感光体、画像形成方法、画像形成装置及びプロセスカートリッジ
【課題】光応答性及び環境変動に対する帯電安定性に優れ、残像の発生を抑制することが可能な感光体、感光体を用いる画像形成方法並びに該感光体を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。
【解決手段】感光体は、導電性支持体上に、電荷発生剤、電荷輸送剤及び結着樹脂を含む感光層を有し、電荷発生剤は、特定構造のフルオレノン環を有するビスアゾ系化合物を含み、電荷輸送剤は、特定構造の複素環系化合物を含む。
【解決手段】感光体は、導電性支持体上に、電荷発生剤、電荷輸送剤及び結着樹脂を含む感光層を有し、電荷発生剤は、特定構造のフルオレノン環を有するビスアゾ系化合物を含み、電荷輸送剤は、特定構造の複素環系化合物を含む。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光体、画像形成方法、画像形成装置及びプロセスカートリッジに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、複写機、プリンターの小型化、高速化に伴い、小径の感光体を用いて、周速を大きくする画像形成方法が用いられている。このような画像形成方法に適用することが可能な感光体として、長波長域に感度を有する電荷発生剤を含む感光層を有する感光体が知られている。
【０００３】
特許文献１には、導電性支持体上に、一般式
Ａｒ１−Ｎ＝Ｎ−Ａ−Ｎ＝Ｎ−Ａｒ２
（式中、Ａｒ１及びＡｒ２は、各々異なるカップラー残基であり、Ａは、トリフェニルアミン、９−フルオレノン、２，５−ジフェニル−１，３，４−オキサジアゾール，ジベンゾフェナジン、ジスチリルベンゼン、カルバゾール、Ｎ−置換カルバゾール、ジベンゾチオフェン、アクリドン、置換若しくは無置換のビフェニル、キサントン、アントラキノン、ナフタレン、α，ω−ジフェニルポリエン、アゾベンゼン、テトラフェニルフェニレンジアミン、ジベンゾチオフェンジオキサイド又はフェナントレンキノンの２価基である。）
で示される非対称ビスアゾ顔料を含有する層が形成されている電子写真用感光体が開示されている。
【０００４】
しかしながら、光応答性及び高温高湿から低温低湿までの環境変動に対する帯電安定性が低いという問題がある。また、感光体に電荷が残留して残像が発生するという問題がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記従来技術が有する問題に鑑み、光応答性及び環境変動に対する帯電安定性に優れ、残像の発生を抑制することが可能な感光体、該感光体を用いる画像形成方法並びに該感光体を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１に記載の発明は、導電性支持体上に、電荷発生剤、電荷輸送剤及び結着樹脂を含む感光層を有する感光体において、前記電荷発生剤は、一般式
【０００７】
【化１】
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルコキシ基、置換若しくは無置換のアリール基又は置換若しくは無置換の複素環基であり、Ｒ１及びＲ２は同一ではない。）
で表される化合物を含み、前記電荷輸送剤は、一般式
【０００８】
【化２】
（式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン基、置換若しくは無置換の炭素数が１以上６以下のアルキル基、置換若しくは無置換の炭素数が１以上６以下のアルコキシ基である。）
で表される化合物を含むことを特徴とする。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の感光体において、前記電荷輸送剤は、化学式
【００１０】
【化３】
で表される化合物、化学式
【００１１】
【化４】
で表される化合物、化学式
【００１２】
【化５】
で表される化合物、化学式
【００１３】
【化６】
で表される化合物又は化学式
【００１４】
【化７】
で表される化合物を含むことを特徴とする。
【００１５】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の感光体において、前記感光層は、前記電荷発生剤を含む電荷発生層及び前記電荷輸送剤を含む電荷輸送層を有することを特徴とする。
【００１６】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の感光体において、前記電荷輸送層は、フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤及びベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の少なくとも一つをさらに含むことを特徴とする。
【００１７】
請求項５に記載の発明は、画像形成方法において、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の感光体を帯電させる工程と、該帯電した感光体に露光して静電潜像を形成する工程と、該静電潜像が形成された感光体をトナーで現像してトナー像を形成する工程と、該感光体に形成されたトナー像を被転写体に転写する工程を有することを特徴とする。
【００１８】
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の画像形成方法において、前記帯電した感光体に露光してから１００ミリ秒以内に前記静電潜像が形成された感光体をトナーで現像することを特徴とする。
【００１９】
請求項７に記載の発明は、画像形成装置において、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の感光体と、該感光体を帯電させる帯電手段と、該帯電した感光体に露光して静電潜像を形成する露光手段と、該感光体に形成された静電潜像をトナーで現像してトナー像を形成する現像手段と、該感光体に形成されたトナー像を被転写体に転写する転写手段を有することを特徴とする。
【００２０】
請求項８に記載の発明は、請求項７に記載の画像形成装置において、前記感光体、前記帯電手段、前記現像手段及び前記転写手段を複数有するタンデム型であることを特徴とする。
【００２１】
請求項９に記載の発明は、請求項７に記載の画像形成装置において、前記感光体、前記帯電手段及び前記現像手段を複数有し、前記感光体に形成されたトナー像が転写される中間転写体をさらに有し、前記転写手段は、複数の前記感光体に形成されたトナー像を前記中間転写体に順次転写して重ねる第一の転写手段及び該重ねられたトナー像を前記被転写体に転写する第二の転写手段を有することを特徴とする。
【００２２】
請求項１０に記載の発明は、プロセスカートリッジにおいて、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の感光体と、該感光体を帯電させる帯電手段、該帯電した感光体に露光して静電潜像を形成する露光手段、該感光体に形成された静電潜像をトナーで現像してトナー像を形成する現像手段、該感光体に形成されたトナー像を被転写体に転写する転写手段及び該トナー像が転写された感光体をクリーニングするクリーニング手段の少なくとも一つとを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、光応答性及び環境変動に対する帯電安定性に優れ、残像の発生を抑制することが可能な感光体、該感光体を用いる画像形成方法並びに該感光体を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の感光体の一例を示す断面図である。
【図２】本発明の画像形成装置の一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
次に、本発明を実施するための形態を図面と共に説明する。
【００２６】
図１に、本発明の感光体の一例を示す。感光体１０は、導電性支持体１１上に、電荷発生層１２ａ及び電荷輸送層１２ｂが順次積層されている感光層１２が形成されている。
【００２７】
導電性支持体１１を構成する材料としては、アルミニウム、真鍮、ステンレス鋼、ニッケル、クロム、チタン、金、銀、銅、スズ、白金、モリブデン、インジウム等の金属；これらの金属の合金が挙げられる。中でも、ＪＩＳ３０００系、ＪＩＳ５０００系、ＪＩＳ６０００系等のアルミニウム合金が好ましい。
【００２８】
導電性支持体１１の成形方法としては、特に限定されないが、ＥＩ（Ｅｘｔｒｕｓｉｏｎ Ｉｒｏｎｉｎｇ）法、ＥＤ（Ｅｘｔｒｕｓｉｏｎ Ｄｒａｗｉｎｇ）法、ＤＩ（Ｄｒａｗｉｎｇ Ｉｒｏｎｉｎｇ）法、ＩＩ（Ｉｍｐａｃｔ Ｉｒｏｎｉｎｇ）法等が挙げられる。このとき、導電性支持体１１の表面に、ダイヤモンドバイト等による表面切削加工；研磨、陽極酸化等の表面処理を施してもよい。
【００２９】
これら以外の導電性支持体１１を構成する材料としては、金属粉、導電性カーボン等の導電剤を含む樹脂；導電性樹脂；酸化スズ、酸化インジウム、ヨウ化アルミニウムで表面が被覆されているガラス等が挙げられる。
【００３０】
導電性支持体１１の形状としては、特に限定されないが、ドラム、シート、フィルム、ベルト等が挙げられる。このとき、ドラムの直径は、通常、６０ｍｍ以下であり、３０ｍｍ以下が好ましい。また、ベルトは、有端及び無端のいずれであってもよい。
【００３１】
電荷発生層１２ａは、電荷発生剤及び結着樹脂を含む。
【００３２】
電荷発生剤は、一般式（Ｉ）
【００３３】
【化８】
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルコキシ基、置換若しくは無置換のアリール基又は置換若しくは無置換の複素環基であり、Ｒ１及びＲ２は同一ではない。）
で表される化合物を含む。このとき、一般式（Ｉ）で表される化合物を二種以上併用してもよい。
【００３４】
Ｒ１及びＲ２としては、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、フェニル基、２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、２−ニトロフェニル基、３−ニトロフェニル基、４−ニトロフェニル基、２−トリフルオロメチルフェニル基、３−トリフルオロメチルフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−シアノフェニル基、３−シアノフェニル基、４−シアノフェニル基、１−ナフチル基、２−アントラキノリル基、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、４−ピラゾリル基、２−チアゾリル基、４−カルボキシル−２−チアゾリル基、２−ピリジル基、２−ピリミジル基、２−カルバゾリル基、２−キノリル基等が挙げられる。
【００３５】
電荷発生層１２ａ中の一般式（Ｉ）で表される化合物の含有量は、結着樹脂１質量部に対して、通常、０．２〜１０質量部であり、０．３〜４質量部であることが好ましい。一般式（Ｉ）で表される化合物の含有量が少ないと、光感度が低下することがあり、多いと、接着性が低下することがある。
【００３６】
電荷発生剤は、適切な光感度波長や増感作用を得るために、一般式（Ｉ）で表される化合物以外の電荷発生剤をさらに含んでもよい。
【００３７】
一般式（Ｉ）で表される化合物以外の電荷発生剤としては、特に限定されないが、モノアゾ顔料、ビスアゾ顔料、トリスアゾ顔料、ポリアゾ顔料等のアゾ顔料；インジゴ顔料；スレン顔料；トルイジン顔料；ピラゾリン顔料；ペリレン顔料；キナクリドン顔料；ピリリウム塩；フタロシアニン顔料、ペリレン顔料等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００３８】
電荷発生剤中の一般式（Ｉ）で表される化合物の含有量は、通常、１〜９９質量％であり、４０〜９９質量％が好ましい。
【００３９】
結着樹脂としては、ポリカーボネート、スチレン樹脂、アクリル樹脂、スチレン−アクリル樹脂、エチレン−酢酸ビニル樹脂、ポリプロピレン、塩化ビニル樹脂、塩素化ポリエーテル、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、ポリエステル、フラン樹脂、ニトリル樹脂、アルキッド樹脂、ポリアセタール、ポリメチルペンテン、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリアリレート、ジアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリルスルホン、シリコーン樹脂、ケトン樹脂、ポリビニルブチラール、ポリエーテル、フェノール樹脂、ＥＶＡ（エチレン・酢酸ビニル）樹脂、ＡＣＳ（アクリロニトリル・塩素化ポリエチレン・スチレン）樹脂、ＡＢＳ（アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン）樹脂、エポキシアリレート等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００４０】
電荷発生層１２ａの厚さは、通常、０．０１〜５μｍであり、０．１〜２μｍが好ましい。
【００４１】
電荷発生層１２ａは、例えば、電荷発生剤及び結着樹脂が溶媒中に分散又は溶解されている塗布液を、導電性支持体１１上に塗布し、必要に応じて、乾燥させることにより、形成することができる。
【００４２】
溶媒としては、特に限定されないが、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ブタノール等のアルコール類；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン等の飽和脂肪族炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素系炭化水素；ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、メトキシエタノール、ジオキソラン、ジオキサン、アニソール等のエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；ギ酸エチル、ギ酸プロピル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル等のエステル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド；ジメチルスルホキシド等が挙げられ、二種以上併用してもよい。中でも、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、エーテル系溶媒又はハロゲン化炭化水素系溶媒が好ましい。
【００４３】
塗布液を塗布する方法としては、特に限定されないが、浸漬塗工法、スプレーコート法、リングコート法、バーコートスピナーコート法等が挙げられる。
【００４４】
電荷輸送層１２ｂは、電荷輸送剤及び結着樹脂を含む。
【００４５】
電荷輸送剤は、一般式（ＩＩ）
【００４６】
【化９】
（式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン基、置換若しくは無置換の炭素数が１以上６以下のアルキル基、置換若しくは無置換の炭素数が１以上６以下のアルコキシ基である。）
で表される化合物を含む。
【００４７】
一般式（ＩＩ）で表される化合物としては、特に限定されないが、化学式（ＩＩａ）
【００４８】
【化１０】
で表される化合物、化学式（ＩＩｂ）
【００４９】
【化１１】
で表される化合物、化学式（ＩＩｃ）
【００５０】
【化１２】
で表される化合物、化学式（ＩＩｄ）
【００５１】
【化１３】
で表される化合物、化学式（ＩＩｅ）
【００５２】
【化１４】
で表される化合物等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００５３】
電荷輸送層１２ｂ中の一般式（ＩＩ）で表される化合物の含有量は、結着樹脂１質量部に対して、０．３〜２質量部であることが好ましい。一般式（ＩＩ）で表される化合物の含有量が少ないと、残留電位が上昇することがあり、一般式（ＩＩ）で表される化合物の含有量が多いと、耐摩耗性が低下することがある。
【００５４】
電荷輸送剤は、所望の帯電性を得るために、一般式（ＩＩ）で表される化合物以外の電荷輸送剤をさらに含んでもよい。
【００５５】
一般式（ＩＩ）で表される化合物以外の電荷輸送剤としては、特に限定されないが、ポリビニルカルバゾール、ハロゲン化ポリビニルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポリビニルインドロキノキサリン、ポリビニルベンゾチオフェン、ポリビニルアントラセン、ポリビニルアクリジン、ポリビニルピラゾリン、ポリアセチレン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン、ポリイソチアナフテン、ポリアニリン、ポリジアセチレン、ポリヘプタジイエン、ポリピリジンジイル、ポリキノリン、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェロセニレン、ポリペリナフチレン、ポリフタロシアニン等の導電性高分子；トリニトロフルオレノン、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、キノン、ジフェノキノン、ナフトキノン、アントラキノン及びこれらの誘導体、アントラセン、ピレン、フェナントレン等の多環芳香族化合物、インドール、カルバゾール、イミダゾール等の含窒素複素環化合物、フルオレノン、フルオレン、オキサジアゾール、オキサゾール、ピラゾリン、ヒドラゾン、トリフェニルメタン、トリフェニルアミン、エナミン、スチルベン等の低分子化合物；ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリル酸等の高分子にＬｉイオン等の金属イオンをドープした高分子固体電解質；テトラチアフルバレン−テトラシアノキノジメタン等の電子供与性化合物と電子受容性化合物で形成された有機電荷輸送錯体等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００５６】
電荷輸送剤中の一般式（ＩＩ）で表される化合物の含有量は、通常、５０〜９５質量％であり、７０〜９５質量％が好ましい。
【００５７】
結着樹脂としては、ポリカーボネート、スチレン樹脂、アクリル樹脂、スチレン−アクリル樹脂、エチレン−酢酸ビニル樹脂、ポリプロピレン、塩化ビニル樹脂、塩素化ポリエーテル、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、ポリエステル、フラン樹脂、ニトリル樹脂、アルキッド樹脂、ポリアセタール、ポリメチルペンテン、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリアリレート、ジアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリルスルホン、シリコーン樹脂、ケトン樹脂、ポリビニルブチラール、ポリエーテル、フェノール樹脂、ＥＶＡ（エチレン・酢酸ビニル）樹脂、ＡＣＳ（アクリロニトリル・塩素化ポリエチレン・スチレン）樹脂、ＡＢＳ（アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン）樹脂、エポキシアリレート等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００５８】
電荷輸送層１２ｂは、感光体１０の耐久性を向上させるために、フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤及びベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の少なくとも一つをさらに含むことが好ましい。中でも、アミン系酸化防止剤が特に好ましい。
【００５９】
フェノール系酸化防止剤としては、特に限定されないが、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、２，４−ジメチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、ブチル化ヒドロキシアニソール、プロピオン酸ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）、α−トコフェロール、β−トコフェロール、ｎ−オクタデシル−３−（３'−５'−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４'−ヒドロキシフェニル）プロピオネート等のモノフェノール系化合物；２，２'−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、４，４'−ブチリデンビス−（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４'−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン等のポリフェノール系化合物等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００６０】
電荷輸送層１２ｂ中のフェノール系酸化防止剤の含有量は、結着樹脂に対して、通常、１〜２０質量％である。
【００６１】
アミン系酸化防止剤としては、特に限定されないが、α，α'−ビス（ジベンジルアミノ）−ｐ−キシレン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ'−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ'−エチル−２−メチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−エチル−Ｎ−ヒドロキシエチル−ｐ−フェニレンジアミン、アルキル化ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ'−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ジアリル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−１，３−ジメチルブチル−ｐ−フェニレンジアミン、４，４'−ジオクチル−ジフェニルアミン、４，４'−ジオクチル−ジフェニルアミン、６−エトキシ−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、Ｎ−フェニル−β−ナフチルアミン、Ｎ，Ｎ'−ジ−２−ナフチル−ｐ−フェニレンジアミン等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００６２】
電荷輸送層１２ｂ中のアミン系酸化防止剤の含有量は、結着樹脂に対して、通常、１〜２０質量％である。
【００６３】
硫黄系酸化防止剤としては、特に限定されないが、ジラウリル−３，３−チオジプロピオネート、ジトリデシル−３，３−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル−３，３−チオプロピオネート、ビス〔２−メチル−４−（３−ｎ−アルキル（Ｃ１２〜Ｃ１４）チオプロピオネート）−５−ｔ−ブチルフェニル〕スルフィド、ペンタエリスリトールテトラキス（β−ラウリルチオプロピオネート）、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプト−６−メチルベンズイミダゾール等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００６４】
電荷輸送層１２ｂ中の硫黄系酸化防止剤の含有量は、結着樹脂に対して、通常、０．１〜５質量％である。
【００６５】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、特に限定されないが、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−５'−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００６６】
電荷輸送層１２ｂ中のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の含有量は、結着樹脂に対して、通常、１〜２０質量％である。
【００６７】
電荷輸送層１２ｂは、感光体１０の帯電性、耐久性、機械特性を向上させるために、ラジカル捕捉剤、軟化剤、硬化剤、架橋剤等をさらに含んでもよい。
【００６８】
電荷輸送層１２ｂの厚さは、通常、３〜５０μｍであり、１０〜４０μｍが好ましい。
【００６９】
電荷輸送層１２ｂは、例えば、電荷発生層１２ａと同様にして、電荷輸送剤及び結着樹脂が溶媒中に分散又は溶解されている塗布液を、電荷発生層１２ａ上に塗布し、必要に応じて、乾燥させることにより、形成することができる。
【００７０】
導電性支持体１１と電荷発生層１２ａの間に、樹脂を含む中間層を形成してもよい。これにより、導電性支持体１１と電荷発生層１２ａの接着性を向上させたり、導電性支持体１１から電流が流れ込むことを防止したり、導電性支持体１１の表面の欠陥を被覆したりすることができる。
【００７１】
樹脂としては、特に限定されないが、ポリエチレン、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリウレタン、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリアミド、ナイロン樹脂、アルキド樹脂、メラミン樹脂等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００７２】
また、中間層は、金属化合物、カーボン、シリカ、樹脂粉末、顔料、電子受容性物質、電子供与性物質等をさらに含んでもよい。
【００７３】
中間層は、例えば、電荷発生層１２ａと同様にして、結着樹脂が溶媒中に分散又は溶解されている塗布液を、導電性支持体１１上に塗布し、必要に応じて、乾燥させることにより、形成することができる。
【００７４】
中間層の厚さは、通常、０．１〜５０μｍであり、０．５〜２０μｍが好ましい。
【００７５】
感光体１０の耐久性を向上させるために、電荷輸送層１２ｂ上に、樹脂を含む保護層を形成してもよい。
【００７６】
樹脂としては、特に限定されないが、ポリビニルホルマール、ポリカーボネート、フッ素樹脂、ポリウレタン、シリコーン樹脂等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００７７】
また、保護層は、シランカップリング剤の加水分解物であってもよい。
【００７８】
保護層の厚さは、通常、０．１〜２０μｍである。
【００７９】
なお、電荷発生層１２ａ及び電荷輸送層１２ｂの積層順序を逆にしてもよい。また、電荷発生層１２ａ及び電荷輸送層１２ｂの積層を積層せずに、単層の感光層にしてもよい。
【００８０】
図２に、本発明の画像形成装置の一例を示す。画像形成装置１００には、感光体１０の周囲に、感光体１０を帯電させる帯電ローラ２０、帯電した感光体１０に露光して静電潜像を形成する露光装置３０、感光体１０に形成された静電潜像をトナーで現像してトナー像を形成する現像装置４０、感光体１０に形成されたトナー像を被転写体Ｐに転写する転写ローラ５０、トナー像が転写された感光体１０をクリーニングするクリーニングブレード６０が設置されている。このとき、画像形成装置１００には、被転写体Ｐに転写されたトナー像を定着させる定着装置７０が設置されている。画像形成装置１００を用いると、帯電した感光体１０に露光してから１００ミリ秒以内に静電潜像が形成された感光体１０をトナーで現像することができる。
【００８１】
帯電ローラ２０は、電源（不図示）から電圧が印加され、感光体１０に接触して正又は負に帯電させる。
【００８２】
露光装置３０としては、ＬＥＤ、ＬＤ等が挙げられる。
【００８３】
現像装置４０は、感光体１０に形成された静電潜像をトナーで現像する際に用いられる現像剤として、二成分現像剤及び一成分現像剤のいずれを用いてもよく、トナーは、磁性及び非磁性のいずれであってもよい。
【００８４】
なお、帯電ローラ２０の代わりに、帯電ブラシを用いてもよいし、スコロトロン、コロトロン等の感光体１０と接触しない帯電手段を用いてもよい。
【００８５】
転写ローラ５０の代わりに、転写ベルトを用いてもよい。
【００８６】
クリーニングブレード６０の代わりに、クリーニングブラシを用いてもよいし、クリーニング手段として兼用することが可能な帯電手段又は現像手段を用いてもよい。また、クリーニングブレード６０を省略してもよい。
【００８７】
画像形成装置１００に、感光体１０を除電する除電装置をさらに設置してもよい。
【００８８】
なお、画像形成装置１００の代わりに、感光体１０、帯電ローラ２０、現像装置４０及び転写ローラ５０を複数有する画像形成装置を用いてもよい。
【００８９】
また、画像形成装置１００の代わりに、感光体１０、帯電ローラ２０、現像装置４０を複数有し、感光体１０に形成されたトナー像が転写される中間転写体をさらに有する画像形成装置を用いてもよい。このような画像形成装置は、複数の感光体１０に形成されたトナー像を中間転写体に順次転写して重ねる第一の転写手段及び重ねられたトナー像を被転写体Ｐに転写する第二の転写手段を有する。
【００９０】
さらに、画像形成装置１００は、感光体１０と、帯電ローラ２０、露光装置３０、現像装置４０、転写ローラ５０及びクリーニングブレード６０の少なくとも一つとを有するプロセスカートリッジが着脱自在に搭載される構成であってもよい。
【実施例】
【００９１】
以下、本発明の感光体について詳細に説明する。
【００９２】
［実施例１］
アルキド樹脂ベッコライトＭ−６４０１−５０（ＤＩＣ社製）及びアミノ樹脂スーパーベッカミンＧ−８２１−６０（ＤＩＣ社製）を質量比６５：３５で混合した後、混合した樹脂及び酸化チタンＣＲ−ＥＬ（石原産業社製）を質量比１：３で混合し、メチルエチルケトンに分散又は溶解させ、中間層用塗布液を得た。
【００９３】
直径が３０ｍｍのアルミニウム製の円筒ドラム状の導電性支持体１１上に、中間層用塗布液を塗布して、厚さが１．５μｍの中間層を形成した。
【００９４】
化学式（Ｉａ）
【００９５】
【化１５】
で表される化合物３０ｇに、メチルエチルケトン５００ｍｌにポリビニルブチラールＢＨ−５（積水化学工業社製）１０ｇを溶解させた液及びガラスビーズを添加し、サンドミル分散機を用いて２０時間分散させた後、ろ過してガラスビーズを除去し、電荷発生層用塗布液を得た。
【００９６】
中間層上に電荷発生層用塗布液を浸漬塗布した後、乾燥し、厚さが０．２μｍの電荷発生層１２ａを形成した。
【００９７】
ポリカーボネートのパンライトＴＳ２０５０（帝人化成社製）、化学式（ＩＩｃ）で表される化合物及び２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールを、質量比１：１：０．０５で混合した後、テトラヒドロフラン中に溶解させ、電荷輸送層用塗布液を得た。
【００９８】
電荷発生層１２ａ上に電荷輸送層用塗布液に浸漬塗布した後、１２０℃で６０分間乾燥し、厚さが２５μｍの電荷輸送層を形成し、電子写真感光体を得た。
【００９９】
［実施例２］
化学式（ＩＩｃ）で表される化合物の代わりに、化学式（ＩＩａ）で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１００】
［実施例３］
化学式（ＩＩｃ）で表される化合物の代わりに、化学式（ＩＩｂ）で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１０１】
［実施例４］
化学式（ＩＩｃ）で表される化合物の代わりに、化学式（ＩＩｄ）で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１０２】
［実施例５］
化学式（ＩＩｃ）で表される化合物の代わりに、化学式（ＩＩｅ）で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１０３】
［実施例６］
化学式（Ｉａ）で表される化合物の代わりに、化学式（Ｉｂ）
【０１０４】
【化１６】
で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１０５】
［実施例７］
化学式（Ｉａ）で表される化合物の代わりに、化学式（Ｉｃ）
【０１０６】
【化１７】
で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１０７】
［実施例８］
２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールの代わりに、ジステアリル−３，３'−チオジプロピオネートのセミライザーＴＰＳ（住友化学社製）を用いると共に、添加量を１／５にした以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１０８】
［実施例９］
２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールの代わりに、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールのＴｉｎｕｖｉｎ−Ｐ（Ｇｅｉｇｙ社製）を用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１０９】
［実施例１０］
２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールの代わりに、α，α'−ビス（ジベンジル）アミノ−ｐ−キシレンを用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１１０】
［実施例１１］
ポリカーボネートのパンライトＴＳ２０５０（帝人化成社製）、化学式（ＩＩｃ）で表される化合物、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、ジステアリル−３，３'−チオジプロピオネートのセミライザーＴＰＳ（住友化学社製）及び２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールのＴｉｎｕｖｉｎ−Ｐ（Ｇｅｉｇｙ社製）を、質量比１：１：０．０５：０．０１：０．０５で混合した後、テトラヒドロフラン中に溶解させ、電荷輸送層用塗布液を得た。
【０１１１】
得られた電荷輸送層用塗布液を用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１１２】
［実施例１２］
２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールを添加しなかった以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１１３】
［比較例１］
化学式（ＩＩｃ）で表される化合物の代わりに、化学式
【０１１４】
【化１８】
で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１１５】
［比較例２］
化学式（ＩＩｃ）で表される化合物の代わりに、化学式
【０１１６】
【化１９】
で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１１７】
［比較例３］
化学式（ＩＩｃ）で表される化合物の代わりに、化学式
【０１１８】
【化２０】
で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１１９】
［比較例４］
化学式（Ｉａ）で表される化合物の代わりに、化学式
【０１２０】
【化２１】
で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１２１】
［比較例５］
化学式（Ｉａ）で表される化合物の代わりに、化学式
【０１２２】
【化２２】
で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１２３】
［環境変動に対する帯電安定性の評価］
電子写真感光体評価装置（山梨電子工業社製）を用いて、温度２３℃、湿度５０％ＲＨ（Ｎ／Ｎ）、温度１０℃、湿度１０％ＲＨ（Ｌ／Ｌ）又は温度３０℃、湿度８０％ＲＨ（Ｈ／Ｈ）の環境下で、実施例１〜１２及び比較例１〜５の電子写真感光体の環境変動に対する帯電安定性を評価した。
【０１２４】
まず、スコロトロン方式で放電電流２５μＡを流して帯電させた電子写真感光体の表面電位（Ｖ０）を計測した。次に、スコロトロン方式で表面電位が−７００Ｖになるように調節した放電電流を流して電子写真感光体を帯電させた後、波長が６５０ｎｍの半導体レーザーを照射して、表面電位が１／２（−３５０Ｖ）に減衰した時の露光エネルギー量、即ち、半減露光エネルギー量（Ｅ１／２）を計測した。さらに、スコロトロン方式で表面電位が−７００Ｖになるように調節した放電電流を流して電子写真感光体を帯電させた後、露光エネルギー量が１．０μＪ／ｃｍ２になるように、波長が６５０ｎｍの半導体レーザーを照射した時の表面電位、即ち、残留電位（ＶＬ）を計測した。
【０１２５】
なお、電子写真感光体の回転数を１００ｒｐｍとし、波長が６５０ｎｍの半導体レーザーを電子写真感光体に照射してから表面電位を測定するまでの時間を０．０６秒とした。
【０１２６】
表１に、環境変動に対する帯電安定性の評価結果を示す。
【０１２７】
【表１】
なお、Ｅ１／２が小さい程、感度に優れ、Ｅ１／２は０．１５μＪ／ｃｍ２以下であることが好ましい。また、ＶＬが小さい程、画像濃度が大きくなり、ＶＬは１００Ｖ以下であることが好ましい。
【０１２８】
表１より、実施例１〜１２の電子写真感光体は、環境に対するＶ０、Ｅ１／２及びＶＬの変化が小さく、環境変動に対する帯電安定性が優れることがわかる。
【０１２９】
［耐久性の評価］
電子写真感光体評価装置（山梨電子工業社製）を用いて、温度２３℃、湿度５０％（Ｎ／Ｎ）の環境下で、実施例１〜１２及び比較例１〜５の電子写真感光体の耐久性を評価した。
【０１３０】
スコロトロン方式で放電電流２５μＡを流して電子写真感光体を帯電させた後、波長が６５０ｎｍの半導体レーザーを照射し、波長が６６０ｎｍの発光ダイオード（２０μＷ）を用いて除電する操作を１サイクルとして、１万サイクル繰り返した。１万サイクル繰り返した後の電子写真感光体の表面電位（Ｖ０）、半減露光エネルギー（Ｅ１／２）及び残留電位（ＶＬ）を、環境変動に対する帯電安定性の評価と同様にして、計測した。
【０１３１】
表２に、耐久性の評価結果を示す。
【０１３２】
【表２】
表２より、実施例１〜１１の電子写真感光体は、Ｖ０の低下が１０Ｖ以下であることに加え、ＶＬの上昇も２０Ｖ以下であることから、耐久性が優れることがわかる。
【０１３３】
［光応答性の評価］
電子写真感光体評価装置（山梨電子工業製）を用いて、温度２３℃、湿度５０％（Ｎ／Ｎ）の環境下で、実施例１〜１２及び比較例１〜５の電子写真感光体の光応答性を評価した。
【０１３４】
スコロトロン方式で表面電位が−７００Ｖになるように調節した放電電流を流して電子写真感光体を帯電させた後、半減露光エネルギー量（Ｅ１／２）の５倍の露光エネルギー量になるように、波長が６５０ｎｍの半導体レーザーを照射して、１００ミリ秒後、５０ミリ秒後及び３０ミリ秒後の表面電位を計測した。
【０１３５】
表３に、光応答性の評価結果を示す。
【０１３６】
【表３】
表３より、実施例１〜１２の電子写真感光体は、露光後の時間を短くしても表面電位の変動が小さく、光応答性が優れることがわかる。
【０１３７】
［画像の評価］
温度２３℃、湿度５０％（Ｎ／Ｎ）の環境下で、イレース露光器を排除したカラープリンターＣＸ−４１１（リコー社製）を用いて、転写電流を１０μＡ、２０μＡ又は３０μＡにした状態で、１サイクル目にベタ黒画像を形成し、以降のハーフトーン上に現れる残像（ゴースト）を評価した。なお、残像が発生しないものを○、発生するものを△、強く発生するものを×として、判定した。
【０１３８】
表４に、画像の評価結果を示す。
【０１３９】
【表４】
表４より、実施例１〜１２の電子写真感光体は、転写電流を大きくしても、残像の発生を抑制できることがわかる。
【符号の説明】
【０１４０】
１０ 感光体
１１ 導電性支持体
１２ 感光層
１２ａ 電荷発生層
１２ｂ 電荷輸送層
２０ 帯電ローラ
３０ 露光装置
４０ 現像装置
５０ 転写ローラ
６０ クリーニングブレード
７０ 定着装置
１００ 画像形成装置
Ｐ 被転写体
【先行技術文献】
【特許文献】
【０１４１】
【特許文献１】特開平７−７０４５６号公報
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光体、画像形成方法、画像形成装置及びプロセスカートリッジに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、複写機、プリンターの小型化、高速化に伴い、小径の感光体を用いて、周速を大きくする画像形成方法が用いられている。このような画像形成方法に適用することが可能な感光体として、長波長域に感度を有する電荷発生剤を含む感光層を有する感光体が知られている。
【０００３】
特許文献１には、導電性支持体上に、一般式
Ａｒ１−Ｎ＝Ｎ−Ａ−Ｎ＝Ｎ−Ａｒ２
（式中、Ａｒ１及びＡｒ２は、各々異なるカップラー残基であり、Ａは、トリフェニルアミン、９−フルオレノン、２，５−ジフェニル−１，３，４−オキサジアゾール，ジベンゾフェナジン、ジスチリルベンゼン、カルバゾール、Ｎ−置換カルバゾール、ジベンゾチオフェン、アクリドン、置換若しくは無置換のビフェニル、キサントン、アントラキノン、ナフタレン、α，ω−ジフェニルポリエン、アゾベンゼン、テトラフェニルフェニレンジアミン、ジベンゾチオフェンジオキサイド又はフェナントレンキノンの２価基である。）
で示される非対称ビスアゾ顔料を含有する層が形成されている電子写真用感光体が開示されている。
【０００４】
しかしながら、光応答性及び高温高湿から低温低湿までの環境変動に対する帯電安定性が低いという問題がある。また、感光体に電荷が残留して残像が発生するという問題がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記従来技術が有する問題に鑑み、光応答性及び環境変動に対する帯電安定性に優れ、残像の発生を抑制することが可能な感光体、該感光体を用いる画像形成方法並びに該感光体を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１に記載の発明は、導電性支持体上に、電荷発生剤、電荷輸送剤及び結着樹脂を含む感光層を有する感光体において、前記電荷発生剤は、一般式
【０００７】
【化１】
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルコキシ基、置換若しくは無置換のアリール基又は置換若しくは無置換の複素環基であり、Ｒ１及びＲ２は同一ではない。）
で表される化合物を含み、前記電荷輸送剤は、一般式
【０００８】
【化２】
（式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン基、置換若しくは無置換の炭素数が１以上６以下のアルキル基、置換若しくは無置換の炭素数が１以上６以下のアルコキシ基である。）
で表される化合物を含むことを特徴とする。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の感光体において、前記電荷輸送剤は、化学式
【００１０】
【化３】
で表される化合物、化学式
【００１１】
【化４】
で表される化合物、化学式
【００１２】
【化５】
で表される化合物、化学式
【００１３】
【化６】
で表される化合物又は化学式
【００１４】
【化７】
で表される化合物を含むことを特徴とする。
【００１５】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の感光体において、前記感光層は、前記電荷発生剤を含む電荷発生層及び前記電荷輸送剤を含む電荷輸送層を有することを特徴とする。
【００１６】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の感光体において、前記電荷輸送層は、フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤及びベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の少なくとも一つをさらに含むことを特徴とする。
【００１７】
請求項５に記載の発明は、画像形成方法において、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の感光体を帯電させる工程と、該帯電した感光体に露光して静電潜像を形成する工程と、該静電潜像が形成された感光体をトナーで現像してトナー像を形成する工程と、該感光体に形成されたトナー像を被転写体に転写する工程を有することを特徴とする。
【００１８】
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の画像形成方法において、前記帯電した感光体に露光してから１００ミリ秒以内に前記静電潜像が形成された感光体をトナーで現像することを特徴とする。
【００１９】
請求項７に記載の発明は、画像形成装置において、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の感光体と、該感光体を帯電させる帯電手段と、該帯電した感光体に露光して静電潜像を形成する露光手段と、該感光体に形成された静電潜像をトナーで現像してトナー像を形成する現像手段と、該感光体に形成されたトナー像を被転写体に転写する転写手段を有することを特徴とする。
【００２０】
請求項８に記載の発明は、請求項７に記載の画像形成装置において、前記感光体、前記帯電手段、前記現像手段及び前記転写手段を複数有するタンデム型であることを特徴とする。
【００２１】
請求項９に記載の発明は、請求項７に記載の画像形成装置において、前記感光体、前記帯電手段及び前記現像手段を複数有し、前記感光体に形成されたトナー像が転写される中間転写体をさらに有し、前記転写手段は、複数の前記感光体に形成されたトナー像を前記中間転写体に順次転写して重ねる第一の転写手段及び該重ねられたトナー像を前記被転写体に転写する第二の転写手段を有することを特徴とする。
【００２２】
請求項１０に記載の発明は、プロセスカートリッジにおいて、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の感光体と、該感光体を帯電させる帯電手段、該帯電した感光体に露光して静電潜像を形成する露光手段、該感光体に形成された静電潜像をトナーで現像してトナー像を形成する現像手段、該感光体に形成されたトナー像を被転写体に転写する転写手段及び該トナー像が転写された感光体をクリーニングするクリーニング手段の少なくとも一つとを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、光応答性及び環境変動に対する帯電安定性に優れ、残像の発生を抑制することが可能な感光体、該感光体を用いる画像形成方法並びに該感光体を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の感光体の一例を示す断面図である。
【図２】本発明の画像形成装置の一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
次に、本発明を実施するための形態を図面と共に説明する。
【００２６】
図１に、本発明の感光体の一例を示す。感光体１０は、導電性支持体１１上に、電荷発生層１２ａ及び電荷輸送層１２ｂが順次積層されている感光層１２が形成されている。
【００２７】
導電性支持体１１を構成する材料としては、アルミニウム、真鍮、ステンレス鋼、ニッケル、クロム、チタン、金、銀、銅、スズ、白金、モリブデン、インジウム等の金属；これらの金属の合金が挙げられる。中でも、ＪＩＳ３０００系、ＪＩＳ５０００系、ＪＩＳ６０００系等のアルミニウム合金が好ましい。
【００２８】
導電性支持体１１の成形方法としては、特に限定されないが、ＥＩ（Ｅｘｔｒｕｓｉｏｎ Ｉｒｏｎｉｎｇ）法、ＥＤ（Ｅｘｔｒｕｓｉｏｎ Ｄｒａｗｉｎｇ）法、ＤＩ（Ｄｒａｗｉｎｇ Ｉｒｏｎｉｎｇ）法、ＩＩ（Ｉｍｐａｃｔ Ｉｒｏｎｉｎｇ）法等が挙げられる。このとき、導電性支持体１１の表面に、ダイヤモンドバイト等による表面切削加工；研磨、陽極酸化等の表面処理を施してもよい。
【００２９】
これら以外の導電性支持体１１を構成する材料としては、金属粉、導電性カーボン等の導電剤を含む樹脂；導電性樹脂；酸化スズ、酸化インジウム、ヨウ化アルミニウムで表面が被覆されているガラス等が挙げられる。
【００３０】
導電性支持体１１の形状としては、特に限定されないが、ドラム、シート、フィルム、ベルト等が挙げられる。このとき、ドラムの直径は、通常、６０ｍｍ以下であり、３０ｍｍ以下が好ましい。また、ベルトは、有端及び無端のいずれであってもよい。
【００３１】
電荷発生層１２ａは、電荷発生剤及び結着樹脂を含む。
【００３２】
電荷発生剤は、一般式（Ｉ）
【００３３】
【化８】
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルコキシ基、置換若しくは無置換のアリール基又は置換若しくは無置換の複素環基であり、Ｒ１及びＲ２は同一ではない。）
で表される化合物を含む。このとき、一般式（Ｉ）で表される化合物を二種以上併用してもよい。
【００３４】
Ｒ１及びＲ２としては、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、フェニル基、２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、２−ニトロフェニル基、３−ニトロフェニル基、４−ニトロフェニル基、２−トリフルオロメチルフェニル基、３−トリフルオロメチルフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−シアノフェニル基、３−シアノフェニル基、４−シアノフェニル基、１−ナフチル基、２−アントラキノリル基、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、４−ピラゾリル基、２−チアゾリル基、４−カルボキシル−２−チアゾリル基、２−ピリジル基、２−ピリミジル基、２−カルバゾリル基、２−キノリル基等が挙げられる。
【００３５】
電荷発生層１２ａ中の一般式（Ｉ）で表される化合物の含有量は、結着樹脂１質量部に対して、通常、０．２〜１０質量部であり、０．３〜４質量部であることが好ましい。一般式（Ｉ）で表される化合物の含有量が少ないと、光感度が低下することがあり、多いと、接着性が低下することがある。
【００３６】
電荷発生剤は、適切な光感度波長や増感作用を得るために、一般式（Ｉ）で表される化合物以外の電荷発生剤をさらに含んでもよい。
【００３７】
一般式（Ｉ）で表される化合物以外の電荷発生剤としては、特に限定されないが、モノアゾ顔料、ビスアゾ顔料、トリスアゾ顔料、ポリアゾ顔料等のアゾ顔料；インジゴ顔料；スレン顔料；トルイジン顔料；ピラゾリン顔料；ペリレン顔料；キナクリドン顔料；ピリリウム塩；フタロシアニン顔料、ペリレン顔料等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００３８】
電荷発生剤中の一般式（Ｉ）で表される化合物の含有量は、通常、１〜９９質量％であり、４０〜９９質量％が好ましい。
【００３９】
結着樹脂としては、ポリカーボネート、スチレン樹脂、アクリル樹脂、スチレン−アクリル樹脂、エチレン−酢酸ビニル樹脂、ポリプロピレン、塩化ビニル樹脂、塩素化ポリエーテル、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、ポリエステル、フラン樹脂、ニトリル樹脂、アルキッド樹脂、ポリアセタール、ポリメチルペンテン、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリアリレート、ジアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリルスルホン、シリコーン樹脂、ケトン樹脂、ポリビニルブチラール、ポリエーテル、フェノール樹脂、ＥＶＡ（エチレン・酢酸ビニル）樹脂、ＡＣＳ（アクリロニトリル・塩素化ポリエチレン・スチレン）樹脂、ＡＢＳ（アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン）樹脂、エポキシアリレート等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００４０】
電荷発生層１２ａの厚さは、通常、０．０１〜５μｍであり、０．１〜２μｍが好ましい。
【００４１】
電荷発生層１２ａは、例えば、電荷発生剤及び結着樹脂が溶媒中に分散又は溶解されている塗布液を、導電性支持体１１上に塗布し、必要に応じて、乾燥させることにより、形成することができる。
【００４２】
溶媒としては、特に限定されないが、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ブタノール等のアルコール類；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン等の飽和脂肪族炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素系炭化水素；ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、メトキシエタノール、ジオキソラン、ジオキサン、アニソール等のエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；ギ酸エチル、ギ酸プロピル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル等のエステル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド；ジメチルスルホキシド等が挙げられ、二種以上併用してもよい。中でも、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、エーテル系溶媒又はハロゲン化炭化水素系溶媒が好ましい。
【００４３】
塗布液を塗布する方法としては、特に限定されないが、浸漬塗工法、スプレーコート法、リングコート法、バーコートスピナーコート法等が挙げられる。
【００４４】
電荷輸送層１２ｂは、電荷輸送剤及び結着樹脂を含む。
【００４５】
電荷輸送剤は、一般式（ＩＩ）
【００４６】
【化９】
（式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン基、置換若しくは無置換の炭素数が１以上６以下のアルキル基、置換若しくは無置換の炭素数が１以上６以下のアルコキシ基である。）
で表される化合物を含む。
【００４７】
一般式（ＩＩ）で表される化合物としては、特に限定されないが、化学式（ＩＩａ）
【００４８】
【化１０】
で表される化合物、化学式（ＩＩｂ）
【００４９】
【化１１】
で表される化合物、化学式（ＩＩｃ）
【００５０】
【化１２】
で表される化合物、化学式（ＩＩｄ）
【００５１】
【化１３】
で表される化合物、化学式（ＩＩｅ）
【００５２】
【化１４】
で表される化合物等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００５３】
電荷輸送層１２ｂ中の一般式（ＩＩ）で表される化合物の含有量は、結着樹脂１質量部に対して、０．３〜２質量部であることが好ましい。一般式（ＩＩ）で表される化合物の含有量が少ないと、残留電位が上昇することがあり、一般式（ＩＩ）で表される化合物の含有量が多いと、耐摩耗性が低下することがある。
【００５４】
電荷輸送剤は、所望の帯電性を得るために、一般式（ＩＩ）で表される化合物以外の電荷輸送剤をさらに含んでもよい。
【００５５】
一般式（ＩＩ）で表される化合物以外の電荷輸送剤としては、特に限定されないが、ポリビニルカルバゾール、ハロゲン化ポリビニルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポリビニルインドロキノキサリン、ポリビニルベンゾチオフェン、ポリビニルアントラセン、ポリビニルアクリジン、ポリビニルピラゾリン、ポリアセチレン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン、ポリイソチアナフテン、ポリアニリン、ポリジアセチレン、ポリヘプタジイエン、ポリピリジンジイル、ポリキノリン、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェロセニレン、ポリペリナフチレン、ポリフタロシアニン等の導電性高分子；トリニトロフルオレノン、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、キノン、ジフェノキノン、ナフトキノン、アントラキノン及びこれらの誘導体、アントラセン、ピレン、フェナントレン等の多環芳香族化合物、インドール、カルバゾール、イミダゾール等の含窒素複素環化合物、フルオレノン、フルオレン、オキサジアゾール、オキサゾール、ピラゾリン、ヒドラゾン、トリフェニルメタン、トリフェニルアミン、エナミン、スチルベン等の低分子化合物；ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリル酸等の高分子にＬｉイオン等の金属イオンをドープした高分子固体電解質；テトラチアフルバレン−テトラシアノキノジメタン等の電子供与性化合物と電子受容性化合物で形成された有機電荷輸送錯体等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００５６】
電荷輸送剤中の一般式（ＩＩ）で表される化合物の含有量は、通常、５０〜９５質量％であり、７０〜９５質量％が好ましい。
【００５７】
結着樹脂としては、ポリカーボネート、スチレン樹脂、アクリル樹脂、スチレン−アクリル樹脂、エチレン−酢酸ビニル樹脂、ポリプロピレン、塩化ビニル樹脂、塩素化ポリエーテル、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、ポリエステル、フラン樹脂、ニトリル樹脂、アルキッド樹脂、ポリアセタール、ポリメチルペンテン、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリアリレート、ジアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリルスルホン、シリコーン樹脂、ケトン樹脂、ポリビニルブチラール、ポリエーテル、フェノール樹脂、ＥＶＡ（エチレン・酢酸ビニル）樹脂、ＡＣＳ（アクリロニトリル・塩素化ポリエチレン・スチレン）樹脂、ＡＢＳ（アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン）樹脂、エポキシアリレート等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００５８】
電荷輸送層１２ｂは、感光体１０の耐久性を向上させるために、フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤及びベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の少なくとも一つをさらに含むことが好ましい。中でも、アミン系酸化防止剤が特に好ましい。
【００５９】
フェノール系酸化防止剤としては、特に限定されないが、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、２，４−ジメチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、ブチル化ヒドロキシアニソール、プロピオン酸ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）、α−トコフェロール、β−トコフェロール、ｎ−オクタデシル−３−（３'−５'−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４'−ヒドロキシフェニル）プロピオネート等のモノフェノール系化合物；２，２'−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、４，４'−ブチリデンビス−（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４'−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン等のポリフェノール系化合物等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００６０】
電荷輸送層１２ｂ中のフェノール系酸化防止剤の含有量は、結着樹脂に対して、通常、１〜２０質量％である。
【００６１】
アミン系酸化防止剤としては、特に限定されないが、α，α'−ビス（ジベンジルアミノ）−ｐ−キシレン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ'−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ'−エチル−２−メチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−エチル−Ｎ−ヒドロキシエチル−ｐ−フェニレンジアミン、アルキル化ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ'−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ジアリル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−１，３−ジメチルブチル−ｐ−フェニレンジアミン、４，４'−ジオクチル−ジフェニルアミン、４，４'−ジオクチル−ジフェニルアミン、６−エトキシ−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、Ｎ−フェニル−β−ナフチルアミン、Ｎ，Ｎ'−ジ−２−ナフチル−ｐ−フェニレンジアミン等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００６２】
電荷輸送層１２ｂ中のアミン系酸化防止剤の含有量は、結着樹脂に対して、通常、１〜２０質量％である。
【００６３】
硫黄系酸化防止剤としては、特に限定されないが、ジラウリル−３，３−チオジプロピオネート、ジトリデシル−３，３−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル−３，３−チオプロピオネート、ビス〔２−メチル−４−（３−ｎ−アルキル（Ｃ１２〜Ｃ１４）チオプロピオネート）−５−ｔ−ブチルフェニル〕スルフィド、ペンタエリスリトールテトラキス（β−ラウリルチオプロピオネート）、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプト−６−メチルベンズイミダゾール等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００６４】
電荷輸送層１２ｂ中の硫黄系酸化防止剤の含有量は、結着樹脂に対して、通常、０．１〜５質量％である。
【００６５】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、特に限定されないが、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−５'−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００６６】
電荷輸送層１２ｂ中のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の含有量は、結着樹脂に対して、通常、１〜２０質量％である。
【００６７】
電荷輸送層１２ｂは、感光体１０の帯電性、耐久性、機械特性を向上させるために、ラジカル捕捉剤、軟化剤、硬化剤、架橋剤等をさらに含んでもよい。
【００６８】
電荷輸送層１２ｂの厚さは、通常、３〜５０μｍであり、１０〜４０μｍが好ましい。
【００６９】
電荷輸送層１２ｂは、例えば、電荷発生層１２ａと同様にして、電荷輸送剤及び結着樹脂が溶媒中に分散又は溶解されている塗布液を、電荷発生層１２ａ上に塗布し、必要に応じて、乾燥させることにより、形成することができる。
【００７０】
導電性支持体１１と電荷発生層１２ａの間に、樹脂を含む中間層を形成してもよい。これにより、導電性支持体１１と電荷発生層１２ａの接着性を向上させたり、導電性支持体１１から電流が流れ込むことを防止したり、導電性支持体１１の表面の欠陥を被覆したりすることができる。
【００７１】
樹脂としては、特に限定されないが、ポリエチレン、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリウレタン、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリアミド、ナイロン樹脂、アルキド樹脂、メラミン樹脂等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００７２】
また、中間層は、金属化合物、カーボン、シリカ、樹脂粉末、顔料、電子受容性物質、電子供与性物質等をさらに含んでもよい。
【００７３】
中間層は、例えば、電荷発生層１２ａと同様にして、結着樹脂が溶媒中に分散又は溶解されている塗布液を、導電性支持体１１上に塗布し、必要に応じて、乾燥させることにより、形成することができる。
【００７４】
中間層の厚さは、通常、０．１〜５０μｍであり、０．５〜２０μｍが好ましい。
【００７５】
感光体１０の耐久性を向上させるために、電荷輸送層１２ｂ上に、樹脂を含む保護層を形成してもよい。
【００７６】
樹脂としては、特に限定されないが、ポリビニルホルマール、ポリカーボネート、フッ素樹脂、ポリウレタン、シリコーン樹脂等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００７７】
また、保護層は、シランカップリング剤の加水分解物であってもよい。
【００７８】
保護層の厚さは、通常、０．１〜２０μｍである。
【００７９】
なお、電荷発生層１２ａ及び電荷輸送層１２ｂの積層順序を逆にしてもよい。また、電荷発生層１２ａ及び電荷輸送層１２ｂの積層を積層せずに、単層の感光層にしてもよい。
【００８０】
図２に、本発明の画像形成装置の一例を示す。画像形成装置１００には、感光体１０の周囲に、感光体１０を帯電させる帯電ローラ２０、帯電した感光体１０に露光して静電潜像を形成する露光装置３０、感光体１０に形成された静電潜像をトナーで現像してトナー像を形成する現像装置４０、感光体１０に形成されたトナー像を被転写体Ｐに転写する転写ローラ５０、トナー像が転写された感光体１０をクリーニングするクリーニングブレード６０が設置されている。このとき、画像形成装置１００には、被転写体Ｐに転写されたトナー像を定着させる定着装置７０が設置されている。画像形成装置１００を用いると、帯電した感光体１０に露光してから１００ミリ秒以内に静電潜像が形成された感光体１０をトナーで現像することができる。
【００８１】
帯電ローラ２０は、電源（不図示）から電圧が印加され、感光体１０に接触して正又は負に帯電させる。
【００８２】
露光装置３０としては、ＬＥＤ、ＬＤ等が挙げられる。
【００８３】
現像装置４０は、感光体１０に形成された静電潜像をトナーで現像する際に用いられる現像剤として、二成分現像剤及び一成分現像剤のいずれを用いてもよく、トナーは、磁性及び非磁性のいずれであってもよい。
【００８４】
なお、帯電ローラ２０の代わりに、帯電ブラシを用いてもよいし、スコロトロン、コロトロン等の感光体１０と接触しない帯電手段を用いてもよい。
【００８５】
転写ローラ５０の代わりに、転写ベルトを用いてもよい。
【００８６】
クリーニングブレード６０の代わりに、クリーニングブラシを用いてもよいし、クリーニング手段として兼用することが可能な帯電手段又は現像手段を用いてもよい。また、クリーニングブレード６０を省略してもよい。
【００８７】
画像形成装置１００に、感光体１０を除電する除電装置をさらに設置してもよい。
【００８８】
なお、画像形成装置１００の代わりに、感光体１０、帯電ローラ２０、現像装置４０及び転写ローラ５０を複数有する画像形成装置を用いてもよい。
【００８９】
また、画像形成装置１００の代わりに、感光体１０、帯電ローラ２０、現像装置４０を複数有し、感光体１０に形成されたトナー像が転写される中間転写体をさらに有する画像形成装置を用いてもよい。このような画像形成装置は、複数の感光体１０に形成されたトナー像を中間転写体に順次転写して重ねる第一の転写手段及び重ねられたトナー像を被転写体Ｐに転写する第二の転写手段を有する。
【００９０】
さらに、画像形成装置１００は、感光体１０と、帯電ローラ２０、露光装置３０、現像装置４０、転写ローラ５０及びクリーニングブレード６０の少なくとも一つとを有するプロセスカートリッジが着脱自在に搭載される構成であってもよい。
【実施例】
【００９１】
以下、本発明の感光体について詳細に説明する。
【００９２】
［実施例１］
アルキド樹脂ベッコライトＭ−６４０１−５０（ＤＩＣ社製）及びアミノ樹脂スーパーベッカミンＧ−８２１−６０（ＤＩＣ社製）を質量比６５：３５で混合した後、混合した樹脂及び酸化チタンＣＲ−ＥＬ（石原産業社製）を質量比１：３で混合し、メチルエチルケトンに分散又は溶解させ、中間層用塗布液を得た。
【００９３】
直径が３０ｍｍのアルミニウム製の円筒ドラム状の導電性支持体１１上に、中間層用塗布液を塗布して、厚さが１．５μｍの中間層を形成した。
【００９４】
化学式（Ｉａ）
【００９５】
【化１５】
で表される化合物３０ｇに、メチルエチルケトン５００ｍｌにポリビニルブチラールＢＨ−５（積水化学工業社製）１０ｇを溶解させた液及びガラスビーズを添加し、サンドミル分散機を用いて２０時間分散させた後、ろ過してガラスビーズを除去し、電荷発生層用塗布液を得た。
【００９６】
中間層上に電荷発生層用塗布液を浸漬塗布した後、乾燥し、厚さが０．２μｍの電荷発生層１２ａを形成した。
【００９７】
ポリカーボネートのパンライトＴＳ２０５０（帝人化成社製）、化学式（ＩＩｃ）で表される化合物及び２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールを、質量比１：１：０．０５で混合した後、テトラヒドロフラン中に溶解させ、電荷輸送層用塗布液を得た。
【００９８】
電荷発生層１２ａ上に電荷輸送層用塗布液に浸漬塗布した後、１２０℃で６０分間乾燥し、厚さが２５μｍの電荷輸送層を形成し、電子写真感光体を得た。
【００９９】
［実施例２］
化学式（ＩＩｃ）で表される化合物の代わりに、化学式（ＩＩａ）で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１００】
［実施例３］
化学式（ＩＩｃ）で表される化合物の代わりに、化学式（ＩＩｂ）で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１０１】
［実施例４］
化学式（ＩＩｃ）で表される化合物の代わりに、化学式（ＩＩｄ）で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１０２】
［実施例５］
化学式（ＩＩｃ）で表される化合物の代わりに、化学式（ＩＩｅ）で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１０３】
［実施例６］
化学式（Ｉａ）で表される化合物の代わりに、化学式（Ｉｂ）
【０１０４】
【化１６】
で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１０５】
［実施例７］
化学式（Ｉａ）で表される化合物の代わりに、化学式（Ｉｃ）
【０１０６】
【化１７】
で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１０７】
［実施例８］
２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールの代わりに、ジステアリル−３，３'−チオジプロピオネートのセミライザーＴＰＳ（住友化学社製）を用いると共に、添加量を１／５にした以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１０８】
［実施例９］
２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールの代わりに、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールのＴｉｎｕｖｉｎ−Ｐ（Ｇｅｉｇｙ社製）を用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１０９】
［実施例１０］
２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールの代わりに、α，α'−ビス（ジベンジル）アミノ−ｐ−キシレンを用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１１０】
［実施例１１］
ポリカーボネートのパンライトＴＳ２０５０（帝人化成社製）、化学式（ＩＩｃ）で表される化合物、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、ジステアリル−３，３'−チオジプロピオネートのセミライザーＴＰＳ（住友化学社製）及び２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールのＴｉｎｕｖｉｎ−Ｐ（Ｇｅｉｇｙ社製）を、質量比１：１：０．０５：０．０１：０．０５で混合した後、テトラヒドロフラン中に溶解させ、電荷輸送層用塗布液を得た。
【０１１１】
得られた電荷輸送層用塗布液を用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１１２】
［実施例１２］
２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールを添加しなかった以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１１３】
［比較例１］
化学式（ＩＩｃ）で表される化合物の代わりに、化学式
【０１１４】
【化１８】
で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１１５】
［比較例２］
化学式（ＩＩｃ）で表される化合物の代わりに、化学式
【０１１６】
【化１９】
で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１１７】
［比較例３］
化学式（ＩＩｃ）で表される化合物の代わりに、化学式
【０１１８】
【化２０】
で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１１９】
［比較例４］
化学式（Ｉａ）で表される化合物の代わりに、化学式
【０１２０】
【化２１】
で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１２１】
［比較例５］
化学式（Ｉａ）で表される化合物の代わりに、化学式
【０１２２】
【化２２】
で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０１２３】
［環境変動に対する帯電安定性の評価］
電子写真感光体評価装置（山梨電子工業社製）を用いて、温度２３℃、湿度５０％ＲＨ（Ｎ／Ｎ）、温度１０℃、湿度１０％ＲＨ（Ｌ／Ｌ）又は温度３０℃、湿度８０％ＲＨ（Ｈ／Ｈ）の環境下で、実施例１〜１２及び比較例１〜５の電子写真感光体の環境変動に対する帯電安定性を評価した。
【０１２４】
まず、スコロトロン方式で放電電流２５μＡを流して帯電させた電子写真感光体の表面電位（Ｖ０）を計測した。次に、スコロトロン方式で表面電位が−７００Ｖになるように調節した放電電流を流して電子写真感光体を帯電させた後、波長が６５０ｎｍの半導体レーザーを照射して、表面電位が１／２（−３５０Ｖ）に減衰した時の露光エネルギー量、即ち、半減露光エネルギー量（Ｅ１／２）を計測した。さらに、スコロトロン方式で表面電位が−７００Ｖになるように調節した放電電流を流して電子写真感光体を帯電させた後、露光エネルギー量が１．０μＪ／ｃｍ２になるように、波長が６５０ｎｍの半導体レーザーを照射した時の表面電位、即ち、残留電位（ＶＬ）を計測した。
【０１２５】
なお、電子写真感光体の回転数を１００ｒｐｍとし、波長が６５０ｎｍの半導体レーザーを電子写真感光体に照射してから表面電位を測定するまでの時間を０．０６秒とした。
【０１２６】
表１に、環境変動に対する帯電安定性の評価結果を示す。
【０１２７】
【表１】
なお、Ｅ１／２が小さい程、感度に優れ、Ｅ１／２は０．１５μＪ／ｃｍ２以下であることが好ましい。また、ＶＬが小さい程、画像濃度が大きくなり、ＶＬは１００Ｖ以下であることが好ましい。
【０１２８】
表１より、実施例１〜１２の電子写真感光体は、環境に対するＶ０、Ｅ１／２及びＶＬの変化が小さく、環境変動に対する帯電安定性が優れることがわかる。
【０１２９】
［耐久性の評価］
電子写真感光体評価装置（山梨電子工業社製）を用いて、温度２３℃、湿度５０％（Ｎ／Ｎ）の環境下で、実施例１〜１２及び比較例１〜５の電子写真感光体の耐久性を評価した。
【０１３０】
スコロトロン方式で放電電流２５μＡを流して電子写真感光体を帯電させた後、波長が６５０ｎｍの半導体レーザーを照射し、波長が６６０ｎｍの発光ダイオード（２０μＷ）を用いて除電する操作を１サイクルとして、１万サイクル繰り返した。１万サイクル繰り返した後の電子写真感光体の表面電位（Ｖ０）、半減露光エネルギー（Ｅ１／２）及び残留電位（ＶＬ）を、環境変動に対する帯電安定性の評価と同様にして、計測した。
【０１３１】
表２に、耐久性の評価結果を示す。
【０１３２】
【表２】
表２より、実施例１〜１１の電子写真感光体は、Ｖ０の低下が１０Ｖ以下であることに加え、ＶＬの上昇も２０Ｖ以下であることから、耐久性が優れることがわかる。
【０１３３】
［光応答性の評価］
電子写真感光体評価装置（山梨電子工業製）を用いて、温度２３℃、湿度５０％（Ｎ／Ｎ）の環境下で、実施例１〜１２及び比較例１〜５の電子写真感光体の光応答性を評価した。
【０１３４】
スコロトロン方式で表面電位が−７００Ｖになるように調節した放電電流を流して電子写真感光体を帯電させた後、半減露光エネルギー量（Ｅ１／２）の５倍の露光エネルギー量になるように、波長が６５０ｎｍの半導体レーザーを照射して、１００ミリ秒後、５０ミリ秒後及び３０ミリ秒後の表面電位を計測した。
【０１３５】
表３に、光応答性の評価結果を示す。
【０１３６】
【表３】
表３より、実施例１〜１２の電子写真感光体は、露光後の時間を短くしても表面電位の変動が小さく、光応答性が優れることがわかる。
【０１３７】
［画像の評価］
温度２３℃、湿度５０％（Ｎ／Ｎ）の環境下で、イレース露光器を排除したカラープリンターＣＸ−４１１（リコー社製）を用いて、転写電流を１０μＡ、２０μＡ又は３０μＡにした状態で、１サイクル目にベタ黒画像を形成し、以降のハーフトーン上に現れる残像（ゴースト）を評価した。なお、残像が発生しないものを○、発生するものを△、強く発生するものを×として、判定した。
【０１３８】
表４に、画像の評価結果を示す。
【０１３９】
【表４】
表４より、実施例１〜１２の電子写真感光体は、転写電流を大きくしても、残像の発生を抑制できることがわかる。
【符号の説明】
【０１４０】
１０ 感光体
１１ 導電性支持体
１２ 感光層
１２ａ 電荷発生層
１２ｂ 電荷輸送層
２０ 帯電ローラ
３０ 露光装置
４０ 現像装置
５０ 転写ローラ
６０ クリーニングブレード
７０ 定着装置
１００ 画像形成装置
Ｐ 被転写体
【先行技術文献】
【特許文献】
【０１４１】
【特許文献１】特開平７−７０４５６号公報
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性支持体上に、電荷発生剤、電荷輸送剤及び結着樹脂を含む感光層を有する感光体において、
前記電荷発生剤は、一般式
【化１】
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルコキシ基、置換若しくは無置換のアリール基又は置換若しくは無置換の複素環基であり、Ｒ１及びＲ２は同一ではない。）
で表される化合物を含み、
前記電荷輸送剤は、一般式
【化２】
（式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン基、置換若しくは無置換の炭素数が１以上６以下のアルキル基、置換若しくは無置換の炭素数が１以上６以下のアルコキシ基である。）
で表される化合物を含むことを特徴とする感光体。
【請求項２】
前記電荷輸送剤は、化学式
【化３】
で表される化合物、化学式
【化４】
で表される化合物、化学式
【化５】
で表される化合物、化学式
【化６】
で表される化合物又は化学式
【化７】
で表される化合物を含むことを特徴とする請求項１に記載の感光体。
【請求項３】
前記感光層は、前記電荷発生剤を含む電荷発生層及び前記電荷輸送剤を含む電荷輸送層を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の感光体。
【請求項４】
前記電荷輸送層は、フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤及びベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の少なくとも一つをさらに含むことを特徴とする請求項３に記載の感光体。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の感光体を帯電させる工程と、
該帯電した感光体に露光して静電潜像を形成する工程と、
該静電潜像が形成された感光体をトナーで現像してトナー像を形成する工程と、
該感光体に形成されたトナー像を被転写体に転写する工程を有することを特徴とする画像形成方法。
【請求項６】
前記帯電した感光体に露光してから１００ミリ秒以内に前記静電潜像が形成された感光体をトナーで現像することを特徴とする請求項５に記載の画像形成方法。
【請求項７】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の感光体と、
該感光体を帯電させる帯電手段と、
該帯電した感光体に露光して静電潜像を形成する露光手段と、
該感光体に形成された静電潜像をトナーで現像してトナー像を形成する現像手段と、
該感光体に形成されたトナー像を被転写体に転写する転写手段を有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項８】
前記感光体、前記帯電手段、前記現像手段及び前記転写手段を複数有することを特徴とする請求項７に記載の画像形成装置。
【請求項９】
前記感光体、前記帯電手段及び前記現像手段を複数有し、
前記感光体に形成されたトナー像が転写される中間転写体をさらに有し、
前記転写手段は、複数の前記感光体に形成されたトナー像を前記中間転写体に順次転写して重ねる第一の転写手段及び該重ねられたトナー像を前記被転写体に転写する第二の転写手段を有することを特徴とする請求項７に記載の画像形成装置。
【請求項１０】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の感光体と、
該感光体を帯電させる帯電手段、該帯電した感光体に露光して静電潜像を形成する露光手段、該感光体に形成された静電潜像をトナーで現像してトナー像を形成する現像手段、該感光体に形成されたトナー像を被転写体に転写する転写手段及び該トナー像が転写された感光体をクリーニングするクリーニング手段の少なくとも一つとを有することを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項１】
導電性支持体上に、電荷発生剤、電荷輸送剤及び結着樹脂を含む感光層を有する感光体において、
前記電荷発生剤は、一般式
【化１】
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルコキシ基、置換若しくは無置換のアリール基又は置換若しくは無置換の複素環基であり、Ｒ１及びＲ２は同一ではない。）
で表される化合物を含み、
前記電荷輸送剤は、一般式
【化２】
（式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン基、置換若しくは無置換の炭素数が１以上６以下のアルキル基、置換若しくは無置換の炭素数が１以上６以下のアルコキシ基である。）
で表される化合物を含むことを特徴とする感光体。
【請求項２】
前記電荷輸送剤は、化学式
【化３】
で表される化合物、化学式
【化４】
で表される化合物、化学式
【化５】
で表される化合物、化学式
【化６】
で表される化合物又は化学式
【化７】
で表される化合物を含むことを特徴とする請求項１に記載の感光体。
【請求項３】
前記感光層は、前記電荷発生剤を含む電荷発生層及び前記電荷輸送剤を含む電荷輸送層を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の感光体。
【請求項４】
前記電荷輸送層は、フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤及びベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の少なくとも一つをさらに含むことを特徴とする請求項３に記載の感光体。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の感光体を帯電させる工程と、
該帯電した感光体に露光して静電潜像を形成する工程と、
該静電潜像が形成された感光体をトナーで現像してトナー像を形成する工程と、
該感光体に形成されたトナー像を被転写体に転写する工程を有することを特徴とする画像形成方法。
【請求項６】
前記帯電した感光体に露光してから１００ミリ秒以内に前記静電潜像が形成された感光体をトナーで現像することを特徴とする請求項５に記載の画像形成方法。
【請求項７】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の感光体と、
該感光体を帯電させる帯電手段と、
該帯電した感光体に露光して静電潜像を形成する露光手段と、
該感光体に形成された静電潜像をトナーで現像してトナー像を形成する現像手段と、
該感光体に形成されたトナー像を被転写体に転写する転写手段を有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項８】
前記感光体、前記帯電手段、前記現像手段及び前記転写手段を複数有することを特徴とする請求項７に記載の画像形成装置。
【請求項９】
前記感光体、前記帯電手段及び前記現像手段を複数有し、
前記感光体に形成されたトナー像が転写される中間転写体をさらに有し、
前記転写手段は、複数の前記感光体に形成されたトナー像を前記中間転写体に順次転写して重ねる第一の転写手段及び該重ねられたトナー像を前記被転写体に転写する第二の転写手段を有することを特徴とする請求項７に記載の画像形成装置。
【請求項１０】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の感光体と、
該感光体を帯電させる帯電手段、該帯電した感光体に露光して静電潜像を形成する露光手段、該感光体に形成された静電潜像をトナーで現像してトナー像を形成する現像手段、該感光体に形成されたトナー像を被転写体に転写する転写手段及び該トナー像が転写された感光体をクリーニングするクリーニング手段の少なくとも一つとを有することを特徴とするプロセスカートリッジ。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２０１２−２２１４４（Ｐ２０１２−２２１４４Ａ）
【公開日】平成２４年２月２日（２０１２．２．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１５９９０３（Ｐ２０１０−１５９９０３）
【出願日】平成２２年７月１４日（２０１０．７．１４）
【出願人】（０００００６７４７）株式会社リコー (37,907)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年２月２日（２０１２．２．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年７月１４日（２０１０．７．１４）
【出願人】（０００００６７４７）株式会社リコー (37,907)
【Ｆターム（参考）】
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