反射型スクリーンの製造方法および反射型スクリーン
【課題】様々な入射角度の投写光に対応できる反射型スクリーンの製造方法と、反射型スクリーンの製造方法に係る装置の小型化と、蒸着源など反射膜材料の利用効率の向上ができる反射型スクリーンの製造方法を提供する。
【解決手段】投射光を反射する反射型スクリーンの製造方法であって、スクリーン基板表面に、有機珪素化合物を含み、投射光と異なる方向から入射する外光を吸収する吸収膜を形成する吸収膜形成工程と、吸収膜形成工程の前工程または後工程で行われ、スクリーン基板表面に複数の凸部または複数の凹部を形成する基板形成工程と、投射光の入射方向に対応した領域の吸収膜を除去する除去工程と、除去工程により、除去された吸収膜の領域に、投射光を反射する反射膜を形成する反射膜形成工程と、を備えている。
【解決手段】投射光を反射する反射型スクリーンの製造方法であって、スクリーン基板表面に、有機珪素化合物を含み、投射光と異なる方向から入射する外光を吸収する吸収膜を形成する吸収膜形成工程と、吸収膜形成工程の前工程または後工程で行われ、スクリーン基板表面に複数の凸部または複数の凹部を形成する基板形成工程と、投射光の入射方向に対応した領域の吸収膜を除去する除去工程と、除去工程により、除去された吸収膜の領域に、投射光を反射する反射膜を形成する反射膜形成工程と、を備えている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射型スクリーンの製造方法および反射型スクリーンに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、プロジェクターなどの投射型表示装置から射出された投射光を反射させて、画像を表示する反射型スクリーンが知られている。反射型スクリーンは、投射光を効率よく反射させるため、反射型スクリーンの観察面の一部に反射膜を形成した反射型スクリーンが知られている。
【０００３】
特許文献１に記載の反射型スクリーンは、観察面に配置される複数の突起部が光透過性素材によって形成されている。また、スクリーン下地面が光吸収性素材によって形成され、不要光である外光が複数の突起部を透過し、スクリーン下地に吸収される。また、複数の突起部と、投射光の入射方向および外光の入射方向に対応して、前記複数の突起部の表面上の所定領域にそれぞれ形成される複数の反射層（反射膜）とを備える反射型スクリーンが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−４７８８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載の反射型スクリーンは、観察面に形成される反射膜の形成を、プロジェクターの投影位置から射出される投射光の入射角と略同じ角度の延長線上に、反射膜材料（蒸着源）を配置し、蒸散をさせる蒸着工程によって行われている。そのため、反射膜が形成されるスクリーンの表面から数メートル離れた位置に蒸着源を配置し、反射膜の形成が実施される。よって、大掛かりな装置で反射膜の形成を行うこととなる。また、前記投影位置から射出される投射光の入射角が異なる製品を製造する場合は、蒸着源の配置位置の変更など、蒸着装置の調整が必要で、多くの時間を必要とし、生産装置の稼動率の低下が考えられる。よって、蒸着源と、蒸着されるスクリーン基板との間隔が長くなり、蒸着対象のスクリーン以外に蒸着源が付着することによる蒸着源の利用効率の低下や、スクリーンへの反射膜の形成時間が長くなり、生産性の低下が考えられる。
【０００６】
従って、様々な入射角度の投写光に対応できる反射型スクリーンの製造方法と、反射膜の形成工程にかかる装置の小型化と、蒸着源など反射膜材料の利用効率の向上と、が要望されていた。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上述した課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００８】
（適用例１）本適用例に係る反射型スクリーンの製造方法は、スクリーン基板表面に、有機珪素化合物を含み、投射光と異なる方向から入射する外光を吸収する吸収膜を形成する吸収膜形成工程と、吸収膜形成工程の前工程または後工程で行われ、スクリーン基板表面に複数の凸部または複数の凹部を形成する基板形成工程と、投射光の入射方向に対応した領域の吸収膜を除去する除去工程と、除去工程により、除去された吸収膜の領域に、投射光を反射する反射膜を形成する反射膜形成工程と、を備えることを特徴とする。
【０００９】
このような反射型スクリーンの製造方法によれば、吸収膜形成工程で有機珪素化合物を含む吸収膜を形成することで、有機珪素化合物の分子構造中で、光を吸収する吸収膜を形成することができる。また、スクリーン基板上に形成した吸収膜によって、外光を吸収する吸収効率を高めることができる。また、吸収膜上に有機珪素化合物を含むことで、反射膜の形成を防止することができる。さらに、スクリーン基板上の凸部上または凹部上に形成されている吸収膜を除去工程で除去し、除去された吸収膜の領域に反射膜形成工程によって反射膜を形成することで、凸部上および凹部上の一部に反射膜を形成することができる。従って、反射型スクリーンに入射する投射光を反射し、投射光と異なる方向から入射する外光を吸収する反射型スクリーンの製造ができる。
【００１０】
（適用例２）上記適用例に係る反射型スクリーンの製造方法において、投射光の入射方向に対応した領域の吸収膜を除去する除去工程を備えることが好ましい。
【００１１】
このような反射型スクリーンの製造方法によれば、投射光の入射方向に対応した領域の吸収膜を除去することで、吸収膜を除去した領域のみ反射膜を形成することができる。
【００１２】
（適用例３）上記適用例に係る反射型スクリーンの製造方法において、除去工程は、吸収膜に対して紫外線を照射させる紫外線照射工程を含むことが好ましい。
【００１３】
このような反射型スクリーンの製造方法によれば、紫外線照射工程を備えスクリーン基板上に形成された吸収膜に紫外線を照射することで、吸収膜に接することなく吸収膜を酸化させ、分解し除去することができる。
【００１４】
（適用例４）上記適用例に係る反射型スクリーンの製造方法において、紫外線は紫外線を照射する紫外線照射装置を用い、紫外線照射装置をスクリーン基板に相対させて設置し、固定されるスクリーン基板に対して拡散する紫外線を照射することが好ましい。
【００１５】
このような反射型スクリーンの製造方法によれば、プロジェクターから射出された投射光と同様に拡散する紫外線を、スクリーン基板に相対させた位置に設置された紫外線照射装置からスクリーン基板に照射することができる。従って、プロジェクターの投射光の入射に対応する領域に紫外線を照射することができる。
【００１６】
（適用例５）上記適用例に係る反射型スクリーンの製造方法において、紫外線照射工程は、紫外線を照射する紫外線照射装置を用い、紫外線装置をスクリーン基板に相対させて移動自在または回動自在に設置し、固定または移動自在に設置されるスクリーン基板に対して指向性を有する紫外線を照射することが好ましい。
【００１７】
このような反射型スクリーンの製造方法によれば、紫外線照射工程は、スクリーン基板に相対させた位置に設置された紫外線照射装置から、回動自在または移動自在に指向性を有する紫外線をスクリーン基板に照射することができる。また、固定されているスクリーン基板への照射は、紫外線照射装置が移動自在または回動自在に紫外線を照射することで、投射光の入射角が異なるスクリーンの製造が出来る。また、移動するスクリーン基板への紫外線の照射は、移動自在または回動自在な紫外線照射装置から指向性を有する紫外線を照射することで、投射光の入射角が異なるスクリーンの製造を、いわゆるロール・ツー・ロールで実現できる。
【００１８】
（適用例６）上記適用例に係る反射型スクリーン製造方法において、吸収膜を構成する有機珪素化合物は、フッ素を含んでいることが好ましい。
【００１９】
このような反射型スクリーンの製造方法によれば、有機珪素化合物にフッ素を含むことで、フッ素を含まない有機珪素化合物に比べて、吸収膜上に反射膜を形成する反射膜材料の付着を防止することができる。
【００２０】
（適用例７）上記適用例に係る反射型スクリーンの製造方法において、吸収膜の膜厚は、５ｎｍ以上、２０ｎｍ以下に形成されていることが好ましい。
【００２１】
このような反射型スクリーンの製造方法によれば、吸収膜は、５ｎｍ以上の膜厚を有して形成することで光吸収性を有する。また、吸収膜は、２０ｎｍ以下の膜厚で形成することで、紫外線照射工程によって紫外線が照射された領域以外の吸収膜を酸化することなく吸収膜を除去することができる。
【００２２】
（適用例８）上記適用例に係る反射型スクリーンの製造方法において、吸収膜を構成する有機珪素化合物の分子量は、８００以上で構成されることが好ましい。
【００２３】
このような反射型スクリーンの製造方法によれば、吸収膜を構成する有機珪素化合物の分子量を８００以上とすることで、有機珪素化合物を構成する分子構造中の側鎖によって、反射膜を形成する反射膜材料の付着を防止することができる。従って、吸収膜の表面に反射膜が形成されることを防止できる。
【００２４】
（適用例９）上記適用例に係る反射型スクリーンの製造方法において、吸収膜を構成する有機珪素化合物の分子量は、さらに２０００以上で構成されることが好ましい。
【００２５】
このような反射型スクリーンの製造方法によれば、吸収膜を構成する有機珪素化合物の分子量を２０００以上とすることで、有機珪素化合物を構成する分子構造中の側鎖が伸長する。側鎖が伸長することで、反射膜を形成する反射膜材料の付着をさらに防止することができる。
【００２６】
（適用例１０）本適用例に係る反射型スクリーンは、適用例１から適用例９のいずれか一項に記載の反射型スクリーンの製造方法によって製造されたことを特徴とする。
【００２７】
このような反射型スクリーンによれば、上述した方法によって反射型スクリーンを製造することで、反射型スクリーンに入射する投射光を反射し、投射光と異なる方向から入射する外光を、反射型スクリーン上に形成された吸収膜で吸収することができる反射型スクリーンが実現できる。
【００２８】
（適用例１１）本適用例に係る反射型スクリーンは、スクリーン基板表面に、投射光と異なる方向から入射する外光を吸収し、有機珪素化合物を含む吸収膜を備えていることを特徴とする。
【００２９】
このような反射型スクリーンによれば、有機珪素化合物を含む吸収膜を備えることによって、吸収膜で外光を吸収し、また、吸収膜を透過した外光は、スクリーン基板で光を吸収することができる。従って、外光の光吸収率を向上させることができる。
【００３０】
（適用例１２）上記適用例に係る反射型スクリーンは、有機珪素化合物にフッ素を含んでいることが好ましい。
【００３１】
このような反射型スクリーンによれば、有機珪素化合物にフッ素を含んでいることで、吸収膜上の表面張力が大きくなり、反射型スクリーンへの塵埃の付着を低減できる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】第一実施形態に係る反射型スクリーンが設置された状態を示す模式図。
【図２】反射型スクリーンの製造工程を示すフロー図。
【図３】反射型スクリーンの製造手順を説明する模式図。
【図４】反射型スクリーンの製造手順を説明する模式図。
【図５】反射型スクリーンの構造を示す拡大模式図。
【図６】第二実施形態に係る反射型スクリーンが設置された状態を示す模式図。
【図７】反射型スクリーンに対応して、紫外線が照射される領域を示す模式図。
【図８】第三実施形態に係る反射型スクリーンの製造手順を説明する模式図。
【図９】反射型スクリーンの製造手順を説明する模式図。
【図１０】反射型スクリーンの構造を示す拡大模式図。
【図１１】第四実施形態に係る紫外線照射工程を説明する模式図。
【図１２】紫外線照射工程を説明する模式図。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
以下、実施形態を図面に基づいて、反射型スクリーンの製造方法および反射型スクリーンについて説明する。また、以下に示す各図においては、各構成要素を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各構成要素の寸法や縮尺や比率を実際の構成要素とは適宜変更し記載している。なお、以下の説明において、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照し、各部材の位置関係について説明する。鉛直面内における所定方向をＸ軸方向、鉛直面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれに直交する方向をＺ軸方向とする。また、重力方向を基準として、重力方向を下方向、逆方向を上方向とする。
【００３４】
（第一実施形態）
図１は、第一実施形態に係る反射型スクリーンが設置された状態を示す模式図である。
【００３５】
図１に示すように、反射型スクリーン１００は、観察面１０１の中心点Ｃを通る法線ＮＬに対して、垂直方向（Ｙ軸方向）にずれた位置に配置されたプロジェクターＰから、観察面１０１に向けて斜めに射出された投射光ＬＰを、反射型スクリーン１００の観察者側（Ｚ軸方向）に反射するものである。反射型スクリーン１００は、法線ＮＬがＺ軸と平行になるように配置されている。
【００３６】
プロジェクターＰは、設置位置を仮想光源位置ＰＶとした場合、仮想光源位置ＰＶと観察面１０１との距離Ｄを約９００ｍｍとし、仮想光源位置ＰＶから反射型スクリーン１００の中心点Ｃに向かう投影光ＬＰと法線ＮＬのなす角度θ１を約３６°としたときに、反射型スクリーン１００に垂直方向の寸法Ｈが約９９６ｍｍ、水平方向（図のＸ軸方向）の寸法Ｗが約１７７１ｍｍの画像を投影可能に設置されている。本実施形態の場合、反射型スクリーン１００は、８０インチの投影画像を表示可能な大きさとなっている。
【００３７】
次に、本実施形態の反射型スクリーン１００の製造工程について説明する。
【００３８】
図２は、反射型スクリーン１００の製造工程を示すフロー図である。図２に示すように、反射型スクリーン１００の製造工程は、スクリーン基板１１０を形成するスクリーン基板形成工程Ｐ１００と、次に、スクリーン基板１１０上に光を吸収する吸収膜１４０を形成する吸収膜形成工程Ｐ１１０とを備える。次に、スクリーン基板１１０上に形成した吸収膜１４０の一部を除去する除去工程Ｐ１２０と、次に、スクリーン基板１１０上に投射光ＬＰを反射する反射膜１５０を形成する反射膜形成工程Ｐ１３０とを備えている。
【００３９】
前述の各工程には、図示および説明を省略するが、スクリーン基板１１０の搬送装置が備えられている。各工程では、ロール状に巻き取られているスクリーン基板１１０を搬送装置によって送り出し、各工程で加工された後に、スクリーン基板１１０を巻き取る。いわゆるロール・ツー・ロール方式で製造される。
【００４０】
次に、反射型スクリーン１００の製造方法について、工程順に説明をする。
図３は、基板形成工程Ｐ１００と、吸収膜形成工程Ｐ１１０とを示す模式図であり、図３（ａ）は、スクリーン基板１１０に凸部１２０が形成された状態を示す模式図であり、図３（ｂ）は、凸部１２０上に吸収膜１４０が形成された状態を示す模式図である。図３を参照して、基板形成工程Ｐ１００と、吸収膜形成工程Ｐ１１０とを説明する。
【００４１】
スクリーン基板形成工程Ｐ１００は、図３（ａ）に示すように、スクリーン基板１１０の観察面１０１に複数の凸部１２０を形成する。凸部１２０は、光吸収性樹脂で形成されている。本実施形態の凸部１２０を観察面１０１に形成する方法は、観察面１０１に接着剤を塗付し、予め形成された凸部１２０を接着によって、観察面１０１へ貼り付けて形成する。なお、スクリーン基板１１０は、黒色に着色した光吸収性を有する塩化ビニル樹脂などでシート状に予め形成されている。
【００４２】
吸収膜形成工程Ｐ１１０は、図３（ｂ）に示すように、前述のスクリーン基板形成工程Ｐ１００によって形成された凸部１２０上に吸収膜１４０を形成する。また、吸収膜１４０は、フッ素を含む有機珪素化合物を有して構成される。
【００４３】
吸収膜１４０を形成する方法は、有機珪素化合物を含む溶液にスクリーン基板１１０を浸漬する。次に、スクリーン基板１１０を６０℃から８０℃に加熱し、吸収膜１４０を形成する。本実施形態では、加熱温度の条件を６０℃から８０℃としたが、有機珪素化合物の構成によって加熱温度を変更しても良い。また、吸収膜１４０の膜厚は２０ｎｍに設定する。また、有機珪素化合物と、スクリーン基板１１０との密着性が悪い場合は、スクリーン基板１１０の観察面１０１にプラズマ表面処理を施し、スクリーン基板１１０に付着している油分や、他の有機物質を除去し、密着性を高める前処理を行う。
【００４４】
ところで、吸収膜１４０による光吸収は、吸収膜を構成する有機珪素化合物の分子構造が複雑であることによって、吸収膜１４０に入射した光を分子構造中で吸収する。吸収膜１４０は、膜厚が厚くなることで、有機珪素化合物の分子構造が複雑となって、光吸収性がさらに向上する。吸収膜１４０の膜厚は、発明者の実験によって５ｎｍ以上で光吸収性を有することが確認された。従って、本実施形態の反射型スクリーン１００の製造方法では、吸収膜１４０の膜厚を５ｎｍ以上と、設定することができる。
【００４５】
吸収膜１４０は、前述の通り膜厚が厚くなれば、さらに光吸収性が向上する。吸収膜１４０は、後述する除去工程Ｐ１２０において、紫外線Ｌｕが照射された領域の吸収膜１４０の除去を行う。このため、吸収膜１４０の膜厚が厚い場合、除去工程Ｐ１２０で紫外線Ｌｕの照射時間を長くしなければ、吸収膜１４０の除去が不十分となり、照射時間を長くすると、紫外線Ｌｕが照射されている領域以外の吸収膜１４０が酸化される。
【００４６】
そこで、吸収膜１４０は光吸収性を有し、紫外線Ｌｕの照射されない領域の吸収膜１４０が酸化されないように対処する。ここで、発明者の実験によって、吸収膜１４０の膜厚を２０ｎｍ以下とすることで、紫外線Ｌｕの照射されない領域の吸収膜１４０が酸化されることなく除去できることが確認された。よって、吸収膜１４０の膜厚は、２０ｎｍ以下と設定することができる。従って、吸収膜１４０の膜厚は、５ｎｍ以上２０ｎｍ以下と設定することができる。
【００４７】
ところで、有機珪素化合物を含み形成される吸収膜１４０は、有機珪素化合物の分子量を大きくすることで分子の側鎖が伸長し、後述する反射膜形成工程Ｐ１３０において、反射膜１５０を形成する金属粒子Ｍ（原子）との結合力を抑制することができる。よって、反射膜１５０を形成する金属粒子Ｍが、吸収膜１４０の表面に留まることなく再蒸発し、吸収膜１４０上に、反射膜１５０が形成されることを防止できる。ここで、有機珪素化合物の分子量は、発明者の実験によって８００以上、さらに２０００以上とすることで、反射膜１５０を形成する金属粒子Ｍが、吸収膜１４０上に留まることなく再蒸発することの確認がされた。従って、本実施形態の吸収膜１４０を形成する有機珪素化合物の分子量は、８００以上、さらに２０００以上と設定することができる。
【００４８】
また、有機珪素化合物は、フッ素を含むことによって、分子間引力（結合力）の弱いフッ素で吸収膜１４０上を覆うことができる。よって、後述する反射膜形成工程Ｐ１３０において、吸収膜１４０と、反射膜１５０を形成する金属粒子Ｍとの結合力をさらに抑制することができる。ここで、発明者の実験によって、有機珪素化合物に含むフッ素として、パーフルオロアルキル基、パーフルオロエーテル基を含むことで、吸収膜１４０と、金属粒子Ｍとの結合力を抑制することができることの確認がされた。従って、本実施形態の吸収膜１４０を形成する有機珪素化合物は、パーフルオロアルキル基、パーフルオロエーテル基などフッ素を含む構成とすることができる。
【００４９】
図４は、除去工程Ｐ１２０と、反射膜形成工程Ｐ１３０とを示す模式図であり、図４（ｃ）は、除去工程Ｐ１２０において、紫外線Ｌｕをスクリーン基板１１０へ照射した模式図であり、図４（ｄ）は、吸収膜１４０が除去された状態を示す図である。また、図４（ｅ）は、吸収膜１４０が除去された領域に、反射膜１５０が形成された状態を示す模式図である。図４を参照して、除去工程Ｐ１２０と反射膜形成工程Ｐ１３０とを説明する。
【００５０】
除去工程Ｐ１２０は、紫外線照射工程Ｐ１２１（不図示）を備え、前述の吸収膜形成工程Ｐ１１０によって凸部１２０上に形成した吸収膜１４０に、紫外線Ｌｕを照射することで、吸収膜１４０の酸化と除去とを行う。紫外線照射工程Ｐ１２１は、図４（ｃ）に示すように、スクリーン基板１１０の観察面１０１の法線ＮＬに対して、垂直方向下方（Ｙ軸下方向）にずれた仮想光源位置ＰＶと、同じ位置に紫外線照射装置６０を配置する。
【００５１】
図４（ｄ）に示すように、紫外線Ｌｕが照射された領域の吸収膜１４０は除去され、凸部１２０が露出し、反射膜形成領域１２２が形成される。紫外線Ｌｕと、凸部１２０との本影１２３となる部分は、紫外線Ｌｕが入射しないことから、吸収膜１４０は除去されずに残存する。
【００５２】
紫外線Ｌｕの照射は、投射光ＬＰの入射に対応した領域の吸収膜１４０を除去するため、紫外線Ｌｕのスクリーン基板１１０に対する入射角度θ２と、図１で示した仮想光源位置ＰＶから射出する投影光ＬＰの入射角度θ１とが等しくなるように紫外線照射装置６０の配置を行い、紫外線Ｌｕを射出する。
【００５３】
紫外線照射装置６０から射出される紫外線Ｌｕは、プロジェクターＰから射出された投射光ＬＰと同様に、スクリーン基板１１０の大きさに合わせて、拡散して照射される。
【００５４】
紫外線照射装置６０は、図示および詳細な説明を省略するが、その筐体内に、紫外線ランプと、紫外線ランプを駆動する電源部と、紫外線を凝縮および拡散させるレンズを有する光学部とを備える。
【００５５】
また、紫外線照射装置６０から射出される紫外線Ｌｕの照射条件は、波長１７２ｎｍ、照射密度１５ｍＷ／平方センチメートルである。ここで、紫外線Ｌｕの照射条件は、吸収膜１４０の膜厚などの膜質や照射距離によって、波長と照射密度とを適宜調整し、除去工程Ｐ１２０を行うと良い。
【００５６】
反射膜形成工程Ｐ１３０は、図４（ｅ）に示すように、吸収膜１４０が除去された領域に、投射光ＬＰを反射することができる金属粒子Ｍで構成された反射膜１５０を形成する。本実施形態では反射膜材料として、アルミニウムを用いる。ここで、反射膜１５０は、アルミニウムに限らず、投射光ＬＰを反射できる他の材料を用いても良い。
【００５７】
ところで、反射膜形成工程Ｐ１３０によって、反射膜１５０の形成を行うスクリーン基板１１０上には、外光を吸収するために吸収膜１４０が残存している。吸収膜１４０は、前述の通り、吸収膜１４０上に、金属粒子Ｍが反射膜形成工程Ｐ１３０によって付着し、形成されることを防止することができる。よって、反射膜１５０の形成は、反射膜１５０を形成する金属粒子Ｍ（原子）の放散方向に関係なく、金属粒子Ｍで構成される反射膜１５０を、反射膜形成領域１２２に形成することができる。
【００５８】
ここで、反射膜形成工程Ｐ１３０による反射膜１５０の形成は、スパッタ法を用いてアルミニウムの膜を形成する。本実施形態では、対向ターゲット式スパッタ法を用いて、反射型スクリーン１００の観察者側（Ｚ軸方向）から反射膜１５０を構成するアルミニウムの膜を形成する。
【００５９】
スパッタ法によって反射膜１５０を形成する金属粒子Ｍは、蒸着法によって反射膜１５０を形成する金属粒子Ｍと比べて、数十倍から数百倍の運動エネルギーを有する。本実施形態で用いる対向ターゲット式スパッタ法は、反射膜材料となる金属（ターゲット）から飛散する金属粒子Ｍの運動エネルギーが小さいため、金属粒子Ｍがスクリーン基板１１０上へ衝突することによる損傷を抑制できる。また、金属粒子Ｍによるスクリーン基板１１０上の損傷が少ないため、損傷によって生じるスクリーン基板１１０上で金属粒子Ｍの凝集を抑制できる。
【００６０】
図５は、本実施形態の製造方法を用いて製造した反射型スクリーン１００を拡大し、模式的に示す断面図である。図５に示すように、観察面１０１上には、光吸収性を有する略半球状の凸部１２０が複数形成されている。凸部１２０上には、投射光ＬＰを観察者側に反射する反射膜１５０と、観察に不要な外光Ｌｏを吸収する吸収膜１４０とが備えられている。また、投射光ＬＰは、凸部１２０の本影１２３となる部分、すなわち、吸収膜１４０には殆ど入射しない。従って、プロジェクターＰから射出された投射光ＬＰは、反射膜１５０によって観察者側（Ｚ軸方向）に法線ＮＬと平行して反射される。また、観察に不要な外光Ｌｏは、吸収膜１４０によって吸収し、吸収膜１４０を透過した外光Ｌｏは、凸部１２０を形成する光吸収性を有する樹脂と、スクリーン基板１１０とによって吸収される。
【００６１】
上述のように、投射光ＬＰを反射する反射膜１５０と、外光Ｌｏを吸収する吸収膜１４０と、が形成された凸部１２０を観察面１０１の略全面に形成し、反射型スクリーン１００を構成している。
【００６２】
上述した第一実施形態によれば、以下の効果が得られる。
本実施形態の反射型スクリーン１００の製造方法は、スクリーン基板１１０上に形成された複数の凸部１２０に、有機珪素化合物の分子構造中で光を吸収する吸収膜１４０と、投射光ＬＰを反射する反射膜１５０と、を形成することができる。また、有機珪素化合物で構成される吸収膜１４０は、反射膜１５０の付着を防止することができる。よって、反射膜形成工程Ｐ１３０では、除去工程Ｐ１２０によって吸収膜１４０の一部が除去された領域に、反射膜１５０を形成することができる。従って、反射膜形成工程Ｐ１３０は、反射膜材料をスクリーン基板１１０の近い位置に配置し、金属粒子Ｍの放散方向に関係なく、投射光ＬＰの入射に対応した領域に反射膜１５０の形成ができる。
【００６３】
また、スクリーン基板の近い位置に反射膜材料を設置することで、反射膜を形成する金属粒子Ｍの飛散（放散）距離が短くなる。よって、反射膜形成の時間短縮と、スクリーン基板以外への金属粒子Ｍの放散の抑制とができる。従って、反射膜形成工程Ｐ１３０を実行する装置の小型化と、反射膜形成工程Ｐ１３０の時間短縮化と、蒸着源など反射膜材料の利用効率の向上と、が実現できる。
【００６４】
本実施形態の反射型スクリーン１００の製造方法は、紫外線照射工程Ｐ１２１を備え、紫外線Ｌｕをスクリーン基板１１０上に形成された吸収膜１４０に照射することで、吸収膜１４０に接することなく吸収膜１４０を酸化させ、分解し除去することができる。よって、紫外線Ｌｕを照射し、吸収膜１４０が除去された領域に反射膜形成工程Ｐ１３０において反射膜１５０を選択的に形成することができる。また、従来、反射膜形成工程Ｐ１３０では、スクリーン基板１１０上にマスク版を配置し、金属粒子Ｍが付着する領域を選択し、反射膜１５０を形成していたがマスク版が不要となる。従って、反射膜１５０を形成する領域が異なっても、紫外線Ｌｕの照射領域を変更することで、反射膜１５０を形成する領域を容易に変更できる。
【００６５】
本実施形態の反射型スクリーン１００の製造方法は、吸収膜を５ｎｍ以上、２０ｎｍ以下の膜厚で形成することで光吸収性を有し、紫外線照射工程Ｐ１２１において紫外線Ｌｕを照射することで、紫外線Ｌｕが照射された領域以外の吸収膜１４０を酸化させることなく除去することができる。
【００６６】
本実施形態の反射型スクリーン１００の製造方法は、スクリーン基板１１０に相対させた位置に紫外線照射装置６０を設置し、投射光ＬＰと同様に拡散する紫外線Ｌｕをスクリーン基板１１０に照射することで、投射光ＬＰに対応した領域に紫外線Ｌｕを照射することができる。従って、紫外線Ｌｕが照射された領域の吸収膜１４０が除去され、外光Ｌｏなどを吸収する吸収膜１４０を残置し、反射膜形成工程Ｐ１３０によって、投射光ＬＰの入射に対応した領域に反射膜１５０を形成することができる。
【００６７】
本実施形態の反射型スクリーン１００の製造方法は、吸収膜１４０を構成する有機珪素化合物にフッ素を含むことで、反射膜１５０を構成する反射膜材料の付着を防止することができる。また、有機珪素化合物の分子量を８００以上、さらに２０００以上とすることで、反射膜１５０を構成する反射膜材料の付着をさらに防止することができる。
【００６８】
本実施形態の反射型スクリーン製造方法は、フッ素を含む有機珪素化合物で吸収膜１４０を形成することで、吸収膜１４０上への塵埃付着を低減できる。また、吸収膜１４０は、塵埃で妨げられることなく外光Ｌｏを吸収し、光吸収率を向上させることができる。従って、コントラストの高い反射型スクリーンが実現できる。
【００６９】
（第二実施形態）
本実施形態は、プロジェクターＰの投射光ＬＰの射出位置が第一実施形態と異なる仕様の反射型スクリーンの製造形態で、反射型スクリーン１００の観察面中心点Ｃの観察者側から投射光ＬＰを射出する場合を説明する。
【００７０】
図６は、本実施形態に係る反射型スクリーン１００が設置された状態を示す模式図である。
【００７１】
図６に示すように、本実施形態で製造する反射型スクリーン１００は、観察面１０１の中心点Ｃを通る法線ＮＬに対して観察者側（Ｚ軸方向）にずれた位置に配置されたプロジェクターＰから、観察面１０１に向けて投射光ＬＰを射出する。投射光ＬＰは、反射型スクリーン１００の観察者側（Ｚ軸方向）に反射される。ここで、この位置を仮想光源ＰＶとする。また、反射型スクリーン１００は、法線ＮＬがＺ軸と平行になるように配置されている。従って、紫外線照射工程Ｐ１２１を行う紫外線照射装置６０を設置する位置が、前述の第一実施形態の反射型スクリーンの製造方法と異なっている。その他の構成および工程は、第一実施形態と同様であるため相違点を説明し、同様の工程および構成には同様の符号を付して説明は省略または簡略とする。
【００７２】
図７は、本実施形態の反射型スクリーン１００に対応して紫外線Ｌｕが照射される領域を示す模式図である。図７を参照して、本実施形態の紫外線照射工程Ｐ１２１について説明する。
【００７３】
紫外線照射工程Ｐ１２１は、図７に示すように、プロジェクターＰの仮想光源ＰＶ位置に紫外線照射装置６０を設置し、プロジェクターＰから射出された投射光ＬＰと同様に、スクリーン基板１１０の大きさに合わせて、紫外線Ｌｕを拡散して照射を行う。紫外線照射装置６０は、投射光ＬＰと同様の入射角度で紫外線Ｌｕを射出し照射を行う。
【００７４】
紫外線照射工程Ｐ１２１は、第一実施形態と同様に、スクリーン基板１１０上の凸部１２０上に形成された吸収膜１４０に紫外線Ｌｕを照射し、紫外線Ｌｕによって吸収膜１４０が酸化し除去され、反射膜形成領域１２２が形成される。ここで、紫外線Ｌｕが照射される領域は、前述の観察者側から射出された投射光ＬＰが投写される領域と同じである。
【００７５】
その他の反射型スクリーン１００の製造方法および反射型スクリーン１００は、第一実施形態と同様である。
【００７６】
上述した第二実施形態によれば、以下の効果が得られる。
【００７７】
本実施形態の反射型スクリーン１００の製造方法は、紫外線照射装置６０の設置位置を、投射光ＬＰの射出位置に応じて移動し、変更することで様々な投射光ＬＰの入射に対応した反射型スクリーン１００の製造ができる。従って、投射光ＬＰを反射する反射膜１５０を形成する領域が異なっても、反射膜形成工程Ｐ１３０に係る装置の調整が不要で、生産装置の稼働率を高めることができる。
【００７８】
（第三実施形態）
本実施形態は、第一実施形態および第二実施形態で説明をした基板形成工程Ｐ１００で、スクリーン基板１１０上に凸部１２０を形成することに変えて、凹部２２０を形成する。凹部２２０の内壁面２２１に、吸収膜１４０および反射膜１５０を備える反射型スクリーン１００の製造方法と、反射型スクリーン１００との形態である。この点が、第一実施形態および第二実施形態と異なっている点である。その他の工程および構成は、第一実施形態および第二実施形態と同様であるため相違点を説明し、同様の工程および構成には同様の符号を付して説明は省略または簡略とする。
【００７９】
図８は、基板形成工程Ｐ１００と、吸収膜形成工程Ｐ１１０とを示す模式図であり、図８（ａ）は、スクリーン基板１１０に凹部２２０が形成された状態を示す模式図である。図８（ｂ）は、凹部２２０の内壁面２２１上に吸収膜１４０が形成された状態を示す模式図である。図８を参照して、基板形成工程Ｐ１００と吸収膜形成工程Ｐ１１０とを説明する。
【００８０】
基板形成工程Ｐ１００は、第一実施形態の凸部１２０を接着し形成を行う方法に変えて凹部２２０を、スクリーン基板１１０を変形させることで形成する。図８（ａ）に示すようにスクリーン基板１１０の観察面１０１に複数の凹部２２０が形成されている。凹部２２０を形成する方法は、形成させる形状とは逆形状に形成された金型を加熱し、スクリーン基板１１０に押し付けて形成する転写装置（不図示）を用いて実施される。
【００８１】
転写装置は、形成させる形状とは逆形状に形成された金型を加熱しながらスクリーン基板１１０を、観察面１０１と、その反対面との両面から高圧力で押し付け、スクリーン基板１１０を金型の形状に合わせて変形させて、必要な形状を形成させる装置である。
【００８２】
吸収膜形成工程Ｐ１１０は、図８（ｂ）に示すように、前述のスクリーン基板形成工程Ｐ１００によって、観察面１０１に形成された凹部２２０の内壁面２２１上に、吸収膜１４０を形成する。 吸収膜１４０の形成は第一実施形態と同様に、スクリーン基板１１０を、有機珪素化合物を含んだ溶液に浸漬し形成する。上述した以外の吸収膜形成工程Ｐ１１０は、第一実施形態と同様である。
【００８３】
図９は、除去工程Ｐ１２０と、反射膜形成工程Ｐ１３０とを示す模式図であり、図９（ｃ）は、除去工程Ｐ１２０で、紫外線Ｌｕをスクリーン基板１１０へ照射した模式図であり、図９（ｄ）は、吸収膜１４０が除去された状態を示す図である。また、図９（ｅ）は、吸収膜１４０が除去された領域に、反射膜１５０が形成された状態を示す模式図である。図９を参照して、除去工程Ｐ１２０と、反射膜形成工程Ｐ１３０とを説明する。
【００８４】
除去工程Ｐ１２０は、第一実施形態同様に紫外線照射工程Ｐ１２１を備え、図９（ｃ）に示すように、スクリーン基板１１０の観察面１０１の法線ＮＬに対して、垂直方向下方（Ｙ軸下方向）にずれた仮想光源位置ＰＶと、同じ位置に紫外線照射装置６０を配置する。
図９（ｄ）に示すように、紫外線Ｌｕが照射された領域の吸収膜１４０は除去され、凹部２２０の内壁面２２１が露出し、反射膜形成領域２２２が形成される。紫外線Ｌｕと凹部２２０との本影２２３となる部分は、紫外線Ｌｕが入射しないことから、吸収膜１４０は除去されずに残存する。
【００８５】
紫外線Ｌｕの照射は、投射光ＬＰの入射に対応した領域の吸収膜１４０を除去するため、スクリーン基板１１０に対する入射角度θ３が、図１で示した、仮想光源位置ＰＶから射出する投影光ＬＰの入射角度θ１と等しくなるように、紫外線照射装置６０を配置し紫外線Ｌｕを射出する。上述した以外の除去工程Ｐ１２０の内容は、第一実施形態と同様である。
【００８６】
反射膜形成工程Ｐ１３０は、図９（ｅ）に示すように、吸収膜１４０が除去された反射膜形成領域２２２に、投射光ＬＰを反射することができる金属粒子Ｍで構成された反射膜１５０を形成する。上述した以外の反射膜形成工程Ｐ１３０は、第一実施形態と同様である。
【００８７】
図１０は、本実施形態の製造方法を用いて製造した反射型スクリーン１００を拡大し模式的に示す断面図である。図１０に示すように、観察面１０１には、光吸収性を有する略半球状の凹部２２０が複数形成されている。凹部２２０上には、投射光ＬＰを観察者側反射する反射膜１５０と、観察に不要な外光Ｌｏを吸収する吸収膜１４０とが備えられている。また、投射光ＬＰは、凹部２２０の本影２２３となる部分、すなわち、吸収膜１４０には殆ど入射しない。従って、プロジェクターＰから射出された投射光ＬＰは、反射膜１５０によって観察者側（Ｚ軸方向）に法線ＮＬと平行し反射される。また、観察に不要な外光Ｌｏは、吸収膜１４０によって吸収し、吸収膜１４０を透過した外光Ｌｏは、スクリーン基板１１０によって吸収される。
【００８８】
このように、投射光ＬＰを反射する反射膜１５０と、外光Ｌｏを吸収する吸収膜１４０とが形成された凹部２２０を観察面１０１の略全面に形成し、反射型スクリーン１００を構成している。
【００８９】
その他の反射型スクリーン１００の製造方法および反射型スクリーン１００は、第一実施形態と第二実施形態と同様である。
【００９０】
上述した第三実施形態によれば、以下の効果が得られる。
本実施形態の反射型スクリーン１００の製造方法によれば、スクリーン基板１１０を変形させて凹部２２０を形成することで、第一実施形態で説明をした基板形成工程Ｐ１００に比べて、予め凸部１２０を形成する工程と、凸部１２０を接着する工程とを省略し、基板形成工程Ｐ１００の時間短縮ができる。従って、生産効率の高い反射型スクリーン１００の製造方法が実現できる。
【００９１】
（第四実施形態）
本実施形態は、紫外線照射工程Ｐ１２１を実行する紫外線照射装置６０を、スクリーン基板１１０に相対する観察者側（Ｚ軸方向）に移動自在または回動自在に設置し、指向性を有する紫外線Ｌｕの照射を行う。また、紫外線Ｌｕが照射されるスクリーン基板１１０は、固定または移動自在に設置されている形態である。
【００９２】
ここで、紫外線照射装置６０は、図示と詳細な説明を省略するが、第一実施形態の紫外線照射装置６０の構成に加えて、射出位置の移動および射出角度の回動を自在に行う駆動部と、駆動部の制御を行う制御部とを備える。制御部は、除去工程Ｐ１２０によって、吸収膜１４０の除去を行う領域が設定されている。紫外線照射装置６０は、この設定に基づき駆動部によって、移動自在または回動自在に動作し、紫外線Ｌｕを射出し照射する。
【００９３】
上述の点が、前述の第一実施形態と、第三実施形態との反射型スクリーン１００の製造方法と異なっている。その他の構成および工程は、第一実施形態と、第三実施形態と同様であるため相違点を説明し、同様の工程および構成には同様の符号を付して説明は省略または簡略とする。
【００９４】
図１１と、図１２とは、本実施形態に係る除去工程Ｐ１２０の紫外線照射工程Ｐ１２１を説明する模式図であり、図１１（ａ）と、図１１（ｂ）とは、固定されたスクリーン基板１１０に、回動自在な紫外線照射装置６０から紫外線Ｌｕを照射した状態を示す模式図である。また、図１２（ａ）から図１２（ｃ）は、移動自在なスクリーン基板１１０に、移動自在または回動自在な紫外線照射装置６０から、紫外線Ｌｕを照射した状態を示す模式図である。図１１と、図１２とを参照して、本実施形態の紫外線照射工程Ｐ１２１を説明する。
【００９５】
先ず、固定されたスクリーン基板１１０に、回動自在な紫外線照射装置６０を用いて、紫外線照射工程Ｐ１２１を実施する場合を図１１を用いて説明する。
図１１（ａ）に示すＹ軸方向の任意の点（本実施形態では、Ａ点とする。）の吸収膜１４０の除去を行うために、観察者側（Ｚ軸方向）に設置した紫外線照射装置６０を回動させ、Ａ点における投射光ＬＰの入射と同様の入射角度で紫外線Ｌｕを射出し照射を行う。また、図１１（ｂ）に示すＹ軸方向の任意の点（本実施形態では、Ｂ点とする。）の吸収膜１４０の除去を行う場合、Ａ点と同様に、紫外線照射装置６０を回動させ、Ｂ点における投射光ＬＰの入射と同様の入射角度で紫外線Ｌｕを射出し照射を行う。このように、スクリーン基板１１０に形成された凸部１２０上または凹部２２０（不図示）上に形成された吸収膜１４０は、紫外線照射装置６０を回動させ、順次紫外線Ｌｕを照射し除去を行う。
【００９６】
次に、固定されたスクリーン基板１１０に、移動自在または回動自在な紫外線照射装置６０を用いて、紫外線照射工程Ｐ１２１を実施する場合を説明する。
固定されたスクリーン基板１１０に形成されている吸収膜１４０の除去を行うために、紫外線照射装置６０をスクリーン基板１１０に相対させて移動し、回動をさせながら、指向性を有する紫外線Ｌｕの照射を行う。紫外線照射装置６０は、スクリーン基板１１０の観察者側（Ｚ軸方向）に設置され、吸収膜１４０の除去を行う領域における投射光ＬＰの入射と同様の入射角度で紫外線Ｌｕの射出を行う。このように、スクリーン基板１１０に形成された凸部１２０上または凹部２２０（不図示）上に形成された吸収膜１４０は、紫外線照射装置６０を移動し、回動をさせ順次紫外線Ｌｕを照射し除去を行う。
【００９７】
次に、移動自在なスクリーン基板１１０に、移動自在または回動自在な紫外線照射装置６０を用いて、紫外線照射工程Ｐ１２１を実施する場合を図１２を用いて説明する。
図１２（ａ）から図１２（ｃ）に示すＹ軸方向の任意の点（本実施形態では、Ｃ点からＥ点とする。）の吸収膜１４０の除去を行うために、観察者側（Ｚ軸方向）に設置した紫外線照射装置６０を回動または移動させ、紫外線Ｌｕを射出し照射を行う。このように、紫外線照射装置６０は、スクリーン基板１１０の移動に対応して、吸収膜１４０の除去を行う任意の点における投射光ＬＰの入射角度と、同様の入射角度で紫外線Ｌｕを射出し照射を行う。
【００９８】
ここで、紫外線照射工程Ｐ１２１は、紫外線照射装置６０を１台で行うことを説明したが、複数台の紫外線照射装置６０を組み合わせて紫外線Ｌｕの照射を行ってもよい。
【００９９】
その他の反射型スクリーンの製造方法および反射型スクリーンの構成は、第一実施形態および第三実施形態と同様である。
【０１００】
上述した第四実施形態によれば、以下の効果が得られる。
本実施形態の反射型スクリーンの製造方法によれば、投射光ＬＰの入射角が異なるスクリーンの製造を、紫外線照射装置６０を移動または回動させ、紫外線Ｌｕの照射を行うことで、投射光ＬＰと同様の紫外線Ｌｕの入射角度を短距離で再現することができる。従って、紫外線照射工程Ｐ１２１を行う装置の小型化ができる。また、紫外線照射装置６０が移動または回動することで、様々な投影位置に対応した反射膜１５０を形成する領域を形成することができる。
【０１０１】
本実施形態の反射型スクリーンの製造方法によれば、スクリーン基板１１０の移動と、吸収膜１４０を除去する領域に対応して、紫外線照射装置６０を移動または回動して紫外線Ｌｕを射出し照射することで、スクリーン基板１１０の任意の領域に形成されている吸収膜１４０の除去する領域を自在に変化させることができる。従って、投射光ＬＰの投射位置が異なる反射型スクリーン１００をロール・ツー・ロールで連続して製造することができる。また、スクリーン基板１１０の領域によって、吸収膜１４０の除去を行う領域を変化させることで、反射型スクリーン１００の反射効率を改善することができる。
【０１０２】
なお、上述した実施形態に限定されず、その要旨を逸脱しない範囲において種々の変更や改良等を加えて実施することが可能である。変形例を以下に述べる。
【０１０３】
（変形例１）スクリーン基板形成工程Ｐ１００に複数の凸部１２０または凹部２２０を形成する方法として、光吸収性樹脂をインクジェットヘッドによって吐出し凸部１２０を形成する方法、を反射型スクリーン１００の製造に適用することができる。
【０１０４】
（変形例２）スクリーン基板形成工程Ｐ１００に複数の凹部２２０を形成する方法として、スクリーン基板１００をマスクパターンで覆い、ウエットエッチング法を用い、等方性エッチングによって凹部２２０を形成する方法を反射型スクリーン１００の製造に適用することができる。
【０１０５】
（変形例３）吸収膜形成工程Ｐ１１０で吸収膜１４０を形成する方法として、フッ素を含む有機珪素化合物を膜形成材料とし、化学気相成長法を用いるＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ−Ｖａｐｏｒ−Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法で吸収膜１４０を形成する方法や、スプレー噴射などによって塗付し吸収膜１４０を形成するスプレー法を反射型スクリーン１００の製造に適用することができる。
【０１０６】
（変形例４）反射膜形成工程Ｐ１３０で形成する反射膜１５０を形成する方法として、第一実施形態で説明した対向ターゲット式スパッタ法に限らず、他のスパッタ法や、蒸着法などの物理気相成長法を用いるＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ−Ｖａｐｏｒ−Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法で形成する方法。または、化学気相成長法を用いるＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ−Ｖａｐｏｒ−Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法で反射膜１５０を形成する方法を反射型スクリーン１００の製造に適用することができる。
【符号の説明】
【０１０７】
６０…紫外線照射装置、１００…反射型スクリーン、１０１…観察面、１１０…スクリーン基板、１２０…凸部、１４０…吸収膜、１５０…反射膜、２２０…凹部、ＮＬ…法線、ＬＰ…投射光、Ｌｕ…紫外線、ＰＶ…仮想光源、Ｐ１００…スクリーン基板形成工程、Ｐ１１０…吸収膜形成工程、Ｐ１２０…除去工程、Ｐ１３０…反射膜形成工程。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射型スクリーンの製造方法および反射型スクリーンに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、プロジェクターなどの投射型表示装置から射出された投射光を反射させて、画像を表示する反射型スクリーンが知られている。反射型スクリーンは、投射光を効率よく反射させるため、反射型スクリーンの観察面の一部に反射膜を形成した反射型スクリーンが知られている。
【０００３】
特許文献１に記載の反射型スクリーンは、観察面に配置される複数の突起部が光透過性素材によって形成されている。また、スクリーン下地面が光吸収性素材によって形成され、不要光である外光が複数の突起部を透過し、スクリーン下地に吸収される。また、複数の突起部と、投射光の入射方向および外光の入射方向に対応して、前記複数の突起部の表面上の所定領域にそれぞれ形成される複数の反射層（反射膜）とを備える反射型スクリーンが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−４７８８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載の反射型スクリーンは、観察面に形成される反射膜の形成を、プロジェクターの投影位置から射出される投射光の入射角と略同じ角度の延長線上に、反射膜材料（蒸着源）を配置し、蒸散をさせる蒸着工程によって行われている。そのため、反射膜が形成されるスクリーンの表面から数メートル離れた位置に蒸着源を配置し、反射膜の形成が実施される。よって、大掛かりな装置で反射膜の形成を行うこととなる。また、前記投影位置から射出される投射光の入射角が異なる製品を製造する場合は、蒸着源の配置位置の変更など、蒸着装置の調整が必要で、多くの時間を必要とし、生産装置の稼動率の低下が考えられる。よって、蒸着源と、蒸着されるスクリーン基板との間隔が長くなり、蒸着対象のスクリーン以外に蒸着源が付着することによる蒸着源の利用効率の低下や、スクリーンへの反射膜の形成時間が長くなり、生産性の低下が考えられる。
【０００６】
従って、様々な入射角度の投写光に対応できる反射型スクリーンの製造方法と、反射膜の形成工程にかかる装置の小型化と、蒸着源など反射膜材料の利用効率の向上と、が要望されていた。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上述した課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００８】
（適用例１）本適用例に係る反射型スクリーンの製造方法は、スクリーン基板表面に、有機珪素化合物を含み、投射光と異なる方向から入射する外光を吸収する吸収膜を形成する吸収膜形成工程と、吸収膜形成工程の前工程または後工程で行われ、スクリーン基板表面に複数の凸部または複数の凹部を形成する基板形成工程と、投射光の入射方向に対応した領域の吸収膜を除去する除去工程と、除去工程により、除去された吸収膜の領域に、投射光を反射する反射膜を形成する反射膜形成工程と、を備えることを特徴とする。
【０００９】
このような反射型スクリーンの製造方法によれば、吸収膜形成工程で有機珪素化合物を含む吸収膜を形成することで、有機珪素化合物の分子構造中で、光を吸収する吸収膜を形成することができる。また、スクリーン基板上に形成した吸収膜によって、外光を吸収する吸収効率を高めることができる。また、吸収膜上に有機珪素化合物を含むことで、反射膜の形成を防止することができる。さらに、スクリーン基板上の凸部上または凹部上に形成されている吸収膜を除去工程で除去し、除去された吸収膜の領域に反射膜形成工程によって反射膜を形成することで、凸部上および凹部上の一部に反射膜を形成することができる。従って、反射型スクリーンに入射する投射光を反射し、投射光と異なる方向から入射する外光を吸収する反射型スクリーンの製造ができる。
【００１０】
（適用例２）上記適用例に係る反射型スクリーンの製造方法において、投射光の入射方向に対応した領域の吸収膜を除去する除去工程を備えることが好ましい。
【００１１】
このような反射型スクリーンの製造方法によれば、投射光の入射方向に対応した領域の吸収膜を除去することで、吸収膜を除去した領域のみ反射膜を形成することができる。
【００１２】
（適用例３）上記適用例に係る反射型スクリーンの製造方法において、除去工程は、吸収膜に対して紫外線を照射させる紫外線照射工程を含むことが好ましい。
【００１３】
このような反射型スクリーンの製造方法によれば、紫外線照射工程を備えスクリーン基板上に形成された吸収膜に紫外線を照射することで、吸収膜に接することなく吸収膜を酸化させ、分解し除去することができる。
【００１４】
（適用例４）上記適用例に係る反射型スクリーンの製造方法において、紫外線は紫外線を照射する紫外線照射装置を用い、紫外線照射装置をスクリーン基板に相対させて設置し、固定されるスクリーン基板に対して拡散する紫外線を照射することが好ましい。
【００１５】
このような反射型スクリーンの製造方法によれば、プロジェクターから射出された投射光と同様に拡散する紫外線を、スクリーン基板に相対させた位置に設置された紫外線照射装置からスクリーン基板に照射することができる。従って、プロジェクターの投射光の入射に対応する領域に紫外線を照射することができる。
【００１６】
（適用例５）上記適用例に係る反射型スクリーンの製造方法において、紫外線照射工程は、紫外線を照射する紫外線照射装置を用い、紫外線装置をスクリーン基板に相対させて移動自在または回動自在に設置し、固定または移動自在に設置されるスクリーン基板に対して指向性を有する紫外線を照射することが好ましい。
【００１７】
このような反射型スクリーンの製造方法によれば、紫外線照射工程は、スクリーン基板に相対させた位置に設置された紫外線照射装置から、回動自在または移動自在に指向性を有する紫外線をスクリーン基板に照射することができる。また、固定されているスクリーン基板への照射は、紫外線照射装置が移動自在または回動自在に紫外線を照射することで、投射光の入射角が異なるスクリーンの製造が出来る。また、移動するスクリーン基板への紫外線の照射は、移動自在または回動自在な紫外線照射装置から指向性を有する紫外線を照射することで、投射光の入射角が異なるスクリーンの製造を、いわゆるロール・ツー・ロールで実現できる。
【００１８】
（適用例６）上記適用例に係る反射型スクリーン製造方法において、吸収膜を構成する有機珪素化合物は、フッ素を含んでいることが好ましい。
【００１９】
このような反射型スクリーンの製造方法によれば、有機珪素化合物にフッ素を含むことで、フッ素を含まない有機珪素化合物に比べて、吸収膜上に反射膜を形成する反射膜材料の付着を防止することができる。
【００２０】
（適用例７）上記適用例に係る反射型スクリーンの製造方法において、吸収膜の膜厚は、５ｎｍ以上、２０ｎｍ以下に形成されていることが好ましい。
【００２１】
このような反射型スクリーンの製造方法によれば、吸収膜は、５ｎｍ以上の膜厚を有して形成することで光吸収性を有する。また、吸収膜は、２０ｎｍ以下の膜厚で形成することで、紫外線照射工程によって紫外線が照射された領域以外の吸収膜を酸化することなく吸収膜を除去することができる。
【００２２】
（適用例８）上記適用例に係る反射型スクリーンの製造方法において、吸収膜を構成する有機珪素化合物の分子量は、８００以上で構成されることが好ましい。
【００２３】
このような反射型スクリーンの製造方法によれば、吸収膜を構成する有機珪素化合物の分子量を８００以上とすることで、有機珪素化合物を構成する分子構造中の側鎖によって、反射膜を形成する反射膜材料の付着を防止することができる。従って、吸収膜の表面に反射膜が形成されることを防止できる。
【００２４】
（適用例９）上記適用例に係る反射型スクリーンの製造方法において、吸収膜を構成する有機珪素化合物の分子量は、さらに２０００以上で構成されることが好ましい。
【００２５】
このような反射型スクリーンの製造方法によれば、吸収膜を構成する有機珪素化合物の分子量を２０００以上とすることで、有機珪素化合物を構成する分子構造中の側鎖が伸長する。側鎖が伸長することで、反射膜を形成する反射膜材料の付着をさらに防止することができる。
【００２６】
（適用例１０）本適用例に係る反射型スクリーンは、適用例１から適用例９のいずれか一項に記載の反射型スクリーンの製造方法によって製造されたことを特徴とする。
【００２７】
このような反射型スクリーンによれば、上述した方法によって反射型スクリーンを製造することで、反射型スクリーンに入射する投射光を反射し、投射光と異なる方向から入射する外光を、反射型スクリーン上に形成された吸収膜で吸収することができる反射型スクリーンが実現できる。
【００２８】
（適用例１１）本適用例に係る反射型スクリーンは、スクリーン基板表面に、投射光と異なる方向から入射する外光を吸収し、有機珪素化合物を含む吸収膜を備えていることを特徴とする。
【００２９】
このような反射型スクリーンによれば、有機珪素化合物を含む吸収膜を備えることによって、吸収膜で外光を吸収し、また、吸収膜を透過した外光は、スクリーン基板で光を吸収することができる。従って、外光の光吸収率を向上させることができる。
【００３０】
（適用例１２）上記適用例に係る反射型スクリーンは、有機珪素化合物にフッ素を含んでいることが好ましい。
【００３１】
このような反射型スクリーンによれば、有機珪素化合物にフッ素を含んでいることで、吸収膜上の表面張力が大きくなり、反射型スクリーンへの塵埃の付着を低減できる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】第一実施形態に係る反射型スクリーンが設置された状態を示す模式図。
【図２】反射型スクリーンの製造工程を示すフロー図。
【図３】反射型スクリーンの製造手順を説明する模式図。
【図４】反射型スクリーンの製造手順を説明する模式図。
【図５】反射型スクリーンの構造を示す拡大模式図。
【図６】第二実施形態に係る反射型スクリーンが設置された状態を示す模式図。
【図７】反射型スクリーンに対応して、紫外線が照射される領域を示す模式図。
【図８】第三実施形態に係る反射型スクリーンの製造手順を説明する模式図。
【図９】反射型スクリーンの製造手順を説明する模式図。
【図１０】反射型スクリーンの構造を示す拡大模式図。
【図１１】第四実施形態に係る紫外線照射工程を説明する模式図。
【図１２】紫外線照射工程を説明する模式図。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
以下、実施形態を図面に基づいて、反射型スクリーンの製造方法および反射型スクリーンについて説明する。また、以下に示す各図においては、各構成要素を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各構成要素の寸法や縮尺や比率を実際の構成要素とは適宜変更し記載している。なお、以下の説明において、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照し、各部材の位置関係について説明する。鉛直面内における所定方向をＸ軸方向、鉛直面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれに直交する方向をＺ軸方向とする。また、重力方向を基準として、重力方向を下方向、逆方向を上方向とする。
【００３４】
（第一実施形態）
図１は、第一実施形態に係る反射型スクリーンが設置された状態を示す模式図である。
【００３５】
図１に示すように、反射型スクリーン１００は、観察面１０１の中心点Ｃを通る法線ＮＬに対して、垂直方向（Ｙ軸方向）にずれた位置に配置されたプロジェクターＰから、観察面１０１に向けて斜めに射出された投射光ＬＰを、反射型スクリーン１００の観察者側（Ｚ軸方向）に反射するものである。反射型スクリーン１００は、法線ＮＬがＺ軸と平行になるように配置されている。
【００３６】
プロジェクターＰは、設置位置を仮想光源位置ＰＶとした場合、仮想光源位置ＰＶと観察面１０１との距離Ｄを約９００ｍｍとし、仮想光源位置ＰＶから反射型スクリーン１００の中心点Ｃに向かう投影光ＬＰと法線ＮＬのなす角度θ１を約３６°としたときに、反射型スクリーン１００に垂直方向の寸法Ｈが約９９６ｍｍ、水平方向（図のＸ軸方向）の寸法Ｗが約１７７１ｍｍの画像を投影可能に設置されている。本実施形態の場合、反射型スクリーン１００は、８０インチの投影画像を表示可能な大きさとなっている。
【００３７】
次に、本実施形態の反射型スクリーン１００の製造工程について説明する。
【００３８】
図２は、反射型スクリーン１００の製造工程を示すフロー図である。図２に示すように、反射型スクリーン１００の製造工程は、スクリーン基板１１０を形成するスクリーン基板形成工程Ｐ１００と、次に、スクリーン基板１１０上に光を吸収する吸収膜１４０を形成する吸収膜形成工程Ｐ１１０とを備える。次に、スクリーン基板１１０上に形成した吸収膜１４０の一部を除去する除去工程Ｐ１２０と、次に、スクリーン基板１１０上に投射光ＬＰを反射する反射膜１５０を形成する反射膜形成工程Ｐ１３０とを備えている。
【００３９】
前述の各工程には、図示および説明を省略するが、スクリーン基板１１０の搬送装置が備えられている。各工程では、ロール状に巻き取られているスクリーン基板１１０を搬送装置によって送り出し、各工程で加工された後に、スクリーン基板１１０を巻き取る。いわゆるロール・ツー・ロール方式で製造される。
【００４０】
次に、反射型スクリーン１００の製造方法について、工程順に説明をする。
図３は、基板形成工程Ｐ１００と、吸収膜形成工程Ｐ１１０とを示す模式図であり、図３（ａ）は、スクリーン基板１１０に凸部１２０が形成された状態を示す模式図であり、図３（ｂ）は、凸部１２０上に吸収膜１４０が形成された状態を示す模式図である。図３を参照して、基板形成工程Ｐ１００と、吸収膜形成工程Ｐ１１０とを説明する。
【００４１】
スクリーン基板形成工程Ｐ１００は、図３（ａ）に示すように、スクリーン基板１１０の観察面１０１に複数の凸部１２０を形成する。凸部１２０は、光吸収性樹脂で形成されている。本実施形態の凸部１２０を観察面１０１に形成する方法は、観察面１０１に接着剤を塗付し、予め形成された凸部１２０を接着によって、観察面１０１へ貼り付けて形成する。なお、スクリーン基板１１０は、黒色に着色した光吸収性を有する塩化ビニル樹脂などでシート状に予め形成されている。
【００４２】
吸収膜形成工程Ｐ１１０は、図３（ｂ）に示すように、前述のスクリーン基板形成工程Ｐ１００によって形成された凸部１２０上に吸収膜１４０を形成する。また、吸収膜１４０は、フッ素を含む有機珪素化合物を有して構成される。
【００４３】
吸収膜１４０を形成する方法は、有機珪素化合物を含む溶液にスクリーン基板１１０を浸漬する。次に、スクリーン基板１１０を６０℃から８０℃に加熱し、吸収膜１４０を形成する。本実施形態では、加熱温度の条件を６０℃から８０℃としたが、有機珪素化合物の構成によって加熱温度を変更しても良い。また、吸収膜１４０の膜厚は２０ｎｍに設定する。また、有機珪素化合物と、スクリーン基板１１０との密着性が悪い場合は、スクリーン基板１１０の観察面１０１にプラズマ表面処理を施し、スクリーン基板１１０に付着している油分や、他の有機物質を除去し、密着性を高める前処理を行う。
【００４４】
ところで、吸収膜１４０による光吸収は、吸収膜を構成する有機珪素化合物の分子構造が複雑であることによって、吸収膜１４０に入射した光を分子構造中で吸収する。吸収膜１４０は、膜厚が厚くなることで、有機珪素化合物の分子構造が複雑となって、光吸収性がさらに向上する。吸収膜１４０の膜厚は、発明者の実験によって５ｎｍ以上で光吸収性を有することが確認された。従って、本実施形態の反射型スクリーン１００の製造方法では、吸収膜１４０の膜厚を５ｎｍ以上と、設定することができる。
【００４５】
吸収膜１４０は、前述の通り膜厚が厚くなれば、さらに光吸収性が向上する。吸収膜１４０は、後述する除去工程Ｐ１２０において、紫外線Ｌｕが照射された領域の吸収膜１４０の除去を行う。このため、吸収膜１４０の膜厚が厚い場合、除去工程Ｐ１２０で紫外線Ｌｕの照射時間を長くしなければ、吸収膜１４０の除去が不十分となり、照射時間を長くすると、紫外線Ｌｕが照射されている領域以外の吸収膜１４０が酸化される。
【００４６】
そこで、吸収膜１４０は光吸収性を有し、紫外線Ｌｕの照射されない領域の吸収膜１４０が酸化されないように対処する。ここで、発明者の実験によって、吸収膜１４０の膜厚を２０ｎｍ以下とすることで、紫外線Ｌｕの照射されない領域の吸収膜１４０が酸化されることなく除去できることが確認された。よって、吸収膜１４０の膜厚は、２０ｎｍ以下と設定することができる。従って、吸収膜１４０の膜厚は、５ｎｍ以上２０ｎｍ以下と設定することができる。
【００４７】
ところで、有機珪素化合物を含み形成される吸収膜１４０は、有機珪素化合物の分子量を大きくすることで分子の側鎖が伸長し、後述する反射膜形成工程Ｐ１３０において、反射膜１５０を形成する金属粒子Ｍ（原子）との結合力を抑制することができる。よって、反射膜１５０を形成する金属粒子Ｍが、吸収膜１４０の表面に留まることなく再蒸発し、吸収膜１４０上に、反射膜１５０が形成されることを防止できる。ここで、有機珪素化合物の分子量は、発明者の実験によって８００以上、さらに２０００以上とすることで、反射膜１５０を形成する金属粒子Ｍが、吸収膜１４０上に留まることなく再蒸発することの確認がされた。従って、本実施形態の吸収膜１４０を形成する有機珪素化合物の分子量は、８００以上、さらに２０００以上と設定することができる。
【００４８】
また、有機珪素化合物は、フッ素を含むことによって、分子間引力（結合力）の弱いフッ素で吸収膜１４０上を覆うことができる。よって、後述する反射膜形成工程Ｐ１３０において、吸収膜１４０と、反射膜１５０を形成する金属粒子Ｍとの結合力をさらに抑制することができる。ここで、発明者の実験によって、有機珪素化合物に含むフッ素として、パーフルオロアルキル基、パーフルオロエーテル基を含むことで、吸収膜１４０と、金属粒子Ｍとの結合力を抑制することができることの確認がされた。従って、本実施形態の吸収膜１４０を形成する有機珪素化合物は、パーフルオロアルキル基、パーフルオロエーテル基などフッ素を含む構成とすることができる。
【００４９】
図４は、除去工程Ｐ１２０と、反射膜形成工程Ｐ１３０とを示す模式図であり、図４（ｃ）は、除去工程Ｐ１２０において、紫外線Ｌｕをスクリーン基板１１０へ照射した模式図であり、図４（ｄ）は、吸収膜１４０が除去された状態を示す図である。また、図４（ｅ）は、吸収膜１４０が除去された領域に、反射膜１５０が形成された状態を示す模式図である。図４を参照して、除去工程Ｐ１２０と反射膜形成工程Ｐ１３０とを説明する。
【００５０】
除去工程Ｐ１２０は、紫外線照射工程Ｐ１２１（不図示）を備え、前述の吸収膜形成工程Ｐ１１０によって凸部１２０上に形成した吸収膜１４０に、紫外線Ｌｕを照射することで、吸収膜１４０の酸化と除去とを行う。紫外線照射工程Ｐ１２１は、図４（ｃ）に示すように、スクリーン基板１１０の観察面１０１の法線ＮＬに対して、垂直方向下方（Ｙ軸下方向）にずれた仮想光源位置ＰＶと、同じ位置に紫外線照射装置６０を配置する。
【００５１】
図４（ｄ）に示すように、紫外線Ｌｕが照射された領域の吸収膜１４０は除去され、凸部１２０が露出し、反射膜形成領域１２２が形成される。紫外線Ｌｕと、凸部１２０との本影１２３となる部分は、紫外線Ｌｕが入射しないことから、吸収膜１４０は除去されずに残存する。
【００５２】
紫外線Ｌｕの照射は、投射光ＬＰの入射に対応した領域の吸収膜１４０を除去するため、紫外線Ｌｕのスクリーン基板１１０に対する入射角度θ２と、図１で示した仮想光源位置ＰＶから射出する投影光ＬＰの入射角度θ１とが等しくなるように紫外線照射装置６０の配置を行い、紫外線Ｌｕを射出する。
【００５３】
紫外線照射装置６０から射出される紫外線Ｌｕは、プロジェクターＰから射出された投射光ＬＰと同様に、スクリーン基板１１０の大きさに合わせて、拡散して照射される。
【００５４】
紫外線照射装置６０は、図示および詳細な説明を省略するが、その筐体内に、紫外線ランプと、紫外線ランプを駆動する電源部と、紫外線を凝縮および拡散させるレンズを有する光学部とを備える。
【００５５】
また、紫外線照射装置６０から射出される紫外線Ｌｕの照射条件は、波長１７２ｎｍ、照射密度１５ｍＷ／平方センチメートルである。ここで、紫外線Ｌｕの照射条件は、吸収膜１４０の膜厚などの膜質や照射距離によって、波長と照射密度とを適宜調整し、除去工程Ｐ１２０を行うと良い。
【００５６】
反射膜形成工程Ｐ１３０は、図４（ｅ）に示すように、吸収膜１４０が除去された領域に、投射光ＬＰを反射することができる金属粒子Ｍで構成された反射膜１５０を形成する。本実施形態では反射膜材料として、アルミニウムを用いる。ここで、反射膜１５０は、アルミニウムに限らず、投射光ＬＰを反射できる他の材料を用いても良い。
【００５７】
ところで、反射膜形成工程Ｐ１３０によって、反射膜１５０の形成を行うスクリーン基板１１０上には、外光を吸収するために吸収膜１４０が残存している。吸収膜１４０は、前述の通り、吸収膜１４０上に、金属粒子Ｍが反射膜形成工程Ｐ１３０によって付着し、形成されることを防止することができる。よって、反射膜１５０の形成は、反射膜１５０を形成する金属粒子Ｍ（原子）の放散方向に関係なく、金属粒子Ｍで構成される反射膜１５０を、反射膜形成領域１２２に形成することができる。
【００５８】
ここで、反射膜形成工程Ｐ１３０による反射膜１５０の形成は、スパッタ法を用いてアルミニウムの膜を形成する。本実施形態では、対向ターゲット式スパッタ法を用いて、反射型スクリーン１００の観察者側（Ｚ軸方向）から反射膜１５０を構成するアルミニウムの膜を形成する。
【００５９】
スパッタ法によって反射膜１５０を形成する金属粒子Ｍは、蒸着法によって反射膜１５０を形成する金属粒子Ｍと比べて、数十倍から数百倍の運動エネルギーを有する。本実施形態で用いる対向ターゲット式スパッタ法は、反射膜材料となる金属（ターゲット）から飛散する金属粒子Ｍの運動エネルギーが小さいため、金属粒子Ｍがスクリーン基板１１０上へ衝突することによる損傷を抑制できる。また、金属粒子Ｍによるスクリーン基板１１０上の損傷が少ないため、損傷によって生じるスクリーン基板１１０上で金属粒子Ｍの凝集を抑制できる。
【００６０】
図５は、本実施形態の製造方法を用いて製造した反射型スクリーン１００を拡大し、模式的に示す断面図である。図５に示すように、観察面１０１上には、光吸収性を有する略半球状の凸部１２０が複数形成されている。凸部１２０上には、投射光ＬＰを観察者側に反射する反射膜１５０と、観察に不要な外光Ｌｏを吸収する吸収膜１４０とが備えられている。また、投射光ＬＰは、凸部１２０の本影１２３となる部分、すなわち、吸収膜１４０には殆ど入射しない。従って、プロジェクターＰから射出された投射光ＬＰは、反射膜１５０によって観察者側（Ｚ軸方向）に法線ＮＬと平行して反射される。また、観察に不要な外光Ｌｏは、吸収膜１４０によって吸収し、吸収膜１４０を透過した外光Ｌｏは、凸部１２０を形成する光吸収性を有する樹脂と、スクリーン基板１１０とによって吸収される。
【００６１】
上述のように、投射光ＬＰを反射する反射膜１５０と、外光Ｌｏを吸収する吸収膜１４０と、が形成された凸部１２０を観察面１０１の略全面に形成し、反射型スクリーン１００を構成している。
【００６２】
上述した第一実施形態によれば、以下の効果が得られる。
本実施形態の反射型スクリーン１００の製造方法は、スクリーン基板１１０上に形成された複数の凸部１２０に、有機珪素化合物の分子構造中で光を吸収する吸収膜１４０と、投射光ＬＰを反射する反射膜１５０と、を形成することができる。また、有機珪素化合物で構成される吸収膜１４０は、反射膜１５０の付着を防止することができる。よって、反射膜形成工程Ｐ１３０では、除去工程Ｐ１２０によって吸収膜１４０の一部が除去された領域に、反射膜１５０を形成することができる。従って、反射膜形成工程Ｐ１３０は、反射膜材料をスクリーン基板１１０の近い位置に配置し、金属粒子Ｍの放散方向に関係なく、投射光ＬＰの入射に対応した領域に反射膜１５０の形成ができる。
【００６３】
また、スクリーン基板の近い位置に反射膜材料を設置することで、反射膜を形成する金属粒子Ｍの飛散（放散）距離が短くなる。よって、反射膜形成の時間短縮と、スクリーン基板以外への金属粒子Ｍの放散の抑制とができる。従って、反射膜形成工程Ｐ１３０を実行する装置の小型化と、反射膜形成工程Ｐ１３０の時間短縮化と、蒸着源など反射膜材料の利用効率の向上と、が実現できる。
【００６４】
本実施形態の反射型スクリーン１００の製造方法は、紫外線照射工程Ｐ１２１を備え、紫外線Ｌｕをスクリーン基板１１０上に形成された吸収膜１４０に照射することで、吸収膜１４０に接することなく吸収膜１４０を酸化させ、分解し除去することができる。よって、紫外線Ｌｕを照射し、吸収膜１４０が除去された領域に反射膜形成工程Ｐ１３０において反射膜１５０を選択的に形成することができる。また、従来、反射膜形成工程Ｐ１３０では、スクリーン基板１１０上にマスク版を配置し、金属粒子Ｍが付着する領域を選択し、反射膜１５０を形成していたがマスク版が不要となる。従って、反射膜１５０を形成する領域が異なっても、紫外線Ｌｕの照射領域を変更することで、反射膜１５０を形成する領域を容易に変更できる。
【００６５】
本実施形態の反射型スクリーン１００の製造方法は、吸収膜を５ｎｍ以上、２０ｎｍ以下の膜厚で形成することで光吸収性を有し、紫外線照射工程Ｐ１２１において紫外線Ｌｕを照射することで、紫外線Ｌｕが照射された領域以外の吸収膜１４０を酸化させることなく除去することができる。
【００６６】
本実施形態の反射型スクリーン１００の製造方法は、スクリーン基板１１０に相対させた位置に紫外線照射装置６０を設置し、投射光ＬＰと同様に拡散する紫外線Ｌｕをスクリーン基板１１０に照射することで、投射光ＬＰに対応した領域に紫外線Ｌｕを照射することができる。従って、紫外線Ｌｕが照射された領域の吸収膜１４０が除去され、外光Ｌｏなどを吸収する吸収膜１４０を残置し、反射膜形成工程Ｐ１３０によって、投射光ＬＰの入射に対応した領域に反射膜１５０を形成することができる。
【００６７】
本実施形態の反射型スクリーン１００の製造方法は、吸収膜１４０を構成する有機珪素化合物にフッ素を含むことで、反射膜１５０を構成する反射膜材料の付着を防止することができる。また、有機珪素化合物の分子量を８００以上、さらに２０００以上とすることで、反射膜１５０を構成する反射膜材料の付着をさらに防止することができる。
【００６８】
本実施形態の反射型スクリーン製造方法は、フッ素を含む有機珪素化合物で吸収膜１４０を形成することで、吸収膜１４０上への塵埃付着を低減できる。また、吸収膜１４０は、塵埃で妨げられることなく外光Ｌｏを吸収し、光吸収率を向上させることができる。従って、コントラストの高い反射型スクリーンが実現できる。
【００６９】
（第二実施形態）
本実施形態は、プロジェクターＰの投射光ＬＰの射出位置が第一実施形態と異なる仕様の反射型スクリーンの製造形態で、反射型スクリーン１００の観察面中心点Ｃの観察者側から投射光ＬＰを射出する場合を説明する。
【００７０】
図６は、本実施形態に係る反射型スクリーン１００が設置された状態を示す模式図である。
【００７１】
図６に示すように、本実施形態で製造する反射型スクリーン１００は、観察面１０１の中心点Ｃを通る法線ＮＬに対して観察者側（Ｚ軸方向）にずれた位置に配置されたプロジェクターＰから、観察面１０１に向けて投射光ＬＰを射出する。投射光ＬＰは、反射型スクリーン１００の観察者側（Ｚ軸方向）に反射される。ここで、この位置を仮想光源ＰＶとする。また、反射型スクリーン１００は、法線ＮＬがＺ軸と平行になるように配置されている。従って、紫外線照射工程Ｐ１２１を行う紫外線照射装置６０を設置する位置が、前述の第一実施形態の反射型スクリーンの製造方法と異なっている。その他の構成および工程は、第一実施形態と同様であるため相違点を説明し、同様の工程および構成には同様の符号を付して説明は省略または簡略とする。
【００７２】
図７は、本実施形態の反射型スクリーン１００に対応して紫外線Ｌｕが照射される領域を示す模式図である。図７を参照して、本実施形態の紫外線照射工程Ｐ１２１について説明する。
【００７３】
紫外線照射工程Ｐ１２１は、図７に示すように、プロジェクターＰの仮想光源ＰＶ位置に紫外線照射装置６０を設置し、プロジェクターＰから射出された投射光ＬＰと同様に、スクリーン基板１１０の大きさに合わせて、紫外線Ｌｕを拡散して照射を行う。紫外線照射装置６０は、投射光ＬＰと同様の入射角度で紫外線Ｌｕを射出し照射を行う。
【００７４】
紫外線照射工程Ｐ１２１は、第一実施形態と同様に、スクリーン基板１１０上の凸部１２０上に形成された吸収膜１４０に紫外線Ｌｕを照射し、紫外線Ｌｕによって吸収膜１４０が酸化し除去され、反射膜形成領域１２２が形成される。ここで、紫外線Ｌｕが照射される領域は、前述の観察者側から射出された投射光ＬＰが投写される領域と同じである。
【００７５】
その他の反射型スクリーン１００の製造方法および反射型スクリーン１００は、第一実施形態と同様である。
【００７６】
上述した第二実施形態によれば、以下の効果が得られる。
【００７７】
本実施形態の反射型スクリーン１００の製造方法は、紫外線照射装置６０の設置位置を、投射光ＬＰの射出位置に応じて移動し、変更することで様々な投射光ＬＰの入射に対応した反射型スクリーン１００の製造ができる。従って、投射光ＬＰを反射する反射膜１５０を形成する領域が異なっても、反射膜形成工程Ｐ１３０に係る装置の調整が不要で、生産装置の稼働率を高めることができる。
【００７８】
（第三実施形態）
本実施形態は、第一実施形態および第二実施形態で説明をした基板形成工程Ｐ１００で、スクリーン基板１１０上に凸部１２０を形成することに変えて、凹部２２０を形成する。凹部２２０の内壁面２２１に、吸収膜１４０および反射膜１５０を備える反射型スクリーン１００の製造方法と、反射型スクリーン１００との形態である。この点が、第一実施形態および第二実施形態と異なっている点である。その他の工程および構成は、第一実施形態および第二実施形態と同様であるため相違点を説明し、同様の工程および構成には同様の符号を付して説明は省略または簡略とする。
【００７９】
図８は、基板形成工程Ｐ１００と、吸収膜形成工程Ｐ１１０とを示す模式図であり、図８（ａ）は、スクリーン基板１１０に凹部２２０が形成された状態を示す模式図である。図８（ｂ）は、凹部２２０の内壁面２２１上に吸収膜１４０が形成された状態を示す模式図である。図８を参照して、基板形成工程Ｐ１００と吸収膜形成工程Ｐ１１０とを説明する。
【００８０】
基板形成工程Ｐ１００は、第一実施形態の凸部１２０を接着し形成を行う方法に変えて凹部２２０を、スクリーン基板１１０を変形させることで形成する。図８（ａ）に示すようにスクリーン基板１１０の観察面１０１に複数の凹部２２０が形成されている。凹部２２０を形成する方法は、形成させる形状とは逆形状に形成された金型を加熱し、スクリーン基板１１０に押し付けて形成する転写装置（不図示）を用いて実施される。
【００８１】
転写装置は、形成させる形状とは逆形状に形成された金型を加熱しながらスクリーン基板１１０を、観察面１０１と、その反対面との両面から高圧力で押し付け、スクリーン基板１１０を金型の形状に合わせて変形させて、必要な形状を形成させる装置である。
【００８２】
吸収膜形成工程Ｐ１１０は、図８（ｂ）に示すように、前述のスクリーン基板形成工程Ｐ１００によって、観察面１０１に形成された凹部２２０の内壁面２２１上に、吸収膜１４０を形成する。 吸収膜１４０の形成は第一実施形態と同様に、スクリーン基板１１０を、有機珪素化合物を含んだ溶液に浸漬し形成する。上述した以外の吸収膜形成工程Ｐ１１０は、第一実施形態と同様である。
【００８３】
図９は、除去工程Ｐ１２０と、反射膜形成工程Ｐ１３０とを示す模式図であり、図９（ｃ）は、除去工程Ｐ１２０で、紫外線Ｌｕをスクリーン基板１１０へ照射した模式図であり、図９（ｄ）は、吸収膜１４０が除去された状態を示す図である。また、図９（ｅ）は、吸収膜１４０が除去された領域に、反射膜１５０が形成された状態を示す模式図である。図９を参照して、除去工程Ｐ１２０と、反射膜形成工程Ｐ１３０とを説明する。
【００８４】
除去工程Ｐ１２０は、第一実施形態同様に紫外線照射工程Ｐ１２１を備え、図９（ｃ）に示すように、スクリーン基板１１０の観察面１０１の法線ＮＬに対して、垂直方向下方（Ｙ軸下方向）にずれた仮想光源位置ＰＶと、同じ位置に紫外線照射装置６０を配置する。
図９（ｄ）に示すように、紫外線Ｌｕが照射された領域の吸収膜１４０は除去され、凹部２２０の内壁面２２１が露出し、反射膜形成領域２２２が形成される。紫外線Ｌｕと凹部２２０との本影２２３となる部分は、紫外線Ｌｕが入射しないことから、吸収膜１４０は除去されずに残存する。
【００８５】
紫外線Ｌｕの照射は、投射光ＬＰの入射に対応した領域の吸収膜１４０を除去するため、スクリーン基板１１０に対する入射角度θ３が、図１で示した、仮想光源位置ＰＶから射出する投影光ＬＰの入射角度θ１と等しくなるように、紫外線照射装置６０を配置し紫外線Ｌｕを射出する。上述した以外の除去工程Ｐ１２０の内容は、第一実施形態と同様である。
【００８６】
反射膜形成工程Ｐ１３０は、図９（ｅ）に示すように、吸収膜１４０が除去された反射膜形成領域２２２に、投射光ＬＰを反射することができる金属粒子Ｍで構成された反射膜１５０を形成する。上述した以外の反射膜形成工程Ｐ１３０は、第一実施形態と同様である。
【００８７】
図１０は、本実施形態の製造方法を用いて製造した反射型スクリーン１００を拡大し模式的に示す断面図である。図１０に示すように、観察面１０１には、光吸収性を有する略半球状の凹部２２０が複数形成されている。凹部２２０上には、投射光ＬＰを観察者側反射する反射膜１５０と、観察に不要な外光Ｌｏを吸収する吸収膜１４０とが備えられている。また、投射光ＬＰは、凹部２２０の本影２２３となる部分、すなわち、吸収膜１４０には殆ど入射しない。従って、プロジェクターＰから射出された投射光ＬＰは、反射膜１５０によって観察者側（Ｚ軸方向）に法線ＮＬと平行し反射される。また、観察に不要な外光Ｌｏは、吸収膜１４０によって吸収し、吸収膜１４０を透過した外光Ｌｏは、スクリーン基板１１０によって吸収される。
【００８８】
このように、投射光ＬＰを反射する反射膜１５０と、外光Ｌｏを吸収する吸収膜１４０とが形成された凹部２２０を観察面１０１の略全面に形成し、反射型スクリーン１００を構成している。
【００８９】
その他の反射型スクリーン１００の製造方法および反射型スクリーン１００は、第一実施形態と第二実施形態と同様である。
【００９０】
上述した第三実施形態によれば、以下の効果が得られる。
本実施形態の反射型スクリーン１００の製造方法によれば、スクリーン基板１１０を変形させて凹部２２０を形成することで、第一実施形態で説明をした基板形成工程Ｐ１００に比べて、予め凸部１２０を形成する工程と、凸部１２０を接着する工程とを省略し、基板形成工程Ｐ１００の時間短縮ができる。従って、生産効率の高い反射型スクリーン１００の製造方法が実現できる。
【００９１】
（第四実施形態）
本実施形態は、紫外線照射工程Ｐ１２１を実行する紫外線照射装置６０を、スクリーン基板１１０に相対する観察者側（Ｚ軸方向）に移動自在または回動自在に設置し、指向性を有する紫外線Ｌｕの照射を行う。また、紫外線Ｌｕが照射されるスクリーン基板１１０は、固定または移動自在に設置されている形態である。
【００９２】
ここで、紫外線照射装置６０は、図示と詳細な説明を省略するが、第一実施形態の紫外線照射装置６０の構成に加えて、射出位置の移動および射出角度の回動を自在に行う駆動部と、駆動部の制御を行う制御部とを備える。制御部は、除去工程Ｐ１２０によって、吸収膜１４０の除去を行う領域が設定されている。紫外線照射装置６０は、この設定に基づき駆動部によって、移動自在または回動自在に動作し、紫外線Ｌｕを射出し照射する。
【００９３】
上述の点が、前述の第一実施形態と、第三実施形態との反射型スクリーン１００の製造方法と異なっている。その他の構成および工程は、第一実施形態と、第三実施形態と同様であるため相違点を説明し、同様の工程および構成には同様の符号を付して説明は省略または簡略とする。
【００９４】
図１１と、図１２とは、本実施形態に係る除去工程Ｐ１２０の紫外線照射工程Ｐ１２１を説明する模式図であり、図１１（ａ）と、図１１（ｂ）とは、固定されたスクリーン基板１１０に、回動自在な紫外線照射装置６０から紫外線Ｌｕを照射した状態を示す模式図である。また、図１２（ａ）から図１２（ｃ）は、移動自在なスクリーン基板１１０に、移動自在または回動自在な紫外線照射装置６０から、紫外線Ｌｕを照射した状態を示す模式図である。図１１と、図１２とを参照して、本実施形態の紫外線照射工程Ｐ１２１を説明する。
【００９５】
先ず、固定されたスクリーン基板１１０に、回動自在な紫外線照射装置６０を用いて、紫外線照射工程Ｐ１２１を実施する場合を図１１を用いて説明する。
図１１（ａ）に示すＹ軸方向の任意の点（本実施形態では、Ａ点とする。）の吸収膜１４０の除去を行うために、観察者側（Ｚ軸方向）に設置した紫外線照射装置６０を回動させ、Ａ点における投射光ＬＰの入射と同様の入射角度で紫外線Ｌｕを射出し照射を行う。また、図１１（ｂ）に示すＹ軸方向の任意の点（本実施形態では、Ｂ点とする。）の吸収膜１４０の除去を行う場合、Ａ点と同様に、紫外線照射装置６０を回動させ、Ｂ点における投射光ＬＰの入射と同様の入射角度で紫外線Ｌｕを射出し照射を行う。このように、スクリーン基板１１０に形成された凸部１２０上または凹部２２０（不図示）上に形成された吸収膜１４０は、紫外線照射装置６０を回動させ、順次紫外線Ｌｕを照射し除去を行う。
【００９６】
次に、固定されたスクリーン基板１１０に、移動自在または回動自在な紫外線照射装置６０を用いて、紫外線照射工程Ｐ１２１を実施する場合を説明する。
固定されたスクリーン基板１１０に形成されている吸収膜１４０の除去を行うために、紫外線照射装置６０をスクリーン基板１１０に相対させて移動し、回動をさせながら、指向性を有する紫外線Ｌｕの照射を行う。紫外線照射装置６０は、スクリーン基板１１０の観察者側（Ｚ軸方向）に設置され、吸収膜１４０の除去を行う領域における投射光ＬＰの入射と同様の入射角度で紫外線Ｌｕの射出を行う。このように、スクリーン基板１１０に形成された凸部１２０上または凹部２２０（不図示）上に形成された吸収膜１４０は、紫外線照射装置６０を移動し、回動をさせ順次紫外線Ｌｕを照射し除去を行う。
【００９７】
次に、移動自在なスクリーン基板１１０に、移動自在または回動自在な紫外線照射装置６０を用いて、紫外線照射工程Ｐ１２１を実施する場合を図１２を用いて説明する。
図１２（ａ）から図１２（ｃ）に示すＹ軸方向の任意の点（本実施形態では、Ｃ点からＥ点とする。）の吸収膜１４０の除去を行うために、観察者側（Ｚ軸方向）に設置した紫外線照射装置６０を回動または移動させ、紫外線Ｌｕを射出し照射を行う。このように、紫外線照射装置６０は、スクリーン基板１１０の移動に対応して、吸収膜１４０の除去を行う任意の点における投射光ＬＰの入射角度と、同様の入射角度で紫外線Ｌｕを射出し照射を行う。
【００９８】
ここで、紫外線照射工程Ｐ１２１は、紫外線照射装置６０を１台で行うことを説明したが、複数台の紫外線照射装置６０を組み合わせて紫外線Ｌｕの照射を行ってもよい。
【００９９】
その他の反射型スクリーンの製造方法および反射型スクリーンの構成は、第一実施形態および第三実施形態と同様である。
【０１００】
上述した第四実施形態によれば、以下の効果が得られる。
本実施形態の反射型スクリーンの製造方法によれば、投射光ＬＰの入射角が異なるスクリーンの製造を、紫外線照射装置６０を移動または回動させ、紫外線Ｌｕの照射を行うことで、投射光ＬＰと同様の紫外線Ｌｕの入射角度を短距離で再現することができる。従って、紫外線照射工程Ｐ１２１を行う装置の小型化ができる。また、紫外線照射装置６０が移動または回動することで、様々な投影位置に対応した反射膜１５０を形成する領域を形成することができる。
【０１０１】
本実施形態の反射型スクリーンの製造方法によれば、スクリーン基板１１０の移動と、吸収膜１４０を除去する領域に対応して、紫外線照射装置６０を移動または回動して紫外線Ｌｕを射出し照射することで、スクリーン基板１１０の任意の領域に形成されている吸収膜１４０の除去する領域を自在に変化させることができる。従って、投射光ＬＰの投射位置が異なる反射型スクリーン１００をロール・ツー・ロールで連続して製造することができる。また、スクリーン基板１１０の領域によって、吸収膜１４０の除去を行う領域を変化させることで、反射型スクリーン１００の反射効率を改善することができる。
【０１０２】
なお、上述した実施形態に限定されず、その要旨を逸脱しない範囲において種々の変更や改良等を加えて実施することが可能である。変形例を以下に述べる。
【０１０３】
（変形例１）スクリーン基板形成工程Ｐ１００に複数の凸部１２０または凹部２２０を形成する方法として、光吸収性樹脂をインクジェットヘッドによって吐出し凸部１２０を形成する方法、を反射型スクリーン１００の製造に適用することができる。
【０１０４】
（変形例２）スクリーン基板形成工程Ｐ１００に複数の凹部２２０を形成する方法として、スクリーン基板１００をマスクパターンで覆い、ウエットエッチング法を用い、等方性エッチングによって凹部２２０を形成する方法を反射型スクリーン１００の製造に適用することができる。
【０１０５】
（変形例３）吸収膜形成工程Ｐ１１０で吸収膜１４０を形成する方法として、フッ素を含む有機珪素化合物を膜形成材料とし、化学気相成長法を用いるＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ−Ｖａｐｏｒ−Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法で吸収膜１４０を形成する方法や、スプレー噴射などによって塗付し吸収膜１４０を形成するスプレー法を反射型スクリーン１００の製造に適用することができる。
【０１０６】
（変形例４）反射膜形成工程Ｐ１３０で形成する反射膜１５０を形成する方法として、第一実施形態で説明した対向ターゲット式スパッタ法に限らず、他のスパッタ法や、蒸着法などの物理気相成長法を用いるＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ−Ｖａｐｏｒ−Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法で形成する方法。または、化学気相成長法を用いるＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ−Ｖａｐｏｒ−Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法で反射膜１５０を形成する方法を反射型スクリーン１００の製造に適用することができる。
【符号の説明】
【０１０７】
６０…紫外線照射装置、１００…反射型スクリーン、１０１…観察面、１１０…スクリーン基板、１２０…凸部、１４０…吸収膜、１５０…反射膜、２２０…凹部、ＮＬ…法線、ＬＰ…投射光、Ｌｕ…紫外線、ＰＶ…仮想光源、Ｐ１００…スクリーン基板形成工程、Ｐ１１０…吸収膜形成工程、Ｐ１２０…除去工程、Ｐ１３０…反射膜形成工程。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投射光を反射する反射型スクリーンの製造方法であって、
スクリーン基板表面に、有機珪素化合物を含み、前記投射光と異なる方向から入射する外光を吸収する吸収膜を形成する吸収膜形成工程と、
前記吸収膜形成工程の前工程または後工程で行われ、スクリーン基板表面に複数の凸部または複数の凹部を形成する基板形成工程と、
前記投射光を反射する反射膜を形成する反射膜形成工程と、を備えることを特徴とする反射型スクリーンの製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の反射型スクリーンの製造方法であって、
前記投射光の入射方向に対応した領域の前記吸収膜を除去する除去工程を備えること、を特徴とする反射型スクリーンの製造方法。
【請求項３】
請求項２に記載の反射型スクリーンの製造方法であって、
前記除去工程は、前記吸収膜に対して紫外線を照射させる紫外線照射工程を含むこと、を特徴とする反射型スクリーンの製造方法。
【請求項４】
請求項２または請求項３に記載の反射型スクリーンの製造方法であって、
前記紫外線は紫外線を照射する紫外線照射装置を用い、当該紫外線照射装置を前記スクリーン基板に相対させて設置し、固定される前記スクリーン基板に対して拡散する前記紫外線を照射すること、を特徴とする反射型スクリーンの製造方法。
【請求項５】
請求項２から請求項４のいずれか一項に記載の反射型スクリーンの製造方法であって、
前記紫外線照射工程は、紫外線を照射する紫外線照射装置を用い、当該紫外線装置を前記スクリーン基板に相対させて移動自在または回動自在に設置し、固定または移動自在に設置される前記スクリーン基板に対して指向性を有する前記紫外線を照射すること、を特徴とする反射型スクリーンの製造方法。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の反射型スクリーンの製造方法であって、
前記吸収膜を構成する前記有機珪素化合物は、フッ素を含んでいること、を特徴とする反射型スクリーンの製造方法。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の反射型スクリーンの製造方法であって、
前記吸収膜の膜厚は、５ｎｍ以上２０ｎｍ以下に形成されていること、を特徴とする反射型スクリーンの製造方法。
【請求項８】
請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の反射型スクリーンの製造方法であって、
前記吸収膜を構成する前記有機珪素化合物の分子量は、８００以上で構成されること、を特徴とする反射型スクリーンの製造方法。
【請求項９】
請求項８に記載の反射型スクリーンの製造方法であって、
前記有機珪素化合物の分子量は、さらに２０００以上で構成されていること、を特徴とする反射型スクリーンの製造方法。
【請求項１０】
請求項１から請求項９のいずれか一項に記載の反射型スクリーンの製造方法によって製造されたこと、を特徴とする反射型スクリーン。
【請求項１１】
投射光を反射する反射型スクリーンの製造方法であって、
スクリーン基板表面に、前記投射光と異なる方向から入射する外光を吸収し、有機珪素化合物を含む吸収膜を備えていること、を特徴とする反射型スクリーン。
【請求項１２】
請求項１１に記載の反射型スクリーンであって、
前記有機珪素化合物は、フッ素を含んでいることを特徴とする反射型スクリーン。
【請求項１】
投射光を反射する反射型スクリーンの製造方法であって、
スクリーン基板表面に、有機珪素化合物を含み、前記投射光と異なる方向から入射する外光を吸収する吸収膜を形成する吸収膜形成工程と、
前記吸収膜形成工程の前工程または後工程で行われ、スクリーン基板表面に複数の凸部または複数の凹部を形成する基板形成工程と、
前記投射光を反射する反射膜を形成する反射膜形成工程と、を備えることを特徴とする反射型スクリーンの製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の反射型スクリーンの製造方法であって、
前記投射光の入射方向に対応した領域の前記吸収膜を除去する除去工程を備えること、を特徴とする反射型スクリーンの製造方法。
【請求項３】
請求項２に記載の反射型スクリーンの製造方法であって、
前記除去工程は、前記吸収膜に対して紫外線を照射させる紫外線照射工程を含むこと、を特徴とする反射型スクリーンの製造方法。
【請求項４】
請求項２または請求項３に記載の反射型スクリーンの製造方法であって、
前記紫外線は紫外線を照射する紫外線照射装置を用い、当該紫外線照射装置を前記スクリーン基板に相対させて設置し、固定される前記スクリーン基板に対して拡散する前記紫外線を照射すること、を特徴とする反射型スクリーンの製造方法。
【請求項５】
請求項２から請求項４のいずれか一項に記載の反射型スクリーンの製造方法であって、
前記紫外線照射工程は、紫外線を照射する紫外線照射装置を用い、当該紫外線装置を前記スクリーン基板に相対させて移動自在または回動自在に設置し、固定または移動自在に設置される前記スクリーン基板に対して指向性を有する前記紫外線を照射すること、を特徴とする反射型スクリーンの製造方法。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の反射型スクリーンの製造方法であって、
前記吸収膜を構成する前記有機珪素化合物は、フッ素を含んでいること、を特徴とする反射型スクリーンの製造方法。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の反射型スクリーンの製造方法であって、
前記吸収膜の膜厚は、５ｎｍ以上２０ｎｍ以下に形成されていること、を特徴とする反射型スクリーンの製造方法。
【請求項８】
請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の反射型スクリーンの製造方法であって、
前記吸収膜を構成する前記有機珪素化合物の分子量は、８００以上で構成されること、を特徴とする反射型スクリーンの製造方法。
【請求項９】
請求項８に記載の反射型スクリーンの製造方法であって、
前記有機珪素化合物の分子量は、さらに２０００以上で構成されていること、を特徴とする反射型スクリーンの製造方法。
【請求項１０】
請求項１から請求項９のいずれか一項に記載の反射型スクリーンの製造方法によって製造されたこと、を特徴とする反射型スクリーン。
【請求項１１】
投射光を反射する反射型スクリーンの製造方法であって、
スクリーン基板表面に、前記投射光と異なる方向から入射する外光を吸収し、有機珪素化合物を含む吸収膜を備えていること、を特徴とする反射型スクリーン。
【請求項１２】
請求項１１に記載の反射型スクリーンであって、
前記有機珪素化合物は、フッ素を含んでいることを特徴とする反射型スクリーン。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公開番号】特開２０１２−１０８３４１（Ｐ２０１２−１０８３４１Ａ）
【公開日】平成２４年６月７日（２０１２．６．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２５７５５９（Ｐ２０１０−２５７５５９）
【出願日】平成２２年１１月１８日（２０１０．１１．１８）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年６月７日（２０１２．６．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１１月１８日（２０１０．１１．１８）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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