帯電部材、電子写真装置及びプロセスカートリッジ
【課題】 安定して感光体ドラムを帯電処理できる帯電部材を提供する。
【解決手段】 導電性基体上に導電性弾性層を有する帯電部材において、導電性弾性層の長手方向の表面粗さＲｚｊｉｓが２．０〜２０．０μｍであり、且つ下記（Ａ）の関係にある事を特徴とする帯電部材。
（Ａ）（導電性弾性体の帯電部位の長さ）／（８ｍｍ）＝Ｎ（Ｎは小数点以下切上げの整数部分、Ｎ≧３）より、導電性弾性体部をＮ分割し、片端から順に１〜Ｎとする。この時に、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）及びＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（Ｎ）が２．０〜７．０μｍであり、且つＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（２〜Ｎ−１）のうち少なくとも１点以上が、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）及びＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（Ｎ）の１．２〜５．０倍である。
【解決手段】 導電性基体上に導電性弾性層を有する帯電部材において、導電性弾性層の長手方向の表面粗さＲｚｊｉｓが２．０〜２０．０μｍであり、且つ下記（Ａ）の関係にある事を特徴とする帯電部材。
（Ａ）（導電性弾性体の帯電部位の長さ）／（８ｍｍ）＝Ｎ（Ｎは小数点以下切上げの整数部分、Ｎ≧３）より、導電性弾性体部をＮ分割し、片端から順に１〜Ｎとする。この時に、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）及びＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（Ｎ）が２．０〜７．０μｍであり、且つＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（２〜Ｎ−１）のうち少なくとも１点以上が、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）及びＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（Ｎ）の１．２〜５．０倍である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特にＬＢＰ（Ｌａｓｅｒ Ｂｅａｍ Ｐｒｉｎｔｅｒ）、複写機及びファクシミリ等のＯＡ機器における、電子写真プロセスを利用した画像形成装置に用いる帯電部材（帯電ローラ）に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の画像形成装置の高速化、高耐久化に伴い、画像形成装置に使用される帯電部材も高精度、高耐久化が要求されてきている。
【０００３】
画像形成装置に使用される帯電ローラは、帯電部材のうち最も一般的なものであり、感光体ドラムに接触して帯電処理を行うものである。これは、導電性基体と、導電性基体上に形成した導電性弾性層（抵抗層）と、所望の場合には、導電性弾性層上に形成した表面層とを有する。そして、このような帯電ローラを用い、導電性基体に電圧を印加して帯電ローラと感光体ドラムとの当接ニップの近傍で微小な放電をさせて、感光体ドラムの表面を帯電させる。以下、導電性基体を芯金ともいう。
【０００４】
画像形成装置に、帯電部材として、帯電ローラを用いてハーフトーン画像による画像耐久試験を行った場合、画像耐久をしていくと共にトナー及びトナーに付着している外添剤等により帯電ローラ表面が汚れるという問題がある。その結果、帯電ローラ表面のひどく汚れた部分を起点に白スジや黒スジ、濃度ムラといった画像不良が生じる。これは帯電ローラ表面が汚れる事により感光体ドラムに均一な帯電処理ができなくなるからである。
【０００５】
帯電部材の表面が汚れる原因の一つとして、帯電部材の表面粗さが粗いと表面の凹部にトナー及びトナーに付着している外添剤等が入り込み易くなり、帯電部材が汚れ易くなってしまうことが考えられる。また、帯電部材の長手形状にもよるが両端部を支持して感光体ドラムに接触させる場合、画像耐久試験で帯電部材表面の長手両端部が汚れやすい傾向にあり画像端部で帯電不良による画像不良になる場合がある。
【０００６】
帯電部材の汚れによる帯電不良を防止するためには、帯電部材の表面形状（表面粗さ）を制御すること（例えば、特許文献１、特許文献２参照。）や、帯電部材の表面の動摩擦係数を下げること（例えば、特許文献３、特許文献４参照。）、帯電部材の表面の撥水性を大きくすること（例えば、特許文献５参照。）等が知られている。ところが、上記の帯電部材の表面形状（表面粗さ）を制御する方法では、特に帯電部材表面の長手両端部の汚れを十分になくすことができない場合がある。更なる高耐久化、機構の簡素化・小型化等という要求を考えると帯電部材の表面形状（表面粗さ）、特に帯電部材の長手方向での表面形状（表面粗さを更に制御していく必要がある。
【０００７】
また、帯電部材の表面形状（表面粗さ）は感光体ドラムの表面を均一に帯電させるためには非常に重要な特性である。特に帯電部材の表面粗さが大きい場合、感光体ドラムとの当接ニップの近傍で微小な放電が起こる以外に当接ニップ内でも微小な放電が起こり、感光体ドラムの表面がより均一に帯電すると考えられる。帯電部材の表面粗さが小さい場合には、感光体ドラムとの当接ニップの近傍、当接ニップ内での微小な放電が少なくなり、感光体ドラムの表面を均一に帯電できない場合があると考えられる。
【特許文献１】特開平７−０４９６０５号公報
【特許文献２】特開平７−１９９５９３号公報
【特許文献３】特開平９−１６０３５５号公報
【特許文献４】特開平９−１６０３５４号公報
【特許文献５】特開２０００−０１９８１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、電子写真プロセスを利用した画像形成装置に用いる感光体ドラムを安定して帯電処理することで画像不良を防止する帯電部材を提供することにある。
【０００９】
本発明の別の目的は、上記帯電部材を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、導電性基体上に導電性弾性層を有する帯電部材において、導電性弾性層の長手方向の表面粗さＲｚｊｉｓが２．０〜２０．０μｍであり、且つ下記（Ａ）の関係にある事を特徴とする帯電部材である。
（Ａ）（導電性弾性体の帯電部位の長さ）／（８ｍｍ）＝Ｎ（Ｎは小数点以下切上げの整数部分、Ｎ≧３）より、導電性弾性体部をＮ分割し、片端から順に１〜Ｎとする。この時に、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）及びＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（Ｎ）が２．０〜７．０μｍであり、且つＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（２〜Ｎ−１）のうち少なくとも１点以上が、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）及びＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（Ｎ）の１．２〜５．０倍である。
（表面粗さＲｚｊｉｓは、ＪＩＳ９４−Ｂ０６０１の十点平均粗さ）
（表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．は周方向６点測定の平均値）
また、本発明は上記帯電部材を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジである。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、トナー及びトナーに付着している外添剤等による帯電部材表面の汚れを抑えて安定して感光体ドラムを帯電処理し、画像不良を防止する帯電部材を提供する事ができる。
【００１２】
また、上記帯電部材を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明を帯電ゴムローラの例で更に詳細に説明する。
【００１４】
芯金上に導電性弾性層としての導電性ゴム層が設けられたゴムローラの成形法としては、射出成形法、押出成形法、トランスファー成形法、プレス成形法等を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。例えば、射出成形法においては、２つの円筒駒を組み、円筒金型内に同心に軸状の芯金を保持してゴム材料を注入し加熱することによりゴム材料を硬化させてゴムローラを成形する。また、押出成形法においては、ゴム材料をチューブ状に押出した後、芯金にチューブ状のゴム材料を被せ、或いは芯金とゴム材料を一体に押出して円筒状のゴムローラを成形する。製造時間の短縮を考えると、これらの成形方法のなかでは、ゴム材料を芯金と一体に押出してゴムローラを成形する押出成形法が好ましい。
【００１５】
ゴムローラを加熱して加硫する方法に関しては、熱風炉、加硫缶、熱盤、遠・近赤外線、誘導加熱等のいずれの方法でも良く、更にこれと共に加熱状態の円筒状または平面状の部材にゴムローラを回転させながら押し当てる方法を併用しても良い。ゴムローラは、１４０℃以上２２０℃以下の範囲の温度で１０分以上１２０分以下の時間で加熱して、ゴムローラを加硫する事が好ましい。
【００１６】
又、所望のローラ形状、表面粗さにするためには、上記の加熱状態の円筒状または平面状の部材を所望のローラ形状、表面粗さに合わせてブラスト加工等をしておきこれを用いてゴムローラを加熱して加硫する方法や
加熱・加硫後に所望のローラ形状、表面粗さにするためには回転砥石を用いた乾式研磨方法、
また内面を所望のローラ形状、表面粗さに合わせてブラスト加工等をした金型を用いてゴムローラを射出成形する方法がある。
【００１７】
なお、研磨手段としては、特に限定しないが、砥石が移動して研磨する所謂トラバース方式や、より幅の広い砥石により移動することなしに一括で研磨するプランジ方式がある。
【００１８】
図１に、押出法によるゴムローラ製造方法の一例の模式図を示す。押出機１は、クロスヘッド２を備える。押出機１は、芯金送りローラ３によってクロスヘッド２に送られた芯金４と、別途押出機に導入されたゴム材料とを一体にして押し出し、芯金４上にゴム層を形成する。ゴム層を芯金の周囲に円筒状に形成した後、端部の切断・除去処理５を行い、ゴムローラ６を成形する。
【００１９】
図２に、トラバース方式の研磨によるゴムローラ製造方法の一例の模式図を示す。ゴムローラ６をスピンドル、センター、コレットチャック等の回転が可能な部材７に取付け、砥石８がゴムローラに当接するように配置する。そして、砥石を１６００ｒｐｍ程度の速度で回転しながら３００〜４００ｒｐｍ程度の速度で回転しているゴムローラに接触させ、ゴムローラの一端側から他端側へ移動させることにより所望のローラ形状、表面粗さに研磨する。
【００２０】
ゴムローラは、ローラ長手方向中央部より両端部の外径を小さくしたクラウン形状に形成されており、クラウン量は７０μｍ以上１６０μｍ以下であり、特に９０μｍ以上１３０μｍ以下が好ましい。クラウン量が７０μｍよりも小さい場合には中央部が、１６０μｍよりも大きい場合は両端部が感光体ドラムよりも浮いてしまう可能性があり、均一に帯電ができなくなる。
【００２１】
ゴムローラのクラウン量は、（クラウン量）＝Ｄ２−（Ｄ１＋Ｄ３）／２として定義した。Ｄ１（μｍ）は長手方向の一方の端部側での外径、Ｄ２（μｍ）は中央部での外径、Ｄ３（μｍ）は長手方向の他方の端部側での外径であり、中央部Ｄ２より両端部Ｄ１、Ｄ３は中央部より両端方向に各９０ｍｍ位置とした。
【００２２】
本発明のゴムローラの長手方向で表面粗さ分布をつける方法としては、砥石の種類（材質、粒度等、例えばＧＣ−１２０、１００、８０、６０、多孔性）を選定して研磨時間やゴムローラ及び砥石の回転方向、回転数等の研磨条件により行う方法、
所望のゴムローラの長手方向の表面粗さ分布に合わせて砥石の長手方向で粗さ分布を持たせるように砥石の材質を組合わせたり、砥石に粒度分布を持たせる方法、
上記ゴムローラを加熱して加硫する際に加熱状態の円筒状または平面状の部材を所望のゴムローラの長手方向の表面粗さ分布に合わせてブラスト加工等をしておきこれを用いてゴムローラを加熱して加硫する方法や
内面を所望のゴムローラの長手方向の表面粗さ分布に合わせてブラスト加工等をした金型を用いてゴムローラを射出成形する方法
がある。
【００２３】
また、ゴムローラのクラウン形状によって感光体ドラムとの当接ニップ内の圧力分布が異なる場合がある。例えば、ゴムローラ（帯電部材）の感光体ドラムとの当接ニップ内の圧力が、後述の（Ｎ／２）−３以上（Ｎ／２）＋３以下の範囲内に最小値があり、最小値からＲ（１）及びＲ（Ｎ）に対して傾斜して大きくなっている場合がある。その場合、当接ニップ内の圧力分布に合わせて、ゴムローラの長手方向での表面粗さ分布をつけた方が良い。当接ニップ内の圧力が大きい部分ではゴムローラの表面粗さを小さく、圧力が小さい部分ではゴムローラの表面粗さを大きくする。
【００２４】
ここで、ゴムローラの長手方向で表面粗さ分布をつける一例の方法をトラバース方式の研磨の例で説明する。ゴムローラを回転させて、砥石がゴムローラに当接するように配置して、砥石を回転させながら回転しているゴムローラに接触させ、ゴムローラの一端側から他端側へ移動させる。砥石がゴムローラの一端側から他端側へ移動する際に、砥石がゴムローラに当接している研磨時間（砥石の送り速度）を変えて、表面粗さ分布をつける。例えば、ゴムローラの長手方向で一端側では砥石の送り速度を遅く、中央では砥石の送り速度を速く、また他端側では砥石の送り速度を遅くする事により、ゴムローラの長手方向の表面粗さが中央部で最大値となり、中央部から両端部に傾斜して小さくなる。
【００２５】
前記のゴムローラの芯金４としては、ニッケルメッキやクロムメッキしたＳＵＭ材等の鋼材を含むステンレススチール棒、リン青銅棒、アルミニウム棒、耐熱樹脂棒等が好ましい。
【００２６】
又、芯金４上に設けられたゴム層は、導電性を有している。ゴム層を形成するためのゴム材料としては、
天然ゴム、ブタジエンゴム、ヒドリンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、ニトリルゴム、エチレン−プロピレンゴム、ブチルゴム、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッソゴム、塩素ゴム、熱可塑エラストマー
等が挙げられる。これらはいずれでも良い。またゴム材料中に分散させる導電粉としてはカーボンブラック、導電性カーボン等のカーボン類、金属粉、導電性の繊維、或いは酸化スズ等の半導電性金属酸化物粉体、更に、これらの混合物等のいずれでも良い。
【００２７】
導電性弾性層（導電性ゴム層）の厚みは０．５〜３．０ｍｍであることが好ましい。
【００２８】
次に、本発明のゴムローラの最表面層を形成する方法について詳細に説明する。
【００２９】
一般的には、最表面層は、最表面層を形成するための塗布液をゴムローラのゴム層上に塗布し、乾燥・硬化等して形成する。塗布方法は特に限定されず、ディッピング法、スプレー法、リングヘッド塗布法、ロールコート法等公知の方法を用いることができる。これらの方法はいずれも本発明に用いることができる。
【００３０】
以下に、リングヘッド塗布法を例として、最表面層の形成方法について説明する。図３にリングヘッド塗布法の一例の模式図を示す。まず、前記のような方法等で得られたゴムローラ６を垂直状態に支持し、このゴムローラ６に対して所定の間隔をなす距離に、全周に開口されたスリット状の吐出口を有するリングヘッド（リングヘッド）９を配置する。リングヘッド７は、全周に開口されたスリット状の吐出口１０、液絞り部１１、液分配室１３および液供給口１２を有している。リングヘッド７の外部にある液供給手段（例えば、シリンジポンプ）により、リングヘッドに具備される１箇所以上の液供給口１２より塗布液が供給される。塗布液は、リングヘッド９内において合流し、周方向に分配するための１個以上の液分配室および１個以上の液絞り部を経由して、全周に開口されたスリット状の吐出口８に達する。ゴムローラ６とリングヘッド９とを所定の速度（１〜２００ｍｍ／ｓ程度）で相対移動させながら、塗布液を吐出口１０の全周から吐出して、均一に適量の塗布液をゴムローラ表面に塗布する。
【００３１】
ゴムローラ表面への吐出量は、最表面層を形成するために用いる塗布液の液粘度、速度（ゴムローラとリングヘッドとの相対移動速度）塗布液の組成や添加材料等を考慮して決められる。リングヘッドの全周に開口されたスリット状の吐出口の開口幅（スリット幅）は、通常、０．０５ｍｍ以上であり、好ましくは０．１ｍｍで使用される。リングヘッドの材質としては、アルミニウム、テフロン（登録商標）のような樹脂、ステンレス等の鋼材が用いられるが、加工精度が高いステンレス等の鋼材を用いることが好ましい。
【００３２】
最表面層を形成する材料としては、シリコーン系、フッ素系、ウレタン系、アクリル系、ウレタン変性アクリル系、シリコーン変性ウレタン系材料が用いられる。特にフッ化アルキル基およびオキシアルキレン基を有するポリシロキサンを含有する材料が好ましい。
【００３３】
また、最表面層の層厚は、帯電ゴムローラの電気特性或いは強度の上で、薄膜である方が良く、強度の点で１０ｎｍ以上が好ましい。また、最表面層の層厚が大きすぎると最表面層がゴム層の変形に追従しきれず、均一帯電の妨げになると考えられるので、１０００ｎｍ以下が好ましい。
【００３４】
最表面層が上記のように非常に薄膜の場合には、芯金上のゴム層の表面粗さとゴム層上に最表面層を設けたゴムローラとの表面粗さはほとんど変わらない。
【００３５】
前記フッ化アルキル基としては、例えば、直鎖型または分岐型のアルキル基の水素原子の一部または全部をフッ素原子で置換したものが挙げられる。その中でも、炭素数６〜３１の直鎖状のパーフルオロアルキル基が好ましい。
【００３６】
前記オキシアルキレン基とは、−Ｏ−Ｒ−（Ｒ：アルキレン基）で示される構造を有する２価の基（「アルキレンエーテル基」と呼ばれることもある。）である。このＲ（アルキレン基）としては、炭素数１〜６のアルキレン基が好ましい。
【００３７】
前記ポリシロキサン中のフッ化アルキル基の含有量は、ポリシロキサン全質量に対して５．０〜５０．０質量％であることが好ましい。また、前記ポリシロキサン中のオキシアルキレン基の含有量は、ポリシロキサンの全質量に対して５．０〜７０．０質量％であることが好ましい。ポリシロキサン中のシロキサン部分（−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−Ｏ−・・・で示される構造を有する部分）の含有量は、ポリシロキサンの全質量に対して２０．０〜９０．０質量％であることが好ましい。
【００３８】
また、前記ポリシロキサンは、さらにアルキル基およびフェニル基を有するものが好ましい。アルキル基としては、炭素数１〜２１の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基が好ましく、さらにはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ヘキシル基、デシル基がより好ましい。
【００３９】
前記ポリシロキサンがさらにアルキル基およびフェニル基を有する場合、前記ポリシロキサン中のフッ化アルキル基、オキシアルキレン基、アルキル基、フェニル基およびシロキサン部分の含有量は、ポリシロキサンの全質量に対し、次の値であることが好ましい。
・フッ化アルキル基 ： ５．０〜５０．０質量％
・オキシアルキレン基： ５．０〜３０．０質量％
・アルキル基 ： ５．０〜３０．０質量％
・フェニル基 ： ５．０〜３０．０質量％
・シロキサン部分 ：２０．０〜８０．０質量％
前記フッ化アルキル基及びオキシアルキレン基を有するポリシロキサンは、下記工程（Ｉ）及び（ＩＩ）を経て得られるポリシロキサンであることが好ましい。
（Ｉ）カチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物と、フッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物とを加水分解し、縮合させる縮合工程
（ＩＩ）該カチオン重合可能な基を開裂させることにより、工程（Ｉ）により得られた加水分解性縮合物を架橋させる架橋工程
前記カチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物としては、下記式（２）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物が好適である。
【００４０】
【化１】
【００４１】
（式中、Ｒ２１は、飽和または不飽和の１価の炭化水素基を示す。Ｒ２２は、飽和または不飽和の１価の炭化水素基を示す。Ｚ２１は、２価の有機基を示す。Ｒｃ２１は、カチオン重合可能な基を示す。ｄは、０〜２の整数を示し、ｅは、１〜３の整数を示し、ｄ＋ｅ＝３である。）
前記式（２）中のＲｃ２１で示されるカチオン重合可能な基とは、開裂によってオキシアルキレン基を生成するカチオン重合可能な有機基を意味し、例えば、エポキシ基やオキセタン基などの環状エーテル基、および、ビニルエーテル基などが挙げられる。これらの中でも、入手の容易性および反応制御の容易性の観点から、エポキシ基であることが好ましい。
【００４２】
前記式（２）中のＲ２１およびＲ２２で示される飽和または不飽和の１価の炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基およびアリール基などが挙げられる。これらの中でも、炭素数１〜３の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基が好ましく、さらにはメチル基、エチル基がより好ましい。
【００４３】
前記式（２）中のＺ２１で示される２価の有機基としては、例えば、アルキレン基およびアリーレン基などが挙げられる。これらの中でも、炭素数１〜６のアルキレン基が好ましく、さらにはエチレン基がより好ましい。
【００４４】
前記式（２）中のｅは、３であることが好ましい。また、前記式（２）中のｄが２の場合、２個のＲ２１は同一であってもよく、異なっていてもよい。また、前記式（２）中のｅが２または３の場合、２個または３個のＲ２２は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００４５】
以下に、前記式（２）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物の具体例を示す。
（２−１）：グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
（２−２）：グリシドキシプロピルトリエトキシシラン
（２−３）：エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン
（２−４）：エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシラン
また、前記フッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物としては、下記式（３）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物が好適である。
【００４６】
【化２】
【００４７】
（式中、Ｒ３１は、飽和または不飽和の１価の炭化水素基を示す。Ｒ３２は、飽和または不飽和の１価の炭化水素基を示す。Ｚ３１は、２価の有機基を示す。Ｒｆ３１は、炭素数１〜３１の直鎖状のパーフルオロアルキル基を示す。ｆは、０〜２の整数を示し、ｇは、１〜３の整数を示し、ｆ＋ｇ＝３である。）
前記式（３）中のＲ３１およびＲ３２で示される飽和または不飽和の１価の炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基およびアリール基などが挙げられる。これらの中でも、炭素数１〜３の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基が好ましく、さらにはメチル基、エチル基がより好ましい。
【００４８】
前記式（３）中のＺ３１で示される２価の有機基としては、例えば、アルキレン基およびアリーレン基などが挙げられる。これらの中でも、炭素数１〜６のアルキレン基が好ましく、さらにはエチレン基がより好ましい。
【００４９】
前記式（３）中のＲｆ３１で示される炭素数１〜３１の直鎖状のパーフルオロアルキル基としては、処理性の観点から、特に炭素数６〜３１の直鎖状のパーフルオロアルキル基が好ましい。
【００５０】
前記式（３）中のｇは、３であることが好ましい。また、前記式（３）中のｆが２の場合、２個のＲ３１は、同一であってもよく、異なっていてもよい。また、前記式（３）中のｇが２または３の場合、２個または３個のＲ３２は同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００５１】
以下に、前記式（３）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物の具体例を示す。
（３−１）：ＣＦ３−（ＣＨ２）２−Ｓｉ−（ＯＲ）３
（３−２）：Ｆ（ＣＦ２）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ−（ＯＲ）３
（３−３）：Ｆ（ＣＦ２）４−（ＣＨ２）２−Ｓｉ−（ＯＲ）３
（３−４）：Ｆ（ＣＦ２）６−（ＣＨ２）２−Ｓｉ−（ＯＲ）３
（３−５）：Ｆ（ＣＦ２）８−（ＣＨ２）２−Ｓｉ−（ＯＲ）３
（３−６）：Ｆ（ＣＦ２）１０−（ＣＨ２）２−Ｓｉ−（ＯＲ）３
（式（３−１）〜（３−６）中のＲは、メチル基またはエチル基を示す。）
前記式（３−１）〜（３−６）で示される化合物の中でも、前記式（３−４）〜（３−６）で示される化合物が好ましい。
【００５２】
前記カチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物および前記フッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物は、それぞれ、１種のみを用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。
【００５３】
フッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物として前記式（３）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物を用いる場合、Ｒｆ３１の炭素数ｎＡが６〜３１であって、炭素数ｎＡが相互に異なる２種以上の化合物を組み合わせて用いることが好ましい。このような組み合わせで前記式（３）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物を用いると、得られるポリシロキサンは、炭素数の異なるパーフルオロアルキル基を有することになる。パーフルオロアルキル基は、最表面層の表面に向かって配向する傾向にある。このため、最表面層に含有されるポリシロキサンが炭素数の異なるパーフルオロアルキル基を有していれば、最表面層の表面に向かって長さの異なるパーフルオロアルキル基が配向することになる。この場合、単一の長さのパーフルオロアルキル基が最表面層の表面に向かって配向する場合に比べて、最表面層の表面近傍のフッ素原子濃度が高くなり、最表面層の表面自由エネルギーが低くなる。表面自由エネルギーが低下するような最表面層は、トナー及びトナーに付着している外添剤によるゴムローラ表面の汚れ防止に効果がある。
【００５４】
前記式（３）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物を２種以上用いる場合は、前記式（３−４）〜（３−６）で示される化合物の中から２種以上選択することが好ましい。
【００５５】
本発明においては、前述のとおり、まず、縮合工程（Ｉ）でカチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物と、フッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物とを加水分解し、縮合させて、加水分解性縮合物を得る。次いで、架橋工程（ＩＩ）で該カチオン重合可能な基を開裂させることにより、該加水分解性縮合物を架橋させることによって、本発明の帯電ゴムローラに用いられるポリシロキサンを得ることができる。帯電ゴムローラの表面特性の制御の観点から、加水分解性縮合物を得る縮合工程（Ｉ）において、さらに、下記式（１）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物を併用することが好ましい。
（Ｒ１１）ａ−Ｓｉ−（ＯＲ１２）ｂ （１）
（式中、Ｒ１１は、フェニル基置換のアルキル基もしくは無置換のアルキル基、または、アルキル基置換のアリール基もしくは無置換のアリール基を示し、Ｒ１２は、飽和または不飽和の１価の炭化水素基を示す。ａは、０〜３の整数を、ｂは、１〜４の整数を示し、ａ＋ｂ＝４である。）
前記式（１）中のＲ１１で示されるフェニル基置換のアルキル基または無置換のアルキル基のアルキル基としては、炭素数１〜２１の直鎖状のアルキル基が好ましい。また、前記式（１）中のＲ１１で示されるアルキル基置換のアリール基もしくは無置換のアリール基のアリール基としては、フェニル基が好ましい。
【００５６】
前記式（１）中のａは、１〜３の整数であることが好ましく、特には１であることがより好ましい。また、前記式（１）中のｂは、１〜３の整数であることが好ましく、特には３であることがより好ましい。
【００５７】
前記式（１）中のＲ１２で示される飽和または不飽和の１価の炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基およびアリール基などが挙げられる。これらの中でも、炭素数１〜３の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基が好ましく、さらにはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基がより好ましい。
【００５８】
前記式（１）中のａが２または３の場合、２個または３個のＲ１１は同一であってもよく、異なっていてもよい。また、前記式（１）中のｂが２、３または４の場合、２個、３個または４個のＲ１２は同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００５９】
以下に、前記式（１）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物の具体例を示す。
（１−１）：テトラメトキシシラン
（１−２）：テトラエトキシシラン
（１−３）：テトラプロポキシシラン
（１−４）：メチルトリメトキシシラン
（１−５）：メチルトリエトキシシラン
（１−６）：メチルトリプロポキシシラン
（１−７）：エチルトリメトキシシラン
（１−８）：エチルトリエトキシシラン
（１−９）：エチルトリプロポキシシラン
（１−１０）：プロピルトリメトキシシラン
（１−１１）：プロピルトリエトキシシラン
（１−１２）：プロピルトリプロポキシシラン
（１−１３）：ヘキシルトリメトキシシラン
（１−１４）：ヘキシルトリエトキシシラン
（１−１５）：ヘキシルトリプロポキシシラン
（１−１６）：デシルトリメトキシシラン
（１−１７）：デシルトリエトキシシラン
（１−１８）：デシルトリプロポキシシラン
（１−１９）：フェニルトリメトキシシラン
（１−２０）：フェニルトリエトキシシラン
（１−２１）：フェニルトリプロポキシシラン
（１−２２）：ジフェニルジメトキシシラン
（１−２３）：ジフェニルジエトキシシラン
前記式（１）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物および前記式（３）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物を併用する場合、前記式（１）中のａは１〜３の整数であることが好ましく、ｂは１〜３の整数であることが好ましい。さらに、ａ個のＲ１１のうちの１個のＲ１１は、炭素数１〜２１の直鎖状のアルキル基であることが好ましい。
【００６０】
炭素数１〜２１の直鎖状のアルキル基の炭素数をｎ１（ｎ１は１〜２１の整数）とし、前記式（３）中のＲｆ３１の炭素数をｎ２（ｎ２は１〜３１の整数）としたとき、該炭素数１〜２１の直鎖状のアルキル基の炭素数ｎ１は、次の関係を満たすことが好ましい。
ｎ２−１≦ｎ１≦ｎ２＋１
前記炭素数１〜２１の直鎖状のアルキル基は、パーフルオロアルキル基と同様、帯電ゴムローラの最表面層中で表面に向かって配向する傾向にある。上記関係を満たす直鎖状のアルキル基を有する前記式（１）で示される加水分解性シラン化合物を用いると、前記式（３）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物のパーフルオロアルキル基による効果が損なわれることがなく好ましい。
【００６１】
前記式（１）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物は、１種のみ用いてもよいし、２種以上用いてもよい。２種以上用いる場合には、前記式（１）中のＲ１１がアルキル基のものと前記式（１）中のＲ１１がフェニル基のものを併用することが好ましい。
【００６２】
以下、本発明の帯電ゴムローラの具体的な製造方法（前記ポリシロキサンを含有する最表面層の具体的な形成方法）について説明する。
【００６３】
まず、カチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物およびフッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物、ならびに、必要に応じて前記の他の加水分解性シラン化合物を水の存在下で加水分解し、縮合させることによって加水分解性縮合物を得る。加水分解し、縮合させる際に、温度やｐＨなどを制御することで、所望の縮合度の加水分解性縮合物を得ることができる。
【００６４】
また、加水分解し、縮合させる際に、加水分解反応の触媒として金属アルコキシドなどを利用し、縮合度を制御してもよい。金属アルコキシドとしては、例えば、アルミニウムアルコキシド、チタニウムアルコキシドおよびジルコニアアルコキシドなど、ならびに、これらの錯体（アセチルアセトン錯体など）等が挙げられる。
【００６５】
また、加水分解性縮合物を得る際、カチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物およびフッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物の配合割合は、得られるポリシロキサンが、下記基等を下記含有量で含むものとなるように定めることが好ましい。
・フッ化アルキル基 ：ポリシロキサン全質量に対して ５．０〜５０．０質量％
・オキシアルキレン基 ：ポリシロキサン全質量に対して ５．０〜７０．０質量％
・シロキサン部分 ：ポリシロキサン全質量に対して２０．０〜９０．０質量％
また、上記加水分解性シラン化合物のほかに、更に、前記式（１）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物を用いる場合においても、得られるポリシロキサンが、上記基等を上記含有量で含むものとなるように配合割合を定めればよい。
【００６６】
具体的には、フッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物を、全加水分解性シラン化合物に対して０．５〜２０．０ｍｏｌ％の範囲になるように配合することが好ましく、特には１．０〜１０．０ｍｏｌ％の範囲になるように配合することがより好ましい。
【００６７】
式（１）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物を併用する場合、カチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物の配合量（ＭＣモル）と式（１）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物の配合量（Ｍ１モル）のモル比（ＭＣ：Ｍ１）が
１０：１〜１：１０
の範囲になるように配合することが好ましい。
【００６８】
次に、得られた加水分解性縮合物を含む最表面層を形成するための塗布液（最表面層用塗布液と表すことがある）を調製し、ゴムローラのゴム層上に塗布し乾燥する。最表面層用塗布液をゴムローラのゴム層上に塗布する際には、前記のリングヘッドを用いたリング塗布が好ましい。また、浸漬塗布やロールコーターを用いた塗布法等でも良い。最表面層用塗布液を調製する際には、塗布性向上のために、加水分解性縮合物以外に、適当な溶剤を用いてもよい。適当な溶剤としては、例えば、エタノール、２−ブタノールなどのアルコールや、酢酸エチルや、メチルエチルケトンなど、あるいは、これらを混合したものが挙げられる。
【００６９】
次に、ゴムローラのゴム層上に塗布された最表面層用塗布液に活性エネルギー線を照射する。活性エネルギー線は紫外線でも電子線でも良い。すると、最表面層用塗布液に含まれる加水分解性縮合物中のカチオン重合可能な基は開裂し、これによって該加水分解性縮合物を架橋させることができる。加水分解性縮合物は架橋によって硬化され最表面層が形成される。また、最表面層を加熱硬化させてもよい。この場合は、熱風炉、熱盤、遠・近赤外線、誘導加熱等のいずれの方法でも良く、或いはこれらの加熱方法を併用しても良い。
【００７０】
ここで、最表面層を活性エネルギー線で照射する場合はゴム層も同時に改質・硬化される。特に、ゴム層が二重結合を有するゴムは活性エネルギー線での照射による改質・硬化の効果が大きいため好ましい。
【００７１】
ここでは、紫外線の照射によって架橋・硬化して最表面層を形成する方法について詳細に説明する。
【００７２】
最表面層用塗布液を塗布されたゴムローラは一定の回転数で回転させて紫外線を照射させる。ここで、図４に本発明に用いることのできる紫外線照射処理装置の一例の模式図を示す。最表面層用塗布液を塗布されたゴムローラ６はローラ回転部材１４によって一定の回転数で回転させられ紫外線照射口１５よりその表面に紫外線が照射される。紫外線の照射には高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、低圧水銀ランプ、エキシマＵＶランプが用いられる。また、これらのランプを用いると、波長１５０〜４００ｎｍの紫外線強度が全波長強度の６０％以上となっており、速やかに紫外線照射を行うことが可能となり好ましい。尚、紫外線の積算光量は、下記で定義される。
紫外線積算光量（ｍＪ／ｃｍ２）＝紫外線強度（ｍＷ／ｃｍ２）×照射時間（ｓｅｃ）
紫外線の積算光量については、表面処理の効果に応じて適宜選択すれば良い。その調節は、照射時間、ランプ出力、ランプとゴムローラとの距離のいずれでも行う事が可能であり、所望の積算光量が得られるように決めればよい。又、照射時間内で積算光量に勾配をつけても良い。
【００７３】
紫外線ランプの外側に反射板１６を配置しても良く、反射板の材質としては、アルミニウム、ステンレス、鉄を用い反射面は鏡面加工、または反射率を向上させるコート処理、表面処理が施される事が望ましい。好ましくは、材質が９９．９％以上の高純度アルミニウムで表面に反射率９０％以上の光沢アルマイト処理を施す事が良い。反射板とゴムローラの距離は任意に設定でき、紫外線積算光量や反射板からの輻射による熱の影響を考慮して決定される。
【００７４】
紫外線の照射方法については、最表面層用塗布液を塗布された複数のゴムローラを管状の紫外線ランプを中心に同心円上に配置して、更にその外側の同心円上に円筒状または円弧状の反射板を配置して、ゴムローラを回転させながら紫外線を照射する方法でも良い。
【００７５】
本発明においては、２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線に関しては、紫外線の積算光量をウシオ電機株式会社製の紫外線積算光量計（ＵＩＴ−１５０−Ａ（商品名）、ＵＶＤ−Ｓ２５４（商品名））を用いて測定した。また、１７２ｎｍの波長を代表とする紫外線に関しては、紫外線の積算光量をウシオ電機株式会社製の紫外線積算光量計（ＵＩＴ−１５０−Ａ（商品名）、ＶＵＶ−Ｓ１７２（商品名））を用いて測定した。更に３６５ｎｍの波長を代表とする紫外線に関しては、紫外線の積算光量をウシオ電機株式会社製の紫外線積算光量計（ＵＩＴ−１５０−Ａ（商品名）、ＶＵＶ−Ｓ３６５（商品名））を用いて測定した。
【００７６】
上記、本発明の実施の形態で述べた帯電ゴムローラの抵抗値は、芯金の両端に各々５００ｇの加重をかけて、金属製ドラムに接触回転させながら帯電ローラを従動回転させて測定した。芯金、金属製ドラムに２００Ｖの電圧を印加した場合の帯電ゴムローラの抵抗値を１０３〜１０８Ωに調整した。そして本発明の実施の形態で述べた帯電ゴムローラは、ＬＢＰ（Ｌａｓｅｒ Ｂｅａｍ Ｐｒｉｎｔｅｒ）、複写機及びファクシミリ等の画像形成装置の電子写真用部材として用いられる。
【００７７】
ここで、本発明の帯電ゴムローラを帯電ローラとして用いた場合の使用形態を図５に示した。図５に示した画像形成装置は、回転ドラム型・転写方式の電子写真装置であって、１７は像担持体としての電子写真感光体（感光体ドラム）であり、時計方向に所定の周速度（プロセススピード）をもって回転駆動される。感光体ドラム１７は、その回転過程で帯電手段としての電源Ｅ１から帯電バイアスを印加した帯電ローラ１８により周面が所定の極性・電位（本実施例では−６００Ｖ）に一様帯電処理される。次いで露光系１９により目的の画像情報に対応したネガ画像露光（原稿像のアナログ露光、デジタル走査露光）を受けて周面に目的画像情報の静電潜像が形成される。次いで、その静電潜像がマイナストナーによる反転現像方式の現像ローラ２０によりトナー画像として現像される。まず、感光体ドラム１７と転写手段としての転写ローラ２１との間の転写部に不図示の給紙手段から所定のタイミングで転写材が給送される。そして、転写ローラ２１に対して電源Ｅ２から約＋２〜３ＫＶの転写バイアスが印加され感光体ドラム１７面の反転現像されたトナー像が転写材に対して順次転写されていく。トナー画像の転写を受けた転写材は、感光体ドラム１７面から分離されて不図示の定着手段へ導入されて像定着処理を受ける。トナー画像転写後の感光体ドラム面は、クリーニング手段２２で転写残りトナー等の付着汚染物の除去処理を受けて清浄面化されて繰り返して作像に供される。
【００７８】
また、像担持体としての感光体ドラム１７と、帯電部材としての帯電ローラ１８とを一体に支持し、画像形成装置本体に着脱自在であるプロセスカートリッジを構成しても良い。
【００７９】
本発明におけるゴムローラの表面粗さＲｚｊｉｓ測定はＪＩＳ９４−Ｂ０６０１における十点平均粗さ評価に則した方法で（株）小坂研究所製の表面粗さ測定器ＳＥ−３４００を用い、
カットオフを０．８ｍｍ、
測定速度を０．５ｍｍ／ｓ、
測定長さを８ｍｍ
として測定を行った。ここで、（導電性弾性体の帯電部位の長さ）／（８ｍｍ）Ｎ（Ｎは整数部分、Ｎ≧３）より、導電性弾性層をＮ分割して、ゴムローラの長手方向でＮ分割した各部分の周方向で６０°おきに６点の測定（上記の「周方向６点測定」）を行った。そして、６点の平均値をＮ分割した各部分の表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．とした（図６）。導電性弾性体の帯電部位の長手方向における表面粗さ分布を図７に示す。
【００８０】
本発明におけるゴムローラと感光体ドラムとの当接ニップ内の圧力分布の測定はニッタ（株）のタクタイルセンサシステムを用いて厚さ１００μｍのフィルム状のセンサをゴムローラと感光体ドラムに挟んで測定を行った。
【００８１】
本発明における最表面層の膜厚測定は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、倍率１００００倍で数箇所の測定を行い、平均値をＳＥＭ平均膜厚とした。
【００８２】
また、測定は、２３．５℃／６０％の環境において行った。
【００８３】
本発明の実施の形態で述べた帯電ゴムローラは、芯金と、該芯金上に形成した導電性弾性層（ゴム層）を有する導電性ローラである。導電性弾性層の長手方向の表面粗さＲｚｊｉｓは２．０〜２０．０μｍ、より好ましくは２．０〜１２．０μｍであり、且つ下記（Ａ）の関係にある。
（Ａ）（導電性弾性体の帯電部位の長さ）／（８ｍｍ）＝Ｎ（Ｎは小数点以下切上げの整数部分、Ｎ≧３）より、導電性弾性体部をＮ分割し、片端から順に１〜Ｎとする。この時に、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）及びＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（Ｎ）が２．０〜７．０μｍであり、且つＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（２〜Ｎ−１）のうち少なくとも１点以上が、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）及びＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（Ｎ）の１．２〜５．０倍（好ましくは１．５〜３．０倍）である。また、好ましくは、表面粗さＳｍ−ａｖｅ．が３０〜１３０μｍである。
【００８４】
更に、導電性弾性層の長手方向の表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．が、（Ｎ／２）−３以上（Ｎ／２）＋３以下の範囲内の分割部分に最大値があり、最大値から表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）及びＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（Ｎ）に対して傾斜して小さくなる。すなわちゴムローラの長手方向の表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．が中央部で最大値となり、中央部から両端部に傾斜して小さくなる（Ｎ／２は小数点以下切上げの整数部分、Ｎ≧７）。
【００８５】
ここで、例えばゴムローラの長手方向の表面粗さＲｚｊｉｓが２０．０μｍより大きい場合、表面粗さが非常に大きいためゴムローラ表面がトナー及びトナーに付着している外添剤により汚れてしまい、感光体ドラムの表面を均一に帯電できない可能性がある。また、２．０μｍより小さい場合は、感光体ドラムとの当接ニップの近傍、当接ニップ内での微小な放電が少なくなり、感光体ドラムの表面を均一に帯電できない可能性がある。
【００８６】
また、ゴムローラのクラウン形状にもよるがゴムローラの長手方向の両端部の表面粗さＲｚｊｉｓが中央部の表面粗さＲｚｊｉｓの５．０倍よりも大きい場合、ゴムローラの中央部で表面がトナー及びトナーに付着している外添剤により汚れやすくなる。一方、１．２倍より小さい場合、表面粗さＲｚｊｉｓの大きさにもよるがゴムローラの両端部で表面が汚れる可能性がある。
【００８７】
上記のように、表面粗さＲｚｊｉｓ、特に長手方向での表面粗さＲｚｊｉｓを制御することで、帯電ローラと感光体ドラムとの当接ニップ内の圧力分布に合わせて圧力が高い部分では表面粗さが小さく、圧力が小さい部分では表面粗さが大きくなる。そうすることで、トナー及びトナーに付着している外添剤等による帯電ローラ表面の汚れ、特に長手両端部の汚れを抑えて安定して感光体ドラムを帯電処理できる帯電部材を提供する事ができる。ここで、図８に本発明の帯電ゴムローラ断面の模式図の一例を示す。４は芯金、２３は弾性層（ゴム層）、２４は最表面層である。
【実施例】
【００８８】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
【００８９】
［実施例１］
〈ゴムローラの作製〉
以下の原料を加圧式ニーダーで１５分間混練した。
・ＮＢＲ １００質量部
（商品名「Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２１９」：日本ゼオン（株）製）
・カーボンブラック１ １４質量部
（商品名「旭ＨＳ−５００」：旭カーボン（株）製）
・カーボンブラック２ ４質量部
（商品名「ケッチェンブラックＥＣ６００ＪＤ」：ライオン（株）製）
・ステアリン酸亜鉛 １質量部
・酸化亜鉛 ５質量部
・炭酸カルシウム ３０質量部
（商品名「ナノックス＃３０」：丸尾カルシウム（株）製）
更に、
加硫促進剤（ＤＭ：ジ−２−ベンゾチアゾリルジスルフィド）１質量部、
加硫促進剤（ＴＢｚＴＤ：テトラベンジルチウラムジスルフィド）３質量部及び
加硫剤としてイオウ１．２質量部
を加えて、１５分間オープンロールで混練して未加硫ゴム組成物を作製した。次いで、外径φ６ｍｍ、長さ２５２ｍｍのステンレス棒の芯金を用意した。ここで、図１に模式的に示す押出機を用いて上記芯金と未加硫ゴム組成物とを一体に押出してゴムローラを成形した。その後１６０℃、２時間の加熱加硫を行い、更にトラバース方式の研磨を行った。
【００９０】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら４００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度５０ｍｍ／ｍiｎから中央部に向かって移動速度を２００ｍｍ／ｍｉｎに上げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を５０ｍｍ／ｍｉｎに下げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−１２０（ノリタケ製）であった。端部の切断・除去処理により、厚み１．２５ｍｍ、長さ２３２ｍｍのゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量１１０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。更にその後、低圧水銀ランプ（ハリソン東芝ライティング製）による紫外線照射を５分間行った。低圧水銀ランプに関しては、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線で、この時の紫外線積算光量は約１００００ｍＪ／ｃｍ２であった（紫外線強度は３５ｍＷ／ｃｍ２）。
【００９１】
ここで、（導電性弾性体の帯電部位の長さ＝２３２ｍｍ）／（８ｍｍ）＝２９より、導電性弾性層を２９分割し、片端から順に１〜Ｎとした。すべての分割部分の表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．を測定した結果は、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）＝２．７μｍ、Ｓｍ−ａｖｅ．（１）＝５５μｍ、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（２９）＝２．９μｍ、Ｓｍ−ａｖｅ．（２９）＝５３μｍであり、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１５）＝５．２μｍ、Ｓｍ−ａｖｅ．（１５）＝１０７μｍで表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）の１．９倍、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（２９）の１．８倍であった。また、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１５）はゴムローラの長手方向で最大値であり、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１５）より表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）及び表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（２９）に向かって、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．は傾斜して小さくなっている。これらの結果を纏め、表１に示した。
【００９２】
更に、この帯電ゴムローラを図４に示す電子写真方式の画像形成装置に帯電ローラとして組込み、感光体ドラムの両端に５００ｇづつの荷重を負荷した状態で圧接した。そして、２３．５℃／６０％の環境でハーフトーン画像による連続６０００枚（６Ｋと表すことがある）の通紙をして以下の耐久汚れ画像評価を行った。得られた結果を表２に示す。
【００９３】
〈耐久汚れ画像評価〉
通紙１〜１０枚間を初期画像、また連続通紙６０００枚間を耐久画像とした。帯電ゴムローラに固着したトナーや外添剤による、点状もしくは線状の画像不良、或いは帯電ムラによる黒または白の横スジ状の画像不良の有無を目視で観察して検査した。得られた検査結果に基づき、下記基準で画像評価を行った。
Ａ ：画像不良がまったくない
Ｂ ：画像不良がごくまれにある
Ｃ ：画像不良が多量にある。
【００９４】
［実施例２］
〈ゴムローラの作製〉
前記実施例１のトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は実施例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量１１０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【００９５】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら２００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度５０ｍｍ／ｍｉｎから中央部に向かって移動速度を２００ｍｍ／ｍｉｎに上げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を５０ｍｍ／ｍｉｎに下げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−８０（ノリタケ製）であった。
【００９６】
その後、低圧水銀ランプ（ハリソン東芝ライティング製）による紫外線照射を５分間行った。低圧水銀ランプに関しては、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線で、この時の紫外線積算光量は約１００００ｍＪ／ｃｍ２であった（紫外線強度は３５ｍＷ／ｃｍ２）。
【００９７】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【００９８】
［実施例３］
〈ゴムローラの作製〉
前記実施例１のトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は実施例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量１１０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【００９９】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら１００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度１０ｍｍ／ｍｉｎから中央部に向かって移動速度を６００ｍｍ／ｍｉｎに上げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を１０ｍｍ／ｍｉｎに下げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−８０（ノリタケ製）であった。
【０１００】
その後、低圧水銀ランプ（ハリソン東芝ライティング製）による紫外線照射を５分間行った。低圧水銀ランプに関しては、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線で、この時の紫外線積算光量は約１００００ｍＪ／ｃｍ２であった（紫外線強度は３５ｍＷ／ｃｍ２）。
【０１０１】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１０２】
［実施例４］
〈ゴムローラの作製〉
前記実施例１のトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は実施例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ７ｍｍ、クラウン量７０μｍ、導電性弾性層の厚み０．５ｍｍ）。
【０１０３】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら５００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度５０ｍｍ／ｍｉｎから中央部に向かって移動速度を２００ｍｍ／ｍｉｎに上げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を５０ｍｍ／ｍｉｎに下げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−１２０（ノリタケ製）であった。
【０１０４】
その後、低圧水銀ランプ（ハリソン東芝ライティング製）による紫外線照射を５分間行った。低圧水銀ランプに関しては、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線で、この時の紫外線積算光量は約１００００ｍＪ／ｃｍ２であった（紫外線強度は３５ｍＷ／ｃｍ２）。
【０１０５】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１０６】
［実施例５］
〈ゴムローラの作製〉
前記実施例１のトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は実施例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量９０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【０１０７】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら２００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度２００ｍｍ／ｍｉｎから中央部に向かって移動速度を２５０ｍｍ／ｍｉｎに上げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を２００ｍｍ／ｍｉｎに下げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−８０（ノリタケ製）であった。
【０１０８】
その後、低圧水銀ランプ（ハリソン東芝ライティング製）による紫外線照射を５分間行った。低圧水銀ランプに関しては、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線で、この時の紫外線積算光量は約１００００ｍＪ／ｃｍ２であった（紫外線強度は３５ｍＷ／ｃｍ２）。
【０１０９】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１１０】
［実施例６］
〈ゴムローラの作製〉
前記実施例１のトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は実施例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量９０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【０１１１】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら２００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度２０ｍｍ／ｍｉｎから中央部に向かって移動速度を６００ｍｍ／ｍｉｎに上げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を２０ｍｍ／ｍｉｎに下げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−８０（ノリタケ製）であった。
【０１１２】
その後、低圧水銀ランプ（ハリソン東芝ライティング製）による紫外線照射を５分間行った。低圧水銀ランプに関しては、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線で、この時の紫外線積算光量は約１００００ｍＪ／ｃｍ２であった（紫外線強度は３５ｍＷ／ｃｍ２）。
【０１１３】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１１４】
［実施例７］
〈ゴムローラの作製〉
前記実施例１のトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は実施例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量９０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【０１１５】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら４００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度２００ｍｍ／ｍｉｎから中央部に向かって移動速度を４００ｍｍ／ｍｉｎに上げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を２００ｍｍ／ｍｉｎに下げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−８０（ノリタケ製）であった。
【０１１６】
その後、低圧水銀ランプ（ハリソン東芝ライティング製）による紫外線照射を５分間行った。低圧水銀ランプに関しては、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線で、この時の紫外線積算光量は約１００００ｍＪ／ｃｍ２であった（紫外線強度は３５ｍＷ／ｃｍ２）。
【０１１７】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１１８】
［実施例８］
〈ゴムローラの作製〉
前記実施例１のトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は実施例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量９０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【０１１９】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら２００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度２０ｍｍ／ｍｉｎから中央部に向かって移動速度を３００ｍｍ／ｍｉｎに上げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を２０ｍｍ／ｍｉｎに下げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−８０（ノリタケ製）であった。ここで、クラウン量が９０μｍのゴムローラであらかじめゴムローラと感光体ドラムとの当接ニップ内の圧力分布を測定して、圧力が高い部分では表面粗さを小さく、圧力が小さい部分では表面粗さを大きくするように研磨条件（砥石の移動速度）を調整した。ゴムローラと感光体ドラムとの当接ニップ内の圧力分布と長手方向の表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．の関係を図９に示す。
【０１２０】
その後、低圧水銀ランプ（ハリソン東芝ライティング製）による紫外線照射を５分間行った。低圧水銀ランプに関しては、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線で、この時の紫外線積算光量は約１００００ｍＪ／ｃｍ２であった（紫外線強度は３５ｍＷ／ｃｍ２）。
【０１２１】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１２２】
［実施例９］
〈ゴムローラの作製〉
前記実施例１のトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は実施例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量１５０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【０１２３】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら４００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度１００ｍｍ／ｍｉｎから中央部に向かって移動速度を２００ｍｍ／ｍｉｎに上げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を１００ｍｍ／ｍｉｎに下げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−８０（ノリタケ製）であった。ここで、クラウン量が１５０μｍのゴムローラであらかじめゴムローラと感光体ドラムとの当接ニップ内の圧力分布を測定して、圧力が高い部分では表面粗さを小さく、圧力が小さい部分では表面粗さを大きくするように研磨条件（砥石の移動速度）を調整した。ゴムローラと感光体ドラムとの当接ニップ内の圧力分布と長手方向の表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．の関係を図１０に示す。
【０１２４】
その後、低圧水銀ランプ（ハリソン東芝ライティング製）による紫外線照射を５分間行った。低圧水銀ランプに関しては、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線で、この時の紫外線積算光量は約１００００ｍＪ／ｃｍ２であった（紫外線強度は３５ｍＷ／ｃｍ２）。
【０１２５】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１２６】
［実施例１０］
〈ゴムローラの作製〉
前記実施例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量１１０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【０１２７】
〈最表面層の形成方法〉
下記原料を用意した。
・グリシドキシプロピルトリエトキシシラン（ＧＰＴＥＳ）：２７．８４ｇ（０．１ｍｏｌ）
・メチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）：１７．８３ｇ（０．１ｍｏｌ）
・トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン（ＦＴＳ、パーフルオロアルキル基の炭素数６）：７．６８ｇ（０．０１５１ｍｏｌ）（加水分解性シラン化合物総量に対して７ｍｏｌ％相当）
・水：１７．４３ｇ
・エタノール：３７．８８ｇ
上記原料を混合した後、室温で攪拌し、次いで２４時間加熱還流を行うことによって、加水分解性シラン化合物を加水分解し、縮合して加水分解性縮合物を得た。この加水分解性縮合物を２−ブタノール／エタノールの混合溶剤に添加することによって、固形分７質量％の加水分解性縮合物含有アルコール溶液を調製した。この加水分解性縮合物含有アルコール溶液１００ｇに対して０．３５ｇの光カチオン重合開始剤としての芳香族スルホニウム塩（商品名：アデカオプトマーＳＰ−１５０、旭電化工業（株）製）を添加した。更に固形分２．０質量％となるようにエタノールで希釈して最表面層用塗布液を調製した。
【０１２８】
前記最表面層用塗布液を密閉容器に入れ、密閉容器を液供給手段であるシリンジポンプにつなぎ、更にリングヘッドに具備された１箇所の液供給口につなぎ、リングヘッド内に適量の塗布液を供給した。塗布液は、リングヘッド内で合流し周方向に分配するための液分配室を有するリングヘッド内に充填された。前記より得られたゴムローラを垂直状態に支持し、このゴムローラの外径に対して０．５ｍｍの間隔をなす距離に全周に開口されたスリット状の吐出口がくるようにリングヘッドを配置した。この時、リングヘッドの全周に開口されたスリット状の吐出口の開口幅（スリット幅）は０．１ｍｍで使用した。リングヘッドをゴムローラの上端部から下端部へ、７０ｍｍ／ｓの一定の速度で垂直移動させると同時に上記最表面層用塗布液の適量（０．０７ｍＬ）を０．０１８ｍＬ／ｓの吐出速度で全周均一に塗布した。その後、低圧水銀ランプ（ハリソン東芝ライティング製）による紫外線照射を５分間行った。低圧水銀ランプに関しては、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線で、この時の紫外線積算光量は約１００００ｍＪ／ｃｍ２であった（紫外線強度は３５ｍＷ／ｃｍ２）。
【０１２９】
ここで、（導電性弾性体の帯電部位の長さ＝２３２ｍｍ）／（８ｍｍ）＝２９より、導電性弾性層を２９分割し、片端から順に１〜Ｎとした。すべての分割部分の表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．を測定した結果は、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）＝２．６μｍ、Ｓｍ−ａｖｅ．（１）＝４４μｍ、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（２９）＝２．９μｍ、Ｓｍ−ａｖｅ．（２９）＝５１μｍであり、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１５）＝５．３μｍ、Ｓｍ−ａｖｅ．（１５）＝９５μｍで表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）の２．０倍、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（２９）の１．８倍であった。また、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１５）はゴムローラの長手方向で最大値であり、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１５）より表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）及び表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（２９）に向かって、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．は傾斜して小さくなっている。
【０１３０】
走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）の倍率１００００倍で測定した上記ゴムローラの最表面層のＳＥＭ平均膜厚は７０ｎｍであった。これらの結果を纏め、表１に示した。
【０１３１】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表２に示す。
【０１３２】
［実施例１１］
〈ゴムローラの作製〉
前記実施例１のトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は実施例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ１２ｍｍ、クラウン量１６０μｍ、導電性弾性層の厚み３．０ｍｍ）。
【０１３３】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら４００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度１００ｍｍ／ｍｉｎから中央部に向かって移動速度を４００ｍｍ／ｍｉｎに上げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を１００ｍｍ／ｍｉｎに下げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−８０（ノリタケ製）であった。
【０１３４】
その後、最表面層用塗布液の固形分を５．０質量％にした以外は実施例１０と同様にして帯電ゴムローラを得た。また得られたゴムローラについて、実施例１０と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１３５】
［実施例１２］
〈ゴムローラの作製〉
前記実施例１のトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は実施例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量８０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【０１３６】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら２００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度２００ｍｍ／ｍｉｎから中央部に向かって移動速度を５００ｍｍ／ｍｉｎに上げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を２００ｍｍ／ｍｉｎに下げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−８０（ノリタケ製）であった。
【０１３７】
その後、最表面層用塗布液の固形分を１．０質量％にした以外は実施例１０と同様にして帯電ゴムローラを得た。また得られたゴムローラについて、実施例１０と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１３８】
［実施例１３］
〈ゴムローラの作製〉
前記実施例１の未加硫ゴム組成物とトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は実施例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量９０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【０１３９】
〈未加硫ゴム組成物の作製〉
以下の原料をオープンロールで３０分間混練した。
・エピクロルヒドリンゴム １００質量部
（商品名「エピクロマーＣＧ１０２」：ダイソー（株）製）
・ＭＴカーボン ３０質量部
（商品名「ＨＴＣ＃２０」：新日化カーボン製）
・酸化亜鉛 ５質量部
・ステアリン酸 １質量部
更に、
加硫促進剤（ＤＭ：ジ−２−ベンゾチアゾリルジスルフィド）１質量部、
加硫促進剤（ＴＳ：テトラメチルチウラムモノスルフィド）０．５質量部及び
加硫剤としてイオウ１．２質量部
を加えて、１５分間オープンロールで混練して未加硫ゴム組成物を作製した。
【０１４０】
〈トラバース方式の研磨条件〉
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら３００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度２０ｍｍ／ｍｉｎから中央部に向かって移動速度を２００ｍｍ／ｍｉｎに上げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を２０ｍｍ／ｍｉｎに下げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−１２０（ノリタケ製）であった。
【０１４１】
その後、最表面層用塗布液の固形分を１８．０質量％にした以外は実施例１０と同様にして帯電ゴムローラを得た。また得られたゴムローラについて、実施例１０と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１４２】
［比較例１］
〈ゴムローラの作製〉
前記実施例１の未加硫ゴム組成物とトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は実施例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量１１０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【０１４３】
〈未加硫ゴム組成物の作製〉
以下の原料をオープンロールで３０分間混練した。
・エピクロルヒドリンゴム １００質量部
（商品名「エピクロマーＣＧ１０２」：ダイソー（株）製）
・ＭＴカーボン ５質量部
（商品名「ＨＴＣ＃２０」：新日化カーボン製）
・酸化亜鉛 ５質量部
・ステアリン酸 １質量部
更に、
加硫促進剤（ＤＭ：ジ−２−ベンゾチアゾリルジスルフィド）１質量部、
加硫促進剤（ＴＳ：テトラメチルチウラムモノスルフィド）０．５質量部及び
加硫剤としてイオウ１．２質量部
を加えて、１５分間オープンロールで混練して未加硫ゴム組成物を作製した。
【０１４４】
〈トラバース方式の研磨条件〉
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら４００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度２０ｍｍ／ｍｉｎで他端側に向かって移動させることによって研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−１２０（ノリタケ製）であった。
【０１４５】
その後、ウレタン樹脂（ポリカプロラクトン系ポリオール、トリレンジイソシアネート；ＴＤＩ）の固形分が約２０％となるよう調整したメチルイソブチルケトンを主溶媒とする混合溶液を準備した。そして、この準備した混合溶液に更にウレタン樹脂成分１００質量部に対し５５質量部の導電性カーボンを添加し、十分に攪拌分散して塗布液とした。この塗布液をガラス容器（Φ４０ｍｍ、長さ３５０ｍｍ）に約３００ｍＬ入れた浸漬槽を準備した。浸漬槽のほぼ中央にくるように上記ゴムローラを配置し、ゴムローラを移動させて、ゴムローラの弾性層部分を塗布液中に浸漬した。数秒間浸漬した後、ゴムローラを１０〜２０ｍｍ／ｓの速度で引き上げた（浸漬塗布）。その後、ゴムローラを室温で３０分風乾し、更に熱風循環乾燥機中で温度１６０℃で、１時間乾燥し、硬化させて帯電ゴムローラを得た。
【０１４６】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１４７】
表２に示したように、本比較例の帯電ゴムローラでは、連続通紙５０００枚（５Ｋと表すことがある）以降の耐久画像に、帯電ムラによる画像不良が確認された（Ｂ）。これは耐久中の通電による劣化もあるが、本比較例の帯電ゴムローラの表面粗さが小さいため、感光体ドラムとの当接ニップの近傍、当接ニップ内での微小な放電が少なくなり、感光体ドラムの表面を均一に帯電できなくなったことによる可能性がある。
【０１４８】
［比較例２］
〈ゴムローラの作製〉
前記比較例１のトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は比較例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量１１０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【０１４９】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら２００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度１５０ｍｍ／ｍｉｎで他端側に向かって移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−８０（ノリタケ製）であった。
【０１５０】
その後、ウレタン樹脂（ポリカプロラクトン系ポリオール、トリレンジイソシアネート；ＴＤＩ）の固形分が約２０％となるよう調整したメチルイソブチルケトンを主溶媒とする混合溶液を準備した。そして、この準備した混合溶液に更にウレタン樹脂成分１００質量部に対し５５質量部の導電性カーボンと３０質量部の平均粒径５μｍのアクリル系粒子を添加し、十分に攪拌分散して塗布液とした。この塗布液をガラス容器（Φ４０ｍｍ、長さ３５０ｍｍ）に約３００ｍＬ入れた浸漬槽を準備した。浸漬槽のほぼ中央にくるように上記ゴムローラを配置し、ゴムローラを移動させて、ゴムローラの弾性層部分を塗布液中に浸漬した。数秒間浸漬した後、ゴムローラを１０〜２０ｍｍ／ｓの速度で引き上げた（浸漬塗布）。その後、ゴムローラを室温で３０分風乾し、更に熱風循環乾燥機中で温度１６０℃で、１時間乾燥し、硬化させて帯電ゴムローラを得た。
【０１５１】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１５２】
表２に示したように、本比較例の帯電ゴムローラでは、連続通紙２０００枚（２Ｋと表すことがある）以降の耐久画像に、耐久汚れによる画像不良が両端部に確認された（Ｂ）。また、帯電ゴムローラ表面の両端部で固着したトナーや外添剤による、点状もしくは線状の汚れが確認された（Ｂ）。
【０１５３】
［比較例３］
〈ゴムローラの作製〉
前記比較例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量９０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【０１５４】
その後、ウレタン樹脂（ポリカプロラクトン系ポリオール、トリレンジイソシアネート；ＴＤＩ）の固形分が約２０％となるよう調整したメチルイソブチルケトンを主溶媒とする混合溶液を準備した。そして、この準備した混合溶液に更にウレタン樹脂成分１００質量部に対し７０質量部の導電性カーボンを添加し、十分に攪拌分散して塗布液とした。この塗布液をガラス容器（Φ４０ｍｍ、長さ３５０ｍｍ）に約３００ｍＬ入れた浸漬槽を準備した。浸漬槽のほぼ中央にくるように上記ゴムローラを配置し、ゴムローラを移動させて、ゴムローラの弾性層部分を塗布液中に浸漬した。数秒間浸漬した後、ゴムローラを１０〜２０ｍｍ／ｓの速度で引き上げた（浸漬塗布）。その後、ゴムローラを室温で３０分風乾し、更に熱風循環乾燥機中で温度１６０℃で、１時間乾燥し、硬化させて帯電ゴムローラを得た。
【０１５５】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１５６】
表２に示したように、本比較例の帯電ゴムローラでは、連続通紙５５００枚（５．５Ｋと表すことがある）以降の耐久画像に、帯電ムラによる画像不良が確認された（Ｂ）。これは耐久中の通電による劣化もあるが、本比較例の帯電ゴムローラの表面粗さが小さいため、感光体ドラムとの当接ニップの近傍、当接ニップ内での微小な放電が少なくなり、感光体ドラムの表面を均一に帯電できなくなったという可能性がある。
【０１５７】
［比較例４］
〈ゴムローラの作製〉
前記比較例１のトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は比較例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量９０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【０１５８】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら１００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度５０ｍｍ／ｍｉｎから中央部に向かって移動速度を８００ｍｍ／ｍｉｎに上げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を５０ｍｍ／ｍｉｎに下げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−８０（ノリタケ製）であった。
【０１５９】
その後、低圧水銀ランプ（ハリソン東芝ライティング製）による紫外線照射を５分間行った。低圧水銀ランプに関しては、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線で、この時の紫外線積算光量は約１００００ｍＪ／ｃｍ２であった（紫外線強度は３５ｍＷ／ｃｍ２）。
【０１６０】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１６１】
表２に示したように、本比較例の帯電ゴムローラでは、連続通紙１５００枚（１．５Ｋと表すことがある）以降の耐久画像に、耐久汚れによる画像不良が中央部に確認された（Ｃ）。また、帯電ゴムローラ表面の中央部で固着したトナーや外添剤による、点状もしくは線状の汚れが確認された（Ｃ）。
【０１６２】
［比較例５］
〈ゴムローラの作製〉
前記比較例１のトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は比較例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量１１０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【０１６３】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら１００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度５ｍｍ／ｍｉｎから中央部に向かって移動速度を７００ｍｍ／ｍｉｎに上げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を５ｍｍ／ｍｉｎに下げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−８０（ノリタケ製）であった。
【０１６４】
その後、低圧水銀ランプ（ハリソン東芝ライティング製）による紫外線照射を５分間行った。低圧水銀ランプに関しては、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線で、この時の紫外線積算光量は約１００００ｍＪ／ｃｍ２であった（紫外線強度は３５ｍＷ／ｃｍ２）。
【０１６５】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１６６】
表２に示したように、本比較例の帯電ゴムローラでは、連続通紙５０００枚（５Ｋと表すことがある）以降の耐久画像に、耐久汚れによる画像不良が中央部に確認された（Ｂ）。
【０１６７】
［比較例６］
〈ゴムローラの作製〉
前記比較例１のトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は比較例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量９０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【０１６８】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら２００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度１５０ｍｍ／ｍｉｎから中央部に向かって移動速度を１０ｍｍ／ｍｉｎに下げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を１５０ｍｍ／ｍｉｎに上げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−８０（ノリタケ製）であった。
【０１６９】
その後、低圧水銀ランプ（ハリソン東芝ライティング製）による紫外線照射を５分間行った。低圧水銀ランプに関しては、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線で、この時の紫外線積算光量は約１００００ｍＪ／ｃｍ２であった（紫外線強度は３５ｍＷ／ｃｍ２）。
【０１７０】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１７１】
表２に示したように、本比較例の帯電ゴムローラでは、連続通紙５０００枚（５Ｋと表すことがある）以降の耐久画像に、耐久汚れによる画像不良が両端部に確認された（Ｂ）。
【０１７２】
【表１】
【０１７３】
【表２】
【図面の簡単な説明】
【０１７４】
【図１】押出法によるゴムローラの製造方法の一例を示す模式図である。
【図２】トラバース方式の研磨によるゴムローラの製造方法の一例の模式図である。
【図３】リングヘッド塗布法の一例を示す模式図である。
【図４】紫外線照射装置の一例を示す模式図である。
【図５】本発明の画像形成装置の一例の概略を示す構成図である。
【図６】本発明の導電性弾性体の帯電部位の分割方法を示す模式図である。
【図７】本発明の導電性弾性体の帯電部位の長手方向における表面粗さ分布を示す模式図である。
【図８】本発明の帯電ゴムローラ断面の一例を示す模式図である。
【図９】ゴムローラと感光体ドラムとの当接ニップ内の圧力分布と長手方向の表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．の関係を示す図である。
【図１０】ゴムローラと感光体ドラムとの当接ニップ内の圧力分布と長手方向の表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．の関係を示す図である。
【符号の説明】
【０１７５】
１ 押出機
２ クロスヘッド
３ 芯金送りローラ
４ 芯金
５ 切断・除去処理
６ ゴムローラ
７ 回転が可能な取付部材
８ 砥石
９ リングヘッド
１０ 全周に開口されたスリット状の吐出口
１１ 液絞り部
１２ 液供給口
１３ 液分配室
１４ ローラ回転部材
１５ 紫外線照射口
１６ 反射板
１７ 電子写真感光体（感光体ドラム）
１８ 帯電ローラ（帯電手段）
１９ 露光系
２０ 現像ローラ（現像手段）
２１ 転写ローラ（転写手段）
２２ クリーニング手段
Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３ バイアス印加用電源
２３ 弾性層（ゴム層）
２４ 最表面層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特にＬＢＰ（Ｌａｓｅｒ Ｂｅａｍ Ｐｒｉｎｔｅｒ）、複写機及びファクシミリ等のＯＡ機器における、電子写真プロセスを利用した画像形成装置に用いる帯電部材（帯電ローラ）に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の画像形成装置の高速化、高耐久化に伴い、画像形成装置に使用される帯電部材も高精度、高耐久化が要求されてきている。
【０００３】
画像形成装置に使用される帯電ローラは、帯電部材のうち最も一般的なものであり、感光体ドラムに接触して帯電処理を行うものである。これは、導電性基体と、導電性基体上に形成した導電性弾性層（抵抗層）と、所望の場合には、導電性弾性層上に形成した表面層とを有する。そして、このような帯電ローラを用い、導電性基体に電圧を印加して帯電ローラと感光体ドラムとの当接ニップの近傍で微小な放電をさせて、感光体ドラムの表面を帯電させる。以下、導電性基体を芯金ともいう。
【０００４】
画像形成装置に、帯電部材として、帯電ローラを用いてハーフトーン画像による画像耐久試験を行った場合、画像耐久をしていくと共にトナー及びトナーに付着している外添剤等により帯電ローラ表面が汚れるという問題がある。その結果、帯電ローラ表面のひどく汚れた部分を起点に白スジや黒スジ、濃度ムラといった画像不良が生じる。これは帯電ローラ表面が汚れる事により感光体ドラムに均一な帯電処理ができなくなるからである。
【０００５】
帯電部材の表面が汚れる原因の一つとして、帯電部材の表面粗さが粗いと表面の凹部にトナー及びトナーに付着している外添剤等が入り込み易くなり、帯電部材が汚れ易くなってしまうことが考えられる。また、帯電部材の長手形状にもよるが両端部を支持して感光体ドラムに接触させる場合、画像耐久試験で帯電部材表面の長手両端部が汚れやすい傾向にあり画像端部で帯電不良による画像不良になる場合がある。
【０００６】
帯電部材の汚れによる帯電不良を防止するためには、帯電部材の表面形状（表面粗さ）を制御すること（例えば、特許文献１、特許文献２参照。）や、帯電部材の表面の動摩擦係数を下げること（例えば、特許文献３、特許文献４参照。）、帯電部材の表面の撥水性を大きくすること（例えば、特許文献５参照。）等が知られている。ところが、上記の帯電部材の表面形状（表面粗さ）を制御する方法では、特に帯電部材表面の長手両端部の汚れを十分になくすことができない場合がある。更なる高耐久化、機構の簡素化・小型化等という要求を考えると帯電部材の表面形状（表面粗さ）、特に帯電部材の長手方向での表面形状（表面粗さを更に制御していく必要がある。
【０００７】
また、帯電部材の表面形状（表面粗さ）は感光体ドラムの表面を均一に帯電させるためには非常に重要な特性である。特に帯電部材の表面粗さが大きい場合、感光体ドラムとの当接ニップの近傍で微小な放電が起こる以外に当接ニップ内でも微小な放電が起こり、感光体ドラムの表面がより均一に帯電すると考えられる。帯電部材の表面粗さが小さい場合には、感光体ドラムとの当接ニップの近傍、当接ニップ内での微小な放電が少なくなり、感光体ドラムの表面を均一に帯電できない場合があると考えられる。
【特許文献１】特開平７−０４９６０５号公報
【特許文献２】特開平７−１９９５９３号公報
【特許文献３】特開平９−１６０３５５号公報
【特許文献４】特開平９−１６０３５４号公報
【特許文献５】特開２０００−０１９８１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、電子写真プロセスを利用した画像形成装置に用いる感光体ドラムを安定して帯電処理することで画像不良を防止する帯電部材を提供することにある。
【０００９】
本発明の別の目的は、上記帯電部材を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、導電性基体上に導電性弾性層を有する帯電部材において、導電性弾性層の長手方向の表面粗さＲｚｊｉｓが２．０〜２０．０μｍであり、且つ下記（Ａ）の関係にある事を特徴とする帯電部材である。
（Ａ）（導電性弾性体の帯電部位の長さ）／（８ｍｍ）＝Ｎ（Ｎは小数点以下切上げの整数部分、Ｎ≧３）より、導電性弾性体部をＮ分割し、片端から順に１〜Ｎとする。この時に、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）及びＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（Ｎ）が２．０〜７．０μｍであり、且つＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（２〜Ｎ−１）のうち少なくとも１点以上が、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）及びＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（Ｎ）の１．２〜５．０倍である。
（表面粗さＲｚｊｉｓは、ＪＩＳ９４−Ｂ０６０１の十点平均粗さ）
（表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．は周方向６点測定の平均値）
また、本発明は上記帯電部材を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジである。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、トナー及びトナーに付着している外添剤等による帯電部材表面の汚れを抑えて安定して感光体ドラムを帯電処理し、画像不良を防止する帯電部材を提供する事ができる。
【００１２】
また、上記帯電部材を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明を帯電ゴムローラの例で更に詳細に説明する。
【００１４】
芯金上に導電性弾性層としての導電性ゴム層が設けられたゴムローラの成形法としては、射出成形法、押出成形法、トランスファー成形法、プレス成形法等を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。例えば、射出成形法においては、２つの円筒駒を組み、円筒金型内に同心に軸状の芯金を保持してゴム材料を注入し加熱することによりゴム材料を硬化させてゴムローラを成形する。また、押出成形法においては、ゴム材料をチューブ状に押出した後、芯金にチューブ状のゴム材料を被せ、或いは芯金とゴム材料を一体に押出して円筒状のゴムローラを成形する。製造時間の短縮を考えると、これらの成形方法のなかでは、ゴム材料を芯金と一体に押出してゴムローラを成形する押出成形法が好ましい。
【００１５】
ゴムローラを加熱して加硫する方法に関しては、熱風炉、加硫缶、熱盤、遠・近赤外線、誘導加熱等のいずれの方法でも良く、更にこれと共に加熱状態の円筒状または平面状の部材にゴムローラを回転させながら押し当てる方法を併用しても良い。ゴムローラは、１４０℃以上２２０℃以下の範囲の温度で１０分以上１２０分以下の時間で加熱して、ゴムローラを加硫する事が好ましい。
【００１６】
又、所望のローラ形状、表面粗さにするためには、上記の加熱状態の円筒状または平面状の部材を所望のローラ形状、表面粗さに合わせてブラスト加工等をしておきこれを用いてゴムローラを加熱して加硫する方法や
加熱・加硫後に所望のローラ形状、表面粗さにするためには回転砥石を用いた乾式研磨方法、
また内面を所望のローラ形状、表面粗さに合わせてブラスト加工等をした金型を用いてゴムローラを射出成形する方法がある。
【００１７】
なお、研磨手段としては、特に限定しないが、砥石が移動して研磨する所謂トラバース方式や、より幅の広い砥石により移動することなしに一括で研磨するプランジ方式がある。
【００１８】
図１に、押出法によるゴムローラ製造方法の一例の模式図を示す。押出機１は、クロスヘッド２を備える。押出機１は、芯金送りローラ３によってクロスヘッド２に送られた芯金４と、別途押出機に導入されたゴム材料とを一体にして押し出し、芯金４上にゴム層を形成する。ゴム層を芯金の周囲に円筒状に形成した後、端部の切断・除去処理５を行い、ゴムローラ６を成形する。
【００１９】
図２に、トラバース方式の研磨によるゴムローラ製造方法の一例の模式図を示す。ゴムローラ６をスピンドル、センター、コレットチャック等の回転が可能な部材７に取付け、砥石８がゴムローラに当接するように配置する。そして、砥石を１６００ｒｐｍ程度の速度で回転しながら３００〜４００ｒｐｍ程度の速度で回転しているゴムローラに接触させ、ゴムローラの一端側から他端側へ移動させることにより所望のローラ形状、表面粗さに研磨する。
【００２０】
ゴムローラは、ローラ長手方向中央部より両端部の外径を小さくしたクラウン形状に形成されており、クラウン量は７０μｍ以上１６０μｍ以下であり、特に９０μｍ以上１３０μｍ以下が好ましい。クラウン量が７０μｍよりも小さい場合には中央部が、１６０μｍよりも大きい場合は両端部が感光体ドラムよりも浮いてしまう可能性があり、均一に帯電ができなくなる。
【００２１】
ゴムローラのクラウン量は、（クラウン量）＝Ｄ２−（Ｄ１＋Ｄ３）／２として定義した。Ｄ１（μｍ）は長手方向の一方の端部側での外径、Ｄ２（μｍ）は中央部での外径、Ｄ３（μｍ）は長手方向の他方の端部側での外径であり、中央部Ｄ２より両端部Ｄ１、Ｄ３は中央部より両端方向に各９０ｍｍ位置とした。
【００２２】
本発明のゴムローラの長手方向で表面粗さ分布をつける方法としては、砥石の種類（材質、粒度等、例えばＧＣ−１２０、１００、８０、６０、多孔性）を選定して研磨時間やゴムローラ及び砥石の回転方向、回転数等の研磨条件により行う方法、
所望のゴムローラの長手方向の表面粗さ分布に合わせて砥石の長手方向で粗さ分布を持たせるように砥石の材質を組合わせたり、砥石に粒度分布を持たせる方法、
上記ゴムローラを加熱して加硫する際に加熱状態の円筒状または平面状の部材を所望のゴムローラの長手方向の表面粗さ分布に合わせてブラスト加工等をしておきこれを用いてゴムローラを加熱して加硫する方法や
内面を所望のゴムローラの長手方向の表面粗さ分布に合わせてブラスト加工等をした金型を用いてゴムローラを射出成形する方法
がある。
【００２３】
また、ゴムローラのクラウン形状によって感光体ドラムとの当接ニップ内の圧力分布が異なる場合がある。例えば、ゴムローラ（帯電部材）の感光体ドラムとの当接ニップ内の圧力が、後述の（Ｎ／２）−３以上（Ｎ／２）＋３以下の範囲内に最小値があり、最小値からＲ（１）及びＲ（Ｎ）に対して傾斜して大きくなっている場合がある。その場合、当接ニップ内の圧力分布に合わせて、ゴムローラの長手方向での表面粗さ分布をつけた方が良い。当接ニップ内の圧力が大きい部分ではゴムローラの表面粗さを小さく、圧力が小さい部分ではゴムローラの表面粗さを大きくする。
【００２４】
ここで、ゴムローラの長手方向で表面粗さ分布をつける一例の方法をトラバース方式の研磨の例で説明する。ゴムローラを回転させて、砥石がゴムローラに当接するように配置して、砥石を回転させながら回転しているゴムローラに接触させ、ゴムローラの一端側から他端側へ移動させる。砥石がゴムローラの一端側から他端側へ移動する際に、砥石がゴムローラに当接している研磨時間（砥石の送り速度）を変えて、表面粗さ分布をつける。例えば、ゴムローラの長手方向で一端側では砥石の送り速度を遅く、中央では砥石の送り速度を速く、また他端側では砥石の送り速度を遅くする事により、ゴムローラの長手方向の表面粗さが中央部で最大値となり、中央部から両端部に傾斜して小さくなる。
【００２５】
前記のゴムローラの芯金４としては、ニッケルメッキやクロムメッキしたＳＵＭ材等の鋼材を含むステンレススチール棒、リン青銅棒、アルミニウム棒、耐熱樹脂棒等が好ましい。
【００２６】
又、芯金４上に設けられたゴム層は、導電性を有している。ゴム層を形成するためのゴム材料としては、
天然ゴム、ブタジエンゴム、ヒドリンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、ニトリルゴム、エチレン−プロピレンゴム、ブチルゴム、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッソゴム、塩素ゴム、熱可塑エラストマー
等が挙げられる。これらはいずれでも良い。またゴム材料中に分散させる導電粉としてはカーボンブラック、導電性カーボン等のカーボン類、金属粉、導電性の繊維、或いは酸化スズ等の半導電性金属酸化物粉体、更に、これらの混合物等のいずれでも良い。
【００２７】
導電性弾性層（導電性ゴム層）の厚みは０．５〜３．０ｍｍであることが好ましい。
【００２８】
次に、本発明のゴムローラの最表面層を形成する方法について詳細に説明する。
【００２９】
一般的には、最表面層は、最表面層を形成するための塗布液をゴムローラのゴム層上に塗布し、乾燥・硬化等して形成する。塗布方法は特に限定されず、ディッピング法、スプレー法、リングヘッド塗布法、ロールコート法等公知の方法を用いることができる。これらの方法はいずれも本発明に用いることができる。
【００３０】
以下に、リングヘッド塗布法を例として、最表面層の形成方法について説明する。図３にリングヘッド塗布法の一例の模式図を示す。まず、前記のような方法等で得られたゴムローラ６を垂直状態に支持し、このゴムローラ６に対して所定の間隔をなす距離に、全周に開口されたスリット状の吐出口を有するリングヘッド（リングヘッド）９を配置する。リングヘッド７は、全周に開口されたスリット状の吐出口１０、液絞り部１１、液分配室１３および液供給口１２を有している。リングヘッド７の外部にある液供給手段（例えば、シリンジポンプ）により、リングヘッドに具備される１箇所以上の液供給口１２より塗布液が供給される。塗布液は、リングヘッド９内において合流し、周方向に分配するための１個以上の液分配室および１個以上の液絞り部を経由して、全周に開口されたスリット状の吐出口８に達する。ゴムローラ６とリングヘッド９とを所定の速度（１〜２００ｍｍ／ｓ程度）で相対移動させながら、塗布液を吐出口１０の全周から吐出して、均一に適量の塗布液をゴムローラ表面に塗布する。
【００３１】
ゴムローラ表面への吐出量は、最表面層を形成するために用いる塗布液の液粘度、速度（ゴムローラとリングヘッドとの相対移動速度）塗布液の組成や添加材料等を考慮して決められる。リングヘッドの全周に開口されたスリット状の吐出口の開口幅（スリット幅）は、通常、０．０５ｍｍ以上であり、好ましくは０．１ｍｍで使用される。リングヘッドの材質としては、アルミニウム、テフロン（登録商標）のような樹脂、ステンレス等の鋼材が用いられるが、加工精度が高いステンレス等の鋼材を用いることが好ましい。
【００３２】
最表面層を形成する材料としては、シリコーン系、フッ素系、ウレタン系、アクリル系、ウレタン変性アクリル系、シリコーン変性ウレタン系材料が用いられる。特にフッ化アルキル基およびオキシアルキレン基を有するポリシロキサンを含有する材料が好ましい。
【００３３】
また、最表面層の層厚は、帯電ゴムローラの電気特性或いは強度の上で、薄膜である方が良く、強度の点で１０ｎｍ以上が好ましい。また、最表面層の層厚が大きすぎると最表面層がゴム層の変形に追従しきれず、均一帯電の妨げになると考えられるので、１０００ｎｍ以下が好ましい。
【００３４】
最表面層が上記のように非常に薄膜の場合には、芯金上のゴム層の表面粗さとゴム層上に最表面層を設けたゴムローラとの表面粗さはほとんど変わらない。
【００３５】
前記フッ化アルキル基としては、例えば、直鎖型または分岐型のアルキル基の水素原子の一部または全部をフッ素原子で置換したものが挙げられる。その中でも、炭素数６〜３１の直鎖状のパーフルオロアルキル基が好ましい。
【００３６】
前記オキシアルキレン基とは、−Ｏ−Ｒ−（Ｒ：アルキレン基）で示される構造を有する２価の基（「アルキレンエーテル基」と呼ばれることもある。）である。このＲ（アルキレン基）としては、炭素数１〜６のアルキレン基が好ましい。
【００３７】
前記ポリシロキサン中のフッ化アルキル基の含有量は、ポリシロキサン全質量に対して５．０〜５０．０質量％であることが好ましい。また、前記ポリシロキサン中のオキシアルキレン基の含有量は、ポリシロキサンの全質量に対して５．０〜７０．０質量％であることが好ましい。ポリシロキサン中のシロキサン部分（−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−Ｏ−・・・で示される構造を有する部分）の含有量は、ポリシロキサンの全質量に対して２０．０〜９０．０質量％であることが好ましい。
【００３８】
また、前記ポリシロキサンは、さらにアルキル基およびフェニル基を有するものが好ましい。アルキル基としては、炭素数１〜２１の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基が好ましく、さらにはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ヘキシル基、デシル基がより好ましい。
【００３９】
前記ポリシロキサンがさらにアルキル基およびフェニル基を有する場合、前記ポリシロキサン中のフッ化アルキル基、オキシアルキレン基、アルキル基、フェニル基およびシロキサン部分の含有量は、ポリシロキサンの全質量に対し、次の値であることが好ましい。
・フッ化アルキル基 ： ５．０〜５０．０質量％
・オキシアルキレン基： ５．０〜３０．０質量％
・アルキル基 ： ５．０〜３０．０質量％
・フェニル基 ： ５．０〜３０．０質量％
・シロキサン部分 ：２０．０〜８０．０質量％
前記フッ化アルキル基及びオキシアルキレン基を有するポリシロキサンは、下記工程（Ｉ）及び（ＩＩ）を経て得られるポリシロキサンであることが好ましい。
（Ｉ）カチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物と、フッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物とを加水分解し、縮合させる縮合工程
（ＩＩ）該カチオン重合可能な基を開裂させることにより、工程（Ｉ）により得られた加水分解性縮合物を架橋させる架橋工程
前記カチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物としては、下記式（２）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物が好適である。
【００４０】
【化１】
【００４１】
（式中、Ｒ２１は、飽和または不飽和の１価の炭化水素基を示す。Ｒ２２は、飽和または不飽和の１価の炭化水素基を示す。Ｚ２１は、２価の有機基を示す。Ｒｃ２１は、カチオン重合可能な基を示す。ｄは、０〜２の整数を示し、ｅは、１〜３の整数を示し、ｄ＋ｅ＝３である。）
前記式（２）中のＲｃ２１で示されるカチオン重合可能な基とは、開裂によってオキシアルキレン基を生成するカチオン重合可能な有機基を意味し、例えば、エポキシ基やオキセタン基などの環状エーテル基、および、ビニルエーテル基などが挙げられる。これらの中でも、入手の容易性および反応制御の容易性の観点から、エポキシ基であることが好ましい。
【００４２】
前記式（２）中のＲ２１およびＲ２２で示される飽和または不飽和の１価の炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基およびアリール基などが挙げられる。これらの中でも、炭素数１〜３の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基が好ましく、さらにはメチル基、エチル基がより好ましい。
【００４３】
前記式（２）中のＺ２１で示される２価の有機基としては、例えば、アルキレン基およびアリーレン基などが挙げられる。これらの中でも、炭素数１〜６のアルキレン基が好ましく、さらにはエチレン基がより好ましい。
【００４４】
前記式（２）中のｅは、３であることが好ましい。また、前記式（２）中のｄが２の場合、２個のＲ２１は同一であってもよく、異なっていてもよい。また、前記式（２）中のｅが２または３の場合、２個または３個のＲ２２は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００４５】
以下に、前記式（２）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物の具体例を示す。
（２−１）：グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
（２−２）：グリシドキシプロピルトリエトキシシラン
（２−３）：エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン
（２−４）：エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシラン
また、前記フッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物としては、下記式（３）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物が好適である。
【００４６】
【化２】
【００４７】
（式中、Ｒ３１は、飽和または不飽和の１価の炭化水素基を示す。Ｒ３２は、飽和または不飽和の１価の炭化水素基を示す。Ｚ３１は、２価の有機基を示す。Ｒｆ３１は、炭素数１〜３１の直鎖状のパーフルオロアルキル基を示す。ｆは、０〜２の整数を示し、ｇは、１〜３の整数を示し、ｆ＋ｇ＝３である。）
前記式（３）中のＲ３１およびＲ３２で示される飽和または不飽和の１価の炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基およびアリール基などが挙げられる。これらの中でも、炭素数１〜３の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基が好ましく、さらにはメチル基、エチル基がより好ましい。
【００４８】
前記式（３）中のＺ３１で示される２価の有機基としては、例えば、アルキレン基およびアリーレン基などが挙げられる。これらの中でも、炭素数１〜６のアルキレン基が好ましく、さらにはエチレン基がより好ましい。
【００４９】
前記式（３）中のＲｆ３１で示される炭素数１〜３１の直鎖状のパーフルオロアルキル基としては、処理性の観点から、特に炭素数６〜３１の直鎖状のパーフルオロアルキル基が好ましい。
【００５０】
前記式（３）中のｇは、３であることが好ましい。また、前記式（３）中のｆが２の場合、２個のＲ３１は、同一であってもよく、異なっていてもよい。また、前記式（３）中のｇが２または３の場合、２個または３個のＲ３２は同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００５１】
以下に、前記式（３）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物の具体例を示す。
（３−１）：ＣＦ３−（ＣＨ２）２−Ｓｉ−（ＯＲ）３
（３−２）：Ｆ（ＣＦ２）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ−（ＯＲ）３
（３−３）：Ｆ（ＣＦ２）４−（ＣＨ２）２−Ｓｉ−（ＯＲ）３
（３−４）：Ｆ（ＣＦ２）６−（ＣＨ２）２−Ｓｉ−（ＯＲ）３
（３−５）：Ｆ（ＣＦ２）８−（ＣＨ２）２−Ｓｉ−（ＯＲ）３
（３−６）：Ｆ（ＣＦ２）１０−（ＣＨ２）２−Ｓｉ−（ＯＲ）３
（式（３−１）〜（３−６）中のＲは、メチル基またはエチル基を示す。）
前記式（３−１）〜（３−６）で示される化合物の中でも、前記式（３−４）〜（３−６）で示される化合物が好ましい。
【００５２】
前記カチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物および前記フッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物は、それぞれ、１種のみを用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。
【００５３】
フッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物として前記式（３）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物を用いる場合、Ｒｆ３１の炭素数ｎＡが６〜３１であって、炭素数ｎＡが相互に異なる２種以上の化合物を組み合わせて用いることが好ましい。このような組み合わせで前記式（３）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物を用いると、得られるポリシロキサンは、炭素数の異なるパーフルオロアルキル基を有することになる。パーフルオロアルキル基は、最表面層の表面に向かって配向する傾向にある。このため、最表面層に含有されるポリシロキサンが炭素数の異なるパーフルオロアルキル基を有していれば、最表面層の表面に向かって長さの異なるパーフルオロアルキル基が配向することになる。この場合、単一の長さのパーフルオロアルキル基が最表面層の表面に向かって配向する場合に比べて、最表面層の表面近傍のフッ素原子濃度が高くなり、最表面層の表面自由エネルギーが低くなる。表面自由エネルギーが低下するような最表面層は、トナー及びトナーに付着している外添剤によるゴムローラ表面の汚れ防止に効果がある。
【００５４】
前記式（３）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物を２種以上用いる場合は、前記式（３−４）〜（３−６）で示される化合物の中から２種以上選択することが好ましい。
【００５５】
本発明においては、前述のとおり、まず、縮合工程（Ｉ）でカチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物と、フッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物とを加水分解し、縮合させて、加水分解性縮合物を得る。次いで、架橋工程（ＩＩ）で該カチオン重合可能な基を開裂させることにより、該加水分解性縮合物を架橋させることによって、本発明の帯電ゴムローラに用いられるポリシロキサンを得ることができる。帯電ゴムローラの表面特性の制御の観点から、加水分解性縮合物を得る縮合工程（Ｉ）において、さらに、下記式（１）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物を併用することが好ましい。
（Ｒ１１）ａ−Ｓｉ−（ＯＲ１２）ｂ （１）
（式中、Ｒ１１は、フェニル基置換のアルキル基もしくは無置換のアルキル基、または、アルキル基置換のアリール基もしくは無置換のアリール基を示し、Ｒ１２は、飽和または不飽和の１価の炭化水素基を示す。ａは、０〜３の整数を、ｂは、１〜４の整数を示し、ａ＋ｂ＝４である。）
前記式（１）中のＲ１１で示されるフェニル基置換のアルキル基または無置換のアルキル基のアルキル基としては、炭素数１〜２１の直鎖状のアルキル基が好ましい。また、前記式（１）中のＲ１１で示されるアルキル基置換のアリール基もしくは無置換のアリール基のアリール基としては、フェニル基が好ましい。
【００５６】
前記式（１）中のａは、１〜３の整数であることが好ましく、特には１であることがより好ましい。また、前記式（１）中のｂは、１〜３の整数であることが好ましく、特には３であることがより好ましい。
【００５７】
前記式（１）中のＲ１２で示される飽和または不飽和の１価の炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基およびアリール基などが挙げられる。これらの中でも、炭素数１〜３の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基が好ましく、さらにはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基がより好ましい。
【００５８】
前記式（１）中のａが２または３の場合、２個または３個のＲ１１は同一であってもよく、異なっていてもよい。また、前記式（１）中のｂが２、３または４の場合、２個、３個または４個のＲ１２は同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００５９】
以下に、前記式（１）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物の具体例を示す。
（１−１）：テトラメトキシシラン
（１−２）：テトラエトキシシラン
（１−３）：テトラプロポキシシラン
（１−４）：メチルトリメトキシシラン
（１−５）：メチルトリエトキシシラン
（１−６）：メチルトリプロポキシシラン
（１−７）：エチルトリメトキシシラン
（１−８）：エチルトリエトキシシラン
（１−９）：エチルトリプロポキシシラン
（１−１０）：プロピルトリメトキシシラン
（１−１１）：プロピルトリエトキシシラン
（１−１２）：プロピルトリプロポキシシラン
（１−１３）：ヘキシルトリメトキシシラン
（１−１４）：ヘキシルトリエトキシシラン
（１−１５）：ヘキシルトリプロポキシシラン
（１−１６）：デシルトリメトキシシラン
（１−１７）：デシルトリエトキシシラン
（１−１８）：デシルトリプロポキシシラン
（１−１９）：フェニルトリメトキシシラン
（１−２０）：フェニルトリエトキシシラン
（１−２１）：フェニルトリプロポキシシラン
（１−２２）：ジフェニルジメトキシシラン
（１−２３）：ジフェニルジエトキシシラン
前記式（１）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物および前記式（３）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物を併用する場合、前記式（１）中のａは１〜３の整数であることが好ましく、ｂは１〜３の整数であることが好ましい。さらに、ａ個のＲ１１のうちの１個のＲ１１は、炭素数１〜２１の直鎖状のアルキル基であることが好ましい。
【００６０】
炭素数１〜２１の直鎖状のアルキル基の炭素数をｎ１（ｎ１は１〜２１の整数）とし、前記式（３）中のＲｆ３１の炭素数をｎ２（ｎ２は１〜３１の整数）としたとき、該炭素数１〜２１の直鎖状のアルキル基の炭素数ｎ１は、次の関係を満たすことが好ましい。
ｎ２−１≦ｎ１≦ｎ２＋１
前記炭素数１〜２１の直鎖状のアルキル基は、パーフルオロアルキル基と同様、帯電ゴムローラの最表面層中で表面に向かって配向する傾向にある。上記関係を満たす直鎖状のアルキル基を有する前記式（１）で示される加水分解性シラン化合物を用いると、前記式（３）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物のパーフルオロアルキル基による効果が損なわれることがなく好ましい。
【００６１】
前記式（１）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物は、１種のみ用いてもよいし、２種以上用いてもよい。２種以上用いる場合には、前記式（１）中のＲ１１がアルキル基のものと前記式（１）中のＲ１１がフェニル基のものを併用することが好ましい。
【００６２】
以下、本発明の帯電ゴムローラの具体的な製造方法（前記ポリシロキサンを含有する最表面層の具体的な形成方法）について説明する。
【００６３】
まず、カチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物およびフッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物、ならびに、必要に応じて前記の他の加水分解性シラン化合物を水の存在下で加水分解し、縮合させることによって加水分解性縮合物を得る。加水分解し、縮合させる際に、温度やｐＨなどを制御することで、所望の縮合度の加水分解性縮合物を得ることができる。
【００６４】
また、加水分解し、縮合させる際に、加水分解反応の触媒として金属アルコキシドなどを利用し、縮合度を制御してもよい。金属アルコキシドとしては、例えば、アルミニウムアルコキシド、チタニウムアルコキシドおよびジルコニアアルコキシドなど、ならびに、これらの錯体（アセチルアセトン錯体など）等が挙げられる。
【００６５】
また、加水分解性縮合物を得る際、カチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物およびフッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物の配合割合は、得られるポリシロキサンが、下記基等を下記含有量で含むものとなるように定めることが好ましい。
・フッ化アルキル基 ：ポリシロキサン全質量に対して ５．０〜５０．０質量％
・オキシアルキレン基 ：ポリシロキサン全質量に対して ５．０〜７０．０質量％
・シロキサン部分 ：ポリシロキサン全質量に対して２０．０〜９０．０質量％
また、上記加水分解性シラン化合物のほかに、更に、前記式（１）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物を用いる場合においても、得られるポリシロキサンが、上記基等を上記含有量で含むものとなるように配合割合を定めればよい。
【００６６】
具体的には、フッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物を、全加水分解性シラン化合物に対して０．５〜２０．０ｍｏｌ％の範囲になるように配合することが好ましく、特には１．０〜１０．０ｍｏｌ％の範囲になるように配合することがより好ましい。
【００６７】
式（１）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物を併用する場合、カチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物の配合量（ＭＣモル）と式（１）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物の配合量（Ｍ１モル）のモル比（ＭＣ：Ｍ１）が
１０：１〜１：１０
の範囲になるように配合することが好ましい。
【００６８】
次に、得られた加水分解性縮合物を含む最表面層を形成するための塗布液（最表面層用塗布液と表すことがある）を調製し、ゴムローラのゴム層上に塗布し乾燥する。最表面層用塗布液をゴムローラのゴム層上に塗布する際には、前記のリングヘッドを用いたリング塗布が好ましい。また、浸漬塗布やロールコーターを用いた塗布法等でも良い。最表面層用塗布液を調製する際には、塗布性向上のために、加水分解性縮合物以外に、適当な溶剤を用いてもよい。適当な溶剤としては、例えば、エタノール、２−ブタノールなどのアルコールや、酢酸エチルや、メチルエチルケトンなど、あるいは、これらを混合したものが挙げられる。
【００６９】
次に、ゴムローラのゴム層上に塗布された最表面層用塗布液に活性エネルギー線を照射する。活性エネルギー線は紫外線でも電子線でも良い。すると、最表面層用塗布液に含まれる加水分解性縮合物中のカチオン重合可能な基は開裂し、これによって該加水分解性縮合物を架橋させることができる。加水分解性縮合物は架橋によって硬化され最表面層が形成される。また、最表面層を加熱硬化させてもよい。この場合は、熱風炉、熱盤、遠・近赤外線、誘導加熱等のいずれの方法でも良く、或いはこれらの加熱方法を併用しても良い。
【００７０】
ここで、最表面層を活性エネルギー線で照射する場合はゴム層も同時に改質・硬化される。特に、ゴム層が二重結合を有するゴムは活性エネルギー線での照射による改質・硬化の効果が大きいため好ましい。
【００７１】
ここでは、紫外線の照射によって架橋・硬化して最表面層を形成する方法について詳細に説明する。
【００７２】
最表面層用塗布液を塗布されたゴムローラは一定の回転数で回転させて紫外線を照射させる。ここで、図４に本発明に用いることのできる紫外線照射処理装置の一例の模式図を示す。最表面層用塗布液を塗布されたゴムローラ６はローラ回転部材１４によって一定の回転数で回転させられ紫外線照射口１５よりその表面に紫外線が照射される。紫外線の照射には高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、低圧水銀ランプ、エキシマＵＶランプが用いられる。また、これらのランプを用いると、波長１５０〜４００ｎｍの紫外線強度が全波長強度の６０％以上となっており、速やかに紫外線照射を行うことが可能となり好ましい。尚、紫外線の積算光量は、下記で定義される。
紫外線積算光量（ｍＪ／ｃｍ２）＝紫外線強度（ｍＷ／ｃｍ２）×照射時間（ｓｅｃ）
紫外線の積算光量については、表面処理の効果に応じて適宜選択すれば良い。その調節は、照射時間、ランプ出力、ランプとゴムローラとの距離のいずれでも行う事が可能であり、所望の積算光量が得られるように決めればよい。又、照射時間内で積算光量に勾配をつけても良い。
【００７３】
紫外線ランプの外側に反射板１６を配置しても良く、反射板の材質としては、アルミニウム、ステンレス、鉄を用い反射面は鏡面加工、または反射率を向上させるコート処理、表面処理が施される事が望ましい。好ましくは、材質が９９．９％以上の高純度アルミニウムで表面に反射率９０％以上の光沢アルマイト処理を施す事が良い。反射板とゴムローラの距離は任意に設定でき、紫外線積算光量や反射板からの輻射による熱の影響を考慮して決定される。
【００７４】
紫外線の照射方法については、最表面層用塗布液を塗布された複数のゴムローラを管状の紫外線ランプを中心に同心円上に配置して、更にその外側の同心円上に円筒状または円弧状の反射板を配置して、ゴムローラを回転させながら紫外線を照射する方法でも良い。
【００７５】
本発明においては、２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線に関しては、紫外線の積算光量をウシオ電機株式会社製の紫外線積算光量計（ＵＩＴ−１５０−Ａ（商品名）、ＵＶＤ−Ｓ２５４（商品名））を用いて測定した。また、１７２ｎｍの波長を代表とする紫外線に関しては、紫外線の積算光量をウシオ電機株式会社製の紫外線積算光量計（ＵＩＴ−１５０−Ａ（商品名）、ＶＵＶ−Ｓ１７２（商品名））を用いて測定した。更に３６５ｎｍの波長を代表とする紫外線に関しては、紫外線の積算光量をウシオ電機株式会社製の紫外線積算光量計（ＵＩＴ−１５０−Ａ（商品名）、ＶＵＶ−Ｓ３６５（商品名））を用いて測定した。
【００７６】
上記、本発明の実施の形態で述べた帯電ゴムローラの抵抗値は、芯金の両端に各々５００ｇの加重をかけて、金属製ドラムに接触回転させながら帯電ローラを従動回転させて測定した。芯金、金属製ドラムに２００Ｖの電圧を印加した場合の帯電ゴムローラの抵抗値を１０３〜１０８Ωに調整した。そして本発明の実施の形態で述べた帯電ゴムローラは、ＬＢＰ（Ｌａｓｅｒ Ｂｅａｍ Ｐｒｉｎｔｅｒ）、複写機及びファクシミリ等の画像形成装置の電子写真用部材として用いられる。
【００７７】
ここで、本発明の帯電ゴムローラを帯電ローラとして用いた場合の使用形態を図５に示した。図５に示した画像形成装置は、回転ドラム型・転写方式の電子写真装置であって、１７は像担持体としての電子写真感光体（感光体ドラム）であり、時計方向に所定の周速度（プロセススピード）をもって回転駆動される。感光体ドラム１７は、その回転過程で帯電手段としての電源Ｅ１から帯電バイアスを印加した帯電ローラ１８により周面が所定の極性・電位（本実施例では−６００Ｖ）に一様帯電処理される。次いで露光系１９により目的の画像情報に対応したネガ画像露光（原稿像のアナログ露光、デジタル走査露光）を受けて周面に目的画像情報の静電潜像が形成される。次いで、その静電潜像がマイナストナーによる反転現像方式の現像ローラ２０によりトナー画像として現像される。まず、感光体ドラム１７と転写手段としての転写ローラ２１との間の転写部に不図示の給紙手段から所定のタイミングで転写材が給送される。そして、転写ローラ２１に対して電源Ｅ２から約＋２〜３ＫＶの転写バイアスが印加され感光体ドラム１７面の反転現像されたトナー像が転写材に対して順次転写されていく。トナー画像の転写を受けた転写材は、感光体ドラム１７面から分離されて不図示の定着手段へ導入されて像定着処理を受ける。トナー画像転写後の感光体ドラム面は、クリーニング手段２２で転写残りトナー等の付着汚染物の除去処理を受けて清浄面化されて繰り返して作像に供される。
【００７８】
また、像担持体としての感光体ドラム１７と、帯電部材としての帯電ローラ１８とを一体に支持し、画像形成装置本体に着脱自在であるプロセスカートリッジを構成しても良い。
【００７９】
本発明におけるゴムローラの表面粗さＲｚｊｉｓ測定はＪＩＳ９４−Ｂ０６０１における十点平均粗さ評価に則した方法で（株）小坂研究所製の表面粗さ測定器ＳＥ−３４００を用い、
カットオフを０．８ｍｍ、
測定速度を０．５ｍｍ／ｓ、
測定長さを８ｍｍ
として測定を行った。ここで、（導電性弾性体の帯電部位の長さ）／（８ｍｍ）Ｎ（Ｎは整数部分、Ｎ≧３）より、導電性弾性層をＮ分割して、ゴムローラの長手方向でＮ分割した各部分の周方向で６０°おきに６点の測定（上記の「周方向６点測定」）を行った。そして、６点の平均値をＮ分割した各部分の表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．とした（図６）。導電性弾性体の帯電部位の長手方向における表面粗さ分布を図７に示す。
【００８０】
本発明におけるゴムローラと感光体ドラムとの当接ニップ内の圧力分布の測定はニッタ（株）のタクタイルセンサシステムを用いて厚さ１００μｍのフィルム状のセンサをゴムローラと感光体ドラムに挟んで測定を行った。
【００８１】
本発明における最表面層の膜厚測定は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、倍率１００００倍で数箇所の測定を行い、平均値をＳＥＭ平均膜厚とした。
【００８２】
また、測定は、２３．５℃／６０％の環境において行った。
【００８３】
本発明の実施の形態で述べた帯電ゴムローラは、芯金と、該芯金上に形成した導電性弾性層（ゴム層）を有する導電性ローラである。導電性弾性層の長手方向の表面粗さＲｚｊｉｓは２．０〜２０．０μｍ、より好ましくは２．０〜１２．０μｍであり、且つ下記（Ａ）の関係にある。
（Ａ）（導電性弾性体の帯電部位の長さ）／（８ｍｍ）＝Ｎ（Ｎは小数点以下切上げの整数部分、Ｎ≧３）より、導電性弾性体部をＮ分割し、片端から順に１〜Ｎとする。この時に、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）及びＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（Ｎ）が２．０〜７．０μｍであり、且つＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（２〜Ｎ−１）のうち少なくとも１点以上が、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）及びＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（Ｎ）の１．２〜５．０倍（好ましくは１．５〜３．０倍）である。また、好ましくは、表面粗さＳｍ−ａｖｅ．が３０〜１３０μｍである。
【００８４】
更に、導電性弾性層の長手方向の表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．が、（Ｎ／２）−３以上（Ｎ／２）＋３以下の範囲内の分割部分に最大値があり、最大値から表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）及びＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（Ｎ）に対して傾斜して小さくなる。すなわちゴムローラの長手方向の表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．が中央部で最大値となり、中央部から両端部に傾斜して小さくなる（Ｎ／２は小数点以下切上げの整数部分、Ｎ≧７）。
【００８５】
ここで、例えばゴムローラの長手方向の表面粗さＲｚｊｉｓが２０．０μｍより大きい場合、表面粗さが非常に大きいためゴムローラ表面がトナー及びトナーに付着している外添剤により汚れてしまい、感光体ドラムの表面を均一に帯電できない可能性がある。また、２．０μｍより小さい場合は、感光体ドラムとの当接ニップの近傍、当接ニップ内での微小な放電が少なくなり、感光体ドラムの表面を均一に帯電できない可能性がある。
【００８６】
また、ゴムローラのクラウン形状にもよるがゴムローラの長手方向の両端部の表面粗さＲｚｊｉｓが中央部の表面粗さＲｚｊｉｓの５．０倍よりも大きい場合、ゴムローラの中央部で表面がトナー及びトナーに付着している外添剤により汚れやすくなる。一方、１．２倍より小さい場合、表面粗さＲｚｊｉｓの大きさにもよるがゴムローラの両端部で表面が汚れる可能性がある。
【００８７】
上記のように、表面粗さＲｚｊｉｓ、特に長手方向での表面粗さＲｚｊｉｓを制御することで、帯電ローラと感光体ドラムとの当接ニップ内の圧力分布に合わせて圧力が高い部分では表面粗さが小さく、圧力が小さい部分では表面粗さが大きくなる。そうすることで、トナー及びトナーに付着している外添剤等による帯電ローラ表面の汚れ、特に長手両端部の汚れを抑えて安定して感光体ドラムを帯電処理できる帯電部材を提供する事ができる。ここで、図８に本発明の帯電ゴムローラ断面の模式図の一例を示す。４は芯金、２３は弾性層（ゴム層）、２４は最表面層である。
【実施例】
【００８８】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
【００８９】
［実施例１］
〈ゴムローラの作製〉
以下の原料を加圧式ニーダーで１５分間混練した。
・ＮＢＲ １００質量部
（商品名「Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２１９」：日本ゼオン（株）製）
・カーボンブラック１ １４質量部
（商品名「旭ＨＳ−５００」：旭カーボン（株）製）
・カーボンブラック２ ４質量部
（商品名「ケッチェンブラックＥＣ６００ＪＤ」：ライオン（株）製）
・ステアリン酸亜鉛 １質量部
・酸化亜鉛 ５質量部
・炭酸カルシウム ３０質量部
（商品名「ナノックス＃３０」：丸尾カルシウム（株）製）
更に、
加硫促進剤（ＤＭ：ジ−２−ベンゾチアゾリルジスルフィド）１質量部、
加硫促進剤（ＴＢｚＴＤ：テトラベンジルチウラムジスルフィド）３質量部及び
加硫剤としてイオウ１．２質量部
を加えて、１５分間オープンロールで混練して未加硫ゴム組成物を作製した。次いで、外径φ６ｍｍ、長さ２５２ｍｍのステンレス棒の芯金を用意した。ここで、図１に模式的に示す押出機を用いて上記芯金と未加硫ゴム組成物とを一体に押出してゴムローラを成形した。その後１６０℃、２時間の加熱加硫を行い、更にトラバース方式の研磨を行った。
【００９０】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら４００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度５０ｍｍ／ｍiｎから中央部に向かって移動速度を２００ｍｍ／ｍｉｎに上げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を５０ｍｍ／ｍｉｎに下げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−１２０（ノリタケ製）であった。端部の切断・除去処理により、厚み１．２５ｍｍ、長さ２３２ｍｍのゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量１１０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。更にその後、低圧水銀ランプ（ハリソン東芝ライティング製）による紫外線照射を５分間行った。低圧水銀ランプに関しては、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線で、この時の紫外線積算光量は約１００００ｍＪ／ｃｍ２であった（紫外線強度は３５ｍＷ／ｃｍ２）。
【００９１】
ここで、（導電性弾性体の帯電部位の長さ＝２３２ｍｍ）／（８ｍｍ）＝２９より、導電性弾性層を２９分割し、片端から順に１〜Ｎとした。すべての分割部分の表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．を測定した結果は、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）＝２．７μｍ、Ｓｍ−ａｖｅ．（１）＝５５μｍ、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（２９）＝２．９μｍ、Ｓｍ−ａｖｅ．（２９）＝５３μｍであり、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１５）＝５．２μｍ、Ｓｍ−ａｖｅ．（１５）＝１０７μｍで表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）の１．９倍、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（２９）の１．８倍であった。また、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１５）はゴムローラの長手方向で最大値であり、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１５）より表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）及び表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（２９）に向かって、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．は傾斜して小さくなっている。これらの結果を纏め、表１に示した。
【００９２】
更に、この帯電ゴムローラを図４に示す電子写真方式の画像形成装置に帯電ローラとして組込み、感光体ドラムの両端に５００ｇづつの荷重を負荷した状態で圧接した。そして、２３．５℃／６０％の環境でハーフトーン画像による連続６０００枚（６Ｋと表すことがある）の通紙をして以下の耐久汚れ画像評価を行った。得られた結果を表２に示す。
【００９３】
〈耐久汚れ画像評価〉
通紙１〜１０枚間を初期画像、また連続通紙６０００枚間を耐久画像とした。帯電ゴムローラに固着したトナーや外添剤による、点状もしくは線状の画像不良、或いは帯電ムラによる黒または白の横スジ状の画像不良の有無を目視で観察して検査した。得られた検査結果に基づき、下記基準で画像評価を行った。
Ａ ：画像不良がまったくない
Ｂ ：画像不良がごくまれにある
Ｃ ：画像不良が多量にある。
【００９４】
［実施例２］
〈ゴムローラの作製〉
前記実施例１のトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は実施例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量１１０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【００９５】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら２００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度５０ｍｍ／ｍｉｎから中央部に向かって移動速度を２００ｍｍ／ｍｉｎに上げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を５０ｍｍ／ｍｉｎに下げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−８０（ノリタケ製）であった。
【００９６】
その後、低圧水銀ランプ（ハリソン東芝ライティング製）による紫外線照射を５分間行った。低圧水銀ランプに関しては、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線で、この時の紫外線積算光量は約１００００ｍＪ／ｃｍ２であった（紫外線強度は３５ｍＷ／ｃｍ２）。
【００９７】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【００９８】
［実施例３］
〈ゴムローラの作製〉
前記実施例１のトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は実施例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量１１０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【００９９】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら１００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度１０ｍｍ／ｍｉｎから中央部に向かって移動速度を６００ｍｍ／ｍｉｎに上げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を１０ｍｍ／ｍｉｎに下げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−８０（ノリタケ製）であった。
【０１００】
その後、低圧水銀ランプ（ハリソン東芝ライティング製）による紫外線照射を５分間行った。低圧水銀ランプに関しては、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線で、この時の紫外線積算光量は約１００００ｍＪ／ｃｍ２であった（紫外線強度は３５ｍＷ／ｃｍ２）。
【０１０１】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１０２】
［実施例４］
〈ゴムローラの作製〉
前記実施例１のトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は実施例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ７ｍｍ、クラウン量７０μｍ、導電性弾性層の厚み０．５ｍｍ）。
【０１０３】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら５００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度５０ｍｍ／ｍｉｎから中央部に向かって移動速度を２００ｍｍ／ｍｉｎに上げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を５０ｍｍ／ｍｉｎに下げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−１２０（ノリタケ製）であった。
【０１０４】
その後、低圧水銀ランプ（ハリソン東芝ライティング製）による紫外線照射を５分間行った。低圧水銀ランプに関しては、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線で、この時の紫外線積算光量は約１００００ｍＪ／ｃｍ２であった（紫外線強度は３５ｍＷ／ｃｍ２）。
【０１０５】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１０６】
［実施例５］
〈ゴムローラの作製〉
前記実施例１のトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は実施例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量９０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【０１０７】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら２００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度２００ｍｍ／ｍｉｎから中央部に向かって移動速度を２５０ｍｍ／ｍｉｎに上げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を２００ｍｍ／ｍｉｎに下げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−８０（ノリタケ製）であった。
【０１０８】
その後、低圧水銀ランプ（ハリソン東芝ライティング製）による紫外線照射を５分間行った。低圧水銀ランプに関しては、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線で、この時の紫外線積算光量は約１００００ｍＪ／ｃｍ２であった（紫外線強度は３５ｍＷ／ｃｍ２）。
【０１０９】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１１０】
［実施例６］
〈ゴムローラの作製〉
前記実施例１のトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は実施例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量９０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【０１１１】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら２００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度２０ｍｍ／ｍｉｎから中央部に向かって移動速度を６００ｍｍ／ｍｉｎに上げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を２０ｍｍ／ｍｉｎに下げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−８０（ノリタケ製）であった。
【０１１２】
その後、低圧水銀ランプ（ハリソン東芝ライティング製）による紫外線照射を５分間行った。低圧水銀ランプに関しては、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線で、この時の紫外線積算光量は約１００００ｍＪ／ｃｍ２であった（紫外線強度は３５ｍＷ／ｃｍ２）。
【０１１３】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１１４】
［実施例７］
〈ゴムローラの作製〉
前記実施例１のトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は実施例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量９０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【０１１５】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら４００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度２００ｍｍ／ｍｉｎから中央部に向かって移動速度を４００ｍｍ／ｍｉｎに上げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を２００ｍｍ／ｍｉｎに下げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−８０（ノリタケ製）であった。
【０１１６】
その後、低圧水銀ランプ（ハリソン東芝ライティング製）による紫外線照射を５分間行った。低圧水銀ランプに関しては、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線で、この時の紫外線積算光量は約１００００ｍＪ／ｃｍ２であった（紫外線強度は３５ｍＷ／ｃｍ２）。
【０１１７】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１１８】
［実施例８］
〈ゴムローラの作製〉
前記実施例１のトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は実施例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量９０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【０１１９】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら２００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度２０ｍｍ／ｍｉｎから中央部に向かって移動速度を３００ｍｍ／ｍｉｎに上げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を２０ｍｍ／ｍｉｎに下げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−８０（ノリタケ製）であった。ここで、クラウン量が９０μｍのゴムローラであらかじめゴムローラと感光体ドラムとの当接ニップ内の圧力分布を測定して、圧力が高い部分では表面粗さを小さく、圧力が小さい部分では表面粗さを大きくするように研磨条件（砥石の移動速度）を調整した。ゴムローラと感光体ドラムとの当接ニップ内の圧力分布と長手方向の表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．の関係を図９に示す。
【０１２０】
その後、低圧水銀ランプ（ハリソン東芝ライティング製）による紫外線照射を５分間行った。低圧水銀ランプに関しては、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線で、この時の紫外線積算光量は約１００００ｍＪ／ｃｍ２であった（紫外線強度は３５ｍＷ／ｃｍ２）。
【０１２１】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１２２】
［実施例９］
〈ゴムローラの作製〉
前記実施例１のトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は実施例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量１５０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【０１２３】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら４００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度１００ｍｍ／ｍｉｎから中央部に向かって移動速度を２００ｍｍ／ｍｉｎに上げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を１００ｍｍ／ｍｉｎに下げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−８０（ノリタケ製）であった。ここで、クラウン量が１５０μｍのゴムローラであらかじめゴムローラと感光体ドラムとの当接ニップ内の圧力分布を測定して、圧力が高い部分では表面粗さを小さく、圧力が小さい部分では表面粗さを大きくするように研磨条件（砥石の移動速度）を調整した。ゴムローラと感光体ドラムとの当接ニップ内の圧力分布と長手方向の表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．の関係を図１０に示す。
【０１２４】
その後、低圧水銀ランプ（ハリソン東芝ライティング製）による紫外線照射を５分間行った。低圧水銀ランプに関しては、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線で、この時の紫外線積算光量は約１００００ｍＪ／ｃｍ２であった（紫外線強度は３５ｍＷ／ｃｍ２）。
【０１２５】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１２６】
［実施例１０］
〈ゴムローラの作製〉
前記実施例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量１１０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【０１２７】
〈最表面層の形成方法〉
下記原料を用意した。
・グリシドキシプロピルトリエトキシシラン（ＧＰＴＥＳ）：２７．８４ｇ（０．１ｍｏｌ）
・メチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）：１７．８３ｇ（０．１ｍｏｌ）
・トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン（ＦＴＳ、パーフルオロアルキル基の炭素数６）：７．６８ｇ（０．０１５１ｍｏｌ）（加水分解性シラン化合物総量に対して７ｍｏｌ％相当）
・水：１７．４３ｇ
・エタノール：３７．８８ｇ
上記原料を混合した後、室温で攪拌し、次いで２４時間加熱還流を行うことによって、加水分解性シラン化合物を加水分解し、縮合して加水分解性縮合物を得た。この加水分解性縮合物を２−ブタノール／エタノールの混合溶剤に添加することによって、固形分７質量％の加水分解性縮合物含有アルコール溶液を調製した。この加水分解性縮合物含有アルコール溶液１００ｇに対して０．３５ｇの光カチオン重合開始剤としての芳香族スルホニウム塩（商品名：アデカオプトマーＳＰ−１５０、旭電化工業（株）製）を添加した。更に固形分２．０質量％となるようにエタノールで希釈して最表面層用塗布液を調製した。
【０１２８】
前記最表面層用塗布液を密閉容器に入れ、密閉容器を液供給手段であるシリンジポンプにつなぎ、更にリングヘッドに具備された１箇所の液供給口につなぎ、リングヘッド内に適量の塗布液を供給した。塗布液は、リングヘッド内で合流し周方向に分配するための液分配室を有するリングヘッド内に充填された。前記より得られたゴムローラを垂直状態に支持し、このゴムローラの外径に対して０．５ｍｍの間隔をなす距離に全周に開口されたスリット状の吐出口がくるようにリングヘッドを配置した。この時、リングヘッドの全周に開口されたスリット状の吐出口の開口幅（スリット幅）は０．１ｍｍで使用した。リングヘッドをゴムローラの上端部から下端部へ、７０ｍｍ／ｓの一定の速度で垂直移動させると同時に上記最表面層用塗布液の適量（０．０７ｍＬ）を０．０１８ｍＬ／ｓの吐出速度で全周均一に塗布した。その後、低圧水銀ランプ（ハリソン東芝ライティング製）による紫外線照射を５分間行った。低圧水銀ランプに関しては、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線で、この時の紫外線積算光量は約１００００ｍＪ／ｃｍ２であった（紫外線強度は３５ｍＷ／ｃｍ２）。
【０１２９】
ここで、（導電性弾性体の帯電部位の長さ＝２３２ｍｍ）／（８ｍｍ）＝２９より、導電性弾性層を２９分割し、片端から順に１〜Ｎとした。すべての分割部分の表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．を測定した結果は、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）＝２．６μｍ、Ｓｍ−ａｖｅ．（１）＝４４μｍ、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（２９）＝２．９μｍ、Ｓｍ−ａｖｅ．（２９）＝５１μｍであり、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１５）＝５．３μｍ、Ｓｍ−ａｖｅ．（１５）＝９５μｍで表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）の２．０倍、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（２９）の１．８倍であった。また、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１５）はゴムローラの長手方向で最大値であり、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１５）より表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）及び表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（２９）に向かって、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．は傾斜して小さくなっている。
【０１３０】
走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）の倍率１００００倍で測定した上記ゴムローラの最表面層のＳＥＭ平均膜厚は７０ｎｍであった。これらの結果を纏め、表１に示した。
【０１３１】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表２に示す。
【０１３２】
［実施例１１］
〈ゴムローラの作製〉
前記実施例１のトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は実施例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ１２ｍｍ、クラウン量１６０μｍ、導電性弾性層の厚み３．０ｍｍ）。
【０１３３】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら４００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度１００ｍｍ／ｍｉｎから中央部に向かって移動速度を４００ｍｍ／ｍｉｎに上げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を１００ｍｍ／ｍｉｎに下げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−８０（ノリタケ製）であった。
【０１３４】
その後、最表面層用塗布液の固形分を５．０質量％にした以外は実施例１０と同様にして帯電ゴムローラを得た。また得られたゴムローラについて、実施例１０と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１３５】
［実施例１２］
〈ゴムローラの作製〉
前記実施例１のトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は実施例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量８０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【０１３６】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら２００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度２００ｍｍ／ｍｉｎから中央部に向かって移動速度を５００ｍｍ／ｍｉｎに上げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を２００ｍｍ／ｍｉｎに下げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−８０（ノリタケ製）であった。
【０１３７】
その後、最表面層用塗布液の固形分を１．０質量％にした以外は実施例１０と同様にして帯電ゴムローラを得た。また得られたゴムローラについて、実施例１０と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１３８】
［実施例１３］
〈ゴムローラの作製〉
前記実施例１の未加硫ゴム組成物とトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は実施例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量９０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【０１３９】
〈未加硫ゴム組成物の作製〉
以下の原料をオープンロールで３０分間混練した。
・エピクロルヒドリンゴム １００質量部
（商品名「エピクロマーＣＧ１０２」：ダイソー（株）製）
・ＭＴカーボン ３０質量部
（商品名「ＨＴＣ＃２０」：新日化カーボン製）
・酸化亜鉛 ５質量部
・ステアリン酸 １質量部
更に、
加硫促進剤（ＤＭ：ジ−２−ベンゾチアゾリルジスルフィド）１質量部、
加硫促進剤（ＴＳ：テトラメチルチウラムモノスルフィド）０．５質量部及び
加硫剤としてイオウ１．２質量部
を加えて、１５分間オープンロールで混練して未加硫ゴム組成物を作製した。
【０１４０】
〈トラバース方式の研磨条件〉
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら３００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度２０ｍｍ／ｍｉｎから中央部に向かって移動速度を２００ｍｍ／ｍｉｎに上げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を２０ｍｍ／ｍｉｎに下げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−１２０（ノリタケ製）であった。
【０１４１】
その後、最表面層用塗布液の固形分を１８．０質量％にした以外は実施例１０と同様にして帯電ゴムローラを得た。また得られたゴムローラについて、実施例１０と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１４２】
［比較例１］
〈ゴムローラの作製〉
前記実施例１の未加硫ゴム組成物とトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は実施例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量１１０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【０１４３】
〈未加硫ゴム組成物の作製〉
以下の原料をオープンロールで３０分間混練した。
・エピクロルヒドリンゴム １００質量部
（商品名「エピクロマーＣＧ１０２」：ダイソー（株）製）
・ＭＴカーボン ５質量部
（商品名「ＨＴＣ＃２０」：新日化カーボン製）
・酸化亜鉛 ５質量部
・ステアリン酸 １質量部
更に、
加硫促進剤（ＤＭ：ジ−２−ベンゾチアゾリルジスルフィド）１質量部、
加硫促進剤（ＴＳ：テトラメチルチウラムモノスルフィド）０．５質量部及び
加硫剤としてイオウ１．２質量部
を加えて、１５分間オープンロールで混練して未加硫ゴム組成物を作製した。
【０１４４】
〈トラバース方式の研磨条件〉
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら４００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度２０ｍｍ／ｍｉｎで他端側に向かって移動させることによって研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−１２０（ノリタケ製）であった。
【０１４５】
その後、ウレタン樹脂（ポリカプロラクトン系ポリオール、トリレンジイソシアネート；ＴＤＩ）の固形分が約２０％となるよう調整したメチルイソブチルケトンを主溶媒とする混合溶液を準備した。そして、この準備した混合溶液に更にウレタン樹脂成分１００質量部に対し５５質量部の導電性カーボンを添加し、十分に攪拌分散して塗布液とした。この塗布液をガラス容器（Φ４０ｍｍ、長さ３５０ｍｍ）に約３００ｍＬ入れた浸漬槽を準備した。浸漬槽のほぼ中央にくるように上記ゴムローラを配置し、ゴムローラを移動させて、ゴムローラの弾性層部分を塗布液中に浸漬した。数秒間浸漬した後、ゴムローラを１０〜２０ｍｍ／ｓの速度で引き上げた（浸漬塗布）。その後、ゴムローラを室温で３０分風乾し、更に熱風循環乾燥機中で温度１６０℃で、１時間乾燥し、硬化させて帯電ゴムローラを得た。
【０１４６】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１４７】
表２に示したように、本比較例の帯電ゴムローラでは、連続通紙５０００枚（５Ｋと表すことがある）以降の耐久画像に、帯電ムラによる画像不良が確認された（Ｂ）。これは耐久中の通電による劣化もあるが、本比較例の帯電ゴムローラの表面粗さが小さいため、感光体ドラムとの当接ニップの近傍、当接ニップ内での微小な放電が少なくなり、感光体ドラムの表面を均一に帯電できなくなったことによる可能性がある。
【０１４８】
［比較例２］
〈ゴムローラの作製〉
前記比較例１のトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は比較例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量１１０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【０１４９】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら２００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度１５０ｍｍ／ｍｉｎで他端側に向かって移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−８０（ノリタケ製）であった。
【０１５０】
その後、ウレタン樹脂（ポリカプロラクトン系ポリオール、トリレンジイソシアネート；ＴＤＩ）の固形分が約２０％となるよう調整したメチルイソブチルケトンを主溶媒とする混合溶液を準備した。そして、この準備した混合溶液に更にウレタン樹脂成分１００質量部に対し５５質量部の導電性カーボンと３０質量部の平均粒径５μｍのアクリル系粒子を添加し、十分に攪拌分散して塗布液とした。この塗布液をガラス容器（Φ４０ｍｍ、長さ３５０ｍｍ）に約３００ｍＬ入れた浸漬槽を準備した。浸漬槽のほぼ中央にくるように上記ゴムローラを配置し、ゴムローラを移動させて、ゴムローラの弾性層部分を塗布液中に浸漬した。数秒間浸漬した後、ゴムローラを１０〜２０ｍｍ／ｓの速度で引き上げた（浸漬塗布）。その後、ゴムローラを室温で３０分風乾し、更に熱風循環乾燥機中で温度１６０℃で、１時間乾燥し、硬化させて帯電ゴムローラを得た。
【０１５１】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１５２】
表２に示したように、本比較例の帯電ゴムローラでは、連続通紙２０００枚（２Ｋと表すことがある）以降の耐久画像に、耐久汚れによる画像不良が両端部に確認された（Ｂ）。また、帯電ゴムローラ表面の両端部で固着したトナーや外添剤による、点状もしくは線状の汚れが確認された（Ｂ）。
【０１５３】
［比較例３］
〈ゴムローラの作製〉
前記比較例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量９０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【０１５４】
その後、ウレタン樹脂（ポリカプロラクトン系ポリオール、トリレンジイソシアネート；ＴＤＩ）の固形分が約２０％となるよう調整したメチルイソブチルケトンを主溶媒とする混合溶液を準備した。そして、この準備した混合溶液に更にウレタン樹脂成分１００質量部に対し７０質量部の導電性カーボンを添加し、十分に攪拌分散して塗布液とした。この塗布液をガラス容器（Φ４０ｍｍ、長さ３５０ｍｍ）に約３００ｍＬ入れた浸漬槽を準備した。浸漬槽のほぼ中央にくるように上記ゴムローラを配置し、ゴムローラを移動させて、ゴムローラの弾性層部分を塗布液中に浸漬した。数秒間浸漬した後、ゴムローラを１０〜２０ｍｍ／ｓの速度で引き上げた（浸漬塗布）。その後、ゴムローラを室温で３０分風乾し、更に熱風循環乾燥機中で温度１６０℃で、１時間乾燥し、硬化させて帯電ゴムローラを得た。
【０１５５】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１５６】
表２に示したように、本比較例の帯電ゴムローラでは、連続通紙５５００枚（５．５Ｋと表すことがある）以降の耐久画像に、帯電ムラによる画像不良が確認された（Ｂ）。これは耐久中の通電による劣化もあるが、本比較例の帯電ゴムローラの表面粗さが小さいため、感光体ドラムとの当接ニップの近傍、当接ニップ内での微小な放電が少なくなり、感光体ドラムの表面を均一に帯電できなくなったという可能性がある。
【０１５７】
［比較例４］
〈ゴムローラの作製〉
前記比較例１のトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は比較例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量９０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【０１５８】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら１００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度５０ｍｍ／ｍｉｎから中央部に向かって移動速度を８００ｍｍ／ｍｉｎに上げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を５０ｍｍ／ｍｉｎに下げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−８０（ノリタケ製）であった。
【０１５９】
その後、低圧水銀ランプ（ハリソン東芝ライティング製）による紫外線照射を５分間行った。低圧水銀ランプに関しては、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線で、この時の紫外線積算光量は約１００００ｍＪ／ｃｍ２であった（紫外線強度は３５ｍＷ／ｃｍ２）。
【０１６０】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１６１】
表２に示したように、本比較例の帯電ゴムローラでは、連続通紙１５００枚（１．５Ｋと表すことがある）以降の耐久画像に、耐久汚れによる画像不良が中央部に確認された（Ｃ）。また、帯電ゴムローラ表面の中央部で固着したトナーや外添剤による、点状もしくは線状の汚れが確認された（Ｃ）。
【０１６２】
［比較例５］
〈ゴムローラの作製〉
前記比較例１のトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は比較例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量１１０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【０１６３】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら１００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度５ｍｍ／ｍｉｎから中央部に向かって移動速度を７００ｍｍ／ｍｉｎに上げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を５ｍｍ／ｍｉｎに下げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−８０（ノリタケ製）であった。
【０１６４】
その後、低圧水銀ランプ（ハリソン東芝ライティング製）による紫外線照射を５分間行った。低圧水銀ランプに関しては、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線で、この時の紫外線積算光量は約１００００ｍＪ／ｃｍ２であった（紫外線強度は３５ｍＷ／ｃｍ２）。
【０１６５】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１６６】
表２に示したように、本比較例の帯電ゴムローラでは、連続通紙５０００枚（５Ｋと表すことがある）以降の耐久画像に、耐久汚れによる画像不良が中央部に確認された（Ｂ）。
【０１６７】
［比較例６］
〈ゴムローラの作製〉
前記比較例１のトラバース方式の研磨条件を下記にした以外は比較例１と同様にしてゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ、クラウン量９０μｍ、導電性弾性層の厚み１．２５ｍｍ）。
【０１６８】
砥石を１５７０ｒｐｍの速度で回転しながら２００ｒｐｍの速度で回転しているゴムローラに接触させ、かつ、
接触させた砥石をゴムローラの一端側から移動速度１５０ｍｍ／ｍｉｎから中央部に向かって移動速度を１０ｍｍ／ｍｉｎに下げて、中央部を越えて他端側に向かって移動速度を１５０ｍｍ／ｍｉｎに上げるように移動させることによって
研磨を行った。このとき用いた砥石はＧＣ−８０（ノリタケ製）であった。
【０１６９】
その後、低圧水銀ランプ（ハリソン東芝ライティング製）による紫外線照射を５分間行った。低圧水銀ランプに関しては、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線で、この時の紫外線積算光量は約１００００ｍＪ／ｃｍ２であった（紫外線強度は３５ｍＷ／ｃｍ２）。
【０１７０】
また得られた帯電ゴムローラについて、実施例１と同様にして、物性を測定し、耐久画像評価を行った。得られた結果を表１及び２に示す。
【０１７１】
表２に示したように、本比較例の帯電ゴムローラでは、連続通紙５０００枚（５Ｋと表すことがある）以降の耐久画像に、耐久汚れによる画像不良が両端部に確認された（Ｂ）。
【０１７２】
【表１】
【０１７３】
【表２】
【図面の簡単な説明】
【０１７４】
【図１】押出法によるゴムローラの製造方法の一例を示す模式図である。
【図２】トラバース方式の研磨によるゴムローラの製造方法の一例の模式図である。
【図３】リングヘッド塗布法の一例を示す模式図である。
【図４】紫外線照射装置の一例を示す模式図である。
【図５】本発明の画像形成装置の一例の概略を示す構成図である。
【図６】本発明の導電性弾性体の帯電部位の分割方法を示す模式図である。
【図７】本発明の導電性弾性体の帯電部位の長手方向における表面粗さ分布を示す模式図である。
【図８】本発明の帯電ゴムローラ断面の一例を示す模式図である。
【図９】ゴムローラと感光体ドラムとの当接ニップ内の圧力分布と長手方向の表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．の関係を示す図である。
【図１０】ゴムローラと感光体ドラムとの当接ニップ内の圧力分布と長手方向の表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．の関係を示す図である。
【符号の説明】
【０１７５】
１ 押出機
２ クロスヘッド
３ 芯金送りローラ
４ 芯金
５ 切断・除去処理
６ ゴムローラ
７ 回転が可能な取付部材
８ 砥石
９ リングヘッド
１０ 全周に開口されたスリット状の吐出口
１１ 液絞り部
１２ 液供給口
１３ 液分配室
１４ ローラ回転部材
１５ 紫外線照射口
１６ 反射板
１７ 電子写真感光体（感光体ドラム）
１８ 帯電ローラ（帯電手段）
１９ 露光系
２０ 現像ローラ（現像手段）
２１ 転写ローラ（転写手段）
２２ クリーニング手段
Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３ バイアス印加用電源
２３ 弾性層（ゴム層）
２４ 最表面層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基体上に導電性弾性層を有する帯電部材において、導電性弾性層の長手方向の表面粗さＲｚｊｉｓが２．０〜２０．０μｍであり、且つ下記（Ａ）の関係にある事を特徴とする帯電部材。
（Ａ）（導電性弾性体の帯電部位の長さ）／（８ｍｍ）＝Ｎ（Ｎは小数点以下切上げの整数部分、Ｎ≧３）より、導電性弾性体部をＮ分割し、片端から順に１〜Ｎとする。この時に、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）及びＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（Ｎ）が２．０〜７．０μｍであり、且つＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（２〜Ｎ−１）のうち少なくとも１点以上が、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）及びＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（Ｎ）の１．２〜５．０倍である。
（表面粗さＲｚｊｉｓは、ＪＩＳ９４−Ｂ０６０１の十点平均粗さ）
（表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．は周方向６点測定の平均値）
【請求項２】
前記導電性弾性層の長手方向の表面粗さＲｚｊｉｓが２．０〜１２．０μｍである事を特徴とする請求項１に記載の帯電部材。
【請求項３】
前記導電性弾性層の長手方向の表面粗さＲｚｊｉｓ（２〜Ｎ−１）のうち少なくとも１点以上が、Ｒｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）及びＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（Ｎ）の１．５〜３．０倍である事を特徴とする請求項１〜２のいずれかに記載の帯電部材。
【請求項４】
前記導電性弾性層の長手方向の表面粗さＳｍ−ａｖｅ．が３０〜１３０μｍである事を特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の帯電部材。
【請求項５】
前記導電性弾性層の長手方向の表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．が、（Ｎ／２）−３以上（Ｎ／２）＋３以下の範囲内の分割部分に最大値があり、最大値から表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）及びＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（Ｎ）に対して傾斜して小さくなる事を特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の帯電部材。
（Ｎ／２は小数点以下切上げの整数部分、Ｎ≧７）
【請求項６】
前記帯電部材において、長手方向の一方の端部側での外径をＤ１（μｍ）、中央部での外径をＤ２（μｍ）、長手方向の他方の端部側での外径をＤ３（μｍ）としたとき、
Ｄ２−（Ｄ１＋Ｄ３）／２が７０μｍ以上１６０μｍ以下のクラウン形状である事を特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の帯電部材。
（Ｄ２（μｍ）は帯電部材の中央部の外径、Ｄ１、Ｄ３（μｍ）は帯電部材の長手方向の端部での外径であり、中央部Ｄ２より両端部Ｄ１、Ｄ３は中央部より両端方向に各９０ｍｍ位置とする。）
【請求項７】
前記導電性弾性層の厚みが０．５〜３．０ｍｍである事を特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の帯電部材。
【請求項８】
前記導電性弾性層の上に１０ｎｍ以上で１０００ｎｍ以下の厚みの最表面層を有する事を特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の帯電部材。
【請求項９】
電子写真感光体、
該電子写真感光体の表面を帯電する手段、
帯電された該電子写真感光体に露光して静電潜像を形成する手段、
該静電潜像を現像してトナー像を形成する手段、および、
該トナー像を転写材の表面に転写する転写手段
を有する画像形成装置であって、
該転写手段が、該転写材を帯電する帯電部材として、請求項１〜８のいずれかに記載の帯電部材を有する事を特徴とする画像形成装置。
【請求項１０】
前記帯電部材の感光体ドラムとの当接ニップ内の圧力が、（Ｎ／２）−３以上（Ｎ／２）＋３以下の範囲内に最小値があり、最小値からＲ（１）及びＲ（Ｎ）に対して傾斜して大きくなる事を特徴とする請求項９に記載の画像形成装置。
（Ｎ／２は小数点以下切上げの整数部分、Ｎ≧７）
【請求項１１】
像担持体と、請求項１〜８のいずれかに記載の帯電部材と、を一体に支持し、画像形成装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項１２】
前記帯電部材の感光体ドラムとの当接ニップ内の圧力が、（Ｎ／２）−３以上（Ｎ／２）＋３以下の範囲内に最小値があり、最小値からＲ（１）及びＲ（Ｎ）に対して傾斜して大きくなる事を特徴とする請求項１１に記載のプロセスカートリッジ。
（Ｎ／２は小数点以下切上げの整数部分、Ｎ≧７）
【請求項１】
導電性基体上に導電性弾性層を有する帯電部材において、導電性弾性層の長手方向の表面粗さＲｚｊｉｓが２．０〜２０．０μｍであり、且つ下記（Ａ）の関係にある事を特徴とする帯電部材。
（Ａ）（導電性弾性体の帯電部位の長さ）／（８ｍｍ）＝Ｎ（Ｎは小数点以下切上げの整数部分、Ｎ≧３）より、導電性弾性体部をＮ分割し、片端から順に１〜Ｎとする。この時に、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）及びＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（Ｎ）が２．０〜７．０μｍであり、且つＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（２〜Ｎ−１）のうち少なくとも１点以上が、表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）及びＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（Ｎ）の１．２〜５．０倍である。
（表面粗さＲｚｊｉｓは、ＪＩＳ９４−Ｂ０６０１の十点平均粗さ）
（表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．は周方向６点測定の平均値）
【請求項２】
前記導電性弾性層の長手方向の表面粗さＲｚｊｉｓが２．０〜１２．０μｍである事を特徴とする請求項１に記載の帯電部材。
【請求項３】
前記導電性弾性層の長手方向の表面粗さＲｚｊｉｓ（２〜Ｎ−１）のうち少なくとも１点以上が、Ｒｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）及びＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（Ｎ）の１．５〜３．０倍である事を特徴とする請求項１〜２のいずれかに記載の帯電部材。
【請求項４】
前記導電性弾性層の長手方向の表面粗さＳｍ−ａｖｅ．が３０〜１３０μｍである事を特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の帯電部材。
【請求項５】
前記導電性弾性層の長手方向の表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．が、（Ｎ／２）−３以上（Ｎ／２）＋３以下の範囲内の分割部分に最大値があり、最大値から表面粗さＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（１）及びＲｚｊｉｓ−ａｖｅ．（Ｎ）に対して傾斜して小さくなる事を特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の帯電部材。
（Ｎ／２は小数点以下切上げの整数部分、Ｎ≧７）
【請求項６】
前記帯電部材において、長手方向の一方の端部側での外径をＤ１（μｍ）、中央部での外径をＤ２（μｍ）、長手方向の他方の端部側での外径をＤ３（μｍ）としたとき、
Ｄ２−（Ｄ１＋Ｄ３）／２が７０μｍ以上１６０μｍ以下のクラウン形状である事を特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の帯電部材。
（Ｄ２（μｍ）は帯電部材の中央部の外径、Ｄ１、Ｄ３（μｍ）は帯電部材の長手方向の端部での外径であり、中央部Ｄ２より両端部Ｄ１、Ｄ３は中央部より両端方向に各９０ｍｍ位置とする。）
【請求項７】
前記導電性弾性層の厚みが０．５〜３．０ｍｍである事を特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の帯電部材。
【請求項８】
前記導電性弾性層の上に１０ｎｍ以上で１０００ｎｍ以下の厚みの最表面層を有する事を特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の帯電部材。
【請求項９】
電子写真感光体、
該電子写真感光体の表面を帯電する手段、
帯電された該電子写真感光体に露光して静電潜像を形成する手段、
該静電潜像を現像してトナー像を形成する手段、および、
該トナー像を転写材の表面に転写する転写手段
を有する画像形成装置であって、
該転写手段が、該転写材を帯電する帯電部材として、請求項１〜８のいずれかに記載の帯電部材を有する事を特徴とする画像形成装置。
【請求項１０】
前記帯電部材の感光体ドラムとの当接ニップ内の圧力が、（Ｎ／２）−３以上（Ｎ／２）＋３以下の範囲内に最小値があり、最小値からＲ（１）及びＲ（Ｎ）に対して傾斜して大きくなる事を特徴とする請求項９に記載の画像形成装置。
（Ｎ／２は小数点以下切上げの整数部分、Ｎ≧７）
【請求項１１】
像担持体と、請求項１〜８のいずれかに記載の帯電部材と、を一体に支持し、画像形成装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項１２】
前記帯電部材の感光体ドラムとの当接ニップ内の圧力が、（Ｎ／２）−３以上（Ｎ／２）＋３以下の範囲内に最小値があり、最小値からＲ（１）及びＲ（Ｎ）に対して傾斜して大きくなる事を特徴とする請求項１１に記載のプロセスカートリッジ。
（Ｎ／２は小数点以下切上げの整数部分、Ｎ≧７）
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２００８−２９９１０８（Ｐ２００８−２９９１０８Ａ）
【公開日】平成２０年１２月１１日（２００８．１２．１１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−１４５４４５（Ｐ２００７−１４５４４５）
【出願日】平成１９年５月３１日（２００７．５．３１）
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年１２月１１日（２００８．１２．１１）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年５月３１日（２００７．５．３１）
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
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