有機ＥＬ表示パネルとその製造方法および検査方法
【課題】 有機ＥＬ素子基板上の各部材の形成位置のずれ、あるいは有機ＥＬ素子基板と封止基板との接合位置のずれ等、有機ＥＬ表示パネル製造工程の精度を簡便に測定できる有機ＥＬ表示パネルとその製造方法および検査方法を提供する。
【解決手段】 基板上に陽極電極、絶縁層、隔壁、有機発光層および陰極電極が形成された有機ＥＬ素子基板２と、前記有機ＥＬ素子基板２に対向する封止基板３と、該封止基板３の外周部に配設され、前記有機ＥＬ素子基板２と前記封止基板３とを封止するシール材４とを備えた有機ＥＬ表示パネルであって、前記有機ＥＬ素子基板２が、そのＥＬ素子表示領域外に目盛り１３を備えたものであり、該目盛り１３は、有機ＥＬ素子基板２の製造工程において、いずれかの部材と同時に形成する。
【解決手段】 基板上に陽極電極、絶縁層、隔壁、有機発光層および陰極電極が形成された有機ＥＬ素子基板２と、前記有機ＥＬ素子基板２に対向する封止基板３と、該封止基板３の外周部に配設され、前記有機ＥＬ素子基板２と前記封止基板３とを封止するシール材４とを備えた有機ＥＬ表示パネルであって、前記有機ＥＬ素子基板２が、そのＥＬ素子表示領域外に目盛り１３を備えたものであり、該目盛り１３は、有機ＥＬ素子基板２の製造工程において、いずれかの部材と同時に形成する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、目盛りを備えた有機ＥＬ表示パネルとその製造方法および検査方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の情報通信分野における急速な技術開発の進展に伴い、フラットパネルディスプレイ、なかでも有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネルは、次世代の表示装置として大きな期待が寄せられている。
有機ＥＬ表示パネルとは、電極間に有機発光層を挟持してなる有機ＥＬ素子基板と、この有機ＥＬ素子基板に対向する封止基板とを、封止基板の外周部に配設したシール材により封止したものである。
有機ＥＬ素子は、電極間に電圧を印加すると、陽極からは正孔が、陰極からは電子が、それぞれ有機ＥＬ層に注入されて再結合し、その際に生ずるエネルギーにより有機ＥＬ層に含まれる有機発光性化合物の分子が励起される。このようにして励起された分子が基底状態に戻る際のエネルギーが光として放出されて発光現象を生じる。有機ＥＬ素子はこの発光現象を利用した自発光素子であり、高速応答性、視認性、輝度などの点で優れている。さらに、液晶表示パネルで必要とされるバックライトが不要なため電力消費が少なく、パネルの薄型化にも有利である。
【０００３】
その反面、有機ＥＬ表示パネルは、その製造工程において、有機ＥＬ素子基板上の各部材の形成、あるいは有機ＥＬ素子基板と封止基板との接合を精密に制御して行うことが必要であり、これらに不備があると、画質が損なわれてしまうことがある。特に、有機ＥＬ素子基板上に形成された有機発光層は、パネル内に侵入した水分により特性劣化を起こし、輝度低下や画素の縮小、有機ＥＬ表示パネルの寿命低下等を生じることが知られている。
【０００４】
そこで、有機ＥＬ素子基板と封止基板との接合に際しては、接合位置のずれを抑制する方法として、有機ＥＬ素子基板と封止基板の外周部にアライメントマークを設けて、有機ＥＬ素子基板と封止基板との接合を、このアライメントマークを基準として、ＣＣＤカメラを用いて位置あわせをしながら行う方法が開示されている（特許文献１参照）。
【０００５】
一方、有機ＥＬ表示パネルの製造においては、このように各工程を精密に行うだけではなく、有機ＥＬ素子基板上の各部材の形成位置のずれ幅、あるいは有機ＥＬ素子基板と封止基板との接合位置のずれ幅等を確認し、これらデータに基づいて、製造工程の改良を行っていくことも必要とされている。
【０００６】
そのため、従来、有機ＥＬ素子基板上の各部材の形成位置のずれ幅に関しては、光学顕微鏡等を用いて、各部材の拡大写真を撮影した後、この写真と同等の倍率で拡大撮影したメジャーを用いて測定したり、測長機能を有する顕微鏡を用いて測定する方法等が採用されている。
【特許文献１】特開２００５−７１６４６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、前記メジャーを用いる方法あるいは測長機能を有する顕微鏡を用いる方法は、作業効率が低く、特殊な機器を必要とするなどの問題点がある。
また、特許文献１に記載の方法でも、位置あわせの精度が十分とは言えず、接合位置のずれ幅を測定することができないという問題点がある。
【０００８】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、有機ＥＬ素子基板上の各部材の形成位置のずれ、あるいは有機ＥＬ素子基板と封止基板との接合位置のずれ等、有機ＥＬ表示パネル製造工程の精度を簡便に測定できる有機ＥＬ表示パネルとその製造方法および検査方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するため、
請求項１に記載の発明は、基板上に陽極電極、絶縁層、隔壁、有機発光層および陰極電極が形成された有機ＥＬ素子基板と、前記有機ＥＬ素子基板に対向する封止基板と、前記封止基板の外周部に配設され、前記有機ＥＬ素子基板と前記封止基板とを接合するシール材とを備えた有機ＥＬ表示パネルであって、前記有機ＥＬ素子基板が、そのＥＬ素子表示領域外に目盛りを備えたものであり、前記目盛りが、互いに直交する二本の目盛りであり、前記二本の目盛りのうち一本の目盛りが前記隔壁に平行であることを特徴とする有機ＥＬ表示パネルである。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、前記目盛りが、前記有機ＥＬ素子基板と前記封止基板と前記シール材とで囲まれた密封空間から、前記有機ＥＬ素子基板の端縁にかけて配記されていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示パネルである。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、前記目盛りが、陽極電極、陰極電極および絶縁層のいずれかと同じ材料からなるものであることを特徴とする請求項１または２に記載の有機ＥＬ表示パネルである。
【００１２】
請求項４に記載の発明は、請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法であって、有機ＥＬ素子基板上のＥＬ素子表示領域外に、目盛りを形成する工程を有することを特徴とする有機ＥＬ表示パネルの製造方法である。
【００１３】
請求項５に記載の発明は、陽極電極、絶縁層および陰極電極を形成するいずれかの工程において、前記目盛りを同時に形成することを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法である。
【００１４】
請求項６に記載の発明は、請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示パネルに設けられた目盛りを用いて、有機ＥＬ表示パネル製造工程の精度を確認することを特徴とする有機ＥＬ表示パネルの検査方法である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、有機ＥＬ素子基板上の各部材の形成位置のずれ、あるいは有機ＥＬ素子基板と封止基板との接合位置のずれ等、有機ＥＬ表示パネル製造工程の精度を簡便に測定でき、得られた測定結果の情報に基いて工程条件を改良していくことで、高品質な有機ＥＬ表示パネルを効率よく製造することができる。また、本発明の実施に際しては、特殊な設備等は不要であり、簡便に行うことができるため、コスト的にも優れた有機ＥＬ表示パネルを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の実施形態に係る有機ＥＬ表示パネルの例を図面に示し、詳細に説明する。
図１は、本実施形態に係る有機ＥＬ表示パネル１の一例を示す概略断面図である。
有機ＥＬ表示パネル１は、有機ＥＬ素子基板２と、有機ＥＬ素子基板２に対向する封止基板３と、これら基板を接合して有機ＥＬ素子を封止するシール材４と、有機ＥＬ素子基板２と封止基板３とシール材４とから形成される密封空間に設けた捕水材５とから概略構成されている。
【００１７】
有機ＥＬ素子基板２は、厚さ０．４〜１．１ｍｍの透明なガラス基板からなり、その上には、ＩＴＯ等の透明な陽極電極３０が形成されている。有機ＥＬ素子基板２の下部側１０は、いわゆる視認側に当たる。
【００１８】
そして、陽極電極３０上には、自発光源となる有機発光層７，７・・・、アルミニウム等の金属材料からなる陰極電極８，８・・・、ポリイミド樹脂等からなる絶縁層６，６・・・、およびノボラック樹脂等からなる隔壁９，９・・・が形成されていて、陽極電極３０と陰極電極８とで有機発光層７を挟み込んで電流を印加できるようになっている。
【００１９】
封止基板３は、ガラス、アクリル系樹脂などからなり、有機ＥＬ素子基板２を覆うように設けられている。また、封止基板３の形状は、平板上の基板の外周部に凸部が設けられたものとなっており、この凸部が、シール材４を介して有機ＥＬ素子基板２と接合されることにより、有機ＥＬ素子が封止されている。
【００２０】
シール材４は、エポキシ系、アクリル系等の紫外線硬化型樹脂からなるものである。これらのなかでも、外部からの水分の浸入を防止する点から、透水性の低い樹脂であることが好ましい。
【００２１】
凸部で囲まれた封止基板３の表面上には、全面に渡って捕水材５が設けられている。捕水材５は、凸部で囲まれた封止基板３の表面全面ではなく、一部に設けても良いが、パネル内における捕水効率を上げるために、全面に渡って設けることが好ましい。
なお、捕水材とは、捕水機能を有する物質を粘性のある溶媒に混合したものであり、捕水機能を有する物質としては、例えば、ゼオライト、アルミナ、シリカゲル、モレキュラーシーブなどの物理吸着型のものや、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸チタンなどの化学吸着型のものを挙げることができる。
【００２２】
前記捕水材５は、水分の浸入を遮断した窒素雰囲気下または真空下で、ディスペンサ等を用いて、封止基板３の凸部で囲まれた表面に塗布して設けることができる。塗布量は、０．０１〜０．５ｍｍ３／ｍｍ２であることが好ましい。また、表面積を大きくして捕水効率を向上させる観点から、厚さ１０〜３００μｍの膜状に塗布することが好ましい。
【００２３】
図２は、図１に示した有機ＥＬ表示パネル１の、封止基板側１１から見た概略平面図である。
符号１３は、有機ＥＬ素子基板２上に設けられた目盛りであり、図２に示す座標軸におけるＸ軸目盛り１３ａおよびＹ軸目盛り１３ｂとからなる。なお、ここでは、目盛り１３は簡略化して線で表示している。有機ＥＬ素子基板２の製造工程において、蒸着あるいはスパッタによって成膜した後、フォトリソグラフィーおよびエッチングにより部材を形成するいずれかの工程において、目盛り１３は、これら部材と同じ材料を用いて同時に形成される。具体的には、例えば、陽極電極３０、絶縁層６および陰極電極８を形成する工程のいずれかにおいて、これら部材と同時に形成される。
【００２４】
封止基板３が着色されていて、封止基板側１１から目盛り１３を読み取ることが難しい場合、あるいは、目盛り１３の形成場所近傍に、陰極電極８や配線があって電極材料で目盛り１３を形成することができない場合などは、陽極電極３０あるいは絶縁層６形成時に目盛り１３を形成すると良い。
このように、本発明において目盛り１３は、有機ＥＬ表示パネル１の製造工程において、各部材と同時に形成することができるので、その形成にあたっては、特殊な設備を必要とせず簡便に行うことができる。
【００２５】
目盛り１３は、有機ＥＬ表示パネル１の四隅の一つに設けられている。すなわち、有機ＥＬ表示パネル１の切断位置１２から、素子表示領域外のＸ軸方向およびＹ軸方向に、互いに直交するように二つ設けられており、いずれも密封空間内であるパネル内にまで伸ばされている。なお、前記切断位置１２は有機ＥＬ表示パネルにおいて、有機ＥＬ素子基板２の端縁となる。また、パネル内にある最外郭の隔壁９と平行になるようにされており、このように設けることで、後述するように、隔壁９を基準位置として、有機ＥＬ素子基板２上の各部材の位置のずれ、あるいは有機ＥＬ素子基板２と封止基板３との接合位置のずれを容易に計測することができる。
なおここでは、目盛り１３は、有機ＥＬ表示パネル１の四隅の一つに設けた例を示しているが、数はこれに限定されず、四隅の二つ以上に設けても良い。
【００２６】
次に、本実施形態に係る有機ＥＬ表示パネル１の製造方法について、目盛り１３を陽極電極３０形成時に同時に形成する方法を例にとり、以下に説明する。なお、本発明は、以下に示す方法に何ら限定されるものではない。
まず、有機ＥＬ素子基板２の製造方法について述べる。
ガラス基板上に、陽極電極材料であるＩＴＯを蒸着あるいはスパッタにより、膜厚１５０ｎｍ程度となるように成膜する。続いて、フォトリソグラフィーおよびエッチングによりＩＴＯパターンを形成する。このＩＴＯパターンが陽極電極３０となる。エッチングは、ウェットエッチングあるいはドライエッチングのいずれでも良い。
【００２７】
またこの時、目盛り１３も同時に形成する。目盛り１３は、有機ＥＬ表示パネル１の切断位置１２から、その対向する切断位置に向かって伸びるように設けるが、その際、素子表示領域外に設けることが必要である。また、目盛り１３は、後述する隔壁９のうちパネル内で最外郭のものに対して平行となるように設けることが好ましい。これは、他の工程で目盛り１３を形成する場合も同様である。
【００２８】
次に、陽極電極３０の上に、補助配線材料を成膜する。補助配線材料としては、Ａｌ、Ａｌ合金、ＡｇおよびＡｇ合金等の低抵抗性金属を用い、蒸着あるいはスパッタによって成膜する。続いて、成膜した補助配線材料を、フォトリソグラフィーおよびエッチングによりパターニングして、補助配線パターンを形成する。この補助配線（図示略）により、陽極電極３０または陰極電極８に信号が伝達される。
なお、陽極電極３０および補助配線の形成は、これに限定されず、例えば、陽極電極材料と補助配線材料を順番にガラス基板上に成膜した後、補助配線材料と陽極電極材料を順番にパターニングする方法で形成しても良い。
【００２９】
続いて、絶縁層６を形成する。補助配線を形成済みのガラス基板上に、感光性のポリイミド樹脂をスピンコーティングした後、有機発光層７に相当する部分が開口するよう、フォトリソグラフィー工程でパターニングして、キュアすることにより絶縁層６を形成する。
なお、目盛り１３は、陽極電極３０形成時に代わって、この絶縁層６形成時に、同時に形成することもできる。
【００３０】
一方、絶縁層６形成時には、陰極電極８と補助配線とのコンタクトホール（図示略）も形成する。例えば、前記開口部は、３００μｍ×３００μｍ程度、陰極電極８と補助配線とのコンタクトホールは２００μｍ×２００μｍ程度となるように形成することが好ましい。
【００３１】
次に、隔壁９を形成する。絶縁層６を形成済みのガラス基板上に、感光性のノボラック樹脂をスピンコーティングした後、フォトリソグラフィー工程でパターニングして、光反応させることで隔壁９を形成する。
また、隔壁９は帯状逆台形型となるように形成することが好ましい。このようにすることで、陰極電極８が、隔壁９下部近傍には形成されず、陰極同士を分離することが出来る。隔壁９を帯状逆台形型に成型するためには、例えば、ネガタイプの感光性樹脂を用いることが好ましい。ネガタイプの感光性樹脂を用いると、上から光を照射した時に深い部分ほど光反応が進行しにくいため、隔壁９を逆台形状に成型することが容易である。また、露光時間やエッチングの液温、時間を変更することで成型することもできる。なお、隔壁９を形成すると同時に、最外隔壁をＥＬ素子表示領域の外方に枠状に形成する。この最外隔壁は、ＥＬ素子表示領域外で陰極引き廻し配線の短絡を防止するものである。
【００３２】
続いて、絶縁層６の開口部に、蒸着により有機発光層７を形成する。有機発光層７は、界面層、正孔輸送層、発光層、電子注入層等（図示略）からなり、これらを順次蒸着することで得られる。
【００３３】
さらに有機発光層７上へ、陰極電極材料を蒸着あるいはスパッタリングした後、フォトリソグラフィー工程でパターニングすることにより、陰極電極８を形成する。
陰極電極材料としては、Ａｌを用いることが多いが、その他にも例えば、Ｌｉ等のアルカリ金属、Ａｇ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｙ、Ｉｎ、あるいはこれらを含む合金を用いることもできる。
なお、目盛り１３は、陽極電極３０あるいは絶縁層６形成時に代わって、この陰極電極８形成時に、同時に形成することもできる。
以上により、有機ＥＬ素子基板２が完成される。
【００３４】
次に、封止基板３の製造方法について述べる。
ガラス基板上の外周部に、有機ＥＬ素子基板２との接合部位である凸部を形成するため、凸部相当部位以外のガラス基板表面を、エッチングあるいはサンドブラスト等により掘り込む。このようにして形成された凸部で囲まれたガラス基板表面が、捕水材５を配置するための捕水材収納部となる。
そして、凸部形成後、この捕水材収納部に捕水材５を配置する。
【００３５】
次に、ディスペンサを用いて、凸部表面の長手方向の中心付近に沿って、シール材４を所定の幅で塗布する。これにより封止基板３が製造される。
【００３６】
以上により得られた有機ＥＬ素子基板２と封止基板３とを接合し、有機ＥＬ素子を封止して、有機ＥＬ表示パネル１を得る。有機ＥＬ素子基板２と封止基板３との接合は、紫外線を照射してシール材４を露光重合することで行う。
【００３７】
通常は、同一の基板上に有機ＥＬ表示パネルを複数形成して有機ＥＬ表示基板を製造した後、これらを所定の位置で切断することで、複数の有機ＥＬ表示パネルを得る。本発明も同様に、図３に示すような有機ＥＬ表示基板２０を製造した後、切断位置１２において、該基板２０を切断することで、複数の有機ＥＬ表示パネル１を得る。
各々の目盛り１３は、その一端が切断位置１２に一致するように設けられているので、切断位置のずれも計測することができる。
【００３８】
本発明の有機ＥＬ表示パネル１を、封止基板側１１から目盛り１３を用いて観察することで、陽極電極３０、絶縁層６および陰極電極８等の各部材について、その配置位置のずれ幅を、また有機ＥＬ素子基板２と封止基板３との接合位置のずれ幅を確認することができる。また、目盛り１３は、素子表示領域外に設けられているが、その一部はパネル内にまで伸ばされ、さらに、最外郭の隔壁９に平行となるように設けられているため、該隔壁９を基準位置として各部材配置位置あるいは接合位置を読み取ることで、これらのずれ幅を容易に確認することができる。そして、これらのずれ幅を測定することで、有機ＥＬ表示パネル１の製造における、各工程の精度を確認することができる。
【００３９】
さらに、目盛り１３を用いて、有機ＥＬ素子基板２と封止基板３との接合位置における、シール材４のはみ出し幅を測定することもできる。図４（ａ）は、図１に示した有機ＥＬ表示パネル１の概略断面図のうち、有機ＥＬ素子基板２と封止基板３との接合位置を拡大したものであり、図４（ｂ）は、図２に示した概略平面図のうち、目盛り１３、および有機ＥＬ素子基板２と封止基板３との接合位置を含む領域を拡大したものである。ここで、符号１４は、有機ＥＬ素子基板２と封止基板３との接合位置であり、符号４０は、該接合位置１４からはみ出したシール材４である。
なお、目盛り１３は、その間隔が０．００５〜０．１ｍｍとなるように設けることが好ましい。
【００４０】
有機ＥＬ素子基板２と封止基板３とを接合する際は、接合の圧力により、封止基板３の凸部に塗布されたシール材４の一部は、図４（ａ）に示すように、接合位置１４からはみ出して、はみ出し部位４０となる。この時、図４（ｂ）に示すように、はみ出し部位４０の幅を、目盛り１３を用いて測定することにより、シール材４の塗布量あるいは塗布速度等の精度を確認することができる。
【００４１】
一方、封止基板３に設けた捕水材５は、硬化を行わなかった場合、保存温度あるいは振動の影響を受けて、その一部から溶媒が分離してしまうことがあり、この場合、分離した溶媒はパネル内に貯留される。この分離した溶媒の量を、目盛り１３を用いて測定することもできる。
図５に示すように、目盛り１３が設けられている角を下にして、有機ＥＬ表示パネル１を鉛直方向に立て、パネル内の分離溶媒をパネル内の下部に集めると、目盛り１３ａおよび１３ｂの値を読み取ることで、分離した溶媒の量を簡便に確認することができる。これにより、捕水材５の調製に際して、捕水機能を有する物質と溶媒との混合比、あるいは捕水材５の量を管理することができる。なお、図５においては、接合位置１４、はみ出し部位４０および隔壁９は省略してある。
【００４２】
以上のように、これら測定データを解析し、有機ＥＬ表示パネル１の製造工程を改良していくことで、高品質な有機ＥＬ表示パネル１を安定して製造することができる。
【実施例】
【００４３】
以下に具体的実施例を挙げて、本発明についてさらに詳細に説明する。なお、本発明は、以下に示す実施例に何ら限定されるものではない。
（実施例１）
陽極電極３０形成時に形成した目盛り１３を用いて、有機ＥＬ素子基板２の絶縁層６、隔壁９、有機発光層７および陰極電極８の配置位置を確認した。具体的手順は以下の通りである。
図２に示すように、陽極電極３０形成時において、ガラス基板の四隅の一つに、互いに直交する二つの目盛り１３を設けた。そして、前記製造方法に従って、図３に示すような、複数の有機ＥＬ表示パネル１を含む有機ＥＬ表示基板２０を製造した。
該表示基板中２０の一つの有機ＥＬ表示パネル１について、絶縁層６、隔壁９、有機発光層７および陰極電極８の配置位置を、最外郭の隔壁９を基準位置として、前記目盛り１３を用いて測定した。
次に、同様の測定を、同じ表示基板２０中の、他の有機ＥＬ表示パネル１についても行った。この測定により、平面内二方向（Ｘ軸およびＹ軸方向）および該平面内における回転方向に関する、前記各部材の配置位置のずれを確認した。
さらに、以上のような測定を、他の有機ＥＬ表示基板の有機ＥＬ表示パネルに対しても行った。
【００４４】
このように、各部材の配置位置のずれを、有機ＥＬ表示基板のロット間、および一つの有機ＥＬ表示基板中のパネル間で比較することにより、有機ＥＬ素子基板の製造工程における、各部材形成工程の精度を、特殊な装置を用いることなく容易に確認することができた。
【００４５】
（実施例２）
実施例１で製造した有機ＥＬ表示パネル１について、有機ＥＬ素子基板２と封止基板３との接合位置を確認した。具体的手順は以下の通りである。
有機ＥＬ表示基板２０中の一つの有機ＥＬ表示パネル１について、図４（ｂ）に示すように、目盛り１３を用い、最外郭の隔壁９を基準位置として、接合位置１４を測定した。
次に、同様の測定を、同じ表示基板２０中の、他の有機ＥＬ表示パネル１についても行った。この測定により、平面内二方向（Ｘ軸およびＹ軸方向）および該平面内における回転方向に関する、接合位置１４のずれを確認した。
さらに、以上のような測定を、他の有機ＥＬ表示基板の有機ＥＬ表示パネルに対しても行った。
【００４６】
以上のように、接合位置１４のずれを、有機ＥＬ表示基板のロット間、および一つの有機ＥＬ表示基板中のパネル間で比較することにより、有機ＥＬ素子基板の製造工程における、有機ＥＬ素子封止工程の精度を、特殊な装置を用いることなく容易に確認することができた。
【００４７】
（実施例３）
実施例１で製造した有機ＥＬ表示パネル１について、有機ＥＬ素子基板２と封止基板３との接合位置における、シール材４のはみ出し幅を測定した。具体的手順は以下の通りである。
まず、有機ＥＬ表示基板２０中の一つの有機ＥＬ表示パネル１について、目盛り１３を用いて、前記はみ出し部位４０の幅を測定した。
次に、同様の測定を、同じ表示基板２０中の、他の有機ＥＬ表示パネル１についても行い、さらに、以上のような測定を、他の有機ＥＬ表示基板の有機ＥＬ表示パネルに対しても行った。
【００４８】
このように、シール材４のはみ出し部位４０の幅を、有機ＥＬ表示基板のロット間、および一つの有機ＥＬ表示基板中のパネル間で比較することにより、有機ＥＬ素子基板の製造工程における、シール材４の塗布精度を、特殊な装置を用いることなく容易に確認することができた。
【００４９】
（実施例４）
実施例１で製造した有機ＥＬ表示パネル１について、パネル内の分離溶媒の量を測定した。具体的手順は以下の通りである。
図５に示すように、目盛り１３が設けられている角を下にして、有機ＥＬ表示パネル１を鉛直方向に立て、水平面と約４５度の角度をなすように傾けて、パネル内の分離溶媒をパネル内の下部に集めた。そして、液面の位置を目盛り１３ａおよび１３ｂの値から読み取った。
次に、同様の測定を、同じ表示基板２０中の、他の有機ＥＬ表示パネル１についても行い、さらに、以上のような測定を、他の有機ＥＬ表示基板の有機ＥＬ表示パネルに対しても行った。
【００５０】
このように、パネル内の分離溶媒量を、有機ＥＬ表示基板のロット間、および一つの有機ＥＬ表示基板中のパネル間で比較することにより、封止基板３の製造工程において、捕水材５の塗布精度、すなわち、捕水機能を有する物質と溶媒との混合比、あるいは捕水材５の量を、特殊な装置を用いることなく容易に管理できることが確認された。
【００５１】
以上述べたように、本発明の製造方法により得られる、目盛りを備えた有機ＥＬ表示パネルは、従来よりも簡便に、その製造工程の精度を確認することができる。また、目盛りの形成もその製造工程において、同時に簡便に行うことができる。
【産業上の利用可能性】
【００５２】
本発明により、有機ＥＬ表示パネルの製造工程を改良していくことで、高品質な有機ＥＬ表示パネルを得ることができ、また、本発明の実施にあっては、特殊な設備を必要とせず、簡便に行うことができるため、コスト的にも優れた有機ＥＬ表示パネルを供給することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明の有機ＥＬ表示パネルの一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明の有機ＥＬ表示パネルの一例を示す概略平面図である。
【図３】本発明の有機ＥＬ表示パネルを含む有機ＥＬ表示基板の一例を示す概略平面図である。
【図４】本発明の有機ＥＬ表示パネルの一例を示す拡大図である。
【図５】本発明の有機ＥＬ表示パネルの一例を示す拡大図である。
【符号の説明】
【００５４】
１・・・有機ＥＬ表示パネル、２・・・有機ＥＬ素子基板、３・・・封止基板、４・・・シール材、６・・・絶縁層、７・・・有機発光層、８・・・陰極電極、９・・・隔壁、１３・・・目盛り、３０・・・陽極電極
【技術分野】
【０００１】
本発明は、目盛りを備えた有機ＥＬ表示パネルとその製造方法および検査方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の情報通信分野における急速な技術開発の進展に伴い、フラットパネルディスプレイ、なかでも有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネルは、次世代の表示装置として大きな期待が寄せられている。
有機ＥＬ表示パネルとは、電極間に有機発光層を挟持してなる有機ＥＬ素子基板と、この有機ＥＬ素子基板に対向する封止基板とを、封止基板の外周部に配設したシール材により封止したものである。
有機ＥＬ素子は、電極間に電圧を印加すると、陽極からは正孔が、陰極からは電子が、それぞれ有機ＥＬ層に注入されて再結合し、その際に生ずるエネルギーにより有機ＥＬ層に含まれる有機発光性化合物の分子が励起される。このようにして励起された分子が基底状態に戻る際のエネルギーが光として放出されて発光現象を生じる。有機ＥＬ素子はこの発光現象を利用した自発光素子であり、高速応答性、視認性、輝度などの点で優れている。さらに、液晶表示パネルで必要とされるバックライトが不要なため電力消費が少なく、パネルの薄型化にも有利である。
【０００３】
その反面、有機ＥＬ表示パネルは、その製造工程において、有機ＥＬ素子基板上の各部材の形成、あるいは有機ＥＬ素子基板と封止基板との接合を精密に制御して行うことが必要であり、これらに不備があると、画質が損なわれてしまうことがある。特に、有機ＥＬ素子基板上に形成された有機発光層は、パネル内に侵入した水分により特性劣化を起こし、輝度低下や画素の縮小、有機ＥＬ表示パネルの寿命低下等を生じることが知られている。
【０００４】
そこで、有機ＥＬ素子基板と封止基板との接合に際しては、接合位置のずれを抑制する方法として、有機ＥＬ素子基板と封止基板の外周部にアライメントマークを設けて、有機ＥＬ素子基板と封止基板との接合を、このアライメントマークを基準として、ＣＣＤカメラを用いて位置あわせをしながら行う方法が開示されている（特許文献１参照）。
【０００５】
一方、有機ＥＬ表示パネルの製造においては、このように各工程を精密に行うだけではなく、有機ＥＬ素子基板上の各部材の形成位置のずれ幅、あるいは有機ＥＬ素子基板と封止基板との接合位置のずれ幅等を確認し、これらデータに基づいて、製造工程の改良を行っていくことも必要とされている。
【０００６】
そのため、従来、有機ＥＬ素子基板上の各部材の形成位置のずれ幅に関しては、光学顕微鏡等を用いて、各部材の拡大写真を撮影した後、この写真と同等の倍率で拡大撮影したメジャーを用いて測定したり、測長機能を有する顕微鏡を用いて測定する方法等が採用されている。
【特許文献１】特開２００５−７１６４６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、前記メジャーを用いる方法あるいは測長機能を有する顕微鏡を用いる方法は、作業効率が低く、特殊な機器を必要とするなどの問題点がある。
また、特許文献１に記載の方法でも、位置あわせの精度が十分とは言えず、接合位置のずれ幅を測定することができないという問題点がある。
【０００８】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、有機ＥＬ素子基板上の各部材の形成位置のずれ、あるいは有機ＥＬ素子基板と封止基板との接合位置のずれ等、有機ＥＬ表示パネル製造工程の精度を簡便に測定できる有機ＥＬ表示パネルとその製造方法および検査方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するため、
請求項１に記載の発明は、基板上に陽極電極、絶縁層、隔壁、有機発光層および陰極電極が形成された有機ＥＬ素子基板と、前記有機ＥＬ素子基板に対向する封止基板と、前記封止基板の外周部に配設され、前記有機ＥＬ素子基板と前記封止基板とを接合するシール材とを備えた有機ＥＬ表示パネルであって、前記有機ＥＬ素子基板が、そのＥＬ素子表示領域外に目盛りを備えたものであり、前記目盛りが、互いに直交する二本の目盛りであり、前記二本の目盛りのうち一本の目盛りが前記隔壁に平行であることを特徴とする有機ＥＬ表示パネルである。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、前記目盛りが、前記有機ＥＬ素子基板と前記封止基板と前記シール材とで囲まれた密封空間から、前記有機ＥＬ素子基板の端縁にかけて配記されていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示パネルである。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、前記目盛りが、陽極電極、陰極電極および絶縁層のいずれかと同じ材料からなるものであることを特徴とする請求項１または２に記載の有機ＥＬ表示パネルである。
【００１２】
請求項４に記載の発明は、請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法であって、有機ＥＬ素子基板上のＥＬ素子表示領域外に、目盛りを形成する工程を有することを特徴とする有機ＥＬ表示パネルの製造方法である。
【００１３】
請求項５に記載の発明は、陽極電極、絶縁層および陰極電極を形成するいずれかの工程において、前記目盛りを同時に形成することを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法である。
【００１４】
請求項６に記載の発明は、請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示パネルに設けられた目盛りを用いて、有機ＥＬ表示パネル製造工程の精度を確認することを特徴とする有機ＥＬ表示パネルの検査方法である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、有機ＥＬ素子基板上の各部材の形成位置のずれ、あるいは有機ＥＬ素子基板と封止基板との接合位置のずれ等、有機ＥＬ表示パネル製造工程の精度を簡便に測定でき、得られた測定結果の情報に基いて工程条件を改良していくことで、高品質な有機ＥＬ表示パネルを効率よく製造することができる。また、本発明の実施に際しては、特殊な設備等は不要であり、簡便に行うことができるため、コスト的にも優れた有機ＥＬ表示パネルを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の実施形態に係る有機ＥＬ表示パネルの例を図面に示し、詳細に説明する。
図１は、本実施形態に係る有機ＥＬ表示パネル１の一例を示す概略断面図である。
有機ＥＬ表示パネル１は、有機ＥＬ素子基板２と、有機ＥＬ素子基板２に対向する封止基板３と、これら基板を接合して有機ＥＬ素子を封止するシール材４と、有機ＥＬ素子基板２と封止基板３とシール材４とから形成される密封空間に設けた捕水材５とから概略構成されている。
【００１７】
有機ＥＬ素子基板２は、厚さ０．４〜１．１ｍｍの透明なガラス基板からなり、その上には、ＩＴＯ等の透明な陽極電極３０が形成されている。有機ＥＬ素子基板２の下部側１０は、いわゆる視認側に当たる。
【００１８】
そして、陽極電極３０上には、自発光源となる有機発光層７，７・・・、アルミニウム等の金属材料からなる陰極電極８，８・・・、ポリイミド樹脂等からなる絶縁層６，６・・・、およびノボラック樹脂等からなる隔壁９，９・・・が形成されていて、陽極電極３０と陰極電極８とで有機発光層７を挟み込んで電流を印加できるようになっている。
【００１９】
封止基板３は、ガラス、アクリル系樹脂などからなり、有機ＥＬ素子基板２を覆うように設けられている。また、封止基板３の形状は、平板上の基板の外周部に凸部が設けられたものとなっており、この凸部が、シール材４を介して有機ＥＬ素子基板２と接合されることにより、有機ＥＬ素子が封止されている。
【００２０】
シール材４は、エポキシ系、アクリル系等の紫外線硬化型樹脂からなるものである。これらのなかでも、外部からの水分の浸入を防止する点から、透水性の低い樹脂であることが好ましい。
【００２１】
凸部で囲まれた封止基板３の表面上には、全面に渡って捕水材５が設けられている。捕水材５は、凸部で囲まれた封止基板３の表面全面ではなく、一部に設けても良いが、パネル内における捕水効率を上げるために、全面に渡って設けることが好ましい。
なお、捕水材とは、捕水機能を有する物質を粘性のある溶媒に混合したものであり、捕水機能を有する物質としては、例えば、ゼオライト、アルミナ、シリカゲル、モレキュラーシーブなどの物理吸着型のものや、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸チタンなどの化学吸着型のものを挙げることができる。
【００２２】
前記捕水材５は、水分の浸入を遮断した窒素雰囲気下または真空下で、ディスペンサ等を用いて、封止基板３の凸部で囲まれた表面に塗布して設けることができる。塗布量は、０．０１〜０．５ｍｍ３／ｍｍ２であることが好ましい。また、表面積を大きくして捕水効率を向上させる観点から、厚さ１０〜３００μｍの膜状に塗布することが好ましい。
【００２３】
図２は、図１に示した有機ＥＬ表示パネル１の、封止基板側１１から見た概略平面図である。
符号１３は、有機ＥＬ素子基板２上に設けられた目盛りであり、図２に示す座標軸におけるＸ軸目盛り１３ａおよびＹ軸目盛り１３ｂとからなる。なお、ここでは、目盛り１３は簡略化して線で表示している。有機ＥＬ素子基板２の製造工程において、蒸着あるいはスパッタによって成膜した後、フォトリソグラフィーおよびエッチングにより部材を形成するいずれかの工程において、目盛り１３は、これら部材と同じ材料を用いて同時に形成される。具体的には、例えば、陽極電極３０、絶縁層６および陰極電極８を形成する工程のいずれかにおいて、これら部材と同時に形成される。
【００２４】
封止基板３が着色されていて、封止基板側１１から目盛り１３を読み取ることが難しい場合、あるいは、目盛り１３の形成場所近傍に、陰極電極８や配線があって電極材料で目盛り１３を形成することができない場合などは、陽極電極３０あるいは絶縁層６形成時に目盛り１３を形成すると良い。
このように、本発明において目盛り１３は、有機ＥＬ表示パネル１の製造工程において、各部材と同時に形成することができるので、その形成にあたっては、特殊な設備を必要とせず簡便に行うことができる。
【００２５】
目盛り１３は、有機ＥＬ表示パネル１の四隅の一つに設けられている。すなわち、有機ＥＬ表示パネル１の切断位置１２から、素子表示領域外のＸ軸方向およびＹ軸方向に、互いに直交するように二つ設けられており、いずれも密封空間内であるパネル内にまで伸ばされている。なお、前記切断位置１２は有機ＥＬ表示パネルにおいて、有機ＥＬ素子基板２の端縁となる。また、パネル内にある最外郭の隔壁９と平行になるようにされており、このように設けることで、後述するように、隔壁９を基準位置として、有機ＥＬ素子基板２上の各部材の位置のずれ、あるいは有機ＥＬ素子基板２と封止基板３との接合位置のずれを容易に計測することができる。
なおここでは、目盛り１３は、有機ＥＬ表示パネル１の四隅の一つに設けた例を示しているが、数はこれに限定されず、四隅の二つ以上に設けても良い。
【００２６】
次に、本実施形態に係る有機ＥＬ表示パネル１の製造方法について、目盛り１３を陽極電極３０形成時に同時に形成する方法を例にとり、以下に説明する。なお、本発明は、以下に示す方法に何ら限定されるものではない。
まず、有機ＥＬ素子基板２の製造方法について述べる。
ガラス基板上に、陽極電極材料であるＩＴＯを蒸着あるいはスパッタにより、膜厚１５０ｎｍ程度となるように成膜する。続いて、フォトリソグラフィーおよびエッチングによりＩＴＯパターンを形成する。このＩＴＯパターンが陽極電極３０となる。エッチングは、ウェットエッチングあるいはドライエッチングのいずれでも良い。
【００２７】
またこの時、目盛り１３も同時に形成する。目盛り１３は、有機ＥＬ表示パネル１の切断位置１２から、その対向する切断位置に向かって伸びるように設けるが、その際、素子表示領域外に設けることが必要である。また、目盛り１３は、後述する隔壁９のうちパネル内で最外郭のものに対して平行となるように設けることが好ましい。これは、他の工程で目盛り１３を形成する場合も同様である。
【００２８】
次に、陽極電極３０の上に、補助配線材料を成膜する。補助配線材料としては、Ａｌ、Ａｌ合金、ＡｇおよびＡｇ合金等の低抵抗性金属を用い、蒸着あるいはスパッタによって成膜する。続いて、成膜した補助配線材料を、フォトリソグラフィーおよびエッチングによりパターニングして、補助配線パターンを形成する。この補助配線（図示略）により、陽極電極３０または陰極電極８に信号が伝達される。
なお、陽極電極３０および補助配線の形成は、これに限定されず、例えば、陽極電極材料と補助配線材料を順番にガラス基板上に成膜した後、補助配線材料と陽極電極材料を順番にパターニングする方法で形成しても良い。
【００２９】
続いて、絶縁層６を形成する。補助配線を形成済みのガラス基板上に、感光性のポリイミド樹脂をスピンコーティングした後、有機発光層７に相当する部分が開口するよう、フォトリソグラフィー工程でパターニングして、キュアすることにより絶縁層６を形成する。
なお、目盛り１３は、陽極電極３０形成時に代わって、この絶縁層６形成時に、同時に形成することもできる。
【００３０】
一方、絶縁層６形成時には、陰極電極８と補助配線とのコンタクトホール（図示略）も形成する。例えば、前記開口部は、３００μｍ×３００μｍ程度、陰極電極８と補助配線とのコンタクトホールは２００μｍ×２００μｍ程度となるように形成することが好ましい。
【００３１】
次に、隔壁９を形成する。絶縁層６を形成済みのガラス基板上に、感光性のノボラック樹脂をスピンコーティングした後、フォトリソグラフィー工程でパターニングして、光反応させることで隔壁９を形成する。
また、隔壁９は帯状逆台形型となるように形成することが好ましい。このようにすることで、陰極電極８が、隔壁９下部近傍には形成されず、陰極同士を分離することが出来る。隔壁９を帯状逆台形型に成型するためには、例えば、ネガタイプの感光性樹脂を用いることが好ましい。ネガタイプの感光性樹脂を用いると、上から光を照射した時に深い部分ほど光反応が進行しにくいため、隔壁９を逆台形状に成型することが容易である。また、露光時間やエッチングの液温、時間を変更することで成型することもできる。なお、隔壁９を形成すると同時に、最外隔壁をＥＬ素子表示領域の外方に枠状に形成する。この最外隔壁は、ＥＬ素子表示領域外で陰極引き廻し配線の短絡を防止するものである。
【００３２】
続いて、絶縁層６の開口部に、蒸着により有機発光層７を形成する。有機発光層７は、界面層、正孔輸送層、発光層、電子注入層等（図示略）からなり、これらを順次蒸着することで得られる。
【００３３】
さらに有機発光層７上へ、陰極電極材料を蒸着あるいはスパッタリングした後、フォトリソグラフィー工程でパターニングすることにより、陰極電極８を形成する。
陰極電極材料としては、Ａｌを用いることが多いが、その他にも例えば、Ｌｉ等のアルカリ金属、Ａｇ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｙ、Ｉｎ、あるいはこれらを含む合金を用いることもできる。
なお、目盛り１３は、陽極電極３０あるいは絶縁層６形成時に代わって、この陰極電極８形成時に、同時に形成することもできる。
以上により、有機ＥＬ素子基板２が完成される。
【００３４】
次に、封止基板３の製造方法について述べる。
ガラス基板上の外周部に、有機ＥＬ素子基板２との接合部位である凸部を形成するため、凸部相当部位以外のガラス基板表面を、エッチングあるいはサンドブラスト等により掘り込む。このようにして形成された凸部で囲まれたガラス基板表面が、捕水材５を配置するための捕水材収納部となる。
そして、凸部形成後、この捕水材収納部に捕水材５を配置する。
【００３５】
次に、ディスペンサを用いて、凸部表面の長手方向の中心付近に沿って、シール材４を所定の幅で塗布する。これにより封止基板３が製造される。
【００３６】
以上により得られた有機ＥＬ素子基板２と封止基板３とを接合し、有機ＥＬ素子を封止して、有機ＥＬ表示パネル１を得る。有機ＥＬ素子基板２と封止基板３との接合は、紫外線を照射してシール材４を露光重合することで行う。
【００３７】
通常は、同一の基板上に有機ＥＬ表示パネルを複数形成して有機ＥＬ表示基板を製造した後、これらを所定の位置で切断することで、複数の有機ＥＬ表示パネルを得る。本発明も同様に、図３に示すような有機ＥＬ表示基板２０を製造した後、切断位置１２において、該基板２０を切断することで、複数の有機ＥＬ表示パネル１を得る。
各々の目盛り１３は、その一端が切断位置１２に一致するように設けられているので、切断位置のずれも計測することができる。
【００３８】
本発明の有機ＥＬ表示パネル１を、封止基板側１１から目盛り１３を用いて観察することで、陽極電極３０、絶縁層６および陰極電極８等の各部材について、その配置位置のずれ幅を、また有機ＥＬ素子基板２と封止基板３との接合位置のずれ幅を確認することができる。また、目盛り１３は、素子表示領域外に設けられているが、その一部はパネル内にまで伸ばされ、さらに、最外郭の隔壁９に平行となるように設けられているため、該隔壁９を基準位置として各部材配置位置あるいは接合位置を読み取ることで、これらのずれ幅を容易に確認することができる。そして、これらのずれ幅を測定することで、有機ＥＬ表示パネル１の製造における、各工程の精度を確認することができる。
【００３９】
さらに、目盛り１３を用いて、有機ＥＬ素子基板２と封止基板３との接合位置における、シール材４のはみ出し幅を測定することもできる。図４（ａ）は、図１に示した有機ＥＬ表示パネル１の概略断面図のうち、有機ＥＬ素子基板２と封止基板３との接合位置を拡大したものであり、図４（ｂ）は、図２に示した概略平面図のうち、目盛り１３、および有機ＥＬ素子基板２と封止基板３との接合位置を含む領域を拡大したものである。ここで、符号１４は、有機ＥＬ素子基板２と封止基板３との接合位置であり、符号４０は、該接合位置１４からはみ出したシール材４である。
なお、目盛り１３は、その間隔が０．００５〜０．１ｍｍとなるように設けることが好ましい。
【００４０】
有機ＥＬ素子基板２と封止基板３とを接合する際は、接合の圧力により、封止基板３の凸部に塗布されたシール材４の一部は、図４（ａ）に示すように、接合位置１４からはみ出して、はみ出し部位４０となる。この時、図４（ｂ）に示すように、はみ出し部位４０の幅を、目盛り１３を用いて測定することにより、シール材４の塗布量あるいは塗布速度等の精度を確認することができる。
【００４１】
一方、封止基板３に設けた捕水材５は、硬化を行わなかった場合、保存温度あるいは振動の影響を受けて、その一部から溶媒が分離してしまうことがあり、この場合、分離した溶媒はパネル内に貯留される。この分離した溶媒の量を、目盛り１３を用いて測定することもできる。
図５に示すように、目盛り１３が設けられている角を下にして、有機ＥＬ表示パネル１を鉛直方向に立て、パネル内の分離溶媒をパネル内の下部に集めると、目盛り１３ａおよび１３ｂの値を読み取ることで、分離した溶媒の量を簡便に確認することができる。これにより、捕水材５の調製に際して、捕水機能を有する物質と溶媒との混合比、あるいは捕水材５の量を管理することができる。なお、図５においては、接合位置１４、はみ出し部位４０および隔壁９は省略してある。
【００４２】
以上のように、これら測定データを解析し、有機ＥＬ表示パネル１の製造工程を改良していくことで、高品質な有機ＥＬ表示パネル１を安定して製造することができる。
【実施例】
【００４３】
以下に具体的実施例を挙げて、本発明についてさらに詳細に説明する。なお、本発明は、以下に示す実施例に何ら限定されるものではない。
（実施例１）
陽極電極３０形成時に形成した目盛り１３を用いて、有機ＥＬ素子基板２の絶縁層６、隔壁９、有機発光層７および陰極電極８の配置位置を確認した。具体的手順は以下の通りである。
図２に示すように、陽極電極３０形成時において、ガラス基板の四隅の一つに、互いに直交する二つの目盛り１３を設けた。そして、前記製造方法に従って、図３に示すような、複数の有機ＥＬ表示パネル１を含む有機ＥＬ表示基板２０を製造した。
該表示基板中２０の一つの有機ＥＬ表示パネル１について、絶縁層６、隔壁９、有機発光層７および陰極電極８の配置位置を、最外郭の隔壁９を基準位置として、前記目盛り１３を用いて測定した。
次に、同様の測定を、同じ表示基板２０中の、他の有機ＥＬ表示パネル１についても行った。この測定により、平面内二方向（Ｘ軸およびＹ軸方向）および該平面内における回転方向に関する、前記各部材の配置位置のずれを確認した。
さらに、以上のような測定を、他の有機ＥＬ表示基板の有機ＥＬ表示パネルに対しても行った。
【００４４】
このように、各部材の配置位置のずれを、有機ＥＬ表示基板のロット間、および一つの有機ＥＬ表示基板中のパネル間で比較することにより、有機ＥＬ素子基板の製造工程における、各部材形成工程の精度を、特殊な装置を用いることなく容易に確認することができた。
【００４５】
（実施例２）
実施例１で製造した有機ＥＬ表示パネル１について、有機ＥＬ素子基板２と封止基板３との接合位置を確認した。具体的手順は以下の通りである。
有機ＥＬ表示基板２０中の一つの有機ＥＬ表示パネル１について、図４（ｂ）に示すように、目盛り１３を用い、最外郭の隔壁９を基準位置として、接合位置１４を測定した。
次に、同様の測定を、同じ表示基板２０中の、他の有機ＥＬ表示パネル１についても行った。この測定により、平面内二方向（Ｘ軸およびＹ軸方向）および該平面内における回転方向に関する、接合位置１４のずれを確認した。
さらに、以上のような測定を、他の有機ＥＬ表示基板の有機ＥＬ表示パネルに対しても行った。
【００４６】
以上のように、接合位置１４のずれを、有機ＥＬ表示基板のロット間、および一つの有機ＥＬ表示基板中のパネル間で比較することにより、有機ＥＬ素子基板の製造工程における、有機ＥＬ素子封止工程の精度を、特殊な装置を用いることなく容易に確認することができた。
【００４７】
（実施例３）
実施例１で製造した有機ＥＬ表示パネル１について、有機ＥＬ素子基板２と封止基板３との接合位置における、シール材４のはみ出し幅を測定した。具体的手順は以下の通りである。
まず、有機ＥＬ表示基板２０中の一つの有機ＥＬ表示パネル１について、目盛り１３を用いて、前記はみ出し部位４０の幅を測定した。
次に、同様の測定を、同じ表示基板２０中の、他の有機ＥＬ表示パネル１についても行い、さらに、以上のような測定を、他の有機ＥＬ表示基板の有機ＥＬ表示パネルに対しても行った。
【００４８】
このように、シール材４のはみ出し部位４０の幅を、有機ＥＬ表示基板のロット間、および一つの有機ＥＬ表示基板中のパネル間で比較することにより、有機ＥＬ素子基板の製造工程における、シール材４の塗布精度を、特殊な装置を用いることなく容易に確認することができた。
【００４９】
（実施例４）
実施例１で製造した有機ＥＬ表示パネル１について、パネル内の分離溶媒の量を測定した。具体的手順は以下の通りである。
図５に示すように、目盛り１３が設けられている角を下にして、有機ＥＬ表示パネル１を鉛直方向に立て、水平面と約４５度の角度をなすように傾けて、パネル内の分離溶媒をパネル内の下部に集めた。そして、液面の位置を目盛り１３ａおよび１３ｂの値から読み取った。
次に、同様の測定を、同じ表示基板２０中の、他の有機ＥＬ表示パネル１についても行い、さらに、以上のような測定を、他の有機ＥＬ表示基板の有機ＥＬ表示パネルに対しても行った。
【００５０】
このように、パネル内の分離溶媒量を、有機ＥＬ表示基板のロット間、および一つの有機ＥＬ表示基板中のパネル間で比較することにより、封止基板３の製造工程において、捕水材５の塗布精度、すなわち、捕水機能を有する物質と溶媒との混合比、あるいは捕水材５の量を、特殊な装置を用いることなく容易に管理できることが確認された。
【００５１】
以上述べたように、本発明の製造方法により得られる、目盛りを備えた有機ＥＬ表示パネルは、従来よりも簡便に、その製造工程の精度を確認することができる。また、目盛りの形成もその製造工程において、同時に簡便に行うことができる。
【産業上の利用可能性】
【００５２】
本発明により、有機ＥＬ表示パネルの製造工程を改良していくことで、高品質な有機ＥＬ表示パネルを得ることができ、また、本発明の実施にあっては、特殊な設備を必要とせず、簡便に行うことができるため、コスト的にも優れた有機ＥＬ表示パネルを供給することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明の有機ＥＬ表示パネルの一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明の有機ＥＬ表示パネルの一例を示す概略平面図である。
【図３】本発明の有機ＥＬ表示パネルを含む有機ＥＬ表示基板の一例を示す概略平面図である。
【図４】本発明の有機ＥＬ表示パネルの一例を示す拡大図である。
【図５】本発明の有機ＥＬ表示パネルの一例を示す拡大図である。
【符号の説明】
【００５４】
１・・・有機ＥＬ表示パネル、２・・・有機ＥＬ素子基板、３・・・封止基板、４・・・シール材、６・・・絶縁層、７・・・有機発光層、８・・・陰極電極、９・・・隔壁、１３・・・目盛り、３０・・・陽極電極
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に陽極電極、絶縁層、隔壁、有機発光層および陰極電極が形成された有機ＥＬ素子基板と、
前記有機ＥＬ素子基板に対向する封止基板と、
前記封止基板の外周部に配設され、前記有機ＥＬ素子基板と前記封止基板とを接合するシール材とを備えた有機ＥＬ表示パネルであって、
前記有機ＥＬ素子基板が、そのＥＬ素子表示領域外に目盛りを備えたものであり、前記目盛りが、互いに直交する二本の目盛りであり、前記二本の目盛りのうち一本の目盛りが前記隔壁に平行であることを特徴とする有機ＥＬ表示パネル。
【請求項２】
前記目盛りが、前記有機ＥＬ素子基板と前記封止基板と前記シール材とで囲まれた密封空間から、前記有機ＥＬ素子基板の端縁にかけて配記されていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項３】
前記目盛りが、陽極電極、陰極電極および絶縁層のいずれかと同じ材料からなるものであることを特徴とする請求項１または２に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法であって、
有機ＥＬ素子基板上のＥＬ素子表示領域外に、目盛りを形成する工程を有することを特徴とする有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項５】
陽極電極、絶縁層および陰極電極を形成するいずれかの工程において、前記目盛りを同時に形成することを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項６】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示パネルに設けられた目盛りを用いて、有機ＥＬ表示パネル製造工程の精度を確認することを特徴とする有機ＥＬ表示パネルの検査方法。
【請求項１】
基板上に陽極電極、絶縁層、隔壁、有機発光層および陰極電極が形成された有機ＥＬ素子基板と、
前記有機ＥＬ素子基板に対向する封止基板と、
前記封止基板の外周部に配設され、前記有機ＥＬ素子基板と前記封止基板とを接合するシール材とを備えた有機ＥＬ表示パネルであって、
前記有機ＥＬ素子基板が、そのＥＬ素子表示領域外に目盛りを備えたものであり、前記目盛りが、互いに直交する二本の目盛りであり、前記二本の目盛りのうち一本の目盛りが前記隔壁に平行であることを特徴とする有機ＥＬ表示パネル。
【請求項２】
前記目盛りが、前記有機ＥＬ素子基板と前記封止基板と前記シール材とで囲まれた密封空間から、前記有機ＥＬ素子基板の端縁にかけて配記されていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項３】
前記目盛りが、陽極電極、陰極電極および絶縁層のいずれかと同じ材料からなるものであることを特徴とする請求項１または２に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法であって、
有機ＥＬ素子基板上のＥＬ素子表示領域外に、目盛りを形成する工程を有することを特徴とする有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項５】
陽極電極、絶縁層および陰極電極を形成するいずれかの工程において、前記目盛りを同時に形成することを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項６】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示パネルに設けられた目盛りを用いて、有機ＥＬ表示パネル製造工程の精度を確認することを特徴とする有機ＥＬ表示パネルの検査方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２００７−１２４２６（Ｐ２００７−１２４２６Ａ）
【公開日】平成１９年１月１８日（２００７．１．１８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−１９１５６３（Ｐ２００５−１９１５６３）
【出願日】平成１７年６月３０日（２００５．６．３０）
【出願人】（０００１０３７４７）オプトレックス株式会社 (843)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年１月１８日（２００７．１．１８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年６月３０日（２００５．６．３０）
【出願人】（０００１０３７４７）オプトレックス株式会社 (843)
【Ｆターム（参考）】
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