印刷済みの刷版を再画像形成する方法
【課題】背景技術に対して改善された、再画像形成のための時間コスト、材料コストおよび経済コストを特に消去に関して低く抑えることができる、印刷済みの刷版を再画像形成する方法を提供する。
【解決手段】刷版５ａの基板５ｂを全体的に洗浄して、インキまたはラッカを落とし、先行の印刷画像を消去するために、基板５ｂを全体的に研磨処理し、後続の印刷画像を画像形成するために、基板５ｂを部分的に画像部においてパルスレーザビームで処理し、部分的にナノスコープの疎水性の表面構造を形成し、基板５ｂを全体的に親水性向上剤７で処理し、基板５ｂを、部分的に、直前まで疎水性の画像部において親水性化する。
【解決手段】刷版５ａの基板５ｂを全体的に洗浄して、インキまたはラッカを落とし、先行の印刷画像を消去するために、基板５ｂを全体的に研磨処理し、後続の印刷画像を画像形成するために、基板５ｂを部分的に画像部においてパルスレーザビームで処理し、部分的にナノスコープの疎水性の表面構造を形成し、基板５ｂを全体的に親水性向上剤７で処理し、基板５ｂを、部分的に、直前まで疎水性の画像部において親水性化する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、印刷済みの刷版を画像形成する方法に関する。
【０００２】
さらに本発明は、印刷済みの刷版を再画像形成する装置に関する。
【背景技術】
【０００３】
背景技術から、オフセット印刷用の再書込可能な刷版が公知であり、つまり、刷版は、繰り返し様々な印刷画像を備えることができ、したがって再利用可能である。そのような刷版は、基板と基板上に取り付けられるマイクロメートル厚さの被覆とを備えることができ、その際、被覆は、画像形成中、部分的に画像部において大抵の場合レーザビームにより再び除去されるので、画像に応じた親水性部分および疎水性部分の表面構造化が行われる。新たに画像形成するまえに、表面は洗浄され、再び閉じた被覆を備える。被覆は、ドイツ連邦共和国特許出願公開第１０１３２２０４号明細書において記載されており、たとえば水膜として形成することができる。さらにたとえばドイツ連邦共和国特許出願公開第１０２２７０５４号明細書において、前述のマイクロメートル厚さの被覆の代わりに、ナノメートル厚さの分子膜を備えており、分子膜は、同様にレーザビームにより構造化可能であり、新たな画像形成前に再生される。これに対して被覆媒体および膜媒体ならびに相応の塗着装置なく取り扱われる刷版が所望される。
【０００４】
国際公開第２０１０／０２９３４２号パンフレットにおいて、被覆や膜を有していない、再書込可能な刷版が公知である。刷版に、画像部において、レーザビーム、たとえばフェムトセカンドレーザのビームが当てられ、これにより刷版は、画像に応じた構造を形成するために部分的に親水性化される。刷版の消去は、たとえば十分な時間放置することにより、好適には流動性の消去剤を使用することなく行われる。そのような放置は、刷版を印刷直後に再び新たな印刷ジョブに提供しようとする場合には、不都合である。
【０００５】
さらにドイツ連邦共和国特許出願公開第１０２００５０３５８９６号明細書において、様々な色の構造またはホログラフィー式に作用する構造の形成に関して、フェムトセカンドレーザを用いてナノ構造を形成することが記載されている。刷版を製作するためにそのような構造を利用することや特に再画像形成前に構造を消去することについては記載されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】ドイツ連邦共和国特許出願公開第１０１３２２０４号明細書
【特許文献２】ドイツ連邦共和国特許出願公開第１０２２７０５４号明細書
【特許文献３】国際公開第２０１０／０２９３４２号パンフレット
【特許文献４】ドイツ連邦共和国特許出願公開第１０２００５０３５８９６号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
このような背景技術を鑑みて、本発明の課題は、背景技術に対して改善された、再画像形成のための時間コスト、材料コストおよび経済コストを特に消去に関して低く抑えることができる、印刷済みの刷版を再画像形成する方法を提供することである。
【０００８】
さらに本発明の別のまたは選択的な課題は、記載のコストを低く抑えることができる、背景技術に対して改善された装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この課題を解決するための方法によれば、印刷済みの刷版を再画像形成する方法において、刷版の基板を全体的に洗浄して、インキまたはラッカを落とし、先行の印刷画像を消去するために、基板を全体的に研磨処理し、後続の印刷画像を画像形成するために、基板を部分的に画像部においてパルスレーザビームで処理し、部分的にナノスコープの疎水性の表面構造を形成し、基板を全体的に親水性向上剤で処理し、基板を、部分的に直前まで疎水性の画像部において親水性化する。
【００１０】
本発明による方法では、パルスレーザビームひいてはレーザパルスが用いられる。好適には、基板の表面の画像部にナノ構造もしくはナノトポグラフィが形成され、これにより湿し特性が変化し、刷版は、画像形成範囲で、つまり画像部において疎水性化される。その際、主な材料除去（剥離）または材料塗着（被覆）が行われず、その代わりに画像部および非画像部に同じ基板材料が、しかしながら異なるナノ構造で存在する。これに対して必要な印刷コントラストを形成するために必要な差は、専ら（非）画像部の異なるナノスコープの構造に起因する。さらにこのようにして形成された表面状態は、時間的に安定しており、これに対してたとえば背景技術に記載された構造化された水膜では、水膜は簡単に蒸発することがある。
【００１１】
本発明による方法では、さらに親水性向上剤が用いられる。親水性向上剤は、流れ始めると、ナノ構造の画像部に特に良好に付着し（つまりその粒子がそこに特に良好に結合し）、これにより直前まで疎水性の画像部が親水性化される。さらに、レーザ処理された疎水性部分は、親水性向上剤のあとでは、レーザ処理していない部分よりも親水性になる。さらに、これによりコントラストは、画像部と非画像部との間で好適には十分な程度に高まる。
【００１２】
ビームが当てられた部分とビームが当てられていない部分との間で強いコントラストを形成するために好適であり、したがって本発明による方法の好適な態様によれば、パルスレーザビームは、光パルスを有し、光パルスの継続時間ｔは、少なくともピコセカンド範囲（ｔ＜１００＊１０-12セカンド）および好適には少なくともフェムトセカンド範囲（ｔ＜１００＊１０-15セカンド）である。このためにいわゆるパルスレーザ、特にピコセカンドレーザもしくはフェムトセカンドレーザを用いることができる。
【００１３】
同様にビームが当てられた部分とビームが当てられていない部分との間に強いコントラストを形成するために、本発明の方法による好適な態様によれば、光パルスは、約１マイクロジュール〜約１０マイクロジュールのパルスエネルギで、約１０フェムトセカンド〜約１０００フェムトセカンド、特に約１００フェムトセカンド〜１０００フェムトセカンド継続する。
【００１４】
画像形成する、つまり基板表面を構造化するのに好適で、したがって本発明の方法の好適な１つの態様によれば、基板を、研磨処理のあとで画像形成まで被覆しない。特に画像形成は、研磨処理の直後に行うことができる。
【００１５】
要求される印刷コントラストにとって十分な構造を形成するために好適で、したがって本発明の方法の好適な１つの態様によれば、基板を、以下の基板から、つまり、金属、金属酸化物、金属薄板、金属薄板上の金属酸化物層、チタン薄板または特殊鋼薄板上のチタン層、アルミニウム薄板または特殊鋼薄板上のアルミニウム層、特殊鋼薄板、プラスチック、プラスチックシートから選択する。
【００１６】
十分なコントラストにとって好適で、したがって本発明の方法の好適な１つの態様によれば、親水性向上剤として、液状のゴム剤、特にＣＭＣ（カルボキシメチルセルロース）の水溶液を用いる。
【００１７】
技術的に容易に適用できるので好適であり、したがって本発明の方法の好適な１つの態様によれば、研磨処理のために、液状の研磨剤を用いる。
【００１８】
本発明による印刷済みの刷版を再画像形成する装置によれば、消去ユニットを備え、消去ユニットは、先行の印刷画像を消去するために、刷版の基板を全体的に液状の研磨剤で処理し、画像形成ユニットを備え、画像形成ユニットは、後続の印刷画像で画像形成するために、基板を、部分的に画像部においてフェムトセカンドレーザで処理する。
【００１９】
十分なコントラスト向上を得るために好適で、したがって本発明の装置の好適な１つの態様によれば、現像ユニットを備え、現像ユニットは、基板を全体的に液状のゴム剤で処理し、基板は、部分的に画像部において親水性化される。
【００２０】
本発明の範疇に、本発明に関して記載する少なくとも１つの装置を備えた、シートを処理する機械、印刷機、特にリソグラフィ方式のオフセット印刷用のシートを処理する輪転印刷機または刷版露光機が含まれる。
【００２１】
記載の本発明および記載の本発明の好適な態様は、相互に組み合わせると、本発明の好適な別の態様を表す。全体的な洗浄、液状の研磨剤を用いた全体的な研磨による消去、フェムトセカンドパルスによる様々な金属基板の部分的なレーザ処理、全体的な親水性向上を行う方法が特に好適である。
【００２２】
以下に、本発明の構造的および／または機能的に好適な別の態様として、本発明を、少なくとも１つの好適な実施の形態に基づいて、図面につき詳しく説明する。図面には、対応する構成要素には同じ符号を用いた。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明による方法の好適な実施の形態を示すフローチャートである。
【図２】本発明による装置の好適な実施の形態を示す概略側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
図１には、本発明による、既に少なくとも一度印刷を行った刷版５ａを再画像形成する方法の好適な実施の形態をフローチャートで示す。新たな印刷ジョブのための再画像形成は、同じ印刷画像または別の印刷画像で行われる。印刷ジョブには、１枚の被印刷物、たとえば個別の枚葉シートまたは厚紙シートの印刷、または、複数枚のそのような被印刷物、つまり連続するシートの印刷が含まれる。
【００２５】
方法ステップＡでは、刷版５ａ（図２参照）の基板５ｂ、好適にはチタン薄板または特殊鋼薄板が、全体的に、つまり、印刷に用いられる面の少なくとも全体にわたって、ほぼ完全に洗浄され、先行の印刷ジョブのインキまたはラッカが落とされる。このために市販の刷版洗浄剤、たとえばＤｒｕｃｋ Ｃｈｅｍｉｅ社の「Ｅｕｒｏｓｔａｒ」を用いることができ、つまり、付着してインキまたはラッカを除去することができる。これに続いて注ぎおよび乾燥を行ってもよい。
【００２６】
方法ステップＢでは、基板５ｂは、消去、つまり、先行の印刷画像を復元不能に除去するために、本発明によれば全体的に研磨処理される。このために好適には、流動性の、特に液状の研磨剤８が用いられる。Ａｇｆａ社の「ＲＣ９５］がテストでは効果的であった。研磨剤による処理は、テストで、先行の画像形成のナノトポグラフィの構造を消去するかもしくは破壊して、刷版の表面を後続の画像形成のために規定の出発状態にするには十分であると認められた。
【００２７】
方法ステップＣでは、後続の印刷画像を画像形成するために、本発明によれば、基板５ｂが、部分的に（つまり全体的ではなく画像形成に必要な範囲だけで）画像部においてパルスレーザビーム６（好適にはいわゆるショートパルスレーザまたは特にフェムトセカンドレーザのレーザビーム）で処理され、その際、部分的に、ナノスコープの、疎水性の、特に（水または水溶液に対して極めて小さな湿し特性に基づいて）いわゆる超疎水性の表面構造が形成される。光パルス（約１マイクロモジュール〜約１０マイクロモジュールのパルスエネルギでは）は、好適には約１０フェムトセカンド〜約１００００フェムトセカンド、特に約１００フェムトセカンド〜１０００フェムトセカンド継続する。その際、部分的に、好適には約１０ナノメートル〜約１００００ナノメートル、特に約１００ナノメートル〜約１０００ナノメートルの凹部を有し、好適には約１０ナノメートル〜約１００００ナノメートル、特に約１００ナノメートルから約１０００ナノメートルの凹部の横方向の周期性を有するレーザ処理された表面のナノトポグラフィの構造が生じる。たとえばＣｏｈｅｒｅｎｔ社のチタン：サファイヤレーザ（Ｔｙｐ ＲｅｇＡ）が用いられる。
【００２８】
方法ステップＤでは、基板５ｂは、全体的に、親水性向上剤７で処理され、これにより基板は、本発明によれば、部分的に、直前まで疎水性または超疎水性の画像部において湿し特性が逆転され、親水性化される。親水性向上剤として、好適にはたとえばＫｏｄａｋ社の「８５０ Ｎｅｕｔｒａｌ Ｇｕｍ」、Ａｇｆａ社の「ＡｇｕｍＺ」、「ＡｇｕｍＯ」または「ＡｇｕｍＣ２」のようなゴム化溶液（ゴム剤）が用いられる。ＣＭＣ（Ｃａｒｂｏｘｙ−Ｍｅｔｈｙｌ−Ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）の水溶液をベースとしたゴム剤が特に好適である。
【００２９】
方法ステップＡ〜Ｄに従った、既に印刷された刷版の再画像形成のあとで、刷版は、方法ステップＥで湿され、方法ステップＦで着色される。成分としてゴム剤を含有し、したがって印刷コントラスト、つまり印刷プロセスに十分な親水性部分および疎水性部分の湿し特性の差を本刷り中に維持する湿し媒体の使用が特に好適である。次いで刷版は、方法ステップＧで新たに印刷される。円を成すプロセスＡ〜Ｇは、繰り返し行うことができる。
【００３０】
図２には、本発明による、印刷済みの刷版を再画像形成するための装置の好適な実施の形態を側面図で示す。
【００３１】
好適には版胴１として形成された、刷版５ａもしくは基板５ｂを支持する中央の胴１の周りに、刷版５ａを処理するための複数のユニットが配置されている。
【００３２】
本発明による装置の主要ユニットは、消去ユニットＢ’および画像形成ユニットＣ’であり、消去ユニットＢ’は、先行の印刷画像を消去するために、刷版５ａの基板５ｂを、全体的に、液状の研磨剤８で処理し、画像形成ユニットＣ’は、後続の印刷画像を画像形成するために、基板５ｂを、部分的に画像部においてショートパルスレーザＣ’、好適にはフェムトセカンドレーザＣ’で処理する。
【００３３】
選択的に、本発明による装置は、洗浄ユニットＡ’ならびに現像ユニットＤ’を備えており、洗浄ユニットＡ’は、刷版５ａの基板５ｂを全体的に洗浄してインキまたはラッカを落とし、現像ユニットＡ’は、全体的に液状のゴム剤７で処理し、これにより基板５ｂは、部分的に画像部において親水性化される。
【００３４】
同様に選択的に、中央の胴１の周りに、湿しのためのユニットもしくは湿し装置Ｅ’ならびに着色のためのユニットもしくはインキ装置Ｆ’を配置してもよい。刷版５ａの印刷は、ゴム胴２と圧胴３との間のニップにおいてゴム胴２を介して被印刷物４に行われる。
【００３５】
記載の方法に対して選択的に、未印刷の、したがって未着色の刷版を、方法ステップＣに従って画像形成し、方法ステップＤに従って、まえもって刷版を洗浄してインキを落とすことなく、親水性化するか超親水性化する。方法ステップＢに従った研磨処理は、刷版の表面を画像形成のために規定の出発状態にするために、選択的に行ってもよい。
【符号の説明】
【００３６】
１ 版胴、 ２ ゴム胴、 ３ 圧胴、 ４ 被印刷物、 ５ａ 刷版、 ５ｂ 基板、 ６ レーザビーム、 ７ 親水性向上剤、 ８ 研磨剤、 Ａ，Ａ’ 洗浄もしくは洗浄ユニット、 Ｂ，Ｂ’ 消去もしくは消去ユニット、 Ｃ，Ｃ’ 画像形成もしくは画像形成ユニット／レーザ、 Ｄ，Ｄ’ 現像もしくは現像ユニット、 Ｅ，Ｅ’ 湿しもしくは湿しユニット、 Ｆ，Ｆ’ 着色もしくは着色ユニット、 Ｇ 印刷
【技術分野】
【０００１】
本発明は、印刷済みの刷版を画像形成する方法に関する。
【０００２】
さらに本発明は、印刷済みの刷版を再画像形成する装置に関する。
【背景技術】
【０００３】
背景技術から、オフセット印刷用の再書込可能な刷版が公知であり、つまり、刷版は、繰り返し様々な印刷画像を備えることができ、したがって再利用可能である。そのような刷版は、基板と基板上に取り付けられるマイクロメートル厚さの被覆とを備えることができ、その際、被覆は、画像形成中、部分的に画像部において大抵の場合レーザビームにより再び除去されるので、画像に応じた親水性部分および疎水性部分の表面構造化が行われる。新たに画像形成するまえに、表面は洗浄され、再び閉じた被覆を備える。被覆は、ドイツ連邦共和国特許出願公開第１０１３２２０４号明細書において記載されており、たとえば水膜として形成することができる。さらにたとえばドイツ連邦共和国特許出願公開第１０２２７０５４号明細書において、前述のマイクロメートル厚さの被覆の代わりに、ナノメートル厚さの分子膜を備えており、分子膜は、同様にレーザビームにより構造化可能であり、新たな画像形成前に再生される。これに対して被覆媒体および膜媒体ならびに相応の塗着装置なく取り扱われる刷版が所望される。
【０００４】
国際公開第２０１０／０２９３４２号パンフレットにおいて、被覆や膜を有していない、再書込可能な刷版が公知である。刷版に、画像部において、レーザビーム、たとえばフェムトセカンドレーザのビームが当てられ、これにより刷版は、画像に応じた構造を形成するために部分的に親水性化される。刷版の消去は、たとえば十分な時間放置することにより、好適には流動性の消去剤を使用することなく行われる。そのような放置は、刷版を印刷直後に再び新たな印刷ジョブに提供しようとする場合には、不都合である。
【０００５】
さらにドイツ連邦共和国特許出願公開第１０２００５０３５８９６号明細書において、様々な色の構造またはホログラフィー式に作用する構造の形成に関して、フェムトセカンドレーザを用いてナノ構造を形成することが記載されている。刷版を製作するためにそのような構造を利用することや特に再画像形成前に構造を消去することについては記載されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】ドイツ連邦共和国特許出願公開第１０１３２２０４号明細書
【特許文献２】ドイツ連邦共和国特許出願公開第１０２２７０５４号明細書
【特許文献３】国際公開第２０１０／０２９３４２号パンフレット
【特許文献４】ドイツ連邦共和国特許出願公開第１０２００５０３５８９６号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
このような背景技術を鑑みて、本発明の課題は、背景技術に対して改善された、再画像形成のための時間コスト、材料コストおよび経済コストを特に消去に関して低く抑えることができる、印刷済みの刷版を再画像形成する方法を提供することである。
【０００８】
さらに本発明の別のまたは選択的な課題は、記載のコストを低く抑えることができる、背景技術に対して改善された装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この課題を解決するための方法によれば、印刷済みの刷版を再画像形成する方法において、刷版の基板を全体的に洗浄して、インキまたはラッカを落とし、先行の印刷画像を消去するために、基板を全体的に研磨処理し、後続の印刷画像を画像形成するために、基板を部分的に画像部においてパルスレーザビームで処理し、部分的にナノスコープの疎水性の表面構造を形成し、基板を全体的に親水性向上剤で処理し、基板を、部分的に直前まで疎水性の画像部において親水性化する。
【００１０】
本発明による方法では、パルスレーザビームひいてはレーザパルスが用いられる。好適には、基板の表面の画像部にナノ構造もしくはナノトポグラフィが形成され、これにより湿し特性が変化し、刷版は、画像形成範囲で、つまり画像部において疎水性化される。その際、主な材料除去（剥離）または材料塗着（被覆）が行われず、その代わりに画像部および非画像部に同じ基板材料が、しかしながら異なるナノ構造で存在する。これに対して必要な印刷コントラストを形成するために必要な差は、専ら（非）画像部の異なるナノスコープの構造に起因する。さらにこのようにして形成された表面状態は、時間的に安定しており、これに対してたとえば背景技術に記載された構造化された水膜では、水膜は簡単に蒸発することがある。
【００１１】
本発明による方法では、さらに親水性向上剤が用いられる。親水性向上剤は、流れ始めると、ナノ構造の画像部に特に良好に付着し（つまりその粒子がそこに特に良好に結合し）、これにより直前まで疎水性の画像部が親水性化される。さらに、レーザ処理された疎水性部分は、親水性向上剤のあとでは、レーザ処理していない部分よりも親水性になる。さらに、これによりコントラストは、画像部と非画像部との間で好適には十分な程度に高まる。
【００１２】
ビームが当てられた部分とビームが当てられていない部分との間で強いコントラストを形成するために好適であり、したがって本発明による方法の好適な態様によれば、パルスレーザビームは、光パルスを有し、光パルスの継続時間ｔは、少なくともピコセカンド範囲（ｔ＜１００＊１０-12セカンド）および好適には少なくともフェムトセカンド範囲（ｔ＜１００＊１０-15セカンド）である。このためにいわゆるパルスレーザ、特にピコセカンドレーザもしくはフェムトセカンドレーザを用いることができる。
【００１３】
同様にビームが当てられた部分とビームが当てられていない部分との間に強いコントラストを形成するために、本発明の方法による好適な態様によれば、光パルスは、約１マイクロジュール〜約１０マイクロジュールのパルスエネルギで、約１０フェムトセカンド〜約１０００フェムトセカンド、特に約１００フェムトセカンド〜１０００フェムトセカンド継続する。
【００１４】
画像形成する、つまり基板表面を構造化するのに好適で、したがって本発明の方法の好適な１つの態様によれば、基板を、研磨処理のあとで画像形成まで被覆しない。特に画像形成は、研磨処理の直後に行うことができる。
【００１５】
要求される印刷コントラストにとって十分な構造を形成するために好適で、したがって本発明の方法の好適な１つの態様によれば、基板を、以下の基板から、つまり、金属、金属酸化物、金属薄板、金属薄板上の金属酸化物層、チタン薄板または特殊鋼薄板上のチタン層、アルミニウム薄板または特殊鋼薄板上のアルミニウム層、特殊鋼薄板、プラスチック、プラスチックシートから選択する。
【００１６】
十分なコントラストにとって好適で、したがって本発明の方法の好適な１つの態様によれば、親水性向上剤として、液状のゴム剤、特にＣＭＣ（カルボキシメチルセルロース）の水溶液を用いる。
【００１７】
技術的に容易に適用できるので好適であり、したがって本発明の方法の好適な１つの態様によれば、研磨処理のために、液状の研磨剤を用いる。
【００１８】
本発明による印刷済みの刷版を再画像形成する装置によれば、消去ユニットを備え、消去ユニットは、先行の印刷画像を消去するために、刷版の基板を全体的に液状の研磨剤で処理し、画像形成ユニットを備え、画像形成ユニットは、後続の印刷画像で画像形成するために、基板を、部分的に画像部においてフェムトセカンドレーザで処理する。
【００１９】
十分なコントラスト向上を得るために好適で、したがって本発明の装置の好適な１つの態様によれば、現像ユニットを備え、現像ユニットは、基板を全体的に液状のゴム剤で処理し、基板は、部分的に画像部において親水性化される。
【００２０】
本発明の範疇に、本発明に関して記載する少なくとも１つの装置を備えた、シートを処理する機械、印刷機、特にリソグラフィ方式のオフセット印刷用のシートを処理する輪転印刷機または刷版露光機が含まれる。
【００２１】
記載の本発明および記載の本発明の好適な態様は、相互に組み合わせると、本発明の好適な別の態様を表す。全体的な洗浄、液状の研磨剤を用いた全体的な研磨による消去、フェムトセカンドパルスによる様々な金属基板の部分的なレーザ処理、全体的な親水性向上を行う方法が特に好適である。
【００２２】
以下に、本発明の構造的および／または機能的に好適な別の態様として、本発明を、少なくとも１つの好適な実施の形態に基づいて、図面につき詳しく説明する。図面には、対応する構成要素には同じ符号を用いた。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明による方法の好適な実施の形態を示すフローチャートである。
【図２】本発明による装置の好適な実施の形態を示す概略側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
図１には、本発明による、既に少なくとも一度印刷を行った刷版５ａを再画像形成する方法の好適な実施の形態をフローチャートで示す。新たな印刷ジョブのための再画像形成は、同じ印刷画像または別の印刷画像で行われる。印刷ジョブには、１枚の被印刷物、たとえば個別の枚葉シートまたは厚紙シートの印刷、または、複数枚のそのような被印刷物、つまり連続するシートの印刷が含まれる。
【００２５】
方法ステップＡでは、刷版５ａ（図２参照）の基板５ｂ、好適にはチタン薄板または特殊鋼薄板が、全体的に、つまり、印刷に用いられる面の少なくとも全体にわたって、ほぼ完全に洗浄され、先行の印刷ジョブのインキまたはラッカが落とされる。このために市販の刷版洗浄剤、たとえばＤｒｕｃｋ Ｃｈｅｍｉｅ社の「Ｅｕｒｏｓｔａｒ」を用いることができ、つまり、付着してインキまたはラッカを除去することができる。これに続いて注ぎおよび乾燥を行ってもよい。
【００２６】
方法ステップＢでは、基板５ｂは、消去、つまり、先行の印刷画像を復元不能に除去するために、本発明によれば全体的に研磨処理される。このために好適には、流動性の、特に液状の研磨剤８が用いられる。Ａｇｆａ社の「ＲＣ９５］がテストでは効果的であった。研磨剤による処理は、テストで、先行の画像形成のナノトポグラフィの構造を消去するかもしくは破壊して、刷版の表面を後続の画像形成のために規定の出発状態にするには十分であると認められた。
【００２７】
方法ステップＣでは、後続の印刷画像を画像形成するために、本発明によれば、基板５ｂが、部分的に（つまり全体的ではなく画像形成に必要な範囲だけで）画像部においてパルスレーザビーム６（好適にはいわゆるショートパルスレーザまたは特にフェムトセカンドレーザのレーザビーム）で処理され、その際、部分的に、ナノスコープの、疎水性の、特に（水または水溶液に対して極めて小さな湿し特性に基づいて）いわゆる超疎水性の表面構造が形成される。光パルス（約１マイクロモジュール〜約１０マイクロモジュールのパルスエネルギでは）は、好適には約１０フェムトセカンド〜約１００００フェムトセカンド、特に約１００フェムトセカンド〜１０００フェムトセカンド継続する。その際、部分的に、好適には約１０ナノメートル〜約１００００ナノメートル、特に約１００ナノメートル〜約１０００ナノメートルの凹部を有し、好適には約１０ナノメートル〜約１００００ナノメートル、特に約１００ナノメートルから約１０００ナノメートルの凹部の横方向の周期性を有するレーザ処理された表面のナノトポグラフィの構造が生じる。たとえばＣｏｈｅｒｅｎｔ社のチタン：サファイヤレーザ（Ｔｙｐ ＲｅｇＡ）が用いられる。
【００２８】
方法ステップＤでは、基板５ｂは、全体的に、親水性向上剤７で処理され、これにより基板は、本発明によれば、部分的に、直前まで疎水性または超疎水性の画像部において湿し特性が逆転され、親水性化される。親水性向上剤として、好適にはたとえばＫｏｄａｋ社の「８５０ Ｎｅｕｔｒａｌ Ｇｕｍ」、Ａｇｆａ社の「ＡｇｕｍＺ」、「ＡｇｕｍＯ」または「ＡｇｕｍＣ２」のようなゴム化溶液（ゴム剤）が用いられる。ＣＭＣ（Ｃａｒｂｏｘｙ−Ｍｅｔｈｙｌ−Ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）の水溶液をベースとしたゴム剤が特に好適である。
【００２９】
方法ステップＡ〜Ｄに従った、既に印刷された刷版の再画像形成のあとで、刷版は、方法ステップＥで湿され、方法ステップＦで着色される。成分としてゴム剤を含有し、したがって印刷コントラスト、つまり印刷プロセスに十分な親水性部分および疎水性部分の湿し特性の差を本刷り中に維持する湿し媒体の使用が特に好適である。次いで刷版は、方法ステップＧで新たに印刷される。円を成すプロセスＡ〜Ｇは、繰り返し行うことができる。
【００３０】
図２には、本発明による、印刷済みの刷版を再画像形成するための装置の好適な実施の形態を側面図で示す。
【００３１】
好適には版胴１として形成された、刷版５ａもしくは基板５ｂを支持する中央の胴１の周りに、刷版５ａを処理するための複数のユニットが配置されている。
【００３２】
本発明による装置の主要ユニットは、消去ユニットＢ’および画像形成ユニットＣ’であり、消去ユニットＢ’は、先行の印刷画像を消去するために、刷版５ａの基板５ｂを、全体的に、液状の研磨剤８で処理し、画像形成ユニットＣ’は、後続の印刷画像を画像形成するために、基板５ｂを、部分的に画像部においてショートパルスレーザＣ’、好適にはフェムトセカンドレーザＣ’で処理する。
【００３３】
選択的に、本発明による装置は、洗浄ユニットＡ’ならびに現像ユニットＤ’を備えており、洗浄ユニットＡ’は、刷版５ａの基板５ｂを全体的に洗浄してインキまたはラッカを落とし、現像ユニットＡ’は、全体的に液状のゴム剤７で処理し、これにより基板５ｂは、部分的に画像部において親水性化される。
【００３４】
同様に選択的に、中央の胴１の周りに、湿しのためのユニットもしくは湿し装置Ｅ’ならびに着色のためのユニットもしくはインキ装置Ｆ’を配置してもよい。刷版５ａの印刷は、ゴム胴２と圧胴３との間のニップにおいてゴム胴２を介して被印刷物４に行われる。
【００３５】
記載の方法に対して選択的に、未印刷の、したがって未着色の刷版を、方法ステップＣに従って画像形成し、方法ステップＤに従って、まえもって刷版を洗浄してインキを落とすことなく、親水性化するか超親水性化する。方法ステップＢに従った研磨処理は、刷版の表面を画像形成のために規定の出発状態にするために、選択的に行ってもよい。
【符号の説明】
【００３６】
１ 版胴、 ２ ゴム胴、 ３ 圧胴、 ４ 被印刷物、 ５ａ 刷版、 ５ｂ 基板、 ６ レーザビーム、 ７ 親水性向上剤、 ８ 研磨剤、 Ａ，Ａ’ 洗浄もしくは洗浄ユニット、 Ｂ，Ｂ’ 消去もしくは消去ユニット、 Ｃ，Ｃ’ 画像形成もしくは画像形成ユニット／レーザ、 Ｄ，Ｄ’ 現像もしくは現像ユニット、 Ｅ，Ｅ’ 湿しもしくは湿しユニット、 Ｆ，Ｆ’ 着色もしくは着色ユニット、 Ｇ 印刷
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷済みの刷版を再画像形成する方法において、
−刷版（５ａ）の基板（５ｂ）を全体的に洗浄して、インキまたはラッカを落とし（Ａ）、
−先行の印刷画像を消去（Ｂ）するために、基板（５ｂ）を全体的に研磨処理し（Ｂ）、
−後続の印刷画像を画像形成（Ｃ）するために、基板（５ｂ）を部分的に画像部においてパルスレーザビーム（６）で処理し、部分的にナノスコープの疎水性の表面構造を形成し、
−基板（５ｂ）を全体的に親水性向上剤（７）で処理し（Ｄ）、基板（５ｂ）を、部分的に、直前まで疎水性の画像部において親水性化する、
ことを特徴とする、印刷済みの刷版を再画像形成する方法。
【請求項２】
パルスレーザビーム（６）は、光パルスを有し、該光パルスの継続時間は、少なくともピコセカンド範囲またはフェムトセカンド範囲である、請求項１記載の方法。
【請求項３】
光パルスは、約１マイクロジュール〜約１０マイクロジュールのパルスエネルギで、約１０フェムトセカンド〜約１０００フェムトセカンド、特に約１００フェムトセカンド〜１０００フェムトセカンド継続する、請求項２記載の方法。
【請求項４】
基板（５ｂ）を、研磨処理（Ｂ）のあとで画像形成（Ｃ）まで被覆しない、請求項１記載の方法。
【請求項５】
基板（５ｂ）を、以下の基板、
−金属、
−金属酸化物、
−金属薄板、
−金属薄板上の金属酸化物層、
−チタン薄板または特殊鋼薄板上のチタン層、
−アルミニウム薄板または特殊鋼薄板上のアルミニウム層、
−特殊鋼薄板、
−プラスチック、
−プラスチックシート、
から選択する、請求項１記載の方法。
【請求項６】
親水性向上剤（７）として、液状のゴム剤、特にＣＭＣ（カルボキシメチルセルロース）の水溶液を用いる、請求項１記載の方法。
【請求項７】
研磨処理（Ｂ）のために、液状の研磨剤（８）を用いる、請求項１記載の方法。
【請求項８】
印刷済みの刷版を再画像形成する装置において、
−消去ユニット（Ｂ’）を備え、該消去ユニット（Ｂ’）は、先行の印刷画像を消去するために、刷版（５ｂ）の基板（５ａ）を、全体的に液状の研磨剤（８）で処理し、
−画像形成ユニット（Ｃ’）を備え、該画像形成ユニット（Ｃ’）は、後続の印刷画像を画像形成するために、基板（５ｂ）を、部分的に画像部においてフェムトセカンドレーザ（Ｃ’）で処理する、
ことを特徴とする、印刷済みの刷版を再画像形成する装置。
【請求項９】
現像ユニット（Ｄ’）を備え、該現像ユニット（Ｄ’）は、基板（５ｂ）を全体的に液状のゴム剤（７）で処理し、基板（５ｂ）は、部分的に画像部において親水性化される、請求項８記載の装置。
【請求項１０】
請求項８または９記載の装置を備えることを特徴とする、機械、たとえばリソグラフィ方式のオフセット印刷用の印刷機、特にシートを処理する輪転印刷機または刷版露光機。
【請求項１】
印刷済みの刷版を再画像形成する方法において、
−刷版（５ａ）の基板（５ｂ）を全体的に洗浄して、インキまたはラッカを落とし（Ａ）、
−先行の印刷画像を消去（Ｂ）するために、基板（５ｂ）を全体的に研磨処理し（Ｂ）、
−後続の印刷画像を画像形成（Ｃ）するために、基板（５ｂ）を部分的に画像部においてパルスレーザビーム（６）で処理し、部分的にナノスコープの疎水性の表面構造を形成し、
−基板（５ｂ）を全体的に親水性向上剤（７）で処理し（Ｄ）、基板（５ｂ）を、部分的に、直前まで疎水性の画像部において親水性化する、
ことを特徴とする、印刷済みの刷版を再画像形成する方法。
【請求項２】
パルスレーザビーム（６）は、光パルスを有し、該光パルスの継続時間は、少なくともピコセカンド範囲またはフェムトセカンド範囲である、請求項１記載の方法。
【請求項３】
光パルスは、約１マイクロジュール〜約１０マイクロジュールのパルスエネルギで、約１０フェムトセカンド〜約１０００フェムトセカンド、特に約１００フェムトセカンド〜１０００フェムトセカンド継続する、請求項２記載の方法。
【請求項４】
基板（５ｂ）を、研磨処理（Ｂ）のあとで画像形成（Ｃ）まで被覆しない、請求項１記載の方法。
【請求項５】
基板（５ｂ）を、以下の基板、
−金属、
−金属酸化物、
−金属薄板、
−金属薄板上の金属酸化物層、
−チタン薄板または特殊鋼薄板上のチタン層、
−アルミニウム薄板または特殊鋼薄板上のアルミニウム層、
−特殊鋼薄板、
−プラスチック、
−プラスチックシート、
から選択する、請求項１記載の方法。
【請求項６】
親水性向上剤（７）として、液状のゴム剤、特にＣＭＣ（カルボキシメチルセルロース）の水溶液を用いる、請求項１記載の方法。
【請求項７】
研磨処理（Ｂ）のために、液状の研磨剤（８）を用いる、請求項１記載の方法。
【請求項８】
印刷済みの刷版を再画像形成する装置において、
−消去ユニット（Ｂ’）を備え、該消去ユニット（Ｂ’）は、先行の印刷画像を消去するために、刷版（５ｂ）の基板（５ａ）を、全体的に液状の研磨剤（８）で処理し、
−画像形成ユニット（Ｃ’）を備え、該画像形成ユニット（Ｃ’）は、後続の印刷画像を画像形成するために、基板（５ｂ）を、部分的に画像部においてフェムトセカンドレーザ（Ｃ’）で処理する、
ことを特徴とする、印刷済みの刷版を再画像形成する装置。
【請求項９】
現像ユニット（Ｄ’）を備え、該現像ユニット（Ｄ’）は、基板（５ｂ）を全体的に液状のゴム剤（７）で処理し、基板（５ｂ）は、部分的に画像部において親水性化される、請求項８記載の装置。
【請求項１０】
請求項８または９記載の装置を備えることを特徴とする、機械、たとえばリソグラフィ方式のオフセット印刷用の印刷機、特にシートを処理する輪転印刷機または刷版露光機。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２０１２−３５６２７（Ｐ２０１２−３５６２７Ａ）
【公開日】平成２４年２月２３日（２０１２．２．２３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１７０３６８（Ｐ２０１１−１７０３６８）
【出願日】平成２３年８月３日（２０１１．８．３）
【出願人】（３９０００９２３２）ハイデルベルガー ドルツクマシーネン アクチエンゲゼルシヤフト (347)
【氏名又は名称原語表記】Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇｅｒ Ｄｒｕｃｋｍａｓｃｈｉｎｅｎ ＡＧ
【住所又は居所原語表記】Ｋｕｒｆｕｅｒｓｔｅｎ−Ａｎｌａｇｅ ５２−６０， Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ， Ｇｅｒｍａｎｙ
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年２月２３日（２０１２．２．２３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年８月３日（２０１１．８．３）
【出願人】（３９０００９２３２）ハイデルベルガー ドルツクマシーネン アクチエンゲゼルシヤフト (347)
【氏名又は名称原語表記】Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇｅｒ Ｄｒｕｃｋｍａｓｃｈｉｎｅｎ ＡＧ
【住所又は居所原語表記】Ｋｕｒｆｕｅｒｓｔｅｎ−Ａｎｌａｇｅ ５２−６０， Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ， Ｇｅｒｍａｎｙ
【Ｆターム（参考）】
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