｑが、５０以上１００，０００以下の整数である；
請求項５４〜８１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８３】
式Ｉｂの化合物が
【化１９１】
である、請求項８２に記載の方法。
【請求項８４】
式Ｉｂの化合物が
【化１９２】
である、請求項８２に記載の方法。
【請求項８５】
式Ｉｂの化合物が
【化１９３】
である、請求項８２に記載の方法。
【請求項８６】
式Ｉｂの化合物が
【化１９４】
であり；Ｒ４が−（ＣＨ２）ｄＮＨ２である、請求項８２に記載の方法。
【請求項８７】
前記第１の組成物が式Ｉｅ：
【化１９５】
によって表される１つ以上のモノマー単位を有するポリマーを含み、
式中、各出現で独立して、
Ｗが、−ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、または−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−であり；
Ｒが、水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、またはｉ−プロピルであり；
Ｒ１が、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、
【化１９６】
【化１９７】
【化１９８】
【化１９９】
または炭水化物ラジカルであり；
Ｙが、−ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、または−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−であり；
Ｒ２が、電子対、水素、アルキル、またはアラルキルであり、ただしＲ２が電子対でないときに薬学的に許容される対イオンが存在し；
Ｒ３が、水素、または
【化２００】
であり；
Ｒ４が、水素、アルキル、アルコキシ、ハロゲンまたはアラルキルであり；
Ｒ５が、水素、アルキル、アリールまたはアラルキルであり；
Ｒ６が、水素、または
【化２０１】
であり；
Ｒ７が、水素、または
【化２０２】
であり；
Ｒ８が、水素、または
【化２０３】
であり；
Ｒ９が、水素、または
【化２０４】
であり；
ｄが、１以上１０以下の整数であり；
ｎが、１以上４以下の整数であり；
ｙが、５以上４０，０００以下の整数であり；
ｚが、０以上２０，０００以下の整数であり；
ただし、ｙおよびｚの和が約５０，０００未満である；
請求項５４〜８６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８８】
Ｒ１の少なくとも約５％が水素、
【化２０５】
【化２０６】
である、請求項８７に記載の方法。
【請求項８９】
Ｗが−ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、または−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−である、請求項８７に記載の方法。
【請求項９０】
Ｗが−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、または−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−である、請求項８７に記載の方法。
【請求項９１】
Ｒ１の少なくとも約５０％が水素である、請求項８７に記載の方法。
【請求項９２】
Ｒ１の少なくとも約７０％が水素である、請求項８７に記載の方法。
【請求項９３】
Ｒ１の少なくとも約９０％が水素である、請求項８７に記載の方法。
【請求項９４】
Ｒ１の少なくとも約９５％が水素である、請求項８７に記載の方法。
【請求項９５】
Ｒ１が
【化２０７】
である、請求項８７に記載の方法。
【請求項９６】
Ｒ１が
【化２０８】
である、請求項８７に記載の方法。
【請求項９７】
Ｒが水素である、請求項８７に記載の方法。
【請求項９８】
Ｒ２が電子対である、請求項８７に記載の方法。
【請求項９９】
Ｒ６が水素である、請求項８７に記載の方法。
【請求項１００】
Ｒ７が水素である、請求項８７に記載の方法。
【請求項１０１】
Ｒ８が水素である、請求項８７に記載の方法。
【請求項１０２】
Ｒ９が水素である、請求項８７に記載の方法。
【請求項１０３】
ｄが１以上８以下である、請求項８７に記載の方法。
【請求項１０４】
ｎが１または２である、請求項８７に記載の方法。
【請求項１０５】
ｙおよびｚの和が約５０〜約２００の整数である、請求項８７に記載の方法。
【請求項１０６】
前記第１の組成物が
【化２０９】
から成る群より選択される式ＩＶの化合物を含み、
式中、各出現で独立して、
Ｒ１が、
【化２１０】
であり；
Ｒ２が、水素、アルキル、またはハロゲンであり；
Ｒ３が、
【化２１１】
【化２１２】
であり；
Ｒ４が、水素、アルキル、アリール、アラルキル、
【化２１３】
であり；
Ｒ５が、水素、アルキル、またはアラルキルであり；
ｆが、１以上２５以下の整数であり；
ｋが、１以上２５以下の整数であり；
ｐが、１以上５以下の整数であり；
ｖが、２以上４以下の整数であり；
ｗが、５以上１，０００以下の整数である、
請求項５４〜１０５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０７】
前記第２の組成物がＲ１−（アルキルジラジカル）−Ｒ１，Ｒ１（ヘテロアルキルジラジカル）−Ｒ１、
【化２１４】
から成る群より選択される式ＩＩＩの化合物を含み；
式中、各出現で独立して、
Ｒ１が、
【化２１５】
【化２１６】
であり；
Ｒ２が、水素、アルキル、またはハロゲンであり；
Ｒ３が、−Ｃ（Ｏ）Ｈ、−Ｃ（Ｏ）アルキル、−Ｃ（Ｏ）フルオロアルキル、−Ｃ（Ｏ）クロロアルキル、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＮＯ２、
【化２１７】
であり；
Ｒ４が、−Ｎ＝Ｃ＝Ｏ、−Ｎ＝Ｃ＝Ｓ、
【化２１８】
であり；
Ｒ５が、水素、アルキル、またはアラルキルであり；
Ｒ６が、水素、またはＣ１−Ｃ６アルキルであり；
Ｒ７が、−ＣＯ２Ｈ、−（ＣＲ６２）ｐＮ＝Ｃ＝Ｏ、
【化２１９】
であり；
Ｒ８が、
【化２２０−１】
であり；
Ｒ９が、
【化２２０−２】
【化２２１】
であり；
Ａ１が、アルキルジラジカル、ヘテロアルキルジラジカル、シクロアルキルジラジカル、ヘテロシクロアルキルジラジカル、アルケニルジラジカル、アルキニルジラジカル、アリールジラジカル、ヘテロアリールジラジカル、アラルキルジラジカル、またはヘテロアラルキルジラジカルであり；
Ａ２が、結合、アルキルジラジカル、ヘテロアルキルジラジカル、シクロアルキルジラジカル、ヘテロシクロアルキルジラジカル、アルケニルジラジカル、アルキニルジラジカル、アリールジラジカル、ヘテロアリールジラジカル、アラルキルジラジカル、またはヘテロアラルキルジラジカルであり；
Ａ３が、アルキルトリラジカル、ヘテロアルキルトリラジカル、シクロアルキルトリラジカル、ヘテロシクロアルキルトリラジカル、アルケニルトリラジカル、アリールトリラジカル、ヘテロアリールトリラジカル、アラルキルトリラジカル、またはヘテロアラルキルトリラジカルであり；
Ａ４が、アルキルジラジカル、シクロアルキルジラジカル、アリールジラジカル、またはアラルキルジラジカルであり；
Ａ５が、アルキルジラジカル、ヘテロアルキルジラジカル、または
【化２２２】
であり；
ｆが、１以上２５以下の整数であり；
ｋが、１以上２５以下の整数であり；
ｐが、０以上５以下の整数であり；
ｔが、１以上４以下の整数であり；
ｖが、２以上４以下の整数であり；
ｗが、５以上１，０００以下の整数である；
請求項５４〜１０６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０８】
ｗが約５０〜約２５０の範囲内の整数である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１０９】
ｗが約６０〜約９０の範囲内の整数である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１１０】
ｗが約１５〜約９０の範囲内の整数である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１１１】
式ＩＩＩの化合物が
【化２２３】
である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１１２】
Ｒ１が
【化２２４】
である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１１３】
式ＩＩＩの化合物が
【化２２５】
であり；Ｒ１が
【化２２６】
である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１１４】
式ＩＩＩの化合物が
【化２２７】
であり；Ｒ１が
【化２２８】
であり；ｗが約１５〜約９０の範囲内の整数である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１１５】
式ＩＩＩの化合物が
【化２２９】
であり；Ｒ１が
【化２３０】
であり；ｆが３である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１１６】
式ＩＩＩの化合物が
【化２３１】
であり；Ｒ１が
【化２３２】
であり；ｋが２、または３である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１１７】
式ＩＩＩの化合物が
【化２３３】
であり；ｓが１以上２０以下の範囲内の整数である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１１８】
Ｒ９が
【化２３４】
【化２３５】
である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１１９】
式ＩＩＩの化合物が
【化２３６】
であり；Ａ５が
【化２３７】
であり；Ａ１がアリールジラジカルである、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１２０】
式ＩＩＩの化合物が
【化２３８】
であり；Ａ５が
【化２３９】
であり；Ａ１が場合により置換されたフェニルジラジカルである、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１２１】
式ＩＩＩの化合物が
【化２４０】
であり；Ａ５が
【化２４１】
であり；Ａ２が結合であり；Ａ１がアルキルジラジカルである、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１２２】
式ＩＩＩの化合物が
【化２４２】
であり；Ａ５が
【化２４３】
であり；Ａ２が結合であり；Ａ３がアルキルトリラジカルである、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１２３】
式ＩＩＩの化合物が
【化２４４】
であり；Ａ５が
【化２４５】
であり；Ａ２が結合であり；Ａ１がアルキルジラジカルであり；Ｒ７が
【化２４６】
である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１２４】
式ＩＩＩの化合物が
【化２４７】
であり；Ａ５が
【化２４８】
であり；Ａ２が結合であり；Ａ３がアルキルトリラジカルであり；Ｒ７が
【化２４９】
である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１２５】
式ＩＩＩの化合物が
【化２５０】
であり；Ａ５が
【化２５１】
であり；Ａ２がアリールジラジカルであり；Ａ１がアラルキルジラジカルであり；Ｒ７が
【化２５２】
である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１２６】
式ＩＩＩの化合物が
【化２５３】
であり；Ａ５が
【化２５４】
であり；Ａ２がアリールジラジカルであり；Ａ３がアラルキルトリラジカルであり；Ｒ７が
【化２５５】
である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１２７】
式ＩＩＩの化合物が
【化２５６】
であり；Ａ５が
【化２５７】
であり；Ａ２が場合により置換されたフェニルジラジカルであり；Ａ１が場合により置換されたベンジルジラジカルであり；Ｒ７が
【化２５８】
である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１２８】
式ＩＩＩの化合物が
【化２５９】
であり；Ａ５が
【化２６０】
であり；Ａ２が場合により置換されたフェニルジラジカルであり；Ａ３が場合により置換されたベンジルトリラジカルであり；Ｒ７が
【化２６１】
である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１２９】
式ＩＩＩの化合物が
【化２６２】
であり；Ｒ１が
【化２６３】
である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１３０】
式ＩＩＩの化合物が
【化２６４】
であり；Ｒ１が
【化２６５】
であり；Ｒ６がＣ１−Ｃ６アルキルであり；Ａ１が場合により置換されたフェニルジラジカルである、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１３１】
式ＩＩＩの化合物が
【化２６６】
であり；Ｒ１が
【化２６７】
であり；Ａ１がフェニルジラジカルである、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１３２】
Ｒ１が−ＣＨ２Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｈ）−Ａ４−Ｒ３であり；Ａ４がアルキルジラジカルであり；Ｒ３が
【化２６８】
である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１３３】
ｆが１以上９以下の整数である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１３４】
ｋが１以上９以下の整数である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１３５】
前記式ＩＩＩの化合物が約５００ダルトン〜約２０，０００ダルトンの重量平均分子量を有する、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１３６】
式ＩＩＩの化合物が
【化２６９】
であり、
式中、各出現で独立して、
Ｇが、−ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、または−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−であり；
Ｒが、水素またはメチルである；
請求項１０７に記載の方法。
【請求項１３７】
Ｇが−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−、または−Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２−である、請求項１３６に記載の方法。
【請求項１３８】
前記第２の組成物が
【化２７０】
から成る群より選択される式ＩＶの化合物をさらに含み、
式中、各出現で独立して、
Ｒ１が、
【化２７１】
であり；
Ｒ２が、水素、アルキル、またはハロゲンであり；
Ｒ３が、
【化２７２】
であり；
Ｒ４が、水素、アルキル、アリール、アラルキル、
【化２７３】
であり；
Ｒ５が、水素、またはアルキルであり；
ｆが、１以上２５以下の整数であり；
ｋが、１以上２５以下の整数であり；
ｐが、１以上５以下の整数であり；
ｖが、２以上４以下の整数であり；
ｗが、５以上１，０００以下の整数である；
請求項１０７〜１３７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３９】
第１の組成物が式Ｉａ：
【化２７４】
の化合物を含み、
式中、各出現で独立して、
Ｗが、−ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、または−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−であり；
Ｒが、水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、またはｉ−プロピルであり；
Ｒ１が、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、
【化２７５】
であり；
Ｒ２が、電子対、水素、アルキル、またはアラルキルであり、ただしＲ２が電子対でないときに薬学的に許容される対イオンが存在し、
Ｒ３が、水素、または
【化２７６】
であり；
Ｒ４が、水素、アルキル、アルコキシ、ハロゲンまたはアラルキルであり；
Ｒ５が、水素、アルキル、アリールまたはアラルキルであり；
Ｒ６が、水素、または
【化２７７】
であり；
Ｒ７が、水素、または
【化２７８】
であり；
Ｒ８が、水素、または
【化２７９】
であり；
Ｒ９が、水素、または
【化２８０】
であり；
ｄが、１以上８以下の整数であり；
ｎが、１以上４以下の整数であり；
ｙが、５以上４０，０００以下の整数であり；
ｚが、０以上２０，０００以下の整数であり；
ただし、ｙおよびｚの和が約５０，０００未満である；
請求項５４〜５９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４０】
Ｒ１の５％が
【化２８１】
である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１４１】
Ｒ１の少なくとも約１０％が
【化２８２】
である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１４２】
Ｒ１の少なくとも約２５％が
【化２８３】
である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１４３】
Ｒ１の少なくとも約５０％が
【化２８４】
である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１４４】
Ｒが水素である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１４５】
Ｗが−ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、または−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１４６】
Ｗが−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、または−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１４７】
Ｗが−ＣＨ２ＣＨ２−である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１４８】
Ｒ２が電子対である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１４９】
Ｒ６が水素である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１５０】
Ｒ７が水素である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１５１】
Ｒ８が水素である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１５２】
Ｒ９が水素である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１５３】
ｄが１以上８以下である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１５４】
ｎが１または２である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１５５】
ｙおよびｚの和が約５０〜約２００の整数である、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１５６】
前記第１の組成物が
【化２８５】
から成る群より選択される式Ｉｂの化合物を含み；
式中、各出現で独立して、
Ｒが、水素、アルキル、アリールまたはアラルキルであり；
Ｒ１が、水素、アルキル、
【化２８６】
であり；
Ｒ２が、電子対、水素、アルキル、またはアラルキルであり、ただしＲ２が電子対でないときに薬学的に許容される対イオンが存在し、
Ｒ３が、水素、アルキル、アリール、アラルキル、アシル、
【化２８７】
【化２８８】
であり；
Ｒ４が、水素、アルキル、アリール、アラルキル、
【化２８９】
であり；
Ｒ５が、水素、またはアルキルであり；
Ｒ６が、水素、またはＣ１−Ｃ３アルキルであり；
ｄが、１以上８以下の整数であり；
ｐが、１以上５以下の整数であり；
ｑが、５０以上１００，０００以下の整数である；
請求項５４〜５９および１３９〜１５５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５７】
式Ｉｂの化合物が
【化２９０】
である、請求項１５６に記載の方法。
【請求項１５８】
式Ｉｂの化合物が
【化２９１】
である、請求項１５６に記載の方法。
【請求項１５９】
式Ｉｂの化合物が
【化２９２】
である、請求項１５６に記載の方法。
【請求項１６０】
Ｒ１が
【化２９３】
である、請求項１５６に記載の方法。
【請求項１６１】
Ｒ３が
【化２９４】
である、請求項１５６に記載の方法。
【請求項１６２】
Ｒ４が
【化２９５】
である、請求項１５６に記載の方法。
【請求項１６３】
前記第１の組成物が式Ｉｃ：
【化２９６】
の化合物を含み、
式中、各出現で独立して、
Ｗが、−ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、または−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−であり；
Ｒは、水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、またはｉ−プロピルであり；
Ｒ１が、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、
【化２９７】
であり；
Ｒ２が、電子対、水素、アルキル、またはアラルキルであり、ただしＲ２が電子対でないときに薬学的に許容される対イオンが存在し、
Ｒ３が、水素、または
【化２９８】
であり；
Ｒ４が、水素、アルキル、アルコキシ、ハロゲンまたはアラルキルであり；
Ｒ５が、水素、アルキル、アリールまたはアラルキルであり；
Ｒ６が、水素、または
【化２９９】
であり；
Ｒ７が、水素、または
【化３００】
であり；
Ｒ８が、水素、または
【化３０１】
であり；
Ｒ９が、水素、または
【化３０２】
であり；
ｄが、１以上８以下の整数であり；
ｎが、１以上４以下の整数であり；
ｐが、１以上５以下の整数であり；
ｖが、２以上４以下の整数であり；
ｗが、５以上１，０００以下の整数であり；
ｙが、５以上４０，０００以下の整数であり；
ｚが、０以上２０，０００以下の整数であり；
ただし、およびｚの和が約５０，０００未満である；
請求項５４〜５９および１３９〜１６２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６４】
Ｒが水素である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１６５】
Ｗが−ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、または−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１６６】
Ｗが−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、または−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１６７】
Ｒ１の少なくとも約５０％が水素である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１６８】
Ｒ１の少なくとも約７０％が水素である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１６９】
Ｒ１の少なくとも約９０％が水素である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１７０】
Ｒ１の少なくとも約９５％が水素である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１７１】
Ｒ１の少なくとも約５％が
【化３０３】
である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１７２】
Ｒ１の少なくとも約１０％が
【化３０４】
である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１７３】
Ｒ１の少なくとも約２５％が
【化３０５】
である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１７４】
Ｒ１の少なくとも約５０％が
【化３０６】
である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１７５】
Ｒ２が電子対である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１７６】
Ｒ６が水素である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１７７】
Ｒ７が水素である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１７８】
Ｒ８が水素である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１７９】
Ｒ９が水素である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１８０】
ｄが１以上８以下である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１８１】
ｎが１または２である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１８２】
ｙおよびｚの和が約５０〜約２００の整数である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１８３】
ｙが約２〜約１００の範囲内の整数である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１８４】
前記第２の組成物が
【化３０７】
から成る群より選択される式ＩＩＩの化合物を含み；
式中、各出現で独立して、
Ｒ１が、
【化３０８】
【化３０９】
であり；
Ｒ２が、水素、アルキル、またはハロゲンであり；
Ｒ３が、
【化３１０】
であり；
Ｒ４が、水素、アルキル、アリール、アラルキル、
【化３１１】
であり；
Ｒ５が、水素、またはアルキルであり；
ｆが、１以上２５以下の整数であり；
ｋが、１以上２５以下の整数であり；
ｐが、１以上５以下の整数であり；
ｖが、２以上４以下の整数であり；
ｗが、５以上１，０００以下の整数である、
請求項５４〜５９および１３９〜１８３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８５】
式ＩＩＩの化合物が
【化３１２】
である、請求項１８４に記載の方法。
【請求項１８６】
Ｒ２が水素である、請求項１８４に記載の方法。
【請求項１８７】
Ｒ４が水素である、請求項１８４に記載の方法。
【請求項１８８】
Ｒ５が水素である、請求項１８４に記載の方法。
【請求項１８９】
ｆが１以上９以下の整数である、請求項１８４に記載の方法。
【請求項１９０】
ｋが１以上９以下の整数である、請求項１８４に記載の方法。
【請求項１９１】
前記第１の時間量が約２分間である、請求項５４〜１９０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９２】
前記第１の時間量が約１分間である、請求項５４〜１９０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９３】
前記第１の時間量が約３０秒間である、請求項５４〜１９０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９４】
前記第１の時間量が約１０秒間である、請求項５４〜１９０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９５】
前記第１の材料、前記第２の材料、または該第１の材料および該第２の材料の両方を第３の組成物に曝露して、それにより光重合性材料を形成するステップと；
該光重合性材料を紫外光または可視光に曝露して、それにより該光重合性材料を重合するステップと；
をさらに含み；
該第３の組成物が式Ｖ：
【化３１３】
の化合物を含み、
式中、各出現で独立して、
Ｒ１が、ハロゲン、
【化３１４】
であり；
Ｒ２が、水素、アルキル、アリールまたはアラルキルであり；
Ｒ３が、水素、アルキル、アリール、またはアラルキルであり；
Ｒ４が、水素、アルキル、アリール、またはアラルキルである；
請求項１〜１９４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９６】
前記式Ｖの化合物が
【化３１５】
【化３１６】
である、請求項１９５に記載の方法。
【請求項１９７】
前記式Ｖの化合物が
【化３１７】
である、請求項１９５に記載の方法。
【請求項１９８】
前記光重合性材料が紫外光のみによって処理される、請求項１９５に記載の方法。
【請求項１９９】
前記光重合性材料が可視光のみによって処理され；前記方法が該光重合性材料を光開始剤に曝露するステップをさらに含む、請求項１９５に記載の方法。
【請求項２００】
前記光開始剤がエオシンｙである、請求項１９９に記載の方法。
【請求項２０１】
前記欠陥、創傷、または空隙を第１の材料によって被覆するステップが：
組成物を欠陥、創傷、または空隙に適用するステップと；
該組成物を、該組成物を重合するのに十分な紫外光または可視光によって処理して、それにより第１の材料を形成するステップと；
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２０２】
前記第１の材料を第２の材料によって被覆するステップが：
組成物を第１の材料を覆うように適用するステップと；
該組成物を、該組成物を重合するのに十分な紫外光または可視光によって処理して、それにより第２の材料を形成するステップと；
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２０３】
前記組成物が式Ｉ：
【化３１８】
の化合物を含み、
式中、各出現で独立して、
Ｗが、−ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、または−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−であり；
Ｒが、水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、またはｉ−プロピルであり；
Ｒ１が、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、
【化３１９】
【化３２０】
【化３２１】
または炭水化物ラジカルであり；
Ｙが、−ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−、または−ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２ＣＲ２−であり；
Ｒ２が、電子対、水素、アルキル、またはアラルキルであり、ただしＲ２が電子対でないときに薬学的に許容される対イオンが存在し、
Ｒ３が、水素、または
【化３２２】
であり；
Ｒ４が、水素、アルキル、アルコキシ、ハロゲンまたはアラルキルであり；
Ｒ５が、水素、アルキル、アリールまたはアラルキルであり；
Ｒ６が、水素、または
【化３２３】
であり；
Ｒ７が、水素、または
【化３２４】
であり；
Ｒ８が、水素、または
【化３２５】
であり；
Ｒ９が、水素、または
【化３２６】
であり；
Ｒ１０が、水素、アルキル、アリールまたはアラルキルであり；
ｄが、１以上１０以下の整数であり；
ｎが、１以上４以下の整数であり；
ｙが、５以上４０，０００以下の整数であり；
ｚが、０以上２０，０００以下の整数であり；
Ｒ１の少なくとも約５％が
【化３２７】
であり；ただし、ｙおよびｚの和が約５０，０００未満である；
請求項２０１または２０２に記載の方法。
【請求項２０４】
前記組成物が
【化３２８】
から成る群より選択される式ＩＩＩの化合物を含み、
式中、各出現で独立して、
Ｒ１が、
【化３２９】
【化３３０】
であり；
Ｒ２が、水素、アルキル、またはハロゲンであり；
Ｒ３が、水素、アルキル、アリール、またはアラルキルであり；
Ｒ４が、水素、アルキル、アリール、またはアラルキルであり；
Ｒ５が、水素、アルキル、アリールまたはアラルキルであり；
ｆが、１以上２５以下の整数であり；
ｋが、１以上２５以下の整数であり；
ｖが、２以上４以下の整数であり；
ｗが、５以上１，０００以下の整数である；
請求項２０１〜２０３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０５】
Ｒ１が
【化３３１】
である、請求項２０４に記載の方法。
【請求項２０６】
Ｒ１が
【化３３２】
である、請求項２０４に記載の方法。
【請求項２０７】
前記組成物が紫外光のみによって処理される、請求項２０１〜２０５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０８】
前記組成物が可視光のみによって処理され；前記方法が該組成物を光開始剤に曝露するステップをさらに含む、請求項２０１〜２０６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０９】
前記光開始剤がエオシンｙである、請求項２０８に記載の方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図６】
【図１９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図６】
【図１９】
【公表番号】特表２０１０−５３４５１５（Ｐ２０１０−５３４５１５Ａ）
【公表日】平成２２年１１月１１日（２０１０．１１．１１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−５１８３２７（Ｐ２０１０−５１８３２７）
【出願日】平成２０年７月２２日（２００８．７．２２）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００８／０７０７２４
【国際公開番号】ＷＯ２００９／０１５１２４
【国際公開日】平成２１年１月２９日（２００９．１．２９）
【出願人】（５０９２０１１４８）ハイパーブランチ メディカル テクノロジー， インコーポレイテッド (7)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２２年１１月１１日（２０１０．１１．１１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年７月２２日（２００８．７．２２）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００８／０７０７２４
【国際公開番号】ＷＯ２００９／０１５１２４
【国際公開日】平成２１年１月２９日（２００９．１．２９）
【出願人】（５０９２０１１４８）ハイパーブランチ メディカル テクノロジー， インコーポレイテッド (7)
【Ｆターム（参考）】
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