印刷装置および印刷方法
【課題】良好なパターンを基板に印刷することができる印刷装置および印刷方法を提供する。
【解決手段】版胴１０は、軸心１０ａを中心に回転するとともに、外周面１４に印刷版１２を装着する。供給部２０は、版胴１０に装着された印刷版１２に塗布液を供給することによって、印刷版１２上に塗布液のパターン１３を形成する。載置台３０は、リニアガイド３２に沿って進退させられる。制御ユニット９０の駆動制御部９３ａは、基板Ｗおよび印刷版１２が近接または当接した状態で、版胴１０の回転に同期させつつ載置台３０を矢印ＡＲ１方向（進行方向）に沿って移動させる。これにより、印刷版１２から基板Ｗにパターン１３が転写される。乾燥部４０は、塗布液のパターン１３が転写された基板Ｗを、パターン１３の転写が完了する完了位置Ｐ１付近で乾燥させる。
【解決手段】版胴１０は、軸心１０ａを中心に回転するとともに、外周面１４に印刷版１２を装着する。供給部２０は、版胴１０に装着された印刷版１２に塗布液を供給することによって、印刷版１２上に塗布液のパターン１３を形成する。載置台３０は、リニアガイド３２に沿って進退させられる。制御ユニット９０の駆動制御部９３ａは、基板Ｗおよび印刷版１２が近接または当接した状態で、版胴１０の回転に同期させつつ載置台３０を矢印ＡＲ１方向（進行方向）に沿って移動させる。これにより、印刷版１２から基板Ｗにパターン１３が転写される。乾燥部４０は、塗布液のパターン１３が転写された基板Ｗを、パターン１３の転写が完了する完了位置Ｐ１付近で乾燥させる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体基板、有機エレクトロルミネッセンスまたは液晶表示用ガラス基板および樹脂基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板、並びに太陽電池用パネル等（以下、単に「基板」と称する）に対して、塗布液のパターンを印刷する印刷装置および印刷方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、有機エレクトロルミネッセンス（Organic Electro-Luminescence：以下、単に、「有機ＥＬ」と称する）の表示装置を製造する場合において、有機ＥＬ層が形成される前段階の薄膜トランジスタアレイ付き基板を、真空乾燥させる技術が、知られている（例えば、特許文献１）。
【０００３】
また、インクジェット法によりパターンを形成した後、形成されたパターンを減圧乾燥する技術も、従来より知られている（例えば、特許文献２）。さらに、マルチノズルタイプのヘッドを形成したインクジェットプリンターも、従来より知られている（例えば、特許文献３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−１８１７７０号公報
【特許文献２】特開２００９−０９４４４６号公報
【特許文献３】特開平０６−１８２９８０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ここで、特許文献２のパターン形成方法では、ヘッド本体を基板に対して相対的に２次元的に移動させることによって、基板上に所望のパターンを形成する。これにより、ヘッド本体の相対的移動に起因した気流が、基板付近に発生する。その結果、基板上に吐出されたインクが、発生した気流により順次乾燥され、形成されたパターンに気流に起因した乾燥不良が生ずる。
【０００６】
これに対して、特許文献３の技術は、減圧状態で被印刷物に印刷を行うことによって、気流の発生を抑制している。したがって、特許文献３の技術では密閉印刷室を減圧することが必要となり、その結果、印刷時間が増大するという問題が生ずる。
【０００７】
そこで、本発明では、良好なパターンを基板に印刷することができる印刷装置および印刷方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するため、請求項１の発明は、軸心を中心に回転するとともに、外周面に印刷版を装着する版胴と、前記版胴に装着された前記印刷版に塗布液を供給することによって、前記印刷版に前記塗布液のパターンを形成する供給部と、基板を載置する載置台と、前記基板を乾燥させる乾燥部と、前記版胴に装着された前記印刷版に対して前記載置台を相対的に移動させる駆動制御部とを備え、前記駆動制御部は、前記載置台に載置された前記基板と、前記版胴に装着された前記印刷版と、が近接または当接した状態で、前記版胴の回転に同期させつつ前記載置台を進行方向に沿って相対的に移動させることによって、前記パターンの形状を維持しつつ、前記印刷版から前記基板に前記パターンを転写させ、前記乾燥部は、前記パターンの転写が完了する完了位置付近に設けられており、内側に前記基板を収容する収容部と、前記収容部の内側および前記載置台に囲まれる密閉空間を減圧する減圧部とを有することを特徴とする。
【０００９】
また、請求項２の発明は、請求項１に記載の印刷装置において、前記乾燥部は、前記密閉空間に収容された前記基板を加熱する加熱部、をさらに有することを特徴とする。
【００１０】
また、請求項３の発明は、請求項１または請求項２に記載の印刷装置において、少なくとも前記版胴、前記供給部、前記載置台、および前記乾燥部が配置された処理室内の雰囲気を制御する雰囲気制御部、をさらに備えることを特徴とする。
【００１１】
また、請求項４の発明は、請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の印刷装置において、前記乾燥部は、前記完了位置に応じて、前記載置台の進行方向における前記収容部の位置を調整する位置調整部、をさらに有することを特徴とする。
【００１２】
また、請求項５の発明は、請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の印刷装置において、前記乾燥部は、前記載置台に対して前記収容部を昇降させる昇降部、をさらに有することを特徴とする。
【００１３】
また、請求項６の発明は、請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の印刷装置において、前記供給部は、前記軸心の延伸方向に沿った前記塗布液を吐出するスリットノズル、を有することを特徴とする。
【００１４】
また、請求項７の発明は、請求項１ないし請求項６のいずれかに記載の印刷装置において、前記収容部は、前記載置台側に設けられた開口の周囲を囲繞するシール部、をさらに有することを特徴とする。
【００１５】
また、請求項８の発明は、(a)版胴に装着された印刷版に塗布液を供給することによって、前記印刷版に前記塗布液のパターンを形成する工程と、(b)載置台に載置された前記基板と前記印刷版とが近接または当接した状態で、前記版胴の回転に同期させつつ前記載置台を相対的に移動させることによって、前記パターンの形状を維持しつつ、前記印刷版から前記基板に前記パターンを転写させる工程と、(c)前記パターンの転写が完了する完了位置付近において、前記パターンが転写された前記基板を減圧乾燥する工程とを備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
請求項１ないし請求項８に記載の発明により基板に印刷版のパターンが転写される場合、載置台に載置された基板と、版胴に装着された印刷版とは、近接または当接する状態とされる。また、パターンの形状が維持されつつ、パターンが基板に転写されるため、版胴の回転速度、および載置台の移動速度は、低速度に設定されている。
【００１７】
これにより、転写時において、基板移動に起因した気流が基板上のパターン付近に生ずることを抑制でき、この気流に起因したパターンの乾燥不良を抑制できる。また、基板に対してパターンの転写が完了すると、基板は、完了位置付近で速やかに減圧乾燥される。そのため、基板上に形成される塗布液のパターンの乾燥は均一なものとされる。
【００１８】
特に、請求項２に記載の発明によれば、加熱部からの熱によって、密閉空間内の基板をさらに迅速に乾燥させることができる。
【００１９】
特に、請求項３に記載の発明によれば、処理室内の雰囲気を制御することによって、転写時におけるパターンの乾燥を、さらに抑制することができる。そのため、塗布液のパターンを、基板上にさらに良好に形成することができる。
【００２０】
特に、請求項４に記載の発明によれば、例えば、基板のサイズ、および印刷版のサイズに応じて、収容部の位置を調整することができる。すなわち、転写の完了位置と乾燥位置と、を一致させることができる。そのため、パターンの転写が完了した基板を、さらに迅速に乾燥することができる。
【００２１】
特に、請求項６に記載の発明において、供給部はスリットノズルを有しており、版胴に対して塗布液をさらに均一に供給することができる。そのため、基板上に形成される塗布液のパターンを、さらに均一なものとすることができる。
【００２２】
特に、請求項７に記載の発明によれば、シール部により載置台と収容部との間を良好に塞ぐことができ、密閉空間を良好に密封できる。これにより、密閉空間内の減圧速度をさらに向上させることができる。そのため、減圧乾燥に要する時間をさらに短縮させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の実施の形態における印刷装置の全体構成の一例を示す正面斜視図である。
【図２】本発明の実施の形態における印刷装置の全体構成の一例を示す正面概略図である。
【図３】乾燥部付近の構成の一例を示す正面断面図である。
【図４】収容部を固定する固定機構の一例を示す正面断面図である。
【図５】パターンの転写手順の一例を示すフローチャートである。
【図６】基板に転写されるパターンの一例を説明するための正面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【００２５】
＜１．印刷装置の全体構成＞
図１および図２は、それぞれ本発明の実施の形態における印刷装置１の全体構成の一例を示す正面斜視図および正面概略図である。ここで、印刷装置１は、印刷版１２に形成された塗布液のパターン１３（図２参照）を、基板Ｗに転写する。図１および図２に示すように、印刷装置１は、主として、版胴１０と、供給部２０と、載置台３０と、乾燥部４０と、制御ユニット９０と、を備えている。
【００２６】
なお、図１および以降の各図には、それらの方向関係を明確にすべく必要に応じて適宜、Ｚ軸方向を鉛直方向とし、ＸＹ平面を水平面とするＸＹＺ直交座標系が付されている。
【００２７】
版胴１０は、円筒状のローラであり、軸心１０ａを中心に回転する。版胴１０は、軸心１０ａに連動接続されたモータ（図示省略）によって、矢印Ｒ１方向（図２における時計回りの方向）および、矢印Ｒ１の逆方向（図２における反時計回りの方向）に回転可能とされている。なお、本実施の形態においてパターンの転写が実行される場合、版胴１０は、矢印Ｒ１方向に回転する。
【００２８】
印刷版１２は、例えばポリエステル系樹脂により形成された凸版である。図２に示すように、印刷版１２は、版胴１０の外周面１４に装着される。ここで、凸版は、印刷される画線部以外の部分をくぼませることによって、画線部（凸部）を相対的に突起させた印刷版である。そして、画線部につけられた塗布液が基板Ｗに転写されることによって、基板Ｗ上にパターンが形成される。
【００２９】
供給部２０は、版胴１０に装着された印刷版１２に塗布液２４を供給することによって、印刷版１２上に塗布液のパターン１３を形成する。図２に示すように、供給部２０は、主として、複数（本実施の形態では３つ）の発光材料供給源２１（２１ａ〜２１ｃ）と、複数（本実施の形態では３つ）のスリットノズル２２（２２ａ〜２２ｃ）と、インキングローラ２３と、を有している。
【００３０】
複数の発光材料供給源２１（２１ａ〜２１ｃ）は、それぞれ有機ＥＬの高分子発光材料（赤色、緑色、および青色発光材料）を、塗布液として供給する。図２に示すように、各発光材料供給源２１（２１ａ〜２１ｃ）は、設置テーブル２５に固定されている。
【００３１】
また、赤色発光材料供給源２１ａは第１スリットノズル２２ａと、緑色発光材料供給源２１ｂは第２スリットノズル２２ｂと、青色発光材料供給源２１ｃは第３スリットノズル２２ｃと、それぞれ連通接続されている。
【００３２】
したがって、赤色発光材料は第１スリットノズル２２ａから、緑色発光材料は第２スリットノズル２２ｂから、青色発光材料は第３スリットノズル２２ｃから、それぞれ吐出される。そして、各スリットノズル２２（２２ａ〜２２ｃ）から吐出された発光材料は、インキングローラ２３に供給される。
【００３３】
取付台２６は、設置テーブル２５の下方に設けられた移動体である。各スリットノズル２２（２２ａ〜２２ｃ）は、吐出口（図示省略）がインキングローラ２３と対向するように、取付台２６に固定されている。
【００３４】
リニアガイド２８は、図２に示すように、設置テーブル２５に取り付けられた案内部である。取付台２６および各スリットノズル２２は、リニアガイド２８によって、矢印ＡＲ１方向（−Ｘ軸方向）および矢印ＡＲ１と逆方向に案内される。したがって、不図示のリニアモータから取付台２６に駆動力が伝達されると、取付台２６は、リニアガイド２８に沿って進退（水平移動）させられる。そのため、取付台２６の停止位置に応じた塗布液（本実施の形態では、赤色、緑色、または青色発光材料）が、インキングローラ２３に供給される。
【００３５】
インキングローラ２３は、第１ないし第３スリットノズル２２ａ〜２２ｃのいずれかから吐出された発光材料を、回転接触により隣接する版胴１０に（より具体的には、版胴１０に装着された印刷版１２に）転写させる。
【００３６】
インキングローラ２３は、版胴１０と同様に、円筒状のローラであり、軸心２３ａを中心に回転する。図１および図２に示すように、インキングローラ２３は、パターン転写時における載置台３０の進行方向（矢印ＡＲ１方向）から見て、版胴１０の上流側に設けられている。
【００３７】
また、インキングローラ２３は、軸心２３ａに連動接続されたモータ（図示省略）によって、矢印Ｒ２方向（図２における反時計回りの方向）および、矢印Ｒ２の逆方向（図２における時計回りの方向）に回転可能とされている。なお、本実施の形態においてパターンの転写が実行される場合、インキングローラ２３は、矢印Ｒ２方向に回転する。
【００３８】
ここで、版胴１０の軸心１０ａと、インキングローラ２３の軸心２３ａと、は、互いに平行となるように配置されている。また、各スリットノズル２２（２２ａ〜２２ｃ）の吐出口（図示省略）は、版胴１０の軸心１０ａの延伸方向（矢印ＡＲ２方向：Ｙ軸方向）、およびインキングローラ２３の軸心２３ａの延伸方向（矢印ＡＲ２方向）に沿って形成されている。これにより、各スリットノズル２２（２２ａ〜２２ｃ）は、この延伸方向に沿った細長の塗布液を吐出する。
【００３９】
このように、一方向に延びる塗布液２４は、各スリットノズル２２のいずれかから選択的に吐出されるとともに、インキングローラ２３を介して版胴１０に供給される。また、塗布液２４は、版胴１０に対して均一に供給される。そのため、基板Ｗ上に形成される塗布液のパターン１３は、均一なものとなる。
【００４０】
載置台３０は、版胴１０および供給部２０の下方に設けられた移動体である。載置台３０は、基板Ｗを載置しつつ、矢印ＡＲ１方向（進行方向）および矢印ＡＲ１と逆方向に案内される。
【００４１】
複数（本実施の形態では２本）のリニアガイド３２は、図１および図２に示すように、定盤３５上に取り付けられた案内部である。したがって、不図示のリニアモータから載置台３０に駆動力が伝達されると、載置台３０は、複数のリニアガイド３２に沿って進退（水平移動）させられる。
【００４２】
乾燥部４０は、塗布液のパターン１３が転写された基板Ｗを、パターン１３の転写が完了する完了位置Ｐ１付近で乾燥させる。なお、乾燥部４０のハードウェア構成の詳細については、後述する。
【００４３】
制御ユニット９０は、印刷装置１の各構成要素の動作制御（例えば、載置台３０の駆動制御や、処理室５内の雰囲気制御等）、およびデータ演算を実現する。図２に示すように、制御ユニット９０は、主として、ＲＯＭ９１と、ＲＡＭ９２と、ＣＰＵ９３と、を有している。
【００４４】
ＲＯＭ（Read Only Memory）９１は、いわゆる不揮発性の記憶部であり、例えば、プログラム９１ａが格納されている。なお、ＲＯＭ９１としては、読み書き自在の不揮発性メモリであるフラッシュメモリが使用されてもよい。ＲＡＭ（Random Access Memory）９２は、揮発性の記憶部であり、例えば、ＣＰＵ９３の演算で使用されるデータが格納される。
【００４５】
ＣＰＵ（Central Processing Unit）９３は、例えばＲＯＭ９１のプログラム９１ａに従った動作制御やデータ処理を実行する。ここで、図２中のＣＰＵ９３内のブロック（各ブロックには、それぞれ符号９３ａ、９３ｂが付与されている）に対応する演算機能は、ＣＰＵ９３によって実現される。
【００４６】
駆動制御部９３ａは、少なくとも、載置台３０を進退させるリニアモータ（図示省略）、および版胴１０を回転させるモータ（図示省略）の動作を制御することによって、版胴１０の印刷版１２に対して載置台３０を移動させる。
【００４７】
例えば、駆動制御部９３ａは、載置台３０に載置された基板Ｗと、版胴１０に装着された印刷版１２と、が近接または当接した状態で、版胴１０の回転に同期させつつ載置台３０を矢印ＡＲ１方向（進行方向）に沿って移動させる。これにより、印刷版１２に形成されたパターン１３の形状を維持しつつ、印刷版１２から基板Ｗにパターン１３を転写させることができる。
【００４８】
雰囲気制御部９３ｂは、少なくとも版胴１０、供給部２０、載置台３０、および乾燥部４０が配置された処理室５内の雰囲気（より具体的には、処理室５内における湿度および有機溶剤の濃度）を制御する。
【００４９】
ここで、各発光材料供給源２１（２１ａ〜２１ｃ）から供給される塗布液には、有機溶剤としてトルエン、キシレン、アニソールなどの芳香族系の有機化合物が含まれている。したがって、処理室５内におけるこれら有機溶剤の濃度を管理することによって、転写時におけるパターン１３の乾燥を、さらに抑制することができる。そのため、塗布液のパターン１３を、基板Ｗ上にさらに良好に形成することができる。
【００５０】
＜２．乾燥部の構成＞
図３は、乾燥部４０付近の構成の一例を示す正面断面図である。また、図４は、シール部４１ｄの構成の一例を示す正面断面図である。乾燥部４０は、上述のように、パターン１４が転写された基板Ｗを乾燥する。図１ないし図３に示すように、乾燥部４０は、主として、収容部４１と、昇降部４２と、減圧部４３と、を有している。
【００５１】
収容部４１は、図３に示すように中空状の蓋体であり、図２に示すようにパターン１４の転写が完了する完了位置Ｐ１付近に設けられている。また、図３に示すように、収容部４１の載置台３０側には、開口４１ａが設けられている。したがって、収容部４１が下降し、収容部４１の下端と載置台３０の上面とが接すると、収容部４１の内側および載置台３０に囲まれる空間として、密閉空間４１ｂが形成される。
【００５２】
加熱部４１ｃは、図３に示すように、収容部４１の内側上部付近に固定されたヒータである。これにより、密閉空間４１ｂに収容された基板Ｗを加熱することができる。そのため、加熱部４１ｃからの熱によって、密閉空間４１ｂ内の基板Ｗをさらに迅速に乾燥させることができる。
【００５３】
シール部４１ｄは、例えばゴムやフッ素系樹脂により形成された環状の密封用部品である。図４に示すように、シール部４１ｄは、開口４１ａの周囲を囲繞するように、収容部４１の下端に取り付けられている。
【００５４】
これにより、載置台３０と収容部４１との間を良好に塞ぐことができ、密閉空間４１ｂを良好に密封できる。そのため、減圧部４３の動作時において、密閉空間４１ｂの減圧速度をさらに向上させることができる。その結果、減圧乾燥に要する時間を、さらに短縮することができる。
【００５５】
昇降部４２は、載置台３０に対して収容部４１を昇降させる。図１に示すように、昇降部４２は、主として、架橋構造体４４と、一対の支持部４５と、摺動体４６と、シリンダ４７と、を有している。
【００５６】
架橋構造体４４は、リニアガイド３２を跨ぐように配置された構造物である。図１に示すように、架橋構造体４４は、載置台３０の進行方向（矢印ＡＲ１方向）と直交する方向（矢印ＡＲ２方向）に延びる複数（本実施の形態では２本）のブラケット４４ａと、これらブラケットの間に設けられた複数（本実施の形態では２本）の補強部材４４ｂと、を有している。
【００５７】
一対の支持部４５のそれぞれは、図１に示すように、複数（本実施の形態では２本）の支柱部材を有しており、矢印ＡＲ２方向における架橋構造体４４の両端を固定する。
【００５８】
摺動体４６は、載置台３０の進行方向（矢印ＡＲ１方向）と直交する方向に延びるブラケットである。図１に示すように、収容部４１は、摺動体４６の下方に固定されている。また、摺動体４６は、各支持部４５に沿って、上下方向に摺動する。さらに、一対の支持部４５のそれぞれに設けられたシリンダ４７のロッドは、矢印ＡＲ２方向における摺動体４６の両端に固定されている。
【００５９】
これにより、各シリンダ４７のロッドが往復運動すると、摺動体４６、および摺動体４６に固定された収容部４１が、昇降運動する。そのため、収容部４１は、待機位置（図２の２点鎖線位置）と、密閉位置（図２の実線位置）と、の間で昇降させられることになる。
【００６０】
複数のリニアガイド４８は、図１に示すように、定盤３５上に取り付けられた案内部である。一対の支持部４５のそれぞれは、対応するリニアガイド４８によって、矢印ＡＲ１方向および矢印ＡＲ１と逆方向に案内される。したがって、不図示のリニアモータ、または印刷装置１の保守者から一対の支持部４５に駆動力が付与されると、収容部４１は、リニアガイド４８に沿って進退させられる。
【００６１】
複数（本実施の形態では２つ：ただし、図示の都合上、一方（−Ｙ側）のみ記載）の固定機構４９は、リニアガイド４８に沿った所望の位置に一対の支持部４５を固定する。各固定機構４９が、対応するリニアガイド４８の側方を押圧することによって、各固定機構４９に対応する支持部４５が、リニアガイド４８に対して位置決めされる。
【００６２】
このように、各支持部４５は、対応するリニアガイド４８に沿って進退でき、かつ、各支持部４５は、対応する固定機構４９により固定できる。これにより、パターン１３転写の完了位置Ｐ１と、乾燥部４０による乾燥位置と、が一致するように、矢印ＡＲ１方向（進行方向）における一対の支持部４５を位置決めすることができる。そのため、パターン転写が完了した基板を、さらに迅速に乾燥することができる。
【００６３】
すなわち、複数のリニアガイド４８および複数の固定機構４９は、矢印ＡＲ１方向における収容部４１の位置を調整する「位置調整部」として機能する。
【００６４】
減圧部４３は、いわゆる減圧ポンプであり、共通排気管５０に設けられている。図２に示すように、減圧部４３は、フレキシブル配管５１、排気管５２、およびバルブ５４を介して収容部４１の内側の空間と連通接続されている。また、減圧部４３は、共通排気管５０を介して印刷装置１外の排気ドレイン５５と連通接続されている。
【００６５】
したがって、バルブ５４が開放され、減圧部４３が動作させられることによって、密閉空間４１ｂの雰囲気が強制的に排気ドレイン５５に排気され、密閉空間４１ｂが減圧される。そのため、密閉空間４１ｂ内に収容された基板Ｗは、減圧乾燥される。すなわち、塗布液に含まれる有機溶剤が、パターン１３から蒸発して、基板Ｗ上のパターン１３が、固化される。
【００６６】
ここで、フレキシブル配管５１は、撓み変形可能な材料によって形成されており、収容部４１の内側の空間と、ブラケット４４ａに埋設された排気管５２（図１の破線）と、を連通接続させる。これにより、収容部４１が昇降させられる場合であっても、収容部４１の内側の空間と、排気管５２と、の接続を良好に維持することができる。
【００６７】
＜３．パターンの転写手順＞
図５は、パターン１３の転写手順の一例を示すフローチャートである。ここでは、図５を参照しつつ、パターン１３の転写手順について説明する。なお、本転写手順に先立って、載置台３０に基板Ｗが載置されている。また、本転写手順において、供給部２０は、塗布液として複数種の発光材料（液）を供給する。
【００６８】
本転写手順では、まず、制御ユニット９０によって、供給部２０から供給される複数の発光材料（赤色、緑色、および青色発光材料）のうち一の発光材料が選択される（Ｓ１０１）。
【００６９】
次に、選択された発光材料が、供給部２０から回転する版胴１０の印刷版１２に供給される（Ｓ１０２）。これにより、印刷版１２の凸部（図示省略）に発光材料が付着し、印刷版１２にパターン１３が形成される。
【００７０】
続いて、駆動制御部９３ａによって、載置台３０に載置された基板Ｗと、版胴１０に装着された印刷版１２と、が近接または当接した状態で、載置台３０が、版胴１０の回転に同期しつつ矢印ＡＲ１方向に沿って移動させられる。これにより、印刷版１２に形成されたパターン１３は、その形状が維持されつつ、印刷版１２から基板Ｗの表面に転写される（Ｓ１０３）。
【００７１】
続いて、パターン１３の転写が完了した後、載置台３０は、収容部４１の直下の乾燥位置に停止する。一方、パターン１３の転写が完了した後、またはパターン１３の転写が完了することに先立って、収容部４１の下降動作が開始される。
【００７２】
続いて、収容部４１および載置台３０により密閉空間４１ｂが形成されると、密閉空間４１ｂの雰囲気が排気される。このように、転写の完了位置Ｐ１付近となる乾燥位置（ただし、完了位置Ｐ１と乾燥位置が一致する場合には、完了位置Ｐ１）で基板Ｗ上のパターンが減圧乾燥される（Ｓ１０４）。
【００７３】
減圧乾燥が完了すると、密閉空間４１ｂが大気開放され、載置台３０に対する収容部４１の固定が解除される。続いて、収容部４１が上昇することによって、載置台３０が進退可能状態とされる。
【００７４】
そして、すべての発光材料について転写および減圧乾燥が完了したと判断される場合、本転写手順が終了する（Ｓ１０５）。一方、いずれかの発光材料について転写および減圧乾燥が完了してないと判断される場合、ステップＳ１０１に戻る。そして、他の発光材料について転写および減圧乾燥が実行される（Ｓ１０１〜Ｓ１０４）。
【００７５】
図６は、基板Ｗに転写されるパターンの一例を説明するための正面図である。図６には、有機ＥＬ素子の一例が示されている。図６に示すように、赤色発光材料により赤色発光層７１が、緑色発光材料により緑色発光層７２が、青色発光材料により青色発光層７３が、それぞれ形成されている。また、隣接する赤色および緑色発光層７１、７２の間の距離Ｄ１、緑色および青色発光層７２、７３の間の距離Ｄ２、並びに青色および赤色発光層７３、７１の間の距離Ｄ３は、それぞれ一定とされている。
【００７６】
さらに、隣接する赤色発光層７１同士の距離Ｄ４は、距離Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３を合計したものとなる。また同様に、隣接する緑色発光層７２同士の距離、および隣接する青色発光層７３同士の距離も、距離Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３を合計したものとなる。
【００７７】
そのため、載置台３０の矢印ＡＲ２方向の位置を、距離Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３に基づいて所望量シフトさせることによって、同一の印刷版１２を用いて各発光材料のパターンを形成することができる。例えば、赤色発光材料の転写位置から矢印ＡＲ１方向に距離Ｄ１だけシフトさせた位置が、緑色発光材料の転写位置となる。
【００７８】
このように、複数種の発光材料（液）のそれぞれにより形成されたパターンを、基板Ｗに転写しつつ減圧乾燥する場合、供給部２０は、複数種の発光材料のうち選択された発光材料を印刷版１２に供給する。また、駆動制御部９３ａは、各発光材料毎に転写位置を矢印ＡＲ２方向に所定量シフトさせる。さらに、乾燥部４０は、各発光材料のパターンが形成される毎に、パターンを乾燥させる。
【００７９】
これにより、形状が同一で発光材料が相違する複数のパターンを、各液毎に転写および減圧乾燥することができる。そのため、一連の処理によって、複数のパターンを基板Ｗ上に容易に形成することができる。
【００８０】
＜４．本実施の形態の印刷装置の利点＞
以上のように、本実施の形態の印刷装置１によって基板Ｗに印刷版１２のパターン１３が転写される場合、載置台３０に載置された基板Ｗと、版胴１０に装着された印刷版１２と、は、近接または当接する状態とされる。また、パターンの形状が維持されつつ、パターンが基板Ｗに転写されるため、版胴１０の回転速度、および載置台３０の移動速度は、低速度に設定されている。
【００８１】
これにより、転写時において、基板Ｗの進行方向と、印刷版１２の進行方向（基板Ｗとの接点付近における接線方向）と、は同一方向となり、基板移動に起因した気流が基板Ｗ上のパターン付近に生ずることを抑制できる。すなわち、この気流に起因したパターンの乾燥不良を抑制できる。また、基板Ｗに対してパターンの転写が完了すると、基板Ｗは、完了位置Ｐ１付近で速やかに減圧乾燥される。そのため、基板Ｗ上に均一の塗布液のパターンを形成することができる。
【００８２】
なお、載置台３０の移動速度および版胴１０の回転速度等の転写条件は、塗布液（例えば、塗布液に含まれる溶質または溶媒）の種類に基づいて設定しても良い。
【００８３】
＜５．変形例＞
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく様々な変形が可能である。
【００８４】
（１）本実施の形態において、図６のステップＳ１０１〜Ｓ１０４を繰り返すことによって、複数のパターンを基板Ｗに形成するものとして説明したが、これに限定されるものでない。例えば、１種類の発光材料のみを基板Ｗに供給する場合、ステップＳ１０１〜Ｓ１０４による一連の工程は、１回だけ実行される。
【００８５】
（２）また、本実施の形態において、駆動制御部９３ａは、版胴１０を回転させつつ載置台３０を水平移動させることによって、版胴１０の印刷版１２に対して載置台３０を移動させるものとして説明したが、これに限定されるものでない。例えば、駆動制御部９３ａは、版胴１０および載置台３０のいずれか一方を駆動（回転または移動）させ、他方を停止させることによって、版胴１０の印刷版１２に対して載置台３０を移動させても良い。すなわち、駆動制御部９３ａは、版胴１０に装着された印刷版１２に対して載置台３０を相対的に移動させれば良い。
【００８６】
（３）また、本実施の形態において、加熱部４１ｃは、収容部４１の内側上部付近に固定されるものとして説明したが、加熱部４１ｃの配置はこれに限定されるものでない。例えば、加熱部４１ｃは、収容部４１の上部に埋設されても良い。
【００８７】
（４）また、本実施の形態において、図２中のブロック９３ａ、９３ｂのそれぞれに対応する演算機能は、ＲＯＭ９１に格納されたプログラム９１ａに従い、ＣＰＵ９３によって実現されるものとして説明したが、これに限定されるものでない。例えば、演算回路（ハードウェア）によって、これら演算機能が実現されてもよい。
【００８８】
（５）さらに、本実施の形態において、供給部２０は、塗布液として有機ＥＬの発光材料を供給するものとして説明したが、供給される塗布液の種類は、これに限定されるものでない。例えば、塗布液として液晶用のカラーフィルタ材料が供給されても良い。
【符号の説明】
【００８９】
１ 印刷装置
５ 処理室
１０ 版胴
１０ａ 軸心
１２ 印刷版
１３ パターン
１４ 外周面
２２ａ〜２２ｃ 第１ないし第３スリットノズル
２４ 塗布液
３０ 載置台
３２ リニアガイド
４０ 乾燥部
４１ 収容部
４１ａ 開口
４１ｂ 密閉空間
４１ｃ 加熱部
４１ｄ シール部
４２ 昇降部
４３ 減圧部
４８ リニアガイド
４９ 固定機構
９０ 制御ユニット
９３ ＣＰＵ
９３ａ 駆動制御部
９３ｂ 雰囲気制御部
Ｐ１ 完了位置
Ｗ 基板
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体基板、有機エレクトロルミネッセンスまたは液晶表示用ガラス基板および樹脂基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板、並びに太陽電池用パネル等（以下、単に「基板」と称する）に対して、塗布液のパターンを印刷する印刷装置および印刷方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、有機エレクトロルミネッセンス（Organic Electro-Luminescence：以下、単に、「有機ＥＬ」と称する）の表示装置を製造する場合において、有機ＥＬ層が形成される前段階の薄膜トランジスタアレイ付き基板を、真空乾燥させる技術が、知られている（例えば、特許文献１）。
【０００３】
また、インクジェット法によりパターンを形成した後、形成されたパターンを減圧乾燥する技術も、従来より知られている（例えば、特許文献２）。さらに、マルチノズルタイプのヘッドを形成したインクジェットプリンターも、従来より知られている（例えば、特許文献３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−１８１７７０号公報
【特許文献２】特開２００９−０９４４４６号公報
【特許文献３】特開平０６−１８２９８０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ここで、特許文献２のパターン形成方法では、ヘッド本体を基板に対して相対的に２次元的に移動させることによって、基板上に所望のパターンを形成する。これにより、ヘッド本体の相対的移動に起因した気流が、基板付近に発生する。その結果、基板上に吐出されたインクが、発生した気流により順次乾燥され、形成されたパターンに気流に起因した乾燥不良が生ずる。
【０００６】
これに対して、特許文献３の技術は、減圧状態で被印刷物に印刷を行うことによって、気流の発生を抑制している。したがって、特許文献３の技術では密閉印刷室を減圧することが必要となり、その結果、印刷時間が増大するという問題が生ずる。
【０００７】
そこで、本発明では、良好なパターンを基板に印刷することができる印刷装置および印刷方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するため、請求項１の発明は、軸心を中心に回転するとともに、外周面に印刷版を装着する版胴と、前記版胴に装着された前記印刷版に塗布液を供給することによって、前記印刷版に前記塗布液のパターンを形成する供給部と、基板を載置する載置台と、前記基板を乾燥させる乾燥部と、前記版胴に装着された前記印刷版に対して前記載置台を相対的に移動させる駆動制御部とを備え、前記駆動制御部は、前記載置台に載置された前記基板と、前記版胴に装着された前記印刷版と、が近接または当接した状態で、前記版胴の回転に同期させつつ前記載置台を進行方向に沿って相対的に移動させることによって、前記パターンの形状を維持しつつ、前記印刷版から前記基板に前記パターンを転写させ、前記乾燥部は、前記パターンの転写が完了する完了位置付近に設けられており、内側に前記基板を収容する収容部と、前記収容部の内側および前記載置台に囲まれる密閉空間を減圧する減圧部とを有することを特徴とする。
【０００９】
また、請求項２の発明は、請求項１に記載の印刷装置において、前記乾燥部は、前記密閉空間に収容された前記基板を加熱する加熱部、をさらに有することを特徴とする。
【００１０】
また、請求項３の発明は、請求項１または請求項２に記載の印刷装置において、少なくとも前記版胴、前記供給部、前記載置台、および前記乾燥部が配置された処理室内の雰囲気を制御する雰囲気制御部、をさらに備えることを特徴とする。
【００１１】
また、請求項４の発明は、請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の印刷装置において、前記乾燥部は、前記完了位置に応じて、前記載置台の進行方向における前記収容部の位置を調整する位置調整部、をさらに有することを特徴とする。
【００１２】
また、請求項５の発明は、請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の印刷装置において、前記乾燥部は、前記載置台に対して前記収容部を昇降させる昇降部、をさらに有することを特徴とする。
【００１３】
また、請求項６の発明は、請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の印刷装置において、前記供給部は、前記軸心の延伸方向に沿った前記塗布液を吐出するスリットノズル、を有することを特徴とする。
【００１４】
また、請求項７の発明は、請求項１ないし請求項６のいずれかに記載の印刷装置において、前記収容部は、前記載置台側に設けられた開口の周囲を囲繞するシール部、をさらに有することを特徴とする。
【００１５】
また、請求項８の発明は、(a)版胴に装着された印刷版に塗布液を供給することによって、前記印刷版に前記塗布液のパターンを形成する工程と、(b)載置台に載置された前記基板と前記印刷版とが近接または当接した状態で、前記版胴の回転に同期させつつ前記載置台を相対的に移動させることによって、前記パターンの形状を維持しつつ、前記印刷版から前記基板に前記パターンを転写させる工程と、(c)前記パターンの転写が完了する完了位置付近において、前記パターンが転写された前記基板を減圧乾燥する工程とを備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
請求項１ないし請求項８に記載の発明により基板に印刷版のパターンが転写される場合、載置台に載置された基板と、版胴に装着された印刷版とは、近接または当接する状態とされる。また、パターンの形状が維持されつつ、パターンが基板に転写されるため、版胴の回転速度、および載置台の移動速度は、低速度に設定されている。
【００１７】
これにより、転写時において、基板移動に起因した気流が基板上のパターン付近に生ずることを抑制でき、この気流に起因したパターンの乾燥不良を抑制できる。また、基板に対してパターンの転写が完了すると、基板は、完了位置付近で速やかに減圧乾燥される。そのため、基板上に形成される塗布液のパターンの乾燥は均一なものとされる。
【００１８】
特に、請求項２に記載の発明によれば、加熱部からの熱によって、密閉空間内の基板をさらに迅速に乾燥させることができる。
【００１９】
特に、請求項３に記載の発明によれば、処理室内の雰囲気を制御することによって、転写時におけるパターンの乾燥を、さらに抑制することができる。そのため、塗布液のパターンを、基板上にさらに良好に形成することができる。
【００２０】
特に、請求項４に記載の発明によれば、例えば、基板のサイズ、および印刷版のサイズに応じて、収容部の位置を調整することができる。すなわち、転写の完了位置と乾燥位置と、を一致させることができる。そのため、パターンの転写が完了した基板を、さらに迅速に乾燥することができる。
【００２１】
特に、請求項６に記載の発明において、供給部はスリットノズルを有しており、版胴に対して塗布液をさらに均一に供給することができる。そのため、基板上に形成される塗布液のパターンを、さらに均一なものとすることができる。
【００２２】
特に、請求項７に記載の発明によれば、シール部により載置台と収容部との間を良好に塞ぐことができ、密閉空間を良好に密封できる。これにより、密閉空間内の減圧速度をさらに向上させることができる。そのため、減圧乾燥に要する時間をさらに短縮させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の実施の形態における印刷装置の全体構成の一例を示す正面斜視図である。
【図２】本発明の実施の形態における印刷装置の全体構成の一例を示す正面概略図である。
【図３】乾燥部付近の構成の一例を示す正面断面図である。
【図４】収容部を固定する固定機構の一例を示す正面断面図である。
【図５】パターンの転写手順の一例を示すフローチャートである。
【図６】基板に転写されるパターンの一例を説明するための正面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【００２５】
＜１．印刷装置の全体構成＞
図１および図２は、それぞれ本発明の実施の形態における印刷装置１の全体構成の一例を示す正面斜視図および正面概略図である。ここで、印刷装置１は、印刷版１２に形成された塗布液のパターン１３（図２参照）を、基板Ｗに転写する。図１および図２に示すように、印刷装置１は、主として、版胴１０と、供給部２０と、載置台３０と、乾燥部４０と、制御ユニット９０と、を備えている。
【００２６】
なお、図１および以降の各図には、それらの方向関係を明確にすべく必要に応じて適宜、Ｚ軸方向を鉛直方向とし、ＸＹ平面を水平面とするＸＹＺ直交座標系が付されている。
【００２７】
版胴１０は、円筒状のローラであり、軸心１０ａを中心に回転する。版胴１０は、軸心１０ａに連動接続されたモータ（図示省略）によって、矢印Ｒ１方向（図２における時計回りの方向）および、矢印Ｒ１の逆方向（図２における反時計回りの方向）に回転可能とされている。なお、本実施の形態においてパターンの転写が実行される場合、版胴１０は、矢印Ｒ１方向に回転する。
【００２８】
印刷版１２は、例えばポリエステル系樹脂により形成された凸版である。図２に示すように、印刷版１２は、版胴１０の外周面１４に装着される。ここで、凸版は、印刷される画線部以外の部分をくぼませることによって、画線部（凸部）を相対的に突起させた印刷版である。そして、画線部につけられた塗布液が基板Ｗに転写されることによって、基板Ｗ上にパターンが形成される。
【００２９】
供給部２０は、版胴１０に装着された印刷版１２に塗布液２４を供給することによって、印刷版１２上に塗布液のパターン１３を形成する。図２に示すように、供給部２０は、主として、複数（本実施の形態では３つ）の発光材料供給源２１（２１ａ〜２１ｃ）と、複数（本実施の形態では３つ）のスリットノズル２２（２２ａ〜２２ｃ）と、インキングローラ２３と、を有している。
【００３０】
複数の発光材料供給源２１（２１ａ〜２１ｃ）は、それぞれ有機ＥＬの高分子発光材料（赤色、緑色、および青色発光材料）を、塗布液として供給する。図２に示すように、各発光材料供給源２１（２１ａ〜２１ｃ）は、設置テーブル２５に固定されている。
【００３１】
また、赤色発光材料供給源２１ａは第１スリットノズル２２ａと、緑色発光材料供給源２１ｂは第２スリットノズル２２ｂと、青色発光材料供給源２１ｃは第３スリットノズル２２ｃと、それぞれ連通接続されている。
【００３２】
したがって、赤色発光材料は第１スリットノズル２２ａから、緑色発光材料は第２スリットノズル２２ｂから、青色発光材料は第３スリットノズル２２ｃから、それぞれ吐出される。そして、各スリットノズル２２（２２ａ〜２２ｃ）から吐出された発光材料は、インキングローラ２３に供給される。
【００３３】
取付台２６は、設置テーブル２５の下方に設けられた移動体である。各スリットノズル２２（２２ａ〜２２ｃ）は、吐出口（図示省略）がインキングローラ２３と対向するように、取付台２６に固定されている。
【００３４】
リニアガイド２８は、図２に示すように、設置テーブル２５に取り付けられた案内部である。取付台２６および各スリットノズル２２は、リニアガイド２８によって、矢印ＡＲ１方向（−Ｘ軸方向）および矢印ＡＲ１と逆方向に案内される。したがって、不図示のリニアモータから取付台２６に駆動力が伝達されると、取付台２６は、リニアガイド２８に沿って進退（水平移動）させられる。そのため、取付台２６の停止位置に応じた塗布液（本実施の形態では、赤色、緑色、または青色発光材料）が、インキングローラ２３に供給される。
【００３５】
インキングローラ２３は、第１ないし第３スリットノズル２２ａ〜２２ｃのいずれかから吐出された発光材料を、回転接触により隣接する版胴１０に（より具体的には、版胴１０に装着された印刷版１２に）転写させる。
【００３６】
インキングローラ２３は、版胴１０と同様に、円筒状のローラであり、軸心２３ａを中心に回転する。図１および図２に示すように、インキングローラ２３は、パターン転写時における載置台３０の進行方向（矢印ＡＲ１方向）から見て、版胴１０の上流側に設けられている。
【００３７】
また、インキングローラ２３は、軸心２３ａに連動接続されたモータ（図示省略）によって、矢印Ｒ２方向（図２における反時計回りの方向）および、矢印Ｒ２の逆方向（図２における時計回りの方向）に回転可能とされている。なお、本実施の形態においてパターンの転写が実行される場合、インキングローラ２３は、矢印Ｒ２方向に回転する。
【００３８】
ここで、版胴１０の軸心１０ａと、インキングローラ２３の軸心２３ａと、は、互いに平行となるように配置されている。また、各スリットノズル２２（２２ａ〜２２ｃ）の吐出口（図示省略）は、版胴１０の軸心１０ａの延伸方向（矢印ＡＲ２方向：Ｙ軸方向）、およびインキングローラ２３の軸心２３ａの延伸方向（矢印ＡＲ２方向）に沿って形成されている。これにより、各スリットノズル２２（２２ａ〜２２ｃ）は、この延伸方向に沿った細長の塗布液を吐出する。
【００３９】
このように、一方向に延びる塗布液２４は、各スリットノズル２２のいずれかから選択的に吐出されるとともに、インキングローラ２３を介して版胴１０に供給される。また、塗布液２４は、版胴１０に対して均一に供給される。そのため、基板Ｗ上に形成される塗布液のパターン１３は、均一なものとなる。
【００４０】
載置台３０は、版胴１０および供給部２０の下方に設けられた移動体である。載置台３０は、基板Ｗを載置しつつ、矢印ＡＲ１方向（進行方向）および矢印ＡＲ１と逆方向に案内される。
【００４１】
複数（本実施の形態では２本）のリニアガイド３２は、図１および図２に示すように、定盤３５上に取り付けられた案内部である。したがって、不図示のリニアモータから載置台３０に駆動力が伝達されると、載置台３０は、複数のリニアガイド３２に沿って進退（水平移動）させられる。
【００４２】
乾燥部４０は、塗布液のパターン１３が転写された基板Ｗを、パターン１３の転写が完了する完了位置Ｐ１付近で乾燥させる。なお、乾燥部４０のハードウェア構成の詳細については、後述する。
【００４３】
制御ユニット９０は、印刷装置１の各構成要素の動作制御（例えば、載置台３０の駆動制御や、処理室５内の雰囲気制御等）、およびデータ演算を実現する。図２に示すように、制御ユニット９０は、主として、ＲＯＭ９１と、ＲＡＭ９２と、ＣＰＵ９３と、を有している。
【００４４】
ＲＯＭ（Read Only Memory）９１は、いわゆる不揮発性の記憶部であり、例えば、プログラム９１ａが格納されている。なお、ＲＯＭ９１としては、読み書き自在の不揮発性メモリであるフラッシュメモリが使用されてもよい。ＲＡＭ（Random Access Memory）９２は、揮発性の記憶部であり、例えば、ＣＰＵ９３の演算で使用されるデータが格納される。
【００４５】
ＣＰＵ（Central Processing Unit）９３は、例えばＲＯＭ９１のプログラム９１ａに従った動作制御やデータ処理を実行する。ここで、図２中のＣＰＵ９３内のブロック（各ブロックには、それぞれ符号９３ａ、９３ｂが付与されている）に対応する演算機能は、ＣＰＵ９３によって実現される。
【００４６】
駆動制御部９３ａは、少なくとも、載置台３０を進退させるリニアモータ（図示省略）、および版胴１０を回転させるモータ（図示省略）の動作を制御することによって、版胴１０の印刷版１２に対して載置台３０を移動させる。
【００４７】
例えば、駆動制御部９３ａは、載置台３０に載置された基板Ｗと、版胴１０に装着された印刷版１２と、が近接または当接した状態で、版胴１０の回転に同期させつつ載置台３０を矢印ＡＲ１方向（進行方向）に沿って移動させる。これにより、印刷版１２に形成されたパターン１３の形状を維持しつつ、印刷版１２から基板Ｗにパターン１３を転写させることができる。
【００４８】
雰囲気制御部９３ｂは、少なくとも版胴１０、供給部２０、載置台３０、および乾燥部４０が配置された処理室５内の雰囲気（より具体的には、処理室５内における湿度および有機溶剤の濃度）を制御する。
【００４９】
ここで、各発光材料供給源２１（２１ａ〜２１ｃ）から供給される塗布液には、有機溶剤としてトルエン、キシレン、アニソールなどの芳香族系の有機化合物が含まれている。したがって、処理室５内におけるこれら有機溶剤の濃度を管理することによって、転写時におけるパターン１３の乾燥を、さらに抑制することができる。そのため、塗布液のパターン１３を、基板Ｗ上にさらに良好に形成することができる。
【００５０】
＜２．乾燥部の構成＞
図３は、乾燥部４０付近の構成の一例を示す正面断面図である。また、図４は、シール部４１ｄの構成の一例を示す正面断面図である。乾燥部４０は、上述のように、パターン１４が転写された基板Ｗを乾燥する。図１ないし図３に示すように、乾燥部４０は、主として、収容部４１と、昇降部４２と、減圧部４３と、を有している。
【００５１】
収容部４１は、図３に示すように中空状の蓋体であり、図２に示すようにパターン１４の転写が完了する完了位置Ｐ１付近に設けられている。また、図３に示すように、収容部４１の載置台３０側には、開口４１ａが設けられている。したがって、収容部４１が下降し、収容部４１の下端と載置台３０の上面とが接すると、収容部４１の内側および載置台３０に囲まれる空間として、密閉空間４１ｂが形成される。
【００５２】
加熱部４１ｃは、図３に示すように、収容部４１の内側上部付近に固定されたヒータである。これにより、密閉空間４１ｂに収容された基板Ｗを加熱することができる。そのため、加熱部４１ｃからの熱によって、密閉空間４１ｂ内の基板Ｗをさらに迅速に乾燥させることができる。
【００５３】
シール部４１ｄは、例えばゴムやフッ素系樹脂により形成された環状の密封用部品である。図４に示すように、シール部４１ｄは、開口４１ａの周囲を囲繞するように、収容部４１の下端に取り付けられている。
【００５４】
これにより、載置台３０と収容部４１との間を良好に塞ぐことができ、密閉空間４１ｂを良好に密封できる。そのため、減圧部４３の動作時において、密閉空間４１ｂの減圧速度をさらに向上させることができる。その結果、減圧乾燥に要する時間を、さらに短縮することができる。
【００５５】
昇降部４２は、載置台３０に対して収容部４１を昇降させる。図１に示すように、昇降部４２は、主として、架橋構造体４４と、一対の支持部４５と、摺動体４６と、シリンダ４７と、を有している。
【００５６】
架橋構造体４４は、リニアガイド３２を跨ぐように配置された構造物である。図１に示すように、架橋構造体４４は、載置台３０の進行方向（矢印ＡＲ１方向）と直交する方向（矢印ＡＲ２方向）に延びる複数（本実施の形態では２本）のブラケット４４ａと、これらブラケットの間に設けられた複数（本実施の形態では２本）の補強部材４４ｂと、を有している。
【００５７】
一対の支持部４５のそれぞれは、図１に示すように、複数（本実施の形態では２本）の支柱部材を有しており、矢印ＡＲ２方向における架橋構造体４４の両端を固定する。
【００５８】
摺動体４６は、載置台３０の進行方向（矢印ＡＲ１方向）と直交する方向に延びるブラケットである。図１に示すように、収容部４１は、摺動体４６の下方に固定されている。また、摺動体４６は、各支持部４５に沿って、上下方向に摺動する。さらに、一対の支持部４５のそれぞれに設けられたシリンダ４７のロッドは、矢印ＡＲ２方向における摺動体４６の両端に固定されている。
【００５９】
これにより、各シリンダ４７のロッドが往復運動すると、摺動体４６、および摺動体４６に固定された収容部４１が、昇降運動する。そのため、収容部４１は、待機位置（図２の２点鎖線位置）と、密閉位置（図２の実線位置）と、の間で昇降させられることになる。
【００６０】
複数のリニアガイド４８は、図１に示すように、定盤３５上に取り付けられた案内部である。一対の支持部４５のそれぞれは、対応するリニアガイド４８によって、矢印ＡＲ１方向および矢印ＡＲ１と逆方向に案内される。したがって、不図示のリニアモータ、または印刷装置１の保守者から一対の支持部４５に駆動力が付与されると、収容部４１は、リニアガイド４８に沿って進退させられる。
【００６１】
複数（本実施の形態では２つ：ただし、図示の都合上、一方（−Ｙ側）のみ記載）の固定機構４９は、リニアガイド４８に沿った所望の位置に一対の支持部４５を固定する。各固定機構４９が、対応するリニアガイド４８の側方を押圧することによって、各固定機構４９に対応する支持部４５が、リニアガイド４８に対して位置決めされる。
【００６２】
このように、各支持部４５は、対応するリニアガイド４８に沿って進退でき、かつ、各支持部４５は、対応する固定機構４９により固定できる。これにより、パターン１３転写の完了位置Ｐ１と、乾燥部４０による乾燥位置と、が一致するように、矢印ＡＲ１方向（進行方向）における一対の支持部４５を位置決めすることができる。そのため、パターン転写が完了した基板を、さらに迅速に乾燥することができる。
【００６３】
すなわち、複数のリニアガイド４８および複数の固定機構４９は、矢印ＡＲ１方向における収容部４１の位置を調整する「位置調整部」として機能する。
【００６４】
減圧部４３は、いわゆる減圧ポンプであり、共通排気管５０に設けられている。図２に示すように、減圧部４３は、フレキシブル配管５１、排気管５２、およびバルブ５４を介して収容部４１の内側の空間と連通接続されている。また、減圧部４３は、共通排気管５０を介して印刷装置１外の排気ドレイン５５と連通接続されている。
【００６５】
したがって、バルブ５４が開放され、減圧部４３が動作させられることによって、密閉空間４１ｂの雰囲気が強制的に排気ドレイン５５に排気され、密閉空間４１ｂが減圧される。そのため、密閉空間４１ｂ内に収容された基板Ｗは、減圧乾燥される。すなわち、塗布液に含まれる有機溶剤が、パターン１３から蒸発して、基板Ｗ上のパターン１３が、固化される。
【００６６】
ここで、フレキシブル配管５１は、撓み変形可能な材料によって形成されており、収容部４１の内側の空間と、ブラケット４４ａに埋設された排気管５２（図１の破線）と、を連通接続させる。これにより、収容部４１が昇降させられる場合であっても、収容部４１の内側の空間と、排気管５２と、の接続を良好に維持することができる。
【００６７】
＜３．パターンの転写手順＞
図５は、パターン１３の転写手順の一例を示すフローチャートである。ここでは、図５を参照しつつ、パターン１３の転写手順について説明する。なお、本転写手順に先立って、載置台３０に基板Ｗが載置されている。また、本転写手順において、供給部２０は、塗布液として複数種の発光材料（液）を供給する。
【００６８】
本転写手順では、まず、制御ユニット９０によって、供給部２０から供給される複数の発光材料（赤色、緑色、および青色発光材料）のうち一の発光材料が選択される（Ｓ１０１）。
【００６９】
次に、選択された発光材料が、供給部２０から回転する版胴１０の印刷版１２に供給される（Ｓ１０２）。これにより、印刷版１２の凸部（図示省略）に発光材料が付着し、印刷版１２にパターン１３が形成される。
【００７０】
続いて、駆動制御部９３ａによって、載置台３０に載置された基板Ｗと、版胴１０に装着された印刷版１２と、が近接または当接した状態で、載置台３０が、版胴１０の回転に同期しつつ矢印ＡＲ１方向に沿って移動させられる。これにより、印刷版１２に形成されたパターン１３は、その形状が維持されつつ、印刷版１２から基板Ｗの表面に転写される（Ｓ１０３）。
【００７１】
続いて、パターン１３の転写が完了した後、載置台３０は、収容部４１の直下の乾燥位置に停止する。一方、パターン１３の転写が完了した後、またはパターン１３の転写が完了することに先立って、収容部４１の下降動作が開始される。
【００７２】
続いて、収容部４１および載置台３０により密閉空間４１ｂが形成されると、密閉空間４１ｂの雰囲気が排気される。このように、転写の完了位置Ｐ１付近となる乾燥位置（ただし、完了位置Ｐ１と乾燥位置が一致する場合には、完了位置Ｐ１）で基板Ｗ上のパターンが減圧乾燥される（Ｓ１０４）。
【００７３】
減圧乾燥が完了すると、密閉空間４１ｂが大気開放され、載置台３０に対する収容部４１の固定が解除される。続いて、収容部４１が上昇することによって、載置台３０が進退可能状態とされる。
【００７４】
そして、すべての発光材料について転写および減圧乾燥が完了したと判断される場合、本転写手順が終了する（Ｓ１０５）。一方、いずれかの発光材料について転写および減圧乾燥が完了してないと判断される場合、ステップＳ１０１に戻る。そして、他の発光材料について転写および減圧乾燥が実行される（Ｓ１０１〜Ｓ１０４）。
【００７５】
図６は、基板Ｗに転写されるパターンの一例を説明するための正面図である。図６には、有機ＥＬ素子の一例が示されている。図６に示すように、赤色発光材料により赤色発光層７１が、緑色発光材料により緑色発光層７２が、青色発光材料により青色発光層７３が、それぞれ形成されている。また、隣接する赤色および緑色発光層７１、７２の間の距離Ｄ１、緑色および青色発光層７２、７３の間の距離Ｄ２、並びに青色および赤色発光層７３、７１の間の距離Ｄ３は、それぞれ一定とされている。
【００７６】
さらに、隣接する赤色発光層７１同士の距離Ｄ４は、距離Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３を合計したものとなる。また同様に、隣接する緑色発光層７２同士の距離、および隣接する青色発光層７３同士の距離も、距離Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３を合計したものとなる。
【００７７】
そのため、載置台３０の矢印ＡＲ２方向の位置を、距離Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３に基づいて所望量シフトさせることによって、同一の印刷版１２を用いて各発光材料のパターンを形成することができる。例えば、赤色発光材料の転写位置から矢印ＡＲ１方向に距離Ｄ１だけシフトさせた位置が、緑色発光材料の転写位置となる。
【００７８】
このように、複数種の発光材料（液）のそれぞれにより形成されたパターンを、基板Ｗに転写しつつ減圧乾燥する場合、供給部２０は、複数種の発光材料のうち選択された発光材料を印刷版１２に供給する。また、駆動制御部９３ａは、各発光材料毎に転写位置を矢印ＡＲ２方向に所定量シフトさせる。さらに、乾燥部４０は、各発光材料のパターンが形成される毎に、パターンを乾燥させる。
【００７９】
これにより、形状が同一で発光材料が相違する複数のパターンを、各液毎に転写および減圧乾燥することができる。そのため、一連の処理によって、複数のパターンを基板Ｗ上に容易に形成することができる。
【００８０】
＜４．本実施の形態の印刷装置の利点＞
以上のように、本実施の形態の印刷装置１によって基板Ｗに印刷版１２のパターン１３が転写される場合、載置台３０に載置された基板Ｗと、版胴１０に装着された印刷版１２と、は、近接または当接する状態とされる。また、パターンの形状が維持されつつ、パターンが基板Ｗに転写されるため、版胴１０の回転速度、および載置台３０の移動速度は、低速度に設定されている。
【００８１】
これにより、転写時において、基板Ｗの進行方向と、印刷版１２の進行方向（基板Ｗとの接点付近における接線方向）と、は同一方向となり、基板移動に起因した気流が基板Ｗ上のパターン付近に生ずることを抑制できる。すなわち、この気流に起因したパターンの乾燥不良を抑制できる。また、基板Ｗに対してパターンの転写が完了すると、基板Ｗは、完了位置Ｐ１付近で速やかに減圧乾燥される。そのため、基板Ｗ上に均一の塗布液のパターンを形成することができる。
【００８２】
なお、載置台３０の移動速度および版胴１０の回転速度等の転写条件は、塗布液（例えば、塗布液に含まれる溶質または溶媒）の種類に基づいて設定しても良い。
【００８３】
＜５．変形例＞
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく様々な変形が可能である。
【００８４】
（１）本実施の形態において、図６のステップＳ１０１〜Ｓ１０４を繰り返すことによって、複数のパターンを基板Ｗに形成するものとして説明したが、これに限定されるものでない。例えば、１種類の発光材料のみを基板Ｗに供給する場合、ステップＳ１０１〜Ｓ１０４による一連の工程は、１回だけ実行される。
【００８５】
（２）また、本実施の形態において、駆動制御部９３ａは、版胴１０を回転させつつ載置台３０を水平移動させることによって、版胴１０の印刷版１２に対して載置台３０を移動させるものとして説明したが、これに限定されるものでない。例えば、駆動制御部９３ａは、版胴１０および載置台３０のいずれか一方を駆動（回転または移動）させ、他方を停止させることによって、版胴１０の印刷版１２に対して載置台３０を移動させても良い。すなわち、駆動制御部９３ａは、版胴１０に装着された印刷版１２に対して載置台３０を相対的に移動させれば良い。
【００８６】
（３）また、本実施の形態において、加熱部４１ｃは、収容部４１の内側上部付近に固定されるものとして説明したが、加熱部４１ｃの配置はこれに限定されるものでない。例えば、加熱部４１ｃは、収容部４１の上部に埋設されても良い。
【００８７】
（４）また、本実施の形態において、図２中のブロック９３ａ、９３ｂのそれぞれに対応する演算機能は、ＲＯＭ９１に格納されたプログラム９１ａに従い、ＣＰＵ９３によって実現されるものとして説明したが、これに限定されるものでない。例えば、演算回路（ハードウェア）によって、これら演算機能が実現されてもよい。
【００８８】
（５）さらに、本実施の形態において、供給部２０は、塗布液として有機ＥＬの発光材料を供給するものとして説明したが、供給される塗布液の種類は、これに限定されるものでない。例えば、塗布液として液晶用のカラーフィルタ材料が供給されても良い。
【符号の説明】
【００８９】
１ 印刷装置
５ 処理室
１０ 版胴
１０ａ 軸心
１２ 印刷版
１３ パターン
１４ 外周面
２２ａ〜２２ｃ 第１ないし第３スリットノズル
２４ 塗布液
３０ 載置台
３２ リニアガイド
４０ 乾燥部
４１ 収容部
４１ａ 開口
４１ｂ 密閉空間
４１ｃ 加熱部
４１ｄ シール部
４２ 昇降部
４３ 減圧部
４８ リニアガイド
４９ 固定機構
９０ 制御ユニット
９３ ＣＰＵ
９３ａ 駆動制御部
９３ｂ 雰囲気制御部
Ｐ１ 完了位置
Ｗ 基板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
(a) 軸心を中心に回転するとともに、外周面に印刷版を装着する版胴と、
(b) 前記版胴に装着された前記印刷版に塗布液を供給することによって、前記印刷版に前記塗布液のパターンを形成する供給部と、
(c) 基板を載置する載置台と、
(d) 前記基板を乾燥させる乾燥部と、
(e) 前記版胴に装着された前記印刷版に対して前記載置台を相対的に移動させる駆動制御部と、
を備え、
前記駆動制御部は、前記載置台に載置された前記基板と、前記版胴に装着された前記印刷版と、が近接または当接した状態で、前記版胴の回転に同期させつつ前記載置台を進行方向に沿って相対的に移動させることによって、前記パターンの形状を維持しつつ、前記印刷版から前記基板に前記パターンを転写させ、
前記乾燥部は、
(d-1) 前記パターンの転写が完了する完了位置付近に設けられており、内側に前記基板を収容する収容部と、
(d-2) 前記収容部の内側および前記載置台に囲まれる密閉空間を減圧する減圧部と、
を有することを特徴とする印刷装置。
【請求項２】
請求項１に記載の印刷装置において、
前記乾燥部は、
(d-3) 前記密閉空間に収容された前記基板を加熱する加熱部、
をさらに有することを特徴とする印刷装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の印刷装置において、
少なくとも前記版胴、前記供給部、前記載置台、および前記乾燥部が配置された処理室内の雰囲気を制御する雰囲気制御部、
をさらに備えることを特徴とする印刷装置。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の印刷装置において、
前記乾燥部は、
(d-4) 前記完了位置に応じて、前記載置台の進行方向における前記収容部の位置を調整する位置調整部、
をさらに有することを特徴とする印刷装置。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の印刷装置において、
前記乾燥部は、
(d-5) 前記載置台に対して前記収容部を昇降させる昇降部、
をさらに有することを特徴とする印刷装置。
【請求項６】
請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の印刷装置において、
前記供給部は、
(b-1) 前記軸心の延伸方向に沿った前記塗布液を吐出するスリットノズル、
を有することを特徴とする印刷装置。
【請求項７】
請求項１ないし請求項６のいずれかに記載の印刷装置において、
前記収容部は、
前記載置台側に設けられた開口の周囲を囲繞するシール部、
をさらに有することを特徴とする印刷装置。
【請求項８】
(a) 版胴に装着された印刷版に塗布液を供給することによって、前記印刷版に前記塗布液のパターンを形成する工程と、
(b) 載置台に載置された前記基板と前記印刷版とが近接または当接した状態で、前記版胴の回転に同期させつつ前記載置台を相対的に移動させることによって、前記パターンの形状を維持しつつ、前記印刷版から前記基板に前記パターンを転写させる工程と、
(c) 前記パターンの転写が完了する完了位置付近において、前記パターンが転写された前記基板を減圧乾燥する工程と、
を備えることを特徴とする印刷方法。
【請求項１】
(a) 軸心を中心に回転するとともに、外周面に印刷版を装着する版胴と、
(b) 前記版胴に装着された前記印刷版に塗布液を供給することによって、前記印刷版に前記塗布液のパターンを形成する供給部と、
(c) 基板を載置する載置台と、
(d) 前記基板を乾燥させる乾燥部と、
(e) 前記版胴に装着された前記印刷版に対して前記載置台を相対的に移動させる駆動制御部と、
を備え、
前記駆動制御部は、前記載置台に載置された前記基板と、前記版胴に装着された前記印刷版と、が近接または当接した状態で、前記版胴の回転に同期させつつ前記載置台を進行方向に沿って相対的に移動させることによって、前記パターンの形状を維持しつつ、前記印刷版から前記基板に前記パターンを転写させ、
前記乾燥部は、
(d-1) 前記パターンの転写が完了する完了位置付近に設けられており、内側に前記基板を収容する収容部と、
(d-2) 前記収容部の内側および前記載置台に囲まれる密閉空間を減圧する減圧部と、
を有することを特徴とする印刷装置。
【請求項２】
請求項１に記載の印刷装置において、
前記乾燥部は、
(d-3) 前記密閉空間に収容された前記基板を加熱する加熱部、
をさらに有することを特徴とする印刷装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の印刷装置において、
少なくとも前記版胴、前記供給部、前記載置台、および前記乾燥部が配置された処理室内の雰囲気を制御する雰囲気制御部、
をさらに備えることを特徴とする印刷装置。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の印刷装置において、
前記乾燥部は、
(d-4) 前記完了位置に応じて、前記載置台の進行方向における前記収容部の位置を調整する位置調整部、
をさらに有することを特徴とする印刷装置。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の印刷装置において、
前記乾燥部は、
(d-5) 前記載置台に対して前記収容部を昇降させる昇降部、
をさらに有することを特徴とする印刷装置。
【請求項６】
請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の印刷装置において、
前記供給部は、
(b-1) 前記軸心の延伸方向に沿った前記塗布液を吐出するスリットノズル、
を有することを特徴とする印刷装置。
【請求項７】
請求項１ないし請求項６のいずれかに記載の印刷装置において、
前記収容部は、
前記載置台側に設けられた開口の周囲を囲繞するシール部、
をさらに有することを特徴とする印刷装置。
【請求項８】
(a) 版胴に装着された印刷版に塗布液を供給することによって、前記印刷版に前記塗布液のパターンを形成する工程と、
(b) 載置台に載置された前記基板と前記印刷版とが近接または当接した状態で、前記版胴の回転に同期させつつ前記載置台を相対的に移動させることによって、前記パターンの形状を維持しつつ、前記印刷版から前記基板に前記パターンを転写させる工程と、
(c) 前記パターンの転写が完了する完了位置付近において、前記パターンが転写された前記基板を減圧乾燥する工程と、
を備えることを特徴とする印刷方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１１−２０１１９７（Ｐ２０１１−２０１１９７Ａ）
【公開日】平成２３年１０月１３日（２０１１．１０．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−７１７６１（Ｐ２０１０−７１７６１）
【出願日】平成２２年３月２６日（２０１０．３．２６）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１０月１３日（２０１１．１０．１３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年３月２６日（２０１０．３．２６）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
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