掻取装置、これを備えたコントラスト向上シートの製造装置、およびコントラスト向上シートの製造方法
【課題】スジ不良および充填ムラが低減したコントラスト向上シートを得ることができる掻取装置、シートの製造装置および上シートの製造方法を提供する。
【解決手段】表面１ａに複数の溝が並設された光透過部１と、光透過部１の溝内に形成された光吸収部とを備えるコントラスト向上シートの製造に用いられる掻取装置であって、表面１ａ上に供給されたインキ組成物を掻き取るための、先端部４１ａに貫通孔４１ｂを有する第１の掻取ブレード４１と、第１の掻取ブレード４１と所定の間隔を置いて配置され、第１の掻取ブレード４１による掻き取り後に光透過部１の表面１ａに残るインキ組成物をさらに掻き取るための第２の掻取ブレード４２と、貫通孔４１ｂを介して第１の掻取ブレード４１と第２の掻取ブレード４２との間の空間Ｓに入り込んだインキ組成物を吸引する吸引機構とを備える。
【解決手段】表面１ａに複数の溝が並設された光透過部１と、光透過部１の溝内に形成された光吸収部とを備えるコントラスト向上シートの製造に用いられる掻取装置であって、表面１ａ上に供給されたインキ組成物を掻き取るための、先端部４１ａに貫通孔４１ｂを有する第１の掻取ブレード４１と、第１の掻取ブレード４１と所定の間隔を置いて配置され、第１の掻取ブレード４１による掻き取り後に光透過部１の表面１ａに残るインキ組成物をさらに掻き取るための第２の掻取ブレード４２と、貫通孔４１ｂを介して第１の掻取ブレード４１と第２の掻取ブレード４２との間の空間Ｓに入り込んだインキ組成物を吸引する吸引機構とを備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、掻取装置、これを備えたコントラスト向上シートの製造装置、およびコントラスト向上シートの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置では、通常、観察者がどのような位置から見ても良好な画像が得られるように、視野角が広いことが好まれる。一方、例えば通勤電車の中で仕事をする場合やＡＴＭ等の公共の場に設置された液晶表示装置では、周りの人から画面を覗かれては困ることがあり、このような場合には液晶表示装置の観察者のみに見え、他人からは見えないようにプライバシーを保護するための覗き見防止機能が求められている。また、カーナビゲーションシステム等の車載型の液晶表示装置においては、夜間などに液晶表示装置の画面が窓ガラスに映り込み、視界を遮る現象がおこるため、映り込み防止機能が求められており、光線出光角度の制御が望まれている。
【０００３】
このような要求に対して、例えば、特開２００６−１１９３６５号公報（特許文献１）には、光透過層と遮光層とを交互に並べた構造であるルーバータイプの光学シートが提案されており、遮光層として、光透過層を構成する材料にカーボンブラックやカーボンファイバー等の充填材を混合したものを用いることが開示されている。
【０００４】
一方、上記のようなルーバー型の光学シートは、斜め方向の映像光を単純にカットするものであるため、表示装置の種類によっては、観測者に到達させるべき映像光の拡散光源を減少させてしまうことにもなるため、表示画面の輝度が低下する場合があった。
【０００５】
上記の問題を解消するため、外光を遮光してコントラストを向上させ、かつ二重像の発生も減少させることができるコントラスト向上シートを設置することが提案されている。このようなコントラスト向上シートとして種々の構造のものが提案されており、例えば、表面に複数の溝が並設された光透過部と、溝に光透過部よりも屈折率の低い材料とカーボン顔料等とを充填させて形成された光吸収部とを有するものが提案されている（例えば、特開２００６−８５０５０号公報等：特許文献２）。
【０００６】
そして、コントラスト向上シートの製造において、電離放射線硬化型樹脂等のレンズ材料に着色樹脂ビーズを混合したインキ組成物を光透過部の溝に充填し、電離放射線を照射して硬化させて光吸収部を形成することが行われている（例えば、国際出願公開公報ＷＯ２００６／０９０７８４：特許文献３）。
【０００７】
インキ組成物の充填は、例えば、表面に複数の溝が並設されたシート状の光透過部を移動させながら、ドクターブレードの上流側よりインキ組成物を光透過部の表面に供給し、ドクターブレードの上流側かつドクターブレードの直近にインキ溜まりを形成しつつ、１枚のドクターブレードで光透過部の表面上のインキ組成物を掻き取ることにより行うことができる。
【０００８】
しかしながら、このような方法により、インキ組成物を充填すると、帯状の充填ムラやスジ不良等が発生しやすい。コントラスト向上シートの外観品質は、画質に直接結び付くため、高い品質が要求される。このため、上記したような充填ムラやスジ不良を極力低減することが好ましい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００６−１１９３６５号公報
【特許文献２】特開２００６−８５０５０号公報
【特許文献３】国際出願公開公報ＷＯ２００６／０９０７８４
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものである。すなわち、スジ不良および充填ムラが低減したコントラスト向上シートを得ることができる掻取装置、コントラスト向上シートの製造装置およびコントラスト向上シートの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、充填ムラおよびスジ不良を低減するため鋭意研究を重ねた結果、第１の掻取ブレードと、第１の掻取ブレードより下流側に配置された第２の掻取ブレードとを用い、かつ第１の掻取ブレードに付着して、固形化するインキ組成物を抑制した場合には、充填ムラおよびスジ不良を低減することができることを見出した。ここで、本明細書においては、「スジ不良」とは、白スジ、ピッチスジ不良および黒スジ不良の全てを含む意味である。「白スジ」とは、溝にインキ組成物が確実に充填されておらず、光吸収部が一部において凹んでいるものを意味する。「ピッチスジ不良」とは、光吸収部が一部において凹んでおり、そしてこの凹みが線状になっているものを意味する。「黒スジ不良」とは、インキ組成物の掻き取り後において光透過部上にインキ組成物が残存しており、そしてそれが線状または点状になっているものを意味する。なお、黒スジ不良は「カブリ」とも呼ばれることもある。本発明はかかる知見に基づいて完成されたものである。
【００１２】
本発明の一の態様によれば、表面に複数の溝が並設された光透過部と、前記光透過部の前記溝内に形成された光吸収部とを備えるコントラスト向上シートの製造に用いられる掻取装置であって、表面に複数の溝が並設された光透過部の前記表面から前記表面上に供給されたインキ組成物を掻き取るための、先端部に貫通孔を有する第１の掻取ブレードと、前記第１の掻取ブレードと所定の間隔を置いて配置され、前記第１の掻取ブレードによる掻き取り後に前記光透過部の前記表面に残る前記インキ組成物をさらに掻き取るための第２の掻取ブレードと、前記貫通孔を介して前記第１の掻取ブレードと前記第２の掻取ブレードとの間の空間に入り込んだ前記インキ組成物を吸引する吸引機構とを備えることを特徴とする、掻取装置が提供される。
【００１３】
本発明の他の態様によれば、表面に複数の溝が並設された光透過部と、前記光透過部の前記溝内に形成された光吸収部とを備えるコントラスト向上シートの製造装置であって、上記の掻取装置を備えることを特徴とする、コントラスト向上シートの製造装置が提供される。
【００１４】
本発明の他の態様によれば、表面に複数の溝が並設された光透過部と、前記光透過部の前記溝内に形成された光吸収部とを備えるコントラスト向上シートの製造方法であって、表面に複数の溝が並設されたシート状の光透過部を移動させながら、前記光透過部の前記表面にインキ組成物を連続的に供給し、前記インキ組成物の供給位置よりも下流側に配置された第１の掻取ブレードの上流側かつ前記第１の掻取ブレードの直近にインキ組成物からなるインキ溜まりを形成しつつ、前記光透過部の表面上の前記インキ組成物を、前記第１の掻取ブレードおよび前記第１の掻取ブレードよりも下流側に前記第１の掻取ブレードと所定の間隔を置いて配置された第２の掻取ブレードにより掻き取る充填工程とを備え、前記第１の掻取ブレードが、前記第１の掻取ブレードの先端部に貫通孔を有し、前記充填工程が、前記貫通孔を介して前記第１の掻取ブレードと前記第２の掻取ブレードとの間の空間に入り込んだ前記インキ組成物を吸引しながら行われることを特徴とする、コントラスト向上シートの製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の一の態様の掻取装置、本発明の他の態様のコントラスト向上シートの製造装置、および本発明の他の態様のコントラスト向上シート製造方法によれば、充填ムラおよびスジ不良を低減させたコントラスト向上シートを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】第１の実施形態に係るコントラスト向上シートの製造装置を概略構成図である。
【図２】図１の掻取装置周辺を上流側から見た図である。
【図３】図１のホルダの断面図である。
【図４】第１の実施形態に係る第１の掻取ブレードと第２の掻取ブレードの正面図である。
【図５】図１のホルダの側面図である。
【図６】第１の実施の形態に係る他のホルダの側面図である。
【図７】第１の実施形態に係るホルダの内側隅部を模式的示した図である。
【図８】第１の実施形態に係るコントラスト向上シートの製造工程を模式的に示した図である。
【図９】第１の実施形態に係る光透過部の形成工程を模式的に示した図である。
【図１０】第１の実施形態に係る粘着層および剥離層を有する基材を示した図である。
【図１１】第１の実施形態に係る掻取装置によるインク組成物の掻き取りの様子を模式的に示した図である。
【図１２】第１の実施形態に係るコントラスト向上シートを備えた表示装置の断面図である。
【図１３】第２の実施形態に係るコントラスト向上シートの製造装置を概略構成図である。
【図１４】図１３のホルダの断面図である。
【図１５】図１４で示されるスペーサの斜視図である。
【図１６】第２の実施形態に係る他のスペーサの斜視図である。
【図１７】第２の実施形態に係る掻取装置によるインク組成物の掻き取りの様子を模式的に示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
（第１の実施形態）
以下、本発明の第１の実施形態について、図面を参照しながら説明する。
＜掻取装置およびコントラスト向上シートの製造装置＞
まず、本発明による掻取装置およびコントラスト向上シートの製造装置について、説明する。図１は本実施形態に係るコントラスト向上シートの製造装置を概略構成図であり、図２は図１の掻取装置周辺を上流側から見た図であり、図３は図１のホルダの断面図である。図４は本実施形態に係る第１の掻取ブレードと第２の掻取ブレードの正面図であり、図５は図１のホルダの側面図である。図６は本実施の形態に係る他のホルダの側面図であり、図７は本実施形態に係るホルダの内側隅部を模式的示した図である。なお、図１〜３、５、６中の矢印Ａは光透過部の移動方向を表すものであり、図１中の矢印Ｂはインキ組成物の循環方向を表すものである。
【００１８】
図１に示されるコントラスト向上シートの製造装置１０は、表面１ａに溝１ｂが並設された光透過部１の溝１ｂにインキ組成物３を充填させるためのものであり、主に、搬送系２０と、供給装置３０と、掻取装置４０と、インキ循環系６０とを備えている。
【００１９】
図１に示される光透過部１は、基材２上に形成されており、溝１ｂは基材２側に向けて先細る略台形状となっている。溝１ｂは、略台形状に限られず、例えば、略Ｖ字状または略矩形状に形成されていてもよい。また、溝１ｂは光透過部１の長手方向（光透過部１の幅方向と直交する方向）に沿って延在している。光透過部１全体の幅は、５００〜１５００ｍｍとすることが可能である。
【００２０】
搬送系２０は、光透過部１を基材２ごと一方方向に搬送するためのものであり、搬送ロール等から構成されている。搬送系２０のライン速度（搬送速度）は、インキ組成物３の供給速度にもよるが、１〜５０ｍ／分であることが好ましい。
【００２１】
供給装置３０は、インキ組成物３を光透過部１の表面１ａに供給するためのものである。供給装置３０は、光透過部１の幅方向においてインキ組成物３を均一に供給できるものであることが好ましい。供給装置３０によるインキ組成物３の供給速度は、０．５〜１０Ｌ／分であることが好ましい。
【００２２】
供給装置３０としては、ダイコーター、バーコーター、ロールコーター、またはナイフコーターが挙げられるが、これらの中でも、光透過部１の幅方向においてインキ組成物３を光透過部１の表面１ａに均一に供給できるダイコーターが好ましい。
【００２３】
掻取装置４０は、供給装置３０によるインキ組成物３の供給位置よりも下流側に配置されている。掻取装置４０は、図３に示される光透過部１の表面１ａ上に供給されたインキ組成物３を掻き取る第１の掻取ブレード４１および第１の掻取ブレード４１による掻き取り後に光透過部１の表面１ａに残るインキ組成物３をさらに掻き取る第２の掻取ブレード４２と、図１に示される、インキ組成物３を吸引する吸引機構４３を少なくとも備えている。本実施形態では、その他、図１および図３に示されるように、第１の掻取ブレード４１および第２の掻取ブレード４２を保持するホルダ４４を備えている。
【００２４】
第１の掻取ブレード４１の先端部４１ａには、図３および図４に示されるように貫通孔４１ｂが設けられている。図４に示される貫通孔４１ｂは、第１の掻取ブレード４１の幅方向に沿って所定の間隔を置いて複数設けられている。第１の掻取ブレード４１に貫通孔４１ｂが設けられることにより、インキ組成物３からなる後述するインキ溜まり３ａ（図２参照）の一部を、貫通孔４１ｂを介して、図３に示される、第１の掻取ブレード４１と第２の掻取ブレード４２との間の空間Ｓに入り込ませることができる。
【００２５】
図４に示される貫通孔４１ｂは等間隔に設けられているが、第１の掻取ブレード４１の幅方向において第１の掻取ブレード４１の中央部から端部に向けて貫通孔４１ｂの間隔が広くなっていてもよい。また、図４に示される貫通孔４１ｂは円形状となっているが、貫通孔４１ｂの形状は、特に限定されず、円形状の他、例えば、楕円形状、四角状となっていてもよい。貫通孔４１ｂは、３つ以上設けられていることが好ましい。
【００２６】
貫通孔４１ｂが円形状の場合、貫通孔４１ｂの直径は１〜１０ｍｍであることが好ましい。この数値範囲が好ましいとしたのは、貫通孔４１ｂの直径が１ｍｍ未満であると、インキ組成物３が十分に貫通孔４１ｂから空間Ｓに供給されないおそれがあるからであり、また貫通孔４１ｂの直径が１０ｍｍを超えると、第１の掻取ブレード４１の強度が低下して、掻取不足もしくは第１の掻取ブレード４１が破損するおそれがあるからである。
【００２７】
第２の掻取ブレード４２は、図３に示されるように第１の掻取ブレード４１よりも光透過部１の移動方向に対して下流側に配置されている。また、第１の掻取ブレード４１および第２の掻取ブレード４２は、溝１ｂの延在方向とほぼ直交するように配置されている。
【００２８】
第１の掻取ブレード４１および第２の掻取ブレード４２は薄板状のものであり、第１の掻取ブレード４１および第２の掻取ブレード４２の厚さは約２００μｍ程度とすることができる。第１の掻取ブレード４１および第２の掻取ブレード４２としては例えばドクターブレード等を用いることができる。
【００２９】
第１の掻取ブレード４１の幅および第２の掻取ブレード４２の幅は用いる基材２の幅により適宜決定され、例えば、第１の掻取ブレード４１の幅および第２の掻取ブレード４２の幅は、基材２の幅から５０〜３００ｍｍ短いことが好ましい。この数値範囲が好ましいとしたのは、第１の掻取ブレード４１の幅および第２の掻取ブレード４２の幅が基材２の幅よりも５０ｍｍ未満短いと、インキ組成物３が基材１の幅方向両側から漏れるおそれがあり、また第１の掻取ブレード４１の幅および第２の掻取ブレード４２の幅が基材２の幅よりも３００ｍｍを超えて短いと、基材２のロスが大きくなり、不経済となるおそれがあるからである。
【００３０】
図４に示される第１の掻取ブレード４１は、第１の掻取ブレード４１の幅が、第２の掻取ブレード４２の幅よりも短くなっている。具体的には、例えば、第１の掻取ブレード４１の幅が、第２の掻取ブレード４２の幅よりも５〜３０ｍｍ短くなっていることが好ましい。この数値範囲が好ましいとしたのは、第１の掻取ブレード４１の幅が、第２の掻取ブレード４２の幅よりも５ｍｍ未満短いと、後述する堰４８に設けられた吸引孔４８ａから、空間Ｓに入り込んだインキ組成物３を吸引し難くなるおそれがあるからである。また、第１の掻取ブレード４１の幅が、第２の掻取ブレードの幅よりも３０ｍｍを超えて短いと、掻取装置４０によるインキ組成物３の掻き取り性が劣り、充填ムラやスジ不良が発生するおそれがある。
【００３１】
図３に示されるように、第１の掻取ブレード４１は、第１の掻取ブレード４１の先端４１ｃが光透過部１の表面１ａに接触するように配置されており、第２の掻取ブレード４２は、第２の掻取ブレード４２の先端４２ａが光透過部１の表面１ａから離間するようにホルダ４４に保持されていることが好ましい。
【００３２】
第２の掻取ブレード４２の先端４２ａは第１の掻取ブレード４１の先端４１ｃに対して０．２５ｍｍ〜０．５５ｍｍ突き出していることが好ましい。ここで、第２の掻取ブレード４２の先端４２ａが、第１の掻取ブレード４１の先端４１ｃよりも０．２５ｍｍ〜０．５５ｍｍ突き出しているとは、図３に示される突き出し長さＬ１が０．２５ｍｍ〜０．５５ｍｍであることを意味する。
【００３３】
図３に示される第１の掻取ブレード４１と第２の掻取ブレード４２との間の間隔ｄは、０.０５〜２ｍｍであることが好ましい。この数値範囲が好ましいとしたのは、この間隔ｄが０．０５ｍｍ未満であると、第１の掻取ブレード４１と第２の掻取ブレード４２が重なってしまい、インキ組成物３の掻き取りが不十分となるおそれがある。またこの間隔ｄが２ｍｍを超えると、第１の掻取ブレード４１と第２の掻取ブレード４２の間にインキ組成物３が詰まってしまい、ピッチスジの原因となるおそれがあるからである。なお、間隔ｄをこの数値範囲にするためには、第１の掻取ブレード４１と第２の掻取ブレード４２との間に、厚さ０.０５〜２ｍｍの後述するスペーサ４９を配置すればよい。
【００３４】
図３に示される、光透過部１の表面１ａに対する第１の掻取ブレード４１の先端部４１ａおよび第２の掻取ブレード４２の先端部４２ｂの角度α、βは、４０°〜７０°であることが好ましく、５０°〜６５°であることがより好ましい。この数値範囲が好ましいとしたのは、角度α、βが４０°未満であると、インキ組成物３の掻き取りが不十分となるおそれがあるからであり、また角度α、βが７０°を超えると、第１の掻取ブレード４１および第２の掻取ブレード４２による掻き取り効率は向上するものの、インキ組成物３に接触する第１の掻取ブレード４１および第２の掻取ブレード４２の面積が小さくなるので、黒スジ不良が発生するおそれがあるからである。
【００３５】
吸引機構４３は、貫通孔４１ｂを介して空間Ｓに入り込んだインキ組成物３を吸引するためのものである。吸引機構４３は、図１に示されるように、エア吸引クリーナ等の吸引機４５、および一端が吸引機４５に接続された吸引ホース４６を備えている。吸引ホース４６の直径は、特に限定されないが、約１０〜１５ｍｍとすることが可能である。
【００３６】
吸引機構４３によるインキ組成物３の吸引は、ホルダ４４に設けられ、第１の掻取ブレード４１と第２の掻取ブレード４２との間の空間Ｓと連通した吸引孔を介して行われることが好ましい。このような吸引孔を介して行われることにより、空間Ｓが狭い場合であっても、確実にこの空間Ｓに入り込んだインキ組成物３を吸引することができる。
【００３７】
以下、ホルダ４４に、空間Ｓと連通した吸引孔を設けた例について説明する。なお、本発明においては、空間Ｓに入り込んだインキ組成物３を吸引することができれば、インキ組成物３の吸引はホルダ４４に設けられた吸引孔を介さなくてもよい。具体的には、例えば、空間Ｓに直接ノズル等を配置して、空間Ｓに入り込んだインキ組成物３を吸引することも可能である。
【００３８】
ホルダ４４は、第１の掻取ブレード４１および第２の掻取ブレード４２を保持するホルダ本体４７と、ホルダ本体４７の両端部に設けられた堰４８とを少なくとも備えている（図３および図５参照）。本実施形態では、ホルダ４４は、その他、スペーサ４９および当板５０を備えている。
【００３９】
ホルダ本体４７は第１の掻取ブレード４１および第２の掻取ブレード４２を挟持するものである。堰４８は、第１の掻取ブレード４１の上流側かつ第１の掻取ブレード４１の直近に形成された、インキ組成物３からなるインキ溜まり３ａ（図２参照）を保持するためのものである。堰４８は、図７に示されるように、第１の掻取ブレード４１よりも第１の掻取ブレードの掻取面４１ｄ側、すなわち上流側に突き出ている。
【００４０】
堰４８には、図５および図７に示されるように、空間Ｓに入り込んだインキ組成物３を吸引するための吸引孔４８ａが設けられている。ここで、本実施形態では、第１掻取ブレード４１の幅が第２の掻取ブレード４２の幅が短くなっているので、空間Ｓが第１の掻取ブレード４１の掻取面４１ｄ側の空間と連通している。したがって、吸引孔４８ａから吸引を行うと、空間Ｓに入り込んだインキ組成物が図７中の矢印Ｃのように移動して吸引孔４８ａから吸引されるとともに、第１の掻取ブレード４１の上流側かつ直近に形成されるインキ溜まり３ａの一部が図７中の矢印Ｄのように移動して吸引孔４８ａから吸引される。すなわち、吸引孔４８ａは、インキ溜まり３ａの一部を吸引するための吸引孔としても機能する。
【００４１】
図５および図７に示される吸引孔４８ａは、空間Ｓに入り込んだインキ組成物３を吸引するための役割と、インキ溜まり３ａの一部を吸引するための役割とを兼ね備えているが、堰４８に、空間Ｓに入り込んだインキ組成物３を吸引するための吸引孔と、インキ溜まり３ａの一部を吸引するための吸引孔とを別々に設けてもよい。例えば、図６に示されるように、空間Ｓに入り込んだインキ組成物３を吸引するための吸引孔４８ｂを、堰４８における第１のドクターブレード４１と第２のドクターブレード４２との間の位置に設け、吸引孔４８ｂとは別に、インキ溜まり３ａの一部を吸引するための吸引孔４８ｃを堰４８における第１の掻取ブレード４１の上流側の位置に設けてもよい。この場合、第１の掻取ブレード４１の幅は、第２の掻取ブレード４２の幅と同じであってもよい。
【００４２】
図５および図６に示される吸引孔４８ａ〜４８ｃの一端は、堰４８の底面４８ｄに位置していることが好ましい。吸引孔４８ａ〜４８ｃの他端は堰４８の外側側面４８ｅに位置している。外側側面４８ｅおいて吸引孔４８ａ〜ｃは吸引ホース４６に接続されている。
【００４３】
図５および図６に示されるように、吸引孔４８ａ〜４８ｃの一端が底面４８ｄに形成されている場合には、堰４８は、空間Ｓに入り込んだインキ組成物３およびインキ溜まり３ａの一部を吸引可能なように堰部４８の底面４８ｄと光透過部１の表面１ａとの間に若干隙間を有するよう配置されることが好ましい。
【００４４】
吸引孔４８ａ〜４８ｃの直径は、１０〜１６ｍｍであることが好ましい。この数値範囲が好ましいとしたのは、この直径が１０ｍｍ未満であると、インキ組成物３を吸引するのに多大な時間を要するからであり、またこの直径が１６ｍｍを超えると、過剰にインキ組成物３を吸引してしまうからである。
【００４５】
当板５０は、図３に示されるように第２の掻取ブレード４２における第１の掻取ブレード４１側の面（掻取面）とは反対側の面に取り付けられている。当板５０を構成する材料は、特に限定されないが、例えばステンレス鋼等を用いることができる。当板５０の厚さは、１５０〜１０００μｍであることが好ましい。この数値範囲が好ましいとしたのは、当板５０の厚さが１５０μｍ未満であると、当板５４の剛性が不十分となり黒スジが発生しやすくなるおそれあるからであり、また当板５０の厚さが１０００μｍを超えると、当板５０の剛性が必要以上となり、第２の掻取ブレード４２のしなりを利用することができなくなり、インキ組成物３の充填率が低下するおそれがあるからである。
【００４６】
当板５０は、第２の掻取ブレード４２における当板５０により覆われていない部分の縦方向の長さ、すなわち図３に示される当板５０の下端５０ａから第２の掻取ブレード４２の先端４２ａまでの長さＬ２が１〜１０ｍｍとなるように配置されていることが好ましく、さらに３〜７ｍｍとなるように配置されていることがより好ましい。この数値範囲が好ましいとしたのは、長さＬ２が１ｍｍ未満であると、当板５０による剛性向上により第２の掻取ブレード４２のしなりを利用することができなくなるため、インキ組成物３の充填率が低下するおそれがあるからであり、また長さＬ２が１０ｍｍを超えると、当板５０の剛性が不十分となり黒スジが発生しやすくなるおそれがあるからである。
【００４７】
インキ循環系６０は、吸引されたインキ組成物３を回収して、再び供給装置３０にインキ組成物３を供給するためのものである。
【００４８】
インキ循環系６０は、図１に示されるように、ダイアフラムポンプ等のポンプ６１、６２、混合タンク６３、未使用インキ組成物貯留タンク６４およびフィルタ６５等を備えている。ポンプ６１は、吸引機構４３で吸引されたインキ組成物３を搬送し、混合タンク６３に送出するためのものであり、吸引機構４３の後段に配置されている。混合タンク６３は、回収された使用済みのインキ組成物３と、未使用インキ組成物貯留タンク６４に貯留されている未使用のインキ組成物３ｂとを混合するためのものである。
【００４９】
混合タンク６３においては、使用済みのインキ組成物３と、未使用のインキ組成物３ｂとは、混合比が１：４〜４：１となるように混合されることが好ましい。また、混合タンク６３においては、混合後のインキ組成物３の粘度が好ましくは２５００〜５０００ｍＰａ・ｓとなるように、より好ましくは３０００〜４０００ｍＰａ・ｓとなるようにインキ組成物３の粘度が調整される。この数値範囲が好ましいとしたのは、インキ組成物３の粘度が２５００ｍＰａ・ｓ未満であると、溝１ｂにインキ組成物３が充填させることが困難となるおそれがあり、またインキ組成物３の粘度が５０００ｍＰａ・ｓを超えると、インキ溜まり３ａの一部を吸引することが困難となるおそれがある。
【００５０】
ポンプ６２は、混合タンク６３内の混合後のインキ組成物３を供給装置３０に送出するためのものであり、フィルタ６５はポンプ６２と供給装置３０との間に介在している。
【００５１】
次に、インキ組成物３について説明する。なお、未使用のインキ組成物３ｂもインキ組成物３と同様の組成となっている。インキ組成物３は、透明な電離放射線樹脂組成物と光吸収粒子とを含むものである。電離放射線硬化型樹脂組成物としては、従来公知の視認性向上シートや視野角向上シート等に用いられる電離放射線硬化型樹脂組成物を用いることができる。例えば、アクリレート系の官能基を有するものを好適に使用することができ、具体的には、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジェン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アルリレート等のオリゴマー又はプレポリマーを挙げることができる。なお、視認性向上シートの光透過部を構成する材料にもよるが、これらの樹脂のなかなら光透過部を構成する材料よりも屈折率の小さい樹脂を選択すればよい。
【００５２】
また、上記樹脂組成物中には、反応性希釈剤を添加してもよく、このような反応性希釈剤としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマーを使用してもよく、具体的は、リメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５３】
電離放射線硬化型樹脂組成物を紫外線硬化型樹脂組成物とするには、組成物中に光重合開始剤としてアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホソフィン等を混合して用いることができる。特に本発明では、オリゴマーとしてウレタンアクリレート、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を混合するのが好ましい。
【００５４】
光吸収粒子としては、樹脂ビーズやガラスビーズに、映像光の特性に合わせて特定の波長を選択的に吸収できる光吸収粒子を使用してもよく、カーボンブラック、グラファイト、繊維状炭素、黒色酸化鉄等の金属塩、染料、顔料等の着色剤を練り込んだものを使用することができる。着色剤の練り込み易さの観点からは、樹脂ビーズを用いることが好ましい。樹脂ビーズとしては、メラミンビーズ、アクリルビーズ、アクリル−スチレンビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ、ポリスチレンビーズ、塩ビビーズ等を好適に使用することができる。また、ウレタン架橋微粒子やシリコン系ビーズも好適に使用できる。これらの樹脂ビーズは、上記した電離放射線硬化型樹脂組成物の屈折率差が０．１程度のものを用いることが好ましい。また、着色剤を練り込む前の樹脂としては、透明な樹脂でも使用できるが、顔料または染料等で着色された樹脂を用いることが好ましいく、映像光の特性に合わせて特定の波長を選択的に吸収するものであってよいが、好ましくは黒色に着色された樹脂ビーズが用いられる。
【００５５】
着色剤としては、上記したもののなかでもカーボンブラックが好適に使用できる。樹脂ビーズへのカーボンブラックの練り込み量は、樹脂ビーズ１質量部に対してカーボンブラックを０．１〜０．７質量部程度であり、好ましくは０．１５〜０．５質量部、より好ましくは０．２〜０．３５質量部である。カーボンブラックの練り込み量が０．７質量部よりも多いと樹脂ビーズが割れやすくなる場合があり、一方、０．１質量部よりも少ないと、所望の黒色性を有する光吸収粒子を得られない場合がある。また、カーボンブラックは、平均粒子径が１０〜５００ｎｍのものを好適に使用することができ、例えば、ファーネスブラック、アセチレンブラック、チャンネルブラック、サーマルブラック、カーボンナノチューブ、カーボンファイバー等が使用できる。また、市販のものを使用することもでき、例えば、ＨＣＦシリーズ、ＭＣＦシリーズ、ＲＣＦシリーズ、ＬＦＦシリーズ（いずれも三菱化学株式会社製）、バルカンシリーズ（キャボット社製）、ケッチェンシリーズ（ライオン株式会社製）を好適に使用することができる。なお、ここでの平均粒子径とは、カーボンブラック粒子を電子顕微鏡で観察して求めた算術平均径を意味する。
【００５６】
電離放射線硬化型樹脂組成物への光吸収粒子の分散性を向上させるために、光吸収粒子を表面処理しておくこともできる。表面処理としては、従来公知のシリカコーティングによる親水処理や、プラズマ等による表面改質が挙げられる。
【００５７】
上記した各成分を含むインキ組成物３は、電離放射線硬化型樹脂組成物に、所定量の光吸収粒子を混合し、所望により重合開始剤等を添加することにより調製される。光吸収粒子の添加量は、インキ組成物の全質量に対して１５〜３５％の範囲とすることが好ましく、この範囲とすることにより、よりコントラストに優れるコントラスト向上シートを実現することができる。光吸収粒子の含有量が少なすぎると、光吸収部の光遮光性が不十分となる場合があり、光吸収粒子の含有量が多すぎると、樹脂ビーズどうしが接触し割れや欠けの問題が発生し易くなる。
【００５８】
＜コントラスト向上シートの製造方法＞
次に、本発明によるコントラスト向上シートの製造方法について、図面を参照しながら説明する。図８は本実施形態に係るコントラスト向上シートの製造工程を模式的に示した図であり、図９は本実施形態に係る光透過部の形成工程を模式的に示した図であり、図１０は本実施形態に係る粘着層および剥離層を有する基材を示した図であり、図１１は本実施形態に係る掻取装置によるインク組成物の掻き取りの様子を模式的に示した図である。
【００５９】
まず、基材２上に、層厚方向断面において複数の溝１ｂが並設された光透過部１を形成する（図８（ａ））。
【００６０】
基材２は、光透過部１や後述する光吸収部４を形成するためのベースとなる層である。基材２としては、透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明樹脂シートや透明ガラスを用いることができる。透明樹脂フィルムとしては、トリアセテートセルロース（TAC）フィルム、ポリエチレンテレフタレート（PET）等のポリエステル系フィルム、ジアセチルセルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルロニトリルフィルム等を好適に使用できるが、これらの中でも、ポリエステル系フィルムが好ましく用いられる。ポリエステル系フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートの他、ポリブチレンテレフタレート、ポリナフタレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート等が挙げられる。
【００６１】
この光透過部１の形成は、使用する樹脂の種類によって異なる。例えば、光透過部１を透明な熱可塑性樹脂を用いて形成する場合には、加熱した金型を熱可塑性樹脂に押圧する熱プレス法や射出成型法、金型内に熱可塑性樹脂モノマーを注入して重合・固化させるキャスティング法等によって、光透過部１を形成することができる。また、電離放射線硬化型樹脂、特に紫外線硬化型樹脂を用いる場合には、当該樹脂を成形型内に注入して紫外線を照射して硬化させる、いわゆるＵＶ法によって、光透過部１を形成することができる。これらの方法の中でも、本発明においては、量産性に優れるＵＶ法が好適に使用できる。ＵＶ法によれば、金型ロールを用いて、光透過部１を連続的に製造することができる。
【００６２】
具体的には、例えば、図９に示されるように、所定ピッチで光透過部１の形に対応した形の溝を有する金型ロール７０と、ニップロール７１との間に基材２を送り込む。図９中の矢印は、基材２を送り込む方向を表したものである。基材２の送り込みに合わせて、金型ロール７０と基材２との間に供給装置７２から例えば紫外線硬化型樹脂等を含む光透過部用組成物７３の液滴を供給し続ける。供給装置７２から基材２上に光透過部用組成物７３を供給するとき、金型ロール７０と基材２との間に、光透過部用組成物７３が溜まった組成物溜まり７４が形成されるようにする。この組成物溜まり７４を形成することによって、光透過部用組成物７３が基材２の幅方向に広がる。
【００６３】
上記のようにして金型ロール７０と基材２との間に供給された光透過部用組成物７３は、金型ロール７０とニップロール７１との間の押圧力により、基材２と金型ロール７０との間に充填される。その後、電離放射線照射装置７５によって光透過部用組成物７３に紫外線を照射し、光透過部用組成物７３を硬化させて、光透過部１を形成する。光透過部１を形成した後、剥離ロール７６を介して、金型ロール７０から光透過部１を引き剥がす。
【００６４】
金型ロール７０に送り込まれる基材２は、図１０に示されるように粘着層６および剥離層７を備えていてもよい。粘着層６は、コントラスト向上シートを表示装置の表示部に接着させるためのものである。粘着層６に用いられる粘着剤は光を透過するとともに、適切に光学シートを他に接着させることができれば、その材料は特に限定されるものではない。粘着剤としては、例えばアクリル系の共重合体を挙げることができる。
【００６５】
剥離層７は、取扱時に粘着層６が他に接触しないようにするためのものであり、粘着層６上に形成されている。剥離層７としては、特に限定されるものではないが、例えばポリエチレンテレフタレート（PET）樹脂等が挙げられる。
【００６６】
なお、次のインキ組成物３の充填工程の前に、光透過部１の溝１ｂの表面に親水化処理を施しておくことが好ましい。溝１ｂの表面に親水化処理を施すことにより、溝１ｂへインキ組成物をより充填し易くなり、インキ充填率が向上する。親水化処理は、従来公知の方法を用いて行うことができる。例えば、低圧プラズマ処理、大気圧プラズマ処理、コロナ処理、紫外線照射処理、エキシマランプ処理等のドライプロセスや、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、エタノールアミン等によるアルカリ処理等のウエットプロセスが挙げられる。これらの中でも、大気圧プラズマ処理が、製造効率の観点から好ましい。
【００６７】
基材２上に光透過部１を形成した後、製造装置１０を用いて、溝１ｂ内にインキ組成物３を充填する（図８（ｂ））。
【００６８】
具体的には、まず、図１に示されるように、供給装置３０および掻取装置４０に対して、搬送系２０によりシート状の光透過部１を基材２ごと移動させながら、光透過部１の表面１ａに供給装置３０からインキ組成物３を連続的に供給し、供給装置３０の下流に位置する掻取装置４０により光透過部１の表面１ａ上のインキ組成物３を掻き取る。これにより、溝１ｂにインキ組成物３が充填されるとともに、光透過部１の表面１ａに存在する余剰のインキ組成物３が掻き取られる。
【００６９】
ここで、インキ組成物３の供給は、第１の掻取ブレード４１の上流側かつ第１の掻取ブレード４１の直近にインキ組成物３からなるインキ溜まり３ａが形成されるように行われる。具体的には、インキ溜まり３ａは、供給装置３０から比較的過剰にインキ組成物３を光透過部１の表面１ａに供給することにより形成される。
【００７０】
また、第１の掻取ブレード４１によりインキ組成物３を掻き取ると、第１の掻取ブレード４１には貫通孔４１ｂが設けられているので、図１１に示されるようにインキ溜まり３ａを構成するインキ組成物３が貫通孔４１ｂを介して第１の掻取ブレード４１と第２の掻取ブレード４２との間の空間Ｓに入り込む。そして、空間Ｓに入り込んだインキ組成物３は、第２の掻取ブレード４２で掻き取られるとともに、堰４８の吸引孔４８ａを介して吸引機構４３により吸引される。本実施形態では、インキ組成物３の吸引は、光透過部１の幅方向の端部側から行われる。
【００７１】
また、同時に、インキ溜まり３ａの一部が、堰４８の吸引孔４８ａを介して吸引機構４３により吸引される。吸引孔４８ａから吸引された使用済みのインキ組成物３は、ポンプ６１により、混合タンク６３に送られる。
【００７２】
混合タンク６３に送られた使用済みのインキ組成物３は、混合タンク６３にて、未使用のインキ組成物３ｂと混合され、その後、ポンプ６２によりフィルタ６５を介して供給装置３０に送られる。そして、再び、供給装置３０から光透過部１の表面１ａに供給される。
【００７３】
溝１ｂにインキ組成物３を充填した後、電離放射線を放射して、溝１ｂ内のインキ組成物３を硬化させて、略台形の断面形状を有する光吸収部４を形成する（図８（ｃ））。これにより、コントラスト向上シート５が作製される。インキ組成物３の硬化方法としては、通常の硬化方法、即ち、電子線又は紫外線の照射によって硬化することができる。例えば、電子線硬化の場合には、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速機から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。
【００７４】
インキ溜まりを形成すると、掻取ブレードに対するインキ組成物の接触量が多くなる。そして、インキ溜まりにおいて消費されなかったインキ組成物は滞留し、時間が経つにつれてインキ組成物の粘度が上昇してしまう傾向がある。このため、消費されなかったインキ組成物は掻取ブレード表面で、固形化してしまい、これが充填ムラおよびスジ不良の一因となると考えられる。これに対し、本実施形態によれば、インキ溜まり３ａの一部を、貫通孔４１ｂを介して空間Ｓに入り込ませるので、消費されなかったインキ組成物３を移動させることができる。また、この空間Ｓに入り込んだインキ組成物３を、吸引孔４８ａを介して吸引するので、この空間Ｓからインキ組成物３を除去することができる。これにより、第１の掻取ブレード４１におけるインキ組成物３の固形化を抑制することができ、充填ムラおよびスジ不良を低減することができる。
【００７５】
インキ組成物の粘度上昇は、インキ組成物の短寿命化引き起こすが、本実施形態によれば、空間Ｓに入り込んだインキ組成物３およびインキ溜まり３ａの一部を吸引しているので、インキ組成物３の粘度上昇を抑制することができ、インキ組成物３の長寿命化を図ることができる。
【００７６】
さらに、本実施形態によれば、以下の理由から、特にピッチスジ不良および黒スジ不良をさらに低減することができる。
【００７７】
例えば、第２の掻取ブレードの先端が第１の掻取ブレードの先端よりも０．５５ｍｍを超えて突き出るように調整して、第１の掻取ブレードの先端が光透過部の表面から離間するように第１の掻取ブレードを配置し、かつ第２の掻取ブレードの先端が光透過部の表面に接触するように第２の掻取ブレードを配置した場合には、第１の掻取ブレードと光透過部の表面との間の隙間に、インキ組成物が滞留し、または詰まってしまい、インキ組成物の濃度ムラが形成され、これにより、光吸収部にピッチスジ不良が発生するおそれがある。
【００７８】
また、第２の掻取ブレードの先端が第１の掻取ブレードの先端よりも０．２５ｍｍ未満突き出るように調整して、第１の掻取ブレードの先端が光透過部の表面に接触するように第１の掻取ブレードを配置し、かつ第２の掻取ブレードの先端が光透過部の表面から離間するように第２の掻取ブレードを配置した場合には、第２の掻取ブレードによる掻き取り性が劣り、光透過部上にインキ組成物が残存し、黒スジ不良が発生するおそれがある。
【００７９】
さらに、第２の掻取ブレードの先端が第１の掻取ブレードの先端よりも０．２５ｍｍ以上０．５５ｍｍ以下突き出るように調整した場合であっても、第１の掻取ブレードの先端が光透過部の表面に接触するように第１の掻取ブレードを配置し、かつ第２の掻取ブレードの先端が光透過部の表面に接触するように第２の掻取ブレードを配置した場合には、第１の掻取ブレードが光透過部の表面に押し込まれた状態となるので、第２の掻取ブレードによる掻き取り性が劣り、黒スジ不良が発生するおそれがある。
【００８０】
これに対し、本実施形態のように、第２の掻取ブレード４２の先端４２ａを第１の掻取ブレード４１の先端４１ｃよりも０．２５ｍｍ〜０．５５ｍｍ突き出るように調整し、第１の掻取ブレード４１の先端４１ｃが光透過部１の表面１ａに接触するように第１の掻取ブレード４１を配置し、かつ第２の掻取ブレード４２の先端４２ａが光透過部１の表面１ａから離間するように第２の掻取ブレード４２を配置した場合には、第１の掻取ブレード４１と光透過部１の表面１ａとの間の隙間におけるインキ組成物３の滞留または詰まりを低減することができる。これにより、ピッチスジ不良をより低減することができる。また、第２の掻取ブレード４２には当板５０が取り付けられているので、光透過部１の移動による第２の掻取ブレード４２の移動を抑制することができ、第２の掻取ブレード４２による掻き取り性を向上させることができる。これにより、黒スジ不良をより低減することができる。
【００８１】
＜コントラスト向上シート＞
上記のようにして得られたコントラスト向上シート５は、基材２と、基材２上に形成され、かつ複数の溝１ｂを有する光透過部１と、溝１ｂ内に形成された光吸収部４とを備えている。
【００８２】
光吸収部４は、光透過部１の屈折率と同じかまたは小さい屈折率を有する。光透過部１と光吸収部４との屈折率が上記のような関係となることにより、所定条件で光透過部１に入射した光源からの映像光を光吸収部４と光透過部１との境界面で適切に反射させ、観測者に明るい映像を提供することができる。また、観測者側からの外光の一部を吸収するため、コントラストも向上する。また、光透過部１と光吸収部４との境界面で反射せずに、光吸収部４の内側に入射した迷光が、光吸収部４中の光吸収材によって吸収される。また、所定角度で入射した観測者側からの外光を適切に吸収することができるため、コントラストを向上させることもできる。
【００８３】
また、コントラスト向上シートを２層重ね合わせてもよく、その場合、各コントラスト向上シートで異なった構造となるようにしてもよい。例えば、１層目のコントラスト向上シートと２層目のコントラスト向上シートとで、光吸収部の幅やピッチ、深さ、形状を変えたり、光吸収部の厚み方向の向きを変えたり、映像光に対する光吸収部のバイアス角度（水平方向に対する光吸収部の傾斜角度）を変えたりすることができる。また、光吸収部を形成する材料（樹脂の種類や光吸収粒子の濃度）を変えることもできる。例えば、１層目は効率良く外光をカットし、コントラストの向上を重視した設計とし、２層目は反射を利用した正面輝度向上効果を重視した設計とするような、各層で作用効果を変えることが好ましい。
【００８４】
本発明によるコントラスト向上シートは、従来の光学シートや視野角拡大部材に採用されている他の機能層を含んでいてもよい。具体的には、反射防止層、粘着層、電磁波遮蔽層、波長フィルタ層、防眩層、ハードコート層などを適宜組み合わせてもよい。これらの各機能層の積層順や積層数は、用途に応じて適宜決定することができる。
【００８５】
本発明によるコントラスト向上シートは、例えば、表示装置の表示部上に配置することができる。具体的には、コントラスト向上シートは、例えば、表示装置用光学フィルタとして使用することができる。表示装置の表示部としては、例えばプラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、電界放出ディスプレイ（FED）、表面伝導型電子放出素子ディスプレイ（SED）、プロジェクションテレビ等が挙げられる。
【００８６】
＜表示装置用光学フィルタおよび表示装置＞
以下、本発明によるコントラスト向上シートを表示装置用光学フィルタとして表示装置の表示部に取り付けた例について説明する。図１２は本実施形態に係るコントラスト向上シートを備えた表示装置の断面図である。図１２に示される表示装置８１は、上記した製造方法により製造されたコントラスト向上シート５を備えている。コントラスト向上シート５は、基材２が映像光源側となるように表示装置８１の表示部８２に接着層８３を介して貼り付けられている。コントラスト向上シート５の前面側には、帯電防止層８４、反射防止層８５、防眩層８６等が配置されている。なお、本実施の形態においては、コントラスト向上シート５の前面に帯電防止層８４等が配置されているが、これらに限られず、電磁波、赤外線、またはネオン線を遮断する層を配置してもよい。
【００８７】
（第２の実施形態）
以下、第２の実施形態について、図面を参照しながら説明する。図１３は本実施形態に係るコントラスト向上シートの製造装置を概略構成図である。図１４は図１３のホルダの断面図であり、図１５は図１４で示されるスペーサの斜視図である。図１６は本実施形態に係る他のスペーサの斜視図であり、図１７は本実施形態に係る掻取装置によるインク組成物の掻き取りの様子を模式的に示した図である。なお、図１３、図１４および図１７において、図１、図３および図１１に付されている符号と同じ符号が付されているものは、図１、図３および図１１に付されている符号に係る部材等と同じものを意味するものである。
【００８８】
図１３に示されるように、本実施形態のコントラスト向上シートの製造装置９０は、図１に示される製造装置１０とほぼ同様の構成となっているが、掻取装置１００の構成が掻取装置４０の構成とは若干異なっている。具体的には、図１４に示されるように掻取装置１００のホルダ１０１は、スペーサ４９の代わりに、吸引孔１０２ａを有するスペーサ１０２を備えており、空間Ｓに入り込んだインキ組成物３は吸引孔１０２ａを介して吸引機構４３により吸引される。本実施形態においては、空間Ｓに入り込んだインキ組成物３は吸引孔１０２ａを介して吸引するので、第１の掻取ブレード４１の幅は第２の掻取ブレード４２の幅よりも短くなっていなくともよい。
【００８９】
スペーサ１０２は、図１５に示されるように櫛歯状に形成されている。すなわち、スペーサ１０２の吸引孔１０２ａは凹状の孔となっている。この吸引孔１０２ａは、スペーサ１０２の一方の面１０２ｂからこの面１０２ｂとは反対側の面１０２ｃまで貫通している。なお、吸引の際には、スペーサ１０２に第２の掻取ブレード４２が当接するので、吸引孔１０２ａの開口面は第２の掻取ブレード４２により覆われる。
【００９０】
また、スペーサ１０２の代わりに、図１６に示されるスペーサ１０３を用いてもよい。スペーサ１０３は、スリット状、すなわち複数に分割された形状となっており、個々のスペーサ１０３間の隙間が吸引孔１０３ａとなっている。
【００９１】
そして、このような掻取装置１００を備えた製造装置９０を使用して、光透過部１の溝１ｂにインキ組成物３を充填する。具体的には、第１の実施形態と同様に、まず、図１３に示すように、供給装置３０および掻取装置１００に対して、搬送系２０によりシート状の光透過部１を基材２ごと移動させながら、光透過部１の表面１ａに供給装置３０からインキ組成物３を連続的に供給し、第１の掻取ブレード４１の上流側かつ第１の掻取ブレード４１の直近にインキ溜まり３ａを形成しつつ、供給装置３０の下流に位置する掻取装置１００により光透過部１の表面１ａ上のインキ組成物３を掻き取る。
【００９２】
また、供給装置３０からのインキ組成物３の供給および掻取装置１００によるインキ組成物３の掻き取りを行いながら、吸引機構４３により空間Ｓに入り込んだインキ組成物３ａを、図１７に示されるように吸引孔１０２ａを介して吸引する。なお、図１６に示されるスペーサ１０３を用いた場合には、吸引孔１０３ａを介してインキ組成物３を吸引する。本実施形態では、インキ組成物３の吸引は、第１の掻取ブレード４１と第２の掻取ブレード４２との間から行われる。また、同時に、吸引機構４３によりインキ溜まり３ａの一部を、吸引孔４８ａを介して吸引する。
【００９３】
吸引機構４３により吸引された使用済みのインキ組成物３は、第１の実施形態と同様に循環し、そして、再び、供給装置３０から光透過部１の表面１ａに供給される。
【００９４】
本実施形態によれば、インキ溜まり３ａの一部を、貫通孔４１ｂを介して空間Ｓに入り込ませ、かつこの空間Ｓに入り込んだインキ組成物３を、吸引孔１０２ａ、１０３ａを介して吸引により除去するので、インキ溜まり３ａを構成するインキ組成物３を移動させることができる。これにより、第１の掻取ブレード４１におけるインキ組成物３の固形化を抑制することができ、充填ムラおよびスジ不良を低減することができる。
【実施例】
【００９５】
以下、実施例を示し、本発明を具体的に説明する。本実施例においては、上記実施の形態と同様の方法でコントラスト向上シートを作製し、コントラスト向上シートの外観観察を行った。
【００９６】
（実施例１）
＜掻取装置＞
第１の掻取ブレードとしての金属製の厚さ２００μｍの第１のドクターブレードと、第２の掻取ブレードとしての金属製の厚さ２００μｍの第２のドクターブレードと、第１のドクターブレードおよび第２のドクターブレードを保持するホルダとを備える掻取装置を用意した。
【００９７】
第１のドクターブレードの幅は１１５０ｍｍであり、第２のドクターブレードの幅は１１６０ｍｍであった。すなわち、第１のドクターブレードの幅は第２のドクターブレードの幅よりも、１０ｍｍ短くなったものであった。また、第１のドクターブレードは、第１のドクターブレードの幅方向に７５ｍｍ間隔で１５箇所に貫通孔が設けられたものであった。
【００９８】
このホルダは、ホルダ本体と、ホルダ本体の両端に設けられ、第１のドクターブレードより第１のドクターブレードの掻取面側に突き出た堰と、第１のドクターブレードと第２のドクターブレードとの間に配置されたスペーサと、第２のドクターブレードに取り付けられた当板とを備えるものであった。
【００９９】
ホルダ本体は、光透過部の表面に対する第１のドクターブレードの先端部および第２のドクターブレードの先端部の角度がともに６５°となるように第１のドクターブレードおよび第２のドクターブレードを保持していた。スペーサは０．０５ｍｍの厚さを有するものであった。すなわち、第１のドクターブレードと第２のドクターブレードとの間の間隔は０．０５ｍｍとなっていた。
【０１００】
堰の底面には、第１のドクターブレードと第２のドクターブレードとの間の空間に連通した直径６ｍｍの吸引孔が設けられていた。この吸引孔にはエア吸引クリーナが吸引ホースを介して接続されていた。
【０１０１】
＜インキ組成物の調製＞
光硬化型プレポリマーとして、エポキシアクリレートオリゴマーOxirane,2,2'-[(1-methylethylidene)bis(4,1-phenyleneoxymethylene)]bis-,homopolymer,2-propenoate２０．０質量部と、反応性希釈モノマーとして、２−フェノキシエチル＝アクリラート２０．０質量部、α−アクリロイル−ω−フェノキシポリ（オキシエチレン）２０．０質量部、及び２−｛２−［２−（アクリロイルオキシ）（メチル）エトキシ］（メチル）エトキシ｝（メチル）エチル＝アクリラート１３．０質量部と、光吸収粒子として、平均粒径４．０μｍのカーボンブラックを２５％含有したアクリル架橋微粒子（ガンツ化成株式会社製）２０．０質量部と、光重合開始剤として、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（商品名：イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティケミカルズ株式会社製）７質量部と、を混合し、均一化してインキ組成物を得た。
【０１０２】
このインキ組成物の２５℃での粘度は、４０００ｍＰａ・ｓであった。なお、本発明において、粘度は、ＪＩＳ Ｋ-５４００の回転粘度計法に基づいて測定した。具体的には、株式会社東京計器製のＢＬ型粘度計、Ｎｏ．４ロータを使用し、２５℃で１２ｒｐｍ、１分後の粘度計の指示値を測定し、測定した粘度計指示値に換算乗数（本条件では５００）を乗じた値を粘度とした。
【０１０３】
なお、このインキ組成物の光吸収粒子を除いた組成物を厚さ１０μｍで塗工し、高圧水銀灯により８００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して硬化させ、多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ４（株式会社アタゴ製）を用いて５８９ｎｍの屈折率を測定したところ、１．５４７であった。
【０１０４】
＜光透過部用組成物の調整＞
ビスフェノールＡ―エチレンオキシド２モル付加物４１質量部、イソホロンジイソシアネート１４．０質量部を、およびウレタン化触媒としてビスマストリ（２−エチルヘキサノエート）（２−エチルヘキサン酸５０％溶液））０．０２質量部を加え、８０℃で５時間反応させ、その後、２−ヒドロキシエチルアクリレート５質量部を加え、８０℃で５時間反応させて得られたウレタンアクリレート系オリゴマーを、光硬化型プレポリマーとして用いた。このウレタンアクリレート系オリゴマー３２、０質量部と、光硬化性モノマーとして、フェノキシエチルアクリレート（分子量１９２）１０．０質量部、およびビスフェノールＡのＥＯ４モル付加物のジアクリレート（分子量５１２）３０．０質量と、金型離型剤として、テトラデカノール−エチレンオキシド１０モル付加物のリン酸エステル（モノエステル／ジエステル＝モル比１／１）０．０３質量部と、テアリルアミンエチレンオキシド１５モル付加物０．０２質量部、光重合開始剤として、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（商品名：イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティケミカルズ株式会社製）３質量部と、を混合し、均一化して光透過部用組成物を得た。
【０１０５】
なお、この光透過部用組成物を厚さ１００μｍで塗工し、高圧水銀灯により８００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して光透過部構成組成物を硬化させ、多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ４（株式会社アタゴ製）を用いて５８９ｎｍの屈折率を測定したところ、１．５５０であった。
【０１０６】
＜コントラスト向上シートの作製＞
上記、光透過部用組成物をポリエチレンテレフタレート基材（東洋紡績株式会社、Ａ４３００、厚さ１００μｍ、幅１４００ｍｍ）上に供給し、光透過部用組成物を硬化させて、表面に複数の溝が並設された光透過部を形成した。
【０１０７】
次いで、上記掻取装置を用いて、光透過部の溝にインキ組成物を充填した。具体的には、１０ｍ／分のライン速度で、光透過部を基材ごと移動させながら、ダイコーターのダイヘッドから、上記で得られたインキ組成物が光透過部の幅方向において均一に供給されるように、５Ｌ／分の供給速度で、光透過部の表面に連続的に供給し、その後、上記掻取装置を用いて、光透過部の表面のインキ組成物を掻き取った。
【０１０８】
インキ組成物の供給は、第１のドクターブレードの上流側かつ第１のドクターブレードの直近にインキ溜まりが形成されるように行われた。また、ダイヘッドからのインキ組成物の供給および第１および第２のドクターブレードによるインキ組成物の掻き取りを行いながら、堰に設けられた吸引孔を介して、エア吸引クリーナにより第１のドクターブレードと第２のドクターブレードとの間の空間に入り込んだインキ組成物を吸引するとともに、この吸引孔を介してインキ溜まりの一部を吸引した。そして、吸引された使用済みのインキ組成物を、ポンプにより混合タンクに送り、混合タンクにて、未使用のインキ組成物と混合した。そして、この混合後のインキ組成物を、ポンプによりフィルタを介してダイヘッドに送り、再び、ダイヘッドから光透過部の表面に供給した。
【０１０９】
光透過部の溝にインキ組成物を充填した後、インキ組成物に紫外線を照射して、インキ組成物を硬化させることにより、光吸収部を形成し、実施例１のコントラスト向上シートを作製した。
【０１１０】
（実施例２）
実施例２においては、実施例１とは異なる掻取装置を用いて、コントラスト向上シートを作製した。
【０１１１】
＜掻取装置＞
実施例２で用いた掻取装置は、実施例１で用いた掻取装置とほぼ同様の構成となっていたが、スペーサに凹状の吸引孔が設けられていた。具体的にはスペーサは櫛歯状になっていた。また、第１のドクターブレードおよび第２のドクターブレードの幅は１１６０ｍｍであり、第１のドクターブレードの幅は第２のドクターブレードの幅と同じであった。
【０１１２】
＜コントラスト向上シートの作製＞
まず、実施例１と同様に、実施例１で用いた光透過部用組成物をポリエチレンテレフタレート基材（東洋紡績株式会社、Ａ４３００、厚さ１００μｍ、幅１４００ｍｍ）上に供給し、光透過部用組成物を硬化させて、表面に複数の溝が並設された、幅が１４００ｍｍの光透過部を形成した。
【０１１３】
次いで、実施例２の掻取装置を用いて、光透過部の溝に実施例１で用いたインキ組成物を充填した。具体的には、１０ｍ／分のライン速度で、光透過部を基材ごと移動させながら、ダイコーターのダイヘッドから、インキ組成物が光透過部の幅方向において均一に供給されるように、５Ｌ／分の供給速度で、光透過部の表面に連続的に供給し、その後、実施例２の掻取装置を用いて、光透過部の表面のインキ組成物を掻き取った。
【０１１４】
インキ組成物の供給は、第１のドクターブレードの上流側かつ第１のドクターブレードの直近にインキ溜まりが形成されるように行われた。また、ダイヘッドからのインキ組成物の供給および第１および第２のドクターブレードによるインキ組成物の掻き取りを行いながら、スペーサに設けられた吸引孔を介して、エア吸引クリーナにより第１のドクターブレードと第２のドクターブレードとの間に入り込んだインキ組成物を吸引するとともに、堰に設けられた吸引孔を介してエア吸引クリーナによりインキ溜まりの一部を吸引した。そして、吸引された使用済みのインキ組成物を、ポンプにより混合タンクに送り、混合タンクにて、未使用のインキ組成物と混合した。そして、この混合後のインキ組成物を、ポンプによりフィルタを介してダイヘッドに送り、再び、ダイヘッドから光透過部の表面に供給した。
【０１１５】
光透過部の溝にインキ組成物を充填した後、インキ組成物に紫外線を照射して、インキ組成物を硬化させることにより、光吸収部を形成し、実施例２のコントラスト向上シートを作製した。
【０１１６】
（比較例１）
比較例１においては、実施例１および実施例２とは異なる掻取装置を用いて、コントラスト向上シートを作製した。
【０１１７】
＜掻取装置＞
比較例１で用いた掻取装置は、実施例１で用いた掻取装置とほぼ同様の構成となっていたが、この掻取装置のドクターブレードは、２枚ではなく、１枚であった。しかも、このドクターブレードには、貫通孔が設けられておらず、また堰やスペーサにも吸引孔が設けられていなかった。また、ドクターブレードの幅は１１６０ｍｍであった。
【０１１８】
＜コントラスト向上シートの作製＞
まず、実施例１と同様に、実施例１で用いた光透過部用組成物をポリエチレンテレフタレート基材（東洋紡績株式会社、Ａ４３００、厚さ１００μｍ、幅１４００ｍｍ）上に供給し、光透過部用組成物を硬化させて、表面に複数の溝が並設された、幅が１４００ｍｍの光透過部を形成した。
【０１１９】
次いで、比較例１の掻取装置を用いて、光透過部の溝に実施例１で用いたインキ組成物を充填した。具体的には、１０ｍ／分のライン速度で、光透過部を基材ごと移動させながら、ダイコーターのダイヘッドから、インキ組成物が光透過部の幅方向において均一に供給されるように、５Ｌ／分の供給速度で、光透過部の表面に連続的に供給し、その後、比較例１の掻取装置を用いて、光透過部の表面のインキ組成物を掻き取った。
【０１２０】
インキ組成物の供給は、ドクターブレードの上流側かつドクターブレードの直近にインキ溜まりが形成されるように行われた。また、ダイヘッドからのインキ組成物の供給およびドクターブレードによるインキ組成物の掻き取りを行った。なお、比較例１では、インキ組成物およびインキ溜まりの吸引は行わなかった。
【０１２１】
光透過部の溝にインキ組成物を充填した後、インキ組成物に紫外線を照射して、インキ組成物を硬化させることにより、光吸収部を形成し、比較例１のコントラスト向上シートを作製した。
【０１２２】
（比較例２）
比較例２においては、実施例１および実施例２とは異なる掻取装置を用いて、コントラスト向上シートを作製した。
【０１２３】
＜掻取装置＞
比較例２で用いた掻取装置は、実施例１で用いた掻取装置とほぼ同様の構成となっていたが、第１のドクターブレードには貫通孔が設けられておらず、また堰やスペーサには吸引孔が設けられていなかった。また、第１のドクターブレードおよび第２のドクターブレードの幅は１１６０ｍｍであり、第１のドクターブレードの幅は第２のドクターブレードの幅と同じであった。
【０１２４】
＜コントラスト向上シートの作製＞
まず、実施例１と同様に、実施例１で用いた光透過部用組成物をポリエチレンテレフタレート基材（東洋紡績株式会社、Ａ４３００、厚さ１００μｍ、幅１４００ｍｍ）上に供給し、光透過部用組成物を硬化させて、表面に複数の溝が並設された、幅が１４００ｍｍの光透過部を形成した。
【０１２５】
次いで、比較例２の掻取装置を用いて、光透過部の溝に実施例１で用いたインキ組成物を充填した。具体的には、１０ｍ／分のライン速度で、光透過部を基材ごと移動させながら、ダイコーターのダイヘッドから、インキ組成物が光透過部の幅方向において均一に供給されるように、５Ｌ／分の供給速度で、光透過部の表面に連続的に供給し、その後、比較例２の掻取装置を用いて、光透過部の表面のインキ組成物を掻き取った。
【０１２６】
インキ組成物の供給は、第１のドクターブレードの上流側かつ第１のドクターブレードの直近にインキ溜まりが形成されるように行われた。また、ダイヘッドからのインキ組成物の供給および第１および第２のドクターブレードによるインキ組成物の掻き取りを行った。なお、比較例２では、インキ組成物およびインキ溜まりの吸引は行わなかった。
【０１２７】
光透過部の溝にインキ組成物を充填した後、インキ組成物に紫外線を照射して、インキ組成物を硬化させることにより、光吸収部を形成し、比較例２のコントラスト向上シートを作製した。
【０１２８】
（比較例３）
比較例３においては、実施例１および実施例２とは異なる掻取装置を用いて、コントラスト向上シートを作製した。
【０１２９】
＜掻取装置＞
比較例３で用いた掻取装置は、実施例１で用いた掻取装置とほぼ同様の構成となっていたが、第１のドクターブレードには貫通孔が設けられておらず、またスペーサには吸引孔が設けられていなかった。また、第１のドクターブレードおよび第２のドクターブレードの幅は１１６０ｍｍであり、第１のドクターブレードの幅は第２のドクターブレードの幅と同じであった。
【０１３０】
＜コントラスト向上シートの作製＞
まず、実施例１と同様に、実施例１で用いた光透過部用組成物をポリエチレンテレフタレート基材（東洋紡績株式会社、Ａ４３００、厚さ１００μｍ、幅１４００ｍｍ）上に供給し、光透過部用組成物を硬化させて、表面に複数の溝が並設された、幅が１４００ｍｍの光透過部を形成した。
【０１３１】
次いで、比較例３の掻取装置を用いて、光透過部の溝に実施例１で用いたインキ組成物を充填した。具体的には、１０ｍ／分のライン速度で、光透過部を基材ごと移動させながら、ダイコーターのダイヘッドから、インキ組成物が光透過部の幅方向において均一に供給されるように、５Ｌ／分の供給速度で、光透過部の表面に連続的に供給し、その後、比較例３の掻取装置を用いて、光透過部の表面のインキ組成物を掻き取った。
【０１３２】
インキ組成物の供給は、第１のドクターブレードの上流側かつ第２のドクターブレードの直近にインキ溜まりが形成されるように行われた。また、ダイヘッドからのインキ組成物の供給および第１および第２のドクターブレードによるインキ組成物の掻き取りを行いながら、堰に設けられた吸引孔を介してエア吸引クリーナによりインキ溜まりの一部を吸引した。そして、吸引された使用済みのインキ組成物を、ポンプにより混合タンクに送り、混合タンクにて、未使用のインキ組成物と混合した。そして、この混合後のインキ組成物を、ポンプによりフィルタを介してダイヘッドに送り、再び、ダイヘッドから光透過部の表面に供給した。
【０１３３】
光透過部の溝にインキ組成物を充填した後、インキ組成物に紫外線を照射して、インキ組成物を硬化させることにより、光吸収部を形成し、比較例３のコントラスト向上シートを作製した。
【０１３４】
外観観察
このようにして作製された実施例１、２および比較例１〜３のコントラスト向上シートの外観を観察して、充填ムラ、スジ不良の発生を確認した。なお、この評価の基準は以下の通りとした。
【０１３５】
（１）充填ムラ
○：充填ムラが確認されなかった。
△：充填ムラが若干観察されたが、実用上問題のない程度であった。
×：充填ムラが多数確認された。
【０１３６】
（２）スジ不良
○：スジ不良が確認されなかった。
△：スジ不良が若干確認されたが、実用上問題のない程度であった。
×：スジ不良が多数確認された。
【０１３７】
以下、結果について述べる。
【表１】
表１に示されるように比較例１に係るコントラスト向上シートは充填ムラおよびスジ不良ともに抑制できなかった。また、比較例２および３に係るコントラスト向上シートにおいては、充填ムラおよびスジ不良が若干観察された。これに対し、実施例１および２に係るコントラスト向上シートには、充填ムラおよびスジ不良が観察されず、良好な状態であった。
【０１３８】
これらの結果から、第１のドクターブレードに貫通孔を形成し、かつ貫通孔を介して第１のドクターブレードと第２のドクターブレードに入り込むインキ組成物を吸引した場合には、充填ムラおよびスジ不良が低減できることが確認された。
【符号の説明】
【０１３９】
１…光透過部、１ａ…表面、１ｂ…溝、２…基材、３…インキ組成物、３ａ…インキ溜まり、４…光吸収部、５…コントラスト向上シート、１０、９０…製造装置、３０…供給装置、４０、１００…掻取装置、４１…第１の掻取ブレード、４１ａ…先端部、４１ｂ…貫通孔、４２…第２の掻取ブレード、４３…吸引機構、４４、１０１…ホルダ、４７…ホルダ本体、４８…堰、４８ａ、１０２ａ、１０３ａ…吸引孔、４９、１０２、１０３…スペーサ、６０…インキ循環系。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、掻取装置、これを備えたコントラスト向上シートの製造装置、およびコントラスト向上シートの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置では、通常、観察者がどのような位置から見ても良好な画像が得られるように、視野角が広いことが好まれる。一方、例えば通勤電車の中で仕事をする場合やＡＴＭ等の公共の場に設置された液晶表示装置では、周りの人から画面を覗かれては困ることがあり、このような場合には液晶表示装置の観察者のみに見え、他人からは見えないようにプライバシーを保護するための覗き見防止機能が求められている。また、カーナビゲーションシステム等の車載型の液晶表示装置においては、夜間などに液晶表示装置の画面が窓ガラスに映り込み、視界を遮る現象がおこるため、映り込み防止機能が求められており、光線出光角度の制御が望まれている。
【０００３】
このような要求に対して、例えば、特開２００６−１１９３６５号公報（特許文献１）には、光透過層と遮光層とを交互に並べた構造であるルーバータイプの光学シートが提案されており、遮光層として、光透過層を構成する材料にカーボンブラックやカーボンファイバー等の充填材を混合したものを用いることが開示されている。
【０００４】
一方、上記のようなルーバー型の光学シートは、斜め方向の映像光を単純にカットするものであるため、表示装置の種類によっては、観測者に到達させるべき映像光の拡散光源を減少させてしまうことにもなるため、表示画面の輝度が低下する場合があった。
【０００５】
上記の問題を解消するため、外光を遮光してコントラストを向上させ、かつ二重像の発生も減少させることができるコントラスト向上シートを設置することが提案されている。このようなコントラスト向上シートとして種々の構造のものが提案されており、例えば、表面に複数の溝が並設された光透過部と、溝に光透過部よりも屈折率の低い材料とカーボン顔料等とを充填させて形成された光吸収部とを有するものが提案されている（例えば、特開２００６−８５０５０号公報等：特許文献２）。
【０００６】
そして、コントラスト向上シートの製造において、電離放射線硬化型樹脂等のレンズ材料に着色樹脂ビーズを混合したインキ組成物を光透過部の溝に充填し、電離放射線を照射して硬化させて光吸収部を形成することが行われている（例えば、国際出願公開公報ＷＯ２００６／０９０７８４：特許文献３）。
【０００７】
インキ組成物の充填は、例えば、表面に複数の溝が並設されたシート状の光透過部を移動させながら、ドクターブレードの上流側よりインキ組成物を光透過部の表面に供給し、ドクターブレードの上流側かつドクターブレードの直近にインキ溜まりを形成しつつ、１枚のドクターブレードで光透過部の表面上のインキ組成物を掻き取ることにより行うことができる。
【０００８】
しかしながら、このような方法により、インキ組成物を充填すると、帯状の充填ムラやスジ不良等が発生しやすい。コントラスト向上シートの外観品質は、画質に直接結び付くため、高い品質が要求される。このため、上記したような充填ムラやスジ不良を極力低減することが好ましい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００６−１１９３６５号公報
【特許文献２】特開２００６−８５０５０号公報
【特許文献３】国際出願公開公報ＷＯ２００６／０９０７８４
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものである。すなわち、スジ不良および充填ムラが低減したコントラスト向上シートを得ることができる掻取装置、コントラスト向上シートの製造装置およびコントラスト向上シートの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、充填ムラおよびスジ不良を低減するため鋭意研究を重ねた結果、第１の掻取ブレードと、第１の掻取ブレードより下流側に配置された第２の掻取ブレードとを用い、かつ第１の掻取ブレードに付着して、固形化するインキ組成物を抑制した場合には、充填ムラおよびスジ不良を低減することができることを見出した。ここで、本明細書においては、「スジ不良」とは、白スジ、ピッチスジ不良および黒スジ不良の全てを含む意味である。「白スジ」とは、溝にインキ組成物が確実に充填されておらず、光吸収部が一部において凹んでいるものを意味する。「ピッチスジ不良」とは、光吸収部が一部において凹んでおり、そしてこの凹みが線状になっているものを意味する。「黒スジ不良」とは、インキ組成物の掻き取り後において光透過部上にインキ組成物が残存しており、そしてそれが線状または点状になっているものを意味する。なお、黒スジ不良は「カブリ」とも呼ばれることもある。本発明はかかる知見に基づいて完成されたものである。
【００１２】
本発明の一の態様によれば、表面に複数の溝が並設された光透過部と、前記光透過部の前記溝内に形成された光吸収部とを備えるコントラスト向上シートの製造に用いられる掻取装置であって、表面に複数の溝が並設された光透過部の前記表面から前記表面上に供給されたインキ組成物を掻き取るための、先端部に貫通孔を有する第１の掻取ブレードと、前記第１の掻取ブレードと所定の間隔を置いて配置され、前記第１の掻取ブレードによる掻き取り後に前記光透過部の前記表面に残る前記インキ組成物をさらに掻き取るための第２の掻取ブレードと、前記貫通孔を介して前記第１の掻取ブレードと前記第２の掻取ブレードとの間の空間に入り込んだ前記インキ組成物を吸引する吸引機構とを備えることを特徴とする、掻取装置が提供される。
【００１３】
本発明の他の態様によれば、表面に複数の溝が並設された光透過部と、前記光透過部の前記溝内に形成された光吸収部とを備えるコントラスト向上シートの製造装置であって、上記の掻取装置を備えることを特徴とする、コントラスト向上シートの製造装置が提供される。
【００１４】
本発明の他の態様によれば、表面に複数の溝が並設された光透過部と、前記光透過部の前記溝内に形成された光吸収部とを備えるコントラスト向上シートの製造方法であって、表面に複数の溝が並設されたシート状の光透過部を移動させながら、前記光透過部の前記表面にインキ組成物を連続的に供給し、前記インキ組成物の供給位置よりも下流側に配置された第１の掻取ブレードの上流側かつ前記第１の掻取ブレードの直近にインキ組成物からなるインキ溜まりを形成しつつ、前記光透過部の表面上の前記インキ組成物を、前記第１の掻取ブレードおよび前記第１の掻取ブレードよりも下流側に前記第１の掻取ブレードと所定の間隔を置いて配置された第２の掻取ブレードにより掻き取る充填工程とを備え、前記第１の掻取ブレードが、前記第１の掻取ブレードの先端部に貫通孔を有し、前記充填工程が、前記貫通孔を介して前記第１の掻取ブレードと前記第２の掻取ブレードとの間の空間に入り込んだ前記インキ組成物を吸引しながら行われることを特徴とする、コントラスト向上シートの製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の一の態様の掻取装置、本発明の他の態様のコントラスト向上シートの製造装置、および本発明の他の態様のコントラスト向上シート製造方法によれば、充填ムラおよびスジ不良を低減させたコントラスト向上シートを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】第１の実施形態に係るコントラスト向上シートの製造装置を概略構成図である。
【図２】図１の掻取装置周辺を上流側から見た図である。
【図３】図１のホルダの断面図である。
【図４】第１の実施形態に係る第１の掻取ブレードと第２の掻取ブレードの正面図である。
【図５】図１のホルダの側面図である。
【図６】第１の実施の形態に係る他のホルダの側面図である。
【図７】第１の実施形態に係るホルダの内側隅部を模式的示した図である。
【図８】第１の実施形態に係るコントラスト向上シートの製造工程を模式的に示した図である。
【図９】第１の実施形態に係る光透過部の形成工程を模式的に示した図である。
【図１０】第１の実施形態に係る粘着層および剥離層を有する基材を示した図である。
【図１１】第１の実施形態に係る掻取装置によるインク組成物の掻き取りの様子を模式的に示した図である。
【図１２】第１の実施形態に係るコントラスト向上シートを備えた表示装置の断面図である。
【図１３】第２の実施形態に係るコントラスト向上シートの製造装置を概略構成図である。
【図１４】図１３のホルダの断面図である。
【図１５】図１４で示されるスペーサの斜視図である。
【図１６】第２の実施形態に係る他のスペーサの斜視図である。
【図１７】第２の実施形態に係る掻取装置によるインク組成物の掻き取りの様子を模式的に示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
（第１の実施形態）
以下、本発明の第１の実施形態について、図面を参照しながら説明する。
＜掻取装置およびコントラスト向上シートの製造装置＞
まず、本発明による掻取装置およびコントラスト向上シートの製造装置について、説明する。図１は本実施形態に係るコントラスト向上シートの製造装置を概略構成図であり、図２は図１の掻取装置周辺を上流側から見た図であり、図３は図１のホルダの断面図である。図４は本実施形態に係る第１の掻取ブレードと第２の掻取ブレードの正面図であり、図５は図１のホルダの側面図である。図６は本実施の形態に係る他のホルダの側面図であり、図７は本実施形態に係るホルダの内側隅部を模式的示した図である。なお、図１〜３、５、６中の矢印Ａは光透過部の移動方向を表すものであり、図１中の矢印Ｂはインキ組成物の循環方向を表すものである。
【００１８】
図１に示されるコントラスト向上シートの製造装置１０は、表面１ａに溝１ｂが並設された光透過部１の溝１ｂにインキ組成物３を充填させるためのものであり、主に、搬送系２０と、供給装置３０と、掻取装置４０と、インキ循環系６０とを備えている。
【００１９】
図１に示される光透過部１は、基材２上に形成されており、溝１ｂは基材２側に向けて先細る略台形状となっている。溝１ｂは、略台形状に限られず、例えば、略Ｖ字状または略矩形状に形成されていてもよい。また、溝１ｂは光透過部１の長手方向（光透過部１の幅方向と直交する方向）に沿って延在している。光透過部１全体の幅は、５００〜１５００ｍｍとすることが可能である。
【００２０】
搬送系２０は、光透過部１を基材２ごと一方方向に搬送するためのものであり、搬送ロール等から構成されている。搬送系２０のライン速度（搬送速度）は、インキ組成物３の供給速度にもよるが、１〜５０ｍ／分であることが好ましい。
【００２１】
供給装置３０は、インキ組成物３を光透過部１の表面１ａに供給するためのものである。供給装置３０は、光透過部１の幅方向においてインキ組成物３を均一に供給できるものであることが好ましい。供給装置３０によるインキ組成物３の供給速度は、０．５〜１０Ｌ／分であることが好ましい。
【００２２】
供給装置３０としては、ダイコーター、バーコーター、ロールコーター、またはナイフコーターが挙げられるが、これらの中でも、光透過部１の幅方向においてインキ組成物３を光透過部１の表面１ａに均一に供給できるダイコーターが好ましい。
【００２３】
掻取装置４０は、供給装置３０によるインキ組成物３の供給位置よりも下流側に配置されている。掻取装置４０は、図３に示される光透過部１の表面１ａ上に供給されたインキ組成物３を掻き取る第１の掻取ブレード４１および第１の掻取ブレード４１による掻き取り後に光透過部１の表面１ａに残るインキ組成物３をさらに掻き取る第２の掻取ブレード４２と、図１に示される、インキ組成物３を吸引する吸引機構４３を少なくとも備えている。本実施形態では、その他、図１および図３に示されるように、第１の掻取ブレード４１および第２の掻取ブレード４２を保持するホルダ４４を備えている。
【００２４】
第１の掻取ブレード４１の先端部４１ａには、図３および図４に示されるように貫通孔４１ｂが設けられている。図４に示される貫通孔４１ｂは、第１の掻取ブレード４１の幅方向に沿って所定の間隔を置いて複数設けられている。第１の掻取ブレード４１に貫通孔４１ｂが設けられることにより、インキ組成物３からなる後述するインキ溜まり３ａ（図２参照）の一部を、貫通孔４１ｂを介して、図３に示される、第１の掻取ブレード４１と第２の掻取ブレード４２との間の空間Ｓに入り込ませることができる。
【００２５】
図４に示される貫通孔４１ｂは等間隔に設けられているが、第１の掻取ブレード４１の幅方向において第１の掻取ブレード４１の中央部から端部に向けて貫通孔４１ｂの間隔が広くなっていてもよい。また、図４に示される貫通孔４１ｂは円形状となっているが、貫通孔４１ｂの形状は、特に限定されず、円形状の他、例えば、楕円形状、四角状となっていてもよい。貫通孔４１ｂは、３つ以上設けられていることが好ましい。
【００２６】
貫通孔４１ｂが円形状の場合、貫通孔４１ｂの直径は１〜１０ｍｍであることが好ましい。この数値範囲が好ましいとしたのは、貫通孔４１ｂの直径が１ｍｍ未満であると、インキ組成物３が十分に貫通孔４１ｂから空間Ｓに供給されないおそれがあるからであり、また貫通孔４１ｂの直径が１０ｍｍを超えると、第１の掻取ブレード４１の強度が低下して、掻取不足もしくは第１の掻取ブレード４１が破損するおそれがあるからである。
【００２７】
第２の掻取ブレード４２は、図３に示されるように第１の掻取ブレード４１よりも光透過部１の移動方向に対して下流側に配置されている。また、第１の掻取ブレード４１および第２の掻取ブレード４２は、溝１ｂの延在方向とほぼ直交するように配置されている。
【００２８】
第１の掻取ブレード４１および第２の掻取ブレード４２は薄板状のものであり、第１の掻取ブレード４１および第２の掻取ブレード４２の厚さは約２００μｍ程度とすることができる。第１の掻取ブレード４１および第２の掻取ブレード４２としては例えばドクターブレード等を用いることができる。
【００２９】
第１の掻取ブレード４１の幅および第２の掻取ブレード４２の幅は用いる基材２の幅により適宜決定され、例えば、第１の掻取ブレード４１の幅および第２の掻取ブレード４２の幅は、基材２の幅から５０〜３００ｍｍ短いことが好ましい。この数値範囲が好ましいとしたのは、第１の掻取ブレード４１の幅および第２の掻取ブレード４２の幅が基材２の幅よりも５０ｍｍ未満短いと、インキ組成物３が基材１の幅方向両側から漏れるおそれがあり、また第１の掻取ブレード４１の幅および第２の掻取ブレード４２の幅が基材２の幅よりも３００ｍｍを超えて短いと、基材２のロスが大きくなり、不経済となるおそれがあるからである。
【００３０】
図４に示される第１の掻取ブレード４１は、第１の掻取ブレード４１の幅が、第２の掻取ブレード４２の幅よりも短くなっている。具体的には、例えば、第１の掻取ブレード４１の幅が、第２の掻取ブレード４２の幅よりも５〜３０ｍｍ短くなっていることが好ましい。この数値範囲が好ましいとしたのは、第１の掻取ブレード４１の幅が、第２の掻取ブレード４２の幅よりも５ｍｍ未満短いと、後述する堰４８に設けられた吸引孔４８ａから、空間Ｓに入り込んだインキ組成物３を吸引し難くなるおそれがあるからである。また、第１の掻取ブレード４１の幅が、第２の掻取ブレードの幅よりも３０ｍｍを超えて短いと、掻取装置４０によるインキ組成物３の掻き取り性が劣り、充填ムラやスジ不良が発生するおそれがある。
【００３１】
図３に示されるように、第１の掻取ブレード４１は、第１の掻取ブレード４１の先端４１ｃが光透過部１の表面１ａに接触するように配置されており、第２の掻取ブレード４２は、第２の掻取ブレード４２の先端４２ａが光透過部１の表面１ａから離間するようにホルダ４４に保持されていることが好ましい。
【００３２】
第２の掻取ブレード４２の先端４２ａは第１の掻取ブレード４１の先端４１ｃに対して０．２５ｍｍ〜０．５５ｍｍ突き出していることが好ましい。ここで、第２の掻取ブレード４２の先端４２ａが、第１の掻取ブレード４１の先端４１ｃよりも０．２５ｍｍ〜０．５５ｍｍ突き出しているとは、図３に示される突き出し長さＬ１が０．２５ｍｍ〜０．５５ｍｍであることを意味する。
【００３３】
図３に示される第１の掻取ブレード４１と第２の掻取ブレード４２との間の間隔ｄは、０.０５〜２ｍｍであることが好ましい。この数値範囲が好ましいとしたのは、この間隔ｄが０．０５ｍｍ未満であると、第１の掻取ブレード４１と第２の掻取ブレード４２が重なってしまい、インキ組成物３の掻き取りが不十分となるおそれがある。またこの間隔ｄが２ｍｍを超えると、第１の掻取ブレード４１と第２の掻取ブレード４２の間にインキ組成物３が詰まってしまい、ピッチスジの原因となるおそれがあるからである。なお、間隔ｄをこの数値範囲にするためには、第１の掻取ブレード４１と第２の掻取ブレード４２との間に、厚さ０.０５〜２ｍｍの後述するスペーサ４９を配置すればよい。
【００３４】
図３に示される、光透過部１の表面１ａに対する第１の掻取ブレード４１の先端部４１ａおよび第２の掻取ブレード４２の先端部４２ｂの角度α、βは、４０°〜７０°であることが好ましく、５０°〜６５°であることがより好ましい。この数値範囲が好ましいとしたのは、角度α、βが４０°未満であると、インキ組成物３の掻き取りが不十分となるおそれがあるからであり、また角度α、βが７０°を超えると、第１の掻取ブレード４１および第２の掻取ブレード４２による掻き取り効率は向上するものの、インキ組成物３に接触する第１の掻取ブレード４１および第２の掻取ブレード４２の面積が小さくなるので、黒スジ不良が発生するおそれがあるからである。
【００３５】
吸引機構４３は、貫通孔４１ｂを介して空間Ｓに入り込んだインキ組成物３を吸引するためのものである。吸引機構４３は、図１に示されるように、エア吸引クリーナ等の吸引機４５、および一端が吸引機４５に接続された吸引ホース４６を備えている。吸引ホース４６の直径は、特に限定されないが、約１０〜１５ｍｍとすることが可能である。
【００３６】
吸引機構４３によるインキ組成物３の吸引は、ホルダ４４に設けられ、第１の掻取ブレード４１と第２の掻取ブレード４２との間の空間Ｓと連通した吸引孔を介して行われることが好ましい。このような吸引孔を介して行われることにより、空間Ｓが狭い場合であっても、確実にこの空間Ｓに入り込んだインキ組成物３を吸引することができる。
【００３７】
以下、ホルダ４４に、空間Ｓと連通した吸引孔を設けた例について説明する。なお、本発明においては、空間Ｓに入り込んだインキ組成物３を吸引することができれば、インキ組成物３の吸引はホルダ４４に設けられた吸引孔を介さなくてもよい。具体的には、例えば、空間Ｓに直接ノズル等を配置して、空間Ｓに入り込んだインキ組成物３を吸引することも可能である。
【００３８】
ホルダ４４は、第１の掻取ブレード４１および第２の掻取ブレード４２を保持するホルダ本体４７と、ホルダ本体４７の両端部に設けられた堰４８とを少なくとも備えている（図３および図５参照）。本実施形態では、ホルダ４４は、その他、スペーサ４９および当板５０を備えている。
【００３９】
ホルダ本体４７は第１の掻取ブレード４１および第２の掻取ブレード４２を挟持するものである。堰４８は、第１の掻取ブレード４１の上流側かつ第１の掻取ブレード４１の直近に形成された、インキ組成物３からなるインキ溜まり３ａ（図２参照）を保持するためのものである。堰４８は、図７に示されるように、第１の掻取ブレード４１よりも第１の掻取ブレードの掻取面４１ｄ側、すなわち上流側に突き出ている。
【００４０】
堰４８には、図５および図７に示されるように、空間Ｓに入り込んだインキ組成物３を吸引するための吸引孔４８ａが設けられている。ここで、本実施形態では、第１掻取ブレード４１の幅が第２の掻取ブレード４２の幅が短くなっているので、空間Ｓが第１の掻取ブレード４１の掻取面４１ｄ側の空間と連通している。したがって、吸引孔４８ａから吸引を行うと、空間Ｓに入り込んだインキ組成物が図７中の矢印Ｃのように移動して吸引孔４８ａから吸引されるとともに、第１の掻取ブレード４１の上流側かつ直近に形成されるインキ溜まり３ａの一部が図７中の矢印Ｄのように移動して吸引孔４８ａから吸引される。すなわち、吸引孔４８ａは、インキ溜まり３ａの一部を吸引するための吸引孔としても機能する。
【００４１】
図５および図７に示される吸引孔４８ａは、空間Ｓに入り込んだインキ組成物３を吸引するための役割と、インキ溜まり３ａの一部を吸引するための役割とを兼ね備えているが、堰４８に、空間Ｓに入り込んだインキ組成物３を吸引するための吸引孔と、インキ溜まり３ａの一部を吸引するための吸引孔とを別々に設けてもよい。例えば、図６に示されるように、空間Ｓに入り込んだインキ組成物３を吸引するための吸引孔４８ｂを、堰４８における第１のドクターブレード４１と第２のドクターブレード４２との間の位置に設け、吸引孔４８ｂとは別に、インキ溜まり３ａの一部を吸引するための吸引孔４８ｃを堰４８における第１の掻取ブレード４１の上流側の位置に設けてもよい。この場合、第１の掻取ブレード４１の幅は、第２の掻取ブレード４２の幅と同じであってもよい。
【００４２】
図５および図６に示される吸引孔４８ａ〜４８ｃの一端は、堰４８の底面４８ｄに位置していることが好ましい。吸引孔４８ａ〜４８ｃの他端は堰４８の外側側面４８ｅに位置している。外側側面４８ｅおいて吸引孔４８ａ〜ｃは吸引ホース４６に接続されている。
【００４３】
図５および図６に示されるように、吸引孔４８ａ〜４８ｃの一端が底面４８ｄに形成されている場合には、堰４８は、空間Ｓに入り込んだインキ組成物３およびインキ溜まり３ａの一部を吸引可能なように堰部４８の底面４８ｄと光透過部１の表面１ａとの間に若干隙間を有するよう配置されることが好ましい。
【００４４】
吸引孔４８ａ〜４８ｃの直径は、１０〜１６ｍｍであることが好ましい。この数値範囲が好ましいとしたのは、この直径が１０ｍｍ未満であると、インキ組成物３を吸引するのに多大な時間を要するからであり、またこの直径が１６ｍｍを超えると、過剰にインキ組成物３を吸引してしまうからである。
【００４５】
当板５０は、図３に示されるように第２の掻取ブレード４２における第１の掻取ブレード４１側の面（掻取面）とは反対側の面に取り付けられている。当板５０を構成する材料は、特に限定されないが、例えばステンレス鋼等を用いることができる。当板５０の厚さは、１５０〜１０００μｍであることが好ましい。この数値範囲が好ましいとしたのは、当板５０の厚さが１５０μｍ未満であると、当板５４の剛性が不十分となり黒スジが発生しやすくなるおそれあるからであり、また当板５０の厚さが１０００μｍを超えると、当板５０の剛性が必要以上となり、第２の掻取ブレード４２のしなりを利用することができなくなり、インキ組成物３の充填率が低下するおそれがあるからである。
【００４６】
当板５０は、第２の掻取ブレード４２における当板５０により覆われていない部分の縦方向の長さ、すなわち図３に示される当板５０の下端５０ａから第２の掻取ブレード４２の先端４２ａまでの長さＬ２が１〜１０ｍｍとなるように配置されていることが好ましく、さらに３〜７ｍｍとなるように配置されていることがより好ましい。この数値範囲が好ましいとしたのは、長さＬ２が１ｍｍ未満であると、当板５０による剛性向上により第２の掻取ブレード４２のしなりを利用することができなくなるため、インキ組成物３の充填率が低下するおそれがあるからであり、また長さＬ２が１０ｍｍを超えると、当板５０の剛性が不十分となり黒スジが発生しやすくなるおそれがあるからである。
【００４７】
インキ循環系６０は、吸引されたインキ組成物３を回収して、再び供給装置３０にインキ組成物３を供給するためのものである。
【００４８】
インキ循環系６０は、図１に示されるように、ダイアフラムポンプ等のポンプ６１、６２、混合タンク６３、未使用インキ組成物貯留タンク６４およびフィルタ６５等を備えている。ポンプ６１は、吸引機構４３で吸引されたインキ組成物３を搬送し、混合タンク６３に送出するためのものであり、吸引機構４３の後段に配置されている。混合タンク６３は、回収された使用済みのインキ組成物３と、未使用インキ組成物貯留タンク６４に貯留されている未使用のインキ組成物３ｂとを混合するためのものである。
【００４９】
混合タンク６３においては、使用済みのインキ組成物３と、未使用のインキ組成物３ｂとは、混合比が１：４〜４：１となるように混合されることが好ましい。また、混合タンク６３においては、混合後のインキ組成物３の粘度が好ましくは２５００〜５０００ｍＰａ・ｓとなるように、より好ましくは３０００〜４０００ｍＰａ・ｓとなるようにインキ組成物３の粘度が調整される。この数値範囲が好ましいとしたのは、インキ組成物３の粘度が２５００ｍＰａ・ｓ未満であると、溝１ｂにインキ組成物３が充填させることが困難となるおそれがあり、またインキ組成物３の粘度が５０００ｍＰａ・ｓを超えると、インキ溜まり３ａの一部を吸引することが困難となるおそれがある。
【００５０】
ポンプ６２は、混合タンク６３内の混合後のインキ組成物３を供給装置３０に送出するためのものであり、フィルタ６５はポンプ６２と供給装置３０との間に介在している。
【００５１】
次に、インキ組成物３について説明する。なお、未使用のインキ組成物３ｂもインキ組成物３と同様の組成となっている。インキ組成物３は、透明な電離放射線樹脂組成物と光吸収粒子とを含むものである。電離放射線硬化型樹脂組成物としては、従来公知の視認性向上シートや視野角向上シート等に用いられる電離放射線硬化型樹脂組成物を用いることができる。例えば、アクリレート系の官能基を有するものを好適に使用することができ、具体的には、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジェン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アルリレート等のオリゴマー又はプレポリマーを挙げることができる。なお、視認性向上シートの光透過部を構成する材料にもよるが、これらの樹脂のなかなら光透過部を構成する材料よりも屈折率の小さい樹脂を選択すればよい。
【００５２】
また、上記樹脂組成物中には、反応性希釈剤を添加してもよく、このような反応性希釈剤としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマーを使用してもよく、具体的は、リメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５３】
電離放射線硬化型樹脂組成物を紫外線硬化型樹脂組成物とするには、組成物中に光重合開始剤としてアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホソフィン等を混合して用いることができる。特に本発明では、オリゴマーとしてウレタンアクリレート、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を混合するのが好ましい。
【００５４】
光吸収粒子としては、樹脂ビーズやガラスビーズに、映像光の特性に合わせて特定の波長を選択的に吸収できる光吸収粒子を使用してもよく、カーボンブラック、グラファイト、繊維状炭素、黒色酸化鉄等の金属塩、染料、顔料等の着色剤を練り込んだものを使用することができる。着色剤の練り込み易さの観点からは、樹脂ビーズを用いることが好ましい。樹脂ビーズとしては、メラミンビーズ、アクリルビーズ、アクリル−スチレンビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ、ポリスチレンビーズ、塩ビビーズ等を好適に使用することができる。また、ウレタン架橋微粒子やシリコン系ビーズも好適に使用できる。これらの樹脂ビーズは、上記した電離放射線硬化型樹脂組成物の屈折率差が０．１程度のものを用いることが好ましい。また、着色剤を練り込む前の樹脂としては、透明な樹脂でも使用できるが、顔料または染料等で着色された樹脂を用いることが好ましいく、映像光の特性に合わせて特定の波長を選択的に吸収するものであってよいが、好ましくは黒色に着色された樹脂ビーズが用いられる。
【００５５】
着色剤としては、上記したもののなかでもカーボンブラックが好適に使用できる。樹脂ビーズへのカーボンブラックの練り込み量は、樹脂ビーズ１質量部に対してカーボンブラックを０．１〜０．７質量部程度であり、好ましくは０．１５〜０．５質量部、より好ましくは０．２〜０．３５質量部である。カーボンブラックの練り込み量が０．７質量部よりも多いと樹脂ビーズが割れやすくなる場合があり、一方、０．１質量部よりも少ないと、所望の黒色性を有する光吸収粒子を得られない場合がある。また、カーボンブラックは、平均粒子径が１０〜５００ｎｍのものを好適に使用することができ、例えば、ファーネスブラック、アセチレンブラック、チャンネルブラック、サーマルブラック、カーボンナノチューブ、カーボンファイバー等が使用できる。また、市販のものを使用することもでき、例えば、ＨＣＦシリーズ、ＭＣＦシリーズ、ＲＣＦシリーズ、ＬＦＦシリーズ（いずれも三菱化学株式会社製）、バルカンシリーズ（キャボット社製）、ケッチェンシリーズ（ライオン株式会社製）を好適に使用することができる。なお、ここでの平均粒子径とは、カーボンブラック粒子を電子顕微鏡で観察して求めた算術平均径を意味する。
【００５６】
電離放射線硬化型樹脂組成物への光吸収粒子の分散性を向上させるために、光吸収粒子を表面処理しておくこともできる。表面処理としては、従来公知のシリカコーティングによる親水処理や、プラズマ等による表面改質が挙げられる。
【００５７】
上記した各成分を含むインキ組成物３は、電離放射線硬化型樹脂組成物に、所定量の光吸収粒子を混合し、所望により重合開始剤等を添加することにより調製される。光吸収粒子の添加量は、インキ組成物の全質量に対して１５〜３５％の範囲とすることが好ましく、この範囲とすることにより、よりコントラストに優れるコントラスト向上シートを実現することができる。光吸収粒子の含有量が少なすぎると、光吸収部の光遮光性が不十分となる場合があり、光吸収粒子の含有量が多すぎると、樹脂ビーズどうしが接触し割れや欠けの問題が発生し易くなる。
【００５８】
＜コントラスト向上シートの製造方法＞
次に、本発明によるコントラスト向上シートの製造方法について、図面を参照しながら説明する。図８は本実施形態に係るコントラスト向上シートの製造工程を模式的に示した図であり、図９は本実施形態に係る光透過部の形成工程を模式的に示した図であり、図１０は本実施形態に係る粘着層および剥離層を有する基材を示した図であり、図１１は本実施形態に係る掻取装置によるインク組成物の掻き取りの様子を模式的に示した図である。
【００５９】
まず、基材２上に、層厚方向断面において複数の溝１ｂが並設された光透過部１を形成する（図８（ａ））。
【００６０】
基材２は、光透過部１や後述する光吸収部４を形成するためのベースとなる層である。基材２としては、透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明樹脂シートや透明ガラスを用いることができる。透明樹脂フィルムとしては、トリアセテートセルロース（TAC）フィルム、ポリエチレンテレフタレート（PET）等のポリエステル系フィルム、ジアセチルセルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルロニトリルフィルム等を好適に使用できるが、これらの中でも、ポリエステル系フィルムが好ましく用いられる。ポリエステル系フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートの他、ポリブチレンテレフタレート、ポリナフタレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート等が挙げられる。
【００６１】
この光透過部１の形成は、使用する樹脂の種類によって異なる。例えば、光透過部１を透明な熱可塑性樹脂を用いて形成する場合には、加熱した金型を熱可塑性樹脂に押圧する熱プレス法や射出成型法、金型内に熱可塑性樹脂モノマーを注入して重合・固化させるキャスティング法等によって、光透過部１を形成することができる。また、電離放射線硬化型樹脂、特に紫外線硬化型樹脂を用いる場合には、当該樹脂を成形型内に注入して紫外線を照射して硬化させる、いわゆるＵＶ法によって、光透過部１を形成することができる。これらの方法の中でも、本発明においては、量産性に優れるＵＶ法が好適に使用できる。ＵＶ法によれば、金型ロールを用いて、光透過部１を連続的に製造することができる。
【００６２】
具体的には、例えば、図９に示されるように、所定ピッチで光透過部１の形に対応した形の溝を有する金型ロール７０と、ニップロール７１との間に基材２を送り込む。図９中の矢印は、基材２を送り込む方向を表したものである。基材２の送り込みに合わせて、金型ロール７０と基材２との間に供給装置７２から例えば紫外線硬化型樹脂等を含む光透過部用組成物７３の液滴を供給し続ける。供給装置７２から基材２上に光透過部用組成物７３を供給するとき、金型ロール７０と基材２との間に、光透過部用組成物７３が溜まった組成物溜まり７４が形成されるようにする。この組成物溜まり７４を形成することによって、光透過部用組成物７３が基材２の幅方向に広がる。
【００６３】
上記のようにして金型ロール７０と基材２との間に供給された光透過部用組成物７３は、金型ロール７０とニップロール７１との間の押圧力により、基材２と金型ロール７０との間に充填される。その後、電離放射線照射装置７５によって光透過部用組成物７３に紫外線を照射し、光透過部用組成物７３を硬化させて、光透過部１を形成する。光透過部１を形成した後、剥離ロール７６を介して、金型ロール７０から光透過部１を引き剥がす。
【００６４】
金型ロール７０に送り込まれる基材２は、図１０に示されるように粘着層６および剥離層７を備えていてもよい。粘着層６は、コントラスト向上シートを表示装置の表示部に接着させるためのものである。粘着層６に用いられる粘着剤は光を透過するとともに、適切に光学シートを他に接着させることができれば、その材料は特に限定されるものではない。粘着剤としては、例えばアクリル系の共重合体を挙げることができる。
【００６５】
剥離層７は、取扱時に粘着層６が他に接触しないようにするためのものであり、粘着層６上に形成されている。剥離層７としては、特に限定されるものではないが、例えばポリエチレンテレフタレート（PET）樹脂等が挙げられる。
【００６６】
なお、次のインキ組成物３の充填工程の前に、光透過部１の溝１ｂの表面に親水化処理を施しておくことが好ましい。溝１ｂの表面に親水化処理を施すことにより、溝１ｂへインキ組成物をより充填し易くなり、インキ充填率が向上する。親水化処理は、従来公知の方法を用いて行うことができる。例えば、低圧プラズマ処理、大気圧プラズマ処理、コロナ処理、紫外線照射処理、エキシマランプ処理等のドライプロセスや、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、エタノールアミン等によるアルカリ処理等のウエットプロセスが挙げられる。これらの中でも、大気圧プラズマ処理が、製造効率の観点から好ましい。
【００６７】
基材２上に光透過部１を形成した後、製造装置１０を用いて、溝１ｂ内にインキ組成物３を充填する（図８（ｂ））。
【００６８】
具体的には、まず、図１に示されるように、供給装置３０および掻取装置４０に対して、搬送系２０によりシート状の光透過部１を基材２ごと移動させながら、光透過部１の表面１ａに供給装置３０からインキ組成物３を連続的に供給し、供給装置３０の下流に位置する掻取装置４０により光透過部１の表面１ａ上のインキ組成物３を掻き取る。これにより、溝１ｂにインキ組成物３が充填されるとともに、光透過部１の表面１ａに存在する余剰のインキ組成物３が掻き取られる。
【００６９】
ここで、インキ組成物３の供給は、第１の掻取ブレード４１の上流側かつ第１の掻取ブレード４１の直近にインキ組成物３からなるインキ溜まり３ａが形成されるように行われる。具体的には、インキ溜まり３ａは、供給装置３０から比較的過剰にインキ組成物３を光透過部１の表面１ａに供給することにより形成される。
【００７０】
また、第１の掻取ブレード４１によりインキ組成物３を掻き取ると、第１の掻取ブレード４１には貫通孔４１ｂが設けられているので、図１１に示されるようにインキ溜まり３ａを構成するインキ組成物３が貫通孔４１ｂを介して第１の掻取ブレード４１と第２の掻取ブレード４２との間の空間Ｓに入り込む。そして、空間Ｓに入り込んだインキ組成物３は、第２の掻取ブレード４２で掻き取られるとともに、堰４８の吸引孔４８ａを介して吸引機構４３により吸引される。本実施形態では、インキ組成物３の吸引は、光透過部１の幅方向の端部側から行われる。
【００７１】
また、同時に、インキ溜まり３ａの一部が、堰４８の吸引孔４８ａを介して吸引機構４３により吸引される。吸引孔４８ａから吸引された使用済みのインキ組成物３は、ポンプ６１により、混合タンク６３に送られる。
【００７２】
混合タンク６３に送られた使用済みのインキ組成物３は、混合タンク６３にて、未使用のインキ組成物３ｂと混合され、その後、ポンプ６２によりフィルタ６５を介して供給装置３０に送られる。そして、再び、供給装置３０から光透過部１の表面１ａに供給される。
【００７３】
溝１ｂにインキ組成物３を充填した後、電離放射線を放射して、溝１ｂ内のインキ組成物３を硬化させて、略台形の断面形状を有する光吸収部４を形成する（図８（ｃ））。これにより、コントラスト向上シート５が作製される。インキ組成物３の硬化方法としては、通常の硬化方法、即ち、電子線又は紫外線の照射によって硬化することができる。例えば、電子線硬化の場合には、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速機から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。
【００７４】
インキ溜まりを形成すると、掻取ブレードに対するインキ組成物の接触量が多くなる。そして、インキ溜まりにおいて消費されなかったインキ組成物は滞留し、時間が経つにつれてインキ組成物の粘度が上昇してしまう傾向がある。このため、消費されなかったインキ組成物は掻取ブレード表面で、固形化してしまい、これが充填ムラおよびスジ不良の一因となると考えられる。これに対し、本実施形態によれば、インキ溜まり３ａの一部を、貫通孔４１ｂを介して空間Ｓに入り込ませるので、消費されなかったインキ組成物３を移動させることができる。また、この空間Ｓに入り込んだインキ組成物３を、吸引孔４８ａを介して吸引するので、この空間Ｓからインキ組成物３を除去することができる。これにより、第１の掻取ブレード４１におけるインキ組成物３の固形化を抑制することができ、充填ムラおよびスジ不良を低減することができる。
【００７５】
インキ組成物の粘度上昇は、インキ組成物の短寿命化引き起こすが、本実施形態によれば、空間Ｓに入り込んだインキ組成物３およびインキ溜まり３ａの一部を吸引しているので、インキ組成物３の粘度上昇を抑制することができ、インキ組成物３の長寿命化を図ることができる。
【００７６】
さらに、本実施形態によれば、以下の理由から、特にピッチスジ不良および黒スジ不良をさらに低減することができる。
【００７７】
例えば、第２の掻取ブレードの先端が第１の掻取ブレードの先端よりも０．５５ｍｍを超えて突き出るように調整して、第１の掻取ブレードの先端が光透過部の表面から離間するように第１の掻取ブレードを配置し、かつ第２の掻取ブレードの先端が光透過部の表面に接触するように第２の掻取ブレードを配置した場合には、第１の掻取ブレードと光透過部の表面との間の隙間に、インキ組成物が滞留し、または詰まってしまい、インキ組成物の濃度ムラが形成され、これにより、光吸収部にピッチスジ不良が発生するおそれがある。
【００７８】
また、第２の掻取ブレードの先端が第１の掻取ブレードの先端よりも０．２５ｍｍ未満突き出るように調整して、第１の掻取ブレードの先端が光透過部の表面に接触するように第１の掻取ブレードを配置し、かつ第２の掻取ブレードの先端が光透過部の表面から離間するように第２の掻取ブレードを配置した場合には、第２の掻取ブレードによる掻き取り性が劣り、光透過部上にインキ組成物が残存し、黒スジ不良が発生するおそれがある。
【００７９】
さらに、第２の掻取ブレードの先端が第１の掻取ブレードの先端よりも０．２５ｍｍ以上０．５５ｍｍ以下突き出るように調整した場合であっても、第１の掻取ブレードの先端が光透過部の表面に接触するように第１の掻取ブレードを配置し、かつ第２の掻取ブレードの先端が光透過部の表面に接触するように第２の掻取ブレードを配置した場合には、第１の掻取ブレードが光透過部の表面に押し込まれた状態となるので、第２の掻取ブレードによる掻き取り性が劣り、黒スジ不良が発生するおそれがある。
【００８０】
これに対し、本実施形態のように、第２の掻取ブレード４２の先端４２ａを第１の掻取ブレード４１の先端４１ｃよりも０．２５ｍｍ〜０．５５ｍｍ突き出るように調整し、第１の掻取ブレード４１の先端４１ｃが光透過部１の表面１ａに接触するように第１の掻取ブレード４１を配置し、かつ第２の掻取ブレード４２の先端４２ａが光透過部１の表面１ａから離間するように第２の掻取ブレード４２を配置した場合には、第１の掻取ブレード４１と光透過部１の表面１ａとの間の隙間におけるインキ組成物３の滞留または詰まりを低減することができる。これにより、ピッチスジ不良をより低減することができる。また、第２の掻取ブレード４２には当板５０が取り付けられているので、光透過部１の移動による第２の掻取ブレード４２の移動を抑制することができ、第２の掻取ブレード４２による掻き取り性を向上させることができる。これにより、黒スジ不良をより低減することができる。
【００８１】
＜コントラスト向上シート＞
上記のようにして得られたコントラスト向上シート５は、基材２と、基材２上に形成され、かつ複数の溝１ｂを有する光透過部１と、溝１ｂ内に形成された光吸収部４とを備えている。
【００８２】
光吸収部４は、光透過部１の屈折率と同じかまたは小さい屈折率を有する。光透過部１と光吸収部４との屈折率が上記のような関係となることにより、所定条件で光透過部１に入射した光源からの映像光を光吸収部４と光透過部１との境界面で適切に反射させ、観測者に明るい映像を提供することができる。また、観測者側からの外光の一部を吸収するため、コントラストも向上する。また、光透過部１と光吸収部４との境界面で反射せずに、光吸収部４の内側に入射した迷光が、光吸収部４中の光吸収材によって吸収される。また、所定角度で入射した観測者側からの外光を適切に吸収することができるため、コントラストを向上させることもできる。
【００８３】
また、コントラスト向上シートを２層重ね合わせてもよく、その場合、各コントラスト向上シートで異なった構造となるようにしてもよい。例えば、１層目のコントラスト向上シートと２層目のコントラスト向上シートとで、光吸収部の幅やピッチ、深さ、形状を変えたり、光吸収部の厚み方向の向きを変えたり、映像光に対する光吸収部のバイアス角度（水平方向に対する光吸収部の傾斜角度）を変えたりすることができる。また、光吸収部を形成する材料（樹脂の種類や光吸収粒子の濃度）を変えることもできる。例えば、１層目は効率良く外光をカットし、コントラストの向上を重視した設計とし、２層目は反射を利用した正面輝度向上効果を重視した設計とするような、各層で作用効果を変えることが好ましい。
【００８４】
本発明によるコントラスト向上シートは、従来の光学シートや視野角拡大部材に採用されている他の機能層を含んでいてもよい。具体的には、反射防止層、粘着層、電磁波遮蔽層、波長フィルタ層、防眩層、ハードコート層などを適宜組み合わせてもよい。これらの各機能層の積層順や積層数は、用途に応じて適宜決定することができる。
【００８５】
本発明によるコントラスト向上シートは、例えば、表示装置の表示部上に配置することができる。具体的には、コントラスト向上シートは、例えば、表示装置用光学フィルタとして使用することができる。表示装置の表示部としては、例えばプラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、電界放出ディスプレイ（FED）、表面伝導型電子放出素子ディスプレイ（SED）、プロジェクションテレビ等が挙げられる。
【００８６】
＜表示装置用光学フィルタおよび表示装置＞
以下、本発明によるコントラスト向上シートを表示装置用光学フィルタとして表示装置の表示部に取り付けた例について説明する。図１２は本実施形態に係るコントラスト向上シートを備えた表示装置の断面図である。図１２に示される表示装置８１は、上記した製造方法により製造されたコントラスト向上シート５を備えている。コントラスト向上シート５は、基材２が映像光源側となるように表示装置８１の表示部８２に接着層８３を介して貼り付けられている。コントラスト向上シート５の前面側には、帯電防止層８４、反射防止層８５、防眩層８６等が配置されている。なお、本実施の形態においては、コントラスト向上シート５の前面に帯電防止層８４等が配置されているが、これらに限られず、電磁波、赤外線、またはネオン線を遮断する層を配置してもよい。
【００８７】
（第２の実施形態）
以下、第２の実施形態について、図面を参照しながら説明する。図１３は本実施形態に係るコントラスト向上シートの製造装置を概略構成図である。図１４は図１３のホルダの断面図であり、図１５は図１４で示されるスペーサの斜視図である。図１６は本実施形態に係る他のスペーサの斜視図であり、図１７は本実施形態に係る掻取装置によるインク組成物の掻き取りの様子を模式的に示した図である。なお、図１３、図１４および図１７において、図１、図３および図１１に付されている符号と同じ符号が付されているものは、図１、図３および図１１に付されている符号に係る部材等と同じものを意味するものである。
【００８８】
図１３に示されるように、本実施形態のコントラスト向上シートの製造装置９０は、図１に示される製造装置１０とほぼ同様の構成となっているが、掻取装置１００の構成が掻取装置４０の構成とは若干異なっている。具体的には、図１４に示されるように掻取装置１００のホルダ１０１は、スペーサ４９の代わりに、吸引孔１０２ａを有するスペーサ１０２を備えており、空間Ｓに入り込んだインキ組成物３は吸引孔１０２ａを介して吸引機構４３により吸引される。本実施形態においては、空間Ｓに入り込んだインキ組成物３は吸引孔１０２ａを介して吸引するので、第１の掻取ブレード４１の幅は第２の掻取ブレード４２の幅よりも短くなっていなくともよい。
【００８９】
スペーサ１０２は、図１５に示されるように櫛歯状に形成されている。すなわち、スペーサ１０２の吸引孔１０２ａは凹状の孔となっている。この吸引孔１０２ａは、スペーサ１０２の一方の面１０２ｂからこの面１０２ｂとは反対側の面１０２ｃまで貫通している。なお、吸引の際には、スペーサ１０２に第２の掻取ブレード４２が当接するので、吸引孔１０２ａの開口面は第２の掻取ブレード４２により覆われる。
【００９０】
また、スペーサ１０２の代わりに、図１６に示されるスペーサ１０３を用いてもよい。スペーサ１０３は、スリット状、すなわち複数に分割された形状となっており、個々のスペーサ１０３間の隙間が吸引孔１０３ａとなっている。
【００９１】
そして、このような掻取装置１００を備えた製造装置９０を使用して、光透過部１の溝１ｂにインキ組成物３を充填する。具体的には、第１の実施形態と同様に、まず、図１３に示すように、供給装置３０および掻取装置１００に対して、搬送系２０によりシート状の光透過部１を基材２ごと移動させながら、光透過部１の表面１ａに供給装置３０からインキ組成物３を連続的に供給し、第１の掻取ブレード４１の上流側かつ第１の掻取ブレード４１の直近にインキ溜まり３ａを形成しつつ、供給装置３０の下流に位置する掻取装置１００により光透過部１の表面１ａ上のインキ組成物３を掻き取る。
【００９２】
また、供給装置３０からのインキ組成物３の供給および掻取装置１００によるインキ組成物３の掻き取りを行いながら、吸引機構４３により空間Ｓに入り込んだインキ組成物３ａを、図１７に示されるように吸引孔１０２ａを介して吸引する。なお、図１６に示されるスペーサ１０３を用いた場合には、吸引孔１０３ａを介してインキ組成物３を吸引する。本実施形態では、インキ組成物３の吸引は、第１の掻取ブレード４１と第２の掻取ブレード４２との間から行われる。また、同時に、吸引機構４３によりインキ溜まり３ａの一部を、吸引孔４８ａを介して吸引する。
【００９３】
吸引機構４３により吸引された使用済みのインキ組成物３は、第１の実施形態と同様に循環し、そして、再び、供給装置３０から光透過部１の表面１ａに供給される。
【００９４】
本実施形態によれば、インキ溜まり３ａの一部を、貫通孔４１ｂを介して空間Ｓに入り込ませ、かつこの空間Ｓに入り込んだインキ組成物３を、吸引孔１０２ａ、１０３ａを介して吸引により除去するので、インキ溜まり３ａを構成するインキ組成物３を移動させることができる。これにより、第１の掻取ブレード４１におけるインキ組成物３の固形化を抑制することができ、充填ムラおよびスジ不良を低減することができる。
【実施例】
【００９５】
以下、実施例を示し、本発明を具体的に説明する。本実施例においては、上記実施の形態と同様の方法でコントラスト向上シートを作製し、コントラスト向上シートの外観観察を行った。
【００９６】
（実施例１）
＜掻取装置＞
第１の掻取ブレードとしての金属製の厚さ２００μｍの第１のドクターブレードと、第２の掻取ブレードとしての金属製の厚さ２００μｍの第２のドクターブレードと、第１のドクターブレードおよび第２のドクターブレードを保持するホルダとを備える掻取装置を用意した。
【００９７】
第１のドクターブレードの幅は１１５０ｍｍであり、第２のドクターブレードの幅は１１６０ｍｍであった。すなわち、第１のドクターブレードの幅は第２のドクターブレードの幅よりも、１０ｍｍ短くなったものであった。また、第１のドクターブレードは、第１のドクターブレードの幅方向に７５ｍｍ間隔で１５箇所に貫通孔が設けられたものであった。
【００９８】
このホルダは、ホルダ本体と、ホルダ本体の両端に設けられ、第１のドクターブレードより第１のドクターブレードの掻取面側に突き出た堰と、第１のドクターブレードと第２のドクターブレードとの間に配置されたスペーサと、第２のドクターブレードに取り付けられた当板とを備えるものであった。
【００９９】
ホルダ本体は、光透過部の表面に対する第１のドクターブレードの先端部および第２のドクターブレードの先端部の角度がともに６５°となるように第１のドクターブレードおよび第２のドクターブレードを保持していた。スペーサは０．０５ｍｍの厚さを有するものであった。すなわち、第１のドクターブレードと第２のドクターブレードとの間の間隔は０．０５ｍｍとなっていた。
【０１００】
堰の底面には、第１のドクターブレードと第２のドクターブレードとの間の空間に連通した直径６ｍｍの吸引孔が設けられていた。この吸引孔にはエア吸引クリーナが吸引ホースを介して接続されていた。
【０１０１】
＜インキ組成物の調製＞
光硬化型プレポリマーとして、エポキシアクリレートオリゴマーOxirane,2,2'-[(1-methylethylidene)bis(4,1-phenyleneoxymethylene)]bis-,homopolymer,2-propenoate２０．０質量部と、反応性希釈モノマーとして、２−フェノキシエチル＝アクリラート２０．０質量部、α−アクリロイル−ω−フェノキシポリ（オキシエチレン）２０．０質量部、及び２−｛２−［２−（アクリロイルオキシ）（メチル）エトキシ］（メチル）エトキシ｝（メチル）エチル＝アクリラート１３．０質量部と、光吸収粒子として、平均粒径４．０μｍのカーボンブラックを２５％含有したアクリル架橋微粒子（ガンツ化成株式会社製）２０．０質量部と、光重合開始剤として、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（商品名：イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティケミカルズ株式会社製）７質量部と、を混合し、均一化してインキ組成物を得た。
【０１０２】
このインキ組成物の２５℃での粘度は、４０００ｍＰａ・ｓであった。なお、本発明において、粘度は、ＪＩＳ Ｋ-５４００の回転粘度計法に基づいて測定した。具体的には、株式会社東京計器製のＢＬ型粘度計、Ｎｏ．４ロータを使用し、２５℃で１２ｒｐｍ、１分後の粘度計の指示値を測定し、測定した粘度計指示値に換算乗数（本条件では５００）を乗じた値を粘度とした。
【０１０３】
なお、このインキ組成物の光吸収粒子を除いた組成物を厚さ１０μｍで塗工し、高圧水銀灯により８００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して硬化させ、多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ４（株式会社アタゴ製）を用いて５８９ｎｍの屈折率を測定したところ、１．５４７であった。
【０１０４】
＜光透過部用組成物の調整＞
ビスフェノールＡ―エチレンオキシド２モル付加物４１質量部、イソホロンジイソシアネート１４．０質量部を、およびウレタン化触媒としてビスマストリ（２−エチルヘキサノエート）（２−エチルヘキサン酸５０％溶液））０．０２質量部を加え、８０℃で５時間反応させ、その後、２−ヒドロキシエチルアクリレート５質量部を加え、８０℃で５時間反応させて得られたウレタンアクリレート系オリゴマーを、光硬化型プレポリマーとして用いた。このウレタンアクリレート系オリゴマー３２、０質量部と、光硬化性モノマーとして、フェノキシエチルアクリレート（分子量１９２）１０．０質量部、およびビスフェノールＡのＥＯ４モル付加物のジアクリレート（分子量５１２）３０．０質量と、金型離型剤として、テトラデカノール−エチレンオキシド１０モル付加物のリン酸エステル（モノエステル／ジエステル＝モル比１／１）０．０３質量部と、テアリルアミンエチレンオキシド１５モル付加物０．０２質量部、光重合開始剤として、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（商品名：イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティケミカルズ株式会社製）３質量部と、を混合し、均一化して光透過部用組成物を得た。
【０１０５】
なお、この光透過部用組成物を厚さ１００μｍで塗工し、高圧水銀灯により８００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して光透過部構成組成物を硬化させ、多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ４（株式会社アタゴ製）を用いて５８９ｎｍの屈折率を測定したところ、１．５５０であった。
【０１０６】
＜コントラスト向上シートの作製＞
上記、光透過部用組成物をポリエチレンテレフタレート基材（東洋紡績株式会社、Ａ４３００、厚さ１００μｍ、幅１４００ｍｍ）上に供給し、光透過部用組成物を硬化させて、表面に複数の溝が並設された光透過部を形成した。
【０１０７】
次いで、上記掻取装置を用いて、光透過部の溝にインキ組成物を充填した。具体的には、１０ｍ／分のライン速度で、光透過部を基材ごと移動させながら、ダイコーターのダイヘッドから、上記で得られたインキ組成物が光透過部の幅方向において均一に供給されるように、５Ｌ／分の供給速度で、光透過部の表面に連続的に供給し、その後、上記掻取装置を用いて、光透過部の表面のインキ組成物を掻き取った。
【０１０８】
インキ組成物の供給は、第１のドクターブレードの上流側かつ第１のドクターブレードの直近にインキ溜まりが形成されるように行われた。また、ダイヘッドからのインキ組成物の供給および第１および第２のドクターブレードによるインキ組成物の掻き取りを行いながら、堰に設けられた吸引孔を介して、エア吸引クリーナにより第１のドクターブレードと第２のドクターブレードとの間の空間に入り込んだインキ組成物を吸引するとともに、この吸引孔を介してインキ溜まりの一部を吸引した。そして、吸引された使用済みのインキ組成物を、ポンプにより混合タンクに送り、混合タンクにて、未使用のインキ組成物と混合した。そして、この混合後のインキ組成物を、ポンプによりフィルタを介してダイヘッドに送り、再び、ダイヘッドから光透過部の表面に供給した。
【０１０９】
光透過部の溝にインキ組成物を充填した後、インキ組成物に紫外線を照射して、インキ組成物を硬化させることにより、光吸収部を形成し、実施例１のコントラスト向上シートを作製した。
【０１１０】
（実施例２）
実施例２においては、実施例１とは異なる掻取装置を用いて、コントラスト向上シートを作製した。
【０１１１】
＜掻取装置＞
実施例２で用いた掻取装置は、実施例１で用いた掻取装置とほぼ同様の構成となっていたが、スペーサに凹状の吸引孔が設けられていた。具体的にはスペーサは櫛歯状になっていた。また、第１のドクターブレードおよび第２のドクターブレードの幅は１１６０ｍｍであり、第１のドクターブレードの幅は第２のドクターブレードの幅と同じであった。
【０１１２】
＜コントラスト向上シートの作製＞
まず、実施例１と同様に、実施例１で用いた光透過部用組成物をポリエチレンテレフタレート基材（東洋紡績株式会社、Ａ４３００、厚さ１００μｍ、幅１４００ｍｍ）上に供給し、光透過部用組成物を硬化させて、表面に複数の溝が並設された、幅が１４００ｍｍの光透過部を形成した。
【０１１３】
次いで、実施例２の掻取装置を用いて、光透過部の溝に実施例１で用いたインキ組成物を充填した。具体的には、１０ｍ／分のライン速度で、光透過部を基材ごと移動させながら、ダイコーターのダイヘッドから、インキ組成物が光透過部の幅方向において均一に供給されるように、５Ｌ／分の供給速度で、光透過部の表面に連続的に供給し、その後、実施例２の掻取装置を用いて、光透過部の表面のインキ組成物を掻き取った。
【０１１４】
インキ組成物の供給は、第１のドクターブレードの上流側かつ第１のドクターブレードの直近にインキ溜まりが形成されるように行われた。また、ダイヘッドからのインキ組成物の供給および第１および第２のドクターブレードによるインキ組成物の掻き取りを行いながら、スペーサに設けられた吸引孔を介して、エア吸引クリーナにより第１のドクターブレードと第２のドクターブレードとの間に入り込んだインキ組成物を吸引するとともに、堰に設けられた吸引孔を介してエア吸引クリーナによりインキ溜まりの一部を吸引した。そして、吸引された使用済みのインキ組成物を、ポンプにより混合タンクに送り、混合タンクにて、未使用のインキ組成物と混合した。そして、この混合後のインキ組成物を、ポンプによりフィルタを介してダイヘッドに送り、再び、ダイヘッドから光透過部の表面に供給した。
【０１１５】
光透過部の溝にインキ組成物を充填した後、インキ組成物に紫外線を照射して、インキ組成物を硬化させることにより、光吸収部を形成し、実施例２のコントラスト向上シートを作製した。
【０１１６】
（比較例１）
比較例１においては、実施例１および実施例２とは異なる掻取装置を用いて、コントラスト向上シートを作製した。
【０１１７】
＜掻取装置＞
比較例１で用いた掻取装置は、実施例１で用いた掻取装置とほぼ同様の構成となっていたが、この掻取装置のドクターブレードは、２枚ではなく、１枚であった。しかも、このドクターブレードには、貫通孔が設けられておらず、また堰やスペーサにも吸引孔が設けられていなかった。また、ドクターブレードの幅は１１６０ｍｍであった。
【０１１８】
＜コントラスト向上シートの作製＞
まず、実施例１と同様に、実施例１で用いた光透過部用組成物をポリエチレンテレフタレート基材（東洋紡績株式会社、Ａ４３００、厚さ１００μｍ、幅１４００ｍｍ）上に供給し、光透過部用組成物を硬化させて、表面に複数の溝が並設された、幅が１４００ｍｍの光透過部を形成した。
【０１１９】
次いで、比較例１の掻取装置を用いて、光透過部の溝に実施例１で用いたインキ組成物を充填した。具体的には、１０ｍ／分のライン速度で、光透過部を基材ごと移動させながら、ダイコーターのダイヘッドから、インキ組成物が光透過部の幅方向において均一に供給されるように、５Ｌ／分の供給速度で、光透過部の表面に連続的に供給し、その後、比較例１の掻取装置を用いて、光透過部の表面のインキ組成物を掻き取った。
【０１２０】
インキ組成物の供給は、ドクターブレードの上流側かつドクターブレードの直近にインキ溜まりが形成されるように行われた。また、ダイヘッドからのインキ組成物の供給およびドクターブレードによるインキ組成物の掻き取りを行った。なお、比較例１では、インキ組成物およびインキ溜まりの吸引は行わなかった。
【０１２１】
光透過部の溝にインキ組成物を充填した後、インキ組成物に紫外線を照射して、インキ組成物を硬化させることにより、光吸収部を形成し、比較例１のコントラスト向上シートを作製した。
【０１２２】
（比較例２）
比較例２においては、実施例１および実施例２とは異なる掻取装置を用いて、コントラスト向上シートを作製した。
【０１２３】
＜掻取装置＞
比較例２で用いた掻取装置は、実施例１で用いた掻取装置とほぼ同様の構成となっていたが、第１のドクターブレードには貫通孔が設けられておらず、また堰やスペーサには吸引孔が設けられていなかった。また、第１のドクターブレードおよび第２のドクターブレードの幅は１１６０ｍｍであり、第１のドクターブレードの幅は第２のドクターブレードの幅と同じであった。
【０１２４】
＜コントラスト向上シートの作製＞
まず、実施例１と同様に、実施例１で用いた光透過部用組成物をポリエチレンテレフタレート基材（東洋紡績株式会社、Ａ４３００、厚さ１００μｍ、幅１４００ｍｍ）上に供給し、光透過部用組成物を硬化させて、表面に複数の溝が並設された、幅が１４００ｍｍの光透過部を形成した。
【０１２５】
次いで、比較例２の掻取装置を用いて、光透過部の溝に実施例１で用いたインキ組成物を充填した。具体的には、１０ｍ／分のライン速度で、光透過部を基材ごと移動させながら、ダイコーターのダイヘッドから、インキ組成物が光透過部の幅方向において均一に供給されるように、５Ｌ／分の供給速度で、光透過部の表面に連続的に供給し、その後、比較例２の掻取装置を用いて、光透過部の表面のインキ組成物を掻き取った。
【０１２６】
インキ組成物の供給は、第１のドクターブレードの上流側かつ第１のドクターブレードの直近にインキ溜まりが形成されるように行われた。また、ダイヘッドからのインキ組成物の供給および第１および第２のドクターブレードによるインキ組成物の掻き取りを行った。なお、比較例２では、インキ組成物およびインキ溜まりの吸引は行わなかった。
【０１２７】
光透過部の溝にインキ組成物を充填した後、インキ組成物に紫外線を照射して、インキ組成物を硬化させることにより、光吸収部を形成し、比較例２のコントラスト向上シートを作製した。
【０１２８】
（比較例３）
比較例３においては、実施例１および実施例２とは異なる掻取装置を用いて、コントラスト向上シートを作製した。
【０１２９】
＜掻取装置＞
比較例３で用いた掻取装置は、実施例１で用いた掻取装置とほぼ同様の構成となっていたが、第１のドクターブレードには貫通孔が設けられておらず、またスペーサには吸引孔が設けられていなかった。また、第１のドクターブレードおよび第２のドクターブレードの幅は１１６０ｍｍであり、第１のドクターブレードの幅は第２のドクターブレードの幅と同じであった。
【０１３０】
＜コントラスト向上シートの作製＞
まず、実施例１と同様に、実施例１で用いた光透過部用組成物をポリエチレンテレフタレート基材（東洋紡績株式会社、Ａ４３００、厚さ１００μｍ、幅１４００ｍｍ）上に供給し、光透過部用組成物を硬化させて、表面に複数の溝が並設された、幅が１４００ｍｍの光透過部を形成した。
【０１３１】
次いで、比較例３の掻取装置を用いて、光透過部の溝に実施例１で用いたインキ組成物を充填した。具体的には、１０ｍ／分のライン速度で、光透過部を基材ごと移動させながら、ダイコーターのダイヘッドから、インキ組成物が光透過部の幅方向において均一に供給されるように、５Ｌ／分の供給速度で、光透過部の表面に連続的に供給し、その後、比較例３の掻取装置を用いて、光透過部の表面のインキ組成物を掻き取った。
【０１３２】
インキ組成物の供給は、第１のドクターブレードの上流側かつ第２のドクターブレードの直近にインキ溜まりが形成されるように行われた。また、ダイヘッドからのインキ組成物の供給および第１および第２のドクターブレードによるインキ組成物の掻き取りを行いながら、堰に設けられた吸引孔を介してエア吸引クリーナによりインキ溜まりの一部を吸引した。そして、吸引された使用済みのインキ組成物を、ポンプにより混合タンクに送り、混合タンクにて、未使用のインキ組成物と混合した。そして、この混合後のインキ組成物を、ポンプによりフィルタを介してダイヘッドに送り、再び、ダイヘッドから光透過部の表面に供給した。
【０１３３】
光透過部の溝にインキ組成物を充填した後、インキ組成物に紫外線を照射して、インキ組成物を硬化させることにより、光吸収部を形成し、比較例３のコントラスト向上シートを作製した。
【０１３４】
外観観察
このようにして作製された実施例１、２および比較例１〜３のコントラスト向上シートの外観を観察して、充填ムラ、スジ不良の発生を確認した。なお、この評価の基準は以下の通りとした。
【０１３５】
（１）充填ムラ
○：充填ムラが確認されなかった。
△：充填ムラが若干観察されたが、実用上問題のない程度であった。
×：充填ムラが多数確認された。
【０１３６】
（２）スジ不良
○：スジ不良が確認されなかった。
△：スジ不良が若干確認されたが、実用上問題のない程度であった。
×：スジ不良が多数確認された。
【０１３７】
以下、結果について述べる。
【表１】
表１に示されるように比較例１に係るコントラスト向上シートは充填ムラおよびスジ不良ともに抑制できなかった。また、比較例２および３に係るコントラスト向上シートにおいては、充填ムラおよびスジ不良が若干観察された。これに対し、実施例１および２に係るコントラスト向上シートには、充填ムラおよびスジ不良が観察されず、良好な状態であった。
【０１３８】
これらの結果から、第１のドクターブレードに貫通孔を形成し、かつ貫通孔を介して第１のドクターブレードと第２のドクターブレードに入り込むインキ組成物を吸引した場合には、充填ムラおよびスジ不良が低減できることが確認された。
【符号の説明】
【０１３９】
１…光透過部、１ａ…表面、１ｂ…溝、２…基材、３…インキ組成物、３ａ…インキ溜まり、４…光吸収部、５…コントラスト向上シート、１０、９０…製造装置、３０…供給装置、４０、１００…掻取装置、４１…第１の掻取ブレード、４１ａ…先端部、４１ｂ…貫通孔、４２…第２の掻取ブレード、４３…吸引機構、４４、１０１…ホルダ、４７…ホルダ本体、４８…堰、４８ａ、１０２ａ、１０３ａ…吸引孔、４９、１０２、１０３…スペーサ、６０…インキ循環系。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に複数の溝が並設された光透過部と、前記光透過部の前記溝内に形成された光吸収部とを備えるコントラスト向上シートの製造に用いられる掻取装置であって、
表面に複数の溝が並設された光透過部の前記表面から前記表面上に供給されたインキ組成物を掻き取るための、先端部に貫通孔を有する第１の掻取ブレードと、
前記第１の掻取ブレードと所定の間隔を置いて配置され、前記第１の掻取ブレードによる掻き取り後に前記光透過部の前記表面に残る前記インキ組成物をさらに掻き取るための第２の掻取ブレードと、
前記貫通孔を介して前記第１の掻取ブレードと前記第２の掻取ブレードとの間の空間に入り込んだ前記インキ組成物を吸引する吸引機構と
を備えることを特徴とする、掻取装置。
【請求項２】
前記第１の掻取ブレードおよび前記第２の掻取ブレードを保持するホルダをさらに備え、前記吸引機構が、前記ホルダに設けられた、前記空間に連通した吸引孔を介して前記インキ組成物を吸引する、請求項１に記載の掻取装置。
【請求項３】
前記ホルダが、ホルダ本体と、前記ホルダ本体の両端部に設けられ、かつ前記第１の掻取ブレードよりも前記第１の掻取ブレードの掻取面側に突き出た堰とを有し、前記第１の掻取ブレードの幅が前記第２の掻取ブレードの幅よりも短くなっており、かつ前記吸引孔が前記堰部に設けられている、請求項２に記載の掻取装置。
【請求項４】
前記ホルダが、ホルダ本体と、前記第１の掻取ブレードと前記第２の掻取ブレードの間に配置されたスペーサとを備えており、前記吸引孔が前記スペーサに設けられている、請求項２に記載の掻取装置。
【請求項５】
前記吸引孔の一端が前記堰部の底面に設けられている、請求項３に記載の掻取装置。
【請求項６】
表面に複数の溝が並設された光透過部と、前記光透過部の前記溝内に形成された光吸収部とを備えるコントラスト向上シートの製造装置であって、請求項１ないし５のいずれか１項に記載の掻取装置を備えることを特徴とする、コントラスト向上シートの製造装置。
【請求項７】
表面に複数の溝が並設された光透過部と、前記光透過部の前記溝内に形成された光吸収部とを備えるコントラスト向上シートの製造方法であって、
表面に複数の溝が並設されたシート状の光透過部を移動させながら、前記光透過部の前記表面にインキ組成物を連続的に供給し、前記インキ組成物の供給位置よりも下流側に配置された第１の掻取ブレードの上流側かつ前記第１の掻取ブレードの直近にインキ組成物からなるインキ溜まりを形成しつつ、前記光透過部の表面上の前記インキ組成物を、前記第１の掻取ブレードおよび前記第１の掻取ブレードよりも下流側に前記第１の掻取ブレードと所定の間隔を置いて配置された第２の掻取ブレードにより掻き取る充填工程とを備え、
前記第１の掻取ブレードが、前記第１の掻取ブレードの先端部に貫通孔を有し、前記充填工程が、前記貫通孔を介して前記第１の掻取ブレードと前記第２の掻取ブレードとの間の空間に入り込んだ前記インキ組成物を吸引しながら行われることを特徴とする、コントラスト向上シートの製造方法。
【請求項８】
前記インキ組成物の吸引が、前記光透過部の幅方向の端部側から行われる、請求項７に記載のコントラスト向上シートの製造方法。
【請求項９】
前記インキ組成物の吸引が、前記第１の掻取ブレードと前記第２の掻取ブレードとの間から行われる、請求項７に記載のコントラスト向上シートの製造方法。
【請求項１０】
吸引された前記インキ組成物が、再び前記光透過部の表面に供給される、請求項７ないし９のいずれか１項に記載のコントラスト向上シートの製造方法。
【請求項１１】
吸引された前記インキ組成物が、未使用の前記インキ組成物と混合された後、前記光透過部の表面に供給される、請求項１０に記載のコントラスト向上シートの製造方法。
【請求項１２】
吸引された前記インキ組成物と、未使用の前記インキ組成物との混合比が１：４〜４：１である、請求項１１に記載のコントラスト向上シートの製造方法。
【請求項１】
表面に複数の溝が並設された光透過部と、前記光透過部の前記溝内に形成された光吸収部とを備えるコントラスト向上シートの製造に用いられる掻取装置であって、
表面に複数の溝が並設された光透過部の前記表面から前記表面上に供給されたインキ組成物を掻き取るための、先端部に貫通孔を有する第１の掻取ブレードと、
前記第１の掻取ブレードと所定の間隔を置いて配置され、前記第１の掻取ブレードによる掻き取り後に前記光透過部の前記表面に残る前記インキ組成物をさらに掻き取るための第２の掻取ブレードと、
前記貫通孔を介して前記第１の掻取ブレードと前記第２の掻取ブレードとの間の空間に入り込んだ前記インキ組成物を吸引する吸引機構と
を備えることを特徴とする、掻取装置。
【請求項２】
前記第１の掻取ブレードおよび前記第２の掻取ブレードを保持するホルダをさらに備え、前記吸引機構が、前記ホルダに設けられた、前記空間に連通した吸引孔を介して前記インキ組成物を吸引する、請求項１に記載の掻取装置。
【請求項３】
前記ホルダが、ホルダ本体と、前記ホルダ本体の両端部に設けられ、かつ前記第１の掻取ブレードよりも前記第１の掻取ブレードの掻取面側に突き出た堰とを有し、前記第１の掻取ブレードの幅が前記第２の掻取ブレードの幅よりも短くなっており、かつ前記吸引孔が前記堰部に設けられている、請求項２に記載の掻取装置。
【請求項４】
前記ホルダが、ホルダ本体と、前記第１の掻取ブレードと前記第２の掻取ブレードの間に配置されたスペーサとを備えており、前記吸引孔が前記スペーサに設けられている、請求項２に記載の掻取装置。
【請求項５】
前記吸引孔の一端が前記堰部の底面に設けられている、請求項３に記載の掻取装置。
【請求項６】
表面に複数の溝が並設された光透過部と、前記光透過部の前記溝内に形成された光吸収部とを備えるコントラスト向上シートの製造装置であって、請求項１ないし５のいずれか１項に記載の掻取装置を備えることを特徴とする、コントラスト向上シートの製造装置。
【請求項７】
表面に複数の溝が並設された光透過部と、前記光透過部の前記溝内に形成された光吸収部とを備えるコントラスト向上シートの製造方法であって、
表面に複数の溝が並設されたシート状の光透過部を移動させながら、前記光透過部の前記表面にインキ組成物を連続的に供給し、前記インキ組成物の供給位置よりも下流側に配置された第１の掻取ブレードの上流側かつ前記第１の掻取ブレードの直近にインキ組成物からなるインキ溜まりを形成しつつ、前記光透過部の表面上の前記インキ組成物を、前記第１の掻取ブレードおよび前記第１の掻取ブレードよりも下流側に前記第１の掻取ブレードと所定の間隔を置いて配置された第２の掻取ブレードにより掻き取る充填工程とを備え、
前記第１の掻取ブレードが、前記第１の掻取ブレードの先端部に貫通孔を有し、前記充填工程が、前記貫通孔を介して前記第１の掻取ブレードと前記第２の掻取ブレードとの間の空間に入り込んだ前記インキ組成物を吸引しながら行われることを特徴とする、コントラスト向上シートの製造方法。
【請求項８】
前記インキ組成物の吸引が、前記光透過部の幅方向の端部側から行われる、請求項７に記載のコントラスト向上シートの製造方法。
【請求項９】
前記インキ組成物の吸引が、前記第１の掻取ブレードと前記第２の掻取ブレードとの間から行われる、請求項７に記載のコントラスト向上シートの製造方法。
【請求項１０】
吸引された前記インキ組成物が、再び前記光透過部の表面に供給される、請求項７ないし９のいずれか１項に記載のコントラスト向上シートの製造方法。
【請求項１１】
吸引された前記インキ組成物が、未使用の前記インキ組成物と混合された後、前記光透過部の表面に供給される、請求項１０に記載のコントラスト向上シートの製造方法。
【請求項１２】
吸引された前記インキ組成物と、未使用の前記インキ組成物との混合比が１：４〜４：１である、請求項１１に記載のコントラスト向上シートの製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【公開番号】特開２０１２−２２６０７２（Ｐ２０１２−２２６０７２Ａ）
【公開日】平成２４年１１月１５日（２０１２．１１．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−９２７８１（Ｐ２０１１−９２７８１）
【出願日】平成２３年４月１９日（２０１１．４．１９）
【出願人】（０００００２８９７）大日本印刷株式会社 (14,506)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１１月１５日（２０１２．１１．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年４月１９日（２０１１．４．１９）
【出願人】（０００００２８９７）大日本印刷株式会社 (14,506)
【Ｆターム（参考）】
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