説明

歯科用シリコーン系硬化性材料

【課題】 シリカを増加させてもペースト粘度が上がらず操作性に優れており、且つ高強度な歯科用シリコーン系硬化性材料を開発することを課題とする。
【解決手段】 末端に不飽和結合を有する有機基を分子内に2個以上有するオルガノポリシロキサン(A)、分子内に3個以上のSiH基を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)、及び、ヒドロシリル化反応触媒物質(C)を含んでなるシリコーン系硬化性材料に、一次粒子径が100〜2000nmの疎水化シリカ、好適には疎水化乾式シリカを含有させる。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、歯科用シリコーン系硬化性材料からなる歯科用硬化組成物に関する。
【背景技術】
【0002】
歯科用シリコーン系硬化性材料としては、義歯床用の裏装材や歯科用印象材等が挙げられる。いずれも術者が使用直前に必要量の計量・練和等を行い、適切な処置や加工を経て硬化させるものである。そのような歯科用シリコーン系硬化性材料としては、その硬化反応の違いによって縮合反応型シリコーン系硬化性材料と付加反応型シリコーン系硬化性材料が主に挙げられる。
【0003】
前者は反応基として水酸基を有しており、反応過程で縮合反応を起こして硬化するものであるが、その際にアルコール等の脱離物があることが欠点として挙げられる。後者は反応基としてビニル基とSiH基を有しており、反応過程でこれらが付加反応をおこして硬化するものであり、特別な脱離物がないことから有用であることから、歯科用シリコーン系硬化性材料として数多く用いられている。
【0004】
近年、歯科用シリコーン系硬化性材料は、治療法の変化に伴って、長期的に使用されることが多くなってきている。そのため、耐久性の高いものが必要とされており、高強度化が望まれている。現在、歯科用シリコーン系硬化性材料に高い強度を与える方法としては、疎水化処理された微粉化シリカを充填材として加える手法がとられている(例えば、特許文献1参照)。しかしながら、そのような用途として一般に広く用いられている乾式シリカは一次粒子径が10〜50nm程度であるが(例えば、非特許文献1参照)、この疎水化シリカを増加させていくと、強度は上がっていくものの、練和して得られるペーストの粘度が著しく上がり操作性が低下してしまうという欠点を有している。
【0005】
また、歯科用シリコーン系硬化性材料は軟質義歯裏装材として好適に用いられている。軟質義歯裏装材は口腔粘膜に対して不適合となった義歯に対して裏打ちする材料のことで、口腔内で口腔粘膜と直接接する部分であり義歯を口腔内で保持させる役割も有している。
【0006】
従来、このような軟質義歯裏装材としては、主にポリ(メタ)アクリレート系のもの(例えば、特許文献2参照)と、シリコーンゴム系のもの(例えば、特許文献3参照)が知られている。ポリ(メタ)アクリレート系の軟質義歯裏装材は、一般にメチルメタクリレート、エチルメタクリレート等の(メタ)アクリレート系のラジカル重合性単量体の重合硬化体を主成分とする。代表的な製品形態としては、(メタ)アクリレート系の単量体を主成分とする液材と、ポリメチルメタクリレート等の(メタ)アクリレート系の重合体を主成分とする粉材からなっており、さらに重合開始剤が液材と粉材に適宜分配して配合されており、この両材を混合することにより、(メタ)アクリレート系の単量体が重合する。(メタ)アクリレート系の重合体は一種の充填材として作用すると共に、混合時に(メタ)アクリレート系の単量体に溶解あるいは膨潤して、組成物全体をペースト状あるいは餅状にする効果があり、これにより適度な操作性を得ることができる。
【0007】
このようなポリ(メタ)アクリレート系の重合硬化体は、強度に優れる一方でそのままでは軟質義歯裏装材として必要な柔軟さを有さないため、可塑剤を配合する必要がある。このような可塑剤としては、ジオクチルフタレートやジブチルフタレート等の可塑剤が主に用いられている。
【0008】
他方、シリコーンゴムは本来的に生体適合性が高いため、シリコーンゴム系の軟質義歯裏装材も幅広く用いられている。一般に、シリコーンゴムは弾性に富む柔らかい材料であるため、このようなシリコーンゴム系の軟質義歯裏装材においては別途可塑剤の配合を必要としない。そのことから軟質義歯裏装材として歯科用シリコーン系硬化性材料が多用されているが、上記のように、強度を上げるために疎水化シリカを増加させていくと、強度は上がっていくものの、練和して得られるペーストの粘度が著しく上がり操作性が低下してしまうという欠点を有しており、改良が望まれている。
【0009】
【特許文献1】特開平10−279806号公報
【特許文献2】特開平10−236913
【特許文献3】特許第3478521号
【非特許文献1】岡田延引著、齋藤進六監修、「超微粒子ハンドブック」、株式会社フジ・テクノシステム、1990年9月5日、p.755
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0010】
以上の背景にあって本発明は、シリカを増加させてもペースト粘度は低く保持されて操作性に優れており、且つ高強度である歯科用シリコーン系硬化性材料を開発することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0011】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、一次粒子の平均粒子径が100〜2000nmの疎水化シリカを歯科用シリコーン系硬化性材料に加えることで、ペースト粘度を低く保ちつつ、且つ高強度な歯科用シリコーン系硬化性材料を得ることができることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【0012】
即ち本発明は、一次粒子の平均粒子径が100〜2000nmである疎水化シリカを含有することを特徴とする歯科用シリコーン系硬化性材料である。
【発明の効果】
【0013】
本発明における歯科用シリコーン系硬化性材料は、一次粒子の平均粒子径が100〜2000nmである疎水化シリカを含有することを特徴としており、硬化体の強度が高く、且つペースト粘度が低く操作性に優れている顕著な効果を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【0014】
本発明は、歯科用シリコーン系硬化性材料に対して、一次粒子の平均粒子径が100〜2000nmである疎水化シリカを含有させた点に特徴を有している。該疎水化シリカは、歯科用シリコーン系硬化性材料の柔軟性を低下させずに、充分な強度を与えるための充填材等の目的で配合される。
【0015】
前記したようにシリコーン系硬化性材料に対する補強効果の大きな充填材としては微粉シリカ、即ち表面積の大きなシリカ系粒子が効果的であることが判っており、これらシリカ系粒子は親水性が高いため、疎水化処理を施して使用されている。しかして、こうした微粉シリカとしては、乾式シリカが用いられることが多く、これらは一次粒子径が10〜50nm程度であるのが普通である。ところが、このような極めて微細粒径の疎水化シリカを用いた場合、前記したように該硬化性材料のペースト粘度の上昇の問題が生じてしまう。
【0016】
これに対して、上記一次粒子の平均粒子径が100〜2000nmの疎水化シリカを用いた場合には、この硬化性材料のペースト粘度の上昇が大きく抑えられ、その操作性は良好に保持され、他方で、この程度の粒径の増大では硬化体の強度も実用上許容できる範囲に維持される。このような硬化体の強度とペースト粘度の低さを共に良好にする観点からは、含有させる疎水化シリカの一次粒子の平均粒子径は150〜1500nmであるのが好ましく、300〜1000nmであるのが特に好ましい。
【0017】
ここで、本発明において、疎水化シリカの一次粒子径とは、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて拡大撮影することにより測定される粒子径であり、最も長径をいう。また、平均粒子径とは、上記方法での測定において、任意に抽出した粒子30個以上、より正確には100個以上の各粒子径の平均値として求めればよい。
【0018】
この一次粒子の平均粒子径が100nmより小さいものでは、硬化性材料のペースト粘度の上昇が大きくなり、他方、この一次粒子の平均粒子径が2000nmより大きいものでは、得られる硬化体の強度が満足できない値に低下する。なお、こうした一次粒子の平均粒子径の範囲にある疎水化シリカは、通常、比表面積が1.5〜30mの範囲にあるのが一般的である。
【0019】
本発明において、上記疎水化シリカは、如何なるシリカを疎水化処理したものを用いても良く、こうした原料シリカとしては、例えば、湿式シリカ、乾式シリカ、溶融シリカ等が挙げられる。湿式シリカ等によって得られたシリカと比較して、表面シラノール基が少ないため疎水化処理がしやすく、また、凝集が少なく分散性が高いことから乾式シリカが好適である。
【0020】
上記一次粒子の平均粒子径が100〜2000nmのシリカは、例えば、溶融シリカの場合は、シリカの微粉を火炎中で溶融せしめる方法、シリコンの微粉を火炎中で酸化及び溶融せしめる方法によって製造されるもののうち、上記平均粒子径を有するものを選定して用いればよい。さらに、上記乾式シリカで得る場合には、昭公56−38526に記載された方法において、オルガノシランの種類と、水素と空気の量を調節することによって製造することができる。すなわち、蒸発装置中で蒸発させた液状オルガノシランと、水素と空気との混合物を燃焼室へ供給し、燃焼するガスを酸素含有ガスと反応させる方法によって得ることができる。
【0021】
この時、上記一次粒子の平均粒子径が100〜2000nmのものを製造するためには、水素量を多く、空気量を少なくすることが必要である。具体的には、水素量は空気量に対して0.3〜1.2倍の量、より好ましくは0.5〜1.0倍の量にすることで上記一次粒子の平均粒子径の範囲にあるシリカを得ることができる。
【0022】
オルガノシランとしては、公知のものが特に制限なく使用することができ、例えば、メチルトリクロロシラン、メチルジクロロシラン、ジメチルジクロロシランおよびトリメチルコロロシランなどが挙げられる。これらのうちケイ素原子1個に対して、結合している有機基の炭素原子の数が多いオルガノシランを用いる、あるいは、炭素原子の数が多いオルガノシランと混合して用いることが、一次粒子の平均粒子径が100〜2000nmのシリカを得る上でより好ましい。炭素原子の数はケイ素原子1個に対して1.5個以上であるのが好ましい。
【0023】
また、上記疎水化シリカとは、以下に定義される修飾疎水度が60%以上のものである。修飾疎水度とは、シリカ系粒子0.2gを完全に懸濁し得る50mlの水を含むメタノール水溶液の中で最もメタノール含有量が低い水溶液におけるメタノール濃度(容量百分率)として定義される。シリコーン系硬化性材料への分散性をより良好にし、硬化体の強度に優れたものにする観点からは、該修飾疎水度は65%以上のものを用いるのが好ましい。また、該修飾疎水度は、高ければ高いほど好ましいが、製造上修飾疎水度が100%のものを得るのは困難であることから、上限は通常95%程度である。
【0024】
こうした修飾疎水度とするためのシリカの疎水化処理方法は特に限定されないが、公知の表面処理の方法により好適に製造することができる。例えば、原料シリカを水蒸気の存在下に適当な表面処理剤と一回、または二回以上接触させる方法である。原料シリカは、上記本発明で用いる平均粒子径の乾式シリカの製造方法で製造されたシリカの反応直後の吸湿していない状態のものを使用するか、または吸湿を避けて保存したものを使用すればよい。また、表面処理剤を例示すると、ヘキサメチルジシラザン、モノメチルクロロシラン、トリメチルコロロシラン、ジメチルクロロシランなどが挙げられる。
【0025】
本発明において、この疎水化シリカの配合量は、歯科用シリコーン系硬化性材料を構成するポリシロキサン100質量部(例えば後述する本発明において好適に使用される付加反応型シリコーン系硬化性材料であれば、成分(A)と成分(B)の合計量100重量部)に対して、1〜60質量部、好適には20〜40質量部である。
【0026】
なお、物性に著しい影響を与えない範囲で、一次粒子の平均粒子径が100〜2000nmの疎水化シリカの他に、平均粒子径が100〜2000nm以外の疎水化シリカ、あるいは、上記疎水化シリカ以外の充填材として例えば、粉砕石英、珪藻土、ポリオルガノシルセスキオキサン微粒子等のシリカ系粉末、酸化アルミニウム、珪酸アルミニウム、酸化鉄、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、酸化ジルコニウム、カーボンブラック等を配合させても良い。これらの他の充填材の配合量は、10質量%以内、より好適には3質量%以内とするのが好ましい。
【0027】
次に、本発明において、こうした疎水化シリカを含有させる歯科用シリコーン系硬化性材料は、オルガノポリシロキサンを主成分とし、これに架橋反応を生じせしめてシリコーン系硬化体を生成させる公知の硬化性材料が制限なく対象になる。中でも歯科用シリコーン系硬化性材料としては室温条件下において10分程度で容易に硬化するものが歯科材料へ適用する上で有用であることから、縮合反応によって硬化する縮合反応型シリコーン系硬化性材料か、付加反応によって硬化する付加反応型シリコーン系硬化性材料が適している。特に後者はアルコール等の副生物がなく、また硬化時の重合発熱がないことからより好適である。
【0028】
上記付加反応型シリコーン系硬化性材料としては、通常、末端に不飽和結合を有する有機基を分子内に2個以上有するオルガノポリシロキサン(以下、成分(A)と記す)、分子内に3個以上のSiH基を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン(以下、成分(B)と記す)、及び、ヒドロシリル化反応触媒物質(以下、成分(C)と記す)を含んでなるものが使用される。この付加反応型シリコーン系硬化性材料において、(A)成分の末端に不飽和結合をもつ有機基を分子中に少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン(A)は、末端に不飽和結合をもつ有機基を1分子中に少なくとも2個有するオルガノポリシロキサンであれば分子内に存在する他の有機基の構造は制限されず、直鎖状であっても分枝鎖状であってもよく、更にこれらの混合物であってもよい。
【0029】
成分(A)の分子内に存在する、末端に不飽和結合をもつ有機基としては、ビニル基、アリル基、1−ブテニル基及びエチニル基等が例示されるが、合成のし易さからケイ素原子に結合したビニル基が最も有利である。これらの末端不飽和結合をもつ有機基は、オルガノシロキサンの分子鎖の末端または中間のいずれに存在しても、あるいはその両方に存在しても良いが、硬化後の弾性体が優れた物理的性質を有するためには、少なくとも1個は分子の末端に存在していることが好ましい。
【0030】
成分(A)の分子中に存在する上記の末端に不飽和結合をもつ有機基以外のケイ素原子に結合した有機基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基等のアルキル基、フェニル基のようなアリール基、クロロメチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等の置換アルキル基等が例示されるが、これらのうち合成し易く、かつ硬化後に良好な物理的性質を与えるという点から、メチル基が最も好ましい。
【0031】
成分(A)の分子を構成するシロキサン単位の数(重合度に相当する)は特に限定されないが、歯科用シリコーン系硬化性材料として好適な性質、即ち、硬化後において適度の硬度を有し、かつ充分な伸び、機械的強度が得られるようにするために、該シロキサン単位は50〜5000個、特に100〜2000個であることが好ましい。
【0032】
本発明に使用する成分(A)の代表的なものを具体的に示せば、
【0033】
【化1】

【0034】
(ただし、Phはフェニル基を示す)
で示されるオルガノポリシロキサン等が挙げられる。尚、上記化合物及び後述する実施例、比較例に用いられる化合物中の各繰り返し構成単位の結合順序は全く任意であり、構造式中に示される繰り返し構成単位の数は単に各構成単位の総量の平均を示すに過ぎない。
【0035】
本発明における成分(B)の分子内のSiH基を少なくとも3個以上有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)は、上記成分(A)を架橋させてゴム弾性体とする働きを持つ成分である。成分(A)と反応して架橋構造となるためには、SiH基が分子内に少なくとも3個必要である。3個より少ないと架橋構造とならず十分な硬化が起こらない。
【0036】
成分(B)は分子内にSiH基を3個以上有するものであればその構造は特に限定されない。成分(B)の分子内に存在する水素原子以外のケイ素原子に結合した有機基も特に限定されず、前述の成分(A)の分子内に存在する有機基(末端に不飽和基を有するものを含む)と同様のものが例示されるが、合成が容易で、かつ硬化後に良好な物理的性質を与えるという点から、メチル基が最も好ましい。かかる成分(B)は、直鎖状、分枝状または環状のいずれであっても良くこれらの混合物であっても良い。
【0037】
成分(B)の分子を構成するシロキサン単位の数(重合度に相当する)は特に限定されないが、すみやかに分散して均一な硬化体を得るために、該シロキサン単位は2〜200個、特に10〜100個であることが好ましい。
【0038】
本発明に使用する成分(B)の代表的なものを具体的に示せば、
【0039】
【化2】

【0040】
で示されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン等が挙げられる。上記化合物及び後述する実施例、比較例に用いられる成分においても、成分(A)と同様に分子内の各繰り返し構成単位の結合順序は全く任意である。
【0041】
こうしたシリコーン系硬化性材料において、上記成分(A)及び(B)の配合割合としては、十分に硬化するものであれば特に限定されないが、歯科用シリコーン系硬化性材料として適度な弾性歪を発現させるために成分(B)のSiH基の水素原子の総個数が成分(A)の末端不飽和結合の総個数に対して0.5〜5倍になる比であることが好ましい。これは、成分(B)のSiH基の水素原子の総個数が成分(A)の末端不飽和基の総個数に対して少なすぎる場合は硬化性が不充分となることがあり、また多すぎる場合は過剰のSiH基の水素原子が残存するために硬化時の水素発生による発泡や経時変化が生ずる場合があるためである。従って、成分(B)のSiH基の水素原子の総個数が成分(A)の末端不飽和結合の総個数に対して2〜4倍になる比であることが望ましい。
【0042】
また、物性に著しい影響を与えない範囲で、末端に不飽和結合をもつ有機基を分子内に1個しか含まないオルガノポリシロキサンや分子内にSiH基を3個未満しか含まないオルガノハイドロジェンポリシロキサンを添加してもよい。
【0043】
本発明に使用される成分(C)ヒドロシリル化反応触媒は、通常のヒドロシリル化反応に用いられるものであれば制限なく使用することができ、例えば塩化白金酸、そのアルコール変性物、白金のビニルシロキサン錯体等を挙げることができる。なお、保存性を高めるためには、白金のビニルシロキサン錯体のようなクロル分の少ないものが好適である。
【0044】
この成分(C)の配合量としては特に限定されないが一般的には、白金重量換算で成分(A)及び成分(B)の合計重量に対して0.1〜1000ppmの範囲とすれば良い。配合量が0.1ppm未満の場合は、成分(A)の不飽和結合含有シリコーンと成分(B)のSiHシロキサンの架橋反応が充分に進行せず、1000ppmより多い場合は、白金黒の析出により硬化体が黄色く、或はひどいときには黒く着色したり、架橋反応の制御が困難になる等の問題点が生じる傾向にある。
【0045】
上記はシリコーン系硬化性材料が、付加反応型のものについて詳述したが、縮合反応型シリコーン系硬化性材料を用いる場合であれば、該縮合反応型のものとしては、反応基として水酸基を有しているオルガノポリシロキサンが、反応過程で縮合反応を起こして硬化する形態の公知の硬化性材料が制限なくしようできる(例えば、特開2004−182823号広報に開示されるもの)。
【0046】
本特許における歯科用シリコーン系硬化性材料には、高分子量のポリオルガノシロキサン生ゴムやパラフィンワックス等を添加することができる。更に、必要に応じて黒色白金あるいは微粒パラジウム等を水素ガス吸収剤として添加できる。
【0047】
また、その物性を著しく低下しない範囲で更に他の添加剤を添加してもよい。かかる添加剤としては、反応抑制剤、紫外線吸収剤、可塑剤、顔料、酸化防止剤、抗菌剤等が挙げられる。
【0048】
以上の組成からなる本発明の歯科用シリコーン系硬化性材料の製品形態は、保存中に硬化反応が起きないように、共存することにより硬化反応が開始されてしまう成分は分けて包装するのが望ましい。例えば、前記した本発明で好適に使用される付加反応型シリコーン系硬化性材料であれば、通常、成分(A)と成分(B)と成分(C)が同時に共存しない(即ち、保存中にヒドロシリル化反応が起こらない)形態、例えば疎水化シリカ成分、成分(A)、成分(C)、及び必要に応じて添加剤を含むペーストa、並びに、疎水化シリカ成分、成分(A)成分(B)、及び必要に応じて添加剤を含むペーストbからなる2包装型として調製し、使用直前に両者を混合して使用する製品形態とするのが好適である。このペーストa、bの製造方法としては、必要成分を適量計量し、ニーダー、プラネタリーミキサー等の一般的な混練機によって均一になるまで混練することにより得ることができる。
【0049】
本発明の歯科用シリコーン系硬化性材料は歯科用材料として用いられる。シリコーン系硬化性材料はその成分を変えることで軟性材料から比較的硬い硬質材料まで幅広く用いることができる。
【0050】
中でも本発明中の歯科用シリコーン系硬化性材料における、最適の用途としては、歯科用軟質義歯裏装材が挙げられる。ここで、該軟質義歯裏装材としては、通常、硬化体のショアA硬度が50以下のものであり、45以下のものがより好ましく使用される。
【0051】
前述のとおりこうした軟質義歯裏装材は、使用期間の長期化から耐久性の高いものが必要とされており、高強度化が望まれている。本発明のシリコーン系硬化性材料は、前記したとおり一次粒子の平均粒子径が100〜2000nmである疎水化シリカを配合させていることにより、高い強度を有しており、この用途に特に有用である。
【0052】
なお、この軟質義歯裏装材には、シリコーン樹脂の中でも特に柔軟なシリコーンゴムから粘膜調整材も含まれる。
【実施例】
【0053】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【0054】
以下の実施例及び比較例に使用する疎水化シリカ(シリカ1〜6、対照:シリカ7〜9)の性状を表1に、オルガノポリシロキサン1(成分A:化合物A‐1〜A‐5、分子内に水酸基を有するもの:A‐6)の構造と粘度を表2に、オルガノポリシロキサン2(成分B:化合物B‐1、B‐3〜B‐5、分子内に2個のSiH基を有するもの:化合物B‐2)の構造を表3に示した。
【0055】
【表1】

【0056】
【表2】

【0057】
【表3】

【0058】
また、触媒としては以下の化合物を用いた。各化合物の構造式を以下に示す。
【0059】
C‐1:白金のビニルシロキサン錯体(成分C)
【0060】
【化3】

【0061】
C‐2:ジブチルジラウリルスズ
【0062】
【化4】

【0063】
C‐3:テトラエトキシシラン
【0064】
【化5】

【0065】
なお、上記表1に示される各疎水化シリカはそれぞれ次のようにして得た。
【0066】
(1)疎水化シリカ1(乾式シリカ):
1.5kg/cmの圧力を有する膜板ピストンポンプによって、メチルトリクロロシラン1.5kg/hとテトラメチルシラン1.0kg/hの混合物を蒸発装置中に送入した。蒸発装置は加熱面とも呼ばれる発熱面を有しており、これは0.5kg/cmの水蒸気によって熱せられるものであった。水蒸気流は蒸発装置中のメチルトリクロロシランの蒸気圧により操縦される制御器によって、液状オルガノシランの一定の液面高さおよびメチルトリクロロシランの0.5kg/cmの圧が常に保持されるように調節されるものであった。
【0067】
蒸発装置とバーナーとの間の管路には水蒸気が中を流れる被膜によって熱せられ、温度が保持されるように、制御器を備えていた。
【0068】
バーナーにおいては、メチルトリクロロシラン1.5kg/hとテトラメチルシラン1.0kg/hの混合物を、水素0.5Nm/hおよび空気1.0Nm/hと混合し、円錐状吸気口を通して燃焼室に供給することで、平均粒径500nmの乾式シリカを得た。
【0069】
この乾式シリカ5kgを流動反応器に入れ、ジメチルジクロロシランを20g/分、水蒸気を180g/分で450℃に加熱された流動層反応器中に窒素によって並列的に40分間気送して疎水化処理をした。疎水化処理後、未反応物や副生成物は窒素でパージして乾燥した。以上の操作により得られたシリカ粒子5kgを内容量300Lのミキサー中において拡販混合し、窒素雰囲気に置換を行った。反応温度200℃において、ヘキサメチルジシラザンを200g/分、水蒸気を11gで75分供給して疎水化処理を行った。反応後毎分40Lの窒素を30分間供給し脱アンモニア処理を行って疎水化シリカ1を得た。
【0070】
(2)疎水化シリカ2〜4(乾式シリカ):疎水化シリカ1の製造方法において、表4に示した各条件に変更する以外は該疎水化シリカ1と同様の操作を行い、疎水化シリカ2〜4をそれぞれ得た。
【0071】
(3)疎水化シリカ5(乾式シリカ):上記疎水化シリカ1と同様にして得た疎水化シリカ粒子5kgを内容量300Lのミキサー中において拡販混合し、窒素雰囲気に置換を行った。反応温度200℃において、ヘキサメチルジシラザンを200g/分、水蒸気を11gで75分供給して疎水化処理を行った。反応後毎分40Lの窒素を30分間供給し脱アンモニア処理を行って疎水化シリカ5を得た。
【0072】
(4)疎水化シリカ6(湿式シリカ):特開昭63‐112411の実施例1の実験No5に記載された方法により得た製造直後の平均粒径500nmで表されるし湿式シリカを用いた他は、上記疎水化シリカ4と同様にして疎水化シリカ6を得た。
【0073】
(5)疎水化シリカ7(乾式シリカ):疎水化シリカ1の製造方法において、表4に示した条件に変更する以外は該疎水化シリカ1と同様の操作を行い疎水化シリカ7を得た。
【0074】
(6)疎水化シリカ8(乾式シリカ):レオロシールZD30ST(トクヤマ製)5Kgを流動層反応器に入れ、ジメチルジクロロシランを20g/分、水蒸気を180g/分で450℃に加熱された流動層反応器中に窒素によって並流的に40分間気送した。疎水化処理後、未反応物や副生物は窒素でパージして乾燥して、疎水化シリカ8を得た。
【0075】
(7)疎水化シリカ9(乾式シリカ):疎水化シリカ1と同様な方法により、平均粒径500nmで表される乾式シリカを得た。この乾式シリカを5Kgを流動層反応器に入れ、ジメチルジクロロシランを20g/分、水蒸気を180g/分で450℃に加熱された流動層反応器中に窒素によって並流的に40分間気送した。疎水化処理後、未反応物や副生物は窒素でパージして乾燥して、疎水化シリカ9を得た。
【0076】
【表4】

【0077】
また、修飾疎水度は次のようにして測定した。疎水化シリカ0.2gを容量250mlのビーカー中の50mlの水に添加した。メタノールをビュレットから疎水化シリカの全量が懸濁するまで滴下した。この際ビーカー内の溶液をマグネチックスターラーで常時撹拌した。疎水化シリカの全量が溶液中に懸濁された時点を終点とし、終点におけるビーカーの液体混合物中のメタノールの容量百分率を修飾疎水度とした。
【0078】
なお、疎水化シリカの平均一次粒子径は、走査型電子顕微鏡を用いて20000倍に拡大撮影し、その視野にある100個以上の各粒子の粒子径を平均して求めることにより測定した。
【0079】
さらに、実施例1〜14、比較例1〜3において、歯科用シリコーン系硬化性材料の評価は下記の方法によって行い、同一試料について3回測定または評価してその平均値を記録した。
【0080】
(1)粘度:CSレオメーター(CVO120HR、BOHLIN社製)を用いて、ペーストa、bそれぞれを必要量とり練和し、練和開始後15秒後の粘度を測定した。測定条件は、設定モード:Oscillation、コーン:Parallel Plate 20mm、Gap:1000μm、設定温度:23℃である。
【0081】
(2)引き裂き強度:ペーストa、bそれぞれを必要量とり、混練後、JIS K 6252の(C)切り込み無しアングル形の形状の孔を持つ厚さ2mmのステンレス製のモールドに充填し、空気中で充分硬化させた。硬化後、モールドより取り出し、37℃水中で24時間放置した後、オートグラフ(島津製作所製)により、クロスヘッドスピード500mm/min.で切断時の引き裂き強度を測定した。
【0082】
(3)ショアA硬度: ペーストa、bそれぞれを必要量とり、混練後、直径9mm×長さ12mmの孔を持つポリテトラフルオロエチレン製のモールドに充填し、空気中で充分硬化させた。硬化後、モールドより取り出し、37℃水中で24時間放置した後、ショアA硬度計によって測定した。
【0083】
(4)練和性:ペーストa、bそれぞれを必要量とり、合計6gを均一になるまで、金属スパチュラを用いて手で練和し、その練和性を以下の判定基準に従い◎から×で評価した。
◎:軽い力で練和可能で、均一になるまでに15秒以下
○:軽い力で練和可能で、均一になるまでに15〜20秒
△:均一になるまでに20〜30秒
×:練和に強い力を要し、均一になるまでに30秒以上
実施例1
表1に示した疎水化シリカ1を30質量部、不飽和結合を有するオルガノポリシロキサンとして表2に示した化合物A‐1を60質量部、A‐2を40質量部、触媒として白金化合物C‐1を200ppmをプラネタリーミキサーに入れ、均一になるまで混練し、ペーストaとした。
【0084】
表1に示した疎水化シリカ1を30質量部、オルガノポリシロキサンとして表2に示した不飽和結合を有するポリシロキサン化合物A‐1を55質量部およびA‐2を37質量部、表3に示したオルガノハイドロジェンシロキサン化合物B‐1を1.9質量部およびB‐25.6質量部を、プラネタリーミキサーにそれぞれ投入し、均一になるまで混練し、ペーストbとした。
【0085】
このペーストa、bを混合比1対1で練和し、上記各物性の評価を行った。その評価結果を表5に示した。
【0086】
表5に示した様に、粘度は35Pa・sで、低粘度で練和性に優れており、引き裂き強度が18N/mmと高強度を有していることがわかった。ここで、優れた操作性を得るための粘度として、120Pa・s以下であることが目安となる。さらに、硬度が40と歯科用軟質義歯裏装材として好適に使用できる値を示すことがわかった。ここで、歯科用軟質義歯裏装材として好適に使用できる硬度が、25〜45であることが目安となる。
【0087】
実施例2〜13
表5及び表6に示した各組成の材料を実施例1と同様に混練して、各ペーストを調整し、評価を行った。これらの評価結果を表5及び表6にそれぞれ示した。
上記表5及び表6に示したように、本発明の歯科用シリコーン系硬化性材料は、粘度が120Pa・s以下と操作性に優れ、且つ、引き裂き強度が10N/mm以上と高強度を有していた。さらに、硬度が25〜45と歯科用軟質義歯裏装材として好適に使用できる値であった。
【0088】
実施例14
縮合反応型シリコーンを用いた、表6に示した各組成の材料を実施例1と同様に混練して、各ペーストを調整した。このペーストa、bを混合比1対4で練和した他は、実施例1と同様に評価を行った。これらの評価結果を表6に示した。
【0089】
上記表6に示したように、粘度は30Pa・sで、低粘度で練和性に優れており、引き裂き強度が18N/mmと高強度を有していることがわかった。さらに、硬度が40と歯科用軟質義歯裏装材として好適に使用できる値であった。
【0090】
比較例1
表6に示した組成の材料を実施例1と同様に混練して、各ペーストを調整し、評価を行った。これらの評価結果を表6に示した。
【0091】
表6に示したように、疎水化シリカの粒径が大きすぎる場合、低粘度で操作性に優れており、硬度の良好な値を示しているものの、引き裂き強度が非常に低く、高い強度は得られなかった。
【0092】
比較例2
表6に示した組成の材料を実施例1と同様に混練して、各ペーストを調整し、評価を行った。これらの評価結果を表6に示した。
表6に示したように、疎水化シリカの粒径が小さすぎる場合、引き裂き強度は大きく高い強度を得ることができ、硬度も良好な値を示しているものの、粘度が非常に高くなってしまい、優れた操作性は得られなかった。
【0093】
比較例3
表6に示した組成の材料を実施例1と同様に混練して、各ペーストを調整し、評価を行った。これらの評価結果を表6に示した。
【0094】
表6に示したように、本特許で定義する疎水化シリカよりも修飾疎水度が小さいシリカを用いた場合、高粘度で優れた操作性が得られないのみならず、引き裂き強度も小さくなり、高い強度を得られず、硬度も低くなった。
【0095】
【表5】

【0096】
【表6】


【特許請求の範囲】
【請求項1】
一次粒子の平均粒子径が100〜2000nmである疎水化シリカを含有することを特徴とする歯科用シリコーン系硬化性材料。
【請求項2】
疎水化シリカが、疎水化された乾式シリカである請求項1記載の歯科用シリコーン系硬化性材料。
【請求項3】
歯科用シリコーン系硬化性材料が、付加反応により硬化するものであることを特徴とする請求項1または請求項2記載の歯科用シリコーン系硬化性材料。
【請求項4】
末端に不飽和結合を有する有機基を分子内に2個以上有するオルガノポリシロキサン(A)、分子内に3個以上のSiH基を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)、及び、ヒドロシリル化反応触媒物質(C)を含んでなることを特徴とする、請求項3記載の歯科用シリコーン系硬化性材料。
【請求項5】
請求項1〜4のいずれか一項に記載の歯科用シリコーン系硬化性材料からなる歯科用軟質義歯裏装材。

【公開番号】特開2008−222665(P2008−222665A)
【公開日】平成20年9月25日(2008.9.25)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2007−65512(P2007−65512)
【出願日】平成19年3月14日(2007.3.14)
【出願人】(391003576)株式会社トクヤマデンタル (222)
【Fターム(参考)】