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Fターム[4F042DD01]の内容

塗布装置−一般、その他 (33,298) | 塗料の再分布、均一化 (758) | 再分布具 (544)

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【課題】簡単に画像の意匠性を向上させることができる描画装置及び描画方法を提供する。
【解決手段】描画装置は、ワークPに対して液体Lを噴射する走査型液体噴射ヘッドと、ワークPを載置しつつ副走査方向に搬送するワーク搬送テーブル6と、ワーク搬送テーブル6のワーク載置面6aに配置された複数の温度差発生素子30と、ワークPに描画する画像データに基づいて、画像の外周部に対向する位置に配置された温度差発生素子30aにより、画像の外周部に着弾した液体Laと他の領域に着弾した液体Lとの間に温度差を発生させる温度差発生部と、を備える。 (もっと読む)


【課題】広範囲の部分に薬液を均一に塗布すると共に薬液の塗布時間を短縮する。
【解決手段】上面1aに基板5を載置して水平面内を移動可能にされたステージ1と、ステージ1の上方に配設され、該ステージ1に載置された基板5の上面に圧着して該基板5上に滴下された薬液を所定厚みに押し広げる圧着ヘッド2と、圧着ヘッド2を間にして左右に配設された一対のリール8間に圧着ヘッド2の圧着面2a側を経由して掛け渡されたテープ3と、ステージ1と圧着ヘッド2とを相対的に上下動させて基板5と圧着ヘッド2とを、間にテープ3を介在させた状態で互いに圧着可能とする移動手段4と、を備えたものである。 (もっと読む)


【課題】インクジェットで基板上に膜塗布する際、ノズル間にバラツキが存在したとしても膜厚ムラを防止する。
【解決手段】基板を搬送する搬送手段と、前記基板を相対的に走査しながら前記基板に対し液体を液滴として吐出する複数の液滴吐出口を有し、前記液体を前記基板表面に塗布する液体吐出手段と、前記基板と相対的に移動させながら、前記基板上に塗布された液体に対してパターンが形成された面を接触させるスタンプと、前記スタンプのパターンが形成された面全体を前記基板上に塗布された液体に接触した状態で、前記液体を硬化させる硬化手段と、を備え、着弾した液体と略同じ幅の直線を前記スタンプを前記液体に接触させて行く方向と平行な方向にひいた際において、少なくとも一本以上の前記直線上に、前記液体吐出手段の異なる前記液滴吐出口から吐出された液滴が存在することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】微小短絡などの懸念をなくし、かつ芯材の溶接工程における不具合が回避できる、安定した電極合剤ペーストの塗布方法を提供する。
【解決手段】コイル状に巻かれた芯材を巻きだす第1の工程と、芯材を電極合剤ペーストに浸漬する第2の工程と、電極合剤ペーストの塗布量を調節する第3の工程と、電極合剤ペーストが両面に塗布されたペースト塗布シートを乾燥させる第4の工程と、ペースト塗布シートをコイル状に巻き取る第5の工程とからなり、第1の工程と第2の工程との間には芯材のコイルどうしを接続するシーム溶接工程が設けられており、このシーム溶接工程は溶接電極としてモリブデンおよび/あるいはタングステンを含む金属を用い、かつ圧縮気体により空冷する機構を備えている。 (もっと読む)


【課題】 液体を乾燥することによって形成するパターンの形状制御性を向上した液滴吐出装置、パターン形成方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置を提供する。
【解決手段】 ビームスポットBsの反Y矢印方向に、Y矢印方向の幅が、積算照射時間で約50μ秒に相対する幅になるように成形され、その照射強度が、中心位置近傍で、鋭いピークを有するブロースポットBs1を成形するようにした。そして、着色層領域23に着弾した液滴FDが、Y矢印方向に沿って搬送速度Vy(200mm/秒)で搬送されて、ブロースポットBs1に侵入すると、液滴FDのX矢印方向の中央位置近傍に、約50μ秒間で、その照射強度を急激に増加して下降させるレーザビームBが照射されるようにした。 (もっと読む)


【課題】 基板上の画素形成領域の不良箇所の検査や修復を省略できるパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】 液滴吐出ヘッド26のノズルプレート27に液滴吐出ノズル28が複数形成されている。液滴吐出ヘッド26は、各液滴吐出ノズル28の直下に搬送されてきたガラス基板に形成されたバンクによって区画されたそれぞれ対応する凹部が相対向するように配置されたとき、各液滴吐出ノズル28から微小液滴が複数回吐出され、同凹部に機能液の液滴を付着させる。また、ノズルプレート27のノズル形成面27aには、各液滴吐出ノズル28毎に、液滴吐出ノズル28に対して反Y矢印方向に所定の間隔をおいた位置に刷毛体29を植設した。刷毛体29は、バンクBにて区画形成された凹部内に付着した機能液の液滴を攪拌する。 (もっと読む)


マイクロエレクトロニックデバイスのような硬化性塗膜基板を効率的で高速に接触平坦化するための改良した装置(20)および方法を提供し非常に高度な平坦化を達成する。装置(20)は好ましくは光学的に平面である柔軟シート(88)および支援の光学的平面体(82)を持つ平坦化ユニット(28)、および硬化アセンブリ(30)を含む。操作においては、平坦化塗膜(76)を持つ基板(78)を真空チャンバー(26)内のシート(88)および平面体(82)の下に置く。シート(88)を隔てて圧力差を設けることによりシートをたわませ塗膜(76)の中央領域Cと接触させ、それからすぐ塗膜(76)はサポート(114)および真空チャック(120)を用いてシート(88)および平面体(82)と全平坦化接触させ、この時点で塗膜(76)はアセンブリ(30)を用いて硬化される。硬化後、シート(88)を隔てて圧力差をつくり出し、シートを塗膜の周辺部Pから、そしてシート(88)および塗膜(76)を全面的に逐次分離する。 (もっと読む)


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