太陽電池用表面保護シート
【課題】長期間の使用時における太陽電池モジュールの出力の低下を抑止することができる太陽電池用表面保護シートを提供する。
【解決手段】ポリアミドイミドフィルムと、ポリアミドイミドフィルムの一方の表面上に形成された無機酸化物膜とを備え、波長が３００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下である場合、特に３２５ｎｍである光の吸収率が１％以上２０％以下である太陽電池用表面保護シートである。
【解決手段】ポリアミドイミドフィルムと、ポリアミドイミドフィルムの一方の表面上に形成された無機酸化物膜とを備え、波長が３００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下である場合、特に３２５ｎｍである光の吸収率が１％以上２０％以下である太陽電池用表面保護シートである。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、太陽電池用表面保護シートに関し、特に、長期間の使用時における太陽電池モジュールの出力の低下を抑止することができる太陽電池用表面保護シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、資源の有効利用や環境汚染の防止等の観点から、太陽光を直接電気エネルギに変換する太陽電池モジュールが注目されており、開発が進められている。
【０００３】
太陽電池モジュールは、一般に、図１５の模式的断面図に示すように、受光面側透明保護部材としてのガラス基板１０１と、裏面側保護部材１０２との間にインターコネクタ１０５により直列に接続されたシリコン太陽電池セル１０４がエチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）樹脂１０３中に封止された構成を有している。
【０００４】
ここで、太陽電池モジュールの受光面側に設置される受光面側透明保護部材としては、太陽光の紫外線に対する耐久性に優れることがまず第一に要求されるが、加えて、湿気または水の透過による太陽電池モジュール内部の導線や電極における錆の発生を抑止するために、防湿性に優れることが極めて重要な要件となる。そのため、太陽電池モジュールの受光面側に設置される受光面側透明保護部材としては、従来からガラス板が用いられている。
【０００５】
しかしながら、ガラス板は耐光性および防湿性に優れる反面、重量が大きいという問題があり、また、衝撃に弱く割れやすいという欠点がある。
【０００６】
そこで、たとえば特許文献１には、太陽電池モジュールの受光面側に設置される受光面側透明保護部材として太陽電池用表面保護シートを用いる技術が開示されており、特許文献１の太陽電池用表面保護シートの構成を図１６の模式的断面図に示す。
【０００７】
ここで、特許文献１の太陽電池用表面保護シート２０１は、太陽電池モジュールの受光面側から透明高耐光フィルム２０２、接着シート２０３および透明高防湿フィルム２０４がこの順序で配置された構成となっている。また、特許文献１には、透明高耐光フィルム２０２として、ポリエチレンナフタレートからなる基材樹脂に紫外線吸収剤を練り込んだ樹脂組成物からなるフィルムを用い、紫外線吸収剤として、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−メトキシ−５−スルフォベンゾフェノン等のベンゾフェノン系；２−（２’−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系；フェニルサルシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサルシレート等のヒンダートアミン系紫外線吸収材を用いて、通常の場合、紫外線吸収剤は基材樹脂に対して１〜２０重量％程度配合される旨が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０００−１７４２９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献１の太陽電池用表面保護シート２０１のように、透明高耐光フィルム２０２に紫外線吸収剤を練り込んだポリエチレンナフタレートを用いた場合には、透明高耐光フィルム２０２の下層となる透明高防湿フィルム２０４に紫外線が透過するのを防止することができるが、透明高耐光フィルム２０２が太陽光の紫外線を吸収することによって、透明高耐光フィルム２０２の太陽光の透過率が徐々に低下していくことがわかった。
【００１０】
したがって、特許文献１に記載の太陽電池用表面保護シート２０１を用いて太陽電池モジュールを作製した場合には、太陽光の紫外線により、透明高耐光フィルム２０２の太陽光の透過率が徐々に低下するため、太陽電池モジュールの出力も同時に低下するという問題があった。
【００１１】
上記の事情に鑑みて、本発明の目的は、長期間の使用時における太陽電池モジュールの出力の低下を抑止することができる太陽電池用表面保護シートを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、ポリアミドイミドフィルムと、ポリアミドイミドフィルムの一方の表面上に形成された無機酸化物膜とを備え、波長が３００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下である光の吸収率が１％以上２０％以下である太陽電池用表面保護シートである。
【００１３】
また、本発明は、ポリアミドイミドフィルムと、ポリアミドイミドフィルムの一方の表面上に形成された無機酸化物膜とを備え、波長３２５ｎｍの光の吸収率が１％以上２０％以下である太陽電池用表面保護シートである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、長期間の使用時における太陽電池モジュールの出力の低下を抑止することができる太陽電池用表面保護シートを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の太陽電池用表面保護シートの一例の模式的な断面図である。
【図２】本発明の太陽電池用表面保護シートの他の一例の模式的な断面図である。
【図３】本発明の太陽電池用表面保護シートを用いて太陽電池モジュールを作製する方法の一例の工程の一部を図解する模式的な断面図である。
【図４】本発明の太陽電池用表面保護シートを用いて太陽電池モジュールを作製する方法の一例の工程の他の一部を図解する模式的な断面図である。
【図５】本発明の太陽電池用表面保護シートを用いて太陽電池モジュールを作製する方法の一例の工程の他の一部を図解する模式的な断面図である。
【図６】（ａ）および（ｂ）は、ポリエチレンナフタレートフィルムに２５日相当分の紫外線を照射する前と照射した後におけるポリエチレンナフタレートフィルムの光の波長と透過率との関係を示す図である。
【図７】（ａ）および（ｂ）は、ポリエチレンナフタレートフィルムの光の波長と透過率との関係を示す図である。
【図８】（ａ）および（ｂ）は、ポリエチレンナフタレートフィルムの光の波長と反射率との関係を示す図である。
【図９】（ａ）および（ｂ）は、図７および図８の結果をもとにしてポリエチレンナフタレートフィルムの吸収率を計算した結果を示す図である。
【図１０】（ａ）および（ｂ）は、条件１〜条件６のそれぞれの太陽電池用表面保護シートの反射率と光の波長との関係を示す図である。
【図１１】（ａ）および（ｂ）は、条件１〜条件６のそれぞれの太陽電池用表面保護シートの透過率と光の波長との関係を示す図である。
【図１２】図１０および図１１から算出した条件１〜条件６のそれぞれの太陽電池用表面保護シートの吸収率と光の波長との関係を示す図である。
【図１３】（ａ）は太陽電池モジュールの一例の模式的な平面図であり、（ｂ）は（ａ）に示す太陽電池モジュールの模式的な断面図である。
【図１４】条件１〜条件６のそれぞれの太陽電池用表面保護シートを用いて作製した太陽電池モジュールに３０００日相当分の擬似太陽光を照射したときの太陽電池モジュールの出力の割合と太陽電池用表面保護シートの波長３８０ｎｍの光の吸収率との関係を示す図である。
【図１５】従来の太陽電池モジュールの一例の模式的な断面図である。
【図１６】特許文献１に記載の従来の太陽電池用表面保護シートの構成を示す模式的な断面図である。
【図１７】（ａ）および（ｂ）は、ポリアミドイミドフィルムの光の波長と透過率との関係を示す図である。
【図１８】（ａ）および（ｂ）は、ポリアミドイミドフィルムの光の波長と反射率との関係を示す図である。
【図１９】（ａ）および（ｂ）は、図１７および図１８の結果をもとにしてポリアミドイミドフィルムの吸収率を計算した結果を示す図である。
【図２０】（ａ）および（ｂ）は、条件１３の太陽電池用表面保護シートの反射率と光の波長との関係を示す図である。
【図２１】（ａ）および（ｂ）は、条件１３の太陽電池用表面保護シートの透過率と光の波長との関係を示す図である。
【図２２】図２０および図２１から算出した条件１３の太陽電池用表面保護シートの吸収率と光の波長との関係を示す図である。
【図２３】（ａ）は太陽電池モジュールの一例の模式的な平面図であり、（ｂ）は（ａ）に示す太陽電池モジュールの模式的な断面図である。
【図２４】条件１１〜条件１３のそれぞれの太陽電池用表面保護シートを用いて作製した太陽電池モジュールに３０００日相当分の擬似太陽光を照射したときの太陽電池モジュールの出力の割合と太陽電池用表面保護シートの波長３２５ｎｍの光の吸収率との関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の実施の形態について説明する。なお、本発明の図面において、同一の参照符号は、同一部分または相当部分を表わすものとする。
【００１７】
図１に、本発明の太陽電池用表面保護シートの一例の模式的な断面図を示す。ここで、太陽電池用表面保護シート１は、ポリエチレンナフタレートフィルム２と、そのポリエチレンナフタレートフィルム２の一方の表面上に形成された無機酸化物膜３とを有している。そして、太陽電池用表面保護シート１全体における波長３５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の光の吸収率が１％以上２０％以下、特に波長３８０ｎｍの光の吸収率が１％以上２０％以下であることを特徴とする。
【００１８】
本発明者は、上記の構成の太陽電池用表面保護シート１を太陽電池セルの受光面側に設置して太陽電池モジュールを作製した場合には、太陽電池モジュールを太陽光の紫外線に長期間曝したときでも、太陽電池モジュールの出力の低下が抑えられることを見いだし、本発明を完成するに至ったものである。
【００１９】
ここで、ポリエチレンナフタレートフィルム２としては、従来から公知のポリエチレンナフタレートフィルムを用いることができ、具体的には、帝人デュポンフィルム株式会社製のテオネックスＱ６５ＦＡフィルム等を用いることができる。
【００２０】
また、ポリエチレンナフタレートフィルム２の厚さは２５μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、５０μｍ以上７５μｍ以下であることがより好ましい。ポリエチレンナフタレートフィルム２の厚さが２５μｍ以上１００μｍ以下である場合、特に５０μｍ以上７５μｍ以下である場合には、地球周回軌道上５年間分の放射線照射による当該太陽電池モジュールの最大出力値の劣化量を５％程度に抑制することができ、かつポリエチレンナフタレートフィルム２の厚さが増大することによる太陽電池モジュールの質量の増加を抑えることができる傾向にある。
【００２１】
また、無機酸化物膜３としては、たとえば、太陽光の紫外線に対する反射率が高い少なくとも１層以上の酸化物膜を用いることができるが、なかでも酸化ケイ素膜と酸化チタン膜との積層体、または酸化ケイ素膜と酸化タンタル膜との積層体を用いることが好ましい。無機酸化物膜３として、酸化ケイ素膜と酸化チタン膜との積層体、または酸化ケイ素膜と酸化タンタル膜との積層体を用いた場合には、太陽電池用表面保護シート１における太陽光の透過率の低下を抑止できる傾向が大きくなるため、太陽電池モジュールを太陽光の紫外線に長期間曝したときでも、太陽電池モジュールの出力の低下を抑止することができる傾向が大きくなる。
【００２２】
なお、酸化ケイ素膜と酸化チタン膜との積層体は、酸化ケイ素膜と酸化チタン膜とが交互に積層された構成のものであればよく、その積層体を構成する酸化ケイ素膜および酸化チタン膜はそれぞれ少なくとも１層あればよい。
【００２３】
また、酸化ケイ素膜と酸化タンタル膜との積層体も、酸化ケイ素膜と酸化タンタル膜とが交互に積層された構成のものであればよく、その積層体を構成する酸化ケイ素膜および酸化タンタル膜はそれぞれ少なくとも１層あればよい。
【００２４】
また、無機酸化物膜３の最も外側の表面（すなわち、ポリエチレンナフタレートフィルム２から離れている方の無機酸化物膜３の表面；以下「最表面」という。）には酸化ケイ素膜が位置していることが好ましい。この場合には、原子状酸素の照射に起因する太陽電池用表面保護シート１の劣化を抑えることができるため、太陽電池用表面保護シート１の太陽光の透過率の低下を抑止できる傾向が大きくなる。
【００２５】
図２に、本発明の太陽電池用表面保護シートの他の一例の模式的な断面図を示す。ここで、太陽電池用表面保護シート１は、ポリエチレンナフタレートフィルム２と、そのポリエチレンナフタレートフィルム２の一方の表面上に形成された無機酸化物膜３との間に、有機化合物膜４が設置されていることに特徴がある。図２に示す太陽電池用表面保護シート１においても、太陽電池用表面保護シート１全体における波長３５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の光の吸収率が１％以上２０％以下、特に波長３８０ｎｍの光の吸収率が１％以上２０％以下であることを特徴としている。
【００２６】
このように、ポリエチレンナフタレートフィルム２と無機酸化物膜３との間に有機化合物膜４を設置することによって、太陽光に長期間曝されること等の理由により太陽電池用表面保護シート１の温度が上昇した場合でも、ポリエチレンナフタレートフィルム２と無機酸化物膜３との熱膨張係数差に起因する無機酸化物膜３の割れの発生および無機酸化物膜３のポリエチレンナフタレートフィルム２からの剥離の発生を有効に抑止することができる傾向にある。
【００２７】
ここで、有機化合物膜４としては、たとえば、放射線硬化性樹脂に放射線を照射することによって硬化させたもの等を用いることができる。なお、放射線とは、たとえば、赤外線、可視光線、紫外線およびＸ線、電子線、α線、β線、γ線等の電離放射線を意味しており、通常は紫外線等の光を用いることができる。
【００２８】
また、放射線硬化性樹脂としては、ポリオールアクリレート系樹脂、ポリエステルアクリレート系樹脂、ウレタンアクリレート系樹脂、エポキシアクリレート系樹脂等の多官能アクリレート系放射線硬化性樹脂を用いることができる。なお、放射線硬化性樹脂には、必要に応じて、従来から公知の光重合開始剤および／または光増感剤が添加されていてもよい。また、放射線硬化性樹脂には、必要に応じて、たとえば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、離型剤、溶媒、フィラー、老化防止剤、濡れ性改良剤等の少なくとも１種の従来から公知の添加剤が添加されていてもよい。
【００２９】
ポリオールアクリレート系樹脂としては、従来から公知のものを用いることができ、たとえば、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等の樹脂を挙げることができる。これらの樹脂には従来から公知の光反応開始剤および／または光増感剤が添加され得る。
【００３０】
ポリエステルアクリレート系樹脂としては、従来から公知のものを用いることができ、たとえば、ポリエステルポリオールに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって得たもの等を用いることができる。
【００３１】
ウレタンアクリレート系樹脂としては、従来から公知のものを用いることができ、たとえば、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって得たもの等を用いることができる。
【００３２】
エポキシアクリレート系樹脂としては、従来から公知のものを用いることができ、たとえば、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反応させたもの等を用いることができる。
【００３３】
また、有機化合物膜４の膜厚は１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以上６μｍ以下であることがより好ましい。有機化合物膜４の膜厚を１μｍ以上１０μｍ以下とした場合、特に３μｍ以上６μｍ以下とした場合には、太陽電池用表面保護シート１の温度が１５０℃程度の高温に上昇した場合でも、ポリエチレンナフタレートフィルム２と無機酸化物膜３との熱膨張係数差に起因する無機酸化物膜３の割れの発生を有効に抑止し、太陽電池用表面保護シート１の透過率の低下を抑止できる傾向にある。
【００３４】
上記の構成の太陽電池用表面保護シート１は、たとえば以下のようにして製造することができる。
【００３５】
まず、市販のポリエチレンナフタレートフィルムを適当なサイズに切り出すことによって、ポリエチレンナフタレートフィルム２を用意する。次に、ポリエチレンナフタレートフィルム２の一方の表面上にアプリケータでポリオールアクリレート系樹脂を５μｍ程度の厚さに塗工し、塗工したポリオールアクリレート系樹脂を７５℃の温度で１０分間熱風乾燥した後に、高圧水銀ランプ８Ｗ／ｃｍを用いて２０ｃｍの高さから５ｍ／ｍｉｎのコンベア速度で紫外線照射を行なうことによってポリオールアクリレート系樹脂を硬化する。これにより、ポリエチレンナフタレートフィルム２の表面上にポリオールアクリレート系樹脂が硬化してなる有機化合物膜４が形成される。なお、ポリオールアクリレート系樹脂の代わりに、ポリエステルアクリレート系樹脂、ウレタンアクリレート系樹脂、エポキシアクリレート系樹脂等の多官能アクリレート系放射線硬化性樹脂を用いることもできる。なお、図１に示す太陽電池用表面保護シート１を作製する場合には、有機化合物膜４を形成する必要がないことは言うまでもない。
【００３６】
次に、ポリエチレンナフタレートフィルム２の一方の表面上に無機酸化物膜３を形成する。また、ポリエチレンナフタレートフィルム２の表面上に上記の多官能アクリレート系放射線硬化性樹脂が硬化してなる有機化合物膜４を形成する場合には、その有機化合物膜４の表面上に無機酸化物膜３を形成する。無機酸化物膜３としては、たとえば蒸着法またはスパッタ法等により、酸化ケイ素膜と酸化チタン膜との積層体、または酸化ケイ素膜と酸化タンタル膜との積層体により形成することが好ましい。一般に、上記の積層体の各層の膜厚等を適宜調整することにより、反射する光の波長域の大きさ、反射する光の波長の中心（最も反射率が高くなる光の波長）を変化させることができるため、太陽電池用表面保護シート１の全体における波長３５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の光の吸収率を１％以上２０％以下、特に波長３８０ｎｍの光の吸収率を１％以上２０％以下に調節することが可能になる。
【００３７】
以上により、図１または図２に示す太陽電池用表面保護シート１を製造することができる。なお、上記の無機酸化物膜３が形成されている側を太陽電池用表面保護シート１の受光面側として用いることができる。
【００３８】
ここで、図１または図２に示す太陽電池用表面保護シート１のポリエチレンナフタレートフィルム２の裏面側（受光面側と反対側）となる表面に酸化ケイ素膜を形成することが好ましい。この場合には、ポリエチレンナフタレートフィルム２の裏面側における太陽光の反射を抑止することができるとともに、後述するシリコーン樹脂との接着性が向上する傾向にある。
【００３９】
以下に、図３〜図５の模式的断面図を参照して、上記のようにして作製した太陽電池用表面保護シート１を用いて太陽電池モジュールを作製する方法の一例について説明する。
【００４０】
まず、上記のようにして作製した太陽電池用表面保護シート１を用意し、図３に示すように、太陽電池用表面保護シート１の裏面側の表面にシリコーン樹脂５を塗布する。ここで、シリコーン樹脂５は、たとえば、ローラー等でシリコーン樹脂５とローラーを馴染ませ、そのローラーを用いて太陽電池用表面保護シート１の裏面側の表面上に塗布することが好ましい。この場合には、シリコーン樹脂５をほぼ均一な厚さで、かつ薄く塗布することができる傾向にある。なお、本発明においては、ローラーを用いた方法以外の方法により、シリコーン樹脂５を塗布してもよい。また、シリコーン樹脂５としては、従来から公知のシリコーン樹脂を用いることができ、たとえば、ダウコーニング社製のＤＣ９３−５００、同じくダウコーニング社製のＳＹＬＧＡＲＤ１８４等を用いることができる。
【００４１】
次に、図４に示すように、太陽電池用表面保護シート１のシリコーン樹脂５を塗布した側の表面と太陽電池ストリング６の受光面を貼り合わせる。ここで、太陽電池ストリング６は、太陽電池セル７の複数が導電性のインターコネクタ８により接続された構成となっている。
【００４２】
ここで、太陽電池用表面保護シート１と太陽電池ストリング６との貼り合わせは、たとえば、シリコーン樹脂５を塗布した太陽電池用表面保護シート１の表面上に太陽電池ストリング６を置いた状態で真空チャンバに入れ、真空チャンバを真空引きすることにより、シリコーン樹脂５と太陽電池ストリング６との間の気泡を除去することにより行なうことができる。
【００４３】
また、太陽電池ストリング６とシリコーン樹脂５を塗布した太陽電池用表面保護シート１との貼り合わせ自体を真空チャンバ内で行なうことにより、上記と同様に、シリコーン樹脂５と太陽電池ストリング６との間の気泡を除去することが可能である。
【００４４】
次に、シリコーン樹脂５を加熱して硬化させることによって、太陽電池用表面保護シート１と太陽電池ストリング６とを接着させる。ここで、シリコーン樹脂５は、オーブンを用いて加熱してもよく、ヒーターを用いて加熱してもよい。また、シリコーン樹脂５の加熱温度および加熱時間はそれぞれ適宜設定することが可能であるが、シリコーン樹脂５としてたとえばダウコーニング社製のＤＣ９３−５００またはダウコーニング社製のＳＹＬＧＡＲＤ１８４を用いた場合には加熱温度は１００℃程度に設定され、加熱時間は１時間程度に設定される。
【００４５】
次に、図５に示すように、上記と同様の手順で、太陽電池ストリング６の裏面側に裏面フィルム９をシリコーン樹脂５によって接着する。ここで、裏面フィルム９としては、受光面側の太陽電池用表面保護シート１と同一の材料を用いることができる。
【００４６】
以上の工程により、太陽電池用表面保護シート１を用いた太陽電池モジュールが作製される。
【００４７】
なお、上記において、太陽電池モジュール６を構成する太陽電池セル７としては、たとえば従来から公知の化合物半導体太陽電池を用いることができ、この化合物半導体太陽電池はたとえば以下のようにして作製することができる。なお、本発明において、太陽電池セル７は化合物半導体太陽電池に限定されず、シリコン太陽電池等の他の太陽電池であってもよいことは言うまでもない。
【００４８】
まず、Ｓｉ、ＧｅまたはＧａＡｓ等からなる半導体基板の表面上に複数の種類の異なる化合物半導体層をエピタキシャル成長させる。ここで、半導体基板の表面上には、たとえば、ｐｎ接合を含む太陽電池層と、第２電極を接続するためのコンタクト層とを含む構成となるように化合物半導体層を順次エピタキシャル成長させることができる。
【００４９】
次に、フォトリソグラフィ法により、上記の化合物半導体層の表面の必要な部分にのみマスクを形成した後に、マスクが形成されていない部分をエッチングする。その後、マスクは除去される。
【００５０】
続いて、太陽電池層の受光面を構成するコンタクト層に、たとえば、通常のフォトリソグラフィ法、蒸着法、リフトオフ法、シンター法等により第１電極を形成する。第１電極は、たとえば、銀（Ａｇ）等の導電性材料から構成することができる。また、第１電極の形状は、たとえば櫛形状にすることができるが、その他、櫛形状以外にも、太陽電池セル７として機能できる全ての電極形状を採用することができる。
【００５１】
次に、半導体基板を所定の形状となるように複数に分割した後に、半導体基板の裏面に、たとえば、通常のフォトリソグラフィ法、蒸着法、リフトオフ法、シンター法等により第２電極を形成する。ここで、第２電極は、たとえば、銀（Ａｇ）等の導電性材料から構成することができる。第２電極の形状は、太陽電池セル７として機能できる全ての電極形状を採用することができる。
【００５２】
以上により、太陽電池モジュール６を構成する太陽電池セル７が作製される。ここで、太陽電池セル７の切り出しは、たとえば、通常のダイシング法またはスクライブ法により必要部分の一単位の太陽電池セル７の外周部に切れ目をいれ、通常のエキスパンド法あるいはブレイク法により太陽電池セル７を切り出すことにより行なうことができる。
【００５３】
そして、上記のようにして作製された１つの太陽電池セル７の受光面に形成された第１電極と、他の１つの太陽電池セル７の裏面に形成された第２電極とをインターコネクタ８を介して電気的に接続することによって太陽電池ストリング６が作製される。ここで、インターコネクタ８は、第１電極および第２電極のそれぞれとたとえば通常のスポット溶接法により溶接されることによってこれらの電極とそれぞれ接続される。インターコネクタ８はたとえば銀（Ａｇ）等の導電性材料からなり、インターコネクタ８の形状は、太陽電池セル７の外周部より外側に引き出すことが可能な形状であることが好ましい。
【００５４】
そして、それぞれの太陽電池ストリング６の終端には、バスバーが通常のスポット溶接法により溶接されて、太陽電池ストリング６同士が並列に接続されることになる。
【００５５】
本発明の太陽電池用表面保護シート１は、ポリエチレンナフタレートフィルム２と、ポリエチレンナフタレートフィルム２の片面に紫外線を反射する機能を有する無機酸化物膜３が形成されており、太陽電池用表面保護シート１の波長３５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の光の吸収率が１％以上２０％以下、特に波長３８０ｎｍの光の吸収率が１％以上２０％以下であることから、太陽電池用表面保護シート１の太陽光の透過率の低下を抑制することができるため、この太陽電池用表面保護シート１を用いて作製した太陽電池モジュールを長期間使用した場合における太陽電池モジュールの出力の低下を抑止することができる。したがって、本発明の太陽電池用表面保護シート１を用いて作製した太陽電池モジュールは、長期間紫外線に曝されてもその発電量が劣化しにくくなり、高耐久性の太陽電池モジュールとすることができる。
【００５６】
また、無機酸化物膜３として、酸化ケイ素膜と酸化チタン膜との積層体、または酸化ケイ素膜と酸化タンタル膜との積層体を用いた場合には、太陽電池用表面保護シート１における太陽光の透過率の低下を抑止できる傾向が大きくなるため、太陽電池モジュールを太陽光の紫外線に長期間曝したときでも、太陽電池モジュールの出力の低下を抑止することができる傾向が大きくなる。
【００５７】
また、無機酸化物膜３の最表面に酸化ケイ素膜を位置させることによって、原子状酸素の照射に起因する太陽電池用表面保護シート１の劣化を抑止することができるため、太陽電池用表面保護シート１における太陽光の透過率の低下を抑止することができ、太陽電池モジュールの出力の低下を抑止することができる傾向が大きくなる。
【００５８】
また、ポリエチレンナフタレートフィルム２と無機酸化物膜３との間に有機化合物膜４を設置することによって、太陽光に長期間曝されること等の理由により太陽電池用表面保護シート１の温度が上昇した場合でも、ポリエチレンナフタレートフィルム２と無機酸化物膜３との熱膨張係数差に起因して発生する応力を有機化合物膜４で緩和することができるため、無機酸化物膜３の割れの発生および無機酸化物膜３の剥離の発生を有効に抑止することができる傾向にある。したがって、この太陽電池用表面保護シート１を用いて作製した太陽電池モジュールは、厳しい温度差がある厳しい環境下に曝された場合でも、高耐久性のものとすることができ、出力の低下を抑止することができる傾向が大きくなる。
【００５９】
また、本発明の太陽電池用表面保護シート１のポリエチレンナフタレートフィルム２の裏面側（受光面側と反対側）となる表面に酸化ケイ素膜を形成した場合には、ポリエチレンナフタレートフィルム２の裏面側における太陽光の反射を抑止することができるとともにシリコーン樹脂５との接着性が向上する傾向にある。この接着性を向上させることにより太陽電池モジュール内への水分の染み込みを抑えることができるため、太陽電池モジュールが高湿度環境下に曝された場合でも高耐久性のものとすることができ、出力の低下を抑止することができる傾向が大きくなる。
【実施例】
【００６０】
図６（ａ）および図６（ｂ）に、ポリエチレンナフタレートフィルムに２５日相当分の紫外線を照射する前と照射した後におけるポリエチレンナフタレートフィルムの光の波長と透過率との関係を示す。ここで、紫外線の照射は、ハロゲンランプのスペクトルを太陽光のスペクトルに擬似的に模し、２００倍に集光して行なった。
【００６１】
図６（ａ）および図６（ｂ）に示すように、ポリエチレンナフタレートフィルムに紫外線を照射することにより、波長３８０〜６００ｎｍの光の透過率（％）が大きく低下している。これは、紫外線の照射によりポリエチレンナフタレートフィルムが黄変したためと考えられる。したがって、太陽電池用表面保護シートとしてポリエチレンナフタレートフィルムのみを用いた場合には、太陽電池モジュールを長期間使用するにしたがってポリエチレンナフタレートフィルムの光の透過率が低下し、太陽電池モジュールの出力が低下するものと考えられる。
【００６２】
実際に、太陽電池用表面保護シートとして２５日相当分の紫外線の照射前と照射後のポリエチレンナフタレートフィルムを用いてそれぞれ太陽電池セルを作製して紫外線の照射前後の太陽電池セルの出力の変化を確認したが、紫外線の照射前と比較して照射後の太陽電池セルの出力は約２２％低下した。
【００６３】
ポリエチレンナフタレートフィルムが黄変するメカニズムを解明するため、まず最初に、ポリエチレンナフタレートフィルムの光の透過率と反射率とを測定した。ここで、ポリエチレンナフタレートフィルムの透過率と反射率の測定には、日本分光株式会社製の絶対反射率測定装置ＡＲＮ−４７５型を用いた。ポリエチレンナフタレートフィルムの透過率と反射率の測定において用いられた光の波長は３００ｎｍ〜１５００ｎｍとした。図７（ａ）および図７（ｂ）に、ポリエチレンナフタレートフィルムの光の波長と透過率との関係を示し、図８（ａ）および図８（ｂ）に、ポリエチレンナフタレートフィルムの光の波長と反射率との関係を示す。
【００６４】
図７および図８の結果をもとにして、ポリエチレンナフタレートフィルムの吸収率を計算した結果を図９（ａ）および図９（ｂ）に示す。ここで、吸収率は、下記の式（１）により定義される。
【００６５】
吸収率（％）＝１００（％）−透過率（％）−反射率（％） …（１）
図９（ａ）および図９（ｂ）に示すように、ポリエチレンナフタレートフィルムの吸収率は波長３８０ｎｍ付近で最も高くなることがわかる。
【００６６】
そこで、ポリエチレンナフタレートフィルムの波長３８０ｎｍ付近の光の吸収を抑止するために、ポリエチレンナフタレートフィルムの一方の表面にガラス製の紫外線反射フィルターに使われている従来技術を用いて紫外線反射用の無機酸化物膜を成膜して太陽電池用表面保護シートを作製した。ここで、無機酸化物膜としては、酸化ケイ素膜と酸化チタン膜とが交互にそれぞれ複数層積層された積層体を用いて、無機酸化物膜の反射光の中心波長を変えるために、酸化ケイ素膜と酸化チタン膜の膜厚を変更した条件１〜条件６の６種類の成膜を行なった。そして、条件１〜条件６のそれぞれの太陽電池用表面保護シートについて、光の反射率と透過率を測定した。図１０（ａ）および図１０（ｂ）に、条件１〜条件６のそれぞれの太陽電池用表面保護シートの反射率の測定結果を示し、図１１（ａ）および図１１（ｂ）に、条件１〜条件６のそれぞれの太陽電池用表面保護シートの透過率の測定結果を示す。さらに、図１０および図１１から算出した条件１〜条件６のそれぞれの太陽電池用表面保護シートの吸収率と光の波長との関係を図１２（ａ）および図１２（ｂ）に示す。
【００６７】
図１２（ａ）および図１２（ｂ）から明らかなように、太陽電池用表面保護シートの無機酸化物膜における反射する光の波長の中心（最も反射率が高くなる光の波長）を３５０ｎｍ（条件１）から３７５ｎｍ（条件６）に変化させることにより、太陽電池用表面保護シート全体の波長３８０ｎｍの光の吸収率は、３５％（条件１）、２４％（条件２）、１７％（条件３）、１３％（条件４）、９％（条件５）、８％（条件６）と変化させることができる。
【００６８】
次に、上記のようにして作製した条件１〜条件６の太陽電池用表面保護シートを用いて図１３（ａ）および図１３（ｂ）に示す構成の太陽電池モジュールを作製した。この太陽電池モジュールを構成する太陽電池セル７は、ＧａＡｓ基板１２上にたとえばＭＯＣＶＤ（Metal Organic Chemical Vapor Deposition）法によりエピタキシャル成長させた太陽電池層１１が形成されている。
【００６９】
太陽電池層１１は、太陽光を受光する受光面となるｎ型ＧａＡｓコンタクト層と、ｎ型ＧａＩｎＰ層／ｐ型ＧａＩｎＰ層およびｎ型ＧａＡｓ層／ｐ型ＧａＡｓ層の２つのｐｎ接合とを含む構成となっている。また、ｎ型ＧａＡｓコンタクト層の表面上には櫛形状のｎ型電極１０が形成されており、ＧａＡｓ基板１２の裏面にはｐ型電極１３が形成されている。
【００７０】
そして、上記の構成を有する２つの太陽電池セルの一方のｎ型電極１０とｐ型電極１３とがインターコネクタ８で接続されて太陽電池ストリングが形成されており、この太陽電池ストリングが太陽電池用表面保護シート１の裏面の酸化ケイ素膜１４と裏面フィルム９との間のシリコーン樹脂５中に封止されている。
【００７１】
なお、上記のｎ型電極１０は、従来知られているフォトリソグラフィ工程とエッチング工程を利用してｎ型ＧａＡｓコンタクト層の不要部分をエッチングにより除去した後、従来知られているフォトリソグラフィ工程と蒸着工程とリフトオフ工程と熱処理工程とを組み合わせてｎ型ＧａＡｓコンタクト層上に形成されており、その主成分は銀（Ａｇ）である。
【００７２】
続いて、太陽電池層１１の必要部分を通常のフォトマスキング工程でマスク（図示せず）を形成し、不要部分をエッチングにより除去する。ここで、ｎ型ＧａＡｓ層およびｐ型ＧａＡｓ層のエッチングにはアンモニア系のエッチング液が用いられ、ｎ型ＧａＩｎＰ層およびｐ型ＧａＩｎＰ層のエッチングには塩酸系のエッチング液が用いられる。
【００７３】
さらに、ＧａＡｓ基板１２の外周部を通常のダイシング法によりハーフダイスすることにより切れ目を入れておき、通常のブレイク法により所定の形状に切り出した後にＧａＡｓ基板１２の裏面に銀（Ａｇ）を主成分とするｐ型電極１３を形成する。その後、太陽電池層１１の受光面に酸化チタン膜と酸化アルミニウム膜との積層体からなる反射防止膜（図示せず）を形成して太陽電池セル７が完成する。
【００７４】
そして、上記のようにして形成した太陽電池セル７を２つ用意し、１つの太陽電池セル７のｎ型電極１０上に銀（Ａｇ）を主成分とするインターコネクタ８の一端を溶接し、他の１つの太陽電池セル７のｐ型電極１３上にそのインターコネクタ８の他端を溶接することによって、２つの太陽電池セル７が直列に接続された太陽電池ストリングを構成する。
【００７５】
次に、シリコーン樹脂５を塗布した太陽電池用表面保護シート１と、上記で作製した太陽電池ストリングとを貼り合わせる。まず、太陽電池用表面保護シート１にシリコーン樹脂５を塗布する。
【００７６】
次に、離型紙の上に上記の太陽電池ストリングを受光面が上方を向くように設置し、シリコーン樹脂５を塗布した太陽電池用表面保護シート１を太陽電池ストリング上に重ねて接着する。
【００７７】
太陽電池用表面保護シート１は、ポリエチレンナフタレートフィルム２の一方の表面の直上には有機化合物膜４が形成され、有機化合物膜４の表面の直上には上記の条件１〜条件６で条件を変化させた無機酸化物膜３が形成されており、ポリエチレンナフタレートフィルム２の他方の表面には酸化ケイ素膜１４が８０ｎｍの厚さで形成されている。すなわち、太陽電池用表面保護シート１としては、上記の条件１〜条件６のように無機酸化物膜３の構成がそれぞれ異なる６種類の太陽電池用表面保護シート１が形成されたことになる。
【００７８】
ここで、有機化合物膜４としては、ウレタンアクリレート系樹脂に紫外線を照射して５μｍの厚さに形成したものが用いられている。また、無機酸化物膜３は、酸化ケイ素膜と酸化チタン膜とを交互に積層した積層体からなり、その最表面には酸化ケイ素膜が位置した構成となっている。なお、無機酸化物膜３の構成は、上記の条件１〜条件６の条件でそれぞれ形成されており、図１０の反射率および図１１の透過率を示すように設計されている。また、ポリエチレンナフタレートフィルム２の他方の表面に酸化ケイ素膜１４を８０ｎｍの厚さに形成する。
【００７９】
続いて、シリコーン樹脂５を塗布した裏面フィルム９を上記で作製した太陽電池ストリング上に重ねて接着する。その後、脱泡処理１００℃のオーブンに１時間入れシリコーン樹脂５を硬化させ、条件１〜条件６のそれぞれの無機酸化物膜３を有する６種類の太陽電池用表面保護シート１がそれぞれ貼り合わされた図１３（ａ）および図１３（ｂ）に示す構成の太陽電池モジュールを６種類完成させる。
【００８０】
そして、上記のようにして作製した６種類の太陽電池モジュールのそれぞれについて、株式会社ウシオスペックス製クセノン５ｋＷ光源装置を用いて擬似太陽光の照射を行なって紫外線照射試験を行なった。ここで、紫外線照射試験を加速させるために地球上での太陽光の２００倍となるように擬似太陽光の調整を行なった。
【００８１】
図１４に、上記の６種類の太陽電池モジュールのそれぞれに３０００日相当分の擬似太陽光を照射したときの太陽電池モジュールの出力の割合と太陽電池用表面保護シートの波長３８０ｎｍの光の吸収率との関係を示す。図１４において、横軸は、太陽電池用表面保護シート１における波長３８０ｎｍの光の吸収率（％）を示し、縦軸は、太陽電池用表面保護シート１の貼り付け前の太陽電池ストリングの出力を１００（％）とした場合に対する上記の３０００日相当分の擬似太陽光の照射後の太陽電池モジュールの出力の割合（％）を算出したものである。
【００８２】
図１４に示す結果から、３０００日相当分の擬似太陽光の照射後の太陽電池モジュールの出力が太陽電池用表面保護シート１を貼り付け前の太陽電池ストリングの出力の８０％以上となることが必要であるとすると、波長３８０ｎｍにおける光の吸収率が２０％以下である太陽電池用表面保護シート１（条件３〜条件６の無機酸化物膜３を含む太陽電池用表面保護シート１）を用いて太陽電池モジュールを作製する必要があることが確認された。
【００８３】
また、別に行った実験により、波長３８０ｎｍにおける光の吸収率が１％未満である太陽電池用表面保護シート１を用いて太陽電池モジュールを作製した場合には、太陽電池モジュールの出力が８０％未満となるため、波長３８０ｎｍにおける光の吸収率は１％以上の太陽電池用表面保護シート１を用いて太陽電池モジュールを作製する必要があることが確認された。
【００８４】
また、ポリアミドイミドフィルムが黄変するメカニズムを解明するため、まず最初に、ポリアミドイミドフィルムの光の透過率と反射率とを測定した。ここで、ポリアミドイミドフィルムの透過率と反射率の測定には、日本分光株式会社製の絶対反射率測定装置ＡＲＮ−４７５型を用いた。ポリアミドイミドフィルムの透過率と反射率の測定において用いられた光の波長は３００ｎｍ〜１５００ｎｍとした。図１７（ａ）および図１７（ｂ）に、ポリアミドイミドフィルムの光の波長と透過率との関係を示し、図１８（ａ）および図１８（ｂ）に、ポリアミドイミドフィルムの光の波長と反射率との関係を示す。
【００８５】
図１７および図１８の結果をもとにして、ポリアミドイミドフィルムの吸収率を計算した結果を図１９（ａ）および図１９（ｂ）に示す。ここで、吸収率は、上記の式（１）により定義される。
【００８６】
図１９（ａ）および図１９（ｂ）に示すように、ポリアミドイミドフィルムの吸収率は波長３２５ｎｍ付近にピークを持つことがわかる。
【００８７】
そこで、ポリアミドイミドフィルムの波長３２５ｎｍ付近の光の吸収を抑止するために、ポリアミドイミドフィルムの一方の表面にガラス製の紫外線反射フィルターに使われている従来技術を用いて紫外線反射用の無機酸化物膜を成膜して太陽電池用表面保護シートを作製した。ここで、無機酸化物膜としては、酸化ケイ素膜と酸化チタン膜とが交互にそれぞれ複数層積層された積層体を用いて、無機酸化物膜の反射光の中心波長を変えるために、酸化ケイ素膜と酸化チタン膜の膜厚を変更した条件１１〜条件１３の３種類の成膜を行なった。そして、代表的な条件１３の太陽電池用表面保護シートについて、光の反射率と透過率を測定結果の一例を示した。図２０（ａ）および図２０（ｂ）に、条件１３の太陽電池用表面保護シートの反射率の測定結果を示し、図２１（ａ）および図２１（ｂ）に、条件１３の太陽電池用表面保護シートの透過率の測定結果を示す。さらに、図２０および図２１から算出した条件１３の太陽電池用表面保護シートの吸収率と光の波長との関係を図２２（ａ）および図２２（ｂ）に示す。
【００８８】
ポリエチレンナフタレートフィルムの時と同様に、太陽電池用表面保護シートの無機酸化物膜における反射する光の波長の中心（最も反射率が高くなる光の波長）を３７５ｎｍ（条件１１）、３５０ｎｍ（条件１２）、３２５ｎｍ（条件１３）に変化させることにより、太陽電池用表面保護シート全体の波長３２５ｎｍの光の吸収率は、２４％（条件１１）、１５％（条件１２）、４％（条件１３）と変化させることができる。
【００８９】
次に、上記のようにして作製した条件１１〜条件１３の太陽電池用表面保護シートを用いて図２３（ａ）および図２３（ｂ）に示す構成の太陽電池モジュールを作製した。この太陽電池モジュールを構成する太陽電池セル７は、ＧａＡｓ基板１２上にたとえばＭＯＣＶＤ（Metal Organic Chemical Vapor Deposition）法によりエピタキシャル成長させた太陽電池層１１が形成されている。
【００９０】
太陽電池層１１は、太陽光を受光する受光面となるｎ型ＧａＡｓコンタクト層と、ｎ型ＧａＩｎＰ層／ｐ型ＧａＩｎＰ層およびｎ型ＧａＡｓ層／ｐ型ＧａＡｓ層の２つのｐｎ接合とを含む構成となっている。また、ｎ型ＧａＡｓコンタクト層の表面上には櫛形状のｎ型電極１０が形成されており、ＧａＡｓ基板１２の裏面にはｐ型電極１３が形成されている。
【００９１】
そして、上記の構成を有する２つの太陽電池セルの一方のｎ型電極１０とｐ型電極１３とがインターコネクタ８で接続されて太陽電池ストリングが形成されており、この太陽電池ストリングが太陽電池用表面保護シート１の裏面の酸化ケイ素膜１４と裏面フィルム９との間のシリコーン樹脂５中に封止されている。
【００９２】
なお、上記のｎ型電極１０は、従来知られているフォトリソグラフィ工程とエッチング工程を利用してｎ型ＧａＡｓコンタクト層の不要部分をエッチングにより除去した後、従来知られているフォトリソグラフィ工程と蒸着工程とリフトオフ工程と熱処理工程とを組み合わせてｎ型ＧａＡｓコンタクト層上に形成されており、その主成分は銀（Ａｇ）である。
【００９３】
続いて、太陽電池層１１の必要部分を通常のフォトマスキング工程でマスク（図示せず）を形成し、不要部分をエッチングにより除去する。ここで、ｎ型ＧａＡｓ層およびｐ型ＧａＡｓ層のエッチングにはアンモニア系のエッチング液が用いられ、ｎ型ＧａＩｎＰ層およびｐ型ＧａＩｎＰ層のエッチングには塩酸系のエッチング液が用いられる。
【００９４】
さらに、ＧａＡｓ基板１２の外周部を通常のダイシング法によりハーフダイスすることにより切れ目を入れておき、通常のブレイク法により所定の形状に切り出した後にＧａＡｓ基板１２の裏面に銀（Ａｇ）を主成分とするｐ型電極１３を形成する。その後、太陽電池層１１の受光面に酸化チタン膜と酸化アルミニウム膜との積層体からなる反射防止膜（図示せず）を形成して太陽電池セル７が完成する。
【００９５】
そして、上記のようにして形成した太陽電池セル７を２つ用意し、１つの太陽電池セル７のｎ型電極１０上に銀（Ａｇ）を主成分とするインターコネクタ８の一端を溶接し、他の１つの太陽電池セル７のｐ型電極１３上にそのインターコネクタ８の他端を溶接することによって、２つの太陽電池セル７が直列に接続された太陽電池ストリングを構成する。
【００９６】
次に、シリコーン樹脂５を塗布した太陽電池用表面保護シート１と、上記で作製した太陽電池ストリングとを貼り合わせる。まず、太陽電池用表面保護シート１にシリコーン樹脂５を塗布する。
【００９７】
次に、離型紙の上に上記の太陽電池ストリングを受光面が上方を向くように設置し、シリコーン樹脂５を塗布した太陽電池用表面保護シート１を太陽電池ストリング上に重ねて接着する。
【００９８】
太陽電池用表面保護シート１は、ポリアミドイミドフィルム２２の一方の表面の直上には有機化合物膜４が形成され、有機化合物膜４の表面の直上には上記の条件１１〜条件１３で条件を変化させた無機酸化物膜３が形成されており、ポリアミドイミドフィルム２２の他方の表面には酸化ケイ素膜１４が８０ｎｍの厚さで形成されている。すなわち、太陽電池用表面保護シート１としては、上記の条件１１〜条件１３のように無機酸化物膜３の構成がそれぞれ異なる３種類の太陽電池用表面保護シート１が形成されたことになる。
【００９９】
ここで、有機化合物膜４としては、ウレタンアクリレート系樹脂に紫外線を照射して５μｍの厚さに形成したものが用いられている。また、無機酸化物膜３は、酸化ケイ素膜と酸化チタン膜とを交互に積層した積層体からなり、その最表面には酸化ケイ素膜が位置した構成となっている。なお、無機酸化物膜３の構成は、上記の条件１１〜条件１３の条件でそれぞれ形成されている。また、ポリアミドイミドフィルム２の他方の表面に酸化ケイ素膜１４を８０ｎｍの厚さに形成する。
【０１００】
続いて、シリコーン樹脂５を塗布した裏面フィルム９を上記で作製した太陽電池ストリング上に重ねて接着する。その後、脱泡処理１００℃のオーブンに１時間入れシリコーン樹脂５を硬化させ、条件１１〜条件１３のそれぞれの無機酸化物膜３を有する３種類の太陽電池用表面保護シート１がそれぞれ貼り合わされた図２３（ａ）および図２３（ｂ）に示す構成の太陽電池モジュールを３種類完成させる。
【０１０１】
そして、上記のようにして作製した３種類の太陽電池モジュールのそれぞれについて、株式会社ウシオスペックス製クセノン５ｋＷ光源装置を用いて擬似太陽光の照射を行なって紫外線照射試験を行なった。ここで、紫外線照射試験を加速させるために地球上での太陽光の２００倍となるように擬似太陽光の調整を行なった。
【０１０２】
図２４に、上記の３種類の太陽電池モジュールのそれぞれに３０００日相当分の擬似太陽光を照射したときの太陽電池モジュールの出力を示す。図２４において、横軸は、太陽電池用表面保護シート１における波長３２５ｎｍの光の吸収率を示し、縦軸は、太陽電池用表面保護シート１を貼り付け前の太陽電池ストリングの出力を１００（％）とした場合に対する上記の３０００日相当分の擬似太陽光の照射後の太陽電池モジュールの出力の割合（％）を算出したものである。
【０１０３】
図２４に示す結果から、３０００日相当分の擬似太陽光の照射後の太陽電池モジュールの出力が太陽電池用表面保護シート１を貼り付け前の太陽電池ストリングの出力の８０％以上となることが必要であるとすると、波長３２５ｎｍにおける光の吸収率が２０％以下である太陽電池用表面保護シート１（条件１２、条件１３の無機酸化物膜３を含む太陽電池用表面保護シート１）を用いて太陽電池モジュールを作製する必要があることが確認された。
【０１０４】
また、別に行った実験により、波長３２５ｎｍにおける光の吸収率が１％未満である太陽電池用表面保護シート１を用いて太陽電池モジュールを作製した場合には、太陽電池モジュールの出力が８０％未満となるため、波長３２５ｎｍにおける光の吸収率は１％以上の太陽電池用表面保護シート１を用いて太陽電池モジュールを作製する必要があることが確認された。
【０１０５】
今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【産業上の利用可能性】
【０１０６】
本発明によれば、長期間の使用時における太陽電池モジュールの出力の低下を抑止することができる太陽電池用表面保護シートを提供することができる。
【０１０７】
本発明の太陽電池用表面保護シートを用いた太陽電池モジュールは、たとえば宇宙用（人工衛星搭載用）太陽電池モジュールに好適に用いられる。
【符号の説明】
【０１０８】
１ 太陽電池用表面保護シート、２ ポリエチレンナフタレートフィルム、３ 無機酸化物膜、４ 有機化合物膜、５ シリコーン樹脂、６ 太陽電池ストリング、７ 太陽電池セル、８ インターコネクタ、９ 裏面フィルム、２２ ポリアミドイミドフィルム、１０１ ガラス基板、１０２ 裏面側保護部材、１０３ エチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）樹脂、１０４ シリコン太陽電池セル、１０５ インターコネクタ、２０１ 太陽電池用表面保護シート、２０２ 透明高耐光フィルム、２０３ 接着シート、２０４ 透明高防湿フィルム。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、太陽電池用表面保護シートに関し、特に、長期間の使用時における太陽電池モジュールの出力の低下を抑止することができる太陽電池用表面保護シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、資源の有効利用や環境汚染の防止等の観点から、太陽光を直接電気エネルギに変換する太陽電池モジュールが注目されており、開発が進められている。
【０００３】
太陽電池モジュールは、一般に、図１５の模式的断面図に示すように、受光面側透明保護部材としてのガラス基板１０１と、裏面側保護部材１０２との間にインターコネクタ１０５により直列に接続されたシリコン太陽電池セル１０４がエチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）樹脂１０３中に封止された構成を有している。
【０００４】
ここで、太陽電池モジュールの受光面側に設置される受光面側透明保護部材としては、太陽光の紫外線に対する耐久性に優れることがまず第一に要求されるが、加えて、湿気または水の透過による太陽電池モジュール内部の導線や電極における錆の発生を抑止するために、防湿性に優れることが極めて重要な要件となる。そのため、太陽電池モジュールの受光面側に設置される受光面側透明保護部材としては、従来からガラス板が用いられている。
【０００５】
しかしながら、ガラス板は耐光性および防湿性に優れる反面、重量が大きいという問題があり、また、衝撃に弱く割れやすいという欠点がある。
【０００６】
そこで、たとえば特許文献１には、太陽電池モジュールの受光面側に設置される受光面側透明保護部材として太陽電池用表面保護シートを用いる技術が開示されており、特許文献１の太陽電池用表面保護シートの構成を図１６の模式的断面図に示す。
【０００７】
ここで、特許文献１の太陽電池用表面保護シート２０１は、太陽電池モジュールの受光面側から透明高耐光フィルム２０２、接着シート２０３および透明高防湿フィルム２０４がこの順序で配置された構成となっている。また、特許文献１には、透明高耐光フィルム２０２として、ポリエチレンナフタレートからなる基材樹脂に紫外線吸収剤を練り込んだ樹脂組成物からなるフィルムを用い、紫外線吸収剤として、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−メトキシ−５−スルフォベンゾフェノン等のベンゾフェノン系；２−（２’−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系；フェニルサルシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサルシレート等のヒンダートアミン系紫外線吸収材を用いて、通常の場合、紫外線吸収剤は基材樹脂に対して１〜２０重量％程度配合される旨が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０００−１７４２９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献１の太陽電池用表面保護シート２０１のように、透明高耐光フィルム２０２に紫外線吸収剤を練り込んだポリエチレンナフタレートを用いた場合には、透明高耐光フィルム２０２の下層となる透明高防湿フィルム２０４に紫外線が透過するのを防止することができるが、透明高耐光フィルム２０２が太陽光の紫外線を吸収することによって、透明高耐光フィルム２０２の太陽光の透過率が徐々に低下していくことがわかった。
【００１０】
したがって、特許文献１に記載の太陽電池用表面保護シート２０１を用いて太陽電池モジュールを作製した場合には、太陽光の紫外線により、透明高耐光フィルム２０２の太陽光の透過率が徐々に低下するため、太陽電池モジュールの出力も同時に低下するという問題があった。
【００１１】
上記の事情に鑑みて、本発明の目的は、長期間の使用時における太陽電池モジュールの出力の低下を抑止することができる太陽電池用表面保護シートを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、ポリアミドイミドフィルムと、ポリアミドイミドフィルムの一方の表面上に形成された無機酸化物膜とを備え、波長が３００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下である光の吸収率が１％以上２０％以下である太陽電池用表面保護シートである。
【００１３】
また、本発明は、ポリアミドイミドフィルムと、ポリアミドイミドフィルムの一方の表面上に形成された無機酸化物膜とを備え、波長３２５ｎｍの光の吸収率が１％以上２０％以下である太陽電池用表面保護シートである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、長期間の使用時における太陽電池モジュールの出力の低下を抑止することができる太陽電池用表面保護シートを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の太陽電池用表面保護シートの一例の模式的な断面図である。
【図２】本発明の太陽電池用表面保護シートの他の一例の模式的な断面図である。
【図３】本発明の太陽電池用表面保護シートを用いて太陽電池モジュールを作製する方法の一例の工程の一部を図解する模式的な断面図である。
【図４】本発明の太陽電池用表面保護シートを用いて太陽電池モジュールを作製する方法の一例の工程の他の一部を図解する模式的な断面図である。
【図５】本発明の太陽電池用表面保護シートを用いて太陽電池モジュールを作製する方法の一例の工程の他の一部を図解する模式的な断面図である。
【図６】（ａ）および（ｂ）は、ポリエチレンナフタレートフィルムに２５日相当分の紫外線を照射する前と照射した後におけるポリエチレンナフタレートフィルムの光の波長と透過率との関係を示す図である。
【図７】（ａ）および（ｂ）は、ポリエチレンナフタレートフィルムの光の波長と透過率との関係を示す図である。
【図８】（ａ）および（ｂ）は、ポリエチレンナフタレートフィルムの光の波長と反射率との関係を示す図である。
【図９】（ａ）および（ｂ）は、図７および図８の結果をもとにしてポリエチレンナフタレートフィルムの吸収率を計算した結果を示す図である。
【図１０】（ａ）および（ｂ）は、条件１〜条件６のそれぞれの太陽電池用表面保護シートの反射率と光の波長との関係を示す図である。
【図１１】（ａ）および（ｂ）は、条件１〜条件６のそれぞれの太陽電池用表面保護シートの透過率と光の波長との関係を示す図である。
【図１２】図１０および図１１から算出した条件１〜条件６のそれぞれの太陽電池用表面保護シートの吸収率と光の波長との関係を示す図である。
【図１３】（ａ）は太陽電池モジュールの一例の模式的な平面図であり、（ｂ）は（ａ）に示す太陽電池モジュールの模式的な断面図である。
【図１４】条件１〜条件６のそれぞれの太陽電池用表面保護シートを用いて作製した太陽電池モジュールに３０００日相当分の擬似太陽光を照射したときの太陽電池モジュールの出力の割合と太陽電池用表面保護シートの波長３８０ｎｍの光の吸収率との関係を示す図である。
【図１５】従来の太陽電池モジュールの一例の模式的な断面図である。
【図１６】特許文献１に記載の従来の太陽電池用表面保護シートの構成を示す模式的な断面図である。
【図１７】（ａ）および（ｂ）は、ポリアミドイミドフィルムの光の波長と透過率との関係を示す図である。
【図１８】（ａ）および（ｂ）は、ポリアミドイミドフィルムの光の波長と反射率との関係を示す図である。
【図１９】（ａ）および（ｂ）は、図１７および図１８の結果をもとにしてポリアミドイミドフィルムの吸収率を計算した結果を示す図である。
【図２０】（ａ）および（ｂ）は、条件１３の太陽電池用表面保護シートの反射率と光の波長との関係を示す図である。
【図２１】（ａ）および（ｂ）は、条件１３の太陽電池用表面保護シートの透過率と光の波長との関係を示す図である。
【図２２】図２０および図２１から算出した条件１３の太陽電池用表面保護シートの吸収率と光の波長との関係を示す図である。
【図２３】（ａ）は太陽電池モジュールの一例の模式的な平面図であり、（ｂ）は（ａ）に示す太陽電池モジュールの模式的な断面図である。
【図２４】条件１１〜条件１３のそれぞれの太陽電池用表面保護シートを用いて作製した太陽電池モジュールに３０００日相当分の擬似太陽光を照射したときの太陽電池モジュールの出力の割合と太陽電池用表面保護シートの波長３２５ｎｍの光の吸収率との関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の実施の形態について説明する。なお、本発明の図面において、同一の参照符号は、同一部分または相当部分を表わすものとする。
【００１７】
図１に、本発明の太陽電池用表面保護シートの一例の模式的な断面図を示す。ここで、太陽電池用表面保護シート１は、ポリエチレンナフタレートフィルム２と、そのポリエチレンナフタレートフィルム２の一方の表面上に形成された無機酸化物膜３とを有している。そして、太陽電池用表面保護シート１全体における波長３５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の光の吸収率が１％以上２０％以下、特に波長３８０ｎｍの光の吸収率が１％以上２０％以下であることを特徴とする。
【００１８】
本発明者は、上記の構成の太陽電池用表面保護シート１を太陽電池セルの受光面側に設置して太陽電池モジュールを作製した場合には、太陽電池モジュールを太陽光の紫外線に長期間曝したときでも、太陽電池モジュールの出力の低下が抑えられることを見いだし、本発明を完成するに至ったものである。
【００１９】
ここで、ポリエチレンナフタレートフィルム２としては、従来から公知のポリエチレンナフタレートフィルムを用いることができ、具体的には、帝人デュポンフィルム株式会社製のテオネックスＱ６５ＦＡフィルム等を用いることができる。
【００２０】
また、ポリエチレンナフタレートフィルム２の厚さは２５μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、５０μｍ以上７５μｍ以下であることがより好ましい。ポリエチレンナフタレートフィルム２の厚さが２５μｍ以上１００μｍ以下である場合、特に５０μｍ以上７５μｍ以下である場合には、地球周回軌道上５年間分の放射線照射による当該太陽電池モジュールの最大出力値の劣化量を５％程度に抑制することができ、かつポリエチレンナフタレートフィルム２の厚さが増大することによる太陽電池モジュールの質量の増加を抑えることができる傾向にある。
【００２１】
また、無機酸化物膜３としては、たとえば、太陽光の紫外線に対する反射率が高い少なくとも１層以上の酸化物膜を用いることができるが、なかでも酸化ケイ素膜と酸化チタン膜との積層体、または酸化ケイ素膜と酸化タンタル膜との積層体を用いることが好ましい。無機酸化物膜３として、酸化ケイ素膜と酸化チタン膜との積層体、または酸化ケイ素膜と酸化タンタル膜との積層体を用いた場合には、太陽電池用表面保護シート１における太陽光の透過率の低下を抑止できる傾向が大きくなるため、太陽電池モジュールを太陽光の紫外線に長期間曝したときでも、太陽電池モジュールの出力の低下を抑止することができる傾向が大きくなる。
【００２２】
なお、酸化ケイ素膜と酸化チタン膜との積層体は、酸化ケイ素膜と酸化チタン膜とが交互に積層された構成のものであればよく、その積層体を構成する酸化ケイ素膜および酸化チタン膜はそれぞれ少なくとも１層あればよい。
【００２３】
また、酸化ケイ素膜と酸化タンタル膜との積層体も、酸化ケイ素膜と酸化タンタル膜とが交互に積層された構成のものであればよく、その積層体を構成する酸化ケイ素膜および酸化タンタル膜はそれぞれ少なくとも１層あればよい。
【００２４】
また、無機酸化物膜３の最も外側の表面（すなわち、ポリエチレンナフタレートフィルム２から離れている方の無機酸化物膜３の表面；以下「最表面」という。）には酸化ケイ素膜が位置していることが好ましい。この場合には、原子状酸素の照射に起因する太陽電池用表面保護シート１の劣化を抑えることができるため、太陽電池用表面保護シート１の太陽光の透過率の低下を抑止できる傾向が大きくなる。
【００２５】
図２に、本発明の太陽電池用表面保護シートの他の一例の模式的な断面図を示す。ここで、太陽電池用表面保護シート１は、ポリエチレンナフタレートフィルム２と、そのポリエチレンナフタレートフィルム２の一方の表面上に形成された無機酸化物膜３との間に、有機化合物膜４が設置されていることに特徴がある。図２に示す太陽電池用表面保護シート１においても、太陽電池用表面保護シート１全体における波長３５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の光の吸収率が１％以上２０％以下、特に波長３８０ｎｍの光の吸収率が１％以上２０％以下であることを特徴としている。
【００２６】
このように、ポリエチレンナフタレートフィルム２と無機酸化物膜３との間に有機化合物膜４を設置することによって、太陽光に長期間曝されること等の理由により太陽電池用表面保護シート１の温度が上昇した場合でも、ポリエチレンナフタレートフィルム２と無機酸化物膜３との熱膨張係数差に起因する無機酸化物膜３の割れの発生および無機酸化物膜３のポリエチレンナフタレートフィルム２からの剥離の発生を有効に抑止することができる傾向にある。
【００２７】
ここで、有機化合物膜４としては、たとえば、放射線硬化性樹脂に放射線を照射することによって硬化させたもの等を用いることができる。なお、放射線とは、たとえば、赤外線、可視光線、紫外線およびＸ線、電子線、α線、β線、γ線等の電離放射線を意味しており、通常は紫外線等の光を用いることができる。
【００２８】
また、放射線硬化性樹脂としては、ポリオールアクリレート系樹脂、ポリエステルアクリレート系樹脂、ウレタンアクリレート系樹脂、エポキシアクリレート系樹脂等の多官能アクリレート系放射線硬化性樹脂を用いることができる。なお、放射線硬化性樹脂には、必要に応じて、従来から公知の光重合開始剤および／または光増感剤が添加されていてもよい。また、放射線硬化性樹脂には、必要に応じて、たとえば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、離型剤、溶媒、フィラー、老化防止剤、濡れ性改良剤等の少なくとも１種の従来から公知の添加剤が添加されていてもよい。
【００２９】
ポリオールアクリレート系樹脂としては、従来から公知のものを用いることができ、たとえば、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等の樹脂を挙げることができる。これらの樹脂には従来から公知の光反応開始剤および／または光増感剤が添加され得る。
【００３０】
ポリエステルアクリレート系樹脂としては、従来から公知のものを用いることができ、たとえば、ポリエステルポリオールに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって得たもの等を用いることができる。
【００３１】
ウレタンアクリレート系樹脂としては、従来から公知のものを用いることができ、たとえば、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって得たもの等を用いることができる。
【００３２】
エポキシアクリレート系樹脂としては、従来から公知のものを用いることができ、たとえば、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反応させたもの等を用いることができる。
【００３３】
また、有機化合物膜４の膜厚は１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以上６μｍ以下であることがより好ましい。有機化合物膜４の膜厚を１μｍ以上１０μｍ以下とした場合、特に３μｍ以上６μｍ以下とした場合には、太陽電池用表面保護シート１の温度が１５０℃程度の高温に上昇した場合でも、ポリエチレンナフタレートフィルム２と無機酸化物膜３との熱膨張係数差に起因する無機酸化物膜３の割れの発生を有効に抑止し、太陽電池用表面保護シート１の透過率の低下を抑止できる傾向にある。
【００３４】
上記の構成の太陽電池用表面保護シート１は、たとえば以下のようにして製造することができる。
【００３５】
まず、市販のポリエチレンナフタレートフィルムを適当なサイズに切り出すことによって、ポリエチレンナフタレートフィルム２を用意する。次に、ポリエチレンナフタレートフィルム２の一方の表面上にアプリケータでポリオールアクリレート系樹脂を５μｍ程度の厚さに塗工し、塗工したポリオールアクリレート系樹脂を７５℃の温度で１０分間熱風乾燥した後に、高圧水銀ランプ８Ｗ／ｃｍを用いて２０ｃｍの高さから５ｍ／ｍｉｎのコンベア速度で紫外線照射を行なうことによってポリオールアクリレート系樹脂を硬化する。これにより、ポリエチレンナフタレートフィルム２の表面上にポリオールアクリレート系樹脂が硬化してなる有機化合物膜４が形成される。なお、ポリオールアクリレート系樹脂の代わりに、ポリエステルアクリレート系樹脂、ウレタンアクリレート系樹脂、エポキシアクリレート系樹脂等の多官能アクリレート系放射線硬化性樹脂を用いることもできる。なお、図１に示す太陽電池用表面保護シート１を作製する場合には、有機化合物膜４を形成する必要がないことは言うまでもない。
【００３６】
次に、ポリエチレンナフタレートフィルム２の一方の表面上に無機酸化物膜３を形成する。また、ポリエチレンナフタレートフィルム２の表面上に上記の多官能アクリレート系放射線硬化性樹脂が硬化してなる有機化合物膜４を形成する場合には、その有機化合物膜４の表面上に無機酸化物膜３を形成する。無機酸化物膜３としては、たとえば蒸着法またはスパッタ法等により、酸化ケイ素膜と酸化チタン膜との積層体、または酸化ケイ素膜と酸化タンタル膜との積層体により形成することが好ましい。一般に、上記の積層体の各層の膜厚等を適宜調整することにより、反射する光の波長域の大きさ、反射する光の波長の中心（最も反射率が高くなる光の波長）を変化させることができるため、太陽電池用表面保護シート１の全体における波長３５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の光の吸収率を１％以上２０％以下、特に波長３８０ｎｍの光の吸収率を１％以上２０％以下に調節することが可能になる。
【００３７】
以上により、図１または図２に示す太陽電池用表面保護シート１を製造することができる。なお、上記の無機酸化物膜３が形成されている側を太陽電池用表面保護シート１の受光面側として用いることができる。
【００３８】
ここで、図１または図２に示す太陽電池用表面保護シート１のポリエチレンナフタレートフィルム２の裏面側（受光面側と反対側）となる表面に酸化ケイ素膜を形成することが好ましい。この場合には、ポリエチレンナフタレートフィルム２の裏面側における太陽光の反射を抑止することができるとともに、後述するシリコーン樹脂との接着性が向上する傾向にある。
【００３９】
以下に、図３〜図５の模式的断面図を参照して、上記のようにして作製した太陽電池用表面保護シート１を用いて太陽電池モジュールを作製する方法の一例について説明する。
【００４０】
まず、上記のようにして作製した太陽電池用表面保護シート１を用意し、図３に示すように、太陽電池用表面保護シート１の裏面側の表面にシリコーン樹脂５を塗布する。ここで、シリコーン樹脂５は、たとえば、ローラー等でシリコーン樹脂５とローラーを馴染ませ、そのローラーを用いて太陽電池用表面保護シート１の裏面側の表面上に塗布することが好ましい。この場合には、シリコーン樹脂５をほぼ均一な厚さで、かつ薄く塗布することができる傾向にある。なお、本発明においては、ローラーを用いた方法以外の方法により、シリコーン樹脂５を塗布してもよい。また、シリコーン樹脂５としては、従来から公知のシリコーン樹脂を用いることができ、たとえば、ダウコーニング社製のＤＣ９３−５００、同じくダウコーニング社製のＳＹＬＧＡＲＤ１８４等を用いることができる。
【００４１】
次に、図４に示すように、太陽電池用表面保護シート１のシリコーン樹脂５を塗布した側の表面と太陽電池ストリング６の受光面を貼り合わせる。ここで、太陽電池ストリング６は、太陽電池セル７の複数が導電性のインターコネクタ８により接続された構成となっている。
【００４２】
ここで、太陽電池用表面保護シート１と太陽電池ストリング６との貼り合わせは、たとえば、シリコーン樹脂５を塗布した太陽電池用表面保護シート１の表面上に太陽電池ストリング６を置いた状態で真空チャンバに入れ、真空チャンバを真空引きすることにより、シリコーン樹脂５と太陽電池ストリング６との間の気泡を除去することにより行なうことができる。
【００４３】
また、太陽電池ストリング６とシリコーン樹脂５を塗布した太陽電池用表面保護シート１との貼り合わせ自体を真空チャンバ内で行なうことにより、上記と同様に、シリコーン樹脂５と太陽電池ストリング６との間の気泡を除去することが可能である。
【００４４】
次に、シリコーン樹脂５を加熱して硬化させることによって、太陽電池用表面保護シート１と太陽電池ストリング６とを接着させる。ここで、シリコーン樹脂５は、オーブンを用いて加熱してもよく、ヒーターを用いて加熱してもよい。また、シリコーン樹脂５の加熱温度および加熱時間はそれぞれ適宜設定することが可能であるが、シリコーン樹脂５としてたとえばダウコーニング社製のＤＣ９３−５００またはダウコーニング社製のＳＹＬＧＡＲＤ１８４を用いた場合には加熱温度は１００℃程度に設定され、加熱時間は１時間程度に設定される。
【００４５】
次に、図５に示すように、上記と同様の手順で、太陽電池ストリング６の裏面側に裏面フィルム９をシリコーン樹脂５によって接着する。ここで、裏面フィルム９としては、受光面側の太陽電池用表面保護シート１と同一の材料を用いることができる。
【００４６】
以上の工程により、太陽電池用表面保護シート１を用いた太陽電池モジュールが作製される。
【００４７】
なお、上記において、太陽電池モジュール６を構成する太陽電池セル７としては、たとえば従来から公知の化合物半導体太陽電池を用いることができ、この化合物半導体太陽電池はたとえば以下のようにして作製することができる。なお、本発明において、太陽電池セル７は化合物半導体太陽電池に限定されず、シリコン太陽電池等の他の太陽電池であってもよいことは言うまでもない。
【００４８】
まず、Ｓｉ、ＧｅまたはＧａＡｓ等からなる半導体基板の表面上に複数の種類の異なる化合物半導体層をエピタキシャル成長させる。ここで、半導体基板の表面上には、たとえば、ｐｎ接合を含む太陽電池層と、第２電極を接続するためのコンタクト層とを含む構成となるように化合物半導体層を順次エピタキシャル成長させることができる。
【００４９】
次に、フォトリソグラフィ法により、上記の化合物半導体層の表面の必要な部分にのみマスクを形成した後に、マスクが形成されていない部分をエッチングする。その後、マスクは除去される。
【００５０】
続いて、太陽電池層の受光面を構成するコンタクト層に、たとえば、通常のフォトリソグラフィ法、蒸着法、リフトオフ法、シンター法等により第１電極を形成する。第１電極は、たとえば、銀（Ａｇ）等の導電性材料から構成することができる。また、第１電極の形状は、たとえば櫛形状にすることができるが、その他、櫛形状以外にも、太陽電池セル７として機能できる全ての電極形状を採用することができる。
【００５１】
次に、半導体基板を所定の形状となるように複数に分割した後に、半導体基板の裏面に、たとえば、通常のフォトリソグラフィ法、蒸着法、リフトオフ法、シンター法等により第２電極を形成する。ここで、第２電極は、たとえば、銀（Ａｇ）等の導電性材料から構成することができる。第２電極の形状は、太陽電池セル７として機能できる全ての電極形状を採用することができる。
【００５２】
以上により、太陽電池モジュール６を構成する太陽電池セル７が作製される。ここで、太陽電池セル７の切り出しは、たとえば、通常のダイシング法またはスクライブ法により必要部分の一単位の太陽電池セル７の外周部に切れ目をいれ、通常のエキスパンド法あるいはブレイク法により太陽電池セル７を切り出すことにより行なうことができる。
【００５３】
そして、上記のようにして作製された１つの太陽電池セル７の受光面に形成された第１電極と、他の１つの太陽電池セル７の裏面に形成された第２電極とをインターコネクタ８を介して電気的に接続することによって太陽電池ストリング６が作製される。ここで、インターコネクタ８は、第１電極および第２電極のそれぞれとたとえば通常のスポット溶接法により溶接されることによってこれらの電極とそれぞれ接続される。インターコネクタ８はたとえば銀（Ａｇ）等の導電性材料からなり、インターコネクタ８の形状は、太陽電池セル７の外周部より外側に引き出すことが可能な形状であることが好ましい。
【００５４】
そして、それぞれの太陽電池ストリング６の終端には、バスバーが通常のスポット溶接法により溶接されて、太陽電池ストリング６同士が並列に接続されることになる。
【００５５】
本発明の太陽電池用表面保護シート１は、ポリエチレンナフタレートフィルム２と、ポリエチレンナフタレートフィルム２の片面に紫外線を反射する機能を有する無機酸化物膜３が形成されており、太陽電池用表面保護シート１の波長３５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の光の吸収率が１％以上２０％以下、特に波長３８０ｎｍの光の吸収率が１％以上２０％以下であることから、太陽電池用表面保護シート１の太陽光の透過率の低下を抑制することができるため、この太陽電池用表面保護シート１を用いて作製した太陽電池モジュールを長期間使用した場合における太陽電池モジュールの出力の低下を抑止することができる。したがって、本発明の太陽電池用表面保護シート１を用いて作製した太陽電池モジュールは、長期間紫外線に曝されてもその発電量が劣化しにくくなり、高耐久性の太陽電池モジュールとすることができる。
【００５６】
また、無機酸化物膜３として、酸化ケイ素膜と酸化チタン膜との積層体、または酸化ケイ素膜と酸化タンタル膜との積層体を用いた場合には、太陽電池用表面保護シート１における太陽光の透過率の低下を抑止できる傾向が大きくなるため、太陽電池モジュールを太陽光の紫外線に長期間曝したときでも、太陽電池モジュールの出力の低下を抑止することができる傾向が大きくなる。
【００５７】
また、無機酸化物膜３の最表面に酸化ケイ素膜を位置させることによって、原子状酸素の照射に起因する太陽電池用表面保護シート１の劣化を抑止することができるため、太陽電池用表面保護シート１における太陽光の透過率の低下を抑止することができ、太陽電池モジュールの出力の低下を抑止することができる傾向が大きくなる。
【００５８】
また、ポリエチレンナフタレートフィルム２と無機酸化物膜３との間に有機化合物膜４を設置することによって、太陽光に長期間曝されること等の理由により太陽電池用表面保護シート１の温度が上昇した場合でも、ポリエチレンナフタレートフィルム２と無機酸化物膜３との熱膨張係数差に起因して発生する応力を有機化合物膜４で緩和することができるため、無機酸化物膜３の割れの発生および無機酸化物膜３の剥離の発生を有効に抑止することができる傾向にある。したがって、この太陽電池用表面保護シート１を用いて作製した太陽電池モジュールは、厳しい温度差がある厳しい環境下に曝された場合でも、高耐久性のものとすることができ、出力の低下を抑止することができる傾向が大きくなる。
【００５９】
また、本発明の太陽電池用表面保護シート１のポリエチレンナフタレートフィルム２の裏面側（受光面側と反対側）となる表面に酸化ケイ素膜を形成した場合には、ポリエチレンナフタレートフィルム２の裏面側における太陽光の反射を抑止することができるとともにシリコーン樹脂５との接着性が向上する傾向にある。この接着性を向上させることにより太陽電池モジュール内への水分の染み込みを抑えることができるため、太陽電池モジュールが高湿度環境下に曝された場合でも高耐久性のものとすることができ、出力の低下を抑止することができる傾向が大きくなる。
【実施例】
【００６０】
図６（ａ）および図６（ｂ）に、ポリエチレンナフタレートフィルムに２５日相当分の紫外線を照射する前と照射した後におけるポリエチレンナフタレートフィルムの光の波長と透過率との関係を示す。ここで、紫外線の照射は、ハロゲンランプのスペクトルを太陽光のスペクトルに擬似的に模し、２００倍に集光して行なった。
【００６１】
図６（ａ）および図６（ｂ）に示すように、ポリエチレンナフタレートフィルムに紫外線を照射することにより、波長３８０〜６００ｎｍの光の透過率（％）が大きく低下している。これは、紫外線の照射によりポリエチレンナフタレートフィルムが黄変したためと考えられる。したがって、太陽電池用表面保護シートとしてポリエチレンナフタレートフィルムのみを用いた場合には、太陽電池モジュールを長期間使用するにしたがってポリエチレンナフタレートフィルムの光の透過率が低下し、太陽電池モジュールの出力が低下するものと考えられる。
【００６２】
実際に、太陽電池用表面保護シートとして２５日相当分の紫外線の照射前と照射後のポリエチレンナフタレートフィルムを用いてそれぞれ太陽電池セルを作製して紫外線の照射前後の太陽電池セルの出力の変化を確認したが、紫外線の照射前と比較して照射後の太陽電池セルの出力は約２２％低下した。
【００６３】
ポリエチレンナフタレートフィルムが黄変するメカニズムを解明するため、まず最初に、ポリエチレンナフタレートフィルムの光の透過率と反射率とを測定した。ここで、ポリエチレンナフタレートフィルムの透過率と反射率の測定には、日本分光株式会社製の絶対反射率測定装置ＡＲＮ−４７５型を用いた。ポリエチレンナフタレートフィルムの透過率と反射率の測定において用いられた光の波長は３００ｎｍ〜１５００ｎｍとした。図７（ａ）および図７（ｂ）に、ポリエチレンナフタレートフィルムの光の波長と透過率との関係を示し、図８（ａ）および図８（ｂ）に、ポリエチレンナフタレートフィルムの光の波長と反射率との関係を示す。
【００６４】
図７および図８の結果をもとにして、ポリエチレンナフタレートフィルムの吸収率を計算した結果を図９（ａ）および図９（ｂ）に示す。ここで、吸収率は、下記の式（１）により定義される。
【００６５】
吸収率（％）＝１００（％）−透過率（％）−反射率（％） …（１）
図９（ａ）および図９（ｂ）に示すように、ポリエチレンナフタレートフィルムの吸収率は波長３８０ｎｍ付近で最も高くなることがわかる。
【００６６】
そこで、ポリエチレンナフタレートフィルムの波長３８０ｎｍ付近の光の吸収を抑止するために、ポリエチレンナフタレートフィルムの一方の表面にガラス製の紫外線反射フィルターに使われている従来技術を用いて紫外線反射用の無機酸化物膜を成膜して太陽電池用表面保護シートを作製した。ここで、無機酸化物膜としては、酸化ケイ素膜と酸化チタン膜とが交互にそれぞれ複数層積層された積層体を用いて、無機酸化物膜の反射光の中心波長を変えるために、酸化ケイ素膜と酸化チタン膜の膜厚を変更した条件１〜条件６の６種類の成膜を行なった。そして、条件１〜条件６のそれぞれの太陽電池用表面保護シートについて、光の反射率と透過率を測定した。図１０（ａ）および図１０（ｂ）に、条件１〜条件６のそれぞれの太陽電池用表面保護シートの反射率の測定結果を示し、図１１（ａ）および図１１（ｂ）に、条件１〜条件６のそれぞれの太陽電池用表面保護シートの透過率の測定結果を示す。さらに、図１０および図１１から算出した条件１〜条件６のそれぞれの太陽電池用表面保護シートの吸収率と光の波長との関係を図１２（ａ）および図１２（ｂ）に示す。
【００６７】
図１２（ａ）および図１２（ｂ）から明らかなように、太陽電池用表面保護シートの無機酸化物膜における反射する光の波長の中心（最も反射率が高くなる光の波長）を３５０ｎｍ（条件１）から３７５ｎｍ（条件６）に変化させることにより、太陽電池用表面保護シート全体の波長３８０ｎｍの光の吸収率は、３５％（条件１）、２４％（条件２）、１７％（条件３）、１３％（条件４）、９％（条件５）、８％（条件６）と変化させることができる。
【００６８】
次に、上記のようにして作製した条件１〜条件６の太陽電池用表面保護シートを用いて図１３（ａ）および図１３（ｂ）に示す構成の太陽電池モジュールを作製した。この太陽電池モジュールを構成する太陽電池セル７は、ＧａＡｓ基板１２上にたとえばＭＯＣＶＤ（Metal Organic Chemical Vapor Deposition）法によりエピタキシャル成長させた太陽電池層１１が形成されている。
【００６９】
太陽電池層１１は、太陽光を受光する受光面となるｎ型ＧａＡｓコンタクト層と、ｎ型ＧａＩｎＰ層／ｐ型ＧａＩｎＰ層およびｎ型ＧａＡｓ層／ｐ型ＧａＡｓ層の２つのｐｎ接合とを含む構成となっている。また、ｎ型ＧａＡｓコンタクト層の表面上には櫛形状のｎ型電極１０が形成されており、ＧａＡｓ基板１２の裏面にはｐ型電極１３が形成されている。
【００７０】
そして、上記の構成を有する２つの太陽電池セルの一方のｎ型電極１０とｐ型電極１３とがインターコネクタ８で接続されて太陽電池ストリングが形成されており、この太陽電池ストリングが太陽電池用表面保護シート１の裏面の酸化ケイ素膜１４と裏面フィルム９との間のシリコーン樹脂５中に封止されている。
【００７１】
なお、上記のｎ型電極１０は、従来知られているフォトリソグラフィ工程とエッチング工程を利用してｎ型ＧａＡｓコンタクト層の不要部分をエッチングにより除去した後、従来知られているフォトリソグラフィ工程と蒸着工程とリフトオフ工程と熱処理工程とを組み合わせてｎ型ＧａＡｓコンタクト層上に形成されており、その主成分は銀（Ａｇ）である。
【００７２】
続いて、太陽電池層１１の必要部分を通常のフォトマスキング工程でマスク（図示せず）を形成し、不要部分をエッチングにより除去する。ここで、ｎ型ＧａＡｓ層およびｐ型ＧａＡｓ層のエッチングにはアンモニア系のエッチング液が用いられ、ｎ型ＧａＩｎＰ層およびｐ型ＧａＩｎＰ層のエッチングには塩酸系のエッチング液が用いられる。
【００７３】
さらに、ＧａＡｓ基板１２の外周部を通常のダイシング法によりハーフダイスすることにより切れ目を入れておき、通常のブレイク法により所定の形状に切り出した後にＧａＡｓ基板１２の裏面に銀（Ａｇ）を主成分とするｐ型電極１３を形成する。その後、太陽電池層１１の受光面に酸化チタン膜と酸化アルミニウム膜との積層体からなる反射防止膜（図示せず）を形成して太陽電池セル７が完成する。
【００７４】
そして、上記のようにして形成した太陽電池セル７を２つ用意し、１つの太陽電池セル７のｎ型電極１０上に銀（Ａｇ）を主成分とするインターコネクタ８の一端を溶接し、他の１つの太陽電池セル７のｐ型電極１３上にそのインターコネクタ８の他端を溶接することによって、２つの太陽電池セル７が直列に接続された太陽電池ストリングを構成する。
【００７５】
次に、シリコーン樹脂５を塗布した太陽電池用表面保護シート１と、上記で作製した太陽電池ストリングとを貼り合わせる。まず、太陽電池用表面保護シート１にシリコーン樹脂５を塗布する。
【００７６】
次に、離型紙の上に上記の太陽電池ストリングを受光面が上方を向くように設置し、シリコーン樹脂５を塗布した太陽電池用表面保護シート１を太陽電池ストリング上に重ねて接着する。
【００７７】
太陽電池用表面保護シート１は、ポリエチレンナフタレートフィルム２の一方の表面の直上には有機化合物膜４が形成され、有機化合物膜４の表面の直上には上記の条件１〜条件６で条件を変化させた無機酸化物膜３が形成されており、ポリエチレンナフタレートフィルム２の他方の表面には酸化ケイ素膜１４が８０ｎｍの厚さで形成されている。すなわち、太陽電池用表面保護シート１としては、上記の条件１〜条件６のように無機酸化物膜３の構成がそれぞれ異なる６種類の太陽電池用表面保護シート１が形成されたことになる。
【００７８】
ここで、有機化合物膜４としては、ウレタンアクリレート系樹脂に紫外線を照射して５μｍの厚さに形成したものが用いられている。また、無機酸化物膜３は、酸化ケイ素膜と酸化チタン膜とを交互に積層した積層体からなり、その最表面には酸化ケイ素膜が位置した構成となっている。なお、無機酸化物膜３の構成は、上記の条件１〜条件６の条件でそれぞれ形成されており、図１０の反射率および図１１の透過率を示すように設計されている。また、ポリエチレンナフタレートフィルム２の他方の表面に酸化ケイ素膜１４を８０ｎｍの厚さに形成する。
【００７９】
続いて、シリコーン樹脂５を塗布した裏面フィルム９を上記で作製した太陽電池ストリング上に重ねて接着する。その後、脱泡処理１００℃のオーブンに１時間入れシリコーン樹脂５を硬化させ、条件１〜条件６のそれぞれの無機酸化物膜３を有する６種類の太陽電池用表面保護シート１がそれぞれ貼り合わされた図１３（ａ）および図１３（ｂ）に示す構成の太陽電池モジュールを６種類完成させる。
【００８０】
そして、上記のようにして作製した６種類の太陽電池モジュールのそれぞれについて、株式会社ウシオスペックス製クセノン５ｋＷ光源装置を用いて擬似太陽光の照射を行なって紫外線照射試験を行なった。ここで、紫外線照射試験を加速させるために地球上での太陽光の２００倍となるように擬似太陽光の調整を行なった。
【００８１】
図１４に、上記の６種類の太陽電池モジュールのそれぞれに３０００日相当分の擬似太陽光を照射したときの太陽電池モジュールの出力の割合と太陽電池用表面保護シートの波長３８０ｎｍの光の吸収率との関係を示す。図１４において、横軸は、太陽電池用表面保護シート１における波長３８０ｎｍの光の吸収率（％）を示し、縦軸は、太陽電池用表面保護シート１の貼り付け前の太陽電池ストリングの出力を１００（％）とした場合に対する上記の３０００日相当分の擬似太陽光の照射後の太陽電池モジュールの出力の割合（％）を算出したものである。
【００８２】
図１４に示す結果から、３０００日相当分の擬似太陽光の照射後の太陽電池モジュールの出力が太陽電池用表面保護シート１を貼り付け前の太陽電池ストリングの出力の８０％以上となることが必要であるとすると、波長３８０ｎｍにおける光の吸収率が２０％以下である太陽電池用表面保護シート１（条件３〜条件６の無機酸化物膜３を含む太陽電池用表面保護シート１）を用いて太陽電池モジュールを作製する必要があることが確認された。
【００８３】
また、別に行った実験により、波長３８０ｎｍにおける光の吸収率が１％未満である太陽電池用表面保護シート１を用いて太陽電池モジュールを作製した場合には、太陽電池モジュールの出力が８０％未満となるため、波長３８０ｎｍにおける光の吸収率は１％以上の太陽電池用表面保護シート１を用いて太陽電池モジュールを作製する必要があることが確認された。
【００８４】
また、ポリアミドイミドフィルムが黄変するメカニズムを解明するため、まず最初に、ポリアミドイミドフィルムの光の透過率と反射率とを測定した。ここで、ポリアミドイミドフィルムの透過率と反射率の測定には、日本分光株式会社製の絶対反射率測定装置ＡＲＮ−４７５型を用いた。ポリアミドイミドフィルムの透過率と反射率の測定において用いられた光の波長は３００ｎｍ〜１５００ｎｍとした。図１７（ａ）および図１７（ｂ）に、ポリアミドイミドフィルムの光の波長と透過率との関係を示し、図１８（ａ）および図１８（ｂ）に、ポリアミドイミドフィルムの光の波長と反射率との関係を示す。
【００８５】
図１７および図１８の結果をもとにして、ポリアミドイミドフィルムの吸収率を計算した結果を図１９（ａ）および図１９（ｂ）に示す。ここで、吸収率は、上記の式（１）により定義される。
【００８６】
図１９（ａ）および図１９（ｂ）に示すように、ポリアミドイミドフィルムの吸収率は波長３２５ｎｍ付近にピークを持つことがわかる。
【００８７】
そこで、ポリアミドイミドフィルムの波長３２５ｎｍ付近の光の吸収を抑止するために、ポリアミドイミドフィルムの一方の表面にガラス製の紫外線反射フィルターに使われている従来技術を用いて紫外線反射用の無機酸化物膜を成膜して太陽電池用表面保護シートを作製した。ここで、無機酸化物膜としては、酸化ケイ素膜と酸化チタン膜とが交互にそれぞれ複数層積層された積層体を用いて、無機酸化物膜の反射光の中心波長を変えるために、酸化ケイ素膜と酸化チタン膜の膜厚を変更した条件１１〜条件１３の３種類の成膜を行なった。そして、代表的な条件１３の太陽電池用表面保護シートについて、光の反射率と透過率を測定結果の一例を示した。図２０（ａ）および図２０（ｂ）に、条件１３の太陽電池用表面保護シートの反射率の測定結果を示し、図２１（ａ）および図２１（ｂ）に、条件１３の太陽電池用表面保護シートの透過率の測定結果を示す。さらに、図２０および図２１から算出した条件１３の太陽電池用表面保護シートの吸収率と光の波長との関係を図２２（ａ）および図２２（ｂ）に示す。
【００８８】
ポリエチレンナフタレートフィルムの時と同様に、太陽電池用表面保護シートの無機酸化物膜における反射する光の波長の中心（最も反射率が高くなる光の波長）を３７５ｎｍ（条件１１）、３５０ｎｍ（条件１２）、３２５ｎｍ（条件１３）に変化させることにより、太陽電池用表面保護シート全体の波長３２５ｎｍの光の吸収率は、２４％（条件１１）、１５％（条件１２）、４％（条件１３）と変化させることができる。
【００８９】
次に、上記のようにして作製した条件１１〜条件１３の太陽電池用表面保護シートを用いて図２３（ａ）および図２３（ｂ）に示す構成の太陽電池モジュールを作製した。この太陽電池モジュールを構成する太陽電池セル７は、ＧａＡｓ基板１２上にたとえばＭＯＣＶＤ（Metal Organic Chemical Vapor Deposition）法によりエピタキシャル成長させた太陽電池層１１が形成されている。
【００９０】
太陽電池層１１は、太陽光を受光する受光面となるｎ型ＧａＡｓコンタクト層と、ｎ型ＧａＩｎＰ層／ｐ型ＧａＩｎＰ層およびｎ型ＧａＡｓ層／ｐ型ＧａＡｓ層の２つのｐｎ接合とを含む構成となっている。また、ｎ型ＧａＡｓコンタクト層の表面上には櫛形状のｎ型電極１０が形成されており、ＧａＡｓ基板１２の裏面にはｐ型電極１３が形成されている。
【００９１】
そして、上記の構成を有する２つの太陽電池セルの一方のｎ型電極１０とｐ型電極１３とがインターコネクタ８で接続されて太陽電池ストリングが形成されており、この太陽電池ストリングが太陽電池用表面保護シート１の裏面の酸化ケイ素膜１４と裏面フィルム９との間のシリコーン樹脂５中に封止されている。
【００９２】
なお、上記のｎ型電極１０は、従来知られているフォトリソグラフィ工程とエッチング工程を利用してｎ型ＧａＡｓコンタクト層の不要部分をエッチングにより除去した後、従来知られているフォトリソグラフィ工程と蒸着工程とリフトオフ工程と熱処理工程とを組み合わせてｎ型ＧａＡｓコンタクト層上に形成されており、その主成分は銀（Ａｇ）である。
【００９３】
続いて、太陽電池層１１の必要部分を通常のフォトマスキング工程でマスク（図示せず）を形成し、不要部分をエッチングにより除去する。ここで、ｎ型ＧａＡｓ層およびｐ型ＧａＡｓ層のエッチングにはアンモニア系のエッチング液が用いられ、ｎ型ＧａＩｎＰ層およびｐ型ＧａＩｎＰ層のエッチングには塩酸系のエッチング液が用いられる。
【００９４】
さらに、ＧａＡｓ基板１２の外周部を通常のダイシング法によりハーフダイスすることにより切れ目を入れておき、通常のブレイク法により所定の形状に切り出した後にＧａＡｓ基板１２の裏面に銀（Ａｇ）を主成分とするｐ型電極１３を形成する。その後、太陽電池層１１の受光面に酸化チタン膜と酸化アルミニウム膜との積層体からなる反射防止膜（図示せず）を形成して太陽電池セル７が完成する。
【００９５】
そして、上記のようにして形成した太陽電池セル７を２つ用意し、１つの太陽電池セル７のｎ型電極１０上に銀（Ａｇ）を主成分とするインターコネクタ８の一端を溶接し、他の１つの太陽電池セル７のｐ型電極１３上にそのインターコネクタ８の他端を溶接することによって、２つの太陽電池セル７が直列に接続された太陽電池ストリングを構成する。
【００９６】
次に、シリコーン樹脂５を塗布した太陽電池用表面保護シート１と、上記で作製した太陽電池ストリングとを貼り合わせる。まず、太陽電池用表面保護シート１にシリコーン樹脂５を塗布する。
【００９７】
次に、離型紙の上に上記の太陽電池ストリングを受光面が上方を向くように設置し、シリコーン樹脂５を塗布した太陽電池用表面保護シート１を太陽電池ストリング上に重ねて接着する。
【００９８】
太陽電池用表面保護シート１は、ポリアミドイミドフィルム２２の一方の表面の直上には有機化合物膜４が形成され、有機化合物膜４の表面の直上には上記の条件１１〜条件１３で条件を変化させた無機酸化物膜３が形成されており、ポリアミドイミドフィルム２２の他方の表面には酸化ケイ素膜１４が８０ｎｍの厚さで形成されている。すなわち、太陽電池用表面保護シート１としては、上記の条件１１〜条件１３のように無機酸化物膜３の構成がそれぞれ異なる３種類の太陽電池用表面保護シート１が形成されたことになる。
【００９９】
ここで、有機化合物膜４としては、ウレタンアクリレート系樹脂に紫外線を照射して５μｍの厚さに形成したものが用いられている。また、無機酸化物膜３は、酸化ケイ素膜と酸化チタン膜とを交互に積層した積層体からなり、その最表面には酸化ケイ素膜が位置した構成となっている。なお、無機酸化物膜３の構成は、上記の条件１１〜条件１３の条件でそれぞれ形成されている。また、ポリアミドイミドフィルム２の他方の表面に酸化ケイ素膜１４を８０ｎｍの厚さに形成する。
【０１００】
続いて、シリコーン樹脂５を塗布した裏面フィルム９を上記で作製した太陽電池ストリング上に重ねて接着する。その後、脱泡処理１００℃のオーブンに１時間入れシリコーン樹脂５を硬化させ、条件１１〜条件１３のそれぞれの無機酸化物膜３を有する３種類の太陽電池用表面保護シート１がそれぞれ貼り合わされた図２３（ａ）および図２３（ｂ）に示す構成の太陽電池モジュールを３種類完成させる。
【０１０１】
そして、上記のようにして作製した３種類の太陽電池モジュールのそれぞれについて、株式会社ウシオスペックス製クセノン５ｋＷ光源装置を用いて擬似太陽光の照射を行なって紫外線照射試験を行なった。ここで、紫外線照射試験を加速させるために地球上での太陽光の２００倍となるように擬似太陽光の調整を行なった。
【０１０２】
図２４に、上記の３種類の太陽電池モジュールのそれぞれに３０００日相当分の擬似太陽光を照射したときの太陽電池モジュールの出力を示す。図２４において、横軸は、太陽電池用表面保護シート１における波長３２５ｎｍの光の吸収率を示し、縦軸は、太陽電池用表面保護シート１を貼り付け前の太陽電池ストリングの出力を１００（％）とした場合に対する上記の３０００日相当分の擬似太陽光の照射後の太陽電池モジュールの出力の割合（％）を算出したものである。
【０１０３】
図２４に示す結果から、３０００日相当分の擬似太陽光の照射後の太陽電池モジュールの出力が太陽電池用表面保護シート１を貼り付け前の太陽電池ストリングの出力の８０％以上となることが必要であるとすると、波長３２５ｎｍにおける光の吸収率が２０％以下である太陽電池用表面保護シート１（条件１２、条件１３の無機酸化物膜３を含む太陽電池用表面保護シート１）を用いて太陽電池モジュールを作製する必要があることが確認された。
【０１０４】
また、別に行った実験により、波長３２５ｎｍにおける光の吸収率が１％未満である太陽電池用表面保護シート１を用いて太陽電池モジュールを作製した場合には、太陽電池モジュールの出力が８０％未満となるため、波長３２５ｎｍにおける光の吸収率は１％以上の太陽電池用表面保護シート１を用いて太陽電池モジュールを作製する必要があることが確認された。
【０１０５】
今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【産業上の利用可能性】
【０１０６】
本発明によれば、長期間の使用時における太陽電池モジュールの出力の低下を抑止することができる太陽電池用表面保護シートを提供することができる。
【０１０７】
本発明の太陽電池用表面保護シートを用いた太陽電池モジュールは、たとえば宇宙用（人工衛星搭載用）太陽電池モジュールに好適に用いられる。
【符号の説明】
【０１０８】
１ 太陽電池用表面保護シート、２ ポリエチレンナフタレートフィルム、３ 無機酸化物膜、４ 有機化合物膜、５ シリコーン樹脂、６ 太陽電池ストリング、７ 太陽電池セル、８ インターコネクタ、９ 裏面フィルム、２２ ポリアミドイミドフィルム、１０１ ガラス基板、１０２ 裏面側保護部材、１０３ エチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）樹脂、１０４ シリコン太陽電池セル、１０５ インターコネクタ、２０１ 太陽電池用表面保護シート、２０２ 透明高耐光フィルム、２０３ 接着シート、２０４ 透明高防湿フィルム。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリアミドイミドフィルムと、
前記ポリアミドイミドフィルムの一方の表面上に形成された無機酸化物膜とを備え、
波長が３００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下である光の吸収率が１％以上２０％以下である、太陽電池用表面保護シート。
【請求項２】
ポリアミドイミドフィルムと、
前記ポリアミドイミドフィルムの一方の表面上に形成された無機酸化物膜とを備え、
波長３２５ｎｍの光の吸収率が１％以上２０％以下である、
太陽電池用表面保護シート。
【請求項１】
ポリアミドイミドフィルムと、
前記ポリアミドイミドフィルムの一方の表面上に形成された無機酸化物膜とを備え、
波長が３００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下である光の吸収率が１％以上２０％以下である、太陽電池用表面保護シート。
【請求項２】
ポリアミドイミドフィルムと、
前記ポリアミドイミドフィルムの一方の表面上に形成された無機酸化物膜とを備え、
波長３２５ｎｍの光の吸収率が１％以上２０％以下である、
太陽電池用表面保護シート。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【公開番号】特開２０１２−２３２５９８（Ｐ２０１２−２３２５９８Ａ）
【公開日】平成２４年１１月２９日（２０１２．１１．２９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−１７５９１７（Ｐ２０１２−１７５９１７）
【出願日】平成２４年８月８日（２０１２．８．８）
【分割の表示】特願２００８−３０８７９２（Ｐ２００８−３０８７９２）の分割
【原出願日】平成２０年１２月３日（２００８．１２．３）
【出願人】（０００００５０４９）シャープ株式会社 (33,933)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１１月２９日（２０１２．１１．２９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２４年８月８日（２０１２．８．８）
【分割の表示】特願２００８−３０８７９２（Ｐ２００８−３０８７９２）の分割
【原出願日】平成２０年１２月３日（２００８．１２．３）
【出願人】（０００００５０４９）シャープ株式会社 (33,933)
【Ｆターム（参考）】
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