層間接続方式
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、複数の層から成るプリント配線パターンを作成する計算機援用装置における層間接続方式に関する。
【０００２】複数の層から成るプリント配線パターン（以後単にパターンと称する）から構成される電気回路においては、例えば電源線、或いは地気線等の、同一の信号線が複数の層に跨がって配線される場合に、各層上のパターンを、ビアと称する接続路により接続するが、近年、パターン上を伝送される信号が高速化するに伴い、異なる層上のパターン相互も極力低インピーダンスで接続する為に、可能な限り多数のビアを設けることが要求されている。
【０００３】
【従来の技術】図９は従来ある計算機援用装置の一例を示す図であり、図10は図９におけるビア作成過程の一例を示す図である。
【０００４】図９に示される計算機援用装置１０は、処理装置１、主記憶装置２、外部記憶装置３、キーボード４、マウス５、入出力制御装置６、ディスプレイ７、ディスプレイ制御装置８およびバス９を具備しており、外部記憶装置３内には、計算機援用装置１０により設計された電気回路に関する各種データを含むデータベース（ＤＢ）が格納されている。
【０００５】ここで、データベース（ＤＢ）に格納される、図10(a) に示される第一層（Ｅ1 ）に設けられた地気線（Ｅ11）と、図10(b) に示される第二層（Ｅ2 ）に設けられた地気線（Ｅ21）および（Ｅ22）とを接続するビア（Ｖ）を生成するものとする。
【０００６】かかる場合に設計者は、データベース（ＤＢ）から第一層データ（Ｄ1 ）と第二層データ（Ｄ2 ）とを抽出し、図10(c) に示す如くディスプレイ７上に第一層（Ｅ1 ）と第二層（Ｅ2 ）とを重複して表示し、地気線（Ｅ11）と（Ｅ21）とが重なり合う重複領域（Ｅ121 ）と、地気線（Ｅ11）と（Ｅ22）とが重なり合う重複領域（Ｅ122 ）との中に、ビア（Ｖ1 ）乃至（Ｖ4 ）を所定の基準（例えば所定間隔の格子上）に基づき生成し、生成したビア（Ｖ1 ）乃至（Ｖ4 ）に対応するビアデータ（ｄ1 ）乃至（ｄ4 ）を登録する。
【０００７】更に、第一層（Ｅ1 ）と第二層（Ｅ2 ）との間に、図10(d) に示される如く信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）を有する第三層（Ｅ3 ）が介在する場合には、生成したビア（Ｖ1 ）乃至（Ｖ4 ）と、第三層データ（Ｄ3 ）とをディスプレイ７上に重複して表示し、ビア（Ｖ1 ）乃至（Ｖ4 ）と信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）との間の間隙が、予め定められている設計基準を上回ているか否かを観察し、例えばビア（Ｖ4 ）が信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）に接触していることを検出すると、ビア（Ｖ4 ）を設けることが不可能と判断し、最終的には間隙不良と判定されたビア（Ｖ4 ）を削除してビア（Ｖ1 ）乃至（Ｖ3 ）のみを設けることに決定し、ビア（Ｖ1 ）乃至（Ｖ3 ）に対応するビアデータ（ｄ1 ）乃至（ｄ3 ）をデータベース（ＤＢ）に登録する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】以上の説明から明らかな如く、従来ある計算機援用装置１０においては、設計者がビアの設定位置を決定する場合には、関係する層をディスプレイ７上に重複して表示し、ビアの設定位置候補を求めた後、他の信号線との間隙を更にディスプレイ７上で確認する等、総て人手により実行していた為、設計者に多大の労力を費やさせると共に、例えば重複領域の見落とし、或いはビアの設定位置候補の選択忘れ等により正常なビアの設定位置を見落とし、接続インピーダンスを極力低下させる目的を達成出来ぬ問題があった。
【０００９】本発明は、異なる層上のパターン相互を可能な限り豊富な接続路で接続することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】図１は本発明の原理を示す図である。図１において、１００は本発明の対象となる計算機援用装置である。
【００１１】１０１は、本発明（請求項１乃至請求項３）により計算機援用装置１００に設けられた重複領域決定手段である。１０２は、本発明（請求項１乃至請求項３）により計算機援用装置１００に設けられた接続位置選択手段である。
【００１２】１０３は、本発明（請求項２）により計算機援用装置１００に設けられた接続位置補正手段である。１０４は、本発明（請求項３）により計算機援用装置１００に設けられた接続位置補正手段である。
【００１３】
【作用】重複領域決定手段１０１は、指定された複数の層上の指定されたパターン（Ｐ）が重なり合う重複領域（Ａ）を求める。
【００１４】接続位置選択手段１０２は、重複領域決定手段１０１が求めた重複領域（Ａ）内に、各パターン（Ｐ）を異層間で相互接続する接続路の設定位置（Ｖ）の設定位置を、予め定められた基準に従って選定する。
【００１５】従って、本発明（請求項１）によれば、複数の層上の指定されたパターン相互を接続する接続路が可能な限り豊富に設けることが可能となり、指定されたパターン相互が可能な限り低インピーダンスで接続可能となる。
【００１６】また接続位置補正手段１０３は、接続位置選択手段１０２が選定した接続路（Ｖ）と、既存のパターン（Ｐ2 ）との間隙を算出し、間隙が予め定められた基準を下回る接続路（Ｖ）を除いて接続路（Ｖ）の設定位置を決定する。
【００１７】また接続位置補正手段１０４は、接続位置選択手段１０２が選定した接続路（Ｖ）と、既存のパターン（Ｐ2 ）との間隙を算出し、間隙が予め定められた基準を下回る設定位置（Ｖ）が検出された場合に、間隙が前記基準を上回る如く前記既存のパターン（Ｐ2 ）の修正を試み、該修正に成功しなかった設定位置（Ｖ）を除いて接続路（Ｖ）の設定位置を決定する。
【００１８】従って、本発明（請求項２）によれば、複数の層上の指定されたパターン相互を接続する接続路が可能な限り豊富に設けることが可能となると共に、既存のパターンが存在する場合にも、既存のパターンとの間隙が基準値を下回る接続路を除去することが可能となり、更に本発明（請求項３）によれば、複数の層上の指定されたパターン相互を接続する接続路が可能な限り豊富に設けることが可能となると共に、既存のパターンが存在する場合にも、既存のパターンとの間隙が基準値を下回る接続路は、間隙を可能な限り修正して設けることが可能となり、指定されたパターン相互が可能な限り低インピーダンスで接続可能となる。
【００１９】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面により説明する。図２は本発明の一実施例による計算機援用装置を示す図であり、図３は図２におけるパターンデータ抽出処理の一例を示す図であり、図４は図２における重複領域決定処理の一例を示す図であり、図５は本発明（請求項２）の一実施例によるビア生成処理を示す図であり、図６R>６は本発明（請求項３）の一実施例によるビア生成処理を示す図であり、図７は本発明（請求項２）の一実施例によるビア生成過程を示す図であり、図８は図６における間隙不良ビア救済過程の一例を示す図である。なお、全図を通じて同一符号は同一対象物を示す。
【００２０】図２においては、図１における計算機援用装置１００として計算機援用装置１０が示され、また図１R>１における重複領域決定手段１０１としてパターンデータ抽出部１１および重複領域決定部１２が処理装置１内に設けられ、また図１における接続位置選択手段１０２としてビア位置選択部１３が処理装置１内に設けられ、また図１における接続位置補正手段１０３として間隙不良処理部１４が処理装置１内に設けられ、更に図１における接続位置補正手段１０４として間隙不良処理部１５が処理装置１内に設けられている。
【００２１】なお図２においても、外部記憶装置３内のデータベース（ＤＢ）には、図９に例示されるデータベース（ＤＢ）と同様に、或る電気回路を構成する三層のデータ（Ｄ1 ）、（Ｄ2 ）および（Ｄ3 ）が格納されているものとし、また設計者は、当該電気回路の第一層（Ｅ1 ）上の地気線（Ｅ11）と第二層（Ｅ2 ）上の地気線（Ｅ21）および（Ｅ22）とを接続するビア（Ｖ）を設けるものとする。
【００２２】また、同一の信号線（例えば地気線）が複数の層に跨がって配線される場合に、各層のパターン〔例えば地気線（Ｅ11）、（Ｅ21）および（Ｅ22）〕をネットと総称する。
【００２３】最初に、本発明（請求項２）の一実施例を、図２乃至図５および図７を用いて説明する。先ずに設計者は、ビアの生成対象とするネットを指定するネットデータと、ビアの設定可能位置を指定するビア設定可能位置データとを、例えばキーボード４から指定する（図３ステップＳ３１）。
【００２４】今回は、ネットデータとしては、第一層（Ｅ1 ）および第二層（Ｅ2 ）における地気線を指定し、またビア設定可能位置データとしては、図７(a) に示される如き所定間隔で構成される格子の交点の座標を指定するものとする。
【００２５】ネットデータおよびビア設定可能位置データが指定されると、処理装置１はパターンデータ抽出部１１を起動する。起動されたパターンデータ抽出部１１は、外部記憶装置３に格納されているデータベース（ＤＢ）から、対象とする電気回路〔三層（Ｅ1 ）、（Ｅ2 ）および（Ｅ3 ）〕を構築するプリント板に関するデータ、電気回路に使用される部品に関するデータ、電気回路を構成する接続情報に関するデータ、例えば信号線相互の許容間隙寸法等の電気回路を設計する際に基準となるデータ、並びに設計されたパターン等のデータ（Ｄ1 ）乃至（Ｄ3 ）を読出す（ステップＳ３２）。
【００２６】次にパターンデータ抽出部１１は、データベース（ＤＢ）から読出したデータ（Ｄ1 ）乃至（Ｄ3 ）から、指定されたネット〔第一層（Ｅ1 ）および第二層（Ｅ2 ）の地気線〕に所属するパターンデータ（Ｄ11）、（Ｄ21）および（Ｄ22）を抽出した後（ステップＳ３３）、パターンデータ（Ｄ11）は第一層、パターンデータ（Ｄ21）および（Ｄ22）は第二層と、層別に分類する（ステップＳ３４）。
【００２７】以上でパターンデータ抽出部１１による処理が終了すると、続いて処理装置１は重複領域決定部１２を起動する。重複領域決定部１２は、先ず内蔵する処理対象層数（Ｈ）に数値（＝２、即ち第一層および第二層）を設定した後、処理対象層番号（ｈ）と、処理対象層上パターン番号（ｊ）とをそれぞれ初期設定（ｈ＝１、ｊ＝１）した後（図４ステップＳ４１およびＳ４２）、パターンデータ（Ｄhj）（＝Ｄ11）を選択する（ステップＳ４３）。
【００２８】次に重複領域決定部１２は、相手層番号（ｉ）と、相手層上パターン番号（ｋ）とをそれぞれ初期設定した後、パターンデータ（Ｄik）を選択する（ステップＳ４４乃至Ｓ４６）。
【００２９】なお相手層番号（ｉ）としては、処理対象層番号（ｈ）の次の層から選択することとし、相手層番号（ｉ）＝処理対象層番号（ｈ）＋１（＝２）と初期設定することとし、その結果重複領域決定部１２はステップＳ４３においてパターンデータ（Ｄ21）を選択する。
【００３０】次に重複領域決定部１２は、選択されたパターンデータ（Ｄ11）および（Ｄ21）の論理積演算を実行することにより、地気線（Ｅ11）と（Ｅ21）との重複領域（Ｅ121 ）を示す重複領域データ（Ｄ121 ）を求める（ステップＳ４７）。
【００３１】求められた重複領域データ（Ｄ121 ）により表示される重複領域（Ｅ121 ）は、図７(b) に示される地気線（Ｅ11）と、図７(c) に示される地気線（Ｅ21）とのそれぞれ一部として示される。
【００３２】次に重複領域決定部１２は、相手層上パターン番号（ｋ）に１を加算して（ステップＳ４８）、相手層上パターン番号（ｋ）＝２とした後、相手層上パターン番号（ｋ）が相手層（ｉ＝２）上の指定ネットに所属するパターン総数（Ｋ）（今回はＫ＝２）を越えていないことを確認の上（ステップＳ４９）、再びステップＳ４６以降を繰返す。
【００３３】今回は、重複領域決定部１２はステップＳ４６においてパターンデータ（Ｄik）〔＝（Ｄ22）〕を選択した後、ステップＳ４７においてパターンデータ（Ｄ11）および（Ｄ22）に基づき、地気線（Ｅ11）と（Ｅ22）との重複領域（Ｅ122 ）を示す重複領域データ（Ｄ122 ）を求める（ステップＳ４７）。
【００３４】求められた重複領域データ（Ｄ122 ）により表示される重複領域（Ｅ122 ）は、図７(b) に示される地気線（Ｅ11）と、図７(c) に示される地気線（Ｅ22）とのそれぞれ一部として示される。
【００３５】次に重複領域決定部１２は、相手層上パターン番号（ｋ）に１を加算して相手層上パターン番号（ｋ）＝３とした後、相手層上パターン番号（ｋ）が相手層上の指定ネットに所属するパターン総数（Ｋ）（＝２）を越えていることを確認すると（ステップＳ４８およびＳ４９）、相手層（ｉ）（＝２）上の指定ネット〔＝地気線〕に所属する総てのパターンデータ（Ｄ21）および（Ｄ22）との重複領域データ（Ｄ121 ）および（Ｄ122 ）を総て求め終わったと判定し、次に相手層番号（ｉ）に１を加算して相手層番号（ｉ）＝３とした後（ステップＳ４１０）、相手層番号（ｉ）が処理対象層数（Ｈ）（＝２）を越えていることを認識すると（ステップＳ４１１）、対象とする総ての相手層（第二層）を対象として重複領域データを求め終わったと判定し、次に処理対象層上パターン番号（ｊ）に１を加算して処理対象層上パターン番号（ｊ）＝２とした後（ステップＳ４１２）、処理対象層上パターン番号（ｊ）が処理対象層番号（ｈ）（＝１）により指定される第一層上の指定されたネット（地気線）に所属するパターンデータ総数（Ｊ）（＝１）を越えていることを確認すると（ステップＳ４１３）、処理対象層番号（ｈ）（＝１）である第一層上の指定ネットに所属するパターンデータが（Ｄ11）の一個のみであることを認識し、処理対象層番号（ｈ）＝１で指定される第一層上の総ての指定ネットに所属するパターンデータ（Ｄ11）のみと、指定されたネットデータに所属する総ての相手層番号（ｉ）（＝２のみ）で指定される第二層上の総ての指定ネットに所属するパターンデータ（Ｄ21）および（Ｄ22）との重複領域データ（Ｄ121 ）および（Ｄ122 ）とを総て求め終わったことを認識する。
【００３６】次に重複領域決定部１２は、処理対象層番号（ｈ）に１を加算して処理対象層番号（ｈ）＝２とした後（ステップＳ４１４）、処理対象層番号（ｈ）が処理対象層数（Ｈ）（＝２）に達していることを認識すると（ステップＳ４１５）、ネットデータで指定した総ての層（第一層および第二層）の中における二層間の重複領域データ〔即ち重複領域データ（Ｄ121 ）および（Ｄ122 ）〕を求め終わったと判定し、重複領域の決定処理を終了する。
【００３７】以上で重複領域決定部１２による重複領域決定処理が終了すると、続いて処理装置１はビア位置選択部１３を起動する。起動されたビア位置選択部１３は、内蔵する重複領域数（Ｍ）に数値２〔即ち重複領域（Ｅ121 ）および（Ｅ122 ）〕を設定した後、重複領域番号（ｍ）を初期設定し〔（ｍ）＝１〕（図５ステップＳ５１）、重複領域番号（ｍ）＝１に対応する重複領域データ（Ｄkim ）（＝Ｄ121 ）に含まれる、パターンデータ抽出部１１がステップＳ３１において指定したビア設定可能位置を求める（ステップＳ５２）。
【００３８】ビア位置選択部１３は、ステップＳ３１において指定したビアデータ（ｄ）〔図７(a) 〕と、重複領域決定部１２が求めた重複領域データ（Ｄ121 ）との論理積演算を実行することにより、図７(a) に示されるビアデータ（ｄ）の内、図７(b) または図７(c) に示される重複領域（Ｅ121 ）に対応する重複領域データ（Ｄ121 ）に含まれるビアデータ（ｄ1 ）および（ｄ2 ）を求める。
【００３９】ビア位置選択部１３は、求めたビアデータ（ｄ1 ）および（ｄ2 ）に、一旦ビア（Ｖ1 ）および（Ｖ2 ）を生成した後（ステップＳ５３）、続いて間隙不良処理部１４を起動する。
【００４０】起動された間隙不良処理部１４は、ビア位置選択部１３が生成したビア（Ｖ1）および（Ｖ2 ）と、既存のパターンとの間隙が、パターンデータ抽出部１１がステップＳ３２において抽出した設計基準データにより指定されている基準値を満足しているかを調べる（ステップＳ５４）。
【００４１】ここで調査の対象となる既存のパターンとしては、第一層（Ｅ1 ）および第二層（Ｅ2 ）の間に介在する第三層（Ｅ3 ）に設けられている信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）とすると、間隙不良処理部１４はビア位置選択部１３が生成したビア（Ｖ1 ）および（Ｖ2 ）と、信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）との最短距離をそれぞれ算出し、得られた最短距離が間隙の基準値を充分上回ることを確認すると、生成したビア（Ｖ1 ）および（Ｖ2 ）には削除すべきビアが存在しないことをビア位置選択部１３に通知する（ステップＳ５５）。
【００４２】次にビア位置選択部１３は、重複領域番号（ｍ）に１を加算して重複領域番号（ｍ）＝２とした後（ステップＳ５６）、重複領域番号（ｍ）が重複領域決定部１２により求めた重複領域数（Ｍ）（＝２）を越えていないことを確認の上（ステップＳ５７）、重複領域番号（ｍ）＝２に対応する重複領域データ（Ｄkim ）（＝Ｄ122 ）を対象として、ステップＳ５２以降を繰返した結果、重複領域データ（Ｄ122 ）に含まれるビア設定可能位置としてビアデータ（ｄ3 ）および（ｄ4 ）を求める。
【００４３】ビア位置選択部１３は、求めたビアデータ（ｄ3 ）および（ｄ4 ）に、一旦ビア（Ｖ3 ）および（Ｖ4 ）を生成した後（ステップＳ５３）、続いて間隙不良処理部１４を起動する。
【００４４】起動された間隙不良処理部１４は、前述と同様に、ビア位置選択部１３が生成したビア（Ｖ3 ）および（Ｖ4 ）と、信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）との最短距離を算出した結果、ビア（Ｖ3 ）と信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）との最短距離は充分基準値を上回るが、ビア（Ｖ4 ）と信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）との最短距離は零であり、信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）がビア（Ｖ4 ）に接触していることを確認すると、ビア（Ｖ4 ）が間隙不良と判定して削除し、その旨ビア位置選択部１３に通知する（ステップＳ５５）。
【００４５】次にビア位置選択部１３は、重複領域番号（ｍ）に１を加算して重複領域番号（ｍ）＝３とした後（ステップＳ５６）、重複領域番号（ｍ）が重複領域数（Ｍ）（＝２）を越えたことを確認すると（ステップＳ５７）、ビア位置選択部１３は間隙が基準値を満足するビア（Ｖ1 ）、（Ｖ2 ）および（Ｖ3 ）を決定する。
【００４６】更にビア位置選択部１３は、今回生成されたビア（Ｖ1 ）、（Ｖ2 ）および（Ｖ3 ）の中に、併合可能なビアが存在するか否かを解析する（ステップＳ５８）。
【００４７】併合可能なビアの一例としては、第一層と第二層との間にビアデータ（ｄ1 ）に対応するビアが生成され、また第二層と第三層との間にもビアデータ（ｄ1 ）に対応するビアが生成されたとすると、二個のビアは、第一層、第二層および第三層の間にビアデータ（ｄ1 ）に対応して生成された一個のビアと見做される為、第一層、第二層および第三層の間にビアデータ（ｄ1 ）に対応して生成された一個のビアに纏める。
【００４８】また併合可能なビアの他の一例としては、第一層と第二層との間にビアデータ（ｄ1 ）に対応するビアが生成され、また第一層と第三層との間にもビアデータ（ｄ1 ）に対応するビアが生成されたとすると、二個のビアは、第一層、第二層および第三層の間にビアデータ（ｄ1 ）に対応して生成された一個のビアに併合されると見做し、第一層、第二層および第三層の間にビアデータ（ｄ1 ）に対応して生成された一個のビアに纏める。
【００４９】然し今回は、前述の如く第一層と第二層との間のビアのみが対象である為、一つに纏められるビアは存在しない。以上により計算機援用装置１０は、指定されたネット、即ち第一層および第二層に設けられた地気線を対象とするビアとして、ビア（Ｖ1 ）、（Ｖ2 ）および（Ｖ3 ）を決定し、データベース（ＤＢ）に登録する。
【００５０】以上の説明から明らかな如く、本実施例によれば、指定されたネットに所属するパターンデータ（Ｄ11）、（Ｄ21）および（Ｄ22）を総て網羅して重複領域データ（Ｄ121 ）および（Ｄ122 ）を求め、得られた重複領域データ（Ｄ121 ）および（Ｄ122 ）内で指定されたビア設定可能位置に該当するビアデータ（ｄ1 ）、（ｄ2 ）、（ｄ3 ）および（ｄ4 ）を求めた後、指定された既存信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）との間隙が基準値を満足しないビアデータ（ｄ4 ）のみを削除し、残るビアデータ（ｄ1 ）、（ｄ2 ）および（ｄ3 ）にビアを生成することに決定する為、可能なビアが漏らさず生成可能となる。
【００５１】次に、本発明（請求項３）の一実施例を、図２乃至図７を用いて説明する。今回も、設計者はネットデータとして第一層（Ｅ1 ）および第二層（Ｅ2 ）における地気線を指定し、またビア設定可能位置データとして図７(a) に示される如き所定間隔を有する格子の交点の座標を指定するものとすると、前述と同様の過程で、パターンデータ抽出部１１および重複領域決定部１２が順次起動され、第一層（Ｅ1 ）上の地気線（Ｅ11）と、第二層（Ｅ2 ）上の地気線（Ｅ21）および（Ｅ22）との重複領域（Ｅ121 ）および（Ｅ122 ）が求められる（図３ステップＳ３１乃至Ｓ３４、図４ステップＳ４１乃至Ｓ４１５）。
【００５２】重複領域決定処理が終了すると、続いて処理装置１はビア位置選択部１３を起動する。起動されたビア位置選択部１３は、前述と同様に、内蔵する重複領域数（Ｍ）に数値２〔即ち重複領域（Ｅ121 ）および（Ｅ122 ）〕を設定した後、重複領域番号（ｍ）を初期設定し〔（ｍ）＝１〕（図６ステップＳ６１）、重複領域番号（ｍ）＝１に対応する重複領域データ（Ｄkim ）（＝Ｄ121 ）に含まれる、パターンデータ抽出部１１がステップＳ３１において指定したビア設定可能位置を求める（ステップＳ６２）。
【００５３】ビア位置選択部１３は、ステップＳ３１において指定したビアデータ（ｄ）〔図７(a) 〕と、重複領域決定部１２が求めた重複領域データ（Ｄ121 ）との論理積演算を実行することにより、図７(a) に示されるビアデータ（ｄ）の内、図７(b) または図７(c) に示される重複領域（Ｅ121 ）に対応する重複領域データ（Ｄ121 ）に含まれるビアデータ（ｄ1 ）および（ｄ2 ）を求める。
【００５４】ビア位置選択部１３は、求めたビアデータ（ｄ1 ）および（ｄ2 ）に、一旦ビア（Ｖ1 ）および（Ｖ2 ）を生成した後（ステップＳ５３）、続いて間隙不良処理部１５を起動する。
【００５５】起動された間隙不良処理部１５は、ビア位置選択部１３が生成したビア（Ｖ1）および（Ｖ2 ）と、既存のパターンとの間隙が、パターンデータ抽出部１１がステップＳ３２において抽出した設計基準データにより指定されている基準値を満足しているかを調べる（ステップＳ６４）。
【００５６】今回も、調査の対象となる既存のパターンを第一層（Ｅ1 ）および第二層（Ｅ2 ）の間に介在する第三層（Ｅ3 ）に設けられている信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）とすると、間隙不良処理部１４はビア位置選択部１３が生成したビア（Ｖ1）および（Ｖ2 ）と、信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）との最短距離を算出し、得られた最短距離が間隙の基準値を充分上回ることを確認すると、生成したビア（Ｖ1 ）および（Ｖ2 ）には間隙不良のビアが存在しないことをビア位置選択部１３に通知する（ステップＳ６５）。
【００５７】次にビア位置選択部１３は、重複領域番号（ｍ）に１を加算して重複領域番号（ｍ）＝２とした後（ステップＳ６１１）、重複領域番号（ｍ）が重複領域決定部１２により求めた重複領域数（Ｍ）（＝２）を越えていないことを確認の上（ステップＳ６１２）、重複領域番号（ｍ）＝２に対応する重複領域データ（Ｄkim ）（＝Ｄ122 ）を対象として、ステップＳ６２以降を繰返した結果、重複領域データ（Ｄ122 ）に含まれるビア設定可能位置としてビアデータ（ｄ3 ）および（ｄ4 ）を求める。
【００５８】ビア位置選択部１３は、求めたビアデータ（ｄ3 ）および（ｄ4 ）に、一旦ビア（Ｖ3 ）および（Ｖ4 ）を生成した後（ステップＳ６３）、続いて間隙不良処理部１５を起動する。
【００５９】起動された間隙不良処理部１５は、前述と同様に、ビア位置選択部１３が生成したビア（Ｖ3 ）および（Ｖ4 ）と、信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）との最短距離を算出した結果、ビア（Ｖ3 ）と信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）との最短距離は充分基準値を上回るが、ビア（Ｖ4 ）と信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）との最短距離は零であり、信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）がビア（Ｖ4 ）に接触していることを確認すると（図８状態ＳＴ８１）、ビア（Ｖ4 ）と信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）との間隙が基準値を満足しない間隙不良と認識する（ステップＳ６５）。
【００６０】このとき間隙不良処理部１５は、間隙不良箇所であるビアデータ（ｄ4 ）を含む矩形の再配線範囲（Ｄ27）を定める（ステップＳ６６、状態ＳＴ８２）。次に間隙不良処理部１５は、再配線範囲（Ｄ27）内に存在する信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）の、パターンデータ（Ｄ31）および（Ｄ32）を仮に削除する（ステップＳ６７、状態ＳＴ８３）。
【００６１】次に間隙不良処理部１５は、信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）の削除された再配線範囲（Ｄ27）を、公知の配線手順に基づき再配線する（ステップＳ６８、状態ＳＴ８４）。
【００６２】今回は、信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）の配線は、ビア（Ｖ4 ）から設計基準に基づく間隙を確保した上で、状態ＳＴ８４に示される如き配線経路が得られる。
【００６３】以上で信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）の再配線に成功すると、間隙不良処理部１４は、再配線後の信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）に対応するパターンデータ（Ｄ31）および（Ｄ32）をデータベース（ＤＢ）に登録し直した後（ステップＳ６１０）、ビア位置選択部１３には生成したビア（Ｖ3 ）および（Ｖ4 ）に間隙不良のビアが存在しないと通知する（ステップＳ６５）。
【００６４】なお、ステップＳ６８における再配線が不成功の場合には、ビア（Ｖ4 ）を間隙不良と判定して削除し、その旨ビア位置選択部１３に通知する（ステップＳ６９）。
【００６５】次にビア位置選択部１３は、重複領域番号（ｍ）に１を加算して重複領域番号（ｍ）＝３とした後（ステップＳ６１１）、重複領域番号（ｍ）が重複領域数（Ｍ）（＝２）を越えたことを確認すると（ステップＳ６１２）、ビア位置選択部１３は間隙が基準値を満足するビア（Ｖ1 ）、（Ｖ2 ）、（Ｖ3 ）および（Ｖ4）を決定する。
【００６６】更にビア位置選択部１３は、前述と同様に、今回生成されたビア（Ｖ1 ）、（Ｖ2 ）、（Ｖ3 ）および（Ｖ4 ）の中に、併合可能なビアが存在するか否かを解析する（ステップＳ６１３）。
【００６７】然し今回も、前述の如く第一層と第二層との間のビアのみが対象である為、一つに纏められるビアは存在しない。以上により計算機援用装置１０は、指定されたネット、即ち第一層および第二層に設けられた地気線を対象とするビアとして、ビア（Ｖ1 ）、（Ｖ2 ）、（Ｖ3 ）および（Ｖ4 ）を決定し、データベース（ＤＢ）に登録する。
【００６８】以上の説明から明らかな如く、本発明（請求項３）による実施例によれば、指定されたネットに所属するパターンデータ（Ｄ11）、（Ｄ21）および（Ｄ22）を総て網羅して重複領域データ（Ｄ121 ）および（Ｄ122 ）を求め、得られた重複領域データ（Ｄ121 ）および（Ｄ122 ）内で指定されたビア設定可能位置に該当するビアデータ（ｄ1 ）、（ｄ2 ）、（ｄ3 ）および（ｄ4 ）を求めた後、指定された既存信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）との間隙が基準値を満足しないビア（Ｖ4 ）に対して信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）を再配線し、再配線に成功した場合にはビアデータ（ｄ4 ）も含めてビア（Ｖ1 ）、（Ｖ2 ）、（Ｖ3 ）および（Ｖ4 ）を生成することに決定する為、本発明（請求項２）による実施例より更に多数のビア（Ｖ1 ）、（Ｖ2 ）、（Ｖ3 ）および（Ｖ4 ）が生成可能となる。
【００６９】なお、図２乃至図８はあく迄本発明の一実施例に過ぎず、例えばビア生成は図示される第一層（Ｅ1 ）の地気線（Ｅ11）と第二層（Ｅ2 ）の地気線（Ｅ21）および（Ｅ22）との間に限定されることは無く、他に幾多の変形が考慮されるが、何れの場合にも本発明の効果は変わらない。また本発明の対象となる計算機援用装置１００は、図示される計算機援用装置１０に限定されぬことは言う迄も無い。
【００７０】
【発明の効果】以上、本発明（請求項１）によれば、複数の層上の指定されたパターン相互を接続する接続路が可能な限り豊富に設けることが可能となり、指定されたパターン相互が可能な限り低インピーダンスで接続可能となり、また本発明（請求項２）によれば、複数の層上の指定されたパターン相互を接続する接続路が可能な限り豊富に設けることが可能となると共に、既存のパターンが存在する場合にも、既存のパターンとの間隙が基準値を下回る接続路を除去することが可能となり、更に本発明（請求項３）によれば、複数の層上の指定されたパターン相互を接続する接続路が可能な限り豊富に設けることが可能となると共に、既存のパターンが存在する場合にも、既存のパターンとの間隙が基準値を下回る接続路は、間隙を可能な限り修正して設けることが可能となり、指定されたパターン相互が可能な限り低インピーダンスで接続可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の原理を示す図
【図２】 本発明の一実施例による計算機援用装置を示す図
【図３】 図２におけるパターンデータ抽出処理の一例を示す図
【図４】 図２における重複領域決定処理の一例を示す図
【図５】 本発明（請求項２）の一実施例によるビア生成処理を示す図
【図６】 本発明（請求項３）の一実施例によるビア生成処理を示す図
【図７】 本発明（請求項２）の一実施例によるビア生成過程を示す図
【図８】 図６における間隙不良ビア救済過程の一例を示す図
【図９】 従来ある計算機援用装置の一例を示す図
【図10】 図９におけるビア作成過程の一例を示す図
【符号の説明】
１ 処理装置
２ 主記憶装置
３ 外部記憶装置
４ キーボード
５ マウス
６ 入出力制御装置
７ ディスプレイ
８ ディスプレイ制御装置
９ バス
１０、１００ 計算機援用装置
１１ パターンデータ抽出部
１２ 重複領域決定部
１３ ビア位置選択部
１４、１５ 間隙不良処理部
１０１ 重複領域決定手段
１０２ 接続位置選択手段
１０３、１０４ 接続位置補正手段
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、複数の層から成るプリント配線パターンを作成する計算機援用装置における層間接続方式に関する。
【０００２】複数の層から成るプリント配線パターン（以後単にパターンと称する）から構成される電気回路においては、例えば電源線、或いは地気線等の、同一の信号線が複数の層に跨がって配線される場合に、各層上のパターンを、ビアと称する接続路により接続するが、近年、パターン上を伝送される信号が高速化するに伴い、異なる層上のパターン相互も極力低インピーダンスで接続する為に、可能な限り多数のビアを設けることが要求されている。
【０００３】
【従来の技術】図９は従来ある計算機援用装置の一例を示す図であり、図10は図９におけるビア作成過程の一例を示す図である。
【０００４】図９に示される計算機援用装置１０は、処理装置１、主記憶装置２、外部記憶装置３、キーボード４、マウス５、入出力制御装置６、ディスプレイ７、ディスプレイ制御装置８およびバス９を具備しており、外部記憶装置３内には、計算機援用装置１０により設計された電気回路に関する各種データを含むデータベース（ＤＢ）が格納されている。
【０００５】ここで、データベース（ＤＢ）に格納される、図10(a) に示される第一層（Ｅ1 ）に設けられた地気線（Ｅ11）と、図10(b) に示される第二層（Ｅ2 ）に設けられた地気線（Ｅ21）および（Ｅ22）とを接続するビア（Ｖ）を生成するものとする。
【０００６】かかる場合に設計者は、データベース（ＤＢ）から第一層データ（Ｄ1 ）と第二層データ（Ｄ2 ）とを抽出し、図10(c) に示す如くディスプレイ７上に第一層（Ｅ1 ）と第二層（Ｅ2 ）とを重複して表示し、地気線（Ｅ11）と（Ｅ21）とが重なり合う重複領域（Ｅ121 ）と、地気線（Ｅ11）と（Ｅ22）とが重なり合う重複領域（Ｅ122 ）との中に、ビア（Ｖ1 ）乃至（Ｖ4 ）を所定の基準（例えば所定間隔の格子上）に基づき生成し、生成したビア（Ｖ1 ）乃至（Ｖ4 ）に対応するビアデータ（ｄ1 ）乃至（ｄ4 ）を登録する。
【０００７】更に、第一層（Ｅ1 ）と第二層（Ｅ2 ）との間に、図10(d) に示される如く信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）を有する第三層（Ｅ3 ）が介在する場合には、生成したビア（Ｖ1 ）乃至（Ｖ4 ）と、第三層データ（Ｄ3 ）とをディスプレイ７上に重複して表示し、ビア（Ｖ1 ）乃至（Ｖ4 ）と信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）との間の間隙が、予め定められている設計基準を上回ているか否かを観察し、例えばビア（Ｖ4 ）が信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）に接触していることを検出すると、ビア（Ｖ4 ）を設けることが不可能と判断し、最終的には間隙不良と判定されたビア（Ｖ4 ）を削除してビア（Ｖ1 ）乃至（Ｖ3 ）のみを設けることに決定し、ビア（Ｖ1 ）乃至（Ｖ3 ）に対応するビアデータ（ｄ1 ）乃至（ｄ3 ）をデータベース（ＤＢ）に登録する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】以上の説明から明らかな如く、従来ある計算機援用装置１０においては、設計者がビアの設定位置を決定する場合には、関係する層をディスプレイ７上に重複して表示し、ビアの設定位置候補を求めた後、他の信号線との間隙を更にディスプレイ７上で確認する等、総て人手により実行していた為、設計者に多大の労力を費やさせると共に、例えば重複領域の見落とし、或いはビアの設定位置候補の選択忘れ等により正常なビアの設定位置を見落とし、接続インピーダンスを極力低下させる目的を達成出来ぬ問題があった。
【０００９】本発明は、異なる層上のパターン相互を可能な限り豊富な接続路で接続することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】図１は本発明の原理を示す図である。図１において、１００は本発明の対象となる計算機援用装置である。
【００１１】１０１は、本発明（請求項１乃至請求項３）により計算機援用装置１００に設けられた重複領域決定手段である。１０２は、本発明（請求項１乃至請求項３）により計算機援用装置１００に設けられた接続位置選択手段である。
【００１２】１０３は、本発明（請求項２）により計算機援用装置１００に設けられた接続位置補正手段である。１０４は、本発明（請求項３）により計算機援用装置１００に設けられた接続位置補正手段である。
【００１３】
【作用】重複領域決定手段１０１は、指定された複数の層上の指定されたパターン（Ｐ）が重なり合う重複領域（Ａ）を求める。
【００１４】接続位置選択手段１０２は、重複領域決定手段１０１が求めた重複領域（Ａ）内に、各パターン（Ｐ）を異層間で相互接続する接続路の設定位置（Ｖ）の設定位置を、予め定められた基準に従って選定する。
【００１５】従って、本発明（請求項１）によれば、複数の層上の指定されたパターン相互を接続する接続路が可能な限り豊富に設けることが可能となり、指定されたパターン相互が可能な限り低インピーダンスで接続可能となる。
【００１６】また接続位置補正手段１０３は、接続位置選択手段１０２が選定した接続路（Ｖ）と、既存のパターン（Ｐ2 ）との間隙を算出し、間隙が予め定められた基準を下回る接続路（Ｖ）を除いて接続路（Ｖ）の設定位置を決定する。
【００１７】また接続位置補正手段１０４は、接続位置選択手段１０２が選定した接続路（Ｖ）と、既存のパターン（Ｐ2 ）との間隙を算出し、間隙が予め定められた基準を下回る設定位置（Ｖ）が検出された場合に、間隙が前記基準を上回る如く前記既存のパターン（Ｐ2 ）の修正を試み、該修正に成功しなかった設定位置（Ｖ）を除いて接続路（Ｖ）の設定位置を決定する。
【００１８】従って、本発明（請求項２）によれば、複数の層上の指定されたパターン相互を接続する接続路が可能な限り豊富に設けることが可能となると共に、既存のパターンが存在する場合にも、既存のパターンとの間隙が基準値を下回る接続路を除去することが可能となり、更に本発明（請求項３）によれば、複数の層上の指定されたパターン相互を接続する接続路が可能な限り豊富に設けることが可能となると共に、既存のパターンが存在する場合にも、既存のパターンとの間隙が基準値を下回る接続路は、間隙を可能な限り修正して設けることが可能となり、指定されたパターン相互が可能な限り低インピーダンスで接続可能となる。
【００１９】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面により説明する。図２は本発明の一実施例による計算機援用装置を示す図であり、図３は図２におけるパターンデータ抽出処理の一例を示す図であり、図４は図２における重複領域決定処理の一例を示す図であり、図５は本発明（請求項２）の一実施例によるビア生成処理を示す図であり、図６R>６は本発明（請求項３）の一実施例によるビア生成処理を示す図であり、図７は本発明（請求項２）の一実施例によるビア生成過程を示す図であり、図８は図６における間隙不良ビア救済過程の一例を示す図である。なお、全図を通じて同一符号は同一対象物を示す。
【００２０】図２においては、図１における計算機援用装置１００として計算機援用装置１０が示され、また図１R>１における重複領域決定手段１０１としてパターンデータ抽出部１１および重複領域決定部１２が処理装置１内に設けられ、また図１における接続位置選択手段１０２としてビア位置選択部１３が処理装置１内に設けられ、また図１における接続位置補正手段１０３として間隙不良処理部１４が処理装置１内に設けられ、更に図１における接続位置補正手段１０４として間隙不良処理部１５が処理装置１内に設けられている。
【００２１】なお図２においても、外部記憶装置３内のデータベース（ＤＢ）には、図９に例示されるデータベース（ＤＢ）と同様に、或る電気回路を構成する三層のデータ（Ｄ1 ）、（Ｄ2 ）および（Ｄ3 ）が格納されているものとし、また設計者は、当該電気回路の第一層（Ｅ1 ）上の地気線（Ｅ11）と第二層（Ｅ2 ）上の地気線（Ｅ21）および（Ｅ22）とを接続するビア（Ｖ）を設けるものとする。
【００２２】また、同一の信号線（例えば地気線）が複数の層に跨がって配線される場合に、各層のパターン〔例えば地気線（Ｅ11）、（Ｅ21）および（Ｅ22）〕をネットと総称する。
【００２３】最初に、本発明（請求項２）の一実施例を、図２乃至図５および図７を用いて説明する。先ずに設計者は、ビアの生成対象とするネットを指定するネットデータと、ビアの設定可能位置を指定するビア設定可能位置データとを、例えばキーボード４から指定する（図３ステップＳ３１）。
【００２４】今回は、ネットデータとしては、第一層（Ｅ1 ）および第二層（Ｅ2 ）における地気線を指定し、またビア設定可能位置データとしては、図７(a) に示される如き所定間隔で構成される格子の交点の座標を指定するものとする。
【００２５】ネットデータおよびビア設定可能位置データが指定されると、処理装置１はパターンデータ抽出部１１を起動する。起動されたパターンデータ抽出部１１は、外部記憶装置３に格納されているデータベース（ＤＢ）から、対象とする電気回路〔三層（Ｅ1 ）、（Ｅ2 ）および（Ｅ3 ）〕を構築するプリント板に関するデータ、電気回路に使用される部品に関するデータ、電気回路を構成する接続情報に関するデータ、例えば信号線相互の許容間隙寸法等の電気回路を設計する際に基準となるデータ、並びに設計されたパターン等のデータ（Ｄ1 ）乃至（Ｄ3 ）を読出す（ステップＳ３２）。
【００２６】次にパターンデータ抽出部１１は、データベース（ＤＢ）から読出したデータ（Ｄ1 ）乃至（Ｄ3 ）から、指定されたネット〔第一層（Ｅ1 ）および第二層（Ｅ2 ）の地気線〕に所属するパターンデータ（Ｄ11）、（Ｄ21）および（Ｄ22）を抽出した後（ステップＳ３３）、パターンデータ（Ｄ11）は第一層、パターンデータ（Ｄ21）および（Ｄ22）は第二層と、層別に分類する（ステップＳ３４）。
【００２７】以上でパターンデータ抽出部１１による処理が終了すると、続いて処理装置１は重複領域決定部１２を起動する。重複領域決定部１２は、先ず内蔵する処理対象層数（Ｈ）に数値（＝２、即ち第一層および第二層）を設定した後、処理対象層番号（ｈ）と、処理対象層上パターン番号（ｊ）とをそれぞれ初期設定（ｈ＝１、ｊ＝１）した後（図４ステップＳ４１およびＳ４２）、パターンデータ（Ｄhj）（＝Ｄ11）を選択する（ステップＳ４３）。
【００２８】次に重複領域決定部１２は、相手層番号（ｉ）と、相手層上パターン番号（ｋ）とをそれぞれ初期設定した後、パターンデータ（Ｄik）を選択する（ステップＳ４４乃至Ｓ４６）。
【００２９】なお相手層番号（ｉ）としては、処理対象層番号（ｈ）の次の層から選択することとし、相手層番号（ｉ）＝処理対象層番号（ｈ）＋１（＝２）と初期設定することとし、その結果重複領域決定部１２はステップＳ４３においてパターンデータ（Ｄ21）を選択する。
【００３０】次に重複領域決定部１２は、選択されたパターンデータ（Ｄ11）および（Ｄ21）の論理積演算を実行することにより、地気線（Ｅ11）と（Ｅ21）との重複領域（Ｅ121 ）を示す重複領域データ（Ｄ121 ）を求める（ステップＳ４７）。
【００３１】求められた重複領域データ（Ｄ121 ）により表示される重複領域（Ｅ121 ）は、図７(b) に示される地気線（Ｅ11）と、図７(c) に示される地気線（Ｅ21）とのそれぞれ一部として示される。
【００３２】次に重複領域決定部１２は、相手層上パターン番号（ｋ）に１を加算して（ステップＳ４８）、相手層上パターン番号（ｋ）＝２とした後、相手層上パターン番号（ｋ）が相手層（ｉ＝２）上の指定ネットに所属するパターン総数（Ｋ）（今回はＫ＝２）を越えていないことを確認の上（ステップＳ４９）、再びステップＳ４６以降を繰返す。
【００３３】今回は、重複領域決定部１２はステップＳ４６においてパターンデータ（Ｄik）〔＝（Ｄ22）〕を選択した後、ステップＳ４７においてパターンデータ（Ｄ11）および（Ｄ22）に基づき、地気線（Ｅ11）と（Ｅ22）との重複領域（Ｅ122 ）を示す重複領域データ（Ｄ122 ）を求める（ステップＳ４７）。
【００３４】求められた重複領域データ（Ｄ122 ）により表示される重複領域（Ｅ122 ）は、図７(b) に示される地気線（Ｅ11）と、図７(c) に示される地気線（Ｅ22）とのそれぞれ一部として示される。
【００３５】次に重複領域決定部１２は、相手層上パターン番号（ｋ）に１を加算して相手層上パターン番号（ｋ）＝３とした後、相手層上パターン番号（ｋ）が相手層上の指定ネットに所属するパターン総数（Ｋ）（＝２）を越えていることを確認すると（ステップＳ４８およびＳ４９）、相手層（ｉ）（＝２）上の指定ネット〔＝地気線〕に所属する総てのパターンデータ（Ｄ21）および（Ｄ22）との重複領域データ（Ｄ121 ）および（Ｄ122 ）を総て求め終わったと判定し、次に相手層番号（ｉ）に１を加算して相手層番号（ｉ）＝３とした後（ステップＳ４１０）、相手層番号（ｉ）が処理対象層数（Ｈ）（＝２）を越えていることを認識すると（ステップＳ４１１）、対象とする総ての相手層（第二層）を対象として重複領域データを求め終わったと判定し、次に処理対象層上パターン番号（ｊ）に１を加算して処理対象層上パターン番号（ｊ）＝２とした後（ステップＳ４１２）、処理対象層上パターン番号（ｊ）が処理対象層番号（ｈ）（＝１）により指定される第一層上の指定されたネット（地気線）に所属するパターンデータ総数（Ｊ）（＝１）を越えていることを確認すると（ステップＳ４１３）、処理対象層番号（ｈ）（＝１）である第一層上の指定ネットに所属するパターンデータが（Ｄ11）の一個のみであることを認識し、処理対象層番号（ｈ）＝１で指定される第一層上の総ての指定ネットに所属するパターンデータ（Ｄ11）のみと、指定されたネットデータに所属する総ての相手層番号（ｉ）（＝２のみ）で指定される第二層上の総ての指定ネットに所属するパターンデータ（Ｄ21）および（Ｄ22）との重複領域データ（Ｄ121 ）および（Ｄ122 ）とを総て求め終わったことを認識する。
【００３６】次に重複領域決定部１２は、処理対象層番号（ｈ）に１を加算して処理対象層番号（ｈ）＝２とした後（ステップＳ４１４）、処理対象層番号（ｈ）が処理対象層数（Ｈ）（＝２）に達していることを認識すると（ステップＳ４１５）、ネットデータで指定した総ての層（第一層および第二層）の中における二層間の重複領域データ〔即ち重複領域データ（Ｄ121 ）および（Ｄ122 ）〕を求め終わったと判定し、重複領域の決定処理を終了する。
【００３７】以上で重複領域決定部１２による重複領域決定処理が終了すると、続いて処理装置１はビア位置選択部１３を起動する。起動されたビア位置選択部１３は、内蔵する重複領域数（Ｍ）に数値２〔即ち重複領域（Ｅ121 ）および（Ｅ122 ）〕を設定した後、重複領域番号（ｍ）を初期設定し〔（ｍ）＝１〕（図５ステップＳ５１）、重複領域番号（ｍ）＝１に対応する重複領域データ（Ｄkim ）（＝Ｄ121 ）に含まれる、パターンデータ抽出部１１がステップＳ３１において指定したビア設定可能位置を求める（ステップＳ５２）。
【００３８】ビア位置選択部１３は、ステップＳ３１において指定したビアデータ（ｄ）〔図７(a) 〕と、重複領域決定部１２が求めた重複領域データ（Ｄ121 ）との論理積演算を実行することにより、図７(a) に示されるビアデータ（ｄ）の内、図７(b) または図７(c) に示される重複領域（Ｅ121 ）に対応する重複領域データ（Ｄ121 ）に含まれるビアデータ（ｄ1 ）および（ｄ2 ）を求める。
【００３９】ビア位置選択部１３は、求めたビアデータ（ｄ1 ）および（ｄ2 ）に、一旦ビア（Ｖ1 ）および（Ｖ2 ）を生成した後（ステップＳ５３）、続いて間隙不良処理部１４を起動する。
【００４０】起動された間隙不良処理部１４は、ビア位置選択部１３が生成したビア（Ｖ1）および（Ｖ2 ）と、既存のパターンとの間隙が、パターンデータ抽出部１１がステップＳ３２において抽出した設計基準データにより指定されている基準値を満足しているかを調べる（ステップＳ５４）。
【００４１】ここで調査の対象となる既存のパターンとしては、第一層（Ｅ1 ）および第二層（Ｅ2 ）の間に介在する第三層（Ｅ3 ）に設けられている信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）とすると、間隙不良処理部１４はビア位置選択部１３が生成したビア（Ｖ1 ）および（Ｖ2 ）と、信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）との最短距離をそれぞれ算出し、得られた最短距離が間隙の基準値を充分上回ることを確認すると、生成したビア（Ｖ1 ）および（Ｖ2 ）には削除すべきビアが存在しないことをビア位置選択部１３に通知する（ステップＳ５５）。
【００４２】次にビア位置選択部１３は、重複領域番号（ｍ）に１を加算して重複領域番号（ｍ）＝２とした後（ステップＳ５６）、重複領域番号（ｍ）が重複領域決定部１２により求めた重複領域数（Ｍ）（＝２）を越えていないことを確認の上（ステップＳ５７）、重複領域番号（ｍ）＝２に対応する重複領域データ（Ｄkim ）（＝Ｄ122 ）を対象として、ステップＳ５２以降を繰返した結果、重複領域データ（Ｄ122 ）に含まれるビア設定可能位置としてビアデータ（ｄ3 ）および（ｄ4 ）を求める。
【００４３】ビア位置選択部１３は、求めたビアデータ（ｄ3 ）および（ｄ4 ）に、一旦ビア（Ｖ3 ）および（Ｖ4 ）を生成した後（ステップＳ５３）、続いて間隙不良処理部１４を起動する。
【００４４】起動された間隙不良処理部１４は、前述と同様に、ビア位置選択部１３が生成したビア（Ｖ3 ）および（Ｖ4 ）と、信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）との最短距離を算出した結果、ビア（Ｖ3 ）と信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）との最短距離は充分基準値を上回るが、ビア（Ｖ4 ）と信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）との最短距離は零であり、信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）がビア（Ｖ4 ）に接触していることを確認すると、ビア（Ｖ4 ）が間隙不良と判定して削除し、その旨ビア位置選択部１３に通知する（ステップＳ５５）。
【００４５】次にビア位置選択部１３は、重複領域番号（ｍ）に１を加算して重複領域番号（ｍ）＝３とした後（ステップＳ５６）、重複領域番号（ｍ）が重複領域数（Ｍ）（＝２）を越えたことを確認すると（ステップＳ５７）、ビア位置選択部１３は間隙が基準値を満足するビア（Ｖ1 ）、（Ｖ2 ）および（Ｖ3 ）を決定する。
【００４６】更にビア位置選択部１３は、今回生成されたビア（Ｖ1 ）、（Ｖ2 ）および（Ｖ3 ）の中に、併合可能なビアが存在するか否かを解析する（ステップＳ５８）。
【００４７】併合可能なビアの一例としては、第一層と第二層との間にビアデータ（ｄ1 ）に対応するビアが生成され、また第二層と第三層との間にもビアデータ（ｄ1 ）に対応するビアが生成されたとすると、二個のビアは、第一層、第二層および第三層の間にビアデータ（ｄ1 ）に対応して生成された一個のビアと見做される為、第一層、第二層および第三層の間にビアデータ（ｄ1 ）に対応して生成された一個のビアに纏める。
【００４８】また併合可能なビアの他の一例としては、第一層と第二層との間にビアデータ（ｄ1 ）に対応するビアが生成され、また第一層と第三層との間にもビアデータ（ｄ1 ）に対応するビアが生成されたとすると、二個のビアは、第一層、第二層および第三層の間にビアデータ（ｄ1 ）に対応して生成された一個のビアに併合されると見做し、第一層、第二層および第三層の間にビアデータ（ｄ1 ）に対応して生成された一個のビアに纏める。
【００４９】然し今回は、前述の如く第一層と第二層との間のビアのみが対象である為、一つに纏められるビアは存在しない。以上により計算機援用装置１０は、指定されたネット、即ち第一層および第二層に設けられた地気線を対象とするビアとして、ビア（Ｖ1 ）、（Ｖ2 ）および（Ｖ3 ）を決定し、データベース（ＤＢ）に登録する。
【００５０】以上の説明から明らかな如く、本実施例によれば、指定されたネットに所属するパターンデータ（Ｄ11）、（Ｄ21）および（Ｄ22）を総て網羅して重複領域データ（Ｄ121 ）および（Ｄ122 ）を求め、得られた重複領域データ（Ｄ121 ）および（Ｄ122 ）内で指定されたビア設定可能位置に該当するビアデータ（ｄ1 ）、（ｄ2 ）、（ｄ3 ）および（ｄ4 ）を求めた後、指定された既存信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）との間隙が基準値を満足しないビアデータ（ｄ4 ）のみを削除し、残るビアデータ（ｄ1 ）、（ｄ2 ）および（ｄ3 ）にビアを生成することに決定する為、可能なビアが漏らさず生成可能となる。
【００５１】次に、本発明（請求項３）の一実施例を、図２乃至図７を用いて説明する。今回も、設計者はネットデータとして第一層（Ｅ1 ）および第二層（Ｅ2 ）における地気線を指定し、またビア設定可能位置データとして図７(a) に示される如き所定間隔を有する格子の交点の座標を指定するものとすると、前述と同様の過程で、パターンデータ抽出部１１および重複領域決定部１２が順次起動され、第一層（Ｅ1 ）上の地気線（Ｅ11）と、第二層（Ｅ2 ）上の地気線（Ｅ21）および（Ｅ22）との重複領域（Ｅ121 ）および（Ｅ122 ）が求められる（図３ステップＳ３１乃至Ｓ３４、図４ステップＳ４１乃至Ｓ４１５）。
【００５２】重複領域決定処理が終了すると、続いて処理装置１はビア位置選択部１３を起動する。起動されたビア位置選択部１３は、前述と同様に、内蔵する重複領域数（Ｍ）に数値２〔即ち重複領域（Ｅ121 ）および（Ｅ122 ）〕を設定した後、重複領域番号（ｍ）を初期設定し〔（ｍ）＝１〕（図６ステップＳ６１）、重複領域番号（ｍ）＝１に対応する重複領域データ（Ｄkim ）（＝Ｄ121 ）に含まれる、パターンデータ抽出部１１がステップＳ３１において指定したビア設定可能位置を求める（ステップＳ６２）。
【００５３】ビア位置選択部１３は、ステップＳ３１において指定したビアデータ（ｄ）〔図７(a) 〕と、重複領域決定部１２が求めた重複領域データ（Ｄ121 ）との論理積演算を実行することにより、図７(a) に示されるビアデータ（ｄ）の内、図７(b) または図７(c) に示される重複領域（Ｅ121 ）に対応する重複領域データ（Ｄ121 ）に含まれるビアデータ（ｄ1 ）および（ｄ2 ）を求める。
【００５４】ビア位置選択部１３は、求めたビアデータ（ｄ1 ）および（ｄ2 ）に、一旦ビア（Ｖ1 ）および（Ｖ2 ）を生成した後（ステップＳ５３）、続いて間隙不良処理部１５を起動する。
【００５５】起動された間隙不良処理部１５は、ビア位置選択部１３が生成したビア（Ｖ1）および（Ｖ2 ）と、既存のパターンとの間隙が、パターンデータ抽出部１１がステップＳ３２において抽出した設計基準データにより指定されている基準値を満足しているかを調べる（ステップＳ６４）。
【００５６】今回も、調査の対象となる既存のパターンを第一層（Ｅ1 ）および第二層（Ｅ2 ）の間に介在する第三層（Ｅ3 ）に設けられている信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）とすると、間隙不良処理部１４はビア位置選択部１３が生成したビア（Ｖ1）および（Ｖ2 ）と、信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）との最短距離を算出し、得られた最短距離が間隙の基準値を充分上回ることを確認すると、生成したビア（Ｖ1 ）および（Ｖ2 ）には間隙不良のビアが存在しないことをビア位置選択部１３に通知する（ステップＳ６５）。
【００５７】次にビア位置選択部１３は、重複領域番号（ｍ）に１を加算して重複領域番号（ｍ）＝２とした後（ステップＳ６１１）、重複領域番号（ｍ）が重複領域決定部１２により求めた重複領域数（Ｍ）（＝２）を越えていないことを確認の上（ステップＳ６１２）、重複領域番号（ｍ）＝２に対応する重複領域データ（Ｄkim ）（＝Ｄ122 ）を対象として、ステップＳ６２以降を繰返した結果、重複領域データ（Ｄ122 ）に含まれるビア設定可能位置としてビアデータ（ｄ3 ）および（ｄ4 ）を求める。
【００５８】ビア位置選択部１３は、求めたビアデータ（ｄ3 ）および（ｄ4 ）に、一旦ビア（Ｖ3 ）および（Ｖ4 ）を生成した後（ステップＳ６３）、続いて間隙不良処理部１５を起動する。
【００５９】起動された間隙不良処理部１５は、前述と同様に、ビア位置選択部１３が生成したビア（Ｖ3 ）および（Ｖ4 ）と、信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）との最短距離を算出した結果、ビア（Ｖ3 ）と信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）との最短距離は充分基準値を上回るが、ビア（Ｖ4 ）と信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）との最短距離は零であり、信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）がビア（Ｖ4 ）に接触していることを確認すると（図８状態ＳＴ８１）、ビア（Ｖ4 ）と信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）との間隙が基準値を満足しない間隙不良と認識する（ステップＳ６５）。
【００６０】このとき間隙不良処理部１５は、間隙不良箇所であるビアデータ（ｄ4 ）を含む矩形の再配線範囲（Ｄ27）を定める（ステップＳ６６、状態ＳＴ８２）。次に間隙不良処理部１５は、再配線範囲（Ｄ27）内に存在する信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）の、パターンデータ（Ｄ31）および（Ｄ32）を仮に削除する（ステップＳ６７、状態ＳＴ８３）。
【００６１】次に間隙不良処理部１５は、信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）の削除された再配線範囲（Ｄ27）を、公知の配線手順に基づき再配線する（ステップＳ６８、状態ＳＴ８４）。
【００６２】今回は、信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）の配線は、ビア（Ｖ4 ）から設計基準に基づく間隙を確保した上で、状態ＳＴ８４に示される如き配線経路が得られる。
【００６３】以上で信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）の再配線に成功すると、間隙不良処理部１４は、再配線後の信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）に対応するパターンデータ（Ｄ31）および（Ｄ32）をデータベース（ＤＢ）に登録し直した後（ステップＳ６１０）、ビア位置選択部１３には生成したビア（Ｖ3 ）および（Ｖ4 ）に間隙不良のビアが存在しないと通知する（ステップＳ６５）。
【００６４】なお、ステップＳ６８における再配線が不成功の場合には、ビア（Ｖ4 ）を間隙不良と判定して削除し、その旨ビア位置選択部１３に通知する（ステップＳ６９）。
【００６５】次にビア位置選択部１３は、重複領域番号（ｍ）に１を加算して重複領域番号（ｍ）＝３とした後（ステップＳ６１１）、重複領域番号（ｍ）が重複領域数（Ｍ）（＝２）を越えたことを確認すると（ステップＳ６１２）、ビア位置選択部１３は間隙が基準値を満足するビア（Ｖ1 ）、（Ｖ2 ）、（Ｖ3 ）および（Ｖ4）を決定する。
【００６６】更にビア位置選択部１３は、前述と同様に、今回生成されたビア（Ｖ1 ）、（Ｖ2 ）、（Ｖ3 ）および（Ｖ4 ）の中に、併合可能なビアが存在するか否かを解析する（ステップＳ６１３）。
【００６７】然し今回も、前述の如く第一層と第二層との間のビアのみが対象である為、一つに纏められるビアは存在しない。以上により計算機援用装置１０は、指定されたネット、即ち第一層および第二層に設けられた地気線を対象とするビアとして、ビア（Ｖ1 ）、（Ｖ2 ）、（Ｖ3 ）および（Ｖ4 ）を決定し、データベース（ＤＢ）に登録する。
【００６８】以上の説明から明らかな如く、本発明（請求項３）による実施例によれば、指定されたネットに所属するパターンデータ（Ｄ11）、（Ｄ21）および（Ｄ22）を総て網羅して重複領域データ（Ｄ121 ）および（Ｄ122 ）を求め、得られた重複領域データ（Ｄ121 ）および（Ｄ122 ）内で指定されたビア設定可能位置に該当するビアデータ（ｄ1 ）、（ｄ2 ）、（ｄ3 ）および（ｄ4 ）を求めた後、指定された既存信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）との間隙が基準値を満足しないビア（Ｖ4 ）に対して信号線（Ｆ31）および（Ｆ32）を再配線し、再配線に成功した場合にはビアデータ（ｄ4 ）も含めてビア（Ｖ1 ）、（Ｖ2 ）、（Ｖ3 ）および（Ｖ4 ）を生成することに決定する為、本発明（請求項２）による実施例より更に多数のビア（Ｖ1 ）、（Ｖ2 ）、（Ｖ3 ）および（Ｖ4 ）が生成可能となる。
【００６９】なお、図２乃至図８はあく迄本発明の一実施例に過ぎず、例えばビア生成は図示される第一層（Ｅ1 ）の地気線（Ｅ11）と第二層（Ｅ2 ）の地気線（Ｅ21）および（Ｅ22）との間に限定されることは無く、他に幾多の変形が考慮されるが、何れの場合にも本発明の効果は変わらない。また本発明の対象となる計算機援用装置１００は、図示される計算機援用装置１０に限定されぬことは言う迄も無い。
【００７０】
【発明の効果】以上、本発明（請求項１）によれば、複数の層上の指定されたパターン相互を接続する接続路が可能な限り豊富に設けることが可能となり、指定されたパターン相互が可能な限り低インピーダンスで接続可能となり、また本発明（請求項２）によれば、複数の層上の指定されたパターン相互を接続する接続路が可能な限り豊富に設けることが可能となると共に、既存のパターンが存在する場合にも、既存のパターンとの間隙が基準値を下回る接続路を除去することが可能となり、更に本発明（請求項３）によれば、複数の層上の指定されたパターン相互を接続する接続路が可能な限り豊富に設けることが可能となると共に、既存のパターンが存在する場合にも、既存のパターンとの間隙が基準値を下回る接続路は、間隙を可能な限り修正して設けることが可能となり、指定されたパターン相互が可能な限り低インピーダンスで接続可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の原理を示す図
【図２】 本発明の一実施例による計算機援用装置を示す図
【図３】 図２におけるパターンデータ抽出処理の一例を示す図
【図４】 図２における重複領域決定処理の一例を示す図
【図５】 本発明（請求項２）の一実施例によるビア生成処理を示す図
【図６】 本発明（請求項３）の一実施例によるビア生成処理を示す図
【図７】 本発明（請求項２）の一実施例によるビア生成過程を示す図
【図８】 図６における間隙不良ビア救済過程の一例を示す図
【図９】 従来ある計算機援用装置の一例を示す図
【図10】 図９におけるビア作成過程の一例を示す図
【符号の説明】
１ 処理装置
２ 主記憶装置
３ 外部記憶装置
４ キーボード
５ マウス
６ 入出力制御装置
７ ディスプレイ
８ ディスプレイ制御装置
９ バス
１０、１００ 計算機援用装置
１１ パターンデータ抽出部
１２ 重複領域決定部
１３ ビア位置選択部
１４、１５ 間隙不良処理部
１０１ 重複領域決定手段
１０２ 接続位置選択手段
１０３、１０４ 接続位置補正手段
【特許請求の範囲】
【請求項１】 複数の層から成るプリント配線パターンを作成する計算機援用装置（１００）において、指定された複数の層上の指定されたパターン（Ｐ）が重なり合う重複領域（Ａ）を求める重複領域決定手段（１０１）と、前記重複領域決定手段（１０１）が求めた前記重複領域（Ａ）内に、前記各パターン（Ｐ）を異層間で相互接続する接続路（Ｖ）の設定位置を、予め定められた基準に従って選定する接続位置選択手段（１０２）とを設けることを特徴とする層間接続方式。
【請求項２】 複数の層から成るプリント配線パターンを作成する計算機援用装置（１００）において、指定された複数の層上の指定されたパターン（Ｐ）が重なり合う重複領域（Ａ）を求める重複領域決定手段（１０１）と、前記重複領域決定手段（１０１）が求めた前記重複領域（Ａ）内に、前記各パターン（Ｐ）を異層間で相互接続する接続路（Ｖ）の設定位置を、予め定められた基準に従って選定する接続位置選択手段（１０２）と、前記接続位置選択手段（１０２）が選定した前記接続路（Ｖ）と、既存のパターン（Ｐ2 ）との間隙を算出し、前記間隙が予め定められた基準を下回る接続路（Ｖ）を除いて前記接続路（Ｖ）の設定位置を決定する接続位置補正手段（１０３）とを設けることを特徴とする層間接続方式。
【請求項３】 複数の層から成るプリント配線パターンを作成する計算機援用装置（１００）において、指定された複数の層上の指定されたパターン（Ｐ）が重なり合う重複領域（Ａ）を求める重複領域決定手段（１０１）と、前記重複領域決定手段（１０１）が求めた前記重複領域（Ａ）内に、前記各パターン（Ｐ）を異層間で相互接続する接続路（Ｖ）の設定位置を、予め定められた基準に従って選定する接続位置選択手段（１０２）と、前記接続位置選択手段（１０２）が選定した前記接続路（Ｖ）と、既存のパターン（Ｐ2 ）との間隙を算出し、前記間隙が予め定められた基準を下回る接続路（Ｖ）が検出された場合に、前記間隙が前記基準を上回る如く前記既存のパターン（Ｐ2 ）の修正を試み、該修正に成功しなかった接続路（Ｖ）を除いて前記接続路（Ｖ）の設定位置を決定する接続位置補正手段（１０４）とを設けることを特徴とする層間接続方式。
【請求項１】 複数の層から成るプリント配線パターンを作成する計算機援用装置（１００）において、指定された複数の層上の指定されたパターン（Ｐ）が重なり合う重複領域（Ａ）を求める重複領域決定手段（１０１）と、前記重複領域決定手段（１０１）が求めた前記重複領域（Ａ）内に、前記各パターン（Ｐ）を異層間で相互接続する接続路（Ｖ）の設定位置を、予め定められた基準に従って選定する接続位置選択手段（１０２）とを設けることを特徴とする層間接続方式。
【請求項２】 複数の層から成るプリント配線パターンを作成する計算機援用装置（１００）において、指定された複数の層上の指定されたパターン（Ｐ）が重なり合う重複領域（Ａ）を求める重複領域決定手段（１０１）と、前記重複領域決定手段（１０１）が求めた前記重複領域（Ａ）内に、前記各パターン（Ｐ）を異層間で相互接続する接続路（Ｖ）の設定位置を、予め定められた基準に従って選定する接続位置選択手段（１０２）と、前記接続位置選択手段（１０２）が選定した前記接続路（Ｖ）と、既存のパターン（Ｐ2 ）との間隙を算出し、前記間隙が予め定められた基準を下回る接続路（Ｖ）を除いて前記接続路（Ｖ）の設定位置を決定する接続位置補正手段（１０３）とを設けることを特徴とする層間接続方式。
【請求項３】 複数の層から成るプリント配線パターンを作成する計算機援用装置（１００）において、指定された複数の層上の指定されたパターン（Ｐ）が重なり合う重複領域（Ａ）を求める重複領域決定手段（１０１）と、前記重複領域決定手段（１０１）が求めた前記重複領域（Ａ）内に、前記各パターン（Ｐ）を異層間で相互接続する接続路（Ｖ）の設定位置を、予め定められた基準に従って選定する接続位置選択手段（１０２）と、前記接続位置選択手段（１０２）が選定した前記接続路（Ｖ）と、既存のパターン（Ｐ2 ）との間隙を算出し、前記間隙が予め定められた基準を下回る接続路（Ｖ）が検出された場合に、前記間隙が前記基準を上回る如く前記既存のパターン（Ｐ2 ）の修正を試み、該修正に成功しなかった接続路（Ｖ）を除いて前記接続路（Ｖ）の設定位置を決定する接続位置補正手段（１０４）とを設けることを特徴とする層間接続方式。
【図１】
【図４】
【図２】
【図３】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図１０】
【図９】
【図４】
【図２】
【図３】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図１０】
【図９】
【特許番号】特許第３１９１３９３号（Ｐ３１９１３９３）
【登録日】平成１３年５月２５日（２００１．５．２５）
【発行日】平成１３年７月２３日（２００１．７．２３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願平４−８５８３４
【出願日】平成４年４月８日（１９９２．４．８）
【公開番号】特開平５−２９０１２６
【公開日】平成５年１１月５日（１９９３．１１．５）
【審査請求日】平成１１年４月５日（１９９９．４．５）
【出願人】（０００００５２２３）富士通株式会社 (25,993)
【参考文献】
【文献】特開 平４−５６６（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開 平１−２９２４７３（ＪＰ，Ａ）
【登録日】平成１３年５月２５日（２００１．５．２５）
【発行日】平成１３年７月２３日（２００１．７．２３）
【国際特許分類】
【出願日】平成４年４月８日（１９９２．４．８）
【公開番号】特開平５−２９０１２６
【公開日】平成５年１１月５日（１９９３．１１．５）
【審査請求日】平成１１年４月５日（１９９９．４．５）
【出願人】（０００００５２２３）富士通株式会社 (25,993)
【参考文献】
【文献】特開 平４−５６６（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開 平１−２９２４７３（ＪＰ，Ａ）
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