説明

有機EL素子

【課題】有機EL素子
【解決手段】第一電極と第二電極の間に有機多層を有する有機EL素子が開示され、該有機多層は、第一電極上に形成され、有機材料から選択された少なくとも一種と無機材料から選択された少なくとも一種の混合物にて形成された正孔注入層、正孔注入層上の少なくとも一層を有する正孔輸送層、及び正孔輸送層の上に形成された発光層を含む。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、有機EL(電界発光)素子に関し、より詳しくは有機EL素子の正孔注入層に関するものである。
【背景技術】
【0002】
有機EL(電界発光)素子において、電荷が陰極と陽極の間に形成された有機発光層に注入されると、正孔と電子が対を形成し、そして正孔と電子の対が消滅することによって光が発光する。有機EL素子は、低駆動電圧と低消費電力を有する次世代のディスプレイ装置として、注目を集めている。
【0003】
以下に、従来技術の有機EL素子とその製造方法を添付図面を参照して説明する。
【0004】
図1は従来技術の有機EL素子を示している。図1に示すように、まず第一電極として陽極2を透明基板1の上に形成する。このとき、陽極2はITO(インジウム−スズ−酸化物)で形成される。その後、HIL(正孔注入層)3を陽極2の上に形成する。この場合、HIL3は一般に銅フタロシアニン(CuPc)で形成される。
【0005】
続いて、HTL(正孔輸送層)4をHIL3の上に形成する。HTL4はN,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−(1,1’ビフェニル)−4,4’−ジアミン(TPD)又は4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニル−アミノ]ビフェニル(NPD)で形成される。
【0006】
次に、有機発光層5をHTL4の上に形成する。このとき、必要に応じてドーパントを添加し得る。それから、ETL(電子輸送層)6及びEIL(電子注入層)7を有機発光層5の上に連続して形成する。EIL7はLiFまたはLi2Oで形成される。その後、第
二電極として陰極8をEIL7の上に形成し、有機EL素子の製造プロセスが完結する。
【0007】
しかしながら、従来技術の有機EL素子は以下の不利点を有する。
従来技術の有機EL素子は低発光効率及び短寿命の問題を有している。従来技術の有機EL素子を高圧電流で駆動させると、陽極2とHIL3の間に熱応力が発生する。このように、素子の寿命は熱応力によって短くなる。
【0008】
また、HIL3に用いた有機材料が正孔の優れた運動性を有するため、正孔−電子電荷バランスが失われ、量子効率が低下する。すなわち、低電圧駆動が要求される有機EL素子の場合、発光効率の増加のために量子効率を改善することが必要となる。この点において、従来技術のHILに用いた有機材料は、量子効率の改善には適していない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0009】
したがって、本発明は従来技術の限界と不利点に起因する1つ以上の問題を実質的に除去する有機EL素子を対象とする。
本発明の目的は、優れた発光効率と長寿命を得る有機EL素子を提供することである。
【0010】
本発明のさらなる有利点、目的及び特徴は、部分的に以下の説明に記述され、部分的に以下の説明を検討すれば当業者には明らかであり、若しくは発明の実施から習得し得る。本発明の目的と他の有利点は、ここに書かれた説明において特に指摘された構造、及び請求項、及び添付図面によって、理解し到達し得る。
【課題を解決するための手段】
【0011】
ここに具体化され広く記述された本発明の趣旨にしたがって、上記目的と他の利点を得るために、有機EL素子は第一電極と第二電極の間に形成された有機多層を含み、該有機多層は、第一電極の上に形成され、且つ、有機材料から選択された少なくとも1種と無機材料から選択された少なくとも1種の混合物で形成された正孔注入層、正孔注入層の上の少なくとも一層を有する正孔輸送層、及び正孔輸送層の上に形成された発光層を含む。
【0012】
さらに、有機EL素子は、発光層の上に形成された電子輸送層、並びに電子輸送層の上に形成された電子注入層を含む。
このとき、正孔注入層の有機材料は、芳香族アミン群から選択されるいずれか一種である。
また、正孔注入層の有機材料は、下記の化学式1にて表される。
【化1】

【0013】
ここで、化学式1のnは1乃至4の正数を表し、Ar1、Ar2及びAr3の少なくともいずれか一つは置換されているか又は置換されていない芳香族基から選択される。
また、前記Ar1、Ar2及びAr3の少なくともいずれか一つは、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基(biphenyly)、ビフェニレニル基、フェナントレニル基、フルオ
レニル基、テルフェニリル基(terphenylyl)及びアントラセニル基の一種である。
また、Ar1、Ar2及びAr3の置換基はメチル基、エチル基、プロピル基、第三ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ジメチルアミン基、ジエチルアミン基、フェニル基、フッ素基、塩素原子、臭素原子及びジフェニルアミン基の一種である。
【0014】
また、正孔注入層の有機材料は下記化学式2乃至7で表されるもののいずれか一種である。
【化2】

【化3】

【化4】

【化5】

【化6】

【化7】

【0015】
一方、正孔注入層の無機材料は、周期表の1A、2A、3A及び4A族から選択されるハロゲン化物化合物又は酸化物化合物のいずれか一種で形成される。
このとき、ハロゲン化物化合物は、LiF、NaF、KF、RbF、CsF及びFrFのいずれか一つであり、酸化物化合物はLi2O、Na2O、K2O、BeO、MgO、Ca
O、B23、Al23及びSiO2のいずれか一種である。
【0016】
また、正孔注入層は有機材料からなる少なくとも一つの第一層と無機材料からなる少なくとも一つの第二層で形成され、第一層と第二層は交互に積層される。
このとき、第一層と第二層の各々は約0.1nm乃至10nmの厚さにて形成される。
同時に、正孔注入層は約0.1nm乃至10nmの全体厚さにて形成される。
【0017】
また、正孔注入層は、有機材料から選択された少なくとも一種と無機材料から選択された少なくとも一種との混合物で形成される。
このとき、混合物は有機材料Xと無機材料Yを100乃至1対1の組成比、又は、1対100乃至1の組成比で含む。
また、混合物は、厚さ方向に勾配を形成する有機材料組成X値、又は、厚さ方向に勾配を形成する無機材料組成Y値を有する。
このとき、有機材料組成X値は第一電極との界面でX=0を得、正孔輸送層との界面でX=1を得、したがって、第一電極との界面と正孔輸送層との界面の間で1>X>0を維持する。
また、無機材料組成Y値は第一電極との界面でY=0を得、正孔輸送層との界面でY=1を得、したがって、第一電極との界面と正孔輸送層との界面の間で1>Y>0を維持する。
【0018】
一方、正孔注入層は2つの層で形成され、各層は異なる材料で形成される。
【0019】
本発明における前述の概略的な説明と後述の詳細な説明のどちらも典型的及び説明的であって、権利請求されるような発明のさらなる説明を提供することを意図したものであることが理解される。
【発明を実施するための最良の形態】
【0020】
本発明のさらなる理解を提供するために含まれ、本願に組み入れられそして本願の一部を構成する添付図面は、本発明の実施態様を説明し、及び記載と合わせて本発明の原理を説明する役割を果たす。図において:
図1は一般的な有機EL素子を示す図である;
図2及び図3は本発明の有機EL素子を示す図である;
図4は本発明の有機EL素子の発光効率を示すグラフである;そして
図5は本発明の有機EL素子の寿命を示すグラフである。
【0021】
本発明の好ましい実施態様が詳細に言及され、それらの実施例は添付の図面にて示される。可能な限り、同一の参照番号が、同一又は類似部分を言及するために、一連の図面中に用いられる。
【0022】
以下、本発明の好ましい実施態様の有機EL素子を添付図面を参照して説明する。
【0023】
図2及び図3は本発明の有機EL素子を示している。図2及び図3に示すように、第一電極として陽極12を透明基板11の上に形成する。このとき、陽極12はITO(インジウム−スズ−酸化物)で形成される。
【0024】
次に、HIL(正孔注入層13)を陽極12の上に形成する。このとき、HIL13は、有機材料から選択される少なくとも一種と無機材料から選択される少なくとも一種の混合物で形成される。この状態において、HIL13の有機材料は、芳香族アミン群から選択されるいずれか一種であり、下記化学式1にて表される。
【化8】

(ここで、nは1乃至4の整数を表し、Ar1、Ar2及びAr3の少なくともいずれか一つは置換されている又は置換されていない芳香族基から選択される。
【0025】
また、Ar1、Ar2及びAr3の少なくともいずれか一つは、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基(biphenyly)、ビフェニレニル基、フェナントレニル基、フルオレニ
ル基、テルフェニリル基(terphenylyl)及びアントラセニル基の一種であり得る。そし
て、Ar1、Ar2及びAr3の置換基は、メチル基、エチル基、プロピル基、第三ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ジメチルアミン基、ジエチルアミン基、フェニル基、フッ素基、塩素原子、臭素原子及びジフェニルアミン基の一種であり得る。
【0026】
たとえば、HIL13は下記化学式2乃至7で表されるもののいずれか一種であり得る。
【化9】

【化10】

【化11】

【化12】

【化13】

【化14】

【0027】
一方、HIL13は、周期表の1A、2A、3A及び4A族から選択されるハロゲン化物化合物又は酸化物化合物のいずれか一種で形成される。このとき、ハロゲン化物化合物は、LiF、NaF、KF、RbF、CsF又はFrFのいずれか一種であり得る。また、酸化物化合物はLi2O、Na2O、K2O、BeO、MgO、CaO、B23、Al23
又はSiO2であり得る。
【0028】
また、HIL13は有機材料からなる少なくとも一つの第一層と無機材料からなる少なくとも一つの第二層で形成され得る。このとき、第一層と第二層は交互に積層される。また、第一層と第二層の各々は約0.1nm乃至10nmの厚さにて形成される。同時に、HIL13は約0.1nm乃至10nmの全体厚さにて形成される。
【0029】
また、HIL13は、有機材料から選択された少なくとも一種と無機材料から選択された少なくとも一種の混合物で形成される。すなわち、HIL13は共積層による有機材料と無機材料の混合法にて形成される。このとき、無機材料は混合物の1乃至90%である。このとき、HIL13は約0.1乃至300nmの全体厚さで維持される。
【0030】
有機材料と無機材料の混合物の場合、有機材料組成X値は厚さ方向に勾配を有し得、或いは、無機材料組成Y値は厚さ方向に勾配を有し得る。すなわち、有機材料組成X値は陽極12との界面でX=0を得、HTL(正孔輸送層)14との界面でX=1を得、したがって、陽極12との界面とHTL14との界面の間で1>X>0を維持する。また、無機材料組成Y値は陽極12との界面でY=0を得、HTL14との界面でY=1を得、したがって、陽極12との界面とHTL14との界面の間で1>Y>0を維持する。このとき、HIL13の全体厚さはを約0.1乃至300nmの範囲に維持することが求められる。
【0031】
その結果、HIL13は有機材料と無機材料の混合物にて形成される。それゆえ、HIL13と陽極12の間の熱応力を減少させること、及び、正孔の運動性が減少することによる正孔−電子電荷バランスが維持されることが可能となり、それにより、有機EL素子における優れた発光効率と長寿命が得られる。
【0032】
本発明の好ましい実施態様において、HIL13の有機材料は、NPD(4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニル−アミノ]ビフェニル)が用いられ、HIL13の無機材料はLiFが用いられる。このとき、NPDとLiFの組成比率は5対1である。また、HIL13は約30nmの厚さにて形成される。
【0033】
続いて、HTL14をHIL13の上に形成する。HTL14はN,N’−ジフェニル−
N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−(1,1’ビフェニル)−4,4’−ジアミン(TPD)又は4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニル−アミノ]ビフェニル(NPD)にて形成される。図2に示すように、HTL14は、第一HTL14a及び第二HTL14bを有する二層構造にて形成され得る。又は、図3に示すように、HTL14は一層構造にて形成され得る。HTL14が二層を有する場合、各層は異なる材料で形成される。
【0034】
本発明の好ましい実施態様において、第一HTL14aをNPD(4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニル−アミノ]ビフェニル)にて厚さ約35nmにて形成する。その上に、第二HTL14bをNPD(4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニル−アミノ]ビフェニル)にて厚さ約40nmにて形成する。その後、有機発光層15をHTL14の上に厚さ約25nmにて形成する。このとき、必要であればドーパントを添加し得る。緑色発光のために、クマリン(Coumine)誘導体(C545T)をAlq3(8−ヒドロキシキノリン アルミニウム)に約1%ドープする。
【0035】
次に、ETL(電子輸送層)16及びEIL(電子注入層)17を連続して有機発光層15の上に形成する。ETLをAlq3(8−ヒドロキシキノリン アルミニウム)にて厚さ約35nmにて形成し、EIL17をLiFにて厚さ約0.5nmにて形成する。このとき、ETL16及びEIL17は素子の種類によって省略され得る。その後、第二電極として陰極18をEIL17の上に形成し、有機EL素子を製造する。このとき、陰極18はアルミニウムAlにて厚さ約200nmにて形成される。
【0036】
図4は本発明の有機EL素子の発光効率と従来技術のものとを比較したグラフを示したものであり、図5は有機EL素子の寿命と従来技術のものとを比較したグラフを示したものである。図4及び図5中に示された従来技術においては、有機材料のNPDのみをHIL(正孔注入層)に使用している。
【0037】
図4に示すように、本発明の光度は従来技術のものよりも優れている。すなわち、本発明の輝度は同じ電流密度(mA/cm2)において従来技術のものよりも優れている。
【0038】
図5に示すように、電流密度50mA/cm2における本発明の作動時間は従来技術のも
のよりも長い。
【0039】
5000nitsの条件における有機EL素子の発光効率を比較すると、本発明は約21.1cd/Aの量子効率を得、従来技術では約13.7cd/Aの量子効率を得る。
【0040】
50mA/cd2の条件における有機EL素子の寿命を比較すると、本発明は約100時
間の作動時間を得、従来技術では約40時間の作動時間を得る。
【0041】
上述の通り、本発明の有機EL素子は下記の有利点を有する。
【産業上の利用可能性】
【0042】
本発明の有機EL素子は、陽極とHILの間の熱応力を減少させることにより、優れた光度と長寿命を得ることが可能である。
【0043】
また、正孔−電子電荷バランスが維持されるため、量子効率の改善が可能となり、それにより有機EL素子の発光効率が改善される。
【0044】
本発明において多様な変更及び変形を為すことが可能であることは、当業者にとって明らかである。したがって、本発明は、添付された請求項及びその均等物の範囲内で定まるこ
とを条件にこの発明の変更及び変形を包含することを、意味するものである。
【図面の簡単な説明】
【0045】
【図1】図1は一般的な有機EL素子を示す図である。
【図2】図2は本発明の有機EL素子を示す図である。
【図3】図3は本発明の有機EL素子を示す図である。
【図4】図4は本発明の有機EL素子の発光効率を示すグラフである。
【図5】図5は本発明の有機EL素子の寿命を示すグラフである。
【符号の説明】
【0046】
1、11・・・基板
2、12・・・陽極(第一電極)
3、13・・・正孔注入層(HIL)
4、14(14a、14b)・・・正孔輸送層(HTL)
14a・・・第一正孔輸送層(第一HTL)
14b・・・第二正孔輸送層(第二HTL)
5、15・・・有機発光層
6、16・・・電子輸送層(ETL)
7、17・・・電子注入層(EIL)
8、18・・・陰極(第二電極)


【特許請求の範囲】
【請求項1】
第一電極と第二電極の間に有機多層を有する有機EL素子であって、該有機多層は、
第一電極の上に形成され、且つ、有機材料から選択された少なくとも一種と無機材料から選択された少なくとも一種の混合物から形成された正孔注入層;
該正孔注入層の上の少なくとも一層を有する正孔輸送層;及び
該正孔輸送層の上に形成された発光層からなることを特徴とする、有機EL素子。
【請求項2】
前記発光層の上に形成された電子輸送層、及び、該電子輸送層の上に形成された電子注入層を更に含むことを特徴とする、請求項1に記載の有機EL素子。
【請求項3】
前記正孔注入層の有機材料が芳香族アミン群から選択されるいずれか一種であることを特徴とする、請求項1に記載の有機EL素子。
【請求項4】
前記正孔注入層の有機材料が下記化学式1
【化1】

で表されることを特徴とする、請求項3に記載の有機EL素子。
【請求項5】
前記化学式1のnが1乃至4の正数を表し、Ar1、Ar2及びAr3の少なくともいずれか一つが置換された又は置換されていない芳香族基から選択されることを特徴とする、請求項4に記載の有機EL素子。
【請求項6】
前記Ar1、Ar2及びAr3の少なくともいずれか一つがフェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基(biphenyly)、ビフェニレニル基、フェナントレニル基、フルオレニル基
、テルフェニリル基(terphenylyl)及びアントラセニル基の一種であることを特徴とす
る、請求項5に記載の有機EL素子。
【請求項7】
前記Ar1、Ar2及びAr3の置換基がメチル基、エチル基、プロピル基、第三ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ジメチルアミン基、ジエチルアミン基、フェニル基、フッ素基、塩素原子、臭素原子及びジフェニルアミン基の一種であることを特徴とする、請求項5に記載の有機EL素子。
【請求項8】
前記正孔注入層の有機材料が下記化学式2乃至7で表されるもののいずれか一種であることを特徴とする、請求項3に記載の有機EL素子。
【化2】

【化3】

【化4】

【化5】

【化6】

【化7】

【請求項9】
前記正孔注入層の無機材料が、周期表の1A、2A、3A及び4A族から選択されるハロゲン化物化合物又は酸化物化合物のいずれか一種で形成されることを特徴とする、請求項1に記載の有機EL素子。
【請求項10】
前記ハロゲン化物化合物が、LiF、NaF、KF、RbF、CsF及びFrFのいずれか一つであることを特徴とする、請求項9に記載の有機EL素子。
【請求項11】
前記酸化物化合物がLi2O、Na2O、K2O、BeO、MgO、CaO、B23、Al23及びSiO2のいずれか一つであることを特徴とする、請求項9に記載の有機EL素子。
【請求項12】
前記正孔注入層が、有機材料からなる少なくとも一つの第一層と無機材料からなる少なくとも一つの第二層で形成され、該第一層と該第二層が交互に積層されることを特徴とする、請求項1に記載の有機EL素子。
【請求項13】
前記第一層及び前記第二層の各々が約0.1nm乃至10nmの厚さにて形成され、同時に前記正孔注入層が約0.1nm乃至300nmの全体厚さにて形成されることを特徴とする、請求項12に記載の有機EL素子。
【請求項14】
前記正孔注入層が、有機材料から選択された少なくとも一種と無機材料から選択された少なくとも一種との混合物で形成されることを特徴とする、請求項1に記載の有機EL素子。
【請求項15】
前記無機材料が前記混合物の1乃至90%であることを特徴とする、請求項14に記載の有機EL素子。
【請求項16】
前記混合物が、厚さ方向に勾配を形成する有機材料組成X値、又は、厚さ方向に勾配を形成する無機材料組成Y値を有することを特徴とする、請求項14に記載の有機El素子。
【請求項17】
前記有機材料組成X値が前記第一電極との界面でX=0を得、前記正孔輸送層との界面でX=1を得、これにより、第一電極との界面と正孔輸送層との界面の間で1>X>0を維持することを特徴とする、請求項16に記載の有機EL素子。
【請求項18】
前記無機材料組成Y値が前記第一電極との界面でY=0を得、前記正孔輸送層との界面でY=1を得、これにより、第一電極との界面と正孔輸送層との界面の間で1>Y>0を維
持することを特徴とする、請求項16に記載の有機EL素子。


【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【公表番号】特表2007−502535(P2007−502535A)
【公表日】平成19年2月8日(2007.2.8)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2006−523121(P2006−523121)
【出願日】平成16年8月2日(2004.8.2)
【国際出願番号】PCT/KR2004/001937
【国際公開番号】WO2005/018284
【国際公開日】平成17年2月24日(2005.2.24)
【出願人】(596066770)エルジー エレクトロニクス インコーポレーテッド (384)
【Fターム(参考)】