排ガスの脱臭処理方法
【課題】特に塗装、印刷、アルミ鋳造もしくは接着工程等からの揮発性有機化合物を含有する排ガスを効率的に脱臭処理し得る方法を提供する。
【解決手段】炭素原子に酸性基、中性基および塩基性基が結合してなる超高分子化合物の水溶液もしくは水分散体を、スクラバーにより、微細ゲルもしくはゾルとして排ガスに噴霧し、ついで該排ガスを脱臭フィルター層を通過させることを特徴とする排ガスの脱臭処理方法。脱臭フィルター層としては光触媒層、活性炭層および/または無機繊維層が好適に使用される。
【解決手段】炭素原子に酸性基、中性基および塩基性基が結合してなる超高分子化合物の水溶液もしくは水分散体を、スクラバーにより、微細ゲルもしくはゾルとして排ガスに噴霧し、ついで該排ガスを脱臭フィルター層を通過させることを特徴とする排ガスの脱臭処理方法。脱臭フィルター層としては光触媒層、活性炭層および/または無機繊維層が好適に使用される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は排ガスの脱臭処理方法に関し、さらに詳しくは揮発性有機化合物を含有する排ガスの脱臭処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
塗装、印刷、アルミ鋳造もしくは接着工程は種々の産業において欠かせないものである。たとえば、塗装工程から排気中には、塗料ミスト、有機溶剤等のトルエン、キシレン、イソブタノール等も含有されており、不快な臭気を伴う。この排ガスをそのまま放出すると大気汚染の原因にもなるため、燃焼処理したり、貴金属触媒により酸化処理した後排気することが行なわれている。しかし、直接燃焼処理するためには、多量の燃料を必要とし、さらにＳＯｘ、ＮＯｘ等の有害物質を副生するおそれがあり、また貴金属触媒は、総じて硫黄系化合物に被毒されやすく解決すべき幾つかの課題がある。
【０００３】
そこで、種々の方法が検討され、その一つとして分子間で臭気原因物質を取り込み無臭化する超高分子量ポリマー吸着剤を微細ゲルもしくはゾル（マイクロゲルもしくはミクロゲル、またはマイクロゾルもしくはミクロゾル）として排ガス中に噴霧する方法も利用されているが、その弱点は排ガスとの接触時間を一定時間以上取る必要があり、湿気箱を大きくするかダクト長を長くしなければならない。また、酸化チタン等の光触媒も利用されているが、サブミクロンオーダーの汚れが触媒表面に付着し、使用時間の経過とともに効果がなくなること、さらには付着した汚れを除去することが困難である点に難がある。そして、通常の洗浄・天日乾燥では十分な復帰は望み難く、焼成処理が必要となるため、使用されている担体の種類によっては、その寿命低下の大きな要因となる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、上記の難点を克服し、特に塗装、印刷、アルミ鋳造もしくは接着工程等からの揮発性有機化合物を含有する排ガスを効率的に脱臭処理しうる方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上記の課題を解決するために以下の発明を提供する。
（１）炭素原子に酸性基、中性基および塩基性基が結合してなる超高分子化合物の水溶液もしくは水分散体を、スクラバーにより、微細ゲルもしくはゾルとして排ガスに噴霧し、ついで該排ガスを脱臭フィルター層を通過させることを特徴とする排ガスの脱臭処理方法；
（２）排ガスが揮発性有機化合物を含有する上記（１）記載の排ガスの脱臭処理方法；
（３）排ガスが塗装、印刷、アルミ鋳造もしくは接着工程からの排ガスである上記（１）もしくは（２）記載の排ガスの脱臭処理方法；
（４）超高分子化合物の炭素原子が直鎖性である上記（１）〜（３）のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法；
（５）超高分子化合物の質量平均分子量が５００万〜５０００万である上記（１）〜（４）のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法；
（６）超高分子化合物がポリアクリルアミド系、ポリアクリル酸系もしくはポリメタクリル酸系化合物である上記（１）〜（５）のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法；
（７）噴霧された微細ゲルもしくはゾルの粒径が１０〜５００ｎｍである上記（１）〜（６）のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法；
（８）脱臭フィルター層が光触媒層、活性炭層および/または無機繊維層である上記（１）〜（６）のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法；
（９）光触媒層がチタニアである上記（８）記載の排ガスの脱臭処理方法；
（１０）光触媒層がセラミックフォームに担持されている上記（８）もしくは（９）記載の排ガスの脱臭処理方法；
（１１）セラミックフォームがアルミナ、コーディエライト、シリカ・アルミナ、ジルコニアもしくは炭化ケイ素から選ばれる上記（１０）記載の排ガスの脱臭処理方法；
（１２）光触媒層が紫外線照射される上記（８）〜（１１）のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法；
（１３）除湿した後に、排ガスを脱臭フィルター層を通過させる上記（１）〜（１２）のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法；
（１４）除湿した後に、さらに除塵する上記（１３）記載の排ガスの脱臭処理方法；
（１５）脱臭処理前および脱臭処理後の排ガスの臭気濃度がそれぞれ１００００以上および５００以下である上記（１）〜（１４）のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法；
（１６）脱臭処理後の排ガスの臭気濃度が３００以下である上記（１５）記載の排ガスの脱臭処理方法、
（１７）排ガスに微細ゲルもしくはゾルを噴霧するための微細ゲルもしくはゾル噴霧部を備えたスクラバー部、ならびに微細ゲルもしくはゾルを噴霧された排ガスを導入するための脱臭フィルター層、を備えた排ガスの脱臭処理装置において、脱臭フィルター層は光触媒層がセラミックフォームに担持されてなる排ガスの脱臭処理装置；
（１８）スクラバー部の後に除湿部をさらに備えた上記（１７）記載の排ガスの脱臭処理装置；
（１９）除湿部の後に除塵部をさらに備えた上記（１８）記載の排ガスの脱臭処理装置；ならびに
（２０）微細ゲルもしくはゾルが炭素原子に酸性基、中性基および塩基性基が結合してなる超高分子化合物の水溶液もしくは水分散体の噴霧により得られる上記（１７）〜（１９）のいずれか記載の排ガスの脱臭処理装置、
である。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、特に塗装、印刷、アルミ鋳造もしくは接着工程等からの揮発性有機化合物を含有する排ガスを効率的に脱臭処理しうる方法を提供し得る。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
本発明の排ガスの脱臭処理方法においては、炭素原子に酸性基、中性基および塩基性基が結合してなる超高分子化合物の水溶液もしくは水分散体を、スクラバーにより、微細ゲルもしくはゾル吸着剤として排ガスに噴霧し、ついで該排ガスを脱臭フィルター層を通過させる。
【０００８】
排ガスは特に制限されないが、たとえば塗装、印刷、アルミ鋳造もしくは接着工程からの排ガス等の揮発性有機化合物を含有する排ガス、が好適に脱臭処理されうる。
【０００９】
本発明において使用される超高分子化合物は、含まれる炭素原子が酸性基、中性基および塩基性基とに結合してなり、その炭素原子は直鎖性の配列構造を有する。これらの酸性基としては、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基等、中性基としてはメチル基、エチル等、そして塩基性基としては、−ＮＨ−基、−ＮＲ３＋Ｘ−等が一般的であるが、これらに制限されず、これらは通常ランダムに配列されている。このような超高分子化合物の質量平均分子量は５００万〜５０００万、好ましくは１０００万〜３０００万である。超高分子化合物は水溶性もしくは水不溶性のいずれであってもよいが、操作性等の点から水溶性のものが好適である。水溶性である場合には、水中ではゾル状であるが、噴霧により気中ではゾルのままであるか、もしくはゲルを形成する。本発明の超高分子化合物としては、たとえばポリアクリルアミド系、ポリアクリル酸系もしくはポリメタクリル酸系化合物が挙げられるが、アクリルアミド/アクリル酸アンモニウム系コポリマー、アクリルアミド/ジメチルアミノエチルメタクリレート系コポリマー等のアクリルアミド/(メタ)アクリル酸コポリマーが、達成しうる効果の点から好適である。
【００１０】
このような超高分子化合物はたとえば特許第２７７５１６２号公報記載の方法により製造され得る。
【００１１】
本発明方法においては、上記のような超高分子化合物が水溶性の場合には水溶液を、そして水不溶性の場合には水分散体を、微細ゲルもしくはゾル吸着剤として排ガスに噴霧する。水溶液の場合には、噴霧によりゲル化し微細ゲルを形成することが多い。噴霧された微細ゲルもしくはゾルの粒径は好適には１０〜５００ｎｍである。噴霧はスクラバー部の水洗浄用スプレーによることができ、水洗浄と微細ゲルもしくはゾルの噴霧とを併せて行なうことができる。この微細ゲルもしくはゾルは、糸まり状に絡まり合い、超微細孔を無数に形成しており、排ガス中の悪臭分子をカチオンとアニオンの両極性間から生じる分子間引力等により瞬時に絡め取ることができる。ついで、絡め取られた悪臭分子はその種類により、超高分子化合物中の酸性基、中性基および塩基性基のいずれかと化学的に結合しうるので、多種類の悪臭分子を含有する排ガスに対しても安定して脱臭効果を得ることができる。
【００１２】
微細ゲルもしくはゾル吸着剤と接触した排ガスは、通常１秒以上、好ましくは２秒以上、さらに好ましくは３〜５秒程度の接触時間を保持しうる空間を移動後、脱臭フィルター層に導入される。この脱臭フィルター層は本発明における微細ゲルもしくはゾルによる脱臭効果をさらに高める機能を有し、好適には光触媒層、活性炭層および/または無機繊維層が用いられる。
【００１３】
たとえば、光触媒層としてはチタニアが好適であり、ハニカム状、織布状、板状、円筒状あるいは粒状等の任意の形態を採用しうるが、好ましくは、光触媒層はセラミックフォームに担持される。担持方法は常法によることができ、セラミックフォーム表面に光触媒層をたとえば５００から１０００ｎｍ程度コーティングするのが通常である。セラミックフォームとしては特に制限されないが、通常アルミナ、コーディエライト、シリカ・アルミナ、ジルコニアもしくは炭化ケイ素等から選ばれる。セラミックフォームは微細な三次元網目構造を有し、気泡を発生させ多孔構造を形成するための常法により製造され得る。
【００１４】
光触媒層には常法により紫外線照射して脱臭効果を得るのが好適である。
【００１５】
活性炭層としては、ヤシガラ炭、石炭系、骨炭等のいずれであってもよいが、通常ヤシガラ炭が用いられる。
【００１６】
無機繊維層としてはシリカ繊維、アルミナ繊維、アルミノシリケート繊維、ジルコニア繊維などの無機質繊維のシート状集合体で構成されるものが好適に使用される。
【００１７】
本発明方法によれば、特に光触媒層をセラミックフォームに担持する場合、光触媒脱臭により付着するヤニ状汚れが、微細ゲルの衝突によりセルフクリーニングされ、除去されるため光触媒脱臭効果が低下しないという意外な効果を奏し得る。微細ゲルの微細孔はチタニア等の光触媒の微細孔よりも小さいので接触する面積が光触媒側より大きくなり、ヤニ状汚れは微細ゲル側に移動し、微細ゲルはセラミックフォームに留まることなく下流側に流れることになる。このようにして光触媒脱臭により付着するヤニ状汚れはセルフクリーニングされると考えられる。
【００１８】
また、微細ゲルもしくはゾル側からみると、空間移動中の引力による吸着に加えて衝突時にも吸着することになり、セラミックフォーム、活性炭層、もしくは無機繊維層中を通過する間の無数の衝突で吸着剤の持つ微細孔の使用率が著しく向上していると考えられる。すなわち、衝突・反動の滞留時間が発生するために接触時間が長くなり、微細孔の使用率が相乗的に向上していると考えられる。
【００１９】
以上のように、本発明方法によればセルフクリーニング効果による光触媒の脱臭効果の持続・延長（寿命延長）、そしてそれによるメンテナンス回数・コストの低減；ならびに脱臭フィルターにおける微細ゲルの接触時間延長による脱臭効果向上、湿気箱・ミキシングダクトの縮小、高効率化に伴う装置全体の縮小化（イニシャルおよびランニングコストの削減）、等を奏し得る。
【００２０】
本発明方法においては、排ガスに超高分子化合物を微細ゲルもしくはゾルとして噴霧した後に、除湿することができる。
【００２１】
また、必要に応じて上記除湿後に排ガスをバグフィルター、電気集塵機等で除塵処理することができる。
【００２２】
以下、図１により本発明の脱臭処理方法の一実施態様について説明する。図１は本発明の一実施態様を示す概略図であり、脱臭処理される排ガスはスクラバー部（１）に導入され、炭素原子に酸性基、中性基および塩基性基が結合してなる超高分子化合物の水溶液もしくは水分散体を、微細ゲルもしくはゾル吸着剤として噴霧され、ついでフィルター層を通過した後、冷却式除湿部（２）で除湿される。ついで排ガスはバグフィルターで形成される除塵部（３）を通過した後、脱臭フィルター層（４）に導入される。脱臭フィルター層はアルミナフォーム表面にチタニア光触媒が８００ｎｍ程度コーティングされて構成されている。
【００２３】
本発明に係る排ガスの脱臭処理装置は、排ガスに微細ゲルもしくはゾルを噴霧するための微細ゲルもしくはゾル噴霧部を備えたスクラバー部、ならびに微細ゲルもしくはゾルを噴霧された排ガスを導入するための脱臭フィルター層、を備えた排ガスの脱臭処理装置において、脱臭フィルター層は光触媒層がセラミックフォームに担持されてなる。さらに、本発明に係る排ガスの脱臭処理装置はスクラバー部の後に除湿部をさらに備え得る。さらには、除湿部の後に除塵部をさらに備えることもできる。
【００２４】
そして上述のように、上記の微細ゲルもしくはゾルは、好適には炭素原子に酸性基、中性基および塩基性基が結合してなる超高分子化合物の水溶液もしくは水分散体の噴霧により得られる。微細ゲルもしくはゾル噴霧部は通常の形式のスプレーを有するものであれば特に制限されない。また、光触媒層がセラミックフォームに担持された脱臭フィルター層も通常上記のとおりの構成としうる。スクラバー部、除湿部および除塵部の態様も、噴霧・洗浄、除湿および除塵の機能を有する限り特に制限されず、公知の型式を採用しうる。
【００２５】
本発明の排ガスの脱臭処理方法もしくは脱臭処理装置によれば、効率的に脱臭処理前に臭気濃度１０,０００以上の排ガスを処理後の臭気濃度を５００以下、好ましく３００以下とすることができる。
【実施例】
【００２６】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
実施例１
図１に示す、微細ゲルもしくはゾル噴霧部を備えたスクラバー部（１）、除湿部（２）、除塵部（３）ならびにアルミナフォーム表面にチタニア光触媒が８００ｎｍ程度コーティングされた脱臭フィルター層（４）を有する脱臭処理装置を用いて、超高分子化合物として「マイクロゲルS-AL200」（カルモア社製）を用いて、連続してアルミニウム鋳造工場排ガス（排ガス流量３７５ｍ３/分）の脱臭処理を行なった。
【００２７】
表１に示すように、臭気濃度１３０００の排ガスは、本発明の脱臭処理により脱臭フィルター層（４）の出口では臭気濃度７９となった。
【００２８】
【表１】
【産業上の利用可能性】
【００２９】
本発明によれば、特に塗装、印刷、アルミ鋳造もしくは接着工程等からの揮発性有機化合物を含有する排ガスを効率的に脱臭処理しうる方法を提供し得る。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の一実施態様を示す概略図。
【符号の説明】
【００３１】
１ スクラバー部
２ 除湿部
３ 除塵部
４ 脱臭フィルター層
【技術分野】
【０００１】
本発明は排ガスの脱臭処理方法に関し、さらに詳しくは揮発性有機化合物を含有する排ガスの脱臭処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
塗装、印刷、アルミ鋳造もしくは接着工程は種々の産業において欠かせないものである。たとえば、塗装工程から排気中には、塗料ミスト、有機溶剤等のトルエン、キシレン、イソブタノール等も含有されており、不快な臭気を伴う。この排ガスをそのまま放出すると大気汚染の原因にもなるため、燃焼処理したり、貴金属触媒により酸化処理した後排気することが行なわれている。しかし、直接燃焼処理するためには、多量の燃料を必要とし、さらにＳＯｘ、ＮＯｘ等の有害物質を副生するおそれがあり、また貴金属触媒は、総じて硫黄系化合物に被毒されやすく解決すべき幾つかの課題がある。
【０００３】
そこで、種々の方法が検討され、その一つとして分子間で臭気原因物質を取り込み無臭化する超高分子量ポリマー吸着剤を微細ゲルもしくはゾル（マイクロゲルもしくはミクロゲル、またはマイクロゾルもしくはミクロゾル）として排ガス中に噴霧する方法も利用されているが、その弱点は排ガスとの接触時間を一定時間以上取る必要があり、湿気箱を大きくするかダクト長を長くしなければならない。また、酸化チタン等の光触媒も利用されているが、サブミクロンオーダーの汚れが触媒表面に付着し、使用時間の経過とともに効果がなくなること、さらには付着した汚れを除去することが困難である点に難がある。そして、通常の洗浄・天日乾燥では十分な復帰は望み難く、焼成処理が必要となるため、使用されている担体の種類によっては、その寿命低下の大きな要因となる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、上記の難点を克服し、特に塗装、印刷、アルミ鋳造もしくは接着工程等からの揮発性有機化合物を含有する排ガスを効率的に脱臭処理しうる方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上記の課題を解決するために以下の発明を提供する。
（１）炭素原子に酸性基、中性基および塩基性基が結合してなる超高分子化合物の水溶液もしくは水分散体を、スクラバーにより、微細ゲルもしくはゾルとして排ガスに噴霧し、ついで該排ガスを脱臭フィルター層を通過させることを特徴とする排ガスの脱臭処理方法；
（２）排ガスが揮発性有機化合物を含有する上記（１）記載の排ガスの脱臭処理方法；
（３）排ガスが塗装、印刷、アルミ鋳造もしくは接着工程からの排ガスである上記（１）もしくは（２）記載の排ガスの脱臭処理方法；
（４）超高分子化合物の炭素原子が直鎖性である上記（１）〜（３）のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法；
（５）超高分子化合物の質量平均分子量が５００万〜５０００万である上記（１）〜（４）のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法；
（６）超高分子化合物がポリアクリルアミド系、ポリアクリル酸系もしくはポリメタクリル酸系化合物である上記（１）〜（５）のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法；
（７）噴霧された微細ゲルもしくはゾルの粒径が１０〜５００ｎｍである上記（１）〜（６）のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法；
（８）脱臭フィルター層が光触媒層、活性炭層および/または無機繊維層である上記（１）〜（６）のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法；
（９）光触媒層がチタニアである上記（８）記載の排ガスの脱臭処理方法；
（１０）光触媒層がセラミックフォームに担持されている上記（８）もしくは（９）記載の排ガスの脱臭処理方法；
（１１）セラミックフォームがアルミナ、コーディエライト、シリカ・アルミナ、ジルコニアもしくは炭化ケイ素から選ばれる上記（１０）記載の排ガスの脱臭処理方法；
（１２）光触媒層が紫外線照射される上記（８）〜（１１）のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法；
（１３）除湿した後に、排ガスを脱臭フィルター層を通過させる上記（１）〜（１２）のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法；
（１４）除湿した後に、さらに除塵する上記（１３）記載の排ガスの脱臭処理方法；
（１５）脱臭処理前および脱臭処理後の排ガスの臭気濃度がそれぞれ１００００以上および５００以下である上記（１）〜（１４）のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法；
（１６）脱臭処理後の排ガスの臭気濃度が３００以下である上記（１５）記載の排ガスの脱臭処理方法、
（１７）排ガスに微細ゲルもしくはゾルを噴霧するための微細ゲルもしくはゾル噴霧部を備えたスクラバー部、ならびに微細ゲルもしくはゾルを噴霧された排ガスを導入するための脱臭フィルター層、を備えた排ガスの脱臭処理装置において、脱臭フィルター層は光触媒層がセラミックフォームに担持されてなる排ガスの脱臭処理装置；
（１８）スクラバー部の後に除湿部をさらに備えた上記（１７）記載の排ガスの脱臭処理装置；
（１９）除湿部の後に除塵部をさらに備えた上記（１８）記載の排ガスの脱臭処理装置；ならびに
（２０）微細ゲルもしくはゾルが炭素原子に酸性基、中性基および塩基性基が結合してなる超高分子化合物の水溶液もしくは水分散体の噴霧により得られる上記（１７）〜（１９）のいずれか記載の排ガスの脱臭処理装置、
である。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、特に塗装、印刷、アルミ鋳造もしくは接着工程等からの揮発性有機化合物を含有する排ガスを効率的に脱臭処理しうる方法を提供し得る。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
本発明の排ガスの脱臭処理方法においては、炭素原子に酸性基、中性基および塩基性基が結合してなる超高分子化合物の水溶液もしくは水分散体を、スクラバーにより、微細ゲルもしくはゾル吸着剤として排ガスに噴霧し、ついで該排ガスを脱臭フィルター層を通過させる。
【０００８】
排ガスは特に制限されないが、たとえば塗装、印刷、アルミ鋳造もしくは接着工程からの排ガス等の揮発性有機化合物を含有する排ガス、が好適に脱臭処理されうる。
【０００９】
本発明において使用される超高分子化合物は、含まれる炭素原子が酸性基、中性基および塩基性基とに結合してなり、その炭素原子は直鎖性の配列構造を有する。これらの酸性基としては、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基等、中性基としてはメチル基、エチル等、そして塩基性基としては、−ＮＨ−基、−ＮＲ３＋Ｘ−等が一般的であるが、これらに制限されず、これらは通常ランダムに配列されている。このような超高分子化合物の質量平均分子量は５００万〜５０００万、好ましくは１０００万〜３０００万である。超高分子化合物は水溶性もしくは水不溶性のいずれであってもよいが、操作性等の点から水溶性のものが好適である。水溶性である場合には、水中ではゾル状であるが、噴霧により気中ではゾルのままであるか、もしくはゲルを形成する。本発明の超高分子化合物としては、たとえばポリアクリルアミド系、ポリアクリル酸系もしくはポリメタクリル酸系化合物が挙げられるが、アクリルアミド/アクリル酸アンモニウム系コポリマー、アクリルアミド/ジメチルアミノエチルメタクリレート系コポリマー等のアクリルアミド/(メタ)アクリル酸コポリマーが、達成しうる効果の点から好適である。
【００１０】
このような超高分子化合物はたとえば特許第２７７５１６２号公報記載の方法により製造され得る。
【００１１】
本発明方法においては、上記のような超高分子化合物が水溶性の場合には水溶液を、そして水不溶性の場合には水分散体を、微細ゲルもしくはゾル吸着剤として排ガスに噴霧する。水溶液の場合には、噴霧によりゲル化し微細ゲルを形成することが多い。噴霧された微細ゲルもしくはゾルの粒径は好適には１０〜５００ｎｍである。噴霧はスクラバー部の水洗浄用スプレーによることができ、水洗浄と微細ゲルもしくはゾルの噴霧とを併せて行なうことができる。この微細ゲルもしくはゾルは、糸まり状に絡まり合い、超微細孔を無数に形成しており、排ガス中の悪臭分子をカチオンとアニオンの両極性間から生じる分子間引力等により瞬時に絡め取ることができる。ついで、絡め取られた悪臭分子はその種類により、超高分子化合物中の酸性基、中性基および塩基性基のいずれかと化学的に結合しうるので、多種類の悪臭分子を含有する排ガスに対しても安定して脱臭効果を得ることができる。
【００１２】
微細ゲルもしくはゾル吸着剤と接触した排ガスは、通常１秒以上、好ましくは２秒以上、さらに好ましくは３〜５秒程度の接触時間を保持しうる空間を移動後、脱臭フィルター層に導入される。この脱臭フィルター層は本発明における微細ゲルもしくはゾルによる脱臭効果をさらに高める機能を有し、好適には光触媒層、活性炭層および/または無機繊維層が用いられる。
【００１３】
たとえば、光触媒層としてはチタニアが好適であり、ハニカム状、織布状、板状、円筒状あるいは粒状等の任意の形態を採用しうるが、好ましくは、光触媒層はセラミックフォームに担持される。担持方法は常法によることができ、セラミックフォーム表面に光触媒層をたとえば５００から１０００ｎｍ程度コーティングするのが通常である。セラミックフォームとしては特に制限されないが、通常アルミナ、コーディエライト、シリカ・アルミナ、ジルコニアもしくは炭化ケイ素等から選ばれる。セラミックフォームは微細な三次元網目構造を有し、気泡を発生させ多孔構造を形成するための常法により製造され得る。
【００１４】
光触媒層には常法により紫外線照射して脱臭効果を得るのが好適である。
【００１５】
活性炭層としては、ヤシガラ炭、石炭系、骨炭等のいずれであってもよいが、通常ヤシガラ炭が用いられる。
【００１６】
無機繊維層としてはシリカ繊維、アルミナ繊維、アルミノシリケート繊維、ジルコニア繊維などの無機質繊維のシート状集合体で構成されるものが好適に使用される。
【００１７】
本発明方法によれば、特に光触媒層をセラミックフォームに担持する場合、光触媒脱臭により付着するヤニ状汚れが、微細ゲルの衝突によりセルフクリーニングされ、除去されるため光触媒脱臭効果が低下しないという意外な効果を奏し得る。微細ゲルの微細孔はチタニア等の光触媒の微細孔よりも小さいので接触する面積が光触媒側より大きくなり、ヤニ状汚れは微細ゲル側に移動し、微細ゲルはセラミックフォームに留まることなく下流側に流れることになる。このようにして光触媒脱臭により付着するヤニ状汚れはセルフクリーニングされると考えられる。
【００１８】
また、微細ゲルもしくはゾル側からみると、空間移動中の引力による吸着に加えて衝突時にも吸着することになり、セラミックフォーム、活性炭層、もしくは無機繊維層中を通過する間の無数の衝突で吸着剤の持つ微細孔の使用率が著しく向上していると考えられる。すなわち、衝突・反動の滞留時間が発生するために接触時間が長くなり、微細孔の使用率が相乗的に向上していると考えられる。
【００１９】
以上のように、本発明方法によればセルフクリーニング効果による光触媒の脱臭効果の持続・延長（寿命延長）、そしてそれによるメンテナンス回数・コストの低減；ならびに脱臭フィルターにおける微細ゲルの接触時間延長による脱臭効果向上、湿気箱・ミキシングダクトの縮小、高効率化に伴う装置全体の縮小化（イニシャルおよびランニングコストの削減）、等を奏し得る。
【００２０】
本発明方法においては、排ガスに超高分子化合物を微細ゲルもしくはゾルとして噴霧した後に、除湿することができる。
【００２１】
また、必要に応じて上記除湿後に排ガスをバグフィルター、電気集塵機等で除塵処理することができる。
【００２２】
以下、図１により本発明の脱臭処理方法の一実施態様について説明する。図１は本発明の一実施態様を示す概略図であり、脱臭処理される排ガスはスクラバー部（１）に導入され、炭素原子に酸性基、中性基および塩基性基が結合してなる超高分子化合物の水溶液もしくは水分散体を、微細ゲルもしくはゾル吸着剤として噴霧され、ついでフィルター層を通過した後、冷却式除湿部（２）で除湿される。ついで排ガスはバグフィルターで形成される除塵部（３）を通過した後、脱臭フィルター層（４）に導入される。脱臭フィルター層はアルミナフォーム表面にチタニア光触媒が８００ｎｍ程度コーティングされて構成されている。
【００２３】
本発明に係る排ガスの脱臭処理装置は、排ガスに微細ゲルもしくはゾルを噴霧するための微細ゲルもしくはゾル噴霧部を備えたスクラバー部、ならびに微細ゲルもしくはゾルを噴霧された排ガスを導入するための脱臭フィルター層、を備えた排ガスの脱臭処理装置において、脱臭フィルター層は光触媒層がセラミックフォームに担持されてなる。さらに、本発明に係る排ガスの脱臭処理装置はスクラバー部の後に除湿部をさらに備え得る。さらには、除湿部の後に除塵部をさらに備えることもできる。
【００２４】
そして上述のように、上記の微細ゲルもしくはゾルは、好適には炭素原子に酸性基、中性基および塩基性基が結合してなる超高分子化合物の水溶液もしくは水分散体の噴霧により得られる。微細ゲルもしくはゾル噴霧部は通常の形式のスプレーを有するものであれば特に制限されない。また、光触媒層がセラミックフォームに担持された脱臭フィルター層も通常上記のとおりの構成としうる。スクラバー部、除湿部および除塵部の態様も、噴霧・洗浄、除湿および除塵の機能を有する限り特に制限されず、公知の型式を採用しうる。
【００２５】
本発明の排ガスの脱臭処理方法もしくは脱臭処理装置によれば、効率的に脱臭処理前に臭気濃度１０,０００以上の排ガスを処理後の臭気濃度を５００以下、好ましく３００以下とすることができる。
【実施例】
【００２６】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
実施例１
図１に示す、微細ゲルもしくはゾル噴霧部を備えたスクラバー部（１）、除湿部（２）、除塵部（３）ならびにアルミナフォーム表面にチタニア光触媒が８００ｎｍ程度コーティングされた脱臭フィルター層（４）を有する脱臭処理装置を用いて、超高分子化合物として「マイクロゲルS-AL200」（カルモア社製）を用いて、連続してアルミニウム鋳造工場排ガス（排ガス流量３７５ｍ３/分）の脱臭処理を行なった。
【００２７】
表１に示すように、臭気濃度１３０００の排ガスは、本発明の脱臭処理により脱臭フィルター層（４）の出口では臭気濃度７９となった。
【００２８】
【表１】
【産業上の利用可能性】
【００２９】
本発明によれば、特に塗装、印刷、アルミ鋳造もしくは接着工程等からの揮発性有機化合物を含有する排ガスを効率的に脱臭処理しうる方法を提供し得る。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の一実施態様を示す概略図。
【符号の説明】
【００３１】
１ スクラバー部
２ 除湿部
３ 除塵部
４ 脱臭フィルター層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭素原子に酸性基、中性基および塩基性基が結合してなる超高分子化合物の水溶液もしくは水分散体を、スクラバーにより、微細ゲルもしくはゾルとして排ガスに噴霧し、ついで該排ガスを脱臭フィルター層を通過させることを特徴とする排ガスの脱臭処理方法。
【請求項２】
排ガスが揮発性有機化合物を含有する請求項１記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項３】
排ガスが塗装、印刷、アルミ鋳造もしくは接着工程からの排ガスである請求項１もしくは２記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項４】
超高分子化合物の炭素原子が直鎖性である請求項１〜３のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項５】
超高分子化合物の質量平均分子量が５００万〜５０００万である請求項１〜４のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項６】
超高分子化合物がポリアクリルアミド系、ポリアクリル酸系もしくはポリメタクリル酸系化合物である請求項１〜５のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項７】
噴霧された微細ゲルもしくはゾルの粒径が１０〜５００ｎｍである請求項１〜６のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項８】
脱臭フィルター層が光触媒層、活性炭層および/または無機繊維層である請求項１〜６のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項９】
光触媒層がチタニアである請求項８記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項１０】
光触媒層がセラミックフォームに担持されている請求項８もしくは９記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項１１】
セラミックフォームがアルミナ、コーディエライト、シリカ・アルミナ、ジルコニアも
しくは炭化ケイ素から選ばれる請求項１０記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項１２】
光触媒層が紫外線照射される請求項８〜１１のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項１３】
除湿した後に、排ガスを脱臭フィルター層を通過させる請求項１〜１２のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項１４】
除湿した後に、さらに除塵する請求項１３記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項１５】
脱臭処理前および脱臭処理後の排ガスの臭気濃度がそれぞれ１０,０００以上および５００以下である請求項１〜１４のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項１６】
脱臭処理後の排ガスの臭気濃度が３００以下である請求項１５記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項１７】
排ガスに微細ゲルもしくはゾルを噴霧するための微細ゲルもしくはゾル噴霧部を備えたスクラバー部、ならびに微細ゲルもしくはゾルを噴霧された排ガスを導入するための脱臭フィルター層、を備えた排ガスの脱臭処理装置において、脱臭フィルター層は光触媒層がセラミックフォームに担持されてなる排ガスの脱臭処理装置。
【請求項１８】
スクラバー部の後に除湿部をさらに備えた請求項１７記載の排ガスの脱臭処理装置。
【請求項１９】
除湿部の後に除塵部をさらに備えた請求項１８記載の排ガスの脱臭処理装置。
【請求項２０】
微細ゲルもしくはゾルが炭素原子に酸性基、中性基および塩基性基が結合してなる超高分子化合物の水溶液もしくは水分散体の噴霧により得られる請求項１７〜１９のいずれか記載の排ガスの脱臭処理装置。
【請求項１】
炭素原子に酸性基、中性基および塩基性基が結合してなる超高分子化合物の水溶液もしくは水分散体を、スクラバーにより、微細ゲルもしくはゾルとして排ガスに噴霧し、ついで該排ガスを脱臭フィルター層を通過させることを特徴とする排ガスの脱臭処理方法。
【請求項２】
排ガスが揮発性有機化合物を含有する請求項１記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項３】
排ガスが塗装、印刷、アルミ鋳造もしくは接着工程からの排ガスである請求項１もしくは２記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項４】
超高分子化合物の炭素原子が直鎖性である請求項１〜３のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項５】
超高分子化合物の質量平均分子量が５００万〜５０００万である請求項１〜４のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項６】
超高分子化合物がポリアクリルアミド系、ポリアクリル酸系もしくはポリメタクリル酸系化合物である請求項１〜５のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項７】
噴霧された微細ゲルもしくはゾルの粒径が１０〜５００ｎｍである請求項１〜６のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項８】
脱臭フィルター層が光触媒層、活性炭層および/または無機繊維層である請求項１〜６のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項９】
光触媒層がチタニアである請求項８記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項１０】
光触媒層がセラミックフォームに担持されている請求項８もしくは９記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項１１】
セラミックフォームがアルミナ、コーディエライト、シリカ・アルミナ、ジルコニアも
しくは炭化ケイ素から選ばれる請求項１０記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項１２】
光触媒層が紫外線照射される請求項８〜１１のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項１３】
除湿した後に、排ガスを脱臭フィルター層を通過させる請求項１〜１２のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項１４】
除湿した後に、さらに除塵する請求項１３記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項１５】
脱臭処理前および脱臭処理後の排ガスの臭気濃度がそれぞれ１０,０００以上および５００以下である請求項１〜１４のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項１６】
脱臭処理後の排ガスの臭気濃度が３００以下である請求項１５記載の排ガスの脱臭処理方法。
【請求項１７】
排ガスに微細ゲルもしくはゾルを噴霧するための微細ゲルもしくはゾル噴霧部を備えたスクラバー部、ならびに微細ゲルもしくはゾルを噴霧された排ガスを導入するための脱臭フィルター層、を備えた排ガスの脱臭処理装置において、脱臭フィルター層は光触媒層がセラミックフォームに担持されてなる排ガスの脱臭処理装置。
【請求項１８】
スクラバー部の後に除湿部をさらに備えた請求項１７記載の排ガスの脱臭処理装置。
【請求項１９】
除湿部の後に除塵部をさらに備えた請求項１８記載の排ガスの脱臭処理装置。
【請求項２０】
微細ゲルもしくはゾルが炭素原子に酸性基、中性基および塩基性基が結合してなる超高分子化合物の水溶液もしくは水分散体の噴霧により得られる請求項１７〜１９のいずれか記載の排ガスの脱臭処理装置。
【図１】
【公開番号】特開２０１０−７５８７９（Ｐ２０１０−７５８７９Ａ）
【公開日】平成２２年４月８日（２０１０．４．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２４８７１６（Ｐ２００８−２４８７１６）
【出願日】平成２０年９月２６日（２００８．９．２６）
【出願人】（３０２０７１４４９）株式会社シー・エス・エンジニアリング (6)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年４月８日（２０１０．４．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年９月２６日（２００８．９．２６）
【出願人】（３０２０７１４４９）株式会社シー・エス・エンジニアリング (6)
【Ｆターム（参考）】
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