平面的な被処理材料を処理するための方法およびアセンブリ、ならびに処理液を除去または離隔するためのデバイス
被処理材料（１０）の湿式化学処理のためのアセンブリ内を輸送される平面的な被処理材料（１０）から処理液（２１）を除去するために、処理液（２１）を保持するための保持面（４、１４）が提供される。保持面（４、１４）は、被処理材料（１０）が保持面（４、１４）を通過する時に保持面（４、１４）と該保持面（４、１４）に向かい合う被処理材料（１０）の表面との間にギャップ（８、１８）が残るように、被処理材料（１０）の輸送路に関して配置構成される。保持面（４、１４）は、例えば、ロール（２、３）の周囲表面のオフセット部分として提供されてもよい。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平面的な被処理材料を処理するための方法およびアセンブリ、ならびに平面的な被処理材料から処理液を除去または離隔するためのデバイスに関する。特に、本発明は、１または複数の易損性表面を有する被処理材料の処理を可能にするような方法、アセンブリおよびデバイスに関する。本発明はさらに、被処理材料から液体が除去される時に被処理材料の有用領域と固定要素との間の接触が十分に回避されうるような方法、アセンブリおよびデバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
平面的な被処理材料を、例えば回路基板産業における回路基板を加工する場合、被処理材料は湿式化学プロセスのラインで処理されることが多い。プロセス薬品またはプロセス水のような処理液を除去するために、いわゆるニップロールが使用される場合がある。そのようなロールは、例えば、特許文献１に開示されるように、処理ステーションにおいて浸漬処理用の処理液を貯留するために使用されてもよい。
【０００３】
図９は、処理液の液位が被処理材料２０３の輸送面より高く、その結果被処理材料２０３が浸漬状態で輸送されうるようになっている、処理ステーション２００の概略図である。被処理材料２０３は処理ステーションを通って水平輸送方向２０４に輸送される。被処理材料を輸送するためにロール対２１１〜２１６が提供され、該ロール対は、前記被処理材料を輸送するために、被処理材料２０３の上方または下方のうち少なくともいずれか一方を向いている表面に接して支持するようになっている。処理液の漏れを回避するために内部容器２０１が設けられ、該容器内で処理液が上方液位まで貯留される（図示せず）。内部容器２０１は外部容器２０２によって包囲され、外部容器２０２が内部容器２０１から溢流する処理液を回収するようになっている。外部容器２０２に回収された、外部容器内で液位２０９を有する処理液２０８から、該処理液はポンプ２１０によって内部容器２０１に戻るように送り込まれる。処理液は、フローノズル２０６、２０７などを介して放出されて内部容器２０１に戻ることができる。
【０００４】
内部容器２０１に処理液を貯留するために、いわゆるニップロールの対２１３、２１５が内部容器２０１の流入領域および流出領域において使用される。ニップロール対２１３、２１５は、例えば、円筒状の周囲表面を有していてよい。対２１３のニップロール２１３ａ、２１３ｂおよびロール対２１５のニップロールが被処理材料２０３に接して支持する場合、処理液が通り抜けて内部容器２０１から漏出する可能性のある解放断面は限られている。ポンプ２１０の送達速度を相応に調節することによって、内部容器２０１の中の処理液の所望の液位が設定されうる。処理ステーションの流入領域または流出領域のロール対２１１、２１２、２１４および２１６のような追加のロール対も、ニップロールとしての役割を果たすことができる。
【０００５】
しかしながら、被処理材料２０３が１以上の易損性表面を有する場合、従来型ニップロールの幅全体にわたる、すなわち、被処理材料２０３の輸送方向２０４に対して横方向に全体に広がる、ニップロール対２１３、２１５と被処理材料２０３との間の直接接触は、被処理材料２０３の表面に損傷を与える可能性がある。被処理材料２０３の表面への損傷は、例えば、表面圧またはニップロール２１３、２１５の表面に付着している粒子状物質および表面の凹凸によって、引き起こされる可能性がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】ドイツ連邦共和国公開特許第４３ ３７ ９８８ Ａ１号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、平面的な被処理材料を処理するための方法およびアセンブリ、ならびに平面的な被処理材料を処理するためのアセンブリ用の処理液を除去または離隔するためのデバイスであって、被処理材料の易損性表面を損傷するリスクが低減されうる方法およびアセンブリならびにデバイスを提供することである。本発明の目的はさらに、回路基板を製造する方法であって、回路基板の易損性表面領域を損傷するリスクが低減されうる方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明によれば、この目的は、独立請求項に示されるような、平面的な被処理材料を処理するための方法およびアセンブリ、ならびに処理液を除去または離隔するためのデバイスによって達成される。従属請求項は、本発明の好適かつ有利な実施形態を定義する。
【０００９】
被処理材料を湿式化学処理するためのアセンブリ内を輸送路に沿って輸送される、平面的な被処理材料を処理する方法は、該アセンブリ内で被処理材料が供される処理液を保持するために、保持面が提供されることを提供する。保持面は、被処理材料が該保持面を通過せしめられる時に保持面と被処理材料の表面との間にギャップが残るように、輸送路上に配置される。
【００１０】
その設計および配置構成により、液体の流れを少なくとも１つの方向に、特に被処理材料の輸送方向に制限することができる表面は、処理液を保持するための保持面として示される。保持面は液体の流れを完全に妨げる必要はなく、処理液の通過を、特に形成されたギャップを通り抜けるのを許容することができる。
【００１１】
被処理材料が保持面を通過せしめられる時に保持面と被処理材料の表面との間にギャップが残るように、保持面が配置されるので、被処理材料上のギャップが配置される部分は、保持面と接触しない。保持面は、特に、ギャップが被処理材料の有用領域に沿って伸びて、保持面が被処理材料の有用領域との接触に至らないように、設計可能である。
【００１２】
保持面は、該保持面が、被処理材料の向かい合うエッジ領域の間を間断なく伸びる被処理材料の有用領域と接触しないように、設計および配置構成されうる。保持面は、該保持面が被処理材料の有用領域全体から間隔をおいて配置されるように、設計および配置構成されうる。保持面は、被処理材料が保持面を通過せしめられる時に、一定方向のギャップが被処理材料の輸送方向に対して横方向に、被処理材料の有用領域全体の上を間断なく伸びるように、設計および配置構成されてもよい。
【００１３】
ギャップは最小ギャップ高を有することができる。保持面と、保持面を通過せしめられる被処理材料との間の最小離間距離が、最小ギャップ高として示される。保持面の少なくとも片側において、処理液はギャップの最小ギャップ高より高い液位まで貯留されうる。こうして被処理材料は、保持面の少なくとも片側において処理液に浸漬されて輸送されうる。保持面は、例えば被処理材料が保持面上において処理ステーションの流出領域を通過せしめられる場合に、被処理材料上の液位を低減すること、または被処理材料から処理液を除去することのうち少なくともいずれか一方を行うことができる。
【００１４】
最小ギャップ高は、１ｍｍ未満、特に０．７ｍｍ未満、特に０．５ｍｍであってよい。最小ギャップ高は、少なくとも０．０５ｍｍ、特に少なくとも０．０７ｍｍ、特に少なく
とも０．０９ｍｍであってよい。
【００１５】
ギャップを通り抜ける処理液は、流体流によって、例えば気体流によって吹き飛ばされて、被処理材料から除去されてもよい。ギャップを形成する保持面と処理液を吹き飛ばすこととの組み合わせによって、処理液がギャップを通り抜ける場合であっても処理液の除去が達成されうる。
【００１６】
保持面から間隔をおいて配置される第２の保持面が、ギャップを通り抜ける処理液を被処理材料から除去するために提供されてもよい。したがって、処理ステーションの流入領域または処理ステーションの流出領域において、保持面と第２の保持面との間では、処理液は、処理ステーションの作動領域における処理液の液位より低い液位まで貯留されうる。このようにして、カスケード方式の一連の液位が作られてもよい。
【００１７】
流体流によって処理液を除去するために、流体流は、被処理材料に向かうように方向づけられてもよい。前記流体流が、ギャップを通り抜けないように方向付けられてもよい。さらに、流体流がギャップを通り抜けないように、すなわち、例えば貯留された処理液の中に入らないように、流体流の体積流量または１以上の体積流量、流速および流れ方向が調節されてもよい。
【００１８】
処理液の除去のために使用される流体流は、被処理材料の輸送方向に対して横方向かつ輸送面と平行な向きの成分を有する方向に、被処理材料上を流れることができる。したがって処理液は、被処理材料から輸送方向に対して横方向に除去されうる。
【００１９】
保持面はロール上に形成されてよい。ロールは、被処理材料に沿って横幅方向に、すなわち被処理材料の輸送方向に対して横方向に、伸びていてよい。ロールは、該ロールの軸線が輸送面に対して平行に伸びるように配置構成されてよい。被処理材料が水平の輸送面で輸送される場合、ロールは該輸送面の上方または下方に提供されうる。ロールは、ロール表面が被処理材料の有用領域全体から間隔を置いて配置されるように、構成可能である。
【００２０】
ロールは、ロール表面の、片側にギャップを画成する部分が、被処理材料の輸送方向とは反対の方向に動くように、回転が設定されてもよい。このようにして、例えば、処理液の漏れが処理ステーションの流出領域においてさらに低減されうる。さらに、被処理材料の表面における物質のやりとりも改善されうる。
【００２１】
ロールによって、処理液が保持または貯留されうるだけでなく、被処理材料が輸送方向に輸送されてもよい。ロール上には、被処理材料を輸送するために、被処理材料に結合される少なくとも１つの輸送部分が提供されてもよい。保持面には、ギャップを形成するために、輸送部分に対するオフセットが提供されてよい。
【００２２】
輸送部分は被処理材料の輸送のために回転されうる。１つの実施形態では、輸送部分は、輸送部分および保持面の独立な回転を可能にするために、保持面に対して回転可能であってよい。
【００２３】
被処理材料の輸送方向においてギャップの相反する側に、処理液の液位差が設定されてもよい。処理液は、ギャップの両側において被処理材料上に存在してよい。例えば、被処理材料のための処理ステーションの流入領域または流出領域において、保持面上の処理液の液位は、処理領域において所望の液位を達成するように、段階的に変更されてもよい。
【００２４】
保持面は、処理液がギャップを通り抜けるのを低減または防止するために回転されても
よい。この目的のために、回転する保持面によって処理液が移動せしめられることにより処理液がギャップを通って流れるのを低減または防止するように、保持面が設計され、かつ保持面の回転速度が選択されてもよい。
【００２５】
被処理材料が処理液に浸漬されて処理ステーション内を輸送されるように、処理液は処理ステーションの保持面によって貯留されることができる。被処理材料の浸漬輸送は、特に、低い固有剛性を有する薄い被処理材料を処理するために使用されうる。
【００２６】
被処理材料は、フィルム状の材料、特にフィルム状の回路基板または導電箔であってよい。被処理材料は連続材であってもよい。
平面的な被処理材料を湿式化学処理するためのアセンブリ用の、被処理材料から処理液を除去または離隔するための本発明の１つの態様によって提供されるデバイスは、処理液を保持するための保持面を含んでなる。該デバイスは、デバイスが保持面と輸送路に沿って輸送される被処理材料の表面との間にギャップを形成するように、被処理材料の輸送路に対して配置構成されるように、設計される。
【００２７】
したがって、処理液の「除去」または「離隔」という用語は、デバイスが、処理液を完全に除去または離隔してしまうのではなく、処理液を少なくとも部分的に保持するように設計されるという意味で用いられる。
【００２８】
ギャップが保持面と被処理材料の表面との間に残るように配置されるようにデバイスが設計されるので、被処理材料上のギャップが形成される部分は保持面との接触には至らない。デバイスは、特に、ギャップが被処理材料の有用領域に沿って伸びて、保持面が被処理材料の有用領域とは接触しないように、設計されうる。
【００２９】
ギャップは最小ギャップ高を有することができる。保持面と、保持面を通過せしめられる被処理材料との間の最小離間距離が、「最小ギャップ高」として示される。デバイスは、少なくとも保持面の片側においては処理液がギャップの最小ギャップ高より高い液位まで貯留されうるように、設計可能である。したがって被処理材料は、保持面のその側において処理液に浸漬されて輸送されうる。
【００３０】
最小ギャップ高は、１ｍｍ未満、特に０．７ｍｍ未満、特に０．５ｍｍ未満であってよい。最小ギャップ高は、少なくとも０．０５ｍｍ、特に少なくとも０．０７ｍｍ、特に少なくとも０．０９ｍｍであってよい。
【００３１】
デバイスは、被処理材料から処理液を除去するために被処理材料上に流体流を流れさせるように設計された、保持面から間隔を置いて配置されたフローデバイスを含んでなることができる。フローデバイスによって、ギャップを通り抜けて出て来る処理液が除去されうる。
【００３２】
フローデバイスは、輸送面に対して平行かつ被処理材料の輸送方向に対して横方向に方向付けられた速度成分を備えた流体流を生じるように設計されうる。そのようにして設計されたフローデバイスによって、処理液は、輸送方向に対して横方向に被処理材料から除去されうる。
【００３３】
フローデバイスは、流体流がギャップを通り抜けないように設計かつ配置構成されうる。この目的のために、流体流の、体積流量または１以上の体積流量、流速および流れ方向は、流体流がギャップを通り抜けて貯留された処理液の中に達しないように、適切な方式で設計されうる。このように、例えば貯留された処理液中における泡の形成が、流体流によって低減または防止されうる。
【００３４】
デバイスはさらなる保持面を含んでなり、被処理材料の輸送路に対して、該デバイスがさらなる保持面と輸送路に沿って輸送される被処理材料のさらなる表面との間にさらなるギャップを形成するように、配置構成されるように設計されうる。保持面およびさらなる保持面は、例えば、被処理材料の両表面から液体を除去するために、該表面と向かい合うことができる。保持面およびさらなる保持面は、ロール対の両ロールであってその間を被処理材料が輸送されるロール上に提供されてもよい。
【００３５】
デバイスは、処理液がギャップを通り抜けることができるように設計されてもよい。少流量の処理液がギャップを通過することが許容される場合、特に、処理液の通過を完全に防止する手段は省略可能である。
【００３６】
保持面はデバイスの回転自在に載置されたロール上に形成されてもよい。ロールは、ロール表面が被処理材料の有用領域全体から間隔を置いて配置されるように構成可能である。
【００３７】
デバイスは、ロール表面の一部であって片側にギャップを画成する部分が、被処理材料の輸送方向とは反対の方向に動くように、ロールの回転を設定するように設計された駆動デバイスを含んでなることもできる。この方法では、例えば、処理ステーションの流出領域において、処理液の漏れがさらに低減されうる。さらに、被処理材料の表面上における物質のやりとりも改善されうる。
【００３８】
ロールは、保持面によって処理液を保持するためだけでなく被処理材料を輸送するためにも使用されうるように、設計可能である。この目的のために、被処理材料を輸送するために被処理材料と結合されるように構成された、少なくとも１つの輸送部分がロール上に提供されてもよい。ロール上において、被処理材料を輸送するために２つの輸送部分が提供されて、この少なくとも２つの部分の間に保持面が配置構成されてもよい。例えば、輸送部分がロールの軸方向エッジ部分に提供され、保持面がこの軸方向エッジ部分の間を伸びてもよい。保持面は、少なくとも１つの輸送部分かつ／または少なくとも２つの輸送部分に対してオフセットされた表面として構成されうる。
【００３９】
ロールは、被処理材料に沿って横幅方向に、すなわち被処理材料の輸送方向に対して横方向に伸びるように設計されうる。被処理材料が水平の輸送面上を輸送される場合、ロールは輸送面の上方または下方に提供されるように設計されうる。
【００４０】
デバイスは、例えば鉛直方向に調節可能な軸受を提供することにより、ロールが被処理材料の輸送面に対して垂直に調節可能であるように構成可能である。そのように構成されたデバイスでは、ギャップ、特に最小ギャップ高の幾何学的配置を調節可能である。
【００４１】
少なくとも１つの輸送部分かつ／または少なくとも２つの輸送部分は、保持面に関して回転可能である。デバイスは、１または複数の輸送部分の回転駆動機構およびそれとは独立した保持面の回転駆動機構に合わせて設計されうる。
【００４２】
さらなる実施形態では、デバイスは、保持面が形成される立方形の要素を含んでなることができる。
デバイスは、１つの特徴または実施形態に従って被処理材料を処理する方法において使用されるように設計可能である。
【００４３】
平面的な被処理材料を処理するための本発明の１つの態様によって提供されるアセンブリは、被処理材料から処理液を除去または離隔するための、本発明の特徴または実施形態
によるデバイスとして設計されたデバイスを含んでなる。
【００４４】
該アセンブリは複数のそのようなデバイスを含んでなることができる。例えば、少なくとも２つのデバイスが、被処理材料から処理液を除去するために、被処理材料の輸送方向に互いに間隔を置いて提供されてもよい。処理液を除去するために複数のそのようなデバイスを使用することによって、液体が、該デバイスによって形成されたギャップを通り抜ける場合でも、処理液をほとんど除去することが可能である。別例として、または追加として、被処理材料の輸送方向に互いに間隔を置いて配置された複数のデバイスが、処理ステーションにおいて処理液を貯留し、かつ処理ステーションからの処理液の漏れを低減するために、処理ステーションの流入領域に提供されてもよい。
【００４５】
アセンブリは、処理液が貯留されうる処理ステーションを含んでなることができる。処理ステーションの流入領域および処理ステーションの流出領域の両方において、被処理材料から処理液を除去または離隔するためのデバイスがそれぞれ提供されてもよい。該デバイスによって、処理液は処理ステーション内に貯留されうる。流入領域または流出領域のうち少なくともいずれか一方において、いずれの場合にも、処理液を除去または離隔するための少なくとも２つのデバイスが提供されてもよい。少なくとも２つのデバイスによって、処理液は複数の液位で貯留されうる。
【００４６】
アセンブリは、処理ステーションの流入領域内で輸送面より上方に提供されるデバイスの保持面、および処理ステーションの流出領域内で輸送面より上方に提供されるデバイスの保持面を、反対方向に回転させるように構成されうる。別例として、または追加として、アセンブリは、処理ステーションの流入領域内で輸送面より下方に提供されるデバイスの保持面、および処理ステーションの流出領域内で輸送面より下方に提供されるデバイスの保持面を、反対方向に回転させるように構成されうる。回転方向の適切な選択によって、流入領域内および流出領域内に提供されるデバイスのギャップを通る処理液の通過は低減または防止されうる。
【００４７】
さらなる態様によれば、回路基板を製造する方法が提供される。したがって、１つの特徴または実施形態による被処理材料を処理する方法によって処理された被処理材料から回路基板を製造することが提供される。例えば、プリント回路基板が該方法によって製造されてもよい。
【００４８】
本発明の実施形態により、被処理材料を湿式化学処理するためのアセンブリにおいて被処理材料から処理液を除去または離隔することが可能となる。したがって、処理液を保持するための保持面が、被処理材料の有用領域から間隔を置いて配置構成されて、有用領域が固定要素と直接接触するのを低減または回避するためにギャップが形成されるようになっていてもよい。
【００４９】
本発明の実施形態は、特に、易損性表面を備えた平面的な被処理材料が水平な輸送面またはほぼ水平な輸送面において輸送されるアセンブリにおいて、使用されうる。しかしながら、実施形態はこの応用分野に限定されない。
【００５０】
本発明は、好ましい実施形態または有利な実施形態を参照し、また添付の図面を参照することにより、本明細書中以降においてより詳細に説明される。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】実施形態による、処理液を除去または離隔するためのデバイスの概略正面図。
【図２】図１のデバイスの概略的な部分断面側面図。
【図３】さらなる実施形態による、処理液を除去するためのデバイスの概略的な部分断面側面図。
【図４】一実施形態による、処理液を除去するための複数のデバイスを備えた処理ステーションの一部分の概略的な部分断面側面図。
【図５】さらなる実施形態による、処理液を除去するための複数のデバイスを備えた処理ステーションの一部分の概略的な部分断面側面図。
【図６】さらなる実施形態による、処理液を除去または離隔するためのデバイスの概略正面図。
【図７】さらなる実施形態による、処理液を除去するためのデバイスの概略的な部分断面側面図。
【図８】流入領域および流出領域において実施形態による処理液を除去または離隔するためのデバイスを備えた処理ステーションの概略的な部分断面側面図。
【図９】ニップロール対を備えた処理ステーションの概略的な部分断面側面図。
【発明を実施するための形態】
【００５２】
被処理材料を指す方向情報または位置情報は、慣習に従って輸送方向に関して提示される。被処理材料の輸送が輸送方向に対して平行かつ／または非平行である場合に、輸送方向に対して輸送面において直角な方向である長手方向として示される方向は、被処理材料の横幅方向として示される。
【００５３】
被処理材料から処理液が離隔または除去されるデバイスおよび方法の実施形態が開示される。「処理液」という用語により、湿式化学処理のためのアセンブリにおいて被処理材料が供される可能性のある任意の液体、特にプロセス薬品、水などのようなリンス液が了解される。
【００５４】
実施形態は、被処理材料の処理であって該処理において被処理材料が水平の輸送面で輸送される処理のためのアセンブリとの関連において開示される。「輸送面より上方」または「輸送面より下方」、「上部表面」、「下部表面」、および処理液の高さまたは液位への言及などのような情報は、そうでないことが指摘されない限りは、そのまま鉛直方向ついて述べている。「水平な輸送面を輸送する」という語によって、特に、被処理材料の少なくとも３つの角部が水平な平面上に位置している被処理材料の輸送と了解されうる。これは、例えば低い固有剛性を有する被処理材料においては、輸送中の被処理材料の少なくとも個別の部分または個別の領域は輸送面の外側に位置するという事実を排除するものではない。
【００５５】
図１は、被処理材料１０から処理液を除去するためのデバイス１の概略正面図である。図２は、図１にＩＩ−ＩＩで示された方向に沿った、デバイス１の概略側面図である。この部分断面側面図の切断面は鉛直平面であり、被処理材料の有用領域が輸送される線に沿った輸送面と交差する。
【００５６】
デバイス１はロール２およびさらなるロール３を含んでなり、該ロールは、被処理材料１０がロール２とさらなるロール３との間を輸送されるように、被処理材料１０の輸送面の両側に配置構成されている。デバイス１は、例えば、図９の処理ステーション２００においてニップロール対２１３または２１５として使用されうる。
【００５７】
ロール２は、ロール２の周囲表面のオフセット部分として提供される、処理液のための保持面４を有する。ロール２は、被処理材料１０がロール２を通過して輸送される時に保持面４と被処理材料１０との間にギャップ８が残るように、被処理材料１０の輸送路に対して配置される。ロール２の周囲表面の保持面４を形成する部分は、ほぼ円筒状に構成されてよい。
【００５８】
さらなるロール３は、ロール３の周囲表面のオフセット部分として提供される、処理液のためのさらなる保持面１４を有する。さらなるロール３は、被処理材料１０がロール３を通過して輸送される時にさらなる保持面１４と被処理材料１０との間にギャップ１８が残るように、被処理材料１０の輸送路に対して配置される。ロール３の周囲表面のさらなる保持面１４を形成する部分は、ほぼ円筒状に構成されてよい。
【００５９】
ロール２およびさらなるロール３の配置構成および設計によって形成されるギャップ８、１８により、被処理材料１０の横幅方向の大部分にわたって伸びる、被処理材料１０の有用領域１１は、デバイス１の固定要素とは接触しない。有用領域１１における被処理材料１０の表面に損傷を与えるリスクは、このようにして低減可能である。
【００６０】
保持面４およびさらなる保持面１４の円筒形状により、ギャップ８、１８は、被処理材料１０の輸送方向２０において変化しうるギャップ高かつ／または空間高を有する。ギャップ８、１８の最小ギャップ高９、１９は、保持面４、１４の、それぞれのロール２および／または３に向かい合う被処理材料１０の表面から最短距離にある地点によって決まる。
【００６１】
ギャップ８、１８が処理液の通路を許容するとしても、処理液はデバイス１によって被処理材料１０から除去されうる。特に、ギャップ８、１８が最小ギャップ高９、１９へと先細りすることによって、デバイス１は、輸送方向２０にロール２の相対する２つの側において処理液の液位を可変的にすることができる、圧力の減少を引き起こすことができる。
【００６２】
図２は、ロール２の一方の側で液位２２まで貯留された処理液２１と、被処理材料１０がデバイス１を通過した後に残っている、より低い液位２４の処理液２３の層とを概略的に示している。デバイス１は、特に、処理液２１が保持面４およびさらなる保持面１４によって、保持面４の真上に、最小ギャップ高となる配置に相当するギャップ８、１８の下縁からそれぞれ計測されたギャップ８の最小ギャップ高９よりも、かつギャップ１８の最小ギャップ高１９よりも高い液位２２まで、ロール２、３の片側に（図２ではロール２、３の左側に）貯留されるように、設計可能である。
【００６３】
図３〜６に関連してより詳細に説明されるように、被処理材料１０が保持面４、１４を通過した後に被処理材料上に依然として残っている処理液２３は、適切な方法で、例えば被処理材料上に流体を流れさせることにより、除去可能である。
【００６４】
デバイス１のロール２、３は、被処理材料１０から液体を除去するためだけでなく被処理材料１０を輸送するためにも設計されうる。この目的のために、ロール２はその２つの軸方向端部に、被処理材料がロール２、３を通過せしめられる時に被処理材料１０のエッジ領域１２に接して支持するようになる隆起エッジ部分５、６を有することができる。隆起エッジ部分５、６は、被処理材料１０を輸送するために、回転駆動されうる。エッジ部分５、６の回転駆動機構のために、デバイス１を使用する場合に被処理材料１０のための処理アセンブリに回転自在に載地されるシャフト７が提供される。エッジ部分５、６を１つの回転方向２５に回転させることによって、被処理材料１０はさらに輸送されうる。従って、ロール３はその２つの軸方向端部に、被処理材料がロール２、３を通過せしめられる時に被処理材料１０のエッジ領域１２に接して支持するようになる隆起エッジ部分１５、１６を有することができる。隆起エッジ部分１５、１６は、被処理材料１０を輸送するために回転駆動されうる。エッジ部分１５、１６の回転駆動機構のために、デバイス１を使用する場合に被処理材料１０のための処理アセンブリに回転自在に載地されるシャフト１７が提供される。エッジ部分１５、１６を１つの回転方向２６に回転させることによっ
て、被処理材料１０はさらに輸送されうる。
【００６５】
エッジ部分５、６またはエッジ部分１５、１６のうち少なくともいずれか一方は、被処理材料１０を輸送するために、前記被処理材料とともに摩擦結合または確動結合のうち少なくともいずれか一方を形成することができる。例えば、エッジ部分５、６またはエッジ部分１５、１６のうち少なくともいずれか一方に、被処理材料１０を輸送するために被処理材料１０の対応する凹部に係合する突部が形成されてもよい。
【００６６】
ロール２では、隆起エッジ部分５、６は、被処理材料１０を輸送するために被処理材料１０に結合可能な輸送部分として作用する。保持面４はエッジ部分５、６に対してオフセットされる。エッジ部分５、６の、保持面４の半径と比較して隆起している、かつ／または大きい半径が、最小ギャップ高９を決定する。従って、ロール３では、隆起エッジ部分１５、１６は被処理材料１０を輸送するための被処理材料１０に結合可能な輸送部分として作用する。保持面１４はエッジ部分１５、１６に対してオフセットされる。エッジ部分１５、１６の、保持面１４の半径と比較して隆起している、かつ／または大きい半径が、最小ギャップ高１９を決定する。
【００６７】
エッジ部分および保持面の半径は所望の応用分野に適切であるように選択可能である。例えば、ロール２、３の保持面を形成する部分の半径は、輸送部分として使用されるロール２、３のエッジ部分の半径よりも、１ｍｍ未満、特に０．７ｍｍ未満、特に０．５ｍｍ未満だけ小さくてよい。ロール２、３の保持面を形成する部分の半径は、輸送部分として使用されるロール２、３のエッジ部分の半径よりも、少なくとも０．０５ｍｍ、特に少なくとも０．０７ｍｍ、特に少なくとも０．０９ｍｍだけ小さくてよい。
【００６８】
加えて、ロール２のシャフト７またはさらなるロール３のシャフト１７のうち少なくともいずれか一方が高さ調節可能な軸受を用いて載置されて、被処理材料１０の上部表面からのシャフト７の離間距離または被処理材料１０の下部表面からのシャフト１７の離間距離のうち少なくともいずれか一方が設定可能となっていてもよい。
【００６９】
ロール２およびさらなるロール３は、輸送部分としての役割を果たしているエッジ部分５、６または１５、１６のうち少なくともいずれか一方を回転させると、それぞれのロールの保持面４または１４のうち少なくともいずれか一方も、それぞれのロールの輸送部分と同じ方向に回転するように設計されてもよい。このように、保持面４および１４と、被処理材料１０の表面との間の相対的運動が低減されうる。
【００７０】
この目的のために、ロール２またはロール３のうち少なくともいずれか一方は、例えば、輸送部分および保持面の両方が、互いに対する回転という点で固定されてロールの表面上に構成されるように、設計されてもよい。しかしながら、別例として、輸送部分が、図８により詳細に説明されるように、保持面に対して回転可能なように提供されてもよい。
【００７１】
１つの実施形態では、輸送部分は保持面に対して回転可能なように提供されてよい。保持面の角速度は、輸送部分の角速度、輸送部分の半径、およびロールの保持面を成形している部分の半径に応じて選択可能である。保持面の角速度は、保持面上の周速度が被処理材料の輸送速度と同じであるように選択されてもよい。
【００７２】
デバイス１の複数の改変形態がさらなる実施形態で実施されうる。
例えば、デバイス１のロール２、３がその軸方向端部に隆起部分５、６、１５、１６を有する一方、ロール２またはさらなるロール３のうち少なくともいずれか一方に、２以上の隆起部分がさらに提供されてもよい。したがってこのさらなる隆起部分は、特に、該隆起部分が、被処理材料１０と、機械的接触が重要ではない表面領域上に接触するように、
ロール２またはさらなるロール３のうち少なくともいずれか一方の上に配置構成されうる。例えば、被処理材料１０の長手方向に伸びている被処理材料の表面領域が、ロール２またはさらなるロール３のうち少なくともいずれか一方のさらなる隆起部分によって支持されてもよい。被処理材料１０の有用領域１１は、被処理材料の、ロール２またはさらなるロール３の隆起部分とは接触しない表面領域によって画成されうる。さらなる隆起部分によって達成される追加の支持作用により、被処理材料１０の有用領域における望ましくない接触のリスクが低減されうる。
【００７３】
デバイス１では、被処理材料の表面とともにギャップを形成する保持面４、１４は輸送面の上方および下方の両方に提供されるが、さらなる実施形態によるデバイスでは保持面は片側のみに提供され、かつ被処理材料の表面とともにギャップを形成する。例えば、そのようなギャップを形成する保持面が、輸送面の上側のみ、または下側のみに配置構成されてもよい。反対側には、例えば、ほぼ一定の直径を有するロールが提供されてもよい。従って該ロールは、被処理材料の有用領域において被処理材料の表面と接触する可能性がある。反対側に提供される、ギャップを形成する保持面は、被処理材料の表面を損傷するリスクを低減するために、該表面に加わる力の低減をもたらしてもよい。
【００７４】
さらなる実施形態では、一定の、すなわちロールの軸線方向において変化しない直径を備えたロールの周囲表面も、被処理材料の表面との間にギャップを画成する保持面としての役割を果たすことができる。ギャップ、特に最小ギャップ高の設計は、輸送面に対して高さ調節が可能な軸受によって載置されているロールによって、調節可能であってもよい。さらに、２つのそのようなロールが被処理材料の上側面および下側面の液体を除去するために提供されて、対応するロールと被処理材料との間に形成されるギャップが残っていてもよい。
【００７５】
図３は、さらなる実施形態による、処理液を除去するためのデバイス３１の概略側面図である。デバイス３１は、例えば、図９の処理ステーション２００の流出領域においてニップロール対２１４、２１５、２１６の代わりに使用されうる。機能または設計のうち少なくともいずれか一方においてデバイス１の要素または装備に相当する、デバイス３１の要素または装備は、同じ参照数字で提示されており、重ねて詳細には説明されない。
【００７６】
デバイス３１は液体を保持するための保持面４を含んでなる。デバイス３１は、保持面４が該保持面と向かい合う被処理材料１０の表面とともに（図３では被処理材料１０の上部表面とともに）ギャップ８を形成するように、設計されている。保持面４は、例えば、回転自在に載置されたロール２の上に提供されうる。ロール２は、図１および２に関して後述されるように設計されうる。保持面４は、保持面４を通過して輸送される被処理材料１０から処理液を除去する。一実施形態のギャップ８は処理液の通過を許容するので、処理液３４は、被処理材料１０が保持面４を備えたロール２を通過した後も前記被処理材料上にまだ存在する可能性がある。
【００７７】
デバイス３１は、ノズル装置を備えたフローデバイス３２をさらに含んでなる。輸送方向においてフローデバイス３２は、ロール２およびロール２に提供された保持面４から間隔を置いて配置される。フローデバイス３２は、輸送方向に下流に、すなわち輸送方向において保持面４を備えたロール２の後に、配置構成される。フローデバイス３２は、ギャップ８を通り抜けた後に被処理材料１０の上に残っている処理液３４の一部を被処理材料１０から除去するために設計されている。フローデバイス３２は、特に、ギャップ８を通り抜けた後に被処理材料１０の上に残っている処理液３４の大部分を被処理材料１０から除去するために設計されていてもよい。
【００７８】
フローデバイス３２は、被処理材料１０から処理液３４を吹き飛ばすために、または流
体流３３によって他の方法で処理液を除去するために、流体流３３、特に気体流（例えば空気流）を放出することができる。流体流３３は、デバイス３１のギャップを形成する保持面４の方向に少なくとも１つの流れ成分（図３では、左に配向された成分）を有することができる。保持面４の上では、処理液は被処理材料の側方に流れることができる。
【００７９】
フローデバイスはさらに、流体流３３が、輸送面に対して平行かつ輸送方向２０に対して横方向、すなわち、保持面４が形成されるロール２の軸線方向と平行に方向付けられた流れ成分を有するように、設計されてもよい。このようにして、処理液３４は被処理材料１０から側方へと除去されうる。
【００８０】
フローデバイス３２は、被処理材料１０の上に、被処理材料１０の幅全体にわたって、すなわち、輸送方向に対して横方向に被処理材料１０の広がりを覆って伸びていてもよい。流体流３３の放出については、フローデバイス３２は１以上のノズル口を含んでなることができる。ノズル口は、例えば、フローデバイス３２の上に被処理材料１０の横幅方向に形成された一続きのスロット、複数のスロットまたは複数の穴として形成されうる。フローデバイス３２は、被処理材料１０の表面に対するノズル口の離間距離が、被処理材料の幅全体にわたってほぼ同じ寸法であるように設計されてよい。
【００８１】
フローデバイス３２は、輸送面に対して平行かつ輸送方向２０に対して横方向に方向づけられた直線状のチャネル本体を含んでなることができる。チャネル本体は、別例として、輸送面に対して平行かつ輸送方向２０に対して傾斜をなすように方向づけられてもよい。
【００８２】
１つの実施形態では、フローデバイス３２の形状は、被処理材料の横幅方向におけるフローデバイス３２の中央部分が、フローデバイス３２のエッジ部分よりも、ギャップを形成する保持面４に接近して配置構成されるような形状であってよい。例えば、フローデバイス３２は、輸送面に垂直な方向からの平面図で（すなわち、輸送面の上方から垂直に見た場合の図３において）、保持面４によって形成されたギャップ８へと向かう凸形状を有する形状を有していてもよい。例えば、該平面図におけるフローデバイス３２は、先端部が保持面４を指しているＶ字形状であってもよい。このように構成されたフローデバイスは、被処理材料のエッジ部に向かって処理液を効率良く運んで前記処理液を除去するために、被処理材料の一方のエッジ部の方向に速度成分を有する流体流を放出するように設計されている。
【００８３】
フローデバイス３２は、このように被処理材料上を流れる気体流、特に空気流を放出するように設計可能である。フローデバイス３２は、気体流３３の流出速度が少なくとも２ｍ／秒、特に少なくとも１０ｍ／秒、特に少なくとも３０ｍ／秒であるように設計可能である。
【００８４】
フローデバイス３２は、液体流を放出することによって被処理材料上を流れるように設計されてもよい。フローデバイス３２は、液体流３３の流出速度が少なくとも０．１ｍ／秒、特に少なくとも１ｍ／秒、特に少なくとも３ｍ／秒であるように設計可能である。
【００８５】
フローデバイス３２は、流体流３３の流出方向が被処理材料の表面に対して平行であるかまたは傾斜をなすことができるように設計されてもよい。特に、フローデバイス３２は、流体流がフローデバイス３２のノズル口からギャップ８の方向に、かつ／または輸送方向に対して横方向に出して、被処理材料１０の一方のエッジ部に向かって流れるように、構成されてもよい。別例として、流出方向は、被処理材料１０の表面に対して垂直に方向づけられてもよい。
【００８６】
フローデバイス３２は、流体流３３がギャップ８を通り抜けないように、すなわち、ギャップを形成している保持面４の反対側に貯留された処理液に入らないように、構成可能である。このようにして、流体流３３により処理液２１の中に泡が形成されることが回避または防止されうる。流体流３３がギャップ８を通過するのを回避するために、例えばフローデバイス３２からの流体流３３の体積流量または１以上の体積流量、流出速度、および／または流出方向を適宜設定可能である。
【００８７】
デバイス３１は、ギャップ８とフローデバイス３２の１または複数のノズル口との間の間隔または様々な間隔が、最大でも１００ｍｍおよび少なくとも１０ｍｍであるように、設計されうる。
【００８８】
図３に示されるように、デバイス３１は、さらなるロール３の上に形成されうる、輸送面より下方に配置構成されたさらなる保持面１４をさらに含んでなることもできる。
デバイス３１の複数の改変形態はさらなる実施形態において実装されうる。例えば、図３に関連して、フローデバイス３２が被処理材料１０の輸送方向に関してギャップを形成する保持面４を備えたロール２の下流に配置構成されている、処理液を除去するためのデバイス３１が説明されてきたが、処理液を離隔するためのデバイスは、フローデバイスが被処理材料の輸送方向においてギャップを形成する保持面の前かつ／または上流に配置構成されるように、設計されてもよい。このように形成されたデバイスは、特に、処理ステーションの流入領域において使用されうる。
【００８９】
さらなる実施形態による、処理液を除去または離隔するためのデバイスでは、別例または追加として、フローデバイスから放出される流体流３３により、被処理材料１０の下側から液体を吹き飛ばすために、またはその他の方法で被処理材料１０から液体を除去するために、輸送面より下方にフローデバイス３２が提供されてもよい。
【００９０】
フローデバイスが輸送面より下方に提供される場合、該フローデバイスは、フローデバイスによって生じる流体流が、輸送方向に対して平行な、ギャップを形成する保持面から離れるように方向付けられた速度成分を有するように、設計可能である。例えば、処理ステーションの流出領域に提供されるフローデバイスでは、フローデバイスによって生じる流体流は、輸送方向に方向付けられた速度成分を有することができる。
【００９１】
処理液を除去するためのフローデバイスが輸送面より上方に提供される場合、輸送要素が輸送面より下方の対応する位置に提供されてもよい。同様のやり方で、処理液を除去するためのフローデバイスが輸送面より下方に提供される場合、輸送要素が輸送面より上方の対応する位置に提供されてもよい。輸送要素およびフローデバイスは、輸送面の両側に、輸送方向に関して同じ位置に配置構成されるとよい。
【００９２】
輸送要素は、例えば、被処理材料の支持または輸送のうち少なくともいずれか一方を行うように設計可能である。輸送要素はロールとして構成されてもよい。ロールはオフセット保持面を有してもよいが、軸線方向にほぼ一定の直径を有してもよい。輸送要素は、複数のホイールが提供されるホイール車軸として形成されてもよい。ホイールは被処理材料を輸送するために被処理材料と接触するように設計されうる。
【００９３】
図４は、処理ステーションの流出領域４１の概略側面図である。このような流出領域４１は、図９の処理ステーション２００において、内部容器２０１の、被処理材料が処理ステーションを出る側の一端に提供されうる。流出領域では、被処理材料１０は、処理液２１が被処理材料を浸漬させるのに十分な高さに貯留されている処理領域４２から、輸送方向２０にさらに輸送される。
【００９４】
流出領域４１は、被処理材料１０から処理液を除去するための複数のデバイス４３、４４および４５を含んでなる。処理液を除去するためのデバイス４３、４４および４５は、被処理材料１０の輸送路に沿って並べられて、輸送方向２０に互いに間隔を置いて配置される。デバイス４３、４４および４５はそれぞれ保持面を有し、該保持面は、該保持面と該保持面に向かい合う被処理材料１０の表面との間にギャップが形成されるように、輸送面に関して配置構成される。
【００９５】
デバイス４３、４４および４５は、一実施形態によって処理液を除去するためのデバイスとして形成されてもよい。１つの実施形態では、デバイス４３は、被処理材料１０がその間を通過するように配置構成された１対のロール５１、５２を含んでなることができる。デバイス４３のロール５１、５２のうち少なくとも一方には、ギャップを形成する保持面が処理液を保持するために形成されて、被処理材料がロール５１、５２を通過する時に保持面と前記保持面に向かい合う被処理材料１０の表面との間にギャップが形成されるようになっていてもよい。特に、ロール５１、５２のうち少なくとも一方は、被処理材料１０を輸送するための隆起エッジ領域、およびその間に提供されたオフセット保持面を有することができる。デバイス４３は、例えば、図１および２に関して記載されたデバイス１のように構成されてもよい。
【００９６】
デバイス４４は、輸送面より上方に配置構成されたロール５３およびフローデバイス５４、ならびに輸送面より下方に配置構成されたロール５５およびフローデバイス５６を有することができる。デバイス４４のロール５３、５５のうち少なくとも一方には、処理液を保持するためのギャップを形成する保持面が形成されて、被処理材料１０がロール５３、５５を通過する時に保持面と前記保持面に向かい合う被処理材料の表面との間にギャップが形成されるようになっていてもよい。特に、図１および２に関して説明されるように、ロール５３、５５のうち少なくとも一方は、被処理材料１０を輸送するための隆起エッジ領域と、該エッジ領域の間に設けられたオフセット保持面とを有することができる。フローデバイス５４および５６は、被処理材料１０の上に残っている処理液を除去するために、被処理材料の上に流体流３３が、例えば空気流が流れるようにする。この目的のために、フローデバイス５４および５６によって放出される流体流３３は、該流体流が移動することによって被処理材料の一方のエッジ部の方向に処理液を除去するように、方向づけられてもよい。
【００９７】
デバイス４５は、輸送面より上方に配置構成されたロール５７およびフローデバイス５８、ならびに輸送面より下方に配置構成されたロール５９およびフローデバイス６０を有することができる。デバイス４５のロール５７、５９のうち少なくとも一方には、処理液を保持するためのギャップを形成する保持面が形成されて、被処理材料１０がロール５７、５９を通過する時に保持面と前記保持面に向かい合う被処理材料の表面との間にギャップが形成されるようになっていてもよい。特に、図１および２に関して説明されるように、ロール５７、５９のうち少なくとも一方は、被処理材料１０を輸送するための隆起エッジ領域と、該エッジ領域の間に設けられたオフセット保持面とを有することができる。フローデバイス５８および６０は、被処理材料１０の上に残っている処理液を除去するために、被処理材料の上に流体流３３が、例えば空気流が流れるようにする。この目的のために、フローデバイス５８および６０から放出される流体流３３は、該流体流が移動することによって被処理材料の一方のエッジ部の方向に処理液を除去するように、方向づけられてもよい。
【００９８】
被処理材料１０が連続して通り抜けるデバイス４３、４４および４５の、ギャップを形成する保持面は、様々な設計のものであってよい。例えば、該デバイス上のギャップは次第に狭くなってもよい。例えば、デバイス４３はギャップがデバイス４３の保持面と向かい合う被処理材料１０の表面との間に第１の最小ギャップ高を備えて形成されるように設
計される一方、輸送方向に関してデバイス４３の下流に配置構成されるデバイス４４は、ギャップがデバイス４４の保持面と向かい合う被処理材料１０の表面との間に第２の最小ギャップ高を備えて形成されるように設計されてよい。したがって、デバイス４４の第２の最小ギャップ高は、デバイス４３の第１の最小ギャップ高より小さくてもよい、すなわち、処理ステーションの流出領域におけるギャップは、１つのデバイスから、輸送方向に関して下流に配置構成された処理液を除去するためのさらなるデバイスへ、より低い高さを有していてよい。
【００９９】
処理領域４２を画成するデバイス４３は、ロール５１の、輸送方向に関して互いに反対となる側の間に処理液の液位差７４が設定されるように設計される。処理領域４２では、処理液２１は液位７１まで貯留され、ロール５１の反対側の隣接領域では、処理液は液位７２まで貯留される。
【０１００】
輸送方向に関してデバイス４３の下流に配置構成されるデバイス４４は、被処理材料１０がロール５３、５５を通過する時に被処理材料１０から処理液が除去されるように設計される。ロール５３、５５を通過するように被処理材料１０を移動させた後もなお被処理材料上に存在する処理液７３は、フローデバイス５４、５６によって少なくとも部分的に除去される。輸送方向に関してデバイス４４の下流に配置構成されるデバイス４５によって、デバイス４４を通過した後もなお被処理材料１０の上に存在しうる処理液のさらに一部が、被処理材料から除去されうる。
【０１０１】
処理液を除去するための複数のデバイスの使用によって、処理液は、ギャップが保持面と被処理材料１０との間に依然として残っていても被処理材料１０から確実に除去可能である。
【０１０２】
処理ステーションの内部容器の底部４６と、輸送面より下方に配置構成されたデバイス４３のロール５２との間に、バリア４７が提供される。バリア４７により、液位７１と液位７２との間の液位差７４がデバイス４３の両側において設定されうる。この目的のために、例えば長穴、穴またはスロットの形状の開口部６１がバリア４７に形成される。開口部６１は、バリア４７を通る液体の流れを調節し、ひいては液位７１と液位７２との間の液位差７４を調節するために、閉止させることが可能である。
【０１０３】
処理領域４２に隣接する領域における液位７２は、流出入する処理液の流れの平衡を保つことにより決定される。前記の流れ、ひいては液位７２を調節することを可能にするために、バリア４７とバリア４８との間に１つ以上の開口部、例えば閉止可能な穴が、底部４６に提供されてもよい。バリア４７に開く開口部、および底部４６に開く開口部を適切に選択することにより、処理領域４２に隣接する領域における所望の液位７２のための基本設定が選択されうる。加えて、処理ステーションを側面にそって画成する要素の上に、例えばロール５１、５２、５３および５５を支持するために提供される軸受レシーバの上に、溢流バリアが提供されてもよい。余計に流入した分の液体は溢流バリアを介して放出可能である。
【０１０４】
処理領域４２から流出する処理液の流れの平衡を保つために、処理液がポンプ（図示せず）によって処理領域４２へ運搬されてもよい。
処理ステーションの内部容器の底部４６と、輸送面より下方に配置構成されたデバイス４４のロール５５との間に、バリア４８が提供される。バリア４８は、液位を調節するための閉止可能な開口部を有する必要はない。バリア４８は、処理領域から出る処理液の流れを縮小するのを支援する。
【０１０５】
さらなる実施形態では、流出領域４１の改変形態が実装されうる。１つの実施形態では
、例えば、デバイス４５が省略されてもよい。従って、処理液を除去するための２つのデバイスが流出領域に提供されてもよい。輸送方向に関してこれらのデバイスの少なくとも最後にはフローデバイスを有することができる。フローデバイスは少なくとも輸送面より上方に提供されてよい。
【０１０６】
さらなる実施形態では、液位差を設定するための１または複数の開口部を備えたバリアを有する、液体を除去するための複数のデバイスが提供されてもよい。バリアは、いずれの場合も、バリア４７に関して説明されたような設計を有することができる。１つの実施形態では、例えば流入領域または流出領域において、２つのデバイスがいずれの場合も液体を保持するための保持面を有する少なくとも１つのロールを備えて提供されてもよく、該保持面は前記保持面を過ぎて誘導される被処理材料とともにギャップを形成し、輸送面より下方のいずれのデバイスにおいてもバリア４７に関して説明されたような１または複数の開口部を備えたバリアが提供されている。上記デバイスの両方から輸送方向に間隔を置いて、デバイス４４に相当する設計を有するさらなるデバイスが提供されてもよい。このようにして、例えば、流入領域または流出領域において、処理領域に比べてより低い液位の処理液を備えた少なくとも２つの領域が形成されうる。
【０１０７】
いずれ場合の液体を除去するためのデバイス４３〜４５においても、ロールは輸送面より上方および下方の両方に提供されて、前記ロールを過ぎて誘導される被処理材料とともにギャップを形成するが、さらなる実施形態では、液体を除去するためのデバイスはそれぞれ、保持面が輸送面より上方に提供されたロール上にのみ提供されて、該保持面と前記ロールを過ぎて誘導される被処理材料との間にギャップを残すように、構成されてもよい。輸送面より下方に提供されるロールは、該ロールの軸線方向に一定の直径を有していてもよい。
【０１０８】
１つの実施形態では、フローデバイス５４、５６のうち一方が輸送要素に置き換えられてもよい。該輸送要素は、被処理材料を支持かつ／または輸送するために設計されていてよい。該輸送要素は、例えば、ロールまたはホイールの車軸として構成されてもよい。別例として、または追加として、フローデバイス５８、６０のうち一方が輸送要素に置き換えられてもよい。該輸送要素は、被処理材料を支持かつ／または輸送するために設計されていてよい。該輸送要素は、例えば、ロールまたはホイールの車軸として構成されてもよい。
【０１０９】
１つの実施形態では、輸送面より下方に提供されるフローデバイス５６、６０のうち一方は、フローデバイス５６、６０によって生じる流体流３３が流出領域４１において輸送方向に向かう速度成分を有するように、構成されてもよい。
【０１１０】
図５は、処理ステーションの流出領域８１の概略側面図である。そのような流出領域８１は、図９の処理ステーション２００の、内部容器２０１の一端であって被処理材料が内部容器２０１から出る端部に提供されてもよい。流出領域では、被処理材料１０は、処理液２１が被処理材料を浸漬させるような高い液位で貯留されている処理領域８２から、輸送方向２０へとさらに輸送される。機能または設計のうち少なくともいずれか一方が流出領域４１の要素またはデバイスに相当する、流出領域８１の要素またはデバイスは、同じ参照数字で提示されており、改めて詳細には説明されない。
【０１１１】
個別の処理ステーションでは、処理領域８２において比較的高い液位９１を設定することが望ましい場合もある。処理領域８２の液位９１は、例えば、輸送面より少なくとも１５ｍｍ上方に配置されてもよい。
【０１１２】
流出領域８１には、処理液を除去または離隔するための複数のデバイス８３、４４およ
び４５が提供されている。デバイス８３は、間を被処理材料１０が通過せしめられるように配置構成されたロール８４、８５を含んでなる。デバイス８３のロール８４、８５の少なくとも一方に、処理液を保持するためのギャップを形成する保持面が形成されて、被処理材料がロール８４、８５を通過する時に保持面と前記保持面に向かい合う被処理材料１０の表面との間にギャップが形成されるようになっていてもよい。特に、ロール８４、８５のうち少なくとも一方は、被処理材料１０を輸送するための隆起エッジ領域と、該エッジ領域の間に設けられたオフセット保持面とを有することができる。ロール８４、８５の対は、例えば、図１および２に関して説明されたデバイス１として構成されてもよい。
【０１１３】
処理液が高い液位９１まで貯留するのを可能にするために、デバイス８３はロール８４の上方にさらなる保持要素８６を有する。このさらなる保持要素８６は、貯留される液体の側壁として作用することによって、処理領域８２の高い液位をともなって、処理液の貯留に寄与するように設計される。このさらなる保持要素８６は、ロール８４、８６がかたく閉止されてロール８４と８６との間の液体のわずかな通過のみを可能にするかまたは液体の通過を許さないように、例えばロール８４に対して補完的な様式に構成されたロールとして構成されてもよい。さらなる要素８６の他の実施形態は、例えば、直立した形態であることも可能である。
【０１１４】
処理領域８２の液位９１と、該領域に対してデバイス８３の反対側に隣接する領域の液位９２との間の処理液の液位差９７が、デバイス８３によって設定かつ維持されるように、デバイス８３が設計されている。輸送方向に関してデバイス８３の下流に配置構成されたデバイス４４は、被処理材料１０がデバイス４４を通過する時にこの被処理材料からさらなる処理液を除去する。被処理材料１０がデバイス４４のロール対を通り抜けてしまうと、液位９２の代わりに、より少量の処理液９３のみが被処理材料１０上に見出される。デバイス４４を通過した後もさらに必要であれば、輸送方向に関してデバイス４４の下流に配置構成されたデバイス４５が被処理材料１０からさらに処理液を除去してもよい。
【０１１５】
液位差９７を設定するために、閉止可能な開口部６１がバリア４７に提供される。処理領域８２に隣接する領域における液位９２は、流出入する処理液の流れの平衡を保つことにより決定される。これらの流れ、ひいては液位９２の設定を可能にするために、１つ以上の開口部９６、例えば閉止可能な穴がバリア４７と４８との間の底部４６に提供されてもよい。バリア４７に開く開口部６１、および底部４６に開く開口部９６の適切な選択によって、処理領域８２に隣接する領域における所望の液位９２の基本設定が選択可能である。加えて、処理ステーションを側面にそって画成する要素の上に、例えば、デバイス８３および４４のロールを支持するために提供される軸受レシーバの上に、溢流バリアが提供されてもよい。余計に流入した分の液体は溢流バリアを介して放出可能である。
【０１１６】
処理領域８２から流出する処理液の流れの平衡を保つために、処理液の流れ９５がポンプ９４によって処理領域８２の中に運搬される。
図４および５を参照して処理ステーションの流出領域の実施形態について記載してきたが、処理液を除去または離隔するためのデバイスは、処理ステーションの流入領域にも適宜提供されうる。特に、流入領域では、被処理材料が処理ステーション内の流入領域に供給される前に処理液が前記被処理材料の上を流れるのを防止するために、複数のデバイスが、処理液を除去または離隔するために、輸送方向に互いに間隔を置いて配置されて提供されてもよい。
【０１１７】
ギャップを形成する保持面の設計は、個別の応用分野に応じて適切な方法で選択可能である。
図６は、さらなる実施形態による処理液を除去または離隔するためのデバイス１０１の概略正面図である。
【０１１８】
デバイス１０１はロール１０２およびさらなるロール１０３を含んでなる。ロール１０２およびさらなるロール１０３は、被処理材料１０がロール１０２とロール１０３との間を輸送されるように配置構成される。ロール１０２の周囲表面は処理液を保持するために構成された保持面１０４を有する。保持面１０４を備えたロール１０２は、被処理材料１０がロール１０２を通過する時にロール１０２の保持面１０４と前記保持面に向かい合う被処理材料１０の表面との間にギャップ８が残るように、構成される。ロール１０２の軸方向端部１０５は、被処理材料１０がその長手方向に伸びるエッジ部において固定レールにより保持される場合に前記被処理材料を輸送するための輸送部分として作用するために、保持面１０４を画成するロール１０２の中央部分よりも小さな直径を備えて構成されている。
【０１１９】
さらなるロール１０３の周囲表面は処理液を保持するために構成されたさらなる保持面１０６を有する。さらなる保持面１０６を備えたさらなるロール１０３は、被処理材料１０がさらなるロール１０３を通過する時にさらなるロール１０３のさらなる保持面１０６とこのロールに向かい合う被処理材料１０の表面との間にギャップ１８が残るように、設計される。さらなるロール１０３の軸方向端部１０７は、被処理材料１０がその長手方向に伸びるエッジ部において固定レールにより保持される場合に、前記被処理材料を輸送するための輸送部分として作用するために、さらなる保持面１０６を画成するさらなるロール１０３の中央部分よりも小さな直径を備えて構成されている。
【０１２０】
被処理材料１０の長手方向に伸びるエッジ部においては、被処理材料１０を輸送するために被処理材料を保持する固定レール１０８、１０９が提供される。そのような固定レール１０８、１０９は、特に、低い固有剛性を有する被処理材料の輸送のために、該被処理材料に付加的な安定性を与えるために使用されうる。デバイス１０１のロール１０２およびさらなるロール１０３は、より小さな直径を備えた該ロールの軸方向端部１０５、１０７が、固定レール１０８、１０９に接して支持するようになるように設計される。ロール１０２およびさらなるロール１０３を回転させることによって、被処理材料１０は、さらに固定レール１０８、１０９を介して輸送されうる。
【０１２１】
デバイス１０１では、ロール１０２、１０３の保持面１０４、１０６はロール１０２、１０３の軸方向端部に提供された輸送部分に対してオフセットされて、被処理材料１０が保持面１０４、１０６を通過する時に保持面１０４、１０６と前記保持面に向かい合う被処理材料１０の表面との間に所望の最小ギャップ高を備えてギャップ８、１８が形成されるようになっている。
【０１２２】
デバイス１０１では、ロール１０２、１０３は被処理材料１０と直接接触しない。被処理材料１０の輸送は、輸送部分１０５、１０７を被処理材料１０が保持される固定レール１０８、１０９と連結することによって行なわれる。
【０１２３】
デバイス１０１の改変形態では、ロール１０２、１０３は、被処理材料１０を輸送するために、該ロールが被処理材料１０と固定レール１０８、１０９に隣接するエッジ領域において接触するように構成されてもよい。この目的のために、ロール１０２、１０３において、固定レール１０８、１０９に隣接して被処理材料と接触する隆起した輸送部分が提供されてもよい。ロール１０２、１０３はさらに、ロール１０２、１０３と固定レール１０８、１０９との間に液体を排出するためのギャップも形成されるように設計可能である。この目的のために、固定レールから液体を搾出するための、ロールの輸送部分に対して相応に凹設された凹部または溝が、ロール１０２、１０３に提供されてもよい。ロールと固定レールとの間に形成されるギャップは、１ｍｍ未満、特に０．７ｍｍ未満、特に０．５ｍｍ未満となりうる最小ギャップ高を有することができる。ロールと固定レールとの間
に形成されるギャップは、少なくとも０．０５ｍｍ、特に少なくとも０．０７ｍｍ、特に少なくとも０．０９ｍｍとなりうる最小ギャップ高を有することができる。
【０１２４】
固定された被処理材料から液体を搾出するためのデバイス１０１は、フローデバイスをさらに含んでなることができる。フローデバイスは、図３に関して説明されたように構成されうる。フローデバイスは、特に、フローデバイスから放出された流体流も固定レールから処理液を除去するように設計可能である。
【０１２５】
固定レール１０８、１０９に、液体が輸送方向に対して横方向に固定レールを通過するのを可能にする貫通穴が提供されてもよい。
ロール１０２、１０３は、長手方向に伸びるエッジ部のうち少なくとも一方に提供される固定レール１０８、１０９に対し、輸送面上にありかつ輸送方向に対して横方向に方向づけられた力成分を備えた力を加えるように設計されうる。この力は、反対側の長手方向に伸びるエッジ部に提供される固定レール１０８、１０９が、輸送方向に対して横方向に被処理材料１０を挟持するために離間されうるように、方向づけられてよい。この目的のために、例えば、被処理材料の少なくとも一方の長手方向に伸びるエッジ部の上の固定レール１０８または１０９のうち少なくともいずれか一方は、１つ以上の磁石、特に永久磁石を有していてもよい。輸送面より上方に提供されるロール１０２または輸送面より下方に提供されるロール１０３のうち少なくともいずれか一方は、固定レールに電磁力を与えるために、磁石または複数の磁石を有していてもよい。この力は、固定レールが被処理材料１０の向かい合う長手方向に伸びるエッジ部において弾性的に離間せしめられるように方向づけられてもよい。
【０１２６】
図７は、さらなる実施形態による処理液を除去または離隔するためのデバイス１１１の概略側面図である。デバイス１１１では、保持面は回転自在に載置されたロール上には提供されていない。
【０１２７】
デバイス１１１は、被処理材料１０を処理するためのアセンブリにおいてインサートとして使用可能な２つのほぼ立方形の要素１１２、１１３を含んでなる。インサート１１２は輸送面より上方に配置構成され、インサート１１３は輸送面より方に配置構成される。インサート１１２、１１３の表面は、処理液を保持する保持面としての役割を果たす。
【０１２８】
デバイス１１１のインサート１１２、１１３は、被処理材料１０の上部表面とインサート１１２の前記上部表面に面している側面１１４との間に、被処理材料１０がデバイス１１１を過ぎて誘導される場合にギャップ１１５が残るように、かつ、被処理材料１０の下部表面とインサート１１３の前記下部表面に面している側面１１７との間に、被処理材料１０がデバイス１１１を過ぎて誘導される時にギャップ１１８が残るように、被処理材料１０の輸送路に関して配置構成される。インサート１１２の側面１１４およびインサート１１７の側面１１７は、ギャップ１１５および１１８が一定のギャップ高を備えて輸送方向に伸びるように、平らな設計を有することができる。
【０１２９】
デバイス１１１のインサート１１２、１１３は、輸送方向２０とは反対側に開口している、インサート１１２、１１３上の面取り部１１６、１１９によって形成される流入領域を有する。そのような流入領域は、例えば、低い固有剛性を有する被処理材料、例えばフィルムを誘導するために使用されうる。
【０１３０】
インサート１１２、１１３を含んでなるデバイス１１１は、被処理材料１０の湿式化学処理のためのアセンブリにおいて処理液２１を貯留するために使用されてもよい。インサートの第１の側（図７において左）に配置構成された、処理液２１が液位１２１まで貯留された処理領域から、被処理材料１０がインサート１１２、１１３を過ぎて誘導される場
合、より少ない深さ１２２の処理液の層が被処理材料１０の上に残る。
【０１３１】
インサート１１２、１１３は、デバイス１１１が使用されるアセンブリの構造条件に従って適切な方法で構成されうる。例えば、インサート１１２、１１３は、ギャップ１１５、１１８が輸送方向２０にできる限り長いように設計されてもよい。
【０１３２】
インサート１１２、１１３は、湿式化学処理のためのアセンブリにおいて回転に関して固定して載置されてもよい。アセンブリにおけるインサート１１２、１１３は、特に、輸送方向において固定される状態で取り付けられてもよい。インサート１１２、１１３は、該インサートが互いに対して鉛直方向に移動可能なように取り付けられてもよい。
【０１３３】
デバイス１１１の改変形態では、立方形のインサートが輸送面より上方に提供される一方で、輸送面より下方には被処理材料を輸送するためにロールが提供される。立方形のインサートは、例えば、デバイス１１１のインサート１１２と同じ設計を有していてよい。
【０１３４】
図８は、流入領域に１対のロール１３２、１３３が提供され、流出領域にさらなる対のロール１３４、１３５が提供されている、処理ステーション１３１の概略側面図である。流入領域のロール１３２は輸送面より上方に配置構成され、流入領域のロール１３３は被処理材料１０の輸送面より下方に配置構成されている。流出領域のロール１３４は輸送面より上方に配置構成され、流出領域のロール１３５は被処理材料１０の輸送面より下方に配置構成されている。該ロール対により、処理ステーション１３１の処理液２１は液位１３６レベルまで貯留されている。
【０１３５】
ロール１３２〜１３５はそれぞれ、その軸方向端部に、被処理材料の輸送のための、隆起部分５、１５の形態の輸送部分を有する。該端部に提供される輸送部分の間に、より直径の小さい保持面４、１４が形成される。図１および２に関して説明されたように、ロールの保持面４、１４は、ロールを過ぎて誘導される被処理材料とともに、被処理材料の横幅方向に広がるギャップを形成する。
【０１３６】
輸送面より上方に提供されるロール１３２の輸送部分５と、該輸送部分の間に配置構成された保持面４とが同じ方向に回転するように、流入領域のロール１３２の異なる部分は回転自在に駆動される。輸送面より下方に提供されるロール１３３の輸送部分１５と、該輸送部分の間に配置構成された保持面１４とが同じ方向に回転するように、流入領域のロール１３３の異なる部分は回転自在に駆動される。輸送面より上方に提供されるロール１３２の輸送部分５の回転方向１４１は、被処理材料１０を輸送方向２０に輸送するために、被処理材料１０との接点において輸送部分５が輸送方向２０に動くように、選択される。輸送面より下方に提供されるロール１３３の輸送部分１５の回転方向１４３は、被処理材料１０を輸送方向２０に輸送するために、被処理材料１０との接点において輸送部分１５が輸送方向２０に動くように、選択される。輸送面より上方に提供されるロール１３２の保持面４は、ロール１３２の輸送部分５と同じ方向に回転方向１４２に回転されて、その結果、保持面４の、被処理材料１０に直接に面する部分が、より液位の高い方向（図８においては右側）に移動するようになっている。同様に、輸送機より下方に提供されるロール１３３の保持面１４は、輸送部分１５と同じ方向に回転方向１４４に回転されて、その結果、保持面１４の、被処理材料１０に直接に面する部分が、より液位の高い方向（図８においては右側）に移動するようになっている。
【０１３７】
ロール１３２、１３３の適切な設計によって、十分に高い液位１３６が貯留されうる一方、液位の高い領域に向かって保持面４が移動することにより、ロール１３２、１３３の保持面４の上に形成されたギャップを通る液体の通過が十分に低減されうる。この目的のために、ロール１３２、１３３は、保持面４、１４と該保持面に向かい合う被処理材料１
０の表面との間に、０．３ｍｍ未満、例えばおよそ０．１ｍｍの最小ギャップ高を備えてギャップが形成されるように、設計されてもよい。例えば、輸送部分は、保持面に対して０．３ｍｍ未満、例えばおよそ０．１ｍｍだけ高くなっていてもよい。
【０１３８】
流出領域では、ロール１３４、１３５の輸送部分５、１５は回転方向１４５、１４７に向かって回転して、輸送部分５、１５が被処理材料１０との接点において輸送方向２０に動くようになっている。
【０１３９】
流出領域のロール１３４、１３５を用いて流出領域に形成されたギャップを通る液体の通過を低減するために、輸送面より上方に提供されるロール１３４は、ロール１３４の保持面４がロール１３４の輸送部分５に対して回転されうるように、構成されてよい。同様に、輸送面より下方に提供されるロール１３５は、ロール１３５の保持面１４がロール１３５の輸送部分１５に対して回転されうるように、構成されてよい。流出領域では、輸送面より上方に提供されるロール１３４の保持面４は、このロール１３４の輸送部分５の回転方向１４５に対して反対方向である回転方向１４６に回転されうる。輸送面より下方に提供されるロール１３５の保持面１４は、このロール１３５の輸送部分１５の回転方向１４７に反対の回転方向１４８に回転されうる。このように、保持面４、１４は、輸送面より上方に提供されるロール１３４の保持面４の被処理材料１０に直接面する部分が、より液位の高い方向（図８では左側）に動くように、流出領域において回転してもよい。同様に、ロール１３５の保持面１４は、ロール１３５の保持面１４の被処理材料１０に直接面する部分が、より液位の高い方向（図８では左側）に動くように、輸送部分１５に反対の方向に回転されてもよい。
【０１４０】
さらに、流出領域内のロール１３４、１３５は、保持面４、１４と該保持面に向かい合う被処理材料１０の表面との間に０．３ｍｍ未満、例えばおよそ０．１ｍｍの最小ギャップ高を備えてギャップが形成されるように、設計されてもよい。例えば、輸送部分は、保持面に対して０．３ｍｍ未満、例えばおよそ０．１ｍｍだけ高くなっていてよい。
【０１４１】
別例または追加として、それぞれの場合に、図３に関して説明されるようにして流体流によりギャップを通って出て来る処理液を除去するために、処理ステーション１３１の流入領域または流出領域のうち少なくともいずれか一方に１または複数のブロー装置が提供されてもよい。
【０１４２】
ロール対の適切な設計により、流入領域または流出領域のうち少なくともいずれか一方において、被処理材料の輸送の際に残るギャップを通る液体の流出を低減し、その結果として処理ステーションの流入領域または流出領域のうち少なくともいずれか一方には処理液を吹き飛ばすためのフローデバイスは提供されないようにすることが可能である。
【０１４３】
流入領域または流出領域のうち少なくともいずれか一方において、それぞれの場合に、図４および５に関して説明されるようにして処理液を除去または離隔するための複数のデバイスが提供されてもよい。
【０１４４】
様々な実施形態によるデバイスおよび方法により、被処理材料の湿式化学処理のためのアセンブリにおいて、ニップロールと被処理材料の有用領域との間の直接接触を低減または回避させることを可能にしながら、被処理材料から処理液を除去または離隔することが可能となる。
【０１４５】
図面に示され、かつ詳細に記載された実施形態の数多くの改変形態は、他の実施形態において実装されてもよい。
様々な実施形態において、被処理材料に対して横方向にほぼ同じ高さで被処理材料の横
幅方向に伸びる保持面が記載されてきたが、ギャップを形成する保持面は、ギャップの断面、特にギャップ高が被処理材料の横幅方向に変化するように構成されてもよい。例えば、被処理材料の横幅方向における保持面は、被処理材料の横幅方向における位置に依存して形成されるギャップがエッジ部よりも被処理材料の中央においてより高くなるように、凹面であってもよい。
【０１４６】
様々な実施形態が、特に、被処理材料が連続的に水平の輸送面において輸送される処理アセンブリにおいて使用されうる一方、被処理材料が鉛直の輸送面において輸送されるアセンブリにおいても実施形態が使用されうる。例えば、被処理材料が鉛直の輸送面において輸送される場合にも、ギャップを形成する保持面およびフローデバイスの組み合わせを液体の貯留のために使用可能である。
【０１４７】
処理ステーションの流入領域または流出領域のうち少なくともいずれか一方において処理液を除去または離隔するためのデバイスの使用について、実施形態に即して記載してきたが、そのようなデバイスは、例えば物質のやりとりの改善のために、液体を取り換えるために処理ユニットの内部において使用されてもよい。
【０１４８】
様々な実施形態によるデバイスおよび方法は、例えば、プリント回路基板のような回路基板の製造において使用可能であるが、その使用はこれに限定はされない。
【符号の説明】
【０１４９】
１…処理液を除去するためのデバイス、２…ロール、３…さらなるロール、４…保持面、５，６…隆起エッジ部分、７…シャフト、８…ギャップ、９…最小ギャップ高、１０…被処理材料、１１…有用領域、１２…エッジ領域、１４…さらなる保持面、１５，１６…隆起エッジ部分、１７…シャフト、１８…さらなるギャップ、１９…最小ギャップ高、２０…輸送方向、２１…処理液、２２…液位、２３…処理液、２４…液位、２５，２６…回転方向、３１…処理液を除去するためのデバイス、３２…フローデバイス、３３…流体流、３４…処理液、４１…流出領域、４２…処理領域、４３，４４，４５…処理液を除去するためのデバイス、４６…底部、４７，４８…バリア、５１，５２…ロール、５３，５５…ロール、５４，５６…フローデバイス、５７，５９…ロール、５８，６０…フローデバイス、６１…開口部、７１，７２…液位、７３…処理液、７４…液位差、８１…流出領域、８２…処理領域、８３…処理液を除去するためのデバイス、８４〜８６…ロール、９１，９２…液位、９３…処理液、９４…ポンプ、９５…液体流、９６…開口部、９７…液位差、１０１…処理液を除去するためのデバイス、１０２…ロール、１０３…さらなるロール、１０４…保持面、１０５…凹設されたエッジ部分、１０６…さらなる保持面、１０７…凹設されたエッジ部分、１０８，１０９…固定レール、１１１…処理液を除去するためのデバイス、１１２，１１３…インサート、１１４，１１７…側面、１１５，１１８…ギャップ、１１６，１１９…面取り部、１３１…処理ステーション、１３２〜１３５…ロール、１３６…液位、１４１〜１４８…回転方向、２００…処理ステーション、２０１…内部容器、２０２…外部容器、２０３…被処理材料、２０４…輸送方向、２０６，２０７…フローノズル、２０８…処理液、２０９…外部容器内の液位、２１０…ポンプ、２１１，２１２，２１４，２１６…輸送ロール対、２１３，２１５…ニップロール対。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平面的な被処理材料を処理するための方法およびアセンブリ、ならびに平面的な被処理材料から処理液を除去または離隔するためのデバイスに関する。特に、本発明は、１または複数の易損性表面を有する被処理材料の処理を可能にするような方法、アセンブリおよびデバイスに関する。本発明はさらに、被処理材料から液体が除去される時に被処理材料の有用領域と固定要素との間の接触が十分に回避されうるような方法、アセンブリおよびデバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
平面的な被処理材料を、例えば回路基板産業における回路基板を加工する場合、被処理材料は湿式化学プロセスのラインで処理されることが多い。プロセス薬品またはプロセス水のような処理液を除去するために、いわゆるニップロールが使用される場合がある。そのようなロールは、例えば、特許文献１に開示されるように、処理ステーションにおいて浸漬処理用の処理液を貯留するために使用されてもよい。
【０００３】
図９は、処理液の液位が被処理材料２０３の輸送面より高く、その結果被処理材料２０３が浸漬状態で輸送されうるようになっている、処理ステーション２００の概略図である。被処理材料２０３は処理ステーションを通って水平輸送方向２０４に輸送される。被処理材料を輸送するためにロール対２１１〜２１６が提供され、該ロール対は、前記被処理材料を輸送するために、被処理材料２０３の上方または下方のうち少なくともいずれか一方を向いている表面に接して支持するようになっている。処理液の漏れを回避するために内部容器２０１が設けられ、該容器内で処理液が上方液位まで貯留される（図示せず）。内部容器２０１は外部容器２０２によって包囲され、外部容器２０２が内部容器２０１から溢流する処理液を回収するようになっている。外部容器２０２に回収された、外部容器内で液位２０９を有する処理液２０８から、該処理液はポンプ２１０によって内部容器２０１に戻るように送り込まれる。処理液は、フローノズル２０６、２０７などを介して放出されて内部容器２０１に戻ることができる。
【０００４】
内部容器２０１に処理液を貯留するために、いわゆるニップロールの対２１３、２１５が内部容器２０１の流入領域および流出領域において使用される。ニップロール対２１３、２１５は、例えば、円筒状の周囲表面を有していてよい。対２１３のニップロール２１３ａ、２１３ｂおよびロール対２１５のニップロールが被処理材料２０３に接して支持する場合、処理液が通り抜けて内部容器２０１から漏出する可能性のある解放断面は限られている。ポンプ２１０の送達速度を相応に調節することによって、内部容器２０１の中の処理液の所望の液位が設定されうる。処理ステーションの流入領域または流出領域のロール対２１１、２１２、２１４および２１６のような追加のロール対も、ニップロールとしての役割を果たすことができる。
【０００５】
しかしながら、被処理材料２０３が１以上の易損性表面を有する場合、従来型ニップロールの幅全体にわたる、すなわち、被処理材料２０３の輸送方向２０４に対して横方向に全体に広がる、ニップロール対２１３、２１５と被処理材料２０３との間の直接接触は、被処理材料２０３の表面に損傷を与える可能性がある。被処理材料２０３の表面への損傷は、例えば、表面圧またはニップロール２１３、２１５の表面に付着している粒子状物質および表面の凹凸によって、引き起こされる可能性がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】ドイツ連邦共和国公開特許第４３ ３７ ９８８ Ａ１号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、平面的な被処理材料を処理するための方法およびアセンブリ、ならびに平面的な被処理材料を処理するためのアセンブリ用の処理液を除去または離隔するためのデバイスであって、被処理材料の易損性表面を損傷するリスクが低減されうる方法およびアセンブリならびにデバイスを提供することである。本発明の目的はさらに、回路基板を製造する方法であって、回路基板の易損性表面領域を損傷するリスクが低減されうる方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明によれば、この目的は、独立請求項に示されるような、平面的な被処理材料を処理するための方法およびアセンブリ、ならびに処理液を除去または離隔するためのデバイスによって達成される。従属請求項は、本発明の好適かつ有利な実施形態を定義する。
【０００９】
被処理材料を湿式化学処理するためのアセンブリ内を輸送路に沿って輸送される、平面的な被処理材料を処理する方法は、該アセンブリ内で被処理材料が供される処理液を保持するために、保持面が提供されることを提供する。保持面は、被処理材料が該保持面を通過せしめられる時に保持面と被処理材料の表面との間にギャップが残るように、輸送路上に配置される。
【００１０】
その設計および配置構成により、液体の流れを少なくとも１つの方向に、特に被処理材料の輸送方向に制限することができる表面は、処理液を保持するための保持面として示される。保持面は液体の流れを完全に妨げる必要はなく、処理液の通過を、特に形成されたギャップを通り抜けるのを許容することができる。
【００１１】
被処理材料が保持面を通過せしめられる時に保持面と被処理材料の表面との間にギャップが残るように、保持面が配置されるので、被処理材料上のギャップが配置される部分は、保持面と接触しない。保持面は、特に、ギャップが被処理材料の有用領域に沿って伸びて、保持面が被処理材料の有用領域との接触に至らないように、設計可能である。
【００１２】
保持面は、該保持面が、被処理材料の向かい合うエッジ領域の間を間断なく伸びる被処理材料の有用領域と接触しないように、設計および配置構成されうる。保持面は、該保持面が被処理材料の有用領域全体から間隔をおいて配置されるように、設計および配置構成されうる。保持面は、被処理材料が保持面を通過せしめられる時に、一定方向のギャップが被処理材料の輸送方向に対して横方向に、被処理材料の有用領域全体の上を間断なく伸びるように、設計および配置構成されてもよい。
【００１３】
ギャップは最小ギャップ高を有することができる。保持面と、保持面を通過せしめられる被処理材料との間の最小離間距離が、最小ギャップ高として示される。保持面の少なくとも片側において、処理液はギャップの最小ギャップ高より高い液位まで貯留されうる。こうして被処理材料は、保持面の少なくとも片側において処理液に浸漬されて輸送されうる。保持面は、例えば被処理材料が保持面上において処理ステーションの流出領域を通過せしめられる場合に、被処理材料上の液位を低減すること、または被処理材料から処理液を除去することのうち少なくともいずれか一方を行うことができる。
【００１４】
最小ギャップ高は、１ｍｍ未満、特に０．７ｍｍ未満、特に０．５ｍｍであってよい。最小ギャップ高は、少なくとも０．０５ｍｍ、特に少なくとも０．０７ｍｍ、特に少なく
とも０．０９ｍｍであってよい。
【００１５】
ギャップを通り抜ける処理液は、流体流によって、例えば気体流によって吹き飛ばされて、被処理材料から除去されてもよい。ギャップを形成する保持面と処理液を吹き飛ばすこととの組み合わせによって、処理液がギャップを通り抜ける場合であっても処理液の除去が達成されうる。
【００１６】
保持面から間隔をおいて配置される第２の保持面が、ギャップを通り抜ける処理液を被処理材料から除去するために提供されてもよい。したがって、処理ステーションの流入領域または処理ステーションの流出領域において、保持面と第２の保持面との間では、処理液は、処理ステーションの作動領域における処理液の液位より低い液位まで貯留されうる。このようにして、カスケード方式の一連の液位が作られてもよい。
【００１７】
流体流によって処理液を除去するために、流体流は、被処理材料に向かうように方向づけられてもよい。前記流体流が、ギャップを通り抜けないように方向付けられてもよい。さらに、流体流がギャップを通り抜けないように、すなわち、例えば貯留された処理液の中に入らないように、流体流の体積流量または１以上の体積流量、流速および流れ方向が調節されてもよい。
【００１８】
処理液の除去のために使用される流体流は、被処理材料の輸送方向に対して横方向かつ輸送面と平行な向きの成分を有する方向に、被処理材料上を流れることができる。したがって処理液は、被処理材料から輸送方向に対して横方向に除去されうる。
【００１９】
保持面はロール上に形成されてよい。ロールは、被処理材料に沿って横幅方向に、すなわち被処理材料の輸送方向に対して横方向に、伸びていてよい。ロールは、該ロールの軸線が輸送面に対して平行に伸びるように配置構成されてよい。被処理材料が水平の輸送面で輸送される場合、ロールは該輸送面の上方または下方に提供されうる。ロールは、ロール表面が被処理材料の有用領域全体から間隔を置いて配置されるように、構成可能である。
【００２０】
ロールは、ロール表面の、片側にギャップを画成する部分が、被処理材料の輸送方向とは反対の方向に動くように、回転が設定されてもよい。このようにして、例えば、処理液の漏れが処理ステーションの流出領域においてさらに低減されうる。さらに、被処理材料の表面における物質のやりとりも改善されうる。
【００２１】
ロールによって、処理液が保持または貯留されうるだけでなく、被処理材料が輸送方向に輸送されてもよい。ロール上には、被処理材料を輸送するために、被処理材料に結合される少なくとも１つの輸送部分が提供されてもよい。保持面には、ギャップを形成するために、輸送部分に対するオフセットが提供されてよい。
【００２２】
輸送部分は被処理材料の輸送のために回転されうる。１つの実施形態では、輸送部分は、輸送部分および保持面の独立な回転を可能にするために、保持面に対して回転可能であってよい。
【００２３】
被処理材料の輸送方向においてギャップの相反する側に、処理液の液位差が設定されてもよい。処理液は、ギャップの両側において被処理材料上に存在してよい。例えば、被処理材料のための処理ステーションの流入領域または流出領域において、保持面上の処理液の液位は、処理領域において所望の液位を達成するように、段階的に変更されてもよい。
【００２４】
保持面は、処理液がギャップを通り抜けるのを低減または防止するために回転されても
よい。この目的のために、回転する保持面によって処理液が移動せしめられることにより処理液がギャップを通って流れるのを低減または防止するように、保持面が設計され、かつ保持面の回転速度が選択されてもよい。
【００２５】
被処理材料が処理液に浸漬されて処理ステーション内を輸送されるように、処理液は処理ステーションの保持面によって貯留されることができる。被処理材料の浸漬輸送は、特に、低い固有剛性を有する薄い被処理材料を処理するために使用されうる。
【００２６】
被処理材料は、フィルム状の材料、特にフィルム状の回路基板または導電箔であってよい。被処理材料は連続材であってもよい。
平面的な被処理材料を湿式化学処理するためのアセンブリ用の、被処理材料から処理液を除去または離隔するための本発明の１つの態様によって提供されるデバイスは、処理液を保持するための保持面を含んでなる。該デバイスは、デバイスが保持面と輸送路に沿って輸送される被処理材料の表面との間にギャップを形成するように、被処理材料の輸送路に対して配置構成されるように、設計される。
【００２７】
したがって、処理液の「除去」または「離隔」という用語は、デバイスが、処理液を完全に除去または離隔してしまうのではなく、処理液を少なくとも部分的に保持するように設計されるという意味で用いられる。
【００２８】
ギャップが保持面と被処理材料の表面との間に残るように配置されるようにデバイスが設計されるので、被処理材料上のギャップが形成される部分は保持面との接触には至らない。デバイスは、特に、ギャップが被処理材料の有用領域に沿って伸びて、保持面が被処理材料の有用領域とは接触しないように、設計されうる。
【００２９】
ギャップは最小ギャップ高を有することができる。保持面と、保持面を通過せしめられる被処理材料との間の最小離間距離が、「最小ギャップ高」として示される。デバイスは、少なくとも保持面の片側においては処理液がギャップの最小ギャップ高より高い液位まで貯留されうるように、設計可能である。したがって被処理材料は、保持面のその側において処理液に浸漬されて輸送されうる。
【００３０】
最小ギャップ高は、１ｍｍ未満、特に０．７ｍｍ未満、特に０．５ｍｍ未満であってよい。最小ギャップ高は、少なくとも０．０５ｍｍ、特に少なくとも０．０７ｍｍ、特に少なくとも０．０９ｍｍであってよい。
【００３１】
デバイスは、被処理材料から処理液を除去するために被処理材料上に流体流を流れさせるように設計された、保持面から間隔を置いて配置されたフローデバイスを含んでなることができる。フローデバイスによって、ギャップを通り抜けて出て来る処理液が除去されうる。
【００３２】
フローデバイスは、輸送面に対して平行かつ被処理材料の輸送方向に対して横方向に方向付けられた速度成分を備えた流体流を生じるように設計されうる。そのようにして設計されたフローデバイスによって、処理液は、輸送方向に対して横方向に被処理材料から除去されうる。
【００３３】
フローデバイスは、流体流がギャップを通り抜けないように設計かつ配置構成されうる。この目的のために、流体流の、体積流量または１以上の体積流量、流速および流れ方向は、流体流がギャップを通り抜けて貯留された処理液の中に達しないように、適切な方式で設計されうる。このように、例えば貯留された処理液中における泡の形成が、流体流によって低減または防止されうる。
【００３４】
デバイスはさらなる保持面を含んでなり、被処理材料の輸送路に対して、該デバイスがさらなる保持面と輸送路に沿って輸送される被処理材料のさらなる表面との間にさらなるギャップを形成するように、配置構成されるように設計されうる。保持面およびさらなる保持面は、例えば、被処理材料の両表面から液体を除去するために、該表面と向かい合うことができる。保持面およびさらなる保持面は、ロール対の両ロールであってその間を被処理材料が輸送されるロール上に提供されてもよい。
【００３５】
デバイスは、処理液がギャップを通り抜けることができるように設計されてもよい。少流量の処理液がギャップを通過することが許容される場合、特に、処理液の通過を完全に防止する手段は省略可能である。
【００３６】
保持面はデバイスの回転自在に載置されたロール上に形成されてもよい。ロールは、ロール表面が被処理材料の有用領域全体から間隔を置いて配置されるように構成可能である。
【００３７】
デバイスは、ロール表面の一部であって片側にギャップを画成する部分が、被処理材料の輸送方向とは反対の方向に動くように、ロールの回転を設定するように設計された駆動デバイスを含んでなることもできる。この方法では、例えば、処理ステーションの流出領域において、処理液の漏れがさらに低減されうる。さらに、被処理材料の表面上における物質のやりとりも改善されうる。
【００３８】
ロールは、保持面によって処理液を保持するためだけでなく被処理材料を輸送するためにも使用されうるように、設計可能である。この目的のために、被処理材料を輸送するために被処理材料と結合されるように構成された、少なくとも１つの輸送部分がロール上に提供されてもよい。ロール上において、被処理材料を輸送するために２つの輸送部分が提供されて、この少なくとも２つの部分の間に保持面が配置構成されてもよい。例えば、輸送部分がロールの軸方向エッジ部分に提供され、保持面がこの軸方向エッジ部分の間を伸びてもよい。保持面は、少なくとも１つの輸送部分かつ／または少なくとも２つの輸送部分に対してオフセットされた表面として構成されうる。
【００３９】
ロールは、被処理材料に沿って横幅方向に、すなわち被処理材料の輸送方向に対して横方向に伸びるように設計されうる。被処理材料が水平の輸送面上を輸送される場合、ロールは輸送面の上方または下方に提供されるように設計されうる。
【００４０】
デバイスは、例えば鉛直方向に調節可能な軸受を提供することにより、ロールが被処理材料の輸送面に対して垂直に調節可能であるように構成可能である。そのように構成されたデバイスでは、ギャップ、特に最小ギャップ高の幾何学的配置を調節可能である。
【００４１】
少なくとも１つの輸送部分かつ／または少なくとも２つの輸送部分は、保持面に関して回転可能である。デバイスは、１または複数の輸送部分の回転駆動機構およびそれとは独立した保持面の回転駆動機構に合わせて設計されうる。
【００４２】
さらなる実施形態では、デバイスは、保持面が形成される立方形の要素を含んでなることができる。
デバイスは、１つの特徴または実施形態に従って被処理材料を処理する方法において使用されるように設計可能である。
【００４３】
平面的な被処理材料を処理するための本発明の１つの態様によって提供されるアセンブリは、被処理材料から処理液を除去または離隔するための、本発明の特徴または実施形態
によるデバイスとして設計されたデバイスを含んでなる。
【００４４】
該アセンブリは複数のそのようなデバイスを含んでなることができる。例えば、少なくとも２つのデバイスが、被処理材料から処理液を除去するために、被処理材料の輸送方向に互いに間隔を置いて提供されてもよい。処理液を除去するために複数のそのようなデバイスを使用することによって、液体が、該デバイスによって形成されたギャップを通り抜ける場合でも、処理液をほとんど除去することが可能である。別例として、または追加として、被処理材料の輸送方向に互いに間隔を置いて配置された複数のデバイスが、処理ステーションにおいて処理液を貯留し、かつ処理ステーションからの処理液の漏れを低減するために、処理ステーションの流入領域に提供されてもよい。
【００４５】
アセンブリは、処理液が貯留されうる処理ステーションを含んでなることができる。処理ステーションの流入領域および処理ステーションの流出領域の両方において、被処理材料から処理液を除去または離隔するためのデバイスがそれぞれ提供されてもよい。該デバイスによって、処理液は処理ステーション内に貯留されうる。流入領域または流出領域のうち少なくともいずれか一方において、いずれの場合にも、処理液を除去または離隔するための少なくとも２つのデバイスが提供されてもよい。少なくとも２つのデバイスによって、処理液は複数の液位で貯留されうる。
【００４６】
アセンブリは、処理ステーションの流入領域内で輸送面より上方に提供されるデバイスの保持面、および処理ステーションの流出領域内で輸送面より上方に提供されるデバイスの保持面を、反対方向に回転させるように構成されうる。別例として、または追加として、アセンブリは、処理ステーションの流入領域内で輸送面より下方に提供されるデバイスの保持面、および処理ステーションの流出領域内で輸送面より下方に提供されるデバイスの保持面を、反対方向に回転させるように構成されうる。回転方向の適切な選択によって、流入領域内および流出領域内に提供されるデバイスのギャップを通る処理液の通過は低減または防止されうる。
【００４７】
さらなる態様によれば、回路基板を製造する方法が提供される。したがって、１つの特徴または実施形態による被処理材料を処理する方法によって処理された被処理材料から回路基板を製造することが提供される。例えば、プリント回路基板が該方法によって製造されてもよい。
【００４８】
本発明の実施形態により、被処理材料を湿式化学処理するためのアセンブリにおいて被処理材料から処理液を除去または離隔することが可能となる。したがって、処理液を保持するための保持面が、被処理材料の有用領域から間隔を置いて配置構成されて、有用領域が固定要素と直接接触するのを低減または回避するためにギャップが形成されるようになっていてもよい。
【００４９】
本発明の実施形態は、特に、易損性表面を備えた平面的な被処理材料が水平な輸送面またはほぼ水平な輸送面において輸送されるアセンブリにおいて、使用されうる。しかしながら、実施形態はこの応用分野に限定されない。
【００５０】
本発明は、好ましい実施形態または有利な実施形態を参照し、また添付の図面を参照することにより、本明細書中以降においてより詳細に説明される。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】実施形態による、処理液を除去または離隔するためのデバイスの概略正面図。
【図２】図１のデバイスの概略的な部分断面側面図。
【図３】さらなる実施形態による、処理液を除去するためのデバイスの概略的な部分断面側面図。
【図４】一実施形態による、処理液を除去するための複数のデバイスを備えた処理ステーションの一部分の概略的な部分断面側面図。
【図５】さらなる実施形態による、処理液を除去するための複数のデバイスを備えた処理ステーションの一部分の概略的な部分断面側面図。
【図６】さらなる実施形態による、処理液を除去または離隔するためのデバイスの概略正面図。
【図７】さらなる実施形態による、処理液を除去するためのデバイスの概略的な部分断面側面図。
【図８】流入領域および流出領域において実施形態による処理液を除去または離隔するためのデバイスを備えた処理ステーションの概略的な部分断面側面図。
【図９】ニップロール対を備えた処理ステーションの概略的な部分断面側面図。
【発明を実施するための形態】
【００５２】
被処理材料を指す方向情報または位置情報は、慣習に従って輸送方向に関して提示される。被処理材料の輸送が輸送方向に対して平行かつ／または非平行である場合に、輸送方向に対して輸送面において直角な方向である長手方向として示される方向は、被処理材料の横幅方向として示される。
【００５３】
被処理材料から処理液が離隔または除去されるデバイスおよび方法の実施形態が開示される。「処理液」という用語により、湿式化学処理のためのアセンブリにおいて被処理材料が供される可能性のある任意の液体、特にプロセス薬品、水などのようなリンス液が了解される。
【００５４】
実施形態は、被処理材料の処理であって該処理において被処理材料が水平の輸送面で輸送される処理のためのアセンブリとの関連において開示される。「輸送面より上方」または「輸送面より下方」、「上部表面」、「下部表面」、および処理液の高さまたは液位への言及などのような情報は、そうでないことが指摘されない限りは、そのまま鉛直方向ついて述べている。「水平な輸送面を輸送する」という語によって、特に、被処理材料の少なくとも３つの角部が水平な平面上に位置している被処理材料の輸送と了解されうる。これは、例えば低い固有剛性を有する被処理材料においては、輸送中の被処理材料の少なくとも個別の部分または個別の領域は輸送面の外側に位置するという事実を排除するものではない。
【００５５】
図１は、被処理材料１０から処理液を除去するためのデバイス１の概略正面図である。図２は、図１にＩＩ−ＩＩで示された方向に沿った、デバイス１の概略側面図である。この部分断面側面図の切断面は鉛直平面であり、被処理材料の有用領域が輸送される線に沿った輸送面と交差する。
【００５６】
デバイス１はロール２およびさらなるロール３を含んでなり、該ロールは、被処理材料１０がロール２とさらなるロール３との間を輸送されるように、被処理材料１０の輸送面の両側に配置構成されている。デバイス１は、例えば、図９の処理ステーション２００においてニップロール対２１３または２１５として使用されうる。
【００５７】
ロール２は、ロール２の周囲表面のオフセット部分として提供される、処理液のための保持面４を有する。ロール２は、被処理材料１０がロール２を通過して輸送される時に保持面４と被処理材料１０との間にギャップ８が残るように、被処理材料１０の輸送路に対して配置される。ロール２の周囲表面の保持面４を形成する部分は、ほぼ円筒状に構成されてよい。
【００５８】
さらなるロール３は、ロール３の周囲表面のオフセット部分として提供される、処理液のためのさらなる保持面１４を有する。さらなるロール３は、被処理材料１０がロール３を通過して輸送される時にさらなる保持面１４と被処理材料１０との間にギャップ１８が残るように、被処理材料１０の輸送路に対して配置される。ロール３の周囲表面のさらなる保持面１４を形成する部分は、ほぼ円筒状に構成されてよい。
【００５９】
ロール２およびさらなるロール３の配置構成および設計によって形成されるギャップ８、１８により、被処理材料１０の横幅方向の大部分にわたって伸びる、被処理材料１０の有用領域１１は、デバイス１の固定要素とは接触しない。有用領域１１における被処理材料１０の表面に損傷を与えるリスクは、このようにして低減可能である。
【００６０】
保持面４およびさらなる保持面１４の円筒形状により、ギャップ８、１８は、被処理材料１０の輸送方向２０において変化しうるギャップ高かつ／または空間高を有する。ギャップ８、１８の最小ギャップ高９、１９は、保持面４、１４の、それぞれのロール２および／または３に向かい合う被処理材料１０の表面から最短距離にある地点によって決まる。
【００６１】
ギャップ８、１８が処理液の通路を許容するとしても、処理液はデバイス１によって被処理材料１０から除去されうる。特に、ギャップ８、１８が最小ギャップ高９、１９へと先細りすることによって、デバイス１は、輸送方向２０にロール２の相対する２つの側において処理液の液位を可変的にすることができる、圧力の減少を引き起こすことができる。
【００６２】
図２は、ロール２の一方の側で液位２２まで貯留された処理液２１と、被処理材料１０がデバイス１を通過した後に残っている、より低い液位２４の処理液２３の層とを概略的に示している。デバイス１は、特に、処理液２１が保持面４およびさらなる保持面１４によって、保持面４の真上に、最小ギャップ高となる配置に相当するギャップ８、１８の下縁からそれぞれ計測されたギャップ８の最小ギャップ高９よりも、かつギャップ１８の最小ギャップ高１９よりも高い液位２２まで、ロール２、３の片側に（図２ではロール２、３の左側に）貯留されるように、設計可能である。
【００６３】
図３〜６に関連してより詳細に説明されるように、被処理材料１０が保持面４、１４を通過した後に被処理材料上に依然として残っている処理液２３は、適切な方法で、例えば被処理材料上に流体を流れさせることにより、除去可能である。
【００６４】
デバイス１のロール２、３は、被処理材料１０から液体を除去するためだけでなく被処理材料１０を輸送するためにも設計されうる。この目的のために、ロール２はその２つの軸方向端部に、被処理材料がロール２、３を通過せしめられる時に被処理材料１０のエッジ領域１２に接して支持するようになる隆起エッジ部分５、６を有することができる。隆起エッジ部分５、６は、被処理材料１０を輸送するために、回転駆動されうる。エッジ部分５、６の回転駆動機構のために、デバイス１を使用する場合に被処理材料１０のための処理アセンブリに回転自在に載地されるシャフト７が提供される。エッジ部分５、６を１つの回転方向２５に回転させることによって、被処理材料１０はさらに輸送されうる。従って、ロール３はその２つの軸方向端部に、被処理材料がロール２、３を通過せしめられる時に被処理材料１０のエッジ領域１２に接して支持するようになる隆起エッジ部分１５、１６を有することができる。隆起エッジ部分１５、１６は、被処理材料１０を輸送するために回転駆動されうる。エッジ部分１５、１６の回転駆動機構のために、デバイス１を使用する場合に被処理材料１０のための処理アセンブリに回転自在に載地されるシャフト１７が提供される。エッジ部分１５、１６を１つの回転方向２６に回転させることによっ
て、被処理材料１０はさらに輸送されうる。
【００６５】
エッジ部分５、６またはエッジ部分１５、１６のうち少なくともいずれか一方は、被処理材料１０を輸送するために、前記被処理材料とともに摩擦結合または確動結合のうち少なくともいずれか一方を形成することができる。例えば、エッジ部分５、６またはエッジ部分１５、１６のうち少なくともいずれか一方に、被処理材料１０を輸送するために被処理材料１０の対応する凹部に係合する突部が形成されてもよい。
【００６６】
ロール２では、隆起エッジ部分５、６は、被処理材料１０を輸送するために被処理材料１０に結合可能な輸送部分として作用する。保持面４はエッジ部分５、６に対してオフセットされる。エッジ部分５、６の、保持面４の半径と比較して隆起している、かつ／または大きい半径が、最小ギャップ高９を決定する。従って、ロール３では、隆起エッジ部分１５、１６は被処理材料１０を輸送するための被処理材料１０に結合可能な輸送部分として作用する。保持面１４はエッジ部分１５、１６に対してオフセットされる。エッジ部分１５、１６の、保持面１４の半径と比較して隆起している、かつ／または大きい半径が、最小ギャップ高１９を決定する。
【００６７】
エッジ部分および保持面の半径は所望の応用分野に適切であるように選択可能である。例えば、ロール２、３の保持面を形成する部分の半径は、輸送部分として使用されるロール２、３のエッジ部分の半径よりも、１ｍｍ未満、特に０．７ｍｍ未満、特に０．５ｍｍ未満だけ小さくてよい。ロール２、３の保持面を形成する部分の半径は、輸送部分として使用されるロール２、３のエッジ部分の半径よりも、少なくとも０．０５ｍｍ、特に少なくとも０．０７ｍｍ、特に少なくとも０．０９ｍｍだけ小さくてよい。
【００６８】
加えて、ロール２のシャフト７またはさらなるロール３のシャフト１７のうち少なくともいずれか一方が高さ調節可能な軸受を用いて載置されて、被処理材料１０の上部表面からのシャフト７の離間距離または被処理材料１０の下部表面からのシャフト１７の離間距離のうち少なくともいずれか一方が設定可能となっていてもよい。
【００６９】
ロール２およびさらなるロール３は、輸送部分としての役割を果たしているエッジ部分５、６または１５、１６のうち少なくともいずれか一方を回転させると、それぞれのロールの保持面４または１４のうち少なくともいずれか一方も、それぞれのロールの輸送部分と同じ方向に回転するように設計されてもよい。このように、保持面４および１４と、被処理材料１０の表面との間の相対的運動が低減されうる。
【００７０】
この目的のために、ロール２またはロール３のうち少なくともいずれか一方は、例えば、輸送部分および保持面の両方が、互いに対する回転という点で固定されてロールの表面上に構成されるように、設計されてもよい。しかしながら、別例として、輸送部分が、図８により詳細に説明されるように、保持面に対して回転可能なように提供されてもよい。
【００７１】
１つの実施形態では、輸送部分は保持面に対して回転可能なように提供されてよい。保持面の角速度は、輸送部分の角速度、輸送部分の半径、およびロールの保持面を成形している部分の半径に応じて選択可能である。保持面の角速度は、保持面上の周速度が被処理材料の輸送速度と同じであるように選択されてもよい。
【００７２】
デバイス１の複数の改変形態がさらなる実施形態で実施されうる。
例えば、デバイス１のロール２、３がその軸方向端部に隆起部分５、６、１５、１６を有する一方、ロール２またはさらなるロール３のうち少なくともいずれか一方に、２以上の隆起部分がさらに提供されてもよい。したがってこのさらなる隆起部分は、特に、該隆起部分が、被処理材料１０と、機械的接触が重要ではない表面領域上に接触するように、
ロール２またはさらなるロール３のうち少なくともいずれか一方の上に配置構成されうる。例えば、被処理材料１０の長手方向に伸びている被処理材料の表面領域が、ロール２またはさらなるロール３のうち少なくともいずれか一方のさらなる隆起部分によって支持されてもよい。被処理材料１０の有用領域１１は、被処理材料の、ロール２またはさらなるロール３の隆起部分とは接触しない表面領域によって画成されうる。さらなる隆起部分によって達成される追加の支持作用により、被処理材料１０の有用領域における望ましくない接触のリスクが低減されうる。
【００７３】
デバイス１では、被処理材料の表面とともにギャップを形成する保持面４、１４は輸送面の上方および下方の両方に提供されるが、さらなる実施形態によるデバイスでは保持面は片側のみに提供され、かつ被処理材料の表面とともにギャップを形成する。例えば、そのようなギャップを形成する保持面が、輸送面の上側のみ、または下側のみに配置構成されてもよい。反対側には、例えば、ほぼ一定の直径を有するロールが提供されてもよい。従って該ロールは、被処理材料の有用領域において被処理材料の表面と接触する可能性がある。反対側に提供される、ギャップを形成する保持面は、被処理材料の表面を損傷するリスクを低減するために、該表面に加わる力の低減をもたらしてもよい。
【００７４】
さらなる実施形態では、一定の、すなわちロールの軸線方向において変化しない直径を備えたロールの周囲表面も、被処理材料の表面との間にギャップを画成する保持面としての役割を果たすことができる。ギャップ、特に最小ギャップ高の設計は、輸送面に対して高さ調節が可能な軸受によって載置されているロールによって、調節可能であってもよい。さらに、２つのそのようなロールが被処理材料の上側面および下側面の液体を除去するために提供されて、対応するロールと被処理材料との間に形成されるギャップが残っていてもよい。
【００７５】
図３は、さらなる実施形態による、処理液を除去するためのデバイス３１の概略側面図である。デバイス３１は、例えば、図９の処理ステーション２００の流出領域においてニップロール対２１４、２１５、２１６の代わりに使用されうる。機能または設計のうち少なくともいずれか一方においてデバイス１の要素または装備に相当する、デバイス３１の要素または装備は、同じ参照数字で提示されており、重ねて詳細には説明されない。
【００７６】
デバイス３１は液体を保持するための保持面４を含んでなる。デバイス３１は、保持面４が該保持面と向かい合う被処理材料１０の表面とともに（図３では被処理材料１０の上部表面とともに）ギャップ８を形成するように、設計されている。保持面４は、例えば、回転自在に載置されたロール２の上に提供されうる。ロール２は、図１および２に関して後述されるように設計されうる。保持面４は、保持面４を通過して輸送される被処理材料１０から処理液を除去する。一実施形態のギャップ８は処理液の通過を許容するので、処理液３４は、被処理材料１０が保持面４を備えたロール２を通過した後も前記被処理材料上にまだ存在する可能性がある。
【００７７】
デバイス３１は、ノズル装置を備えたフローデバイス３２をさらに含んでなる。輸送方向においてフローデバイス３２は、ロール２およびロール２に提供された保持面４から間隔を置いて配置される。フローデバイス３２は、輸送方向に下流に、すなわち輸送方向において保持面４を備えたロール２の後に、配置構成される。フローデバイス３２は、ギャップ８を通り抜けた後に被処理材料１０の上に残っている処理液３４の一部を被処理材料１０から除去するために設計されている。フローデバイス３２は、特に、ギャップ８を通り抜けた後に被処理材料１０の上に残っている処理液３４の大部分を被処理材料１０から除去するために設計されていてもよい。
【００７８】
フローデバイス３２は、被処理材料１０から処理液３４を吹き飛ばすために、または流
体流３３によって他の方法で処理液を除去するために、流体流３３、特に気体流（例えば空気流）を放出することができる。流体流３３は、デバイス３１のギャップを形成する保持面４の方向に少なくとも１つの流れ成分（図３では、左に配向された成分）を有することができる。保持面４の上では、処理液は被処理材料の側方に流れることができる。
【００７９】
フローデバイスはさらに、流体流３３が、輸送面に対して平行かつ輸送方向２０に対して横方向、すなわち、保持面４が形成されるロール２の軸線方向と平行に方向付けられた流れ成分を有するように、設計されてもよい。このようにして、処理液３４は被処理材料１０から側方へと除去されうる。
【００８０】
フローデバイス３２は、被処理材料１０の上に、被処理材料１０の幅全体にわたって、すなわち、輸送方向に対して横方向に被処理材料１０の広がりを覆って伸びていてもよい。流体流３３の放出については、フローデバイス３２は１以上のノズル口を含んでなることができる。ノズル口は、例えば、フローデバイス３２の上に被処理材料１０の横幅方向に形成された一続きのスロット、複数のスロットまたは複数の穴として形成されうる。フローデバイス３２は、被処理材料１０の表面に対するノズル口の離間距離が、被処理材料の幅全体にわたってほぼ同じ寸法であるように設計されてよい。
【００８１】
フローデバイス３２は、輸送面に対して平行かつ輸送方向２０に対して横方向に方向づけられた直線状のチャネル本体を含んでなることができる。チャネル本体は、別例として、輸送面に対して平行かつ輸送方向２０に対して傾斜をなすように方向づけられてもよい。
【００８２】
１つの実施形態では、フローデバイス３２の形状は、被処理材料の横幅方向におけるフローデバイス３２の中央部分が、フローデバイス３２のエッジ部分よりも、ギャップを形成する保持面４に接近して配置構成されるような形状であってよい。例えば、フローデバイス３２は、輸送面に垂直な方向からの平面図で（すなわち、輸送面の上方から垂直に見た場合の図３において）、保持面４によって形成されたギャップ８へと向かう凸形状を有する形状を有していてもよい。例えば、該平面図におけるフローデバイス３２は、先端部が保持面４を指しているＶ字形状であってもよい。このように構成されたフローデバイスは、被処理材料のエッジ部に向かって処理液を効率良く運んで前記処理液を除去するために、被処理材料の一方のエッジ部の方向に速度成分を有する流体流を放出するように設計されている。
【００８３】
フローデバイス３２は、このように被処理材料上を流れる気体流、特に空気流を放出するように設計可能である。フローデバイス３２は、気体流３３の流出速度が少なくとも２ｍ／秒、特に少なくとも１０ｍ／秒、特に少なくとも３０ｍ／秒であるように設計可能である。
【００８４】
フローデバイス３２は、液体流を放出することによって被処理材料上を流れるように設計されてもよい。フローデバイス３２は、液体流３３の流出速度が少なくとも０．１ｍ／秒、特に少なくとも１ｍ／秒、特に少なくとも３ｍ／秒であるように設計可能である。
【００８５】
フローデバイス３２は、流体流３３の流出方向が被処理材料の表面に対して平行であるかまたは傾斜をなすことができるように設計されてもよい。特に、フローデバイス３２は、流体流がフローデバイス３２のノズル口からギャップ８の方向に、かつ／または輸送方向に対して横方向に出して、被処理材料１０の一方のエッジ部に向かって流れるように、構成されてもよい。別例として、流出方向は、被処理材料１０の表面に対して垂直に方向づけられてもよい。
【００８６】
フローデバイス３２は、流体流３３がギャップ８を通り抜けないように、すなわち、ギャップを形成している保持面４の反対側に貯留された処理液に入らないように、構成可能である。このようにして、流体流３３により処理液２１の中に泡が形成されることが回避または防止されうる。流体流３３がギャップ８を通過するのを回避するために、例えばフローデバイス３２からの流体流３３の体積流量または１以上の体積流量、流出速度、および／または流出方向を適宜設定可能である。
【００８７】
デバイス３１は、ギャップ８とフローデバイス３２の１または複数のノズル口との間の間隔または様々な間隔が、最大でも１００ｍｍおよび少なくとも１０ｍｍであるように、設計されうる。
【００８８】
図３に示されるように、デバイス３１は、さらなるロール３の上に形成されうる、輸送面より下方に配置構成されたさらなる保持面１４をさらに含んでなることもできる。
デバイス３１の複数の改変形態はさらなる実施形態において実装されうる。例えば、図３に関連して、フローデバイス３２が被処理材料１０の輸送方向に関してギャップを形成する保持面４を備えたロール２の下流に配置構成されている、処理液を除去するためのデバイス３１が説明されてきたが、処理液を離隔するためのデバイスは、フローデバイスが被処理材料の輸送方向においてギャップを形成する保持面の前かつ／または上流に配置構成されるように、設計されてもよい。このように形成されたデバイスは、特に、処理ステーションの流入領域において使用されうる。
【００８９】
さらなる実施形態による、処理液を除去または離隔するためのデバイスでは、別例または追加として、フローデバイスから放出される流体流３３により、被処理材料１０の下側から液体を吹き飛ばすために、またはその他の方法で被処理材料１０から液体を除去するために、輸送面より下方にフローデバイス３２が提供されてもよい。
【００９０】
フローデバイスが輸送面より下方に提供される場合、該フローデバイスは、フローデバイスによって生じる流体流が、輸送方向に対して平行な、ギャップを形成する保持面から離れるように方向付けられた速度成分を有するように、設計可能である。例えば、処理ステーションの流出領域に提供されるフローデバイスでは、フローデバイスによって生じる流体流は、輸送方向に方向付けられた速度成分を有することができる。
【００９１】
処理液を除去するためのフローデバイスが輸送面より上方に提供される場合、輸送要素が輸送面より下方の対応する位置に提供されてもよい。同様のやり方で、処理液を除去するためのフローデバイスが輸送面より下方に提供される場合、輸送要素が輸送面より上方の対応する位置に提供されてもよい。輸送要素およびフローデバイスは、輸送面の両側に、輸送方向に関して同じ位置に配置構成されるとよい。
【００９２】
輸送要素は、例えば、被処理材料の支持または輸送のうち少なくともいずれか一方を行うように設計可能である。輸送要素はロールとして構成されてもよい。ロールはオフセット保持面を有してもよいが、軸線方向にほぼ一定の直径を有してもよい。輸送要素は、複数のホイールが提供されるホイール車軸として形成されてもよい。ホイールは被処理材料を輸送するために被処理材料と接触するように設計されうる。
【００９３】
図４は、処理ステーションの流出領域４１の概略側面図である。このような流出領域４１は、図９の処理ステーション２００において、内部容器２０１の、被処理材料が処理ステーションを出る側の一端に提供されうる。流出領域では、被処理材料１０は、処理液２１が被処理材料を浸漬させるのに十分な高さに貯留されている処理領域４２から、輸送方向２０にさらに輸送される。
【００９４】
流出領域４１は、被処理材料１０から処理液を除去するための複数のデバイス４３、４４および４５を含んでなる。処理液を除去するためのデバイス４３、４４および４５は、被処理材料１０の輸送路に沿って並べられて、輸送方向２０に互いに間隔を置いて配置される。デバイス４３、４４および４５はそれぞれ保持面を有し、該保持面は、該保持面と該保持面に向かい合う被処理材料１０の表面との間にギャップが形成されるように、輸送面に関して配置構成される。
【００９５】
デバイス４３、４４および４５は、一実施形態によって処理液を除去するためのデバイスとして形成されてもよい。１つの実施形態では、デバイス４３は、被処理材料１０がその間を通過するように配置構成された１対のロール５１、５２を含んでなることができる。デバイス４３のロール５１、５２のうち少なくとも一方には、ギャップを形成する保持面が処理液を保持するために形成されて、被処理材料がロール５１、５２を通過する時に保持面と前記保持面に向かい合う被処理材料１０の表面との間にギャップが形成されるようになっていてもよい。特に、ロール５１、５２のうち少なくとも一方は、被処理材料１０を輸送するための隆起エッジ領域、およびその間に提供されたオフセット保持面を有することができる。デバイス４３は、例えば、図１および２に関して記載されたデバイス１のように構成されてもよい。
【００９６】
デバイス４４は、輸送面より上方に配置構成されたロール５３およびフローデバイス５４、ならびに輸送面より下方に配置構成されたロール５５およびフローデバイス５６を有することができる。デバイス４４のロール５３、５５のうち少なくとも一方には、処理液を保持するためのギャップを形成する保持面が形成されて、被処理材料１０がロール５３、５５を通過する時に保持面と前記保持面に向かい合う被処理材料の表面との間にギャップが形成されるようになっていてもよい。特に、図１および２に関して説明されるように、ロール５３、５５のうち少なくとも一方は、被処理材料１０を輸送するための隆起エッジ領域と、該エッジ領域の間に設けられたオフセット保持面とを有することができる。フローデバイス５４および５６は、被処理材料１０の上に残っている処理液を除去するために、被処理材料の上に流体流３３が、例えば空気流が流れるようにする。この目的のために、フローデバイス５４および５６によって放出される流体流３３は、該流体流が移動することによって被処理材料の一方のエッジ部の方向に処理液を除去するように、方向づけられてもよい。
【００９７】
デバイス４５は、輸送面より上方に配置構成されたロール５７およびフローデバイス５８、ならびに輸送面より下方に配置構成されたロール５９およびフローデバイス６０を有することができる。デバイス４５のロール５７、５９のうち少なくとも一方には、処理液を保持するためのギャップを形成する保持面が形成されて、被処理材料１０がロール５７、５９を通過する時に保持面と前記保持面に向かい合う被処理材料の表面との間にギャップが形成されるようになっていてもよい。特に、図１および２に関して説明されるように、ロール５７、５９のうち少なくとも一方は、被処理材料１０を輸送するための隆起エッジ領域と、該エッジ領域の間に設けられたオフセット保持面とを有することができる。フローデバイス５８および６０は、被処理材料１０の上に残っている処理液を除去するために、被処理材料の上に流体流３３が、例えば空気流が流れるようにする。この目的のために、フローデバイス５８および６０から放出される流体流３３は、該流体流が移動することによって被処理材料の一方のエッジ部の方向に処理液を除去するように、方向づけられてもよい。
【００９８】
被処理材料１０が連続して通り抜けるデバイス４３、４４および４５の、ギャップを形成する保持面は、様々な設計のものであってよい。例えば、該デバイス上のギャップは次第に狭くなってもよい。例えば、デバイス４３はギャップがデバイス４３の保持面と向かい合う被処理材料１０の表面との間に第１の最小ギャップ高を備えて形成されるように設
計される一方、輸送方向に関してデバイス４３の下流に配置構成されるデバイス４４は、ギャップがデバイス４４の保持面と向かい合う被処理材料１０の表面との間に第２の最小ギャップ高を備えて形成されるように設計されてよい。したがって、デバイス４４の第２の最小ギャップ高は、デバイス４３の第１の最小ギャップ高より小さくてもよい、すなわち、処理ステーションの流出領域におけるギャップは、１つのデバイスから、輸送方向に関して下流に配置構成された処理液を除去するためのさらなるデバイスへ、より低い高さを有していてよい。
【００９９】
処理領域４２を画成するデバイス４３は、ロール５１の、輸送方向に関して互いに反対となる側の間に処理液の液位差７４が設定されるように設計される。処理領域４２では、処理液２１は液位７１まで貯留され、ロール５１の反対側の隣接領域では、処理液は液位７２まで貯留される。
【０１００】
輸送方向に関してデバイス４３の下流に配置構成されるデバイス４４は、被処理材料１０がロール５３、５５を通過する時に被処理材料１０から処理液が除去されるように設計される。ロール５３、５５を通過するように被処理材料１０を移動させた後もなお被処理材料上に存在する処理液７３は、フローデバイス５４、５６によって少なくとも部分的に除去される。輸送方向に関してデバイス４４の下流に配置構成されるデバイス４５によって、デバイス４４を通過した後もなお被処理材料１０の上に存在しうる処理液のさらに一部が、被処理材料から除去されうる。
【０１０１】
処理液を除去するための複数のデバイスの使用によって、処理液は、ギャップが保持面と被処理材料１０との間に依然として残っていても被処理材料１０から確実に除去可能である。
【０１０２】
処理ステーションの内部容器の底部４６と、輸送面より下方に配置構成されたデバイス４３のロール５２との間に、バリア４７が提供される。バリア４７により、液位７１と液位７２との間の液位差７４がデバイス４３の両側において設定されうる。この目的のために、例えば長穴、穴またはスロットの形状の開口部６１がバリア４７に形成される。開口部６１は、バリア４７を通る液体の流れを調節し、ひいては液位７１と液位７２との間の液位差７４を調節するために、閉止させることが可能である。
【０１０３】
処理領域４２に隣接する領域における液位７２は、流出入する処理液の流れの平衡を保つことにより決定される。前記の流れ、ひいては液位７２を調節することを可能にするために、バリア４７とバリア４８との間に１つ以上の開口部、例えば閉止可能な穴が、底部４６に提供されてもよい。バリア４７に開く開口部、および底部４６に開く開口部を適切に選択することにより、処理領域４２に隣接する領域における所望の液位７２のための基本設定が選択されうる。加えて、処理ステーションを側面にそって画成する要素の上に、例えばロール５１、５２、５３および５５を支持するために提供される軸受レシーバの上に、溢流バリアが提供されてもよい。余計に流入した分の液体は溢流バリアを介して放出可能である。
【０１０４】
処理領域４２から流出する処理液の流れの平衡を保つために、処理液がポンプ（図示せず）によって処理領域４２へ運搬されてもよい。
処理ステーションの内部容器の底部４６と、輸送面より下方に配置構成されたデバイス４４のロール５５との間に、バリア４８が提供される。バリア４８は、液位を調節するための閉止可能な開口部を有する必要はない。バリア４８は、処理領域から出る処理液の流れを縮小するのを支援する。
【０１０５】
さらなる実施形態では、流出領域４１の改変形態が実装されうる。１つの実施形態では
、例えば、デバイス４５が省略されてもよい。従って、処理液を除去するための２つのデバイスが流出領域に提供されてもよい。輸送方向に関してこれらのデバイスの少なくとも最後にはフローデバイスを有することができる。フローデバイスは少なくとも輸送面より上方に提供されてよい。
【０１０６】
さらなる実施形態では、液位差を設定するための１または複数の開口部を備えたバリアを有する、液体を除去するための複数のデバイスが提供されてもよい。バリアは、いずれの場合も、バリア４７に関して説明されたような設計を有することができる。１つの実施形態では、例えば流入領域または流出領域において、２つのデバイスがいずれの場合も液体を保持するための保持面を有する少なくとも１つのロールを備えて提供されてもよく、該保持面は前記保持面を過ぎて誘導される被処理材料とともにギャップを形成し、輸送面より下方のいずれのデバイスにおいてもバリア４７に関して説明されたような１または複数の開口部を備えたバリアが提供されている。上記デバイスの両方から輸送方向に間隔を置いて、デバイス４４に相当する設計を有するさらなるデバイスが提供されてもよい。このようにして、例えば、流入領域または流出領域において、処理領域に比べてより低い液位の処理液を備えた少なくとも２つの領域が形成されうる。
【０１０７】
いずれ場合の液体を除去するためのデバイス４３〜４５においても、ロールは輸送面より上方および下方の両方に提供されて、前記ロールを過ぎて誘導される被処理材料とともにギャップを形成するが、さらなる実施形態では、液体を除去するためのデバイスはそれぞれ、保持面が輸送面より上方に提供されたロール上にのみ提供されて、該保持面と前記ロールを過ぎて誘導される被処理材料との間にギャップを残すように、構成されてもよい。輸送面より下方に提供されるロールは、該ロールの軸線方向に一定の直径を有していてもよい。
【０１０８】
１つの実施形態では、フローデバイス５４、５６のうち一方が輸送要素に置き換えられてもよい。該輸送要素は、被処理材料を支持かつ／または輸送するために設計されていてよい。該輸送要素は、例えば、ロールまたはホイールの車軸として構成されてもよい。別例として、または追加として、フローデバイス５８、６０のうち一方が輸送要素に置き換えられてもよい。該輸送要素は、被処理材料を支持かつ／または輸送するために設計されていてよい。該輸送要素は、例えば、ロールまたはホイールの車軸として構成されてもよい。
【０１０９】
１つの実施形態では、輸送面より下方に提供されるフローデバイス５６、６０のうち一方は、フローデバイス５６、６０によって生じる流体流３３が流出領域４１において輸送方向に向かう速度成分を有するように、構成されてもよい。
【０１１０】
図５は、処理ステーションの流出領域８１の概略側面図である。そのような流出領域８１は、図９の処理ステーション２００の、内部容器２０１の一端であって被処理材料が内部容器２０１から出る端部に提供されてもよい。流出領域では、被処理材料１０は、処理液２１が被処理材料を浸漬させるような高い液位で貯留されている処理領域８２から、輸送方向２０へとさらに輸送される。機能または設計のうち少なくともいずれか一方が流出領域４１の要素またはデバイスに相当する、流出領域８１の要素またはデバイスは、同じ参照数字で提示されており、改めて詳細には説明されない。
【０１１１】
個別の処理ステーションでは、処理領域８２において比較的高い液位９１を設定することが望ましい場合もある。処理領域８２の液位９１は、例えば、輸送面より少なくとも１５ｍｍ上方に配置されてもよい。
【０１１２】
流出領域８１には、処理液を除去または離隔するための複数のデバイス８３、４４およ
び４５が提供されている。デバイス８３は、間を被処理材料１０が通過せしめられるように配置構成されたロール８４、８５を含んでなる。デバイス８３のロール８４、８５の少なくとも一方に、処理液を保持するためのギャップを形成する保持面が形成されて、被処理材料がロール８４、８５を通過する時に保持面と前記保持面に向かい合う被処理材料１０の表面との間にギャップが形成されるようになっていてもよい。特に、ロール８４、８５のうち少なくとも一方は、被処理材料１０を輸送するための隆起エッジ領域と、該エッジ領域の間に設けられたオフセット保持面とを有することができる。ロール８４、８５の対は、例えば、図１および２に関して説明されたデバイス１として構成されてもよい。
【０１１３】
処理液が高い液位９１まで貯留するのを可能にするために、デバイス８３はロール８４の上方にさらなる保持要素８６を有する。このさらなる保持要素８６は、貯留される液体の側壁として作用することによって、処理領域８２の高い液位をともなって、処理液の貯留に寄与するように設計される。このさらなる保持要素８６は、ロール８４、８６がかたく閉止されてロール８４と８６との間の液体のわずかな通過のみを可能にするかまたは液体の通過を許さないように、例えばロール８４に対して補完的な様式に構成されたロールとして構成されてもよい。さらなる要素８６の他の実施形態は、例えば、直立した形態であることも可能である。
【０１１４】
処理領域８２の液位９１と、該領域に対してデバイス８３の反対側に隣接する領域の液位９２との間の処理液の液位差９７が、デバイス８３によって設定かつ維持されるように、デバイス８３が設計されている。輸送方向に関してデバイス８３の下流に配置構成されたデバイス４４は、被処理材料１０がデバイス４４を通過する時にこの被処理材料からさらなる処理液を除去する。被処理材料１０がデバイス４４のロール対を通り抜けてしまうと、液位９２の代わりに、より少量の処理液９３のみが被処理材料１０上に見出される。デバイス４４を通過した後もさらに必要であれば、輸送方向に関してデバイス４４の下流に配置構成されたデバイス４５が被処理材料１０からさらに処理液を除去してもよい。
【０１１５】
液位差９７を設定するために、閉止可能な開口部６１がバリア４７に提供される。処理領域８２に隣接する領域における液位９２は、流出入する処理液の流れの平衡を保つことにより決定される。これらの流れ、ひいては液位９２の設定を可能にするために、１つ以上の開口部９６、例えば閉止可能な穴がバリア４７と４８との間の底部４６に提供されてもよい。バリア４７に開く開口部６１、および底部４６に開く開口部９６の適切な選択によって、処理領域８２に隣接する領域における所望の液位９２の基本設定が選択可能である。加えて、処理ステーションを側面にそって画成する要素の上に、例えば、デバイス８３および４４のロールを支持するために提供される軸受レシーバの上に、溢流バリアが提供されてもよい。余計に流入した分の液体は溢流バリアを介して放出可能である。
【０１１６】
処理領域８２から流出する処理液の流れの平衡を保つために、処理液の流れ９５がポンプ９４によって処理領域８２の中に運搬される。
図４および５を参照して処理ステーションの流出領域の実施形態について記載してきたが、処理液を除去または離隔するためのデバイスは、処理ステーションの流入領域にも適宜提供されうる。特に、流入領域では、被処理材料が処理ステーション内の流入領域に供給される前に処理液が前記被処理材料の上を流れるのを防止するために、複数のデバイスが、処理液を除去または離隔するために、輸送方向に互いに間隔を置いて配置されて提供されてもよい。
【０１１７】
ギャップを形成する保持面の設計は、個別の応用分野に応じて適切な方法で選択可能である。
図６は、さらなる実施形態による処理液を除去または離隔するためのデバイス１０１の概略正面図である。
【０１１８】
デバイス１０１はロール１０２およびさらなるロール１０３を含んでなる。ロール１０２およびさらなるロール１０３は、被処理材料１０がロール１０２とロール１０３との間を輸送されるように配置構成される。ロール１０２の周囲表面は処理液を保持するために構成された保持面１０４を有する。保持面１０４を備えたロール１０２は、被処理材料１０がロール１０２を通過する時にロール１０２の保持面１０４と前記保持面に向かい合う被処理材料１０の表面との間にギャップ８が残るように、構成される。ロール１０２の軸方向端部１０５は、被処理材料１０がその長手方向に伸びるエッジ部において固定レールにより保持される場合に前記被処理材料を輸送するための輸送部分として作用するために、保持面１０４を画成するロール１０２の中央部分よりも小さな直径を備えて構成されている。
【０１１９】
さらなるロール１０３の周囲表面は処理液を保持するために構成されたさらなる保持面１０６を有する。さらなる保持面１０６を備えたさらなるロール１０３は、被処理材料１０がさらなるロール１０３を通過する時にさらなるロール１０３のさらなる保持面１０６とこのロールに向かい合う被処理材料１０の表面との間にギャップ１８が残るように、設計される。さらなるロール１０３の軸方向端部１０７は、被処理材料１０がその長手方向に伸びるエッジ部において固定レールにより保持される場合に、前記被処理材料を輸送するための輸送部分として作用するために、さらなる保持面１０６を画成するさらなるロール１０３の中央部分よりも小さな直径を備えて構成されている。
【０１２０】
被処理材料１０の長手方向に伸びるエッジ部においては、被処理材料１０を輸送するために被処理材料を保持する固定レール１０８、１０９が提供される。そのような固定レール１０８、１０９は、特に、低い固有剛性を有する被処理材料の輸送のために、該被処理材料に付加的な安定性を与えるために使用されうる。デバイス１０１のロール１０２およびさらなるロール１０３は、より小さな直径を備えた該ロールの軸方向端部１０５、１０７が、固定レール１０８、１０９に接して支持するようになるように設計される。ロール１０２およびさらなるロール１０３を回転させることによって、被処理材料１０は、さらに固定レール１０８、１０９を介して輸送されうる。
【０１２１】
デバイス１０１では、ロール１０２、１０３の保持面１０４、１０６はロール１０２、１０３の軸方向端部に提供された輸送部分に対してオフセットされて、被処理材料１０が保持面１０４、１０６を通過する時に保持面１０４、１０６と前記保持面に向かい合う被処理材料１０の表面との間に所望の最小ギャップ高を備えてギャップ８、１８が形成されるようになっている。
【０１２２】
デバイス１０１では、ロール１０２、１０３は被処理材料１０と直接接触しない。被処理材料１０の輸送は、輸送部分１０５、１０７を被処理材料１０が保持される固定レール１０８、１０９と連結することによって行なわれる。
【０１２３】
デバイス１０１の改変形態では、ロール１０２、１０３は、被処理材料１０を輸送するために、該ロールが被処理材料１０と固定レール１０８、１０９に隣接するエッジ領域において接触するように構成されてもよい。この目的のために、ロール１０２、１０３において、固定レール１０８、１０９に隣接して被処理材料と接触する隆起した輸送部分が提供されてもよい。ロール１０２、１０３はさらに、ロール１０２、１０３と固定レール１０８、１０９との間に液体を排出するためのギャップも形成されるように設計可能である。この目的のために、固定レールから液体を搾出するための、ロールの輸送部分に対して相応に凹設された凹部または溝が、ロール１０２、１０３に提供されてもよい。ロールと固定レールとの間に形成されるギャップは、１ｍｍ未満、特に０．７ｍｍ未満、特に０．５ｍｍ未満となりうる最小ギャップ高を有することができる。ロールと固定レールとの間
に形成されるギャップは、少なくとも０．０５ｍｍ、特に少なくとも０．０７ｍｍ、特に少なくとも０．０９ｍｍとなりうる最小ギャップ高を有することができる。
【０１２４】
固定された被処理材料から液体を搾出するためのデバイス１０１は、フローデバイスをさらに含んでなることができる。フローデバイスは、図３に関して説明されたように構成されうる。フローデバイスは、特に、フローデバイスから放出された流体流も固定レールから処理液を除去するように設計可能である。
【０１２５】
固定レール１０８、１０９に、液体が輸送方向に対して横方向に固定レールを通過するのを可能にする貫通穴が提供されてもよい。
ロール１０２、１０３は、長手方向に伸びるエッジ部のうち少なくとも一方に提供される固定レール１０８、１０９に対し、輸送面上にありかつ輸送方向に対して横方向に方向づけられた力成分を備えた力を加えるように設計されうる。この力は、反対側の長手方向に伸びるエッジ部に提供される固定レール１０８、１０９が、輸送方向に対して横方向に被処理材料１０を挟持するために離間されうるように、方向づけられてよい。この目的のために、例えば、被処理材料の少なくとも一方の長手方向に伸びるエッジ部の上の固定レール１０８または１０９のうち少なくともいずれか一方は、１つ以上の磁石、特に永久磁石を有していてもよい。輸送面より上方に提供されるロール１０２または輸送面より下方に提供されるロール１０３のうち少なくともいずれか一方は、固定レールに電磁力を与えるために、磁石または複数の磁石を有していてもよい。この力は、固定レールが被処理材料１０の向かい合う長手方向に伸びるエッジ部において弾性的に離間せしめられるように方向づけられてもよい。
【０１２６】
図７は、さらなる実施形態による処理液を除去または離隔するためのデバイス１１１の概略側面図である。デバイス１１１では、保持面は回転自在に載置されたロール上には提供されていない。
【０１２７】
デバイス１１１は、被処理材料１０を処理するためのアセンブリにおいてインサートとして使用可能な２つのほぼ立方形の要素１１２、１１３を含んでなる。インサート１１２は輸送面より上方に配置構成され、インサート１１３は輸送面より方に配置構成される。インサート１１２、１１３の表面は、処理液を保持する保持面としての役割を果たす。
【０１２８】
デバイス１１１のインサート１１２、１１３は、被処理材料１０の上部表面とインサート１１２の前記上部表面に面している側面１１４との間に、被処理材料１０がデバイス１１１を過ぎて誘導される場合にギャップ１１５が残るように、かつ、被処理材料１０の下部表面とインサート１１３の前記下部表面に面している側面１１７との間に、被処理材料１０がデバイス１１１を過ぎて誘導される時にギャップ１１８が残るように、被処理材料１０の輸送路に関して配置構成される。インサート１１２の側面１１４およびインサート１１７の側面１１７は、ギャップ１１５および１１８が一定のギャップ高を備えて輸送方向に伸びるように、平らな設計を有することができる。
【０１２９】
デバイス１１１のインサート１１２、１１３は、輸送方向２０とは反対側に開口している、インサート１１２、１１３上の面取り部１１６、１１９によって形成される流入領域を有する。そのような流入領域は、例えば、低い固有剛性を有する被処理材料、例えばフィルムを誘導するために使用されうる。
【０１３０】
インサート１１２、１１３を含んでなるデバイス１１１は、被処理材料１０の湿式化学処理のためのアセンブリにおいて処理液２１を貯留するために使用されてもよい。インサートの第１の側（図７において左）に配置構成された、処理液２１が液位１２１まで貯留された処理領域から、被処理材料１０がインサート１１２、１１３を過ぎて誘導される場
合、より少ない深さ１２２の処理液の層が被処理材料１０の上に残る。
【０１３１】
インサート１１２、１１３は、デバイス１１１が使用されるアセンブリの構造条件に従って適切な方法で構成されうる。例えば、インサート１１２、１１３は、ギャップ１１５、１１８が輸送方向２０にできる限り長いように設計されてもよい。
【０１３２】
インサート１１２、１１３は、湿式化学処理のためのアセンブリにおいて回転に関して固定して載置されてもよい。アセンブリにおけるインサート１１２、１１３は、特に、輸送方向において固定される状態で取り付けられてもよい。インサート１１２、１１３は、該インサートが互いに対して鉛直方向に移動可能なように取り付けられてもよい。
【０１３３】
デバイス１１１の改変形態では、立方形のインサートが輸送面より上方に提供される一方で、輸送面より下方には被処理材料を輸送するためにロールが提供される。立方形のインサートは、例えば、デバイス１１１のインサート１１２と同じ設計を有していてよい。
【０１３４】
図８は、流入領域に１対のロール１３２、１３３が提供され、流出領域にさらなる対のロール１３４、１３５が提供されている、処理ステーション１３１の概略側面図である。流入領域のロール１３２は輸送面より上方に配置構成され、流入領域のロール１３３は被処理材料１０の輸送面より下方に配置構成されている。流出領域のロール１３４は輸送面より上方に配置構成され、流出領域のロール１３５は被処理材料１０の輸送面より下方に配置構成されている。該ロール対により、処理ステーション１３１の処理液２１は液位１３６レベルまで貯留されている。
【０１３５】
ロール１３２〜１３５はそれぞれ、その軸方向端部に、被処理材料の輸送のための、隆起部分５、１５の形態の輸送部分を有する。該端部に提供される輸送部分の間に、より直径の小さい保持面４、１４が形成される。図１および２に関して説明されたように、ロールの保持面４、１４は、ロールを過ぎて誘導される被処理材料とともに、被処理材料の横幅方向に広がるギャップを形成する。
【０１３６】
輸送面より上方に提供されるロール１３２の輸送部分５と、該輸送部分の間に配置構成された保持面４とが同じ方向に回転するように、流入領域のロール１３２の異なる部分は回転自在に駆動される。輸送面より下方に提供されるロール１３３の輸送部分１５と、該輸送部分の間に配置構成された保持面１４とが同じ方向に回転するように、流入領域のロール１３３の異なる部分は回転自在に駆動される。輸送面より上方に提供されるロール１３２の輸送部分５の回転方向１４１は、被処理材料１０を輸送方向２０に輸送するために、被処理材料１０との接点において輸送部分５が輸送方向２０に動くように、選択される。輸送面より下方に提供されるロール１３３の輸送部分１５の回転方向１４３は、被処理材料１０を輸送方向２０に輸送するために、被処理材料１０との接点において輸送部分１５が輸送方向２０に動くように、選択される。輸送面より上方に提供されるロール１３２の保持面４は、ロール１３２の輸送部分５と同じ方向に回転方向１４２に回転されて、その結果、保持面４の、被処理材料１０に直接に面する部分が、より液位の高い方向（図８においては右側）に移動するようになっている。同様に、輸送機より下方に提供されるロール１３３の保持面１４は、輸送部分１５と同じ方向に回転方向１４４に回転されて、その結果、保持面１４の、被処理材料１０に直接に面する部分が、より液位の高い方向（図８においては右側）に移動するようになっている。
【０１３７】
ロール１３２、１３３の適切な設計によって、十分に高い液位１３６が貯留されうる一方、液位の高い領域に向かって保持面４が移動することにより、ロール１３２、１３３の保持面４の上に形成されたギャップを通る液体の通過が十分に低減されうる。この目的のために、ロール１３２、１３３は、保持面４、１４と該保持面に向かい合う被処理材料１
０の表面との間に、０．３ｍｍ未満、例えばおよそ０．１ｍｍの最小ギャップ高を備えてギャップが形成されるように、設計されてもよい。例えば、輸送部分は、保持面に対して０．３ｍｍ未満、例えばおよそ０．１ｍｍだけ高くなっていてもよい。
【０１３８】
流出領域では、ロール１３４、１３５の輸送部分５、１５は回転方向１４５、１４７に向かって回転して、輸送部分５、１５が被処理材料１０との接点において輸送方向２０に動くようになっている。
【０１３９】
流出領域のロール１３４、１３５を用いて流出領域に形成されたギャップを通る液体の通過を低減するために、輸送面より上方に提供されるロール１３４は、ロール１３４の保持面４がロール１３４の輸送部分５に対して回転されうるように、構成されてよい。同様に、輸送面より下方に提供されるロール１３５は、ロール１３５の保持面１４がロール１３５の輸送部分１５に対して回転されうるように、構成されてよい。流出領域では、輸送面より上方に提供されるロール１３４の保持面４は、このロール１３４の輸送部分５の回転方向１４５に対して反対方向である回転方向１４６に回転されうる。輸送面より下方に提供されるロール１３５の保持面１４は、このロール１３５の輸送部分１５の回転方向１４７に反対の回転方向１４８に回転されうる。このように、保持面４、１４は、輸送面より上方に提供されるロール１３４の保持面４の被処理材料１０に直接面する部分が、より液位の高い方向（図８では左側）に動くように、流出領域において回転してもよい。同様に、ロール１３５の保持面１４は、ロール１３５の保持面１４の被処理材料１０に直接面する部分が、より液位の高い方向（図８では左側）に動くように、輸送部分１５に反対の方向に回転されてもよい。
【０１４０】
さらに、流出領域内のロール１３４、１３５は、保持面４、１４と該保持面に向かい合う被処理材料１０の表面との間に０．３ｍｍ未満、例えばおよそ０．１ｍｍの最小ギャップ高を備えてギャップが形成されるように、設計されてもよい。例えば、輸送部分は、保持面に対して０．３ｍｍ未満、例えばおよそ０．１ｍｍだけ高くなっていてよい。
【０１４１】
別例または追加として、それぞれの場合に、図３に関して説明されるようにして流体流によりギャップを通って出て来る処理液を除去するために、処理ステーション１３１の流入領域または流出領域のうち少なくともいずれか一方に１または複数のブロー装置が提供されてもよい。
【０１４２】
ロール対の適切な設計により、流入領域または流出領域のうち少なくともいずれか一方において、被処理材料の輸送の際に残るギャップを通る液体の流出を低減し、その結果として処理ステーションの流入領域または流出領域のうち少なくともいずれか一方には処理液を吹き飛ばすためのフローデバイスは提供されないようにすることが可能である。
【０１４３】
流入領域または流出領域のうち少なくともいずれか一方において、それぞれの場合に、図４および５に関して説明されるようにして処理液を除去または離隔するための複数のデバイスが提供されてもよい。
【０１４４】
様々な実施形態によるデバイスおよび方法により、被処理材料の湿式化学処理のためのアセンブリにおいて、ニップロールと被処理材料の有用領域との間の直接接触を低減または回避させることを可能にしながら、被処理材料から処理液を除去または離隔することが可能となる。
【０１４５】
図面に示され、かつ詳細に記載された実施形態の数多くの改変形態は、他の実施形態において実装されてもよい。
様々な実施形態において、被処理材料に対して横方向にほぼ同じ高さで被処理材料の横
幅方向に伸びる保持面が記載されてきたが、ギャップを形成する保持面は、ギャップの断面、特にギャップ高が被処理材料の横幅方向に変化するように構成されてもよい。例えば、被処理材料の横幅方向における保持面は、被処理材料の横幅方向における位置に依存して形成されるギャップがエッジ部よりも被処理材料の中央においてより高くなるように、凹面であってもよい。
【０１４６】
様々な実施形態が、特に、被処理材料が連続的に水平の輸送面において輸送される処理アセンブリにおいて使用されうる一方、被処理材料が鉛直の輸送面において輸送されるアセンブリにおいても実施形態が使用されうる。例えば、被処理材料が鉛直の輸送面において輸送される場合にも、ギャップを形成する保持面およびフローデバイスの組み合わせを液体の貯留のために使用可能である。
【０１４７】
処理ステーションの流入領域または流出領域のうち少なくともいずれか一方において処理液を除去または離隔するためのデバイスの使用について、実施形態に即して記載してきたが、そのようなデバイスは、例えば物質のやりとりの改善のために、液体を取り換えるために処理ユニットの内部において使用されてもよい。
【０１４８】
様々な実施形態によるデバイスおよび方法は、例えば、プリント回路基板のような回路基板の製造において使用可能であるが、その使用はこれに限定はされない。
【符号の説明】
【０１４９】
１…処理液を除去するためのデバイス、２…ロール、３…さらなるロール、４…保持面、５，６…隆起エッジ部分、７…シャフト、８…ギャップ、９…最小ギャップ高、１０…被処理材料、１１…有用領域、１２…エッジ領域、１４…さらなる保持面、１５，１６…隆起エッジ部分、１７…シャフト、１８…さらなるギャップ、１９…最小ギャップ高、２０…輸送方向、２１…処理液、２２…液位、２３…処理液、２４…液位、２５，２６…回転方向、３１…処理液を除去するためのデバイス、３２…フローデバイス、３３…流体流、３４…処理液、４１…流出領域、４２…処理領域、４３，４４，４５…処理液を除去するためのデバイス、４６…底部、４７，４８…バリア、５１，５２…ロール、５３，５５…ロール、５４，５６…フローデバイス、５７，５９…ロール、５８，６０…フローデバイス、６１…開口部、７１，７２…液位、７３…処理液、７４…液位差、８１…流出領域、８２…処理領域、８３…処理液を除去するためのデバイス、８４〜８６…ロール、９１，９２…液位、９３…処理液、９４…ポンプ、９５…液体流、９６…開口部、９７…液位差、１０１…処理液を除去するためのデバイス、１０２…ロール、１０３…さらなるロール、１０４…保持面、１０５…凹設されたエッジ部分、１０６…さらなる保持面、１０７…凹設されたエッジ部分、１０８，１０９…固定レール、１１１…処理液を除去するためのデバイス、１１２，１１３…インサート、１１４，１１７…側面、１１５，１１８…ギャップ、１１６，１１９…面取り部、１３１…処理ステーション、１３２〜１３５…ロール、１３６…液位、１４１〜１４８…回転方向、２００…処理ステーション、２０１…内部容器、２０２…外部容器、２０３…被処理材料、２０４…輸送方向、２０６，２０７…フローノズル、２０８…処理液、２０９…外部容器内の液位、２１０…ポンプ、２１１，２１２，２１４，２１６…輸送ロール対、２１３，２１５…ニップロール対。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理材料（１０）を湿式化学処理するためのアセンブリ内を輸送路に沿って輸送される、平面的な被処理材料（１０）を処理するための方法であって、
被処理材料（１０）はアセンブリ内で処理液（２１）に供され、
処理液（２１）を保持するための保持面（４、１４）が、被処理材料（１０）が該保持面（４、１４）を通過せしめられる時に保持面（４、１４）と被処理材料（１０）の表面との間にギャップ（８、１８）が残るように、輸送路に配置される、方法。
【請求項２】
ギャップ（８、１８）が被処理材料（１０）の有用領域（１１）全体にわたって広がるように、保持面（４、１４）がロール（５１、５２；８４、８５）の上に形成され、
保持面（４、１４）から間隔を置いて配置構成された、処理液を除去するための第２のデバイス（３２；４４、４５）を使用して、ギャップ（８、１８）を通り抜けて保持面（４、１４）と被処理材料（１０）の表面との間に残っている処理液が、被処理材料（１０）から除去される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
処理液を除去するための第２のデバイス（４４、４５）は、第２の保持面を、特に第２のロール（５３、５５、５７、５９）の上に形成され、かつ輸送路に配置された第２の保持面を含んでなり、被処理材料（１０）が第２の保持面を通過せしめられる時に、第２の保持面と被処理材料（１０）の表面との間に第２のギャップが残るようになっている、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
処理液はロール（５１；８４）の両側に貯留され、処理液（２１）の液位差（７４；９７）がギャップ（８、１８）の相反する側に設定される、請求項２または３に記載の方法。
【請求項５】
ギャップ（８、１８）は最小ギャップ高（９、１９）を有し、保持面（４、１４）の少なくとも片側において処理液（２１）はギャップ（８、１８）の最小ギャップ高（９、１９）より高い液位（２２；７１、７２；９１；１２１；１３６）まで貯留される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
ギャップ（８、１８）を通り抜ける処理液（２１）は被処理材料（１０）の上を流れる流体流によって被処理材料（１０）から除去される、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
処理液（２１）を除去するために使用される流体流（３３）はギャップ（８、１８）を通り抜けないように方向づけられる、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
保持面（４、１４）はロール（２、３；５１、５２、５３、５５、５７、５９；８４、８５；１０２、１０３；１３２〜１３５）の上に形成される、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
ロール（２、３；５１、５２、５３、５５、５７、５９；８４、８５；１０２、１０３；１３２〜１３５）の上に、被処理材料（１０）を輸送するために被処理材料（１０）に結合される少なくとも１つの輸送部分（５、６、１５、１６；１０５、１０７）が提供される、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
輸送部分（５、１５）は被処理材料（１０）を輸送するために保持面（４、１４）に対して回転される、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
処理液（２１）の液位差（７４；９７）がギャップ（８、１８）の相反する側に設定される、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
保持面（４、１４）はギャップ（８、１８）を通る処理液（２１）の通過が低減または防止されるように回転される、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
処理液（２１）は、被処理材料（１０）が処理液（２１）の中に浸漬されて処理ステーション内を輸送されるように、処理ステーション内の保持面（４、１４）によって貯留される、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
被処理材料（１０）はフィルム状の材料、特に導電箔である、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
平面的な被処理材料（１０）を湿式化学処理するためのアセンブリ用の、該被処理材料（１０）から処理液（２１）を除去または離隔するためのデバイスであって、
処理液（２１）を保持するための保持面（４、１４）を含んでなり、かつ、該デバイスが保持面（４、１４）と輸送路に沿って輸送される被処理材料（１０）の表面との間にギャップ（８、１８）を形成するように、被処理材料（１０）の輸送路に対して配置構成されるように設計される、デバイス。
【請求項１６】
保持面（４、１４）は、ギャップ（８、１８）が被処理材料（１０）の有用領域（１１）全体にわたって伸びるように、ロール（５１、５２；８４、８５）の上に形成され、
該デバイスは、保持面（４、１４）と被処理材料（１０）の表面との間に形成されたギャップ（８、１８）を通過する処理液を被処理材料（１０）から除去するように設計された、保持面（４、１４）から間隔を置いて配置された第２のロール（５３、５５、５７、５９）を含んでなる、請求項１５に記載のデバイス。
【請求項１７】
処理液はロール（５１；８４）の両側に貯留され、処理液（２１）の液位差（７４；９７）がギャップ（８、１８）の相反する側に設定される、請求項１６に記載のデバイス。
【請求項１８】
ギャップ（８、１８）は最小ギャップ高（９、１９）を有し、デバイスは該デバイスの少なくとも片側において処理液（２１）をギャップ（８、１８）の最小ギャップ高（９、１９）より高い液位（２２；７１、７２；９１；１２１；１３６）まで貯留するように設計されている、請求項１５〜１７のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項１９】
流体流（３３）によって被処理材料（１０）から処理液（２１）を除去するように設計された、保持面（４、１４）から間隔を置いて配置されたフローデバイス（３２；５４、５６、５８、６０）を含んでなる、請求項１５〜１８のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項２０】
フローデバイス（３２；５４、５６、５８、６０）は、被処理材料（１０）の輸送方向（２０）に対して横方向に方向付けられた速度成分を備えた流体流（３３）を生じるように設計されている、請求項１９に記載のデバイス。
【請求項２１】
フローデバイス（３２；５４、５６、５８、６０）は、流体流（３３）がギャップ（８、１８）を通り抜けないように設計かつ配置構成されている、請求項１９または２０に記載のデバイス。
【請求項２２】
さらなる保持面（１４）を含んでなり、該デバイスがさらなる保持面（１４）と輸送路に沿って輸送される被処理材料（１０）のさらなる表面との間にさらなるギャップ（１８）を形成するように、被処理材料（１０）の輸送路に対して配置構成されるように設計さ
れている、請求項１５〜２１のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項２３】
処理液（２１）がギャップ（８、１８）を通り抜けるのを許容するように設計されている、請求項１５〜２２のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項２４】
回転自在に載置されたロール（２、３；５１、５２、５３、５５、５７、５９；８４、８５；１０２、１０３；１３２〜１３５）を含んでなり、該ロール上に保持面（４、１４）が形成される、請求項１５〜２３のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項２５】
ロール（２、３；５１、５２、５３、５５、５７、５９；８４、８５；１０２、１０３；１３２〜１３５）の上に、被処理材料（１０）を輸送するために被処理材料（１０）に結合されるように構成された少なくとも１つの輸送部分（５、６、１５、１６；１０５、１０７）が提供されている、請求項２４に記載のデバイス。
【請求項２６】
少なくとも２つの輸送部分（５、６、１５、１６；１０５、１０７）が被処理材料（１０）を輸送するためにロール上に提供されており、保持面（４、１４）が少なくとも２つの輸送部分（５、６、１５、１６；１０５、１０７）の間に提供されている、請求項２４または２５に記載のデバイス。
【請求項２７】
少なくとも１つの輸送部分または少なくとも２つの輸送部分（５、１５）は保持面（４、１４）に対して回転させることが可能である、請求項２５または２６に記載のデバイス。
【請求項２８】
保持面（４、１４）は、少なくとも１つの輸送部分または少なくとも２つの輸送部分（５、６、１５、１６；１０５、１０７）に対してオフセットされて構成されている、請求項２５〜２７のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項２９】
請求項１〜１４のいずれか１項の方法において使用するために設計された、請求項１５〜２８のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項３０】
平面的な被処理材料（１０）を処理するためのアセンブリであって、被処理材料（１０）の少なくとも１つの表面上に処理液（２１）を適用するかまたは被処理材料（１０）を処理液（２１）に浸漬するように設計され、かつ被処理材料を輸送路に沿って輸送するように設計されており、請求項１５〜２９のいずれか１項に記載の、被処理材料（１０）から処理液（２１）を除去または離隔するためのデバイス（１；３１；４３、４４、４５；８３；１０１；１１１）を含んでなる、アセンブリ。
【請求項３１】
請求項１５〜２９のいずれか１項に記載の少なくとも２つのデバイス（４３、４４、４５；８３、４４、４５）が、被処理材料（１０）の輸送方向に互いに間隔を置いて配置されるように提供されている、請求項３０に記載のアセンブリ。
【請求項３２】
処理液（２１）を貯留するように構成された処理ステーションを含んでなり、該処理ステーションの流入領域には請求項１５〜２９のいずれか１項に記載のデバイス（１３２、１３３）が提供され、処理ステーションの流出領域には請求項１５〜２９のいずれか１項に記載のさらなるデバイス（１３４、１３５）が提供されている、請求項３０または３１に記載のアセンブリ。
【請求項３３】
処理ステーションの流入領域に提供されたデバイス（１３２、１３３）の保持面（４）と、処理ステーションの流出領域に提供されたデバイス（１３４、１３５）の保持面（４）とを反対方向に回転させるように設計されている、請求項３２に記載のアセンブリ。
【請求項３４】
回路基板を製造する方法であって、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の方法を用いて処理される被処理材料から回路基板が製造される、方法。
【請求項１】
被処理材料（１０）を湿式化学処理するためのアセンブリ内を輸送路に沿って輸送される、平面的な被処理材料（１０）を処理するための方法であって、
被処理材料（１０）はアセンブリ内で処理液（２１）に供され、
処理液（２１）を保持するための保持面（４、１４）が、被処理材料（１０）が該保持面（４、１４）を通過せしめられる時に保持面（４、１４）と被処理材料（１０）の表面との間にギャップ（８、１８）が残るように、輸送路に配置される、方法。
【請求項２】
ギャップ（８、１８）が被処理材料（１０）の有用領域（１１）全体にわたって広がるように、保持面（４、１４）がロール（５１、５２；８４、８５）の上に形成され、
保持面（４、１４）から間隔を置いて配置構成された、処理液を除去するための第２のデバイス（３２；４４、４５）を使用して、ギャップ（８、１８）を通り抜けて保持面（４、１４）と被処理材料（１０）の表面との間に残っている処理液が、被処理材料（１０）から除去される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
処理液を除去するための第２のデバイス（４４、４５）は、第２の保持面を、特に第２のロール（５３、５５、５７、５９）の上に形成され、かつ輸送路に配置された第２の保持面を含んでなり、被処理材料（１０）が第２の保持面を通過せしめられる時に、第２の保持面と被処理材料（１０）の表面との間に第２のギャップが残るようになっている、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
処理液はロール（５１；８４）の両側に貯留され、処理液（２１）の液位差（７４；９７）がギャップ（８、１８）の相反する側に設定される、請求項２または３に記載の方法。
【請求項５】
ギャップ（８、１８）は最小ギャップ高（９、１９）を有し、保持面（４、１４）の少なくとも片側において処理液（２１）はギャップ（８、１８）の最小ギャップ高（９、１９）より高い液位（２２；７１、７２；９１；１２１；１３６）まで貯留される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
ギャップ（８、１８）を通り抜ける処理液（２１）は被処理材料（１０）の上を流れる流体流によって被処理材料（１０）から除去される、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
処理液（２１）を除去するために使用される流体流（３３）はギャップ（８、１８）を通り抜けないように方向づけられる、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
保持面（４、１４）はロール（２、３；５１、５２、５３、５５、５７、５９；８４、８５；１０２、１０３；１３２〜１３５）の上に形成される、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
ロール（２、３；５１、５２、５３、５５、５７、５９；８４、８５；１０２、１０３；１３２〜１３５）の上に、被処理材料（１０）を輸送するために被処理材料（１０）に結合される少なくとも１つの輸送部分（５、６、１５、１６；１０５、１０７）が提供される、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
輸送部分（５、１５）は被処理材料（１０）を輸送するために保持面（４、１４）に対して回転される、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
処理液（２１）の液位差（７４；９７）がギャップ（８、１８）の相反する側に設定される、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
保持面（４、１４）はギャップ（８、１８）を通る処理液（２１）の通過が低減または防止されるように回転される、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
処理液（２１）は、被処理材料（１０）が処理液（２１）の中に浸漬されて処理ステーション内を輸送されるように、処理ステーション内の保持面（４、１４）によって貯留される、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
被処理材料（１０）はフィルム状の材料、特に導電箔である、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
平面的な被処理材料（１０）を湿式化学処理するためのアセンブリ用の、該被処理材料（１０）から処理液（２１）を除去または離隔するためのデバイスであって、
処理液（２１）を保持するための保持面（４、１４）を含んでなり、かつ、該デバイスが保持面（４、１４）と輸送路に沿って輸送される被処理材料（１０）の表面との間にギャップ（８、１８）を形成するように、被処理材料（１０）の輸送路に対して配置構成されるように設計される、デバイス。
【請求項１６】
保持面（４、１４）は、ギャップ（８、１８）が被処理材料（１０）の有用領域（１１）全体にわたって伸びるように、ロール（５１、５２；８４、８５）の上に形成され、
該デバイスは、保持面（４、１４）と被処理材料（１０）の表面との間に形成されたギャップ（８、１８）を通過する処理液を被処理材料（１０）から除去するように設計された、保持面（４、１４）から間隔を置いて配置された第２のロール（５３、５５、５７、５９）を含んでなる、請求項１５に記載のデバイス。
【請求項１７】
処理液はロール（５１；８４）の両側に貯留され、処理液（２１）の液位差（７４；９７）がギャップ（８、１８）の相反する側に設定される、請求項１６に記載のデバイス。
【請求項１８】
ギャップ（８、１８）は最小ギャップ高（９、１９）を有し、デバイスは該デバイスの少なくとも片側において処理液（２１）をギャップ（８、１８）の最小ギャップ高（９、１９）より高い液位（２２；７１、７２；９１；１２１；１３６）まで貯留するように設計されている、請求項１５〜１７のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項１９】
流体流（３３）によって被処理材料（１０）から処理液（２１）を除去するように設計された、保持面（４、１４）から間隔を置いて配置されたフローデバイス（３２；５４、５６、５８、６０）を含んでなる、請求項１５〜１８のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項２０】
フローデバイス（３２；５４、５６、５８、６０）は、被処理材料（１０）の輸送方向（２０）に対して横方向に方向付けられた速度成分を備えた流体流（３３）を生じるように設計されている、請求項１９に記載のデバイス。
【請求項２１】
フローデバイス（３２；５４、５６、５８、６０）は、流体流（３３）がギャップ（８、１８）を通り抜けないように設計かつ配置構成されている、請求項１９または２０に記載のデバイス。
【請求項２２】
さらなる保持面（１４）を含んでなり、該デバイスがさらなる保持面（１４）と輸送路に沿って輸送される被処理材料（１０）のさらなる表面との間にさらなるギャップ（１８）を形成するように、被処理材料（１０）の輸送路に対して配置構成されるように設計さ
れている、請求項１５〜２１のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項２３】
処理液（２１）がギャップ（８、１８）を通り抜けるのを許容するように設計されている、請求項１５〜２２のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項２４】
回転自在に載置されたロール（２、３；５１、５２、５３、５５、５７、５９；８４、８５；１０２、１０３；１３２〜１３５）を含んでなり、該ロール上に保持面（４、１４）が形成される、請求項１５〜２３のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項２５】
ロール（２、３；５１、５２、５３、５５、５７、５９；８４、８５；１０２、１０３；１３２〜１３５）の上に、被処理材料（１０）を輸送するために被処理材料（１０）に結合されるように構成された少なくとも１つの輸送部分（５、６、１５、１６；１０５、１０７）が提供されている、請求項２４に記載のデバイス。
【請求項２６】
少なくとも２つの輸送部分（５、６、１５、１６；１０５、１０７）が被処理材料（１０）を輸送するためにロール上に提供されており、保持面（４、１４）が少なくとも２つの輸送部分（５、６、１５、１６；１０５、１０７）の間に提供されている、請求項２４または２５に記載のデバイス。
【請求項２７】
少なくとも１つの輸送部分または少なくとも２つの輸送部分（５、１５）は保持面（４、１４）に対して回転させることが可能である、請求項２５または２６に記載のデバイス。
【請求項２８】
保持面（４、１４）は、少なくとも１つの輸送部分または少なくとも２つの輸送部分（５、６、１５、１６；１０５、１０７）に対してオフセットされて構成されている、請求項２５〜２７のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項２９】
請求項１〜１４のいずれか１項の方法において使用するために設計された、請求項１５〜２８のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項３０】
平面的な被処理材料（１０）を処理するためのアセンブリであって、被処理材料（１０）の少なくとも１つの表面上に処理液（２１）を適用するかまたは被処理材料（１０）を処理液（２１）に浸漬するように設計され、かつ被処理材料を輸送路に沿って輸送するように設計されており、請求項１５〜２９のいずれか１項に記載の、被処理材料（１０）から処理液（２１）を除去または離隔するためのデバイス（１；３１；４３、４４、４５；８３；１０１；１１１）を含んでなる、アセンブリ。
【請求項３１】
請求項１５〜２９のいずれか１項に記載の少なくとも２つのデバイス（４３、４４、４５；８３、４４、４５）が、被処理材料（１０）の輸送方向に互いに間隔を置いて配置されるように提供されている、請求項３０に記載のアセンブリ。
【請求項３２】
処理液（２１）を貯留するように構成された処理ステーションを含んでなり、該処理ステーションの流入領域には請求項１５〜２９のいずれか１項に記載のデバイス（１３２、１３３）が提供され、処理ステーションの流出領域には請求項１５〜２９のいずれか１項に記載のさらなるデバイス（１３４、１３５）が提供されている、請求項３０または３１に記載のアセンブリ。
【請求項３３】
処理ステーションの流入領域に提供されたデバイス（１３２、１３３）の保持面（４）と、処理ステーションの流出領域に提供されたデバイス（１３４、１３５）の保持面（４）とを反対方向に回転させるように設計されている、請求項３２に記載のアセンブリ。
【請求項３４】
回路基板を製造する方法であって、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の方法を用いて処理される被処理材料から回路基板が製造される、方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公表番号】特表２０１２−５２７１０４（Ｐ２０１２−５２７１０４Ａ）
【公表日】平成２４年１１月１日（２０１２．１１．１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−５１０１６７（Ｐ２０１２−５１０１６７）
【出願日】平成２２年５月１２日（２０１０．５．１２）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２０１０／００２９３９
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／１３０４４５
【国際公開日】平成２２年１１月１８日（２０１０．１１．１８）
【出願人】（５０３０３７５８３）アトテック・ドイチュラント・ゲーエムベーハー (55)
【氏名又は名称原語表記】ＡＴＯＴＥＣＨ ＤＥＵＴＳＣＨＬＡＮＤ ＧＭＢＨ
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２４年１１月１日（２０１２．１１．１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年５月１２日（２０１０．５．１２）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２０１０／００２９３９
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／１３０４４５
【国際公開日】平成２２年１１月１８日（２０１０．１１．１８）
【出願人】（５０３０３７５８３）アトテック・ドイチュラント・ゲーエムベーハー (55)
【氏名又は名称原語表記】ＡＴＯＴＥＣＨ ＤＥＵＴＳＣＨＬＡＮＤ ＧＭＢＨ
【Ｆターム（参考）】
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