反射型スクリーン及び反射型スクリーンの製造方法
【課題】近接投射型プロジェクターとともに用いるのに適する反射型スクリーンとすることが可能であり、かつ、投写画像の明るさを従来の反射型スクリーンよりも均一にすることが可能な反射型スクリーンを提供する。
【解決手段】投写面側に複数の凹面が形成され、近接投写型プロジェクターとともに用いる反射型スクリーンであって、基準点Ｐの近くに位置する第１領域Ｒ１と、基準点Ｐから遠くに位置する第２領域Ｒ２とに区分され、第１領域Ｒ１には、複数の凹面として、略球面状の内面を有する複数の第１凹面が形成され、第２領域Ｒ２には、複数の凹面として、略円柱状の内面と、当該略円柱状の内面の両端部に形成された略球面状の内面とを有する第２凹面であって、当該第２凹面から基準点Ｐへの方向と当該第２凹面の長軸方向とが略一致する複数の第２凹面が形成されていることを特徴とする反射型スクリーン１。
【解決手段】投写面側に複数の凹面が形成され、近接投写型プロジェクターとともに用いる反射型スクリーンであって、基準点Ｐの近くに位置する第１領域Ｒ１と、基準点Ｐから遠くに位置する第２領域Ｒ２とに区分され、第１領域Ｒ１には、複数の凹面として、略球面状の内面を有する複数の第１凹面が形成され、第２領域Ｒ２には、複数の凹面として、略円柱状の内面と、当該略円柱状の内面の両端部に形成された略球面状の内面とを有する第２凹面であって、当該第２凹面から基準点Ｐへの方向と当該第２凹面の長軸方向とが略一致する複数の第２凹面が形成されていることを特徴とする反射型スクリーン１。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射型スクリーン及び反射型スクリーンの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、球面状の内面を有する複数の凹面が投写面側に形成され、近接投写型プロジェクターとともに用いる反射型スクリーンが知られている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
従来の反射型スクリーンによれば、球面状の内面を有する複数の凹面が形成されているため、近接投写型プロジェクターから斜めに入射する光を使用者に向けて反射することが可能となり、その結果、近接投射型プロジェクターとともに用いるのに適する反射型スクリーンとすることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−１９２８７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、投写面のうち近接投射型プロジェクターから遠い位置では当該近接投射型プロジェクターからの光の入射角度が大きくなることから、当該光を使用者に向けて正しく反射するためには、近接投射型プロジェクターからの位置が遠い凹面ほど当該凹面の縁を高くする必要がある。しかしながら、従来の反射型スクリーンにおいては、近接投射型プロジェクターからの位置が遠い凹面について当該凹面の縁を高くすると、当該凹面のうち近接投射型プロジェクター側の凹面の縁に光が遮られ、当該凹面に光が入射しないことがある。このため、従来の反射型スクリーンにおいては、投写面のうち近接投射型プロジェクターから遠い位置における投写画像が暗くなってしまうため、投写画像の明るさが不均一になってしまうことがあるという問題がある。
【０００６】
そこで、本発明は上記の問題を解決するためになされたもので、近接投射型プロジェクターとともに用いるのに適する反射型スクリーンとすることが可能であり、かつ、投写画像の明るさを従来の反射型スクリーンよりも均一にすることが可能な反射型スクリーンを提供することを目的とする。また、このような反射型スクリーンの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
［１］本発明の反射型スクリーンは、投写面側に複数の凹面が形成され、近接投写型プロジェクターとともに用いる反射型スクリーンであって、前記投写面を含む基準平面における、前記反射型スクリーンの中心から前記近接投写型プロジェクターを配置する側に偏倚した所定の点を基準点としたとき、前記反射型スクリーンは、前記基準点の近くに位置する第１領域と、前記基準点から遠くに位置する第２領域とに区分され、前記第１領域には、前記複数の凹面として、略球面状の内面を有する複数の第１凹面が形成され、前記第２領域には、前記複数の凹面として、略円柱状の内面と、当該略円柱状の内面の両端部に形成された略球面状の内面とを有する第２凹面であって、当該第２凹面から前記基準点への方向と当該第２凹面の長軸方向とが略一致する複数の第２凹面が形成されていることを特徴とする。
【０００８】
このため、本発明の反射型スクリーンによれば、基準点から遠くに位置する第２領域には、略円柱状の内面と、当該略円柱状の内面の両端部に形成された略球面状の内面とを有する第２凹面であって、当該第２凹面から基準点への方向と当該第２凹面の長軸方向とが略一致する第２凹面が形成されているため、後述する実施形態に示すように、近接投射型プロジェクターからの位置が遠い第２凹面について当該第２凹面の縁を高くしても、第２凹面の縁同士の間隔を広げることで当該第２凹面のうち近接投射型プロジェクター側の第２凹面の縁により光が遮られることを抑制し、当該第２凹面に光を入射させることが可能となり、その結果、投写画像の明るさを従来の反射型スクリーンよりも均一にすることが可能となる。
【０００９】
また、本発明の反射型スクリーンによれば、従来の反射型スクリーンと同様に複数の凹面が形成されているため、近接投写型プロジェクターから斜めに入射する光を使用者に向けて反射することが可能となり、その結果、近接投射型プロジェクターとともに用いるのに適する反射型スクリーンとすることができる。
【００１０】
［２］本発明の反射型スクリーンにおいては、前記凹面における一部の領域には、前記近接投射型プロジェクターからの光を反射する反射層が形成されていることが好ましい。
【００１１】
このような構成とすることにより、近接投射型プロジェクターからの光をより多く反射することが可能となり、その結果、明るい投写画像を表示することが可能となる。
なお、反射層は、凹面の形状、近接投射型プロジェクターの種類、使用者の位置等種々の要素を考慮し、近接投射型プロジェクターからの光を使用者へ向けて反射可能な領域に形成される。
【００１２】
［３］本発明の反射型スクリーンにおいては、前記複数の凹面は、前記基準点から遠い位置に形成されている前記第２凹面ほど、前記略円柱状の内面の長さが長くなるように形成されていることが好ましい。
【００１３】
基準点から遠い第２凹面ほど当該第２凹面のうち近接投射型プロジェクター側の第２凹面の縁により光が遮られやすいため、このような構成とすることにより、いずれの位置の第２凹面においても近接投射型プロジェクター側の第２凹面の縁により光が遮られることを抑制し、当該第２凹面に光を入射させることが可能となり、その結果、投写画像の明るさを一層均一にすることが可能となる。
【００１４】
［４］本発明の反射型スクリーンにおいては、前記複数の凹面は、前記基準点から遠い位置に形成されている前記凹面ほど、基準点方向に隣接する他の凹面との距離が大きくなるように形成されていることが好ましい。
【００１５】
このような構成とすることにより、基準点から遠い位置に形成されている凹面ほど当該凹面が形成される領域を大きくとり、凹面の縁を高くすることが可能となり、その結果、近接投射型プロジェクターからの光を使用者に向けて正しく反射することが可能となる。
【００１６】
［５］本発明の反射型スクリーンにおいては、前記複数の凹面は、前記基準点を中心として略同心円状に形成され、前記基準点を中心とし、所定の半径を有する円を基準円としたとき、前記第１領域は、前記反射型スクリーンにおける前記基準円の内側の領域であり、前記第２領域は、前記反射型スクリーンにおける前記基準円の外側の領域であることが好ましい。
【００１７】
このような構成とすることにより、同心円に沿って同様の形状を有する凹面同士が隣接することとなるため、同心円に沿って隣接する凹面間で反射の様子が同様となり、より一層自然な投写画像を表示することが可能となる。
【００１８】
［６］本発明の反射型スクリーンの製造方法は、転写板の基となる転写板基板を準備する転写板基板準備工程と、前記転写板基板の表面に、前記第１凹面に対応する円形状の第１孔と、前記第２凹面に対応する細長形状の第２孔とを有するマスク層を形成するマスク層形成工程と、エッチングにより前記転写板基板に前記第１凹面及び前記第２凹面に対応する凹面を形成して前記転写板を製造する転写板製造工程と、転写により、前記転写板から前記第１凹面及び前記第２凹面に対応する凸面を有する成形型を製造する成形型製造工程と、転写により、前記成形型から前記反射型スクリーンの基となるスクリーン基板に前記第１凹面及び前記第２凹面を形成する凹面形成工程とをこの順序で含むことを特徴とする。
【００１９】
このような方法とすることにより、本発明の反射型スクリーンを高い生産性で製造することが可能となる。
【００２０】
［７］本発明の反射型スクリーンの製造方法は、反射型スクリーンの基となるスクリーン基板を用意するスクリーン基板準備工程と、前記スクリーン基板の表面に、前記第１凹面に対応する円形状の第１孔と、前記第２凹面に対応する細長形状の第２孔とを有するマスク層を形成するマスク層形成工程と、エッチングにより前記スクリーン基板に前記第１凹面及び前記第２凹面を形成する凹面形成工程とをこの順序で含むことを特徴とする。
【００２１】
このような方法とすることにより、本発明の反射型スクリーンを短い工程で製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】実施形態に係る反射型スクリーン１を説明するために示す図。
【図２】実施形態における第１凹面２０ａを説明するために示す図。
【図３】実施形態における第２凹面３０ｃを説明するために示す図。
【図４】実施形態における複数の凹面を説明するために示す図。
【図５】比較例における複数の凹面を説明するために示す図。
【図６】実施形態に係る反射型スクリーンの製造方法を説明するために示す図。
【図７】実施形態に係る反射型スクリーンの製造方法を説明するために示す図。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明の照明装置及びプロジェクターについて、図に示す実施の形態に基づいて説明する。
【００２４】
［実施形態］
１．実施形態に係る反射型スクリーン１の構成
図１は、実施形態に係る反射型スクリーン１を説明するために示す図である。図１（ａ）は反射型スクリーン１の正面図であり、図１（ｂ）は反射型スクリーン１の中央部における縦断面図である。なお、図１においては、複数の凹面の形状をわかりやすくするために反射層の表示を省略する。
図２は、実施形態における第１凹面２０ａを説明するために示す図である。図２（ａ）は第１凹面２０ａの拡大正面図であり、図２（ｂ）は図１（ｂ）におけるＡ１の範囲を拡大して示す図である。
図３は、実施形態における第２凹面３０ｃを説明するために示す図である。図３（ａ）は第２凹面３０ｃの拡大正面図であり、図３（ｂ）は図１（ｂ）におけるＡ２の範囲を拡大して示す図である。
なお、図１〜図３並びに後述する図５（ａ）、図６及び図７においては、説明を簡単にするために、反射型スクリーン１に比して凹面を大きく表示し、また、複数の凹面の数を減らして表示する。
また、図１並びに後述する図５（ａ）、図６及び図７においては、複数の凹面（第１凹面、第２凹面を含む）のうち、反射型スクリーンの中央に位置する凹面にのみ符号を表示する。
【００２５】
実施形態１に係る反射型スクリーン１は、図１に示すように、スクリーン本体１０の投写面側に複数の凹面が形成され、近接投写型プロジェクターとともに用いる反射型スクリーンである。図１において符号Ｐで示すのは、反射型スクリーン１における基準点である。当該基準点Ｐは、投写面を含む基準平面における、反射型スクリーン１の中心から近接投写型プロジェクターを配置する側に偏倚した所定の点であり、具体的には、近接投射型プロジェクター５００（後述）が光を射出する点（近接投射型プロジェクター５００における投写光学系５１０の中心点）から基準平面への垂線と基準平面との交点と一致する。このようにすることにより、近接投射型プロジェクター５００からの光が第２凹面に入射する方向と第２凹面の長手方向とを略一致させることが可能となる。
【００２６】
反射型スクリーン１は、使用者が投写面の略正面から投写画像を見ることを想定し、近接投射型プロジェクター５００からの光を略正面に向けて反射する（後述する図４参照。）。
スクリーン本体１０は、例えば、黒色の塩化ビニル系樹脂からなる。
【００２７】
複数の凹面は、図１（ａ）に示すように、基準点Ｐを中心として同心円状に形成されている。
複数の凹面は、基準点Ｐから遠い位置に形成されている凹面ほど、基準点方向に隣接する他の凹面との距離が大きくなるように形成されている。つまり、反射型スクリーン１の中央に位置する第１凹面２０ａ，２０ｂ，２０ｃ（それぞれ後述）においては、第１凹面２０ａと第１凹面２０ｂとの距離よりも第１凹面２０ｂと第１凹面２０ｃとの距離が大きく、他の凹面においても同様の関係が成立する。このため、基準点Ｐからの位置が遠い凹面ほど、つまり、近接投射型プロジェクターからの位置が遠い凹面ほど、当該凹面の縁が高くなる（後述する図４参照。）。
円周方向に隣接する凹面の中心間の距離は、例えば、０．１８ｍｍである。径方向に隣接する凹面の中心間の距離は、基準点Ｐから距離が遠い位置にある凹面同士であるほど大きくなるが、例えば、０．２５ｍｍ〜０．８ｍｍである。
【００２８】
反射型スクリーン１は、基準点の近くに位置する第１領域Ｒ１と、基準点から遠くに位置する第２領域Ｒ２とに区分されている。具体的には、図１（ａ）に示すように、基準点を中心とし、所定の半径を有する円を基準円Ｃとしたとき、第１領域Ｒ１は、反射型スクリーン１における基準円Ｃの内側の領域であり、第２領域Ｒ２は、反射型スクリーン１における基準円Ｃの外側の領域である。
【００２９】
第１領域Ｒ１には、複数の凹面として、略球面状の内面を有する複数の第１凹面が形成されている。
以下、第１凹面２０ａを例として第１凹面の構成を説明する。
第１凹面２０ａは、図２に示すように、略球面状の内面２２ａを有する。略球面状の内面２２ａは、例えば、直径０．４ｍｍの球における表面に相当する面からなる。
第１凹面２０ａにおける一部の領域には、近接投射型プロジェクター５００からの光を略正面方向に向かって反射する反射層２８ａが形成されている。反射層２８ａが形成されている領域は、近接投射型プロジェクター５００からの光が入射する領域（第１凹面２０ａにおける、近接投射型プロジェクター５００とは反対側の縁近傍の領域）である。
反射層２８ａは、例えば、アルミニウムの薄膜からなる。
【００３０】
以上が第１凹面２０ａの構成であり、２０ｂ、２０ｃ等他の第１凹面も基本的に同様の構成を有する。
【００３１】
第２領域Ｒ２には、複数の凹面として、基準点Ｐを通過する軸を有する略円柱状の内面と、当該略円柱状の内面の両端部に形成された略球面状の内面とを有する複数の第２凹面が形成されている。
以下、第２凹面３０ｃを例として第２凹面の構成を説明する。
第２凹面３０ｃは、図３に示すように、略円柱状の内面３２ｃと、当該略円柱状の内面３２ｃの両端部に形成された略球面状の内面３４ｃ，３６ｃとを有する。略円柱状の内面３２ｃは、例えば、高さ０．４ｍｍ、底面の直径０．４ｍｍの円柱における表面に相当する面からなる。また、略球面状の内面３４ｃ，３６ｃは、例えば、直径０．４ｍｍの球における表面に相当する面からなる。
【００３２】
図３（ａ）において符号Ｌで示すのは略円柱状の内面３２ｃの長さである。略円柱状の内面３２ｃの長さＬは、例えば、０．４ｍｍである。
第２凹面３０ｃは、図１に示すように、当該第２凹面３０ｃから基準点Ｐへの方向と当該第２凹面３０ｃの長軸方向（第２凹面３０ｃの軸３０ｃａｘ（図３（ａ）参照。）に沿う方向）とが略一致するように形成されている。
第２凹面３０ｃにおける一部の領域には、近接投射型プロジェクター５００からの光を反射する反射層３８ｃが形成されている。反射層３８ａが形成されている領域は、近接投射型プロジェクター５００からの光が入射する領域である。反射層３８ｃは、第２凹面３０ｃにおいては、略球面状の内面３４ｃ（第２凹面３０ｃにおける、近接投射型プロジェクター５００とは反対側の縁近傍の領域）に形成されている。
反射層３８ｃは、例えば、アルミニウムの薄膜からなる。
【００３３】
以上が第２凹面３０ｃの構成であり、３０ａ、３０ｂ等他の第２凹面も基本的に同様の構成を有するが、基準点Ｐからの距離によって円柱状凹面の長さが異なる。すなわち、基準点Ｐから遠い位置に形成されている第２凹面ほど、略円柱状の内面の長さが長くなるように形成されている。つまり、反射型スクリーン１の中央に位置する第２凹面３０ａ，３０ｂ，３０ｃにおいては、図１（ａ）に示すように、３０ａ，３０ｂ，３０ｃの順番で略円柱状の内面の長さが長くなる。なお、基準点Ｐから遠い位置に形成されている第２凹面ほど、基準点方向に隣接する他の凹面との距離が大きくなるように形成されているため、略円柱状の内面の長さが長くなっても第２凹面の縁の高さが低くなってしまうこともない。
【００３４】
近接投射型プロジェクター５００は、反射型スクリーン１に対して投写画像を投写するプロジェクターである。近接投射型プロジェクター５００は、投写光学系５１０から斜めに光を射出する。
【００３５】
２．実施形態における複数の凹面
ここで、実施形態における複数の凹面について、図４及び図５を用いて詳しく説明する。
図４は、実施形態における複数の凹面を説明するために示す図である。図４（ａ）は反射型スクリーン１が近接投射型プロジェクター５００からの光を反射する様子を示す縦断面図であり、図４（ｂ）は図４（ａ）におけるＡ３の範囲を拡大して示す図であり、図４（ｃ）は図４（ａ）におけるＡ４の範囲を拡大して示す図である。
図５は、比較例における複数の凹面を説明するために示す図である。図５（ａ）は比較例に係る反射型スクリーン１ａの正面図であり、図５（ｂ）は反射型スクリーン１ａが近接投射型プロジェクター５００からの光を反射する様子を示す縦断面図であり、図５（ｃ）は図５（ｂ）におけるＡ５の範囲を拡大して示す図であり、図５（ｄ）は図５（ｂ）におけるＡ６の範囲を拡大して示す図である。
【００３６】
比較例に係る反射型スクリーン１ａは、基本的には実施形態に係る反射型スクリーン１と同様の構成を有するが、複数の凹面の構成が実施形態に係る反射型スクリーン１の場合とは異なる。すなわち、比較例に係る反射型スクリーン１ａにおける複数の凹面は、図５（ａ）に示すように、全て略球形状をしている。
【００３７】
実施形態に係る反射型スクリーン１及び比較例に係る反射型スクリーン１ａにおいては、図４及び図５に示すように、近接投射型プロジェクター５００からの位置が遠い凹面ほど当該凹面の縁が高くなっている。
反射型スクリーン１及び反射型スクリーン１ａのいずれにおいても、投写面のうち近接投射型プロジェクター５００から近い位置では当該近接投射型プロジェクター５００からの光の入射角度が小さく、また、凹面の縁が低いため、図４（ｂ）及び図５（ｃ）に示すように、当該凹面のうち近接投射型プロジェクター５００側の凹面の縁に遮られることなく当該凹面に光が入射する。
【００３８】
一方、比較例に係る反射型スクリーン１ａにおいては、投写面のうち近接投射型プロジェクター５００から遠い位置では凹面の縁が高くなっているため、図５（ｄ）に示すように、当該凹面のうち近接投射型プロジェクター５００側の凹面の縁に光が遮られ、当該凹面に光が入射しない。
【００３９】
これに対して、実施形態に係る反射型スクリーン１においては、投写面のうち近接投射型プロジェクター５００から遠い第２領域Ｒ２には第２凹面が形成されており、図４（ｃ）に示すように、第２凹面の縁を高くしても、第２凹面の縁同士の間隔を広げることで当該第２凹面のうち近接投射型プロジェクター側の第２凹面の縁により光が遮られることを抑制し、当該第２凹面に光を入射させることが可能となる。
【００４０】
３．実施形態に係る反射型スクリーンの製造方法
図６及び図７は、実施形態に係る反射型スクリーンの製造方法を説明するために示す図である。図６（ａ）〜図６（ｄ）及び図７（ａ）〜図７（ｄ）は各工程図である。
【００４１】
（１）転写板基板準備工程
転写板基板準備工程は、図６（ａ）に示すように、転写板の基となる転写板基板１００を準備する工程である。転写板基板１００は、例えば板状のガラスからなる。
【００４２】
（２）マスク層形成工程
マスク層形成工程は、転写板基板１００の表面に、第１凹面に対応する円形状の第１孔（１２０ａ、１２０ｂ、１２０ｃその他）と、第２凹面に対応する細長形状の第２孔（１３０ａ、１３０ｂ、１３０ｃその他）とを有するマスク層を形成する工程である。
まず、図６（ｂ）に示すように、転写板基板１００の表面を薄膜１１０で覆う。薄膜１１０は、例えば、クロムからなる。
その後に、図６（ｃ）に示すように、複数の第１孔及び複数の第２孔を形成する。複数の第１孔及び複数の第２孔は、基準点から遠い位置に形成されている孔ほど、基準点方向に隣接する他の孔との距離が大きくなるように形成されている。第１孔は、例えば、レーザー発振器からのレーザーを走査しないで照射することにより形成することができる。また、第２孔は、例えば、レーザー発振器からのレーザーを走査しながら照射することにより形成することができる。第２孔の長さは、第２凹面における略円柱状の内面の長さと対応するため、基準点から遠い第２孔ほど長さが長くなるように形成される。
【００４３】
（３）転写板製造工程
転写板製造工程は、図６（ｄ）に示すように、エッチングにより転写板基板１００に第１凹面及び第２凹面に対応する凹面（１２２ａ、１２２ｂ、１２２ｃ、１３２ａ、１３２ｂ、１３２ｃその他）を形成して転写板１０２を製造する工程である。
【００４４】
（４）成形型製造工程
成形型製造工程は、図７（ａ）及び図７（ｂ）に示すように、転写により、転写板１０２から第１凹面及び第２凹面に対応する凸面（２２０ａ、２２０ｂ、２２０ｃ、２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃその他）を有する成形型２００を製造する工程である。転写は、転写板製造工程後の転写板１０２から、表面のマスク層１１０を除去した後に行われる。転写は、微細な凹面を写し取ることが可能な方法により行われ、例えば、電鋳により行うことができる。成形型２００は、例えば、ニッケルからなる。
【００４５】
（５）凹面形成工程
凹面形成工程は、図７（ｃ）及び図７（ｄ）に示すように、転写により、成形型２００から反射型スクリーン１の基となるスクリーン基板に第１凹面（２０ａ，２０ｂ，２０ｃその他）及び第２凹面（３０ａ，３０ｂ，３０ｃその他）を形成する工程である。この工程により、スクリーン本体１０を製造することができる。
【００４６】
（６）スクリーン製造工程
スクリーン製造工程は、凹面形成工程で製造したスクリーン本体１０から反射型スクリーン１を製造する工程である。図示は省略するが、スクリーン本体１０における各凹面に反射層を形成することにより、反射型スクリーン１を製造することができる。反射層は、例えば、アルミニウムを蒸着することにより形成することができる。
【００４７】
４．実施形態に係る反射型スクリーン１及び反射型スクリーンの製造方法の効果
以下、実施形態に係る反射型スクリーン１及び反射型スクリーンの製造方法の効果を説明する。
【００４８】
上記のように、実施形態に係る反射型スクリーン１によれば、基準点Ｐから遠くに位置する第２領域Ｒ２には、略円柱状の内面と、当該略円柱状の内面の両端部に形成された略球面状の内面とを有する第２凹面であって、当該第２凹面から基準点への方向と当該第２凹面の長軸方向とが略一致する第２凹面が形成されているため、近接投射型プロジェクター５００からの位置が遠い第２凹面について当該第２凹面の縁を高くしても、第２凹面の縁同士の間隔を広げることで当該第２凹面のうち近接投射型プロジェクター５００側の第２凹面の縁により光が遮られることを抑制し、当該第２凹面に光を入射させることが可能となり、その結果、投写画像の明るさを従来の反射型スクリーンよりも均一にすることが可能となる。
【００４９】
また、実施形態に係る反射型スクリーン１によれば、従来の反射型スクリーンと同様に複数の凹面が形成されているため、近接投写型プロジェクター５００から斜めに入射する光を使用者に向けて反射することが可能となり、その結果、近接投射型プロジェクターとともに用いるのに適する反射型スクリーンとすることができる。
【００５０】
また、実施形態に係る反射型スクリーン１によれば、凹面における一部の領域に反射層が形成されているため、近接投射型プロジェクター５００からの光をより多く反射することが可能となり、その結果、明るい投写画像を表示することが可能となる。
【００５１】
また、実施形態に係る反射型スクリーン１によれば、複数の凹面が、基準点Ｐから遠い位置に形成されている第２凹面ほど、略円柱状の内面の長さが長くなるように形成されているため、いずれの位置の第２凹面においても近接投射型プロジェクター５００側の第２凹面の縁により光が遮られることを抑制し、当該第２凹面に光を入射させることが可能となり、その結果、投写画像の明るさを一層均一にすることが可能となる。
【００５２】
また、実施形態に係る反射型スクリーン１によれば、複数の凹面が、基準点Ｐから遠い位置に形成されている凹面ほど、基準点Ｐ方向に隣接する他の凹面との距離が大きくなるように形成されているため、基準点Ｐから遠い位置に形成されている凹面ほど当該凹面が形成される領域を大きくとり、凹面の縁を高くすることが可能となり、その結果、近接投射型プロジェクター５００からの光を使用者に向けて正しく反射することが可能となる。
【００５３】
また、実施形態に係る反射型スクリーン１によれば、複数の凹面が、基準点Ｐを中心として略同心円状に形成され、第１領域Ｒ１は、反射型スクリーン１における基準円Ｃの内側の領域であり、第２領域Ｒ２は、反射型スクリーン１における基準円Ｃの外側の領域であるため、同心円に沿って同様の形状を有する凹面同士が隣接することから、同心円に沿って隣接する凹面間で反射の様子が同様となり、より一層自然な投写画像を表示することが可能となる。
【００５４】
実施形態に係る反射型スクリーンの製造方法は、転写板基板準備工程と、マスク層形成工程と、転写板製造工程と、成形型製造工程と、凹面形成工程とをこの順序で含むため、反射型スクリーン１を高い生産性で製造することが可能となる。
【００５５】
以上、本発明を上記の実施形態に基づいて説明したが、本発明は上記の実施形態に限定されるものではない。その趣旨を逸脱しない範囲において種々の様態において実施することが可能であり、例えば、次のような変形も可能である。
【００５６】
（１）上記実施形態において示した各要素の寸法、形状、位置は例示であり、本発明はこれに限定されるものではない。本発明の趣旨を逸脱しない範囲において任意に決定することができる。
【００５７】
（２）上記実施形態において示したスクリーン本体１０、反射層２８ａ，３８ｃ等の材質は例示であり、本発明はこれに限定されるものではない。本発明の趣旨を逸脱しない範囲において任意に決定することができる。
【００５８】
（３）上記実施形態においては、転写板基板準備工程と、マスク層形成工程と、転写板製造工程と、成形型製造工程と、凹面形成工程とをこの順序で含む反射型スクリーンの製造方法により反射型スクリーン１を製造したが、本発明はこれに限定されるものではない。反射型スクリーンの基となるスクリーン基板を用意するスクリーン基板準備工程と、スクリーン基板の表面に、第１凹面に対応する円形状の第１孔と、第２凹面に対応する細長形状の第２孔とを有するマスク層を形成するマスク層形成工程と、エッチングによりスクリーン基板に第１凹面及び第２凹面を形成する凹面形成工程とをこの順序で含む反射型スクリーンの製造方法により反射型スクリーンを製造してもよい。また、上記実施形態における転写板１０２に反射層を形成し、反射型スクリーンとすることもできる。このような方法とすることにより、本発明の反射型スクリーンを短い工程で製造することが可能となる。
【符号の説明】
【００５９】
１，１ａ…反射型スクリーン、１０，１１…スクリーン本体、２０ａ，２０ｂ，２０ｃ…第１凹面、２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄ，２１ｅ，２１ｆ…凹面、２２ａ…（第１凹面の）略球面状の内面、２８ａ，２８ｆ，３８ｃ…反射層、３０ａ，３０ｂ，３０ｃ…第２凹面、３０ｃａｘ…第２凹面の軸、３２ｃ…略円柱状の内面、３４ｃ，３６ｃ…（第２凹面の）略球面状の内面、１００…転写板基板、１０２…転写板、１１０…マスク層、１２０ａ，１２０ｂ，１２０ｃ…第１孔、１２２ａ，１２２ｂ，１２２ｃ…第１凹面に対応する凹面、１３０ａ，１３０ｂ，１３０ｃ…第２孔、１３２ａ，１３２ｂ，１３２ｃ…第２凹面に対応する凹面、２００…成形型、２２０ａ，２２０ｂ，２２０ｃ…第１凹面に対応する凸面、２３０ａ，２３０ｂ，２３０ｃ…第２凹面に対応する凸面、５００…近接投射型プロジェクター、５１０…投写光学系、Ｃ…基準円、Ｐ…基準点、Ｒ１…第１領域、Ｒ２…第２領域
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射型スクリーン及び反射型スクリーンの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、球面状の内面を有する複数の凹面が投写面側に形成され、近接投写型プロジェクターとともに用いる反射型スクリーンが知られている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
従来の反射型スクリーンによれば、球面状の内面を有する複数の凹面が形成されているため、近接投写型プロジェクターから斜めに入射する光を使用者に向けて反射することが可能となり、その結果、近接投射型プロジェクターとともに用いるのに適する反射型スクリーンとすることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−１９２８７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、投写面のうち近接投射型プロジェクターから遠い位置では当該近接投射型プロジェクターからの光の入射角度が大きくなることから、当該光を使用者に向けて正しく反射するためには、近接投射型プロジェクターからの位置が遠い凹面ほど当該凹面の縁を高くする必要がある。しかしながら、従来の反射型スクリーンにおいては、近接投射型プロジェクターからの位置が遠い凹面について当該凹面の縁を高くすると、当該凹面のうち近接投射型プロジェクター側の凹面の縁に光が遮られ、当該凹面に光が入射しないことがある。このため、従来の反射型スクリーンにおいては、投写面のうち近接投射型プロジェクターから遠い位置における投写画像が暗くなってしまうため、投写画像の明るさが不均一になってしまうことがあるという問題がある。
【０００６】
そこで、本発明は上記の問題を解決するためになされたもので、近接投射型プロジェクターとともに用いるのに適する反射型スクリーンとすることが可能であり、かつ、投写画像の明るさを従来の反射型スクリーンよりも均一にすることが可能な反射型スクリーンを提供することを目的とする。また、このような反射型スクリーンの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
［１］本発明の反射型スクリーンは、投写面側に複数の凹面が形成され、近接投写型プロジェクターとともに用いる反射型スクリーンであって、前記投写面を含む基準平面における、前記反射型スクリーンの中心から前記近接投写型プロジェクターを配置する側に偏倚した所定の点を基準点としたとき、前記反射型スクリーンは、前記基準点の近くに位置する第１領域と、前記基準点から遠くに位置する第２領域とに区分され、前記第１領域には、前記複数の凹面として、略球面状の内面を有する複数の第１凹面が形成され、前記第２領域には、前記複数の凹面として、略円柱状の内面と、当該略円柱状の内面の両端部に形成された略球面状の内面とを有する第２凹面であって、当該第２凹面から前記基準点への方向と当該第２凹面の長軸方向とが略一致する複数の第２凹面が形成されていることを特徴とする。
【０００８】
このため、本発明の反射型スクリーンによれば、基準点から遠くに位置する第２領域には、略円柱状の内面と、当該略円柱状の内面の両端部に形成された略球面状の内面とを有する第２凹面であって、当該第２凹面から基準点への方向と当該第２凹面の長軸方向とが略一致する第２凹面が形成されているため、後述する実施形態に示すように、近接投射型プロジェクターからの位置が遠い第２凹面について当該第２凹面の縁を高くしても、第２凹面の縁同士の間隔を広げることで当該第２凹面のうち近接投射型プロジェクター側の第２凹面の縁により光が遮られることを抑制し、当該第２凹面に光を入射させることが可能となり、その結果、投写画像の明るさを従来の反射型スクリーンよりも均一にすることが可能となる。
【０００９】
また、本発明の反射型スクリーンによれば、従来の反射型スクリーンと同様に複数の凹面が形成されているため、近接投写型プロジェクターから斜めに入射する光を使用者に向けて反射することが可能となり、その結果、近接投射型プロジェクターとともに用いるのに適する反射型スクリーンとすることができる。
【００１０】
［２］本発明の反射型スクリーンにおいては、前記凹面における一部の領域には、前記近接投射型プロジェクターからの光を反射する反射層が形成されていることが好ましい。
【００１１】
このような構成とすることにより、近接投射型プロジェクターからの光をより多く反射することが可能となり、その結果、明るい投写画像を表示することが可能となる。
なお、反射層は、凹面の形状、近接投射型プロジェクターの種類、使用者の位置等種々の要素を考慮し、近接投射型プロジェクターからの光を使用者へ向けて反射可能な領域に形成される。
【００１２】
［３］本発明の反射型スクリーンにおいては、前記複数の凹面は、前記基準点から遠い位置に形成されている前記第２凹面ほど、前記略円柱状の内面の長さが長くなるように形成されていることが好ましい。
【００１３】
基準点から遠い第２凹面ほど当該第２凹面のうち近接投射型プロジェクター側の第２凹面の縁により光が遮られやすいため、このような構成とすることにより、いずれの位置の第２凹面においても近接投射型プロジェクター側の第２凹面の縁により光が遮られることを抑制し、当該第２凹面に光を入射させることが可能となり、その結果、投写画像の明るさを一層均一にすることが可能となる。
【００１４】
［４］本発明の反射型スクリーンにおいては、前記複数の凹面は、前記基準点から遠い位置に形成されている前記凹面ほど、基準点方向に隣接する他の凹面との距離が大きくなるように形成されていることが好ましい。
【００１５】
このような構成とすることにより、基準点から遠い位置に形成されている凹面ほど当該凹面が形成される領域を大きくとり、凹面の縁を高くすることが可能となり、その結果、近接投射型プロジェクターからの光を使用者に向けて正しく反射することが可能となる。
【００１６】
［５］本発明の反射型スクリーンにおいては、前記複数の凹面は、前記基準点を中心として略同心円状に形成され、前記基準点を中心とし、所定の半径を有する円を基準円としたとき、前記第１領域は、前記反射型スクリーンにおける前記基準円の内側の領域であり、前記第２領域は、前記反射型スクリーンにおける前記基準円の外側の領域であることが好ましい。
【００１７】
このような構成とすることにより、同心円に沿って同様の形状を有する凹面同士が隣接することとなるため、同心円に沿って隣接する凹面間で反射の様子が同様となり、より一層自然な投写画像を表示することが可能となる。
【００１８】
［６］本発明の反射型スクリーンの製造方法は、転写板の基となる転写板基板を準備する転写板基板準備工程と、前記転写板基板の表面に、前記第１凹面に対応する円形状の第１孔と、前記第２凹面に対応する細長形状の第２孔とを有するマスク層を形成するマスク層形成工程と、エッチングにより前記転写板基板に前記第１凹面及び前記第２凹面に対応する凹面を形成して前記転写板を製造する転写板製造工程と、転写により、前記転写板から前記第１凹面及び前記第２凹面に対応する凸面を有する成形型を製造する成形型製造工程と、転写により、前記成形型から前記反射型スクリーンの基となるスクリーン基板に前記第１凹面及び前記第２凹面を形成する凹面形成工程とをこの順序で含むことを特徴とする。
【００１９】
このような方法とすることにより、本発明の反射型スクリーンを高い生産性で製造することが可能となる。
【００２０】
［７］本発明の反射型スクリーンの製造方法は、反射型スクリーンの基となるスクリーン基板を用意するスクリーン基板準備工程と、前記スクリーン基板の表面に、前記第１凹面に対応する円形状の第１孔と、前記第２凹面に対応する細長形状の第２孔とを有するマスク層を形成するマスク層形成工程と、エッチングにより前記スクリーン基板に前記第１凹面及び前記第２凹面を形成する凹面形成工程とをこの順序で含むことを特徴とする。
【００２１】
このような方法とすることにより、本発明の反射型スクリーンを短い工程で製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】実施形態に係る反射型スクリーン１を説明するために示す図。
【図２】実施形態における第１凹面２０ａを説明するために示す図。
【図３】実施形態における第２凹面３０ｃを説明するために示す図。
【図４】実施形態における複数の凹面を説明するために示す図。
【図５】比較例における複数の凹面を説明するために示す図。
【図６】実施形態に係る反射型スクリーンの製造方法を説明するために示す図。
【図７】実施形態に係る反射型スクリーンの製造方法を説明するために示す図。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明の照明装置及びプロジェクターについて、図に示す実施の形態に基づいて説明する。
【００２４】
［実施形態］
１．実施形態に係る反射型スクリーン１の構成
図１は、実施形態に係る反射型スクリーン１を説明するために示す図である。図１（ａ）は反射型スクリーン１の正面図であり、図１（ｂ）は反射型スクリーン１の中央部における縦断面図である。なお、図１においては、複数の凹面の形状をわかりやすくするために反射層の表示を省略する。
図２は、実施形態における第１凹面２０ａを説明するために示す図である。図２（ａ）は第１凹面２０ａの拡大正面図であり、図２（ｂ）は図１（ｂ）におけるＡ１の範囲を拡大して示す図である。
図３は、実施形態における第２凹面３０ｃを説明するために示す図である。図３（ａ）は第２凹面３０ｃの拡大正面図であり、図３（ｂ）は図１（ｂ）におけるＡ２の範囲を拡大して示す図である。
なお、図１〜図３並びに後述する図５（ａ）、図６及び図７においては、説明を簡単にするために、反射型スクリーン１に比して凹面を大きく表示し、また、複数の凹面の数を減らして表示する。
また、図１並びに後述する図５（ａ）、図６及び図７においては、複数の凹面（第１凹面、第２凹面を含む）のうち、反射型スクリーンの中央に位置する凹面にのみ符号を表示する。
【００２５】
実施形態１に係る反射型スクリーン１は、図１に示すように、スクリーン本体１０の投写面側に複数の凹面が形成され、近接投写型プロジェクターとともに用いる反射型スクリーンである。図１において符号Ｐで示すのは、反射型スクリーン１における基準点である。当該基準点Ｐは、投写面を含む基準平面における、反射型スクリーン１の中心から近接投写型プロジェクターを配置する側に偏倚した所定の点であり、具体的には、近接投射型プロジェクター５００（後述）が光を射出する点（近接投射型プロジェクター５００における投写光学系５１０の中心点）から基準平面への垂線と基準平面との交点と一致する。このようにすることにより、近接投射型プロジェクター５００からの光が第２凹面に入射する方向と第２凹面の長手方向とを略一致させることが可能となる。
【００２６】
反射型スクリーン１は、使用者が投写面の略正面から投写画像を見ることを想定し、近接投射型プロジェクター５００からの光を略正面に向けて反射する（後述する図４参照。）。
スクリーン本体１０は、例えば、黒色の塩化ビニル系樹脂からなる。
【００２７】
複数の凹面は、図１（ａ）に示すように、基準点Ｐを中心として同心円状に形成されている。
複数の凹面は、基準点Ｐから遠い位置に形成されている凹面ほど、基準点方向に隣接する他の凹面との距離が大きくなるように形成されている。つまり、反射型スクリーン１の中央に位置する第１凹面２０ａ，２０ｂ，２０ｃ（それぞれ後述）においては、第１凹面２０ａと第１凹面２０ｂとの距離よりも第１凹面２０ｂと第１凹面２０ｃとの距離が大きく、他の凹面においても同様の関係が成立する。このため、基準点Ｐからの位置が遠い凹面ほど、つまり、近接投射型プロジェクターからの位置が遠い凹面ほど、当該凹面の縁が高くなる（後述する図４参照。）。
円周方向に隣接する凹面の中心間の距離は、例えば、０．１８ｍｍである。径方向に隣接する凹面の中心間の距離は、基準点Ｐから距離が遠い位置にある凹面同士であるほど大きくなるが、例えば、０．２５ｍｍ〜０．８ｍｍである。
【００２８】
反射型スクリーン１は、基準点の近くに位置する第１領域Ｒ１と、基準点から遠くに位置する第２領域Ｒ２とに区分されている。具体的には、図１（ａ）に示すように、基準点を中心とし、所定の半径を有する円を基準円Ｃとしたとき、第１領域Ｒ１は、反射型スクリーン１における基準円Ｃの内側の領域であり、第２領域Ｒ２は、反射型スクリーン１における基準円Ｃの外側の領域である。
【００２９】
第１領域Ｒ１には、複数の凹面として、略球面状の内面を有する複数の第１凹面が形成されている。
以下、第１凹面２０ａを例として第１凹面の構成を説明する。
第１凹面２０ａは、図２に示すように、略球面状の内面２２ａを有する。略球面状の内面２２ａは、例えば、直径０．４ｍｍの球における表面に相当する面からなる。
第１凹面２０ａにおける一部の領域には、近接投射型プロジェクター５００からの光を略正面方向に向かって反射する反射層２８ａが形成されている。反射層２８ａが形成されている領域は、近接投射型プロジェクター５００からの光が入射する領域（第１凹面２０ａにおける、近接投射型プロジェクター５００とは反対側の縁近傍の領域）である。
反射層２８ａは、例えば、アルミニウムの薄膜からなる。
【００３０】
以上が第１凹面２０ａの構成であり、２０ｂ、２０ｃ等他の第１凹面も基本的に同様の構成を有する。
【００３１】
第２領域Ｒ２には、複数の凹面として、基準点Ｐを通過する軸を有する略円柱状の内面と、当該略円柱状の内面の両端部に形成された略球面状の内面とを有する複数の第２凹面が形成されている。
以下、第２凹面３０ｃを例として第２凹面の構成を説明する。
第２凹面３０ｃは、図３に示すように、略円柱状の内面３２ｃと、当該略円柱状の内面３２ｃの両端部に形成された略球面状の内面３４ｃ，３６ｃとを有する。略円柱状の内面３２ｃは、例えば、高さ０．４ｍｍ、底面の直径０．４ｍｍの円柱における表面に相当する面からなる。また、略球面状の内面３４ｃ，３６ｃは、例えば、直径０．４ｍｍの球における表面に相当する面からなる。
【００３２】
図３（ａ）において符号Ｌで示すのは略円柱状の内面３２ｃの長さである。略円柱状の内面３２ｃの長さＬは、例えば、０．４ｍｍである。
第２凹面３０ｃは、図１に示すように、当該第２凹面３０ｃから基準点Ｐへの方向と当該第２凹面３０ｃの長軸方向（第２凹面３０ｃの軸３０ｃａｘ（図３（ａ）参照。）に沿う方向）とが略一致するように形成されている。
第２凹面３０ｃにおける一部の領域には、近接投射型プロジェクター５００からの光を反射する反射層３８ｃが形成されている。反射層３８ａが形成されている領域は、近接投射型プロジェクター５００からの光が入射する領域である。反射層３８ｃは、第２凹面３０ｃにおいては、略球面状の内面３４ｃ（第２凹面３０ｃにおける、近接投射型プロジェクター５００とは反対側の縁近傍の領域）に形成されている。
反射層３８ｃは、例えば、アルミニウムの薄膜からなる。
【００３３】
以上が第２凹面３０ｃの構成であり、３０ａ、３０ｂ等他の第２凹面も基本的に同様の構成を有するが、基準点Ｐからの距離によって円柱状凹面の長さが異なる。すなわち、基準点Ｐから遠い位置に形成されている第２凹面ほど、略円柱状の内面の長さが長くなるように形成されている。つまり、反射型スクリーン１の中央に位置する第２凹面３０ａ，３０ｂ，３０ｃにおいては、図１（ａ）に示すように、３０ａ，３０ｂ，３０ｃの順番で略円柱状の内面の長さが長くなる。なお、基準点Ｐから遠い位置に形成されている第２凹面ほど、基準点方向に隣接する他の凹面との距離が大きくなるように形成されているため、略円柱状の内面の長さが長くなっても第２凹面の縁の高さが低くなってしまうこともない。
【００３４】
近接投射型プロジェクター５００は、反射型スクリーン１に対して投写画像を投写するプロジェクターである。近接投射型プロジェクター５００は、投写光学系５１０から斜めに光を射出する。
【００３５】
２．実施形態における複数の凹面
ここで、実施形態における複数の凹面について、図４及び図５を用いて詳しく説明する。
図４は、実施形態における複数の凹面を説明するために示す図である。図４（ａ）は反射型スクリーン１が近接投射型プロジェクター５００からの光を反射する様子を示す縦断面図であり、図４（ｂ）は図４（ａ）におけるＡ３の範囲を拡大して示す図であり、図４（ｃ）は図４（ａ）におけるＡ４の範囲を拡大して示す図である。
図５は、比較例における複数の凹面を説明するために示す図である。図５（ａ）は比較例に係る反射型スクリーン１ａの正面図であり、図５（ｂ）は反射型スクリーン１ａが近接投射型プロジェクター５００からの光を反射する様子を示す縦断面図であり、図５（ｃ）は図５（ｂ）におけるＡ５の範囲を拡大して示す図であり、図５（ｄ）は図５（ｂ）におけるＡ６の範囲を拡大して示す図である。
【００３６】
比較例に係る反射型スクリーン１ａは、基本的には実施形態に係る反射型スクリーン１と同様の構成を有するが、複数の凹面の構成が実施形態に係る反射型スクリーン１の場合とは異なる。すなわち、比較例に係る反射型スクリーン１ａにおける複数の凹面は、図５（ａ）に示すように、全て略球形状をしている。
【００３７】
実施形態に係る反射型スクリーン１及び比較例に係る反射型スクリーン１ａにおいては、図４及び図５に示すように、近接投射型プロジェクター５００からの位置が遠い凹面ほど当該凹面の縁が高くなっている。
反射型スクリーン１及び反射型スクリーン１ａのいずれにおいても、投写面のうち近接投射型プロジェクター５００から近い位置では当該近接投射型プロジェクター５００からの光の入射角度が小さく、また、凹面の縁が低いため、図４（ｂ）及び図５（ｃ）に示すように、当該凹面のうち近接投射型プロジェクター５００側の凹面の縁に遮られることなく当該凹面に光が入射する。
【００３８】
一方、比較例に係る反射型スクリーン１ａにおいては、投写面のうち近接投射型プロジェクター５００から遠い位置では凹面の縁が高くなっているため、図５（ｄ）に示すように、当該凹面のうち近接投射型プロジェクター５００側の凹面の縁に光が遮られ、当該凹面に光が入射しない。
【００３９】
これに対して、実施形態に係る反射型スクリーン１においては、投写面のうち近接投射型プロジェクター５００から遠い第２領域Ｒ２には第２凹面が形成されており、図４（ｃ）に示すように、第２凹面の縁を高くしても、第２凹面の縁同士の間隔を広げることで当該第２凹面のうち近接投射型プロジェクター側の第２凹面の縁により光が遮られることを抑制し、当該第２凹面に光を入射させることが可能となる。
【００４０】
３．実施形態に係る反射型スクリーンの製造方法
図６及び図７は、実施形態に係る反射型スクリーンの製造方法を説明するために示す図である。図６（ａ）〜図６（ｄ）及び図７（ａ）〜図７（ｄ）は各工程図である。
【００４１】
（１）転写板基板準備工程
転写板基板準備工程は、図６（ａ）に示すように、転写板の基となる転写板基板１００を準備する工程である。転写板基板１００は、例えば板状のガラスからなる。
【００４２】
（２）マスク層形成工程
マスク層形成工程は、転写板基板１００の表面に、第１凹面に対応する円形状の第１孔（１２０ａ、１２０ｂ、１２０ｃその他）と、第２凹面に対応する細長形状の第２孔（１３０ａ、１３０ｂ、１３０ｃその他）とを有するマスク層を形成する工程である。
まず、図６（ｂ）に示すように、転写板基板１００の表面を薄膜１１０で覆う。薄膜１１０は、例えば、クロムからなる。
その後に、図６（ｃ）に示すように、複数の第１孔及び複数の第２孔を形成する。複数の第１孔及び複数の第２孔は、基準点から遠い位置に形成されている孔ほど、基準点方向に隣接する他の孔との距離が大きくなるように形成されている。第１孔は、例えば、レーザー発振器からのレーザーを走査しないで照射することにより形成することができる。また、第２孔は、例えば、レーザー発振器からのレーザーを走査しながら照射することにより形成することができる。第２孔の長さは、第２凹面における略円柱状の内面の長さと対応するため、基準点から遠い第２孔ほど長さが長くなるように形成される。
【００４３】
（３）転写板製造工程
転写板製造工程は、図６（ｄ）に示すように、エッチングにより転写板基板１００に第１凹面及び第２凹面に対応する凹面（１２２ａ、１２２ｂ、１２２ｃ、１３２ａ、１３２ｂ、１３２ｃその他）を形成して転写板１０２を製造する工程である。
【００４４】
（４）成形型製造工程
成形型製造工程は、図７（ａ）及び図７（ｂ）に示すように、転写により、転写板１０２から第１凹面及び第２凹面に対応する凸面（２２０ａ、２２０ｂ、２２０ｃ、２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃその他）を有する成形型２００を製造する工程である。転写は、転写板製造工程後の転写板１０２から、表面のマスク層１１０を除去した後に行われる。転写は、微細な凹面を写し取ることが可能な方法により行われ、例えば、電鋳により行うことができる。成形型２００は、例えば、ニッケルからなる。
【００４５】
（５）凹面形成工程
凹面形成工程は、図７（ｃ）及び図７（ｄ）に示すように、転写により、成形型２００から反射型スクリーン１の基となるスクリーン基板に第１凹面（２０ａ，２０ｂ，２０ｃその他）及び第２凹面（３０ａ，３０ｂ，３０ｃその他）を形成する工程である。この工程により、スクリーン本体１０を製造することができる。
【００４６】
（６）スクリーン製造工程
スクリーン製造工程は、凹面形成工程で製造したスクリーン本体１０から反射型スクリーン１を製造する工程である。図示は省略するが、スクリーン本体１０における各凹面に反射層を形成することにより、反射型スクリーン１を製造することができる。反射層は、例えば、アルミニウムを蒸着することにより形成することができる。
【００４７】
４．実施形態に係る反射型スクリーン１及び反射型スクリーンの製造方法の効果
以下、実施形態に係る反射型スクリーン１及び反射型スクリーンの製造方法の効果を説明する。
【００４８】
上記のように、実施形態に係る反射型スクリーン１によれば、基準点Ｐから遠くに位置する第２領域Ｒ２には、略円柱状の内面と、当該略円柱状の内面の両端部に形成された略球面状の内面とを有する第２凹面であって、当該第２凹面から基準点への方向と当該第２凹面の長軸方向とが略一致する第２凹面が形成されているため、近接投射型プロジェクター５００からの位置が遠い第２凹面について当該第２凹面の縁を高くしても、第２凹面の縁同士の間隔を広げることで当該第２凹面のうち近接投射型プロジェクター５００側の第２凹面の縁により光が遮られることを抑制し、当該第２凹面に光を入射させることが可能となり、その結果、投写画像の明るさを従来の反射型スクリーンよりも均一にすることが可能となる。
【００４９】
また、実施形態に係る反射型スクリーン１によれば、従来の反射型スクリーンと同様に複数の凹面が形成されているため、近接投写型プロジェクター５００から斜めに入射する光を使用者に向けて反射することが可能となり、その結果、近接投射型プロジェクターとともに用いるのに適する反射型スクリーンとすることができる。
【００５０】
また、実施形態に係る反射型スクリーン１によれば、凹面における一部の領域に反射層が形成されているため、近接投射型プロジェクター５００からの光をより多く反射することが可能となり、その結果、明るい投写画像を表示することが可能となる。
【００５１】
また、実施形態に係る反射型スクリーン１によれば、複数の凹面が、基準点Ｐから遠い位置に形成されている第２凹面ほど、略円柱状の内面の長さが長くなるように形成されているため、いずれの位置の第２凹面においても近接投射型プロジェクター５００側の第２凹面の縁により光が遮られることを抑制し、当該第２凹面に光を入射させることが可能となり、その結果、投写画像の明るさを一層均一にすることが可能となる。
【００５２】
また、実施形態に係る反射型スクリーン１によれば、複数の凹面が、基準点Ｐから遠い位置に形成されている凹面ほど、基準点Ｐ方向に隣接する他の凹面との距離が大きくなるように形成されているため、基準点Ｐから遠い位置に形成されている凹面ほど当該凹面が形成される領域を大きくとり、凹面の縁を高くすることが可能となり、その結果、近接投射型プロジェクター５００からの光を使用者に向けて正しく反射することが可能となる。
【００５３】
また、実施形態に係る反射型スクリーン１によれば、複数の凹面が、基準点Ｐを中心として略同心円状に形成され、第１領域Ｒ１は、反射型スクリーン１における基準円Ｃの内側の領域であり、第２領域Ｒ２は、反射型スクリーン１における基準円Ｃの外側の領域であるため、同心円に沿って同様の形状を有する凹面同士が隣接することから、同心円に沿って隣接する凹面間で反射の様子が同様となり、より一層自然な投写画像を表示することが可能となる。
【００５４】
実施形態に係る反射型スクリーンの製造方法は、転写板基板準備工程と、マスク層形成工程と、転写板製造工程と、成形型製造工程と、凹面形成工程とをこの順序で含むため、反射型スクリーン１を高い生産性で製造することが可能となる。
【００５５】
以上、本発明を上記の実施形態に基づいて説明したが、本発明は上記の実施形態に限定されるものではない。その趣旨を逸脱しない範囲において種々の様態において実施することが可能であり、例えば、次のような変形も可能である。
【００５６】
（１）上記実施形態において示した各要素の寸法、形状、位置は例示であり、本発明はこれに限定されるものではない。本発明の趣旨を逸脱しない範囲において任意に決定することができる。
【００５７】
（２）上記実施形態において示したスクリーン本体１０、反射層２８ａ，３８ｃ等の材質は例示であり、本発明はこれに限定されるものではない。本発明の趣旨を逸脱しない範囲において任意に決定することができる。
【００５８】
（３）上記実施形態においては、転写板基板準備工程と、マスク層形成工程と、転写板製造工程と、成形型製造工程と、凹面形成工程とをこの順序で含む反射型スクリーンの製造方法により反射型スクリーン１を製造したが、本発明はこれに限定されるものではない。反射型スクリーンの基となるスクリーン基板を用意するスクリーン基板準備工程と、スクリーン基板の表面に、第１凹面に対応する円形状の第１孔と、第２凹面に対応する細長形状の第２孔とを有するマスク層を形成するマスク層形成工程と、エッチングによりスクリーン基板に第１凹面及び第２凹面を形成する凹面形成工程とをこの順序で含む反射型スクリーンの製造方法により反射型スクリーンを製造してもよい。また、上記実施形態における転写板１０２に反射層を形成し、反射型スクリーンとすることもできる。このような方法とすることにより、本発明の反射型スクリーンを短い工程で製造することが可能となる。
【符号の説明】
【００５９】
１，１ａ…反射型スクリーン、１０，１１…スクリーン本体、２０ａ，２０ｂ，２０ｃ…第１凹面、２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄ，２１ｅ，２１ｆ…凹面、２２ａ…（第１凹面の）略球面状の内面、２８ａ，２８ｆ，３８ｃ…反射層、３０ａ，３０ｂ，３０ｃ…第２凹面、３０ｃａｘ…第２凹面の軸、３２ｃ…略円柱状の内面、３４ｃ，３６ｃ…（第２凹面の）略球面状の内面、１００…転写板基板、１０２…転写板、１１０…マスク層、１２０ａ，１２０ｂ，１２０ｃ…第１孔、１２２ａ，１２２ｂ，１２２ｃ…第１凹面に対応する凹面、１３０ａ，１３０ｂ，１３０ｃ…第２孔、１３２ａ，１３２ｂ，１３２ｃ…第２凹面に対応する凹面、２００…成形型、２２０ａ，２２０ｂ，２２０ｃ…第１凹面に対応する凸面、２３０ａ，２３０ｂ，２３０ｃ…第２凹面に対応する凸面、５００…近接投射型プロジェクター、５１０…投写光学系、Ｃ…基準円、Ｐ…基準点、Ｒ１…第１領域、Ｒ２…第２領域
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投写面側に複数の凹面が形成され、近接投写型プロジェクターとともに用いる反射型スクリーンであって、
前記投写面を含む基準平面における、前記反射型スクリーンの中心から前記近接投写型プロジェクターを配置する側に偏倚した所定の点を基準点としたとき、
前記反射型スクリーンは、前記基準点の近くに位置する第１領域と、前記基準点から遠くに位置する第２領域とに区分され、
前記第１領域には、前記複数の凹面として、略球面状の内面を有する複数の第１凹面が形成され、
前記第２領域には、前記複数の凹面として、略円柱状の内面と、当該略円柱状の内面の両端部に形成された略球面状の内面とを有する第２凹面であって、当該第２凹面から前記基準点への方向と当該第２凹面の長軸方向とが略一致する複数の第２凹面が形成されていることを特徴とする反射型スクリーン。
【請求項２】
請求項１に記載の反射型スクリーンにおいて、
前記凹面における一部の領域には、前記近接投射型プロジェクターからの光を反射する反射層が形成されていることを特徴とする反射型スクリーン。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の反射型スクリーンにおいて、
前記複数の凹面は、前記基準点から遠い位置に形成されている前記第２凹面ほど、前記略円柱状の内面の長さが長くなるように形成されていることを特徴とする反射型スクリーン。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の反射型スクリーンにおいて、
前記複数の凹面は、前記基準点から遠い位置に形成されている前記凹面ほど、基準点方向に隣接する他の凹面との距離が大きくなるように形成されていることを特徴とする反射型スクリーン。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の反射型スクリーンにおいて、
前記複数の凹面は、前記基準点を中心として略同心円状に形成され、
前記基準点を中心とし、所定の半径を有する円を基準円としたとき、
前記第１領域は、前記反射型スクリーンにおける前記基準円の内側の領域であり、
前記第２領域は、前記反射型スクリーンにおける前記基準円の外側の領域であることを特徴とする反射型スクリーン。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の反射型スクリーンを製造するための反射型スクリーンの製造方法であって、
転写板の基となる転写板基板を準備する転写板基板準備工程と、
前記転写板基板の表面に、前記第１凹面に対応する円形状の第１孔と、前記第２凹面に対応する細長形状の第２孔とを有するマスク層を形成するマスク層形成工程と、
エッチングにより前記転写板基板に前記第１凹面及び前記第２凹面に対応する凹面を形成して前記転写板を製造する転写板製造工程と、
転写により、前記転写板から前記第１凹面及び前記第２凹面に対応する凸面を有する成形型を製造する成形型製造工程と、
転写により、前記成形型から前記反射型スクリーンの基となるスクリーン基板に前記第１凹面及び前記第２凹面を形成する凹面形成工程とをこの順序で含むことを特徴とする反射型スクリーンの製造方法。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれかに記載の反射型スクリーンを製造するための反射型スクリーンの製造方法であって、
反射型スクリーンの基となるスクリーン基板を用意するスクリーン基板準備工程と、
前記スクリーン基板の表面に、前記第１凹面に対応する円形状の第１孔と、前記第２凹面に対応する細長形状の第２孔とを有するマスク層を形成するマスク層形成工程と、
エッチングにより前記スクリーン基板に前記第１凹面及び前記第２凹面を形成する凹面形成工程とをこの順序で含むことを特徴とする反射型スクリーンの製造方法。
【請求項１】
投写面側に複数の凹面が形成され、近接投写型プロジェクターとともに用いる反射型スクリーンであって、
前記投写面を含む基準平面における、前記反射型スクリーンの中心から前記近接投写型プロジェクターを配置する側に偏倚した所定の点を基準点としたとき、
前記反射型スクリーンは、前記基準点の近くに位置する第１領域と、前記基準点から遠くに位置する第２領域とに区分され、
前記第１領域には、前記複数の凹面として、略球面状の内面を有する複数の第１凹面が形成され、
前記第２領域には、前記複数の凹面として、略円柱状の内面と、当該略円柱状の内面の両端部に形成された略球面状の内面とを有する第２凹面であって、当該第２凹面から前記基準点への方向と当該第２凹面の長軸方向とが略一致する複数の第２凹面が形成されていることを特徴とする反射型スクリーン。
【請求項２】
請求項１に記載の反射型スクリーンにおいて、
前記凹面における一部の領域には、前記近接投射型プロジェクターからの光を反射する反射層が形成されていることを特徴とする反射型スクリーン。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の反射型スクリーンにおいて、
前記複数の凹面は、前記基準点から遠い位置に形成されている前記第２凹面ほど、前記略円柱状の内面の長さが長くなるように形成されていることを特徴とする反射型スクリーン。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の反射型スクリーンにおいて、
前記複数の凹面は、前記基準点から遠い位置に形成されている前記凹面ほど、基準点方向に隣接する他の凹面との距離が大きくなるように形成されていることを特徴とする反射型スクリーン。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の反射型スクリーンにおいて、
前記複数の凹面は、前記基準点を中心として略同心円状に形成され、
前記基準点を中心とし、所定の半径を有する円を基準円としたとき、
前記第１領域は、前記反射型スクリーンにおける前記基準円の内側の領域であり、
前記第２領域は、前記反射型スクリーンにおける前記基準円の外側の領域であることを特徴とする反射型スクリーン。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の反射型スクリーンを製造するための反射型スクリーンの製造方法であって、
転写板の基となる転写板基板を準備する転写板基板準備工程と、
前記転写板基板の表面に、前記第１凹面に対応する円形状の第１孔と、前記第２凹面に対応する細長形状の第２孔とを有するマスク層を形成するマスク層形成工程と、
エッチングにより前記転写板基板に前記第１凹面及び前記第２凹面に対応する凹面を形成して前記転写板を製造する転写板製造工程と、
転写により、前記転写板から前記第１凹面及び前記第２凹面に対応する凸面を有する成形型を製造する成形型製造工程と、
転写により、前記成形型から前記反射型スクリーンの基となるスクリーン基板に前記第１凹面及び前記第２凹面を形成する凹面形成工程とをこの順序で含むことを特徴とする反射型スクリーンの製造方法。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれかに記載の反射型スクリーンを製造するための反射型スクリーンの製造方法であって、
反射型スクリーンの基となるスクリーン基板を用意するスクリーン基板準備工程と、
前記スクリーン基板の表面に、前記第１凹面に対応する円形状の第１孔と、前記第２凹面に対応する細長形状の第２孔とを有するマスク層を形成するマスク層形成工程と、
エッチングにより前記スクリーン基板に前記第１凹面及び前記第２凹面を形成する凹面形成工程とをこの順序で含むことを特徴とする反射型スクリーンの製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２０１１−２０３６１８（Ｐ２０１１−２０３６１８Ａ）
【公開日】平成２３年１０月１３日（２０１１．１０．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−７２４１５（Ｐ２０１０−７２４１５）
【出願日】平成２２年３月２６日（２０１０．３．２６）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１０月１３日（２０１１．１０．１３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年３月２６日（２０１０．３．２６）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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